[go: up one dir, main page]

JP2019108528A - Curable organopolysiloxane composition - Google Patents

Curable organopolysiloxane composition Download PDF

Info

Publication number
JP2019108528A
JP2019108528A JP2018227864A JP2018227864A JP2019108528A JP 2019108528 A JP2019108528 A JP 2019108528A JP 2018227864 A JP2018227864 A JP 2018227864A JP 2018227864 A JP2018227864 A JP 2018227864A JP 2019108528 A JP2019108528 A JP 2019108528A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
molecular weight
mol
group
composition
curable organopolysiloxane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018227864A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6990164B2 (en
Inventor
友之 水梨
Tomoyuki Mizunashi
友之 水梨
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to US16/222,888 priority Critical patent/US10800920B2/en
Publication of JP2019108528A publication Critical patent/JP2019108528A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6990164B2 publication Critical patent/JP6990164B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

【課題】透明性、硬化性、耐熱性及び耐光性に優れた硬化性有機ケイ素樹脂組成物、及び該組成物で封止した半導体装置を提供する。【解決手段】下記(A)成分及び(B)成分を含む、硬化性オルガノポリシロキサン組成物。(A)下記式(1)(上記式中、R1は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、R2は、シリレン基またはシロキサン結合を有してよい炭素数6〜50の2価芳香族基である)で示されるシロキサン単位を有するオルガノポリシロキサンであって、重量平均分子量2,000〜100,000を有し、且つ、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の比が1.5以上であることを特徴とする、前記オルガノポリシロキサン、及び(B)塩基性触媒。【選択図】なしPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable organosilicon resin composition having excellent transparency, curability, heat resistance and light resistance, and a semiconductor device sealed with the composition. A curable organopolysiloxane composition comprising the following components (A) and (B). (A) The following formula (1) (in the above formula, R1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R2 is a divalent group having 6 to 50 carbon atoms which may have a silylene group or a siloxane bond. It is an organopolysiloxane having a siloxane unit represented by (which is an aromatic group), has a weight average molecular weight of 2,000 to 100,000, and has a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn). The organopolysiloxane and (B) a basic catalyst, characterized in that the ratio is 1.5 or more. [Selection diagram] None

Description

本発明は硬化性オルガノポリシロキサン組成物、及び該組成物の硬化物で封止された半導体装置に関する。   The present invention relates to a curable organopolysiloxane composition and a semiconductor device sealed with a cured product of the composition.

今日までに、縮合硬化性オルガノポリシロキサンは接着剤、防水防湿コーティング材、電気絶縁膜、建築用シーリング材などの用途に広く利用されている。また、近年では、その高い耐熱性と耐光性などの観点から、光ダイオード(LED)の封止材としての利用が注目されている。しかしながら、縮合硬化性オルガノポリシロキサンは、付加硬化性オルガノポリシロキサンに比べて反応性が低く、生産性に乏しい。また、反応性を向上させるために多量の縮合触媒を用いると、シリコーン樹脂の劣化も加速してしまうため、シリコーン樹脂本来の高い耐熱性や耐光性を発揮できないという問題がある。また、縮合触媒自体が色を帯びていたり、劣化により色を呈するようになったりするため、硬化物の耐熱性が重要な分野には不適な縮合触媒も多い。   To date, condensation curable organopolysiloxanes are widely used in applications such as adhesives, waterproof and moisture-proof coatings, electrical insulation films, and construction sealants. Moreover, in recent years, utilization as a sealing material of a photodiode (LED) attracts attention from the viewpoint of the high heat resistance, light resistance, etc. However, condensation-curable organopolysiloxanes have lower reactivity and poor productivity than addition-curable organopolysiloxanes. In addition, when a large amount of condensation catalyst is used to improve the reactivity, the deterioration of the silicone resin is also accelerated, so there is a problem that the high heat resistance and light resistance inherent to the silicone resin can not be exhibited. In addition, since the condensation catalyst itself is colored or becomes colored due to deterioration, many condensation catalysts are not suitable in the field where the heat resistance of the cured product is important.

縮合硬化性オルガノポリシロキサンの改良、実用化についてはこれまでに様々な試みが行われている。例えば、特許文献1では1分子内にシラノール基を2個以上有するオルガノポリシロキサンと1分子内に2個以上のケイ素原子結合アルコキシ基を有するオルガノポリシロキサンにアルミニウムや亜鉛の金属触媒に加え、リン酸エステルやホウ素化合物の縮合触媒を加えることによって硬化速度の向上を図りながら、樹脂の劣化を最小限にしようとしている。また、特許文献2のように、テトラアルコキシシランまたはトリアルコキシシランの部分加水分解物と両末端シラノール基含有直鎖状オルガノポリシロキサンに揮発性のアミン触媒を加えて硬化させることで、硬化物中に残存する触媒を低減させる試みも行われている。さらには、特許文献3のように、あらかじめ縮合性オルガノポリシロキサンを高分子量化しておくことで、少ない反応回数でゲル化を達成させる試みもなされている。   Various attempts have been made to improve and put to practical use of condensation curable organopolysiloxanes. For example, in Patent Document 1, an organopolysiloxane having two or more silanol groups in one molecule and an organopolysiloxane having two or more silicon-bonded alkoxy groups in one molecule are added to the metal catalyst of aluminum or zinc, and phosphorus. While attempting to improve the curing rate by adding a condensation catalyst of an acid ester or a boron compound, the resin deterioration is to be minimized. In addition, as in Patent Document 2, a cured product is obtained by adding a volatile amine catalyst to a partial hydrolyzate of tetraalkoxysilane or trialkoxysilane and a linear organopolysiloxane having both terminal silanol groups and curing the same. Attempts have also been made to reduce the amount of catalyst remaining in water. Furthermore, as in Patent Document 3, an attempt is also made to achieve gelation with a small number of reactions by previously polymerizing the condensable organopolysiloxane.

しかし、上記特許文献に記載の縮合硬化性有機ケイ素樹脂組成物は、硬化物に高い耐熱性及び耐光性を要求される分野での適用には未だ満足できるものではなかった。例えば、特許文献1に記載の硬化性有機ケイ素樹脂組成物は、硬化物中に触媒が多量に存在するため耐熱性及び耐光性が劣り、また、組成物中に過剰なアルコキシ基が含有されていることから硬化時に反応副生成物によるガスが発生し、ボイドの原因となる。特許文献2の樹脂組成物は、アミン触媒が低温下においても縮合作用を示すため粘度変化が大きく、保存安定性及びハンドリング性に問題がある。また、厚い硬化物とする場合にはアミン触媒が十分に揮発せず、残存したアミン触媒が熱により劣化し、硬化物が茶色に変色するという問題がある。特許文献3に記載の組成物では、縮合性ポリオルガノシロキサンを高分子量化させているため、組成物の粘度が高くなるため、凹部に流し込んだ後に硬化させる用途においては不適である。   However, the condensation-curable organosilicon resin composition described in the above-mentioned patent documents has not yet been satisfactory for applications in fields requiring high heat resistance and light resistance of the cured product. For example, the curable organosilicon resin composition described in Patent Document 1 is poor in heat resistance and light resistance because a large amount of catalyst is present in the cured product, and an excessive alkoxy group is contained in the composition. Therefore, during curing, a gas is generated by reaction byproducts, which causes a void. The resin composition of Patent Document 2 has a large change in viscosity because the amine catalyst exhibits a condensation action even at low temperatures, and has problems with storage stability and handling. In the case of a thick cured product, there is a problem that the amine catalyst is not sufficiently volatilized, the remaining amine catalyst is deteriorated by heat, and the cured product is discolored to brown. In the composition described in Patent Document 3, since the condensable polyorganosiloxane is made to have a high molecular weight, the viscosity of the composition becomes high, so it is not suitable for use in which the composition is poured into a recess and then cured.

特開2011−219729号公報JP, 2011-219729, A 特開2016−8246号公報JP, 2016-8246, A 特開2007−119569号公報JP, 2007-119569, A

本発明は、上記事情に鑑み、透明性、硬化性、耐熱性及び耐光性に優れた硬化性有機ケイ素樹脂組成物を提供することを目的とする。また該組成物で半導体素子を封止した半導体装置を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a curable organosilicon resin composition excellent in transparency, curability, heat resistance and light resistance, in view of the above-mentioned circumstances. Another object of the present invention is to provide a semiconductor device in which a semiconductor element is sealed with the composition.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討し、下記式(1)

Figure 2019108528
で示されるシロキサン単位を特定量含み、且つ特定の分子量分布を有する硬化性オルガノポリシロキサンと塩基性触媒とを含む硬化性オルガノポリシロキサン組成物が、優れた硬化性を有し、且つ高い耐熱性及び耐光性を有する硬化物を与えることができることを見出し、本発明を成すに至った。 MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor earnestly studies in order to solve the said subject, and following formula (1)
Figure 2019108528
A curable organopolysiloxane composition containing a specific amount of a siloxane unit represented by and containing a curable organopolysiloxane having a specific molecular weight distribution and a basic catalyst has excellent curability and high heat resistance. It has been found that a cured product having light resistance can be provided, and the present invention has been achieved.

即ち、本発明は、下記(A)成分及び(B)成分を含む、硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
(A)下記式(1)

Figure 2019108528
(上記式中、Rは互いに独立に、炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、Rは、シリレン基またはシロキサン結合を有してよい炭素数6〜50の2価芳香族基である)
で示されるシロキサン単位を、全シロキサン単位の合計100mol%に対して10mol%以上で有し、且つ、RSiO3/2単位を10〜90mol%で有するオルガノポリシロキサンであって、
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定による標準ポリスチレン換算の重量平均分子量2,000〜100,000を有し、且つ、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の比が1.5以上であることを特徴とする、前記オルガノポリシロキサン、及び
(B)塩基性触媒 触媒量。
更に本発明は、該硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化物を備える半導体装置を提供する。 That is, the present invention provides a curable organopolysiloxane composition comprising the following components (A) and (B).
(A) the following formula (1)
Figure 2019108528
(Wherein, R 1 is, independently of one another, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 is a divalent aromatic hydrocarbon having 6 to 50 carbon atoms that may have a silylene group or a siloxane bond Is the group)
Or a polysiloxane unit having 10 mol% or more based on 100 mol% of the total siloxane units, and having 10 to 90 mol% of R 1 SiO 3/2 units,
It has a standard polystyrene equivalent weight average molecular weight of 2,000 to 100,000 as measured by gel permeation chromatography (GPC), and the ratio of weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) is 1.5 or more Said organopolysiloxane, and (B) a basic catalyst a catalytic amount.
Furthermore, the present invention provides a semiconductor device provided with a cured product of the curable organopolysiloxane composition.

本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は優れた硬化性を有し、且つ優れた耐熱性及び耐光性を有する硬化物を与えることができる。   The curable organopolysiloxane composition of the present invention has excellent curability and can give a cured product having excellent heat resistance and light resistance.

