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JP2019220289A - Organic el panel, and manufacturing method of organic el panel - Google Patents

Organic el panel, and manufacturing method of organic el panel Download PDF

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JP2019220289A JP2018115240A JP2018115240A JP2019220289A JP 2019220289 A JP2019220289 A JP 2019220289A JP 2018115240 A JP2018115240 A JP 2018115240A JP 2018115240 A JP2018115240 A JP 2018115240A JP 2019220289 A JP2019220289 A JP 2019220289A
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Abstract

【課題】電子輸送層および電子注入層を介して補助電極から陰極に電子を効率良く供給する技術を提供する。【解決手段】陽極21と発光層26と電子輸送層27と電子注入層28と陰極22とをこの順で有する有機EL素子13をマトリックス状に複数有し、電子輸送層27と電子注入層28と陰極22とが複数の有機EL素子13に亘って連続的に形成される、有機ELパネル2であって、複数の有機EL素子13の間において、電子輸送層27および電子注入層28を介して陰極22に電子を供給する補助電極30と、発光層26が内部に形成される第1開口部41と、補助電極30から陰極22への電子の供給路が形成される第2開口部42とが形成される絶縁層40とを有し、補助電極30の電子輸送層27に対向する表面の仕事関数が、陽極21の発光層26に対向する表面の仕事関数よりも小さい、有機ELパネル2。【選択図】図2PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique for efficiently supplying electrons from an auxiliary electrode to a cathode via an electron transport layer and an electron injection layer. SOLUTION: A plurality of organic EL elements 13 having an anode 21, a light emitting layer 26, an electron transport layer 27, an electron injection layer 28, and a cathode 22 in this order are arranged in a matrix, and the electron transport layer 27 and the electron injection layer 28 are provided. An organic EL panel 2 in which a cathode 22 and a cathode 22 are continuously formed over a plurality of organic EL elements 13, and an electron transport layer 27 and an electron injection layer 28 are interposed between the plurality of organic EL elements 13. The auxiliary electrode 30 for supplying electrons to the cathode 22, the first opening 41 in which the light emitting layer 26 is formed, and the second opening 42 for forming an electron supply path from the auxiliary electrode 30 to the cathode 22. And an insulating layer 40 on which the work function of the surface of the auxiliary electrode 30 facing the electron transport layer 27 is smaller than the work function of the surface of the anode 21 facing the light emitting layer 26. 2. [Selection diagram] Figure 2

Description

本開示は、有機ELパネル、および有機ELパネルの製造方法に関する。   The present disclosure relates to an organic EL panel and a method for manufacturing an organic EL panel.

特許文献1に記載の有機EL表示パネルは、TFT(Thin Film Transistor)基板と、陽極と、透明導電膜(電極被覆層)と、ホール注入層と、ホール輸送層と、有機発光層と、電子輸送層と、電子注入層と、陰極と、封止層とを有する。陽極、透明導電膜、ホール注入層、ホール輸送層、および有機発光層は、有機EL素子毎に個別に形成される。電子輸送層、電子注入層、陰極、および封止層はTFT基板の平面全体にわたり一様に形成される。また、バスバー領域には補助電極および透明導電膜(電極被覆層)がこの順で形成される。陽極と補助電極とは同じ材料(例えば銀)で同時に形成され、陽極上の透明導電膜と補助電極上の透明導電膜とは同じ材料(例えばITO(Indium Tin Oxide))で同時に形成される。   The organic EL display panel described in Patent Document 1 includes a TFT (Thin Film Transistor) substrate, an anode, a transparent conductive film (electrode covering layer), a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron. It has a transport layer, an electron injection layer, a cathode, and a sealing layer. The anode, the transparent conductive film, the hole injection layer, the hole transport layer, and the organic light emitting layer are individually formed for each organic EL element. The electron transport layer, the electron injection layer, the cathode, and the sealing layer are formed uniformly over the entire surface of the TFT substrate. In the bus bar region, an auxiliary electrode and a transparent conductive film (electrode coating layer) are formed in this order. The anode and the auxiliary electrode are simultaneously formed of the same material (for example, silver), and the transparent conductive film on the anode and the transparent conductive film on the auxiliary electrode are simultaneously formed of the same material (for example, ITO (Indium Tin Oxide)).

特開2013−172060号公報JP 2013-172060 A

本開示の一態様は、電子輸送層および電子注入層を介して補助電極から陰極に電子を効率良く供給できる技術を提供する。   One embodiment of the present disclosure provides a technique capable of efficiently supplying electrons from an auxiliary electrode to a cathode via an electron transport layer and an electron injection layer.

本開示の一態様に係る有機ELパネルは、
陽極と発光層と電子輸送層と電子注入層と陰極とをこの順で有する有機EL素子をマトリックス状に複数有し、前記電子輸送層と前記電子注入層と前記陰極とが複数の前記有機EL素子に亘って連続的に形成される、有機ELパネルであって、
複数の前記有機EL素子の間において、前記電子輸送層および前記電子注入層を介して前記陰極に電子を供給する補助電極と、
前記発光層が内部に形成される第1開口部と、前記補助電極から前記陰極への電子の供給路が形成される第2開口部とが形成される絶縁層とを有し、
前記補助電極の前記電子輸送層に対向する表面の仕事関数が、前記陽極の前記発光層に対向する表面の仕事関数よりも小さい。
The organic EL panel according to one embodiment of the present disclosure includes:
A plurality of organic EL elements each having an anode, a light-emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a cathode in this order are provided in a matrix, and the electron transport layer, the electron injection layer, and the cathode include a plurality of the organic EL elements. An organic EL panel formed continuously over the element,
An auxiliary electrode that supplies electrons to the cathode through the electron transport layer and the electron injection layer between the plurality of organic EL elements;
A first opening in which the light emitting layer is formed, and an insulating layer in which a second opening in which a supply path of electrons from the auxiliary electrode to the cathode is formed,
The work function of the surface of the auxiliary electrode facing the electron transport layer is smaller than the work function of the surface of the anode facing the light emitting layer.

本開示の一態様によれば、電子輸送層および電子注入層を介して補助電極から陰極に電子を効率良く供給できる。   According to one embodiment of the present disclosure, electrons can be efficiently supplied from the auxiliary electrode to the cathode via the electron transport layer and the electron injection layer.

図1は、一実施形態に係る有機ELパネルを示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an organic EL panel according to one embodiment. 図2は、一実施形態に係る有機ELパネルの部分断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view of the organic EL panel according to one embodiment. 図3は、一実施形態に係る陽極の透明電極と、補助電極と、電子輸送層と、電子注入層と、陰極とのエネルギー準位を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating energy levels of a transparent electrode of an anode, an auxiliary electrode, an electron transport layer, an electron injection layer, and a cathode according to one embodiment. 図4は、一実施形態に係る有機ELパネルの製造方法を示すフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart illustrating a method for manufacturing an organic EL panel according to one embodiment.

