JP2019152898A - Conductive sheet for touch panel, manufacturing method of conductive sheet for touch panel and touch panel - Google Patents
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Abstract
【課題】金属部の導電性に優れると共に、画面表示が黒色の際又はバックライトが消灯している際に、画面がより黒く見えるタッチパネルが得られるタッチパネル用導電性シートの製造方法及びタッチパネルを提供する。【解決手段】タッチパネル用導電性シート10は、支持体12と、支持体上に配置され、バインダ及び金属部を含有する導電部14とを有する。バインダは、第1高分子と、第1高分子よりもガラス転移温度が低い第2高分子とを含有し、第1高分子及び第2高分子の合計含有量に対する第2高分子の含有量の含有質量比について、それぞれ、上部領域における値をRU、中間領域における値をRM、下部領域における値をRLとしたとき、式RM<RU及び式RM<RLからなる群より選択される少なくとも一方の式が成り立つ。【選択図】図1A method for producing a conductive sheet for a touch panel and a touch panel are provided, in which a touch panel in which the metal part has excellent conductivity and the screen looks blacker when the screen is displayed in black or when the backlight is off is obtained. do. A touch panel conductive sheet (10) has a support (12) and a conductive part (14) disposed on the support and containing a binder and a metal part. The binder contains a first polymer and a second polymer having a lower glass transition temperature than the first polymer, and the content of the second polymer with respect to the total content of the first polymer and the second polymer At least one selected from the group consisting of the formula RM < RU and the formula RM < RL, where RU is the value in the upper region, RM is the value in the middle region, and RL is the value in the lower region. The formula holds. [Selection drawing] Fig. 1
Description
本発明は、タッチパネル用導電性シート、タッチパネル用導電性シートの製造方法、及び、タッチパネルに関する。 The present invention relates to a conductive sheet for a touch panel, a method for manufacturing a conductive sheet for a touch panel, and a touch panel.
近年、スマートフォン、タブレット端末、及び、携帯ゲーム機器等には、画像表示装置と、上記画像表示装置上に配置された多点検出が可能な静電容量方式タッチセンサと、を有するタッチパネルが搭載されることが増えている。このようなタッチパネルの製造に用いられるタッチパネル用導電性シートは、透明な支持体上に、導電部が配置されたものが知られており、その製造方法として、特許文献1には、「支持体と、支持体上に配置された、バインダ及び金属部を含有する導電性細線と、を有し、導電性細線の垂直断面において、導電性細線の支持体側とは反対側の表面Xから支持体側に向かって、導電性細線の表面Xの表面形状に沿った輪郭線を移動させた場合、導電性細線中に含まれる金属部に輪郭線が到達した位置を上端位置として、上端位置から支持体側に向かって100nmまでの領域における金属部の平均面積率VAが1%以上50%未満であり、上端位置よりも支持体側に輪郭線を移動させた場合、導電性細線中で金属部を含まなくなる位置を下端位置として、上端位置と下端位置との中間位置から支持体側に向かって50nm及び表面X側に向かって50nmの領域における金属部の平均面積率VM1が50%以上である、導電性フィルム。」が記載されている。 In recent years, smartphones, tablet terminals, portable game devices, and the like are equipped with a touch panel having an image display device and a capacitive touch sensor that is arranged on the image display device and can detect multiple points. Is increasing. A conductive sheet for a touch panel used for manufacturing such a touch panel is known in which a conductive portion is disposed on a transparent support. As a manufacturing method thereof, Patent Document 1 discloses a “support. And a conductive thin wire containing a binder and a metal part disposed on the support, and in the vertical cross section of the conductive thin wire, from the surface X opposite to the support side of the conductive thin wire, the support side When the contour line along the surface shape of the surface X of the conductive thin wire is moved toward the support side, the position where the contour line reaches the metal part included in the conductive thin wire is defined as the upper end position from the upper end position to the support side. When the average area ratio VA of the metal part in the region up to 100 nm toward the substrate is 1% or more and less than 50%, and the contour line is moved to the support side from the upper end position, the metal part is not included in the conductive thin wire. Bottom position The conductive film in which the average area ratio VM1 of the metal part in the region of 50 nm from the intermediate position between the upper end position and the lower end position toward the support side and 50 nm toward the surface X side is 50% or more. Are listed.
特許文献1に記載された導電性フィルムは、優れた導電性を有し、タッチパネルに適用した際にも、タッチパネルの使用者からは導電性細線が視認しにくいという優れた特徴を有していた。しかし、本発明者らは特許文献1の導電性フィルムをタッチパネルに適用して検討したところ、画面表示が黒色の際、又は、バックライトが消灯している際に、場合によっては画面が白んで見えることがあることを知見した。
そこで、本発明は、金属部の導電性に優れると共に、画面表示が黒色の際、又は、バックライトが消灯している際に、画面が白みにくい、言い換えれば、より黒く見えるタッチパネルが得られるタッチパネル用導電性シートの提供を課題とする。また、本発明は、タッチパネル用導電性シートの製造方法、及び、タッチパネルを提供することも課題とする。
The conductive film described in Patent Document 1 has excellent conductivity, and when applied to a touch panel, the conductive film has an excellent feature that it is difficult for a touch panel user to visually recognize a conductive thin wire. . However, the present inventors have examined the conductive film of Patent Document 1 by applying it to a touch panel. As a result, when the screen display is black or when the backlight is turned off, the screen may be white in some cases. I found out that it might be visible.
Accordingly, the present invention provides a touch panel that is excellent in conductivity of the metal part, and that makes the screen less white when the screen display is black or when the backlight is turned off, in other words, a touch panel that looks blacker. It is an object to provide a conductive sheet for use. Moreover, this invention also makes it the subject to provide the manufacturing method of the electroconductive sheet for touch panels, and a touch panel.
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題が達成されるのを見出した。 As a result of intensive studies to achieve the above-described problems, the present inventors have found that the above-described problems can be achieved by the following configuration.
[1] 支持体と、支持体上に配置され、バインダ及び金属部を含有する導電部と、を有するタッチパネル用導電性シートであって、バインダは、第1高分子と、第1高分子よりもガラス転移温度が低い第2高分子とを含有し、導電部の垂直断面において、導電部の支持体側とは反対側の表面Xから支持体側に向かって、導電部の表面Xの表面形状に沿った輪郭線を移動させたとき、導電部に含まれる金属部に輪郭線が到達した位置を上端位置として、上端位置から支持体側に向かって100nmまでの領域における第1高分子及び第2高分子の合計含有量に対する第2高分子の含有量の含有質量比をRUとし、上端位置よりも支持体側に輪郭線を移動させたとき、導電部で金属部を含まなくなる位置を下端位置として、上端位置と下端位置との中間位置から支持体側に向かって50nm及び表面X側に向かって50nmの領域における第1高分子及び第2高分子の合計含有量に対する第2高分子の含有量の含有質量比をRMとし、下端位置から、表面X側に向って100nmの領域における第1高分子及び第2高分子の合計含有量に対する第2高分子の含有量の含有質量比をRLとしたとき、以下の式1及び式2;式1 RM<RU、式2 RM<RL、からなる群より選択される少なくとも一方が成り立つ、タッチパネル用導電性シート。
[2] 第2高分子のガラス転移温度が25℃以下である、[1]に記載のタッチパネル用導電性シート。
[3] 金属部が、金、銀、銅、ニッケル、及び、パラジウムからなる群より選択される少なくとも1種の金属を含有する、[1]又は[2]に記載のタッチパネル用導電性シート。
[4] 支持体と導電部との間に易接着層を有し、易接着層上に、導電部に隣接するよう配置された非導電部を更に有し、非導電部の屈折率をRI1、易接着層の屈折率をRI2、及び、支持体の屈折率をRI3としたとき、以下の式3;式3 RI1<RI2<RI3を満たす、[1]〜[3]のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シート。
[5] 金属部が金属銀を含有する[1]〜[4]のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法であって、支持体上に、少なくともハロゲン化銀と第1高分子とを含有するハロゲン化銀含有塗布液と、少なくとも第2高分子を含有する組成調整塗布液とを、同時重層塗布して、ハロゲン化銀感光性層を形成する工程Aと、ハロゲン化銀感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する導電部を形成する工程Bと、を有するタッチパネル用導電性シートの製造方法。
[6] 組成調整塗布液が更にハロゲン化銀を含有する、[5]に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
[7] ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも1種が更に非金属の微粒子を含有する、[5]又は[6]に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
[8] 工程Bの後に、導電部の金属銀同士を互いに融着させる処理を施す工程Fを更に有する、[5]〜[7]のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
[9] 工程Aの後であって、工程Bの前に、ハロゲン化銀感光性層と、金属吸着性置換基又は金属吸着性構造を有する化合物とを接触させる工程C1を有するか、又は、工程Bの後であって、工程Fの前に、導電部と、化合物とを接触させる工程C2を有する、[8]に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
[10] 金属吸着性置換基が、カルボキシル基又はその塩、酸アミド基、アミノ基、イミダゾール基、ピラゾール基、チオール基、チオエーテル基、及び、ジスルフィド基からなる群より選択される少なくとも1種である、[9]に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
[11] 工程Bの後であって、工程Fの前に、更に、導電部を圧密化する工程Dを有する、[8]〜[10]のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
[12] ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも1種が、更にゼラチンを含有し、工程Bの後であって、工程Dの前に、更に導電部のゼラチンを除去する工程Eを有する、[11]に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
[13] 工程Dが、導電部を有する支持体を、少なくとも一対のロール間を加圧下で通過させるカレンダ処理工程である、[11]又は[12]に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。
[14] [1]〜[4]のいずれかに記載のタッチパネル用導電性シートを有するタッチパネル。
[1] A conductive sheet for a touch panel that includes a support and a conductive part that is disposed on the support and includes a binder and a metal part. The binder includes a first polymer and a first polymer. And a second polymer having a low glass transition temperature, and in the vertical cross section of the conductive part, the surface shape of the surface X of the conductive part is changed from the surface X opposite to the support side of the conductive part toward the support side. The first polymer and the second height in the region from the upper end position to 100 nm from the upper end position to the support side, with the position where the outline has reached the metal part included in the conductive part as the upper end position when the contour line is moved along the second polymer-containing mass ratio of the content of to the total content of the molecule as R U, when moving the contour on the support side than the upper end position, as the lower end position a position free of the metal part with a conductive portion , Top and bottom position The second polymer-containing mass ratio of the content of relative from the intermediate position the total content of the first polymer and second polymer in the 50nm region toward 50nm and surface X side to the support side and R M of When the content ratio of the content of the second polymer to the total content of the first polymer and the second polymer in the region of 100 nm from the lower end position toward the surface X side is R L , 1 and Formula 2; The conductive sheet for touch panels in which at least one selected from the group consisting of Formula 1 RM <R U and Formula 2 RM <R L is satisfied.
[2] The conductive sheet for a touch panel according to [1], wherein the glass transition temperature of the second polymer is 25 ° C. or lower.
[3] The conductive sheet for a touch panel according to [1] or [2], wherein the metal part contains at least one metal selected from the group consisting of gold, silver, copper, nickel, and palladium.
[4] An easy-adhesion layer is provided between the support and the conductive part, and a non-conductive part arranged adjacent to the conductive part is further provided on the easy-adhesive layer, and the refractive index of the non-conductive part is set to RI. 1 When the refractive index of the easy-adhesion layer is RI 2 and the refractive index of the support is RI 3 , the following formula 3; formula 3 RI 1 <RI 2 <RI 3 is satisfied, [1] to [3 ] The electroconductive sheet for touchscreens in any one of.
[5] The method for producing a conductive sheet for a touch panel according to any one of [1] to [4], wherein the metal part contains metallic silver, wherein at least silver halide and the first polymer are formed on the support. A silver halide-containing coating solution containing at least a second polymer and a composition-adjusting coating solution containing at least a second polymer to form a silver halide photosensitive layer by simultaneous multilayer coating; A conductive sheet for a touch panel, comprising: exposing a conductive layer, and then developing the conductive part containing metal silver by developing.
[6] The method for producing a conductive sheet for a touch panel according to [5], wherein the composition-adjusting coating solution further contains silver halide.
[7] The conductive material for a touch panel according to [5] or [6], wherein at least one selected from the group consisting of a silver halide-containing coating solution and a composition-adjusting coating solution further contains non-metallic fine particles. Sheet manufacturing method.
[8] The method for producing a conductive sheet for a touch panel according to any one of [5] to [7], further including a step F of performing a process of fusing the metallic silver of the conductive portion to each other after the step B.
[9] After step A, before step B, the step of contacting the silver halide photosensitive layer with a compound having a metal-adsorbing substituent or a metal-adsorbing structure is included, or The method for producing a conductive sheet for a touch panel according to [8], which includes a step C2 of bringing the conductive portion into contact with the compound after the step B and before the step F.
[10] The metal-adsorptive substituent is at least one selected from the group consisting of a carboxyl group or a salt thereof, an acid amide group, an amino group, an imidazole group, a pyrazole group, a thiol group, a thioether group, and a disulfide group. The manufacturing method of the electroconductive sheet for touchscreens as described in [9].
[11] Manufacturing of the conductive sheet for a touch panel according to any one of [8] to [10], further including a step D for consolidating the conductive portion after the step B and before the step F. Method.
[12] At least one selected from the group consisting of a silver halide-containing coating solution and a composition-adjusting coating solution further contains gelatin and is further conductive after step B and before step D. The process for producing a conductive sheet for a touch panel according to [11], comprising a step E of removing part of the gelatin.
[13] The process for producing a conductive sheet for a touch panel according to [11] or [12], wherein the process D is a calendering process in which a support having a conductive portion is passed through at least a pair of rolls under pressure. .
[14] A touch panel having the conductive sheet for touch panel according to any one of [1] to [4].
本発明によれば、導電性に優れると共に、画面表示が黒色の際、又は、バックライトが消灯している際に、画面が白みにくい、言い換えれば、より黒く見える(以下、「黒締りがよい」ともいう。)タッチパネルが得られるタッチパネル用導電性シートを提供できる。また、本発明によれば、タッチパネル用導電性シートの製造方法、及び、タッチパネルも提供できる。 According to the present invention, it has excellent conductivity, and when the screen display is black or when the backlight is turned off, the screen does not appear white, in other words, appears black (hereinafter referred to as “black tightening is good”). It is also referred to as “.” A conductive sheet for a touch panel from which a touch panel can be obtained can be provided. Moreover, according to this invention, the manufacturing method of the electroconductive sheet for touchscreens, and a touchscreen can also be provided.
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に制限されない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The description of the constituent elements described below may be made based on representative embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.
In the present specification, a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
本発明の実施形態に係るタッチパネル用導電性シートは、支持体上に導電部を有し、上記導電部は金属部と、バインダとを含有する。本発明の特徴点の一つは、導電部におけるバインダ組成、及び、その厚み方向における分布を制御している点が挙げられる。 The conductive sheet for a touch panel according to the embodiment of the present invention has a conductive part on a support, and the conductive part includes a metal part and a binder. One of the features of the present invention is that the binder composition in the conductive portion and the distribution in the thickness direction are controlled.
本発明者らは従来技術により作製されたタッチパネル用導電性シートを用いてタッチパネルを作製し、画面表示が黒色の際、又は、バックライトが消灯している際に、画面が白んで見える原因について鋭意検討してきた。その結果、本発明者らは、黒表示の際には、タッチパネルの内部から出射する光と比べて、相対的に外光が強い場合が多く、このような場合に、金属部が外光を反射するために、画面が白んでみえることをつきとめた。
この傾向は、タッチパネル用導電性シートの表裏のうち、タッチパネルに適用した際に使用者側に配置される方(視認側)において、導電部の単位体積当たりの金属の含有量が相対的に多い、(以下、「金属部が高密度である」ともいう。)場合に顕著であることもつきとめた。
The present inventors manufactured a touch panel using a conductive sheet for a touch panel manufactured by a conventional technique, and the cause that the screen appears white when the screen display is black or the backlight is turned off. I have been studying earnestly. As a result, in the case of black display, the present inventors often have relatively strong external light compared to the light emitted from the inside of the touch panel, and in such a case, the metal part emits external light. I found out that the screen looks white because of the reflection.
This tendency is relatively high in the metal content per unit volume of the conductive part in the side (viewing side) arranged on the user side when applied to the touch panel among the front and back of the conductive sheet for touch panel. (Hereinafter, also referred to as “the metal part has a high density”).
本発明の実施形態に係るタッチパネル用導電性シートは、導電部におけるガラス転移温度の異なる2種類のポリマーの分布を制御している。具体的には、導電部の支持体側、及び/又は、反対側の表面Xをそれぞれ含む界面領域中において、相対的に第2高分子(ガラス転移温度のより低い高分子、以下「低Tg高分子」ともいう。)の含有量を多く、導電部の厚み方向の中間領域中において、相対的に第1高分子(ガラス転移温度のより高い高分子、以下「高Tg高分子」ともいう。)の含有量が多くしたものである。これにより、金属部の形態等に起因する外光の反射を抑制している。
外光の反射が抑制される機序としては、必ずしも明らかではないが、低Tg高分子(第2高分子)の含有量がより多い界面領域中においては、金属部が高密度となりにくい(中間領域と比較してより低密度である)ことが推測される。言い換えれば、後述する中間領域と比較して、界面領域では、導電部中におけるバインダの含有量が多くなりやすいものと推測される。これにより、金属部に由来する外光の反射がより抑制されやすいものと推測される。
一方で、高Tg高分子(第1高分子)の含有量がより多い中間領域では、金属部が高密度となりやすいことが推測される。言い換えれば、界面領域と比較して、中間領域では、導電部中におけるバインダの含有量が少なくなりやすいものと推測される。その結果、タッチパネル用導電性シートとしての優れた導電性も維持されるものと推測される。
The conductive sheet for a touch panel according to the embodiment of the present invention controls the distribution of two types of polymers having different glass transition temperatures in the conductive part. Specifically, the second polymer (polymer having a lower glass transition temperature, hereinafter referred to as “low Tg high”) in the interface region including the support X and / or the opposite surface X of the conductive part. In the intermediate region in the thickness direction of the conductive portion, the first polymer (polymer having a higher glass transition temperature, hereinafter also referred to as “high Tg polymer”) is contained. ) Content is increased. Thereby, reflection of the external light resulting from the form of the metal part or the like is suppressed.
The mechanism by which the reflection of external light is suppressed is not necessarily clear, but in the interface region where the content of the low Tg polymer (second polymer) is higher, the metal part is less likely to be dense (intermediate) It is estimated that the density is lower than that of the region. In other words, it is presumed that the binder content in the conductive portion is likely to increase in the interface region as compared with the intermediate region described later. Thereby, it is estimated that the reflection of the external light originating in the metal part is more easily suppressed.
On the other hand, it is presumed that in the intermediate region where the content of the high Tg polymer (first polymer) is higher, the metal part tends to have a high density. In other words, it is presumed that the content of the binder in the conductive portion tends to decrease in the intermediate region as compared with the interface region. As a result, it is presumed that excellent conductivity as a conductive sheet for a touch panel is also maintained.
上記の傾向は、金属部が金属を含有し、加熱等により金属を互いに融着させる処理を施す工程を経て得られるタッチパネル用導電性シートにおいてより顕著である。すなわち、低Tg高分子(第2高分子)の含有量がより多い界面領域中においては、上記の処理によって、金属同士が融着して高密度化する変形に際して、より低いガラス転移温度を有する第2高分子が金属部の変形と同時または先立って変形し、金属同士の微細な空隙へ侵入することによって、金属同士が融着しにくく、結果として高密度になりにくいことが推測される。
一方で、第1高分子の含有量がより多い中間領域中では、金属部の微細な空隙への高分子の侵入が起こりづらいために、金属同士が融着しやすく、結果的に金属部が高密度になりやすく、結果として、タッチパネル用導電性シートとしての優れた導電性も維持されるものと推測される。
The above-mentioned tendency is more remarkable in the conductive sheet for a touch panel obtained through a process in which the metal part contains a metal and the metal is fused to each other by heating or the like. That is, in the interface region where the content of the low Tg polymer (second polymer) is higher, the above treatment has a lower glass transition temperature when the metal is fused and densified. It is presumed that the second polymer is deformed at the same time as or prior to the deformation of the metal portion and enters the fine voids between the metals, so that the metals are hardly fused together, and as a result, the density is not easily increased.
On the other hand, in the intermediate region where the content of the first polymer is higher, it is difficult for the polymer to enter the fine voids of the metal part, so that the metals are likely to be fused together. It tends to be high density, and as a result, it is presumed that excellent conductivity as a conductive sheet for a touch panel is also maintained.
