JP2019038977A - ワニス組成物、オフセット印刷インキ及び印刷物 - Google Patents

Abstract

【課題】ワニス組成物、オフセット印刷インキ及び印刷物を提供すること。【解決手段】本開示は、チオール系連鎖移動剤存在下、（メタ）アクリル酸エステル及び必要に応じて、スチレン等を含むモノマー群の反応物である、樹脂、及び反応性希釈剤を含む、ワニス組成物、オフセット印刷インキ並びに印刷物を提供する。１つの実施形態において、反応性希釈剤は、（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート、（ポリ）トリメチロールプロパンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート、（ポリ）グリセリンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート又はアルキレンジ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレートである。【選択図】なし

Description

本開示は、ワニス組成物、オフセット印刷インキ及び印刷物に関する。

紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する樹脂組成物（以下、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物ともいう。）は、通常、反応性希釈剤、樹脂、光重合開始剤及び添加剤から構成されており、省エネルギー型の工業材料としてコーティング剤や塗料、印刷インキ等様々な分野で利用されている。

特に活性エネルギー線硬化型印刷インキにおいては、反応性希釈剤として、硬化性や皮膜硬度等が優れていることから、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートやジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等の多官能アクリレートが汎用されている。

一方、印刷適性を出すことを目的として、ジアリルフタレート樹脂やスチレンアクリル樹脂、ポリエステル樹脂等が広く用いられている。

特許第５６８３７５７号公報

従来のスチレンアクリル樹脂やポリエステル樹脂ではインキ流動性と耐ミスチング性はトレードオフの関係にあり、これらの性能を両立した樹脂が得られていないのが現状である。一方、アリルフタレート樹脂は、ジアリルフタレートモノマーを重合させたものであり、ヒドロキシル基やカルボキシル基等の極性官能基を有しないため、利用態様が限られる。また、樹脂中に残存する未反応のジアリルフタレートモノマーが変異原性の高懸念物質である（上記特許文献１の段落［０００９］を参照。）ことから、ジアリルフタレート樹脂に代替し得る樹脂が求められている。

本発明が解決しようとする課題は、優れたインキ流動性と耐ミスチング性を有し、極性官能基の導入が可能な印刷インキの原料であるワニス組成物、優れたインキ流動性と耐ミスチング性を有するオフセット印刷インキ及び上記インキを用いた印刷物を提供することである。

本発明者らは、鋭意検討した結果、チオール系連鎖移動剤を用いて製造した樹脂及び複数の（メタ）アクリロイル基を有する反応性希釈剤を含むワニス組成物を用いることにより上記課題を解決できることを見出した。

本開示により以下の項目が提供される。
（項目１）
構成単位１
（式中、Ｒ^１は水素又はメチル基であり、Ｒ^ａは、水素又はアルキル基である）
及び構成単位２
（式中、Ｒ^ｂはアルキレン基である）
を含む、樹脂（１）、並びに
反応性希釈剤（２）を含む、ワニス組成物。
（項目２）
前記樹脂（１）が構成単位３
（式中、Ｒ^１は水素又はメチル基であり、Ｒ^ｃ１〜Ｒ^ｃ５はそれぞれ独立に、水素、アルキル基及びアリール基からなる群から選択される基である。）
を含む、上記項目に記載のワニス組成物。
（項目３）
前記樹脂（１）が構成単位４
（式中、Ｒ^１は水素又はメチル基であり、Ｒ^ｄはＣＯＮＲ^ｄ１Ｒ^ｄ２、ＣＯＯ（ＣＨ_２）_２ＮＲ^ｄ１Ｒ^ｄ２及び
からなる群から選択される基であり、
式中、Ｒ^ｄ１及びＲ^ｄ２は、アルキル基若しくは水素であるか、又はＲ^ｄ１及びＲ^ｄ２が一緒になって環構造を形成する基であり、ｋは１以上の整数であり、Ｒ^ｄ３は、水素、メチル基又は水酸基であり、Ｒ^ｄ４は、ＯＨ、ＣＨ_２ＯＨ、ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、ＣＨ_２ＯＣＨ_３又はＣＨ_２ＯＰｈであるが、Ｒ^ｄ３又はＲ^ｄ４のどちらかが水酸基である。）
を含む、上記項目のいずれか１項に記載のワニス組成物。
（項目４）
前記樹脂（１）が構成単位５
（式中、Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｅ２、及びＲ^ｅ３は、それぞれ独立に、ニトリル基、アルキル基、極性基置換アルキル基、アルケニル基、又は極性基である。）
をポリマー鎖末端に含む、上記項目のいずれか１項に記載のワニス組成物。
（項目５）
前記樹脂（１）が構成単位６
（式中、Ｒ^ｆは、アシル基、アルキル基、又はアリール基である。）
をポリマー鎖末端に含む、上記項目のいずれか１項に記載のワニス組成物。
（項目６）
前記反応性希釈剤（２）が
（式中、ｎは０〜２の整数であり、ｍは０〜２の整数であり、ｐは０から7の整数であり、Ｒ^ｂ１〜Ｒ^ｂ１４は、それぞれ独立に水素原子、
であり、
Ｒ^ｂ１５〜Ｒ^ｂ１６は、それぞれ独立に
であり、Ｒ^ｂ１６はそれぞれ独立に、アルキレン基であり、
構造式（Ａ）〜（Ｃ）中、Ｒ^ｂ１〜Ｒ^ｂ１４から選択される２個以上の基が
であり、
ｑはそれぞれ独立に０〜１６の整数であり、Ｒ^１はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基である。なお、Ｒ^ｂ４、Ｒ^ｂ５、Ｒ^ｂ９、及びＲ^ｂ１３は各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。）
である、上記項目のいずれか１項に記載のワニス組成物。
（項目７）
オフセットインキ用に用いられる、上記項目のいずれか１項に記載のワニス組成物。
（項目８）
上記項目のいずれか１項に記載のワニス組成物及び顔料を含む、オフセット印刷インキ。
（項目９）
上記項目に記載のオフセット印刷インキの硬化層を有する、印刷物。

本開示において、上述した１又は複数の特徴は、明示された組み合わせに加え、さらに組み合わせて提供され得る。当業者は、必要に応じて以下の詳細な説明を読んで理解することにより、上記以外のさらなる実施形態及び利点を認識することができる。

本発明に係るワニス組成物を用いれば、インキ諸性能（密着性、塗膜硬度、乳化性、画像再現性、光沢性、耐ブロッキング性、塗膜の平滑性等）を有しつつ、優れたインキ流動性と耐ミスチング性を有するオフセット印刷インキを得ることができる。上記インキを用いることによりオフセット印刷時の生産性向上をさせることが可能になる。

（１．樹脂（１））
本開示は、構成単位１
（式中、Ｒ^１は水素又はメチル基であり、Ｒ^ａは、水素又はアルキル基である）
及び構成単位２
（式中、Ｒ^ｂはアルキレン基である）
を含む樹脂を提供する。本開示において「樹脂」は、ポリマーと同義の意味を有する。

（構成単位１）
構成単位１は、モノマーとして、（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリル酸アルキルエステルを用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。

本開示において「（メタ）アクリル」は「アクリル及びメタクリルからなる群より選択される少なくとも１つ」を意味する。同様に「（メタ）アクリレート」は「アクリレート及びメタクリレートからなる群より選択される少なくとも１つ」を意味する。また「（メタ）アクリロイル」は「アクリロイル及びメタクリロイルからなる群より選択される少なくとも１つ」を意味する。

（メタ）アクリル酸アルキルエステルの例は、（メタ）アクリル酸直鎖アルキルエステル、（メタ）アクリル酸分岐アルキルエステル等が挙げられる。（メタ）アクリル酸アルキルエステルは２種以上を併用できる。

