JP2019121874A - フィルタおよびマルチプレクサ - Google Patents
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Abstract
【課題】耐電力性を向上させること。【解決手段】基板と、前記基板上に設けられた圧電膜と前記圧電膜を挟む一対の電極とを備え、前記圧電膜の少なくとも一部を挟み前記一対の電極が対向する共振領域を有し、前記共振領域の平面形状はオーバル形状であり、前記オーバル形状の短軸に対する長軸の比を軸比とする圧電薄膜共振器と、各々が入力端子と出力端子との間に直列に接続された前記圧電薄膜共振器である複数の直列共振器と、前記複数の直列共振器のうち最も共振領域の面積が小さく、かつ前記複数の直列共振器のうち最も軸比が小さい第1共振器と、を備えるフィルタ。【選択図】図4
Description
本発明は、フィルタおよびマルチプレクサに関し、例えば圧電薄膜共振器を有するフィルタおよびマルチプレクサに関する。
圧電薄膜共振器は、例えば携帯電話等の無線機器のフィルタおよびマルチプレクサとして用いられている。圧電薄膜共振器では、圧電膜を介し下部電極と上部電極とが対向するように設けられている。圧電膜を介し下部電極と上部電極とが対向する領域が共振領域である。共振領域を楕円形状等にすることが知られている(例えば特許文献1から3)。
圧電薄膜共振器は弾性表面波共振器に比べ耐電力性が高いものの十分ではない。
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、耐電力性を向上させることを目的とする。
本発明は、基板と、前記基板上に設けられた圧電膜と前記圧電膜を挟む一対の電極とを備え、前記圧電膜の少なくとも一部を挟み前記一対の電極が対向する共振領域を有し、前記共振領域の平面形状はオーバル形状であり、前記オーバル形状の短軸に対する長軸の比を軸比とする圧電薄膜共振器と、各々が入力端子と出力端子との間に直列に接続された前記圧電薄膜共振器である複数の直列共振器と、前記複数の直列共振器のうち最も共振領域の面積が小さく、かつ前記複数の直列共振器のうち最も軸比が小さい第1共振器と、を備えるフィルタである。
上記構成において、共振領域の平面形状は直交する2つの線対称軸を有する構成とすることができる。
上記構成において、前記第1共振器の共振領域の軸比は1.1以上かつ1.4以下である構成とすることができる。
上記構成において、前記第1共振器の軸比は、前記複数の直列共振器のうち前記第1共振器以外の直列共振器の軸比のうち最も小さな軸比の0.9倍よりも小さい構成とすることができる。
上記構成において、前記複数の直列共振器に含まれ、共振領域の面積が前記第1共振器の共振領域の面積と略同じであり、前記第1共振器より前記出力端子側に設けられ、かつ前記第1共振器の共振領域の軸比より大きい共振領域の軸比を有する第2共振器を備える構成とすることができる。
上記構成において、前記複数の直列共振器に含まれ、共振領域の面積が前記第1共振器の共振領域の面積と略同じであり、前記第1共振器の反共振周波数より高い反共振周波数を有し、かつ前記第1共振器の共振領域の軸比より大きい共振領域の軸比を有する第2共振器を備える構成とすることができる。
上記構成において、前記複数の直列共振器に含まれ、前記複数の直列共振器のうち共振領域の面積が前記第1共振器の次に小さく、かつ前記複数の直列共振器のうち共振領域の軸比が前記第1共振器の次に小さい第2共振器を備える構成とすることができる。
上記構成において、前記入力端子と前記出力端子との間に並列に接続された前記圧電薄膜共振器である1または複数の並列共振器を備える構成とすることができる。
本発明は、上記フィルタを含むマルチプレクサである。
上記構成において、共通端子と送信端子との間に接続され、前記フィルタを含む送信フィルタと、前記共通端子と受信端子との間に接続された受信フィルタと、を備える構成とすることができる。
本発明によれば、圧耐電力性を向上させることができる。
圧電薄膜共振器の構造とその問題点について説明する。
