JP2019038203A - Bonding method and manufacturing method of bonded body - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、接合体を構成する複数の部材の接合方法及び当該接合方法を用いた接合体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for bonding a plurality of members constituting a bonded body and a method for manufacturing a bonded body using the bonding method.
従来、レンズ等の組み立てには接着剤が用いられている。しかしながら、高い精度を求められる製品においては、接着後の硬化収縮等による位置ずれ等に起因する寸法誤差が問題となる。この問題を解決するため、組み立て後の評価において、高い解像力での検査基準を設ける方法が考えられるが、接着剤は一度つけた後のやり直しができず、不良となる製品が多くなる。これにより、歩留まりが悪くなり、結果的にコストの増加を招くおそれがある。 Conventionally, an adhesive is used for assembling lenses and the like. However, in a product that requires high accuracy, a dimensional error due to misalignment or the like due to curing shrinkage after bonding becomes a problem. In order to solve this problem, a method of providing an inspection standard with a high resolving power in the evaluation after assembling can be considered. However, the adhesive cannot be redone after being applied once, and the number of defective products increases. As a result, the yield may deteriorate, resulting in an increase in cost.
ここで、基材の表面と部品の表面とにDNA一本鎖構造を担持させることで、両部材間に水素結合に基づいた接合を行う部品組み付け方法がある(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、特許文献1の方法は、水素結合単体での接合であるため、水分等により結合が弱まる可能性がある。 Here, there is a component assembling method in which a DNA single-stranded structure is supported on the surface of a base material and the surface of a component to perform bonding based on hydrogen bonding between both members (for example, see Patent Document 1). However, since the method of Patent Document 1 is a bonding with a single hydrogen bond, the bonding may be weakened by moisture or the like.
また、被接合物の接合面をプラズマ処理前半とプラズマ処理後半とで化学処理の強度を切り替えることで被接合物表面を親水化し、被接合物の表面同士を水素結合させた後に常温〜約200℃でアニールリングを行う接合方法がある(例えば、特許文献2参照)。しかしながら、特許文献2の方法では、高い面精度、及び高い硬度の材料で形成されたウェハー同士での接合を前提としているため、無加圧でも水素結合によってある程度の結合力で仮接合できるものの、面精度が悪い場合には仮接合の際の結合が弱くなり、アニーリングを行う前に位置ずれが生じるおそれがある。 Further, the bonding surface of the object to be bonded is hydrophilized by switching the strength of the chemical treatment between the first half of the plasma treatment and the second half of the plasma treatment, and the surfaces of the objects to be bonded are hydrogen bonded to each other at a temperature of about 200 to about 200. There is a bonding method in which annealing ring is performed at a temperature (for example, see Patent Document 2). However, in the method of Patent Document 2, since it is premised on bonding between wafers formed of a material having high surface accuracy and high hardness, temporary bonding can be performed with a certain bonding force by hydrogen bonding even without pressure, If the surface accuracy is poor, the bond at the time of temporary bonding becomes weak, and there is a possibility that a position shift occurs before annealing.
また、被接合部材の一方にプラズマ重合体(有機物)を成膜し、当該被接合部材の両表面を親水化した後に加圧及び加熱することで高精度に接合を行う接合方法がある(例えば、特許文献3参照)。しかしながら、加圧及び加熱により水素結合と脱水縮合とが同時に進むため、接合後には強固な結合となり、位置ずれが生じても位置決めをやり直すことができない。 In addition, there is a bonding method in which a plasma polymer (organic substance) is formed on one of the members to be bonded, and both surfaces of the member to be bonded are hydrophilized and then pressurized and heated to perform bonding with high accuracy (for example, And Patent Document 3). However, since hydrogen bonding and dehydration condensation proceed simultaneously by pressurization and heating, a strong bond is formed after bonding, and positioning cannot be performed again even if a positional shift occurs.
本発明は、接合面の面粗さや面積等に依存せず、組み立て精度を向上させつつ、強固な結合が可能な接合方法を提供することを目的とする。 It is an object of the present invention to provide a bonding method that enables strong bonding while improving assembly accuracy without depending on the surface roughness or area of the bonding surface.
本発明は、上記接合方法を用いた接合体の製造方法を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the manufacturing method of the conjugate | zygote using the said joining method.
上記課題を解決するため、本発明に係る接合方法は、第1部材の第2部材に対向する第1接合面と第2部材の第1部材に対向する第2接合面との少なくとも一方を活性化状態にする活性化処理を行う表面活性化工程と、第1及び第2接合面を合わせた状態で加圧し水素結合によって第1及び第2部材を位置決め及び仮固定する位置決め工程と、位置決め工程における水素結合より強い結合処理によって第1及び第2接合面を接合する本固定工程と、を備え、表面活性化工程前における第1及び第2接合面の少なくとも一方の接合面の表面粗さは1nmより大きい。 In order to solve the above-described problem, the bonding method according to the present invention activates at least one of the first bonding surface of the first member facing the second member and the second bonding surface of the second member facing the first member. A surface activation step for performing an activation process for bringing the first and second joint surfaces into a combined state, a positioning step for positioning and temporarily fixing the first and second members by hydrogen bonding with the first and second joining surfaces being combined, and a positioning step And a main fixing step of bonding the first and second bonding surfaces by a bonding process stronger than the hydrogen bonding in step, and the surface roughness of at least one of the first and second bonding surfaces before the surface activation step is Greater than 1 nm.
