JP2019188809A - 電磁波透過性金属光沢物品 - Google Patents

Abstract

【課題】電磁波透過性と高い光輝性を両立し、優れた金属外観が得られる電磁波透過性金属光沢物品を提供することを目的とする。【解決手段】基体と、前記基体上に形成された金属層とを備え、前記金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、前記金属層の反射ヘイズが１５ＨＵ以下である電磁波透過性金属光沢物品。【選択図】図１

Description

本発明は、電磁波透過性金属光沢物品に関する。

従来、電磁波透過性及び金属光沢を有する部材が、その金属光沢に由来する外観の高級感と、電磁波透過性とを兼ね備えることから、電磁波を送受信する装置に好適に用いられている。
例えば、フロントグリル、エンブレムといった自動車のフロント部分に搭載されるミリ波レーダーのカバー部材に装飾を施した、光輝性と電磁波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢物品が求められている。

ミリ波レーダーは、ミリ波帯の電磁波（周波数約７７ＧＨｚ、波長約４ｍｍ）を自動車の前方に送信し、ターゲットからの反射波を受信して、反射波を測定、分析することで、ターゲットとの距離や、ターゲットの方向、サイズを計測することができるものである。
計測結果は、車間計測、速度自動調整、ブレーキ自動調整などに利用することができる。
このようなミリ波レーダーが配置される自動車のフロント部分は、いわば自動車の顔であり、ユーザに大きなインパクトを与える部分であるから、金属光沢調のフロント装飾で高級感を演出することが好ましい。しかしながら、自動車のフロント部分に金属を使用した場合には、ミリ波レーダーによる電磁波の送受信が実質的に不可能、或いは、妨害されてしまう。したがって、ミリ波レーダーの働きを妨げることなく、自動車の意匠性を損なわせないために、光輝性と電磁波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢物品が必要とされている。

この種の金属光沢物品は、ミリ波レーダーのみならず、通信を必要とする様々な機器、例えば、スマートキーを設けた自動車のドアハンドル、車載通信機器、携帯電話、パソコン等の電子機器等への応用が期待されている。更に、近年では、ＩｏＴ技術の発達に伴い、従来は通信等行われることがなかった、冷蔵庫等の家電製品、生活機器等、幅広い分野での応用も期待されている。

金属光沢部材に関して、特開２００７−１４４９８８号公報（特許文献１）には、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）より成る金属被膜を含む樹脂製品が開示されている。この樹脂製品は、樹脂基材と、当該樹脂基材の上に成膜された無機化合物を含む無機質下地膜と、当該無機質下地膜の上に物理蒸着法により成膜された光輝性及び不連続構造のクロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）よりなる金属皮膜を含む。無機質下地膜として、特許文献１では、（ａ）金属化合物の薄膜、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ、ＴｉＯ_２、Ｔｉ_３Ｏ_５等）等のチタン化合物；酸化ケイ素（ＳｉＯ、ＳｉＯ_２等）、窒化ケイ素（Ｓｉ_３Ｎ_４等）等のケイ素化合物；酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）等のアルミニウム化合物；酸化鉄（Ｆｅ_２Ｏ_３）等の鉄化合物；酸化セレン（ＣｅＯ）等のセレン化合物；酸化ジルコン（ＺｒＯ）等のジルコン化合物；硫化亜鉛（ＺｎＳ）等の亜鉛化合物等、（ｂ）無機塗料の塗膜、例えば、シリコン、アモルファスＴｉＯ_ｚ等（その他、上記例示の金属化合物）を主成分とする無機塗料による塗膜が使用されている。

一方、特開２００９−２９８００６号公報（特許文献２）には、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみならず、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）をも金属膜として形成することができる電磁波透過性光輝樹脂製品が開示されている。
特開２０１０−５９９９号公報（特許文献３）には金属膜層を母材シートに形成し、母材シートに、張力を負荷しつつ、加熱処理を行うことによりクラックを有する電磁波透過性の金属膜加飾シートを製造する方法が記載されている。
特許第４６０１２６２号公報（特許文献４）には透明樹脂成形品の上に、不連続な膜構造である金属薄膜層による金属発色部分を有する加飾層が積層されたカバーパネルが記載されている。

特開２００７−１４４９８８号公報 特開２００９−２９８００６号公報 特開２０１０−５９９９号公報 特許第４６０１２６２号公報

しかしながら、従来技術における金属膜は、薄膜では光輝性が充分でなく、厚膜では電磁波透過性に劣るという問題があり、電磁波透過性とより高い光輝性を両立する物品が望まれている。
本願発明は、これら従来技術における問題点を解決するためになされたものであり、電磁波透過性と高い光輝性を両立し、優れた金属外観を有する電磁波透過性金属光沢物品を提供することを目的とする。

