JP2019155475A - Laser processing unit and work processing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、搬送路を搬送される加工対象物(以下、ワークと呼ぶ)を搬送路に臨んで設けられる処理装置に供給し、レーザ加工を施すレーザ処理装置、及びレーザ加工等の処理を施す加工処理装置を用いて行う加工処理方法に関する。 The present invention supplies a processing object (hereinafter referred to as a workpiece) conveyed on a conveyance path to a processing apparatus provided facing the conveyance path, and performs a laser processing apparatus that performs laser processing, and processing such as laser processing. The present invention relates to a processing method performed using a processing apparatus.
光学的に透明な基板、例えば大型のガラス基板や、LCDやOLED等のディスプレイモジュールの切断は、機械的に切削されることが多い。例えば、ダイヤモンドカッター等のダイシングソーを用いることで、ガラス基板から複数枚のガラス基板片が多面取りされる。
一方、光学的に透明な基板の切断を、機械的な切削加工ではなく、レーザ光を使って加工する方法がある(特許文献1参照)。具体的には、先ず、ガラス基板に極短パルス幅のレーザ光を照射させることで、ガラス基板にミシン目状のスクライブラインが形成される。その後、このスクライブラインに沿ってガラス基板を分断することで、ガラス基板から複数枚のガラス基板片が多面取りされる。
Cutting optically transparent substrates such as large glass substrates and display modules such as LCDs and OLEDs are often mechanically cut. For example, by using a dicing saw such as a diamond cutter, a plurality of glass substrate pieces are multi-faced from the glass substrate.
On the other hand, there is a method of cutting an optically transparent substrate using a laser beam instead of mechanical cutting (see Patent Document 1). Specifically, first, a perforated scribe line is formed on the glass substrate by irradiating the glass substrate with laser light having an extremely short pulse width. Thereafter, the glass substrate is divided along the scribe line, whereby a plurality of glass substrate pieces are multi-faced from the glass substrate.
近年の携帯端末や情報端末の普及に伴い、これら端末の各種製品においては、コストダウンと共に量産性の向上が常に要求される。このため、前述したレーザ光を使ったガラス基板の加工方法においても、製品製造のサイクルタイムを短縮して量産性を向上させることが課題である。 With the spread of portable terminals and information terminals in recent years, various products of these terminals are always required to improve cost and productivity. For this reason, also in the processing method of the glass substrate using the laser beam mentioned above, it is a subject to improve the mass productivity by shortening the cycle time of product manufacture.
本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、ワークに対する加工のプロセスを改善し、製品製造のサイクルタイムを短縮することで、ワークを含む各種製品の量産性を向上させるレーザ処理装置、及び加工処理方法を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above circumstances, a laser processing apparatus for improving the mass-productivity of various products including workpieces by improving the machining process for workpieces and shortening the cycle time of product manufacturing, and The object is to provide a processing method.
本発明に係るレーザ処理装置の第一の態様は、ワークを保持する搬送機と、該搬送機が走行する搬送路と、該搬送路に臨んで設けられる処理エリアとを備え、前記搬送機で前記処理エリアに前記ワークを供給し、該ワークにレーザ光を照射するレーザ処理装置であって、
前記処理エリアに未処理のワークを供給する第一の搬送機と、
レーザ光が照射された処理済のワークを前記処理エリアから搬出する第二の搬送機と、
前記未処理のワークを前記第一の搬送機に供給する供給ユニットと、
前記処理済のワークを前記第二の搬送機から受け取る搬出ユニットとを備え、
前記処理エリアは、
第一の処理エリア及び第二の処理エリアと、
レーザ光を発振する1つのレーザ光発振ユニットと、
前記レーザ光発振ユニットから発振されたレーザ光を、前記第一の処理エリア及び前記第二の処理エリアに振り分ける分岐ユニットと、
前記第一の処理エリアに設けられ、前記分岐ユニットによって前記第一の処理エリアに振り分けられたレーザ光を、前記第一の処理エリアに供給された前記ワークに照射する第一のレーザ光照射ユニットと、
前記第二の処理エリアに設けられ、前記分岐ユニットによって前記第二の処理エリアに振り分けられたレーザ光を、前記第二の処理エリアに供給された前記ワークに照射する第二のレーザ光照射ユニットとを備えるレーザ処理装置である。
A first aspect of the laser processing apparatus according to the present invention includes a transporter that holds a workpiece, a transport path on which the transporter travels, and a processing area that is provided facing the transport path. A laser processing apparatus for supplying the work to the processing area and irradiating the work with laser light,
A first conveyor for supplying untreated workpieces to the treatment area;
A second transporter that unloads the processed workpiece irradiated with laser light from the processing area;
A supply unit for supplying the untreated workpiece to the first transporter;
An unloading unit that receives the processed workpiece from the second transporter;
The processing area is
A first processing area and a second processing area;
One laser beam oscillation unit that oscillates the laser beam;
A branching unit that divides the laser light oscillated from the laser light oscillation unit into the first processing area and the second processing area;
A first laser light irradiation unit that is provided in the first processing area and that irradiates the workpiece supplied to the first processing area with the laser light distributed to the first processing area by the branch unit. When,
A second laser light irradiation unit that is provided in the second processing area and that irradiates the workpiece supplied to the second processing area with the laser light distributed to the second processing area by the branch unit. It is a laser processing apparatus provided with these.
本発明に係るレーザ処理装置の第二の態様は、ワークを保持する搬送機と、該搬送機が走行される搬送路と、該搬送路に臨んで設けられる処理エリアとを備え、前記搬送機で前記処理エリアに前記ワークを供給し、該ワークにレーザ光を照射するレーザ処理装置であって、
前記搬送路に臨んで、かつ前記処理エリアよりも搬送方向上流側に設けられ、前記ワークを反転させる反転ユニットと、
前記反転ユニットに未処理のワークを供給する第一の搬送機と、
前記処理エリアに未処理のワークを供給する第二の搬送機と、
レーザ光が照射された処理済のワークを前記処理エリアから搬出する第三の搬送機と、
前記未処理のワークを前記第一の搬送機に供給する供給ユニットと、
前記処理済のワークを前記第三の搬送機から受け取る搬出ユニットとを備え、
前記処理エリアは、
第一の処理エリア及び第二の処理エリアと、
レーザ光を発振する1つのレーザ光発振ユニットと、
前記レーザ光発振ユニットから発振されたレーザ光を、前記第一の処理エリア又は前記第二の処理エリアに振り分ける分岐ユニットと、
前記第一の処理エリアに設けられ、前記分岐ユニットによって前記第一の処理エリアに振り分けられたレーザ光を、前記第一の処理エリアに供給された前記ワークに照射する第一のレーザ光照射ユニットと、
前記第二の処理エリアに設けられ、前記分岐ユニットによって前記第二の処理エリアに振り分けられたレーザ光を、前記第二の処理エリアに供給された前記ワークに照射する第二のレーザ光照射ユニットとを備えるレーザ処理装置である。
A second aspect of the laser processing apparatus according to the present invention includes a transporter that holds a workpiece, a transport path on which the transporter travels, and a processing area that faces the transport path, and the transporter A laser processing apparatus for supplying the work to the processing area and irradiating the work with laser light,
An inversion unit that faces the conveyance path and is provided on the upstream side in the conveyance direction from the processing area, and reverses the workpiece.
A first transporter for supplying unprocessed workpieces to the reversing unit;
A second transporter for supplying unprocessed workpieces to the processing area;
A third transfer machine for carrying out the processed workpiece irradiated with laser light from the processing area;
A supply unit for supplying the untreated workpiece to the first transporter;
A carry-out unit that receives the processed workpiece from the third transfer machine,
The processing area is
A first processing area and a second processing area;
One laser beam oscillation unit that oscillates the laser beam;
A branching unit that distributes the laser light oscillated from the laser light oscillation unit to the first processing area or the second processing area;
A first laser light irradiation unit that is provided in the first processing area and that irradiates the workpiece supplied to the first processing area with the laser light distributed to the first processing area by the branch unit. When,
A second laser light irradiation unit that is provided in the second processing area and that irradiates the workpiece supplied to the second processing area with the laser light distributed to the second processing area by the branch unit. It is a laser processing apparatus provided with these.
本発明に係る加工処理方法の第一の態様は、未処理のワークの供給ユニットと、処理済のワークの搬出ユニットと、前記供給ユニットと前記搬出ユニットとの間に設けられた搬送路と、前記搬送路に臨んで設けられる処理エリアと、前記搬送路を走行され、前記処理エリアに未処理の前記ワークを供給する第一の搬送機と、前記搬送路を走行され、加工が施された処理済の前記ワークを前記処理エリアから搬出する第二の搬送機とを備える加工処理装置を用いて、前記ワークに加工を施す加工処理方法であって、
前記第一の搬送機を前記供給ユニットの近傍に移動させるとともに、前記第二の搬送機を前記処理エリアと前記搬出ユニットとの中間に移動させ、
前記供給ユニットに前記未処理のワークを供給させ、該未処理のワークを前記第一の搬送機に取り出させるとともに、該第一の搬送機を前記供給ユニットから前記処理エリアへ移動させ、
前記処理エリアに前記第一の搬送機が保持する前記未処理のワークを投入させ、
前記第一の搬送機を前記供給ユニットへ移動させるとともに、前記第二の搬送機を処理エリアに移動させ、
前記処理エリアに投入された前記未処理のワークに対して加工を施し、
加工を施された該処理済のワークを前記第二の搬送機に取り出させるとともに、該第二の搬送機を前記処理エリアから前記搬出ユニットへ移動させ、前記処理済のワークを前記第二の搬送機から前記搬出ユニットに受け渡させる加工処理方法である。
A first aspect of the processing method according to the present invention includes an unprocessed workpiece supply unit, a processed workpiece unloading unit, a conveyance path provided between the supply unit and the unloading unit, A processing area provided facing the transport path, a first transport machine that travels on the transport path and supplies the unprocessed work to the processing area, travels on the transport path, and is processed A processing method for processing the workpiece, using a processing apparatus including a second transporter that carries the processed workpiece out of the processing area,
While moving the first transporter in the vicinity of the supply unit, moving the second transporter between the processing area and the unloading unit,
The unprocessed work is supplied to the supply unit, the unprocessed work is taken out by the first transporter, and the first transporter is moved from the supply unit to the processing area,
The unprocessed work held by the first transfer machine is thrown into the processing area,
Moving the first transporter to the supply unit and moving the second transporter to the processing area;
Processing the unprocessed work put in the processing area,
The processed workpiece that has been processed is taken out by the second transporter, the second transporter is moved from the processing area to the unloading unit, and the processed workpiece is moved to the second transporter. This is a processing method for delivering from a transport machine to the carry-out unit.