（メタ）アクリル酸直鎖アルキルエステルの例は、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸へキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル等が挙げられる。

（メタ）アクリル酸分岐アルキルエステルの例は、（メタ）アクリル酸ｉｓｏ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉｓｏ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉｓｏ−オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等が挙げられる。

全構成単位に占める構成単位１の割合の上限の例は、全構成単位１００質量％に対して９９、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２１、２０、１５、１０質量％等が挙げられ、下限の例は、９８、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２１、２０、１５、１０、５質量％等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位１の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、モノマー溶解性や顔料分散性の観点から構成単位１は全構成単位１００質量％に対して５〜９９質量％が好ましい。

なお、本開示において、「全構成単位１００質量％」とは樹脂の質量と同義である。

全構成単位に占める構成単位１の割合の上限の例は、全構成単位１００モル％に対して９９、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２１、２０、１５、１０モル％等が挙げられ、下限の例は、９８、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２１、２０、１５、１０、５モル％等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位１の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、モノマー溶解性や顔料分散性の観点から構成単位１は全構成単位１００モル％に対して５〜９９モル％が好ましい。

（構成単位２）
構成単位２は、チオール系連鎖移動剤に由来する構成単位である。チオール系連鎖移動剤は２種以上を併用できる。

構成単位２の例は、構成単位２Ａ
（式中、Ｒ^ｂ１〜Ｒ^ｂ２は、それぞれ独立にアルキレン基であり、Ｒ^Ｂ１はアルキレン基又は
（式中、ｂは０以上の整数であり、Ｒ^ｂ’はアルキレン基である）
である。）
構成単位２Ｂ
（式中、Ｒ^ｂ３〜Ｒ^ｂ５は、それぞれ独立にアルキレン基であり、Ｒ^Ｂ２は３価の炭化水素基又は
（式中、Ｒ^ｂａ〜Ｒ^ｂｃは、それぞれ独立にアルキレン基である）
である。）
構成単位２Ｃ
（式中、Ｒ^ｂ６〜Ｒ^ｂ９は、それぞれ独立にアルキレン基であり、Ｒ^Ｂ３は４価の炭化水素基である。）
構成単位２Ｄ
（式中、Ｒ^ｂ１０〜Ｒ^ｂ１５は、それぞれ独立にアルキレン基であり、Ｒ^Ｂ４は６価の炭化水素基又は
である。）
で示されるもの等が挙げられる。

構成単位２Ａは、テトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、テトラプロピレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ポリエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ポリプロピレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）等に由来する構成単位である。

構成単位２Ｂは、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリス−［（３−メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］−イソシアヌレート等に由来する構成単位である。

構成単位２Ｃは、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）等に由来する構成単位である。

構成単位２Ｄは、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）等に由来する構成単位である。

全構成単位に占める構成単位２の割合の上限の例は、全構成単位１００質量％に対して５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２質量％等が挙げられ、下限の例は、４９、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２、１質量％等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位２の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、構成単位２は全構成単位１００質量％に対して１〜５０質量％が好ましい。

全構成単位に占める構成単位２の割合の上限の例は、全構成単位１００モル％に対して５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２モル％等が挙げられ、下限の例は、４９、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２、１モル％等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位２の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、構成単位２は全構成単位１００モル％に対して１〜５０モル％が好ましい。

（構成単位３）
１つの実施形態において、前記構成単位群に構成単位３
（式中、Ｒ^１は水素又はメチル基であり、Ｒ^ｃ１〜Ｒ^ｃ５はそれぞれ独立に、水素、アルキル基及びアリール基からなる群から選択される基である。）
を含む。

構成単位３は、モノマーとして、スチレン系化合物を用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。スチレン系化合物の例は、スチレン、α−メチルスチレン等の他、芳香環に少なくとも１つの炭素数１〜２のアルキル基を有するスチレン等が挙げられる。スチレン系化合物は２種以上を併用できる。

構成単位３を含む場合、全構成単位に占める構成単位３の割合の上限の例は、全構成単位１００質量％に対して７９、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２質量％等が挙げられ、下限の例は、７８、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２、１質量％等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位３の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、構成単位３は全構成単位１００質量％に対して１〜７９質量％が好ましい。

構成単位３を含む場合、全構成単位に占める構成単位３の割合の上限の例は、全構成単位１００モル％に対して７９、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２モル％等が挙げられ、下限の例は、７８、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２、１モル％等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位３の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、構成単位３は全構成単位１００モル％に対して１〜７９モル％が好ましい。

（構成単位４）
１つの実施形態において、前記構成単位群に構成単位４
（式中、Ｒ^１は水素又はメチル基であり、Ｒ^ｄはＣＯＮＲ^ｄ１Ｒ^ｄ２、ＣＯＯ（ＣＨ_２）_２ＮＲ^ｄ１Ｒ^ｄ２及び
からなる群から選択される基であり、
式中、Ｒ^ｄ１及びＲ^ｄ２は、アルキル基若しくは水素であるか、又はＲ^ｄ１及びＲ^ｄ２が一緒になって環構造を形成する基であり、ｋは１以上の整数であり、Ｒ^ｄ３は、水素、メチル基又は水酸基であり、Ｒ^ｄ４は、ＯＨ、ＣＨ_２ＯＨ、ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、ＣＨ_２ＯＣＨ_３又はＣＨ_２ＯＰｈであるが、Ｒ^ｄ３又はＲ^ｄ４のどちらかが水酸基である。）
を含む。

構成単位４は、例えばモノマーとして、Ｎ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリル酸アルキルアミン、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル等を用いた場合にポリマー鎖に含まれる構成単位である。

Ｎ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリルアミドの例は、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン等が挙げられる。

Ｎ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリル酸アルキルアミンの例は、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。窒素上のアルキル基の炭素数（すなわち、構成単位４中のＲ^ｂ１及びＲ^ｂ２それぞれの炭素数）は１〜２が好ましい。

（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルの例として
等が挙げられる。

構成単位４を含む場合、全構成単位に占める構成単位４の割合の上限の例は、全構成単位１００質量％に対して５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２質量％等が挙げられ、下限の例は、４９、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２、１質量％等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位４の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、構成単位４は全構成単位１００質量％に対して１〜５０質量％が好ましい。

構成単位４を含む場合、全構成単位に占める構成単位４の割合の上限の例は、全構成単位１００モル％に対して５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２モル％等が挙げられ、下限の例は、４９、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２、１モル％等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位４の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、構成単位４は全構成単位１００モル％に対して１〜５０モル％が好ましい。

（構成単位５）
１つの実施形態において、上記樹脂は、構成単位５
（式中、Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｅ２、及びＲ^ｅ３は、それぞれ独立に、ニトリル基、アルキル基、極性基置換アルキル基、極性基である。）
をポリマー鎖に含む。

構成単位５は、例えば、下記の構造を有する
（式中、Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｅ２、及びＲ^ｅ３は、それぞれ独立に、ニトリル基、アルキル基、極性基置換アルキル基、アルケニル基、又は極性基である。）アゾ開始剤に由来する構成単位である。アゾ開始剤は２種以上を併用できる。

「極性基」の例は、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、スルホニル基、リン酸基、ニトロ基、及びアミド基等が挙げられる。

アゾ開始剤の例は、アゾニトリル系開始剤、アゾアミジン系開始剤、アゾアミド系開始剤が挙げられる。

アゾニトリル系開始剤の例は、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等が挙げられる。

アゾアミジン系開始剤の例は、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］二塩酸塩、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］二硫酸塩二水和物、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）二塩酸塩、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−カルボキシエチル）−２−メチルプロピオンアミジン］ｎ水和物等が挙げられる。

アゾアミド系開始剤の例は、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）等が挙げられる。

その他のアゾ開始剤の例は、ジメチル２，２’−アゾビス（イソブチレート）、４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）等が挙げられる。

