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JP2019186264A - Assembly jig and manufacturing method of semiconductor device - Google Patents

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JP2019186264A
JP2019186264A JP2018071169A JP2018071169A JP2019186264A JP 2019186264 A JP2019186264 A JP 2019186264A JP 2018071169 A JP2018071169 A JP 2018071169A JP 2018071169 A JP2018071169 A JP 2018071169A JP 2019186264 A JP2019186264 A JP 2019186264A
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浩一郎 井山
Koichiro IYAMA
浩一郎 井山
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Fuji Electric Co Ltd
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Abstract

【課題】接続端子の基板に対して垂直方向の位置合わせの精度を向上させる。【解決手段】配線板15a,16aの裏面に配置され、配線板15a,16aの裏面から支える垂直保持部52a,52bを有する保持治具50と、配線板15a,16aのおもて面に配置され、垂直保持部52a,52bと配線板15a,16aを挟持する垂直挟持板42,44を有する端子固定治具を有する。すなわち、保持治具50の被支持板51a,51bの裏面51a7,51b7に形成された垂直保持部52a,52bに保持された接続端子15,16の接合部15c,16cの半導体素子12a,12cに対する高さが維持される。【選択図】図12An object of the present invention is to improve the positioning accuracy of a connection terminal in a vertical direction with respect to a substrate. A holding jig (50) is disposed on the back surface of wiring boards (15a, 16a) and has vertical holding parts (52a, 52b) supported from the back surfaces of wiring boards (15a, 16a), and is disposed on the front surface of wiring boards (15a, 16a). Further, a terminal fixing jig having vertical holding portions 52a, 52b and vertical holding plates 42, 44 for holding the wiring boards 15a, 16a is provided. That is, the bonding portions 15c and 16c of the connection terminals 15 and 16 held by the vertical holding portions 52a and 52b formed on the back surfaces 51a7 and 51b7 of the supported plates 51a and 51b of the holding jig 50 with respect to the semiconductor elements 12a and 12c. Height is maintained. [Selection diagram] FIG.

Description

本発明は、組み立て治具及び半導体装置の製造方法に関する。   The present invention relates to an assembly jig and a method for manufacturing a semiconductor device.

半導体装置は、例えば、IGBT(Insulted Gate Bipolar Transistor)、パワーMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)等の半導体素子を含んでいる。このような半導体装置は、例えば、電力変換装置として利用されている。   The semiconductor device includes, for example, semiconductor elements such as an IGBT (Insulted Gate Bipolar Transistor) and a power MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor). Such a semiconductor device is used as, for example, a power conversion device.

半導体装置は、絶縁板と絶縁板のおもて面に形成された導電パターンとを有するセラミック回路基板を備え、導電パターン上に半導体素子及びリードフレームである接続端子が配置されている。このような半導体装置は、接続端子から印加された信号が導電パターンを経由して半導体素子に入力される。   The semiconductor device includes a ceramic circuit board having an insulating plate and a conductive pattern formed on the front surface of the insulating plate, and a semiconductor element and a connection terminal that is a lead frame are arranged on the conductive pattern. In such a semiconductor device, a signal applied from the connection terminal is input to the semiconductor element via the conductive pattern.

半導体装置では、セラミック回路基板上に、半導体素子等の位置決めに用いられる治具を配置して、半導体素子をセラミック回路基板の所定の位置に配置する。そして、このような半導体素子の電極上に接続端子の接合部がそれぞれ位置するように2つの接続端子をプレートを挟んで配置する。   In a semiconductor device, a jig used for positioning a semiconductor element or the like is arranged on a ceramic circuit board, and the semiconductor element is arranged at a predetermined position on the ceramic circuit board. Then, the two connection terminals are arranged with the plate interposed therebetween so that the joint portions of the connection terminals are positioned on the electrodes of such a semiconductor element.

特開2017−037892号公報JP 2017-037892 A

上記のように2つの接続端子をセラミック回路基板の半導体素子の電極上に配置する際には、半導体素子の電極にはんだを介して接続端子の各接合部を配置する。しかし、このような配置後、接続端子を半導体素子に接合させるために、加熱によりはんだを溶融させると接続端子の自重によりはんだ厚さを制御することが難しい。すなわち、接続端子のセラミック回路基板のおもて面に対して垂直方向の位置の制御が難しく、接続端子の位置ずれ等が生じる原因となっていた。   As described above, when the two connection terminals are arranged on the electrodes of the semiconductor element of the ceramic circuit board, the joint portions of the connection terminals are arranged on the electrodes of the semiconductor element via solder. However, if the solder is melted by heating in order to join the connection terminal to the semiconductor element after such arrangement, it is difficult to control the solder thickness due to the weight of the connection terminal. That is, it is difficult to control the position of the connection terminal in the direction perpendicular to the front surface of the ceramic circuit board, which causes a displacement of the connection terminal.

本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、接続端子の基板に対して垂直方向の位置合わせの精度を向上させる組み立て治具及び半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a point, and an object thereof is to provide an assembly jig and a method for manufacturing a semiconductor device, which improve the accuracy of alignment of a connection terminal in a direction perpendicular to a substrate. To do.

本発明の一観点によれば、半導体素子が導電パターンに配置された基板と、前記半導体素子または前記導電パターンに接合される接合部と、前記接合部に接続された連結部と、前記連結部に接続されて前記接合部から間隔をあけて設けられた配線板とを有する接続端子と、を備える半導体装置に対して、前記配線板の裏面に配置され、前記配線板を裏面から支える垂直保持部を有する保持治具と、前記配線板のおもて面に配置され、前記垂直保持部と前記配線板を挟持する垂直挟持板を有する端子固定治具と、を有する組み立て治具が提供される。   According to an aspect of the present invention, a substrate on which a semiconductor element is disposed in a conductive pattern, a bonding portion bonded to the semiconductor element or the conductive pattern, a connecting portion connected to the bonding portion, and the connecting portion And a connection terminal having a wiring board provided at a distance from the joint portion, and a vertical holding device that is disposed on the back surface of the wiring board and supports the wiring board from the back surface. There is provided an assembly jig having a holding jig having a portion and a terminal fixing jig that is disposed on the front surface of the wiring board and has the vertical holding part and a vertical holding plate that holds the wiring board. The

また、前記保持治具は、前記垂直保持部に接続され前記垂直保持部に垂直な面を有する水平保持部をさらに有し、前記端子固定治具は、前記垂直挟持板に接続され前記垂直挟持板に垂直な面を有し、前記水平保持部と前記連結部を挟持する水平挟持板をさらに有している。   The holding jig further includes a horizontal holding part connected to the vertical holding part and having a surface perpendicular to the vertical holding part, and the terminal fixing jig is connected to the vertical holding plate. It further has a horizontal clamping plate that has a surface perpendicular to the plate and clamps the horizontal holding portion and the connecting portion.

また、前記保持治具は、前記垂直保持部から間隔をあけて設けられ、前記垂直保持部に水平な面を有する被支持板をさらに有する。   The holding jig further includes a supported plate provided at a distance from the vertical holding portion and having a horizontal surface on the vertical holding portion.

また、前記接続端子、前記保持治具と前記端子固定治具の一部が挿入される第1開口部が形成され、前記保持治具の前記被支持板の裏面に配置される第1支持部材と、前記第1支持部材と接続され、前記接続端子の前記接合部が接合される接合領域の周縁部の少なくとも一部に沿って取り囲む端子ガイド部と、を有するガイド治具をさらに備える。   Moreover, the 1st opening part in which a part of said connection terminal, the said holding jig, and the said terminal fixing jig is inserted is formed, and the 1st support member arrange | positioned in the back surface of the said supported plate of the said holding jig And a terminal guide part that is connected to the first support member and surrounds at least a part of a peripheral part of a joining region to which the joining part of the connection terminal is joined.

また、前記基板上に配置され、前記半導体素子が配置される配置領域の周縁部の一部に沿って取り囲む第2開口部が形成された素子固定治具を、さらに有する。   Further, the device fixing jig further includes an element fixing jig formed on the substrate and formed with a second opening portion surrounding a part of a peripheral portion of the arrangement region where the semiconductor element is arranged.

また、前記素子固定治具は、前記ガイド治具の前記第1支持部材の裏面に配置され、前記ガイド治具を裏面から支える第2支持部材を有し、前記端子ガイド部が前記第2開口部を介して前記接合領域に隣接して配置される。   The element fixing jig is disposed on a back surface of the first support member of the guide jig, has a second support member that supports the guide jig from the back surface, and the terminal guide portion has the second opening. It arrange | positions adjacent to the said joining area | region through a part.

また、前記保持治具は、前記被支持板の裏面に、前記基板に先端部が接して、前記被支持板の裏面と前記基板のおもて面との間に所定の距離を維持する棒状の脚部を有する。   The holding jig has a rod-like shape that maintains a predetermined distance between the back surface of the supported plate and the front surface of the substrate, with a tip portion in contact with the back surface of the supported plate. With legs.

また、前記接続端子が2列に配置され、互いに対向する前記連結部を有する一対の前記接続端子を備える半導体装置に対して、前記端子固定治具は、前記垂直挟持板と、前記垂直挟持板の中央付近に接続され前記垂直挟持板に垂直な面を有する前記水平挟持板を有しており、前記垂直挟持板と前記水平挟持板とで断面T字形状が構成されており、前記保持治具は、前記接続端子に対応して2列に配置され、互いに対向する前記水平保持部と、前記水平保持部に接続され前記水平保持部から他方の列の前記水平保持部に向かって延伸する前記垂直保持部とを有し、前記水平挟持板を中心にして、複数の前記接続端子が配置され、対向させた前記水平保持部で挟持させ、前記垂直保持部と前記垂直挟持板とで、前記接続端子の前記配線板を、前記垂直挟持板の挟持方向に直交して挟持させる。   In addition, for the semiconductor device including a pair of the connection terminals having the connection portions arranged in two rows and having the coupling portions facing each other, the terminal fixing jig includes the vertical clamping plate and the vertical clamping plate The horizontal clamping plate is connected to the vicinity of the center of the vertical clamping plate and has a surface perpendicular to the vertical clamping plate. The vertical clamping plate and the horizontal clamping plate constitute a T-shaped cross section, and the holding jig The tools are arranged in two rows corresponding to the connection terminals, the horizontal holding portions facing each other, and connected to the horizontal holding portion and extending from the horizontal holding portion toward the horizontal holding portion of the other row. A plurality of the connection terminals arranged around the horizontal holding plate, and held between the horizontal holding portions opposed to each other, with the vertical holding portion and the vertical holding plate, The wiring board of the connection terminal, It is clamped perpendicularly to the clamping direction of the straight clamping plates.

また、本発明の一観点によれば、半導体素子が導電パターンに配置された基板と、前記半導体素子または前記導電パターンに接合される接合部と、前記接合部に接続された連結部と、前記連結部に接続されて前記接合部から間隔をあけて設けられた配線板とを有する接続端子とを用意する準備工程と、前記接続端子に対し、前記配線板のおもて面に配置される垂直挟持板を有する端子固定治具を取り付ける第1取り付け工程と、前記端子固定治具が取り付けられた前記接続端子に対し、前記配線板を前記配線板の裏面から支える前記垂直挟持板と前記配線板を挟持する垂直保持部を有する保持治具を取り付ける第2取り付け工程と、前記基板に対して、前記接合部が前記半導体素子上または前記導電パターン上に配置されるように前記保持治具を配置する接続端子配置工程と、を有する半導体装置の製造方法が提供される。   According to another aspect of the present invention, a substrate on which a semiconductor element is disposed in a conductive pattern, a bonding portion bonded to the semiconductor element or the conductive pattern, a connecting portion connected to the bonding portion, A preparation step of preparing a connection terminal having a wiring board connected to a connecting portion and spaced from the joint portion, and the connection terminal is arranged on the front surface of the wiring board A first attachment step of attaching a terminal fixing jig having a vertical holding plate, and the vertical holding plate and the wiring for supporting the wiring board from the back surface of the wiring board with respect to the connection terminal to which the terminal fixing jig is attached A second attachment step of attaching a holding jig having a vertical holding portion for holding the plate; and the holding jig so that the bonding portion is arranged on the semiconductor element or the conductive pattern with respect to the substrate. The method of manufacturing a semiconductor device having a connection terminal arrangement step of arranging is provided.

また、前記第1取り付け工程にて、前記端子固定治具がさらに有する、前記垂直挟持板に接続され前記垂直挟持板に垂直な面を有する水平挟持板を前記連結部の外面に配置して、前記第2取り付け工程にて、前記保持治具がさらに有する、前記垂直保持部に接続され前記垂直保持部に垂直な面を有する水平保持部と前記水平挟持板とで前記連結部を前記垂直挟持板の挟持方向に直交して挟持する。   Further, in the first mounting step, the terminal fixing jig further includes a horizontal clamping plate connected to the vertical clamping plate and having a surface perpendicular to the vertical clamping plate, on the outer surface of the connecting portion, In the second mounting step, the holding jig further includes the horizontal holding part connected to the vertical holding part and having a surface perpendicular to the vertical holding part, and the horizontal holding plate to hold the connecting part. It is clamped perpendicular to the clamping direction of the plate.

また、前記接続端子配置工程の前に、前記基板に対し、第1開口部が形成された第1支持部材と前記第1支持部材と接続され、前記接続端子の接合部が接合される接合領域の周縁部の少なくとも一部に沿って取り囲む端子ガイド部と、を有するガイド治具を設置して、前記保持治具は、前記垂直保持部から間隔をあけて設けられ、前記垂直保持部に水平な面を有する被支持板をさらに有し、前記接続端子配置工程にて、前記保持治具を前記ガイド治具上に配置して、前記第1開口部に前記接続端子、前記保持治具と前記端子固定治具の一部が挿入されて、前記第1支持部材により前記被支持板の裏面が支持されて、前記接合部を前記端子ガイド部で前記接合領域に位置合わせする。   Moreover, before the said connection terminal arrangement | positioning process, it is connected with the 1st support member in which the 1st opening part was formed with respect to the said board | substrate, and the said 1st support member, and the junction area | region where the junction part of the said connection terminal is joined A guide jig having a terminal guide portion that surrounds at least a part of the peripheral edge of the holding portion, and the holding jig is provided at a distance from the vertical holding portion and is horizontally disposed on the vertical holding portion. A support plate having a flat surface, and in the connection terminal arrangement step, the holding jig is arranged on the guide jig, and the connection terminal, the holding jig and the first opening are arranged. A part of the terminal fixing jig is inserted, the back surface of the supported plate is supported by the first support member, and the joining portion is aligned with the joining region by the terminal guide portion.