以下、本発明について詳細に説明する。
[(A)硬化性オルガノポリシロキサン]
(A)硬化性オルガノポリシロキサンは、下記式(1)

Figure 2019108528
で示されるシロキサン単位を、全シロキサン単位の合計100mol%に対して10mol%以上で有し、且つ、RSiO3/2単位を10〜90mol%で有する。また、任意でSiO4/2単位を0〜50mol%、(RSiO2/2単位を0〜70mol%、並びに(RSiO1/2単位を0〜30mol%で有する。
なお、該オルガノポリシロキサンの構造は特に制限されるものでないが、好ましくはラダー構造またはレジン構造(三次元架橋構造)を有し、特に好ましくはレジン構造を有するオルガノポリシロキサンが良い。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
[(A) Curable organopolysiloxane]
(A) The curable organopolysiloxane has the following formula (1)
Figure 2019108528
And 10 mol% or more based on 100 mol% in total of all the siloxane units, and 10 to 90 mol% of R 1 SiO 3/2 units. In addition, it optionally has 0 to 50 mol% of SiO 4/2 units, 0 to 70 mol% of (R 1 ) 2 SiO 2/2 units, and 0 to 30 mol% of (R 1 ) 3 SiO 1/2 units.
The structure of the organopolysiloxane is not particularly limited, but it is preferably an organopolysiloxane having a ladder structure or a resin structure (three-dimensional crosslinked structure), and particularly preferably a resin structure.

上記式(1)で示されるシロキサン単位の量は前記(A)成分が有する全シロキサン単位の合計モル数(合計100mol%)に対して10mol%以上であり、好ましくは10〜90mol%であり、より好ましくは20〜80mol%である。上記式中、Rは、互いに独立に、炭素数1〜10、好ましくは1〜6の1価炭化水素基であり、Rは、シリレン基またはシロキサン結合を有してよい、炭素数6〜50の2価芳香族基である。 The amount of the siloxane unit represented by the above formula (1) is 10 mol% or more, preferably 10 to 90 mol%, with respect to the total number of moles of all the siloxane units of the component (A) (total 100 mol%). More preferably, it is 20-80 mol%. In the above formulas, R 1 is, independently of one another, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10, preferably 1 to 6, carbon atoms, and R 2 may have a silylene group or a siloxane bond, having 6 carbon atoms And 50 divalent aromatic groups.

としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基;シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基;ベンジル基等のアラルキル基;ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、及びオクテニル基等のアルケニル基等が挙げられ、上記炭化水素基の一部または全部をハロゲン原子などで置換してもよい。上記の中でも、メチル基、及びフェニル基が好ましい。 R 1 represents an alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group or butyl group; a cycloalkyl group such as cyclohexyl group; an aryl group such as phenyl group, tolyl group or xylyl group; an aralkyl group such as benzyl group; Groups, allyl groups, propenyl groups, isopropenyl groups, butenyl groups, hexenyl groups, cyclohexenyl groups, alkenyl groups such as octenyl groups, etc., and part or all of the above hydrocarbon groups are substituted with halogen atoms or the like. May be Among the above, a methyl group and a phenyl group are preferable.

としては、フェニレン基、及びビフェニレン基等のアリーレン基、アルキルアリーレン基、ジメチルシリレン基等のジオルガノシリレン基、(RSiO2/2単位で示されるシロキサン結合を有する基(Rは上述の通り)、及び下記式

Figure 2019108528
Figure 2019108528
Figure 2019108528
Figure 2019108528
(上記式中、Rは前記と同じ)
で示されるようなケイ素原子を含むシリレン基またはシロキサン結合を有する基が例示される。中でも、シリレン基が好ましい。 R 2 is a phenylene group, an arylene group such as a biphenylene group, an alkylarylene group, a diorganosilylene group such as a dimethylsilylene group, or a group having a siloxane bond represented by (R 1 ) 2 SiO 2/2 unit (R 1 is as described above, and the following formula
Figure 2019108528
Figure 2019108528
Figure 2019108528
Figure 2019108528
(In the above formula, R 1 is the same as above)
Examples thereof include a silylene group containing a silicon atom as shown in and a group having a siloxane bond. Among them, a silylene group is preferable.

また、該オルガノポリシロキサンは、重量平均分子量2,000〜100,000を有し、好ましくは3,000〜50,000を有する。分子量が上記下限値未満では、得られる組成物が硬化しない恐れがある。また分子量が上記上限値超では組成物のポットライフが悪化する恐れがある。   Also, the organopolysiloxane has a weight average molecular weight of 2,000 to 100,000, preferably 3,000 to 50,000. If the molecular weight is less than the above lower limit, the composition obtained may not be cured. If the molecular weight exceeds the above upper limit, the pot life of the composition may be deteriorated.

該オルガノポリシロキサンは、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比(Mw/Mn)の値が1.5以上であることを特徴とする。好ましくはMw/Mn=1.6〜2.5である。Mw/Mnが上記値未満であるポリシロキサンは、ポリシロキサンの合成段階で分子内縮合が進んでおり、安定なかご型構造を有する。このような安定なかご型構造を有するポリシロキサンはさらなる重合を起こし難いため、得られる組成物の硬化性が悪化する。これに対し、Mw/Mnが1.5以上であるオルガノポリシロキサンは活性な反応点を有するため、後述する塩基性触媒により分子間での反応が進み、即座に硬化することができる。   The organopolysiloxane is characterized in that the value of the ratio (Mw / Mn) of weight average molecular weight Mw to number average molecular weight Mn is 1.5 or more. Preferably, it is Mw / Mn = 1.6-2.5. The polysiloxane having Mw / Mn less than the above-mentioned value is undergoing intramolecular condensation at the synthesis stage of the polysiloxane and has a stable cage structure. Since the polysiloxane having such a stable cage structure is unlikely to cause further polymerization, the curability of the resulting composition is deteriorated. On the other hand, the organopolysiloxane having Mw / Mn of 1.5 or more has an active reaction point, so that the reaction between molecules proceeds by the later-described basic catalyst, and it can be cured immediately.

なお、本発明において重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、下記条件で測定したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレンを標準物質とした重量平均分子量である。
[測定条件]
展開溶媒:テトラヒドロフラン(THF)
流量:0.6mL/min
検出器:示差屈折率検出器(RI)
カラム:TSK Guardcolumn SuperH−L
TSKgel SuperH4000(6.0mmI.D.×15cm×1)
TSKgel SuperH3000(6.0mmI.D.×15cm×1)
TSKgel SuperH2000(6.0mmI.D.×15cm×2)
(いずれも東ソー社製)
カラム温度:40℃
試料注入量:20μL(濃度0.5重量%のTHF溶液)
In the present invention, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are weight average molecular weights using polystyrene as a standard substance by gel permeation chromatography (GPC) measured under the following conditions.
[Measurement condition]
Developing solvent: Tetrahydrofuran (THF)
Flow rate: 0.6 mL / min
Detector: Differential Refractive Index Detector (RI)
Column: TSK Guardcolumn SuperH-L
TSKgel SuperH4000 (6.0 mm ID × 15 cm × 1)
TSKgel Super H 3000 (6.0 mm ID × 15 cm × 1)
TSKgel Super H 2000 (6.0 mm ID × 15 cm × 2)
(All are made by Tosoh Corporation)
Column temperature: 40 ° C
Sample injection volume: 20 μL (THF solution with a concentration of 0.5% by weight)

上記分子量分布を有するオルガノポリシロキサンは、好ましくは、GPC測定にて得られる分子量分布曲線において、2個以上、好ましくは2〜5個の極大値が在り、少なくとも1つの極大値が分子量5,000以上、好ましくは5,500〜50,000の間にあり、少なくとも1つの極大値が分子量Mw3,000以下、好ましくは1,600〜2,800の間にあるのがよい。さらには、前記(A)オルガノポリシロキサンの分子量分布曲線において、分子量5,000以上の位置に極大値を有するピーク(高分子量側にあるピークという)の面積と、分子量3,000以下の位置に極大値を有するピーク(低分子量側にあるピークという)の面積との比が5:95〜90:10であり、好ましくは20:80〜70:30であるのが好ましい。但し、高分子量側にあるピークと低分子量側にあるピークとが隣接して重なっている場合には、二つのピークの間の谷(値が最小となる地点(極小値の点))からベースラインに対して引いた垂線にて区切られた面積にて、上記比を算出する。分子量分布が上記を満たさないと、得られる組成物の硬化性が悪化する恐れがある。   The organopolysiloxane having the above molecular weight distribution preferably has two or more, preferably two to five maximum values in a molecular weight distribution curve obtained by GPC measurement, and at least one maximum value has a molecular weight of 5,000. The above, preferably between 5,500 and 50,000, and at least one local maximum should be between molecular weight Mw 3,000 or less, preferably between 1,600 and 2,800. Furthermore, in the molecular weight distribution curve of the (A) organopolysiloxane, the area of a peak having a maximum at a position of a molecular weight of 5,000 or more (referred to as a peak on the high molecular weight side) and a position of a molecular weight of 3,000 or less The ratio to the area of the peak having the maximum value (referred to as the peak on the low molecular weight side) is 5:95 to 90:10, preferably 20:80 to 70:30. However, when the peak on the high molecular weight side and the peak on the low molecular weight side are adjacently overlapped, the valley between the two peaks (the point where the value is the minimum (point of the minimum value)) is the base The above ratio is calculated with the area divided by the perpendicular drawn to the line. If the molecular weight distribution does not satisfy the above, the curability of the resulting composition may be degraded.

上記分子量分布曲線において分子量3,000〜5,000の間に極大値を有するピークを有していてもよい。極大値が3個以上ある場合には、最も大きい分子量を有する極大値が5,000以上にあり、最も小さい分子量を有する極大値が3,000以下にあればよい。尚、極大値を3,000〜5,000の間に有するピークがある場合であり、高分子量側にあるピークと併せて求められる重量平均分子量が5,000以上になる場合は、該ピークの面積は高分子量側のピークとしてピーク面積に加えることができる。   The molecular weight distribution curve may have a peak having a maximum value between 3,000 and 5,000. In the case where there are three or more maximum values, the maximum value having the largest molecular weight may be 5,000 or more, and the maximum value having the smallest molecular weight may be 3,000 or less. In the case where there is a peak having a maximum value between 3,000 and 5,000, and the weight average molecular weight determined together with the peak on the high molecular weight side is 5,000 or more, the peak The area can be added to the peak area as a high molecular weight peak.

前記(A)成分は、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を0.001〜2mol/100gの範囲の量で有し、ケイ素原子に結合した水酸基を0mol/100g以上1.0mol/100g以下の範囲の量で有する。本発明においてケイ素原子に結合した水酸基量及びアルコキシ基量は、H−NMR及び29Si−NMRによって測定される値である。 The component (A) has an alkoxy group bonded to a silicon atom in an amount ranging from 0.001 to 2 mol / 100 g, and a hydroxyl group bonded to a silicon atom ranging from 0 mol / 100 g to 1.0 mol / 100 g In quantity. The amount of hydroxyl groups and the amount of alkoxy groups bonded to silicon atoms in the present invention are values measured by 1 H-NMR and 29 Si-NMR.

ケイ素原子に結合した水酸基の量は、好ましくは0.8mol/100g以下であり、より好ましくは0.1mol/100g以下である。水酸基の下限値は特に制限されず0mol/100gであってもよいが、好ましくは0.0001mol/100g以上であるのがよい。ケイ素原子に結合した水酸基の量が上記上限値超では硬化時にボイドが発生する恐れがある。   The amount of the hydroxyl group bonded to the silicon atom is preferably 0.8 mol / 100 g or less, more preferably 0.1 mol / 100 g or less. The lower limit value of the hydroxyl group is not particularly limited and may be 0 mol / 100 g, preferably 0.0001 mol / 100 g or more. If the amount of hydroxyl groups bonded to silicon atoms exceeds the above upper limit value, voids may occur during curing.

