JP2019035081A - 合成高分子膜、合成高分子膜を有する積層体、合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法および合成高分子膜の表面の再活性化方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】合成高分子膜、合成高分子膜を有する積層体、合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法および合成高分子膜の表面の再活性化方法を提供する。【解決手段】合成高分子膜34Bは、複数の第1の凸部34Bpを有する表面を備える合成高分子膜であって、合成高分子膜の法線方向から見たとき、複数の第1の凸部の2次元的な大きさDpは20nm超500nm未満の範囲内にあり、表面は、複数の第1の凸部のうちの隣接する第1の凸部の間に平坦部を有する。【選択図】図1
Description
本発明は、殺菌作用を備えた表面を有する合成高分子膜、合成高分子膜を有する積層体、合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法、合成高分子膜の表面の再活性化方法、合成高分子膜を製造するための型および型の製造方法に関する。ここでいう「型」は、種々の加工方法(スタンピングやキャスティング)に用いられる型を包含し、スタンパということもある。また、印刷(ナノプリントを含む)にも用いられ得る。
最近、ブラックシリコン、セミやトンボの羽が有するナノ表面構造が殺菌作用を有することが発表された(非特許文献1)。例えば、ブラックシリコンは、高さが500nmのナノピラーを有し、このナノピラーの物理的な構造が、殺菌作用を発現するとされている。セミやトンボの羽は、高さが240nmのナノピラーを有している。
非特許文献1によると、グラム陰性菌に対する殺菌作用は、ブラックシリコンが最も強く、トンボの羽、セミの羽の順に弱くなる。また、これらの表面の水に対する静的接触角(以下、単に「接触角」ということがある。)は、ブラックシリコンが80°であるのに対し、トンボの羽は153°、セミの羽は159°である。
Ivanova, E. P. et al., "Bactericidal activity of black silicon", Nat. Commun. 4:2838 doi: 10.1038/ncomms3838(2013).
非特許文献1に記載の結果からは、ナノピラーによって細菌が殺されるメカニズムは明らかではない。さらに、ブラックシリコンがトンボやセミの羽よりも強い殺菌作用を有する理由が、ナノピラーの高さや形状の違いにあるのか、表面自由エネルギー(接触角で評価され得る)の違いにあるのか、不明である。
また、ブラックシリコンの殺菌作用を利用するにしても、ブラックシリコンは、量産性に乏しく、また、硬く脆いので、形状加工性が低いという問題がある。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、その主な目的は、殺菌作用を備えた表面を有する合成高分子膜、合成高分子膜を有する積層体、合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法、合成高分子膜の表面の再活性化方法、合成高分子膜を製造するための型および型の製造方法を提供することにある。
本発明の実施形態による合成高分子膜は、複数の第1の凸部を有する表面を備える合成高分子膜であって、前記合成高分子膜の法線方向から見たとき、前記複数の第1の凸部の2次元的な大きさは20nm超500nm未満の範囲内にあり、前記表面が殺菌効果を有する。
ある実施形態において、前記表面のヘキサデカンに対する静的接触角が51°以下である。
ある実施形態において、前記複数の第1の凸部の隣接間距離は20nm超1000nm以下である。
ある実施形態において、前記複数の第1の凸部の高さは、50nm以上500nm未満である。前記複数の第1の凸部の高さは、150nm以下であってもよい。
ある実施形態において、前記複数の第1の凸部は、微生物と接触したときにしなる(または傾く)ことができる。前記複数の第1の凸部のしなり(または傾き)は、微生物を除去するとリセットされ得る。
ある実施形態において、前記複数の第1の凸部の側面の法線は、前記合成高分子膜の法線方向に垂直な方向に対して傾斜角を有し、前記傾斜角は、前記複数の第1の凸部の先端からの前記合成高分子膜の法線方向における距離に対して連続的にまたは不連続的に変化する。
ある実施形態において前記複数の第1の凸部に重畳して形成された複数の第2の凸部をさらに有し、前記複数の第2の凸部の2次元的な大きさは、前記複数の第1の凸部の2次元的な大きさよりも小さく、かつ、100nmを超えない。
ある実施形態において、前記複数の第2の凸部は略円錐形の部分を含む。
ある実施形態において、前記複数の第2の凸部の高さは、20nm超100nm以下である。
ある実施形態において、前記合成高分子膜は、潤滑剤をさらに含む。前記潤滑剤は、フッ素系潤滑剤またはシリコーン系潤滑剤である。前記潤滑剤のHLB(Hydrophile−Lipophile Balance)値は7未満であることが好ましく、4未満であることがさらに好ましい。
ある実施形態において、前記合成高分子膜は、離型剤で表面が処理されている。前記離型剤は、フッ素系離型剤またはシリコーン系離型剤である。
ある実施形態において、前記合成高分子膜は、油で表面が処理されている。前記油は、例えばヘキサデカンまたはオレイン酸である。
本発明の実施形態による積層体は、上記のいずれかの合成高分子膜と、表面に油が付与されたカバーフィルムとを有し、前記カバーフィルムは、前記カバーフィルムの前記表面に付与された前記油が前記複数の第1の凸部に接触するように配置されている。
本発明の実施形態による気体または液体を殺菌する方法は、上記のいずれかの合成高分子膜の前記表面に、気体または液体を接触させる。
本発明の実施形態による合成高分子膜の表面の再活性化方法は、上記のいずれかの合成高分子膜であって、前記表面に微生物が付着した合成高分子膜を用意する工程(a)と、前記表面を水またはアルコールを含ませた布で拭くことによって、前記微生物を除去する工程(b)とを包含する。
本発明の実施形態による型は、複数の第1の凹部と、前記複数の第1の凹部内に形成された複数の第2の凹部とを有する表面を備える型であって、前記型の前記表面の法線方向から見たとき、前記複数の第1の凹部の2次元的な大きさは20nm超500nm未満の範囲内にあり、前記複数の第2の凹部の2次元的な大きさは、前記複数の第1の凹部の2次元的な大きさよりも小さく、かつ、100nmを超えない。
本発明の実施形態による型の製造方法は、上記の型を製造する方法であって、(a)アルミニウム基材または支持体の上に堆積されたアルミニウム膜を用意する工程と、(b)前記アルミニウム基材または前記アルミニウム膜の表面を電解液に接触させた状態で、第1のレベルの電圧を印加することによって、第1の凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する陽極酸化工程と、(c)前記工程(b)の後に、前記ポーラスアルミナ層をエッチング液に接触させることによって、前記第1の凹部を拡大させるエッチング工程と、(d)前記工程(c)の後に、前記ポーラスアルミナ層を電解液に接触させた状態で、前記第1のレベルよりも低い第2のレベルの電圧を印加することによって、前記第1の凹部内に、第2の凹部を形成する工程とを包含する。
ある実施形態において、前記第1のレベルは、40V超であり、前記第2のレベルは、20V以下である。
ある実施形態において、前記電解液は蓚酸水溶液である。
本発明の実施形態によると殺菌作用を備えた表面を有する合成高分子膜、合成高分子膜を有する積層体、合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法、合成高分子膜の表面の再活性化方法、合成高分子膜を製造するための型および型の製造方法が提供される。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態による、表面が殺菌効果を有する合成高分子膜、合成高分子膜を有する積層体、合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法および合成高分子膜の表面の再活性化方法、さらには、合成高分子膜を製造するための型および型の製造方法を説明する。
なお、本明細書においては、以下の用語を用いることにする。
「殺菌(sterilization(microbicidal))」は、物体や液体といった対象物や、限ら
れた空間に含まれる、増殖可能な微生物(microorganism)の数を、有効数減少させるこ
とをいう。
れた空間に含まれる、増殖可能な微生物(microorganism)の数を、有効数減少させるこ
とをいう。
「微生物」は、ウィルス、細菌(バクテリア)、真菌(カビ)を包含する。
「抗菌(antimicrobial)」は、微生物の繁殖を抑制・防止することを広く含み、微生
物に起因する黒ずみやぬめりを抑制することを含む。
物に起因する黒ずみやぬめりを抑制することを含む。
本出願人は、陽極酸化ポーラスアルミナ層を用いて、モスアイ構造を有する反射防止膜
(反射防止表面)を製造する方法を開発した。陽極酸化ポーラスアルミナ層を用いることによって、反転されたモスアイ構造を有する型を高い量産性で製造することができる(例えば、特許文献1〜4)。参考のために、特許文献1〜4の開示内容のすべてを本明細書に援用する。なお、これまでに、本出願人が製造販売している液晶テレビの表面に配置されている反射防止膜は、親水性を有している。これは、モスアイ構造に付着した指紋などの油脂を拭き取りやすくするためである。モスアイ構造が親水性でないと、水系の洗浄液が、モスアイ構造の凸部の間に効果的に侵入できず、油脂を拭き取ることができない。
(反射防止表面)を製造する方法を開発した。陽極酸化ポーラスアルミナ層を用いることによって、反転されたモスアイ構造を有する型を高い量産性で製造することができる(例えば、特許文献1〜4)。参考のために、特許文献1〜4の開示内容のすべてを本明細書に援用する。なお、これまでに、本出願人が製造販売している液晶テレビの表面に配置されている反射防止膜は、親水性を有している。これは、モスアイ構造に付着した指紋などの油脂を拭き取りやすくするためである。モスアイ構造が親水性でないと、水系の洗浄液が、モスアイ構造の凸部の間に効果的に侵入できず、油脂を拭き取ることができない。
本発明者は、上記の技術を応用することによって、表面が殺菌効果を有する合成高分子膜を開発するに至った。
図1(a)および(b)を参照して、本発明の実施形態による合成高分子膜の構造を説明する。