構成単位５を含む場合、全構成単位に占める構成単位５の割合の上限の例は、全構成単位１００質量％に対して２０、１５、１０、５、４、３、２、１質量％等が挙げられ、下限の例は、１９、１５、１０、５、４、３、２、１、０．５質量％等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位５の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、構成単位５は全構成単位１００質量％に対して０．５〜２０質量％が好ましい。

構成単位５を含む場合、全構成単位に占める構成単位５の割合の上限の例は、全構成単位１００モル％に対して２０、１５、１０、５、４、３、２、１モル％等が挙げられ、下限の例は、１９、１５、１０、５、４、３、２、１、０．５モル％等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位５の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、構成単位５は全構成単位１００モル％に対して０．５〜２０モル％が好ましい。

（構成単位６）
１つの実施形態において、上記樹脂は、構成単位６
（式中、Ｒ^ｆは、アシル基、アルキル基、又はアリール基である。）
をポリマー鎖末端に含む。

構成単位６は、例えば、下記の構造を有する
Ｒ^ｆ−Ｏ−Ｏ−Ｒ^ｆ
（式中、Ｒ^ｆは、アシル基、アルキル基、又はアリール基である。）過酸化物系開始剤に由来する構成単位である。過酸化物系開始剤は２種以上を併用できる。

過酸化物系開始剤の例は、（２−エチルヘキサノイル）（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシド、過酸化ベンゾイル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ジメチルジオキシラン、過酸化アセトン、メチルエチルケトンペルオキシド、ヘキサメチレントリペルオキシドジアミン、クメンヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ヘキシルペルオキシ−２−エチルヘキサノエイト等が挙げられる。

構成単位６を含む場合、全構成単位に占める構成単位６の割合の上限の例は、全構成単位１００質量％に対して２０、１５、１０、５、４、３、２、１質量％等が挙げられ、下限の例は、１９、１５、１０、５、４、３、２、１、０．５質量％等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位６の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、構成単位６は全構成単位１００質量％に対して０．５〜２０質量％が好ましい。

構成単位６を含む場合、全構成単位に占める構成単位６の割合の上限の例は、全構成単位１００モル％に対して２０、１５、１０、５、４、２、１モル％等が挙げられ、下限の例は、１９、１５、１０、５、４、３、２、１、０．５モル％等が挙げられる。全構成単位に占める構成単位６の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、構成単位６は全構成単位１００モル％に対して０．５〜２０モル％が好ましい。

（その他の構成単位）
１つの実施形態において、上記樹脂には、構成単位１〜６以外の構成単位（以下その他の構成単位ともいう）も含まれ得る。その他の構成単位の例は、構成単位１でも４でもない（メタ）アクリル酸誘導体に由来する構成単位等が挙げられる。構成単位１でも４でもない（メタ）アクリル酸誘導体に由来する構成単位の例は、後述の（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート、（ポリ）トリメチロールプロパンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート、（ポリ）グリセリンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート、アルキレンジ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレートに由来する構成単位等が挙げられる。１つの実施形態において、上記樹脂は、架橋性基（エチレン性不飽和結合基、アミノ基（例えば第１級アミノ基（−ＮＨ_２））、エポキシ基、チオール基（−ＳＨ）、ハロゲン基）を有さない樹脂である。

その他の構成単位を含む場合、全構成単位に占めるその他の構成単位の割合の上限の例は、全構成単位１００質量％に対して３０、２５、２０、１５、１０、５、２質量％等が挙げられ、下限の例は、２９、２５、２０、１５、１０、５、２、１質量％等が挙げられる。全構成単位に占めるその他の構成単位の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、その他の構成単位は全構成単位１００質量％に対して１〜３０質量％が好ましいが、１質量％未満、０．１質量％未満、０．０１質量％未満、０．００１質量％未満、０．０００１質量％未満であってもよい。

その他の構成単位を含む場合、全構成単位に占めるその他の構成単位の割合の上限の例は、全構成単位１００モル％に対して３０、２５、２０、１５、１０、５、２モル％等が挙げられ、下限の例は、２９、２５、２０、１５、１０、５、２、１モル％等が挙げられる。全構成単位に占めるその他の構成単位の割合の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、その他の構成単位は全構成単位１００モル％に対して１〜３０モル％が好ましいが、１モル％未満、０．１モル％未満、０．０１モル％未満、０．００１モル％未満、０．０００１モル％未満であってもよい。

（構成単位間の相対比）
構成単位１と構成単位２との質量比（構成単位１の質量／構成単位２の質量）の上限の例は、９９．０、９５．０、９０．０、８５．０、８０．０、７５．０、７０．０、６５．０、６０．０、５５．０、５０．０、４５．０、４０．０、３５．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５、０．３、０．２等が挙げられ、下限の例は、９８．０、９５．０、９０．０、８５．０、８０．０、７５．０、７０．０、６５．０、６０．０、５５．０、５０．０、４５．０、４０．０、３５．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５、０．３、０．２、０．１等が挙げられる。構成単位１と構成単位２との質量比（構成単位１の質量／構成単位２の質量）の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位１と構成単位２との質量比は０．１〜９９．０が好ましい。

構成単位１と構成単位２とのモル比（構成単位１の物質量／構成単位２の物質量）の上限の例は、９９．０、９５．０、９０．０、８５．０、８０．０、７５．０、７０．０、６５．０、６０．０、５５．０、５０．０、４５．０、４０．０、３５．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５、０．３、０．２等が挙げられ、下限の例は、９８．０、９５．０、９０．０、８５．０、８０．０、７５．０、７０．０、６５．０、６０．０、５５．０、５０．０、４５．０、４０．０、３５．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１等が挙げられる。構成単位１と構成単位２とのモル比（構成単位１の物質量／構成単位２の物質量）の範囲は、適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位１と構成単位２とのモル比は０．１〜９９．０が好ましい。

構成単位１と構成単位３との質量比（構成単位１の質量／構成単位３の質量）の上限の例は、９９．０、９５．０、９０．０、８５．０、８０．０、７５．０、７０．０、６５．０、６０．０、５５．０、５０．０、４５．０、４０．０、３５．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５、０．２５、０．１０、０．０８、０．０７等が挙げられ、下限の例は、９８．０、９５．０、９０．０、８５．０、８０．０、７５．０、７０．０、６５．０、６０．０、５５．０、５０．０、４５．０、４０．０、３５．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５、０．２５、０．１０、０．０８、０．０７、０．０６等が挙げられる。構成単位１と構成単位３との質量比（構成単位１の質量／構成単位３の質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、極性調整の観点から、構成単位１と構成単位３との質量比は０．０６〜９９．０が好ましい。

構成単位１と構成単位３とのモル比（構成単位１の物質量／構成単位３の物質量）の上限の例は、９９．０、９５．０、９０．０、８５．０、８０．０、７５．０、７０．０、６５．０、６０．０、５５．０、５０．０、４５．０、４０．０、３５．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５、０．２５、０．１０、０．０８、０．０７等が挙げられ、下限の例は、９８．０、９５．０、９０．０、８５．０、８０．０、７５．０、７０．０、６５．０、６０．０、５５．０、５０．０、４５．０、４０．０、３５．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５、０．２５、０．１０、０．０８、０．０７、０．０６等が挙げられる。構成単位１と構成単位３とのモル比（構成単位１の物質量／構成単位３の物質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、極性調整の観点から、構成単位１と構成単位３とのモル比は０．０６〜９９．０が好ましい。

