JP2019142474A - 製造公差を原因とする幾何学的欠陥を補正するように、光学モジュールにおいてピクセルを選択的に調整する方法及びシステム - Google Patents

Abstract

【課題】光学部品の製造公差を原因とする投影画像の不所望の移動又は変形の作用を補償することができる発光自動車両システムを提供する。【解決手段】光学モジュール１は、光源２によって照明されるピクセル化空間モジュレータ３と投影光学部品１８とを有する結像装置を備える。ピクセル化空間モジュレータ３を制御するための制御ユニット１６は、投影すべき画像を示す第１表示コマンドＦ１を受信する。制御ユニット１６は、各第１表示コマンドＦ１を、投影光学部品１８に特有の幾何学的欠陥の認識に基づいて予め規定される修正パラメータを考慮する第２表示コマンドＦ２に変換する。結像装置によって実際に投影される画像Ｆ３が投影すべき画像に合致するように、制御ユニット１６は、デジタル・マイクロミラー・デバイス６であり得るピクセル化空間モジュレータ３を、第２表示コマンドＦ２に応じて制御する。【選択図】図１

Description

本発明は、モジュレータを採用して車両照明設備を空間的にピクセルに分解することに関し、例えば、制御可能なマイクロミラーを有するデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）の形態を取る。より具体的には、本発明は、自動車業界において、投影画像における形成光学部品の設計又は組立に固有の幾何学的欠陥を補正するように、投影すべき画像のピクセルを調整可能とする方法及びシステムに関する。

光源と、光線を二次元に分散配置されたピクセルに分解可能なデジタル・マイクロミラー・デバイス又は類似の変調装置を備える自動車両照明設備及び／又はシグナリング装置が公知である。デジタル・マイクロミラー・デバイスは、通常、光源から生じた光線を、光線を形成するための光学部品に向けて反射するために使用される。光学部品は、デジタル・マイクロミラー・デバイスに形成された画像を投影し、出力光線を形成することが意図されている。この光線は、例えば、この照明及び／又はシグナリング装置を備える車両が走行する道路を照明することを可能にする、又はシグナリング機能を発揮する。

このような照明装置は、大量生産方式を利用して設計されている。照明及び／又はシグナリング装置の構成要素間には必然的に遊びがあり、これは、一方で簡単な組付を可能とするためであり、他方で部品は一般的に機械加工されるのではなく、製造コストを減少させるべくプラスチックから成形されるためである。

特に、空間的にピクセルに分解されるモジュレータ（作動又は非作動とされ得る多数個のピクセルを理由として高解像度ピクセル化空間モジュレータ（変調器）とも称される）と、通常少なくとも１つのレンズの形態を取る投影光学部とを完璧に整列させることがいかに困難であるかが強調されなくてはならない。投影機能に使用される対物レンズが高い開口数を有するため、光軸からの横方向オフセットが５０μｍに達すると、画像の投影品質が著しく低下する。更に、実際に、光学モジュールの製造中に、（デジタル・マイクロミラー・デバイスや類似の変調装置の一部を形成する）要素の位置をダイナミックに整列させることは煩雑である。

光学システムを構成する要素の製造及び位置決め公差は、照明及び／又はシグナリング装置が内部投影スクリーンを有している場合にはこのスクリーン上で、又は、照明及び／又はシグナリング装置が道路に直接投光するように設計されており内部投影スクリーンを有していない場合にはこの装置の外部に配置されたスクリーン上で知覚可能な幾何学的欠陥の原因となり得る。

更に、多くの場合、投影レンズは、画像にぼやけを生じさせる他の収差を生成する。この作用は、上述の位置的なオフセットによって深刻化する。

このような幾何学的欠陥は、例えば略又は約０．７の係数を有する高開口数（広角光学部品）が必要である場合に深刻となる。したがって、複雑で高価な部品を使用せず、また、実施が煩雑で費用がかかる調整作業を必要とせずに要素を互いに整列させる、特に高開口数用のより優れた光学システムを提供する必要がある。

したがって、本発明は、製造時の製造公差により、形成される光線、例えば車両から出射する前に投影スクリーンに投影される光線、又は道路に直接投影される光線の幾何学的欠点（光軸に対する顕著な変形や過剰な移動）がもたらされることを防止することを目的とする。

この目的のために、本発明は、自動車両光学モジュールにより投影される光線における幾何学的欠点を補正するための方法であって、
前記光学モジュールは、
‐高解像度ピクセル化空間モジュレータと投影光学部品とを有する結像装置と、
‐前記モジュレータに向けた光を生成するための光源と、
‐選択的に、前記投影光学部品より伝送される光線を受光することに適する投影スクリーンと
を含み、
前記方法は、
‐投影すべき画像を表示するための第１コマンドであって、前記高解像度ピクセル化空間モジュレータに向けた第１コマンドを受信することと、
‐前記第１表示コマンドを修正パラメータを考慮する第２表示コマンドに変換することと、
から本質的になるステップを備え、
前記修正パラメータは、前記投影光学部品に特有の幾何学的欠陥の認識に基づいて予め規定され、これにより、前記結像装置を使用して実際に投影される画像が、前記修正パラメータが考慮されない場合に比較して、投影すべき画像により良好に合致するように、前記モジュレータが制御される方法、に関する。

このような構成により、光線の特定部分を配置し直す、及び／又は当該光線のアスペクトを変形させる欠陥補償効果を生成することによって、照明が制御され且つ適応され得る。本方法は、モジュレータのピクセルを選択的に作動すること又は非作動とすること、及び選択的にこれらのピクセルの作動の持続時間を変調することによって、体積に影響を及ぼし得る機械的装置又は追加部品に頼ることなく、光線を適合させることを可能にする。

投影光学部品に特有の幾何学的欠陥が、高解像度ピクセル化空間モジュレータの全ての欠陥であって、光学モジュール内での光の伝播方向において下流に存在する全ての欠陥に相当することが理解されるであろう。特に、投影光学部品の単数又は複数の構成要素の整列（アラインメント）におけるわずかな欠陥（公差、特に横方向公差に関する欠陥）、及び投影レンズの複雑な形状に関する固有の構造的欠陥が問題である。

本方法は、組付作業を容易とし、且つ光学要素の製造の制約やコスト（例えば、特に高開口数のレンズが問題である場合、完璧なレンズは高価である）を最小とする公差の程度を現状のままとしつつ、光学モジュールを大量生産するための効果的な方法の利用を可能とする。

当然ながら、所望の画像により良く合致することにより、投影画像の知覚に影響を及ぼすシフト（ずれ）や異常が減少することとなる。典型的には、画像の複数のセクションにおいて測定されるラインの太さにおける幾何学的シフトや変動が減少する。

本方法の他の利点は、幾何学的欠陥の認識工程が一回しか実施されず、したがって、動作中の更なる比較ステップが必要とされないことである。

一選択肢によれば、特に前記第２表示コマンドは、前記第１表示コマンドから、ピクセルの列の全部又は一部の選択的作動において異なり、前記列は、周辺ゾーン（境界上又は境界の側部）において前記モジュレータによって規定される。