図1(a)および(b)は、本発明の実施形態による合成高分子膜34Aおよび34Bの模式的な断面図をそれぞれ示す。ここで例示する合成高分子膜34Aおよび34Bは、いずれもベースフィルム42Aおよび42B上にそれぞれ形成されているが、もちろんこれに限られない。合成高分子膜34Aおよび34Bは、任意の物体の表面に直接形成され得る。
図1(a)に示すフィルム50Aは、ベースフィルム42Aと、ベースフィルム42A上に形成された合成高分子膜34Aとを有している。合成高分子膜34Aは、表面に複数の凸部34Apを有しており、複数の凸部34Apは、モスアイ構造を構成している。合成高分子膜34Aの法線方向から見たとき、凸部34Apの2次元的な大きさDpは20
nm超500nm未満の範囲内にある。ここで、凸部34Apの「2次元的な大きさ」とは、表面の法線方向から見たときの凸部34Apの面積円相当径を指す。例えば、凸部34Apが円錐形の場合、凸部34Apの2次元的な大きさは、円錐の底面の直径に相当する。また、凸部34Apの典型的な隣接間距離Dintは20nm超1000nm以下であ
る。図1(a)に例示するように、凸部34Apが密に配列されており、隣接する凸部34Ap間に間隙が存在しない(例えば、円錐の底面が部分的に重なる)場合には、凸部34Apの2次元的な大きさDpは隣接間距離Dintと等しい。凸部34Apの典型的な高さDhは、50nm以上500nm未満である。後に実験例を示すように、凸部34Apの
高さDhが150nm以下であっても殺菌作用を発現する。合成高分子膜34Aの厚さtsに特に制限はなく、凸部34Apの高さDhより大きければよい。
nm超500nm未満の範囲内にある。ここで、凸部34Apの「2次元的な大きさ」とは、表面の法線方向から見たときの凸部34Apの面積円相当径を指す。例えば、凸部34Apが円錐形の場合、凸部34Apの2次元的な大きさは、円錐の底面の直径に相当する。また、凸部34Apの典型的な隣接間距離Dintは20nm超1000nm以下であ
る。図1(a)に例示するように、凸部34Apが密に配列されており、隣接する凸部34Ap間に間隙が存在しない(例えば、円錐の底面が部分的に重なる)場合には、凸部34Apの2次元的な大きさDpは隣接間距離Dintと等しい。凸部34Apの典型的な高さDhは、50nm以上500nm未満である。後に実験例を示すように、凸部34Apの
高さDhが150nm以下であっても殺菌作用を発現する。合成高分子膜34Aの厚さtsに特に制限はなく、凸部34Apの高さDhより大きければよい。
合成高分子膜34Aの表面は、殺菌性を有している。後に、図5(a)〜(d)に例示するように、凸部34Apが、例えばグラム陰性菌の一種である緑膿菌の細胞壁を破壊することによって、死に至らしめる。
図1(a)に示した合成高分子膜34Aは、特許文献1〜4に記載されている反射防止膜と同様のモスアイ構造を有している。反射防止機能を発現させるためには、表面に平坦な部分がなく、凸部34Apが密に配列されていることが好ましい。また、凸部34Apは、空気側からベースフィルム42A側に向かって、断面積(入射光線に直交する面に平行な断面、例えばベースフィルム42Aの面に平行な断面)が増加する形状、例えば、円錐形であることが好ましい。また、光の干渉を抑制するために、凸部34Apを規則性がないように、好ましくはランダムに、配列することが好ましい。しかしながら、合成高分子膜34Aの殺菌作用をもっぱら利用する場合には、これらの特徴は必要ではない。例えば、凸部34Apは密に配列される必要はなく、また、規則的に配列されてもよい。ただし、凸部34Apの形状や配置は、微生物に効果的に作用するように選択されることが好ましい。
図1(b)に示すフィルム50Bは、ベースフィルム42Bと、ベースフィルム42B上に形成された合成高分子膜34Bとを有している。合成高分子膜34Bは、表面に複数の凸部34Bpを有しており、複数の凸部34Bpは、モスアイ構造を構成している。フィルム50Bは、合成高分子膜34Bが有する凸部34Bpの構造が、フィルム50Aの合成高分子膜34Aが有する凸部34Apの構造と異なっている。フィルム50Aと共通の特徴については説明を省略することがある。
合成高分子膜34Bの法線方向から見たとき、凸部34Bpの2次元的な大きさDpは
20nm超500nm未満の範囲内にある。また、凸部34Bpの典型的な隣接間距離Dintは20nm超1000nm以下であり、かつ、Dp<Dintである。すなわち、合成高
分子膜34Bでは、隣接する凸部34Bpの間に平坦部が存在する。凸部34Bpは、空気側に円錐形の部分を有する円柱状であり、凸部34Bpの典型的な高さDhは、50n
m以上500nm未満である。また、凸部34Bpは、規則的に配列されていてもよいし、不規則に配列されていてもよい。凸部34Bpが規則的に配列されている場合、Dint
は配列の周期をも表すことになる。このことは、当然ながら、合成高分子膜34Aについても同じである。
20nm超500nm未満の範囲内にある。また、凸部34Bpの典型的な隣接間距離Dintは20nm超1000nm以下であり、かつ、Dp<Dintである。すなわち、合成高
分子膜34Bでは、隣接する凸部34Bpの間に平坦部が存在する。凸部34Bpは、空気側に円錐形の部分を有する円柱状であり、凸部34Bpの典型的な高さDhは、50n
m以上500nm未満である。また、凸部34Bpは、規則的に配列されていてもよいし、不規則に配列されていてもよい。凸部34Bpが規則的に配列されている場合、Dint
は配列の周期をも表すことになる。このことは、当然ながら、合成高分子膜34Aについても同じである。
なお、本明細書において、「モスアイ構造」は、図1(a)に示した合成高分子膜34Aの凸部34Apの様に、断面積(膜面に平行な断面)が増加する形状の凸部で構成される、優れた反射機能を有するナノ表面構造だけでなく、図1(b)に示した合成高分子膜34Bの凸部34Bpの様に、断面積(膜面に平行な断面)が一定の部分を有する凸部で構成されるナノ表面構造も包含する。なお、微生物の細胞壁および/または細胞膜を破壊するためには、円錐形の部分を有することが好ましい。ただし、円錐形の先端は、ナノ表面構造である必要は必ずしもなく、セミの羽が有するナノ表面構造を構成するナノピラー程度の丸み(約60nm)を有していてもよい。
合成高分子膜34Aおよび34Bの表面は、必要に応じて、処理されていてもよい。例えば、表面張力(または表面自由エネルギー)を調整するために、離型剤や表面処理剤を付与してもよい。離型剤や表面処理剤の種類によっては、合成高分子膜34Aおよび34Bの表面に薄い高分子膜が形成される。また、合成高分子膜34Aおよび34Bの表面をプラズマなどを用いて改質してもよい。例えば、フッ素を含むガスを用いたプラズマ処理によって、合成高分子膜34Aおよび34Bの表面に親油性を付与することができる。合成高分子膜34Aおよび34Bの表面が親油性を有すると、相対的に強い殺菌作用を有し得る。
合成高分子膜34Aおよび34Bの表面張力(または表面自由エネルギー)は、合成高分子膜34Aおよび34Bを形成する樹脂材料そのものを選択することによって調整することもできるし、樹脂材料に、HLB(Hydrophile−Lipophile Balance)値が小さい材料を混合することによって調整することもできるし、これらを組み合わせることもできる。一般に潤滑剤として市販されている材料のHLB値は小さい。特に、フッ素系潤滑剤やシリコーン系潤滑剤を好適に用いることができる。フッ素系潤滑剤やシリコーン系潤滑剤は、比較的少量を混合することによって、所望の表面張力を得ることができる。潤滑剤のHLB値は、7未満であることが好ましく、4未満であることがさらに好ましい。市販されている潤滑剤(界面活性剤)にはHLB値が記載されているものがある。HLB値は、デイビス法または川上法によって求めることができる。合成高分子膜34Aおよび34Bを形成する樹脂材料の選択、潤滑剤の混合による方法と併用して、または、独立に、上述の離型剤や表面処理剤を付与することによって、表面張力を調整してもよい。
後に、実験例を示して説明するように、合成高分子膜の表面のヘキサデカンに対する接触角は51°以下であることが好ましい。このような表面を有する合成高分子膜を得るためには、合成高分子膜がフッ素系化合物を含むことが好ましい。フッ素系化合物を含む合成高分子膜を得る方法として、以下の方法を挙げることができる。ここでは、紫外線硬化樹脂(例えばアクリル樹脂(メタクリル樹脂を包含する))を用いて合成高分子膜を形成する場合を例示するが、他の光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を用いる場合も同様の方法を利用することができる。
第1の方法:合成高分子膜を形成するアクリル樹脂の原料であるアクリルモノマー(アクリレート)として、フッ素含有モノマーを用いて、フッ素含有アクリル樹脂を得る。フッ素含有アクリル樹脂は、フッ素含有モノマー(すなわち、分子内にフッ素を有するモノマー)を硬化させることによって形成してもよいし、フッ素含有モノマーと、フッ素を分子内に有しないモノマーとの混合物を硬化させることによって形成してもよい。なお、本明細書において、モノマーは、光硬化性樹脂の原料の典型的な例として挙げるものであり、オリゴマーを排除しない。
第2の方法:合成高分子膜を形成するモノマーに、フッ素系潤滑剤を混合する。ここで、フッ素系潤滑剤とは、モノマーと反応しない、すなわち樹脂の骨格に直接または間接的に結合(共有結合)を形成しない化合物を指し、フッ素系界面活性剤、フッ素系潤滑剤、フッ素系消泡剤、フッ素系スリップ剤、フッ素系レベリング剤、フッ素系離型剤等として市販されている種々のフッ素系潤滑剤を含む。これらのフッ素系化合物は、典型的には、アルキル鎖中の水素原子をフッ素原子に置換した構造を有している。フッ素系潤滑剤のHLB値は、7未満であることが好ましく、4未満であることがさらに好ましい。後述の実験例で用いたフッ素系潤滑剤のHLB値は4未満である。
第3の方法:ベースフィルムと合成高分子膜との間に粘着層を有する構成を採用する場合には、粘着層に含まれる化合物が合成高分子膜中に拡散することを利用することができる。このような現象については、本出願人による、国際公開第2011/148721号に開示されている。国際公開第2011/148721号の開示内容のすべてを本明細書に参考のために援用する。粘着層に、上述のフッ素系潤滑剤を混合することによって、第2の方法と同様の効果を得ることができる。
なお、合成高分子膜に含まれるフッ素系潤滑剤の量は、全体に対して、0.1質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上5質量%以下であることがさらに好ましい。フッ素系潤滑剤の量が少ないと十分な効果が得られないことがあり、多すぎると、表面の汚れの原因となることがある。