構成単位１と構成単位４との質量比（構成単位１の質量／構成単位４の質量）の上限の例は、９９．０、９５．０、９０．０、８５．０、８０．０、７５．０、７０．０、６５．０、６０．０、５５．０、５０．０、４５．０、４０．０、３５．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５、０．４、０．３、０．２等が挙げられ、下限の例は、９８．０、９５．０、９０．０、８５．０、８０．０、７５．０、７０．０、６５．０、６０．０、５５．０、５０．０、４５．０、４０．０、３５．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１等が挙げられる。構成単位１と構成単位４との質量比（構成単位１の質量／構成単位４の質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、構成単位１と構成単位４との質量比は極性調整の観点から、０．1〜９９．０が好ましい。

構成単位１と構成単位４とのモル比（構成単位１の物質量／構成単位４の物質量）の上限の例は、９９．０、９５．０、９０．０、８５．０、８０．０、７５．０、７０．０、６５．０、６０．０、５５．０、５０．０、４５．０、４０．０、３５．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５、０．４、０．３、０．２等が挙げられ、下限の例は、９８．０、９５．０、９０．０、８５．０、８０．０、７５．０、７０．０、６５．０、６０．０、５５．０、５０．０、４５．０、４０．０、３５．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１等が挙げられる。構成単位１と構成単位４とのモル比（構成単位１の物質量／構成単位４の物質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、構成単位１と構成単位４とのモル比は極性調整の観点から、０．1〜９９．０が好ましい。

構成単位１と構成単位５との質量比（構成単位１の質量／構成単位５の質量）の上限の例は、１９８．０、１９０.０、１８０．０、１７０．０、１６０．０、１５０．０、１４０．０、１３０．０、１２０．０、１１０．０、１００．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５０、０．４０、０．３５、０．３０、０．２６等が挙げられ、下限の例は１９７．０、１９０.０、１８０．０、１７０．０、１６０．０、１５０．０、１４０．０、１３０．０、１２０．０、１１０．０、１００．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５０、０．４０、０．３５、０．３０、０．２５等が挙げられる。構成単位１と構成単位５との質量比（構成単位１の質量／構成単位５の質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位１と構成単位５との質量比は０．２５〜１９８．０が好ましい。

構成単位１と構成単位５とのモル比（構成単位１の物質量／構成単位５の物質量）の上限の例は、１９８．０、１９０.０、１８０．０、１７０．０、１６０．０、１５０．０、１４０．０、１３０．０、１２０．０、１１０．０、１００．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５０、０．４０、０．３５、０．３０、０．２６等が挙げられ、下限の例は１９７．０、１９０.０、１８０．０、１７０．０、１６０．０、１５０．０、１４０．０、１３０．０、１２０．０、１１０．０、１００．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５０、０．４０、０．３５、０．３０、０．２５等が挙げられる。構成単位１と構成単位５とのモル比（構成単位１の物質量／構成単位５の物質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位１と構成単位５とのモル比は０．２５〜１９８．０が好ましい。

構成単位１と構成単位６との質量比（構成単位１の質量／構成単位６の質量）の上限の例は、１９８．０、１９０.０、１８０．０、１７０．０、１６０．０、１５０．０、１４０．０、１３０．０、１２０．０、１１０．０、１００．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５０、０．４０、０．３５、０．３０、０．２６等が挙げられ、下限の例は１９７．０、１９０.０、１８０．０、１７０．０、１６０．０、１５０．０、１４０．０、１３０．０、１２０．０、１１０．０、１００．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５０、０．４０、０．３５、０．３０、０．２５等が挙げられる。構成単位１と構成単位６との質量比（構成単位１の質量／構成単位６の質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位１と構成単位６との質量比は０．２５〜１９８．０が好ましい。

構成単位１と構成単位６とのモル比（構成単位１の物質量／構成単位６の物質量）の上限の例は、１９８．０、１９０.０、１８０．０、１７０．０、１６０．０、１５０．０、１４０．０、１３０．０、１２０．０、１１０．０、１００．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５０、０．４０、０．３５、０．３０、０．２６等が挙げられ、下限の例は１９７．０、１９０.０、１８０．０、１７０．０、１６０．０、１５０．０、１４０．０、１３０．０、１２０．０、１１０．０、１００．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２５．０、２０．０、１５．０、１０．０、５．０、１．０、０．５０、０．４０、０．３５、０．３０、０．２５等が挙げられる。構成単位１と構成単位６とのモル比（構成単位１の物質量／構成単位６の物質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位１と構成単位６とのモル比は０．２５〜１９８．０が好ましい。

構成単位２と構成単位３との質量比（構成単位２の質量／構成単位３の質量）の上限の例は、７９．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、１．０、０．０８、０．０６、０．０４、０．０３が挙げられ、下限の例は、７８．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、１．０、０．０８、０．０６、０．０４、０．０２が挙げられる。構成単位２と構成単位３との質量比（構成単位２の質量／構成単位３の質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位２と構成単位３との質量比は０．０２〜７９．０が好ましい。

構成単位２と構成単位３とのモル比（構成単位２の物質量／構成単位３の物質量）の上限の例は、７９．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、１．０、０．０８、０．０６、０．０４、０．０３が挙げられ、下限の例は７８．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、１．０、０．０８、０．０６、０．０４、０．０２が挙げられる。構成単位２と構成単位３とのモル比（構成単位２の物質量／構成単位３の物質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位２と構成単位３とのモル比は０．０２〜７９．０が好ましい。

構成単位２と構成単位４との質量比（構成単位２の質量／構成単位４の質量）の上限の例は、５０．０、４０．０、３０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、１．０、０．０８、０．０６、０．０４、０．０３が挙げられ、下限の例は、４９．０、４０．０、３０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、１．０、０．０８、０．０６、０．０４、０．０２が挙げられる。構成単位２と構成単位４との質量比（構成単位２の質量／構成単位４の質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位２と構成単位４との質量比は０．０２〜５０．０が好ましい。

構成単位２と構成単位４とのモル比（構成単位２の物質量／構成単位４の物質量）の上限の例は、５０．０、４０．０、３０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、１．０、０．０８、０．０６、０．０４、０．０３が挙げられ、下限の例は、４９．０、４０．０、３０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、１．０、０．０８、０．０６、０．０４、０．０２が挙げられる。構成単位２と構成単位４とのモル比（構成単位２の物質量／構成単位４の物質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位２と構成単位４とのモル比は０．０２〜５０．０が好ましい。

構成単位２と構成単位５との質量比（構成単位２の質量／構成単位５の質量）の上限の例は、１００．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、３．０、１．０、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１、０．０６が挙げられ、下限の例は、９９．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、３．０、１．０、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１、０．０５が挙げられる。構成単位２と構成単位５との質量比（構成単位２の質量／構成単位５の質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位２と構成単位５との質量比は０．０５〜１００．０が好ましい。

構成単位２と構成単位５とのモル比（構成単位２の物質量／構成単位５の物質量）の上限の例は、１００．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、３．０、１．０、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１、０．０６が挙げられ、下限の例は、９９．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、３．０、１．０、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１、０．０５が挙げられる。構成単位２と構成単位５とのモル比（構成単位２の物質量／構成単位５の物質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位２と構成単位５とのモル比は０．０５〜１００．０が好ましい。

構成単位２と構成単位６との質量比（構成単位２の質量／構成単位６の質量）の上限の例は、１００．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、３．０、１．０、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１、０．０６が挙げられ、下限の例は、９９．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、３．０、１．０、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１、０．０５が挙げられる。構成単位２と構成単位６との質量比（構成単位２の質量／構成単位６の質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位２と構成単位６との質量比は０．０５〜１００．０が好ましい。

構成単位２と構成単位６とのモル比（構成単位２の物質量／構成単位６の物質量）の上限の例は、１００．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、３．０、１．０、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１、０．０５が挙げられ、下限の例は、９９．０、９０．０、８０．０、７０．０、６０．０、５０．０、４０．０、３０．０、２０．０、１０．０、５．０、３．０、１．０、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１、０．０５が挙げられる。構成単位２と構成単位６とのモル比（構成単位２の物質量／構成単位６の物質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ゲル化抑制の観点から、構成単位２と構成単位６とのモル比は０．０５〜１００．０が好ましい。