[第1実施形態]
以下、本発明の第1実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの第1実施形態について図面を参照して説明する。
図1に、本発明の第1実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの第1実施形態の断面図を示した。
タッチパネル用導電性シート10は、支持体12と、支持体12上に配置された導電部14とを含む。なお、図1には、導電部14が2つ記載されているが、その数は特に制限されない。
図2には、導電部14の一部拡大断面図を示す。導電部14は、後述する第1高分子、及び、後述する第2高分子を含有するバインダ16と、バインダ16中に分散した複数の金属部18とを含む。
[First Embodiment]
Hereinafter, 1st Embodiment of the electroconductive sheet for touchscreens concerning 1st Embodiment of this invention is described with reference to drawings.
In FIG. 1, sectional drawing of 1st Embodiment of the electroconductive sheet for touchscreens concerning 1st Embodiment of this invention was shown.
The conductive sheet 10 for a touch panel includes a support 12 and a conductive portion 14 disposed on the support 12. In FIG. 1, two conductive portions 14 are illustrated, but the number is not particularly limited.
FIG. 2 shows a partially enlarged cross-sectional view of the conductive portion 14. The conductive portion 14 includes a binder 16 containing a first polymer described later and a second polymer described later, and a plurality of metal portions 18 dispersed in the binder 16.
まず、図2を用いて、第1高分子、及び、第2高分子の分布状態を規定するために用いられる上端位置UP及び下端位置LPについて説明する。
図2に示すような、導電部14の垂直断面(導電部14の表面に垂直な面で切断した際の断面)において、導電部14の表面114A(支持体12側とは反対側の表面、以後、表面Xともいう。)から支持体12側に向かって、導電部14の表面114Aの表面形状に沿った輪郭線を移動させる。つまり、導電部14の表面114Aの表面形状に沿った輪郭線を白抜き矢印の方向に移動させる。
その際、図2に示すように、移動させた輪郭線が、導電部14中の金属部18に到達した位置を上端位置UPとする。ここで輪郭線が金属部18に到達するとは、上記のように輪郭線を移動させた際に、輪郭線が金属部18と初めて接する位置を意図する。
その後、輪郭線を更に上端位置UPよりも支持体12側に移動させ、導電部14中で金属部18を含まなくなる位置を下端位置LPとする。ここで、金属部18を含まなくなる位置とは、その位置から支持体12表面までの間に金属部18が含まれない位置で、最も表面X側の位置を意図する。なお、下端位置LPは、言い換えれば、導電部14の垂直断面において、最も支持体12側にある金属部と上記輪郭線とが最も支持体12側で接する位置に該当する。
First, the upper end position UP and the lower end position LP used to define the distribution state of the first polymer and the second polymer will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 2, in the vertical cross section of the conductive portion 14 (cross section taken along a plane perpendicular to the surface of the conductive portion 14), the surface 114 </ b> A of the conductive portion 14 (the surface opposite to the support 12 side), Hereinafter, the contour line along the surface shape of the surface 114A of the conductive portion 14 is moved from the surface X toward the support 12 side. That is, the contour line along the surface shape of the surface 114A of the conductive portion 14 is moved in the direction of the white arrow.
At that time, as shown in FIG. 2, the position where the moved contour line reaches the metal part 18 in the conductive part 14 is defined as an upper end position UP. Here, the fact that the contour line reaches the metal portion 18 means a position where the contour line contacts the metal portion 18 for the first time when the contour line is moved as described above.
Thereafter, the contour line is further moved to the support 12 side from the upper end position UP, and the position where the metal part 18 is not included in the conductive part 14 is defined as the lower end position LP. Here, the position where the metal part 18 is not included is a position where the metal part 18 is not included between the position and the surface of the support 12, and the position closest to the surface X is intended. In other words, the lower end position LP corresponds to the position at which the metal portion closest to the support 12 side and the contour line are closest to the support 12 in the vertical cross section of the conductive portion 14.
図3は、図2と同様に導電部14の一部拡大断面図であり、図2中から金属部18の表示を省略した図面に該当し、図2中の上端位置UP及び下端位置LPと、図3中の上端位置UP及び下端位置LPとは同一の位置にある。 3 is a partially enlarged cross-sectional view of the conductive portion 14 as in FIG. 2 and corresponds to a drawing in which the display of the metal portion 18 is omitted from FIG. 2, and the upper end position UP and the lower end position LP in FIG. The upper end position UP and the lower end position LP in FIG. 3 are at the same position.
ここで、上端位置UPから支持体12側に向かって100nmまでの領域における第1高分子の含有量及び第2高分子の含有量の合計含有量に対する第2高分子の含有量の含有質量比をRUとする。
なお、上端位置UPから支持体12側に向かって100nmの位置とは、上記輪郭線(導電部14の表面114Aの表面形状に沿った輪郭線)を上端位置UPから支持体12側に100nm移動させた位置P1に該当する。つまり、上端位置UPと位置P1との間の距離は100nmに該当する。この上端位置UPと位置P1とで挟まれた領域(以後、上部領域20とも称する)が、上記上端位置UPから支持体12側に向かって100nmまでの領域に該当する。
なお、上記領域における第1高分子及び第2高分子の含有量は、イオンスパッタリングを利用した表面エッチングと、飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)による測定を組み合わせた方法により求められる。詳細な測定方法は、実施例に記載したとおりである。
Here, the content mass ratio of the content of the second polymer to the total content of the content of the first polymer and the content of the second polymer in the region from the upper end position UP toward the support 12 side to 100 nm Is R U.
The position of 100 nm from the upper end position UP toward the support body 12 means that the contour line (contour line along the surface shape of the surface 114A of the conductive portion 14) moves 100 nm from the upper end position UP to the support body 12 side. Corresponds to the position P1. That is, the distance between the upper end position UP and the position P1 corresponds to 100 nm. A region sandwiched between the upper end position UP and the position P1 (hereinafter also referred to as the upper region 20) corresponds to a region of 100 nm from the upper end position UP toward the support 12 side.
The contents of the first polymer and the second polymer in the above region are determined by a method that combines surface etching using ion sputtering and measurement by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS). It is done. The detailed measurement method is as described in the examples.
なお、上記領域における第1高分子及び第2高分子の含有量は、イオンスパッタリングを利用した表面エッチングと、飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)による測定、または、フーリエ変換赤外分光光度計ATR(Attenuated Total Reflection)法による測定を組み合わせた方法により求められる。詳細な測定方法は、実施例に記載したとおりである。飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)とフーリエ変換赤外分光光度計ATR法は、測定対象の高分子の組成およびその他の混合物の組成に応じて、分離しやすい方法を選択してよい。 The contents of the first polymer and the second polymer in the above region are measured by surface etching using ion sputtering, time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS), or Fourier transform red. It is calculated | required by the method which combined the measurement by the outer spectrophotometer ATR (Attenuated Total Reflection) method. The detailed measurement method is as described in the examples. For time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) and Fourier transform infrared spectrophotometer ATR, select a method that is easy to separate depending on the composition of the polymer to be measured and the composition of the other mixture. It's okay.
本実施形態においては、上記のように、上端位置UPから支持体12側に向かって100nmまでの領域におけるポリマーの分布を調整している。なお、後段で詳述するように、中間領域及び下部領域においても100nmの領域のポリマーの分布を規定している。黒締りのよしあし、言い換えれば、導電部に起因する外光反射の程度は、主に可視光が影響しており、その可視光が影響を受ける領域の大きさとしては、100nm程度が最小単位に該当することを本発明者らは知見している。実際、本明細書で示すように、100nm程度の領域の範囲の組成を調整すれば上記可視光の反射特性、拡散特性、及び、干渉特性を制御することができる。 In the present embodiment, as described above, the distribution of the polymer in the region from the upper end position UP toward the support 12 side to 100 nm is adjusted. As will be described in detail later, the polymer distribution in the 100 nm region is also defined in the intermediate region and the lower region. In other words, the degree of external light reflection caused by the conductive portion is mainly influenced by visible light, and the size of the region affected by the visible light is about 100 nm as the minimum unit. The present inventors have found that this is the case. In fact, as shown in this specification, the visible light reflection characteristics, diffusion characteristics, and interference characteristics can be controlled by adjusting the composition in the range of about 100 nm.
また、上端位置UPと下端位置LPとの中間位置MPから支持体12側に向かって50nm及び表面114A側に向かって50nmの領域における第1高分子の含有量及び第2高分子の含有量の合計含有量に対する第2高分子の含有量の含有質量比をRMとする。
まず、中間位置MPとは、図3に示すように、上端位置UPと下端位置LPとの中間の位置である。また、中間位置MPから支持体12側に向かって50nmの位置とは、輪郭線を中間位置MPから支持体12側に50nm移動させた位置P2に該当する。つまり、中間位置MPと位置P2との間の距離は50nmに該当する。更に、中間位置MPから表面114A側に向かって50nmの位置とは、輪郭線を中間位置MPから表面114A側に50nm移動させた位置P3に該当する。つまり、中間位置MPと位置P3との間の距離は50nmに該当する。よって、この位置P2と位置P3とで挟まれた領域(以後、中間領域22とも称する)が、上記中間位置MPから支持体12側に向かって50nm及び表面114A側に向かって50nmの領域に該当する。
Further, the content of the first polymer and the content of the second polymer in the region of 50 nm from the intermediate position MP between the upper end position UP and the lower end position LP toward the support 12 and 50 nm toward the surface 114A. the content mass ratio of the content of the second polymer to the total content to R M.
First, as shown in FIG. 3, the intermediate position MP is an intermediate position between the upper end position UP and the lower end position LP. Further, the position of 50 nm from the intermediate position MP toward the support body 12 corresponds to the position P2 obtained by moving the contour line by 50 nm from the intermediate position MP to the support body 12 side. That is, the distance between the intermediate position MP and the position P2 corresponds to 50 nm. Further, the position of 50 nm from the intermediate position MP toward the surface 114A corresponds to a position P3 obtained by moving the contour line by 50 nm from the intermediate position MP to the surface 114A. That is, the distance between the intermediate position MP and the position P3 corresponds to 50 nm. Therefore, a region sandwiched between the positions P2 and P3 (hereinafter also referred to as the intermediate region 22) corresponds to a region of 50 nm from the intermediate position MP toward the support 12 and 50 nm toward the surface 114A. To do.
また、下端位置LPから支持体12側に向かって100nmまでの領域における第1高分子の含有量及び第2高分子の含有量の合計含有量に対する第2高分子の含有量の含有質量比をRLとする。
なお、下端位置LPから支持体12側に向かって100nmの位置とは、上記輪郭線(導電部12の表面114Aの表面形状に沿った輪郭線)を下端位置LPから表面114A側に100nm移動させた位置P4に該当する。つまり、下端位置LPと位置P4との間の距離は100nmに該当する。この下端位置LPと位置P4とで挟まれた領域(以後、下部領域24とも称する)が、上記下端位置LPから支持体12側に向かって100nmまでの領域に該当する。
In addition, the content mass ratio of the content of the second polymer to the total content of the content of the first polymer and the content of the second polymer in the region from the lower end position LP toward the support 12 side to 100 nm is as follows. Let R be L.
The position of 100 nm from the lower end position LP toward the support 12 side means that the contour line (contour line along the surface shape of the surface 114A of the conductive portion 12) is moved 100 nm from the lower end position LP to the surface 114A side. This corresponds to the position P4. That is, the distance between the lower end position LP and the position P4 corresponds to 100 nm. A region sandwiched between the lower end position LP and the position P4 (hereinafter also referred to as a lower region 24) corresponds to a region up to 100 nm from the lower end position LP toward the support 12 side.
本発明の実施形態に係るタッチパネル用導電性シートにおいて、上記RU、RM、及び、RLは以下の式1及び式2;
式1 RM<RU
式2 RM<RL
からなる群より選択される少なくとも一方が成り立つ。
In the conductive sheet for a touch panel according to the embodiment of the present invention, the above R U , R M , and R L are the following formulas 1 and 2;
Formula 1 RM < RU
Formula 2 R M <R L
At least one selected from the group consisting of:
式1が成り立つ状態とは、導電部の上部領域における第2高分子(低Tg高分子)の含有質量比が、導電部の中間領域における第2高分子の含有質量比よりも大きいことを表わしている。式1が成り立つタッチパネル用導電性シートでは、上部領域の金属部がより高密度ではない(より低密度である、より疎である、導電部の単位体積あたりの金属の含有量が相対的に少ない)ため、このようなタッチパネル用導電性シートは、特に支持体と反対側の表面Xを視認側(使用者側)とするタッチパネルに適用することが好ましい。
また、式2が成り立つ状態とは、導電部の下部領域における第2高分子の含有質量比が、導電部の中間領域における第2高分子の含有質量比よりも大きいことを表わしている。式2が成り立つタッチパネル用導電性シートでは、下部領域の金属部がより高密度ではない(より低密度である、より疎である、導電部の単位体積あたりの金属の含有量が相対的に少ない)ため、このようなタッチパネル用導電性シートは、特に、支持体を視認側(使用者側)とするタッチパネルに適用することが好ましい。
The state in which Equation 1 is satisfied means that the mass ratio of the second polymer (low Tg polymer) in the upper region of the conductive part is larger than the mass ratio of the second polymer in the intermediate region of the conductive part. ing. In the conductive sheet for a touch panel in which Formula 1 is satisfied, the metal portion in the upper region is not denser (the density is lower, the sparser, and the metal content per unit volume of the conductive portion is relatively small. Therefore, it is preferable to apply such a conductive sheet for a touch panel to a touch panel in which the surface X opposite to the support is the viewing side (user side).
Moreover, the state in which Formula 2 is satisfied represents that the mass ratio of the second polymer in the lower region of the conductive portion is larger than the mass ratio of the second polymer in the intermediate region of the conductive portion. In the conductive sheet for a touch panel in which Equation 2 is satisfied, the metal part in the lower region is not denser (the density is lower, the sparser, and the metal content per unit volume of the conductive part is relatively low. Therefore, it is preferable to apply such a conductive sheet for a touch panel particularly to a touch panel having a support as a viewing side (user side).
タッチパネル用導電性シートにおいては、式1及び式2のいずれもが成り立ってもよい。このようなタッチパネルにおいては、中間領域における第2高分子(低Tg高分子)の含有質量比より、上部領域、及び、下部領域のそれぞれにおける第2高分子の含有質量比の方が大きく、上部領域、及び、下部領域の金属部がより高密度でない(より低密度である)ため、このようなタッチパネル用導電性シートは、タッチパネルに適用する際、表裏のどちら側を視認側としても、優れた黒締りを有するタッチパネルが得られる。 In the conductive sheet for a touch panel, both Formula 1 and Formula 2 may be established. In such a touch panel, the mass ratio of the second polymer in each of the upper region and the lower region is larger than the mass ratio of the second polymer (low Tg polymer) in the middle region. Since the metal part of the region and the lower region is not denser (is less dense), such a conductive sheet for a touch panel is excellent even if either side of the front or back side is the viewing side when applied to a touch panel. A touch panel with black tightening can be obtained.
タッチパネル用導電性シートにおいては、式1及び式2のいずれか一方が成り立つことが好ましい。このような場合、式1が成り立つ場合には、表面X側を、式2が成り立つ場合には支持体側を視認側(使用者側)としてタッチパネルに適用することにより、より黒締りに優れたタッチパネルが得られる。また、この場合、タッチパネル用導電性シートがより優れた導電性を有する点でもより好ましい。 In the conductive sheet for touch panels, it is preferable that either one of Formula 1 and Formula 2 is established. In such a case, when Formula 1 is satisfied, the surface X side is applied to the touch panel as the viewing side (user side) when Formula 2 is satisfied, so that the touch panel is more excellent in blackening. Is obtained. In this case, the conductive sheet for touch panel is more preferable in that it has more excellent conductivity.
以下、本発明の実施形態に係るタッチパネル用導電性シートを構成する各部材について説明する。 Hereinafter, each member which comprises the electroconductive sheet for touchscreens which concerns on embodiment of this invention is demonstrated.
〔支持体〕
支持体は、導電部を支持できればその種類は制限されず、透明支持体であることが好ましく、特にプラスチックシートが好ましい。
支持体を構成する材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)(258℃)、ポリシクロオレフィン(134℃)、ポリカーボネート(250℃)、アクリルフィルム(128℃)、ポリエチレンナフタレート(PEN)(269℃)、ポリエチレン(PE)(135℃)、ポリプロピレン(PP)(163℃)、ポリスチレン(230℃)、ポリ塩化ビニル(180℃)、ポリ塩化ビニリデン(212℃)やTAC(290℃)などの融点が約290℃以下であるプラスチックフィルムが好ましく、特に、PET、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネートが好ましい。( )内の数値は融点である。支持体の全光線透過率は、85%〜100%であることが好ましい。
支持体の厚みは特に制限されないが、一般に、25〜500μmが好ましい。なお、タッチパネル用導電性シートが支持体の機能の他にタッチ面の機能をも兼ねる場合は、500μmを超えた厚みで設計することも可能である。
[Support]
The type of the support is not limited as long as it can support the conductive part, and is preferably a transparent support, and particularly preferably a plastic sheet.
Specific examples of the material constituting the support include polyethylene terephthalate (PET) (258 ° C.), polycycloolefin (134 ° C.), polycarbonate (250 ° C.), acrylic film (128 ° C.), polyethylene naphthalate (PEN) ( 269 ° C), polyethylene (PE) (135 ° C), polypropylene (PP) (163 ° C), polystyrene (230 ° C), polyvinyl chloride (180 ° C), polyvinylidene chloride (212 ° C), TAC (290 ° C), etc. A plastic film having a melting point of about 290 ° C. or less is preferable, and PET, polycycloolefin, and polycarbonate are particularly preferable. Figures in parentheses are melting points. The total light transmittance of the support is preferably 85% to 100%.
Although the thickness of a support body is not restrict | limited in particular, Generally 25-500 micrometers is preferable. In addition, when the conductive sheet for touch panels serves as the function of the touch surface in addition to the function of the support, it can be designed with a thickness exceeding 500 μm.
支持体の好適態様の一つとしては、大気圧プラズマ処理、コロナ放電処理、及び紫外線照射処理からなる群から選択される少なくとも一つの処理が施された処理済支持体が挙げられる。上記処理が施されることにより、処理済支持体表面にはOH基などの親水性基が導入され、導電部の密着性がより向上する。 One preferred embodiment of the support includes a treated support that has been subjected to at least one treatment selected from the group consisting of atmospheric pressure plasma treatment, corona discharge treatment, and ultraviolet irradiation treatment. By performing the above treatment, hydrophilic groups such as OH groups are introduced on the treated support surface, and the adhesion of the conductive portion is further improved.
〔導電部〕
導電部は、バインダ、及び、バインダ中に分散した金属部を含有する。
上記バインダは第1高分子と、第1高分子よりもガラス転移温度が低い第2高分子を含有する。なお、本明細書において、ポリマーのガラス転移温度は、示差走査熱量分析(DSC)法によって測定したガラス転移温度を意味する。
[Conductive part]
The conductive part contains a binder and a metal part dispersed in the binder.
The binder contains a first polymer and a second polymer having a glass transition temperature lower than that of the first polymer. In addition, in this specification, the glass transition temperature of a polymer means the glass transition temperature measured by the differential scanning calorimetry (DSC) method.
第1高分子及び第2高分子は、ゼラチンとは異なるポリマーが好ましく、ゼラチンを分解する酸化剤で分解しないポリマーが好ましい。
第1高分子及び第2高分子としては、例えば、疎水性ポリマー(疎水性樹脂)などが挙げられ、より具体的には、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリジエン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系重合体及びキトサン系重合体、からなる群から選ばれる少なくともいずれかの樹脂、又は、これらの樹脂を構成する単量体からなる共重合体等が挙げられる。
また、ポリマーには、後述する架橋剤と反応する反応性基が含まれることが好ましい。
The first polymer and the second polymer are preferably polymers different from gelatin, and are preferably polymers that are not decomposed by an oxidizing agent that decomposes gelatin.
Examples of the first polymer and the second polymer include hydrophobic polymers (hydrophobic resins), and more specifically, acrylic resins, styrene resins, vinyl resins, polyolefin resins, polyesters. Resin, polyurethane resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polydiene resin, epoxy resin, silicone resin, cellulose polymer and chitosan polymer, or at least one resin selected from the group consisting of And copolymers composed of monomers constituting these resins.
Further, the polymer preferably contains a reactive group that reacts with a cross-linking agent described later.
ポリマーとしては、以下の式A、B、C、及び、Dからなる群より選択される少なくとも1種の単位を有することが好ましい。
中でも、第1高分子としては、よりガラス転移温度を低く制御しやすい観点から、式A、B、C、及び、Dからなる群より選択される1種の単位からなる重合体が好ましく、
B、C、及び、Dからなる群より選択される少なくとも1種の単位からなる重合体がより好ましく、式Dで表される単位からなる重合体が更に好ましい。
The polymer preferably has at least one unit selected from the group consisting of the following formulas A, B, C, and D.