本発明に係る加工処理方法の第二の態様は、未処理のワークの供給ユニットと、処理済のワークの搬出ユニットと、前記供給ユニットと前記搬出ユニットとの間に設けられた搬送路と、前記搬送路に臨んで設けられる処理エリアと、前記搬送路に臨んで、かつ前記処理エリアよりも前記ワークの搬送方向上流側に設けられ、前記ワークを反転させる反転ユニットと、前記搬送路を走行され、前記処理エリアに未処理のワークを供給する第一の搬送機と、前記搬送路を走行され、前記処理エリアに未処理のワークを供給する第二の搬送機と、前記搬送路を走行され、加工が施された処理済のワークを前記処理エリアから搬出する第三の搬送機とを備える加工処理装置を用いて、前記ワークに加工を施す加工処理方法であって、
前記第一の搬送機を前記供給ユニットの近傍に移動させ、前記第二の搬送機を前記反転ユニットと前記処理エリアとの中間に移動させ、前記第三の搬送機を前記処理エリアと前記搬出ユニットとの中間に移動させ、
前記供給ユニットに前記未処理のワークを供給させ、該未処理のワークを前記第一の搬送機に取り出させるとともに、該第一の搬送機を前記供給ユニットから前記反転ユニットへ移動させ、
該未処理のワークを前記第一の搬送機から前記反転ユニットに受け渡させるとともに、該ワークを反転させ、
前記第一の搬送機を前記供給ユニットへ移動させるとともに、前記第二の搬送機を前記反転ユニットへ移動させ、
前記反転されたワークを前記第二の搬送機に取り出させるとともに、該第二の搬送機を前記反転ユニットから前記処理エリアへ移動させ、
前記処理エリアに前記第二の搬送機が保持する前記反転されたワークを投入させ、
前記第二の搬送機を前記反転ユニットと前記処理エリアとの中間に移動させるとともに、前記第三の搬送機を前記処理エリアに移動させ、
前記処理エリアに投入された前記反転されたワークに対して加工を施し、
加工が施された処理済のワークを前記第三の搬送機に取り出させるとともに、該第三の搬送機を前記処理エリアから前記搬出ユニットへ移動させ、前記処理済のワークを前記第三の搬送機から前記搬出ユニットに受け渡させる加工処理方法である。
A second aspect of the processing method according to the present invention includes an unprocessed workpiece supply unit, a processed workpiece unloading unit, a conveyance path provided between the supply unit and the unloading unit, A traveling area that faces the transport path, a reversing unit that faces the transport path and is located upstream of the processing area in the transport direction of the work, and reverses the work, and travels on the transport path A first transporter that supplies unprocessed workpieces to the processing area, a second transporter that travels on the transport path and supplies unprocessed workpieces to the processing area, and travels on the transport path Is a processing method for processing the workpiece using a processing device comprising a third transporter that carries out the processed workpiece that has been processed from the processing area,
The first transporter is moved to the vicinity of the supply unit, the second transporter is moved between the reversing unit and the processing area, and the third transporter is moved to the processing area and the unloading unit. Move to the middle of the unit,
The unprocessed work is supplied to the supply unit, the unprocessed work is taken out by the first transporter, and the first transporter is moved from the supply unit to the reversing unit,
While passing the unprocessed work from the first transporter to the reversing unit, reversing the work,
Moving the first transporter to the supply unit and moving the second transporter to the reversing unit;
While taking the reversed work to the second transport machine, moving the second transport machine from the reversing unit to the processing area,
Put the inverted work held by the second transporter into the processing area,
While moving the second transport machine in the middle of the reversing unit and the processing area, moving the third transport machine to the processing area,
Processing is performed on the inverted workpiece put in the processing area,
The processed workpiece that has been processed is taken out by the third transfer device, and the third transfer device is moved from the processing area to the unloading unit, and the processed workpiece is transferred to the third transfer device. This is a processing method for delivering from a machine to the carry-out unit.
本発明によれば、ワークが供給ユニットから取り出され、加工を終えて搬出ユニットに受け渡されるまでの間に生じるアイドルタイム、つまりワークが搬送も加工もされずに待機している時間を削減することができる。これにより、ワークに対する加工のプロセスが改善され、製品製造のサイクルタイムを短縮することができ、ワークを含む各種製品の量産性が向上する。 According to the present invention, it is possible to reduce idle time that occurs between when a workpiece is taken out from the supply unit and finished after being processed and delivered to the unloading unit, that is, when the workpiece is waiting without being conveyed or processed. be able to. As a result, the machining process for the workpiece is improved, the cycle time of product manufacture can be shortened, and the mass productivity of various products including the workpiece is improved.
本発明に係るレーザ処理装置、及び加工処理装置を用いて行う加工処理方法について以下に説明する。本発明の実施形態として、以下に加工処理装置としてレーザ処理装置を用いる場合を例に挙げて以下に説明を行うが、加工処理装置はレーザ処理装置に限定するものでない。例えば、加工処理装置として、溶接装置、切削・切断装置、組み立て・組付け装置、熱処理装置、プラズマガス等の照射装置、液体・ゲル等の塗布装置等が挙げられ、これらの加工処理装置を用いた加工処理方法は、本発明の適用対象である。
(第一の実施形態)
図1から図4に示すように、本発明の第一の実施形態としてのレーザ処理装置1は、未処理のワーク(光学的に透明な基板、例えば大型のガラス基板や、LCDやOLED等のディスプレイモジュール)Wを供給する供給ユニット10と、レーザ加工を終えた処理済のワークWを搬出する搬出ユニット20と、供給ユニット10と搬出ユニット20との間に設けられた搬送路30と、ワークWにレーザ加工を行う処理エリア40と、搬送路30上を走行してワークWを搬送する搬送機(第一の搬送機)50A及び搬送機(第二の搬送機)50Bと、レーザ処理装置1の各部の作動を制御する制御部100とを備えている。処理エリア40は、二つの処理エリア(第一、第二の処理エリア)40A、40Bを含んでいる。
A laser processing apparatus and a processing method performed using the processing apparatus according to the present invention will be described below. As an embodiment of the present invention, a case where a laser processing apparatus is used as a processing apparatus will be described below as an example, but the processing apparatus is not limited to the laser processing apparatus. Examples of processing equipment include welding equipment, cutting / cutting equipment, assembly / assembly equipment, heat treatment equipment, plasma gas irradiation equipment, liquid / gel coating equipment, etc. The processing method that has been used is an object to which the present invention is applied.
(First embodiment)
As shown in FIGS. 1 to 4, the
供給ユニット10には、二枚のワークWa、Wbを載せたトレーが順次供給され、これら二枚のワークWa、Wbを一組としてレーザ加工が施される。搬出ユニット20には、レーザ加工を終えたワークWの検査機器が含まれており(図示略)、良品と不良品とを選別したうえで良品と判断されたワークWを後の工程に送り出す。
The
処理エリア40A、40Bは、搬送路30に臨んで、かつ、搬送路30の配設方向(すなわちワークWの搬送方向)に並んで配置されている。処理エリア40Aには、二枚のワークWa、Wbのそれぞれに同時にレーザ光を照射する二つのレーザ光照射ユニット(第一のレーザ光照射ユニット)60A1、60A2と、ワークWa、Wbを水平面における直交する二つの方向(以下、XY方向ともいう)にそれぞれ独立して水平移動させる二つのXYテーブル70A1、70A2とが設けられている。処理エリア40Bにも同様に、二つのレーザ光照射ユニット(第二のレーザ光照射ユニット)60B1、60B2と、二つのXYテーブル70B1、70B2とが設けられている。また、図示しないが、処理エリア40A、40Bには、ガラス基板の余剰片を除去する第1の吸引装置と、XYテーブル70A1、70A2、70B1、70B2の表面のガラスの屑片を吸引除去する第2の吸引装置とがそれぞれ設置されている。
The
搬送機50Aは、二枚のワークWを同時に吸着して把持する一対のアームを有する把持部51と、把持部51を水平面と直交する垂直軸(Z軸)まわりに回動させる回動部52と、搬送路30に沿って移動する走行台車53とを備えている。搬送機50Aは、未処理のワークWa、Wbを、把持部51を使って吸着すると共に供給ユニット10から取り出し、水平面内のワークWa、Wbの向きを90°(図1中では反時計回りに90°)転じてから搬送路30上を処理エリア40A又は40Bに向けて移動され、XYテーブル70A1、70A2、又はXYテーブル70B1、70B2にワークWa、Wbを投入する。
搬送機50Bも搬送機50Aと同じ構造を有し、把持部51と、回動部52と、走行台車53とを備えている。搬送機50Bは、処理済のワークWa、Wbを、把持部51を使って吸着すると共に処理エリア40A又は40Bから取り出し、搬送路30上を搬出ユニット20に向けて移動され、水平面内のワークWa、Wbの向きをさらに90°(図1中では反時計回りに90°)転じてから搬出ユニット20にワークWa、Wbを受け渡す。
搬送機50A、50Bにおける吸着、回動及び移動は、制御部100によって制御される。
The
The
Adsorption, rotation and movement in the
処理エリア40A、40Bは、三枚のプレート41、42、43が脚部5を介して平行にて配置された三層構造になっている。上層の上プレート41上には、レーザ光を発振するレーザ光発振ユニット80が配置されている。中層の中プレート42上には、処理エリア40Aに含まれるレーザ光照射ユニット60A1、60A2と、処理エリア40Bに含まれるレーザ光照射ユニット60B1、60B2と、処理エリア40A及び処理エリア40Bに交互にレーザ光を振り分ける分岐ユニット81とが配置されている。下層の下プレート43上には、処理エリア40Aに含まれるXYテーブル70A1、70A2と、処理エリア40Bに含まれるXYテーブル70B1、70B2とが配置されている。
The
レーザ光発振ユニット80及び分岐ユニット81は、処理エリア40A、40Bの間に配置されている。中プレート42上には、レーザ光発振ユニット80から出射されたレーザ光を、全反射して分岐ユニット81に入射させるミラーユニット82a〜82cが配置されている。分岐ユニット81は、全反射ミラーユニット81aと、ミラーユニット81aをZ軸まわりに90°回動させる駆動部81bとを含んでいる。分岐ユニット81は、ミラーユニット81aを90°回動させることで、レーザ光発振ユニット80からミラーユニット82a〜82cを介して入射されたレーザ光の進行方向を180°変換させる。これにより、レーザ光を処理エリア40A、40Bに選択的に振り分けることができる。
The laser
中プレート42上には、分岐ユニット81によって処理エリア40Aに振り分けられたレーザ光を二つに分光する分光ユニット(第一の分光ユニット)63Aが設置され、処理エリア40Bには、分岐ユニット81によって処理エリア40Bに振り分けられたレーザ光を二つに分光する分光ユニット(第二の分光ユニット)63Bが配置されている。分光ユニット63A、63Bは、いわゆるハーフミラーを内蔵している。