図1(a)および(b)に例示したようなモスアイ構造を表面に形成するための型(以下、「モスアイ用型」という。)は、モスアイ構造を反転させた、反転されたモスアイ構造を有する。反転されたモスアイ構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナ層をそのまま型として利用すると、モスアイ構造を安価に製造することができる。特に、円筒状のモスアイ用型を用いると、ロール・ツー・ロール方式によりモスアイ構造を効率良く製造することができる。このようなモスアイ用型は、特許文献2〜4に記載されている方法で製造することができる。
図2A(a)〜(e)を参照して、合成高分子膜34Aを形成するための、モスアイ用型100Aの製造方法を説明する。
まず、図2A(a)に示すように、型基材として、アルミニウム基材12と、アルミニウム基材12の表面に形成された無機材料層16と、無機材料層16の上に堆積されたア
ルミニウム膜18とを有する型基材10を用意する。
ルミニウム膜18とを有する型基材10を用意する。
アルミニウム基材12としては、アルミニウムの純度が99.50mass%以上99.99mass%未満である比較的剛性の高いアルミニウム基材を用いる。アルミニウム基材12に含まれる不純物としては、鉄(Fe)、ケイ素(Si)、銅(Cu)、マンガン(Mn)、亜鉛(Zn)、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、スズ(Sn)およびマグネシウム(Mg)からなる群から選択された少なくとも1つの元素を含むことが好ましく、特にMgが好ましい。エッチング工程におけるピット(窪み)が形成されるメカニズムは、局所的な電池反応であるので、理想的にはアルミニウムよりも貴な元素を全く含まず、卑な金属であるMg(標準電極電位が−2.36V)を不純物元素として含むアルミニウム基材12を用いることが好ましい。アルミニウムよりも貴な元素の含有率が10ppm以下であれば、電気化学的な観点からは、当該元素を実質的に含んでいないと言える。Mgの含有率は、全体の0.1mass%以上であることが好ましく、約3.0mass%以下の範囲であることがさらに好ましい。Mgの含有率が0.1mass%未満では十分な剛性が得られない。一方、含有率が大きくなると、Mgの偏析が起こり易くなる。モスアイ用型を形成する表面付近に偏析が生じても電気化学的には問題とならないが、Mgはアルミニウムとは異なる形態の陽極酸化膜を形成するので、不良の原因となる。不純物元素の含有率は、アルミニウム基材12の形状、厚さおよび大きさに応じて、必要とされる剛性に応じて適宜設定すればよい。例えば圧延加工によって板状のアルミニウム基材12を作製する場合には、Mgの含有率は約3.0mass%が適当であるし、押出加工によって円筒などの立体構造を有するアルミニウム基材12を作製する場合には、Mgの含有率は2.0mass%以下であることが好ましい。Mgの含有率が2.0mass%を超えると、一般に押出加工性が低下する。
アルミニウム基材12として、例えば、JIS A1050、Al−Mg系合金(例えばJIS A5052)、またはAl−Mg−Si系合金(例えばJIS A6063)で形成された円筒状のアルミニウム管を用いる。
アルミニウム基材12の表面は、バイト切削が施されていることが好ましい。アルミニウム基材12の表面に、例えば砥粒が残っていると、砥粒が存在する部分において、アルミニウム膜18とアルミニウム基材12との間で導通しやすくなる。砥粒以外にも、凹凸が存在するところでは、アルミニウム膜18とアルミニウム基材12との間で局所的に導通しやすくなる。アルミニウム膜18とアルミニウム基材12との間で局所的に導通すると、アルミニウム基材12内の不純物とアルミニウム膜18との間で局所的に電池反応が起こる可能性がある。
無機材料層16の材料としては、例えば酸化タンタル(Ta2O5)または二酸化シリコン(SiO2)を用いることができる。無機材料層16は、例えばスパッタ法により形成
することができる。無機材料層16として、酸化タンタル層を用いる場合、酸化タンタル層の厚さは、例えば、200nmである。
することができる。無機材料層16として、酸化タンタル層を用いる場合、酸化タンタル層の厚さは、例えば、200nmである。
無機材料層16の厚さは、100nm以上500nm未満であることが好ましい。無機材料層16の厚さが100nm未満であると、アルミニウム膜18に欠陥(主にボイド、すなわち結晶粒間の間隙)が生じることがある。また、無機材料層16の厚さが500nm以上であると、アルミニウム基材12の表面状態によって、アルミニウム基材12とアルミニウム膜18との間が絶縁されやすくなる。アルミニウム基材12側からアルミニウム膜18に電流を供給することによってアルミニウム膜18の陽極酸化を行うためには、アルミニウム基材12とアルミニウム膜18との間に電流が流れる必要がある。円筒状のアルミニウム基材12の内面から電流を供給する構成を採用すると、アルミニウム膜18に電極を設ける必要がないので、アルミニウム膜18を全面にわたって陽極酸化できると
ともに、陽極酸化の進行に伴って電流が供給され難くなるという問題も起こらず、アルミニウム膜18を全面にわたって均一に陽極酸化することができる。
ともに、陽極酸化の進行に伴って電流が供給され難くなるという問題も起こらず、アルミニウム膜18を全面にわたって均一に陽極酸化することができる。
また、厚い無機材料層16を形成するためには、一般的には成膜時間を長くする必要がある。成膜時間が長くなると、アルミニウム基材12の表面温度が不必要に上昇し、その結果、アルミニウム膜18の膜質が悪化し、欠陥(主にボイド)が生じることがある。無機材料層16の厚さが500nm未満であれば、このような不具合の発生を抑制することもできる。
アルミニウム膜18は、例えば、特許文献3に記載されているように、純度が99.99mass%以上のアルミニウムで形成された膜(以下、「高純度アルミニウム膜」ということがある。)である。アルミニウム膜18は、例えば、真空蒸着法またはスパッタ法を用いて形成される。アルミニウム膜18の厚さは、約500nm以上約1500nm以下の範囲にあることが好ましく、例えば、約1μmである。
また、アルミニウム膜18として、高純度アルミニウム膜に代えて、特許文献4に記載されている、アルミニウム合金膜を用いてもよい。特許文献4に記載のアルミニウム合金膜は、アルミニウムと、アルミニウム以外の金属元素と、窒素とを含む。本明細書において、「アルミニウム膜」は、高純度アルミニウム膜だけでなく、特許文献4に記載のアルミニウム合金膜を含むものとする。
上記アルミニウム合金膜を用いると、反射率が80%以上の鏡面を得ることができる。アルミニウム合金膜を構成する結晶粒の、アルミニウム合金膜の法線方向から見たときの平均粒径は、例えば、100nm以下であり、アルミニウム合金膜の最大表面粗さRmaxは60nm以下である。アルミニウム合金膜に含まれる窒素の含有率は、例えば、0.5mass%以上5.7mass%以下である。アルミニウム合金膜に含まれるアルミニウム以外の金属元素の標準電極電位とアルミニウムの標準電極電位との差の絶対値は0.64V以下であり、アルミニウム合金膜中の金属元素の含有率は、1.0mass%以上1.9mass%以下であることが好ましい。金属元素は、例えば、TiまたはNdである。但し、金属元素はこれに限られず、金属元素の標準電極電位とアルミニウムの標準電極電位との差の絶対値が0.64V以下である他の金属元素(例えば、Mn、Mg、Zr、VおよびPb)であってもよい。さらに、金属元素は、Mo、NbまたはHfであってもよい。アルミニウム合金膜は、これらの金属元素を2種類以上含んでもよい。アルミニウム合金膜は、例えば、DCマグネトロンスパッタ法で形成される。アルミニウム合金膜の厚さも約500nm以上約1500nm以下の範囲にあることが好ましく、例えば、約1μmである。
次に、図2A(b)に示すように、アルミニウム膜18の表面18sを陽極酸化することによって、複数の凹部(細孔)14pを有するポーラスアルミナ層14を形成する。ポーラスアルミナ層14は、凹部14pを有するポーラス層と、バリア層(凹部(細孔)14pの底部)とを有している。隣接する凹部14pの間隔(中心間距離)は、バリア層の厚さのほぼ2倍に相当し、陽極酸化時の電圧にほぼ比例することが知られている。この関係は、図2A(e)に示す最終的なポーラスアルミナ層14についても成立する。
ポーラスアルミナ層14は、例えば、酸性の電解液中で表面18sを陽極酸化することによって形成される。ポーラスアルミナ層14を形成する工程で用いられる電解液は、例えば、蓚酸、酒石酸、燐酸、硫酸、クロム酸、クエン酸およびリンゴ酸からなる群から選択される酸を含む水溶液である。例えば、アルミニウム膜18の表面18sを、蓚酸水溶液(濃度0.3mass%、液温10℃)を用いて、印加電圧80Vで55秒間陽極酸化を行うことにより、ポーラスアルミナ層14を形成する。
次に、図2A(c)に示すように、ポーラスアルミナ層14をアルミナのエッチャントに接触させることによって所定の量だけエッチングすることにより凹部14pの開口部を拡大する。エッチング液の種類・濃度、およびエッチング時間を調整することによって、エッチング量(すなわち、凹部14pの大きさおよび深さ)を制御することができる。エッチング液としては、例えば10mass%の燐酸や、蟻酸、酢酸、クエン酸などの有機酸や硫酸の水溶液やクロム酸燐酸混合水溶液を用いることができる。例えば、燐酸水溶液(10mass%、30℃)を用いて20分間エッチングを行う。
次に、図2A(d)に示すように、再び、アルミニウム膜18を部分的に陽極酸化することにより、凹部14pを深さ方向に成長させるとともにポーラスアルミナ層14を厚くする。ここで凹部14pの成長は、既に形成されている凹部14pの底部から始まるので、凹部14pの側面は階段状になる。
さらにこの後、必要に応じて、ポーラスアルミナ層14をアルミナのエッチャントに接触させることによってさらにエッチングすることにより凹部14pの孔径をさらに拡大する。エッチング液としては、ここでも上述したエッチング液を用いることが好ましく、現実的には、同じエッチング浴を用いればよい。
このように、上述した陽極酸化工程およびエッチング工程を交互に複数回(例えば5回:陽極酸化を5回とエッチングを4回)繰り返すことによって、図2A(e)に示すように、反転されたモスアイ構造を有するポーラスアルミナ層14を有するモスアイ用型100Aが得られる。陽極酸化工程で終わることによって、凹部14pの底部を点にできる。すなわち、先端が尖った凸部を形成することができる型が得られる。
図2A(e)に示すポーラスアルミナ層14(厚さtp)は、ポーラス層(厚さは凹部
14pの深さDdに相当)とバリア層(厚さtb)とを有する。ポーラスアルミナ層14は、合成高分子膜34Aが有するモスアイ構造を反転した構造を有するので、その大きさを特徴づける対応するパラメータに同じ記号を用いることがある。