Among them, the first polymer is preferably a polymer composed of one unit selected from the group consisting of formulas A, B, C, and D from the viewpoint of easy control of the glass transition temperature.
A polymer comprising at least one unit selected from the group consisting of B, C and D is more preferred, and a polymer comprising units represented by the formula D is more preferred.
R1は、メチル基又はハロゲン原子を表し、好ましくはメチル基、塩素原子、臭素原子を表す。pは0〜2の整数を表し、0又は1が好ましく、0がより好ましい。 R 1 represents a methyl group or a halogen atom, preferably a methyl group, a chlorine atom, or a bromine atom. p represents an integer of 0 to 2, preferably 0 or 1, and more preferably 0.
R2は、メチル基又はエチル基を表し、メチル基が好ましい。
R3は、水素原子又はメチル基を表し、水素原子が好ましい。Lは、2価の連結基を表し、下記一般式(2)で表される基が好ましい。
一般式(2):−(CO−X1)r−X2−
式中X1は、酸素原子又は−NR30−を表す。ここでR30は、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアシル基を表し、それぞれ置換基(例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基など)を有してもよい。R30は、好ましくは水素原子、炭素数1〜10のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−ブチル基、n−オクチル基など)、アシル基(例えば、アセチル基、ベンゾイル基など)である。X1として特に好ましいのは、酸素原子又は−NH−である。
X2は、アルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレン基、アリーレンアルキレン基、又は、アルキレンアリーレンアルキレン基を表し、これらの基には−O−、−S−、−OCO−、−CO−、−COO−、−NH−、−SO2−、−N(R31)−、−N(R31)SO2−等が途中に挿入されてもよい。ここでR31は炭素数1〜6の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、メチル基、エチル基、及び、イソプロピル基等がある。X2の好ましい例として、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、o−フェニレン基、m−フェニレン基、p−フェニレン基、−CH2CH2OCOCH2CH2−、及び、−CH2CH2OCO(C6H4)−等が挙げられる。
rは0又は1を表す。
qは0又は1を表し、0が好ましい。
R 2 represents a methyl group or an ethyl group, and a methyl group is preferable.
R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, and preferably a hydrogen atom. L represents a divalent linking group and is preferably a group represented by the following general formula (2).
Formula (2) :-( CO-X 1 ) r-X 2 -
In the formula, X 1 represents an oxygen atom or —NR 30 —. Here, R 30 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an acyl group, and each may have a substituent (for example, a halogen atom, a nitro group, a hydroxyl group, etc.). R 30 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, n-butyl group, n-octyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, benzoyl group, etc.) It is. Particularly preferred as X 1 is an oxygen atom or —NH—.
X 2 represents an alkylene group, an arylene group, an alkylene arylene group, an arylene alkylene group, or an alkylene arylene alkylene group, and these groups include —O—, —S—, —OCO—, —CO—, and —COO. -, - NH -, - SO 2 -, - N (R 31) -, - N (R 31) SO 2 - and the like may be inserted in the middle. Here, R 31 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group. Preferred examples of X 2 include dimethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, o-phenylene group, m-phenylene group, p-phenylene group, —CH 2 CH 2 OCOCH 2 CH 2 —, and —CH 2 CH 2. And OCO (C 6 H 4 )-
r represents 0 or 1;
q represents 0 or 1, and 0 is preferable.
R4は、炭素数1〜80のアルキル基、アルケニル基、又は、アルキニル基を表し、第1高分子としては、炭素数1〜5のアルキル基が好ましく、第2高分子としては、炭素数5〜50のアルキル基が好ましく、炭素数5〜30のアルキル基がより好ましく、炭素数5〜20のアルキル基が更に好ましい。
R5は、水素原子、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、又は、−CH2COOR6を表し、水素原子、メチル基、ハロゲン原子、又は、−CH2COOR6が好ましく、水素原子、メチル基、又は、−CH2COOR6が更に好ましく、水素原子が特に好ましい。
R6は、水素原子又は炭素数1〜80のアルキル基を表し、R4と同じでも異なってもよく、R6の炭素数は1〜70が好ましく、1〜60がより好ましい。
R 4 represents an alkyl group having 1 to 80 carbon atoms, an alkenyl group, or an alkynyl group. The first polymer is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and the second polymer has a carbon number. An alkyl group having 5 to 50 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 5 to 30 carbon atoms is more preferable, and an alkyl group having 5 to 20 carbon atoms is still more preferable.
R 5 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a halogen atom, or represents -CH 2 COOR 6, a hydrogen atom, a methyl group, a halogen atom, or a -CH 2 COOR 6 is preferably a hydrogen atom, a methyl group Or —CH 2 COOR 6 is more preferred, and a hydrogen atom is particularly preferred.
R 6 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 80 carbon atoms, and may be the same as or different from R 4, and R 6 preferably has 1 to 70 carbon atoms, and more preferably 1 to 60 carbon atoms.
第1高分子及び2の他の好適形態としては、水分の浸入をより防止できる点より、以下の一般式(1)で表されるポリマー(共重合体)が挙げられる。
一般式(1): −(A)x−(B)y−(C)z−(D)w−
なお、一般式(1)中、A、B、C、及びDはそれぞれ、すでに説明した上記繰り返し単位を表す。
Another preferred form of the first polymer and 2 is a polymer (copolymer) represented by the following general formula (1) from the viewpoint that water can be further prevented from entering.
General formula (1):-(A) x- (B) y- (C) z- (D) w-
In general formula (1), A, B, C, and D each represent the above-described repeating unit.
一般式(1)中、x、y、z、及びwは各繰り返し単位のモル比率を表す。
xとしては、3〜60モル%、好ましくは3〜50モル%、より好ましくは3〜40モル%である。
yとしては、30〜96モル%、好ましくは35〜95モル%、より好ましくは40〜90モル%である。
zとしては0.5〜25モル%、好ましくは0.5〜20モル%、より好ましくは1〜20モル%である。
wとしては、0.5〜40モル%、好ましくは0.5〜30モル%である。
一般式(1)において、xは3〜40モル%、yは40〜90モル%、zは0.5〜20モル%、wは0.5〜10モル%の場合が特に好ましい。
In general formula (1), x, y, z, and w represent the molar ratio of each repeating unit.
As x, it is 3-60 mol%, Preferably it is 3-50 mol%, More preferably, it is 3-40 mol%.
y is 30 to 96 mol%, preferably 35 to 95 mol%, more preferably 40 to 90 mol%.
z is 0.5 to 25 mol%, preferably 0.5 to 20 mol%, more preferably 1 to 20 mol%.
As w, it is 0.5-40 mol%, Preferably it is 0.5-30 mol%.
In the general formula (1), it is particularly preferable that x is 3 to 40 mol%, y is 40 to 90 mol%, z is 0.5 to 20 mol%, and w is 0.5 to 10 mol%.
一般式(1)で表されるポリマーとしては、下記一般式(2)及び一般式(3)で表されるポリマーが好ましい。 The polymer represented by the general formula (1) is preferably a polymer represented by the following general formula (2) or general formula (3).
一般式(2)中、x、y、z及びwは、上記の定義の通りである。 In general formula (2), x, y, z, and w are as defined above.
上記式中、a1、b1、c1、d1、及びe1は各モノマー単位のモル比率を表し、a1は3〜60(モル%)、b1は30〜95(モル%)、c1は0.5〜25(モル%)、d1は0.5〜40(モル%)、e1は1〜10(モル%)を表す。
a1の好ましい範囲は上記xの好ましい範囲と同じであり、b1の好ましい範囲は上記yの好ましい範囲と同じであり、c1の好ましい範囲は上記zの好ましい範囲と同じであり、d1の好ましい範囲は上記wの好ましい範囲と同じである。
e1は1〜10モル%であり、好ましくは2〜9モル%であり、より好ましくは2〜8モル%である。
In the above formula, a1, b1, c1, d1, and e1 represent the molar ratio of each monomer unit, a1 is 3 to 60 (mol%), b1 is 30 to 95 (mol%), and c1 is 0.5 to 25 (mol%), d1 represents 0.5 to 40 (mol%), and e1 represents 1 to 10 (mol%).
The preferred range of a1 is the same as the preferred range of x, the preferred range of b1 is the same as the preferred range of y, the preferred range of c1 is the same as the preferred range of z, and the preferred range of d1 is The same as the preferable range of w.
e1 is 1 to 10 mol%, preferably 2 to 9 mol%, more preferably 2 to 8 mol%.
一般式(1)で表されるポリマーの重量平均分子量は、1000〜100万が好ましく、2000〜75万がより好ましく、3000〜50万が更に好ましい。
一般式(1)で表されるポリマーは、例えば、特許第3305459号及び特許第3754745号公報などを参照して合成することができる。
1000-1 million are preferable, as for the weight average molecular weight of the polymer represented by General formula (1), 2000-750,000 are more preferable, and 3000-500,000 are still more preferable.
The polymer represented by the general formula (1) can be synthesized with reference to, for example, Japanese Patent No. 3305459 and Japanese Patent No. 3754745.
なお、第1高分子及び第2高分子のガラス転移温度としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有するタッチパネル用導電性シートが得られる点で、第1高分子のガラス転移温度としては、0℃以上が好ましく、25℃以上がより好ましく、40℃を超えることが更に好ましい。上限としては特に制限されないが、一般に120℃以下が好ましい。
また、第2高分子のガラス転移温度としては特に制限されないが、40℃以下が好ましく、25℃以下がより好ましく、25℃未満が更に好ましく、0℃以下が特に好ましく、0℃未満が最も好ましい。下限としては特に制限されないが、一般に−50℃以上が好ましい。
The glass transition temperatures of the first polymer and the second polymer are not particularly limited, but the glass transition temperature of the first polymer is obtained in that a more excellent conductive sheet for a touch panel having the effect of the present invention can be obtained. Is preferably 0 ° C. or higher, more preferably 25 ° C. or higher, and even more preferably 40 ° C. or higher. Although it does not restrict | limit especially as an upper limit, Generally 120 degrees C or less is preferable.
The glass transition temperature of the second polymer is not particularly limited, but is preferably 40 ° C. or less, more preferably 25 ° C. or less, further preferably less than 25 ° C., particularly preferably 0 ° C. or less, and most preferably less than 0 ° C. . Although it does not restrict | limit especially as a minimum, Generally -50 degreeC or more is preferable.
第1高分子のガラス転移温度と、第2高分子のガラス転移温度の差(絶対値)としては特に制限されないが、一般に20〜100℃が好ましい。第1高分子のガラス転移温度と、第2高分子のガラス転移温度の差(絶対値)が上記範囲内だと、タッチパネル用導電性シートはより優れた本発明の効果を有する。 The difference (absolute value) between the glass transition temperature of the first polymer and the glass transition temperature of the second polymer is not particularly limited, but is generally preferably 20 to 100 ° C. When the difference (absolute value) between the glass transition temperature of the first polymer and the glass transition temperature of the second polymer is within the above range, the conductive sheet for touch panel has more excellent effects of the present invention.
導電部における金属部は、導電部の導電特性を担保する部分であり、金属部は金属により構成される。金属部を構成する金属としては、導電特性がより優れる点で、金(金属金)、銀(金属銀)、銅(金属銅)、ニッケル(金属ニッケル)、及び、パラジウム(金属パラジウム)からなる群より選択される少なくとも1種の金属が好ましい。
なお、図2においては、金属部が粒子状になって導電部に分散した形態を記載しているが、金属部の形態としては上記に制限されず、金属部が層状となって導電部に分散した形態であってもよい。
The metal part in a conductive part is a part which ensures the conductive characteristic of a conductive part, and a metal part is comprised with a metal. The metal constituting the metal part is composed of gold (metal gold), silver (metal silver), copper (metal copper), nickel (metal nickel), and palladium (metal palladium) in that the conductive properties are more excellent. At least one metal selected from the group is preferred.
In addition, in FIG. 2, although the metal part described the form which became a particle form and disperse | distributed to the electroconductive part, it does not restrict | limit to the above as a form of a metal part, A metal part becomes layered and becomes an electroconductive part. It may be in a dispersed form.
導電部には上記以外の材料が含有されていてもよい。上記以外の材料としては、例えば、非金属の微粒子が挙げられる。非金属の微粒子としては、例えば、樹脂粒子、及び、金属酸化物粒子等が挙げられ、金属酸化物粒子が好ましい。
金属酸化物粒子としては、例えば、酸化ケイ素粒子、及び、酸化チタン粒子等が挙げられる。
The conductive part may contain materials other than those described above. Examples of the material other than the above include non-metallic fine particles. Examples of the non-metallic fine particles include resin particles and metal oxide particles, and metal oxide particles are preferable.
Examples of the metal oxide particles include silicon oxide particles and titanium oxide particles.
非金属の微粒子の平均粒子径としては特に制限されないが、球相当径で1〜1000nmが好ましく、10〜500nmがより好ましく、20〜200nmが更に好ましい。上記範囲内であれば、タッチパネル用導電性シートはより優れた透明性を有しやすく、かつ、より優れた導電性を有しやすい。
非金属の微粒子の球相当径は、透過型電子顕微鏡を用いて、任意の50個分の球相当径を算出し、それらを算術平均したものである。
The average particle diameter of the non-metallic fine particles is not particularly limited, but is preferably 1 to 1000 nm, more preferably 10 to 500 nm, and still more preferably 20 to 200 nm in terms of a sphere equivalent diameter. If it is in the said range, the electroconductive sheet for touchscreens tends to have more excellent transparency, and it is easy to have more excellent electroconductivity.
The equivalent sphere diameter of the non-metallic fine particles is an arithmetic average of 50 equivalent sphere diameters calculated using a transmission electron microscope.
導電部の形状は特に制限されないが、タッチパネルに適用した際により優れたタッチ位置の検出性能が得られるように、線状(直線、曲線、及び、これらの組み合わせ等)であるのが好ましい。この際、導電部の線幅は特に制限されないが、導電部の導電特性及び視認しづらさのバランスの点から、30μm以下が好ましく、15μm以下がより好ましく、10μm以下が更に好ましく、5μm以下が特に好ましく、4μm以下が最も好ましく、0.5μm以上が好ましく、1.0μm以上がより好ましい。
導電部の厚みは特に制限されないが、薄型化と導電特性のバランスの点で、200μm以下が好ましく、30μm以下がより好ましく、10μm以下が更に好ましく、0.3〜5μmであることが特に好ましく、0.5〜5μmであることが最も好ましい。
The shape of the conductive portion is not particularly limited, but is preferably linear (straight line, curved line, and a combination thereof) so that a better touch position detection performance can be obtained when applied to a touch panel. At this time, the line width of the conductive part is not particularly limited, but is preferably 30 μm or less, more preferably 15 μm or less, still more preferably 10 μm or less, and further preferably 5 μm or less from the viewpoint of the balance between the conductive characteristics of the conductive part and difficulty in visual recognition. Particularly preferred is 4 μm or less, most preferred is 0.5 μm or more, and more preferred is 1.0 μm or more.
The thickness of the conductive part is not particularly limited, but is preferably 200 μm or less, more preferably 30 μm or less, still more preferably 10 μm or less, and particularly preferably 0.3 to 5 μm in terms of the balance between thinning and conductive properties. Most preferably, it is 0.5-5 micrometers.
導電部はパターンを形成していてもよい。パターンとしては、例えば、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、(正)六角形、(正)八角形などの(正)n角形、円、楕円、星形などを組み合わせた幾何学図形であることが好ましく、メッシュ状(メッシュパターン)であることがより好ましい。メッシュ状とは、図4に示すように、交差する導電部14により構成される複数の正方形状の開口部(格子)26を含んでいる形状を意図する。 The conductive part may form a pattern. Examples of patterns include triangles such as regular triangles, isosceles triangles, right triangles, squares, rectangles, rhombuses, parallelograms, trapezoids, and other (positive) hexagons, (positive) octagons, etc. A geometric figure combining an n-gon, a circle, an ellipse, a star, and the like is preferable, and a mesh shape (mesh pattern) is more preferable. As shown in FIG. 4, the mesh shape means a shape including a plurality of square-shaped openings (lattices) 26 formed by intersecting conductive portions 14.
開口部26の一辺の長さPaは特に制限されないが、1500μm以下が好ましく、1300μm以下がより好ましく、1000μm以下であることが更に好ましく、5μm以上が好ましく、30μm以上がより好ましく、80μm以上が更に好ましい。開口部の辺の長さが上記範囲である場合には、更に透明性も良好に保つことが可能であり、導電性フィルムを表示装置の前面にとりつけた際に、違和感なく表示を視認することができる。
可視光透過率の点から、導電部により形成されるメッシュパターンの開口率は85%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましく、95%以上であることが更に好ましい。開口率とは、導電部がある領域を除いた支持体上の領域が全体に占める割合に相当する。
The length Pa of one side of the opening 26 is not particularly limited, but is preferably 1500 μm or less, more preferably 1300 μm or less, further preferably 1000 μm or less, more preferably 5 μm or more, more preferably 30 μm or more, and even more preferably 80 μm or more. preferable. When the length of the side of the opening is in the above range, it is possible to keep transparency even better, and when the conductive film is attached to the front surface of the display device, the display can be visually recognized without a sense of incongruity. Can do.
From the viewpoint of visible light transmittance, the aperture ratio of the mesh pattern formed by the conductive portion is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and still more preferably 95% or more. The aperture ratio corresponds to the ratio of the area on the support excluding the area where the conductive portion is present to the whole.
<第1実施形態の変形例>
図5には、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの変形例を示した。図5のタッチパネル用導電性シートは、支持体12上に既に説明した導電部14が配置され、更に支持体12上に、導電部14に隣接するよう配置された非導電部51を有する。図5のタッチパネル用導電性シートは、非導電部51を3つ有するが、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートとしては上記に制限されない。
非導電部の厚みとしては特に制限されないが、一般に、導電部の厚み以下が好ましい。
非導電部の材料としては特に制限されないが、金属部を含有しないこと以外は、導電部の材料と同様であることが好ましい。そのようにすることで、より優れた本発明の効果を有するタッチパネル用導電性シートが得られる。
<Modification of First Embodiment>
In FIG. 5, the modification of the conductive sheet for touchscreens which concerns on this embodiment was shown. The conductive sheet for a touch panel in FIG. 5 has the conductive portion 14 already described on the support 12 and further has a non-conductive portion 51 disposed on the support 12 so as to be adjacent to the conductive portion 14. The conductive sheet for a touch panel in FIG. 5 has three non-conductive portions 51, but the conductive sheet for a touch panel according to the present embodiment is not limited to the above.
Although it does not restrict | limit especially as thickness of a nonelectroconductive part, Generally, below the thickness of an electroconductive part is preferable.
Although it does not restrict | limit especially as a material of a nonelectroconductive part, It is preferable that it is the same as that of the material of an electroconductive part except not containing a metal part. By doing so, the conductive sheet for touch panels which has the effect of this invention more excellent is obtained.
<第1実施形態の変形例2>
図6には、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの第2変形例を示した。図6のタッチパネル用導電性シートは、支持体12と導電部14との間に更に、易接着層61を有し、易接着層61上に導電部14に隣接するよう配置された非導電部51を有する。
タッチパネル用導電性シートが易接着層を有することにより、支持体12と導電部14との密着性がより向上し、より優れた耐久性を有するタッチパネル用導電性シートが得られやすい。
<Modification 2 of the first embodiment>
In FIG. 6, the 2nd modification of the conductive sheet for touchscreens which concerns on this embodiment was shown. The conductive sheet for a touch panel in FIG. 6 further includes an easy-adhesion layer 61 between the support 12 and the conductive part 14, and is disposed on the easy-adhesion layer 61 so as to be adjacent to the conductive part 14. 51.
When the conductive sheet for touch panel has an easily bonding layer, the adhesiveness of the support body 12 and the electroconductive part 14 improves more, and the conductive sheet for touch panels which has the more excellent durability is easy to be obtained.
このとき、各部材の屈折率の関係としては特に制限されないが、タッチパネルに適用した際にもより外光を反射しにくい点で、非導電部の屈折率RI1、易接着層の屈折率RI2、及び、支持体の屈折率RI3との間に、以下の式3;
式3 RI1<RI2<RI3
が成り立つことが好ましい。
At this time, the relationship between the refractive indexes of the respective members is not particularly limited, but the refractive index RI 1 of the non-conductive portion and the refractive index RI of the easy-adhesion layer are more difficult to reflect external light even when applied to a touch panel. 2 and the refractive index RI 3 of the support:
Formula 3 RI 1 <RI 2 <RI 3
Is preferably satisfied.