以下、本開示の実施形態について図面を参照して説明する。尚、各図面において同一の又は対応する構成には同一の又は対応する符号を付し、説明を省略することがある。   Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings. In each drawing, the same or corresponding components are denoted by the same or corresponding reference numerals, and description thereof may be omitted.

図1は、一実施形態に係る有機ELパネルを示す平面図である。図1において、一の単位回路11の回路を拡大して示す。   FIG. 1 is a plan view showing an organic EL panel according to one embodiment. In FIG. 1, the circuit of one unit circuit 11 is shown in an enlarged manner.

有機ELパネル2は、基板10と、基板10上に配列される複数の単位回路11と、基板10上に設けられる走査線駆動回路14と、基板10上に設けられるデータ線駆動回路15とを有する。走査線駆動回路14に接続される複数の走査線16と、データ線駆動回路15に接続される複数のデータ線17とで囲まれる領域に、単位回路11が設けられる。単位回路11は、マトリックス状に複数配置され、それぞれ、TFT層12と、有機EL素子13とを含む。   The organic EL panel 2 includes a substrate 10, a plurality of unit circuits 11 arranged on the substrate 10, a scanning line driving circuit 14 provided on the substrate 10, and a data line driving circuit 15 provided on the substrate 10. Have. The unit circuit 11 is provided in a region surrounded by a plurality of scanning lines 16 connected to the scanning line driving circuit 14 and a plurality of data lines 17 connected to the data line driving circuit 15. The plurality of unit circuits 11 are arranged in a matrix, and each include a TFT layer 12 and an organic EL element 13.

TFT層12は、複数のTFT(Thin Film Transistor)を有する。一のTFTはスイッチング素子としての機能を有し、他の一のTFTは有機EL素子13に流す電流量を制御する電流制御用素子としての機能を有する。TFT層12は、走査線駆動回路14およびデータ線駆動回路15によって作動され、有機EL素子13に電流を供給する。TFT層12は単位回路11毎に設けられており、複数の単位回路11は独立に制御される。尚、TFT層12は、一般的な構成であればよく、図1に示す構成には限定されない。   The TFT layer 12 has a plurality of TFTs (Thin Film Transistors). One TFT has a function as a switching element, and the other TFT has a function as a current control element for controlling an amount of current flowing to the organic EL element 13. The TFT layer 12 is operated by the scanning line driving circuit 14 and the data line driving circuit 15 and supplies a current to the organic EL element 13. The TFT layer 12 is provided for each unit circuit 11, and the plurality of unit circuits 11 are independently controlled. Note that the TFT layer 12 may have a general configuration, and is not limited to the configuration illustrated in FIG.

尚、有機ELパネルの駆動方式は、本実施形態ではアクティブマトリックス方式であるが、パッシブマトリックス方式であってもよい。   The driving method of the organic EL panel is an active matrix method in the present embodiment, but may be a passive matrix method.

図2は、一実施形態に係る有機ELパネルの部分断面図である。基板10としては、例えばガラス基板または樹脂基板が用いられる。基板10上には、TFT層12が形成される。TFT層12上には、TFT層12によって形成される段差を平坦化する平坦化層18が形成される。   FIG. 2 is a partial cross-sectional view of the organic EL panel according to one embodiment. As the substrate 10, for example, a glass substrate or a resin substrate is used. On the substrate 10, a TFT layer 12 is formed. On the TFT layer 12, a flattening layer 18 for flattening a step formed by the TFT layer 12 is formed.

平坦化層18は、絶縁性を有する。平坦化層18を貫通するコンタクトホールには、コンタクトプラグ19が形成される。コンタクトプラグ19は、平坦化層18の平坦面に形成される陽極21とTFT層12とを電気的に接続する。コンタクトプラグ19は、陽極21と同じ材料で、陽極21と同時に形成されてよい。   The flattening layer 18 has an insulating property. A contact plug 19 is formed in a contact hole penetrating the flattening layer 18. The contact plug 19 electrically connects the anode 21 formed on the flat surface of the flattening layer 18 and the TFT layer 12. The contact plug 19 may be formed at the same time as the anode 21 using the same material as the anode 21.

有機EL素子13は、平坦化層18の平坦面上にマトリックス状に複数形成される。複数の有機EL素子13のそれぞれは、陽極21と、陰極22と、陽極21と陰極22との間に形成される有機層23とを有する。TFT層12を作動させ、陽極21と陰極22との間に電圧を印加すると、有機層23において光が発生する。   The plurality of organic EL elements 13 are formed in a matrix on the flat surface of the flattening layer 18. Each of the plurality of organic EL elements 13 has an anode 21, a cathode 22, and an organic layer 23 formed between the anode 21 and the cathode 22. When the TFT layer 12 is operated and a voltage is applied between the anode 21 and the cathode 22, light is generated in the organic layer 23.

有機層23において発生した光は、陰極22を通過し、基板10とは反対側に取り出される。つまり、本実施形態の有機ELパネル2は、トップエミッション型である。そのため、基板10は不透明基板であってもよい。   Light generated in the organic layer 23 passes through the cathode 22 and is extracted to the side opposite to the substrate 10. That is, the organic EL panel 2 of the present embodiment is a top emission type. Therefore, the substrate 10 may be an opaque substrate.

陽極21は、単層構造でもよいが、本実施形態では複数層構造であって、有機層23からの光を有機層23に向けて反射する反射電極211と、反射電極211と有機層23との間に形成される透明電極212とを有する。有機層23において発生した光は、透明電極212を通り、反射電極211で反射され、再び透明電極212を通過する。陽極21は、有機EL素子13毎に個別に形成される。   The anode 21 may have a single-layer structure, but has a multi-layer structure in the present embodiment, and includes a reflective electrode 211 that reflects light from the organic layer 23 toward the organic layer 23, and a reflective electrode 211 and the organic layer 23. And a transparent electrode 212 formed therebetween. Light generated in the organic layer 23 passes through the transparent electrode 212, is reflected by the reflective electrode 211, and passes through the transparent electrode 212 again. The anode 21 is individually formed for each organic EL element 13.