本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、通常は不連続構造になり難い、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属から成る金属層を不連続構造とし、かつ金属層の反射ヘイズを１５ＨＵ以下とすることにより電磁波透過性と高い光輝性を両立し、優れた金属外観が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明の一態様は、基体と、前記基体上に形成された金属層とを備え、
前記金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、
前記金属層の反射ヘイズが１５ＨＵ以下である電磁波透過性金属光沢物品に関する。

本発明の電磁波透過性金属光沢物品の一態様において、前記基体の少なくとも前記金属層を形成する面の算術平均表面粗さＲａが１１ｎｍ以下であることが好ましい。

本発明の電磁波透過性金属光沢物品の一態様において、前記金属層の表面の最大高さ粗さＲｚが２５０ｎｍ以下であることが好ましい。

本発明の電磁波透過性金属光沢物品の一態様において、前記基体と前記金属層の間に、酸化インジウム含有層をさらに備えることが好ましい。

本発明の電磁波透過性金属光沢物品の一態様において、前記酸化インジウム含有層は連続状態で設けられていることが好ましい。

本発明の電磁波透過性金属光沢物品の一態様において、前記酸化インジウム含有層は、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のいずれかを含むことが好ましい。

本発明の電磁波透過性金属光沢物品の一態様において、前記酸化インジウム含有層の厚さは、１ｎｍ〜１０００ｎｍであることが好ましい。

本発明の電磁波透過性金属光沢物品の一態様において、前記金属層の厚さは、１５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましい。

本発明の電磁波透過性金属光沢物品の一態様において、前記金属層の厚さと前記酸化インジウム含有層の厚さとの比（前記金属層の厚さ／前記酸化インジウム含有層の厚さ）は、０．０２〜１００であってもよい。

本発明の電磁波透過性金属光沢物品の一態様において、シート抵抗が、１００Ω／□以上であってもよい。

本発明の電磁波透過性金属光沢物品の一態様において、前記複数の部分は島状に形成されていてもよい。

本発明の電磁波透過性金属光沢物品の一態様において、前記金属層は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、又はこれらの合金のいずれかであることが好ましい。

本発明の電磁波透過性金属光沢物品の一態様において、前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかであることが好ましい。

本発明によれば、電磁波透過性と高い光輝性を両立し、優れた金属外観を有する電磁波透過性金属光沢物品を提供することができる。

図１は、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢物品の概略断面図である。 図２は、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢物品の概略断面図である。 図３は、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢物品の表面の電子顕微鏡写真である。 図４は、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢物品の金属層の膜厚の測定方法を説明するための図である。 図５は、本発明の一実施形態における金属層の断面の透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像）を示す図である。

以下、添付図面を参照しつつ、本発明の一つの好適な実施形態について説明する。以下においては、説明の便宜のために本発明の好適な実施形態のみを示すが、勿論、これによって本発明を限定しようとするものではない。

＜１．基本構成＞
図１に、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢物品（以下、「金属光沢物品」という。）１の概略断面図を示し、図３に、金属層の不連続構造について説明するため金属光沢物品の表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）を示す。また、図５に、本発明の一実施形態における島状構造の金属層１２の断面図の透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像）を示す。

金属光沢物品１は、基体１０と、基体１０の上に形成された、金属層１２を含む。

金属層１２は基体１０の上に形成される。金属層１２は複数の部分１２ａを含む。金属層１２におけるこれらの複数の部分１２ａは、少なくとも一部において互いに不連続の状態、言い換えれば、少なくとも一部において隙間１２ｂによって隔てられる。隙間１２ｂによって隔てられるため、これらの複数の部分１２ａのシート抵抗は大きくなり、電波との相互作用が低下するため、電波を透過させることができる。これらの各部分１２ａは金属を蒸着、スパッタ等することによって形成されたスパッタ粒子の集合体であってもよい。

尚、本明細書でいう「不連続の状態」とは、隙間１２ｂによって互いに隔てられており、この結果、互いに電気的に絶縁されている状態を意味する。電気的に絶縁されることにより、シート抵抗が大きくなり、所望とする電磁波透過性が得られることになる。すなわち、不連続の状態で形成された金属層１２によれば、十分な光輝性が得られやすく、電磁波透過性を確保することもできる。不連続の形態は、特に限定されるものではなく、例えば、島状構造、クラック構造等が含まれる。ここで「島状構造」とは、図３に示されているように、金属粒子同士が各々独立しており、それらの粒子が、互いに僅かに離間し又は一部接触した状態で敷き詰められてなる構造を意味する。

クラック構造とは、金属薄膜がクラックにより分断された構造である。
クラック構造の金属層１２は、例えば基材フィルム上に金属薄膜層を設け、屈曲延伸して金属薄膜層にクラックを生じさせることにより形成することができる。この際、基材フィルムと金属薄膜層の間に伸縮性に乏しい、即ち延伸によりクラックを生成しやすい素材からなる脆性層を設けることにより、容易にクラック構造の金属層１２を形成することができる。