各層の屈折率としては特に制限されないが、非導電部の屈折率RI1としては1.40〜1.75が好ましく、1.40〜1.55がより好ましい。易接着層の屈折率RI2としては1.40〜1.75が好ましく、1.40〜1.55がより好ましい。支持体の屈折率RI3としては1.40〜1.75が好ましく、1.40〜1.55がより好ましい。
なお、支持体の屈折率は、アッベ屈折率計(アタゴ(株)製アッベ屈折計)で光源をナトリウムランプ(Na−D線、589nm)として、マウント液はヨウ化メチレンを用い、23℃、相対湿度65%下で、試料の直交する2つの方向、もしくは長手方向と幅方向を測定し、それらの値の平均値で求める。各層の屈折率は、測定用に各層の乾膜を独立に作製し、基材と同様に、アッベ屈折率計で測定する。
The refractive index of each layer is not particularly limited, but the refractive index RI 1 of the non-conductive portion is preferably 1.40 to 1.75, more preferably 1.40 to 1.55. The refractive index RI 2 of the easy adhesion layer is preferably 1.40 to 1.75, and more preferably 1.40 to 1.55. The refractive index RI 3 of the support is preferably 1.40 to 1.75, more preferably 1.40 to 1.55.
The refractive index of the support is an Abbe refractometer (Abago refractometer manufactured by Atago Co., Ltd.), the light source is a sodium lamp (Na-D line, 589 nm), the mounting liquid is methylene iodide, 23 ° C. Under a relative humidity of 65%, two orthogonal directions of the sample, or the longitudinal direction and the width direction are measured, and the average value of these values is obtained. The refractive index of each layer is measured by an Abbe refractometer in the same manner as the base material by preparing a dry film of each layer independently for measurement.
易接着層の材料としては特に制限されず、公知の易接着層の材料が使用できる。易接着層としては特に制限されず、たとえば特開2008−208310号公報に記載の第1接着層の好適な適用例を、好適に用いることができる。 The material for the easy adhesion layer is not particularly limited, and a known material for the easy adhesion layer can be used. The easy adhesion layer is not particularly limited, and for example, a suitable application example of the first adhesive layer described in JP-A-2008-208310 can be suitably used.
易接着層の厚みは特に制限されないが、支持体と、導電部との密着性がより向上する点で、0.02〜0.3μmが好ましい。 Although the thickness of an easily bonding layer is not specifically limited, 0.02-0.3 micrometer is preferable at the point which the adhesiveness of a support body and an electroconductive part improves more.
支持体、易接着層、及び、非導電部の屈折率を調整する方法としては特に制限されないが、例えば、各部材に対して、既に説明した非金属の微粒子を含有させる方法が挙げられる。 The method for adjusting the refractive index of the support, the easy-adhesion layer, and the non-conductive portion is not particularly limited, and examples thereof include a method in which each member contains the non-metallic fine particles already described.
本実施形態に係るタッチパネル用導電性フィルムは、静電容量方式のタッチパネルに用いられることが好ましい。
なお、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートは、パーソナルコンピュータやワークステーション等から発生する電波又はマイクロ波(極超短波)等の電磁波を遮断し、かつ静電気を防止する電磁波シールドとして用いることもできる。なお、パソコン本体に使用される電磁波シールド以外にも、映像撮影機器や電子医療機器などで使用される電磁波シールドとしても用いることができる。
また、本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートは、透明発熱体としても用いることができる。
The conductive film for a touch panel according to this embodiment is preferably used for a capacitive touch panel.
The conductive sheet for a touch panel according to this embodiment can also be used as an electromagnetic wave shield that blocks electromagnetic waves such as radio waves or microwaves (extremely short waves) generated from personal computers, workstations, and the like and prevents static electricity. . In addition to the electromagnetic wave shield used for the personal computer body, it can also be used as an electromagnetic wave shield used in video imaging equipment, electronic medical equipment, and the like.
In addition, the conductive sheet for a touch panel according to the present embodiment can be used as a transparent heating element.
〔第1実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの製造方法〕
本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの製造方法としては特に制限されず、既に説明したRU、RM、及び、RLの関係を満たすようなタッチパネル用導電性シートが得られればよい。なかでも、金属部が銀(金属銀)を含有する場合、より優れた生産性が得られる点で以下工程を有する方法が好ましい。
[Method for Producing Conductive Sheet for Touch Panel According to First Embodiment]
There are no particular limitations on the method for producing a conductive sheet for a touch panel according to the present embodiment, already R U, R M described, and, only to be obtained touch panel conductive sheet that satisfies the relationship of R L. Especially, when a metal part contains silver (metal silver), the method which has the following processes at the point from which more excellent productivity is obtained is preferable.
・工程A:
支持体上に、少なくともハロゲン化銀と第1高分子とを含有するハロゲン化銀含有塗布液と、少なくとも第2高分子を含有する組成調整塗布液とを、同時重層塗布して、ハロゲン化銀感光性層を形成する工程。
・工程B:
ハロゲン化銀感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する導電部を形成する工程。
以下では、各工程について詳述する。
-Process A:
A silver halide-containing coating solution containing at least silver halide and a first polymer and a composition-adjusting coating solution containing at least a second polymer are simultaneously coated on the support, and silver halide is coated. Forming a photosensitive layer;
-Process B:
A step of exposing the silver halide photosensitive layer and developing it to form a conductive portion containing silver metal.
Below, each process is explained in full detail.
<工程A>
工程Aは、支持体上に、少なくともハロゲン化銀と第1高分子とを含有するハロゲン化銀含有塗布液と、少なくとも第2高分子を含有する組成調整塗布液とを、同時重層塗布して、ハロゲン化銀感光性層を形成する工程である。
なお、同時重層塗布する場合の各塗布液の積層順序としては特に制限されない。ただし、支持体側から、ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液をこの順に積層した場合には、式1を満たすタッチパネル用導電性シートが得られやすい。逆に、支持体側から、組成調整塗布液、及び、ハロゲン化銀含有塗布液をこの順に積層した場合には、式2を満たすタッチパネル用導電性シートが得られやすい。更に、組成調整塗布液、ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液をこの順に積層した場合には、式1、及び、式2を満たすタッチパネル用導電性シートが得られやすい。
<Process A>
In step A, a silver halide-containing coating solution containing at least a silver halide and a first polymer and a composition-adjusting coating solution containing at least a second polymer are applied simultaneously on the support. And a step of forming a silver halide photosensitive layer.
In addition, there is no restriction | limiting in particular as a lamination order of each coating liquid in the case of simultaneous multilayer coating. However, when the silver halide-containing coating solution and the composition-adjusting coating solution are laminated in this order from the support side, a conductive sheet for a touch panel that satisfies Formula 1 is easily obtained. Conversely, when the composition-adjusting coating solution and the silver halide-containing coating solution are laminated in this order from the support side, it is easy to obtain a conductive sheet for a touch panel that satisfies Formula 2. Furthermore, when the composition-adjusting coating solution, the silver halide-containing coating solution, and the composition-adjusting coating solution are laminated in this order, a conductive sheet for a touch panel that satisfies Equations 1 and 2 is easily obtained.
なお、本明細書では、「支持体上に塗布」とは、支持体表面上に直接塗布する場合、及び、支持体上に別途層が配置され、その層上に塗布する場合も含める。
本工程では、ハロゲン化銀を含むハロゲン化銀含有塗布液と、ハロゲン化銀を含まない組成調整塗布液とを同時重層塗布しているため、両者の塗布液より形成される2層の塗膜の界面にて成分の拡散が進行する。より具体的には、図7に示すように、支持体12上に配置されるハロゲン化銀含有塗布液から形成される塗膜28(以後、塗膜Aとも称する)中から、組成調整塗布液から形成される塗膜30(以後、塗膜Bとも称する)中に一部のハロゲン化銀32、及び、第1高分子の拡散が進行する。その結果、塗膜B中の塗膜A側の領域にはハロゲン化銀、及び、第1高分子が含まれ、その含有量は、塗膜A中のハロゲン化銀、及び、第1高分子の含有量よりも少ない。
塗膜B中の塗膜A側の領域(以下「領域W」ともいう。)には、塗膜Aから移動したハロゲン化銀が含有されるため、後述する工程Bを経た後、この領域Wは、導電部における上部領域を形成することとなる。このとき、導電部のうち、領域Wにおいては第1高分子の含有量及び第2高分子の含有量の合計量に対する第2高分子の含有量の含有質量比が、中間領域のRMよりも大きくなりやすい。
In the present specification, “applying on a support” includes the case of direct application on the surface of the support and the case where a separate layer is disposed on the support and applied on that layer.
In this step, since a silver halide-containing coating solution containing silver halide and a composition-adjusting coating solution not containing silver halide are applied simultaneously, a two-layer coating film formed from both coating solutions The diffusion of components proceeds at the interface. More specifically, as shown in FIG. 7, a composition-adjusting coating solution from a coating film 28 (hereinafter also referred to as coating film A) formed from a silver halide-containing coating solution disposed on the support 12. The diffusion of a part of the silver halide 32 and the first polymer proceeds in the coating film 30 (hereinafter also referred to as coating film B). As a result, the area on the coating film A side in the coating film B contains the silver halide and the first polymer, and the content thereof is the silver halide and the first polymer in the coating film A. Less than the content of.
The region on the coating film A side in the coating film B (hereinafter also referred to as “region W”) contains silver halide that has moved from the coating film A. Will form an upper region in the conductive portion. In this case, among the conductive portions, containing the mass ratio of the content of the second polymer to the content and the total amount of content of the second polymer of the first polymer in the region W is, than R M of the intermediate region Also tends to be large.
なお、ハロゲン化銀含有塗布液は、少なくともハロゲン化銀と第1高分子とを含有すればよく、第2高分子を更に含有してもよい。この場合、ハロゲン化銀含有塗布液中における第1高分子の含有量及び第2高分子の含有量に対する第2高分子の含有質量比は、組成調整塗布液中における第1高分子の含有量及び第2高分子の含有量に対する第2高分子の含有質量比よりも小さいことが好ましい。 The silver halide-containing coating solution may contain at least silver halide and the first polymer, and may further contain the second polymer. In this case, the content ratio of the second polymer to the content of the first polymer and the content of the second polymer in the silver halide-containing coating solution is the content of the first polymer in the composition-adjusted coating solution. And it is preferable that it is smaller than the content mass ratio of the 2nd polymer with respect to content of the 2nd polymer.
また、組成調整塗布液は、少なくとも第2高分子を含有すればよく、ハロゲン化銀、及び/又は、第1高分子を更に含有してもよい。組成調整塗布液が更にハロゲン化銀を含有する場合、その含有量としては特に制限されないが、ハロゲン化銀含有塗布液中におけるハロゲン化銀の含有量より、組成調整塗布液中におけるハロゲン化銀の含有量の方が少ないことが好ましい。そのようにすることで、より外光反射の少ないタッチパネル用導電性シートが得られやすい。
組成調整塗布液が更に第1高分子を含有する場合、組成調整塗布液中における第1高分子の含有量及び第2高分子の含有量に対する第1高分子の含有質量比は、ハロゲン化銀含有塗布液における第1高分子の含有量及び第2高分子の含有量に対する第1高分子の含有質量比よりも小さいことが好ましい。
The composition-adjusting coating solution may contain at least the second polymer, and may further contain silver halide and / or the first polymer. When the composition-adjusting coating solution further contains silver halide, the content thereof is not particularly limited, but the content of silver halide in the composition-adjusting coating solution is determined based on the silver halide content in the silver halide-containing coating solution. It is preferable that the content is smaller. By doing so, it is easy to obtain a conductive sheet for a touch panel with less external light reflection.
When the composition adjustment coating solution further contains the first polymer, the content ratio of the first polymer to the content of the first polymer and the content of the second polymer in the composition adjustment coating solution is silver halide. It is preferable that the content ratio of the first polymer to the content of the first polymer and the content of the second polymer in the containing coating liquid is smaller than the content ratio.
ハロゲン化銀含有塗布液に含有されるハロゲン化銀としては特に制限されず、公知のハロゲン化銀が使用できる。ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。例えば、塩化銀、臭化銀、又は、ヨウ化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、更に臭化銀又は塩化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。塩臭化銀、沃塩臭化銀、又は、沃臭化銀もまた好ましく用いられる。より好ましくは、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、又は、沃臭化銀であり、最も好ましくは、塩化銀50モル%以上を含有する塩臭化銀、又は、沃塩臭化銀が用いられる。
なお、ここで、「臭化銀を主体としたハロゲン化銀」とは、ハロゲン化銀組成中に占める臭化物イオンのモル分率が50%以上のハロゲン化銀をいう。この臭化銀を主体としたハロゲン化銀粒子は、臭化物イオンのほかに沃化物イオン、塩化物イオンを含有していてもよい。
The silver halide contained in the silver halide-containing coating solution is not particularly limited, and known silver halides can be used. The halogen element contained in the silver halide may be any of chlorine, bromine, iodine and fluorine, or a combination thereof. For example, silver halide mainly composed of silver chloride, silver bromide, or silver iodide is preferably used, and silver halide mainly composed of silver bromide or silver chloride is preferably used. Silver chlorobromide, silver iodochlorobromide, or silver iodobromide is also preferably used. More preferably, it is silver chlorobromide, silver bromide, silver iodochlorobromide, or silver iodobromide, and most preferably silver chlorobromide or iodine salt containing 50 mol% or more of silver chloride. Silver bromide is used.
Here, “silver halide mainly composed of silver bromide” refers to silver halide in which the molar fraction of bromide ions in the silver halide composition is 50% or more. The silver halide grains mainly composed of silver bromide may contain iodide ions and chloride ions in addition to bromide ions.
ハロゲン化銀は固体粒子状であり、ハロゲン化銀の平均粒子サイズは、球相当径で0.1〜1000nm(1μm)であることが好ましく、0.1〜300nmであることがより好ましく、1〜200nmであることが更に好ましい。
なお、ハロゲン化銀粒子の球相当径とは、粒子形状が球形の同じ体積を有する粒子の直径である。
The silver halide is in the form of a solid grain, and the average grain size of the silver halide is preferably 0.1 to 1000 nm (1 μm) in terms of sphere equivalent diameter, more preferably 0.1 to 300 nm. More preferably, it is -200 nm.
The sphere equivalent diameter of silver halide grains is the diameter of grains having the same volume and having a spherical shape.
ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状(6角平板状、三角形平板状、4角形平板状など)、八面体状、及び、14面体状など様々な形状であることができる。
また、ハロゲン化銀の安定化又は高感化のために用いられるロジウム化合物、イリジウム化合物などのVIII族、VIIB族に属する金属化合物、パラジウム化合物の利用については、特開2009−188360号の段落0039〜段落0042の記載を参照することができる。更に化学増感については、特開2009−188360号の段落0043の技術記載を参照することができる。
The shape of the silver halide grains is not particularly limited. For example, various shapes such as a spherical shape, a cubic shape, a flat plate shape (hexagonal flat plate shape, triangular flat plate shape, tetragonal flat plate shape, etc.), octahedral shape, and tetrahedral shape are available. It can be in shape.
Regarding the use of metal compounds belonging to Group VIII and VIIB, such as rhodium compounds and iridium compounds, and palladium compounds, which are used for stabilizing or enhancing the sensitivity of silver halide, paragraphs 0039- of JP2009-188360A Reference can be made to the description in paragraph 0042. Further, regarding chemical sensitization, reference can be made to the technical description in paragraph 0043 of JP-A-2009-188360.
ハロゲン化銀含有塗布液に含有され、組成調整塗布液に含有されることがある第1高分子、及び、組成調整塗布液に含有され、ハロゲン化銀含有塗布液に含有されることがある第2高分子の形態としては既に説明したとおりであるため、説明は省略する。
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液は、ハロゲン化銀、第1高分子、及び、第2高分子以外の成分を含有していてもよく、それらの成分はハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液において共通であり、以下に説明するとおりである。
The first polymer that is contained in the silver halide-containing coating solution and may be contained in the composition-adjusting coating solution, and the first polymer that is contained in the composition-adjusting coating solution and may be contained in the silver halide-containing coating solution. Since the two polymer forms are as already described, the description thereof is omitted.
The silver halide-containing coating solution and the composition-adjusting coating solution may contain components other than silver halide, the first polymer, and the second polymer, and these components are silver halide-containing coatings. This is common in the liquid and the composition-adjusting coating liquid, as described below.
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液は、更にゼラチンを含有してもよい。
ゼラチンの種類は特に制限されず、例えば、石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、及び、アミノ基又はカルボキシル基を修飾したゼラチン(フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン)を使用することもできる。
The silver halide-containing coating solution and the composition-adjusting coating solution may further contain gelatin.
The type of gelatin is not particularly limited. For example, acid-treated gelatin may be used in addition to lime-treated gelatin, and gelatin hydrolyzate, gelatin enzyme-degraded product, and gelatin modified with amino group or carboxyl group (phthalate) Gelatinized gelatin, acetylated gelatin) can also be used.
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液は、更に溶媒を含有してもよい。使用される溶媒としては、例えば、水、有機溶媒(例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等)、イオン性液体、及び、これらの混合溶媒を挙げることができる。 The silver halide-containing coating solution and the composition-adjusting coating solution may further contain a solvent. Examples of the solvent used include water, organic solvents (for example, alcohols such as methanol, ketones such as acetone, amides such as formamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, esters such as ethyl acetate, ethers, and the like. Etc.), ionic liquids, and mixed solvents thereof.
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液には、必要に応じて、上述した材料以外の他の材料が含まれていてもよい。例えば、上記第1高分子及び第2高分子を架橋するために使用される架橋剤が含まれることが好ましい。架橋剤が含まれることによりポリマー間での架橋が進行し、後述する工程においてゼラチンが分解除去された際にも金属銀同士の連結が保たれ、結果として導電特性がより優れる。 The silver halide-containing coating solution and the composition-adjusting coating solution may contain other materials than the above-described materials as necessary. For example, it is preferable that a crosslinking agent used for crosslinking the first polymer and the second polymer is included. By including the cross-linking agent, cross-linking between the polymers proceeds, and even when gelatin is decomposed and removed in a process described later, the connection between the metal silvers is maintained, and as a result, the conductive properties are more excellent.
ハロゲン化銀含有塗布液と組成調整塗布液とを同時重層塗布する方法は特に制限されず、公知の方法を採用することができ、例えば、ダイ塗布方式を用いることが好ましい。ダイ塗布方式にはスライド塗布方式、エクストルージョン塗布方式、カーテン塗布方式があるが、スライド塗布方式又はエクストルージョン塗布が好ましく、薄層塗布適性が高いエクストルージョン塗布が最も好ましい。 The method for simultaneous multilayer coating of the silver halide-containing coating solution and the composition-adjusting coating solution is not particularly limited, and a known method can be adopted. For example, it is preferable to use a die coating method. The die coating method includes a slide coating method, an extrusion coating method, and a curtain coating method, but a slide coating method or an extrusion coating method is preferable, and an extrusion coating method having high suitability for thin layer coating is most preferable.
なお、上記同時重層塗布する際には、上述したタッチパネル用導電性フィルムの第1実施態様の形態が得られやすい点から、所定の基板上に塗布した際に形成される膜(表面膜)の乾燥厚みが300nm以上となるような組成の第2高分子を含有する組成調整塗布液を使用することが好ましい。 In addition, when applying the simultaneous multi-layer coating, the film (surface film) formed when applied on a predetermined substrate from the point that the form of the first embodiment of the conductive film for touch panel described above is easily obtained. It is preferable to use a composition-adjusting coating solution containing a second polymer having a composition such that the dry thickness is 300 nm or more.
また、同時重層塗布を実施した後、得られた塗膜に対して、必要に応じて、乾燥処理を施してもよい。乾燥処理を実施することにより、ハロゲン化銀含有塗布液より得られる塗膜及び組成調整塗布液より得られる塗膜に含まれる溶媒を容易に除去することができる。 Moreover, after implementing simultaneous multilayer coating, you may perform a drying process with respect to the obtained coating film as needed. By carrying out the drying treatment, the solvent contained in the coating film obtained from the silver halide-containing coating liquid and the coating film obtained from the composition-adjusting coating liquid can be easily removed.
上記処理により、ハロゲン化銀を含有する感光性層を支持体上に形成することができる。なお、本明細書では、上記「ハロゲン化銀を含有する感光性層」を「ハロゲン化銀感光性層」、又は、単に「感光性層」ということがある。 By the above treatment, a photosensitive layer containing silver halide can be formed on the support. In the present specification, the above “photosensitive layer containing silver halide” may be referred to as “silver halide photosensitive layer” or simply “photosensitive layer”.