On the
レーザ光照射ユニット60A1は、分光ユニット63Aによって二つに分光されたレーザ光のうちハーフミラーを透過したレーザ光を全反射するミラーユニット64A1〜64A5と、集光レンズを内蔵する鏡筒65Aと、ミラーユニット64A1、64A2の間でレーザ光を遮るシャッタ66Aとを含んでいる。レーザ光照射ユニット60A1に入射されたレーザ光は、シャッタ66Aを開放することで、ミラーユニット64A1〜64A5に全反射されて鏡筒65Aに入射され、鏡筒65A内の集光レンズを介してワークWaに照射される。
The laser light irradiation unit 60A1 includes mirror units 64A1 to 64A5 that totally reflect the laser light transmitted through the half mirror among the laser light split into two by the
レーザ光照射ユニット60A2は、分光ユニット63Aによって二つに分光されたレーザ光のうちハーフミラーを透過せずに半反射したレーザ光を全反射するミラーユニット67A1〜67A4と、集光レンズを内蔵する鏡筒68Aと、分光ユニット63Aとミラーユニット67A1との間でレーザ光を遮るシャッタ69Aとを含んでいる。レーザ光照射ユニット60A2に入射されたレーザ光は、シャッタ69Aを開放することで、ミラーユニット67A1〜67A4に全反射されて鏡筒68Aに入射され、鏡筒68A内の集光レンズを介してワークWbに照射される。
The laser beam irradiation unit 60A2 includes a mirror unit 67A1 to 67A4 that totally reflects the laser beam half-reflected without passing through the half mirror among the laser beams split into two by the
XYテーブル70A1はレーザ光照射ユニット60A1の下方に、XYテーブル70A2はレーザ光照射ユニット60A2の下方にそれぞれ配置されている。鏡筒65A、68Aの光軸はいずれも固定されており(Z軸に平行)、XYテーブル70A1、70A2上のワークWa、Wbに対してそれぞれ垂直にレーザ光が照射される。XYテーブル70A1、70A2の走査台(XY駆動ユニット)は、ワークWa、Wbを載せてX−Y軸方向にそれぞれ独立して水平移動される。これにより、ワークWa、Wbにおける水平方向の任意の位置にレーザ光を照射することができ、ワークWa、Wbの表面に任意のスクライブラインが形成される。 The XY table 70A1 is disposed below the laser light irradiation unit 60A1, and the XY table 70A2 is disposed below the laser light irradiation unit 60A2. The optical axes of the lens barrels 65A and 68A are both fixed (parallel to the Z axis), and the laser beams are irradiated perpendicularly to the workpieces Wa and Wb on the XY tables 70A1 and 70A2. The scanning tables (XY drive units) of the XY tables 70A1 and 70A2 are horizontally moved independently in the XY axis directions on the workpieces Wa and Wb. Thereby, a laser beam can be irradiated to any position in the horizontal direction on the workpieces Wa and Wb, and an arbitrary scribe line is formed on the surfaces of the workpieces Wa and Wb.
レーザ光照射ユニット60B1は、分光ユニット63Bによって二つに分光されたレーザ光のうちハーフミラーを透過せずに半反射したレーザ光を全反射するミラーユニット64B1〜64B4と、集光レンズを内蔵する鏡筒65Bと、分光ユニット63Bとミラーユニット64B1との間でレーザ光を遮るシャッタ66Bとを含んでいる。レーザ光照射ユニット60B1に入射されたレーザ光は、シャッタ66Bを開放することで、ミラーユニット64B1〜64B5に全反射されて鏡筒65Bに入射され、鏡筒65B内の集光レンズを介してワークWaに照射される。
The laser light irradiation unit 60B1 incorporates mirror units 64B1 to 64B4 that totally reflect the laser light that is half-reflected without passing through the half mirror among the laser light split into two by the
レーザ光照射ユニット60B2は、分光ユニット63Bによって二つに分光されたレーザ光のうちハーフミラーを透過したレーザ光を全反射するミラーユニット67B1〜67B5と、集光レンズを内蔵する鏡筒68Bと、ミラーユニット67B1、67B2の間でレーザ光を遮るシャッタ69Bとを含んでいる。レーザ光照射ユニット60B2に入射されたレーザ光は、シャッタ69Bを開放することで、ミラーユニット67B1〜67B4に全反射されて鏡筒68Bに入射され、鏡筒68B内の集光レンズを介してワークWbに照射される。
The laser light irradiation unit 60B2 includes mirror units 67B1 to 67B5 that totally reflect the laser light transmitted through the half mirror among the laser light split into two by the
XYテーブル70B1はレーザ光照射ユニット60B1の下方に、XYテーブル70B2はレーザ光照射ユニット60B2の下方にそれぞれ配置されている。鏡筒65B、68Bの光軸はいずれもZ軸に平行に固定されており、XYテーブル70B1、70B2上のワークWa、Wbに対してそれぞれ垂直にレーザ光が照射される。XYテーブル70B1、70B2の走査台(XY駆動ユニット)は、ワークWa、Wbを載せてX−Y軸方向に水平移動される。これにより、ワークWa、Wbにおける水平方向の任意の位置にレーザ光を照射させることができ、ワークWa、Wbの表面に任意のスクライブラインが形成される。 The XY table 70B1 is disposed below the laser light irradiation unit 60B1, and the XY table 70B2 is disposed below the laser light irradiation unit 60B2. The optical axes of the lens barrels 65B and 68B are both fixed in parallel to the Z axis, and laser beams are irradiated perpendicularly to the workpieces Wa and Wb on the XY tables 70B1 and 70B2. The scanning table (XY drive unit) of the XY tables 70B1 and 70B2 is horizontally moved in the XY axis direction with the workpieces Wa and Wb mounted thereon. Thereby, a laser beam can be irradiated to any position in the horizontal direction on the workpieces Wa and Wb, and an arbitrary scribe line is formed on the surfaces of the workpieces Wa and Wb.
制御部100は、レーザ処理装置1の各部、すなわち供給ユニット10、搬出ユニット20、搬送機50A、50B、レーザ光照射ユニット60A1、60A2、60B1及び60B2、XYテーブル70A1、70A2、70B1及び70B2、レーザ光発振ユニット80、及び分岐ユニット81の作動を制御して下記のレーザ加工を行う。
The
続いて、レーザ処理装置1によって行うレーザ加工について説明する。
まず、レーザ加工の前段階において、搬送機50Aを供給ユニット10の近傍に配置し、搬送機50Bを処理エリア40と搬出ユニット20との中間に配置する。レーザ加工の開始と共に、搬送機50Aは、一組目の未処理ワークWa、Wbを、把持部51を使って吸着すると共に供給ユニット10から取り出し、把持部51を回動させてワークWa、Wbの向きを処理エリア40側にシフトさせる。続いて、搬送機50Aは、ワークWa、Wbと共に供給ユニット10から処理エリア40Aに移動される。処理エリア40Aに移動された搬送機50Aは、処理エリア40Aに対するワーク投入の許可信号が発信されていることを条件(トリガー)に、一組目の未処理ワークWa、Wbを処理エリア40Aに投入する。すなわち、搬送機50Aは、把持部51から一組目のワークWa、Wbの吸着を解除し、ワークWaをXYテーブル70A1の走査台上に載置すると共に、ワークWbをXYテーブル70A2の走査台上に載置する。
一組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aに投入した搬送機50Aは、二組目の未処理ワークを取り出すために処理エリア40Aから供給ユニット10に移動される。
Next, laser processing performed by the
First, in the pre-stage of laser processing, the
The
供給ユニット10に戻った搬送機50Aは、二組目の未処理ワークWa、Wbを、把持部51を使って吸着すると共に供給ユニット10から取り出し、上記と同様にワークWa、Wbの向きを処理エリア40側にシフトさせてから、供給ユニット10から処理エリア40Bに移動される。処理エリア40Bに移動された搬送機50Aは、処理エリア40Bに対するワーク投入の許可信号が発信されていることを条件に、二組目の未処理ワークWa、Wbを処理エリア40Bに投入する。すなわち、搬送機50Aは、把持部51から二組目のワークWa、Wbの吸着を解除し、ワークWaをXYテーブル70B1の走査台上に載置すると共に、ワークWbをXYテーブル70B2の走査台上に載置する。
二組目のワークWa、Wbを処理エリア40Bに投入した搬送機50Aは、三組目の未処理ワークWa、Wbを取り出すために処理エリア40Bから供給ユニット10に移動される。
The
The
処理エリア40Aでは、XYテーブル70A1、70A2が、一組目のワークWa、Wbをそれぞれ所定の位置に移動させる。その後、該ワークWa、Wbに対して、レーザ光照射ユニット60A1、60A2が同時にレーザ光を照射すると共に、XYテーブル70A1、70A2を任意の方向に水平移動させる。これにより、一組目のワークWa、Wbの表面に任意のスクライブラインが形成される。その後、ワークWa、Wbに対してスクライブラインに沿った分断加工が施され、ワークWa、Wbは必要な部分(ワーク本体部)と余剰片とに分断される。不要な余剰片は、図示しない第1の吸引装置により回収される。分断加工は、例えばスクライブラインに沿って超音波振動子を当接させて行われる。また、余剰片の吸引、回収は、分断加工と同時、又は分断加工後のいずれのタイミングで行っても良い。
In the
処理エリア40Bでは、XYテーブル70B1、70B2が、二組目のワークWa、Wbをそれぞれ所定の位置に移動させる。その後、該ワークWa、Wbに対して、レーザ光照射ユニット60B1、60B2が同時にレーザ光を照射すると共に、XYテーブル70A1、70A2を任意の方向に水平移動させる。これにより、二組目のワークWa、Wbの表面に任意のスクライブラインが形成される。その後、ワークWa、Wbに対してスクライブラインに沿って分断加工が施され、ワークWa、Wbは必要な部分(ワーク本体部)と余剰片とに分断される。不要な余剰片は、前述の図示しない第1の吸引装置により回収される。
搬送機50Aが、三組目の未処理ワークを取り出すために処理エリア40Bから供給ユニット10に移動された後、搬送機50Bは、一組目のワークWa、Wbを取り出すために処理エリア40Aに移動される。
In the
After the
処理エリア40Aに移動された搬送機50Bは、処理エリア40Aに対するワーク取り出しの許可信号が発信されていることを条件に、分断加工を終えた一組目のワークWa、Wbを、把持部51を使って吸着すると共に処理エリア40Aから取り出し、把持部51の向きをさらに90°転換したうえで、搬出ユニット20に移動される。その後、分断加工を終えた一組目のワークWa、Wbは、搬送機50Bから搬出ユニット20に受け渡される。
一組目のワークWa、Wbを搬出ユニット20に受け渡した搬送機50Bは、二組目のワークWa、Wbを取り出すために処理エリア40Bに移動される。
The
The
搬送機50Bが、一組目のワークWa、Wbを搬出ユニット20に受け渡している間に、搬送機50Aは、供給ユニット10から三組目の未処理ワークWa、Wbを取り出し、処理エリア40Aに移動される。この間、処理エリア40Aでは、図示しない第2の吸引装置が、XYテーブル70A1、70A2の走査台の表面を吸引することで、ガラスの屑片が除去される。処理エリア40Aのクリーニングが終了したら、搬送機50Aは、三組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aに投入する。
三組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aに投入した搬送機50Aは、四組目の未処理ワークWa、Wbを取り出すために処理エリア40Aから供給ユニット10に移動される。
While the
The
処理エリア40Bに移動された搬送機50Bは、処理エリア40Bに対するワーク取り出しの許可信号が発信されていることを条件に、分断加工を終えた二組目のワークWa、Wbを、把持部51を使って吸着すると共に処理エリア40Bから取り出し、上記と同様に、搬出ユニット20に移動される。その後、分断加工を終えた二組目の処理済ワークWa、Wbは、搬送機50Bから搬出ユニット20に受け渡される。
二組目のワークWa、Wbを搬出ユニット20に受け渡した搬送機50Bは、処理エリア40Bと搬出ユニット20との間に移動され、待機とされる。
The
The
搬送機50Bが、二組目のワークWa、Wbを搬出ユニット20に受け渡している間に、搬送機50Aは、供給ユニット10から四組目の未処理ワークWa、Wbを取り出し、処理エリア40Bに移動される。この間、処理エリア40Bでは、前述の図示しない第2の吸引装置が、XYテーブル70B1、70B2の走査台の表面を吸引することで、ガラスの屑片が除去される。処理エリア40Bのクリーニングが終了したら、搬送機50Aは、四組目のワークWa、Wbを処理エリア40Bに投入する。
四組目のワークWa、Wbを処理エリア40Bに投入した搬送機50Aは、供給ユニット10に移動され、待機とされる。
以後は上記の工程を繰り返して、複数のワークWa、Wbに順次レーザ加工が施される。
While the
The
Thereafter, the above steps are repeated, and the plurality of workpieces Wa and Wb are sequentially subjected to laser processing.