一１つの特徴によれば、
‐前記投影光学部品により伝送される光線の輪郭の横方向シフト、及び
‐前記投影光学部品により伝送される光線の輪郭の変形、
のうちの少なくとも一方の欠陥を補償するように、前記修正パラメータは、前記モジュレータによって規定されたピクセルの作動ステータスを変更することに適する。

一１つの特徴によれば、修正パラメータは、モジュレータにおいて、幾何学的欠点を認識可能な較正ステップにおいて予め認識されたピクセルゾーンに選択的に適用すべき位置シフトを決定することにより、歪みの作用を補償する。実際に、それらは、典型的には、モジュレータの個別の特性を理由として、シフトのみならず輝度における変動、すなわち、デジタル画像の類似性が取られる場合においてグレースケール・レベルにおける変動をもたらす最終的に延伸又は収縮する作用である。グレースケール・レベルという表現は、光線の実際の色とは無関係の輝度の変動に適用されることに留意されたい。したがって、それは、光線が白色であっても有色であっても、例えば赤色、琥珀色、または他の色であっても、光線の輝度の表示に対応する。

一１つの特徴によれば、前記修正パラメータ及び／又は前記第２表示コマンドは、制御ユニットがアクセス可能なメモリに記憶される。典型的には、前記制御ユニットは、前記第２表示コマンドを作動させ得る。

制御ユニットがアクセスを有するメモリにより、較正を示すデータ、具体的には修正パラメータ、及び／又は修正結果に対応する単数又は複数の所定の画像が記憶され得ることが理解されるであろう。

一１つの特徴によれば、修正パラメータは、以下のステップの後に得られる。
‐少なくとも１つのテストパターンを使用して、例えば投影されたテストパターン（モジュール内部の投影スクリーンであって、投影光学部品により伝送された光線を受信するのに適したスクリーンに対する投影、または外部への直接的な投影）に影響を及ぼす位置及び形状の差異に関する一連のシフト情報のセットを獲得するステップ。
‐一連のシフト情報のセットに応じて、モジュレータから伝送された光線に適用すべき修正パラメータの計算ステップ。
‐修正パラメータに応じて、モジュレータの単数又は複数のピクセルを作動する又は非作動とするステップ。
これは、典型的には、システムが正しく調整されないときに使用されるピクセルのストックに依存する。これらのピクセルは、投影されて移動する（シフト、公差）、及び／又は拡大する（歪み）画像が必要なときに修正に使用される。

一１つの特徴によれば、（光学部品の設計又は横方向遊びに関連する）歪みを補償するために、モジュレータのピクセルは複数のゾーンに分割され、正しく投影される形状を得るために適用すべきシフトはゾーン毎に計算される。このゾーン分割により、少なくとも４つのゾーン（選択的に同一面積）、好適には少なくとも例えば９つのゾーンが規定され得る。

一１つの特徴によれば、テストパターンを表示させるためのコマンドが、制御ユニットがアクセス可能なメモリに記憶され、テストパターンは、修正パラメータを認識し規定する事前のステップにおいて表示される。

一１つの特徴によれば、モジュレータにおいて、テストパターンは中央区域と、少なくとも４つの同一サイズの領域であって中央領域の周囲に形成された追加的な領域を覆って延在する。テストパターンの一部が、モジュレータのピクセルの中央ゾーンから距離を置いて配置され、これにより、修正パターンが対応する特定の欠陥が認識され得ることが理解されるであろう。

一１つの特徴ぼやけによれば、ぼやけを補償するために、所望の特徴を規定するテストパターンが使用され、所望の特徴と同じ特徴境界を有するテストパターンを投影するようにモジュレータに適用すべき「作動中の」ピクセルを減少させる個数、及び、使用されるピクセルの個数の減少に対応するフラックスの減少を補償するように適用すべき「作動中／非作動中」ピクセルの比率が計算される。より一般的には、特定のラインが太くされ、これにより投影されるとこれらのラインは所望の太さを有する。こうして、特定の輪郭、特にテストパターンの線に対して平行な輪郭が改善される。

本発明による方法は、以下の単数又は複数の特徴を備え得る。
‐モジュレータは単独の電力供給入力部を有し、１０００個以上の多数のピクセルを選択的に作動させ得る。
‐作動は、デジタル・マイクロミラー・デバイスの各マイクロミラーに設けられた可動要素の動作の制御を介して選択的に達成される（各可動マイクロミラーは少なくとも２つの位置を有し、照明に関して、その一方は作動位置でありその他方は非作動位置である）。
‐特に前記投影光学部品により伝送される光線の外縁付近において、前記投影画像の明瞭性の損失を補償するように、前記修正パラメータは、前記モジュレータのピクセルの作動の持続時間又は頻度を変更することに適する（輝度又はグレースケールがコントロール可能である）。ほとんどの場合、明瞭性のロスは、少なくとも１つのぼやけを有する縁部の出現を伴う特徴の拡大として規定され得る。
‐幾何学的欠陥の全部又は一部の認識工程は、以下のステップを備える。
ａ）光源をオンにするステップと、
ｂ）モジュールの種々のピクセル包含ゾーン上で分散配置されたテストパターンを作成するようにモジュレータにより規定された一連のピクセルを作動させるステップであって、一連のピクセルは、テストパターンの所定の形状パラメータを規定し得る連続的な又は非連続的な輪郭を有するステップと、
ｃ）テストパターンを使用して修正パラメータの全部又は一部を規定するステップ。
‐ステップｃ）は、以下のサブステップのうちの少なくとも１つを備える。
ｉ）投影されたテストパターンの形状パラメータを所定形状パラメータと比較するステップと、
ｉｉ）サブステップｉ）で得た比較結果に応じて、修正パラメータを規定するステップ。
‐ステップｃ）は、以下のサブステップを備える。
‐投影されたテストパターンにおけるぼやけを示すパラメータを推定するステップと、
‐推定パラメータが明瞭性閾値を超えたか否かに応じて、修正パラメータにおける少なくとも１つのぼやけ補償を利用するステップ。

一特例によれば、モジュレータから伝送された光線はセグメント化され、少なくとも１つの分断部を含む。

一特例によれば、光学モジュールから出力された光線は、セグメント化されたロービーム（分断部は、例えば、光線の単数又は複数のセグメントの単数又は複数の上縁部により形成された水平方向ロービームの分断部）、又はセグメント化されたハイビーム（分断部は、例えば光線の単数又は複数のセグメントの単数又は複数の横方向縁部から形成された鉛直方向分断部）である。

一選択肢によれば、セグメント化された光線は、例えば水平方向に並置された、又は部分的に重ね合わされたセグメントに起因する少なくとも１つの発光線セグメントを備え、各発光セグメントは、選択的に作動可能なピクセルの列の全て又は一部に対応し、ピクセルの当該列又は列の一部の作動により、前記発光セグメントが点灯する。