上述のとおり金属層１２が不連続となる態様は特に限定されないが、生産性の観点からは島状構造とすることが好ましい。

金属光沢物品１の電磁波透過性は、例えば電波透過減衰量により評価することができる。
なお、マイクロ波帯域（５ＧＨｚ）における電波透過減衰量とミリ波レーダーの周波数帯域（７６〜８０ＧＨｚ）における電波透過減衰量との間には相関性があり、比較的近い値を示すことから、マイクロ波帯域における電磁波透過性に優れる金属光沢物品は、ミリ波レーダーの周波数帯域における電磁波透過性にも優れる。
マイクロ波帯域（５ＧＨｚ）における電波透過減衰量は、１０［−ｄＢ］以下であることが好ましく、５［−ｄＢ］以下であるのがより好ましく、２［−ｄＢ］以下であることが更に好ましい。１０［−ｄＢ］より大きいと、９０％以上の電波が遮断されるという問題がある。

金属光沢物品１のシート抵抗も電磁波透過性と相関を有する。
金属光沢物品１のシート抵抗は１００Ω／□以上であるのが好ましく、この場合マイクロ波帯域（５ＧＨｚ）における電波透過減衰量は、１０〜０．０１［−ｄＢ］程度となる。
金属光沢物品１のシート抵抗は２００Ω／□以上であることが更に好ましく、６００Ω／□以上であることがより更に好ましく、１０００Ω／□以上であることが特に好ましい。
金属光沢物品１のシート抵抗は、ＪＩＳ−Ｚ２３１６−１：２０１４に従って渦電流測定法により測定することができる。

金属光沢物品１の電波透過減衰量及びシート抵抗は、金属層１２の材質や厚さ等により影響を受ける。
また、金属光沢物品１が酸化インジウム含有層１１を備える場合には酸化インジウム含有層１１の材質や厚さ等によっても影響を受ける。

金属光沢物品の２０°光沢度は、９００以上であることが好ましく、１２００以上であることが更に好ましい。９００より小さいと、光輝性に劣り金属外観が得られないという問題がある。
金属光沢物品の２０°光沢度は ＲＨＯＰＯＩＮＴ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ社製アピアランスアナライザー Ｒｈｏｐｏｉｎｔ ＩＱ−Ｓを用いて測定することができる。金属光沢物品の２０°光沢度は、実施例に記載の方法により測定することができる。

＜２．基体＞
本実施形態にかかる電磁波透過性金属光沢物品において、基体１０の少なくとも金属層１２を形成する面の算術平均表面粗さ（以下単に基体の算術平均表面粗さと呼ぶ場合がある）Ｒａは１１ｎｍ以下であることが好ましい。基体の算術平均表面粗さＲａを１１ｎｍ以下にすることにより、得られる電磁波透過性金属光沢物品の金属層１２が平滑となり反射ヘイズを低減し、鏡面性のある優れた金属外観を得られやすくなる。
基体１０の算術平均表面粗さＲａは、実施例に記載の方法により測定することができる。基体１０の算術平均表面粗さＲａは、搬送性の観点から。０．１ｎｍ以上であることが好ましく、より優れた鏡面性を発揮するには１１ｎｍ以下であることが好ましい。例えば、０．１ｎｍ〜５ｎｍであることが更に好ましく、０．１ｎｍ〜３ｎｍであることが特に好ましい。
基体の算術平均表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４に準じて測定することができる。

また、基体１０の少なくとも金属層１２を形成する面の最大高さ粗さＲｚ（以下単に基体の最大高さ粗さＲｚと呼ぶ）は２００ｎｍ以下であることが好ましい。基体の最大高さ粗さＲｚを２００ｎｍ以下にすることにより、得られる電磁波透過性金属光沢物品の金属層１２がより平滑となり反射ヘイズを低減し、鏡面性のある優れた金属外観をより得られやすくなる。
基体の最大高さ粗さＲｚは、搬送性の観点から、１０ｎｍ以上であることが好ましく、より優れた鏡面性を発揮するには２００ｎｍ以下であることが好ましい。たとえば、１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。
基体の最大高さ粗さＲｚは、実施例に記載の方法により測定することができる。

基体１０としては、電磁波透過性の観点から、樹脂、ガラス、セラミックス等が挙げられる。
基体１０は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかであってもよい。
より具体的には、基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリスチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン、ポリシクロオレフィン、ポリウレタン、アクリル（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳなどの単独重合体や共重合体からなる透明フィルムを用いることができる。