本実施形態によれば、処理エリア40A(又は40B)におけるレーザ加工のアイドルタイムの間、処理エリア40B(又は40A)のレーザ加工の準備を行い、レーザ加工中の処理エリアの作業とレーザ加工準備中の処理エリアの作業を交互に行い、時間的に重畳させることで、見かけ上、アイドルタイムを削減することができる。例えば、処理エリア40Aにおいて、
1)搬送機50Aが供給ユニット10からワークを取り出して処理エリア40Aに移動され、該ワークを処理エリア40Aに投入する工程、
2)処理エリア40Aにおいてワークにレーザ加工を施す工程、
3)搬送機50Bが処理エリア40Aから処理済のワーク(分断加工後のワーク)を取り出し、該ワークを搬出ユニット20に搬出する工程、
4)搬送機50Aを処理エリア40Aから供給ユニット10に移動させる工程、
5)搬送機50Bを搬出ユニット20から処理エリア40Aに移動させる工程
等の工程が行われるとき、処理エリア40Bにおいて、前述の1)−5)における所定の工程を時間的に重畳させて行う。これにより、ワークWa、Wbが供給ユニット10から取り出され、分断加工を終えて搬出ユニット20に受け渡されるまでの間に生じるアイドルタイムを削減することができる。これにより、ワークWa、Wbに対するレーザ加工のプロセスが改善され、製品製造のサイクルタイムを短縮することができる、ワークを含む各種製品の量産性が向上する。
According to this embodiment, during the idle time of laser processing in the
1) a step in which the
2) A step of performing laser processing on the workpiece in the
3) a step in which the
4) a step of moving the
5) When a process such as a process of moving the
ところで、本実施形態では、搬送機50Aは、処理エリア40A又は処理エリア40Bのいずれかに対するワーク投入の許可信号が発信されているとき、そのワーク投入許可信号が発信されている処理エリアに、ワークWa、Wbを投入する。それ以外に、搬送機50Aは、処理エリア40A又は処理エリア40Bの両方に対するワーク投入の許可信号が発信されているとき、処理エリア40A又は処理エリア40Bのうち任意に選択されるいずれかの処理エリアにワークWa、Wbを投入するようにしてもよい。
By the way, in this embodiment, when the workpiece feeding permission signal is transmitted to either the
また、本実施形態では、搬送機50Bは、処理エリア40A又は処理エリア40Bのいずれかに対するワーク取り出しの許可信号が発信されているとき、そのワーク取り出し許可信号が発信されている処理エリアからワークWa、Wbを取り出す。それ以外に、搬送機50Aは、処理エリア40A又は処理エリア40Bの両方に対するワーク取り出しの許可信号が発信されているとき、処理エリア40A又は処理エリア40Bのうち任意に選択されるいずれかの処理エリアから、ワークWa、Wbを取り出すようにしてもよい。
In the present embodiment, when the workpiece removal permission signal is transmitted to either the
(第二の実施形態)
図5から図7に示すように、本発明の第二の実施形態としてのレーザ処理装置2は、第一の実施形態に含まれる構成の他に、ワークWを反転させる反転ユニット90を備えている。
反転ユニット90は、処理エリア40よりもワークWの搬送方向上流側、すなわち供給ユニット10と処理エリア40Aとの間に、搬送路30に臨んで設けられている。反転ユニット90は、二枚のワークWa、Wbを吸着して把持する吸着アーム91a、91bと、ワークWa、Wbが載置される反転台92a、92bとを備えている。反転ユニット90の作動も、制御部100に制御される。吸着アーム91a、91bは、搬送機50AからワークWa、Wbを受け取り、Y軸(ワークWa、Wbの配列方向と直交する水平軸)まわりに180°回転され、その後、ワークWa、Wbを反転台92a、92bにそれぞれ載置する。これにより、ワークWa、Wbが反転され、表裏が逆になる。
(Second embodiment)
As shown in FIGS. 5 to 7, the laser processing apparatus 2 as the second embodiment of the present invention includes a reversing
The reversing
本実施形態において、搬送機50Aは、供給ユニット10と反転ユニット90との間でワークWa、Wbを搬送し、さらに反転ユニット90と処理エリア40A(又は40B)との間でワークWa、Wbを搬送する。搬送機50Bは、処理エリア40A(又は40B)と搬出ユニット20との間でワークWa、Wbを搬送する。
In the present embodiment, the
続いて、レーザ処理装置2によって行うレーザ加工について説明する。
まず、レーザ加工の前段階において、搬送機50Aを供給ユニット10の近傍に配置させ、搬送機50Bを処理エリア40Bと搬出ユニット20との中間に配置させる。レーザ加工の開始と共に、搬送機50Aは、一組目の未処理ワークWa、Wbを、把持部51を使って吸着する共に供給ユニット10から取り出し、把持部51を回動させてワークWa、Wbの向きを処理エリア40側にシフトさせる。続いて、搬送機50Aを供給ユニット10から処理エリア40Aに移動させる。処理エリア40Aに移動された搬送機50Aは、ワークWaをXYテーブル70A1の走査台上に載置すると共に、ワークWbをXYテーブル70A2の走査台上に載置する。
一組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aに投入した搬送機50Aは、二組目の未処理ワークを取り出すために処理エリア40Aから供給ユニット10に移動される。
Next, laser processing performed by the laser processing apparatus 2 will be described.