14pの深さDdに相当)とバリア層(厚さtb)とを有する。ポーラスアルミナ層14は、合成高分子膜34Aが有するモスアイ構造を反転した構造を有するので、その大きさを特徴づける対応するパラメータに同じ記号を用いることがある。
ポーラスアルミナ層14が有する凹部14pは、例えば円錐形であり、階段状の側面を有してもよい。凹部14pの二次元的な大きさ(表面の法線方向から見たときの凹部の面積円相当径)Dpは20nm超500nm未満で、深さDdは50nm以上1000nm(1μm)未満程度であることが好ましい。また、凹部14pの底部は尖っている(最底部は点になっている)ことが好ましい。凹部14pは密に充填されている場合、ポーラスアルミナ層14の法線方向から見たときの凹部14pの形状を円と仮定すると、隣接する円は互いに重なり合い、隣接する凹部14pの間に鞍部が形成される。なお、略円錐形の凹部14pが鞍部を形成するように隣接しているときは、凹部14pの二次元的な大きさDpは隣接間距離Dintと等しい。ポーラスアルミナ層14の厚さtpは、例えば、約1μm
以下である。
以下である。
なお、図2A(e)に示すポーラスアルミナ層14の下には、アルミニウム膜18のうち、陽極酸化されなかったアルミニウム残存層18rが存在している。必要に応じて、アルミニウム残存層18rが存在しないように、アルミニウム膜18を実質的に完全に陽極酸化してもよい。例えば、無機材料層16が薄い場合には、アルミニウム基材12側から容易に電流を供給することができる。
ここで例示したモスアイ用型の製造方法は、特許文献2〜4に記載の反射防止膜を作製するための型を製造することができる。高精細な表示パネルに用いられる反射防止膜には、高い均一性が要求されるので、上記のようにアルミニウム基材の材料の選択、アルミニ
ウム基材の鏡面加工、アルミニウム膜の純度や成分の制御を行うことが好ましいが、殺菌作用に高い均一性は求められないので、上記の型の製造方法を簡略化することができる。例えば、アルミニウム基材の表面を直接、陽極酸化してもよい。また、このときアルミニウム基材に含まれる不純物の影響でピットが形成されても、最終的に得られる合成高分子膜34Aのモスアイ構造に局所的な構造の乱れが生じるだけで、殺菌作用に与える影響はほとんどないと考えられる。
ウム基材の鏡面加工、アルミニウム膜の純度や成分の制御を行うことが好ましいが、殺菌作用に高い均一性は求められないので、上記の型の製造方法を簡略化することができる。例えば、アルミニウム基材の表面を直接、陽極酸化してもよい。また、このときアルミニウム基材に含まれる不純物の影響でピットが形成されても、最終的に得られる合成高分子膜34Aのモスアイ構造に局所的な構造の乱れが生じるだけで、殺菌作用に与える影響はほとんどないと考えられる。
また、上述の型の製造方法によると、反射防止膜の作製に好適な、凹部の配列の規則性が低い型を製造することができる。モスアイ構造の殺菌性を利用する場合には、凸部の配列の規則性は影響しないと考えられる。規則的に配列された凸部を有するモスアイ構造を形成するための型は、例えば、以下のようにして製造することができる。
例えば厚さが約10μmのポーラスアルミナ層を形成した後、生成されたポーラスアルミナ層をエッチングにより除去してから、上述のポーラスアルミナ層を生成する条件で陽極酸化を行えばよい。厚さが10μmのポーラスアルミナ層は、陽極酸化時間を長くすることによって形成される。このように比較的厚いポーラスアルミナ層を生成し、このポーラスアルミナ層を除去すると、アルミニウム膜またはアルミニウム基材の表面に存在するグレインによる凹凸や加工ひずみの影響を受けることなく、規則的に配列された凹部を有するポーラスアルミナ層を形成することができる。なお、ポーラスアルミナ層の除去には、クロム酸と燐酸との混合液を用いることが好ましい。長時間にわたるエッチングを行うとガルバニック腐食が発生することがあるが、クロム酸と燐酸との混合液はガルバニック腐食を抑制する効果がある。
図1(b)に示した合成高分子膜34Bを形成するためのモスアイ用型も、基本的に、上述した陽極酸化工程とエッチング工程とを組み合わせることによって製造することができる。図2B(a)〜(c)を参照して、合成高分子膜34Bを形成するための、モスアイ用型100Bの製造方法を説明する。
まず、図2A(a)および(b)を参照して説明したのと同様に、型基材10を用意し、アルミニウム膜18の表面18sを陽極酸化することによって、複数の凹部(細孔)14pを有するポーラスアルミナ層14を形成する。
次に、図2B(a)に示すように、ポーラスアルミナ層14をアルミナのエッチャントに接触させることによって所定の量だけエッチングすることにより凹部14pの開口部を拡大する。このとき、図2A(c)を参照して説明したエッチング工程よりも、エッチング量を少なくする。すなわち、凹部14pの開口部の大きさを小さくする。例えば、燐酸水溶液(10mass%、30℃)を用いて10分間エッチングを行う。
次に、図2B(b)に示すように、再び、アルミニウム膜18を部分的に陽極酸化することにより、凹部14pを深さ方向に成長させるとともにポーラスアルミナ層14を厚くする。このとき、図2A(d)を参照して説明した陽極酸化工程よりも、凹部14pを深く成長させる。例えば、蓚酸水溶液(濃度0.3mass%、液温10℃)を用いて、印加電圧80Vで165秒間陽極酸化を行う(図2A(d)では55秒間)。
その後、図2A(e)を参照して説明したのと同様に、エッチング工程および陽極酸化工程を交互に複数回くり返す。例えば、エッチング工程を3回、陽極酸化工程を3回、交互に繰り返すことによって、図2B(c)に示すように、反転されたモスアイ構造を有するポーラスアルミナ層14を有するモスアイ用型100Bが得られる。このとき、凹部14pの二次元的な大きさDpは隣接間距離Dintより小さい(Dp<Dint)。
続いて、図3を参照して、モスアイ用型100を用いた合成高分子膜の製造方法を説明する。図3は、ロール・ツー・ロール方式により合成高分子膜を製造する方法を説明するための模式的な断面図である。
まず、円筒状のモスアイ用型100を用意する。なお、円筒状のモスアイ用型100は、例えば図2Aを参照して説明した製造方法で製造される。
図3に示すように、紫外線硬化樹脂34’が表面に付与されたベースフィルム42を、モスアイ用型100に押し付けた状態で、紫外線硬化樹脂34’に紫外線(UV)を照射することによって紫外線硬化樹脂34’を硬化する。紫外線硬化樹脂34’としては、例えばアクリル系樹脂を用いることができる。ベースフィルム42は、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムまたはTAC(トリアセチルセルロース)フィルムである。ベースフィルム42は、図示しない巻き出しローラから巻き出され、その後、表面に、例えばスリットコータ等により紫外線硬化樹脂34’が付与される。ベースフィルム42は、図3に示すように、支持ローラ46および48によって支持されている。支持ローラ46および48は、回転機構を有し、ベースフィルム42を搬送する。また、円筒状のモスアイ用型100は、ベースフィルム42の搬送速度に対応する回転速度で、図3に矢印で示す方向に回転される。
その後、ベースフィルム42からモスアイ用型100を分離することによって、モスアイ用型100の反転されたモスアイ構造が転写された合成高分子膜34がベースフィルム42の表面に形成される。表面に合成高分子膜34が形成されたベースフィルム42は、図示しない巻き取りローラにより巻き取られる。
合成高分子膜34の表面は、モスアイ用型100のナノ表面構造を反転したモスアイ構造を有する。用いるモスアイ用型100のナノ表面構造に応じて、図1(a)および(b)に示した合成高分子膜34Aおよび34Bを作製することができる。合成高分子膜34を形成する材料は、紫外線硬化性樹脂に限られず、可視光で硬化可能な光硬化性樹脂を用いることもできるし、熱硬化性樹脂を用いることもできる。
以下に、実験例を示して、上述のモスアイ構造を有する表面を備える合成高分子膜が殺菌性を有することを説明する。
上述の型の製造方法に従って作製した型を用いて、図1(a)に示したフィルム50Aの凸部34Apのような円錐形の凸部を有する合成高分子膜を作製した。殺菌作用の評価に供した試料フィルムにおけるDpは約200nm、Dintは約200nm、Dhは約15
0nmであった(例えば図5参照)。細胞壁に局所的な変形を生じさせるためには、隣接する凸部は離れていることが好ましく、DpとDintとの差は、例えば、Dpの0倍〜2倍
が好ましく、0.5倍〜2倍がより好ましい。ここで、Dp、Dint、およびDhはSEM
像から求めた平均値を指す。SEM像の撮影には、電界放出型走査電子顕微鏡(日立製作所製のS−4700)を用いた。
0nmであった(例えば図5参照)。細胞壁に局所的な変形を生じさせるためには、隣接する凸部は離れていることが好ましく、DpとDintとの差は、例えば、Dpの0倍〜2倍
が好ましく、0.5倍〜2倍がより好ましい。ここで、Dp、Dint、およびDhはSEM
像から求めた平均値を指す。SEM像の撮影には、電界放出型走査電子顕微鏡(日立製作所製のS−4700)を用いた。
合成高分子膜を形成する樹脂材料としては、紫外線硬化性樹脂を用いた。試料フィルムNo.1および試料フィルムNo.2は、同じフッ素含有アクリル樹脂を用いて作製した。試料フィルムNo.2には、得られた合成高分子膜の表面に離型剤を付与することによって、試料フィルムNo.1の合成高分子膜の表面と表面自由エネルギーが異なる表面を有する合成高分子膜を得た。試料フィルムNo.3は、含フッ素アニオン系潤滑剤F1を混合したウレタンアクリレート含有アクリル樹脂を用いて作製した。含フッ素アニオン系潤滑剤F1は、フッ素系スリップ剤(またはフッ素系界面活性剤)として市販されているフタージェント150(ネオス社製)を用い、全体に対して2質量%混合した。試料フィ
ルムNo.4は、ウレタンアクリレート含有アクリル樹脂(上記潤滑剤F1を混合しないもの)を用いて作製した合成高分子膜の表面に離型剤を付与した。試料フィルムNo.2およびNo.4の合成高分子膜の離型処理は、フッ素系の離型剤(ダイキン工業株式会社製、オプツールDSX)を用い、合成高分子膜の表面の全体に離型剤が広がるように散布し、室温、大気中で自然乾燥させた。試料フィルムNo.2に用いた離型剤R1および試料フィルムNo.4に用いた離型剤R2は、いずれもオプツールDSXをパーフルオルオロヘキサンでそれぞれの濃度に希釈したものである。
ルムNo.4は、ウレタンアクリレート含有アクリル樹脂(上記潤滑剤F1を混合しないもの)を用いて作製した合成高分子膜の表面に離型剤を付与した。試料フィルムNo.2およびNo.4の合成高分子膜の離型処理は、フッ素系の離型剤(ダイキン工業株式会社製、オプツールDSX)を用い、合成高分子膜の表面の全体に離型剤が広がるように散布し、室温、大気中で自然乾燥させた。試料フィルムNo.2に用いた離型剤R1および試料フィルムNo.4に用いた離型剤R2は、いずれもオプツールDSXをパーフルオルオロヘキサンでそれぞれの濃度に希釈したものである。