<工程B>
工程Bは、ハロゲン化銀感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する導電部を形成する工程である。
本工程により、ハロゲン化銀が還元され、金属銀を含む導電部が形成される。なお、通常、露光処理はパターン状に実施され、露光部では金属銀を含む導電部が形成される。一方、非露光部では、後述する現像処理によってハロゲン化銀が溶出される。上記ゼラチン及び上記高分子を含む非導電部が形成される。非導電部には実質的に金属銀が含まれておらず、非導電部とは導電性を示さない領域を意図する。
以下では、本工程で実施される露光処理と現像処理とについて詳述する。
<Process B>
Step B is a step of forming a conductive portion containing metallic silver by exposing the silver halide photosensitive layer and developing it.
By this step, the silver halide is reduced and a conductive part containing metallic silver is formed. In general, the exposure process is performed in a pattern, and a conductive part containing metallic silver is formed in the exposed part. On the other hand, in the non-exposed portion, silver halide is eluted by a development process described later. A non-conductive portion containing the gelatin and the polymer is formed. The non-conductive portion is substantially free of metallic silver, and the non-conductive portion is intended to indicate a region that does not exhibit conductivity.
Below, the exposure process and development process implemented at this process are explained in full detail.
露光処理は、感光性層に露光を行う処理である。感光性層に対してパターン状の露光を施すことにより、露光領域における感光性層中のハロゲン化銀が潜像を形成する。この潜像が形成された領域は、後述する現像処理によって導電部を形成する。一方、露光がなされなかった未露光領域では、後述する現像処理の際にハロゲン化銀が溶解して感光性層から流出し、透明な膜(非導電部)が得られる。
露光の際に使用される光源は特に制限されず、可視光線、紫外線などの光、又は、X線などの放射線などが挙げられる。
パターン露光を行う方法は特に制限されず、例えば、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。なお、パターンの形状は特に制限されず、形成したい導電部のパターンに合わせて適宜調整される。
The exposure process is a process for exposing the photosensitive layer. By subjecting the photosensitive layer to pattern exposure, the silver halide in the photosensitive layer in the exposed region forms a latent image. In the region where the latent image is formed, a conductive portion is formed by development processing described later. On the other hand, in an unexposed area that has not been exposed, the silver halide dissolves and flows out of the photosensitive layer during the development processing described later, and a transparent film (non-conductive part) is obtained.
The light source used in the exposure is not particularly limited, and examples thereof include light such as visible light and ultraviolet light, and radiation such as X-rays.
The method for performing pattern exposure is not particularly limited. For example, surface exposure using a photomask may be performed, or scanning exposure using a laser beam may be performed. The shape of the pattern is not particularly limited, and is appropriately adjusted according to the pattern of the conductive part to be formed.
現像処理の方法は特に制限されないが、例えば、銀塩写真フイルム、印画紙、印刷製版用フイルム、及び、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。
現像処理の際に使用される現像液の種類は特に制限されないが、例えば、PQ(phenidone hydroquinone)現像液、MQ(Metol hydroquinone)現像液、及び、MAA(メトール・アスコルビン酸)現像液等を用いることもできる。
現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。定着処理は、銀塩写真フイルム、印画紙、印刷製版用フイルム、及び、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
定着工程における定着温度は、約20℃〜約50℃が好ましく、25〜45℃がより好ましい。また、定着時間は5秒〜1分が好ましく、7秒〜50秒がより好ましい。
現像、定着処理を施した感光性層は、水洗処理及び安定化処理を施されるのが好ましい。
The development processing method is not particularly limited, and for example, a normal development processing technique used for silver salt photographic film, photographic paper, printing plate making film, photomask emulsion mask and the like can be used.
The type of developer used in the development process is not particularly limited, and for example, PQ (phenidone hydroquinone) developer, MQ (Metal hydroquinone) developer, and MAA (methol ascorbic acid) developer are used. You can also
The development process can include a fixing process performed for the purpose of removing and stabilizing the silver salt in the unexposed part. For the fixing process, a technique of a fixing process used for a silver salt photographic film, a photographic paper, a printing plate-making film, a photomask emulsion mask, or the like can be used.
The fixing temperature in the fixing step is preferably about 20 ° C. to about 50 ° C., and more preferably 25 to 45 ° C. The fixing time is preferably 5 seconds to 1 minute, and more preferably 7 seconds to 50 seconds.
The photosensitive layer that has been subjected to development and fixing treatment is preferably subjected to water washing treatment and stabilization treatment.
本実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの製造方法は、上記工程A及び工程B以外のその他の工程を有していてもよい。
その他の工程としては、例えば、
工程Bの後に、導電部の金属銀同士を互いに融着させる工程F;
工程Aの後であって、工程Bの前に、ハロゲン化銀感光性層と、金属吸着性置換基又は金属吸着性構造を有する化合物(以下、「特定化合物」ともいう。)と、を接触させる工程C1;
工程Bの後であって、工程Fの前に、導電部と特定化合物とを接触させる工程C2;
工程Bの後であって、工程Fの前に、更に、導電部を圧密化する工程D;
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも1種が、ゼラチンを含有する場合に、工程Bの後であって、工程Dの前に、導電部中のゼラチンを除去する工程E;
等が挙げられる。また、その他の工程としては、後述する易接着層形成工程等も挙げられる。以下では、その他の工程について説明する。
The manufacturing method of the conductive sheet for touch panels which concerns on this embodiment may have processes other than the said process A and the process B.
As other processes, for example,
After Step B, Step F in which metallic silver of the conductive part is fused to each other;
After Step A and before Step B, the silver halide photosensitive layer is contacted with a compound having a metal-adsorbing substituent or a metal-adsorbing structure (hereinafter also referred to as “specific compound”). Step C1 of causing;
Step C2 after contacting the conductive part and the specific compound after Step B and before Step F;
Step D after step B and before step F, further consolidating the conductive part;
When at least one selected from the group consisting of a silver halide-containing coating solution and a composition-adjusting coating solution contains gelatin, after step B and before step D, in the conductive part Removing gelatin E;
Etc. In addition, examples of other processes include an easy-adhesion layer forming process described later. Hereinafter, other steps will be described.
(工程F)
工程Fは、工程Bの後に、導電部の(導電部に含有される)金属銀同士を互いに融着させる工程である。本工程により、金属銀同士が融着する結果、より優れた導電性を有する導電部を備えたタッチパネル用導電性シートが得られる。
(Process F)
Step F is a step of fusing metallic silver (contained in the conductive portion) of the conductive portion to each other after Step B. As a result of the fusion of the metallic silver, this step provides a conductive sheet for a touch panel provided with a conductive part having better conductivity.
加熱の方法としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有するタッチパネル用導電性シートが得られる点で、導電部を有する支持体を過熱蒸気に接触させる処理が挙げられる。
過熱蒸気としては特に制限されず、過熱水蒸気でよいし、過熱水蒸気に他のガスを混合させたものでもよい。
過熱蒸気は、供給時間10〜300秒の範囲で導電部に接触させることが好ましい。供給時間が10秒以上であると、導電率の向上が大きい。また、300秒以下だと、十分に導電率が向上するため、経済性の点からより好ましい。
また、過熱蒸気は、供給量が500〜600g/m3の範囲で導電部に接触させることが好ましく、過熱蒸気の温度は、1気圧で100〜160℃に制御されることが好ましい。
Although it does not restrict | limit especially as a method of a heating, The process which makes the support body which has an electroconductive part contact superheated steam is mentioned at the point from which the electroconductive sheet for touchscreens which has the more excellent effect of this invention is obtained.
It does not restrict | limit especially as superheated steam, Superheated steam may be sufficient, and what mixed other gas with superheated steam may be used.
The superheated steam is preferably brought into contact with the conductive portion within a supply time of 10 to 300 seconds. When the supply time is 10 seconds or more, the conductivity is greatly improved. Moreover, since it will fully improve electroconductivity as it is 300 seconds or less, it is more preferable from the point of economical efficiency.
Moreover, it is preferable that superheated steam is made to contact an electroconductive part in the range whose supply amount is 500-600 g / m < 3 >, and it is preferable that the temperature of superheated steam is controlled to 100-160 degreeC at 1 atmosphere.
加熱処理の他の方法としては、80〜150℃での加熱処理が挙げられる。
加熱時間は特に制限されないが、上記効果がより優れる点で、0.1〜5.0時間が好ましく、0.5〜1.0時間がより好ましい。
As another method of heat treatment, heat treatment at 80 to 150 ° C. may be mentioned.
The heating time is not particularly limited, but is preferably from 0.1 to 5.0 hours, and more preferably from 0.5 to 1.0 hours, from the viewpoint that the above effect is more excellent.
(工程C1)
工程C1は、工程Aの後であって、工程Bの前に実施され、ハロゲン化銀感光性層と、特定化合物とを接触させる工程である。本工程によって、後段の工程Bにおいて生じた金属銀同士がより融着しにくくなる。本工程においては、ハロゲン化銀感光性層に特定化合物を接触させるため、ハロゲン化銀感光性層のより表面に近い領域(界面領域)において、金属銀同士が融着しにくくなるという効果を有する。従って、特に後段の工程によって得られる導電部において、界面領域において金属銀同士の融着がより阻害されやすく、結果として、より優れた黒締りを有するタッチパネル用導電性シートが得られやすい。また、この場合であっても、導電部の中間領域においては、十分に金属銀同士が融着するものと考えられ、優れた導電性を有するタッチパネル用導電性シートが得られる。
(Process C1)
Step C1 is a step that is performed after Step A and before Step B, and brings the silver halide photosensitive layer into contact with the specific compound. By this step, the metallic silver produced in the subsequent step B becomes more difficult to fuse. In this step, since the specific compound is brought into contact with the silver halide photosensitive layer, the silver halide photosensitive layer has an effect that metal silver is hardly fused in a region closer to the surface (interface region). . Therefore, particularly in the conductive portion obtained by the subsequent process, the fusion between the metal silvers is more likely to be inhibited in the interface region, and as a result, a conductive sheet for a touch panel having better black tightening can be easily obtained. Even in this case, it is considered that metal silver is sufficiently fused in the intermediate region of the conductive portion, and a conductive sheet for a touch panel having excellent conductivity can be obtained.
本発明の実施形態に係るタッチパネル用導電性シートの製造方法は、工程C1又は後述する工程C2を有することが好ましく、工程C1及び工程C2を有していてもよい。 The method for manufacturing a conductive sheet for a touch panel according to an embodiment of the present invention preferably includes a step C1 or a step C2 described later, and may include a step C1 and a step C2.
特定化合物とハロゲン化銀感光性層を接触させる方法としては特に制限されないが、典型的には特定化合物が溶解、及び/又は、分散された溶液と、ハロゲン化銀感光性層とを接触させる方法が挙げられる。また、特定化合物を含有する気体と、ハロゲン化銀感光性
層とを接触させる方法であってもよい。
The method for bringing the specific compound into contact with the silver halide photosensitive layer is not particularly limited, but typically a method in which the solution in which the specific compound is dissolved and / or dispersed is brought into contact with the silver halide photosensitive layer. Is mentioned. Moreover, the method of making the gas containing a specific compound and a silver halide photosensitive layer contact may be sufficient.
特定化合物を含有する溶液とハロゲン化銀感光性層とを接触させる方法としては特に制限されないが、溶液にハロゲン化銀感光性層を浸漬させる方法、及び、ハロゲン化銀感光性層に溶液を塗布する方法等が挙げられ、溶液にハロゲン化銀感光性層を浸漬させる方法がより好ましい。溶液にハロゲン化銀感光性層を浸漬させる方法は、より簡便な装置で、より安定的に実施でき、また、浸漬後に洗浄すれば、余剰の溶液をより容易に除去できるため、好ましい。 The method of bringing the solution containing the specific compound into contact with the silver halide photosensitive layer is not particularly limited, but the method of immersing the silver halide photosensitive layer in the solution and applying the solution to the silver halide photosensitive layer The method of immersing a silver halide photosensitive layer in a solution is more preferable. The method of immersing the silver halide photosensitive layer in the solution is preferable because it can be carried out more stably with a simpler apparatus, and if it is washed after immersion, the excess solution can be removed more easily.
また、ハロゲン化銀感光性層と、金属吸着性部位を有する化合物を含有する気体、及び/又は、溶液とを接触させる方法は、ハロゲン化銀感光性層の表面において、金属銀が上記化合物に吸着されやすいという特徴も有する。これにより、導電部の表面において金属銀が互いに融着するのがより阻害されやすい。 In addition, the method of bringing the silver halide photosensitive layer into contact with a gas containing a compound having a metal adsorbing site and / or a solution is as follows. It also has the feature of being easily adsorbed. Thereby, it is easy to inhibit that metal silver fuse | melts mutually on the surface of an electroconductive part.
特定化合物は、金属吸着性置換基又は金属吸着性構造(以下、これらをあわせて「金属吸着性部位」ともいう。)を有する化合物である。 The specific compound is a compound having a metal-adsorptive substituent or a metal-adsorptive structure (hereinafter also referred to as “metal-adsorptive site”).
金属吸着性置換基としては、特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有するタッチパネル用導電性シートが得られる点で、金属吸着性置換基としては、カルボキシル基又はその塩、酸アミド基、アミノ基、イミダゾール基、ピラゾール基、チオール基、チオエーテル基、及び、ジスルフィド基からなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。 The metal-adsorbing substituent is not particularly limited, but the metal-adsorbing substituent includes a carboxyl group or a salt thereof, an acid amide group in that a conductive sheet for a touch panel having more excellent effects of the present invention can be obtained. , At least one selected from the group consisting of an amino group, an imidazole group, a pyrazole group, a thiol group, a thioether group, and a disulfide group.
金属吸着性構造としては特に制限されないが、含窒素ヘテロ環が好ましく、5又は6員環アゾール類が好ましく、5員環アゾール類がより好ましい。
含窒素ヘテロ環としては、例えば、テトラゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環、セレナジアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズイミダゾール環、ピリミジン環、トリアザインデン環、テトラアザインデン環、ベンゾインダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリジン環、キノリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、キノキサリン環、モルホリン環、及び、ペンタアザインデン環等が挙げられる。
これらの環は、置換基を有してもよく、置換基としては、ニトロ基、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、及び、臭素原子)、シアノ基、置換もしくは無置換のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、t−ブチル基、及び、シアノエチル基の各基)、アリール基(例えば、フェニル基、4−メタンスルホンアミドフェニル基、4−メチルフェニル基、3,4−ジクロルフェニル基、及び、ナフチル基の各基)、アルケニル基(例えば、アリル基)、アラルキル基(例えば、ベンジル基、4−メチルベンジル基、及び、フェネチル基の各基)、スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、及び、p−トルエンスルホニル基の各基)、カルバモイル基(例えば、無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、及び、フェニルカルバモイル基の各基)、スルファモイル基(例えば、無置換スルファモイル基、メチルスルファモイル基、及び、フェニルスルファモイル基の各基)、カルボンアミド基(例えば、アセトアミド基、及び、ベンズアミド基の各基)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、及び、p−トルエンスルホンアミド基の各基)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、及び、ベンゾイルオキシ基の各基)、スルホニルオキシ基(例えば、メタンスルホニルオキシ基)、ウレイド基(例えば、無置換ウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイド基、及び、フェニルウレイド基の各基)、アシル基(例えば、アセチル基、及び、ベンゾイル基の各基)、オキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、及び、フェノキシカルボニル基の各基)、及び、ヒドロキシル基等が挙げられる。置換基は、一つの環に複数置換してもよい。
Although it does not restrict | limit especially as a metal adsorptive structure, A nitrogen-containing heterocyclic ring is preferable, 5- or 6-membered ring azoles are preferable and 5-membered ring azoles are more preferable.
Examples of the nitrogen-containing heterocycle include tetrazole ring, triazole ring, imidazole ring, thiadiazole ring, oxadiazole ring, selenodiazole ring, oxazole ring, thiazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzimidazole ring, pyrimidine Ring, triazaindene ring, tetraazaindene ring, benzoindazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, pyridine ring, quinoline ring, piperidine ring, piperazine ring, quinoxaline ring, morpholine ring, and pentaaza And indene ring.
These rings may have a substituent. Examples of the substituent include a nitro group, a halogen atom (for example, chlorine atom and bromine atom), a cyano group, a substituted or unsubstituted alkyl group (for example, methyl group). Group, ethyl group, propyl group, t-butyl group, and cyanoethyl group), aryl group (for example, phenyl group, 4-methanesulfonamidophenyl group, 4-methylphenyl group, 3,4-dichloro) Phenyl group and naphthyl group), alkenyl group (for example, allyl group), aralkyl group (for example, benzyl group, 4-methylbenzyl group, and phenethyl group), sulfonyl group (for example, methane) Sulfonyl group, ethanesulfonyl group and p-toluenesulfonyl group), carbamoyl group (for example, unsubstituted carbamoyl group, methylcarbamoyl) And phenylcarbamoyl groups), sulfamoyl groups (for example, unsubstituted sulfamoyl groups, methylsulfamoyl groups, and phenylsulfamoyl groups), carbonamide groups (for example, acetamide groups, and Benzamide group), sulfonamide group (for example, methanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, and p-toluenesulfonamide group), acyloxy group (for example, acetyloxy group, and benzoyloxy group) Each group), sulfonyloxy group (for example, methanesulfonyloxy group), ureido group (for example, unsubstituted ureido group, methylureido group, ethylureido group, and phenylureido group), acyl group (for example, Acetyl group and benzoyl group), oxycarbonyl group ( In example, a methoxycarbonyl group, and each group) phenoxycarbonyl group, and include a hydroxyl group. Multiple substituents may be substituted on one ring.
上記化合物としては含窒素6員環を有する化合物(含窒素6員環化合物)が好ましく、含窒素6員環化合物としては、トリアジン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロリン環、ピペリジン環、ピリダジン環、又は、ピラジン環を有する化合物が好ましく、トリアジン環又はピリミジン環を有する化合物がより好ましい。これらの含窒素6員環化合物は置換基を有していてもよく、置換基としては、炭素数1〜6(好ましくは1〜3)のアルキル基、炭素数1〜6(好ましくは1〜3)のアルコキシ基、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、炭素数1〜6(好ましくは1〜3)のアルコキシアルキル基、及び、炭素数1〜6(好ましくは1〜3)のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
含窒素6員環化合物の具体例としては、トリアジン、メチルトリアジン、ジメチルトリアジン、ヒドロキシエチルトリアジン、ピリミジン、4−メチルピリミジン、ピリジン、及び、ピロリンが挙げられる。
As the above compound, a compound having a nitrogen-containing 6-membered ring (nitrogen-containing 6-membered ring compound) is preferable. Examples of the nitrogen-containing 6-membered ring compound include triazine ring, pyrimidine ring, pyridine ring, pyrroline ring, piperidine ring, pyridazine ring, Alternatively, a compound having a pyrazine ring is preferable, and a compound having a triazine ring or a pyrimidine ring is more preferable. These nitrogen-containing 6-membered ring compounds may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 3), and 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 1 carbon atoms). 3) an alkoxy group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a mercapto group, an alkoxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 3), and a hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 3). Can be mentioned.
Specific examples of the nitrogen-containing 6-membered ring compound include triazine, methyltriazine, dimethyltriazine, hydroxyethyltriazine, pyrimidine, 4-methylpyrimidine, pyridine, and pyrroline.
上記化合物は、金属吸着性部位の1種を単独で有しても、2種以上を有してもよいが、更に優れた本発明の効果を有するタッチパネル用導電性シートが得られる点で、上記化合物は、2種以上の金属吸着性部位を有していることが好ましい。 The above compound may have one kind of metal adsorbing site alone or may have two or more kinds, but in that a conductive sheet for a touch panel having further excellent effects of the present invention can be obtained. The compound preferably has two or more metal adsorbing sites.
(工程C2)
工程C2は、工程Bの後であって、工程Fの前に実施され、導電部と、特定化合物とを接触させる工程である。本工程によって、導電部の(導電部に含まれる)金属銀同士がより融着しにくくなる。本工程においては、導電部に特定化合物を接触させるため、導電部のより表面に近い領域(界面領域)において、金属銀同士が融着しにくくなるという効果を有する。従って、導電部の界面領域において金属銀同士の融着がより阻害されやすく、結果として、より優れた黒締りを有するタッチパネル用導電性シートが得られやすい。また、この場合であっても、導電部の中間領域においては、十分に金属銀同士が融着するものと考えられ、優れた導電性を有するタッチパネル用導電性シートが得られる。
(Process C2)
Step C2 is a step that is performed after Step B and before Step F, and brings the conductive portion into contact with the specific compound. This step makes it more difficult for metal silver (contained in the conductive portion) of the conductive portion to be fused together. In this step, since the specific compound is brought into contact with the conductive portion, there is an effect that the metal silver is hardly fused in a region closer to the surface (interface region) of the conductive portion. Therefore, fusion between metallic silvers is more likely to be inhibited in the interface region of the conductive part, and as a result, a conductive sheet for a touch panel having better black tightening can be easily obtained. Even in this case, it is considered that metal silver is sufficiently fused in the intermediate region of the conductive portion, and a conductive sheet for a touch panel having excellent conductivity can be obtained.