ケイ素原子に結合したアルコキシ基の量は、好ましくは0.02〜1.5mol/100gであり、より好ましくは0.6mol/100g以下である。ケイ素原子に結合したアルコキシ基の量が上記上限値超では硬化時にボイドが発生する恐れがある。また、上記下限値未満では基材と硬化物との接着性が低下する恐れがある。   The amount of the alkoxy group bonded to the silicon atom is preferably 0.02 to 1.5 mol / 100 g, more preferably 0.6 mol / 100 g or less. If the amount of the alkoxy group bonded to the silicon atom exceeds the above upper limit value, there is a possibility that a void may be generated at the time of curing. Moreover, if it is less than the said lower limit, there exists a possibility that the adhesiveness of a base material and hardened | cured material may fall.

該オルガノポリシロキサンの性状は25℃で固体、半固体、又は液体のいずれであってもよい。   The nature of the organopolysiloxane may be solid, semi-solid or liquid at 25 ° C.

本発明のオルガノポリシロキサンは、上記式(1)で表す構造の他に、RSiO3/2単位を必須に有する。RSiO3/2単位(T単位)の数が、前記(A)成分の全シロキサン単位の合計モル数(合計100mol%)に対して10〜90mol%、好ましくは10〜80mol%、より好ましくは30〜80mol%である。T単位を有さないと組成物の硬化性が劣る恐れがある。また、任意でSiO4/2単位、(RSiO2/2単位、又は(RSiO1/2単位を有する(Rは上述の通りである)。該単位の含有割合は、SiO4/2単位(Q単位)の数は、0〜20mol%であり、好ましくは0〜10mol%であればよい。(RSiO2/2単位(D単位)の数は0〜70mol%、好ましくは0〜50mol%であればよく、(RSiO1/2単位(M単位)の数は、0〜30mol%、好ましくは0〜20mol%であり、より好ましくは0mol%であるのがよい。 The organopolysiloxane of the present invention essentially has an R 1 SiO 3/2 unit in addition to the structure represented by the above formula (1). The number of R 1 SiO 3/2 units (T units) is 10 to 90 mol%, preferably 10 to 80 mol%, more preferably the total number of moles of all siloxane units of the component (A) (total 100 mol%) Is 30 to 80 mol%. If it does not have a T unit, the curability of the composition may be poor. It also optionally has SiO 4/2 units, (R 1 ) 2 SiO 2 2/2 units, or (R 1 ) 3 SiO 1/2 units (R 1 is as described above). The content ratio of the unit may be 0 to 20 mol%, preferably 0 to 10 mol%, of the number of SiO 4/2 units (Q units). The number of (R 1 ) 2 SiO 2/2 units (D units) may be 0 to 70 mol%, preferably 0 to 50 mol%, and the number of (R 1 ) 3 SiO 1/2 units (M units) may be 0 to 30 mol%, preferably 0 to 20 mol%, more preferably 0 mol%.

本発明のオルガノポリシロキサンは、上記した各シロキサン単位源となる有機ケイ素化合物を脱水素反応、縮合反応、又は平衡化反応等することにより製造することができる。製造方法は従来公知の方法に従えばよく、反応触媒としては塩基性触媒及び酸性触媒が挙げられるが、上述した分子量分布を有するオルガノポリシロキサンを得るためには酸性触媒を使用するのが好ましい。塩基性触媒を使用すると、シロキサンの合成段階で分子内縮合が十分に進んでしまい、オルガノポリシロキサンは安定なかご型構造を有する。このようなオルガノポリシロキサンは、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比(Mw/Mn)が1.5以下になる。また、上述した通り、該安定なかご型構造を有するポリシロキサンはさらなる重合を起こし難いため、得られる組成物の硬化性が悪化する恐れがある。   The organopolysiloxane of the present invention can be produced by dehydrogenation reaction, condensation reaction, or equilibration reaction of the above-mentioned organosilicon compounds as the source of each siloxane unit. The production method may be according to a conventionally known method, and a basic catalyst and an acidic catalyst can be mentioned as a reaction catalyst, but it is preferable to use an acidic catalyst in order to obtain an organopolysiloxane having the above-mentioned molecular weight distribution. When a basic catalyst is used, intramolecular condensation proceeds sufficiently in the synthesis stage of the siloxane, and the organopolysiloxane has a stable cage structure. Such an organopolysiloxane has a ratio (Mw / Mn) of weight average molecular weight Mw to number average molecular weight Mn of 1.5 or less. Further, as described above, since the polysiloxane having a stable cage structure is less likely to cause further polymerization, the curability of the resulting composition may be deteriorated.

SiO3/2単位(T単位)を得るための材料としては、例えば、下記構造式で表されるオルガノトリクロロシラン、オルガノトリアルコキシシラン等の有機ケイ素化合物、又はこれらの縮合反応物、またはホウ素触媒により脱水素反応可能なHSiO2/2単位を含有する有機ケイ素化合物が挙げられるが、これらに限定されない。

Figure 2019108528
As a material for obtaining R 1 SiO 3/2 unit (T unit), for example, organotrichlorosilane represented by the following structural formula, organosilicon compounds such as organotrialkoxysilane, or condensation products thereof, or Examples include, but are not limited to, organosilicon compounds containing HSiO 2/2 units that can be dehydrogenated by boron catalysts.

Figure 2019108528

SiO2/2単位(D単位)を得るための材料としては、例えば、下記構造式で表されるジオルガノジクロロシラン、ジオルガノジアルコキシシラン等の有機ケイ素化合物が挙げられるが、これらに限定されない。

Figure 2019108528
Figure 2019108528
(上記式中、nは0〜100の整数、mは0〜100の整数である。)

Figure 2019108528
As a material for obtaining R 1 2 SiO 2/2 units (D units), e.g., diorganodichlorosilane represented by the following structural formula, and organic silicon compounds such as diorganodialkoxysilanes are mentioned, these It is not limited to.
Figure 2019108528
Figure 2019108528
(In the above formula, n is an integer of 0 to 100 and m is an integer of 0 to 100.)

Figure 2019108528

SiO1/2単位(M単位)を得るための材料としては、例えば、下記構造式で表されるトリオルガノクロロシラン、トリオルガノアルコキシシラン、ヘキサオルガノジシロキサン等の有機ケイ素化合物が挙げられるが、これらに限定されない。

Figure 2019108528
SiO4/2単位を得るための材料としては、例えば、ケイ酸ソーダ、テトラアルコキシシラン、またはその縮合反応物が例示できるが、これらに限定されるものではない。 As a material for obtaining the R 1 3 SiO 1/2 units (M units), for example, triorganochlorosilane represented by the following structural formula, tri organoalkoxysilane, organosilicon compounds such as hexaorganodisiloxanes is However, it is not limited to these.
Figure 2019108528
As a material for obtaining a SiO 4/2 unit, for example, sodium silicate, tetraalkoxysilane, or a condensation reaction product thereof can be exemplified, but it is not limited thereto.

式(1)で示される単位を得るための材料としては、例えば、下記構造式で表される1,4−ビス(ジメチルシリル)ベンゼン等の有機ケイ素化合物が挙げられるが、これらに限定されない。

Figure 2019108528
Figure 2019108528
Examples of the material for obtaining the unit represented by the formula (1) include, but are not limited to, organic silicon compounds such as 1,4-bis (dimethylsilyl) benzene represented by the following structural formula.
Figure 2019108528
Figure 2019108528

[(B)塩基性触媒]
(B)成分は塩基性触媒であり、オルガノポリシロキサンのケイ素原子に結合した水酸基における縮合反応もしくはオルガノポリシロキサンの平衡重合反応を促進するために機能する。塩基性触媒は、シロキサンの縮合反応に用いられる従来公知の触媒であればよい。
[(B) basic catalyst]
The component (B) is a basic catalyst and functions to promote the condensation reaction or the equilibrium polymerization reaction of the organopolysiloxane at the hydroxyl group bonded to the silicon atom of the organopolysiloxane. The basic catalyst may be any conventionally known catalyst used for the condensation reaction of siloxanes.

該塩基性触媒としては、例えば、アミン化合物やケイ酸塩、ジルコニウム、チタン、錫、リチウム、バリウム、亜鉛及び鉄等の金属化合物が挙げられる。アミン化合物の例としては、メチルアミン、エチルアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、t−ブチルアミン、n−ペンチルアミン、ネオペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、シクロプロピルアミン、及びシクロヘキシルアミン等の1級アルキルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジ−n−ブチルアミン、メチルエチルアミン、メチルプロピルアミン、エチルプロピルアミン、メチルイソブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−t−ブチルアミン、及びメチルペンチルアミン等の2級アルキルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、N−エチルジプロピルアミン、トリブチルアミン、及びトリヘキシルアミン等の3級アルキルアミン、シラザン、ポリシラザン等が挙げられ、金属化合物の例としては鉛、錫、亜鉛、鉄、ジルコニウム、チタン、セリウム、カルシウム及びバリウムのアルコキシド又はカルボン酸錯体、例えばジイソプロポキシバリウム、ケイ酸リチウム塩、ケイ酸ナトリウム塩、ケイ酸カリウム塩等のアルカリ金属のケイ酸塩等が挙げられる。中でも、ジ−n−ブチルアミン、N−エチルジプロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、シラザン、ポリシラザン等のアミン化合物や、錫、亜鉛、ジルコニウム、カルシウムのアルコキシド又はカルボン酸錯体、ケイ酸リチウム塩、ケイ酸ナトリウム塩、及びケイ酸カリウム塩等のアルカリ金属のケイ酸塩等の金属化合物が好ましい。   Examples of the basic catalyst include amine compounds and metal compounds such as silicates, zirconium, titanium, tin, lithium, barium, zinc and iron. Examples of amine compounds include methylamine, ethylamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, t-butylamine, n-pentylamine, neopentylamine, n-hexylamine, cyclopropylamine, and Primary alkylamines such as cyclohexylamine, dimethylamine, diethylamine, di-n-propylamine, diisopropylamine, diisopropylethylamine, di-n-butylamine, methylethylamine, methylpropylamine, ethylpropylamine, methylisobutylamine, diisobutylamine , Di-t-butylamine, and secondary alkylamines such as methyl pentylamine, triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, N-ethyl dipene Tertiary alkylamines such as pyramine, tributylamine and trihexylamine, silazane, polysilazane and the like are mentioned. Examples of the metal compound include lead, tin, zinc, iron, zirconium, titanium, cerium, calcium and barium alkoxide or Carboxylic acid complexes such as barium diisopropoxy, lithium silicate, sodium silicate, alkali metal silicates such as potassium silicate, etc. may be mentioned. Among them, amine compounds such as di-n-butylamine, N-ethyldipropylamine, tri-n-butylamine, silazane, polysilazane, etc., alkoxides or carboxylic acid complexes of tin, zinc, zirconium, calcium, lithium silicate, silica Preferred are metal compounds such as acid sodium salts and alkali metal silicates such as potassium silicates.

塩基性触媒の量は反応を進行させるための触媒量であればよい。例えば(A)成分100質量部に対して0.001〜5質量部であることが好ましく、0.005〜3質量部であることがより好ましい。触媒の量が多すぎると得られる硬化物は耐熱性や耐光性に劣る恐れがある。   The amount of basic catalyst may be a catalytic amount for advancing the reaction. For example, it is preferable that it is 0.001-5 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, and it is more preferable that it is 0.005-3 mass parts. If the amount of the catalyst is too large, the resulting cured product may be inferior in heat resistance and light resistance.