反射電極211は、金属膜であって、例えば銀(Ag)またはアルミニウム(Al)で形成される。一方、透明電極212は、酸化物膜であって、例えば酸化インジウムを含む透明導電材料で形成される。透明導電材料としては、ITO(Indium Tin Oxide)、およびIZO(Indium Zinc Oxide)が挙げられる。   The reflection electrode 211 is a metal film and is formed of, for example, silver (Ag) or aluminum (Al). On the other hand, the transparent electrode 212 is an oxide film and is formed of, for example, a transparent conductive material containing indium oxide. Examples of the transparent conductive material include ITO (Indium Tin Oxide) and IZO (Indium Zinc Oxide).

透明電極212は、陽極21から、有機層23の正孔注入層24への正孔の注入を促進するために設けられる。正孔は、透明電極212から正孔注入層24のHOMO(Highest Occupied Molecular Orbital)に注入される。   The transparent electrode 212 is provided to promote injection of holes from the anode 21 to the hole injection layer 24 of the organic layer 23. Holes are injected from the transparent electrode 212 into HOMO (Highest Occupied Molecular Orbital) of the hole injection layer 24.

透明電極212の仕事関数は、反射電極211の仕事関数に比べて大きい。そのため、反射電極211のフェルミ準位と正孔注入層24のHOMO準位とのエネルギー差に比べて、透明電極212のフェルミ準位と正孔注入層24のHOMO準位とのエネルギー差が小さい。従って、陽極21から、有機層23の正孔注入層24への正孔の注入を促進することができる。   The work function of the transparent electrode 212 is larger than the work function of the reflective electrode 211. Therefore, the energy difference between the Fermi level of the transparent electrode 212 and the HOMO level of the hole injection layer 24 is smaller than the energy difference between the Fermi level of the reflective electrode 211 and the HOMO level of the hole injection layer 24. . Therefore, injection of holes from the anode 21 into the hole injection layer 24 of the organic layer 23 can be promoted.

一般的に、仕事関数は、真空準位とフェルミ準位とのエネルギー差であり、正の値である。本明細書において、仕事関数は、例えばUPS(Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy)法により測定する。   Generally, the work function is the energy difference between the vacuum level and the Fermi level, and has a positive value. In this specification, the work function is measured by, for example, a UPS (Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy) method.

尚、陽極21を構成する層の数は、1つ又は2つには限定されず、3つ以上でもよい。例えば、陽極21は、反射電極211と平坦化層18との間に透明電極をさらに有してもよく、透明電極と反射電極211と透明電極212との3層構造であってもよい。   The number of layers constituting the anode 21 is not limited to one or two, but may be three or more. For example, the anode 21 may further include a transparent electrode between the reflective electrode 211 and the flattening layer 18, or may have a three-layer structure of the transparent electrode, the reflective electrode 211, and the transparent electrode 212.

陰極22は、例えばマグネシウムと銀との混合材(Mg/Al)で形成され、有機層23において発生した光を基板10とは反対側に透過させる。陰極22は、複数の有機EL素子13に亘って連続的に形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に亘って連続的に形成される。   The cathode 22 is formed of, for example, a mixed material of magnesium and silver (Mg / Al), and transmits light generated in the organic layer 23 to the side opposite to the substrate 10. The cathode 22 is formed continuously over the plurality of organic EL elements 13, and is formed continuously over the entire display area of the organic EL panel 2.

有機層23は、例えば、陽極21側から陰極22側に向けて、正孔注入層24と、正孔輸送層25と、発光層26と、電子輸送層27と、電子注入層28とをこの順で有する。陽極21と陰極22との間に電圧がかかると、陽極21から正孔注入層24に正孔が注入されると共に、陰極22から電子注入層28に電子が注入される。正孔注入層24に注入された正孔は、正孔輸送層25によって発光層26へ輸送される。また、電子注入層28に注入された電子は、電子輸送層27によって発光層26へ輸送される。そうして、発光層26内で正孔と電子が再結合して、発光層26の発光材料が励起され、発光層26が発光する。   The organic layer 23 includes, for example, from the anode 21 side to the cathode 22 side, the hole injection layer 24, the hole transport layer 25, the light emitting layer 26, the electron transport layer 27, and the electron injection layer 28. Have in order. When a voltage is applied between the anode 21 and the cathode 22, holes are injected from the anode 21 into the hole injection layer 24 and electrons are injected from the cathode 22 into the electron injection layer 28. The holes injected into the hole injection layer 24 are transported to the light emitting layer 26 by the hole transport layer 25. The electrons injected into the electron injection layer 28 are transported to the light emitting layer 26 by the electron transport layer 27. Then, the holes and the electrons are recombined in the light emitting layer 26, the light emitting material of the light emitting layer 26 is excited, and the light emitting layer 26 emits light.

正孔注入層24、正孔輸送層25、および発光層26は、陽極21と同様に、有機EL素子13毎に個別に形成される。尚、陽極21から発光層26に正孔を供給できればよく、正孔注入層24は無くてもよい。   The hole injection layer 24, the hole transport layer 25, and the light emitting layer 26 are individually formed for each organic EL element 13 similarly to the anode 21. It is sufficient that holes can be supplied from the anode 21 to the light emitting layer 26, and the hole injection layer 24 may not be provided.

発光層26として、例えば、赤色に発光する赤色発光層26Rと、緑色に発光する緑色発光層26Gと、青色に発光する青色発光層26Bとが形成される。1つの赤色発光層26Rと、1つの緑色発光層26Gと、1つの青色発光層26Bとで、1つの画素が構成される。   As the light emitting layer 26, for example, a red light emitting layer 26R that emits red light, a green light emitting layer 26G that emits green light, and a blue light emitting layer 26B that emits blue light are formed. One pixel is composed of one red light emitting layer 26R, one green light emitting layer 26G, and one blue light emitting layer 26B.

1つの画素を構成する赤色発光層26Rと緑色発光層26Gと青色発光層26Bとの配置は、図2に示す配置には限定されない。また、1つの画素は、赤色、緑色および青色以外の色(例えば黄色)に発光する発光層をさらに有してもよい。   The arrangement of the red light emitting layer 26R, the green light emitting layer 26G, and the blue light emitting layer 26B constituting one pixel is not limited to the arrangement shown in FIG. In addition, one pixel may further include a light emitting layer that emits a color other than red, green, and blue (for example, yellow).

電子輸送層27および電子注入層28は、陰極22と同様に、マトリックス状に配置される複数の有機EL素子13に亘って連続的に形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に亘って連続的に供給される。   Like the cathode 22, the electron transport layer 27 and the electron injection layer 28 are continuously formed over the plurality of organic EL elements 13 arranged in a matrix, and are formed over the entire display area of the organic EL panel 2. It is supplied continuously.