各試料フィルムの表面張力を接触角計(協和界面科学社製、PCA−1)を用いて、各試料フィルムに対する、22℃における水およびヘキサデカンの接触角を測定した。5回測定した接触角の平均値を下記の表1に示す。
殺菌性の評価は、以下の手順で行った。
1.冷凍保存された緑膿菌付きのビーズ(独立行政法人 製品評価技術基盤機構から購入)を37℃の培養液中に24時間浸漬することによって解凍
2.遠心分離(3000rpm、10分間)
3.培養液の上澄み液を捨てる
4.滅菌水を入れて撹拌した後、再び遠心分離
5.上記2〜4の操作を3回繰り返すことによって菌原液(菌数1E+08CFU/mL)を得る
6.1/500NB培地および菌希釈液A(菌数1E+06CFU/mL)を調製
1/500NB培地:NB培地(栄研化学株式会社製、普通ブイヨン培地E−MC35)を滅菌水で500倍に希釈
菌希釈液A:菌原液500μL+培養液100μL+滅菌水49.4mL
7.菌希釈液Aに、栄養源として1/500NB培地を添加した菌希釈液Bを調製(JISZ2801の5.4a)に準拠)
8.黒アクリル板に配置した各試料フィルムに、10cm程度離れた距離から、菌希釈液Bを2回噴霧(1回の噴霧量:約150μL)
9.菌希釈液Bが噴霧された各試料フィルムを密閉樹脂容器(37℃、相対湿度100%)内で所定時間放置
10.その後、試料フィルム表面をぺたんチェック(栄研化学株式会社製、登録商標、製品名:PT1025)でスタンプすることによって、試料フィルム表面の菌を標準寒天培地に付着
11.標準寒天培地に付着した菌を、37℃で24時間培養した後、コロニーの有無を
確認
1.冷凍保存された緑膿菌付きのビーズ(独立行政法人 製品評価技術基盤機構から購入)を37℃の培養液中に24時間浸漬することによって解凍
2.遠心分離(3000rpm、10分間)
3.培養液の上澄み液を捨てる
4.滅菌水を入れて撹拌した後、再び遠心分離
5.上記2〜4の操作を3回繰り返すことによって菌原液(菌数1E+08CFU/mL)を得る
6.1/500NB培地および菌希釈液A(菌数1E+06CFU/mL)を調製
1/500NB培地:NB培地(栄研化学株式会社製、普通ブイヨン培地E−MC35)を滅菌水で500倍に希釈
菌希釈液A:菌原液500μL+培養液100μL+滅菌水49.4mL
7.菌希釈液Aに、栄養源として1/500NB培地を添加した菌希釈液Bを調製(JISZ2801の5.4a)に準拠)
8.黒アクリル板に配置した各試料フィルムに、10cm程度離れた距離から、菌希釈液Bを2回噴霧(1回の噴霧量:約150μL)
9.菌希釈液Bが噴霧された各試料フィルムを密閉樹脂容器(37℃、相対湿度100%)内で所定時間放置
10.その後、試料フィルム表面をぺたんチェック(栄研化学株式会社製、登録商標、製品名:PT1025)でスタンプすることによって、試料フィルム表面の菌を標準寒天培地に付着
11.標準寒天培地に付着した菌を、37℃で24時間培養した後、コロニーの有無を
確認
上記の試料フィルムNo.1〜4のそれぞれについて、上記9.における放置時間を0時間(5分)と3時間としたものについて、ぺたんチェック(登録商標)によって標準寒天培地で培養した結果を図4(a)および(b)に示す。図4(a)の上段は試料フィルムNo.1(放置時間:0時間(5分)、3時間)、下段は試料フィルムNo.2(放置時間:0時間(5分)、3時間)の評価結果を示す。図4(b)の上段は試料フィルムNo.3(放置時間:0時間(5分)、3時間)、下段は試料フィルムNo.4(放置時間:0時間(5分)、3時間)の評価結果を示す。
図4(a)および(b)を参照する。試料フィルムNo.1〜4について、左(放置時間が0時間(5分))では菌が培地のほぼ全面にまで増殖しているのに対して、試料フィルムNo.1、3および4の右(放置時間が3時間)では菌の増殖は認められない。試料フィルムNo.2の右(放置時間3時間)については、菌の増殖が認められるものの、その数は、左(放置時間0時間(5分))に比べて明らかに少ない。
このことから、試料フィルムNo.1〜4のいずれも殺菌作用を有していることがわかる。試料フィルムNo.2の殺菌作用が、試料フィルムNo.1よりも弱い理由として、表面自由エネルギーの違いが考えられる。表1に示したように、試料フィルムNo.2のヘキサデカンに対する接触角は50.9°であり、試料フィルムNo.1の30.7°に比べて、約20°も大きい。すなわち、試料フィルムNo.2の表面は、試料フィルムNo.1の表面に比べて、親油性が劣っているために、殺菌性が弱いと考えられる。
図5(a)〜(d)に、試料フィルムNo.1のモスアイ構造を有する表面で死に至った緑膿菌をSEM(走査型電子顕微鏡)で観察した例を示す。図5(a)および(b)のSEM像中のフルスケールは1μmであり、図5(c)および(d)は、それぞれ図5(a)および図5(b)を拡大したもので、SEM像中のフルスケールは500nmである。
これらのSEM像を見ると、凸部の先端部分が緑膿菌の細胞壁(外膜)内に侵入している様子が見て取れる。また、図5(c)および(d)を見ると、凸部が細胞壁を突き破ったように見えず、凸部が細胞壁に取り込まれたかのように見える。これは、非特許文献1のSupplemental Informationにおいて示唆されているメカニズムで説明されるかもしれない。すなわち、グラム陰性菌の外膜(脂質二重膜)が凸部と近接して変形することによって、脂質二重膜が局所的に1次の相転移に似た転移(自発的な再配向)を起こし、凸部に近接する部分に開口が形成され、この開口に凸部が侵入したのかもしれない。
上記のメカニズムの妥当性は別にして、上記の実験結果から、合成高分子膜の表面が適度な親油性(ヘキサデカンに対する接触角で50.9°以下が好ましい。)を有すると、水溶液中のグラム陰性菌が合成高分子膜の凸部に近接し、相互作用する結果、グラム陰性菌の外膜(脂質二重膜)内に凸部が侵入し、細胞壁が破壊されると考えられる。このときグラム陰性菌の外膜に作用する力は、外膜の表面の自由エネルギー、凸部の表面の自由エネルギーおよびこれらの表面に接触する水の自由エネルギーに依存しており、凸部が親油性であると、外膜に作用する力が大きくなると考えられる。表1の結果から、合成高分子膜の表面のヘキサデカンに対する接触角は51°以下であることが好ましく、31°以下であることがさらに好ましく、接触角が小さいほど殺菌作用が強くなると言える。また、表1の結果からわかるように、合成高分子膜の表面に対する水の接触角は、12.0°から131.2°の範囲にわたっており、水の接触角で評価される合成高分子膜の表面の親水性(あるいは逆に疎水性)の程度は、直接的には、殺菌作用に関係していないことがわかる。
次に、図6(a)〜(f)を参照して、試料フィルムNo.1のモスアイ構造による殺菌作用を確認した実験の結果を説明する。モスアイ構造を有する合成高分子膜である試料フィルムNo.1の参照として、試料フィルムNo.1と同じ樹脂材料を用いて作製したモスアイ構造のない平坦な合成高分子膜(比較例1)と、試料フィルムNo.1の裏面のPETフィルム(比較例2)とについて、下記の手順で殺菌性を評価した。
1.上記の菌希釈液A(菌数1E+06CFU/mL)を各試料フィルム上に400μLを滴下し、菌希釈液A上にカバー(例えばカバーガラス)を配置し、単位面積当たりの菌希釈液Aの量を調整(約0.4mL/cm2)
このとき、菌希釈液A上にカバーを配置しない試料も作製
2.一定時間37℃、相対湿度100%の環境で放置した後、菌希釈液Aが付いた試料フィルム全体と滅菌水10mLとを濾過袋に入れる
3.濾過袋の上から手で揉んで、試料フィルムの菌を十分に洗い流す(洗い出し液(菌希釈液B’ということがある):菌数1E+04CFU/mL)
4.洗い流した液1mLをリン酸緩衝液9mLに入れて希釈し、菌希釈液C(菌数1E+03CFU/mL)を調製
5.菌希釈液C1mLをリン酸緩衝液9mLに入れて希釈し、菌希釈液D(菌数1E+02CFU/mL)を調製し、さらに、菌希釈液D1mLをリン酸緩衝液9mLに入れて希釈し、菌希釈液E(菌数1E+01CFU/mL)を調製
6.菌希釈液C〜Eをペトリフィルム(登録商標)培地(3M社製、製品名:生菌数測定用ACプレート)に1mLを滴下して、37℃、相対湿度100%で培養して48時間後に菌希釈液B’中の菌数をカウントする。
このとき、菌希釈液A上にカバーを配置しない試料も作製
2.一定時間37℃、相対湿度100%の環境で放置した後、菌希釈液Aが付いた試料フィルム全体と滅菌水10mLとを濾過袋に入れる
3.濾過袋の上から手で揉んで、試料フィルムの菌を十分に洗い流す(洗い出し液(菌希釈液B’ということがある):菌数1E+04CFU/mL)
4.洗い流した液1mLをリン酸緩衝液9mLに入れて希釈し、菌希釈液C(菌数1E+03CFU/mL)を調製
5.菌希釈液C1mLをリン酸緩衝液9mLに入れて希釈し、菌希釈液D(菌数1E+02CFU/mL)を調製し、さらに、菌希釈液D1mLをリン酸緩衝液9mLに入れて希釈し、菌希釈液E(菌数1E+01CFU/mL)を調製
6.菌希釈液C〜Eをペトリフィルム(登録商標)培地(3M社製、製品名:生菌数測定用ACプレート)に1mLを滴下して、37℃、相対湿度100%で培養して48時間後に菌希釈液B’中の菌数をカウントする。
結果を下記の表2に示す。また、図6(a)に試料フィルムNo.1のカバーあり、図6(b)に比較例1のカバーあり、図6(c)に比較例2のカバーありの試料の状態を示し、図6(d)に試料フィルムNo.1のカバーなし、図6(e)に比較例1のカバーなし、図6(f)に比較例2のカバーなしの試料の状態を示す。
表2の結果から明らかなように、試料フィルムNo.1についてのみ殺菌作用が認められ、合成高分子膜を形成する樹脂材料の種類に関係なく、モスアイ構造によって殺菌作用が発現している。
なお、試料フィルムNo.1についても菌希釈液上にカバーを配置しなかった場合に殺菌作用が認められなかったのは、モスアイ構造を有する表面で殺されなかった菌の数が多く、これらの菌が増殖したためだと考えられる。
次に、下記の表3に示す7種類の試料フィルムNo.5〜No.11について、殺菌性を評価した。
試料フィルムNo.5〜No.9は、先と同じ型を用いて作製した。合成高分子膜を形成する樹脂材料の種類を変える、および/または合成高分子膜の表面に離型処理を施すこ
とによって、表面自由エネルギーの異なる合成高分子膜を作製した。
とによって、表面自由エネルギーの異なる合成高分子膜を作製した。
試料フィルムNo.5は、フッ素含有アクリル樹脂A(先の試料フィルムNo.1に用いたのと同じ)を用いて作製したフィルムであり、水およびヘキサデカンに対する接触角は、試料フィルムNo.1とほぼ同じ値を示した。