なお、本工程において、導電部と特定化合物とを接触させる方法、及び、特定化合物の形態等については、既に説明した工程C1における各形態と同様であるため、説明を省略する。 In this step, the method for bringing the conductive portion into contact with the specific compound, the form of the specific compound, and the like are the same as those in the step C1 already described, and thus the description thereof is omitted.
(工程D)
工程Dは、工程Bの後であって上記工程Fの前に、導電部を圧密化する工程である。本工程によって、導電部の導電性がより向上するとともに、導電部の支持体への密着性がより向上しやすい。
(Process D)
Step D is a step of consolidating the conductive portion after Step B and before Step F. By this step, the conductivity of the conductive portion is further improved, and the adhesion of the conductive portion to the support is more likely to be improved.
導電部を圧密化する方法としては特に制限されないが、例えば、導電部を有する支持体を、少なくとも一対のロール間を加圧下で通過させるカレンダ処理工程が好ましい。以下、カレンダーロールを用いた圧密化処理をカレンダ処理と記す。 The method for consolidating the conductive part is not particularly limited, but for example, a calendering process in which a support having a conductive part is passed between at least a pair of rolls under pressure is preferable. Hereinafter, consolidation processing using a calendar roll is referred to as calendar processing.
カレンダ処理に用いられるロールとしては、プラスチックロール及び金属ロールが挙げられる。シワ防止の点からプラスチックロールが好ましい。ロール間の圧力としては特に制限されない。ロール間の圧力は、富士フイルム株式会社製プレスケール(高圧用)を用いて測定できる。
カレンダ処理に用いられるロールの表面粗さRaは、得られる導電部がより視認されにくい点で、0〜2.0μmが好ましく、0.3〜1.0μmがより好ましい。
Examples of the roll used for the calendar process include a plastic roll and a metal roll. From the viewpoint of preventing wrinkles, a plastic roll is preferable. The pressure between the rolls is not particularly limited. The pressure between the rolls can be measured using a prescale (for high pressure) manufactured by FUJIFILM Corporation.
The surface roughness Ra of the roll used for the calendering process is preferably 0 to 2.0 μm, more preferably 0.3 to 1.0 μm, in that the obtained conductive part is less visible.
圧密化処理の温度は特に制限されないが、10℃(温調なし)〜100℃が好ましく、導電部のパターンの画線密度、形状、及び、バインダ種によって異なるが、10℃(温調なし)〜50℃がより好ましい。 The temperature of the consolidation treatment is not particularly limited, but is preferably 10 ° C (no temperature control) to 100 ° C, and varies depending on the line density, shape, and binder type of the conductive part pattern, but 10 ° C (no temperature control). ~ 50 ° C is more preferred.
(工程E)
ハロゲン化銀含有塗布液、及び、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも1種が、ゼラチンを含有する場合に、工程Eは、工程Bの後であって、工程Dの前に、導電部(導電部に含有される)のゼラチンを除去する工程である。ゼラチンを除去することにより、結果として導電部の金属銀の含有量が相対的に高まるため、より優れた導電性を有する導電部が得られる。
工程Eはゼラチンの全部を除去する工程であってもよいし、ゼラチンの一部を除去する工程であってもよい。また、工程Eにおいては、導電部に加えて、支持体上の導電部以外の部分(例えば、非導電部)からゼラチンを除去してもよい。
(Process E)
When at least one selected from the group consisting of a silver halide-containing coating solution and a composition-adjusting coating solution contains gelatin, step E is after step B and before step D. This is a step of removing gelatin in the conductive part (contained in the conductive part). By removing the gelatin, as a result, the content of the metallic silver in the conductive part is relatively increased, so that a conductive part having better conductivity can be obtained.
Step E may be a step of removing all of gelatin or a step of removing a part of gelatin. Further, in step E, gelatin may be removed from a portion (for example, non-conductive portion) other than the conductive portion on the support in addition to the conductive portion.
ゼラチンを除去する方法としては特に制限されないが、例えば、タンパク質分解酵素を用いて分解除去する方法、及び、所定の酸化剤を用いて分解除去する方法が挙げられる。
なお、タンパク質分解酵素を用いてゼラチンを分解除去する方法としては、例えば、特開2014−209332号公報の段落0084〜0077に記載の方法を採用できる。
また、酸化剤を用いてゼラチンを分解除去する方法としては、例えば、特開2014−112512号公報の段落0064〜0066に記載の方法を採用できる。
The method for removing gelatin is not particularly limited, and examples thereof include a method for decomposing and removing using a proteolytic enzyme and a method for decomposing and removing using a predetermined oxidizing agent.
As a method for degrading and removing gelatin using a proteolytic enzyme, for example, the method described in paragraphs 0084 to 0077 of JP-A-2014-209332 can be employed.
Moreover, as a method for decomposing and removing gelatin using an oxidizing agent, for example, the method described in paragraphs 0064 to 0066 of JP-A-2014-112512 can be employed.
(易接着層形成工程)
易接着層形成工程は、工程Aの前に、支持体上に易接着層(以下、「下塗り層」ともいう。)を形成し、易接着層(下塗り層)付き支持体を得る工程である。支持体上に下塗り層を形成する方法としては特に制限されないが、支持体上に下塗り層形成用組成物を塗布する方法が挙げられる。下塗り層形成工程では、形成される下塗り層が、隣接する他の層(支持体、及び、非導電部等)との間で、屈折率の差の絶対値がより小さくなるよう、調整されることが好ましい。下塗り層と隣接する他の層との間の屈折率の差を調整する方法としては特に制限されないが、各層の形成に用いられる組成物中に含有される各成分の種類を調整する方法が挙げられる。
(Easily adhesive layer forming process)
The easy-adhesion layer forming step is a step of forming an easy-adhesion layer (hereinafter also referred to as “undercoat layer”) on the support before Step A to obtain a support with an easy-adhesion layer (undercoat layer). . The method for forming the undercoat layer on the support is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying the undercoat layer forming composition on the support. In the undercoat layer forming step, the formed undercoat layer is adjusted so that the absolute value of the difference in refractive index between other adjacent layers (such as the support and the non-conductive portion) becomes smaller. It is preferable. The method for adjusting the difference in refractive index between the undercoat layer and another adjacent layer is not particularly limited, but examples include a method for adjusting the type of each component contained in the composition used for forming each layer. It is done.
易接着層を形成する方法としては特に制限されないが、易接着層形成用組成物を支持体上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施す方法が挙げられる。易接着層形成用組成物は、溶媒を含有してもよい。溶媒の種類は特に制限されず、ハロゲン化銀含有塗布液等が含有することがある溶媒として既に説明したとおりである。
易接着層の厚みは特に制限されないが、支持体と、ハロゲン化銀感光性層及び導電部との密着性がより向上する点で、0.02〜0.3μmが好ましい。
易接着層としては特に制限されず、たとえば特開2008−208310号公報に記載の第1接着層の好適な適用例を、好適に用いることができる。
Although it does not restrict | limit especially as a method of forming an easily bonding layer, The method of apply | coating the composition for easily bonding layer on a support body and heat-processing as needed is mentioned. The composition for easily bonding layer formation may contain a solvent. The type of the solvent is not particularly limited, and is as already described as the solvent that may be contained in the silver halide-containing coating solution.
The thickness of the easy-adhesion layer is not particularly limited, but is preferably 0.02 to 0.3 μm from the viewpoint that the adhesion between the support, the silver halide photosensitive layer and the conductive part is further improved.
The easy adhesion layer is not particularly limited, and for example, a suitable application example of the first adhesive layer described in JP-A-2008-208310 can be suitably used.
以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the following examples.
[実施例1]
(ハロゲン化銀乳剤の調製)
30℃、pH4.5に保たれた下記1液に、下記の2液及び3液のそれぞれ90体積%に相当する量を攪拌しながら同時に20分間にわたって加え、0.12μmの核粒子を形成した。続いて下記の4液及び5液を8分間にわたって加え、更に、下記の2液及び3液の残りの10%の量を2分間にわたって加え、0.15μmまで成長させた。更に、ヨウ化カリウム0.15gを加え、5分間熟成し粒子形成を終了した。
[Example 1]
(Preparation of silver halide emulsion)
To the following 1 liquid maintained at 30 ° C. and pH 4.5, an amount corresponding to 90% by volume of each of the following 2 and 3 liquids was simultaneously added over 20 minutes while stirring to form 0.12 μm core particles. . Subsequently, the following 4 and 5 solutions were added over 8 minutes, and the remaining 10% of the following 2 and 3 solutions were added over 2 minutes to grow to 0.15 μm. Further, 0.15 g of potassium iodide was added and ripened for 5 minutes to complete the grain formation.
1液:
水 750ml
ゼラチン 9g
塩化ナトリウム 3g
1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−チオン 20mg
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 10mg
クエン酸 0.7g
2液:
水 300ml
硝酸銀 150g
3液:
水 300ml
塩化ナトリウム 38g
臭化カリウム 32g
ヘキサクロロイリジウム(III)酸カリウム
(0.005%KCl 20%水溶液) 8ml
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
(0.001%NaCl 20%水溶液) 10ml
4液:
水 100ml
硝酸銀 50g
5液:
水 100ml
塩化ナトリウム 13g
臭化カリウム 11g
黄血塩 5mg
1 liquid:
750 ml of water
9g gelatin
Sodium chloride 3g
1,3-Dimethylimidazolidine-2-thione 20mg
Sodium benzenethiosulfonate 10mg
Citric acid 0.7g
Two liquids:
300 ml of water
150 g silver nitrate
3 liquids:
300 ml of water
Sodium chloride 38g
Potassium bromide 32g
Potassium hexachloroiridium (III) (0.005% KCl 20% aqueous solution) 8 ml
Ammonium hexachlororhodate
(0.001% NaCl 20% aqueous solution) 10 ml
4 liquids:
100ml water
Silver nitrate 50g
5 liquids:
100ml water
Sodium chloride 13g
Potassium bromide 11g
Yellow blood salt 5mg
その後、常法に従い、フロキュレーション法によって水洗した。具体的には、温度を35℃に下げ、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでpHを下げた(pH3.6±0.2の範囲であった)。次に、上澄み液を約3リットル除去した(第1水洗)。更に3リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を3リットル除去した(第2水洗)。第二水洗と同じ操作を更に1回繰り返して(第3水洗)、水洗・脱塩工程を終了した。水洗・脱塩後の乳剤をpH6.4、pAg7.5に調整し、ゼラチン3.9g、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム10mg、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム3mg、チオ硫酸ナトリウム15mgと塩化金酸10mgを加え55℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として1,3,3a,7−テトラアザインデン100mg、防腐剤としてプロキセル(商品名、ICI Co.,Ltd.製)100mgを加えた。最終的に得られた乳剤は、沃化銀を0.08モル%含み、塩臭化銀の比率を塩化銀70モル%、臭化銀30モル%とする、平均粒子径0.15μm、変動係数10%のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤であった。 Then, it washed with water by the flocculation method according to a conventional method. Specifically, the temperature was lowered to 35 ° C., and the pH was lowered using sulfuric acid until the silver halide precipitated (the pH was in the range of 3.6 ± 0.2). Next, about 3 liters of the supernatant was removed (first washing). Further, 3 liters of distilled water was added, and sulfuric acid was added until the silver halide settled. Again, 3 liters of the supernatant was removed (second water wash). The same operation as the second water washing was further repeated once (third water washing) to complete the water washing / desalting step. The emulsion after washing with water and desalting was adjusted to pH 6.4 and pAg 7.5, and gelatin 3.9 g, sodium benzenethiosulfonate 10 mg, sodium benzenethiosulfinate 3 mg, sodium thiosulfate 15 mg and chloroauric acid 10 mg were added. Chemical sensitization is performed to obtain an optimum sensitivity at 0 ° C., and 100 mg of 1,3,3a, 7-tetraazaindene is added as a stabilizer and 100 mg of proxel (trade name, manufactured by ICI Co., Ltd.) is used as a preservative. It was. The finally obtained emulsion contains 0.08 mol% of silver iodide, and the ratio of silver chlorobromide is 70 mol% of silver chloride and 30 mol% of silver bromide. It was a silver iodochlorobromide cubic grain emulsion having a coefficient of 10%.
(ハロゲン化銀含有塗布液1の調製)
上記乳剤に1,3,3a,7−テトラアザインデン1.2×10−4モル/モルAg、ハイドロキノン1.2×10−2モル/モルAg、クエン酸3.0×10−4モル/モルAg、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩0.90g/モルAg、微量の硬膜剤を添加し、クエン酸を用いて塗布液pHを5.6に調整した。
上記塗布液に、含有するゼラチンに対して、下記(P−1)で表され、示差走査熱量測定(DSC)で測定したガラス転移温度が+45℃であるポリマー(「第1高分子」に該当し、以後、単に「P−1」ともいう。)とジアルキルフェニルPEO硫酸エステルからなる分散剤と水とを含有するポリマーラテックス1(分散剤/ポリマーの質量比が2.0/100=0.02、固形分濃度:22質量%)を、P−1/ゼラチン(質量比)=0.2/1になるように添加した。ここで、ハロゲン化銀含有塗布液1において、ハロゲン化銀の質量に対するP−1の質量の比R1(P−1/ハロゲン化銀)は0.024であった。
(Preparation of silver halide-containing coating solution 1)
1,3,3a, 7-tetraazaindene 1.2 × 10 −4 mol / mol Ag, hydroquinone 1.2 × 10 −2 mol / mol Ag, citric acid 3.0 × 10 −4 mol / Mol Ag, 2,4-dichloro-6-hydroxy-1,3,5-triazine sodium salt 0.90 g / mol Ag, a trace amount of hardener was added, and the coating solution pH was adjusted to 5.6 using citric acid. Adjusted.
For the gelatin contained in the coating solution, a polymer (corresponding to “first polymer”) represented by the following (P-1) and having a glass transition temperature of + 45 ° C. measured by differential scanning calorimetry (DSC) Hereinafter, the polymer latex 1 containing a dispersant composed of a dialkylphenyl PEO sulfate ester and water (also referred to as “P-1”) (dispersant / polymer mass ratio is 2.0 / 100 = 0.0.00). 02, solid content concentration: 22% by mass) was added so that P-1 / gelatin (mass ratio) = 0.2 / 1. Here, in the silver halide-containing coating solution 1, the ratio R1 (P-1 / silver halide) of the mass of P-1 to the mass of silver halide was 0.024.
更に、架橋剤としてEPOXY RESIN DY 022(商品名:ナガセケムテックス社製)を添加した。なお、架橋剤の添加量は、後述する感光性層中における架橋剤の量が0.09g/m2となるように調整した。
以上のようにしてハロゲン化銀含有塗布液1を調製した。
なお、上記(P−1)で表されるP−1は、特許第3305459号及び特許第3754745号を参照して合成した。
Furthermore, EPOXY RESIN DY 022 (trade name: manufactured by Nagase ChemteX Corporation) was added as a crosslinking agent. In addition, the addition amount of the crosslinking agent was adjusted so that the amount of the crosslinking agent in the photosensitive layer described later would be 0.09 g / m 2 .
A silver halide-containing coating solution 1 was prepared as described above.
In addition, P-1 represented by the above (P-1) was synthesized with reference to Japanese Patent No. 3305459 and Japanese Patent No. 3754745.
(下塗り層付き支持体の準備)
40μmの二軸配向PET支持体の片面に、後述する下塗り層形成用組成物1を、乾燥後の膜厚が60nmになるように塗布し、90℃で1分間乾燥させて、下塗り層付き支持体を作製した。なお、下塗り層の膜厚はアンリツ社製の電子マイクロ膜厚計で測定した。
(下塗り層形成用組成物1(硬化性組成物1))
下記の成分を混合し、下塗り層形成用組成物1を調製した。
・アクリル系ポリマー 66.4質量部
(AS−563A、ダイセルファインケム(株)製、固形分:27.5質量%)
・カルボジイミド系架橋剤 16.6質量部
(カルボジライトV−02−L2、日清紡(株)製、固形分:10質量%)
・コロイダルシリカ 4.4質量部
(スノーテックスXL、日産化学(株)製、固形分:10質量%水希釈)
・滑り剤:カルナバワックス 27.7質量部
(セロゾール524、中京油脂(株)製、固形分:3質量%水希釈)
・界面活性剤:アニオン性界面活性剤 23.3質量部
(ラピゾールA−90、日油(株)製、固形分:1質量%水溶液)
・界面活性剤:ノニオン性界面活性剤 14.6質量部
(ナロアクティーCL95、三洋化成工業(株)製、固形分:1質量%水溶液)
・蒸留水 847.0質量部
(Preparation of support with undercoat layer)
On one side of a 40 μm biaxially oriented PET support, an undercoat layer-forming composition 1 to be described later was applied so that the film thickness after drying was 60 nm, dried at 90 ° C. for 1 minute, and supported with an undercoat layer The body was made. The film thickness of the undercoat layer was measured with an electronic micro film thickness meter manufactured by Anritsu Corporation.
(Undercoat layer forming composition 1 (curable composition 1))
The following components were mixed to prepare composition 1 for forming the undercoat layer.
-Acrylic polymer 66.4 parts by mass (AS-563A, manufactured by Daicel Finechem Co., Ltd., solid content: 27.5% by mass)
Carbodiimide-based crosslinking agent 16.6 parts by mass (Carbodilite V-02-L2, manufactured by Nisshinbo Co., Ltd., solid content: 10% by mass)
・ Colloidal silica 4.4 parts by mass
(Snowtex XL, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., solid content: 10% by weight water dilution)
・ Slip agent: 27.7 parts by mass of carnauba wax (Cerosol 524, manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd., solid content: 3% by weight diluted with water)
Surfactant: 23.3 parts by weight of anionic surfactant (Lapisol A-90, manufactured by NOF Corporation, solid content: 1% by weight aqueous solution)
-Surfactant: 14.6 parts by mass of nonionic surfactant (Naroacty CL95, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., solid content: 1% by mass aqueous solution)
・ 847.0 parts by mass of distilled water
(ハロゲン化銀感光性層形成工程(その1))
次に、下塗り層付き支持体の下塗り層上に、下塗り層側から順に、後述の組成調整塗布液1と、上記ハロゲン化銀含有塗布液1と、後述の組成調整塗布液2とを、塗液流量比(組成調整塗布液1/ハロゲン化銀含有塗布液1/組成調整塗布液2)25/25/5で同時重層塗布し、支持体上にハロゲン化銀感光性層を形成した。これを、シートAとした。
なお、組成調整塗布液1は、上記ポリマーラテックス1とゼラチンとを混合質量比(P−1の質量/ゼラチンの質量)2/1で混合し、更に、光学濃度が約1.0で現像液のアルカリにより脱色する染料を含有する混合物からなる組成物である。また、組成調整塗布液1は、この組成調整塗布液1より形成される層中のP−1量(塗設量)が0.65g/m2となるように濃度調整された。なお、組成調整塗布液1より形成される層には、染料が含まれるためアンチハレーションの機能を有する。
また、組成調整塗布液2は、下記(P−2)で表される繰り返し単位からなり、示差走査熱量測定(DSC)で測定したガラス転移温度が−20℃であるポリマー(「第2高分子」に該当し、以下「P−2」ともいう。)とジアルキルフェニルPEO硫酸エステルからなる分散剤と水とを含有するポリマーラテックス2(分散剤/ポリマーの質量比が7.5/100=0.075、固形分濃度:20質量%)を、ポリマーラテックス2とゼラチンとを混合質量比(P−2/ゼラチン)2/1で混合した組成物である。また、組成調整塗布液2は、この組成調整塗布液2より形成される層中のゼラチン量が0.10g/m2となるように濃度調整した。
(Silver halide photosensitive layer forming step (1))
Next, on the undercoat layer of the support with the undercoat layer, the composition adjustment coating solution 1 described later, the silver halide-containing coating solution 1 and the composition adjustment coating solution 2 described below are applied in this order from the undercoat layer side. The silver halide photosensitive layer was formed on the support by simultaneous multilayer coating at a liquid flow ratio (composition adjustment coating solution 1 / silver halide-containing coating solution 1 / composition adjustment coating solution 2) 25/25/5. This was designated as sheet A.