また、前記準備工程にて、前記基板上に、前記半導体素子が配置される配置領域の周縁部の一部に沿って取り囲む第2開口部が形成された素子固定治具を配置して、前記第2開口部内の前記配置領域に前記半導体素子を配置する。   In the preparation step, an element fixing jig in which a second opening surrounding the part of the peripheral area of the arrangement region where the semiconductor element is arranged is formed on the substrate. The semiconductor element is arranged in the arrangement region in the second opening.

また、前記接続端子配置工程の前に、前記素子固定治具上に前記ガイド治具を配置して、前記端子ガイド部を前記第2開口部を介して前記接合領域に配置する。   Further, before the connection terminal arrangement step, the guide jig is arranged on the element fixing jig, and the terminal guide portion is arranged in the joining region through the second opening.

また、前記保持治具は、前記被支持板の裏面に棒状の脚部を有し、前記接続端子配置工程にて、前記基板に対して、前記保持治具を配置して、前記脚部の先端部を前記基板のおもて面に接して、前記被支持板の裏面と前記基板のおもて面との間に所定の距離を維持する。   Further, the holding jig has a rod-like leg on the back surface of the supported plate, and the holding jig is arranged with respect to the substrate in the connection terminal arranging step, The front end is in contact with the front surface of the substrate, and a predetermined distance is maintained between the back surface of the supported plate and the front surface of the substrate.

開示の技術によれば、接続端子の基板に対して垂直方向の位置合わせの精度を向上させることができる。   According to the disclosed technique, it is possible to improve the accuracy of alignment in the vertical direction with respect to the substrate of the connection terminal.

半導体装置のおもて側の斜視図である。It is a perspective view of the front side of a semiconductor device. 半導体装置の側部の斜視図である。It is a perspective view of the side part of a semiconductor device. 半導体装置に含まれる接続端子を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the connecting terminal contained in a semiconductor device. 第1の実施の形態の半導体装置の製造で利用される組み立て治具を構成する保持治具の端子固定治具を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the terminal fixing jig of the holding jig which comprises the assembly jig utilized by manufacture of the semiconductor device of 1st Embodiment. 第1の実施の形態の半導体装置の製造で利用される組み立て治具を構成する保持治具を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the holding jig which comprises the assembly jig utilized by manufacture of the semiconductor device of 1st Embodiment. 第1の実施の形態の半導体装置の製造方法で利用される組み立て治具を構成する保持治具及び端子固定治具の接続端子に対する取り付けを説明するための図(その1)である。It is FIG. (1) for demonstrating the attachment with respect to the connecting terminal of the holding jig and the terminal fixing jig which comprise the assembly jig utilized with the manufacturing method of the semiconductor device of 1st Embodiment. 第1の実施の形態の半導体装置の製造方法で利用される組み立て治具を構成する保持治具及び端子固定治具の接続端子に対する取り付けを説明するための図(その2)である。FIG. 6 is a diagram (No. 2) for explaining the attachment of the holding jig and the terminal fixing jig constituting the assembly jig used in the semiconductor device manufacturing method of the first embodiment to the connection terminal; 第1の実施の形態の半導体装置の製造で利用される組み立て治具を構成するガイド治具を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the guide jig | tool which comprises the assembly jig | tool utilized by manufacture of the semiconductor device of 1st Embodiment. 第1の実施の形態の半導体装置の製造で利用される組み立て治具を構成する素子固定治具を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the element fixing jig which comprises the assembly jig utilized by manufacture of the semiconductor device of 1st Embodiment. 第1の実施の形態の半導体装置の製造方法を説明するための図(その1)である。FIG. 6 is a diagram (part 1) for explaining the method of manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment; 第1の実施の形態の半導体装置の製造方法を説明するための図(その2)である。FIG. 6 is a diagram (part 2) for explaining the method of manufacturing the semiconductor device of the first embodiment; 第1の実施の形態の半導体装置の製造方法を説明するための図(その3)である。FIG. 6 is a view (No. 3) for explaining the method of manufacturing the semiconductor device of the first embodiment; 第1の実施の形態の半導体装置の製造方法を説明するための図(その4)である。FIG. 6 is a view (No. 4) for explaining the method of manufacturing the semiconductor device of the first embodiment; 第2の実施の形態の半導体装置の製造方法を説明するための図(その1)である。It is FIG. (1) for demonstrating the manufacturing method of the semiconductor device of 2nd Embodiment. 第2の実施の形態の半導体装置の製造方法を説明するための図(その2)である。It is FIG. (2) for demonstrating the manufacturing method of the semiconductor device of 2nd Embodiment.

以下、図面を参照して、実施の形態について説明する。   Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.

[第1の実施の形態]
まず、半導体装置について図1及び図2を用いて説明する。図1は、半導体装置のおもて側の斜視図であり、図2は、半導体装置の側部の斜視図である。なお、図2は、図1の半導体装置10を右側面側から見た場合を示している。
[First Embodiment]
First, a semiconductor device will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a perspective view of the front side of a semiconductor device, and FIG. 2 is a perspective view of a side portion of the semiconductor device. FIG. 2 shows a case where the semiconductor device 10 of FIG. 1 is viewed from the right side.

半導体装置10は、セラミック回路基板11とセラミック回路基板11のおもて面に接合された半導体素子12a〜12d及び端子ブロック14a,14b,14cと半導体素子12a〜12dの電極を電気的に接続する一対の接続端子15,16とを含んでいる。   The semiconductor device 10 electrically connects the ceramic circuit board 11 and the semiconductor elements 12a to 12d joined to the front surface of the ceramic circuit board 11 and the terminal blocks 14a, 14b and 14c to the electrodes of the semiconductor elements 12a to 12d. A pair of connection terminals 15 and 16 is included.

セラミック回路基板11は、絶縁板11aと絶縁板11aのおもて面に形成された導電パターン11b1,11b2,11b3と絶縁板11aの裏面に形成された金属板11cとを有している。なお、以下では、導電パターン11b1,11b2,11b3を特に区別しない場合には、導電パターン11bと表す。   The ceramic circuit board 11 includes an insulating plate 11a, conductive patterns 11b1, 11b2, 11b3 formed on the front surface of the insulating plate 11a, and a metal plate 11c formed on the back surface of the insulating plate 11a. In the following description, the conductive patterns 11b1, 11b2, and 11b3 are expressed as the conductive pattern 11b unless otherwise distinguished.

絶縁板11aは、熱伝導性に優れた、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素等の熱伝導性が高いセラミックスにより構成されている。絶縁板11aの厚さは、好ましくは、0.2mm以上、1.5mm以下であり、より好ましくは、0.25mm以上、1.0mm以下である。   The insulating plate 11a is made of ceramics having high thermal conductivity, such as aluminum oxide, aluminum nitride, silicon nitride, and the like. The thickness of the insulating plate 11a is preferably 0.2 mm or more and 1.5 mm or less, and more preferably 0.25 mm or more and 1.0 mm or less.

導電パターン11bは、導電性に優れた材質により構成されている。このような材質として、例えば、銅、アルミニウム、または、少なくともこれらの一種を含む合金等により構成されている。導電パターン11bの厚さは、好ましくは、0.1mm以上、2.0mm以下であり、より好ましくは、0.125mm以上、1.2mm以下である。また、導電パターン11bは、耐食性に優れた材質によりめっき処理を行うことも可能である。このような材質は、例えば、アルミニウム、ニッケル、チタン、クロム、モリブデン、タンタル、ニオブ、タングステン、バナジウム、ビスマス、ジルコニウム、ハフニウム、金、銀、白金、パラジウム、または、少なくともこれらの一種を含む合金等である。なお、このような導電パターン11bは個数、配置位置並びに形状は一例であって、この場合に限らずに、適宜設計により個数、配置位置並びに形状を定めることができる。   The conductive pattern 11b is made of a material having excellent conductivity. As such a material, for example, copper, aluminum, or an alloy containing at least one of them is used. The thickness of the conductive pattern 11b is preferably 0.1 mm or more and 2.0 mm or less, and more preferably 0.125 mm or more and 1.2 mm or less. Further, the conductive pattern 11b can be plated with a material having excellent corrosion resistance. Examples of such materials include aluminum, nickel, titanium, chromium, molybdenum, tantalum, niobium, tungsten, vanadium, bismuth, zirconium, hafnium, gold, silver, platinum, palladium, or an alloy containing at least one of these. It is. Note that the number, the arrangement position, and the shape of the conductive patterns 11b are merely examples, and the number, the arrangement position, and the shape can be determined as appropriate by design without being limited to this case.

金属板11cは、熱伝導性に優れた銅、アルミニウム、鉄、銀、または、少なくともこれらの一種を含む合金等の金属により構成されている。金属板11cの厚さは、好ましくは、0.1mm以上、2.0mm以下であり、より好ましくは、0.125mm以上、1.2mm以下である。   The metal plate 11c is made of a metal such as copper, aluminum, iron, silver, or an alloy containing at least one of them having excellent thermal conductivity. The thickness of the metal plate 11c is preferably 0.1 mm or more and 2.0 mm or less, and more preferably 0.125 mm or more and 1.2 mm or less.

このような構成を有するセラミック回路基板11として、例えば、DCB(Direct Copper Bonding)基板、AMB(Active Metal Blazed)基板を用いることができる。セラミック回路基板11は、後述する半導体素子12a〜12dで発生した熱を導電パターン11b、絶縁板11a及び金属板11cを介して、セラミック回路基板11の下側に伝導させることができる。なお、絶縁板11aは平面視で、例えば、矩形状を成している。また、金属板11cは平面視で、絶縁板11aよりも面積が小さな矩形状を成している。したがって、セラミック回路基板11は、例えば、矩形状を成している。   As the ceramic circuit board 11 having such a configuration, for example, a DCB (Direct Copper Bonding) board or an AMB (Active Metal Blazed) board can be used. The ceramic circuit board 11 can conduct heat generated in semiconductor elements 12a to 12d described later to the lower side of the ceramic circuit board 11 through the conductive pattern 11b, the insulating plate 11a, and the metal plate 11c. Note that the insulating plate 11a has, for example, a rectangular shape in plan view. The metal plate 11c has a rectangular shape with a smaller area than the insulating plate 11a in plan view. Therefore, the ceramic circuit board 11 has, for example, a rectangular shape.

また、図1及び図2に示すセラミック回路基板11は個数、配置位置並びに形状は一例であって、この場合に限らずに、適宜設計により個数、配置位置並びに形状を定めることができる。   Further, the number, the arrangement position, and the shape of the ceramic circuit board 11 shown in FIGS. 1 and 2 are examples. The number, the arrangement position, and the shape can be appropriately determined by design without being limited to this case.

半導体素子12a〜12dは、シリコンまたは炭化シリコンから構成される、例えば、IGBT、パワーMOSFET等のスイッチング素子を含んでいる。このような半導体素子12a〜12dは、例えば、裏面にドレイン電極(または、コレクタ電極)を、おもて面12a1〜12d1にゲート電極及びソース電極(または、エミッタ電極)をそれぞれ備えている。また、半導体素子12a〜12dは、必要に応じて、SBD(Schottky Barrier Diode)、FWD(Free Wheeling Diode)等のダイオードを含んでいる。このような半導体素子12a〜12dは、裏面にカソード電極を、おもて面にアノード電極をそれぞれ備えている。なお、図1及び図2に示すセラミック回路基板11上の半導体素子12a〜12dの個数(4個)並びに配列(2列)は一例であって、この場合に限らずに、適宜設計により個数を定めることができる。   The semiconductor elements 12a to 12d include switching elements such as IGBTs and power MOSFETs made of silicon or silicon carbide. Such semiconductor elements 12a to 12d include, for example, a drain electrode (or collector electrode) on the back surface and a gate electrode and a source electrode (or emitter electrode) on the front surfaces 12a1 to 12d1, respectively. Moreover, the semiconductor elements 12a to 12d include diodes such as SBD (Schottky Barrier Diode) and FWD (Free Wheeling Diode) as necessary. Such semiconductor elements 12a to 12d are each provided with a cathode electrode on the back surface and an anode electrode on the front surface. The number (4) and arrangement (2 rows) of the semiconductor elements 12a to 12d on the ceramic circuit board 11 shown in FIGS. 1 and 2 are examples, and the number is not limited to this case. Can be determined.

このような半導体素子12a〜12dは、導電パターン11b上に、はんだ(図示を省略)を介して接合されている。また、このような導電パターン11b上には、必要に応じて、半導体素子12a〜12dの他に、サーミスタやコンデンサ等の電子部品、ボンディングワイヤ、リードフレームや接続端子等の配線板材を、適宜配置することができる。   Such semiconductor elements 12a to 12d are joined to the conductive pattern 11b via solder (not shown). In addition to the semiconductor elements 12a to 12d, wiring parts such as thermistors and capacitors, bonding wires, lead frames, connection terminals, and the like are appropriately disposed on the conductive pattern 11b as necessary. can do.

端子ブロック14a,14b,14cは、導電パターン11b1,11b2,11b3上にはんだ(図示を省略)を介して接合されている。このような端子ブロック14a,14b,14cは導電性に優れた材質により構成されている。このような材質として、例えば、銅、アルミニウム、または、少なくともこれらの一種を含む合金等により構成されている。端子ブロック14a,14b,14cもまた、耐食性に優れた材質によりめっき処理を行うことも可能である。このような材質は、例えば、アルミニウム、ニッケル、チタン、クロム、モリブデン、タンタル、ニオブ、タングステン、バナジウム、ビスマス、ジルコニウム、ハフニウム、金、銀、白金、パラジウム、または、少なくともこれらの一種を含む合金等である。   The terminal blocks 14a, 14b, and 14c are joined to the conductive patterns 11b1, 11b2, and 11b3 via solder (not shown). Such terminal blocks 14a, 14b, and 14c are made of a material having excellent conductivity. As such a material, for example, copper, aluminum, or an alloy containing at least one of them is used. The terminal blocks 14a, 14b, and 14c can also be plated with a material having excellent corrosion resistance. Examples of such materials include aluminum, nickel, titanium, chromium, molybdenum, tantalum, niobium, tungsten, vanadium, bismuth, zirconium, hafnium, gold, silver, platinum, palladium, or an alloy containing at least one of these. It is.