[(C)直鎖状オルガノポリシロキサン]
本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、さらに(C)成分として、直鎖状オルガノポリシロキサンを含有してもよい。(C)成分の量は(A)成分100質量部に対して50質量部以下であるのがよく、好ましくは1〜50質量部であり、より好ましくは1〜30質量部である。
[(C) linear organopolysiloxane]
The curable organopolysiloxane composition of the present invention may further contain a linear organopolysiloxane as component (C). The amount of the component (C) is preferably 50 parts by mass or less, preferably 1 to 50 parts by mass, and more preferably 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A).

(C)成分は、好ましくは両末端にシラノール基を有するジオルガノポリシロキサンであるのがよい。該直鎖状のオルガノポリシロキサンは、好ましくは下記式(2)で表される。

Figure 2019108528
(式中、kは1〜10,000の整数であり、Rは互いに独立に、炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、Rは互いに独立に、水酸基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜10の1価炭化水素基から選ばれる基または水素原子である) Component (C) is preferably a diorganopolysiloxane having silanol groups at both ends. The linear organopolysiloxane is preferably represented by the following formula (2).
Figure 2019108528
(Wherein k is an integer of 1 to 10,000, R 3 independently of each other is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, R 4 is independently of each other, a hydroxyl group, 1 to carbon atoms A group selected from an alkoxy group of 10, a monovalent hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms, or a hydrogen atom)

上記式中、Rは、互いに独立に、炭素原子数1〜10の1価炭化水素基である。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、及びペンチル基等の飽和脂肪族炭化水素基、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基等の脂環式炭化水素基、ビニル基、アリル基、5−ヘキセニル基、及び9−デセニル基等の不飽和脂肪族炭化水素基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、及びフェニルプロピル基等のアラルキル基等の芳香族炭化水素基、これらの基の炭素原子に結合する水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子で置換したもの、例えば、トリフルオロプロピル基、クロロプロピル基等のハロゲン化1価炭化水素基等が挙げられる。これらの中では、メチル基、エチル基、及びプロピル基等の炭素原子数1〜5の飽和炭化水素基、及びフェニル基が好ましい。RはRで挙げた置換基の他に、水素原子、水酸基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。これらの中では、水酸基、メトキシ基、メチル基およびフェニル基が好ましい。 In said formula, R < 3 > is mutually independently a C1-C10 monovalent hydrocarbon group. For example, saturated aliphatic hydrocarbon groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group and pentyl group, alicyclic hydrocarbon groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group, vinyl group, allyl group, 5-hexenyl Groups, and unsaturated aliphatic hydrocarbon groups such as 9-decenyl group, aryl groups such as phenyl group and tolyl group, aromatic hydrocarbon groups such as aralkyl group such as benzyl group, phenylethyl group and phenylpropyl group, Some or all of the hydrogen atoms bonded to carbon atoms of these groups are substituted with halogen atoms such as fluorine, bromine and chlorine, for example, halogenated monovalent hydrocarbon groups such as trifluoropropyl and chloropropyl Etc. Among these, C1-C5 saturated hydrocarbon groups, such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, and a phenyl group are preferable. In addition to the substituents mentioned for R 3 , R 4 may, for example, be a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group or a butoxy group. Among these, a hydroxyl group, a methoxy group, a methyl group and a phenyl group are preferable.

(C)成分としては、例えば下記式で表されるオルガノポリシロキサンが挙げられる。

Figure 2019108528
(式中、s、t、uは0〜10,000の整数であり、ただしs+t+uは1〜10,000である) Examples of the component (C) include organopolysiloxanes represented by the following formula.
Figure 2019108528
(In the formula, s, t and u are integers from 0 to 10,000, provided that s + t + u is 1 to 10,000)

[(D)環状オルガノポリシロキサン]
本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、さらに(D)環状オルガノポリシロキサンを含有しても良い。該オルガノポリシロキサンとして好ましくは、下記式(3)で示される有機ケイ素化合物である。

Figure 2019108528
(式中、Rは、互いに独立に、炭素数1〜10の1価脂肪族炭化水素基であり、Rは、互いに独立に、炭素数6〜10の1価芳香族炭化水素基であり、p、q、及びrは、互いに独立に0〜4の整数であり、但し、p+q+r=3又は4である) [(D) cyclic organopolysiloxane]
The curable organopolysiloxane composition of the present invention may further contain (D) a cyclic organopolysiloxane. The organopolysiloxane is preferably an organosilicon compound represented by the following formula (3).
Figure 2019108528
(Wherein R 5 is, independently of each other, a C 1-10 monovalent aliphatic hydrocarbon group, and R 6 is, independently of each other, a C 6-10 monovalent aromatic hydrocarbon group And p, q and r each independently represent an integer of 0 to 4, provided that p + q + r = 3 or 4)

好ましくは下記式(4)で表される環状オルガノポリシロキサンが好ましい。

Figure 2019108528
(ここでp、q、rは上記の通りである) Preferably, a cyclic organopolysiloxane represented by the following formula (4) is preferable.
Figure 2019108528
(Where p, q, r are as above)

上記環状オルガノポリシロキサンは常温で液体もしくは固体であるが、化合物が固体の場合であっても上記塩基性触媒に記載したアミン化合物やジルコニウム、チタン、錫、亜鉛及び鉄等の金属化合物と反応させることで容易に開環し、液状の開環重合体を得ることができる。また、式(3)で示される環状オルガノポリシロキサンは、(A)成分と混合した後、50℃〜200℃の温度で加熱及び混合することによって液状化するため、容易に混合することができる。   The above cyclic organopolysiloxane is liquid or solid at normal temperature, but it is reacted with the amine compound described in the above basic catalyst or a metal compound such as zirconium, titanium, tin, zinc and iron even when the compound is solid. Thus, it is possible to easily ring-open to obtain a liquid ring-opening polymer. In addition, since the cyclic organopolysiloxane represented by the formula (3) is mixed with the component (A) and then heated and mixed at a temperature of 50 ° C. to 200 ° C., it can be easily mixed. .

環状オルガノポリシロキサンの量は、(A)成分100質量部に対して0.1〜30質量部であることが好ましく、0.2〜20質量部であることがより好ましい。   It is preferable that it is 0.1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, and, as for the quantity of cyclic organopolysiloxane, it is more preferable that it is 0.2-20 mass parts.

[(E)蛍光体]
本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、更に(E)蛍光体を含有してもよい。本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は耐熱耐光性に優れるため、蛍光体を含有する場合であっても、従来のように蛍光特性が著しく低下する恐れがない。
[(E) Phosphor]
The curable organopolysiloxane composition of the present invention may further contain (E) a phosphor. Since the curable organopolysiloxane composition of the present invention is excellent in heat resistance and light resistance, even when it contains a phosphor, there is no fear that the fluorescence characteristics will be significantly reduced as in the prior art.

蛍光体は、特に制限されるものでなく、従来公知の蛍光体を使用すればよい。例えば、半導体素子、特に窒化物系半導体を発光層とする半導体発光ダイオードからの光を吸収し、異なる波長の光に波長変換するものであることが好ましい。このような蛍光体としては、例えば、Eu、Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される窒化物系蛍光体・酸窒化物系蛍光体、Eu等のランタノイド系、Mn等の遷移金属系の元素により主に賦活されるアルカリ土類金属ハロゲンアパタイト蛍光体、アルカリ土類金属ホウ酸ハロゲン蛍光体、アルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体、アルカリ土類金属ケイ酸塩蛍光体、アルカリ土類金属硫化物蛍光体、アルカリ土類金属チオガレート蛍光体、アルカリ土類金属窒化ケイ素蛍光体、ゲルマン酸塩蛍光体、又は、Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される希土類アルミン酸塩蛍光体、希土類ケイ酸塩蛍光体又はEu等のランタノイド系元素で主に賦活される有機及び有機錯体蛍光体、Ca−Al−Si−O−N系オキシ窒化物ガラス蛍光体等から選ばれる1種以上であることが好ましい。   The phosphor is not particularly limited, and conventionally known phosphors may be used. For example, it is preferable to absorb light from a semiconductor element, particularly a semiconductor light emitting diode having a nitride-based semiconductor as a light emitting layer, and to convert the wavelength into light of a different wavelength. As such phosphors, for example, nitride-based phosphors / oxynitride-based phosphors mainly activated with lanthanide-based elements such as Eu and Ce, lanthanoids such as Eu, transition metals such as Mn, etc. Alkaline earth metal halogenapatite phosphors, alkaline earth metal borate halogen phosphors, alkaline earth metal aluminate phosphors, alkaline earth metal silicate phosphors, alkaline earth metals mainly activated by elements Sulfide phosphor, alkaline earth metal thiogallate phosphor, alkaline earth metal silicon nitride phosphor, germanate phosphor, or rare earth aluminate phosphor mainly activated with lanthanoid elements such as Ce, rare earth phosphor Silicate phosphors or organic and organic complex phosphors mainly activated by lanthanoid elements such as Eu, Ca-Al-Si-O-N oxynitride glass phosphors It is preferably at least one member selected from.

蛍光体は、平均粒径10nm以上を有することが好ましく、より好ましくは10nm〜10μm、更に好ましくは10nm〜1μmを有するのがよい。上記平均粒径は、シーラスレーザー測定装置などのレーザー光回折法による粒度分布測定で測定される。蛍光体の配合量は、蛍光体以外の成分、例えば(A)成分100質量部に対して、0.1〜2,000質量部が好ましく、より好ましくは0.1〜100質量部である。   The phosphor preferably has an average particle diameter of 10 nm or more, more preferably 10 nm to 10 μm, still more preferably 10 nm to 1 μm. The average particle size is measured by particle size distribution measurement by a laser light diffraction method such as a Cirrus laser measurement apparatus. The blending amount of the phosphor is preferably 0.1 to 2,000 parts by mass, more preferably 0.1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of components other than the phosphor, for example, the component (A).

他の成分
本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物には、上記の(A)〜(E)成分以外に、必要に応じて、接着付与剤やその他の添加剤を配合することができる。
Other Components In addition to the components (A) to (E) described above, an adhesive agent and other additives may be added to the curable organopolysiloxane composition of the present invention as required.

接着付与剤は公知のものであればよいが、例えば、フェニルトリメトキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、3−シアノプロピルトリエトキシシラン等や、及びそれらのオリゴマー等が挙げられる。なお、これらの接着付与剤は、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて配合することができる。接着付与剤の量は、上記の(A)成分100質量部に対し、0.01〜10質量部、特に0.05〜5質量部となる量であるのが好ましい。   The adhesion promoter may be any known one, for example, phenyltrimethoxysilane, trimethoxysilane, triethoxysilane, methyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane , 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-methacrylic acid Roxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, N-2 (aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2 (aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysila , N-2 (aminoethyl) 3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, 3-cyanopropyltriethoxysilane Examples thereof include ethoxysilane and oligomers thereof. In addition, these adhesion imparting agents can be mix | blended individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The amount of the adhesion promoter is preferably 0.01 to 10 parts by mass, particularly 0.05 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A).