試料フィルムNo.6は、ウレタンアクリレートを含有するアクリル樹脂B(先の試料フィルムNo.3に用いたものと同じ)に、フッ素系潤滑剤F2を混合した樹脂を用いて作製した。含フッ素ノニオン系潤滑剤F2は、フッ素系スリップ剤(またはフッ素系界面活性剤)として市販されているフタージェント250(ネオス社製)を用いた。フタージェントは、パーフルオロアルケニル構造を有している。フッ素系潤滑剤F2の添加量は、全体の2質量%とした。さらに、得られた合成高分子膜の表面に離型剤R1を用いて離型処理を施した。
試料フィルムNo.7は、試料フィルムNo.6と同じウレタンアクリレートを含有するアクリル樹脂Bに、フッ素系潤滑剤F2(全体の2質量%)を混合した樹脂を用いて作製した。離型処理を施していない点において、試料フィルムNo.6と異なる。
試料フィルムNo.8は、ウレタンアクリレート含有アクリル樹脂C(上記のウレタンアクリレート含有アクリル樹脂Bと異なる)を用いて作製した。
試料フィルムNo.9は、フッ素含有アクリル樹脂Dとして、AGCセイミケミカル株式会社製のフッ素系コーティング剤UT−UCH23を用いた。
試料フィルムNo.10として、市販されている銀イオン抗菌シート(材質:ポリプロピレン、添加物:銀系無機抗菌剤、商品サイズ:約80×160mm、24枚入り、購入価格108円)の殺菌性を評価した。
試料フィルムNo.11は、試料フィルムNo.5〜No.9のベースフィルムとして用いたPETフィルムである。
各フィルムの表面の水およびヘキサデカンに対する接触角は、上述と同じ方法で測定した。
殺菌性の評価の手順は、上記の表2について説明した手順と基本的に同じである。ただし、菌希釈液Aに代えて、緑膿菌の濃度が、1.4E+05CFU/mLの菌希釈液A’
を用いた。各試料フィルムに菌希釈液A’を滴下後カバーをした。それぞれ、37℃、相対湿度100%で、0時間(5分)、3時間、20時間、70時間15分放置した後、試料フィルムの菌を十分に洗い流し、上記の手順で必要な倍率まで希釈し、菌希釈液をペトリフィルム(登録商標)培地(3M社製、製品名:生菌数測定用ACプレート)に1mLを滴下して、37℃、相対湿度100%で培養して48時間後に菌希釈液B’中の菌数をカウントした。結果を図8に示す。
を用いた。各試料フィルムに菌希釈液A’を滴下後カバーをした。それぞれ、37℃、相対湿度100%で、0時間(5分)、3時間、20時間、70時間15分放置した後、試料フィルムの菌を十分に洗い流し、上記の手順で必要な倍率まで希釈し、菌希釈液をペトリフィルム(登録商標)培地(3M社製、製品名:生菌数測定用ACプレート)に1mLを滴下して、37℃、相対湿度100%で培養して48時間後に菌希釈液B’中の菌数をカウントした。結果を図8に示す。
図8は、各試料フィルムの殺菌性を評価した結果を示すグラフであり、横軸は放置時間(時間)であり、縦軸は、菌希釈液B’中の菌数(CFU/mL)を示している。
図8から明らかなように、試料フィルムNo.5、No.6、No.7およびNo.8は、試料No.10(市販品の銀イオン抗菌シート)よりも優れた殺菌性を有している。試料フィルムNo.9および試料フィルムNo.11(PET)は、殺菌性を有さず、70時間15分放置したものの菌数はカウントできない程度にまで増加していた。
下記の表3からわかるように、殺菌性は、合成高分子膜の表面のヘキサデカンに対する接触角との間に強い相関関係があり、上述したように、合成高分子膜の表面に対するヘキサデカンの接触角は51°以下であることが好ましく、31°以下であることがさらに好ましいことが確認された。一方、水の接触角で評価される合成高分子膜の表面の親水性(あるいは逆に疎水性)の程度は、直接的には、殺菌作用に関係していないことも確認された。
なお、上述した試料フィルムNo.3およびNo.7においては、フッ素系潤滑剤を混合したウレタンアクリレート含有アクリル樹脂の殺菌効果が確かめられた。フッ素系潤滑剤に代えて、シリコーン系潤滑剤を含む合成高分子膜の殺菌効果も確かめることができた(後述する試料フィルムNo.17)。試料フィルムNo.17の結果から明らかなように、後述する試料フィルムNo.12、No.14〜No.17およびNo.51〜No.62に用いたシリコーン系潤滑剤を混合したアクリル樹脂Eは、緑膿菌に対して殺菌効果を有することを確認できた。
本発明の実施形態による合成高分子膜は、例えば、水に接触する表面のぬめりの発生を抑制する用途に好適に用いられる。例えば、加湿器や製氷機に用いられる水用の容器の内壁に合成高分子膜を貼り付けることによって、容器の内壁にぬめりが発生することを抑制できる。ぬめりは、内壁等に付着した細菌が分泌する細胞外多糖(EPS)によって形成されるバイオフィルムに起因している。したがって、内壁等へ付着した細菌を殺すことによって、ぬめりの発生を抑制することができる。
上述したように、本発明の実施形態による合成高分子膜の表面に液体を接触させることによって、液体を殺菌することができる。同様に、合成高分子膜の表面に気体を接触させることによって、気体を殺菌することもできる。微生物は一般に栄養源である有機物と接触する確率を増やすために、物体の表面に付着しやすい表面構造を有している。したがって、本発明の実施形態による合成高分子膜の殺菌性を有する表面に、微生物を含む気体や液体を接触させると、微生物は合成高分子膜の表面に付着しようとするので、その際に、
殺菌作用を受けることになる。
殺菌作用を受けることになる。
ここでは、グラム陰性菌である緑膿菌について、本発明の実施形態による合成高分子膜の殺菌作用を説明したが、グラム陰性菌に限られず、グラム陽性菌や他の微生物に対しても殺菌作用を有すると考えられる。グラム陰性菌は、外膜を含む細胞壁を有する点に1つの特徴を有するが、グラム陽性菌や他の微生物(細胞壁を有しないものを含む)も細胞膜を有し、細胞膜もグラム陰性菌の外膜と同様に脂質二重膜で構成されている。したがって、本発明の実施形態による合成高分子膜の表面の凸部と細胞膜との相互作用は、基本的には、外膜との相互作用と同様であると考えられる。
ただし、微生物の大きさはその種類によって異なる。ここで例示した緑膿菌の大きさは約1μmであるが、細菌には、数100nm〜約5μmの大きさのものがあり、真菌は数μm以上である。上記で例示した合成高分子膜が有する凸部(2次元的な大きさが約200nm)は、約0.5μm以上の大きさの微生物に対しては殺菌作用を有すると考えられるが、数100nmの大きさの細菌に対しては、凸部が大きすぎるために十分な殺菌作用を発現しない可能性がある。また、ウィルスの大きさは数10nm〜数100nmであり、100nm以下のものも多い。なお、ウィルスは細胞膜を有しないが、ウィルス核酸を取り囲むカプシドと呼ばれるタンパク質の殻を有しており、この殻に対して凸部が同様に作用すると考えられる。
そこで、数100nm以下の微生物に対しても殺菌作用を発現し得る凸部を有する合成高分子膜の構造およびその製造方法を以下に説明する。
以下では、上記で例示した合成高分子膜が有する、2次元的な大きさが20nm超500nm未満の範囲にある凸部を第1の凸部ということがある。また、第1の凸部に重畳して形成された凸部を第2の凸部といい、第2の凸部の2次元的な大きさは、第1の凸部の2次元的な大きさよりも小さく、かつ、100nmを超えない。なお、第1の凸部の2次元的な大きさが100nm未満、特に50nm未満の場合には、第2の凸部を設ける必要はない。また、第1の凸部に対応する型の凹部を第1の凹部といい、第2の凸部に対応する型の凹部を第2の凹部という。
上述の陽極酸化工程とエッチング工程とを交互に行うことによって、所定の大きさおよび形状の第1の凹部を形成する方法をそのまま適用しても、第2の凹部を形成することができない。
図7(a)にアルミニウム基材(図2A中の参照符号12)の表面のSEM像を示し、図7(b)にアルミニウム膜(図2A中の参照符号18)の表面のSEM像を示し、図7(c)にアルミニウム膜(図2A中の参照符号18)の断面のSEM像を示す。これらのSEM像からわかるように、アルミニウム基材の表面およびアルミニウム膜の表面に、グレイン(結晶粒)が存在している。アルミニウム膜のグレインは、アルミニウム膜の表面に凹凸を形成している。この表面の凹凸は、陽極酸化時の凹部の形成に影響を与えるので、DpまたはDintが100nmよりも小さい第2の凹部の形成を妨げる。
そこで、本発明の実施形態による型の製造方法は、(a)アルミニウム基材または支持体の上に堆積されたアルミニウム膜を用意する工程と、(b)アルミニウム基材またはアルミニウム膜の表面を電解液に接触させた状態で、第1のレベルの電圧を印加することによって、第1の凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する陽極酸化工程と、(c)工程(b)の後に、ポーラスアルミナ層をエッチング液に接触させることによって、第1の凹部を拡大させるエッチング工程と、(d)工程(c)の後に、ポーラスアルミナ層を電解液に接触させた状態で、第1のレベルよりも低い第2のレベルの電圧を印加することによ
って、第1の凹部内に、第2の凹部を形成する工程とを包含する。例えば、第1のレベルは、40V超であり、第2のレベルは、20V以下である。
って、第1の凹部内に、第2の凹部を形成する工程とを包含する。例えば、第1のレベルは、40V超であり、第2のレベルは、20V以下である。
すなわち、第1のレベルの電圧での陽極酸化工程で、アルミニウム基材またはアルミニウム膜のグレインの影響を受けない大きさを有する第1の凹部を形成し、その後、エッチングによってバリア層の厚さを小さくしてから、第1のレベルよりも低い第2のレベルの電圧での陽極酸化工程で、第1の凹部内に第2の凹部を形成する。このような方法で、第2の凹部を形成すると、グレインによる影響が排除される。
図9を参照して、第1の凹部14paと、第1の凹部14pa内に形成された第2の凹部14pbとを有する型を説明する。図9(a)は型のポーラスアルミナ層の模式的な平面図であり、図9(b)は模式的な断面図であり、図9(c)は試作した型のSEM像を示す。
図9(a)および(b)に示すように、本実施形態による型の表面は、2次元的な大きさは20nm超500μm未満の範囲内にある複数の第1の凹部14paと、複数の第1の凹部14paに重畳して形成された複数の第2の凹部14pbをさらに有している。複数の第2の凹部14pbの2次元的な大きさは、複数の第1の凹部14paの2次元的な大きさよりも小さく、かつ、100nmを超えない。第2の凹部14pbの高さは、例えば、20nm超100nm以下である。第2の凹部14pbも、第1の凹部14paと同様に、略円錐形の部分を含むことが好ましい。
図9(c)に示すポーラスアルミナ層は、以下の様にして製造した。