（樹脂の物性等）
本発明に係る樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に制限されないが、例えばその上限の例は、５００,０００、４５０,０００、４００,０００、３５０,０００、３００,０００、２５０,０００、２００,０００、１５０,０００、１００,０００、９０,０００、８０,０００、７０,０００、６０,０００、５０,０００、４０,０００、３２,０００、３０,０００、２７,０００、２０,０００、１５,０００、１３,０００、１１,０００、１０,０００、９,０００、８,０００、７,０００、６,０００、５,５００、５,０００、４,５００等が挙げられ、下限の例は、４９０,０００、４５０,０００、４００,０００、３５０,０００、３００,０００、２５０,０００、２００,０００、１５０,０００、１００,０００、９０,０００、８０,０００、７０,０００、６０,０００、５０,０００、４０,０００、３２,０００、３０,０００、２７,０００、２０,０００、１５,０００、１３,０００、１１,０００、１０,０００、９,０００、８,０００、７,０００、６,０００、５,５００、５,０００、４,５００、４,０００等が挙げられる。本発明に係る樹脂の重量平均分子量の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、４,０００〜５００,０００が好ましい。

本発明に係る樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）の上限の例は、１００,０００、９０,０００、８０,０００、７０,０００、６０,０００、５０,０００、４０,０００、３０,０００、２０，０００、１５，０００、１０，０００、５，０００、４，０００、３，０００、２，０００、１，０００、９００等が挙げられ、下限の例は９５,０００、９０,０００、８０,０００、７０,０００、６０,０００、５０,０００、４０,０００、３０,０００、２０，０００、１９，０００、１５，０００、１０，０００、５，０００、４，０００、３，０００、２，０００、１，０００、９００、８００等が挙げられる。本発明に係る樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は８００〜１００,０００が好ましい。

重量平均分子量及び数平均分子量は、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により適切な溶媒下で測定したポリスチレン換算値として求められる。

分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）の上限の例は、５５、５０、４５、４０、３５、３２、３０、２５、２０、１９、１８．３、１５、１４．３、１０、５、４．５、４．２、４．１、３．８、３．３、３．２、２、１．５等が挙げられ、下限の例は、５４、５０、４５、４０、３５、３２、３０、２５、２０、１９、１８．３、１５、１４．３、１０、５、４．５、４．２、４．１、３．８、３．３、３．２、３、２、１．５、１．０等が挙げられる。本発明に係る樹脂の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０〜５５が好ましい。

本発明に係る樹脂の水酸基価の上限の例は、４８３、４８０、４５０、４００、３５０、３００、２５０、２００、１５０、１００、５０、２５、５、１等が挙げられ、下限の例は、４８０、４５０、４００、３５０、３００、２５０、２００、１５０、１００、５０、２５、５、１、０等が挙げられる。本発明に係る樹脂の水酸基価の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、樹脂の水酸基価は０〜４８３が好ましい。

本発明に係る樹脂の酸価の上限の例は、７９９、７５０、７００、６５０、６００、５５０、５００、４５０、４００、３５０、３００、２５０、２００、１５０、１００、５０、２５、１等が挙げられ、下限の例は７９０、７５０、７００、６５０、６００、５５０、５００、４５０、４００、３５０、３００、２５０、２００、１５０、１００、５０、２５、１、０等が挙げられる。本発明に係る樹脂の酸価の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、樹脂の酸価は０〜７９９が好ましい。

本発明に係る樹脂の軟化点の上限の例は、１５０、１４０、１３０、１２０、１１０、１００、９０、８０℃等が挙げられ、下限の例は１４０、１３０、１２０、１１０、１００、９０、８０、７５℃等が挙げられる。本発明に係る樹脂の軟化点の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、樹脂の軟化点は７５〜１５０℃が好ましい。

本発明に係る樹脂の絶対分子量（Ｍ）５０,０００に対する固有粘度（η）の上限の例は、０．２０、０．１９、０．１８、０．１７、０．１６、０．１５、０．１４、０．１３、０．１２、０．１１、０．１０、０．０９、０．０８、０．０７、０．０６、０．０５、０．０４、０．０３、０．０２等が挙げられ、下限の例は０．１９、０．１８、０．１７、０．１６、０．１５、０．１４、０．１３、０．１２、０．１１、０．１０、０．０９、０．０８、０．０７、０．０６、０．０５、０．０４、０．０３、０．０２、０．０１等が挙げられる。本発明に係る樹脂の絶対分子量（Ｍ）５０,０００に対する固有粘度（η）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、上記固有粘度（η）は０．０１〜０．２０が好ましい。

本発明に係る樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）の上限の例は、２３０、２００、１５０、１００、５０、０、−５０、−７０℃等が挙げられ、下限の例は２２５、２００、１５０、１００、５０、０、−５０、−８０℃等が挙げられる。本発明に係る樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ガラス転移温度（Ｔｇ）は−８０〜２３０℃が好ましい。

（樹脂の製造方法）
本発明に係る樹脂の製造方法は、チオール系連鎖移動剤及び重合開始剤存在下、（メタ）アクリル酸エステル及び必要に応じて、スチレン等を含むモノマーを、適切な反応温度で重合させる工程を含む。

上記製造方法における反応温度の上限の例は、２００、１９５、１９０、１８０、１７０、１６０、１５０、１４０、１３０、１２１、１２０、１１０、１００、９０、８５、８０℃等が挙げられ、下限の例は、１９５、１９０、１８０、１７０、１６０、１５０、１４０、１３０、１２１、１２０、１１０、１００、９０、８５、８０、７０℃が挙げられる。上記製造方法における反応温度の範囲は上記上限及び下限の値から適宜選択して設定され得る。１つの実施形態において、反応温度は７０〜２００℃が好ましい。

上記製造方法において用いられる溶媒は特に制限されないが、例えば、水、有機溶媒等が例として挙げられる。有機溶媒の例はシクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、ダイアセトンアルコール等のケトン溶媒、ダイアセトンアルコール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール等のアルコール溶媒、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル等のエーテル溶媒、キシレン、トルエン等の芳香族溶媒、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソペンチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸−ｎ−ペンチル等の酢酸エステル溶媒、Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミド等のアミド溶媒等が挙げられる。

上記製造方法においては、モノマー、重合開始剤、溶媒以外の添加剤を本発明の効果を損なわない程度に用いることができる。モノマー、重合開始剤以外の添加剤の例は、乳化剤、ＡＴＲＰ重合試薬等が挙げられる。添加剤を使用する場合、モノマー１００質量部に対して、通常、１〜５質量部であるが、１質量部未満、０．１質量部未満、０．０１質量部未満、０．００１質量部未満、０．０００１質量部未満であってもよい。また添加剤を使用せずとも、本開示に記載の樹脂を製造することができる。

（２．反応性希釈剤（２））
上記反応性希釈剤が
（式中、ｎは０〜２の整数であり、ｍは０〜２の整数であり、ｐは０から7の整数であり、Ｒ^ｂ１〜Ｒ^ｂ１４は、それぞれ独立に水素原子、
であり、
Ｒ^ｂ１５〜Ｒ^ｂ１６は、それぞれ独立に
であり、Ｒ^ｂ１６はそれぞれ独立に、アルキレン基であり、
構造式（Ａ）〜（Ｃ）中、Ｒ^ｂ１〜Ｒ^ｂ１４から選択される２個以上の基が
であり、
ｑはそれぞれ独立に０〜１６の整数であり、Ｒ^１はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基である。なお、Ｒ^ｂ４、Ｒ^ｂ５、Ｒ^ｂ９、及びＲ^ｂ１３は各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。）
である。