一特例によれば、光源はエレクトロルミネセンス要素、又は、例えば１個以上のＬＥＤ等の一群のエレクトロルミネセンス要素である。これらの要素のそれぞれは、制御ユニットに属する制御回路に接続され得る。

制御ユニットによるピクセルの制御により調整の柔軟性が生じる。また、この制御により、投影画像が微調整され得る（この画像は、投影光学部品又は投影スクリーンから無限に投影され得る）ことを理解されるであろう。

本発明の別の目的は、投影光線における不所望の変形を少なくとも部分的に修正するための発光システムを提供することである。前記変形は、高解像度ピクセル化空間モジュレータを備えるタイプの光学モジュールの特定の製造公差を原因とする。

この目的のために、上記方法の実施を可能とする発光自動車両システムであって、
前記システムは、
‐光学モジュールであって、
‐高解像度ピクセル化空間モジュレータと投影光学部品とを有する結像装置と、
‐前記モジュレータに向けた光を生成するための光源と、
‐選択的に前記投影光学部品により伝送される光線を受光することに適する投影スクリーンと、（光線が無限に投影される、すなわち発光システムから非常に遠方へ‐発光システムの寸法の少なくとも１０倍、特に２０倍、特に１００倍遠方へ‐投影されることが意図される場合、スクリーンは設けられない）
を備える光学モジュールと、
‐前記モジュレータを制御するように設計及び配設されるとともに、複数の第１表示コマンドであってそれぞれが投影すべき画像を示す第１表示コマンドを受信することに適する前記モジュレータの制御ユニットと、
を含み、
前記制御ユニットは、各第１表示コマンドを、修正パラメータを考慮する第２表示コマンドに変換する調整手段を備え、
前記修正パラメータは、前記投影光学部品に特有の幾何学的欠陥の認識に基づいて予め規定され、前記制御ユニットは、前記結像装置を使用して実際に投影される画像が、前記修正パラメータが考慮されない場合に比較して、投影すべき画像により良好に合致するように、第２表示コマンドに応じて前記モジュレータを制御するシステム、が提供される。

一特例によれば、前記高解像度ピクセル化空間モジュレータは、デジタル・マイクロミラー・デバイスを備え、前記デジタル・マイクロミラー・デバイスの前記マイクロミラーは、それぞれが、
‐前記マイクロミラーが、前記光源からの、又は前記光源を含む発光ユニットからの光線を、前記投影光学部品の方向において反射するように配設される第１位置と、
‐前記マイクロミラーが、前記光源からの、又は前記光源を含む発光ユニットからの光線を、前記投影光学部品から離間して（前記投影光学部品の入射瞳外に）反射するように配設される第２位置と、
の間で可動である。

一特例によれば、好適には、投影光学部品は、好適には０．５を超える、好適には０．７を超える開口数のための広開口角を規定する。

本発明による発光システムは、以下の単数又は複数の特徴を含み得る。
‐高解像度ピクセル化空間モジュレータは、光源により照明ゾーンにおいて照明されるとともに、ピクセルの平行な列に分散配置された複数のピクセルのセットを規定する。空間モジュレータは過大寸法とされているため、ピクセルの少なくとも第１列は、選択的に最初は照明ゾーンの外側に配置可能である。
‐過大寸法を可能とする周辺ゾーンは、幾何学的欠陥がない場合に所望の画像を生成するのに十分な名目エリアの上部、下部、左、及び右における余剰なピクセルを規定するフレーム・フォーマットを有する外縁ゾーンに対応する（デジタル・マイクロミラー・デバイスの場合、この過大寸法に対応する利点は、所望であれば、デバイスの非反射縁部を照明することにより生じる熱を制限する可能性でもある）。
‐ピクセルが規定される作動エリアは、単数又は複数の周辺ゾーンにおいて、第１表示コマンドのそれぞれにおいて規定されるピクセル・フォーマットに対して余剰のピクセルを有し得る（これにより、画像を隅部において拡大する必要のある中心性に関する欠陥又は樽形歪み、又は画像をその縁部の中心に向かって膨張させる必要のあるピンクッション歪みを補正することが可能となる）。
‐修正パラメータに応じてピクセルが規定されるアクティブエリアの縁部又は縁部のセクションに沿って配置される単数又は複数の周辺ゾーンを選択的に作動させるように（当然ながら、「作動させる」という用語は、単数又は複数のピクセル／ミラーが作動状態にされることを単純に意味し得る）、制御ユニットは、高解像度ピクセル化空間モジュレータを選択的に制御することに適する。
‐前記結像装置は、少なくとも１つの分断部を有するセグメント化された出力光線を投影することに適する。
‐高解像度ピクセル化空間モジュレータのピクセルは、第１軸に沿って、又はこれに対して平行に分散配置されて、第１軸に平行な列を規定する。これらの列は、第１軸に対して垂直な第２軸に沿って種々のレベルにおいて分散配置される。自動車両用の発光システムの操作構造において、第１軸は水平方向軸に対応し、第２軸は実質的に鉛直方向の軸に対応する。
‐制御ユニットは、修正パラメータ及び／又は第２表示コマンドを示す情報を記憶するメモリへのアクセスを有する。

別の一特例によれば、前記発光システムは、２つの光学モジュールを備え、
各光学モジュールは、
‐高解像度ピクセル化空間モジュレータと投影光学部品とを有する結像装置と、
‐前記モジュレータに向けた光を生成するための光源と、
を含み、
前記投影光学部品のうちの一方によって伝送される各光線は、少なくとも１つの投影スクリーンにおいて受光される。

好適には、前記制御ユニットは、前記２つの光学モジュールのそれぞれの前記モジュレータを制御することに適するとともに、前記２つの光学モジュールのうちの第１のものに対応する修正パラメータの第１のセットと、前記２つの光学モジュールのうちの第２のものに対応する修正パラメータの第２のセットとを考慮することに適している。典型的には、前記修正パラメータの第１のセットは、前記第１光学モジュールにおける投影光学部品に特有の幾何学的欠陥の認識に基づいて予め規定される一方、前記修正パラメータの第２のセットは、前記第２光学モジュールにおける投影光学部品に特有の幾何学的欠陥の認識に基づいて予め規定される。

更に、少なくとも１つの光線を投影するための自動車両の照明及び／又はシグナリングランプであって、
‐ハウジングと、
‐閉鎖外側レンズと、
‐本発明による発光システムと、
を備えるランプ、が提供され得る。

また更に、
‐２つのランプと、
‐２つのヘッドランプと、又は
‐ランプ及びヘッドランプと、
により形成される第１部品と第２部品とを有する発光アセンブリであって、
前記発光アセンブリは、上記のような２つの光学モジュールを有する発光システムを備え、前記２つの光学モジュールは、一方が前記第１部品に、他方が前記第２部品に分散配置される発光アセンブリ、が提供され得る。