ところで、陰極22は、発光層26において発生した光を透過させるため、薄く形成される。そのため、有機ELパネル2の表示領域の外周部と、有機ELパネル2の表示領域の中央部との間での、陰極22の電気抵抗が大きい。この傾向は、有機ELパネル2の表示領域が大きいほど、顕著である。   By the way, the cathode 22 is formed thin in order to transmit light generated in the light emitting layer 26. Therefore, the electric resistance of the cathode 22 between the outer peripheral portion of the display area of the organic EL panel 2 and the central part of the display area of the organic EL panel 2 is large. This tendency is more remarkable as the display area of the organic EL panel 2 is larger.

そこで、有機ELパネル2は、複数の有機EL素子13の間において、電子輸送層27および電子注入層28を介して陰極22に電子を供給する補助電極30を有する。補助電極30と陽極21とは、同じ面(例えば平坦化層18の平坦面)に、離間して形成される。   Therefore, the organic EL panel 2 has an auxiliary electrode 30 that supplies electrons to the cathode 22 via the electron transport layer 27 and the electron injection layer 28 between the plurality of organic EL elements 13. The auxiliary electrode 30 and the anode 21 are formed on the same surface (for example, the flat surface of the flattening layer 18) and are separated from each other.

補助電極30は、有機ELパネル2の表示領域の全体に亘って形成され、陰極22を全体的に等電位に維持する。陰極22の電圧降下を抑制でき、有機ELパネル2の表示領域の中央部における発光量の低下を抑制できる。   The auxiliary electrode 30 is formed over the entire display area of the organic EL panel 2 and maintains the cathode 22 at the same potential as a whole. The voltage drop of the cathode 22 can be suppressed, and the decrease in the light emission amount at the center of the display area of the organic EL panel 2 can be suppressed.

補助電極30は、例えば隣り合う複数の画素の境界に配置され、格子状または縞状に形成される。尚、補助電極30は、隣り合う複数の副画素の境界に配置され、格子状または縞状に形成されてもよい。1つの副画素は、1つの赤色発光層26R、1つの緑色発光層26G、または1つの青色発光層26Bを含む。   The auxiliary electrode 30 is arranged, for example, at a boundary between a plurality of adjacent pixels and is formed in a lattice shape or a stripe shape. Note that the auxiliary electrode 30 may be arranged at a boundary between a plurality of adjacent sub-pixels and formed in a lattice shape or a stripe shape. One sub-pixel includes one red light emitting layer 26R, one green light emitting layer 26G, or one blue light emitting layer 26B.

補助電極30は、複数層構造でもよいが、本実施形態では単層構造である。補助電極30と電子輸送層27との間に別の機能層が形成されてもよいが、本実施形態では補助電極30の表面に接するように電子輸送層27が形成される。   The auxiliary electrode 30 may have a multi-layer structure, but has a single-layer structure in the present embodiment. Although another functional layer may be formed between the auxiliary electrode 30 and the electron transport layer 27, in this embodiment, the electron transport layer 27 is formed so as to be in contact with the surface of the auxiliary electrode 30.

補助電極30は、補助電極30から電子輸送層27への電子の注入を促進するため、従来とは異なり、陽極21の透明電極212とは異なる材料で形成される。電子は、補助電極30から電子輸送層27のLUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital)に注入され、電子注入層28のLUMOに移動し、陰極22に至る。   The auxiliary electrode 30 is formed of a material different from that of the transparent electrode 212 of the anode 21, unlike the related art, in order to promote injection of electrons from the auxiliary electrode 30 to the electron transport layer 27. The electrons are injected from the auxiliary electrode 30 into the LUMO (Lowest Unoccupied Molecular Orbital) of the electron transport layer 27, move to the LUMO of the electron injection layer 28, and reach the cathode 22.

図3は、一実施形態に係る陽極の透明電極と、補助電極と、電子輸送層と、電子注入層と、陰極とのエネルギー準位を示す図である。図3において、E0は陽極21の透明電極212のフェルミ準位であり、E1は補助電極30のフェルミ準位である。E0の絶対値(|E0|)は陽極21の透明電極212の仕事関数であり、E1の絶対値(|E1|)は補助電極30の仕事関数である。また、図3において、E2は電子輸送層27のLUMO準位であり、E3は電子注入層28のLUMO準位であり、E4は陰極22のフェルミ準位である。   FIG. 3 is a diagram illustrating energy levels of a transparent electrode of an anode, an auxiliary electrode, an electron transport layer, an electron injection layer, and a cathode according to one embodiment. 3, E0 is the Fermi level of the transparent electrode 212 of the anode 21 and E1 is the Fermi level of the auxiliary electrode 30. The absolute value of E0 (| E0 |) is the work function of the transparent electrode 212 of the anode 21, and the absolute value of E1 (| E1 |) is the work function of the auxiliary electrode 30. In FIG. 3, E2 is the LUMO level of the electron transport layer 27, E3 is the LUMO level of the electron injection layer 28, and E4 is the Fermi level of the cathode 22.

図3に示すように、補助電極30の仕事関数|E1|は、陽極21の透明電極212の仕事関数|E0|に比べて小さい。そのため、陽極21の透明電極212のフェルミ準位E0と電子輸送層27のLOUMO準位E2とのエネルギー差に比べて、補助電極30のフェルミ準位E1と電子輸送層27のLUMO準位E2とのエネルギー差が小さい。従って、補助電極30から電子輸送層27への電子の注入を促進することができ、補助電極30から陰極22に電子を効率良く供給できる。   As shown in FIG. 3, the work function | E1 | of the auxiliary electrode 30 is smaller than the work function | E0 | of the transparent electrode 212 of the anode 21. Therefore, the energy difference between the Fermi level E0 of the transparent electrode 212 of the anode 21 and the LOUMO level E2 of the electron transport layer 27 is smaller than the energy difference between the Fermi level E1 of the auxiliary electrode 30 and the LUMO level E2 of the electron transport layer 27. Energy difference is small. Therefore, injection of electrons from the auxiliary electrode 30 to the electron transport layer 27 can be promoted, and electrons can be efficiently supplied from the auxiliary electrode 30 to the cathode 22.