その他の添加剤としては、例えば、シリカ、グラスファイバー、ヒュームドシリカ等の補強性無機充填材、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、二酸化チタン、酸化第二鉄、カーボンブラック、酸化亜鉛等の非補強性無機充填材、二酸化ケイ素(シリカ:SiO)、酸化ジルコニウム(ジルコニア:ZrO)、酸化チタン(TiO)、酸化アルミニウム(アルミナ:Al)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化鉄(Fe)、四酸化三鉄(Fe)、酸化鉛(PbO)、酸化すず(SnO)、酸化セリウム(Ce3、CeO)、酸化カルシウム(CaO)、四酸化三マンガン(Mn)、酸化マグネシウム(MgO)、酸化バリウム(BaO)などのナノフィラーが挙げられる。添加剤の量は、本発明の効果を損ねない範囲で適宜調整されればよい。例えば、上記の(A)成分100質量部に対し、600質量部以下、好ましくは1〜600質量部、より好ましくは10〜400質量部の量であることができる。 Other additives include, for example, reinforcing inorganic fillers such as silica, glass fiber, fumed silica, etc., calcium carbonate, calcium silicate, titanium dioxide, ferric oxide, carbon black, zinc oxide, etc. Inorganic filler, silicon dioxide (silica: SiO 2 ), zirconium oxide (zirconia: ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), aluminum oxide (alumina: Al 2 O 3 ), zinc oxide (ZnO), iron oxide (Fe) 2 O 3 ), triiron tetraoxide (Fe 3 O 4 ), lead oxide (PbO 2 ), tin oxide (SnO 2 ), cerium oxide (Ce 2 O 3, CeO 2 ), calcium oxide (CaO), tetraoxide Examples include nanofillers such as trimanganese (Mn 3 O 4 ), magnesium oxide (MgO), and barium oxide (BaO). The amount of the additive may be appropriately adjusted within the range that does not impair the effect of the present invention. For example, the amount can be 600 parts by mass or less, preferably 1 to 600 parts by mass, more preferably 10 to 400 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the component (A).

本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は常温(25℃)で液状または固体である。本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、常温(25℃)でも十分に硬化するが、必要に応じて加熱して硬化してもよい。加熱する場合の温度は、例えば、60〜200℃とすることができる。用途に応じて、所定の基材に塗布した後、硬化させることができる。   The curable organopolysiloxane composition of the present invention is liquid or solid at normal temperature (25 ° C.). The curable organopolysiloxane composition of the present invention cures sufficiently even at normal temperature (25 ° C.), but may be cured by heating as required. The temperature for heating can be, for example, 60 to 200 ° C. Depending on the application, it can be cured after being applied to a predetermined substrate.

なお、本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、150℃において、液状である組成物がゲル化するまでの時間が300秒未満であるのが好ましく、30〜240秒がより好ましい。ゲル化時間が300秒未満であれば、硬化性に優れ、コンプレッションモールドやトランスファーモールド用の成形材料として好適である。尚、本発明において「ゲル化」とは固体ではないが流動性を有さない状態になることであり、「ゲル化するまでの時間」とは、液状の組成物が流動性を失うまでの時間である。また、本発明の樹脂組成物は上述の通り常温では液状又は固体であるが、固体の組成物も150℃では液状となる。従って、室温で固体の組成物において「150℃において、液状である組成物がゲル化するまでの時間」とは、150℃において一旦液状となった後にゲル化する(流動性を失う)までの時間を意味する。150℃300秒にてゲル化しない場合、もしくはゲル化が不十分な場合には、成形条件にて樹脂強度がきわめて弱くなり、成形が終わって金型から剥がされる際に金型から受けるストレスによって破れてしまうおそれがある。150℃300秒にてゲル化する組成物であれば、成形条件で適度な樹脂強度を有することができ、金型から離形するストレスに耐えることができるため好ましい。   In the curable organopolysiloxane composition of the present invention, the time for the composition which is liquid at 150 ° C. to gelate is preferably less than 300 seconds, and more preferably 30 to 240 seconds. If the gelation time is less than 300 seconds, the curability is excellent and it is suitable as a molding material for compression molding or transfer molding. In the present invention, "gelation" refers to a state which is not solid but does not have fluidity, and "time to gelation" refers to the time until the liquid composition loses fluidity. It's time. Moreover, although the resin composition of this invention is liquid or solid at normal temperature as mentioned above, the composition of a solid also becomes liquid at 150 degreeC. Therefore, in the composition which is solid at room temperature, “the time until the composition which is liquid at 150 ° C. becomes gelled” is the time to gelation (loss of fluidity) once it becomes liquid at 150 ° C. I mean time. When gelation does not occur at 150 ° C. for 300 seconds, or when gelation is insufficient, the resin strength becomes extremely weak under molding conditions, and stress is received from the mold when it is removed from the mold after molding is finished. There is a risk of tearing. A composition which gelates at 150 ° C. for 300 seconds is preferable because it can have an appropriate resin strength under molding conditions and can withstand stress released from the mold.

また、前記樹脂組成物の150℃×1時間における揮発成分量は10重量%以下が好ましく、0.01〜5重量%がより好ましい。揮発成分量が10重量%以下であれば、硬化時にボイドが発生せず、硬化収縮も抑えられるため好ましい。尚、揮発成分量(%)とは、加熱前における組成物の重量に対する加熱後における組成物の重量減少率(%)である。   Moreover, 10 weight% or less is preferable and, as for the volatile component amount in 150 degreeC * 1 hour of the said resin composition, 0.01-5 weight% is more preferable. If the amount of volatile component is 10% by weight or less, voids are not generated at the time of curing, and curing shrinkage is also suppressed, which is preferable. The volatile component amount (%) is the weight reduction rate (%) of the composition after heating relative to the weight of the composition before heating.

本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、機械特性、耐クラック性、及び耐熱性に優れた硬化物を与える。好ましくは本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物を硬化して、厚さ1mmの硬化物としたときに、波長400〜800nmの全光線透過率、特には波長450nmにおける光透過率が70%以上を有するのがよく、より好ましくは80%以上を有するのがよい。なお、本発明において全光線透過率とは、JIS K 7361−1:1999に記載の方法によって測定した値であり、450nmにおける光透過率は、前記規格の方法を準用し、日立製分光光度計U−4100を用いて測定した値である。   The curable organopolysiloxane composition of the present invention gives a cured product excellent in mechanical properties, crack resistance and heat resistance. Preferably, when the curable organopolysiloxane composition of the present invention is cured into a cured product having a thickness of 1 mm, the total light transmittance at a wavelength of 400 to 800 nm, in particular, the light transmittance at a wavelength of 450 nm is 70% or more It is preferable to have 80% or more. In the present invention, the total light transmittance is a value measured by the method described in JIS K 7361-1: 1999, and the light transmittance at 450 nm is the spectrophotometer manufactured by Hitachi, using the method of the above standard. It is a value measured using U-4100.

また、本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、屈折率1.40〜1.70、好ましくは1.45〜1.56を有する硬化物を与えることができる。本発明における屈折率とは、JIS K 7142:2008に準拠して測定される25℃における屈折率であり、アッベ型屈折率計により測定することができる。   In addition, the curable organopolysiloxane composition of the present invention can give a cured product having a refractive index of 1.40 to 1.70, preferably 1.45 to 1.56. The refractive index in the present invention is a refractive index at 25 ° C. measured in accordance with JIS K 7142: 2008, and can be measured by an Abbe refractometer.

上記のような透過率かつ屈折率を有する硬化物は、透明性に優れるため、LEDの封止材などの光学用途に特に好適に用いることができる。   The cured product having the above-described transmittance and refractive index is excellent in transparency, and thus can be particularly suitably used for optical applications such as a sealing material of an LED.

<半導体装置>
また、本発明は、上記硬化性オルガノポリシロキサン組成物を硬化して成る硬化物で半導体素子が封止された半導体装置を提供する。
<Semiconductor device>
The present invention also provides a semiconductor device in which a semiconductor element is sealed with a cured product obtained by curing the above curable organopolysiloxane composition.

上述のように本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物から得られる硬化物は、透明性及び耐熱性に優れる。そのため、発光半導体装置のレンズ用素材、保護コート剤、モールド剤等に好適であり、特に青色LED、白色LED、紫外LED等のLED素子封止用として有用なものである。また、本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は耐熱性に優れるため、シリケート系蛍光体や量子ドット蛍光体を添加して波長変換フィルム用素材として使用する際にも、高湿下での長期信頼性が確保でき、耐湿性、長期演色性が良好な発光半導体装置を提供することができる。   As described above, the cured product obtained from the curable organopolysiloxane composition of the present invention is excellent in transparency and heat resistance. Therefore, it is suitable as a lens material for a light emitting semiconductor device, a protective coating agent, a molding agent, etc., and is particularly useful for sealing LED elements such as blue LEDs, white LEDs, ultraviolet LEDs and the like. In addition, since the curable organopolysiloxane composition of the present invention is excellent in heat resistance, it can be used as a wavelength conversion film material by adding a silicate-based phosphor or a quantum dot phosphor to a long time under high humidity. It is possible to provide a light emitting semiconductor device which can ensure reliability, and is excellent in moisture resistance and long-term color rendering.

本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物でLED等の発光半導体素子を封止する場合は、例えば熱可塑性樹脂からなるプレモールドパッケージに搭載されたLED素子上に本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物を塗布し、LED素子上で組成物を硬化させることにより、LED素子を硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化物で封止することができる。また、組成物をトルエンやキシレン等の有機溶媒に溶解させて調製したワニスの状態で、LED素子上に塗布することができる。有機溶媒の量は従来公知の製造方法に従い適宜調整されればよい。   In the case of sealing a light emitting semiconductor element such as an LED with the curable organopolysiloxane composition of the present invention, the curable organopolysiloxane composition of the present invention is formed on the LED element mounted on a pre-mold package made of thermoplastic resin. By applying a substance and curing the composition on the LED element, the LED element can be sealed with the cured product of the curable organopolysiloxane composition. Moreover, it can apply | coat on a LED element in the state of the varnish prepared by dissolving a composition in organic solvents, such as toluene and xylene. The amount of the organic solvent may be appropriately adjusted according to a conventionally known production method.

本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、その優れた透明性、耐熱性、耐紫外線性、耐クラック性、長期信頼性等の特性から、ディスプレイ材料、光記録媒体材料、光学機器材料、光部品材料、光ファイバー材料、光・電子機能有機材料、半導体集積回路周辺材料等の光学用途に最適な素材である。   The curable organopolysiloxane composition of the present invention can be used as a display material, an optical recording medium material, an optical device material, an optical material, or the like because of its properties such as excellent transparency, heat resistance, UV resistance, crack resistance, long-term reliability and the like. It is an optimum material for optical applications such as component materials, optical fiber materials, organic materials with optical and electronic functional properties, and semiconductor integrated circuit peripheral materials.

以下、実施例及び比較例を示し、本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。尚、部は質量部を示し、粘度は25℃における値である。下記においてMeはメチル基、Phはフェニル基を示し、Mwは重量平均分子量を示す。重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレンを標準物質として測定された値である。詳細な条件は上述した通り。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples. In addition, a part shows a mass part and a viscosity is a value in 25 degreeC. In the following, Me represents a methyl group, Ph represents a phenyl group, and Mw represents a weight average molecular weight. The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are values measured using polystyrene as a standard substance by gel permeation chromatography (GPC). The detailed conditions are as described above.