図1(a)は、圧電薄膜共振器の平面図、図1(b)および図1(c)は、図1(a)のA−A断面図である。図1(b)は、例えばラダー型フィルタの直列共振器、図1(c)は例えばラダー型フィルタの並列共振器の断面図を示している。
図1(a)および図1(b)を参照し、直列共振器Sの構造について説明する。基板10上に、下部電極12が設けられている。基板10の平坦な上面と下部電極12との間にドーム状の膨らみを有する空隙30が形成されている。ドーム状の膨らみとは、例えば空隙30の周辺では空隙30の高さが小さく、空隙30の内部ほど空隙30の高さが大きくなるような形状の膨らみである。
下部電極12上に、圧電膜14が設けられている。圧電膜14を挟み下部電極12と対向する領域(共振領域50)を有するように圧電膜14上に上部電極16が設けられている。共振領域50は厚み縦振動モードの弾性波が共振する領域である。共振領域50の平面形状は楕円形状である。上部電極16は下層16aおよび上層16bを含んでいる。
下層16aと上層16bとの間に質量負荷膜22が設けられている。質量負荷膜22は共振領域50内の被覆率が0から1の間である。被覆率が0のときは共振領域50内に質量負荷膜22は設けられておらず、被覆率が1のときは共振領域50内の全面に質量負荷膜22が設けられている。上部電極16上に周波数調整膜24が設けられている。周波数調整膜24はパッシベーション膜として機能してもよい。共振領域50内の積層膜18は、下部電極12、圧電膜14、上部電極16、質量負荷膜22および周波数調整膜24を含む。
図1(a)および図1(c)を参照し、並列共振器Pの構造について説明する。並列共振器Pは直列共振器Sと比較し、上部電極16の下層16aと上層16bとの間に、質量負荷膜20が設けられている。よって、積層膜18は直列共振器Sの積層膜に加え、共振領域50内に形成された質量負荷膜20を含む。その他の構成は直列共振器Sの図1(b)と同じであり説明を省略する。
直列共振器Sと並列共振器Pとの共振周波数の差は、質量負荷膜20の膜厚を用い調整する。直列共振器Sと並列共振器Pとの両方の共振周波数の差は、周波数調整膜24を用い調整する。複数の直列共振器S(および複数の並列共振器P)内の共振周波数は質量負荷膜22の被覆率を用い異ならせる。
基板10としては、シリコン基板、サファイア基板、アルミナ基板、スピネル基板、石英基板、ガラス基板またはセラミック基板等の絶縁基板を用いることができる。下部電極12および上部電極16としては、Ru(ルテニウム)、Cr(クロム)、Al(アルミニウム)、Ti(チタン)、Cu(銅)、Mo(モリブデン)、W(タングステン)、Ta(タンタル)、Pt(白金)、Rh(ロジウム)またはIr(イリジウム)等の単層膜またはこれらの積層膜を用いることができる。
圧電膜14としては、AlN(窒化アルミニウム以外)ZnO(酸化亜鉛)、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)、PbTiO3(チタン酸鉛)等を用いることができる。圧電膜14は、例えば(002)方向を主軸とする窒化アルミニウムである。圧電膜14は、窒化アルミニウムを主成分とし、共振特性の向上または圧電性の向上のため他の元素を含んでもよい。例えば、添加元素として、Sc(スカンジウム)、2族元素もしくは12族元素と4族元素との2つの元素、または2族元素もしくは12族元素と5族元素との2つの元素を用いることにより、圧電膜14の圧電性が向上する。このため、圧電薄膜共振器の実効的電気機械結合係数を向上できる。2族元素は、例えばCa(カルシウム)、Mg(マグネシウム)またはSr(ストロンチウム)である。12族元素は例えばZn(亜鉛)である。4族元素は、例えばTi、Zr(ジルコニウム)またはHf(ハフニウム)である。5族元素は、例えばTa、Nb(ニオブ)またはV(バナジウム)である。さらに、圧電膜14は、窒化アルミニウムを主成分とし、B(ボロン)を含んでもよい。
周波数調整膜24としては、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または窒化アルミニウム等の絶縁膜を用いることができる。質量負荷膜20としては、下部電極12および上部電極16において例示した金属材料または窒化シリコンまたは酸化シリコン等絶縁膜を用いることができる。