補助電極30は、本実施形態では単層構造であるが、複数層構造でもよい。また、陽極21は、本実施形態では複数層構造であるが、単層構造でもよい。いずれにしろ、補助電極30の電子輸送層27に対向する表面31の仕事関数|E1|が、陽極21の発光層26に対向する表面213の仕事関数|E0|よりも小さければよい。陽極21の発光層26に対向する表面213のフェルミ準位E0と電子輸送層27のLOUMO準位E2とのエネルギー差に比べて、補助電極30の電子輸送層27に対向する表面31のフェルミ準位E1と電子輸送層27のLUMO準位E2とのエネルギー差が小さければよい。補助電極30の電子輸送層27に対向する表面31から、電子輸送層27のLUMOに、電子が注入されるためである。   The auxiliary electrode 30 has a single-layer structure in the present embodiment, but may have a multi-layer structure. The anode 21 has a multilayer structure in the present embodiment, but may have a single-layer structure. In any case, the work function | E1 | of the surface 31 of the auxiliary electrode 30 facing the electron transport layer 27 may be smaller than the work function | E0 | of the surface 213 of the anode 21 facing the light emitting layer 26. Compared with the energy difference between the Fermi level E0 of the surface 213 of the anode 21 facing the light emitting layer 26 and the LOUMO level E2 of the electron transport layer 27, the Fermi level of the surface 31 of the auxiliary electrode 30 facing the electron transport layer 27 is compared. It is sufficient that the energy difference between the level E1 and the LUMO level E2 of the electron transport layer 27 is small. This is because electrons are injected into the LUMO of the electron transport layer 27 from the surface 31 of the auxiliary electrode 30 facing the electron transport layer 27.

有機ELパネル2は、図2に示すように、発光層26が内部に形成される第1開口部41と、補助電極30から陰極22への電子の供給路45が形成される第2開口部42とが形成される絶縁層40を有する。絶縁層40と、陽極21および補助電極30とは、同じ表面(例えば平坦化層18の平坦面)に形成される。   As shown in FIG. 2, the organic EL panel 2 has a first opening 41 in which the light emitting layer 26 is formed and a second opening in which an electron supply path 45 from the auxiliary electrode 30 to the cathode 22 is formed. 42 are formed. The insulating layer 40, the anode 21, and the auxiliary electrode 30 are formed on the same surface (for example, the flat surface of the flattening layer 18).

第1開口部41は、例えばマトリックス状に複数配置される。複数の第1開口部41のそれぞれに、発光層26が形成される。赤色発光層26Rが内部に形成される第1開口部41Rと、緑色発光層26Gが内部に形成される第1開口部41Gと、青色発光層26Bが内部に形成される第1開口部41Bとは、同じ大きさでもよいし、異なる大きさでもよい。   The plurality of first openings 41 are arranged, for example, in a matrix. The light emitting layer 26 is formed in each of the plurality of first openings 41. A first opening 41R in which the red light emitting layer 26R is formed, a first opening 41G in which the green light emitting layer 26G is formed, and a first opening 41B in which the blue light emitting layer 26B is formed. May be the same size or different sizes.

第2開口部42は、補助電極30と同様に、例えば隣り合う複数の画素の境界に配置され、格子状または縞状に形成される。尚、第2開口部42は、隣り合う複数の副画素の境界に配置され、格子状または縞状に形成されてもよい。第2開口部42には、発光層26は形成されず、電子輸送層27、電子注入層28および陰極22が形成される。   Similarly to the auxiliary electrode 30, the second opening 42 is arranged, for example, at the boundary between a plurality of adjacent pixels, and is formed in a lattice shape or a stripe shape. Note that the second opening 42 may be arranged at a boundary between a plurality of adjacent sub-pixels and formed in a lattice shape or a stripe shape. The light emitting layer 26 is not formed in the second opening 42, and the electron transport layer 27, the electron injection layer 28, and the cathode 22 are formed.

ところで、第1開口部41と、第2開口部42とでは、電子の流れる方向が逆向きである。第1開口部41では、電子は、陰極22から発光層26に向けて、電子注入層28および電子輸送層27をこの順で通過する。一方、第2開口部42では、電子は、補助電極30から陰極22に向けて、電子輸送層27および電子注入層28をこの順で通過する。   Incidentally, in the first opening 41 and the second opening 42, the direction in which electrons flow is opposite. In the first opening 41, the electrons pass through the electron injection layer 28 and the electron transport layer 27 in this order from the cathode 22 toward the light emitting layer 26. On the other hand, in the second opening 42, electrons pass through the electron transport layer 27 and the electron injection layer 28 in this order from the auxiliary electrode 30 to the cathode 22.

そこで、補助電極30の電子輸送層27に対向する表面31は、従来とは異なり、陽極21の発光層26に対向する表面213とは異なる材料で形成される。補助電極30の電子輸送層27に対向する表面31の仕事関数|E1|は、陽極21の発光層26に対向する表面213の仕事関数|E2|よりも小さい。そのため、補助電極30から電子輸送層27のLUMOに電子を効率良く注入でき、補助電極30から陰極22に電子を効率良く供給できる。   Therefore, the surface 31 of the auxiliary electrode 30 facing the electron transporting layer 27 is formed of a different material from the surface 213 of the anode 21 facing the light emitting layer 26, unlike the related art. Work function | E1 | of surface 31 of auxiliary electrode 30 facing electron transport layer 27 is smaller than work function | E2 | of surface 213 of anode 21 facing light-emitting layer 26. Therefore, electrons can be efficiently injected from the auxiliary electrode 30 into the LUMO of the electron transport layer 27, and electrons can be efficiently supplied from the auxiliary electrode 30 to the cathode 22.

第2開口部42は、補助電極30に向うほど先細り状に形成される。第2開口部42の側壁面43に電子輸送層27、電子注入層28および陰極22を安定して形成するため、第2開口部42の側壁面43のテーパ角度θは、85°以下とされる。   The second opening 42 is tapered so as to face the auxiliary electrode 30. In order to stably form the electron transport layer 27, the electron injection layer 28, and the cathode 22 on the side wall surface 43 of the second opening 42, the taper angle θ of the side wall surface 43 of the second opening 42 is set to 85 ° or less. You.

<有機ELパネルの製造方法>
図4は、一実施形態による有機ELパネルの製造方法を示すフローチャートである。尚、各工程の順序は特に限定されない。例えば、陽極21を形成する工程S101と、補助電極30を形成する工程S102とは、順序が逆でもよい。これらの工程S101、S102は、絶縁層40を形成する工程S103の前に行われればよく、同時に行われてもよい。また、一部の工程は無くてもよく、例えば正孔注入層24を形成する工程S104、正孔輸送層25を形成する工程S105は無くてもよい。
<Manufacturing method of organic EL panel>
FIG. 4 is a flowchart illustrating a method for manufacturing an organic EL panel according to one embodiment. The order of each step is not particularly limited. For example, the order of the step S101 for forming the anode 21 and the step S102 for forming the auxiliary electrode 30 may be reversed. These steps S101 and S102 may be performed before the step S103 of forming the insulating layer 40, and may be performed simultaneously. In addition, some steps may be omitted, for example, the step S104 of forming the hole injection layer 24 and the step S105 of forming the hole transport layer 25 may be omitted.