First, in the pre-stage of laser processing, the
The
供給ユニット10に戻った搬送機50Aは、二組目の未処理ワークWa、Wbを供給ユニット10から取り出し、上記と同様にワークWa、Wbの向きを処理エリア40側にシフトさせてから、供給ユニット10から処理エリア40Bに移動される。処理エリア40Bに移動された搬送機50Aは、ワークWaをXYテーブル70B1の走査台上に載置すると共に、ワークWbをXYテーブル70B2の走査台上に載置する。
二組目のワークWa、Wbを処理エリア40Bに投入した搬送機50Aは、処理エリア40Aに移動される。
The
The
処理エリア40Aでは、制御部100がレーザ光照射ユニット60A1、60A2と、XYテーブル70A1、70A2とを協働させ、一組目のワークWa、Wbの一方の面にスクライブラインが形成される。同様に、処理エリア40Bでは、制御部100がレーザ光照射ユニット60B1、60B2と、XYテーブル70B1、70B2とを協働させ、二組目のワークWa、Wbの一方の面にスクライブラインが形成される。
In the
一組目のワークWa、Wbの一方の面にスクライブラインが形成された後、搬送機50Aは、処理エリア40Aから一方の面に対するレーザ加工を終えた一組目のワークWa、Wbを取り出す。一組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aから取り出した搬送機50Aは、反転ユニット90に移動され、一組目のワークWa、Wbを反転ユニット90に受け渡す。反転ユニット90は、一組目のワークWa、Wbの表裏を反転させる。搬送機50Aは、表裏を反転させた一組目のワークWa、Wbを反転ユニット90から取り出した後、処理エリア40Aに移動される。この間、処理エリア40Aでは、図示しない第2の吸引装置により、XYテーブル70A1、70A2の走査台に吸引処理が施され、ガラスの屑片が除去される。処理エリア40Aのクリーニングが終了した後、搬送機50Aは、表裏を反転させた一組目のワークWa、Wbを、再び処理エリア40Aに投入する。
After a scribe line is formed on one surface of the first set of workpieces Wa and Wb, the
二組目のワークWa、Wbの一方の面にスクライブラインが形成された後、搬送機50Aは、処理エリア40Bに移動され、処理エリア40Bから一方の面に対するレーザ加工を終えた二組目のワークWa、Wbを取り出す。二組目のワークWa、Wbを処理エリア40Bから取り出した搬送機50Aは、反転ユニット90に移動され、二組目のワークWa、Wbを反転ユニット90に受け渡す。反転ユニット90は、二組目のワークWa、Wbの表裏を反転させる。搬送機50Aは、表裏を反転された二組目のワークWa、Wbを反転ユニット90から取り出した後、処理エリア40Bに移動される。この間、処理エリア40Bでは、図示しない第2の吸引装置により、XYテーブル70B1、70B2の走査台に吸引処理が施され、ガラスの屑片が除去される。処理エリア40Bのクリーニングが終了した後、搬送機50Aは、表裏を反転させた二組目のワークWa、Wbを、再び処理エリア40Bに投入する。
After the scribe line is formed on one surface of the second set of workpieces Wa and Wb, the
処理エリア40Aでは、制御部100がレーザ光照射ユニット60A1、60A2と、XYテーブル70A1、70A2とを協働させ、一組目のワークWa、Wbの他方の面に、一方の面に既に形成されたスクライブラインを裏からなぞる新たなスクライブラインが形成される。その後、ワークWa、Wbに対してスクライブラインに沿った分断加工が施され、ワークWa、Wbは必要な部分(ワーク本体部)と余剰片とに分断される。不要な余剰片は、図示しない第1の吸引装置により回収される。
In the
その後、搬送機50Bは、分断加工を終えた一組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aから取り出し、搬出ユニット20に移動される。搬出ユニット20に移動された搬送機50Bは、分断加工を終えた一組目のワークWa、Wbを、搬出ユニット20に受け渡す。
一組目のワークWa、Wbを搬出ユニット20に受け渡した搬送機50Bは、二組目のワークWa、Wbを取り出すために処理エリア40Bに移動される。
Thereafter, the conveyor 50 </ b> B takes out the first set of workpieces Wa and Wb that have been subjected to the dividing process from the
The
搬送機50Bが、一組目のワークWa、Wbを搬出ユニット20に受け渡している間に、搬送機50Aは、供給ユニット10から三組目の未処理ワークWa、Wbを取り出し、処理エリア40Aに移動される。この間、処理エリア40Aでは、上記と同様にXYテーブル70A1、70A2の走査台に吸引処理が施され、ガラスの屑片が除去される。処理エリア40Aのクリーニングが終了した後、搬送機50Aは、三組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aに投入する。
三組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aに投入した搬送機50Aは、四組目の未処理ワークWa、Wbを取り出すために処理エリア40Aから供給ユニット10に移動される。
While the
The
処理エリア40Bでは、制御部100がレーザ光照射ユニット60B1、60B2と、XYテーブル70B1、70B2とを協働させ、二組目のワークWa、Wbの他方の面に、一方の面に既に形成されたスクライブラインを裏からなぞる新たなスクライブラインが形成される。その後、ワークWa、Wbに対してスクライブラインに沿った分断加工が施され、ワークWa、Wbは必要な部分(ワーク本体部)と余剰片とに分断される。不要な余剰片は、図示しない第1の吸引装置により回収される。
In the
その後、搬送機50Bは、分断加工を終えた二組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aから取り出し、搬出ユニット20に移動される。搬出ユニット20に移動された搬送機50Bは、分断加工を終えた二組目のワークWa、Wbを、搬出ユニット20に受け渡す。
二組目のワークWa、Wbを搬出ユニット20に受け渡した搬送機50Bは、処理エリア40Bと搬出ユニット20との間、又は処理エリア40Aに移動され、待機とされる。搬送機50Bがどちらに移動されるかは、ワーク加工に伴うサイクルタイムの長短によって事前に設定される。又は、処理エリア40A、40Bの稼働状況と搬送機50Aの搬送状況に応じて、制御部100が搬送機50Bをどちらに移動させるべきかを判断、決定するようにしてもよい。
Thereafter, the
The
搬送機50Bが、二組目のワークWa、Wbを搬出ユニット20に受け渡している間に、搬送機50Aは、供給ユニット10から四組目の未処理ワークWa、Wbを取り出し、処理エリア40Bに移動される。この間、処理エリア40Bでは、上記と同様にXYテーブル70B1、70B2の走査台に吸引処理が施され、ガラスの屑片が除去される。処理エリア40Bのクリーニングが終了したら、搬送機50Aは、四組目のワークWa、Wbを処理エリア40Bに投入する。
四組目のワークWa、Wbを処理エリア40Bに投入した搬送機50Aは、供給ユニット10の近傍に移動され、待機とされる。
以後は上記のサイクルを繰り返して、複数のワークWa、Wbに順次レーザ加工を施す。
While the
The
Thereafter, the above cycle is repeated to sequentially perform laser processing on the plurality of workpieces Wa and Wb.
本実施形態によれば、ワークWa、Wbが供給ユニット10から取り出され、レーザ加工、分断加工を終えて搬出ユニット20に受け渡されるまでの間に生じるアイドルタイムを削減することができる。これにより、ワークWa、Wbに対するレーザ加工のプロセスが改善され、製品製造のサイクルタイムを短縮することができる、ワークを含む各種製品の量産性が向上する。
According to the present embodiment, it is possible to reduce the idle time that occurs between the time when the workpieces Wa and Wb are taken out from the
(第三の実施形態)
図8から図10に示すように、本発明の第三の実施形態としてのレーザ処理装置3は、第二の実施形態に含まれる構成の他に、搬送路30上に、搬送機50A、50Bと協働してワークWを搬送する搬送機(第三の搬送機)50Cを備えている。
搬送機50Cは、搬送機50A、50Bと同様に、二枚のワークWを同時に吸着して把持する一対のアームを有する把持部51と、把持部51を垂直なZ軸まわりに回動させる回動部52と、搬送路30に沿って移動される走行台車53とを備えている。搬送機50Cにおける吸着、回動及び移動は、搬送機50A、50Bと同様、制御部100によって制御される。
(Third embodiment)
As shown in FIGS. 8 to 10, the laser processing apparatus 3 as the third embodiment of the present invention includes, on the
Similarly to the
本実施形態において、搬送機50Aは、供給ユニット10と反転ユニット90との間でワークWを搬送し、搬送機50Bは、反転ユニット90と処理エリア40A(又は40B)との間でワークWを搬送し、搬送機50Cは、処理エリア40A(又は40B)と搬出ユニット20との間でワークWを搬送する。
In the present embodiment, the
続いて、レーザ処理装置3によって行うレーザ加工について説明する。
まず、レーザ加工の前段階において、搬送機50Aを供給ユニット10の近傍に配置し、搬送機50Bを反転ユニット90と処理エリア40との中間に配置する。さらに、搬送機50Cを処理エリア40Bと搬出ユニット20との中間に配置する。レーザ加工の開始と共に、搬送機50Aは、一組目の未処理ワークWa、Wbを、把持部51を使って吸着すると共に供給ユニット10から取り出し、把持部51を回動させてワークWa、Wbの向きを反転ユニット90側にシフトさせる。続いて、搬送機50Aは、一組目のワークWa、Wbと共に供給ユニット10から反転ユニット90に移動され、ワークWa、Wbを反転ユニット90に受け渡す。
一組目のワークWa、Wbを反転ユニット90に受け渡した搬送機50Aは、二組目の未処理ワークWa、Wbを取り出すために供給ユニット10に移動される。
Next, laser processing performed by the laser processing apparatus 3 will be described.
First, in the pre-stage of laser processing, the
The
一組目のワークWa、Wbを受け取った反転ユニット90は、これらワークWa、Wbの表裏を反転させる。搬送機50Bは、表裏が反転された一組目のワークWa、Wbを反転ユニット90から取り出し、処理エリア40Aに移動される。処理エリア40Aに移動された搬送機50Bは、ワークWaをXYテーブル70A1の走査台上に載置すると共に、ワークWbをXYテーブル70A2の走査台上に載置する。
一組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aに投入した搬送機50Bは、二組目の未処理ワークを取り出すために反転ユニット90に移動される。
供給ユニット10に戻った搬送機50Aは、二組目の未処理ワークWa、Wbを供給ユニット10から取り出し、上記と同様に反転ユニット90に受け渡す。
The reversing
The
The
二組目のワークWa、Wbを受け取った反転ユニット90は、これらワークWa、Wbの表裏を反転させる。搬送機50Bは、表裏が反転された二組目のワークWa、Wbを反転ユニット90から取り出し、処理エリア40Bに移動される。処理エリア40Bに移動された搬送機50Bは、ワークWaをXYテーブル70B1の走査台上に載置すると共に、ワークWbをXYテーブル70B2の走査台上に載置する。
The reversing
処理エリア40Aでは、制御部100がレーザ光照射ユニット60A1、60A2と、XYテーブル70A1、70A2とを協働させ、一組目のワークWa、Wbの一方の面にスクライブラインが形成される。同様に、処理エリア40Bでは、制御部100がレーザ光照射ユニット60A1、60A2と、XYテーブル70A1、70A2とを協働させ、二組目のワークWa、Wbの一方の面にスクライブラインが形成される。
In the
一組目のワークWa、Wbの一方の面にスクライブラインが形成されたら、搬送機50Bは、処理エリア40Aに移動され、一方の面に対するレーザ加工を終えた一組目のワークWa、Wbを取り出す。一組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aから取り出した搬送機50Bは、反転ユニット90に移動され、一組目のワークWa、Wbを反転ユニット90に受け渡す。反転ユニット90は、一組目のワークWa、Wbの表裏を反転させる。搬送機50Bは、表裏が反転された一組目のワークWa、Wbを反転ユニット90から取り出し、処理エリア40Aに移動される。この間、処理エリア40Aでは、図示しない第2の吸引装置により、XYテーブル70A1、70A2の走査台に吸引処理が施され、ガラスの屑片が除去される。処理エリア40Aのクリーニングが終了した後、搬送機50Bは、表裏が反転された一組目のワークWa、Wbを、再び処理エリア40Aに投入する。
When the scribe line is formed on one surface of the first set of workpieces Wa and Wb, the
二組目のワークWa、Wbの一方の面にスクライブラインが形成された後、搬送機50Bは、処理エリア40Bに移動され、一方の面に対するレーザ加工を終えた二組目のワークWa、Wbを取り出す。二組目のワークWa、Wbを処理エリア40Bから取り出した搬送機50Bは、反転ユニット90に移動され、二組目のワークWa、Wbを反転ユニット90に受け渡す。反転ユニット90は、二組目のワークWa、Wbの表裏を反転させる。搬送機50Bは、表裏が反転された二組目のワークWa、Wbを反転ユニット90から取り出し、処理エリア40Bに移動される。この間、処理エリア40Bでは、図示しない第2の吸引装置により、XYテーブル70B1、70B2の走査台に吸引処理が施され、ガラスの屑片が除去される。処理エリア40Aのクリーニングが終了した後、搬送機50Bは、表裏が反転された二組目のワークWa、Wbを、再び処理エリア40Bに投入する。
After the scribe line is formed on one surface of the second set of workpieces Wa and Wb, the