次に、半導体装置10に含まれる接続端子について図3を用いて説明する。図3は、半導体装置に含まれる接続端子を説明するための図である。なお、図3(A)は、一対の接続端子15,16の裏面図、図3(B)は、図3(A)における矢視図である。   Next, connection terminals included in the semiconductor device 10 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram for explaining connection terminals included in the semiconductor device. 3A is a rear view of the pair of connection terminals 15 and 16, and FIG. 3B is a view as viewed in the direction of the arrow in FIG.

接続端子15は、接合部15b,15c、連結部15e、配線板15a及び接続部15dを有している。なお、接合部15b,15c、連結部15e、配線板15a及び接続部15dは、この順に一体的に接続されていてよい。   The connection terminal 15 has joint parts 15b and 15c, a connection part 15e, a wiring board 15a, and a connection part 15d. In addition, the joining parts 15b and 15c, the connection part 15e, the wiring board 15a, and the connection part 15d may be integrally connected in this order.

接合部15b,15cは、セラミック回路基板11のおもて面に平行な主面を有する。接合部15b,15cは、セラミック回路基板11の短辺方向に延伸してもよい。接合部15b,15cは、半導体素子12b,12aの電極に接合されていてもよい(図1を参照)。但し、この場合に限らずに、接合部15b,15cは、セラミック回路基板11の導電パターン11bに接合されていても構わない。   The joint portions 15 b and 15 c have a main surface parallel to the front surface of the ceramic circuit board 11. The joint portions 15 b and 15 c may extend in the short side direction of the ceramic circuit board 11. The joint portions 15b and 15c may be joined to the electrodes of the semiconductor elements 12b and 12a (see FIG. 1). However, the present invention is not limited to this case, and the joint portions 15 b and 15 c may be joined to the conductive pattern 11 b of the ceramic circuit board 11.

連結部15eは、配線板15aを接合部15b,15cからセラミック回路基板11のおもて面に垂直な方向に離間するものである。図3(B)に示すように、セラミック回路基板11のおもて面(に接合される接合部15b)に垂直な主面を有してもよい。また、連結部15eは、接合部15b,15cと配線板15aとを一体的に接続する。例えば、連結部15eは、接合部15b,15cの端部から、上方(セラミック回路基板11のおもて面から離れる方向)に延伸し、配線板15aの端部と接続する。   The connecting portion 15e separates the wiring board 15a from the joint portions 15b and 15c in a direction perpendicular to the front surface of the ceramic circuit board 11. As shown in FIG. 3B, the ceramic circuit board 11 may have a main surface that is perpendicular to the front surface of the ceramic circuit board 11 (the bonding portion 15b to be bonded). Moreover, the connection part 15e connects the junction parts 15b and 15c and the wiring board 15a integrally. For example, the connecting portion 15e extends upward (in a direction away from the front surface of the ceramic circuit board 11) from the end portions of the joint portions 15b and 15c, and is connected to the end portion of the wiring board 15a.

配線板15aは、セラミック回路基板11のおもて面に平行な主面を有し、連結部15eと接続部15dとを一体的に接続する。例えば、配線板15aは、セラミック回路基板11の長辺と平行に延伸した矩形状であり、長辺の一部が連結部15eと接続し、短辺が接続部15dと接続する。また、配線板15aは、セラミック回路基板11の長辺と平行に配置された半導体素子12c,12dを跨いでもよい(図1を参照)。なお、配線板15aと連結部15eの断面は断面U字部が構成されていてもよい。   The wiring board 15a has a main surface parallel to the front surface of the ceramic circuit board 11, and integrally connects the connecting portion 15e and the connecting portion 15d. For example, the wiring board 15a has a rectangular shape extending in parallel with the long side of the ceramic circuit board 11, and a part of the long side is connected to the connecting part 15e and the short side is connected to the connecting part 15d. Moreover, the wiring board 15a may straddle the semiconductor elements 12c and 12d arranged in parallel with the long side of the ceramic circuit board 11 (see FIG. 1). In addition, the cross section of the wiring board 15a and the connection part 15e may comprise the cross-sectional U-shaped part.

接続部15dは、セラミック回路基板11のおもて面に平行な主面を有し、配線板15aの端部と一体的に接続する。例えば、接続部15dは、セラミック回路基板11の短辺と平行に延伸した矩形状であり、長辺の一部が配線板15aと接続する。   The connecting portion 15d has a main surface parallel to the front surface of the ceramic circuit board 11, and is integrally connected to the end portion of the wiring board 15a. For example, the connecting portion 15d has a rectangular shape extending in parallel with the short side of the ceramic circuit board 11, and a part of the long side is connected to the wiring board 15a.

このような接続端子15は、接合部15b,15cがはんだ13d,13cを介して半導体素子12d,12cの主電極にそれぞれ接合されている。また、接合部15b,15cは、セラミック回路基板11の導電パターン11bにはんだを介して接合されていてもよい。また、接続端子15は、接続部15dが端子ブロック14a上にはんだ(図示を省略)を介して接合されている。   In such a connection terminal 15, the joint portions 15b and 15c are joined to the main electrodes of the semiconductor elements 12d and 12c via the solders 13d and 13c, respectively. The joint portions 15b and 15c may be joined to the conductive pattern 11b of the ceramic circuit board 11 via solder. The connection terminal 15 has a connection portion 15d joined to the terminal block 14a via solder (not shown).

接続端子16もまた、接合部16b,16c、連結部16e、配線板16a及び接続部16dを有している。なお、接合部16b,16c、連結部16e、配線板16a及び接続部16dは、この順に一体的に接続されていてよい。   The connection terminal 16 also has joint portions 16b and 16c, a connection portion 16e, a wiring board 16a, and a connection portion 16d. Note that the joint portions 16b and 16c, the connecting portion 16e, the wiring board 16a, and the connecting portion 16d may be integrally connected in this order.

接合部16b,16cは、セラミック回路基板11のおもて面に平行な主面を有する。接合部16b,16cは、セラミック回路基板11の短辺方向に延伸してもよい。接合部16b,16cは、半導体素子12b,12aの電極に接合されていてもよい(図1を参照)。但し、この場合に限らずに、接合部16b,16cは、セラミック回路基板11の導電パターン11bに接合されていても構わない。   The joint portions 16 b and 16 c have a main surface parallel to the front surface of the ceramic circuit board 11. The joint portions 16 b and 16 c may extend in the short side direction of the ceramic circuit board 11. The joining portions 16b and 16c may be joined to the electrodes of the semiconductor elements 12b and 12a (see FIG. 1). However, the present invention is not limited to this case, and the joint portions 16 b and 16 c may be joined to the conductive pattern 11 b of the ceramic circuit board 11.

連結部16eは、配線板16aを接合部16b,16cからセラミック回路基板11のおもて面に垂直な方向に離間するものである。図3(B)に示すように、セラミック回路基板11のおもて面(に接合される接合部16c)に垂直な主面を有してもよい。また、連結部16eは、接合部16b,16cと配線板16aとを一体的に接続する。例えば、連結部16eは、接合部16b,16cの端部から、上方(セラミック回路基板11のおもて面から離れる方向)に延伸し、配線板16aの端部と接続する。   The connecting portion 16e separates the wiring board 16a from the joint portions 16b and 16c in a direction perpendicular to the front surface of the ceramic circuit board 11. As shown in FIG. 3B, the ceramic circuit board 11 may have a main surface that is perpendicular to the front surface of the ceramic circuit board 11 (the bonding portion 16c bonded thereto). Moreover, the connection part 16e connects the junction parts 16b and 16c and the wiring board 16a integrally. For example, the connecting portion 16e extends upward (in a direction away from the front surface of the ceramic circuit board 11) from the end portions of the joint portions 16b and 16c, and is connected to the end portion of the wiring board 16a.

配線板16aは、セラミック回路基板11のおもて面に平行な主面を有し、連結部16eと接続部16dとを一体的に接続する。例えば、配線板16aは、セラミック回路基板11の長辺と平行に延伸した矩形状であり、長辺の一部が連結部16eと接続し、短辺が接続部16dと接続する。また、配線板16aは、セラミック回路基板11の長辺と平行に配置された半導体素子12c,12dを跨いでもよい(図1を参照)。なお、配線板16aと連結部16eとの断面は断面U字部が構成されていてもよい。   The wiring board 16a has a main surface parallel to the front surface of the ceramic circuit board 11, and integrally connects the connecting portion 16e and the connecting portion 16d. For example, the wiring board 16a has a rectangular shape extending in parallel with the long side of the ceramic circuit board 11, and a part of the long side is connected to the connecting part 16e and the short side is connected to the connecting part 16d. Further, the wiring board 16a may straddle the semiconductor elements 12c and 12d arranged in parallel with the long sides of the ceramic circuit board 11 (see FIG. 1). In addition, the cross section of the wiring board 16a and the connection part 16e may comprise the cross-sectional U-shaped part.

接続部16dは、セラミック回路基板11のおもて面に平行な主面を有し、配線板16aの端部と一体的に接続する。例えば、接続部16dは、セラミック回路基板11の短辺と平行に延伸した矩形状であり、長辺の一部が配線板16aと接続する。   The connecting portion 16d has a main surface parallel to the front surface of the ceramic circuit board 11, and is integrally connected to the end portion of the wiring board 16a. For example, the connecting portion 16d has a rectangular shape extending in parallel with the short side of the ceramic circuit board 11, and a part of the long side is connected to the wiring board 16a.

このような接続端子16は、連結部16eが接続端子15の連結部15eと隣接し、接合部16b,16cがはんだ13b,13aを介して半導体素子12b,12aの主電極に接合されている。また、接合部16b,16cは、セラミック回路基板11の導電パターン11bにはんだを介して接合されていてもよい。また、接続端子16は、接続部16dが端子ブロック14b上にはんだ(図示を省略)を介して接合されている。   In such a connection terminal 16, the connection part 16e is adjacent to the connection part 15e of the connection terminal 15, and the joint parts 16b and 16c are joined to the main electrodes of the semiconductor elements 12b and 12a via the solders 13b and 13a. Further, the joint portions 16b and 16c may be joined to the conductive pattern 11b of the ceramic circuit board 11 via solder. The connection terminal 16 has a connection portion 16d bonded to the terminal block 14b via solder (not shown).

このような接続端子15,16は、導電性に優れたアルミニウム、鉄、銀、銅、または、少なくともこれらの一種を含む合金により構成されている。また、接続端子15,16は、耐食性を向上させるために、例えば、アルミニウム、ニッケル、チタン、クロム、モリブデン、タンタル、ニオブ、タングステン、バナジウム、ビスマス、ジルコニウム、ハフニウム、金、銀、白金、パラジウム、または、少なくともこれらの一種を含む合金等をめっき処理してもよい。   The connection terminals 15 and 16 are made of aluminum, iron, silver, copper, or an alloy containing at least one of them having excellent conductivity. The connection terminals 15 and 16 are made of, for example, aluminum, nickel, titanium, chromium, molybdenum, tantalum, niobium, tungsten, vanadium, bismuth, zirconium, hafnium, gold, silver, platinum, palladium, or the like in order to improve corrosion resistance. Alternatively, an alloy containing at least one of these may be plated.

また、このような半導体装置10で利用されているはんだ13a〜13d(並びに図示を省略する他のはんだ)は、例えば、錫−銀−銅からなる合金、錫−亜鉛−ビスマスからなる合金、錫−銅からなる合金、錫−銀−インジウム−ビスマスからなる合金のうち少なくともいずれかの合金を主成分とする鉛フリーはんだにより構成される。さらに、ニッケル、ゲルマニウム、コバルトまたはシリコン等の添加物が含まれてもよい。   Also, the solders 13a to 13d (and other solders not shown) used in such a semiconductor device 10 are, for example, alloys composed of tin-silver-copper, alloys composed of tin-zinc-bismuth, tin -It is comprised with the lead-free solder which has as a main component at least any alloy among the alloy which consists of copper, and the alloy which consists of a tin-silver-indium-bismuth. Furthermore, additives such as nickel, germanium, cobalt, or silicon may be included.

また、このような半導体装置10では、導電パターン11bと半導体素子12a〜12dとの間のはんだの厚さは、10μm以上、400μm以下が好ましい。半導体素子12a〜12dと接続端子15,16の接合部15b,15c,16b,16cとの間のはんだ13a〜13dの厚さは、100μm以上、800μm以下が好ましい。また、導電パターン11bと接続端子15,16の接合部15b,15c,16b,16cを接合する場合は、はんだ厚さは、100μm以上、800μm以下が好ましい。はんだ厚さを上記の範囲に制御することは、導電性、放熱性及び応力緩和の面から好ましい。   In such a semiconductor device 10, the thickness of the solder between the conductive pattern 11 b and the semiconductor elements 12 a to 12 d is preferably 10 μm or more and 400 μm or less. The thickness of the solders 13a to 13d between the semiconductor elements 12a to 12d and the joint portions 15b, 15c, 16b, and 16c of the connection terminals 15 and 16 is preferably 100 μm or more and 800 μm or less. In addition, when the conductive pattern 11b and the joint portions 15b, 15c, 16b, and 16c of the connection terminals 15 and 16 are joined, the solder thickness is preferably 100 μm or more and 800 μm or less. Controlling the solder thickness within the above range is preferable in terms of conductivity, heat dissipation, and stress relaxation.