これらの部材によれば、光輝性や電磁波透過性に影響を与えることもない。但し、酸化インジウム含有層１１や金属層１２を後に形成する観点から、蒸着やスパッタ等の高温に耐え得るものであることが好ましく、従って、上記材料の中でも、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ＡＢＳ、ポリプロピレン、ポリウレタンが好ましい。なかでも、耐熱性とコストとのバランスがよいことからポリエチレンテレフタレートやシクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリルが好ましい。

基材フィルムは、単層フィルムでもよいし積層フィルムでもよく、ハードコート層を備えていてもよい。加工のし易さ等から、基材フィルムの厚さは、例えば、６μｍ〜２５０μｍ程度が好ましい。酸化インジウム含有層１１や金属層１２との付着力を強くするために、プラズマ処理や易接着処理などが施されてもよい。また、粒子を含有しないものであることが好ましい。
基体１０が基材フィルムの場合、金属層１２は基材フィルム上の少なくとも一部に設ければよく、基材フィルムの片面のみに設けてもよく、両面に設けてもよい。

ハードコート層は、樹脂成分を含有することが好ましい。
樹脂成分としては、例えば、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂（例えば、ポリオレフィン樹脂）などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂が挙げられる。
ハードコート層は粒子を含有してもよいが、基体の算術平均表面粗さＲａ及び最大高さ粗さＲｚを調整する観点から、粒子を含有しないものであることが好ましい。

ここで、基材フィルムは、その表面上に金属層１２を形成することができる対象（基体１０）の一例にすぎない点に注意すべきである。基体１０には、上記のとおり基材フィルムの他、樹脂成型物基材、ガラス基材、金属光沢を付与すべき物品それ自体も含まれる。樹脂成型物基材、及び金属光沢を付与すべき物品としては、例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。

金属層１２は、これら全ての基体上に形成することができ、基体の表面の一部に形成してもよく、基体の表面の全てに形成してもよい。この場合、金属層１２を付与すべき基体１０は、上記の基材フィルムと同様の材質、条件を満たしていることが好ましい。

＜３．酸化インジウム含有層＞
また、一実施形態に係る電磁波透過性金属光沢物品１は、図２に示されるように、基体１０と金属層１２の間に、酸化インジウム含有層１１をさらに備えてもよい。酸化インジウム含有層１１は、基体１０の面に直接設けられていてもよいし、基体１０の面に設けられた保護膜等を介して間接的に設けられてもよい。酸化インジウム含有層１１は、金属光沢を付与すべき基体１０の面に連続状態で、言い換えれば、隙間なく、設けられるのが好ましい。連続状態で設けられることにより、酸化インジウム含有層１１、ひいては、金属層１２や電磁波透過性金属光沢物品１の平滑性や耐食性を向上させることができ、また、酸化インジウム含有層１１を面内ばらつきなく成膜することも容易となる。

このように、基体１０と金属層１２の間に、酸化インジウム含有層１１をさらに備えること、すなわち、基体１０の上に酸化インジウム含有層１１を形成し、その上に金属層１２を形成することによれば、金属層１２を不連続の状態で形成しやすくなるため好ましい。そのメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、金属の蒸着やスパッタによるスパッタ粒子が基体上で薄膜を形成する際には、基体上での粒子の表面拡散性が薄膜の形状に影響を及ぼし、基体の温度が高く、基体に対する金属層の濡れ性が小さく、金属層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすいと考えられる。そして、基体上に酸化インジウム含有層を設けることにより、その表面上の金属粒子の表面拡散性が促進されて、金属層を不連続の状態で成長させやすくなると考えられる。

酸化インジウム含有層１１として、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）そのものを使用することもできるし、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）や、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のような金属含有物を使用することもできる。但し、第二の金属を含有したＩＴＯやＩＺＯの方が、スパッタリング工程での放電安定性が高い点で、より好ましい。これらの酸化インジウム含有層１１を用いることにより、基体の面に沿って連続状態の膜を形成することもでき、また、この場合には、酸化インジウム含有層の上に積層される金属層を、例えば、島状の不連続構造としやすくなるため、好ましい。更に、後述するように、この場合には、金属層に、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、通常は不連続構造になり難く、本用途には適用が難しかった、アルミニウム等の様々な金属を含めやすくなる。

ＩＴＯに含まれる酸化錫（ＳｎО_２）の質量比率である含有率（含有率＝（ＳｎＯ_２／（Ｉｎ_２Ｏ_３＋ＳｎＯ_２））×１００）は特に限定されるものではないが、例えば、２．５ｗｔ％〜３０ｗｔ％、より好ましくは、３ｗｔ％〜１０ｗｔ％である。また、ＩＺＯに含まれる酸化亜鉛（ＺｎＯ）の質量比率である含有率（含有率＝（ＺｎＯ／（Ｉｎ_２Ｏ_３＋ＺｎＯ））×１００）は、例えば、２ｗｔ％〜２０ｗｔ％である。
酸化インジウム含有層１１の厚さは、シート抵抗や電磁波透過性、生産性の観点から、通常１０００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。一方、積層される金属層１２を不連続状態としやすくするためには、１ｎｍ以上であることが好ましく、確実に不連続状態にしやすくするためには、２ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることが更に好ましい。