上記接合方法によれば、位置決め工程での第1及び第2部材の水素結合による接合は水分等で外すことができる仮固定であるため、位置決めのやり直しを容易にすることができ、部材を再利用することができる。この位置決め時の仮固定は、部材の面精度が1nmより大きくても行うことができる。また、位置決めをした状態で本固定をするため、位置決め時においては組み立て誤差の原因となる接着剤等の硬化収縮が生じず、本固定で生じうる硬化収縮の影響を低減でき、組み立て精度を向上させることができる。 According to the above joining method, the joining of the first and second members by hydrogen bonding in the positioning step is temporary fixation that can be removed by moisture or the like, so that the positioning can be easily performed again, and the member can be re-used. Can be used. This temporary fixing at the time of positioning can be performed even if the surface accuracy of the member is larger than 1 nm. In addition, since the main fixing is performed in the state of positioning, there is no curing shrinkage of the adhesive or the like that causes an assembly error at the time of positioning, and the influence of the curing shrinkage that can be generated by the main fixing can be reduced, and the assembly accuracy is improved. Can be made.
本発明の具体的な態様又は観点では、上記接合方法において、第1及び第2部材の少なくとも一方の材料の弾性率が所定以下である場合、加圧の圧力を小さくする。この場合、位置決め時の加圧が最適なものとなり、部材に余分な負荷を与えず、かつ位置決めに十分な結合状態とすることができる。 In a specific aspect or viewpoint of the present invention, in the above-described joining method, when the elastic modulus of at least one material of the first and second members is equal to or lower than a predetermined value, the pressure of pressurization is reduced. In this case, the pressurization at the time of positioning is optimal, and an excessive load is not applied to the member, and a combined state sufficient for positioning can be obtained.
本発明の別の態様では、加圧の圧力は、0.05MPa以上10MPa以下である。この場合、部材に余分な負荷を与えず、かつ位置決めに十分な結合状態とすることができる。 In another aspect of the present invention, the pressure of pressurization is 0.05 MPa or more and 10 MPa or less. In this case, an excessive load is not applied to the member, and the coupling state sufficient for positioning can be obtained.
本発明のさらに別の態様では、第1接合面と第2接合面とが接合する第1部材の第1接合部と第2部材の第2接合部との少なくとも一方の弾性率は、3000MPa以下である。この場合、位置決め時の加圧力が比較的弱くても接合するため、部材に損傷を与えずに仮固定をすることができる。 In still another aspect of the present invention, the elastic modulus of at least one of the first joint portion of the first member and the second joint portion of the second member where the first joint surface and the second joint surface are joined is 3000 MPa or less. It is. In this case, since it joins even if the applied pressure at the time of positioning is comparatively weak, it can fix temporarily, without damaging a member.
本発明のさらに別の態様では、位置決め工程の環境温度は、170℃以下である。この場合、位置決め時に脱水縮合が起こらずに仮固定することができるため、位置決めし直す際に容易に結合状態を解除することができる。 In still another aspect of the present invention, the environmental temperature of the positioning step is 170 ° C. or lower. In this case, since it can be temporarily fixed without dehydration condensation at the time of positioning, the coupled state can be easily released at the time of positioning again.
本発明のさらに別の態様では、第1及び第2接合面の少なくとも一方は、シランカップリング剤を有する接着層を有する。第1及び第2部材の少なくとも一方が、水素結合が発現しにくいガラス等のセラミック材料である場合でも、本方法を適用することができる。 In still another aspect of the present invention, at least one of the first and second bonding surfaces has an adhesive layer having a silane coupling agent. This method can be applied even when at least one of the first and second members is a ceramic material such as glass that hardly develops hydrogen bonds.
本発明のさらに別の態様では、第1及び第2部材の少なくとも一方は、樹脂材料で形成される。この場合、樹脂材料はプラズマ処理等により容易に水素結合を発現することができ、かつ当該結合を維持することができる。 In still another aspect of the present invention, at least one of the first and second members is formed of a resin material. In this case, the resin material can easily develop hydrogen bonds by plasma treatment or the like, and can maintain the bonds.
本発明のさらに別の態様では、本固定工程において、加熱による脱水縮合を行う。この場合、本固定工程において、外部圧力をかけることなく本固定できるため、より高い寸法精度を出すことができる。 In still another embodiment of the present invention, dehydration condensation by heating is performed in the fixing step. In this case, in the main fixing step, the main fixing can be performed without applying external pressure, so that higher dimensional accuracy can be achieved.