搬送機50Bが、二組目のワークWa、Wbを処理エリア40Bに投入する間に、搬送機50Aは、供給ユニット10から三組目の未処理ワークWa、Wbを取り出し、反転ユニット90に受け渡す。反転ユニット90は、これら三組目のワークWa、Wbの表裏を反転させる。
While the
処理エリア40Aでは、制御部100がレーザ光照射ユニット60A1、60A2と、XYテーブル70A1、70A2とを協働させ、一組目のワークWa、Wbの他方の面に、一方の面に既に形成されたスクライブラインを裏からなぞる新たなスクライブラインが形成される。その後、ワークWa、Wbに対してスクライブラインに沿った分断加工が施され、ワークWa、Wbは必要な部分(ワーク本体部)と余剰片とに分断される。不要な余剰片は、図示しない第1の吸引装置により回収される。
In the
その後、搬送機50Cは、分断加工を終えた一組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aから取り出し、搬出ユニット20に移動される。搬出ユニット20に移動された搬送機50Cは、分断加工を終えた一組目のワークWa、Wbを、搬出ユニット20に受け渡す。
一組目のワークWa、Wbを搬出ユニット20に受け渡した搬送機50Cは、二組目のワークWa、Wbを取り出すために処理エリア40Bに移動される。
Thereafter, the conveyor 50 </ b> C takes out the first set of workpieces Wa and Wb that have been subjected to the dividing process from the
The
搬送機50Cが、一組目のワークWa、Wbを搬出ユニット20に受け渡している間に、搬送機50Bは、表裏が反転された三組目のワークWa、Wbを反転ユニット90から取り出し、処理エリア40Aに移動される。この間、処理エリア40Aでは、上記と同様にXYテーブル70A1、70A2の走査台に吸引処理が施され、ガラスの屑片が除去される。処理エリア40Aのクリーニングが終了した後、搬送機50Bは、三組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aに投入する。
三組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aに投入した搬送機50Bは、四組目の未処理ワークWa、Wbを受け取るために処理エリア40Aから反転ユニット90に移動される。
While the
The
搬送機50Bが、三組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aに投入する間に、搬送機50Aは、供給ユニット10から四組目の未処理ワークWa、Wbを取り出し、反転ユニット90に受け渡す。反転ユニット90は、これら四組目のワークWa、Wbの表裏を反転させる。
四組目の未処理ワークWa、Wbを反転ユニット90に受け渡した搬送機50Aは、供給ユニット10の近傍に移動され、待機とされる。
While the
The
処理エリア40Bでは、制御部100がレーザ光照射ユニット60B1、60B2と、XYテーブル70B1、70B2とを協働させ、二組目のワークWa、Wbの他方の面に、一方の面に既に形成されたスクライブラインを裏からなぞる新たなスクライブラインが形成される。その後、ワークWa、Wbに対してスクライブラインに沿った分断加工が施され、ワークWa、Wbは必要な部分(ワーク本体部)と余剰片とに分断される。不要な余剰片は、図示しない第1の吸引装置により回収される。
In the
その後、搬送機50Cは、分断加工を終えた二組目のワークWa、Wbを処理エリア40Aから取り出し、搬出ユニット20に移動される。搬出ユニット20に移動された搬送機50Cは、分断加工を終えた二組目のワークWa、Wbを、搬出ユニット20に受け渡す。
二組目のワークWa、Wbを搬出ユニット20に受け渡した搬送機50Cは、処理エリア40と搬出ユニット20との間に移動され、待機とされる。
Thereafter, the conveyor 50 </ b> C takes out the second set of workpieces Wa and Wb that have been subjected to the dividing process from the
The
搬送機50Cが、二組目のワークWa、Wbを搬出ユニット20に受け渡している間に、搬送機50Bは、表裏が反転された四組目のワークWa、Wbを反転ユニット90から取り出し、処理エリア40Bに移動される。この間、処理エリア40Bでは、上記と同様にXYテーブル70B1、70B2の走査台に吸引処理が施され、ガラスの屑片が除去される。処理エリア40Bのクリーニングが終了した後、搬送機50Bは、四組目のワークWa、Wbを処理エリア40Bに投入する。
四組目のワークWa、Wbを処理エリア40Bに投入した搬送機50Bは、反転ユニット90と処理エリア40Aとの間に移動され、待機とされる。
以後は上記のサイクルを繰り返して、複数のワークWa、Wbに順次レーザ加工が施される。
While the
The
Thereafter, the above cycle is repeated, and the plurality of workpieces Wa and Wb are sequentially subjected to laser processing.
本実施形態によれば、ワークWa、Wbが供給ユニット10から取り出され、レーザ加工、分断加工を終えて搬出ユニット20に受け渡されるまでの間に生じるアイドルタイムを削減することができる。これにより、ワークWa、Wbに対するレーザ加工のプロセスが改善され、製品製造のサイクルタイムを短縮することができる、ワークを含む各種製品の量産性が向上する。
According to the present embodiment, it is possible to reduce the idle time that occurs between the time when the workpieces Wa and Wb are taken out from the
ところで、本実施形態では、供給ユニット10から取り出したワークWa、Wbを反転ユニット90に受け渡して反転させ、それらワークWa、Wbの一方の面にレーザ光を照射させてスクライブラインが形成される。続いて、それら一方の面にスクライブラインが形成されたワークWa、Wbを再び反転ユニット90に受け渡して反転させ、それらワークWa、Wbの他方の面にレーザ光を照射させてスクライブラインが形成される。しかしながら、ワークWa、Wbの他方の面にもスクライブラインを形成させることなく、一方の面のみにスクライブラインを形成した後、分断加工を施し、そのワークWa、Wbを、搬出ユニット20に受け渡すようにしてもよい。
By the way, in this embodiment, the workpieces Wa and Wb taken out from the
本発明は、ワークにレーザ処理を施すレーザ処理装置、及びワークに対する加工処理方法に関する。本発明によれば、ワークを含む各種製品の量産性を向上させることができる。 The present invention relates to a laser processing apparatus that performs laser processing on a workpiece and a processing method for the workpiece. According to the present invention, the mass productivity of various products including workpieces can be improved.
Claims (12)
前記処理エリアに未処理のワークを供給する第一の搬送機と、
レーザ光が照射された処理済のワークを前記処理エリアから搬出する第二の搬送機と、
前記未処理のワークを前記第一の搬送機に供給する供給ユニットと、
前記処理済のワークを前記第二の搬送機から受け取る搬出ユニットとを備え、
前記処理エリアは、
第一の処理エリア及び第二の処理エリアと、
レーザ光を発振する1つのレーザ光発振ユニットと、
前記レーザ光発振ユニットから発振されたレーザ光を、前記第一の処理エリア及び前記第二の処理エリアに振り分ける分岐ユニットと、
前記第一の処理エリアに設けられ、前記分岐ユニットによって前記第一の処理エリアに振り分けられたレーザ光を、前記第一の処理エリアに供給された前記ワークに照射する第一のレーザ光照射ユニットと、
前記第二の処理エリアに設けられ、前記分岐ユニットによって前記第二の処理エリアに振り分けられたレーザ光を、前記第二の処理エリアに供給された前記ワークに照射する第二のレーザ光照射ユニットとを備えるレーザ処理装置。 A conveyor that holds the workpiece; a conveyance path on which the conveyor travels; and a processing area that is provided facing the conveyance path. The workpiece is supplied to the processing area by the conveyor, and a laser is applied to the workpiece. A laser processing apparatus for irradiating light,
A first conveyor for supplying untreated workpieces to the treatment area;
A second transporter that unloads the processed workpiece irradiated with laser light from the processing area;
A supply unit for supplying the untreated workpiece to the first transporter;
An unloading unit that receives the processed workpiece from the second transporter;
The processing area is
A first processing area and a second processing area;
One laser beam oscillation unit that oscillates the laser beam;
A branching unit that divides the laser light oscillated from the laser light oscillation unit into the first processing area and the second processing area;
A first laser light irradiation unit that is provided in the first processing area and that irradiates the workpiece supplied to the first processing area with the laser light distributed to the first processing area by the branch unit. When,
A second laser light irradiation unit that is provided in the second processing area and that irradiates the workpiece supplied to the second processing area with the laser light distributed to the second processing area by the branch unit. A laser processing apparatus.
前記第一の搬送機は、前記反転ユニットと前記第一の処理エリア又は前記第二の処理エリアとの間で前記未処理のワーク又は前記処理済のワークを搬送する、請求項1に記載のレーザ処理装置。 A reversing unit that faces the transport path and is provided on the upstream side of the first processing area in the transport direction, and further reverses the workpiece,
The said 1st conveying machine conveys the said un-processed workpiece | work or the said processed workpiece | work between the said inversion unit and said 1st processing area or said 2nd processing area. Laser processing equipment.
前記分岐ユニットにて振り分けられたレーザ光を、少なくとも2つのレーザ光に分光する分光ユニットと、
前記第一の処理エリアに設けられ、前記分光ユニットによって前記第一の処理エリアに振り分けられた少なくとも2つのレーザ光を、前記第一の処理エリアに供給されたそれぞれの前記ワークに照射する第一のレーザ光照射ユニット群と、
前記第二の処理エリアに設けられ、前記分光ユニットによって前記第二の処理エリアに振り分けられた少なくとも2つのレーザ光を、前記第二の処理エリアに供給されたそれぞれの前記ワークに照射する第二のレーザ光照射ユニット群とをさらに備える、請求項1に記載のレーザ処理装置。 The processing area is
A spectroscopic unit that splits the laser light distributed by the branch unit into at least two laser lights;
A first irradiation unit configured to irradiate each workpiece supplied to the first processing area with at least two laser beams provided in the first processing area and distributed to the first processing area by the spectroscopic unit. A group of laser light irradiation units,
A second laser beam is provided in the second processing area, and irradiates each workpiece supplied to the second processing area with at least two laser beams distributed to the second processing area by the spectroscopic unit. The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising: a laser beam irradiation unit group.