なお、半導体装置10の裏面(セラミック回路基板11の金属板11cの裏面)にはんだを介して、図示を省略する放熱板を設けることができる。放熱板は、熱伝導性に優れた、例えば、アルミニウム、鉄、銀、銅、または、少なくともこれらの一種から構成される合金、アルミニウムと炭化シリコンからなる複合材、マグネシウムと炭化シリコンとからなる複合材により構成されている。また、耐食性を向上させるために、例えば、アルミニウム、ニッケル、チタン、クロム、モリブデン、タンタル、ニオブ、タングステン、バナジウム、ビスマス、ジルコニウム、ハフニウム、金、銀、白金、パラジウム、または、少なくともこれらの一種を含む合金等により表面をめっき処理してもよい。   In addition, the heat sink which abbreviate | omits illustration can be provided in the back surface (back surface of the metal plate 11c of the ceramic circuit board 11) of the semiconductor device 10 via solder. The heat sink has excellent thermal conductivity, for example, aluminum, iron, silver, copper, or an alloy composed of at least one of these, a composite material composed of aluminum and silicon carbide, a composite material composed of magnesium and silicon carbide It is composed of materials. In order to improve corrosion resistance, for example, aluminum, nickel, titanium, chromium, molybdenum, tantalum, niobium, tungsten, vanadium, bismuth, zirconium, hafnium, gold, silver, platinum, palladium, or at least one of these The surface may be plated with an alloy or the like.

さらに、この放熱板の裏面側に冷却器(図示を省略)をはんだまたは銀ろう等を介して接合させ、または、サーマルペースト等を介して機械的に取り付けることで放熱性を向上させることも可能である。この場合の冷却器は、例えば、熱伝導性に優れたアルミニウム、鉄、銀、銅、または、少なくともこれらの一種から構成される合金等により構成されている。また、冷却器として、フィン、複数のフィンから構成されるヒートシンク、または、水冷による冷却装置等を適用することができる。また、放熱板は、このような冷却器と一体的に構成されてもよい。その場合は、熱伝導性に優れたアルミニウム、鉄、銀、銅、または、少なくともこれらの一種により構成される。そして、耐食性を向上させるために、例えば、アルミニウム、ニッケル、チタン、クロム、モリブデン、タンタル、ニオブ、タングステン、バナジウム、ビスマス、ジルコニウム、ハフニウム、金、銀、白金、パラジウム、または、少なくともこれらの一種を含む合金等により表面をめっき処理してもよい。また、セラミック回路基板11の裏面には、上記の放熱板に代わって、上記の冷却器を、はんだを介して接合してもよい。   Furthermore, it is possible to improve heat dissipation by joining a cooler (not shown) to the back side of this heat sink via solder or silver solder, or mechanically attaching it via thermal paste or the like. It is. The cooler in this case is made of, for example, aluminum, iron, silver, copper, or an alloy composed of at least one of them having excellent thermal conductivity. As the cooler, a fin, a heat sink composed of a plurality of fins, a cooling device using water cooling, or the like can be applied. Moreover, a heat sink may be comprised integrally with such a cooler. In that case, it is comprised with aluminum, iron, silver, copper excellent in thermal conductivity, or at least one of these. In order to improve the corrosion resistance, for example, aluminum, nickel, titanium, chromium, molybdenum, tantalum, niobium, tungsten, vanadium, bismuth, zirconium, hafnium, gold, silver, platinum, palladium, or at least one of these The surface may be plated with an alloy or the like. Moreover, you may join said cooler to the back surface of the ceramic circuit board 11 via solder instead of said heat sink.

さらに、上記の半導体装置10は、ケース(図示を省略)に収納される。このようなケースは、半導体装置10を収納する開口部を備える枠状を成している。ケースに収納された半導体装置10はその周囲が囲まれて、下部が放熱板により支持される。また、このようなケースには、例えば、半導体装置10の端子ブロック14a,14b,14cに電気的に接続する接続端子が一体形成されている。なお、このようなケースは、熱可塑性樹脂により構成されている。このような樹脂として、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)樹脂、ポリブチレンサクシネート(PBS)樹脂、ポリアミド(PA)樹脂、または、アクリロニトリルブタジエンスチレン(ABS)樹脂等がある。   Further, the semiconductor device 10 is housed in a case (not shown). Such a case has a frame shape having an opening for housing the semiconductor device 10. The semiconductor device 10 housed in the case is surrounded by the periphery, and the lower part is supported by the heat sink. In such a case, for example, connection terminals that are electrically connected to the terminal blocks 14a, 14b, and 14c of the semiconductor device 10 are integrally formed. Such a case is made of a thermoplastic resin. Examples of such a resin include polyphenylene sulfide (PPS), polybutylene terephthalate (PBT) resin, polybutylene succinate (PBS) resin, polyamide (PA) resin, and acrylonitrile butadiene styrene (ABS) resin.

そして、ケース内の半導体装置10は、封止樹脂によりケースの開口部内に封止される。このような封止樹脂は、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、マレイミド樹脂等の熱硬化性樹脂と熱硬化性樹脂に含有される充填材とで構成されている。また、封止部材は、ゲルにより構成されてもよい。   And the semiconductor device 10 in a case is sealed in the opening part of a case with sealing resin. Such a sealing resin is composed of, for example, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a phenol resin, and a maleimide resin and a filler contained in the thermosetting resin. Moreover, the sealing member may be comprised with the gel.

組み立て治具は、素子固定治具、ガイド治具及び保持治具を備えている。さらに、保持治具は、端子固定治具を伴って利用される。なお、このような組み立て治具は、はんだによる接合工程時の加熱温度に耐えうる材質により構成されている。このような材質は、例えば、カーボン、マシナブルセラミックス、耐熱化性が高いステンレス鋼材等である。   The assembly jig includes an element fixing jig, a guide jig, and a holding jig. Further, the holding jig is used with a terminal fixing jig. Note that such an assembly jig is made of a material that can withstand the heating temperature during the soldering process. Such materials are, for example, carbon, machinable ceramics, stainless steel materials with high heat resistance, and the like.

まず、保持治具50並びに保持治具50と共に利用される端子固定治具40について説明する。先に、端子固定治具40について、図4を用いて説明する。図4は、第1の実施の形態の半導体装置の製造で利用される組み立て治具を構成する保持治具の端子固定治具を説明するための図である。なお、図4(A)は、端子固定治具40のおもて面側の斜視図、図4(B)は、端子固定治具40の背面側の斜視図をそれぞれ表している。   First, the holding jig 50 and the terminal fixing jig 40 used together with the holding jig 50 will be described. First, the terminal fixing jig 40 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a view for explaining a terminal fixing jig of a holding jig that constitutes an assembly jig used in the manufacture of the semiconductor device of the first embodiment. 4A is a perspective view of the front surface side of the terminal fixing jig 40, and FIG. 4B is a rear view of the terminal fixing jig 40.

端子固定治具40は、セラミック回路基板11のおもて面に対して、平行な垂直挟持板42,44と、同様に垂直な水平挟持板41,43とを有している。端子固定治具40は、例えば、垂直挟持板42,44と、垂直挟持板42,44の接続箇所からセラミック回路基板11に向かって延びる水平挟持板43と、セラミック回路基板11から離れる方向に延びる水平挟持板41とを有している。この場合、端子固定治具40は、断面十字形状が構成されている。また、端子固定治具40は、例えば、垂直挟持板42,44と、垂直挟持板42,44とを合わせた板状部の略中央からセラミック回路基板11に向かって延びる水平挟持板43とを有している。この場合、断面T字形状が構成されている。さらに、端子固定治具40は、例えば、垂直挟持板42と、垂直挟持板42の端部に接続され、垂直挟持板42からセラミック回路基板11に向かって伸びている水平挟持板43とを有し、断面L字形状が構成されていてもよい。また、垂直挟持板42,44のおもて面の略中央部には、例えば、円柱状の突起部42a1,44a1が形成されている。垂直挟持板42,44のおもて面の水平挟持板41に接して、凸部42a2,42a3,44a2,44a3が形成されている。また、垂直挟持板42,44の裏面の略中央部にも、例えば、円柱状の突起部42b1,44b1が形成されている。垂直挟持板42,44の裏面の水平挟持板43に接して、凸部42b2,42b3,44b2,44b3が形成されている。   The terminal fixing jig 40 has vertical clamping plates 42 and 44 parallel to the front surface of the ceramic circuit board 11 and horizontal clamping plates 41 and 43 which are also perpendicular to the ceramic circuit board 11. The terminal fixing jig 40 is, for example, a vertical clamping plate 42, 44, a horizontal clamping plate 43 extending toward the ceramic circuit board 11 from a connection location of the vertical clamping plates 42, 44, and a direction away from the ceramic circuit board 11. A horizontal clamping plate 41. In this case, the terminal fixing jig 40 has a cross-shaped cross section. In addition, the terminal fixing jig 40 includes, for example, a vertical clamping plate 42, 44 and a horizontal clamping plate 43 extending from the approximate center of the plate-like portion including the vertical clamping plates 42, 44 toward the ceramic circuit board 11. Have. In this case, a T-shaped cross section is configured. Furthermore, the terminal fixing jig 40 has, for example, a vertical clamping plate 42 and a horizontal clamping plate 43 that is connected to the end of the vertical clamping plate 42 and extends from the vertical clamping plate 42 toward the ceramic circuit board 11. And the cross-sectional L-shape may be comprised. In addition, for example, columnar protrusions 42a1 and 44a1 are formed at substantially central portions of the front surfaces of the vertical clamping plates 42 and 44, respectively. Convex portions 42a2, 42a3, 44a2, and 44a3 are formed in contact with the horizontal clamping plate 41 on the front surface of the vertical clamping plates 42 and 44. Further, for example, cylindrical protrusions 42b1 and 44b1 are also formed at substantially the center of the back surface of the vertical clamping plates 42 and 44, for example. Convex portions 42b2, 42b3, 44b2, and 44b3 are formed in contact with the horizontal clamping plate 43 on the back surface of the vertical clamping plates 42 and 44.

次いで、保持治具50について、図5を用いて説明する。図5は、第1の実施の形態の半導体装置の製造で利用される組み立て治具を構成する保持治具を説明するための図である。なお、図5(A)は、保持治具50の平面図、図5(B)は、保持治具50の裏面51a7,51b7側の斜視図をそれぞれ表している。   Next, the holding jig 50 will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a view for explaining a holding jig constituting an assembly jig used in manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment. 5A is a plan view of the holding jig 50, and FIG. 5B is a perspective view of the holding jig 50 on the back surfaces 51a7 and 51b7 side.

保持治具50は、被支持板51aと、被支持板51aの裏面51a7に一体的に形成された垂直保持部52aと垂直保持部52aに垂直な面を有する水平保持部53aとを有している。さらに、保持治具50は、被支持板51bと、被支持板51bの裏面51b7に一体的に形成された垂直保持部52bと垂直保持部52bに垂直な面を有する水平保持部53bとを有している。   The holding jig 50 includes a supported plate 51a, a vertical holding portion 52a formed integrally with the back surface 51a7 of the supported plate 51a, and a horizontal holding portion 53a having a surface perpendicular to the vertical holding portion 52a. Yes. Further, the holding jig 50 includes a supported plate 51b, a vertical holding portion 52b integrally formed on the back surface 51b7 of the supported plate 51b, and a horizontal holding portion 53b having a surface perpendicular to the vertical holding portion 52b. is doing.

被支持板51a,51bの裏面51a7,51b7は、セラミック回路基板11のおもて面に対して、平行である。また、被支持板51a,51bは対向する側にスリット部51a1,51b1並びに係合部51a2,51a3,51b2,51b3が形成されている。   The back surfaces 51a7 and 51b7 of the supported plates 51a and 51b are parallel to the front surface of the ceramic circuit board 11. Further, the supported plates 51a and 51b are formed with slit portions 51a1 and 51b1 and engaging portions 51a2, 51a3, 51b2 and 51b3 on opposite sides.

垂直保持部52a,52b及び水平保持部53a,53bは、並列する被支持板51a,51bの裏面51a7,51b7にそれぞれ対向するように形成されている。水平保持部53a,53bは、例えば、被支持板51a,51bの裏面51a7,51b7に対して垂直な主面を有し、垂直保持部52a,52bは、例えば、被支持板51a,51bの裏面51a7,51b7に対して平行な主面を有する。垂直保持部52a,52b及び水平保持部53a,53bは、断面がL字形の面を備えている。なお、被支持板51a,51bの裏面51a7,51b7に対して平行な主面は、セラミック回路基板11のおもて面に対して、平行である。垂直保持部52a,52b及び水平保持部53a,53bは、被支持板51a,51bの裏面51a7,51b7との間で断面に直線の3辺を有するU字形の面を有する断面U字部52a1,52b1がそれぞれ構成されている。   The vertical holding portions 52a and 52b and the horizontal holding portions 53a and 53b are formed so as to face the rear surfaces 51a7 and 51b7 of the parallel supported plates 51a and 51b, respectively. The horizontal holding portions 53a and 53b have, for example, main surfaces perpendicular to the back surfaces 51a7 and 51b7 of the supported plates 51a and 51b, and the vertical holding portions 52a and 52b are, for example, the back surfaces of the supported plates 51a and 51b. The main surface is parallel to 51a7 and 51b7. The vertical holding portions 52a and 52b and the horizontal holding portions 53a and 53b have a L-shaped cross section. The main surface parallel to the back surfaces 51a7 and 51b7 of the supported plates 51a and 51b is parallel to the front surface of the ceramic circuit board 11. The vertical holding parts 52a and 52b and the horizontal holding parts 53a and 53b are U-shaped sections 52a1 having a U-shaped surface having three straight sides in cross section with the back surfaces 51a7 and 51b7 of the supported plates 51a and 51b. 52b1 is configured.

ここで、保持治具50と端子固定治具40の関係について、図6及び図7を用いて説明する。図6及び図7は、第1の実施の形態の半導体装置の製造方法で利用される組み立て治具を構成する保持治具及び端子固定治具の接続端子に対する取り付けを説明するための図である。なお、図6(A)は、取り付け後の平面図、図6(B)は、図6(A)における一点鎖線X―Xの断面図を表している。図7は、図6に関する裏面側の斜視図を表している。   Here, the relationship between the holding jig 50 and the terminal fixing jig 40 will be described with reference to FIGS. 6 and 7. 6 and 7 are views for explaining attachment of the holding jig and the terminal fixing jig constituting the assembly jig used in the manufacturing method of the semiconductor device of the first embodiment to the connection terminals. . 6A is a plan view after attachment, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along one-dot chain line XX in FIG. 6A. FIG. 7 shows a perspective view of the back side with respect to FIG.