本発明のさらに別の態様では、本固定工程において、接着剤で接合する。この場合、材料の形状によらず、第1接合面と第2接合面との間に隙間があれば接合させることができ、また第1及び第2接合部材の接合部分の面積を増加させることで、容易に接合強度を上げることができる。 In still another aspect of the present invention, the fixing is performed using an adhesive in the main fixing step. In this case, regardless of the shape of the material, if there is a gap between the first joint surface and the second joint surface, it can be joined, and the area of the joint portion of the first and second joining members can be increased. Thus, the bonding strength can be easily increased.
本発明のさらに別の態様では、本固定工程において、耐湿性の保護フィルムを有する粘着テープで接合する。この場合、接着剤等の硬化収縮にかかる時間は必要なく、また耐湿性のない水素結合を保護フィルムによって周囲環境から守ることにより、水素結合の接合強度を保つことができる。 In still another embodiment of the present invention, in the main fixing step, bonding is performed with an adhesive tape having a moisture-resistant protective film. In this case, the time required for curing shrinkage of the adhesive or the like is not necessary, and the hydrogen bond bonding strength can be maintained by protecting the hydrogen bond having no moisture resistance from the surrounding environment by the protective film.
本発明のさらに別の態様では、位置決め工程と本固定工程との間に第1及び第2部材の配置を検査する検査工程を備える。第1及び第2部材の配置が所期の設計通りである場合、位置決め工程後の仮固定された状態で次工程である本固定を精度良く行うことができる。一方、第1及び第2部材の配置が所期の設計とは異なる場合、第1及び第2部材は、水分等によって接合部の結合を解消し、再度表面活性化工程及び位置決め工程を行うことができる。これにより、歩留まり低下により生じるコスト増加を防ぐことができる。 In still another aspect of the present invention, an inspection process for inspecting the arrangement of the first and second members is provided between the positioning process and the main fixing process. When the arrangement of the first and second members is as designed, the final fixing, which is the next process, can be performed with high accuracy in the temporarily fixed state after the positioning process. On the other hand, if the arrangement of the first and second members is different from the intended design, the first and second members will release the bonding of the joints due to moisture etc. and perform the surface activation process and positioning process again. Can do. As a result, an increase in cost caused by a decrease in yield can be prevented.
上記課題を解決するため、本発明に係る接合体の製造方法は、第1部材と第2部材とを備える接合体の製造方法であって、第1部材の第2部材に対向する第1接合面と第2部材の第1部材に対向する第2接合面との少なくとも一方を活性化状態にする活性化処理を行う表面活性化工程と、第1及び第2接合面を合わせた状態で加圧し水素結合によって第1及び第2部材を位置決めする位置決め工程と、位置決め工程における水素結合より強い結合処理によって第1及び第2接合面を接合する本固定工程と、を備え、表面活性化工程前における第1及び第2接合面の少なくとも一方の接合面の表面粗さは1nmより大きい。 In order to solve the above-described problem, a method for manufacturing a joined body according to the present invention is a method for producing a joined body including a first member and a second member, and the first joint facing the second member of the first member. A surface activation process for performing an activation process for activating at least one of the surface and the second joint surface of the second member facing the first member, and adding the first and second joint surfaces together. A positioning step of positioning the first and second members by compressed hydrogen bonding, and a main fixing step of bonding the first and second bonding surfaces by a bonding process stronger than the hydrogen bonding in the positioning step, before the surface activation step The surface roughness of at least one of the first and second joint surfaces is greater than 1 nm.
上記接合体の製造方法によれば、位置決め工程での第1及び第2部材の水素結合による接合は水分等で外すことができる仮固定であるため、位置決めのやり直しを容易にすることができ、部材を再利用することができる。また、位置決めをした状態で本固定をするため、位置決め時においては組み立て誤差の原因となる接着剤等の硬化収縮が生じず、本固定で生じうる硬化収縮の影響を低減でき、組み立て精度を向上させることができる。 According to the method for manufacturing the joined body, the joining by the hydrogen bonding of the first and second members in the positioning step is temporary fixing that can be removed with moisture or the like, so that the positioning can be easily performed again. The member can be reused. In addition, since the main fixing is performed in the state of positioning, there is no curing shrinkage of the adhesive or the like that causes an assembly error at the time of positioning, and the influence of the curing shrinkage that can be generated by the main fixing can be reduced, and the assembly accuracy is improved. Can be made.