なお、本開示において「各構成単位ごとに基が異なっていてもよい」とは、例えば構造式（Ａ）において、ｎが２であるとき、
Ｒ^ｂ４ＡとＲ^ｂ４Ｂとは異なる基であってよく、Ｒ^ｂ５ＡとＲ^ｂ５Ｂとは異なる基であってよいことを意味する。

（Ａ （ポリ）ペンタエリスリトールポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート）
本開示において「（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート」は、「ペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールポリエポキシ変性（メタ）アクリレート、ポリペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、ポリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、及びポリペンタエリスリトールポリエポキシ変性（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１つ」を意味する。（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレートは（Ａ）式に示される構造式により表わされる。

ペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートの例は、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

ペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性アクリレートの例は、ペンタエリスリトールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールテトラ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールペンタ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールヘキサ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールテトラ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールペンタ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールヘキサ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）等が挙げられる。

ペンタエリスリトールポリエポキシ変性アクリレートの例は、ペンタエリスリトールジエポキシ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリエポキシ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラエポキシ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタエポキシ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

ポリペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートの例は、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールノナ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

ポリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートの例は、ジペンタエリスリトールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールトリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールテトラ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールペンタ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールヘキサ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールヘプタ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールオクタ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールトリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールテトラ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールペンタ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールヘキサ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールヘプタ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールオクタ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールトリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールテトラ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールペンタ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールヘキサ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールヘプタ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールオクタ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールノナ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールデカ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールテトラ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールペンタ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールヘキサ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールヘプタ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールオクタ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールノナ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールデカ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）等が挙げられる。

ポリペンタエリスリトールポリエポキシ変性（メタ）アクリレートの例は、ジペンタエリスリトールジエポキシ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリエポキシ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラエポキシ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタエポキシ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサエポキシ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘプタエポキシ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールオクタエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールジエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールノナエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールデカエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（Ｂ （ポリ）トリメチロールプロパンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート）
本開示において「（ポリ）トリメチロールプロパンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート」とは、「トリメチロールプロパンポリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエポキシ変性（メタ）アクリレート、ポリトリメチロールプロパンポリ（メタ）アクリレート、ポリトリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、及びポリトリメチロールプロパンポリエポキシ変性（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１つ」を意味する。（ポリ）トリメチロールプロパンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレートは（Ｂ）式に示される構造式により表わされる。

トリメチロールプロパンポリ（メタ）アクリレートの例は、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

トリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートの例は、トリメチロールプロパンジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリメチロールプロパントリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリメチロールプロパンジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリメチロールプロパントリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）等が挙げられる。

トリメチロールプロパンポリエポキシ変性（メタ）アクリレートの例は、トリメチロールプロパンジエポキシ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエポキシ（メタ）アクリレート）等が挙げられる。

ポリトリメチロールプロパンポリ（メタ）アクリレートの例は、ジトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

ポリトリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートの例は、ジトリメチロールプロパンジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジトリメチロールプロパントリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジトリメチロールプロパンジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジトリメチロールプロパントリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）等が挙げられる。

ポリトリメチロールプロパンポリエポキシ変性（メタ）アクリレートの例は、ジトリメチロールプロパンジエポキシ（メタ）アクリレート）、ジトリメチロールプロパントリエポキシ（メタ）アクリレート）等が挙げられる。

（Ｃ （ポリ）グリセリンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート）
本開示において「（ポリ）グリセリンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート」は、「グリセリンポリ（メタ）アクリレート、グリセリンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、グリセリンポリエポキシ変性（メタ）アクリレート、ポリグリセリンポリ（メタ）アクリレート、ポリグリセリンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、及びポリグリセリンポリエポキシ変性（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１つ」を意味する。（ポリ）グリセリンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレートは（Ｃ）式に示される構造式により表わされる。

グリセリンポリ（メタ）アクリレートの例は、グリセリンジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

ポリグリセリンポリ（メタ）アクリレートの例は、ジグリセリンジ（メタ）アクリレート、ジグリセリントリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、トリグリセリンジ（メタ）アクリレート、トリグリセリントリ（メタ）アクリレート、トリグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、トリグリセリンペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

グリセリンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートの例は、グリセリンジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、グリセリントリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、グリセリンジリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、グリセリントリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）等が挙げられる。

グリセリンポリエポキシ変性（メタ）アクリレートの例は、グリセリンジエポキシ（メタ）アクリレート、グリセリントリエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

ポリグリセリンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートの例は、ジグリセリンジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジグリセリントリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジグリセリンテトラ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリンジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリントリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリンテトラ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリンペンタ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）ジグリセリンジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジグリセリントリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジグリセリンテトラ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリンジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリントリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリンテトラ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリンペンタ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）等が挙げられる。

ポリグリセリンポリエポキシ変性（メタ）アクリレートの例は、ジグリセリンジエポキシ（メタ）アクリレート、ジグリセリントリエポキシ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラエポキシ（メタ）アクリレート、トリグリセリンジエポキシ（メタ）アクリレート、トリグリセリントリエポキシ（メタ）アクリレート、トリグリセリンテトラエポキシ（メタ）アクリレート、トリグリセリンペンタエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（Ｄ アルキレンジ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート）
本開示において「アルキレンジ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート」は、「アルキレンジ（メタ）アクリレート、アルキレンジアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、及びアルキレンジエポキシ変性（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１つ」を意味する。アルキレンジ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレートは（Ｄ）式に示される構造式により表わされる。

アルキレンジ（メタ）アクリレートの例は、１，２−エチレンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，７−ヘプタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

アルキレンジアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートの例は、１，２−エチレンジオールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，３−プロパンジオールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，４−ブタンジオールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，５−ペンタンジオールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，６−ヘキサンジオールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，７−ヘプタンジオールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，８−オクタンジオールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，９−ノナンジオールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，１０−デカンジオールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，２−エチレンジオールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，３−プロパンジオールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，４−ブタンジオールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，５−ペンタンジオールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，６−ヘキサンジオールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，７−ヘプタンジオールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，８−オクタンジオールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，９−ノナンジオールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、１，１０−デカンジオールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）等が挙げられる。

アルキレンジエポキシ変性（メタ）アクリレートの例は、１，２−エチレンジオールジエポキシ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジエポキシ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジエポキシ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジエポキシ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジエポキシ（メタ）アクリレート、１，７−ヘプタンジオールジエポキシ（メタ）アクリレート、１，８−オクタンジオールジエポキシ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジエポキシ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（３．ワニス組成物）
本開示は上記樹脂及び上記反応性希釈剤を含むワニス組成物を提供する。

ワニス組成物中の樹脂の含有量の上限の例は、ワニス組成物の合計質量に対して、６０、５９、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１１質量％等が挙げられ、下限の例は、５９、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１１、１０質量％等が挙げられる。ワニス組成物中の樹脂の含有量の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、皮膜強度と硬化性の観点から、樹脂の含有量はワニス組成物の合計質量に対して、１０〜６０質量％が好ましい。

ワニス組成物中の反応性希釈剤の含有量の上限の例は、ワニス組成物中の合計質量に対して、９０、８９、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、５５、５０、４５、４１質量％等が挙げられ、下限の例は、８９、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、５５、５０、４５、４１、４０質量％等が挙げられる。ワニス組成物中の反応性希釈剤の含有量の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、皮膜強度と硬化性の観点から、反応性希釈剤の含有量はワニス組成物中の合計質量に対して、４０〜９０質量％が好ましい。