圧電薄膜共振器は弾性表面波共振器に比べ電極間距離が長いため、耐電力性が高い。圧電薄膜共振器の耐電力性は、圧電薄膜共振器に連続波の高周波信号を印加して測定している。しかし、LTE(Long Term Evolution)用途のフィルタにはRAPR(Peak Average Power Ratio)の大きな、強度変調された高周波信号が印加される。そこで、強度変調された高周波信号を用い圧電薄膜共振器の耐電力性を測定した。その結果、圧電薄膜共振器は強度変調された高周波信号に対しては耐電力性が低いことがあることがわかった。
[実験]
圧電薄膜共振器を作製し強度変調された高周波信号を用い耐電力性を測定した。
圧電薄膜共振器の作製条件は以下である。
基板10:シリコン基板
下部電極12:基板10側から膜厚が100nmのCr膜、膜厚205nmのRu膜
圧電膜14:膜厚が912nmの窒化アルミニウム膜
上部電極16の下層16a:膜厚が205nmのRu膜
上部電極16の上層16b:膜厚が35nmのCr膜
共振領域50の面積:12000nm2
図1(a)のように共振領域50の楕円の長軸をbおよび短軸をaとして軸比b/aの異なるサンプルを作製した。
圧電薄膜共振器を作製し強度変調された高周波信号を用い耐電力性を測定した。
圧電薄膜共振器の作製条件は以下である。
基板10:シリコン基板
下部電極12:基板10側から膜厚が100nmのCr膜、膜厚205nmのRu膜
圧電膜14:膜厚が912nmの窒化アルミニウム膜
上部電極16の下層16a:膜厚が205nmのRu膜
上部電極16の上層16b:膜厚が35nmのCr膜
共振領域50の面積:12000nm2
図1(a)のように共振領域50の楕円の長軸をbおよび短軸をaとして軸比b/aの異なるサンプルを作製した。
環境温度50℃において、反共振周波数−20MHzの周波数を有する高周波信号を圧電薄膜共振器に印加した。入力電力を大きくしていき破壊される電力の直前の電力を最大入力電力とした。高周波信号は、パルス幅のオンになる区間が5m秒でありデュティ比が50%の強度変調波である。
図2は、実験における軸比に対する最大入力電力を示す図である。図2に示すように、軸比が大きくなると、小さい電力で破壊される。このように、軸比を小さくすると耐電力性が向上する。破壊された圧電薄膜共振器を観察すると、積層膜18の一部の膜がはがれていた。
軸比が耐電力性に影響する原因は明確ではないが、例えば以下のように考えられる。強度変調された高周波信号が印加されると、積層膜18の温度は上下する。これにより、熱応力が周期的に加わる。この応力により積層膜18の一部がはがれると考えられる。共振領域50が一様であれば応力が均等に加わるため積層膜18は剥がれにくい。共振領域50の軸比が大きくなると、共振領域50に加わる応力が一様でなくなり、応力が大きな箇所において積層膜18がはがれてしまう。
以上の実験のように、耐電力性の観点からは軸比は1に近いことが好ましい。しかし、軸比が1に近い複数の圧電薄膜共振器をチップに無駄なく配置することが難しい。また、軸比が1となるとスプリアスが発生する。以下、上記課題を解決する実施例について説明する。
図3は、実施例1に係るラダー型フィルタの回路図である。図3に示すように、入力端子Tinと出力端子Toutとの間に直列に直列共振器S1からS4が接続され、並列に並列共振器P1からP4が接続されている。並列共振器P1は共振器P1aおよびP1bに直列に分割されている。直列共振器および並列共振器の個数および各共振器の分割の有無は所望のフィルタ特性を得るため適宜設計できる。
図4は、実施例1に係るラダー型フィルタの平面図である。図4に示すように、基板10に直列共振器S1からS4および並列共振器P1aからP4が設けられている。各共振器間は下部電極12および/または上部電極16により接続されている。入力端子Tin、出力端子Toutおよびグランド端子Gnd等の端子は上部電極16により形成されている。配線および端子は上部電極16および/または下部電極12に積層された金膜または銅膜等の低抵抗な金属膜を有してもよい。