〔第1実施形態〕
以下、図面を参照しつつ、本発明の第1実施形態に係る接合体の接合方法及び接合体の製造方法によって製造された接合体について説明する。図1(A)及び1(B)に示すように、接合体100は、第1部材である光学素子10と第2部材である基板20とを有する。光学素子10と基板20とは、基板20が延びるXY面に垂直なZ軸方向に積み重ねられて接合されている。接合体100は、例えば基板20に発光素子22を設けることにより、光源ユニット200として利用することができる。接合体100は、後述する2段階の接合工程(具体的には、位置決め工程及び本固定工程)を経て接合されている。
[First Embodiment]
Hereinafter, a joined body manufactured by a joined body joining method and a joined body manufacturing method according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1A and 1B, the joined
光学素子10は、利用しようとする波長範囲の光を透過し得る光透過性を有する部材であり、例えば可視光領域の波長の光を透過する場合は透明の部材である。光学素子10は、樹脂材料で形成されている。樹脂材料としては、例えば熱可塑性樹脂、エネルギー硬化性樹脂、2液硬化性樹脂等が用いられる。熱可塑性樹脂としては、例えばCOP(シクロオレフィンポリマー)、COC(シクロオリフィンコポリマー)、PMMA(アクリル)、PC(ポリカーボネト)等が用いられる。エネルギー硬化性樹脂としては、例えば紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等が用いられる。2液硬化性樹脂としては、例えばエポキシ、シリコーン等が用いられる。光学素子10は、光軸OA方向から見て四角形の輪郭を有する。光学素子10は、レンズ要素10aと、レンズ要素10aを周囲から支持する支持部10bとを有する。レンズ要素10aは、例えば両凸の非球面レンズであり、第1光学面11aと第2光学面11bとを有する。支持部10bは、平板状の平板部分12aと、平板部分12aから光軸OAに平行に延びる一対の脚部分12bとを有する。脚部分12bは、光学素子10と基板20とを接合したい部分に対応して形成されている。図示の例では、脚部分12bは、互いに平行な一対の細長い水平断面を有する四角柱状となっている。なお、脚部分12bの配置及び形状は、支持部10bの平板部分12aを基板20に対して平行かつ安定して保てれば、適宜変更することができる。詳細は後述するが、光学素子10と基板20とは、位置決め時に仮固定した後に本固定することで強固に接合されている。光学素子10は、例えば集光レンズとして用いられる。
The
基板20は、透明で光透過性を有する板状部材であり、無機物であるガラスで形成されたガラス基板である。基板20の第1面20aには、光学素子10が接合されている。また、既に説明したように、図示の例では、基板20の第2面20bには、発光素子22が設けられている。発光素子22の中心は、光学素子10の光軸OA上に配置される。発光素子22としては、例えば有機EL素子やLED素子等が用いられる。
The
光学素子10の基板20に対向する第1接合面10cと基板20の光学素子10に対向する第2接合面20cとの間には、シランカップリング剤(又はシラノール含有接着剤)を有する接着層30が設けられている。
An adhesive layer having a silane coupling agent (or silanol-containing adhesive) between the
接合体100の接合前において、第1接合面10cと第2接合面20cとの少なくとも一方の接合面の表面粗さは1nmより大きい。第1接合面10cと第2接合面20cとが接合する光学素子(第1部材)10の第1接合部10dと基板(第2部材)20の第2接合部20dとの少なくとも一方の弾性率は、3000MPa以下となっている。これにより、接合体100の製造において、位置決め時の加圧力が比較的弱くても接合するため、部材に損傷を与えずに仮固定をすることができる。本実施形態では、第1部材である光学素子10の弾性率が3000MPa以下となっている。
Before the bonded
以下、図2(A)〜2(G)、及び図3を参照しつつ、接合体100の製造方法について説明する。接合体100の接合において、表面活性化工程と、位置決め工程と、検査工程と、本固定工程とが行われる。なお、図2(A)〜2(F)は、主に光学素子10の脚部分12b付近を拡大した図である。
Hereinafter, the manufacturing method of the joined
〔第1及び第2部材の準備〕
まず、第1部材である光学素子10を成形する(図3のステップS11)。成形方法として、射出成形、型成形等が用いられる。また、第2部材である基板20を準備する(図3のステップS11)。
[Preparation of first and second members]
First, the
〔接着層の形成〕
図2(A)及び2(B)に示すように、光学素子10の第1接合面10c及び基板20の第2接合面20cの少なくとも一方に、シランカップリング剤(又はシラノール含有接着剤)を有する接着層30を設ける(図3のステップS12)。これにより、基板20のような水素結合が発現しにくいガラス等のセラミック材料に対しても後述する接合方法を適用することができる。
(Formation of adhesive layer)
As shown in FIGS. 2 (A) and 2 (B), a silane coupling agent (or silanol-containing adhesive) is applied to at least one of the
〔表面活性化〕
図2(C)及び2(D)に示すように、第1及び第2接合面10c,20cの少なくとも一方を活性化状態にする活性化処理を行う(図3のステップS13)。活性化状態とは、部材の材料表面の元素にOH基(水酸基)、CHO基(アルデヒド基)等の極性基が接続された状態をいう。活性化処理として、具体的には、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、及び紫外線(UV)処理等を行い、材料にエネルギーを与えることで、上記活性化状態を引き起こす。図2(C)及び2(D)に示すように、活性化処理は、光学素子10の脚部分12bの端面12c及び基板20の第1面20aに対して一部又は全体に施される。これにより、光学素子10側及び基板20側の接着層30の表面SS1,SS2がそれぞれ活性化される。活性化処理は、好ましくは、大気中において常温で行うことができる。ここで、常温とは、20℃±15℃を意味する。
[Surface activation]