本発明の他の特徴及び利点が、添付図面を参照して非制限的な例として挙げる複数の実施形態についての説明から明らかになるであろう。

光学モジュールを備えるとともに、幾何学的欠陥の補正を実施する照明自動車両ヘッドランプの一例を概略的に示す図。 図１の光学モジュールにおいて使用される高解像度ピクセル化空間モジュレータを形成するデジタル・マイクロミラー・デバイスの詳細を示す概略断面図。 実際に投影される画像を調整可能とするべく、光学モジュールの出力光を生成するように作動されるモジュレータのエリアの２つの軸に沿う座標を介したモジュレータのピクセルのパラメータ化を単純化して示す図。 本発明による幾何学的欠陥を補正するための方法において実施されるステップの図。 光学部品に顕著な幾何学的欠陥がない場合の正しい発光分布を概略的に示す図。 所望の光度描出を得るために、幾何学的欠陥を原因として実際にパラメータ化すべき発光分布を概略的に示す図。 コマンドによる画像と、修正がない場合の光学モジュールの投影スクリーンに出現する画像との間で観察される変形の一例を示す図。 図６Ａの詳細図を介して、投影された画像の特定の特徴部を太くするぼやけの作用とともに観察される変形の一例を示す図。

異なる図面において、同じ参照符号が、同一又は類似の要素を示すように使用される。理解を容易とするように、いくつかの要素のサイズは、図面において拡大されていることがある。

図１は、前灯又は尾灯等の発光自動車両システム５を形成することが可能である、又はその一部を形成することが可能である光学モジュール１の第１実施形態を示す。光学モジュール１は、単数又は複数の機能を発揮するように構成される発光装置を形成し、これらの機能のうちの幾つかは光度に関する規制を受ける。

図示のように、光学モジュール１は、発光ユニット２０と、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）６と、例えばコントローラ１６の形態を取り、デジタル・マイクロミラー・デバイス６のマイクロミラー１２を制御可能である制御ユニット１６と、投影光学部品１８（又は形成光学部品）とを備える。制御ユニット１６は、例えば複数の光学モジュール１を制御可能であるように、選択的に離間して配置されてもよい。発光自動車両システム５は、中央で作成されたコマンドであって、例えば、照明及び／又はシグナリング機能や他の光度機能に関するコマンドに対応するコマンドを受信し得るということが理解されるであろう。

光学モジュール１に関連する好適な光度機能とは、人間の目に見える照明及び／又はシグナリング機能である。このような光度機能は、色、強度、光度計のテストスクリーンにおける空間分布、又は出射光の視界範囲に関する要件を規定する単数又は複数の規制を受けるものであり得る。

光学モジュール１は、例えば、ヘッドランプ１０‐すなわちヘッドライトを形成する照明装置である。これは、例えば、ロービーム機能、ハイビーム機能、及びフォグランプ機能のうちから選択される単数又は複数の光度機能を発揮するように構成される。

これに代えて、又はこれと平行して、光学モジュール１は、自動車両の前部又は後部に配設されることが意図されるシグナリング装置である。

前部に配設されることが意図される場合、光学モジュール１を使用して発揮され得る光度機能は（選択的に光学モジュール１が照明装置として果たす役割の他に）、方向変換を指示する機能、日中走行ライト（ＤＲＬ）機能、前方発光標示機能、位置標示機能、サイドマーカー機能を含む。

後部に配設されることが意図される場合、このような光度機能は、車両が後退していることを標示する機能、フォグランプ機能、方向変換を指示する機能、後方発光標示機能、位置標示機能、及びサイドマーカー機能を含む。

デジタル・マイクロミラー・デバイス６に向かって配向される発光光Ｒ１を形成する光線を生成するための光源２（本例においてユニット２０の一部を形成する）が設けられる。光源２は、発光ダイオード（すなわちＬＥＤ）等のエレクトロルミネセント素子、又はＬＥＤのマトリクスアレイから構成され得る。一群のエレクトロルミネセント素子の場合、これらは、好適には、同一ゾーンにまとまって配設され得るとともに単独の光源に連結され得る。必要に応じて、コリメータシステム及び選択的に波長変換装置に結合されたレーザーダイオードによっても、発光光Ｒ１の形成が可能とされ得る。

後方発光標示機能の場合、光源２は赤色であり得る。前灯用機能の場合、光源２は好適には白色である。

図面にはデジタル・マイクロミラー・デバイス６が示されているが、光源２により発光された光線が、好適な光学部品によって、受光した発光光Ｒ１をピクセルに分解可能であるいずれのタイプの高解像度ピクセル化空間モジュレータ３に向けられ得ることが理解されるであろう。一変形実施形態において、光学面にピクセルを形成するアクティブエリアを有するＬＣＤピクセルマトリックスアレイが使用され得る。具体的には、透過ＬＣＤスクリーンを採用する装置が採用され得る。この場合、必要に応じて偏移／偏向することなく、ＬＣＤ装置の内側の光路が発光光Ｒ１の光路に代わり得る。より一般的には、第１発光光Ｒ１は、非常に微細に分割されて高解像度、典型的には１２８０×７２０ピクセルより多いピクセルを規定するエリアであって、その構造により変調が可能なエリアにおいて、受光され得るということが理解されるであろう。好適には、各ピクセルが、その状態を本質的に公知の態様において変更可能である。

また、発光ユニット２０は、発光光Ｒ１をモジュレータ３に向かって方向付けるのに適したコリメータレンズ４を設けられ得る。このユニット２０は、収束ビームを提供する「結像」光学部品も備え得る。図１に示す例において、コリメータレンズ４又はコリメータレンズのセットが、好適には、光源２の光を受光するように使用され、これによりコリメート光が、デジタル・マイクロミラー・デバイス６の実質的に矩形のアクティブ面で受光される。

非制限的な例として、収束レンズによりコリメート作用の達成が可能とされ得る。この場合、発光ユニット２０とデジタル・マイクロミラー・デバイス６との間で伝搬する発光光Ｒ１の光線が実質的にビーム形状を有することを保証するように、光源２は、有利には、収束レンズの物体焦点の付近に配置される。これに代えて、又はこれに加えて、発光ユニット２０は、反射ミラーを含む。この場合、光源２は、この反射ミラーの物体焦点の付近に配置される。

図１に示す自動車両ヘッドランプ１０は、ハウジング１４に収納され得るか、又はハウジング１４によって境界付けられ得る。図示のようなハウジング１４は、光学モジュール１の少なくとも一部を受容する中空内部空間を形成する本体１４ａを含む。少なくとも部分的に透明であるカバー１４ｂが、内部空間を閉鎖するように本体１４ａに連結される。図示のように、カバー１４ｂは、また、光学モジュール１と、特に投影光学部品１８の全部又は一部とを部分的に受容する中空部を形成する。

カバー１４ｂは、例えば、プラスチック樹脂又は他の適当なプラスチック材料から構成される。照明ヘッドランプ１０は、隣接する光線を発光するのに適した複数の光学モジュール１を含み得る。これらの光線は、好適には部分的に重複する。具体的には、隣接する光線の横方向端部が重なり合い得る。また、他の光線構成において、例えば、光線をデジタル的に変更し、配光可変（ａｄａｐｔｅｌｉｖｅ‐ｄｒｉｖｉｎｇ‐ｂｅａｍ（ＡＤＢ））機能やダイナミック・ベンディング・ライト（ｄｙｎａｍｉｃ‐ｂｅｎｄｉｎｇ‐ｌｉｇｈｔ（ＤＢＬ））機能等を得るように、ある光線の下側縁部を他の光線の上側縁部に重ね合せることも可能である。