図5は、実施例1に係るラダー型フィルタの共振領域を示す図である。図5内の共振器の大きさおよび形状は共振領域50の大きさおよび軸比を示している。
図5および表1に示すように、各共振器の軸比b/aは1.2から1.7である。直列共振器S1からS4の中では直列共振器S3が最も面積が小さく、軸比は最も小さい。直列共振器S3の軸比は1.2である。他の直列共振器S1、S2およびS4の軸比は1.4から1.7である。
ラダー型フィルタにおいては、直列共振器S1からS4には、並列共振器P1からP4より大きい高周波電力が加わる。よって、大電力の高周波信号が入力端子Tinから入力すると、直列共振器S1からS4のうち最も共振領域50の小さな直列共振器S3が最も破壊されやすい。そこで、直列共振器S3の軸比を直列共振器の中で最も小さくする。これにより、ラダー型フィルタの耐電力性を向上できる。
図5のように、ラダー型フィルタでは、入力端子Tinと出力端子Toutとは基板10(チップ)の対角に設けられる。これは、入力信号と出力信号の干渉を抑制するためである。例えば直列共振器S1からS4の共振領域50が円に近いと、基板10の対角線が長くなってしまう。このように、基板10の直列共振器S1からS4の配置が制限されてしまう。実施例1では、直列共振器S1、S2およびS4の共振領域50の軸比が大きいため基板10の対角線を短くできる。直列共振器S3の共振領域50は円形に近いが、面積が小さいため基板10の対角線への影響は少ない。入力端子Tinと出力端子Toutを基板10に対角に設けない場合であっても、面積が大きい共振領域50の軸比が小さいと圧電薄膜共振器の配置の制約が大きくなる。
実施例1によれば、複数の直列共振器S1からS4は、各々基板10上に設けられた圧電膜14と圧電膜14を挟む下部電極12および上部電極16(一対の電極)とを備える圧電薄膜共振器である。直列共振器S3(第1共振器)は、複数の直列共振器S1からS4のうち最も共振領域50の面積が小さく、かつ複数の直列共振器S1からS4のうち他の直列共振器S1、S2およびS4より軸比が小さい。これにより、ラダー型フィルタの耐電力性を向上させることができる。また、直列共振器S1からS4の配置が容易となる。
直列共振器S3の軸比は、複数の直列共振器S1からS4のうち直列共振器S3以外の直列共振器S1、S2およびS4の軸比のうち最も小さな軸比の0.9倍より小さいことが好ましく、0.85倍以下が好ましく、0.8倍以下がより好ましい。直列共振器S3の軸比は、耐電力性を向上させるため1.4以下が好ましく、1.3以下がより好ましい。また、スプリアスを抑制するため、直列共振器S3の軸比は、1.1以上が好ましく1.15以上がより好ましい。
[実施例1の変形例1]
図6は、実施例1の変形例1に係るラダー型フィルタの共振領域を示す図である。図6に示すように、実施例1の変形例1では、直列共振器S2とS3の共振領域50の面積が製造誤差程度に略同じである。直列共振器S2およびS3のうち入力端子Tinに最も近い直列共振器S2の共振領域50の軸比を直列共振器S3より小さくする。これにより、耐電力性を向上できる。
図6は、実施例1の変形例1に係るラダー型フィルタの共振領域を示す図である。図6に示すように、実施例1の変形例1では、直列共振器S2とS3の共振領域50の面積が製造誤差程度に略同じである。直列共振器S2およびS3のうち入力端子Tinに最も近い直列共振器S2の共振領域50の軸比を直列共振器S3より小さくする。これにより、耐電力性を向上できる。
すなわち、直列共振器S2は、複数の直列共振器S1からS4に含まれ、共振領域50の面積が直列共振器S3の共振領域50の面積と略同じであり、直列共振器S3より出力端子Tout側に設けられ、かつ直列共振器S3の共振領域50の軸比より大きい共振領域50の軸比を有する。これにより、同じ面積の直列共振器S2およびS3のうちフィルタの耐電力性により影響する直列共振器S2の耐電力性を向上させ、かつ直列共振器S1からS4の配置が容易となる。
直列共振器S2の軸比は直列共振器S1およびS4より小さいことが好ましい。これにより、直列共振器S3の次にフィルタの耐電力性に影響する直列共振器S2の耐電力性を向上できる。