[実施例1]
(A)成分として、PhSiO3/2単位50mol%、PhMeSiO2/2単位30mol%、及び下記式(5)

Figure 2019108528
で示されるシロキサン単位20mol%からなるラダー構造のフェニルメチルポリシロキサン(但し、該ポリシロキサンの全置換基の一部は水酸基又はアルコキシ基である。以下同様。)を100部、及び(B)成分として、ケイ酸リチウムを(A)成分100部に対して1質量部となる量を混合することによって、硬化性オルガノポリシロキサン組成物1を得た。
上記オルガノポリシロキサン(A)は重量平均分子量(Mw)5,400を有し、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mnの比が1.7である。ケイ素原子に結合した水酸基量0.1mol/100g、及びメトキシ基量0.6mol/100gである。また、GPC測定にて得られた分子量分布曲線において2つの極大値を有するピークを有し、高分子量側にあるピーク極大値の分子量は9,900であり、低分子量側にあるピーク極大値の分子量は1,600であり、高分子量側に在るピークの面積と低分子量側にあるピークの面積比が46:54である。 Example 1
As the component (A), 50 mol% of PhSiO 3/2 units, 30 mol% of PhMeSiO 2/2 units, and the following formula (5)
Figure 2019108528
100 parts of phenylmethylpolysiloxane having a ladder structure consisting of 20 mol% of siloxane units shown in the above (provided that part of all the substituents of the polysiloxane is a hydroxyl group or an alkoxy group, the same shall apply hereinafter), and (B) component Curable organopolysiloxane composition 1 was obtained by mixing lithium silicate in an amount of 1 part by mass with respect to 100 parts of component (A).
The organopolysiloxane (A) has a weight average molecular weight (Mw) of 5,400, and the ratio of weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn is 1.7. The amount of hydroxyl groups bonded to silicon atoms is 0.1 mol / 100 g, and the amount of methoxy groups is 0.6 mol / 100 g. The molecular weight of the peak maximum at the high molecular weight side is 9,900, and the peak maximum at the low molecular weight side has peaks having two maxima in the molecular weight distribution curve obtained by GPC measurement. The molecular weight is 1,600, and the area ratio of the peak on the high molecular weight side to the peak on the low molecular weight side is 46: 54.

[実施例2]
実施例1における(A)成分を、MeSiO3/2単位40mol%、PhSiO3/2単位40mol%、PhSiO2/2単位10mol%、及び下記式(5)

Figure 2019108528
で示されるシロキサン単位10mol%からなるレジン構造のフェニルメチルポリシロキサンに替えた他は、実施例1を繰り返して硬化性オルガノポリシロキサン組成物2を得た。
上記オルガノポリシロキサン(A)は、重量平均分子量Mw=2,000を有し、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mnの比が1.5であり、GPC測定にて得られた分子量分布曲線において2つの極大値を有するピークを有し、高分子量側にあるピーク極大値の分子量が5,400であり、低分子量側にあるピーク極大値の分子量が1,300であり、高分子量側に在るピークの面積と低分子量側に在るピークの面積の比が5:95であり、ケイ素原子に結合した水酸基量0.02mol/100g、メトキシ基量0.3mol/100g、イソプロポキシ基量0.01mol/100gである。 Example 2
Component (A) in Example 1 is 40 mol% of MeSiO 3/2 units, 40 mol% of PhSiO 3/2 units, 10 mol% of Ph 2 SiO 2/2 units, and the following formula (5)
Figure 2019108528
A curable organopolysiloxane composition 2 was obtained by repeating Example 1 except that it was changed to a phenylmethylpolysiloxane having a resin structure consisting of 10 mol% of siloxane units shown in the above.
The organopolysiloxane (A) has a weight average molecular weight Mw = 2,000, a ratio of weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn is 1.5, and a molecular weight distribution curve obtained by GPC measurement It has a peak having two maximum values, the molecular weight of the peak maximum value on the high molecular weight side is 5,400, the molecular weight of the peak maximum value on the low molecular weight side is 1,300, and is present on the high molecular weight side The ratio of the area of the peak to the area of the peak at the low molecular weight side is 5:95, and the amount of hydroxyl groups bonded to silicon atoms is 0.02 mol / 100 g, the amount of methoxy groups 0.3 mol / 100 g, the amount of isopropoxy groups It is .01 mol / 100 g.

[実施例3]
(A)成分を、MeSiO3/2単位30mol%及び下記式(5)

Figure 2019108528
で示されるシロキサン単位70mol%からなるラダー構造のフェニルメチルポリシロキサンを100部及び(B)ジイソプロポキシバリウムを0.05部を混合することによって、硬化性オルガノポリシロキサン組成物3を得た。
上記オルガノポリシロキサンは、重量平均分子量Mw=98,000であり、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mnの比2.0を有する。GPC測定にて得られた分子量分布曲線において3つの極大値を有するピークを有し、高分子量側にある二つのピークの極大値の分子量が順に200,400および8,700であり、低分子量側にあるピーク極大値の分子量が1,600であり、高分子量側に在るピークの面積と低分子量側に在るピークの面積の比が90:10であり、ケイ素原子に結合した水酸基量0.02mol/100g、メトキシ基量0.3mol/100g、イソプロポキシ基量0.01mol/100gである。 [Example 3]
30 mol% of MeSiO 3/2 units and the following formula (5):
Figure 2019108528
A curable organopolysiloxane composition 3 was obtained by mixing 100 parts of a phenylmethylpolysiloxane having a ladder structure consisting of 70 mol% of siloxane units shown by and a 0.05 part of (B) diisopropoxybarium.
The organopolysiloxane has a weight average molecular weight Mw of 98,000 and a weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn ratio of 2.0. In the molecular weight distribution curve obtained by GPC measurement, it has peaks having three maxima, and the maxima of the two maxima on the high molecular weight side are 200, 400 and 8, 700 in order, and the low molecular weight side The peak maximum has a molecular weight of 1,600 and the ratio of the area of the peak on the high molecular weight side to the area of the peak on the low molecular weight side is 90:10, and the amount of hydroxyl groups bonded to silicon atoms is 0 .02 mol / 100 g, the amount of methoxy groups is 0.3 mol / 100 g, and the amount of isopropoxy groups is 0.01 mol / 100 g.

[実施例4]
実施例1の組成にさらに(C)成分として、下記式(6)

Figure 2019108528
で示される直鎖状オルガノポリシロキサンを(A)成分100部に対して50部となる量を添加した他は、実施例1を繰り返して、硬化性オルガノポリシロキサン組成物4を得た。 Example 4
In addition to the composition of Example 1, as the component (C), the following formula (6)
Figure 2019108528
A curable organopolysiloxane composition 4 was obtained by repeating Example 1 except that 50 parts of the linear organopolysiloxane shown in the above was added with respect to 100 parts of the component (A).

[実施例5]
実施例1の組成にさらに(D)成分として、下記式(7)

Figure 2019108528
で示される有機ケイ素化合物を(A)成分100部に対して20部となる量添加した他は、実施例1を繰り返して硬化性オルガノポリシロキサン組成物5を得た。 [Example 5]
In addition to the composition of Example 1, as the component (D), the following formula (7)
Figure 2019108528
A curable organopolysiloxane composition 5 was obtained by repeating Example 1 except that 20 parts of the organosilicon compound shown in the above were added with respect to 100 parts of the component (A).

[実施例6]
MeSiO3/2単位40mol%、PhSiO3/2単位30mol%、
及び下記式(5)

Figure 2019108528
で示されるシロキサン単位30mol%からなるラダー構造のフェニルメチルポリシロキサンに替えた他は、実施例1を繰り返して硬化性オルガノポリシロキサン組成物6を得た。
上記フェニルメチルポリシロキサンは、重量平均分子量Mw=9,500を有し、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mnの比1.5を有する。さらに、分子量分布に2つの極大値を有し、高分子量側のピーク極大値の分子量が20,200であり、低分子量側のピーク極大値の分子量が2,600であり、高分子量のものと低分子量のものの面積比が50:50であり、ケイ素原子に結合した水酸基量0.01mol/100g、メトキシ基量0.0005mol/100gである。 [Example 6]
40 mol% of MeSiO 3/2 units, 30 mol% of PhSiO 3/2 units,
And the following formula (5)
Figure 2019108528
A curable organopolysiloxane composition 6 was obtained by repeating Example 1 except that it was changed to a phenylmethylpolysiloxane having a ladder structure consisting of 30 mol% of siloxane units shown in the above.
The above phenylmethylpolysiloxane has a weight average molecular weight Mw = 9,500, and has a ratio of weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn. Furthermore, the molecular weight distribution has two maximum values, the molecular weight of the peak maximum value on the high molecular weight side is 20,200, and the molecular weight of the peak maximum value on the low molecular weight side is 2,600, and those of high molecular weight The area ratio of low molecular weight ones is 50: 50, the amount of hydroxyl groups bonded to silicon atoms is 0.01 mol / 100 g, and the amount of methoxy groups is 0.0005 mol / 100 g.

[比較例1]
実施例1における(A)成分を、MeSiO3/2単位50mol%、PhSiO3/2単位20mol%、及びPhSiO2/2単位30mol%からなるレジン構造のフェニルメチルポリシロキサンに替えた他は、実施例1を繰り返して硬化性オルガノポリシロキサン組成物7を得た。
上記フェニルメチルポリシロキサンは重量平均分子量Mw=5,000を有し、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mnの比1.5を有する。また、GPC測定にて得られた分子量分布曲線において2つの極大値を有するピークを有し、高分子量側にあるピーク極大値の分子量が6,900であり、低分子量側にあるピーク極大値の分子量が2,600であり、高分子量側に在るピークの面積と低分子量側に在るピークの面積の比が41:59であり、ケイ素原子に結合した水酸基量0.9mol/100g、メトキシ基量0.003mol/100g。
Comparative Example 1
Except that the component (A) in Example 1 is replaced by a phenylmethylpolysiloxane having a resin structure consisting of 50 mol% of MeSiO 3/2 units, 20 mol% of PhSiO 3/2 units, and 30 mol% of Ph 2 SiO 2/2 units. Example 1 was repeated to obtain a curable organopolysiloxane composition 7.
The above phenylmethylpolysiloxane has a weight average molecular weight Mw = 5,000, and has a ratio of weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn of 1.5. In addition, the molecular weight distribution curve obtained by GPC measurement has peaks having two maximum values, and the peak maximum value at the high molecular weight side is 6,900, and the peak maximum value at the low molecular weight side is The molecular weight is 2,600, the ratio of the area of the peak on the high molecular weight side to the area of the peak on the low molecular weight side is 41:59, the amount of hydroxyl groups bonded to silicon atoms 0.9 mol / 100 g, methoxy Base amount 0.003 mol / 100 g.

[比較例2]
実施例1における(A)成分を、PhSiO3/2単位92mol%、
及び下記式(5)

Figure 2019108528
で示されるシロキサン単位8mol%からなるレジン構造のフェニルメチルポリシロキサンに替えた他は、実施例1を繰り返して硬化性オルガノポリシロキサン組成物8を得た。
上記フェニルメチルポリシロキサンは、重量平均分子量Mw=4,200を有し、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mnの比1.5を有する。また、GPC測定にて得られた分子量分布曲線において2つの極大値を有するピークを有し、高分子量側にあるピーク極大値の分子量が5,900であり、低分子量側にあるピーク極大値の分子量が1,600であり、高分子量側に在るピークの面積と低分子量側に在るピークの面積の比が52:48であり、ケイ素原子に結合した水酸基量0.1mol/100g、メトキシ基量1.6mol/100gである。 Comparative Example 2
Component (A) in Example 1 is 92 mol% of PhSiO 3/2 unit,
And the following formula (5)
Figure 2019108528
A curable organopolysiloxane composition 8 was obtained by repeating Example 1 except that it was changed to a phenylmethylpolysiloxane having a resin structure consisting of 8 mol% of siloxane units shown in the above.
The above phenylmethylpolysiloxane has a weight average molecular weight Mw = 4,200, and has a ratio of weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn. In addition, the molecular weight distribution curve obtained by GPC measurement has peaks having two maximum values, and the peak maximum value at the high molecular weight side has a molecular weight of 5,900 and the peak maximum value at the low molecular weight side The molecular weight is 1,600, and the ratio of the area of the peak on the high molecular weight side to the area of the peak on the low molecular weight side is 52: 48, and the amount of hydroxyl groups bonded to silicon atoms is 0.1 mol / 100 g, methoxy The base weight is 1.6 mol / 100 g.