ここで、投影光学部品１８は、デジタル・マイクロミラー・デバイス６から反射された後の反射発光光Ｒ２が形成されることを可能とし、これにより、出力光線４０が規定され得る。より一般的には、光学モジュール１に設けられた結像装置は、高解像度ピクセル化空間モジュレータ３と投影光学部品１８とを含む。

図１及び３に示すように、デジタル・マイクロミラー・デバイス６は、例えば矩形である。したがって、デジタル・マイクロミラー・デバイス６は、デジタル・マイクロミラー・デバイス６の横方向端部６ａと６ｂとの間で、第１延在方向において主として延在する。鉛直方向（高さ）に対応し得る第２延在方向において、同様に２つの対向する端縁部６ｃ、６ｄであって、典型的には互いに対して平行である端縁部６ｃ、６ｄが存在する。

図２に示すように、デジタル・マイクロミラー・デバイス６は、選択的に、マイクロミラー１２を保護するための層ＣＰによって被覆されていてもよい。この層は透明である。各マイクロミラー１２の枢動軸により、例えば回転のない名目位置に対してプラス又はマイナス１０°の回転が可能とされ得る。

図１を参照すると、デジタル・マイクロミラー・デバイス６は、本例において、印刷回路基板８に適当なソケット９を介して固着された電子チップ７によって本質的に規定されている。冷却装置、本例においてラジエータ１１が、印刷回路基板８及び／又はデジタル・マイクロミラー・デバイス６のチップ７を冷却するように、印刷回路基板８に固着される。デジタル・マイクロミラー・デバイス６のチップ７を冷却するために、ラジエータ１１は、このチップ７に接触することを目的として印刷回路基板８における開口を貫通する突出レリーフを有してもよい。ソケット９は、この突出レリーフを貫通したままにする。熱グリース、又は当業者に公知の熱交換を促進する他の手段が、突出レリーフとデジタル・マイクロミラー・デバイス６との間に配置され得る。

本例において、制御ユニット１６は、デジタル・マイクロミラー・デバイス６に、又は他のタイプの高解像度ピクセル化空間モジュレータ３に、例えば印刷回路基板８を介して接続される。制御ユニット１６は、本例において、デジタル・マイクロミラー・デバイス６のマイクロミラー１２のそれぞれの位置の変更に関するコマンドを出す。ＬＣＤピクセル・マトリクスアレイの場合、ピクセルの状態も、制御ユニット１６によって同様に制御可能である。このような制御ユニット１６は、ヘッドランプ１０の一部を形成し、且つハウジング１４に一体とされるか、又は別体として光学モジュール１から離間して配置され得る。

制御ユニット１６は、表示コマンドを修正するための機能と投光機能とを合わせ持つ発光システム５の一部を形成するとみなされ得る。

図６Ａは、モジュレータ３に送信された画像Ｆ１と、光学モジュールの投影スクリーンＥ１に修正なく出現する画像Ｆ３との間の従来技術で観察される変形の一例を示す。図６Ｂは、更に、より細いサブゾーン２１とより太いサブゾーン２２とを生成する特に非均一の照明に関するぼやけの問題を示す。

図１に示すように、制御ユニット１６は、モジュレータ３において通常作動されるピクセルのパターン（初期表示コマンド、すなわち図１の上部に呈示される第１表示コマンドＦ１に対応するパターン）を変形させる表示コマンドＦ２を生成することにより、結像光学部品によって作成される歪みを少なくとも部分的に修正するように構成されている。第２表示コマンドＦ２は、通常レンズ又は他の光学要素の曲率における欠陥を原因とする歪みを補償するように、修正パラメータを考慮する。

例えば、例えば数字「１」に出現するような法線方向鉛直ラインは、これが投影スクリーンＥ１に投影されたとき、このような歪みによって左方向に凹んだ態様で湾曲し得る。このようなタイプの歪みを修正するように、この鉛直ラインを形成すべくモジュレータ３において作動された対応するピクセルを、直線ラインにおけるピクセルから、右方向に凹んだ態様で（又は、ドライバーにより知覚される湾曲方向を反転させる他の光学要素が存在する場合には、左方向に凹んだ態様で）湾曲するピクセルに変更する。このような変更は、修正パラメータの形態において、表示コマンドＦ２に組み込まれる。

モジュレータ３のピクセルにプログラミングされた、結像光学部品の歪みの「曲率」又は補償の程度は、修正パラメータを認識及び規定可能とする初期校正フェーズ５０（図４参照）におけるテストパターンＭを使用して獲得され得る。

中心性に関する欠陥（及び潜在的に周辺部の変形）の補償に関して、このタイプの画像歪みの補償の実施には、画像歪みの修正が適用されない場合に必要であろうピクセルよりも多くの個数のピクセルの分散配置が必要とされる。

具体的には、高解像度ピクセル化空間モジュレータ３が、外周により境界付けられた照明ゾーンにおいて光源２により照明されているとき、このモジュレータ３は、ピクセルの平行な列において配設された複数のピクセル３０のセットを規定し得る。複数のピクセル３０のセットは、余剰のピクセルを有し、これにより照明ゾーンの外周を越えて配置された少なくとも１つの第１のピクセル列が見出され得る。したがって、モジュレータ３は、このようなタイプのピクセル列をその周辺に有するように、例えば、数十ミクロン乃至百ミクロンだけ大きい寸法とされる。モジュレータ３の対称中心点から離れて位置するこの第１のピクセル列は、使用されないかもしれない。しかしながら、大きい寸法を有しているため、第１列に対して平行且つ対向する別の離間したピクセル列が、必要であれば、幾何学的欠陥、特に投影に影響を及ぼす中心性に関する欠陥を補償するように使用され得る。したがって、第２表示コマンドＦ２は、第１表示コマンドＦ１から、このような別の離間したピクセル列の全部又は一部の選択的作動において異なり得る。これは、モジュレータ３の照明ゾーンの中心性における欠陥の補償にも適用可能である。制御ユニット１６は、（上流要素４及び２ではない）投影光学部品の中心性における欠陥も補償可能とし得る。この場合、デバイス６全体、すなわち（次いで歪みが修正され得る）予備ピクセルを含むデバイス６全体が照明されることが想定される。

図１を参照すると、制御ユニット１６は、メモリ１６ａと、モジュレータ３によって規定されたピクセルの動作状態を変更するための調整手段１７とを有し得る。デジタル・マイクロミラー・デバイス６の場合、調整手段１７により、マイクロミラー１２のが移動が制御可能とされる。図２に概略的に示すように、第１位置を有するマイクロミラー１２のうちの一部のみが、光源２又は発光ユニット２０からの発光光Ｒ１を実際に偏移／偏向させて、これにより、光エネルギーを投影光学部品１８に向けられる反射発光光Ｒ２に伝送する。他のマイクロミラー１２は、非作動の第２位置（光放射が投影光学部品１８によって集光を妨げられる位置）にあるか、又はモジュレータ３の照明ゾーンの外側に位置する。