ワニス組成物中の樹脂と反応性希釈剤との質量比（樹脂の質量／反応性希釈剤の質量）の上限の例は、１．５０、１．４０、１．３０、１．２０、１．１０、１．００、０．９０、０．８０、０．７０、０．６、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１５等が挙げられ、下限の例は１．４９、１．４０、１．３０、１．２０、１．１０、１．００、０．９０、０．８０、０．７０、０．６、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１５、０．１１等が挙げられる。ワニス組成物中の樹脂と反応性希釈剤との質量比（樹脂の質量／反応性希釈剤の質量）の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、皮膜強度と硬化性の観点から、ワニス組成物中の樹脂と反応性希釈剤との質量比は０．１１〜１．５０が好ましい。

上記ワニス組成物の粘度の上限の例は、８００、７５０、７００、６００、５００、４００、３００、２００、１００、５０、１０Ｐａ・ｓ／２５℃等が挙げられ、下限の例は７５０、７００、６００、５００、４００、３００、２００、１００、５０、１０、５Ｐａ・ｓ／２５℃等が挙げられる。ワニス組成物の粘度の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、ローラーへの転写性や作業性の観点からワニス組成物の粘度５〜８００Ｐａ・ｓ／２５℃が好ましく、１０〜２００Ｐａ・ｓ／２５℃がより好ましい。

ワニス組成物中には、樹脂、反応性希釈剤以外の成分（以下「その他の成分」ともいう）を含有してもよい。樹脂及び反応性希釈剤の合計質量に対するその他の成分の含有量の上限の例は２０、１５、１０、５、１、０．５、０．１、０．０１質量％等が挙げられ、下限の例は１５、１０、５、１、０．５、０．１、０．０１、０質量％等が挙げられる。樹脂及び反応性希釈剤の合計質量に対するその他の成分の含有量の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、樹脂及び反応性希釈剤の合計質量に対するその他の成分は０〜２０質量％が好ましい。

またワニス組成物全体の合計質量に対するその他の成分の含有量の上限の例は、１７、１５、１０、５、１、０．５、０．１、０．０１質量％等が挙げられ、下限の例は１５、１０、５、１、０．５、０．１、０．０１、０質量％等が挙げられる。その他の成分の含有量の範囲は適宜（例えば上記上限及び下限の値から選択して）設定され得る。１つの実施形態において、その他の成分の含有量は、ワニス組成物全体の合計質量に対して０〜１７質量％が好ましい。

１つの実施形態において、本発明に係るワニス組成物は、活性エネルギー線硬化型であり、例えばインキ用、好ましくはオフセットインキ用に用いられる。オフセット印刷はローラーからローラーへインキを転写させながら使用するものであるため、高粘度のインキにする必要がある。本発明に係るワニス組成物を用いて作製したインキの粘度は高くなるため、オフセットインキに適している。なおインキジェット印刷はタンクからインキを吸って、細いノズルから噴射させて行う印刷手法であるため、低粘度インキにする必要があることが知られている。

１つの実施形態において、本発明に係るワニス組成物は、基材（支持体）が親水性ではないものに好ましく用いられる、非親水性基材用ワニス組成物である。

（４．オフセット印刷インキ）
本開示は上記ワニス組成物、必要に応じて光重合開始剤、及び顔料を含む、オフセット印刷インキを提供する。

光重合開始剤としては、特に限定されず、各種公知のものを使用することができる。その具体例は、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エステル、ｐ−ジメチルアセトフェノン、チオキサントン、アルキルチオキサントン、アミン類等があげられる。また、イルガキュアー１１７３、イルガキュアー６５１、イルガキュアー１８４、イルガキュアー９０７、イルガキュアー２９５９、イルガキュアー１２７、イルガキュアー３６９、イルガキュアー３６９Ｅ、イルガキュアー３７９、イルガキュアー３７９ＥＧ、イルガキュアーＴＰＯ、イルガキュアー８１９（いずれもＢＡＳＦジャパン社製）等の市販のものをそのまま使用しても良い。光重合開始剤の使用量としては、通常、乾燥性の観点から１〜１５％程度用いることが好ましい。

本発明に係るオフセット印刷インキに使用する顔料としては、特に限定されず通常使用される無機又は有機の顔料を配合することができる。具体例は、酸化チタン、亜鉛華、鉛白、リトボン、酸化アンチモン等の白色顔料、アニリンブラック、鉄黒、カーボンブラック等の黒色顔料、黄鉛、黄色酸化鉄、チタンイエロー、ハンザイエロー（１０Ｇ、５Ｇ、３Ｇ、その他）、ジスアゾイエロー、ベンジンイエロー、パーマネントイエロー等の黄色顔料、クロームバーミリオン、パーマネントオレンジ、バルカンファーストオレンジ、インダンスレンブリリアントオレンジ等の橙色顔料、酸化鉄、パーマネントブラウン、パラブラウン等の褐色顔料、ベンガラ、カドミウムレッド、アンチモン朱、パーマネントレッド、ローダミンレーキ、アリザリンレーキ、チオインジゴレッド、ＰＶカーミン、モノライトファーストレッド、キナクドリン系赤色顔料等の赤色顔料、コバルト紫、マンガン紫、ファーストバイオレット、メチルバイオレットレーキ、インダンスレンブリリアントバイオレット、ジオキサジンバイオレット等の紫色顔料、群青、紺青、コバルトブルー、アルカリブルーレーキ、ピーコックブルーレーキ、ビクトリアブルーレーキ、無金属フタロシアニンブルー、銅フタロシアニンブルー、インダスレンブルー、インジゴ等の青色顔料、クロムグリーン、酸化クロム、エメラルドグリーン、ナフトールグリーン、グリーンゴールド、アシッドグリーンレーキ、マラカイトグリーンレーキ、フタロシアニングリーン、ポリクロルブロム銅フタロシアニン等の緑色顔料の他、各種の蛍光顔料、金属粉顔料等が挙げられる。これらの顔料は、オフセット印刷インキ１００質量部に対して１〜５０質量部程度の範囲で配合することが好ましく、５〜３０質量部とすることが更に好ましい。

本発明に係るオフセット印刷インキは、活性エネルギー線硬化型であり、そして本発明に係る印刷インキ用樹脂、重合性モノマー及び顔料を含有するものであるが、さらに表面調整剤、消泡剤、光増感剤、酸化防止剤、光安定剤、レベリング剤を使用することもできる。これらの任意成分は、オフセット印刷インキ１００質量部に対して、それらの合計量が１００質量部程度以下の範囲となる量（具体的には９５、９０、８０、５０、４０、３０、２０、１０、５、２．１、０．１質量部程度以下）で配合することが好ましい。さらにハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジンン及びＮ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等の重合禁止剤を配合することもできる。重合禁止剤を配合する場合には、オフセット印刷インキに対して０．０１〜２質量部程度の範囲で使用することが好ましい。

（５．印刷物）
本開示は、上記オフセット印刷インキの硬化層を有する、印刷物を提供する。

基材は、各種公知のものを特に制限なく用いることができる。基材の例は、紙（アート紙、キャストコート紙、フォーム用紙、ＰＰＣ紙、上質コート紙、クラフト紙、ポリエチレンラミネート紙、グラシン紙等）、プラスチック基材（ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリエステル、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ノルボルネン系樹脂等）等が挙げられる。

印刷方法（塗工方法）の例は、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷バーコーター塗工、メイヤーバー塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工等が挙げられる。また、塗工量は特に限定されないが、乾燥後の質量が０．１〜３０ｇ／ｍ^２程度が好ましく、１〜２０ｇ／ｍ^２程度がより好ましい。

硬化手段としては、例えば電子線又は紫外線が挙げられる。紫外線の光源としては、例えば高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ＵＶ−ＬＥＤ等が挙げられる。光量や光源配置、搬送速度は特に限定されないが、高圧水銀灯を使用する場合には、８０〜１６０Ｗ／ｃｍ程度の光量を有するランプ１灯に対して、搬送速度が５〜５０ｍ／分程度が好ましい。