[比較例3]
実施例1における(A)成分を、MePhSiO2/2単位50mol%、
及び下記式(5)

Figure 2019108528
で示されるシロキサン単位50mol%からなる直鎖状のフェニルメチルポリシロキサンに替えた他は、実施例1を繰り返して硬化性オルガノポリシロキサン組成物9を得た。
該フェニルメチルポリシロキサンは、重量平均分子量Mw=18,200を有し、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mnの比1.3を有する。
また、GPC測定にて得られた分子量分布曲線において1つの極大値を有するピークを有し、ケイ素原子に結合した水酸基量0.01mol/100g、メトキシ基量0.02mol/100gである。 Comparative Example 3
Component (A) in Example 1 is 50 mol% of MePhSiO 2/2 unit,
And the following formula (5)
Figure 2019108528
A curable organopolysiloxane composition 9 was obtained by repeating Example 1 except that it was changed to a linear phenylmethylpolysiloxane composed of 50 mol% of a siloxane unit shown in the above.
The phenylmethylpolysiloxane has a weight average molecular weight Mw = 18,200, and has a ratio of weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn.
The molecular weight distribution curve obtained by GPC measurement has a peak having one maximum value, and the amount of hydroxyl groups bonded to a silicon atom is 0.01 mol / 100 g and the amount of methoxy groups is 0.02 mol / 100 g.

[比較例4]
実施例1における(A)成分を、PhSiO3/2単位75mol%、
及び下記式(5)

Figure 2019108528
で示されるシロキサン単位25mol%からなるレジン構造のフェニルメチルポリシロキサンに替えた他は、実施例1を繰り返して硬化性オルガノポリシロキサン組成物10を得た。
該フェニルメチルポリシロキサンは、重量平均分子量Mw=2,800であり、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mnの比1.3を有する。
また、GPC測定にて得られた分子量分布曲線において2つの極大値を有するピークを有し、Mwが5,000以上であるピークを有さず、2つの極大値の分子量は順に3,000および1,600であり、ケイ素原子に結合した水酸基量0.1mol/100g、メトキシ基量1.6mol/100gである。 Comparative Example 4
Component (A) in Example 1 is 75 mol% of PhSiO 3/2 unit,
And the following formula (5)
Figure 2019108528
A curable organopolysiloxane composition 10 was obtained by repeating Example 1 except that it was changed to a phenylmethylpolysiloxane having a resin structure consisting of 25 mol% of a siloxane unit shown in the above.
The phenylmethylpolysiloxane has a weight average molecular weight Mw = 2,800 and a weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn ratio of 1.3.
Moreover, it has a peak which has two maximum values in the molecular weight distribution curve obtained by GPC measurement, does not have a peak whose Mw is 5,000 or more, and the molecular weight of two maximum values is 3,000 and in order The amount of hydroxyl groups bonded to silicon atoms is 0.1 mol / 100 g, and the amount of methoxy groups is 1.6 mol / 100 g.

上記実施例及び比較例で製造した硬化性オルガノポリシロキサン組成物1〜10及び各組成物から得られる硬化物について、下記の方法に従い物性を評価した。結果を表1及び2に示す。
(1)外観
各組成物を150℃で4時間硬化して得られた硬化物(厚さ1mm)の色と透明性を目視にて確認した。
(2)性状
硬化前の各組成物の流動性を確認した。100mlのガラス瓶に50gの組成物を入れ、ガラスビンを横に倒して25℃で10分間静置した。その間に組成物が流れ出せば液状であると判断した。
(3)屈折率
各組成物を150℃で4時間硬化して得られた厚さ0.5mmの硬化物の589nm、25℃における屈折率を、JIS K 7142:2008に準拠して、アッベ型屈折率計により測定した。
The physical properties of the curable organopolysiloxane compositions 1 to 10 produced in the above Examples and Comparative Examples and the cured products obtained from the respective compositions were evaluated according to the following methods. The results are shown in Tables 1 and 2.
(1) Appearance The color and transparency of a cured product (thickness 1 mm) obtained by curing each composition at 150 ° C. for 4 hours were visually confirmed.
(2) Properties The flowability of each composition before curing was confirmed. 50 g of the composition was placed in a 100 ml glass bottle, and the glass bottle was turned sideways and allowed to stand at 25 ° C. for 10 minutes. During that time, it was judged to be liquid if the composition flowed out.
(3) Refractive index Based on JIS K 7142: 2008, the refractive index of a 0.5 mm thick cured product obtained by curing each composition at 150 ° C. for 4 hours according to JIS K 7142: 2008, Abbe type It was measured by a refractometer.

(4)硬さ(タイプD)
各組成物を150℃で4時間硬化して得られた硬化物の硬さを、JIS K 6249:2003に準拠して、デュロメータD硬度計を用いて測定した。
(5)切断時伸び及び引張強さ
各組成物を150℃で4時間硬化して得られた硬化物の切断時伸び及び引張強さを、JIS K 6249:2003に準拠して測定した。
(4) Hardness (type D)
The hardness of the cured product obtained by curing each composition at 150 ° C. for 4 hours was measured using a durometer D hardness meter in accordance with JIS K 6249: 2003.
(5) Elongation at break and tensile strength The elongation at break and tensile strength of a cured product obtained by curing each composition at 150 ° C. for 4 hours were measured according to JIS K 6249: 2003.

(6)耐熱性(光透過率保持率)及び耐クラック性
各組成物を150℃で4時間硬化して得られた硬化物(厚さ1mm)の波長450nmにおける光透過率を、日立製分光光度計U−4100を用いて23℃で測定した(初期透過率)。次いで、この硬化物を250℃で1,000時間熱処理した後、同様に光透過率を測定して、初期透過率(100%)に対する熱処理後の光透過率を求めた。また熱処理後の硬化物におけるクラックの有無を目視で確認し、クラックのないものを○、クラックが発生したものを×とした。
(6) Heat resistance (light transmittance retention rate) and crack resistance The light transmittance at a wavelength of 450 nm of a cured product (thickness 1 mm) obtained by curing each composition at 150 ° C. for 4 hours was measured by Hitachi It measured at 23 degreeC using photometer U-4100 (initial stage transmittance). Next, the cured product was heat-treated at 250 ° C. for 1,000 hours, and then the light transmittance was similarly measured to determine the light transmittance after the heat treatment with respect to the initial transmittance (100%). Moreover, the presence or absence of the crack in the hardened | cured material after heat processing was confirmed visually, and the thing without a crack was made into * and the thing which the crack generate | occur | produced was made into x.

(7)不揮発性
各組成物1.0gを、アルミシャーレに添加し150℃1時間の条件で熱処理を行った。熱処理後の硬化物の重量を測定し、熱処理前の重量(100%)に対する熱処理後の重量(%)を表1及び2に記載する。
(7) Nonvolatile property 1.0g of each composition was added to the aluminum petri dish, and heat processing were performed on conditions of 150 degreeC 1 hour. The weight of the cured product after the heat treatment was measured, and the weight (%) after the heat treatment with respect to the weight (100%) before the heat treatment is described in Tables 1 and 2.

(8)接着性
各組成物0.25gを、面積180mmの銀メッキ板に底面積が45mmとなるように成形し、150℃で4時間硬化させた後、ミクロスパチュラを用いて硬化物を破壊し、銀板から剥ぎ取る際に、凝集破壊した部分の割合と剥離した部分との割合とを求めた。接着性を以下の基準に基づき判定した。
(判定基準)
凝集破壊の割合が80%以上である:接着性が良好である(○)
凝集破壊の割合が50%以上80%未満である:接着性は概ね良好である(△)
凝集破壊の割合が50%未満である:接着性が不良である(×)
(8) Adhesiveness 0.25 g of each composition is formed on a silver-plated plate having an area of 180 mm 2 so that the bottom area is 45 mm 2 and cured at 150 ° C. for 4 hours, and then cured using a micro spatula Was broken and peeled off from the silver plate, the ratio of the cohesive failure part and the ratio of the peeled part were determined. The adhesion was judged based on the following criteria.
(Judgment criteria)
Cohesive failure rate is 80% or more: Good adhesion (○)
The percentage of cohesive failure is 50% or more and less than 80%: Adhesion is generally good (Δ)
The percentage of cohesive failure is less than 50%: poor adhesion (x)

(9)表面タック性による埃の付着
各組成物を150℃で4時間硬化して得られた硬化物の表面における埃の付着の有無を目視にて確認した。
(9) Adhesion of dust due to surface tackiness Each composition was cured at 150 ° C. for 4 hours, and the presence or absence of adhesion of dust on the surface of a cured product obtained was visually confirmed.

(10)硬化性(ゲル化)
各組成物1.0gを、TOWA社製成形機FFT−1030を用いて、150℃×300秒の条件で成形し、上記成形条件においてガラスエポキシ基板上に樹脂の成形物が形成できるか確認した。下記基準に基づいて成形性を評価した。
(判定基準)
○:剥離や樹脂破れなく、正常に成形ができた(十分にゲル化した)
×:剥離や樹脂破れが発生(ゲル化不十分)
(10) Curability (gelation)
1.0 g of each composition was molded under the conditions of 150 ° C. × 300 seconds using a molding machine FFT-1030 manufactured by TOWA Co., Ltd., and it was confirmed whether a molded resin could be formed on a glass epoxy substrate under the above molding conditions . The formability was evaluated based on the following criteria.
(Judgment criteria)
:: Normal molding was possible without peeling or resin breakage (sufficiently gelled)
X: Peeling or resin breakage occurred (insufficient gelation)

Figure 2019108528
Figure 2019108528

Figure 2019108528
Figure 2019108528

表2に示す通り、−O1/2Si(R−R−Si(R1/2−で示される単位を有さない比較例1の組成物は、樹脂強度に劣り、硬化性に劣り、熱処理にてクラックが発生し、揮発成分も多かった。−O1/2Si(R−R−Si(R1/2−で示される単位が10mol%を下回る比較例2の組成物は、硬化性に劣り、熱処理にてクラックが発生した。RSiO3/2単位を含まず、また重量平均分子量Mw/数平均分子量Mnの値が1.5未満であるオルガノポリシロキサンを(A)成分に替えて含有した比較例3の組成物は、樹脂が硬化しなかった。重量平均分子量Mw/数平均分子量Mnの値が1.5未満であるオルガノポリシロキサンを(A)成分に替えて含有した比較例4の組成物は、硬化が遅く、硬化時にボイドが発生し、樹脂が脆くなった。
これに対し、表1に示す通り、本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は無色透明であり、硬化性に優れ、該組成物から得られる硬化物は、十分な硬さ、切断時伸び、引張強さと、良好な屈折率、耐熱性、耐クラック性、接着性を有し、且つ、表面タック性による埃の付着がない。
As shown in Table 2, -O 1/2 Si (R 1 ) 2 -R 2 -Si (R 1) 2 O 1/2 - composition of Comparative Example 1 having no units represented by the resin strength It was inferior to hardenability, and cracks were generated during heat treatment, and there were also many volatile components. -O 1/2 Si (R 1) 2 -R 2 -Si (R 1) 2 O 1/2 - composition of Comparative Example 2 in which the unit is below 10 mol% represented by the poor curability, heat treatment Crack occurred. A composition of Comparative Example 3 which contains an organopolysiloxane which does not contain R 1 SiO 3/2 units and which has a weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn of less than 1.5 in place of the component (A) is , The resin did not cure. The composition of Comparative Example 4 containing an organopolysiloxane having a weight-average molecular weight Mw / number-average molecular weight Mn of less than 1.5 instead of the component (A) cures slowly, and voids occur during curing. The resin became brittle.
On the other hand, as shown in Table 1, the curable organopolysiloxane composition of the present invention is colorless and transparent and is excellent in curability, and the cured product obtained from the composition has sufficient hardness and elongation at break, It has tensile strength, good refractive index, heat resistance, crack resistance, adhesion, and no dust adhesion due to surface tackiness.