有機ELパネル2の製造方法は、陽極21を形成する工程S101を有する。陽極21は、例えばスパッタリング法または真空蒸着法で成膜され、フォトリソグラフィ法およびエッチング法で予め定められたパターンに形成される。陽極21は、平坦化層18の平坦面に、有機EL素子13毎に個別に形成される。陽極21と同時にコンタクトプラグ19が形成されてよい。   The method for manufacturing the organic EL panel 2 includes a step S101 of forming the anode 21. The anode 21 is formed by, for example, a sputtering method or a vacuum evaporation method, and is formed in a predetermined pattern by a photolithography method and an etching method. The anode 21 is individually formed for each organic EL element 13 on the flat surface of the flattening layer 18. The contact plug 19 may be formed simultaneously with the anode 21.

陽極21は、単層構造でもよいが、本実施形態では複数層構造であって、有機層23からの光を有機層23に向けて反射する反射電極211と、反射電極211と有機層23との間に形成される透明電極212とを有する。発光層26において発生した光は、透明電極212を通り、反射電極211で反射され、再び透明電極212を通過する。   The anode 21 may have a single-layer structure, but has a multi-layer structure in the present embodiment, and includes a reflective electrode 211 that reflects light from the organic layer 23 toward the organic layer 23, and a reflective electrode 211 and the organic layer 23. And a transparent electrode 212 formed therebetween. Light generated in the light emitting layer 26 passes through the transparent electrode 212, is reflected by the reflective electrode 211, and passes through the transparent electrode 212 again.

反射電極211は、金属膜であって、例えば銀(Ag)またはアルミニウム(Al)で形成される。一方、透明電極212は、酸化物膜であって、例えば酸化インジウムを含む透明導電材料で形成される。透明導電材料としては、ITO(Indium Tin Oxide)、およびIZO(Indium Zinc Oxide)が挙げられる。ITOの仕事関数は例えば4.5eVであり、IZOの仕事関数は例えば4.4eVである。   The reflection electrode 211 is a metal film and is formed of, for example, silver (Ag) or aluminum (Al). On the other hand, the transparent electrode 212 is an oxide film and is formed of, for example, a transparent conductive material containing indium oxide. Examples of the transparent conductive material include ITO (Indium Tin Oxide) and IZO (Indium Zinc Oxide). The work function of ITO is, for example, 4.5 eV, and the work function of IZO is, for example, 4.4 eV.

透明電極212は、陽極21から、有機層23の正孔注入層24への正孔の注入を促進するために設けられる。正孔は、透明電極212から正孔注入層24のHOMO(Highest Occupied Molecular Orbital)に注入される。   The transparent electrode 212 is provided to promote injection of holes from the anode 21 to the hole injection layer 24 of the organic layer 23. Holes are injected from the transparent electrode 212 into HOMO (Highest Occupied Molecular Orbital) of the hole injection layer 24.

有機ELパネル2の製造方法は、補助電極30を形成する工程S102を有する。補助電極は、例えば真空蒸着法によって成膜され、フォトリソグラフィ法およびエッチング法によって予め定められたパターンに形成される。補助電極30は、平坦化層18の平坦面に、例えば格子状または縞状に形成される。   The method for manufacturing the organic EL panel 2 includes a step S102 of forming the auxiliary electrode 30. The auxiliary electrode is formed by, for example, a vacuum evaporation method, and is formed in a predetermined pattern by a photolithography method and an etching method. The auxiliary electrode 30 is formed on the flat surface of the flattening layer 18 in, for example, a lattice shape or a stripe shape.

補助電極30は、単層構造である場合、陽極21の透明電極212よりも仕事関数の小さい材料で形成される。透明電極212の材料としては、上述の如く、ITOおよびIZOが挙げられる。ITOの仕事関数は例えば4.5eVであり、IZOの仕事関数は例えば4.4eVである。   When the auxiliary electrode 30 has a single-layer structure, the auxiliary electrode 30 is formed of a material having a smaller work function than the transparent electrode 212 of the anode 21. As described above, the material of the transparent electrode 212 includes ITO and IZO. The work function of ITO is, for example, 4.5 eV, and the work function of IZO is, for example, 4.4 eV.

補助電極30の材料は、例えば銀(Ag)、アルミニウム(Al)及びモリブデン(Mo)から選ばれる少なくとも1種を含む金属であり、好ましくはAg、Al及びMoから選ばれる1種のみからなる金属である。Agの仕事関数は例えば4.3eVであり、Alの仕事関数は例えば4.1eVであり、Moの仕事関数は例えば4.2eVである。これらの中でも、Ag、Alは酸化されやすい為、安定性の観点から、Moが特に好ましい。   The material of the auxiliary electrode 30 is, for example, a metal including at least one selected from silver (Ag), aluminum (Al), and molybdenum (Mo), and preferably a metal including only one selected from Ag, Al, and Mo. It is. The work function of Ag is, for example, 4.3 eV, the work function of Al is, for example, 4.1 eV, and the work function of Mo is, for example, 4.2 eV. Among these, Mo is particularly preferable from the viewpoint of stability, since Ag and Al are easily oxidized.

補助電極30は、本実施形態では単層構造であるが、複数層構造でもよい。また、陽極21は、本実施形態では複数層構造であるが、単層構造でもよい。いずれにしろ、補助電極30の電子輸送層27に対向する表面31の仕事関数|E1|が、陽極21の発光層26に対向する表面213の仕事関数|E0|よりも小さければよい。補助電極30の電子輸送層27に対向する表面31から、電子輸送層27のLUMOに、電子が注入されるためである。   The auxiliary electrode 30 has a single-layer structure in the present embodiment, but may have a multi-layer structure. The anode 21 has a multilayer structure in the present embodiment, but may have a single-layer structure. In any case, the work function | E1 | of the surface 31 of the auxiliary electrode 30 facing the electron transport layer 27 may be smaller than the work function | E0 | of the surface 213 of the anode 21 facing the light emitting layer 26. This is because electrons are injected into the LUMO of the electron transport layer 27 from the surface 31 of the auxiliary electrode 30 facing the electron transport layer 27.

有機ELパネル2の製造方法は、絶縁層40を形成する工程S103を有する。絶縁層40は、例えば感光性樹脂を用いて形成され、フォトリソグラフィ法によって予め定められたパターンに形成される。絶縁層40の第1開口部41において陽極21が露出し、絶縁層40の第2開口部42において補助電極30が露出する。   The method for manufacturing the organic EL panel 2 includes a step S103 of forming the insulating layer 40. The insulating layer 40 is formed using, for example, a photosensitive resin, and is formed in a predetermined pattern by a photolithography method. The anode 21 is exposed in the first opening 41 of the insulating layer 40, and the auxiliary electrode 30 is exposed in the second opening 42 of the insulating layer 40.