アルミニウム膜として、Tiを1mass%含むアルミニウム膜を用いた。陽極酸化液には蓚酸水溶液(濃度0.3mass%、温度10℃)を使用して、エッチング液には、燐酸水溶液(濃度10mass%、温度30℃)を使用した。電圧80Vにおける陽極酸化を52秒間行った後、エッチングを25分間、続いて、電圧80Vにおける陽極酸化を52秒間、エッチング25分間を行った。この後、20Vにおける陽極酸化を52秒間、エッチングを5分間、さらに、20Vにおける陽極酸化を52秒間行った。
図9(c)からわかるように、Dpが約200nmの第1の凹部の中に、Dpが約50nmの第2の凹部が形成されている。上記の製造方法において、第1のレベルの電圧を80Vから45Vに変更して、ポーラスアルミナ層を形成したところ、Dpが約100nmの
第1の凹部の中に、Dpが約50nmの第2の凹部が形成された。
第1の凹部の中に、Dpが約50nmの第2の凹部が形成された。
このような型を用いて合成高分子膜を作製すると、図9(a)および(b)に示した第1の凹部14paおよび第2の凹部14pbの構造を反転した凸部を有する合成高分子膜が得られる。すなわち、複数の第1の凸部に重畳して形成された複数の第2の凸部をさらに有する合成高分子膜が得られる。
このように第1の凸部と、第1の凸部に重畳して形成された第2の凸部を有する合成高分子膜は、100nm程度の比較的小さな微生物から、5μm以上の比較的大きな微生物に対して殺菌作用を有し得る。
もちろん、対象とする微生物の大きさに応じて、2次元的な大きさが20nm超100nm未満の範囲内にある凹部だけを形成してもよい。このような凸部を形成するための型は、例えば、以下の様にして作製することができる。
酒石酸アンモニウム水溶液などの中性塩水溶液(ホウ酸アンモニウム、クエン酸アンモ
ニウムなど)や、イオン解離度の小さい有機酸(マレイン酸、マロン酸、フタル酸、クエン酸、酒石酸など)を用いて陽極酸化を行い、バリア型陽極酸化膜を形成し、バリア型陽極酸化膜をエッチングによって除去した後、所定の電圧(上記の第2のレベルの電圧)で陽極酸化することによって、2次元的な大きさが20nm超100nm未満の範囲内にある凹部を形成することができる。
ニウムなど)や、イオン解離度の小さい有機酸(マレイン酸、マロン酸、フタル酸、クエン酸、酒石酸など)を用いて陽極酸化を行い、バリア型陽極酸化膜を形成し、バリア型陽極酸化膜をエッチングによって除去した後、所定の電圧(上記の第2のレベルの電圧)で陽極酸化することによって、2次元的な大きさが20nm超100nm未満の範囲内にある凹部を形成することができる。
例えば、アルミニウム膜として、Tiを1mass%含むアルミニウム膜を用い、酒石酸水溶液(濃度0.1mol/l、温度23℃)を用いて、100Vにおいて2分間、陽極酸化を行うことによってバリア型陽極酸化膜を形成する。この後、燐酸水溶液(濃度10mass%、温度30℃)を用いて25分間、エッチングすることによって、バリア型陽極酸化膜を除去する。その後、上記と同様に、陽極酸化液には蓚酸水溶液(濃度0.3mass%、温度10℃)を使用し、20Vにおける陽極酸化を52秒間、上記エッチング液を用いたエッチングを5分間、交互に、陽極酸化を5回、エッチングを4回繰り返すことによって、2次元的な大きさが約50nmの凹部を均一に形成することができる。
[黒カビに対する殺菌効果]
以下で、実験例を示して、本発明の実施形態による合成高分子膜が、黒カビ(クラドスポリウム)に対しても殺菌性を有することを説明する。下記の表4に示す試料フィルムNo.12およびNo.13について、黒カビに対する殺菌性を評価した。
以下で、実験例を示して、本発明の実施形態による合成高分子膜が、黒カビ(クラドスポリウム)に対しても殺菌性を有することを説明する。下記の表4に示す試料フィルムNo.12およびNo.13について、黒カビに対する殺菌性を評価した。
試料フィルムNo.12は、シリコーン系潤滑剤を混合したアクリル樹脂Eを用いて作製したフィルムであり、先と同じ型を用いて作製した。試料フィルムNo.12の表面の水およびヘキサデカンに対する接触角は、上述と同じ方法で測定した。
試料フィルムNo.13は、試料フィルムNo.12のベースフィルムとして用いたPETフィルムである。
試料フィルムNo.12およびNo.13の黒カビに対する殺菌性は、下記の手順で評価した。
1.菌原液を調製する。寒天培地(potato dextrose agar:PDA)上で培養した黒カビを、滅菌水を含ませた綿棒で採取し、コニカルチューブに入れる。コニカルチューブ内に、使用のしやすさのために滅菌水を適宜入れ、菌原液(黒カビの菌数は1E+07CFU/mL〜1E+08CFU/mLのオーダー)を得る。
2.菌原液を滅菌水で段階希釈し、菌希釈液A3(黒カビの菌数は1E+05CFU/mLのオーダー)を調製した。菌希釈液A3中の菌数は、下記8.の手順で調べたところ、2.8E+05cfu/mLであった。
3.菌希釈液A3を各試料フィルム上に400μLを滴下し、菌希釈液A3上にカバー(例えばカバーガラス)を配置し、単位面積当たりの菌希釈液A3の量を調整(約0.4mL/cm2)する。
4.一定時間37℃、相対湿度100%の環境で放置する(放置時間:67時間)。
5.菌希釈液A3が付いた試料フィルム全体と滅菌水9.6mLとを濾過袋に入れ、濾過袋の上から手で揉んで、試料フィルムの菌を十分に洗い流す。濾過袋の中の液は全体で10mLとなり、菌希釈液A3が25倍に希釈されたものである。この濾過袋の中の洗い出し液を菌希釈液B3とする。
6.菌希釈液B3を1mL、滅菌水9mLに入れて希釈し、菌希釈液C3を調製する。
7.菌希釈液C3を1mL、滅菌水9mLに入れて希釈し、菌希釈液D3を調製する。さらに、菌希釈液D3を1mL、滅菌水9mLに入れて希釈し、菌希釈液E3を調製する。
8.菌希釈液B3および菌希釈液E3をペトリフィルム(登録商標)培地(3M社製、製品名:カビ・酵母迅速測定用RYMプレート)に1mLを滴下して、25℃、相対湿度
100%で48時間培養して、菌数を確認した。
1.菌原液を調製する。寒天培地(potato dextrose agar:PDA)上で培養した黒カビを、滅菌水を含ませた綿棒で採取し、コニカルチューブに入れる。コニカルチューブ内に、使用のしやすさのために滅菌水を適宜入れ、菌原液(黒カビの菌数は1E+07CFU/mL〜1E+08CFU/mLのオーダー)を得る。
2.菌原液を滅菌水で段階希釈し、菌希釈液A3(黒カビの菌数は1E+05CFU/mLのオーダー)を調製した。菌希釈液A3中の菌数は、下記8.の手順で調べたところ、2.8E+05cfu/mLであった。
3.菌希釈液A3を各試料フィルム上に400μLを滴下し、菌希釈液A3上にカバー(例えばカバーガラス)を配置し、単位面積当たりの菌希釈液A3の量を調整(約0.4mL/cm2)する。
4.一定時間37℃、相対湿度100%の環境で放置する(放置時間:67時間)。
5.菌希釈液A3が付いた試料フィルム全体と滅菌水9.6mLとを濾過袋に入れ、濾過袋の上から手で揉んで、試料フィルムの菌を十分に洗い流す。濾過袋の中の液は全体で10mLとなり、菌希釈液A3が25倍に希釈されたものである。この濾過袋の中の洗い出し液を菌希釈液B3とする。
6.菌希釈液B3を1mL、滅菌水9mLに入れて希釈し、菌希釈液C3を調製する。
7.菌希釈液C3を1mL、滅菌水9mLに入れて希釈し、菌希釈液D3を調製する。さらに、菌希釈液D3を1mL、滅菌水9mLに入れて希釈し、菌希釈液E3を調製する。
8.菌希釈液B3および菌希釈液E3をペトリフィルム(登録商標)培地(3M社製、製品名:カビ・酵母迅速測定用RYMプレート)に1mLを滴下して、25℃、相対湿度
100%で48時間培養して、菌数を確認した。
上記8.において48時間培養した結果を図10に示す。図10の右は試料フィルムNo.12(上段:菌希釈液B3、下段:菌希釈液E3)、図10の左は試料フィルムNo.13(上段:菌希釈液B3、下段:菌希釈液E3)の評価結果を示す。
図10を参照する。試料フィルムNo.12については、菌希釈液B3および菌希釈液E3中の菌数は、ともに0CFU/mLであった。試料フィルムNo.12は、黒カビに対して殺菌効果を有することが分かる。これに対して、試料フィルムNo.13については、菌希釈液E3中の菌数は1CFU/mLであった。菌希釈液E3は、菌希釈液B3を1000倍に希釈したものであるので、菌希釈液B3中の菌数は、1E+03CFU/mLのオーダーまたはそれ以上であったと考えられる。試料フィルムNo.13は、黒カビに対して殺菌性を有しない。
[殺菌効果を有する表面の再活性化方法]
図5を参照して説明したように、微生物は、本発明の実施形態による合成高分子膜の表面において死に至る。合成高分子膜の表面が微生物に対して殺菌性を有するためである。ここで、図5から、死に至った微生物は、合成高分子膜の表面の凸部の先端部分を覆っている様子が見て取れる。このことから、死に至った微生物が合成高分子膜の表面に付着することにより、微生物に対する殺菌効果が弱くなる可能性があると考えられる。合成高分子膜の表面に気体または液体を接触させることにより気体または液体を殺菌する方法を使用するにつれて、合成高分子膜の表面に付着した微生物が増加することにより、合成高分子膜の殺菌効果が低下する可能性があると考えられる。
図5を参照して説明したように、微生物は、本発明の実施形態による合成高分子膜の表面において死に至る。合成高分子膜の表面が微生物に対して殺菌性を有するためである。ここで、図5から、死に至った微生物は、合成高分子膜の表面の凸部の先端部分を覆っている様子が見て取れる。このことから、死に至った微生物が合成高分子膜の表面に付着することにより、微生物に対する殺菌効果が弱くなる可能性があると考えられる。合成高分子膜の表面に気体または液体を接触させることにより気体または液体を殺菌する方法を使用するにつれて、合成高分子膜の表面に付着した微生物が増加することにより、合成高分子膜の殺菌効果が低下する可能性があると考えられる。
また、図5から、合成高分子膜の表面の凸部の先端部分が緑膿菌の細胞壁(外膜)内に侵入している様子が見て取れる。すなわち、緑膿菌は凸部の先端に接しているだけではなく、緑膿菌の一部が凸部と凸部との間に入り込んでいる。このことから、合成高分子膜の表面に付着した微生物を除去することは容易でない可能性があると考えられる。
本発明者は、合成高分子膜の殺菌効果を有する表面の再活性化方法、および/または、表面が殺菌効果を有する合成高分子膜のリサイクル方法について、検討した。具体的には、例えば、合成高分子膜の表面に付着した微生物を効率よく除去することができる方法について検討した。
本発明の実施形態による合成高分子膜の殺菌効果を有する表面の再活性化方法は、複数の凸部を有する表面を備える合成高分子膜であって、合成高分子膜の法線方向から見たとき、複数の凸部の2次元的な大きさは20nm超500nm未満の範囲内にあり、表面が殺菌効果を有し、表面に微生物が付着した合成高分子膜を用意する工程(A)と、表面を拭くことによって微生物を除去する工程(B)とを含む。工程(B)は、例えば、表面を水またはアルコール(例えばイソプロピルアルコール)を含ませた布で拭くことによって