As shown in FIGS. 2C and 2D, an activation process is performed to activate at least one of the first and second bonding surfaces 10c and 20c (step S13 in FIG. 3). The activated state refers to a state in which polar groups such as OH group (hydroxyl group) and CHO group (aldehyde group) are connected to the element on the material surface of the member. Specifically, as the activation treatment, corona treatment, plasma treatment, ozone treatment, ultraviolet (UV) treatment, or the like is performed, and the activated state is caused by applying energy to the material. As shown in FIGS. 2C and 2D, the activation process is performed on a part or the whole of the
なお、接合体100を光源ユニット200の用途で用いる場合には、基板20の第2面20bに発光素子22を取り付けることが考えられる。この場合、上記処理を行う前に発光素子22を基板20に取り付けておくことが好ましい。
When the joined
光学素子10が樹脂材料で形成されることにより、樹脂材料はプラズマ処理等により容易に水素結合を発現することができ、かつ当該結合を維持することができる。水素結合は、OH基同士等に代表される極性基が互いに引き合う弱い接合である。
By forming the
〔位置決め〕
次に、第1及び第2接合面10c,20cを合わせた状態で加圧し水素結合によって光学素子10及び基板20を位置決め及び仮固定する位置決め工程を行う(図3のステップS14)。位置決め工程の環境温度は、170℃以下となっている。この場合、位置決め時に脱水縮合が起こらずに仮固定することができるため、位置決めし直す際に容易に結合状態を解除することができる。なお、位置決め工程において、170℃以下(特に、100℃以上170℃以下)での作業の際には、脱水縮合が起こらない時間を設定することが望ましい。
[Positioning]
Next, a positioning process is performed in which the first and second bonding surfaces 10c and 20c are pressed together to position and temporarily fix the
まず、図2(E)に示すように、光学素子10側の第1接合面10cと基板20側の第2接合面20cとを対向させ、第1及び第2接合面10c,20cの表面を活性化させた状態を維持しつつ、光学素子10と基板20とを隙間をあけた状態で接合位置に配置する。位置決めの際の光学素子10と基板20との間隔は、100nm以上であることが好ましい。また、位置決めにおいて、光学素子10及び基板20のいずれか一方を移動させてもよいし、両者を相対的に移動させてもよい。光学素子10及び基板20には、例えば位置決めのマークが設けられており、マーク位置を合わせることで位置決めを行う。また、光学素子10と基板20とに位置決め基準となる突き当て部を設ければ、当該突き当て部を突き当てることで位置決めすることもできる。
First, as shown in FIG. 2 (E), the
位置決め後、図2(F)に示すように、第1及び第2接合面10c,20cを活性化させた状態で、光学素子10と基板20とを当接させ接合させる。なお、当接の際には、所定以上の圧力で加圧して第1及び第2接合面10c,20cを密着させる。また、脱水縮合が起こらない範囲で常温より高い温度で接合することも可能である。
After the positioning, as shown in FIG. 2 (F), the
位置決め又は仮固定時の加圧については、光学素子10及び基板20の材料の弾性率に応じて、圧力を変えることが望ましい。例えば、本実施形態の光学素子10のように、部材の材料の弾性率が所定以下である場合、加圧の圧力を小さくする。言い換えれば、部材の材料の弾性率が低い場合、加圧の圧力を小さくする。これにより、位置決め時の加圧が最適なものとなり、部材に余分な負荷を与えず、かつ位置決めに十分な結合状態とすることができる。具体的には、加圧の圧力は、例えば0.05MPa以上10MPa以下である。使用する材料の加圧の圧力の最適な値は、上記範囲内で材料や温度により異なり、材料が柔らかくなるほど圧力は小さくてよい。なお、部材の材料の弾性率に関する上記所定の値は、部材に応じて異なるものである。
As for pressurization during positioning or temporary fixing, it is desirable to change the pressure according to the elastic modulus of the material of the
以上の位置決め工程において、光学素子10及び基板20が水素結合によって仮固定された状態となる。仮固定において、光学素子10及び基板20が所定の場所に一時的に固定されており、水に浸すこと等によって自由に取り外せる状態である。
In the above positioning step, the
〔検査〕
位置決め工程後、光学素子10及び基板20の配置を検査する検査工程を行う(図3のステップS15)。接合体100を仮固定した状態で、顕微鏡等を用いて光学素子10及び基板20の配置が所期の設計通りであるか検査する。光学素子10及び基板20の配置が所期の設計通りである場合、位置決め工程後の仮固定された状態で次工程である本固定を精度良く行うことができる。一方、光学素子10及び基板20の配置が所期の設計とは異なる場合、光学素子10及び基板20は、水分等によって接合部10d,20dの結合を解消し、再度表面活性化工程及び位置決め工程を行うことができる。
[Inspection]
After the positioning process, an inspection process for inspecting the arrangement of the
〔本固定〕
次に、図2(G)に示すように、位置決め工程における水素結合より強い結合処理によって第1及び第2接合面10c,20cを接合する本固定工程を行う(図3のステップS16)。具体的には、本固定工程において、ヒーターを含む加熱装置300を用いて、加熱による脱水縮合を行う。これにより、本固定工程において、外部圧力をかけることなく本固定できるため、より高い寸法精度を出すことができる。加熱温度は100℃以上であることが望ましい。脱水縮合反応は100℃以上で進み、温度が高くなるほど反応時間が短くなる傾向がある。なお、仮固定又は仮接合に要する時間で本固定が完了する(水分で取れなくなる)温度は170℃以上であるため、上述の位置決め工程において170℃以下であれば一般に完全に固定されない。
[Fixed]
Next, as shown in FIG. 2G, a main fixing step is performed in which the first and second bonding surfaces 10c and 20c are bonded by a bonding process stronger than hydrogen bonding in the positioning process (step S16 in FIG. 3). Specifically, in this fixing step, dehydration condensation by heating is performed using a