保持治具50の断面U字部52a1には、配線板15a及び垂直挟持板42が合わせて配置される。同様にして、保持治具50の断面U字部52b1には、配線板16a及び垂直挟持板44が合わせて配置される(図6(B))。こうして、接続端子15の配線板15a,16aは、保持治具50の垂直保持部52a,52bの水平面(セラミック回路基板11のおもて面と平行な面)と、端子固定治具40の垂直挟持板42とで垂直方向(セラミック回路基板11のおもて面と垂直な方向)に挟まれる。そうすることで、接続端子15の配線板15a(ひいては、接合部15c)をセラミック回路基板11のおもて面と平行に保持することができる。ここで、断面U字部52a1,52b1に、配線板15a,16a及び垂直挟持板42,44が合わせて嵌合されてもよい。また、垂直挟持板42,44と被支持板51a,51bとの間に空隙があってもよい。空隙があっても、端子固定治具40の荷重により、押さえ付けることができるからである。なお、ここでは、2つの接続端子15,16を設置する例を示した。しかしながら、2つだけでなく、1つであっても構わない。その場合も、同様の効果が得られる。   The wiring board 15 a and the vertical clamping plate 42 are arranged together in the U-shaped section 52 a 1 of the holding jig 50. Similarly, the wiring board 16a and the vertical clamping plate 44 are arranged together in the U-shaped section 52b1 of the holding jig 50 (FIG. 6B). In this way, the wiring boards 15 a and 16 a of the connection terminal 15 are connected to the horizontal plane of the vertical holding portions 52 a and 52 b of the holding jig 50 (a plane parallel to the front surface of the ceramic circuit board 11) and the vertical of the terminal fixing jig 40. It is sandwiched in the vertical direction (direction perpendicular to the front surface of the ceramic circuit board 11) by the sandwiching plate 42. By doing so, it is possible to hold the wiring board 15 a (and hence the joint 15 c) of the connection terminal 15 in parallel with the front surface of the ceramic circuit board 11. Here, the wiring boards 15a, 16a and the vertical clamping plates 42, 44 may be fitted together in the U-shaped sections 52a1, 52b1. There may also be a gap between the vertical clamping plates 42 and 44 and the supported plates 51a and 51b. This is because even if there is a gap, it can be pressed by the load of the terminal fixing jig 40. Here, an example in which two connection terminals 15 and 16 are installed is shown. However, there may be only one instead of two. In that case, the same effect can be obtained.

また、保持治具50の断面U字部52a1には、水平挟持板43により配線板15aの連結部15eを押さえることで、配線板15aを断面U字部52a1の奥側に押し込み、断面U字部52a1の垂直面(セラミック回路基板11のおもて面と垂直な面)に配線板15aの端面を突き当てて配置される。同様にして、保持治具50の断面U字部52b1には、水平挟持板43により配線板16aの連結部16eを押さえることで、配線板16aを断面U字部52b1の奥側に押し込み、断面U字部52b1の垂直面(セラミック回路基板11のおもて面と垂直な面)に配線板16aの端面を突き当てて配置される。こうして、接続端子15,16の配線板15a,16aと連結部15e,16eは、保持治具50の水平保持部53a,53bの垂直面(セラミック回路基板11のおもて面と垂直な面)と端子固定治具40の水平挟持板43とで水平方向(セラミック回路基板11のおもて面と平行な面)に挟まれる。そうすることで、接続端子15の配線板15a(ひいては、接合部15c)をセラミック回路基板11のおもて面の所定の水平位置に正確に合わせることができる。なお、ここでは、2つの接続端子15,16を設置する例を示した。しかしながら、2つだけでなく、1つであっても構わない。その場合も、同様の効果が得られる。   In addition, by pressing the connecting portion 15e of the wiring board 15a with the horizontal clamping plate 43 into the U-shaped section 52a1 of the holding jig 50, the wiring board 15a is pushed into the back side of the U-shaped section 52a1 and the U-shaped section is formed. The end surface of the wiring board 15a is disposed in contact with the vertical surface of the portion 52a1 (surface perpendicular to the front surface of the ceramic circuit board 11). Similarly, by pressing the connecting portion 16e of the wiring board 16a with the horizontal clamping plate 43 into the U-shaped section 52b1 of the holding jig 50, the wiring board 16a is pushed into the rear side of the U-shaped section 52b1, and the cross section The end surface of the wiring board 16a is disposed so as to abut on the vertical surface of the U-shaped portion 52b1 (surface perpendicular to the front surface of the ceramic circuit board 11). Thus, the wiring boards 15a and 16a of the connection terminals 15 and 16 and the connecting portions 15e and 16e are vertical surfaces of the horizontal holding portions 53a and 53b of the holding jig 50 (surfaces perpendicular to the front surface of the ceramic circuit board 11). And the horizontal clamping plate 43 of the terminal fixing jig 40 are sandwiched in the horizontal direction (a surface parallel to the front surface of the ceramic circuit board 11). By doing so, the wiring board 15a (and hence the joint 15c) of the connection terminal 15 can be accurately aligned with a predetermined horizontal position on the front surface of the ceramic circuit board 11. Here, an example in which two connection terminals 15 and 16 are installed is shown. However, there may be only one instead of two. In that case, the same effect can be obtained.

次に、ガイド治具30について、図8を用いて説明する。図8は、第1の実施の形態の半導体装置の製造で利用される組み立て治具を構成するガイド治具を説明するための図である。なお、図8(A)は、ガイド治具30のおもて面、図8(B)は、ガイド治具30の裏面の斜視図をそれぞれ表している。   Next, the guide jig 30 will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a view for explaining a guide jig constituting the assembly jig used in the manufacture of the semiconductor device of the first embodiment. 8A shows a front view of the guide jig 30, and FIG. 8B shows a perspective view of the back surface of the guide jig 30.

ガイド治具30は、平板状の支持部材31と端子ガイド部33a,33b,33c,33dとを備えている。このようなガイド治具30は、後述する素子固定治具20の開口部22に端子ガイド部33a,33b,33c,33dが入り込み、支持部材31の裏面が支持部材21の開口部22の外周縁部に支持されて、素子固定治具20上に配置される。支持部材31は、そのおもて面に開口された開口部32が形成されている。開口部32は、ガイド治具30が素子固定治具20上に配置された際に、半導体素子12a〜12dの電極上に接続端子16,15の接合部16b,16c,15b,15cが配置される配置領域32a〜32dと、接続端子16,15の接続部16d,15dが(端子ブロック14b,14a上に)配置される配置領域32e,32fとを含んでいる。   The guide jig 30 includes a flat support member 31 and terminal guide portions 33a, 33b, 33c, and 33d. In such a guide jig 30, terminal guide parts 33 a, 33 b, 33 c, and 33 d enter the opening 22 of the element fixing jig 20 described later, and the back surface of the support member 31 is the outer peripheral edge of the opening 22 of the support member 21. It is supported on the element and placed on the element fixing jig 20. The support member 31 has an opening 32 that is open on the front surface. When the guide jig 30 is arranged on the element fixing jig 20, the openings 32 are provided with the joint portions 16 b, 16 c, 15 b, 15 c of the connection terminals 16, 15 on the electrodes of the semiconductor elements 12 a to 12 d. Arrangement areas 32a to 32d and arrangement areas 32e and 32f in which the connection portions 16d and 15d of the connection terminals 16 and 15 are arranged (on the terminal blocks 14b and 14a).

端子ガイド部33aは、接続端子16の接合部16cが接合される接合領域の周縁部の少なくとも一部に沿って取り囲む。例えば、端子ガイド部33aは、ガイド治具30が素子固定治具20上に配置された際に、半導体素子12bの主電極の外周(配置領域32aの側部)上に配置されるように、支持部材31の開口部32に垂下部33a1,33a2を介して形成されている。同様に、端子ガイド部33b,33c,33dは、半導体素子12a,12d,12cの主電極の外周(配置領域32b,32c,32dの側部)上に配置されるように、支持部材31の開口部32に垂下部33b1,33b2,33c1,33c2,33d1,33d2を介して形成されている。なお、垂下部33a1,33a2,33b1,33b2,33c1,33c2,33d1,33d2の高さは、同一であって、接続端子15,16の高さに応じて設定される。また、端子ガイド部33a,33b,33c,33d及び垂下部33a1,33a2,33b1,33b2,33c1,33c2,33d1,33d2により開口部34a,34b,34c,34dが構成されている。   The terminal guide portion 33a surrounds at least a part of the peripheral portion of the joint region where the joint portion 16c of the connection terminal 16 is joined. For example, the terminal guide portion 33a is arranged on the outer periphery (side portion of the arrangement region 32a) of the main electrode of the semiconductor element 12b when the guide jig 30 is arranged on the element fixing jig 20. It is formed in the opening 32 of the support member 31 via hanging parts 33a1 and 33a2. Similarly, the terminal guide portions 33b, 33c, and 33d are formed in the opening of the support member 31 so as to be disposed on the outer periphery of the main electrode of the semiconductor elements 12a, 12d, and 12c (side portions of the placement regions 32b, 32c, and 32d). The part 32 is formed through hanging parts 33b1, 33b2, 33c1, 33c2, 33d1, and 33d2. The hanging portions 33a1, 33a2, 33b1, 33b2, 33c1, 33c2, 33d1, and 33d2 have the same height and are set according to the heights of the connection terminals 15 and 16. The terminal guide portions 33a, 33b, 33c, 33d and the hanging portions 33a1, 33a2, 33b1, 33b2, 33c1, 33c2, 33d1, 33d2 constitute openings 34a, 34b, 34c, 34d.

次に、素子固定治具20について、図9を用いて説明する。図9は、第1の実施の形態の半導体装置の製造で利用される組み立て治具を構成する素子固定治具を説明するための図である。なお、図9(A)は、素子固定治具20のおもて面、図9(B)は、素子固定治具20の裏面をそれぞれ表している。   Next, the element fixing jig 20 will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a diagram for explaining an element fixing jig constituting an assembly jig used in manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment. 9A shows the front surface of the element fixing jig 20, and FIG. 9B shows the back surface of the element fixing jig 20.

素子固定治具20は、セラミック回路基板11上に配置される。このような素子固定治具20は、平板状の支持部材21を備えている。支持部材21は、そのおもて面に開口された開口部22,23が形成されている。開口部22は、素子固定治具20がセラミック回路基板11上に配置された際に、半導体素子12a〜12dが配置される配置領域22a〜22dと、端子ブロック14b,14aが配置される配置領域22e,22fとを含んでいる。開口部23は、素子固定治具20がセラミック回路基板11上に配置された際に、端子ブロック14cが配置される。   The element fixing jig 20 is disposed on the ceramic circuit board 11. Such an element fixing jig 20 includes a flat support member 21. The support member 21 has openings 22 and 23 that are open on the front surface. When the element fixing jig 20 is arranged on the ceramic circuit board 11, the opening 22 has arrangement areas 22a to 22d in which the semiconductor elements 12a to 12d are arranged and arrangement areas in which the terminal blocks 14b and 14a are arranged. 22e and 22f. The opening 23 is provided with the terminal block 14 c when the element fixing jig 20 is arranged on the ceramic circuit board 11.

次に、このような素子固定治具20、ガイド治具30及び保持治具50を含む組み立て治具を用いた半導体装置10の製造方法について、図6及び図7並びに図10〜図13を用いて説明する。   Next, a manufacturing method of the semiconductor device 10 using such an assembly jig including the element fixing jig 20, the guide jig 30, and the holding jig 50 will be described with reference to FIGS. 6 and 7 and FIGS. I will explain.

図10〜図13は、第1の実施の形態の半導体装置の製造方法を説明するための図である。なお、図10(A)、図10(B)、図11(A)、図11(B)、図12、図13は、組み立て治具を用いた半導体装置10の製造方法を時系列的に表している。また、図12(A)は、組み立て治具により組み立てられた半導体装置10の平面図を、図12(B)は、図12(A)における一点鎖線X−Xの断面図をそれぞれ表している。   10 to 13 are views for explaining the method of manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment. 10A, FIG. 10B, FIG. 11A, FIG. 11B, FIG. 12 and FIG. 13 show the method of manufacturing the semiconductor device 10 using an assembly jig in time series. Represents. 12A is a plan view of the semiconductor device 10 assembled by the assembly jig, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along one-dot chain line XX in FIG. .

半導体装置10を製造するにあたり、事前に、セラミック回路基板11、半導体素子12a〜12d、端子ブロック14a,14b,14c、接続端子15,16、はんだ板(図示を省略)及び組み立て治具等を用意しておく。   Before manufacturing the semiconductor device 10, a ceramic circuit board 11, semiconductor elements 12a to 12d, terminal blocks 14a, 14b and 14c, connection terminals 15 and 16, a solder plate (not shown), an assembly jig, and the like are prepared in advance. Keep it.

まず、図10(A)に示すように、セラミック回路基板11を所定のカーボントレイ80の配置領域81にセットする。セラミック回路基板11は、導電パターン11b1,11b2,11b3を上面にして、金属板11cをカーボントレイ80の配置領域81と接するように下面にして、配置する。これによりセラミック回路基板11がカーボントレイ80に固定されて、以降の製造工程において、セラミック回路基板11の位置ずれが防止される。   First, as shown in FIG. 10A, the ceramic circuit board 11 is set in the arrangement area 81 of the predetermined carbon tray 80. The ceramic circuit board 11 is disposed with the conductive patterns 11 b 1, 11 b 2, and 11 b 3 on the upper surface and the metal plate 11 c on the lower surface so as to contact the arrangement region 81 of the carbon tray 80. As a result, the ceramic circuit board 11 is fixed to the carbon tray 80, and the positional displacement of the ceramic circuit board 11 is prevented in the subsequent manufacturing process.