前記搬送路に臨んで、かつ前記処理エリアよりも搬送方向上流側に設けられ、前記ワークを反転させる反転ユニットと、
前記反転ユニットに未処理のワークを供給する第一の搬送機と、
前記処理エリアに未処理のワークを供給する第二の搬送機と、
レーザ光が照射された処理済のワークを前記処理エリアから搬出する第三の搬送機と、
前記未処理のワークを前記第一の搬送機に供給する供給ユニットと、
前記処理済のワークを前記第三の搬送機から受け取る搬出ユニットと、を備え、
前記処理エリアは、
第一の処理エリア及び第二の処理エリアと、
レーザ光を発振する1つのレーザ光発振ユニットと、
前記レーザ光発振ユニットから発振されたレーザ光を、前記第一の処理エリア又は前記第二の処理エリアに振り分ける分岐ユニットと、
前記第一の処理エリアに設けられ、前記分岐ユニットによって前記第一の処理エリアに振り分けられたレーザ光を、前記第一の処理エリアに供給された前記ワークに照射する第一のレーザ光照射ユニットと、
前記第二の処理エリアに設けられ、前記分岐ユニットによって前記第二の処理エリアに振り分けられたレーザ光を、前記第二の処理エリアに供給された前記ワークに照射する第二のレーザ光照射ユニットとを備えるレーザ処理装置。 A transport machine that holds the work, a transport path on which the transport machine travels, and a processing area that is provided facing the transport path. A laser processing apparatus for irradiating a laser beam,
An inversion unit that faces the conveyance path and is provided on the upstream side in the conveyance direction from the processing area, and reverses the workpiece.
A first transporter for supplying unprocessed workpieces to the reversing unit;
A second transporter for supplying unprocessed workpieces to the processing area;
A third transfer machine for carrying out the processed workpiece irradiated with laser light from the processing area;
A supply unit for supplying the untreated workpiece to the first transporter;
A carry-out unit for receiving the processed workpiece from the third transfer machine,
The processing area is
A first processing area and a second processing area;
One laser beam oscillation unit that oscillates the laser beam;
A branching unit that distributes the laser light oscillated from the laser light oscillation unit to the first processing area or the second processing area;
A first laser light irradiation unit that is provided in the first processing area and that irradiates the workpiece supplied to the first processing area with the laser light distributed to the first processing area by the branch unit. When,
A second laser light irradiation unit that is provided in the second processing area and that irradiates the workpiece supplied to the second processing area with the laser light distributed to the second processing area by the branch unit. A laser processing apparatus.
前記分岐ユニットにて振り分けられたレーザ光を、少なくとも2つのレーザ光に分光する分光ユニットと、
前記第一の処理エリアに設けられ、前記分光ユニットによって前記第一の処理エリアに振り分けられた少なくとも2つのレーザ光を、前記第一の処理エリアに供給されたそれぞれの前記ワークに照射する第一のレーザ光照射ユニット群と、
前記第二の処理エリアに設けられ、前記分光ユニットによって前記第二の処理エリアに振り分けられた少なくとも2つのレーザ光を、前記第二の処理エリアに供給されたそれぞれの前記ワークに照射する第二のレーザ光照射ユニット群とをさらに備える、請求項4に記載のレーザ処理装置。 The processing area is
A spectroscopic unit that splits the laser light distributed by the branch unit into at least two laser lights;
A first irradiation unit configured to irradiate each workpiece supplied to the first processing area with at least two laser beams provided in the first processing area and distributed to the first processing area by the spectroscopic unit. A group of laser light irradiation units,
A second laser beam is provided in the second processing area, and irradiates each workpiece supplied to the second processing area with at least two laser beams distributed to the second processing area by the spectroscopic unit. The laser processing apparatus according to claim 4, further comprising a laser beam irradiation unit group.
前記第一の搬送機を前記供給ユニットの近傍に移動させるとともに、前記第二の搬送機を前記処理エリアと前記搬出ユニットとの中間に移動させ、
前記供給ユニットに前記未処理のワークを供給させ、該未処理のワークを前記第一の搬送機に取り出させるとともに、該第一の搬送機を前記供給ユニットから前記処理エリアへ移動させ、
前記処理エリアに前記第一の搬送機が保持する前記未処理のワークを投入させ、
前記第一の搬送機を前記供給ユニットへ移動させるとともに、前記第二の搬送機を処理エリアに移動させ、
前記処理エリアに投入された前記未処理のワークに対して加工を施し、
加工が施された該処理済のワークを前記第二の搬送機に取り出させるとともに、該第二の搬送機を前記処理エリアから前記搬出ユニットへ移動させ、前記処理済のワークを前記第二の搬送機から前記搬出ユニットに受け渡させる、加工処理方法。 An unprocessed workpiece supply unit, a processed workpiece unloading unit, a transfer path provided between the supply unit and the unloading unit, a processing area provided facing the transfer path, and the transfer A first transporter that travels on a road and supplies the unprocessed work to the processing area; and a second transporter that transports the processed work that has traveled and processed on the transport path from the processing area. A processing method for processing the workpiece using a processing apparatus including a transfer machine,
While moving the first transporter in the vicinity of the supply unit, moving the second transporter between the processing area and the unloading unit,
The unprocessed work is supplied to the supply unit, the unprocessed work is taken out by the first transporter, and the first transporter is moved from the supply unit to the processing area,
The unprocessed work held by the first transfer machine is thrown into the processing area,
Moving the first transporter to the supply unit and moving the second transporter to the processing area;
Processing the unprocessed work put in the processing area,
The processed workpiece that has been processed is taken out by the second transporter, the second transporter is moved from the processing area to the unloading unit, and the processed workpiece is moved to the second transporter. A processing method for delivering from a transfer machine to the carry-out unit.
前記第一の搬送機を前記供給ユニットの近傍に移動させるとともに、前記第二の搬送機を前記処理エリアと前記搬出ユニットとの中間に移動させ、
前記供給ユニットに前記未処理のワークを供給させ、該未処理のワークを前記第一の搬送機に取り出させるとともに、該第一の搬送機を前記供給ユニットから前記処理エリアへ移動させ、
前記処理エリアに前記第一の搬送機が保持する前記未処理のワークを投入させ、
前記処理エリアに投入された前記未処理のワークに対して加工を施し、
加工が施された該処理済のワークを前記第一の搬送機に取り出させるとともに、該第一の搬送機を前記処理エリアから前記反転ユニットへ移動させ、
前記処理済のワークを前記第一の搬送機から前記反転ユニットに受け渡させるとともに、該ワークを反転させ、
該反転されたワークを前記第一の搬送機に取り出させるとともに、該第一の搬送機を前記反転ユニットから前記処理エリアへ移動させ、
前記処理エリアに前記第一の搬送機が保持する前記反転されたワークを投入させ、
前記第一の搬送機を前記供給ユニットへ移動させるとともに、前記第二の搬送機を処理エリアに移動させ、
前記処理エリアに投入された前記反転されたワークに対して加工を施し、
表裏に加工が施された処理済のワークを前記第二の搬送機に取り出させるとともに、該第二の搬送機を前記処理エリアから前記搬出ユニットへ移動させ、前記処理済のワークを前記第二の搬送機から前記搬出ユニットに受け渡させる、請求項6に記載の加工処理方法。 A reversing unit that faces the transport path and is provided on the upstream side of the processing area in the transport direction, and further reverses the workpiece,
While moving the first transporter in the vicinity of the supply unit, moving the second transporter between the processing area and the unloading unit,
The unprocessed work is supplied to the supply unit, the unprocessed work is taken out by the first transporter, and the first transporter is moved from the supply unit to the processing area,
The unprocessed work held by the first transfer machine is thrown into the processing area,
Processing the unprocessed work put in the processing area,
The processed workpiece subjected to processing is taken out by the first transfer machine, and the first transfer machine is moved from the processing area to the reversing unit,
While passing the processed work from the first transporter to the reversing unit, reversing the work,
The first work machine is caused to take out the reversed work and the first work machine is moved from the reversing unit to the processing area.
Put the inverted work held by the first transporter into the processing area,
Moving the first transporter to the supply unit and moving the second transporter to the processing area;
Processing is performed on the inverted workpiece put in the processing area,
The processed workpiece with the front and back processed is taken out by the second transporter, and the second transporter is moved from the processing area to the unloading unit, and the processed workpiece is moved to the second transporter. The processing method according to claim 6, wherein the transfer unit is transferred to the carry-out unit.
前記第一の搬送機を前記供給ユニットの近傍に移動させるとともに、前記第二の 搬送機を前記第一の処理エリア又は前記第二の処理エリアと前記搬出ユニットとの中間に移動させ、
前記供給ユニットに一の未処理のワークを供給させ、該一の未処理のワークを前記第一の搬送機に取り出させるとともに、該第一の搬送機を前記供給ユニットから前記第一の処理エリアへ移動させ、
前記第一の処理エリアに前記第一の搬送機が保持する前記一の未処理のワークを投入させ、
該第一の搬送機を前記第一の処理エリアから前記供給ユニットへ移動させるとともに、前記第一の処理エリアに投入された前記一の未処理のワークに対して加工を施し、
前記供給ユニットに他の未処理のワークを供給させ、該他の未処理のワークを前記第一の搬送機に取り出させるとともに、該第一の搬送機を前記供給ユニットから前記第二の処理エリアへ移動させ、
前記第二の処理エリアに前記第一の搬送機が保持する前記他の未処理のワークを投入させ、
前記第一の搬送機を前記第二の処理エリアから前記供給ユニットへ移動させるとともに、前記第二の搬送機を前記第一の処理エリアに移動させ、前記第二の処理エリアに投入された前記他の未処理のワークに対して加工を施し、
前記第一の処理エリアで加工が施された一の処理済のワークを前記第二の搬送機に取り出させるとともに、該第二の搬送機を前記第一の処理エリアから前記搬出ユニットへ移動させ、前記一の処理済のワークを前記第二の搬送機から前記搬出ユニットに受け渡させ、
前記供給ユニットにさらに別の未処理のワークを供給させ、該さらに別の未処理のワークを前記第一の搬送機に取り出させるとともに、前記第一の搬送機を前記供給ユニットから前記第一の処理エリアへ移動させ、前記第一の処理エリアに前記第一の搬送機が保持するさらに別の未処理のワークを投入させ、
前記第二の搬送機を前記搬出ユニットから前記第二の処理エリアへ移動させ、
前記第二の処理エリアで加工が施された他の処理済のワークを前記第二の搬送機に取り出させるとともに、該第二の搬送機を前記第二の処理エリアから前記搬出ユニットへ移動させ、前記他の処理済のワークを前記第二の搬送機から前記搬出ユニットに受け渡させる、請求項6に記載の加工処理方法。 The processing area comprises a first processing area and a second processing area provided facing the transport path,
Moving the first transporter in the vicinity of the supply unit and moving the second transporter in the middle of the first processing area or the second processing area and the unloading unit;
One unprocessed work is supplied to the supply unit, the one unprocessed work is taken out by the first transporter, and the first transporter is removed from the supply unit to the first processing area. Move to
Letting the first unprocessed work held by the first transporter into the first processing area,
The first transfer machine is moved from the first processing area to the supply unit, and the one unprocessed workpiece put into the first processing area is processed,
The supply unit is supplied with another unprocessed work, the other unprocessed work is taken out by the first transport device, and the first transport device is removed from the supply unit to the second processing area. Move to
The other unprocessed work held by the first transfer machine is put into the second processing area,
The first transporter is moved from the second processing area to the supply unit, the second transporter is moved to the first processing area, and the second processing area is put into the second processing area. Processing other untreated workpieces,
One processed workpiece processed in the first processing area is taken out by the second transporter, and the second transporter is moved from the first processing area to the unloading unit. , Passing the one processed workpiece from the second transporter to the unloading unit,
The supply unit is further supplied with another unprocessed workpiece, the further unprocessed workpiece is taken out by the first conveyor, and the first conveyor is removed from the supply unit to the first Move to the processing area, put another unprocessed work held by the first transporter into the first processing area,
Moving the second transporter from the unloading unit to the second processing area;
The other processed work processed in the second processing area is taken out by the second transporter, and the second transporter is moved from the second processing area to the unloading unit. The processing method according to claim 6, wherein the other processed workpiece is transferred from the second transporter to the unloading unit.