＜４．金属層＞
金属層１２は基体上に形成され、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、その前記金属層の反射ヘイズが１５ＨＵ以下である。
金属層１２が基体上で連続状態である場合、十分な光輝性は得られるものの、電波透過減衰量が非常に大きくなり、従って、電磁波透過性を確保することはできない。

金属層１２が基体上で不連続状態となるメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、おおよそ、次のようなものであると推測される。即ち、金属層１２の薄膜形成プロセスにおいて、不連続構造の形成しやすさは、金属層１２が付与される基体上での表面拡散と関連性があり、基体の温度が高く、基体に対する金属層の濡れ性が小さく、金属層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすい、というものである。従って、以下の実施例で特に使用したアルミニウム（Ａｌ）以外の金属についても、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）などの比較的融点の低い金属については、同様の手法で不連続構造を形成しうると考えられる。

金属層１２の反射ヘイズは１５ＨＵ以下であり、より優れた鏡面性を発揮するには１３ＨＵ以下であることが好ましく、１０ＨＵ以下であることがより好ましく、５ＨＵ以下であることが更に好ましい。金属層１２の反射ヘイズの下限値に特に限定はなく、例えば０．１ＨＵ以上であればよい。
ここで、反射ヘイズとは、高光沢試料表面の曇り度合を表す指標であり、例えば、金属光沢仕上げ、自動車塗装の高光沢仕上げやその他高光沢非金属面等の評価に有効で、光沢度では表現できない表面状態の曇り度を評価することができる。

金属層の反射ヘイズを１５ＨＵ以下とすることにより、拡散反射が抑制され可視光領域で正反射し鏡面反射が増大する。これにより優れた鏡面性が得られ、電磁波透過性と高い光輝性を両立しつつ、優れた金属外観の電磁波透過性金属光沢物品とすることができる。
金属層１２の反射ヘイズは、金属層１２の算術平均表面粗さＲａ、金属層１２の最大高さ粗さＲｚ等を調整することより上記の範囲とすることができる。
本発明における反射ヘイズは ＲＨＯＰＯＩＮＴ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ製アピアランスアナライザー Ｒｈｏｐｏｉｎｔ ＩＱ−Ｓを用いて、金属光沢物品の金属層側に装置の入射、受光部を接触しＩＳＯ １３８０３に準拠して測定した値である。
反射ヘイズは実施例の欄に記載する方法で測定することができる。

金属層１２の算術平均表面粗さＲａは、搬送性の観点から、０．１ｎｍ以上であることが好ましく、より優れた鏡面性を発揮するに５ｎｍ以下であることが好ましい。たとえば、０．１ｎｍ〜３ｎｍ以下であることがより好ましく、０．１ｎｍ〜１ｎｍ以下であることが更に好ましい。
金属層１２の算術平均表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４に準じて測定することができる。

金属層１２の算術平均表面粗さＲａは、基体１０の算術平均表面粗さＲａ、基体１０の最大高さ粗さＲｚ、金属層１２の最大高さ粗さＲｚ、及び複数の部分１２ａの平均粒径等を調整することにより上記の範囲とすることができ、それにより拡散反射が抑制され可視光領域で正反射し鏡面反射がより増大する。

また、金属層１２の最大高さ粗さＲｚは搬送性の観点から、０．１ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましい。また、より優れた鏡面性を発揮するには２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。
金属層１２の最大高さ粗さＲｚは、実施例に記載の方法により測定することができる。

ここで、複数の部分１２ａの平均粒径とは、複数の部分１２ａの円相当径の平均値を意味する。部分１２ａの円相当径とは、部分１２ａの面積に相当する真円の直径のことである。
金属層１２の部分１２ａの円相当径は特に限定されないが、通常１０〜１０００ｎｍ程度である。また、各部分１２ａ同士の距離は特に限定されないが、通常は１０〜１０００ｎｍ程度である。

金属層１２は、十分な光輝性を発揮し得ることは勿論、融点が比較的低いものであることが望ましい。金属層１２は、スパッタリングを用いた薄膜成長によって形成するのが好ましいためである。このような理由から、金属層１２としては、融点が約１０００℃以下の金属が適しており、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）から選択された少なくとも一種の金属、および該金属を主成分とする合金のいずれかを含むことが好ましい。特に、物質の光輝性や安定性、価格等の理由からＡｌおよびそれらの合金が好ましい。また、アルミニウム合金を用いる場合には、アルミニウム含有量を５０質量％以上とすることが好ましい。