図7(a)は、フィルタおよび共振器の減衰特性を示す図である。図7(a)に示すように、直列共振器S2およびS3の共振周波数fr2およびfr3はラダー型フィルタの通過帯域Passの高周波数端を形成し、反共振周波数fa2およびfa3は通過帯域Passより高周波の減衰帯域を形成する。
図7(b)は、圧電薄膜共振器の等価回路である。図7(b)に示すように、端子T1とT2との間に抵抗R1、インダクタL1、C1および抵抗Rsが直列に接続されている。抵抗R1、インダクタL1およびキャパシタC1に抵抗R0およびキャパシタC0が並列に接続されている。キャパシタC1は積層膜18の膜厚等に依存し、キャパシタC0は共振領域50の面積に依存する。
圧電薄膜共振器の共振周波数frは、積層膜18内の縦方向弾性波の音速をv、積層膜18の膜厚をλとすると、以下の式で表される。
fr=v/λ=1/(2π(√(L1・C1))
反共振周波数faは、frを用い以下の式で表される。
fa=fr・√(1+C1/C0)
これらの式より、共振周波数frは共振領域50の面積にはよらず、積層膜18の膜厚等に依存する。反共振周波数faは共振領域50の面積が大きくなると小さくなる。
fr=v/λ=1/(2π(√(L1・C1))
反共振周波数faは、frを用い以下の式で表される。
fa=fr・√(1+C1/C0)
これらの式より、共振周波数frは共振領域50の面積にはよらず、積層膜18の膜厚等に依存する。反共振周波数faは共振領域50の面積が大きくなると小さくなる。
直列共振器S2とS3とは質量負荷膜22の被覆率が異なっており、直列共振器S3の共振周波数fr3はfr2より低く、反共振周波数fa3はfa2より低い。このため、高周波数端に近い直列共振器S3にはS2より大電力が加わる。そこで、直列共振器S2とS3の共振領域50の面積が製造誤差程度に略同じである場合、反共振周波数faの低い直列共振器S3の軸比を1に近づけることが好ましい。
すなわち、直列共振器S2は、複数の直列共振器S1からS4に含まれ、共振領域50の面積が直列共振器S3の共振領域50の面積と略同じであり、直列共振器S3の反共振周波数fa3より高い反共振周波数fa2を有し、かつ直列共振器S3の共振領域50の軸比より大きい共振領域50の軸比を有する。これにより、同じ面積の直列共振器S2およびS3のうちより耐電力性に影響する直列共振器S3の耐電力性を向上させ、かつ直列共振器S1からS4の配置が容易となる。
[実施例1の変形例2]
図8は、実施例1の変形例2に係るラダー型フィルタの共振領域を示す図である。図8に示すように、実施例1の変形例2では、直列共振器S1からS4のうち2番目に共振領域50の面積の小さな直列共振器S2は、直列共振器S1およびS4より軸比が1に近い。最も共振領域50の面積が小さい直列共振器S3の軸比を1.2とした場合、次に共振領域50の面積が小さな直列共振器S2の耐電力性が問題となる。そこで、直列共振器S2の軸比を直列共振器S1およびS4より小さくする。
図8は、実施例1の変形例2に係るラダー型フィルタの共振領域を示す図である。図8に示すように、実施例1の変形例2では、直列共振器S1からS4のうち2番目に共振領域50の面積の小さな直列共振器S2は、直列共振器S1およびS4より軸比が1に近い。最も共振領域50の面積が小さい直列共振器S3の軸比を1.2とした場合、次に共振領域50の面積が小さな直列共振器S2の耐電力性が問題となる。そこで、直列共振器S2の軸比を直列共振器S1およびS4より小さくする。
すなわち、直列共振器S2(第2共振器)は、複数の直列共振器S1からS4に含まれ、複数の直列共振器S1からS4のうち共振領域50の面積が直列共振器S3の次に小さく、かつ複数の直列共振器S1からS4のうち共振領域50の軸比が直列共振器S3の次に小さい。直列共振器S3の次にフィルタの耐電力性に影響する直列共振器S2の耐電力性を向上できる。
[実施例1の変形例3]
図9(a)は、実施例1の変形例3における圧電薄膜共振器の断面図である。図9(a)に示すように、基板10の上面に窪みが形成されている。下部電極12は、基板10上に平坦に形成されている。これにより、空隙30が、基板10の窪みに形成されている。空隙30は共振領域50を含むように形成されている。その他の構成は、実施例1と同じであり説明を省略する。空隙30は、基板10を貫通するように形成されていてもよい。なお、下部電極12の下面に絶縁膜が接して形成されていてもよい。すなわち、空隙30は、基板10と下部電極12に接する絶縁膜との間に形成されていてもよい。絶縁膜としては、例えば窒化アルミニウム膜を用いることができる。