次に、図10(B)に示すように、セラミック回路基板11上に素子固定治具20をセットする。これにより、セラミック回路基板11に対して、導電パターン11b1に開口部22の配置領域22a,22bが対応しており、導電パターン11b3に開口部22の配置領域22c,22dが対応している。導電パターン11b3に開口部23が対応している。また、導電パターン11b2に開口部22の配置領域22eが対応し、導電パターン11b1に開口部22の配置領域22fが対応している。   Next, as shown in FIG. 10B, the element fixing jig 20 is set on the ceramic circuit board 11. Thereby, the arrangement areas 22a and 22b of the opening 22 correspond to the conductive pattern 11b1 and the arrangement areas 22c and 22d of the opening 22 correspond to the conductive pattern 11b3 with respect to the ceramic circuit board 11. The opening 23 corresponds to the conductive pattern 11b3. Further, the arrangement region 22e of the opening 22 corresponds to the conductive pattern 11b2, and the arrangement region 22f of the opening 22 corresponds to the conductive pattern 11b1.

次に、図11(A)に示すように、導電パターン11b1の開口部22の配置領域22a,22bに板はんだ(図示を省略)を介して、半導体素子12b,12aをセットする。導電パターン11b2の開口部22の配置領域22c,22dに板はんだ(図示を省略)を介して、半導体素子12d,12cをセットする。また、導電パターン11b1の開口部22の配置領域22f,22eに板はんだ(図示を省略)を介して、端子ブロック14a,14bをセットする。導電パターン11b3の開口部23に板はんだ(図示を省略)を介して、端子ブロック14cをセットする。   Next, as shown in FIG. 11A, the semiconductor elements 12b and 12a are set in the arrangement regions 22a and 22b of the opening 22 of the conductive pattern 11b1 via plate solder (not shown). The semiconductor elements 12d and 12c are set in the arrangement regions 22c and 22d of the opening 22 of the conductive pattern 11b2 via plate solder (not shown). Further, the terminal blocks 14a and 14b are set on the arrangement regions 22f and 22e of the opening 22 of the conductive pattern 11b1 via plate solder (not shown). The terminal block 14c is set in the opening 23 of the conductive pattern 11b3 via sheet solder (not shown).

次に、図11(B)に示すように、素子固定治具20上に、ガイド治具30をセットする。この際、素子固定治具20の開口部22に、ガイド治具30の支持部材31の開口部32に垂下部33a1,33a2,33b1,33b2,33c1,33c2,33d1,33d2を介して形成されている端子ガイド部33a,33b,33c,33dを嵌合させる。これにより、端子ガイド部33a,33b,33c,33dは、半導体素子12b,12a,12d,12cの電極に対応する配置領域32a,32b,32c,32dに隣接して当接する。   Next, as shown in FIG. 11B, a guide jig 30 is set on the element fixing jig 20. At this time, it is formed in the opening 22 of the element fixing jig 20 in the opening 32 of the support member 31 of the guide jig 30 via the hanging parts 33a1, 33a2, 33b1, 33b2, 33c1, 33c2, 33d1, 33d2. The terminal guide portions 33a, 33b, 33c, and 33d are fitted. As a result, the terminal guide portions 33a, 33b, 33c, and 33d abut adjacent to the arrangement regions 32a, 32b, 32c, and 32d corresponding to the electrodes of the semiconductor elements 12b, 12a, 12d, and 12c.

ここで、保持治具50に対する接続端子15,16のセットについて、図6及び図7を用いて説明する。まず、保持治具50の垂直保持部52aと水平保持部53aとで形成される断面U字部52a1に、接続端子15の配線板15aを配置する。同様に、保持治具50の垂直保持部52bと水平保持部53bとで形成される断面U字部52b1に、接続端子16の配線板16aを配置する。次に、連結部15e,16eを対向させて、その間隔に端子固定治具40の水平挟持板43を挟み込み連結部15e,16eにより挟持する。この際、端子固定治具40の垂直挟持板42は、断面U字部52a1の中において接続端子15の配線板15a上に配置され、垂直挟持板44は、断面U字部52b1の中において接続端子16の配線板16a上に配置される。   Here, the setting of the connection terminals 15 and 16 with respect to the holding jig 50 will be described with reference to FIGS. 6 and 7. First, the wiring board 15a of the connection terminal 15 is disposed in the U-shaped section 52a1 formed by the vertical holding portion 52a and the horizontal holding portion 53a of the holding jig 50. Similarly, the wiring board 16a of the connection terminal 16 is disposed in the U-shaped section 52b1 formed by the vertical holding portion 52b and the horizontal holding portion 53b of the holding jig 50. Next, the connecting portions 15e and 16e are made to face each other, and the horizontal holding plate 43 of the terminal fixing jig 40 is sandwiched between the connecting portions 15e and 16e so as to be held by the connecting portions 15e and 16e. At this time, the vertical clamping plate 42 of the terminal fixing jig 40 is disposed on the wiring board 15a of the connection terminal 15 in the U-shaped section 52a1, and the vertical clamping plate 44 is connected in the U-shaped section 52b1. The terminal 16 is disposed on the wiring board 16a.

この際、図6(A)に示すように、被支持板51aのスリット部51a1及び係合部51a2,51a3に、端子固定治具40の突起部42a1が嵌合するとともに、凸部42a2,42a3がそれぞれ係合する。同様に、被支持板51bのスリット部51b1及び係合部51b2,51b3に、端子固定治具40の突起部44a1が嵌合するとともに、凸部44a2,44a3がそれぞれ係合する。このようにして、図6及び図7に示されるように、保持治具50に端子固定治具40を用いて接続端子15,16が保持される。   At this time, as shown in FIG. 6A, the protruding portion 42a1 of the terminal fixing jig 40 is fitted to the slit portion 51a1 and the engaging portions 51a2 and 51a3 of the supported plate 51a, and the convex portions 42a2 and 42a3. Engage each other. Similarly, the protrusion 44a1 of the terminal fixing jig 40 is fitted to the slit 51b1 and the engagement portions 51b2 and 51b3 of the supported plate 51b, and the protrusions 44a2 and 44a3 are engaged. In this manner, as shown in FIGS. 6 and 7, the connection terminals 15 and 16 are held by the holding jig 50 using the terminal fixing jig 40.

次に、図11(B)に示したガイド治具30の開口部32の配置領域32a,32b,32c,32d,32e,32fに板はんだをセットする。そして、このようなガイド治具30の開口部32に、保持治具50が端子固定治具40と共に取り付けられた接続端子15,16を嵌め込む。   Next, plate solder is set in the arrangement regions 32a, 32b, 32c, 32d, 32e, and 32f of the opening 32 of the guide jig 30 shown in FIG. Then, the connection terminals 15 and 16 to which the holding jig 50 is attached together with the terminal fixing jig 40 are fitted into the opening 32 of the guide jig 30.

すると、図12に一部示されるように、接続端子15の接合部15b,15cが半導体素子12d,12cに配置される。また、接続端子15の接続部15dが端子ブロック14aに配置される。同様に、接続端子16の接合部16b,16cが半導体素子12b,12aに配置される。また、接続端子16の接続部16dが端子ブロック14bに配置される。   Then, as shown in part in FIG. 12, the joint portions 15b and 15c of the connection terminal 15 are arranged in the semiconductor elements 12d and 12c. Further, the connection portion 15d of the connection terminal 15 is arranged in the terminal block 14a. Similarly, the joint portions 16b and 16c of the connection terminal 16 are disposed in the semiconductor elements 12b and 12a. Further, the connection portion 16d of the connection terminal 16 is arranged in the terminal block 14b.

例えば、この際、接続端子15,16の接合部15c,16cは、ガイド治具30の端子ガイド部33d,33b、または、保持治具50の垂直保持部52a,52b、水平保持部53a,53bに位置合わせされて、半導体素子12c,12aの主電極上に板はんだ13c1,13a1と共に確実に当接される。   For example, at this time, the joint portions 15c and 16c of the connection terminals 15 and 16 are the terminal guide portions 33d and 33b of the guide jig 30, or the vertical holding portions 52a and 52b and the horizontal holding portions 53a and 53b of the holding jig 50, respectively. And are reliably brought into contact with the main electrodes of the semiconductor elements 12c and 12a together with the sheet solders 13c1 and 13a1.

また、保持治具50の被支持板51a,51bの裏面51a7,51b7は、ガイド治具30の支持部材31の開口部32により支持されている。このため、接続端子15,16の接合部15c,16cの半導体素子12c,12aに対する高さが維持される。   Further, the back surfaces 51 a 7 and 51 b 7 of the supported plates 51 a and 51 b of the holding jig 50 are supported by the openings 32 of the support member 31 of the guide jig 30. For this reason, the height of the joint portions 15c, 16c of the connection terminals 15, 16 with respect to the semiconductor elements 12c, 12a is maintained.

なお、ここでは、図示を省略しているものの、接続端子15,16の接合部15b,16bについても同様にガイド治具30の端子ガイド部33c,33aにより半導体素子12d,12bに対して適切に位置合わせされて、半導体素子12d,12bに対する高さが維持される。   In addition, although illustration is abbreviate | omitted here, it is suitable with respect to the semiconductor elements 12d and 12b similarly by the terminal guide parts 33c and 33a of the guide jig 30 also about the junction parts 15b and 16b of the connection terminals 15 and 16. The height of the semiconductor elements 12d and 12b is maintained by the alignment.

次に、図13に示すように、このような組み立て治具60の保持治具50の被支持板51a,51b上の中心に重し70を配置する。この状態で、加熱して板はんだを溶融させ、溶融したはんだを固化させる。これにより、接続端子15,16の接合部15b,15c,16b,16cは、半導体素子12d,12c,12b,12aにはんだ13d,13c,13b,13aにより固着される。また、接続端子15,16の接続部15d,16dは、端子ブロック14a,14bに固着される。   Next, as shown in FIG. 13, a weight 70 is arranged at the center of the holding jig 50 of the assembly jig 60 on the supported plates 51 a and 51 b. In this state, the sheet solder is melted by heating, and the melted solder is solidified. Accordingly, the joint portions 15b, 15c, 16b, and 16c of the connection terminals 15 and 16 are fixed to the semiconductor elements 12d, 12c, 12b, and 12a by the solders 13d, 13c, 13b, and 13a. Further, the connection portions 15d and 16d of the connection terminals 15 and 16 are fixed to the terminal blocks 14a and 14b.

重し70を取り外し、保持治具50(並びに端子固定治具40)、ガイド治具30及び素子固定治具20を除去すると、図1及び図2に示した半導体装置10が製造され、半導体装置10をカーボントレイ80から取り出す。   When the weight 70 is removed and the holding jig 50 (and the terminal fixing jig 40), the guide jig 30, and the element fixing jig 20 are removed, the semiconductor device 10 shown in FIGS. 10 is removed from the carbon tray 80.

以上により、図1及び図2に示した半導体装置10を製造することができる。なお、この後、このようにして製造された半導体装置10をケースの開口部に収納し、半導体装置10の裏面に放熱板を取り付け、ケースに一体成形された外部接続端子と半導体装置10の端子ブロック14a,14b,14cとを電気的に接続する。開口部を封止樹脂で封止することで、半導体モジュールが構成される。   As described above, the semiconductor device 10 shown in FIGS. 1 and 2 can be manufactured. After that, the semiconductor device 10 manufactured in this way is housed in the opening of the case, a heat sink is attached to the back surface of the semiconductor device 10, and the external connection terminal integrally formed with the case and the terminal of the semiconductor device 10 The blocks 14a, 14b, and 14c are electrically connected. A semiconductor module is configured by sealing the opening with a sealing resin.

上記の組み立て治具60は、半導体素子12a〜12dが導電パターン11b1〜11b3に配置されたセラミック回路基板11と、半導体素子12a〜12dまたは導電パターン11b1〜11b3に接合される接合部15c,15b,16c,16bと接合部15c,15b,16c,16bに接続された連結部15e,16eと連結部15e,16eに接続されて接合部15c,15b,16c,16bから間隔をあけて設けられた配線板15a,16aを有する接続端子15,16と、を備えている。このような組み立て治具60は、配線板15a,16aの裏面に配置され、配線板15a,16aを裏面から支える垂直保持部52a,52bを有する保持治具50と、配線板15a,16aのおもて面に配置され、垂直保持部52a,52bと配線板15a,16aを挟持する垂直挟持板42,44を有する端子固定治具40を有する。   The assembly jig 60 includes the ceramic circuit board 11 in which the semiconductor elements 12a to 12d are arranged in the conductive patterns 11b1 to 11b3, and the joint portions 15c and 15b that are joined to the semiconductor elements 12a to 12d or the conductive patterns 11b1 to 11b3. 16c, 16b and connecting portions 15e, 16e connected to the connecting portions 15c, 15b, 16c, 16b and wiring connected to the connecting portions 15e, 16e and spaced from the connecting portions 15c, 15b, 16c, 16b And connection terminals 15 and 16 having plates 15a and 16a. Such an assembly jig 60 is arranged on the back surfaces of the wiring boards 15a and 16a, and the holding jig 50 having the vertical holding portions 52a and 52b for supporting the wiring boards 15a and 16a from the back surface and the wiring boards 15a and 16a. The terminal fixing jig 40 is provided on the front surface and has vertical holding plates 42 and 44 for holding the vertical holding portions 52a and 52b and the wiring boards 15a and 16a.

すなわち、保持治具50の被支持板51b,51aの裏面51b7,51a7に形成された垂直保持部52b,52aに保持された接続端子16,15の接合部16c,16b,15c,15bの半導体素子12a〜12dに対する高さが維持される。   That is, the semiconductor elements of the joint portions 16c, 16b, 15c, 15b of the connection terminals 16, 15 held by the vertical holding portions 52b, 52a formed on the back surfaces 51b7, 51a7 of the supported plates 51b, 51a of the holding jig 50. The height with respect to 12a-12d is maintained.