金属層１２の厚さは、十分な光輝性を発揮するように、通常１０ｎｍ以上が好ましく、一方、生産性の観点から、通常１００ｎｍ以下が好ましい。例えば、１５ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、１５ｎｍ〜８０ｎｍがより好ましく、１５ｎｍ〜７０ｎｍがさらに好ましく、１５ｎｍ〜６０ｎｍがよりさらに好ましく、１５ｎｍ〜５０ｎｍが特に好ましく、１５ｎｍ〜４０ｎｍが最も好ましい。なお、金属層１２の厚さは実施例の欄に記載の方法で測定できる。

また、同様の理由から、金属層の厚さと酸化インジウム含有層の厚さとの比（金属層の厚さ／酸化インジウム含有層の厚さ）は、０．１〜１００の範囲が好ましく、０．３〜３５の範囲がより好ましい。

金属層のシート抵抗は、１００Ω／□以上であるのが好ましい。この場合、電磁波透過性は、５ＧＨｚの波長において、１０〜０．０１［−ｄＢ］程度となる。更に好ましくは、１０００Ω／□以上である。

酸化インジウム含有層を更に設ける場合、金属層と酸化インジウム含有層の積層体としてのシート抵抗は、１００Ω／□以上であるのが好ましい。この場合、電磁波透過性は、５ＧＨｚの波長において、１０〜０．０１［−ｄＢ］程度となる。更に好ましくは、１０００Ω／□以上である。このシート抵抗の値は、金属層の材質や厚さは勿論のこと、下地層である酸化インジウム含有層の材質や厚さからも大きな影響を受ける。よって、酸化インジウム含有層を設ける場合は、酸化インジウム含有層との関係も考慮したうえで設定する必要がある。
本実施形態の金属光沢物品は、上述の金属層、及び酸化インジウム含有層の他に、用途に応じてその他の層を備えてもよい。その他の層としては色味等の外観を調整するための高屈折材料等の光学調整層（色味調整層）、耐湿性や耐擦傷性等の耐久性を向上させるための保護層（耐擦傷性層）、バリア層（腐食防止層）、易接着層、ハードコート層、反射防止層、光取出し層、アンチグレア層等が挙げられる。

＜５．金属光沢物品の製造＞
金属光沢物品１の製造方法の一例について、説明する。特に説明しないが、基材フィルム以外の基体を用いた場合についても同様の方法で製造することができる。

基体１０上に金属層１２を形成するにあたっては、例えば、真空蒸着、スパッタリング等の方法を用いることができる。

また、基体１０上に酸化インジウム含有層１１を形成する場合には、金属層１２の形成に先立ち、酸化インジウム含有層１１を、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等によって形成する。但し、大面積でも厚さを厳密に制御できる点から、スパッタリングが好ましい。

尚、基体１０と金属層１２の間に酸化インジウム含有層１１を設ける場合、酸化インジウム含有層１１と金属層１２の間には、他の層を介在させずに直接接触させるのが好ましい。

＜６．金属薄膜＞
本実施形態に係る金属薄膜は、基体上に形成された金属薄膜であって、前記金属薄膜は、１５ｎｍ〜１００ｎｍの厚さを有し、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の島状部分を含み、前記金属層の反射ヘイズが１５ＨＵ以下である。
上述の金属層１２を、厚さ１５ｎｍ〜１００ｎｍに形成し、これのみを金属薄膜として使用することもできる。例えば、基材フィルムのような基体に積層された酸化インジウム含有層１１の上に、スパッタリングで金属層１２を形成して、金属薄膜付きのフィルムを得る。また、これとは別に、接着剤を基材の上に塗工して接着剤層付きの基材を作製する。金属薄膜付きのフィルムと接着剤層付きの基材を、金属層１２と接着剤層が接するように貼り合せ、十分に密着させた後にフィルムと基材を剥離させることで、金属薄膜付きのフィルムの最表面に存在した金属層（金属薄膜）１２を接着剤層付きの基材の最表面に転写させることができる。
基体、及び金属層としては、上述の説明をそのまま援用し得る。

＜７．金属光沢物品及び金属薄膜の用途＞
本実施形態の金属光沢物品及び金属薄膜は、電磁波透過性を有することから電磁波を送受信する装置や物品及びその部品等に使用することが好ましい。例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。
より具体的には、車両関係では、インスツルメントパネル、コンソールボックス、ドアノブ、ドアトリム、シフトレバー、ペダル類、グローブボックス、バンパー、ボンネット、フェンダー、トランク、ドア、ルーフ、ピラー、座席シート、ステアリングホイール、ＥＣＵボックス、電装部品、エンジン周辺部品、駆動系・ギア周辺部品、吸気・排気系部品、冷却系部品等が挙げられる。
電子機器および家電機器としてより具体的には、冷蔵庫、洗濯機、掃除機、電子レンジ、エアコン、照明機器、電気湯沸かし器、テレビ、時計、換気扇、プロジェクター、スピーカー等の家電製品類、パソコン、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、タブレット型ＰＣ、携帯音楽プレーヤー、携帯ゲーム機、充電器、電池等電子情報機器等が挙げられる。