請求項8に記載の加工処理方法。 The input of the unprocessed work to the first processing area or the second processing area is input to the processing area to which a work input permission signal is transmitted, and the input from both processing areas. When the permission signal is sent, it is thrown into the arbitrarily selected processing area.
The processing method according to claim 8.
前記第一の搬送機を前記供給ユニットの近傍に移動させ、前記第二の搬送機を前記反転ユニットと前記処理エリアとの中間に移動させ、前記第三の搬送機を前記処理エリアと前記搬出ユニットとの中間に移動させ、
前記供給ユニットに前記未処理のワークを供給させ、該未処理のワークを前記第一の搬送機に取り出させるとともに、該第一の搬送機を前記供給ユニットから前記反転ユニットへ移動させ、
該未処理のワークを前記第一の搬送機から前記反転ユニットに受け渡させるとともに、該ワークを反転させ、
前記第一の搬送機を前記供給ユニットへ移動させるとともに、前記第二の搬送機を前記反転ユニットへ移動させ、
前記反転されたワークを前記第二の搬送機に取り出させるとともに、該第二の搬送機を前記反転ユニットから前記処理エリアへ移動させ、
前記処理エリアに前記第二の搬送機が保持する前記反転されたワークを投入させ、
前記第二の搬送機を前記反転ユニットと前記処理エリアとの中間に移動させるとともに、前記第三の搬送機を前記処理エリアに移動させ、
前記処理エリアに投入された前記反転されたワークに対して加工を施し、
加工が施された処理済のワークを前記第三の搬送機に取り出させるとともに、該第三の搬送機を前記処理エリアから前記搬出ユニットへ移動させ、前記処理済のワークを前記第三の搬送機から前記搬出ユニットに受け渡させる、加工処理方法。 An unprocessed workpiece supply unit, a processed workpiece unloading unit, a transfer path provided between the supply unit and the unloading unit, a processing area provided facing the transfer path, and the transfer A reversing unit that faces the road and that is upstream of the processing area in the conveyance direction of the workpiece, reverses the workpiece, travels on the conveyance path, and supplies unprocessed workpieces to the processing area. One transporter, a second transporter that travels on the transport path and supplies unprocessed work to the processing area, and a processed work that has traveled on the transport path and has been processed. A processing method that performs processing on the workpiece using a processing device including a third transporter that is carried out of an area,
The first transporter is moved to the vicinity of the supply unit, the second transporter is moved between the reversing unit and the processing area, and the third transporter is moved to the processing area and the unloading unit. Move to the middle of the unit,
The unprocessed work is supplied to the supply unit, the unprocessed work is taken out by the first transporter, and the first transporter is moved from the supply unit to the reversing unit,
While passing the unprocessed work from the first transporter to the reversing unit, reversing the work,
Moving the first transporter to the supply unit and moving the second transporter to the reversing unit;
While taking the reversed work to the second transport machine, moving the second transport machine from the reversing unit to the processing area,
Put the inverted work held by the second transporter into the processing area,
While moving the second transport machine in the middle of the reversing unit and the processing area, moving the third transport machine to the processing area,
Processing is performed on the inverted workpiece put in the processing area,
The processed workpiece that has been processed is taken out by the third transfer device, and the third transfer device is moved from the processing area to the unloading unit, and the processed workpiece is transferred to the third transfer device. A processing method for delivering from a machine to the carry-out unit.
前記供給ユニットに前記未処理のワークを供給させ、該未処理のワークを前記第一の搬送機に取り出させるとともに、該第一の搬送機を前記供給ユニットから前記反転ユニットへ移動させ、
該未処理のワークを前記第一の搬送機から前記反転ユニットに受け渡させるとともに、該ワークを反転させ、
前記第一の搬送機を前記供給ユニットへ移動させるとともに、前記第二の搬送機を前記反転ユニットへ移動させ、
前記反転されたワークを前記第二の搬送機に取り出させるとともに、該第二の搬送機を前記反転ユニットから前記処理エリアへ移動させ、前記供給ユニットに他の未処理のワークを供給させ、該他の未処理のワークを前記第一の搬送機に取り出させ、
前記処理エリアに前記第二の搬送機が保持する前記反転されたワークを投入させ、
前記処理エリアに投入された前記反転されたワークに対して加工を施し、
加工を施された該処理済のワークを前記第二の搬送機に取り出させるとともに、該第二の搬送機を前記処理エリアから前記反転ユニットへ移動させ、
前記処理済のワークを前記第二の搬送機から前記反転ユニットに受け渡させるとともに、該ワークを反転させ、
該反転されたワークを前記第二の搬送機に取り出させるとともに、該第二の搬送機を前記反転ユニットから前記処理エリアへ移動させ、前記第一の搬送機を前記供給ユニットから前記反転ユニットへ移動させ、
他の未処理のワークを前記第一の搬送機から前記反転ユニットに受け渡させるとともに、該ワークを反転させ、
前記処理エリアに前記第二の搬送機が保持する前記反転されたワークを投入させ、
前記第一の搬送機を前記供給ユニットへ移動させ、前記第二の搬送機を前記反転ユニットに移動させ、前記第三の搬送機を処理エリアに移動させ、
前記処理エリアに投入された前記反転されたワークに対して加工を施し、
表裏に加工が施された処理済のワークを前記第三の搬送機に取り出させるとともに、該第三の搬送機を前記処理エリアから前記搬出ユニットへ移動させ、前記処理済のワークを前記第三の搬送機から前記搬出ユニットに受け渡させる、請求項11に記載の加工処理方法。 While moving the first transporter in the vicinity of the supply unit, moving the second transporter between the processing area and the unloading unit,
The unprocessed work is supplied to the supply unit, the unprocessed work is taken out by the first transporter, and the first transporter is moved from the supply unit to the reversing unit,
While passing the unprocessed work from the first transporter to the reversing unit, reversing the work,
Moving the first transporter to the supply unit and moving the second transporter to the reversing unit;
The reversing work is taken out by the second transfer machine, the second transfer machine is moved from the reversing unit to the processing area, and another unprocessed work is supplied to the supply unit. Let other unprocessed workpieces be taken out by the first conveyor,
Put the inverted work held by the second transporter into the processing area,
Processing is performed on the inverted workpiece put in the processing area,
The processed workpiece that has been processed is taken out by the second transporter, and the second transporter is moved from the processing area to the reversing unit,
While passing the processed work from the second transport machine to the reversing unit, reversing the work,
The reversed workpiece is taken out by the second transfer device, the second transfer device is moved from the reversing unit to the processing area, and the first transfer device is moved from the supply unit to the reversing unit. Move
While passing other untreated workpieces from the first transporter to the reversing unit, reversing the workpieces,
Put the inverted work held by the second transporter into the processing area,
Moving the first transporter to the supply unit, moving the second transporter to the reversing unit, moving the third transporter to the processing area;
Processing is performed on the inverted workpiece put in the processing area,
The processed workpiece with the front and back processed is taken out by the third transporter, and the third transporter is moved from the processing area to the unloading unit, and the processed workpiece is moved to the third transporter. The processing method of Claim 11 which is made to deliver to the said carrying-out unit from a conveyance machine.
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11347779A (en) * | 1998-06-02 | 1999-12-21 | Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd | Workpiece machining device and its workpiece inverting device |
| JP2001047280A (en) * | 1999-08-03 | 2001-02-20 | Niigata Eng Co Ltd | Device and method for conveying work for metal plate finishing machine |
| US20060097022A1 (en) * | 2004-11-05 | 2006-05-11 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | Scribing apparatus, substrate cutting apparatus equipped with the scribing apparatus, and substrate cutting method using the substrate cutting apparatus |
| JP2010279969A (en) * | 2009-06-04 | 2010-12-16 | Hitachi High-Technologies Corp | Laser processing method, laser processing apparatus, and solar panel manufacturing method |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5290992A (en) * | 1992-10-07 | 1994-03-01 | International Business Machines Corporation | Apparatus for maximizing light beam utilization |
| JP2011177770A (en) * | 2010-03-03 | 2011-09-15 | Hitachi High-Technologies Corp | Laser beam working system and method for manufacturing solar panel |
| JP2013075315A (en) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Hitachi Via Mechanics Ltd | Laser machining apparatus and laser machining method |
| DE102012109245B3 (en) * | 2012-09-28 | 2013-11-21 | Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh | Method and device for machining non-rotationally symmetrical workpieces by means of laser radiation |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11347779A (en) * | 1998-06-02 | 1999-12-21 | Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd | Workpiece machining device and its workpiece inverting device |
| JP2001047280A (en) * | 1999-08-03 | 2001-02-20 | Niigata Eng Co Ltd | Device and method for conveying work for metal plate finishing machine |
| US20060097022A1 (en) * | 2004-11-05 | 2006-05-11 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | Scribing apparatus, substrate cutting apparatus equipped with the scribing apparatus, and substrate cutting method using the substrate cutting apparatus |
| JP2010279969A (en) * | 2009-06-04 | 2010-12-16 | Hitachi High-Technologies Corp | Laser processing method, laser processing apparatus, and solar panel manufacturing method |
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