The composition-adjusting coating solution 1 was prepared by mixing the polymer latex 1 and gelatin at a mixing mass ratio (mass of P-1 / mass of gelatin) 2/1, and having an optical density of about 1.0. It is a composition which consists of a mixture containing the dye decolored by the alkali. The composition-adjusted coating solution 1 was adjusted in concentration so that the P-1 amount (coating amount) in the layer formed from the composition-adjusted coating solution 1 was 0.65 g / m 2 . In addition, since the layer formed from the composition adjustment coating liquid 1 contains a dye, it has an antihalation function.
The composition-adjusting coating liquid 2 is composed of a repeating unit represented by the following (P-2), and has a glass transition temperature measured by differential scanning calorimetry (DSC) of −20 ° C. (“second polymer” The polymer latex 2 containing a dispersant composed of a dialkylphenyl PEO sulfate ester and water (dispersant / polymer mass ratio is 7.5 / 100 = 0). 0.075, solid content concentration: 20% by mass) is a composition in which polymer latex 2 and gelatin are mixed at a mixing mass ratio (P-2 / gelatin) 2/1. The concentration of the composition-adjusted coating solution 2 was adjusted so that the amount of gelatin in the layer formed from the composition-adjusted coating solution 2 was 0.10 g / m 2 .
(P−2)
また、ハロゲン化銀含有塗布液1より形成される層中においては、銀量6.2g/m2となるように塗布した。 Moreover, in the layer formed from the silver halide containing coating liquid 1, it apply | coated so that the silver amount might be 6.2 g / m < 2 >.
(露光現像工程)
上記シートAの片面上(ハロゲン化銀感光性層側)に、開口線幅2μm、ピッチ300μmの正方型メッシュパターンのフォトマスクを介し、高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光を行った。露光後、下記の現像液で現像し、更に定着液(商品名:CN16X用N3X−R、富士フイルム社製)を用いて現像処理を行った。更に、純水でリンスし、乾燥することで、Agを含む導電部(線幅2μm)からなる導電性メッシュと、これに隣接するゼラチン及びポリマーを含む層(非導電部)とが形成された支持体を得た。なお、ゼラチン及びポリマーを含む層はAgを含む導電部間に形成されていた。得られたシートをシートBとする。
(Exposure development process)
On one side of the sheet A (the silver halide photosensitive layer side), exposure is performed using parallel light using a high-pressure mercury lamp as a light source through a photomask having a square mesh pattern with an opening line width of 2 μm and a pitch of 300 μm. It was. After the exposure, development was performed with the following developer, and further development processing was performed using a fixing solution (trade name: N3X-R for CN16X, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.). Furthermore, by rinsing with pure water and drying, a conductive mesh made of a conductive part containing Ag (line width 2 μm) and a layer containing gelatin and a polymer adjacent thereto (non-conductive part) were formed. A support was obtained. Note that the layer containing gelatin and polymer was formed between the conductive parts containing Ag. The obtained sheet is referred to as a sheet B.
(現像液の組成)
現像液1リットル(L)中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン 0.037mol/L
N−メチルアミノフェノール 0.016mol/L
メタホウ酸ナトリウム 0.140mol/L
水酸化ナトリウム 0.360mol/L
臭化ナトリウム 0.031mol/L
メタ重亜硫酸カリウム 0.187mol/L
(Developer composition)
The following compounds are contained in 1 liter (L) of the developer.
Hydroquinone 0.037mol / L
N-methylaminophenol 0.016 mol / L
Sodium metaborate 0.140 mol / L
Sodium hydroxide 0.360 mol / L
Sodium bromide 0.031 mol / L
Potassium metabisulfite 0.187 mol / L
(ゼラチン分解処理)
シートBを、タンパク質分解酵素(ナガセケムテックス社製ビオプラーゼAL−15FG)の水溶液(タンパク質分解酵素の濃度:0.5質量%、液温:40℃)へ120秒間浸漬した。シートBを水溶液から取り出し、温水(液温:50℃)に120秒間浸漬し、洗浄して、Agを含有する導電部(線幅3μm)からなる導電性メッシュと、ゼラチン及びP−1を含有する層、並びに、ゼラチン及びP−2を含有する層とから、ゼラチンが除去された非導電部を有するシートCを得た。
(Gelatin decomposition treatment)
The sheet B was immersed for 120 seconds in an aqueous solution of proteolytic enzyme (Biolase AL-15FG manufactured by Nagase ChemteX Corporation) (proteolytic enzyme concentration: 0.5 mass%, liquid temperature: 40 ° C.). The sheet B is taken out from the aqueous solution, immersed in warm water (liquid temperature: 50 ° C.) for 120 seconds, washed, and contains a conductive mesh composed of a conductive portion (line width 3 μm) containing Ag, gelatin and P-1. The sheet C having a non-conductive portion from which gelatin was removed was obtained from the layer to be coated and the layer containing gelatin and P-2.
(カレンダ処理)
上記シートCに対して、金属ローラと樹脂製のローラとの組み合わせによるカレンダ装置を使用して、30kNの圧力でカレンダ処理した。得られたシートをシートDとした。
(Calendar processing)
The sheet C was calendered at a pressure of 30 kN by using a calender device comprising a combination of a metal roller and a resin roller. The obtained sheet was designated as Sheet D.
(融着処理)
上記シートDを、150℃の過熱水蒸気槽を120秒間かけて通過させて、加熱した。得られたシートをシートE(タッチパネル用導電性シートに該当する)とした。
(Fusion processing)
The sheet D was heated by passing it through a superheated steam bath at 150 ° C. over 120 seconds. The obtained sheet was designated as sheet E (corresponding to a conductive sheet for touch panel).
(成分分布の測定)
導電部の厚み方向に沿ってTOF−SIMS(Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry、アルゴンGCIB:ガスクラスターイオンビーム)を用いて成分分布を測定した。P−1及びP−2はあらかじめ標準物質として測定しておき、成分分布を判断するためのイオン種を選定した。まず、支持体側とは反対側の表面からイオンビームで掘削しながら、測定を繰り返し、厚み方向における成分分布のプロファイルを得た。具体的には、金属銀の検出が始まる深さ(厚さ)近傍の領域(上部領域)、金属銀の検出が終わる深さ(厚み)近傍の下部領域、及び、中間領域が検出され、各領域における、P−1の及びP−2の含有量の合計に対する、P−2の含有量の含有質量比を表1に示した。
(Measurement of component distribution)
The component distribution was measured using TOF-SIMS (Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry, Argon GCIB: Gas Cluster Ion Beam) along the thickness direction of the conductive portion. P-1 and P-2 were measured in advance as standard substances, and ionic species for judging the component distribution were selected. First, measurement was repeated while excavating with an ion beam from the surface opposite to the support side to obtain a profile of component distribution in the thickness direction. Specifically, a region near the depth (thickness) where metal silver detection starts (upper region), a lower region near the depth (thickness) where metal silver detection ends, and an intermediate region are detected, Table 1 shows the mass ratio of the content of P-2 to the total content of P-1 and P-2 in the region.
[実施例2]
実施例1において、組成調整塗布液1の代わりに下記組成調整塗布液1−2を使用し、組成調整塗布液2の代わりに下記組成調整塗布液2−2を使用したこと以外は、実施例1と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
[Example 2]
In Example 1, the following composition adjustment coating liquid 1-2 was used instead of the composition adjustment coating liquid 1, and the following composition adjustment coating liquid 2-2 was used instead of the composition adjustment coating liquid 2. In the same manner as in Example 1, a conductive sheet for a touch panel was obtained.
(組成調整塗布液1−2の調製方法)
組成調整塗布液1−2は、ポリマーラテックス2とゼラチンとを混合質量比(第2高分子/ゼラチン)2/1で混合し、更に、光学濃度が約1.0で現像液のアルカリにより脱色する染料を含有する混合物からなる組成物である。また、組成調整塗布液1−2は、この組成調整塗布液1−2より形成される層中のP−2量(塗設量)が0.65g/m2となるように濃度調整した。なお、組成調整塗布液1−2より形成される層には、染料が含まれるためアンチハレーションの機能を有する。
(Method for preparing composition-adjusting coating liquid 1-2)
The composition-adjusting coating solution 1-2 is prepared by mixing polymer latex 2 and gelatin at a mixing mass ratio (second polymer / gelatin) 2/1, and decolorizing with an alkali of the developer at an optical density of about 1.0. It is a composition which consists of a mixture containing the dye to do. Further, the concentration of the composition-adjusting coating solution 1-2 was adjusted so that the amount of P-2 (coating amount) in the layer formed from the composition-adjusting coating solution 1-2 was 0.65 g / m 2 . In addition, since the layer formed from the composition adjustment coating liquid 1-2 includes a dye, it has an antihalation function.
(組成調整塗布液2−2の調製方法)
組成調整塗布液2−2は、ポリマーラテックス1とゼラチンとを混合質量比(P−1/ゼラチン)2/1で混合した組成物である。また、組成調整塗布液2−2は、この組成調整塗布液2−2より形成される層中のゼラチン量が0.10g/m2となるように濃度調整した。
(Method for preparing composition-adjusting coating liquid 2-2)
The composition-adjusting coating solution 2-2 is a composition in which the polymer latex 1 and gelatin are mixed at a mixing mass ratio (P-1 / gelatin) 2/1. The concentration of the composition-adjusting coating solution 2-2 was adjusted so that the amount of gelatin in the layer formed from the composition-adjusting coating solution 2-2 was 0.10 g / m 2 .
[実施例3]
(融着阻害処理)
実施例1において、カレンダ処理工程と融着処理工程の間の工程として、融着阻害処理工程を実施したこと以外は実施例1と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。融着阻害処理工程における融着阻害処理とは、上記シートDを下記化合物Aの0.3重量%水溶液30℃に120秒間浸漬し、流水で90秒間洗浄し、65℃15分間乾燥させる工程である。
[Example 3]
(Fusion inhibition treatment)
In Example 1, a conductive sheet for a touch panel was obtained in the same manner as in Example 1 except that the fusion inhibition treatment process was performed as a process between the calendar treatment process and the fusion treatment process. The fusion inhibition treatment in the fusion inhibition treatment step is a step in which the sheet D is immersed in a 0.3 wt% aqueous solution of the following compound A for 30 seconds, washed with running water for 90 seconds, and dried at 65 ° C. for 15 minutes. is there.
(化合物A)
[実施例4]
実施例3のハロゲン化銀感光性層形成工程において、下塗り層付き支持体を作製する際に使用した、「下塗り層形成用組成物1(硬化性組成物1)」に代えて、後述の下塗り層形成用組成物2(硬化性組成物2)を、乾燥後の膜厚が100nmになるように支持体上に塗布し、90℃で1分間乾燥させて、下塗り層付き支持体を作製したこと以外は実施例3と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。
[Example 4]
In the silver halide light-sensitive layer forming step of Example 3, instead of “undercoat layer forming composition 1 (curable composition 1)” used in preparing the support with the undercoat layer, an undercoat described later is used. The layer forming composition 2 (curable composition 2) was applied onto a support so that the film thickness after drying was 100 nm, and dried at 90 ° C. for 1 minute to prepare a support with an undercoat layer. Except that, a conductive sheet for a touch panel was obtained in the same manner as in Example 3.
タッチパネル用導電性シートは、支持体、下塗り層(易接着層)、アンチハレーション層、非導電部の順に、1.64、1.58、1.49、1.49の屈折率(波長:589nm)を有していた。 The conductive sheet for a touch panel has a refractive index of 1.64, 1.58, 1.49, 1.49 (wavelength: 589 nm) in the order of the support, the undercoat layer (easy adhesion layer), the antihalation layer, and the non-conductive portion. ).
なお、実施例1〜3のタッチパネル用導電性シートは、支持体、下塗り層(易接着層)、アンチハレーション層、非導電部の順に、1.64、1.49、1.49、1.49の屈折率(波長:589nm)を有していた。
また、実施例5〜7のタッチパネル用導電性シートは、支持体、下塗り層(易接着層)、アンチハレーション層、非導電部の順に、1.64、1.58、1.49、1.49の屈折率(波長:589nm)を有していた。
In addition, the electroconductive sheet for touchscreens of Examples 1-3 is 1.64, 1.49, 1.49, 1.49 in order of the support, the undercoat layer (easy adhesion layer), the antihalation layer, and the non-conductive portion. It had a refractive index of 49 (wavelength: 589 nm).
In addition, the conductive sheets for touch panels of Examples 5 to 7 are 1.64, 1.58, 1.49, 1.49 in the order of the support, the undercoat layer (easy adhesion layer), the antihalation layer, and the non-conductive portion. It had a refractive index of 49 (wavelength: 589 nm).
(下塗り層形成用組成物2(硬化性組成物2)の組成)
下塗り層形成用組成物2の組成は下記のとおりである。
・アクリル系ポリマー:25.6質量部
(「AS−563A」、ダイセルファインケム株式会社製、固形分:27.5質量%)
・ポリエステル系ポリマー:21.2質量部
(「プラスコートZ−690」、互応化学工業株式会社製、固形分:25.0質量%)
・カルボジイミド系架橋剤:22.0質量部
(「カルボジライトV−02−L2」、日清紡株式会社製、固形分:10質量%)
・コロイダルシリカ:3.2質量部
(「スノーテックスZL」、日産化学工業株式会社製、固形分:10質量%、水希釈液)
・滑り剤:18.5質量部
(カルナバワックス、「セロゾール524」、中京油脂株式会社製、固形分:3質量%、水希釈液)
・アニオン性界面活性剤:58.2質量部
(「ラピゾールA−90」、日油株式会社製、固形分:1質量%、水溶液)
・ノニオン性界面活性剤:73.2質量部
(「ナロアクティーCL95」、三洋化成工業株式会社製、固形分:1質量%、水溶液)
・蒸留水:778.2質量部
(Composition of composition 2 for forming undercoat layer (curable composition 2))
The composition of the undercoat layer forming composition 2 is as follows.
Acrylic polymer: 25.6 parts by mass (“AS-563A”, manufactured by Daicel FineChem, Inc., solid content: 27.5% by mass)
Polyester polymer: 21.2 parts by mass (“Plus Coat Z-690”, manufactured by Kyoyo Chemical Industry Co., Ltd., solid content: 25.0% by mass)
Carbodiimide-based crosslinking agent: 22.0 parts by mass (“Carbodilite V-02-L2”, manufactured by Nisshinbo Co., Ltd., solid content: 10% by mass)
Colloidal silica: 3.2 parts by mass (“Snowtex ZL”, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content: 10% by mass, water dilution)
・ Slip agent: 18.5 parts by mass (Carnauba wax, “Cerosol 524”, manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd., solid content: 3% by mass, water dilution)
Anionic surfactant: 58.2 parts by mass (“Lapisol A-90”, manufactured by NOF Corporation, solid content: 1% by mass, aqueous solution)
Nonionic surfactant: 73.2 parts by mass (“Naroacty CL95”, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., solid content: 1% by mass, aqueous solution)
-Distilled water: 778.2 parts by mass
[実施例5]
実施例4において、下塗り層付き支持体の下塗り層上に、下塗り層側から順に、組成調整塗布液1と、ハロゲン化銀含有塗布液1と、ハロゲン化銀含有塗布液2と、組成調整塗布液2とを、塗液流量比(組成調整塗布液1/ハロゲン化銀含有塗布液1/ハロゲン化銀含有塗布液2/組成調整塗布液2)25/25/10/5で同時重層塗布し、支持体上にハロゲン化銀感光性層を形成したこと以外は、実施例4と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。
[Example 5]
In Example 4, composition-adjusting coating solution 1, silver halide-containing coating solution 1, silver halide-containing coating solution 2, and composition-adjusting coating on the undercoat layer of the support with the undercoat layer in order from the undercoat layer side. Liquid 2 was applied simultaneously at a coating liquid flow ratio (composition adjustment coating liquid 1 / silver halide-containing coating liquid 1 / silver halide-containing coating liquid 2 / composition adjustment coating liquid 2) at 25/25/10/5. A conductive sheet for a touch panel was obtained in the same manner as in Example 4 except that a silver halide photosensitive layer was formed on the support.
(ハロゲン化銀含有塗布液2の調製)
実施例1に記載の乳剤に純水を加えて10倍希釈し、更に、含有するゼラチンに対して、4倍当量のゼラチンを添加し、更に、ポリマーラテックス2を、P−2/ゼラチン(質量比)=0.4/1になるように添加した。クエン酸を用いて塗布液pHを5.6に調整した。ここで、ハロゲン化銀含有塗布液2において、ハロゲン化銀の質量に対するP−2の質量の比R2(P−2/ハロゲン化銀)は0.24であった。
(Preparation of silver halide-containing coating solution 2)
Pure water was added to the emulsion described in Example 1 to dilute it 10 times, and further 4 times equivalent of gelatin was added to the contained gelatin. Further, polymer latex 2 was mixed with P-2 / gelatin (mass). Ratio) = 0.4 / 1. The coating solution pH was adjusted to 5.6 using citric acid. Here, in the silver halide-containing coating solution 2, the ratio R2 (P-2 / silver halide) of the mass of P-2 to the mass of silver halide was 0.24.
[実施例6]
実施例4において、下塗り層付き支持体の下塗り層上に、下塗り層側から順に、組成調整塗布液1−2と、ハロゲン化銀含有塗布液2と、ハロゲン化銀含有塗布液1と、組成調整塗布液2−2とを、塗液流量比(組成調整塗布液1−2/ハロゲン化銀含有塗布液2/ハロゲン化銀含有塗布液1/組成調整塗布液2−2)25/10/25/5で同時重層塗布し、支持体上にハロゲン化銀感光性層を形成したこと以外は、実施例4と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。
[Example 6]
In Example 4, composition-adjusting coating solution 1-2, silver halide-containing coating solution 2, silver halide-containing coating solution 1, and composition on the undercoat layer of the support with the undercoat layer in order from the undercoat layer side. The adjusted coating solution 2-2 is mixed with the coating solution flow rate ratio (composition adjusting coating solution 1-2 / silver halide-containing coating solution 2 / silver halide-containing coating solution 1 / composition adjusting coating solution 2-2). A conductive sheet for a touch panel was obtained in the same manner as in Example 4 except that a simultaneous multilayer coating was applied at 25/5 to form a silver halide photosensitive layer on the support.
[実施例7]
実施例4において、下塗り層付き支持体の下塗り層上に、下塗り層側から順に、組成調整塗布液1−2と、ハロゲン化銀含有塗布液2と、ハロゲン化銀含有塗布液1と、ハロゲン化銀含有塗布液2と、組成調整塗布液2とを、塗液流量比(組成調整塗布液1−2/ハロゲン化銀含有塗布液2/ハロゲン化銀含有塗布液1/ハロゲン化銀含有塗布液2/組成調整塗布液2)25/10/25/10/5で同時重層塗布し、支持体上にハロゲン化銀感光性層を形成したこと以外は、実施例4と同様にして、タッチパネル用導電性シートを得た。
[Example 7]
In Example 4, the composition-adjusting coating solution 1-2, the silver halide-containing coating solution 2, the silver halide-containing coating solution 1, and the halogen on the undercoat layer of the support with the undercoat layer in order from the undercoat layer side. The silver halide-containing coating solution 2 and the composition-adjusting coating solution 2 are mixed into a coating solution flow rate ratio (composition-adjusting coating solution 1-2 / silver halide-containing coating solution 2 / silver halide-containing coating solution 1 / silver halide-containing coating. Solution 2 / Composition Adjustment Coating Solution 2) Touch panel in the same manner as in Example 4 except that 25/10/25/10/5 was applied simultaneously and a silver halide photosensitive layer was formed on the support. A conductive sheet was obtained.
[比較例1]
実施例1において、組成調整塗布液2の代わりに上記組成調整塗布液2−2を使用したこと以外は、実施例1と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
[Comparative Example 1]
In Example 1, the conductive sheet for touch panels was obtained like Example 1 except having used the said composition adjustment coating liquid 2-2 instead of the composition adjustment coating liquid 2. FIG.
[比較例2]
比較例1において、ポリマーラテックス1の代わりに、ポリマーラテックス2を使用したこと以外は、比較例1と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 1, a conductive sheet for a touch panel was obtained in the same manner as Comparative Example 1 except that polymer latex 2 was used instead of polymer latex 1.
(評価1)
タッチパネル用導電性シートの表面抵抗値を測定した。測定は DELCOM INSTRUMENTS社製CONDUCTANCE MONITOR MODEL717Bを用いて測定した。結果を以下の基準により評価した。表面抵抗値が小さい方が導電性が高く、タッチパネル用導電性シートとしては優れた性能を有することを示す。
(Evaluation 1)
The surface resistance value of the conductive sheet for touch panel was measured. The measurement was performed using CONDUCTANCE MONITOR MODEL 717B manufactured by DELCOM INSTRUMENTS. The results were evaluated according to the following criteria. The smaller the surface resistance value is, the higher the conductivity is, indicating that the conductive sheet for touch panel has excellent performance.