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。金属光沢物品を準備し、基体（基材）の厚み、金属層の厚み、反射ヘイズ、基体の算術平均表面粗さＲａ及び最大高さ粗さＲｚ、金属層の算術平均表面粗さＲａ及び最大高さ粗さＲｚ、シート抵抗、及び光沢度等を評価した。なお、基体１０としては、基材フィルムを用いた。
シート抵抗は、電磁波透過性に関する評価である。電波透過減衰量の値は大きい方が好ましい。
評価方法の詳細は以下のとおりである。

（１）膜厚の評価方法
まず、金属光沢物品から、図４に示すように一辺５ｃｍの正方形領域３を適当に抽出し、該正方形領域３の縦辺及び横辺それぞれの中心線Ａ、Ｂをそれぞれ４等分することによって得られる計５箇所の点「ａ」〜「ｅ」を測定箇所として選択した。
次いで、選択した測定箇所それぞれにおける、図５に示すような断面画像（透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像））を測定し、得られたＴＥＭ画像から、５個以上の金属の部分１２ａが含まれる視野角領域を抽出した。
５箇所の測定箇所それぞれにおいて抽出された視野角領域における金属層の総断面積を視野角領域の横幅で割ったものを各視野角領域の金属層の膜厚とし、５箇所の測定箇所それぞれにおける、各視野角領域の金属層の膜厚の平均値を金属層の厚み（ｎｍ）とした。

（２）反射ヘイズ
ＲＨＯＰＯＩＮＴ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ製アピアランスアナライザー Ｒｈｏｐｏｉｎｔ ＩＱ−Ｓを用いて、金属光沢物品の金属層側に装置の入射、受光部を接触しＩＳＯ １３８０３に準拠し、実施例及び比較例の金属光沢物品の金属層の反射ヘイズを測定した。また測定の際、裏面反射を抑制するため、金属層が形成されている面とは反対の基体側に黒い遮光テープを貼り合わせて測定した。

（反射ヘイズの評価基準）
１５ＨＵ未満：○（良好）
１５ＨＵ以上：×（不良）

（３）基体の算術平均表面粗さＲａ及び最大高さ粗さＲｚ
基体の基材フィルムを平滑な台の上にたわみの無いように固定し、ザイゴ社製光学式表面性状測定機 ＺＹＧＯ Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ７３００を用い、ＪＩＳＢ０６３３に準拠し、下記の条件にて実施例及び比較例の成膜前平滑性として基体の算術平均表面粗さＲａ及び最大高さ粗さＲｚを測定した。
測定倍率：対物レンズ×１０倍 ズーム×１倍
測定範囲：５２０μｍ×７００μｍ

（４）金属層の算術平均表面粗さＲａ及び最大高さ粗さＲｚ
実施例及び比較例の金属光沢物品の金属層の算術平均表面粗さＲａ及び最大高さ粗さＲｚは、成膜後平滑性として基体の算術平均表面粗さＲａ及び最大高さ粗さＲｚと同様に測定した。

（５）シート抵抗
ナプソン社製非接触式抵抗測定装置ＮＣ−８０ＭＡＰを用い、ＪＩＳ−Ｚ２３１６に準拠し、渦電流測定法により金属層と酸化インジウム含有層の積層体としてのシート抵抗を測定した。得られたシート抵抗の値に応じて、金属光沢物品の光輝性を以下の基準で判断した。

（シート抵抗の評価基準）
１０００Ω／□未満：×（不良）
１０００Ω／□以上：○（良好）

（６）２０°光沢度
ＲＨＯＰＯＩＮＴ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ社製アピアランスアナライザー Ｒｈｏｐｏｉｎｔ ＩＱ−Ｓを用いて測定を行った。なお、２０°光沢度の測定は金属層側の面に対して行った。得られた２０°光沢度の値に応じて、金属光沢物品の２０°光沢度を以下の基準で判断した。また測定の際裏面反射を抑制するため、金属層が形成されている面とは反対の基体側に黒い遮光テープを貼り合わせて測定した。

（２０°光沢度の評価基準）
９００未満：×（不良）
９００〜１２００未満：△（やや不良）
１２００以上：○（良好）

（７）総合評価
（２）、（５）及び（６）の評価においていずれも良好であるものを○（良好）、ひとつでも不良を含むものを×（不良）と評価した。

［実施例１］
基材フィルムとして、粒子を含有しないハードコート層が形成されたＰＥＴフィルム（厚さ５０μｍ）を用いた。
先ず、ＤＣマグネトロンスパッタリングを用いて、基材フィルムの面に沿って、５ｎｍの厚さのＩＴＯ層をその上に直接形成した。ＩＴＯ層を形成する際の基材フィルムの温度は、１３０℃に設定した。ＩＴＯに含まれる酸化錫（ＳｎО_２）の含有率（含有率＝（ＳｎＯ_２／（Ｉｎ_２Ｏ_３＋ＳｎＯ_２））×１００）は１０ｗｔ％である。