以上の本固定によって、光学素子10及び基板20は、所期の精度で、所定の場所に完全に固定されている状態となっている。
By the main fixing described above, the
上記説明した接合方法及び接合体の製造方法によれば、位置決め工程での第1及び第2部材の結合は水分等で外すことができる仮固定であるため、位置決めのやり直しを容易にすることができ、部材を再利用することができる。この位置決めによる仮固定は、部材の面精度が1nmより大きくても行うことができる。また、位置決め時に位置決めの評価を行うことができ、検査基準外の製品については部材間の結合を解除して位置決めし直すことで、部材を無駄にせずに位置決め精度が良い状態で本固定することができる。これにより、歩留まり低下により生じるコスト増加を防ぐことができる。また、位置決めをした状態で本固定をするため、位置決め時においては組み立て誤差の原因となる接着剤等の硬化収縮が生じず、本固定で生じうる硬化収縮の影響を低減でき、組み立て精度を向上させることができる。上記接合方法は、第1及び第2部材の表面粗さが悪い場合でも適用することができる。 According to the joining method and the joined body manufacturing method described above, the first and second members in the positioning step are temporarily fixed so that they can be removed by moisture or the like. And the member can be reused. Temporary fixing by this positioning can be performed even if the surface accuracy of the member is greater than 1 nm. In addition, positioning can be evaluated at the time of positioning. For products that are not inspected, it is possible to permanently fix the components without wasting them by releasing the connection between the members and re-positioning. Can do. As a result, an increase in cost caused by a decrease in yield can be prevented. In addition, since the main fixing is performed in the state of positioning, there is no curing shrinkage of the adhesive or the like that causes an assembly error at the time of positioning, and the influence of the curing shrinkage that can be generated by the main fixing can be reduced, and the assembly accuracy is improved. Can be made. The joining method can be applied even when the surface roughness of the first and second members is poor.
(実施例)
以下、本実施形態の実施例を説明する。第1及び第2部材の基材として、面粗度を3nmにした、COP(シクロオレフィンポリマー:日本ZEON E48R)を準備した。また、比較例として、面粗度を1nmにした、シリコンウェハーを準備した。第1及び第2部材の材料の詳細を表1に示す。
〔表1〕
(Example)
Hereinafter, examples of the present embodiment will be described. COP (cycloolefin polymer: Nippon ZEON E48R) having a surface roughness of 3 nm was prepared as a base material for the first and second members. As a comparative example, a silicon wafer having a surface roughness of 1 nm was prepared. Details of the materials of the first and second members are shown in Table 1.
[Table 1]
表2に実施例及び比較例の各工程の条件を示す。表面活性化工程において、第1部材の第1接合面及び第2部材の第2接合面に対して真空プラズマ装置を用いて第1及び第2接合面を活性化させた。接合可否については、第1又は第2部材の自重により、接合体が分離するか否かで判断し、分離しない場合には符号「○」とし、分離した場合には符号「×」とした。水分による分離については、接合体を水に浸して、接合体が分離するか否かで判断し、分離しない場合には符号「○」とし、分離した場合には符号「×」とした。
〔表2〕
Table 2 shows the conditions of each step of the examples and comparative examples. In the surface activation step, the first and second bonding surfaces were activated using a vacuum plasma apparatus with respect to the first bonding surface of the first member and the second bonding surface of the second member. Whether or not joining is possible is determined by whether or not the joined body is separated based on the weight of the first or second member. When the joined body is not separated, the sign is “◯”, and when it is separated, the sign is “x”. Separation by moisture is determined by immersing the joined body in water and determining whether or not the joined body is separated. When not separated, the sign is “◯”, and when separated, the sign is “x”.