以下、実施例及び比較例を通じて本発明を具体的に説明する。但し、本発明の範囲は、本開示に具体的に記載された実施形態にも実施例にも限定されず、特許請求の範囲によってのみ限定される。なお、以下において「部」及び「％」は、特に説明がない限り、それぞれ質量部及び質量％を意味する。

重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりＴＨＦ溶媒下で測定したポリスチレン換算値として求めた。ＧＰＣ装置としてはＨＬＣ−８０２０（東ソー（株）製）を、カラムとしてはＴＳＫｇｅｌ ｓｕｐｅｒＨＺＭ（東ソー（株）製）を用いた。求めた数平均分子量と重量平均分子量より分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を算出した。

製造例１
攪拌機、分水器付き還流冷却管及び温度計と滴下ロートを備えた反応容器にキシレン４００ｇ仕込んだ。滴下ロートにメタクリル酸メチルを３９０ｇ、アクリル酸を９０ｇ、２−エチルヘキシルアクリレートを６０ｇ、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メスカプトプロピオネート）６０ｇ仕込み、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを６ｇ添加し、９０℃、２時間 攪拌下滴下重合反応を行い、６時間保温した。その後、温度を１７０℃に上げ常圧で攪拌を続けながら溶媒を留除し、更に同温度で５０ｍＨｇ以下に減圧し、完全に溶媒を留去して、樹脂１を６００ｇ得た。重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０,０００、数平均分子量（Ｍｎ）は３,５７０、Ｍｗ／Ｍｎは２．８であった。結果を表１に示す。

製造例２〜５並びに比較製造例１及び２
樹脂組成を表１に記載したものに変更したことを除き、製造例１と同様の手順により樹脂２〜５及び比較樹脂１〜２の製造を行った。

表１の略号は以下の通りである。
Ａ−１：メチルメタクリレート
Ａ−２：アクリル酸
Ａ−３：メタクリル酸ブチル
Ａ−４：２−エチルヘキシルアクリレート
Ｂ−１：スチレン
Ｃ−１：アクリロイルモルホリン
Ｃ−２：Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド
Ｃ−３：Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート
Ｄ−１：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
Ｄ−２：２−ヒドロキシプロピルアクリレート
Ｄ−３：２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート
Ｅ−１：トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）
Ｅ−２：トリス−［（３−メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］−イソシアヌレート
Ｅ−３：ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）
Ｅ−４：ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）
Ｆ−１：２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）
Ｆ−２：ｔ−ブチル パーオキシ−２−エチルヘキサノエイト

実施例１
得られた樹脂１（１４．５ｇ）して反応性希釈剤であるジペンタエリスリトール（２９．５ｇ）、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（２６．０ｇ）、トリメチロールプロパントリアクリレート（１０．０ｇ）をそれぞれ加え、重合禁止剤であるメトキノンを０．１ｇ加えエアーバブリング下、１２０℃、１時間攪拌溶解し、６５．６ｇのオフセット印刷用ワニスを得た。得られたワニス６５．６ｇに対して、墨顔料であるＭＡ１００を１５ｇ、光重合開始剤であるイルガキュア９０７を５ｇ仕込み、３本ローラーで錬肉後、インコメーターを用い、４０℃、４００ｒｐｍにおけるタック値が９±０．５となるよう適宜調整し表２の実施例１に示すオフセット印刷インキを得た。

実施例２〜実施例５、比較例１〜２
樹脂と反応性希釈剤の使用比率を代えたこと以外は、実施例１と同様に調製した。

表２の略号は以下の通りである。
Ｇ−１：ジペンタエリスリトールテトラアクリレート
Ｇ−２：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート
Ｇ−３：トリメチロールプロパントリアクリレート

（流動性の測定）
６０°に傾けたガラス板の上にインキ１．３０ｍｌをのせて、３０分放置後のインキの流れた距離を計測した。評価基準を以下に示す。
○：２０１ｍｍ以上
△：２００〜１０１ｍｍ
×：１００ｍｍ以下

（耐ミスチング性）
１３ｃｍ×２１ｃｍ角に切り取ったＯＨＰフィルムをインコメーターのローラー裏の壁面に貼り付け、ローラー温度を４０℃に調整後、ローラーの上に調整したインキを２．６ｍｌのせた。ローラーを１２００ｒｐｍ×２分 回転させフィルムに付着したインキの質量を秤量した。評価基準を以下に示す。
○：５９ｍｇ以下
△：６０〜９９ｍｇ
×：１００ｍｇ以上

Claims (9)

1. 構成単位１
   （式中、Ｒ^１は水素又はメチル基であり、Ｒ^ａは、水素又はアルキル基である）
   及び構成単位２
   （式中、Ｒ^ｂはアルキレン基である）
   を含む、樹脂（１）、並びに
   反応性希釈剤（２）を含む、ワニス組成物。
2. 前記樹脂（１）が構成単位３
   （式中、Ｒ^１は水素又はメチル基であり、Ｒ^ｃ１〜Ｒ^ｃ５はそれぞれ独立に、水素、アルキル基及びアリール基からなる群から選択される基である。）
   を含む、請求項１に記載のワニス組成物。
3. 前記樹脂（１）が構成単位４
   （式中、Ｒ^１は水素又はメチル基であり、Ｒ^ｄはＣＯＮＲ^ｄ１Ｒ^ｄ２、ＣＯＯ（ＣＨ_２）_２ＮＲ^ｄ１Ｒ^ｄ２及び
   からなる群から選択される基であり、
   式中、Ｒ^ｄ１及びＲ^ｄ２は、アルキル基若しくは水素であるか、又はＲ^ｄ１及びＲ^ｄ２が一緒になって環構造を形成する基であり、ｋは１以上の整数であり、Ｒ^ｄ３は、水素、メチル基又は水酸基であり、Ｒ^ｄ４は、ＯＨ、ＣＨ_２ＯＨ、ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、ＣＨ_２ＯＣＨ_３又はＣＨ_２ＯＰｈであるが、Ｒ^ｄ３又はＲ^ｄ４のどちらかが水酸基である。）
   を含む、請求項１又は２に記載のワニス組成物。
4. 前記樹脂（１）が構成単位５
   （式中、Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｅ２、及びＲ^ｅ３は、それぞれ独立に、ニトリル基、アルキル基、極性基置換アルキル基、アルケニル基、又は極性基である。）
   をポリマー鎖末端に含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載のワニス組成物。
5. 前記樹脂（１）が構成単位６
   （式中、Ｒ^ｆは、アシル基、アルキル基、又はアリール基である。）
   をポリマー鎖末端に含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載のワニス組成物。
6. 前記反応性希釈剤（２）が
   （式中、ｎは０〜２の整数であり、ｍは０〜２の整数であり、ｐは０から7の整数であり、Ｒ^ｂ１〜Ｒ^ｂ１４は、それぞれ独立に水素原子、
   であり、
   Ｒ^ｂ１５〜Ｒ^ｂ１６は、それぞれ独立に
   であり、Ｒ^ｂ１６はそれぞれ独立に、アルキレン基であり、
   構造式（Ａ）〜（Ｃ）中、Ｒ^ｂ１〜Ｒ^ｂ１４から選択される２個以上の基が
   であり、
   ｑはそれぞれ独立に０〜１６の整数であり、Ｒ^１はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基である。なお、Ｒ^ｂ４、Ｒ^ｂ５、Ｒ^ｂ９、及びＲ^ｂ１３は各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。）
   である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のワニス組成物。
7. オフセットインキ用に用いられる、請求項１〜６のいずれか１項に記載のワニス組成物。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載のワニス組成物及び顔料を含む、オフセット印刷インキ。
9. 請求項８に記載のオフセット印刷インキの硬化層を有する、印刷物。