ここで、デジタル・マイクロミラー・デバイス６において、マイクロミラー１２のそれぞれは、
‐マイクロミラー１２が、発光光Ｒ１の入射光線を、投影光学部品１８の方向において反射する第１位置と、
‐マイクロミラー１２が、反射によって、発光光Ｒ１の入射光線を投影光学部品１８から離間して、例えば、光吸収面を有する放射吸収装置１９の方向に伝送する第２位置と、
の間で可動である。

図３を参照すると、制御ユニット１６は、デバイス６上のパターン乃至画像２５に対応する表示コマンドを規定し得る。ここでは、十字形状を例とするが、座標（図３に略式的に示す水平座標Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３、Ｈ４等、及び鉛直座標Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３、Ｖ４等）又はベクトルの形態において容易に呈示される環状形状、英数字、又は他の幾何学的要素が例となり得る。制御ユニット１６が考慮する修正パラメータに応じて、調整手段１７によって適用されるルーチンは、幾何学的欠陥の認識において認識され較正された歪みや異常を補償するように、パターン２５の外縁ゾーンにおいて、位置や形状を変更すること、及び／又は輝度を調整することから構成され得る。

モジュレータ３のピクセルの状態を選択的に変更することを目的として、ベクトルの表が、典型的にはこのようなステップにおいて決定される。このようなベクトルの表において、選択的に非作動とすべきマイクロミラー１２、すなわち、初期較正ステップにおいて「余剰の」光反射ゾーンに対応すると決定されたマイクロミラー；及び、これに加えて、初期較正ステップにおいて「不足の」光反射ゾーンの決定に対応して当該表において特定され得る選択的に起動すべきマイクロミラー１２がリストアップされ得る。

デジタル・マイクロミラー・デバイス６を使用する場合に関して、調整手段１７はベクトルの表を考慮し、これにより作動中のピクセルが調整される。典型的には、制御ユニット１６のメモリ１６ａは、投影光学部品１８に特有の幾何学的欠陥により誘発される位置シフトを示すデータを記憶している。このデータはこのようなシフトを修正するように適用される補償を既に組み込み得る、又は、このデータから適用すべき補償を推測すべくプログラムが調整手段に含まれ得る。このような位置シフトデータは、修正パラメータの全部又は一部を形成する。

このデータは、グレースケール・レベルに適用されるべき係数、又は新しいピクセル（移動ピクセル）に提供されるべきグレースケール・レベルを提供する隣り合うピクセルのグレースケール・レベルの値の線形結合の係数を伴い得る。典型的には、各ピクセルに対して個々に移動が計算され、テストパターンＭの数ポイントにおいて見出された値の補間により、係数がグレースケール・レベルに適用されることが想定され得る。

中心性に関する欠陥について、図１は、修正がない場合を示す図６Ａに示すタイプの変形を同時に補償するように、第２表示コマンドＦ２において適用が必要である逆変形を概略的に示す。

図４を参照すると、光学モジュール１により投影された光線における幾何学的欠陥を補正するための方法は、好適には自動車両における光学モジュール１の最初の実際の使用に先立って実施される較正フェーズ５０を備え得る。この非制限的な例において、較正フェーズ５０は、光学モジュール１を起動するステップ６０に続いて開始される。ステップ６０において、第１表示コマンドがモジュレータ３ｂに送信される。ここで、この第１コマンドは、投影光学部品１８の特有の構造における変動も、投影光学部品１８が取り付けられている態様における変動も考慮しないデフォルトコマンドであって、幾何学的欠陥が存在しない場合のみ適切であるデフォルトコマンドに対応する。

較正フェーズ５０は、第１コマンドがモジュレータ３によって受信されるステップ５１から開始される。これに、ピクセルの使用の構成が生成されるステップ５２が続く。図４は、第１表示コマンドが、中心性に関する欠陥に関するシフトを本質的にもたらす例を示す。次いで、欠陥が認識されるステップ５３が開始され得る。このステップは、好適には、投影スクリーンＥ１において観察可能なテストパターンＭを使用する。

ここで、「テストパターン」という用語は、光学部品における従来的な意味において理解されるべきである。ピクセル３０に分解される照明という文脈を考慮すると、テストパターンは、一般的に、異なる配向及び幅を有するライン／パターン要素のセットに対応する。ここで、テストパターンＭは、特に、発光光Ｒ２が投影光学部品１８により投影されたときに観察される明瞭性の限界、変形、及び歪みの作用を検討するのに役立つ。

較正フェーズ５０において、好適には、位置シフト及び他の異常に関する情報の収集及び分析が、例えばセンサや画像処理及び欠陥認識プログラムを使用して、テストパターンＭの注目すべきポイントの予期された位置と実際に観察された位置とを比較することで、自動的になされる。テストパターンＭは、例えば、テストパターンＭの形状パラメータを規定し得る少なくとも１つの連続的又は非連続的輪郭を有する所定の一連のピクセルを作動させることで生成される。

選択的に、欠陥をできる限り完璧に認識するように、デジタル・マイクロミラー・デバイス６の全体に亘って延在するテストパターンＭを生成することが可能である。このようなテストパターンＭにおいて、暗色又は黒色ピクセルと明色ピクセルとの間の遷移は、好適には数多く且つピクセルのゾーン全体に亘って分散しており、これにより、図３に例として示すものより明らかに広く且つ典型的にはより複雑なパターン２５が生成され得る。

欠陥認識ステップ５３において、シフトに関する情報が収集され、投影スクリーンＥ１に投影されたテストパターンＭに影響を及ぼす位置及び形状における相違に関する一連のシフト情報のセットが生成される。次に、修正パラメータが、ステップ５４において獲得され得る。ステップ５４において、モジュレータ３から伝送された光線を変更させ得るように適用すべき修正パラメータが、一連のシフト情報のセットに応じて計算される。

次いで、メモリ１６ａが、これらの修正パラメータを示す情報を記憶するように使用され得る。光学モジュール１のその後の要請に対して、これらの修正パラメータは、システマチックに考慮され、これによりモジュレータ３の特定のピクセルの作動と非作動とが変更される。

典型的には、ステップ５３及び５４において、投影されたテストパターンＭの単数又は複数の形状パラメータが、テストパターンの単数又は複数の所定の形状パラメータと比較され得る。比較の結果により、修正パラメータの少なくとも一部が規定され得る。画像の輪郭の変形、例えば、曲率、配向、又は太さ（ぼやけ）の局所的な変更も補償され得る。したがって、投影されたテストパターンＭにおけるぼやけを示すパラメータを推定することが想定され得る。例えば、推定されたパラメータが明瞭性の閾値を越えているか否かに応じて、対応する補償が補正パラメータに組み込まれ得る。このタイプの補償は、ゾーン毎に適用され得る。特定のゾーンにおけるぼやけの作用を限定するために「作動中の」ピクセルの個数を減少させる場合、使用ピクセルの個数の減少に伴うフラックス減少を補償するように、当該ゾーンにおける「作動／非作動」ピクセル率が再計算され得る。特定のラインの太さを修正することが可能であり、これは、例えば、ライン描画又はテキストに有利である。