また、上記の組み立て治具60は、セラミック回路基板11に対して、半導体素子12a〜12dの電極に隣接して配置される端子ガイド部33c,33d,33a,33bと、おもて面と対向して、端子ガイド部33c,33d,33a,33bから所定の間隔をあけて設けられた開口部32が形成された支持部材31とを有するガイド治具30をさらに備えている。この際、保持治具50は、ガイド治具30上に配置され、支持部材31により被支持板51b,51aの裏面が支持されて、接合部16c,16b,15c,15bを端子ガイド部33c,33d,33a,33bで電極にそれぞれ位置合わせされる。   The assembly jig 60 is opposed to the ceramic circuit board 11 and terminal guide portions 33c, 33d, 33a, 33b disposed adjacent to the electrodes of the semiconductor elements 12a to 12d and the front surface. The guide jig 30 further includes a support member 31 having an opening 32 provided at a predetermined interval from the terminal guide portions 33c, 33d, 33a, and 33b. At this time, the holding jig 50 is disposed on the guide jig 30, and the back surfaces of the supported plates 51b and 51a are supported by the support member 31, and the joint portions 16c, 16b, 15c, and 15b are connected to the terminal guide portion 33c, 33d, 33a and 33b are respectively aligned with the electrodes.

すなわち、組み立て治具60では、ガイド治具30の端子ガイド部33a,33b,33c,33dにより、接続端子16,15の接合部16c,16b,15c,15bが半導体素子12a〜12dの主電極に位置合わせされて確実に配置される。   That is, in the assembly jig 60, the joint portions 16c, 16b, 15c, and 15b of the connection terminals 16 and 15 become the main electrodes of the semiconductor elements 12a to 12d by the terminal guide portions 33a, 33b, 33c, and 33d of the guide jig 30. Aligned and securely placed.

このため接続端子16,15を半導体素子12a〜12dに対して適切に位置合わせしつつ、高さを維持して固着させることができるようになり、また、はんだ13a〜13dの厚さを均一に保つことが可能となる。なお、ここでは、2つの接続端子15,16を同時に設置する例を示した。しかしながら、2つだけでなく、1つであっても構わない。その場合も、同様の効果が得られる。また、ここでは、接続端子16,15が、半導体素子12a〜12dに接合される例を示した。この例に限らず、接続端子16,15が、導電パターン11b1〜11b3に接合されても構わない。また、接続端子16,15が、導電パターン11b1〜11b3上に配置された導電ブロックに接合されても構わない。その場合も、同様の効果が得られる。   For this reason, it becomes possible to fix the connection terminals 16 and 15 with respect to the semiconductor elements 12a to 12d while maintaining the height, and to make the thickness of the solders 13a to 13d uniform. It becomes possible to keep. Here, an example in which two connection terminals 15 and 16 are installed at the same time is shown. However, there may be only one instead of two. In that case, the same effect can be obtained. Here, an example is shown in which the connection terminals 16 and 15 are joined to the semiconductor elements 12a to 12d. Not limited to this example, the connection terminals 16 and 15 may be joined to the conductive patterns 11b1 to 11b3. Moreover, the connection terminals 16 and 15 may be joined to the conductive block arranged on the conductive patterns 11b1 to 11b3. In that case, the same effect can be obtained.

[第2の実施の形態]
第2の実施の形態では、第1の実施の形態の半導体装置10の製造で利用される組み立て治具の別の形態について図14及び図15を用いて説明する。なお、第2の実施の形態では、第1の実施の形態の組み立て治具60が備える構成と同様のものには同じ符号を付し、それらの説明については省略する。図14及び図15は、第2の実施の形態の半導体装置の製造方法を説明するための図である。なお、図14は、図15における一点鎖線Y−Yの断面図である。また、図15は、図12(A)における平面図に相当する。
[Second Embodiment]
In the second embodiment, another form of an assembly jig used in manufacturing the semiconductor device 10 of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 14 and 15. Note that, in the second embodiment, the same components as those of the assembly jig 60 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and descriptions thereof are omitted. 14 and 15 are views for explaining the method for manufacturing the semiconductor device of the second embodiment. 14 is a cross-sectional view taken along one-dot chain line YY in FIG. FIG. 15 corresponds to a plan view in FIG.

第2の実施の形態では、素子固定治具20aの支持部材21及びガイド治具30aの支持部材31に、素子固定治具20aにガイド治具30aを取り付けた際に位置合わせされる挿入孔21a,31aがそれぞれ形成されている。   In the second embodiment, the insertion hole 21a is aligned when the guide jig 30a is attached to the element fixing jig 20a to the support member 21 of the element fixing jig 20a and the support member 31 of the guide jig 30a. , 31a are formed.

また、保持治具50aの被支持板51a,51bには、図15に示されるように、脚部51a4,51a5,51a6,51b4,51b5,51b6が形成されている。この脚部51a4,51a5,51a6,51b4,51b5,51b6は、保持治具50aをガイド治具30aに取り付けると、素子固定治具20aの支持部材21及びガイド治具30aの支持部材31の挿入孔21a,31aに挿入して、セラミック回路基板11の導電パターン11bに接触する。この際、脚部51a4,51a5,51a6,51b4,51b5,51b6の高さは、保持治具50aの被支持板51a,51bの裏面51a7,51b7と、ガイド治具30aの支持部材31とのおもて面との間に間隔が設けられるようにする。なお、図14では、挿入孔21a,31aのみを示しているが、脚部51a5,51a6,51b5,51b6に対応して、素子固定治具20aの支持部材21及びガイド治具30aの支持部材31に、挿入孔21a,31aと同様に挿入孔が形成されている。   Further, as shown in FIG. 15, leg portions 51a4, 51a5, 51a6, 51b4, 51b5, 51b6 are formed on the supported plates 51a, 51b of the holding jig 50a. The leg portions 51a4, 51a5, 51a6, 51b4, 51b5, 51b6 are inserted into the support member 21 of the element fixing jig 20a and the support member 31 of the guide jig 30a when the holding jig 50a is attached to the guide jig 30a. It is inserted into 21a and 31a and contacts the conductive pattern 11b of the ceramic circuit board 11. At this time, the height of the leg portions 51a4, 51a5, 51a6, 51b4, 51b5, 51b6 is the same as that of the back surfaces 51a7, 51b7 of the supported plates 51a, 51b of the holding jig 50a and the support member 31 of the guide jig 30a. A space is provided between the front surface and the front surface. In FIG. 14, only the insertion holes 21a and 31a are shown. However, corresponding to the leg portions 51a5, 51a6, 51b5 and 51b6, the support member 21 of the element fixing jig 20a and the support member 31 of the guide jig 30a. The insertion holes are formed in the same manner as the insertion holes 21a and 31a.

また、図15に示すような脚部51a4,51a5,51a6及び脚部51b4,51b5,51b6の形成位置及び個数は、一例であり、この場合に限らない。また、脚部51a4,51a5,51a6及び脚部51b4,51b5,51b6の形状は柱状であって、その断面は円形でも方形状でも楕円形でも構わない。素子固定治具20aの支持部材21及びガイド治具30aの支持部材31の挿入孔21a,31aは脚部51a4,51b4の形状に対応した形状を成している。   Further, the formation positions and the number of leg portions 51a4, 51a5, 51a6 and leg portions 51b4, 51b5, 51b6 as shown in FIG. 15 are merely examples, and the present invention is not limited to this. Further, the leg portions 51a4, 51a5 and 51a6 and the leg portions 51b4, 51b5 and 51b6 have a columnar shape, and the cross section thereof may be circular, rectangular or elliptical. The insertion holes 21a and 31a of the support member 21 of the element fixing jig 20a and the support member 31 of the guide jig 30a have shapes corresponding to the shapes of the leg portions 51a4 and 51b4.

ところで、第1の実施の形態では、例えば、図12(B)に示される、素子固定治具20の支持部材21の厚さ(長さA)、ガイド治具30の支持部材31の厚さ(長さB)、保持治具50の水平保持部53a,53bの長さ(長さC)に対するそれぞれの公差は±50μm、±50μm、±50μmを必要としていた。したがって、セラミック回路基板11と接続端子15,16の接合部15b,15c,16b,16cとの間隔の公差は、素子固定治具20、ガイド治具30、保持治具50を順に取り付けた際の組み立て治具60の全体の公差として±150μmを要する。   Incidentally, in the first embodiment, for example, the thickness (length A) of the support member 21 of the element fixing jig 20 and the thickness of the support member 31 of the guide jig 30 shown in FIG. The tolerances for the length (length C) of the horizontal holding portions 53a and 53b of the holding jig 50 are required to be ± 50 μm, ± 50 μm, and ± 50 μm. Therefore, the tolerance of the distance between the ceramic circuit board 11 and the joint portions 15b, 15c, 16b, and 16c of the connection terminals 15 and 16 is the same as that when the element fixing jig 20, the guide jig 30, and the holding jig 50 are attached in order. The overall tolerance of the assembly jig 60 requires ± 150 μm.

これに対して、第2の実施の形態では、被支持板51a,51bに形成した脚部51a4,51a5,51a6,51b4,51b5,51b6により、保持治具50aの被支持板51a,51bがガイド治具30aの支持部材31から浮いた状態となり、脚部51a4,51a5,51a6,51b4,51b5,51b6が直接セラミック回路基板11と接触する。このため、セラミック回路基板11と接続端子15,16の接合部15b,15c,16b,16cとの間隔の公差は、保持治具50aの水平保持部53a,53bの長さ(長さC)及び脚部51a4,51a5,51a6,51b4,51b5,51b6の長さ(長さC’)による公差±50μmのみを考慮すればよく、公差を低減することが可能となる。   On the other hand, in the second embodiment, the supported plates 51a and 51b of the holding jig 50a are guided by the legs 51a4, 51a5, 51a6, 51b4, 51b5 and 51b6 formed on the supported plates 51a and 51b. As a result, the legs 51 a 4, 51 a 5, 51 a 6, 51 b 4, 51 b 5, 51 b 6 come into direct contact with the ceramic circuit board 11. For this reason, the tolerance of the distance between the ceramic circuit board 11 and the joint portions 15b, 15c, 16b, 16c of the connection terminals 15, 16 is the length (length C) of the horizontal holding portions 53a, 53b of the holding jig 50a. Only the tolerance ± 50 μm depending on the length (length C ′) of the legs 51a4, 51a5, 51a6, 51b4, 51b5, 51b6 has to be considered, and the tolerance can be reduced.

このように素子固定治具20a及びガイド治具30aの公差を低減することができるために、接続端子15,16の接合部15b,15c,16b,16cを半導体素子12d,12c,12b,12aに接合するはんだ13d,13c,13b,13aの厚さを精度よく制御することが可能となる。   Since the tolerances of the element fixing jig 20a and the guide jig 30a can be reduced in this way, the joint portions 15b, 15c, 16b, and 16c of the connection terminals 15 and 16 are replaced with the semiconductor elements 12d, 12c, 12b, and 12a. It becomes possible to control the thickness of the solders 13d, 13c, 13b, and 13a to be joined with high accuracy.

さらに、このような素子固定治具20a及びガイド治具30aは高い加工精度を必要としないために、素子固定治具20a及びガイド治具30aの製造コストを削減することができる。   Furthermore, since the element fixing jig 20a and the guide jig 30a do not require high processing accuracy, the manufacturing cost of the element fixing jig 20a and the guide jig 30a can be reduced.

また、第2の実施の形態でも、第1の実施の形態と同様に、接続端子16,15を半導体素子12a〜12dに対して適切に位置合わせしつつ、高さを維持して固着させることができるようになり、また、はんだ13a〜13dの厚さを均一に保つことが可能となる。   Also in the second embodiment, as in the first embodiment, the connection terminals 16 and 15 are properly aligned with the semiconductor elements 12a to 12d, and the height is maintained and fixed. In addition, the thicknesses of the solders 13a to 13d can be kept uniform.

また、第1,第2の実施の形態の組み立て治具60,60aは、保持治具50(及び端子固定治具40)、ガイド治具30、素子固定治具20を含んでいる場合を例に挙げて説明している。この場合に限らず、組み立て治具60,60aは、少なくとも、保持治具50(及び端子固定治具40)を含んでいればよく、半導体素子12a〜12dが固着されたセラミック回路基板11に対して、保持治具50(及び端子固定治具40)とガイド治具30のみを利用することも可能である。また、それらの場合は、第2の実施の形態の脚部をそれぞれ適用することができる。   Further, the assembly jigs 60 and 60a of the first and second embodiments are examples including the holding jig 50 (and the terminal fixing jig 40), the guide jig 30, and the element fixing jig 20. It is listed and explained. The assembly jigs 60 and 60a are not limited to this case, and the assembly jigs 60 and 60a may include at least the holding jig 50 (and the terminal fixing jig 40), and the ceramic circuit board 11 to which the semiconductor elements 12a to 12d are fixed. Thus, it is possible to use only the holding jig 50 (and the terminal fixing jig 40) and the guide jig 30. Moreover, in those cases, the leg part of 2nd Embodiment is applicable, respectively.

なお、第1,第2の実施の形態では、2つの接続端子15,16を同時に設置する例を示した。しかしながら、2つだけでなく、1つであっても構わない。その場合も、同様の効果が得られる。また、ここでは、接続端子15,16が、半導体素子12a〜12dに接合される例を示した。この例に限らず、接続端子15,16が、導電パターン11b1〜11b3に接合されても構わない。また、接続端子15,16が、導電パターン11b1〜11b3上に配置された導電ブロックに接合されても構わない。その場合も、同様の効果が得られる。   In the first and second embodiments, the example in which the two connection terminals 15 and 16 are installed simultaneously has been described. However, there may be only one instead of two. In that case, the same effect can be obtained. Here, an example in which the connection terminals 15 and 16 are joined to the semiconductor elements 12a to 12d is shown. Not limited to this example, the connection terminals 15 and 16 may be joined to the conductive patterns 11b1 to 11b3. Moreover, the connection terminals 15 and 16 may be joined to the conductive block arranged on the conductive patterns 11b1 to 11b3. In that case, the same effect can be obtained.