図9(a)は、実施例1の変形例3における圧電薄膜共振器の断面図である。図9(a)に示すように、基板10の上面に窪みが形成されている。下部電極12は、基板10上に平坦に形成されている。これにより、空隙30が、基板10の窪みに形成されている。空隙30は共振領域50を含むように形成されている。その他の構成は、実施例1と同じであり説明を省略する。空隙30は、基板10を貫通するように形成されていてもよい。なお、下部電極12の下面に絶縁膜が接して形成されていてもよい。すなわち、空隙30は、基板10と下部電極12に接する絶縁膜との間に形成されていてもよい。絶縁膜としては、例えば窒化アルミニウム膜を用いることができる。
[実施例1の変形例4]
図9(b)に示すように、共振領域50の下部電極12下に音響反射膜31が形成されている。音響反射膜31は、音響インピーダンスの低い膜30aと音響インピーダンスの高い膜30bとが交互に設けられている。膜30aおよび30bの膜厚は例えばそれぞれほぼλ/4(λは弾性波の波長)である。膜30aと膜30bの積層数は任意に設定できる。音響反射膜31は、音響特性の異なる少なくとも2種類の層が間隔をあけて積層されていればよい。また、基板10が音響反射膜31の音響特性の異なる少なくとも2種類の層のうちの1層であってもよい。例えば、音響反射膜31は、基板10中に音響インピーダンスの異なる膜が一層設けられている構成でもよい。その他の構成は、実施例1と同じであり説明を省略する。
図9(b)に示すように、共振領域50の下部電極12下に音響反射膜31が形成されている。音響反射膜31は、音響インピーダンスの低い膜30aと音響インピーダンスの高い膜30bとが交互に設けられている。膜30aおよび30bの膜厚は例えばそれぞれほぼλ/4(λは弾性波の波長)である。膜30aと膜30bの積層数は任意に設定できる。音響反射膜31は、音響特性の異なる少なくとも2種類の層が間隔をあけて積層されていればよい。また、基板10が音響反射膜31の音響特性の異なる少なくとも2種類の層のうちの1層であってもよい。例えば、音響反射膜31は、基板10中に音響インピーダンスの異なる膜が一層設けられている構成でもよい。その他の構成は、実施例1と同じであり説明を省略する。
実施例1およびその変形例1から3のように、圧電薄膜共振器は、共振領域50において空隙30が基板10と下部電極12との間に形成されているFBAR(Film Bulk Acoustic Resonator)でもよい。また、実施例1の変形例4のように、圧電薄膜共振器は、共振領域50において下部電極12下に圧電膜14を伝搬する弾性波を反射する音響反射膜31を備えるSMR(Solidly Mounted Resonator)でもよい。共振領域50を含む音響反射層は、空隙30または音響反射膜31を含めばよい。
FBARでは、積層膜18の下に空隙30が設けられているため、積層膜18が応力に弱い。このため、大電力により積層膜18が破壊されやすくなる。よって、圧電薄膜共振器がFBARのとき、直列共振器S3の共振領域50の軸比を直列共振器S1からS4のうち最も小さくすることが好ましい。
[実施例1の変形例5]
図9(c)は、実施例1の変形例5における圧電薄膜共振器の断面図である。図9(c)に示すように、圧電膜14は、下部圧電膜14aと上部圧電膜14bとの間に挿入膜28が挿入されている。挿入膜28は共振領域50の中央領域に設けられておらず、共振領域50の外周に沿った外周領域に設けられている。挿入膜28は、例えば酸化シリコン膜であり圧電膜14の音響インピーダンスより小さい音響インピーダンスを有する。挿入膜28を設けることで圧電薄膜共振器のQ値を向上できる。下部電極12の引き出し領域において、上部圧電膜14bの端面は共振領域50の輪郭に略一致する。下部圧電膜14aの端面は共振領域50の輪郭より外側に位置する。その他の構成は実施例1と同じであり説明を省略する。