必要に応じて、投影画像Ｆ３の特に投影光学部品１８により伝送された光線の外縁付近における輝度の減少を補償するように、修正パラメータは、モジュレータ３のピクセル３０の作動の持続時間又は頻度をも変更し得る。

これらのステップの後、較正フェーズ５０は終了し得る。或いは、選択的に、修正パラメータの妥当性が、ステップ５２及び５３を繰り返すことによりテストされ得る。これにより、選択的に、修正パラメータは精緻化され得る。更に、特に光学モジュール１が、所望の出力光線４０の形状、分割、又は均一性に影響を及ぼす複数の動作モードを有する場合、較正フェーズは複数のサブフェーズに分割され得る。

次に、光学モジュール１は、車両、特に制御ユニット１６を有する自動車両において利用され得る。制御ユニット１６は、モジュレータ３を制御して、第１表示コマンドを、較正フェーズ５０において決定された修正パラメータを考慮する第２表示コマンドにシステマチックに変換する。

したがって、図４の非制限的な例において、以下のステップ６０、６１が存在し得る。これらのステップにおいて、光学モジュール１が起動され、モジュレータ３が第１コマンド（すなわち、幾何学的欠陥を考慮しないコマンド）を受信する。ステップ５５において、制御ユニット１６が、メモリ１６ａに修正パラメータを示す情報を収集する。これにより、モジュレータ３は、第２表示コマンド機能が実行されるステップ５６において、調整された態様で制御され得る。

ピクセルの使用の構成が生成されるステップ６２であって、機能的にステップ５２に類似するステップ６２において、較正フェーズ５０において具体的に認識された幾何学的欠陥を補償するように個別化されたモジュレータ３が使用される。

図５Ａ及び６Ａを参照すると、水平境界部又は中断部３５の投影に影響を及ぼし得る目に見える歪みの作用が示されている。投影画像Ｆ３は、例えば投影スクリーンＥ１の隅部において（図６Ａに示す縁部におけるシフト）輝度欠陥を含み得る。光学モジュール１がこのような幾何学的欠陥を、例えば本例においてセグメント化された光線に対して有する場合、本方法において、ピクセル３０の使用が再編成されて、発光光Ｒ２を形成する作動ピクセルと非作動ピクセルとの間の境界が配置し直されるように実施され得る。ここで、この非制限的な例において、ピクセル３０の個数は、１°未満、好適には約０．１°以下の解像度に対応可能であるように十分に多い。また、モジュレータ３の上側ゾーンは、修正効果の適用に必要とされる周辺部（マージン）を設けるように、初期に特定されたピクセル要件に対して余剰のピクセル３０を備え得る。

図６Ａの右側に示す歪みの作用を補償するように、図４に示すプロセス、又は類似のプロセスが適用されて修正パラメータが考慮される。実際に、ここでは、デジタル・マイクロミラー・デバイス６の隅部ゾーンについて、図５Ａに示す高さレベルＡ０における水平方向境界を規定するように設けられたオン状態のピクセルの分散配置が変更される。第１表示コマンドを第２表示コマンドに変換する効果によって、同一の隅部ゾーンについて、ピクセル３０の全く異なる分散配置が得られる。この分散配置を、図５Ｂに示す。ここで、高さレベルＡ０における分離状態が段状の輪郭に代わり、作動中のピクセル３０の高さレベルが最高高さレベルＡ１まで徐々に増加する。付加された列セクションＬＰ１、ＬＰ２及びＬＰ３により、隅部ゾーンにおける局所的な輝度欠陥が補償され得る。図５Ｂを参照すると、付加された周辺ゾーンＺ１は、較正フェーズ５０において得られた修正パラメータの規定に起因する。周辺ゾーンＺ１に関する本例は、図６Ａに示す例の左上側の隅部において与えられる。

当然ながら、デジタル・マイクロミラー・デバイス６の他のゾーンが、過剰な輝度を回避するようにピクセル３０を減じることで処理され得る。具体的には、光学モジュール１に対応する制御ユニット１６が、ピクセル３０を、例えば、列を形成するピクセル又はピクセルの列のセクションＬＰ１、ＬＰ２、ＬＰ３、或いはピクセルの行又は行のセクションを、除去及び付加し得る。

特に、光学モジュール１の自動車両における光学モジュール１の各使用において、修正パラメータが実施され考慮された後、スクリーンＥ１に投影された画像Ｆ３は、第１表示コマンドＦ１の所望の画像により良好に合致する。光学モジュール１が照明を目的として使用される特定の場合（具体的にはハイビーム又はロービームの場合）、いくつかのピクセル３０がニュートラルにされる又は減衰されることで、変形又は歪みの作用を受けて道路使用者が眩しさを感じることがない、又は法定制限内の眩しさしか生じさせないことが保証され得る。

メモリ１６ａは、選択的に、マイクロミラー１２のデフォルト構成状態を記憶可能であり、この状態は修正パラメータを考慮するように変更され得る。このような変化は、表示コマンドの変更に対応する。当然ながら、作動している及び非作動とされているピクセルの分散を表示コマンドを変更することによって調整する態様は、多くの変形例に従って実施され得る。

幾何学的欠陥を修正／補正するための方法は、中心性に関する欠陥と歪みに起因する単数又は複数の変形の両方、及び必要に応じて特定のより局所的な異常を修正するように利用され得る。

光学モジュール１の利点のうちの１つにより、均一であり得る光線が投影可能となり、これにより、当該光学モジュール１の投影光学部品１８は完璧に組み付けられたように知覚されるが、実際に煩雑な又は過度に高価な製造及び組付モードに頼る必要はない。

本発明は、本発明の適用が及ぶ分野から逸脱しない多くの他の特定の形態を取る実施形態を可能とすることが当業者には明らかであろう。

したがって、光学モジュール１を、投影スクリーンＥ１が透明カバー１４ｂの外側レンズを形成する透明壁に対して内側に規定される例について説明したが、透明カバー１４ｂの一部、又は外側ハウジング１４の一部を形成する他の要素が投影スクリーンを規定し得ることが理解されるであろう。投影光学部品１８は、別箇のスクリーン上ではなく、例えば、外側レンズの外側に形成されるフィルム上で焦点合わせされ得る。

更に、要請に応じて追加的な機能が実施され得る。例えば、広角結像光学部品（非制限的な例として０．５又は０．６又は０．７の開口数）の文脈において、出力光線４０内に目印又はマークが付加され得ることが理解されるであろう。具体的には、高解像度ピクセル化空間モジュレータ３の使用と異常の修正により、記号（文字、数字又は類似物）が十分な解像度を有して形成可能であり、これにより、例えば機能の作動や車両の動作状況を示すメッセージやピクトグラムが、外部にいる人の注意を喚起するように表示され得る。