有機ELパネル2の製造方法は、正孔注入層24を形成する工程S104を有する。正孔注入層24は、例えばインクジェット法によって正孔注入層24の材料を含む液滴を第1開口部41に滴下して液膜を形成し、その液膜を乾燥、焼成することで形成される。正孔注入層24は、陽極21の表面に接するように形成される。正孔注入層24の材料は、特に限定されないが、例えばPEDOT(ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物)である。   The method for manufacturing the organic EL panel 2 includes a step S104 of forming the hole injection layer 24. The hole injection layer 24 is formed by, for example, dropping a droplet containing the material of the hole injection layer 24 into the first opening 41 by an inkjet method to form a liquid film, and drying and firing the liquid film. You. The hole injection layer 24 is formed so as to be in contact with the surface of the anode 21. The material of the hole injection layer 24 is not particularly limited, but is, for example, PEDOT (a mixture of polythiophene and polystyrene sulfonic acid).

有機ELパネル2の製造方法は、正孔輸送層25を形成する工程S105を有する。正孔輸送層25は、正孔注入層24と同様に、例えばインクジェット法によって正孔輸送層25の材料を含む液滴を第1開口部41に滴下して液膜を形成し、その液膜を乾燥、焼成することで形成される。正孔輸送層25は、正孔注入層24に接するように形成される。正孔輸送層25の材料は、一般的なものであってよい。   The method for manufacturing the organic EL panel 2 includes a step S105 of forming the hole transport layer 25. The hole transport layer 25 forms a liquid film by dropping a droplet containing the material of the hole transport layer 25 into the first opening 41 by, for example, an inkjet method, similarly to the hole injection layer 24. Is formed by drying and baking. The hole transport layer 25 is formed to be in contact with the hole injection layer 24. The material of the hole transport layer 25 may be a general material.

有機ELパネル2の製造方法は、発光層26を形成する工程S106を有する。発光層26は、正孔注入層24および正孔輸送層25と同様に、例えばインクジェット法によって発光層26の材料を含む液滴を第1開口部41に滴下して液膜を形成し、その液膜を乾燥、焼成することで形成される。   The method for manufacturing the organic EL panel 2 includes a step S106 of forming the light emitting layer 26. Like the hole injection layer 24 and the hole transport layer 25, the light emitting layer 26 drops a liquid droplet containing the material of the light emitting layer 26 to the first opening 41 by, for example, an inkjet method to form a liquid film. It is formed by drying and firing a liquid film.

発光層26の材料としては、例えば、特開平5−163488号公報に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、2−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体などの蛍光物質を挙げることができる。   As the material of the light emitting layer 26, for example, oxinoid compounds, perylene compounds, coumarin compounds, azacoumarin compounds, oxazole compounds, oxadiazole compounds, perinone compounds, pyrrolopyrrole compounds, naphthalene compounds described in JP-A-5-163488, Anthracene compound, fluorene compound, fluoranthene compound, tetracene compound, pyrene compound, coronene compound, quinolone compound and azaquinolone compound, pyrazoline derivative and pyrazolone derivative, rhodamine compound, chrysene compound, phenanthrene compound, cyclopentadiene compound, stilbene compound, diphenylquinone compound, Styryl compounds, butadiene compounds, dicyanomethylenepyran compounds, dicyanomethylenethiopyran compounds, fluorescein compounds , Pyrylium compounds, thiapyrylium compounds, selenapyrylium compounds, telluropyrylium compounds, aromatic aldadienes, oligophenylene compounds, thioxanthene compounds, anthracene compounds, cyanine compounds, acridine compounds, metal complexes of 8-hydroxyquinoline compounds, 2-bipyridine compounds And a fluorescent substance such as a complex of a Schiff salt and a Group III metal, an oxine metal complex, and a rare earth complex.

発光層26として、例えば赤色発光層26R、緑色発光層26G、および青色発光層26Bが形成される。絶縁層40は、赤色発光層26Rの材料と、緑色発光層26Gの材料と、青色発光層26Bの材料とを隔てることで、これらの材料の混合を防止する。   As the light emitting layer 26, for example, a red light emitting layer 26R, a green light emitting layer 26G, and a blue light emitting layer 26B are formed. The insulating layer 40 prevents mixing of these materials by separating the material of the red light emitting layer 26R, the material of the green light emitting layer 26G, and the material of the blue light emitting layer 26B.

有機ELパネル2の製造方法は、電子輸送層27を形成する工程S107を有する。電子輸送層27は、例えば真空蒸着法によって形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に形成される。電子輸送層27は、発光層26の表面のみならず、補助電極30の表面および絶縁層40の表面に接するように形成される。電子輸送層27の材料としては、例えば、バリウム、フタロシアニン、フッ化リチウム、あるいはこれらの組み合わせが挙げられる。   The method for manufacturing the organic EL panel 2 includes a step S107 of forming the electron transport layer 27. The electron transport layer 27 is formed by, for example, a vacuum deposition method, and is formed over the entire display area of the organic EL panel 2. The electron transport layer 27 is formed not only on the surface of the light emitting layer 26 but also on the surface of the auxiliary electrode 30 and the surface of the insulating layer 40. Examples of the material of the electron transport layer 27 include barium, phthalocyanine, lithium fluoride, and combinations thereof.

有機ELパネル2の製造方法は、電子注入層28を形成する工程S108を有する。電子注入層28は、電子輸送層27と同様に、例えば真空蒸着法によって形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に形成される。電子注入層28は、電子輸送層27の表面に接するように形成される。電子注入層28の材料としては、例えば、フッ化リチウムが挙げられる。   The method for manufacturing the organic EL panel 2 includes a step S108 of forming the electron injection layer 28. The electron injection layer 28 is formed by, for example, a vacuum deposition method, similarly to the electron transport layer 27, and is formed over the entire display area of the organic EL panel 2. The electron injection layer 28 is formed so as to be in contact with the surface of the electron transport layer 27. As a material of the electron injection layer 28, for example, lithium fluoride is given.

有機ELパネル2の製造方法は、陰極22を形成する工程S109を有する。陰極22は、電子輸送層27および電子注入層28と同様に、例えば真空蒸着法によって形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に形成される。陰極22は、例えばアルミニウムと銀の混合膜(Al/Mg膜)である。陰極22は、電子注入層28の表面に接するように形成される。   The method for manufacturing the organic EL panel 2 includes a step S109 of forming the cathode 22. The cathode 22 is formed by, for example, a vacuum evaporation method, similarly to the electron transport layer 27 and the electron injection layer 28, and is formed over the entire display area of the organic EL panel 2. The cathode 22 is, for example, a mixed film of aluminum and silver (Al / Mg film). The cathode 22 is formed to be in contact with the surface of the electron injection layer 28.