図9(c)は、実施例1の変形例5における圧電薄膜共振器の断面図である。図9(c)に示すように、圧電膜14は、下部圧電膜14aと上部圧電膜14bとの間に挿入膜28が挿入されている。挿入膜28は共振領域50の中央領域に設けられておらず、共振領域50の外周に沿った外周領域に設けられている。挿入膜28は、例えば酸化シリコン膜であり圧電膜14の音響インピーダンスより小さい音響インピーダンスを有する。挿入膜28を設けることで圧電薄膜共振器のQ値を向上できる。下部電極12の引き出し領域において、上部圧電膜14bの端面は共振領域50の輪郭に略一致する。下部圧電膜14aの端面は共振領域50の輪郭より外側に位置する。その他の構成は実施例1と同じであり説明を省略する。
実施例1の変形例5のように、実施例1およびその変形例1から4において下部電極12と上部電極16との間に挿入膜28を設けてもよい。また、圧電膜14を階段状に設けてもよい。
図10(a)から図10(e)は、共振領域の形状を示す平面図である。図10(a)に示すように、実施例1およびその変形例1から5は、共振領域50の平面形状は楕円形状である。短軸aと長軸bとの比が軸比b/aである。図10(b)および図10(c)のように、共振領域50の平面形状は楕円52を2つ重ねその共通な領域としてもよい。図10(d)および図10(e)のように、共振領域50の平面形状は円54のうち半円部分を伸ばした卵形状でもよい。
図10(a)から図10(e)の共振領域50のように、少なくとも1つの線対称軸を有し、外周が曲線を有し、内側に窪んでいない形状をオーバル形状という。図10(b)から図10(c)のように、共振領域50の平面形状が直交する線対称軸を有する場合、線対称軸のうち長い線対称軸を長軸b´とし、短い線対称軸を短軸a´とする。図10(d)および図10(e)のように、線対称軸が1つの場合、線対称軸と線対称軸に直交する最も大きい幅とを比較し大きい方を長軸b´とし、短い方を短軸a´とする。
このように、共振領域50の平面形状がオーバル形状の場合、軸比b´/a´が実施例1の変形例1および2の軸比の範囲であれば、共振領域50の形状は任意である。オーバル形状は、図10(a)のように楕円形状または長円形でもよいし、図10(d)および図10(e)のように卵形等でもよい。また図10(b)および図10(c)のように、共振領域50の外周が複数の曲線を有していてもよい。軸比が1より大きいことにより、スプリアスを抑制することができる。
実施例2はマルチプレクサの例である。図11は、実施例2に係るデュプレクサの回路図である。図11に示すように、共通端子Antと送信端子Txとの間に送信フィルタ40が接続されている。共通端子Antと受信端子Rxとの間に受信フィルタ42が接続されている。送信フィルタ40は、送信端子Txから入力された高周波信号のうち送信帯域の信号を送信信号として共通端子Antに通過させ、他の周波数の信号を抑圧する。受信フィルタ42は、共通端子Antから入力された高周波信号のうち受信帯域の信号を受信信号として受信端子Rxに通過させ、他の周波数の信号を抑圧する。送信フィルタ40および受信フィルタ42の少なくとも一方を実施例1およびその変形例のフィルタとすることができる。
送信フィルタ40には、大きな電力の高周波信号が印加される。よって、送信フィルタ40は実施例1およびその変形例のフィルタを含むことが好ましい。
マルチプレクサの例としてデュプレクサを説明したが、トリプレクサまたはクワッドプレクサでもよい。
以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明はかかる特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
10 基板
12 下部電極
14 圧電膜
16 上部電極
20、22 質量負荷膜
24 周波数調整膜
30 空隙
40 送信フィルタ
42 受信フィルタ
50 共振領域
12 下部電極
14 圧電膜
16 上部電極
20、22 質量負荷膜
24 周波数調整膜
30 空隙
40 送信フィルタ
42 受信フィルタ
50 共振領域