[Table 2]
表2に示すように、実施例1〜3の条件で位置決め工程を行って仮接合した接合体を水に浸すことにより、第1及び第2部材を分離できることを確認した。また、本固定工程において、接着剤又は加熱により本固定した接合体を水に浸すことにより、接合体が分離しないことを確認した。なお、実施例2及び比較例1からわかるように、部材の材料がCOPの場合、位置決め工程時の加圧力が0.1MPaで、加圧時の温度が25℃の場合、第1及び第2部材は接合しなかったが、温度を130℃にすることで第1及び第2部材を接合することができた。また、実施例3からわかるように、部材の材料をシリコーン樹脂にした場合、加圧力が0.1MPaで、加圧時の温度が25℃であっても、位置決め工程で仮固定することができた。これにより、部材の弾性率が低い場合、加圧力を小さくできることがわかる。また、比較例2に示すように、位置決め工程において、加圧力が1MPaであっても、加圧時の温度が200℃であると、接合体が完全に固定されてしまい、水による分離ができなかった。また、比較例3に示すように、加圧力が0MPaの場合には、弾性率が低い部材でも仮固定することはできなかった。なお、参考として挙げた比較例4に示すように、面粗度1nmの部材では、加圧力が0MPaでも仮固定することができた。これにより、面粗度1nmより大きい部材では、仮固定時に少なくとも0.05MPa以上の加圧が必要であることがわかる。 As shown in Table 2, it was confirmed that the first and second members can be separated by immersing the joined body temporarily joined by performing the positioning step under the conditions of Examples 1 to 3 in water. In the final fixing step, it was confirmed that the bonded body was not separated by immersing the bonded body fixed by heating with an adhesive or heating in water. As can be seen from Example 2 and Comparative Example 1, when the material of the member is COP, when the pressing force during the positioning step is 0.1 MPa and the temperature during pressurization is 25 ° C., the first and second The members were not joined, but the first and second members could be joined by setting the temperature to 130 ° C. Further, as can be seen from Example 3, when the material of the member is made of silicone resin, it can be temporarily fixed in the positioning step even if the applied pressure is 0.1 MPa and the temperature at the time of pressurization is 25 ° C. It was. Thereby, when the elastic modulus of a member is low, it turns out that a pressurizing force can be made small. Further, as shown in Comparative Example 2, in the positioning step, even if the applied pressure is 1 MPa, if the temperature at the time of pressurization is 200 ° C., the joined body is completely fixed and separation by water is possible. There wasn't. Further, as shown in Comparative Example 3, when the pressure was 0 MPa, even a member having a low elastic modulus could not be temporarily fixed. As shown in Comparative Example 4 given as a reference, a member having a surface roughness of 1 nm could be temporarily fixed even when the applied pressure was 0 MPa. Thus, it can be seen that a member having a surface roughness greater than 1 nm needs to be pressurized at least 0.05 MPa at the time of temporary fixing.
〔第2実施形態〕
以下、第2実施形態に係る接合体の接合方法等について説明する。なお、第2実施形態に係る接合体の接合方法等は、第1実施形態の接合体の接合方法等を一部変更したものであり、特に説明しない事項は、第1実施形態と同様である。
[Second Embodiment]
Hereinafter, the joining method and the like of the joined body according to the second embodiment will be described. In addition, the joining method and the like of the joined body according to the second embodiment are obtained by partially changing the joining method and the like of the joined body of the first embodiment, and items that are not particularly described are the same as those of the first embodiment. .
図4(A)及び4(B)に示すように、第1部材である光学素子10と、第2部材である基板20とを有する。光学素子10の脚部分12bの端面12cには、格子状の溝12dが形成されている。本実施形態において、第1接合面10cは、端面12cの溝12dを除いた平坦な部分である。溝12dと基板20の第2接合面20cとの間には、接着剤40が充填され、光学素子10及び基板20を強固に固定している。
As shown in FIGS. 4A and 4B, the
本実施形態において、位置決め工程後、本固定工程では、第1部材である光学素子10と第2部材である基板20とを接着剤40を用いて接合する。具体的には、光学素子10の脚部分12bの溝12dと基板20の第2接合面20cとの間の空間に接着剤40を充填し、固化又は硬化させる。これにより、材料の形状によらず、第1接合面10cと第2接合面20cとの間に隙間があれば接合させることができ、光学素子10及び基板20の接合部分の面積を増加させることで、容易に接合強度を上げることができる。
In the present embodiment, after the positioning step, in the main fixing step, the
〔第3実施形態〕
以下、第3実施形態に係る接合体の接合方法等について説明する。なお、第3実施形態に係る接合体の接合方法等は、第1実施形態の接合体の接合方法等を一部変更したものであり、特に説明しない事項は、第1実施形態と同様である。
[Third Embodiment]
Hereinafter, the joining method and the like of the joined body according to the third embodiment will be described. Note that the joining method and the like of the joined body according to the third embodiment are obtained by partially changing the joining method and the like of the joined body of the first embodiment, and items that are not particularly described are the same as those of the first embodiment. .