有機ELパネル2の製造方法は、封止層50を形成する工程S110を有する。封止層50は、有機層23が水分や空気に曝されるのを抑制し、有機層23の劣化を抑制する。封止層50は、発光層26において発生した光を透過させる。封止層50は、例えばCVD法によって形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に形成される。封止層50の材料としては、窒化シリコン(SiN)、および酸窒化シリコン(SiON)が挙げられる。このようにして、有機ELパネル2が製造される。   The method for manufacturing the organic EL panel 2 includes a step S110 of forming the sealing layer 50. The sealing layer 50 suppresses the exposure of the organic layer 23 to moisture and air, and suppresses the deterioration of the organic layer 23. The sealing layer 50 transmits light generated in the light emitting layer 26. The sealing layer 50 is formed, for example, by the CVD method, and is formed over the entire display area of the organic EL panel 2. Examples of the material of the sealing layer 50 include silicon nitride (SiN) and silicon oxynitride (SiON). Thus, the organic EL panel 2 is manufactured.

以上、本開示に係る有機ELパネルおよび有機ELパネルの製造方法の実施形態について説明したが、本開示は上記実施形態などに限定されない。特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更、修正、置換、付加、削除、および組合わせが可能である。それらについても当然に本開示の技術的範囲に属する。   The embodiments of the organic EL panel and the method of manufacturing the organic EL panel according to the present disclosure have been described above, but the present disclosure is not limited to the above embodiments and the like. Various changes, modifications, substitutions, additions, deletions, and combinations are possible within the scope of the claims. Of course, these also belong to the technical scope of the present disclosure.

10 基板
13 有機EL素子
21 陽極
211 反射電極
212 透明電極
213 表面
22 陰極
23 有機層
26 発光層
27 電子輸送層
28 電子注入層
30 補助電極
31 表面
40 絶縁層
41 第1開口部
42 第2開口部
Reference Signs List 10 substrate 13 organic EL element 21 anode 211 reflective electrode 212 transparent electrode 213 surface 22 cathode 23 organic layer 26 light emitting layer 27 electron transport layer 28 electron injection layer 30 auxiliary electrode 31 surface 40 insulating layer 41 first opening 42 second opening

Claims (6)

陽極と発光層と電子輸送層と電子注入層と陰極とをこの順で有する有機EL素子をマトリックス状に複数有し、前記電子輸送層と前記電子注入層と前記陰極とが複数の前記有機EL素子に亘って連続的に形成される、有機ELパネルであって、
複数の前記有機EL素子の間において、前記電子輸送層および前記電子注入層を介して前記陰極に電子を供給する補助電極と、
前記発光層が内部に形成される第1開口部と、前記補助電極から前記陰極への電子の供給路が形成される第2開口部とが形成される絶縁層とを有し、
前記補助電極の前記電子輸送層に対向する表面の仕事関数が、前記陽極の前記発光層に対向する表面の仕事関数よりも小さい、有機ELパネル。
A plurality of organic EL elements each having an anode, a light-emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a cathode in this order are provided in a matrix, and the electron transport layer, the electron injection layer, and the cathode include a plurality of the organic EL elements. An organic EL panel formed continuously over the element,
An auxiliary electrode that supplies electrons to the cathode through the electron transport layer and the electron injection layer between the plurality of organic EL elements;
A first opening in which the light emitting layer is formed, and an insulating layer in which a second opening in which a supply path of electrons from the auxiliary electrode to the cathode is formed,
An organic EL panel, wherein a work function of a surface of the auxiliary electrode facing the electron transport layer is smaller than a work function of a surface of the anode facing the light emitting layer.
前記陽極の前記発光層に対向する表面は、酸化インジウムを含む透明導電材料で形成される、請求項1に記載の有機ELパネル。   The organic EL panel according to claim 1, wherein a surface of the anode facing the light emitting layer is formed of a transparent conductive material containing indium oxide. 前記補助電極の前記電子輸送層に対向する表面は、モリブデンで形成される、請求項1または2に記載の有機ELパネル。   The organic EL panel according to claim 1, wherein a surface of the auxiliary electrode facing the electron transport layer is formed of molybdenum. 陽極と発光層と電子輸送層と電子注入層と陰極とをこの順で有する有機EL素子をマトリックス状に複数有し、前記電子輸送層と前記電子注入層と前記陰極とが複数の前記有機EL素子に亘って連続的に形成される、有機ELパネルの製造方法であって、
複数の前記有機EL素子の間において、前記電子輸送層および前記電子注入層を介して前記陰極に電子を供給する補助電極を形成する工程と、
前記発光層が内部に形成される第1開口部と、前記補助電極から前記陰極への電子の供給路が形成される第2開口部とが形成される絶縁層を形成する工程とを有し、
前記補助電極を形成する工程は、前記補助電極の前記電子輸送層に対向する表面を、前記陽極の前記発光層に対向する表面に比べて、仕事関数の小さい材料で形成する工程を有する、有機ELパネルの製造方法。
A plurality of organic EL elements each having an anode, a light-emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a cathode in this order are provided in a matrix, and the electron transport layer, the electron injection layer, and the cathode include a plurality of the organic EL elements. A method for manufacturing an organic EL panel, which is formed continuously over the element,
Forming an auxiliary electrode for supplying electrons to the cathode via the electron transport layer and the electron injection layer between the plurality of organic EL elements;
Forming an insulating layer in which a first opening in which the light emitting layer is formed and a second opening in which a supply path of electrons from the auxiliary electrode to the cathode is formed. ,
The step of forming the auxiliary electrode includes forming a surface of the auxiliary electrode facing the electron transporting layer with a material having a small work function as compared with a surface of the anode facing the light emitting layer. Manufacturing method of EL panel.
前記陽極を形成する工程を有し、
前記陽極を形成する工程は、前記陽極の前記発光層に対向する表面を、酸化インジウムを含む透明導電材料で形成する工程を有する、請求項4に記載の有機ELパネルの製造方法。
Having a step of forming the anode,
The method of manufacturing an organic EL panel according to claim 4, wherein the step of forming the anode includes a step of forming a surface of the anode facing the light emitting layer with a transparent conductive material containing indium oxide.
前記補助電極を形成する工程は、前記補助電極の前記電子輸送層に対向する表面を、モリブデンで形成する工程を有する、請求項4または5に記載の有機ELパネルの製造方法。   The method for manufacturing an organic EL panel according to claim 4, wherein the step of forming the auxiliary electrode includes a step of forming a surface of the auxiliary electrode facing the electron transport layer with molybdenum.
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