本発明の硬化性オルガノポリシロキサン組成物は速やかに硬化して硬化物を与えることができ、得られる硬化物は、高い透明性、耐熱性、機械特性、耐クラック性、及び接着性を有することができる。また、本発明の組成物であれば表面タック性が抑制された硬化物を与えることができる。従って、半導体素子封止用組成物として好適に使用することができ、信頼性の高い半導体装置を提供することができる。   The curable organopolysiloxane composition of the present invention can be cured rapidly to give a cured product, and the resulting cured product has high transparency, heat resistance, mechanical properties, crack resistance, and adhesiveness. Can. Moreover, if it is a composition of this invention, the hardened | cured material in which surface tackiness was suppressed can be given. Therefore, it can be used suitably as a composition for semiconductor element closure, and a highly reliable semiconductor device can be provided.

Claims (9)

下記(A)成分及び(B)成分を含む、硬化性オルガノポリシロキサン組成物
(A)下記式(1)
Figure 2019108528
(上記式中、Rは互いに独立に、炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、Rは、シリレン基またはシロキサン結合を有してよい炭素数6〜50の2価芳香族基である)
で示されるシロキサン単位を、全シロキサン単位の合計100mol%に対して10mol%以上で有し、且つ、RSiO3/2単位を10〜90mol%で有するオルガノポリシロキサンであって、
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定による標準ポリスチレン換算の重量平均分子量2,000〜100,000を有し、且つ、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の比が1.5以上であることを特徴とする、前記オルガノポリシロキサン、及び
(B)塩基性触媒 触媒量。
Curable organopolysiloxane composition (A) containing the following components (A) and (B):
Figure 2019108528
(Wherein, R 1 is, independently of one another, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 is a divalent aromatic hydrocarbon having 6 to 50 carbon atoms that may have a silylene group or a siloxane bond Is the group)
Or a polysiloxane unit having 10 mol% or more based on 100 mol% of the total siloxane units, and having 10 to 90 mol% of R 1 SiO 3/2 units,
It has a standard polystyrene equivalent weight average molecular weight of 2,000 to 100,000 as measured by gel permeation chromatography (GPC), and the ratio of weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) is 1.5 or more Said organopolysiloxane, and (B) a basic catalyst a catalytic amount.
前記(A)成分が、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を0.001〜2mol/100gの範囲の量で有し、ケイ素原子に結合した水酸基を0mol/100g以上1.0mol/100g以下の範囲の量で有する、請求項1に記載の硬化性オルガノポリシロキサン組成物。   The component (A) has an alkoxy group bonded to a silicon atom in an amount ranging from 0.001 to 2 mol / 100 g, and a hydroxyl group bonded to a silicon atom ranging from 0 mol / 100 g to 1.0 mol / 100 g The curable organopolysiloxane composition of claim 1 having an amount. さらに(C)下記式(2)で表される直鎖状オルガノポリシロキサンを前記(A)成分100質量部に対して50質量部以下の量で含有する、請求項1または2に記載の硬化性オルガノポリシロキサン組成物
Figure 2019108528
(式中、kは1〜10,000の整数であり、Rは互いに独立に、炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、Rは互いに独立に、水酸基、炭素数1〜10のアルコキシ基、及び炭素数1〜10の1価炭化水素基から選ばれる基、または水素原子である)。
The curing according to claim 1 or 2, further comprising (C) a linear organopolysiloxane represented by the following formula (2) in an amount of 50 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the component (A). Organopolysiloxane composition
Figure 2019108528
(Wherein k is an integer of 1 to 10,000, R 3 independently of each other is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, R 4 is independently of each other, a hydroxyl group, 1 to carbon atoms A group selected from an alkoxy group of 10 and a monovalent hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms, or a hydrogen atom).
さらに(D)下記式(3)
Figure 2019108528
(式中、Rは、互いに独立に、炭素数1〜10の1価脂肪族炭化水素基であり、Rは、互いに独立に、炭素数6〜10の1価芳香族炭化水素基であり、p、q、及びrは、互いに独立に0〜4の整数であり、但し、p+q+r=3又は4である)
で表される有機ケイ素化合物を(A)成分100質量部に対して0.1〜30質量部で含有する、請求項1〜3のいずれか1項記載の硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
Furthermore (D) the following formula (3)
Figure 2019108528
(Wherein R 5 is, independently of each other, a C 1-10 monovalent aliphatic hydrocarbon group, and R 6 is, independently of each other, a C 6-10 monovalent aromatic hydrocarbon group And p, q and r each independently represent an integer of 0 to 4, provided that p + q + r = 3 or 4)
The curable organopolysiloxane composition according to any one of claims 1 to 3, containing 0.1 to 30 parts by mass of the organosilicon compound represented by 100 parts by mass of the component (A).
上記(A)オルガノポリシロキサンのGPC測定にて得られる分子量分布曲線において、2個以上の極大値が在り、少なくとも1つの極大値が分子量5,000以上にあり、少なくとも1つの極大値が分子量3,000以下にある、請求項1〜4のいずれか1項記載の硬化性オルガノポリシロキサン組成物。   The molecular weight distribution curve obtained by GPC measurement of the (A) organopolysiloxane has two or more maximum values, at least one maximum value has a molecular weight of 5,000 or more, and at least one maximum value has a molecular weight of 3 The curable organopolysiloxane composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the amount is 1,000 or less. 前記(A)オルガノポリシロキサンの分子量分布曲線において、分子量5,000以上の位置に極大値を有するピークの面積と、分子量3,000以下の位置に極大値を有するピークの面積との比が5:95〜90:10である(但し、ピークが重なっている場合には、当該二つのピークの間の極小値の地点からベースラインに対して引いた垂線にて区切られた面積の比である)、請求項5記載の硬化性オルガノポリシロキサン組成物。   In the molecular weight distribution curve of the (A) organopolysiloxane, the ratio of the area of the peak having a maximum at a position of a molecular weight of 5,000 or more to the area of the peak having a maximum at a position of a molecular weight of 3,000 or less is 5 : 95 to 90: 10 (however, when peaks overlap, it is the ratio of the area divided by the vertical line drawn from the point of the local minimum between the two peaks with respect to the baseline 6) The curable organopolysiloxane composition according to claim 5. 150℃において、液状の組成物がゲル化するまでの時間が300秒未満である、請求項1〜6のいずれか1項記載の硬化性オルガノポリシロキサン組成物。   The curable organopolysiloxane composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the time for the liquid composition to gel at 150 ° C is less than 300 seconds. 150℃×1時間の加熱における重量減少率が、加熱前の組成物の重量に対して10重量%以下である、請求項1〜7のいずれか1項記載の硬化性オルガノポリシロキサン組成物。   The curable organopolysiloxane composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the weight loss rate at 150 ° C for one hour heating is 10% by weight or less based on the weight of the composition before heating. 請求項1〜8のいずれか1項記載の硬化性オルガノポリシロキサン組成物を硬化して成る硬化物を備える半導体装置。   A semiconductor device comprising a cured product obtained by curing the curable organopolysiloxane composition according to any one of claims 1 to 8.
JP2018227864A 2017-12-18 2018-12-05 Curable organopolysiloxane composition Active JP6990164B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US16/222,888 US10800920B2 (en) 2017-12-18 2018-12-17 Curable organopolysiloxane composition

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017242005 2017-12-18
JP2017242005 2017-12-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019108528A true JP2019108528A (en) 2019-07-04
JP6990164B2 JP6990164B2 (en) 2022-01-12

Family

ID=67179101

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018227864A Active JP6990164B2 (en) 2017-12-18 2018-12-05 Curable organopolysiloxane composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6990164B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022168729A (en) * 2021-04-26 2022-11-08 信越化学工業株式会社 Glassy adhesive

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015101645A (en) * 2013-11-25 2015-06-04 信越化学工業株式会社 Silicone resin composition and optical semiconductor device
JP2017115110A (en) * 2015-12-22 2017-06-29 信越化学工業株式会社 Condensation curable resin composition and semiconductor device
JP2017197601A (en) * 2016-04-25 2017-11-02 信越化学工業株式会社 Condensation-curable resin composition and semiconductor device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015101645A (en) * 2013-11-25 2015-06-04 信越化学工業株式会社 Silicone resin composition and optical semiconductor device
JP2017115110A (en) * 2015-12-22 2017-06-29 信越化学工業株式会社 Condensation curable resin composition and semiconductor device
JP2017197601A (en) * 2016-04-25 2017-11-02 信越化学工業株式会社 Condensation-curable resin composition and semiconductor device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022168729A (en) * 2021-04-26 2022-11-08 信越化学工業株式会社 Glassy adhesive
JP7611757B2 (en) 2021-04-26 2025-01-10 信越化学工業株式会社 Glass adhesive

Also Published As

Publication number Publication date
JP6990164B2 (en) 2022-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6784638B2 (en) Curable organosilicon resin composition
TWI665262B (en) Hardening silicone resin composition
JP5247979B2 (en) Polyorganosiloxane composition giving a transparent cured product
CN110291156B (en) Curable silicone composition, cured product thereof, and optical display
CN108570233B (en) Addition-curable organopolysiloxane resin composition, cured product of the composition, and semiconductor device having the cured product
JP6389145B2 (en) Addition-curing silicone resin composition and semiconductor device
JP7530708B2 (en) Curable organosilicon resin composition
US10351703B2 (en) Curable organosilicon resin composition
TWI848067B (en) Curable organic silicon resin composition and semiconductor device
JP6990164B2 (en) Curable organopolysiloxane composition
JP7100600B2 (en) Curable organosilicon resin composition
US11028267B2 (en) Curable organosilicon resin composition and semiconductor device
JP6981939B2 (en) Additive curable silicone compositions and semiconductor devices
US10800920B2 (en) Curable organopolysiloxane composition
JP7759272B2 (en) Curable organopolysiloxane composition and semiconductor device for wearable device
JP7531472B2 (en) Modified silicone composition and optical semiconductor device
JP6514148B2 (en) Condensation-curable silicone resin composition and semiconductor device
US20250026931A1 (en) Addition-curable silicone composition, method for manufacturing the same, and optical semiconductor device
JP2020143206A (en) Curable organosilicon resin composition
JP2023014629A (en) Curable organopolysiloxane resin composition and semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20201124

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210709

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210726

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210906

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211109

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211203

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6990164

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150