図5(A)及び5(B)に示すように、本実施形態の接合体100は、第1部材である光学素子10と、第2部材である基板20とを有する。光学素子10は、レンズ要素10aの周囲を囲む升状又は四角筒状の脚部分12bを有する。Z軸方向又は光軸OA方向から見たときの光学素子10と基板20の大きさは略同じとなっている。接合体100には、光学素子10の第1接合部10dと基板20の第2接合部20dの周囲を囲むように、耐湿性(又は透湿性が低い)保護フィルムを有する粘着テープ50が設けられている。
As shown in FIGS. 5A and 5B, the joined
本実施形態において、位置決め工程後、本固定工程では、第1部材である光学素子10と第2部材である基板20とを粘着テープ50で接合する。具体的には、光学素子10の第1接合面10cと基板20の第2接合面20cとが接合する境界部分全体を覆うように粘着テープ50を貼り付ける。この場合、接着剤等の硬化収縮にかかる時間は必要なく、また耐湿性のない水素結合を保護フィルムによって周囲環境から守ることにより、水素結合の接合強度を保つことができる。
In the present embodiment, after the positioning step, in the final fixing step, the
以上、本実施形態に係る接合体等について説明したが、本発明に係る接合体等は上記のものには限られない。例えば、上記実施形態において、光学素子10及び基板20の形状及び大きさは、用途や機能に応じて適宜変更することができる。
Although the joined body and the like according to the present embodiment have been described above, the joined body and the like according to the present invention are not limited to the above. For example, in the above-described embodiment, the shapes and sizes of the
また、上記実施形態において、第1及び第2部材の厚さは、適宜変更することができ、厚くても薄くてもよい。 Moreover, in the said embodiment, the thickness of the 1st and 2nd member can be changed suitably, and may be thick or thin.
また、上記実施形態において、第1及び第2部材は、それぞれ光学素子10及び基板20に限らず、用途に応じて適宜変更することができる。接合体は、光学ユニットのほかに、例えば、電子部品、検査装置、半導体装置、マイクロ部品等でもよい。また、第1及び第2部材は、各部材の用途に応じて、例えば光学素子と光学素子との組み合わせや、光学素子と鏡筒との組み合わせとしてもよい。また、部材の接合は、2つに限らず、3つ以上でもよい。
In the above-described embodiment, the first and second members are not limited to the
また、上記実施形態において、第1及び第2部材の材料は、互いに異なるものであっても同じものであってもよい。 In the above embodiment, the materials of the first and second members may be different from each other or the same.
また、第1及び第2実施形態において、アレイ状の構造物を基板に接合した接合体を作製し、当該接合体を切断して、接合体を個片化してもよい。 In the first and second embodiments, a joined body in which an array-like structure is joined to a substrate may be manufactured, the joined body may be cut, and the joined body may be separated into pieces.
また、上記実施形態において、第1及び第2部材の両方に接着層30を設けたが、いずれか一方に設けてもよい。また、接着層30を設けなくてもよい。
Moreover, in the said embodiment, although the
また、上記実施形態において、本固定の方法については、加熱、接着剤、及び粘着テープのいずれかの組み合わせであってもよい。 Moreover, in the said embodiment, about the method of this fixing, any combination of a heating, an adhesive agent, and an adhesive tape may be sufficient.
10…光学素子、 10a…レンズ要素、 10b…支持部、 10c…第1接合面、 10d…第1接合部、 11a,11b…光学面、 12a…平板部分、 12b…脚部分、 12d…溝、 20…基板、 20c…第2接合面、 20d…第2接合部、 22…発光素子、 30…接着層、 40…接着剤、 50…粘着テープ、 100…接合体、 112d…凹部、 200…光源ユニット、 300…加熱装置、 OA…光軸
DESCRIPTION OF
Claims (12)
前記第1及び第2接合面を合わせた状態で加圧し水素結合によって前記第1及び第2部材を位置決め及び仮固定する位置決め工程と、
前記位置決め工程における前記水素結合より強い結合処理によって前記第1及び第2接合面を接合する本固定工程と、
を備え、
前記表面活性化工程前における前記第1及び第2接合面の少なくとも一方の接合面の表面粗さは1nmより大きいことを特徴とする接合方法。 A surface activation step of performing an activation process for activating at least one of a first joint surface of the first member facing the second member and a second joint surface of the second member facing the first member. When,
A positioning step of positioning and temporarily fixing the first and second members by hydrogen bonding and pressurizing the first and second joint surfaces together;
A main fixing step of bonding the first and second bonding surfaces by a bonding process stronger than the hydrogen bonding in the positioning step;
With
The bonding method according to claim 1, wherein a surface roughness of at least one of the first and second bonding surfaces before the surface activation step is greater than 1 nm.
前記第1部材の前記第2部材に対向する第1接合面と前記第2部材の前記第1部材に対向する第2接合面との少なくとも一方を活性化状態にする活性化処理を行う表面活性化工程と、
前記第1及び第2接合面を合わせた状態で加圧し水素結合によって前記第1及び第2部材を位置決めする位置決め工程と、
前記位置決め工程における前記水素結合より強い結合処理によって前記第1及び第2接合面を接合する本固定工程と、
を備え、
前記表面活性化工程前における前記第1及び第2接合面の少なくとも一方の接合面の表面粗さは1nmより大きいことを特徴とする接合体の製造方法。 A method of manufacturing a joined body including a first member and a second member,
Surface activation for performing an activation process for activating at least one of a first joint surface of the first member facing the second member and a second joint surface of the second member facing the first member. Conversion process,
A positioning step of positioning the first and second members by hydrogen bonding with the first and second joining surfaces being combined, and
A main fixing step of bonding the first and second bonding surfaces by a bonding process stronger than the hydrogen bonding in the positioning step;
With
A method of manufacturing a joined body, wherein a surface roughness of at least one of the first and second joint surfaces before the surface activation step is greater than 1 nm.
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