10 半導体装置
11 セラミック回路基板
11a 絶縁板
11b,11b1,11b2,11b3 導電パターン
11c 金属板
12a,12b,12c,12d 半導体素子
12a1,12b1,12c1,12d1 おもて面
13a,13b,13c,13d はんだ
14a,14b,14c 端子ブロック
15,16 接続端子
15a,16a 配線板
15b,15c,16b,16c 接合部
15d,16d 接続部
15e,16e 連結部
20 素子固定治具
21 支持部材
22,23,32,34a,34b,34c,34d 開口部
22a,22b,22c,22d,22e,22f,32a,32b,32c,32d,32e,32f 配置領域
30 ガイド治具
31 支持部材
33a,33b,33c,33d 端子ガイド部
33a1,33a2,33b1,33b2,33c1,33c2,33d1,33d2 垂下部
40 端子固定治具
41,43 水平挟持板
42,44 垂直挟持板
42a1,42b1,44a1,44b1 突起部
42a2,42a3,42b2,42b3,44a2,44a3,44b2,44b3 凸部
50 保持治具
51a,51b 被支持板
51a1,51b1 スリット部
51a2,51a3,51b2,51b3 係合部
51a7,51b7 裏面
52a,52b 垂直保持部
52a1,52b1 断面U字部
53a,53b 水平保持部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Semiconductor device 11 Ceramic circuit board 11a Insulation plate 11b, 11b1, 11b2, 11b3 Conductive pattern 11c Metal plate 12a, 12b, 12c, 12d Semiconductor element 12a1, 12b1, 12c1, 12d1 Front surface 13a, 13b, 13c, 13d Solder 14a, 14b, 14c Terminal block 15, 16 Connection terminal 15a, 16a Wiring board 15b, 15c, 16b, 16c Joint part 15d, 16d Connection part 15e, 16e Connection part 20 Element fixing jig 21 Support member 22, 23, 32, 34a, 34b, 34c, 34d Opening 22a, 22b, 22c, 22d, 22e, 22f, 32a, 32b, 32c, 32d, 32e, 32f Arrangement area 30 Guide jig 31 Support member 33a, 33b, 33c, 33d Terminal guide Part 33a1 33 a 2, 33 b 1, 33 b 2, 33 c 1, 33 c 2, 33 d 1, 33 d 2 Hanging part 40 Terminal fixing jig 41, 43 Horizontal clamping plate 42, 44 Vertical clamping plate 42 a 1, 42 b 1, 44 a 1, 44 b 1 Protruding part 42 a 2, 42 a 3, 42 b 2, 42 b 3, 44 a 2 , 44a3, 44b2, 44b3 Convex part 50 Holding jig 51a, 51b Supported plate 51a1, 51b1 Slit part 51a2, 51a3, 51b2, 51b3 Engagement part 51a7, 51b7 Back face 52a, 52b Vertical holding part 52a1, 52b1 U-shaped section 53a, 53b Horizontal holding part

Claims (14)

半導体素子が導電パターンに配置された基板と、
前記半導体素子または前記導電パターンに接合される接合部と、前記接合部に接続された連結部と、前記連結部に接続されて前記接合部から間隔をあけて設けられた配線板とを有する接続端子と、を備える半導体装置に対して、
前記配線板の裏面に配置され、前記配線板を裏面から支える垂直保持部を有する保持治具と、
前記配線板のおもて面に配置され、前記垂直保持部と前記配線板を挟持する垂直挟持板を有する端子固定治具と、
を有する組み立て治具。
A substrate on which a semiconductor element is arranged in a conductive pattern;
A connection having a bonding portion bonded to the semiconductor element or the conductive pattern, a connecting portion connected to the bonding portion, and a wiring board connected to the connecting portion and spaced from the bonding portion. A semiconductor device comprising a terminal,
A holding jig that is disposed on the back surface of the wiring board and has a vertical holding portion that supports the wiring board from the back surface;
A terminal fixing jig which is disposed on the front surface of the wiring board and has a vertical holding plate for holding the vertical holding portion and the wiring board;
Assembly jig having.
前記保持治具は、前記垂直保持部に接続され前記垂直保持部に垂直な面を有する水平保持部をさらに有し、
前記端子固定治具は、前記垂直挟持板に接続され前記垂直挟持板に垂直な面を有し、前記水平保持部と前記連結部を挟持する水平挟持板をさらに有している、
請求項1に記載の組み立て治具。
The holding jig further includes a horizontal holding portion connected to the vertical holding portion and having a surface perpendicular to the vertical holding portion,
The terminal fixing jig has a surface that is connected to the vertical clamping plate and is perpendicular to the vertical clamping plate, and further includes a horizontal clamping plate that clamps the horizontal holding portion and the connecting portion.
The assembly jig according to claim 1.
前記保持治具は、前記垂直保持部から間隔をあけて設けられ、前記垂直保持部に水平な面を有する被支持板をさらに有する、
請求項1または2に記載の組み立て治具。
The holding jig further includes a supported plate provided at a distance from the vertical holding portion and having a horizontal surface on the vertical holding portion.
The assembly jig according to claim 1 or 2.
前記接続端子、前記保持治具と前記端子固定治具の一部が挿入される第1開口部が形成され、前記保持治具の前記被支持板の裏面に配置される第1支持部材と、前記第1支持部材と接続され、前記接続端子の前記接合部が接合される接合領域の周縁部の少なくとも一部に沿って取り囲む端子ガイド部と、を有するガイド治具をさらに備える、
請求項3に記載の組み立て治具。
A first support member formed with a first opening into which a part of the connection terminal, the holding jig and the terminal fixing jig is inserted, and disposed on the back surface of the supported plate of the holding jig; A guide jig having a terminal guide portion that is connected to the first support member and surrounds at least a part of a peripheral edge portion of a joint region to which the joint portion of the connection terminal is joined.
The assembly jig according to claim 3.
前記基板上に配置され、前記半導体素子が配置される配置領域の周縁部の一部に沿って取り囲む第2開口部が形成された素子固定治具を、
さらに有する請求項4に記載の組み立て治具。
An element fixing jig formed on the substrate and having a second opening surrounding a part of a peripheral edge of an arrangement region where the semiconductor element is arranged;
Furthermore, the assembly jig of Claim 4 which has.
前記素子固定治具は、前記ガイド治具の前記第1支持部材の裏面に配置され、前記ガイド治具を裏面から支える第2支持部材を有し、前記端子ガイド部が前記第2開口部を介して前記接合領域に隣接して配置される、
請求項5に記載の組み立て治具。
The element fixing jig is disposed on the back surface of the first support member of the guide jig, has a second support member that supports the guide jig from the back surface, and the terminal guide portion has the second opening portion. Disposed adjacent to the joining region,
The assembly jig according to claim 5.
前記保持治具は、前記被支持板の裏面に、前記基板に先端部が接して、前記被支持板の裏面と前記基板のおもて面との間に所定の距離を維持する棒状の脚部を有する、
請求項3乃至6のいずれかに記載の組み立て治具。
The holding jig has a rod-like leg that maintains a predetermined distance between the back surface of the supported plate and the front surface of the substrate, with a tip portion in contact with the back surface of the supported plate. Having a part,
The assembly jig according to claim 3.
前記接続端子が2列に配置され、互いに対向する前記連結部を有する一対の前記接続端子を備える半導体装置に対して、
前記端子固定治具は、前記垂直挟持板と、前記垂直挟持板の中央付近に接続され前記垂直挟持板に垂直な面を有する前記水平挟持板を有しており、前記垂直挟持板と前記水平挟持板とで断面T字形状が構成されており、
前記保持治具は、前記接続端子に対応して2列に配置され、互いに対向する前記水平保持部と、前記水平保持部に接続され前記水平保持部から他方の列の前記水平保持部に向かって延伸する前記垂直保持部とを有し、
前記水平挟持板を中心にして、複数の前記接続端子が配置され、対向させた前記水平保持部で挟持させ、
前記垂直保持部と前記垂直挟持板とで、前記接続端子の前記配線板を、前記垂直挟持板の挟持方向に直交して挟持させる、
請求項2乃至6のいずれかに記載の組み立て治具。
For the semiconductor device comprising a pair of the connection terminals, the connection terminals being arranged in two rows and having the connecting portions facing each other.
The terminal fixing jig includes the vertical clamping plate and the horizontal clamping plate connected to the vicinity of the center of the vertical clamping plate and having a surface perpendicular to the vertical clamping plate, and the vertical clamping plate and the horizontal clamping plate T-shaped cross section is configured with the sandwich plate,
The holding jigs are arranged in two rows corresponding to the connection terminals, the horizontal holding portions facing each other, and connected to the horizontal holding portion from the horizontal holding portion toward the horizontal holding portion in the other row. The vertical holding portion extending
A plurality of the connection terminals are arranged around the horizontal holding plate, and are held by the horizontal holding portions facing each other,
The wiring board of the connection terminal is clamped perpendicularly to the clamping direction of the vertical clamping plate with the vertical holding portion and the vertical clamping plate.
The assembly jig according to any one of claims 2 to 6.
半導体素子が導電パターンに配置された基板と、前記半導体素子または前記導電パターンに接合される接合部と、前記接合部に接続された連結部と、前記連結部に接続されて前記接合部から間隔をあけて設けられた配線板とを有する接続端子とを用意する準備工程と、
前記接続端子に対し、前記配線板のおもて面に配置される垂直挟持板を有する端子固定治具を取り付ける第1取り付け工程と、
前記端子固定治具が取り付けられた前記接続端子に対し、前記配線板を前記配線板の裏面から支える前記垂直挟持板と前記配線板を挟持する垂直保持部を有する保持治具を取り付ける第2取り付け工程と、
前記基板に対して、前記接合部が前記半導体素子上または前記導電パターン上に配置されるように前記保持治具を配置する接続端子配置工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
A substrate on which a semiconductor element is arranged in a conductive pattern, a junction part bonded to the semiconductor element or the conductive pattern, a connection part connected to the connection part, and a distance from the connection part connected to the connection part A preparation step of preparing a connection terminal having a wiring board provided with a gap;
A first attachment step of attaching a terminal fixing jig having a vertical clamping plate disposed on the front surface of the wiring board to the connection terminal;
Second attachment for attaching a holding jig having a vertical holding part for holding the wiring board and the vertical holding plate for holding the wiring board to the connection terminal to which the terminal fixing jig is attached. Process,
A connection terminal arrangement step of arranging the holding jig so that the bonding portion is arranged on the semiconductor element or the conductive pattern with respect to the substrate;
A method for manufacturing a semiconductor device comprising:
前記第1取り付け工程にて、前記端子固定治具がさらに有する、前記垂直挟持板に接続され前記垂直挟持板に垂直な面を有する水平挟持板を前記連結部の外面に配置して、
前記第2取り付け工程にて、前記保持治具がさらに有する、前記垂直保持部に接続され前記垂直保持部に垂直な面を有する水平保持部と前記水平挟持板とで前記連結部を前記垂直挟持板の挟持方向に直交して挟持する、
請求項9に記載の半導体装置の製造方法。
In the first mounting step, the terminal fixing jig further has a horizontal clamping plate connected to the vertical clamping plate and having a surface perpendicular to the vertical clamping plate, arranged on the outer surface of the connecting portion,
In the second mounting step, the holding jig further includes the horizontal holding part connected to the vertical holding part and having a surface perpendicular to the vertical holding part, and the horizontal holding plate to hold the connecting part. Clamping perpendicular to the clamping direction of the plate,
A method for manufacturing a semiconductor device according to claim 9.
前記接続端子配置工程の前に、前記基板に対し、第1開口部が形成された第1支持部材と前記第1支持部材と接続され、前記接続端子の接合部が接合される接合領域の周縁部の少なくとも一部に沿って取り囲む端子ガイド部と、を有するガイド治具を設置して、
前記保持治具は、前記垂直保持部から間隔をあけて設けられ、前記垂直保持部に水平な面を有する被支持板をさらに有し、
前記接続端子配置工程にて、前記保持治具を前記ガイド治具上に配置して、前記第1開口部に前記接続端子、前記保持治具と前記端子固定治具の一部が挿入されて、前記第1支持部材により前記被支持板の裏面が支持されて、前記接合部を前記端子ガイド部で前記接合領域に位置合わせする、
請求項9または10に記載の半導体装置の製造方法。
Prior to the connection terminal arrangement step, the peripheral edge of the bonding region where the first support member in which the first opening is formed and the first support member are connected to the substrate, and the connection portion of the connection terminal is bonded. A guide jig having a terminal guide portion surrounding at least a part of the portion,
The holding jig further includes a supported plate provided at a distance from the vertical holding portion and having a horizontal surface on the vertical holding portion,
In the connection terminal arrangement step, the holding jig is arranged on the guide jig, and the connection terminal, the holding jig, and a part of the terminal fixing jig are inserted into the first opening. The back surface of the supported plate is supported by the first support member, and the joining portion is aligned with the joining region by the terminal guide portion.
11. A method for manufacturing a semiconductor device according to claim 9 or 10.
前記準備工程にて、前記基板上に、前記半導体素子が配置される配置領域の周縁部の一部に沿って取り囲む第2開口部が形成された素子固定治具を配置して、前記第2開口部内の前記配置領域に前記半導体素子を配置する、
請求項9乃至11のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
In the preparing step, an element fixing jig in which a second opening surrounding the part of the peripheral area of the arrangement area where the semiconductor element is arranged is formed on the substrate, and the second fixing jig is arranged. Placing the semiconductor element in the placement region in the opening;
A method for manufacturing a semiconductor device according to claim 9.
前記接続端子配置工程の前に、前記素子固定治具上に前記ガイド治具を配置して、前記端子ガイド部を前記第2開口部を介して前記接合領域に配置する、
請求項12に記載の半導体装置の製造方法。
Before the connection terminal arrangement step, the guide jig is arranged on the element fixing jig, and the terminal guide portion is arranged in the joining region through the second opening.
A method for manufacturing a semiconductor device according to claim 12.
前記保持治具は、前記被支持板の裏面に棒状の脚部を有し、
前記接続端子配置工程にて、前記基板に対して、前記保持治具を配置して、前記脚部の先端部を前記基板のおもて面に接して、前記被支持板の裏面と前記基板のおもて面との間に所定の距離を維持する、
請求項11乃至13のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
The holding jig has a rod-like leg on the back surface of the supported plate,
In the connecting terminal arranging step, the holding jig is arranged with respect to the substrate, the tip of the leg is in contact with the front surface of the substrate, and the back surface of the supported plate and the substrate Maintain a certain distance from the front surface,
A method for manufacturing a semiconductor device according to claim 11.
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