Claims (12)

1. 自動車両の光学モジュール（１）により投影される光線における幾何学的欠陥を補正するための方法であって、
   前記光学モジュール（１）は、
   ‐高解像度ピクセル化空間モジュレータ（３）と投影光学部品（１８）とを有する結像装置と、
   ‐前記モジュレータ（３）に向けた光を生成するための光源（２）と、
   を含み、
   前記方法は、
   ‐投影すべき画像を表示するための第１コマンド（Ｆ１）であって、前記モジュレータ（３）に向けた第１コマンド（Ｆ１）を受信することと、
   ‐前記第１表示コマンド（Ｆ１）を修正パラメータを考慮する第２表示コマンド（Ｆ２）に変換することと、
   から本質的になるステップを備え、
   前記修正パラメータは、前記投影光学部品（１８）に特有の幾何学的欠陥の認識に基づいて予め規定され、これにより、前記結像装置を使用して実際に投影される画像（Ｆ３）が、前記修正パラメータが考慮されない場合に比較して、投影すべき画像により良好に合致するように、前記モジュレータ（３）が制御される、方法。
2. 前記第２表示コマンド（Ｆ２）は、特に、前記第１表示コマンド（Ｆ１）から、ピクセル（３０）の列（ＬＰ３）の全部又は一部の選択的作動において異なり、前記列は、周辺ゾーンにおいて前記モジュレータ（３）によって規定される、
   請求項１に記載の方法。
3. ‐前記投影光学部品（１８）により伝送される光線の輪郭の横方向シフト、及び
   ‐前記投影光学部品（１８）により伝送される光線の輪郭の変形、
   のうちの少なくとも一方の欠陥を補償するように、前記修正パラメータは、前記モジュレータ（３）によって規定された前記ピクセル（３０）の作動ステータスを変更することに適する、
   請求項１又は２に記載の方法。
4. 前記投影光学部品（１８）により伝送される光線の特に外縁付近において、前記投影画像（Ｆ３）の明瞭性の損失を補償するように、前記修正パラメータは、前記モジュレータ（３）の前記ピクセル（３０）の作動の持続時間又は頻度を変更することに適する、
   請求項１乃至３のいずれか一項に記載の方法。
5. 前記修正パラメータ及び／又は前記第２表示コマンド（Ｆ２）は、制御ユニット（１６）がアクセス可能なメモリ（１６ａ）に記憶され、前記制御ユニット（１６）は、前記第２表示コマンド（Ｆ２）を作動させることに適する、
   請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法。
6. 請求項１乃至５のいずれか一項に記載の方法の実施を可能とする自動車両用発光システム（５）であって、
   前記システム（５）は、
   ‐光学モジュール（１）であって、
   ‐高解像度ピクセル化空間モジュレータ（３）と投影光学部品（１８）とを有する結像装置と、
   ‐前記モジュレータ（３）に向けた光を生成するための光源（２）と、
   を備える光学モジュール（１）と、
   ‐前記モジュレータ（３）を制御するように設計及び配設されるとともに、複数の第１表示コマンド（Ｆ１）であってそれぞれが投影すべき画像を示す第１表示コマンドを受信することに適する制御ユニット（１６）と、
   を含み、
   前記制御ユニット（１６）は、各第１表示コマンド（Ｆ１）を、修正パラメータを考慮する第２表示コマンド（Ｆ２）に変換する調整手段（１７）を備え、
   前記修正パラメータは、各投影光学部品（１８）に特有の幾何学的欠陥の認識に基づいて予め規定され、前記制御ユニット（１６）は、前記結像装置を使用して実際に投影される画像（Ｆ３）が、前記修正パラメータが考慮されない場合に比較して、投影すべき画像により良好に合致するように、第２表示コマンド（Ｆ２）に応じて前記モジュレータ（３）を制御する、システム。
7. 前記高解像度ピクセル化空間モジュレータ（３）は、デジタル・マイクロミラー・デバイス（６）を備え、前記デジタル・マイクロミラー・デバイス（６）の前記マイクロミラー（１２）は、それぞれが、
   ‐前記マイクロミラー（１２）が、前記光源（２）からの、又は前記光源（２）を含む発光ユニット（２０）からの光線（Ｒ１）を、前記投影光学部品（１８）の方向において反射するように配設される第１位置と、
   ‐前記マイクロミラー（１２）が、前記光源（２）からの、又は前記光源（２）を含む発光ユニット（２０）からの光線（Ｒ１）を、前記投影光学部品（１８）から離間して反射するように配設される第２位置と、
   の間で可動である、
   請求項６に記載のシステム。
8. 前記制御ユニット（１６）は、前記修正パラメータ及び／又は前記第２表示コマンド（Ｆ２）を示す情報を記憶するメモリ（１６ａ）へのアクセスを有する、
   請求項７に記載のシステム。
9. 前記結像装置は、少なくとも１つの分断部を有するセグメント化された出力光線（４０）を投影することに適する、
   請求項７又は８に記載のシステム。
10. ２つの光学モジュール（１）を備え、
    各光学モジュール（１）は、
    ‐高解像度ピクセル化空間モジュレータ（３）と投影光学部品（１８）とを有する結像装置と、
    ‐前記モジュレータ（３）に向けた光を生成するための光源（２）と、
    を含み、
    前記投影光学部品（１８）のうちの一方によって伝送される各光線は、少なくとも１つの投影スクリーン（Ｅ１）において受光され、
    前記制御ユニット（１６）は、前記２つの光学モジュール（１）のそれぞれの前記モジュレータ（３）を制御することに適するとともに、前記２つの光学モジュール（１）のうちの第１のものに対応する修正パラメータの第１のセットと、前記２つの光学モジュールのうちの第２のものに対応する修正パラメータの第２のセットとを考慮することに適しており、
    前記修正パラメータの第１のセットは、前記第１光学モジュールにおける投影光学部品（１８）に特有の幾何学的欠陥の認識に基づいて予め規定される一方、前記修正パラメータの第２のセットは、前記第２光学モジュールにおける投影光学部品（１８）に特有の幾何学的欠陥の認識に基づいて予め規定される、
    請求項７乃至９のいずれか一項に記載のシステム。
11. 少なくとも１つの光線を投影するための自動車両の照明及び／又はシグナリングランプであって、
    ‐ハウジングと、
    ‐閉鎖外側レンズと、
    ‐請求項６乃至１０のいずれか一項に記載の発光システムと、
    を備えるランプ。
12. ‐２つのランプと、
    ‐２つのヘッドランプと、又は
    ‐ランプ及びヘッドランプと、
    により形成される第１部品と第２部品とを有する発光アセンブリであって、
    前記発光アセンブリは、請求項１０に記載のシステムを備え、
    前記２つの光学モジュール（１）は、一方が前記第１部品に、他方が前記第２部品に分散配置される、
    発光アセンブリ。