Claims (10)
- 基板と、
前記基板上に設けられた圧電膜と前記圧電膜を挟む一対の電極とを備え、前記圧電膜の少なくとも一部を挟み前記一対の電極が対向する共振領域を有し、前記共振領域の平面形状はオーバル形状であり、前記オーバル形状の短軸に対する長軸の比を軸比とする圧電薄膜共振器と、
各々が入力端子と出力端子との間に直列に接続された前記圧電薄膜共振器である複数の直列共振器と、
前記複数の直列共振器のうち最も共振領域の面積が小さく、かつ前記複数の直列共振器のうち最も軸比が小さい第1共振器と、
を備えるフィルタ。 - 前記共振領域の平面形状は直交する2つの線対称軸を有する請求項1に記載のフィルタ。
- 前記第1共振器の共振領域の軸比は1.1以上かつ1.4以下である請求項1または2に記載のフィルタ。
- 前記第1共振器の軸比は、前記複数の直列共振器のうち前記第1共振器以外の直列共振器の軸比のうち最も小さな軸比の0.9倍よりも小さい請求項1から3のいずれか一項に記載のフィルタ。
- 前記複数の直列共振器に含まれ、共振領域の面積が前記第1共振器の共振領域の面積と略同じであり、前記第1共振器より前記出力端子側に設けられ、かつ前記第1共振器の共振領域の軸比より大きい共振領域の軸比を有する第2共振器を備える請求項1から4のいずれか一項に記載のフィルタ。
- 前記複数の直列共振器に含まれ、共振領域の面積が前記第1共振器の共振領域の面積と略同じであり、前記第1共振器の反共振周波数より高い反共振周波数を有し、かつ前記第1共振器の共振領域の軸比より大きい共振領域の軸比を有する第2共振器を備える請求項1から4のいずれか一項に記載のフィルタ。
- 前記複数の直列共振器に含まれ、前記複数の直列共振器のうち共振領域の面積が前記第1共振器の次に小さく、かつ前記複数の直列共振器のうち共振領域の軸比が前記第1共振器の次に小さい第2共振器を備える請求項1から4のいずれか一項に記載のフィルタ。
- 前記入力端子と前記出力端子との間に並列に接続された前記圧電薄膜共振器である1または複数の並列共振器を備える請求項1から7のいずれか一項に記載のフィルタ。
- 請求項1から8のいずれか一項に記載のフィルタを含むマルチプレクサ。
- 共通端子と送信端子との間に接続され、前記フィルタを含む送信フィルタと、
前記共通端子と受信端子との間に接続された受信フィルタと、
を備える請求項9に記載のマルチプレクサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017254546A JP2019121874A (ja) | 2017-12-28 | 2017-12-28 | フィルタおよびマルチプレクサ |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019121874A true JP2019121874A (ja) | 2019-07-22 |
Family
ID=67306677
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| JP (1) | JP2019121874A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117097297A (zh) * | 2022-11-20 | 2023-11-21 | 北京芯溪半导体科技有限公司 | 一种滤波器、双工器、多工器和通信设备 |
-
2017
- 2017-12-28 JP JP2017254546A patent/JP2019121874A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117097297A (zh) * | 2022-11-20 | 2023-11-21 | 北京芯溪半导体科技有限公司 | 一种滤波器、双工器、多工器和通信设备 |
| CN117097297B (zh) * | 2022-11-20 | 2024-04-05 | 北京芯溪半导体科技有限公司 | 一种滤波器、双工器、多工器和通信设备 |
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