A:表面抵抗値が20Ω/sq.未満である。
B:表面抵抗値が20Ω/sq.以上、50Ω/sq.未満である。
C:表面抵抗値が50Ω/sq.以上、70Ω/sq.未満である。
D:表面抵抗値が70Ω/sq.以上である。
なお、Ω/sq.はohms per square(Ω毎スクエア)表す。
A: The surface resistance value is 20Ω / sq. Is less than.
B: The surface resistance value is 20Ω / sq. 50 Ω / sq. Is less than.
C: Surface resistance value is 50Ω / sq. 70 Ω / sq. Is less than.
D: The surface resistance value is 70Ω / sq. That's it.
In addition, Ω / sq. Represents ohms per square (Ω per square).
(評価2)
レノボ社製YOGA Tablet2−830Lを液体窒素に浸漬して粘着材の粘着性を失活させた後に、分解してディスプレーとカバーガラスを取りだした。更に、ディスプレーとカバーガラスを、酢酸エチルを含ませたウエスで擦り、粘着材を落とした。取り出したディスプレーとカバーガラスの間に3M社製透明粘着フィルム8146−4を用いて、上記タッチパネル用導電性シートを貼り合わせて積層し、視認性評価用モジュールを作製した(なお、貼り合わせの構成は、ディスプレー/粘着フィルム/透明導電性フィルム/粘着フィルム/カバーガラスである。)。なお、タッチパネル用導電性シートにおける上部領域側が視認面側に配置されるモジュール(言い換えれば、支持体と反対側の表面が視認面側に配置されるモジュール)と、下部領域側が視認面側に配置されるモジュール(言い換えれば、支持体が視認面側に配置されるモジュール)とを、それぞれ作製し、評価した。上部領域側が視認面側に配置されるモジュールは、タッチパネル用導電性フィルムの上部領域側をカバーガラス側に向けて貼り合わせた。一方、下部領域側が視認面側に配置されるモジュールは、タッチパネル用導電性シートの下部領域側をカバーガラス側に向けて貼り合わせた。
(Evaluation 2)
YOGA Table2-830L manufactured by Lenovo Corporation was immersed in liquid nitrogen to deactivate the adhesive, and then decomposed to take out a display and a cover glass. Further, the display and the cover glass were rubbed with a waste cloth containing ethyl acetate to remove the adhesive material. Using the 3M transparent adhesive film 8146-4 between the taken out display and the cover glass, the conductive sheet for the touch panel was laminated and laminated, and a visibility evaluation module was produced (in addition, the configuration of the bonding) Is display / adhesive film / transparent conductive film / adhesive film / cover glass.) A module in which the upper region side of the conductive sheet for touch panel is arranged on the viewing surface side (in other words, a module in which the surface opposite to the support is arranged on the viewing surface side) and the lower region side is arranged on the viewing surface side. Modules (in other words, modules in which the support is arranged on the viewing surface side) were produced and evaluated. The module in which the upper region side is arranged on the viewing surface side is bonded with the upper region side of the conductive film for touch panel facing the cover glass side. On the other hand, the module in which the lower region side is arranged on the viewing surface side is bonded with the lower region side of the touch panel conductive sheet facing the cover glass side.
次に、得られたモジュールを、ディスプレー消灯状態で、三波長蛍光灯の光の照射角度、距離、及び、観察角度を種々変えながら目視観察し、ディスプレーのビューエリアの黒締りのよさを官能評価した。官能評価にあたり、黒締り良好な基準サンプルとして、透明導電性フィルムを貼り合わせないモジュール(貼り合わせ構成;ディスプレー/粘着フィルム/カバーガラス)を作製し、この黒締りを10点(良好)とした。また、最も黒締りの悪かった比較例1のタッチパネル用導電性シートの下部領域側が視認面側に配置されたモジュールの黒締りを1点(不良)とした。任意の6名で、それぞれ、上記の10点と1点の基準サンプルを元に、黒締りの官能評価値を点数付けした。6名による点数付けの平均値を元に、下記のランク付けを行い、評価値とした。 Next, with the display turned off, the obtained module was visually observed while varying the light irradiation angle, distance, and observation angle of the three-wavelength fluorescent lamp, and the blackness of the display view area was sensorially evaluated. did. In the sensory evaluation, as a reference sample with good black tightening, a module (lamination structure; display / adhesive film / cover glass) to which the transparent conductive film was not bonded was produced, and this black tightening was set to 10 points (good). Moreover, the black tightening of the module in which the lower region side of the conductive sheet for a touch panel of Comparative Example 1 having the worst black tightening was arranged on the viewing surface side was defined as one point (defect). An arbitrary six persons scored the sensory evaluation value of black tightening based on the above-mentioned 10 points and 1 point of the reference sample, respectively. Based on the average value of scoring by 6 people, the following ranking was performed and used as an evaluation value.
AAA: 9点以上10点以下
AA: 8点以上9点未満
A: 7点以上8点未満
B: 6点以上7点未満
C: 5点以上6点未満
D: 5点未満
AAA: 9 to 10 points AA: 8 to less than 9 A: 7 to less than 8 B: 6 to less than 7 C: 5 to less than 6 D: Less than 5
表1には、各タッチパネル用導電性シートの各領域における、P−1及びP−2の合計含有量に対するP−2の含有量の含有質量比、評価1、及び、評価2の結果を示した。 In Table 1, the content ratio of the content of P-2 to the total content of P-1 and P-2 in each region of the conductive sheet for each touch panel, the results of Evaluation 1 and Evaluation 2 are shown. It was.
なお、表1において「第2高分子/(第1高分子+第2高分子)」欄には、所定の領域における第1高分子及び第2高分子の合計含有量に対する第2高分子の含有量の含有質量比を示した。また、「融着阻害処理」欄には、ハロゲン化銀感光性層又は導電部と特定化合物とを接触させる工程の有無を示した。また、「下塗屈折率調整」欄には、非導電部の屈折率をRI1、易接着層(下塗り層)の屈折率をRI2、及び、支持体の屈折率をRI3としたとき、式3;RI1<RI2<RI3が成り立つよう下塗り層形成用組成物の組成を調整したものを「あり」とし、それ以外を「なし」とした。また、「表面抵抗」欄には、評価1の結果と、「黒締り」欄には、評価2の結果を、各タッチパネル用導電性シートの上部領域側を視認側とした際の結果、及び、下部領域側を視認側とした場合の結果を示した。 In Table 1, the column “second polymer / (first polymer + second polymer)” includes the second polymer with respect to the total content of the first polymer and the second polymer in a predetermined region. The content mass ratio of the contents is shown. In the “Fusion inhibition treatment” column, the presence or absence of a step of bringing the silver halide photosensitive layer or conductive portion into contact with the specific compound is shown. In the “undercoat refractive index adjustment” column, when the refractive index of the non-conductive portion is RI 1 , the refractive index of the easy adhesion layer (undercoat layer) is RI 2 , and the refractive index of the support is RI 3 , Formula 3; the composition of the undercoat layer forming composition adjusted to satisfy RI 1 <RI 2 <RI 3 was defined as “Yes”, and the others were defined as “None”. Also, in the “surface resistance” column, the result of evaluation 1 and in the “black tightening” column, the result of evaluation 2 are the results when the upper region side of each touch panel conductive sheet is the viewing side, and The results when the lower region side is the viewing side are shown.
表1に記載した結果から、RU、RM、及び、RLが既に説明した式1又は式2を満たす実施例1〜実施例7に係るタッチパネル用導電性シートは、優れた導電性を有するとともに、タッチパネルに適用した際、画面がより黒く見える(優れた黒締りを有する)ことがわかった。
一方、比較例1及び比較例2のタッチパネル用導電性シートは、上記式1及び式2のいずれも満たさず、所望の効果が得られなかった。
また、RM<RUを満たす実施例1のタッチパネル用導電性シートは上部領域側を視認側とした場合に、より優れた黒締りを有することがわかった。
一方、RM<RLを満たす実施例2のタッチパネル用導電性シートは下部領域側を視認側とした場合に、より優れた黒締りを有することがわかった。
また、カレンダ処理工程(導電部を圧密化する工程D)の後であって、融着処理工程(導電部の金属銀同士を互いに融着させる処理を施す工程F)の前に、融着阻害処理工程(導電部と特定化合物とを接触させる工程C2)を有する方法により製造された実施例3のタッチパネル用導電性シートは、上記工程C2(及び工程C1)を有さない製造方法により製造された実施例1のタッチパネル用導電性シートと比較して、より優れた黒締りを有していた。
また、支持体と導電部との間に易接着層を有し、易接着層上に導電部に隣接するように配置された非導電部を更に有し、非導電部の屈折率をRI1、易接着層の屈折率をRI2、及び、支持体の屈折率をRI3としたとき、式3 RI1<RI2<RI3を満たす、実施例4のタッチパネル用導電性シートは、実施例1のタッチパネル用導電性シートと比較して更に優れた黒締りを有していた。
また、式1及び式2の両方を満たす、実施例7のタッチパネル用導電性シートは、上部領域を視認側とした場合、及び、下部領域を視認側とした場合のいずれの場合も、特に優れた黒締りを有していた。
一方で、式1及び式2のいずれか一方を満たす、実施例1及び実施例2のタッチパネル用導電性シートは、表面抵抗値がより低く優れた導電性を有するとともに、上部又は下部領域の一方側を視認側とした場合に優れた黒締りを有していた。
From the results described in Table 1, the conductive sheets for touch panels according to Examples 1 to 7 satisfying Formula 1 or Formula 2 in which R U , R M , and R L have already been described have excellent conductivity. And when applied to a touch panel, the screen appears blacker (has excellent black tightening).
On the other hand, the conductive sheet for a touch panel of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 did not satisfy both of the above formulas 1 and 2, and a desired effect was not obtained.
Also, R M <touch panel conductive sheet of Example 1 satisfying R U in the case where the upper area side to the viewing side, was found to have a better black interference.
On the other hand, it was found that the conductive sheet for a touch panel of Example 2 satisfying R M <R L has better black tightening when the lower region side is the viewing side.
Further, after the calendar processing step (step D for consolidating the conductive portion) and before the fusion processing step (step F for performing processing for fusing the metallic silver of the conductive portion to each other), fusion inhibition The conductive sheet for the touch panel of Example 3 manufactured by the method having the processing step (the step C2 for bringing the conductive part and the specific compound into contact) is manufactured by the manufacturing method that does not have the step C2 (and step C1). Compared with the conductive sheet for a touch panel of Example 1, it had better black tightening.
Also it has an easy-adhesion layer between the support and the conductive portion, further comprising a non-conductive portion that is disposed adjacent to the conductive portion on the adhesion layer, RI 1 a refractive index of the non-conductive portion The conductive sheet for a touch panel of Example 4 that satisfies Formula 3 RI 1 <RI 2 <RI 3 when the refractive index of the easy-adhesion layer is RI 2 and the refractive index of the support is RI 3 is Compared with the conductive sheet for touch panel of Example 1, it had a further excellent black tightening.
Moreover, the conductive sheet for a touch panel of Example 7 that satisfies both the formulas 1 and 2 is particularly excellent in both cases where the upper region is the viewing side and the lower region is the viewing side. Had black tightening.
On the other hand, the conductive sheet for the touch panel of Example 1 and Example 2 that satisfies either one of Formula 1 and Formula 2 has excellent conductivity with a lower surface resistance value, and one of the upper or lower region. It had excellent black tightening when the side was the viewing side.
[実施例8]
組成調整塗布液2の代わりに組成調整塗布液2−3を使用したこと以外は、実施例1と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
なお、組成調整塗布液2−3は、日本合成化学社製モビニールLDM7523とゼラチンとを混合質量比(モビニールLDM7523固形分/ゼラチン)2/1で混合した組成物である。また、組成調整塗布液2−3は、この組成調整塗布液2−3より形成される層中のゼラチン量が0.10g/m2となるように濃度調整した。モビニールLDM7523の固形分の示差走査熱量測定(DSC)で測定したガラス転移温度は+17℃であった。
[Example 8]
A conductive sheet for a touch panel was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition-adjusting coating solution 2-3 was used instead of the composition-adjusting coating solution 2.
The composition-adjusting coating solution 2-3 is a composition in which Movinyl LDM7523 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. and gelatin are mixed at a mixing mass ratio (mobile LDM7523 solid content / gelatin) 2/1. In addition, the concentration of the composition-adjusted coating solution 2-3 was adjusted so that the amount of gelatin in the layer formed from the composition-adjusted coating solution 2-3 was 0.10 g / m 2 . The glass transition temperature measured by differential scanning calorimetry (DSC) of the solid content of mobile LDM7523 was + 17 ° C.
[実施例9]
組成調整塗布液2の代わりに組成調整塗布液2−4を使用したこと以外は、実施例1と同様にしてタッチパネル用導電性シートを得た。
なお、組成調整塗布液2−4は、日本ゼオン株式会社製Nipol LX415Mとゼラチンとを混合質量比(Nipol LX415M固形分/ゼラチン)2/1で混合した組成物である。また、組成調整塗布液2−4は、この組成調整塗布液2−4より形成される層中のゼラチン量が0.10g/m2となるように濃度調整した。Nipol LX415Mの固形分の示差走査熱量測定(DSC)で測定したガラス転移温度は+27℃であった。
[Example 9]
A conductive sheet for a touch panel was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition adjustment coating liquid 2-4 was used instead of the composition adjustment coating liquid 2.
The composition-adjusting coating solution 2-4 is a composition in which Nipol LX415M manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. and gelatin are mixed at a mixing mass ratio (Nipol LX415M solid content / gelatin) 2/1. In addition, the concentration of the composition-adjusted coating solution 2-4 was adjusted so that the amount of gelatin in the layer formed from the composition-adjusted coating solution 2-4 was 0.10 g / m 2 . The glass transition temperature measured by differential scanning calorimetry (DSC) of the solid content of Nipol LX415M was + 27 ° C.
実施例8及び実施例9により得られたタッチパネル用導電性シートについて、上述した(評価2)の方法により黒締りを評価し、結果を表2に示した。また、あわせて、実施例1及び比較例1の各タッチパネル用導電性シートの評価結果も表2に示した。なお、表2中において、官能平均とあるのは、官能評価の平均値を表わし、判定あとあるのは、黒締りの評価結果を表すものであり、評価は上部領域側を視認側として行った。 About the conductive sheet for touch panels obtained by Example 8 and Example 9, the black tightening was evaluated by the method of (Evaluation 2) described above, and the results are shown in Table 2. In addition, the evaluation results of the conductive sheets for touch panels of Example 1 and Comparative Example 1 are also shown in Table 2. In Table 2, the sensory average represents the average value of the sensory evaluation, and after the determination, the evaluation result of the black tightening was expressed, and the evaluation was performed with the upper region side as the viewer side. .
表2に示した結果から、第2高分子のガラス転移温度が25℃である、実施例1及び実施例8のタッチパネル用導電性シートは、第2高分子のガラス転移温度が27℃以上である実施例9のタッチパネル用導電性シートと比較して、より優れた黒締りを有していた。 From the results shown in Table 2, the conductive sheets for the touch panel of Example 1 and Example 8, in which the glass transition temperature of the second polymer is 25 ° C., the glass transition temperature of the second polymer is 27 ° C. or higher. Compared with the conductive sheet for a touch panel of Example 9, it had a better black tightening.
10 タッチパネル用導電性シート
12 支持体
14 導電部
16 バインダ
18 金属部
114A 表面
26 開口部
51 非導電部
61 易接着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Electroconductive sheet 12 for touchscreens Support body 14 Conductive part 16 Binder 18 Metal part 114A Surface 26 Opening part 51 Nonconductive part 61 Easy adhesion layer
Claims (14)
前記バインダは、第1高分子と、第1高分子よりもガラス転移温度が低い第2高分子とを含有し、
前記導電部の垂直断面において、前記導電部の前記支持体側とは反対側の表面Xから前記支持体側に向かって、前記導電部の前記表面Xの表面形状に沿った輪郭線を移動させたとき、前記導電部に含まれる前記金属部に前記輪郭線が到達した位置を上端位置として、前記上端位置から前記支持体側に向かって100nmまでの領域における前記第1高分子及び前記第2高分子の合計含有量に対する前記第2高分子の含有量の含有質量比をRUとし、
前記上端位置よりも前記支持体側に前記輪郭線を移動させたとき、前記導電部で前記金属部を含まなくなる位置を下端位置として、前記上端位置と前記下端位置との中間位置から前記支持体側に向かって50nm及び前記表面X側に向かって50nmの領域における前記第1高分子及び前記第2高分子の合計含有量に対する前記第2高分子の含有量の含有質量比をRMとし、
前記下端位置から、前記表面X側に向って100nmの領域における前記第1高分子及び前記第2高分子の合計含有量に対する前記第2高分子の含有量の含有質量比をRLとしたとき、
以下の式1及び式2;
式1 RM<RU
式2 RM<RL
からなる群より選択される少なくとも一方が成り立つ、タッチパネル用導電性シート。 A conductive sheet for a touch panel having a support and a conductive part disposed on the support and containing a binder and a metal part,
The binder contains a first polymer and a second polymer having a glass transition temperature lower than that of the first polymer,
When the contour line along the surface shape of the surface X of the conductive part is moved from the surface X opposite to the support side of the conductive part toward the support side in the vertical cross section of the conductive part. The first polymer and the second polymer in a region from the upper end position to 100 nm toward the support side with the position where the contour line reaches the metal part included in the conductive part as the upper end position. the content mass ratio of the content of the second polymer and R U to the total content,
When the contour line is moved to the support side relative to the upper end position, the position where the conductive portion does not include the metal part is defined as a lower end position, and an intermediate position between the upper end position and the lower end position is moved to the support side. toward 50nm and containing mass ratio of the content of the second polymer to the total content of the first polymer and the second polymer in the 50nm region toward the surface X side is R M, the
When the content mass ratio of the content of the second polymer to the total content of the first polymer and the second polymer in a region of 100 nm from the lower end position toward the surface X side is RL. ,
Formula 1 and Formula 2 below;
Formula 1 RM < RU
Formula 2 R M <R L
A conductive sheet for a touch panel, wherein at least one selected from the group consisting of:
前記易接着層上に、前記導電部に隣接するよう配置された非導電部を更に有し、
前記非導電部の屈折率をRI1、前記易接着層の屈折率をRI2、及び、前記支持体の屈折率をRI3としたとき、以下の式3;
式3 RI1<RI2<RI3
を満たす、請求項1〜3のいずれか一項に記載のタッチパネル用導電性シート。 Having an easy-adhesion layer between the support and the conductive portion;
On the easy-adhesion layer, it further has a non-conductive part arranged adjacent to the conductive part,
When the refractive index of the non-conductive portion is RI 1 , the refractive index of the easy adhesion layer is RI 2 , and the refractive index of the support is RI 3 , the following formula 3;
Formula 3 RI 1 <RI 2 <RI 3
The conductive sheet for touch panels as described in any one of Claims 1-3 which satisfy | fills.
支持体上に、少なくともハロゲン化銀と第1高分子とを含有するハロゲン化銀含有塗布液と、少なくとも第2高分子を含有する組成調整塗布液とを、同時重層塗布して、ハロゲン化銀感光性層を形成する工程Aと、
前記ハロゲン化銀感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する導電部を形成する工程Bと、を有するタッチパネル用導電性シートの製造方法。 The said metal part is a manufacturing method of the electroconductive sheet for touchscreens as described in any one of Claims 1-4 containing metal silver,
A silver halide-containing coating solution containing at least silver halide and a first polymer and a composition-adjusting coating solution containing at least a second polymer are simultaneously coated on the support, and silver halide is coated. Forming a photosensitive layer A;
A process for producing a conductive sheet for a touch panel, comprising: exposing the silver halide photosensitive layer and then developing the conductive part to form a conductive part containing metallic silver.
前記工程Bの後であって、前記工程Fの前に、前記導電部と、前記化合物とを接触させる工程C2を有する、請求項8に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。 After Step A and before Step B, the step of contacting the silver halide photosensitive layer with a compound having a metal-adsorptive substituent or a metal-adsorptive structure, or
The manufacturing method of the conductive sheet for touchscreens of Claim 8 which has the process C2 which makes the said electroconductive part and the said compound contact after the said process B and before the said process F. FIG.
前記工程Bの後であって、前記工程Dの前に、更に前記導電部のゼラチンを除去する工程Eを有する、請求項11に記載のタッチパネル用導電性シートの製造方法。 At least one selected from the group consisting of the silver halide-containing coating solution and the composition-adjusting coating solution further contains gelatin,
The manufacturing method of the conductive sheet for touchscreens of Claim 11 which has the process E which removes the gelatin of the said electroconductive part further after the said process B and before the said process D.
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