次いで、交流スパッタリング（ＡＣ：４０ｋＨｚ）を用いて、ＩＴＯ層の上に、３５ｎｍの厚さのアルミニウム（Ａｌ）層を形成し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。得られたアルミニウム層は不連続層であった。Ａｌ層を形成する際の基材フィルムの温度は、１３０℃に設定した。

［実施例２］
実施例１における基材フィルムを、表１に記載の粒子含有のＰＥＴフィルムに変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、実施例１と同じである。得られたアルミニウム層は不連続層であった。

［実施例３］
実施例１における基材フィルムを、表１に記載の黒顔料含有のＰＥＴフィルムに変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、実施例１と同じである。得られたアルミニウム層は不連続層であった。

［比較例１］
実施例１における基材フィルムを表１に記載のＰＥＴフィルムに変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、実施例１と同じである。得られたアルミニウム層は不連続層であった。

［比較例２］
実施例１における基材フィルムを表１に記載のＰＥＴフィルムに変更し、この面上に金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、実施例１と同じである。得られたアルミニウム層は不連続層であった。

［比較例３］
実施例１における基材フィルムを表１に記載の黒顔料含有のＰＥＴフィルムに変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、実施例１と同じである。得られたアルミニウム層は不連続層であった。

以下の表１に、評価結果を示す。

表１から明らかなように、実施例１では、アルミニウム層は不連続な状態に形成された複数の部分１２ａを含むことから、そのシート抵抗は３０００以上となり、電磁波透過性について良好な結果が得られた。また、金属層の反射ヘイズが０ＨＵであることから光沢度についても良好な結果が得られた。その結果、実施例１について、総合評価は「○」となり、電磁波透過性と光沢度の双方を兼ね備えた良好な金属外観の金属光沢物品、及び金属薄膜が得られた。
実施例２及び３においても実施例１と同様にシート抵抗は３０００以上となり電磁波透過性また反射ヘイズも０ＨＵとなり良好な結果が得られた。その結果、実施例２及び３について、総合評価は「○」となり、電磁波透過性と光沢度の双方を兼ね備えた良好な金属外観の金属光沢物品、及び金属薄膜が得られた。
一方、比較例１〜３の金属光沢物品は、実施例１に比べ金属層の最大高さ粗さＲｚが大きく、光沢度が小さく反射ヘイズが高く金属外観に劣るものとなった。

なお、以上の実施例で特に使用したアルミニウム（Ａｌ）以外の金属についても、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）などの比較的融点の低い金属については、同様の手法で不連続構造を形成しうると考えられる。

本発明は前記実施例に限定されるものではなく、発明の趣旨から逸脱しない範囲で適宜変更して具体化することもできる。

本発明に係る金属光沢物品は、電磁波を送受信する装置や物品及びその部品等に使用することができる。例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等、意匠性と電磁波透過性の双方が要求される様々な用途にも利用できる。

１ 金属光沢物品
１０ 基体
１１ 酸化インジウム含有層
１２ 金属層
１２ａ 部分
１２ｂ 隙間

Claims (13)

1. 基体と、前記基体上に形成された金属層とを備え、
   前記金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、
   前記金属層の反射ヘイズが１５ＨＵ以下である電磁波透過性金属光沢物品。
2. 前記基体の少なくとも前記金属層を形成する面の算術平均表面粗さＲａが１１ｎｍ以下である請求項１に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
3. 前記金属層の表面の最大高さ粗さＲｚが２５０ｎｍ以下である請求項１に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
4. 前記基体と前記金属層の間に、酸化インジウム含有層をさらに備える請求項１〜３のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
5. 前記酸化インジウム含有層は連続状態で設けられている請求項４に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
6. 前記酸化インジウム含有層は、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のいずれかを含む請求項４又は５に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
7. 前記酸化インジウム含有層の厚さは、１ｎｍ〜１０００ｎｍである請求項３〜６のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
8. 前記金属層の厚さは、１５ｎｍ〜１００ｎｍである請求項１〜７のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
9. 前記金属層の厚さと前記酸化インジウム含有層の厚さとの比（前記金属層の厚さ／前記酸化インジウム含有層の厚さ）は、０．０２〜１００である請求項４〜７のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
10. シート抵抗が、１００Ω／□以上である請求項１〜８のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
11. 前記複数の部分は島状に形成されている請求項１〜１０のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
12. 前記金属層は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、又はこれらの合金のいずれかである請求項１〜１１のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
13. 前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかである請求項１〜１２のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。

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