、微生物を除去する工程を含む。工程(B)は、表面を水を含ませた布で拭くことによって、微生物を除去する工程を含むことが好ましい。
、微生物を除去する工程を含む。工程(B)は、表面を水を含ませた布で拭くことによって、微生物を除去する工程を含むことが好ましい。
以下で実験例を示し、合成高分子膜の殺菌効果を有する表面の再活性化方法(洗浄方法)について検討した結果について説明する。試料フィルムNo.51〜No.62を用いて、異なる再活性化方法(洗浄方法)の効果を評価した。
試料フィルムNo.51〜No.62は、シリコーン系潤滑剤を混合したアクリル樹脂E(先の試料フィルムNo.12に用いたものと同じ)を用いて作製したフィルムであり、先と同じ型を用いて作製した。
1.試料フィルムを菌希釈液(緑膿菌を1E+05CFU/mLのオーダーで含む)に7日間浸漬する。
2.各試料フィルムから0.5cm四方の正方形のフィルムを3枚ずつランダムに切り出す。3枚のフィルムを導電テープに貼り付ける。
3.それぞれの表面の再活性化方法(洗浄方法)を用いて、導電テープ上の3枚のフィルムを洗浄する。
4.3枚のフィルムのそれぞれからランダムに5箇所ずつ(各試料フィルムに対して計15箇所)選び、それぞれのSEM像を得る。
1.試料フィルムを菌希釈液(緑膿菌を1E+05CFU/mLのオーダーで含む)に7日間浸漬する。
2.各試料フィルムから0.5cm四方の正方形のフィルムを3枚ずつランダムに切り出す。3枚のフィルムを導電テープに貼り付ける。
3.それぞれの表面の再活性化方法(洗浄方法)を用いて、導電テープ上の3枚のフィルムを洗浄する。
4.3枚のフィルムのそれぞれからランダムに5箇所ずつ(各試料フィルムに対して計15箇所)選び、それぞれのSEM像を得る。
各試料フィルムの表面の再活性化方法および評価結果を、以下の表5に示す。
試料フィルムNo.51は、比較のために、洗浄を行わなかった。表面の再活性化方法
(洗浄方法)を使用しない場合は、フィルムの表面に緑膿菌が付着していることを、得られたSEM像から確認した。図11に試料フィルムNo.51から得られたSEM像の1つを示す。図11から確認できるように、緑膿菌は例えば細長い形状でフィルムの表面に付着している。それぞれの緑膿菌は、例えば、およそ数μm×数百nm(例えば1μm×0.2μm)の形状であった。15箇所のSEM像のそれぞれから、150μm×110μmの領域(観察領域ということがある。)を選択し、この領域内に付着している菌の数を数えた。菌数はそれぞれ、30個、41個、25個、55個、16個、11個、23個、22個、30個、26個、20個、14個、30個、10個、12個であり、15箇所の平均値は24個、最低値は10個であった。
(洗浄方法)を使用しない場合は、フィルムの表面に緑膿菌が付着していることを、得られたSEM像から確認した。図11に試料フィルムNo.51から得られたSEM像の1つを示す。図11から確認できるように、緑膿菌は例えば細長い形状でフィルムの表面に付着している。それぞれの緑膿菌は、例えば、およそ数μm×数百nm(例えば1μm×0.2μm)の形状であった。15箇所のSEM像のそれぞれから、150μm×110μmの領域(観察領域ということがある。)を選択し、この領域内に付着している菌の数を数えた。菌数はそれぞれ、30個、41個、25個、55個、16個、11個、23個、22個、30個、26個、20個、14個、30個、10個、12個であり、15箇所の平均値は24個、最低値は10個であった。
以下の試料フィルムNo.52〜No.62においては、試料フィルムNo.51と比較することによって、それぞれの表面の再活性化方法(洗浄方法)の評価を行った。表5において「◎」、「△」および「×」は、以下の評価を示す。
◎:15の観察領域のいずれにおいても、菌数は5個以下であり、かつ、凸部に付着した菌以外の有機物も観察されない。
△:菌数が5個以下であり、かつ、凸部に付着した菌以外の有機物も観察されない観察領域もあるが、菌数が6個以上である観察領域、または、有機物(洗浄液および菌を含む)が凸部に付着している観察領域もある。
×:15の観察領域のいずれにおいても、菌数が10個(試料フィルムNo.51における最低値)以上である。または、15の観察領域のいずれにおいても、比較的広い範囲にわたって有機物(洗浄液および菌を含む)が凸部に付着している(例えば凸部と凸部との間を埋めるように付着している、または凸部の先端部分にこびりついて広がっている等)様子が観察される。
◎:15の観察領域のいずれにおいても、菌数は5個以下であり、かつ、凸部に付着した菌以外の有機物も観察されない。
△:菌数が5個以下であり、かつ、凸部に付着した菌以外の有機物も観察されない観察領域もあるが、菌数が6個以上である観察領域、または、有機物(洗浄液および菌を含む)が凸部に付着している観察領域もある。
×:15の観察領域のいずれにおいても、菌数が10個(試料フィルムNo.51における最低値)以上である。または、15の観察領域のいずれにおいても、比較的広い範囲にわたって有機物(洗浄液および菌を含む)が凸部に付着している(例えば凸部と凸部との間を埋めるように付着している、または凸部の先端部分にこびりついて広がっている等)様子が観察される。
試料フィルムNo.52は、純水中に180分間浸漬させた後、エアブローで乾燥させた。図12(a)〜(e)に試料フィルムNo.52から得られたSEM像のうち5つを示す。緑膿菌が付着していることが確認できる。15箇所のSEM像のそれぞれから、試料フィルムNo.51と同様に150μm×110μmの領域内に付着している菌の数を数えた。菌数はそれぞれ、49個以上、24個、81個、28個、25個以上、30個、67個、21個、37個以上、20個以上、39個、40個、36個、71個、28個であり、15箇所の平均は40個以上であった。ここで、菌数について「以上」と記載しているのは、それぞれの緑膿菌の形状に比べて大きな付着物も領域内に観察された場合である。この大きな付着物には複数の緑膿菌の塊が含まれると考えられる。試料フィルムNo.52においては、15の観察領域のいずれにおいても10個以上の菌数が観察された。試料フィルムNo.52において、試料フィルムNo.51よりも菌数が多かったのは、緑膿菌がフィルムの表面に均一に付着していないことが理由として考えられるかもしれない。すなわち、付着した菌数や付着した菌の形状が選択した箇所に依存することが考えられ得る。
試料フィルムNo.53は、コンタクトレンズ洗浄液(ロートCキューブ(登録商標)
ソフトワンモイスト、ロート製薬株式会社製)中に180分間浸漬させた後、エアブローで乾燥させた。試料フィルムNo.53の表面には、試料フィルムNo.51と比較して広い範囲に有機物が付着していた。有機物には、コンタクトレンズ洗浄液の他に、緑膿菌そのものや緑膿菌に含まれる成分が含まれ得ると考えられる。
ソフトワンモイスト、ロート製薬株式会社製)中に180分間浸漬させた後、エアブローで乾燥させた。試料フィルムNo.53の表面には、試料フィルムNo.51と比較して広い範囲に有機物が付着していた。有機物には、コンタクトレンズ洗浄液の他に、緑膿菌そのものや緑膿菌に含まれる成分が含まれ得ると考えられる。
試料フィルムNo.54は、コンタクトレンズ洗浄液(試料フィルムNo.53で用いたものと同じ)中に60分間浸漬させた後、エアブローで乾燥させた。試料フィルムNo.54の表面には、緑膿菌が付着していた。緑膿菌がフィルムの表面の凸部の先端部分にこびりついて広がっているように見えた。また、緑膿菌以外の何らかの付着物が、凸部の根本側(例えば凸部が円錐形の場合は円錐の底面近傍)に、凸部と凸部との間を埋めるよ
うに付着していた。
うに付着していた。
試料フィルムNo.55は、コンタクトレンズ洗浄液(試料フィルムNo.53で用いたものと同じ)中に60分間浸漬させた後、純水中に60分間浸漬させた。図13(a)〜(b)に試料フィルムNo.55から得られたSEM像の1つを示す。図13(b)は、図13(a)を拡大したものである。試料フィルムNo.55の表面には、緑膿菌が付着していることが確認できる。緑膿菌がフィルムの表面の凸部の先端部分にこびりついているように見える。緑膿菌の一部が、凸部と凸部との間に入り込んでいるように見える。試料フィルムNo.54とは異なり、凸部の根本側に、凸部と凸部との間を埋めるような付着物は付着していなかった。試料フィルムNo.54とNo.55との結果を比較すると、試料フィルムNo.54において見られた凸部と凸部との間を埋めるような付着物は、コンタクトレンズ洗浄液が表面に残ったものかもしれないと考えられる。
試料フィルムNo.56は、コンタクトレンズ洗浄液(試料フィルムNo.53で用いたものと同じ)中に60分間浸漬させた後、IPA(イソプロピルアルコール)を含ませたワイピングクロス(KBセーレン株式会社製のザヴィーナMX、savinaは登録商標)で拭いた。試料フィルムNo.56の表面は、場所によっては緑膿菌が付着して残っている箇所もあるが、拭き取りを行わない試料フィルムNo.51〜No.55と比較して、緑膿菌が効果的に除去されていた。
試料フィルムNo.57は、コンタクトレンズ洗浄液(試料フィルムNo.53で用いたものと同じ)中に60分間浸漬させた後、純水を含ませたワイピングクロス(試料フィルムNo.56で用いたものと同じ)で拭いた。図14(a)〜(c)に試料フィルムNo.57から得られたSEM像の1つを示す。図14(b)は、図14(a)中の破線で囲まれた領域を拡大したものであり、図14(c)は、図14(b)中の破線で囲まれた領域を拡大したものである。図14に示すように、試料フィルムNo.57の表面には、場所によっては緑膿菌が付着して残っている箇所もあった。試料フィルムNo.57は、拭き取りを行わない試料フィルムNo.51〜No.55と比較して、緑膿菌が効果的に除去されていた。ただし、試料フィルムNo.56と比較すると、表面から除去されずに残っている緑膿菌が多かった。図14(b)および図14(c)から分かるように、表面から除去されずに残っている緑膿菌は、凸部の先端部分にこびりついているように見える。
試料フィルムNo.58は、IPA(イソプロピルアルコール)を含ませたワイピングクロス(試料フィルムNo.56で用いたものと同じ)で拭いた。試料フィルムNo.58の表面には、場所によっては緑膿菌が付着している箇所もあるが、拭き取りを行わない試料フィルムNo.51〜No.55と比較して、緑膿菌が効果的に除去されていた。
試料フィルムNo.59は、純水を含ませたワイピングクロス(試料フィルムNo.56で用いたものと同じ)で拭いた。図15(a)〜(e)に試料フィルムNo.59から得られたSEM像のうち5つを示す。図15から分かるように、試料フィルムNo.59の表面の緑膿菌は、効果的に除去されていた。試料フィルムNo.59の表面の緑膿菌は、ほぼ完全に除去されていた。15の観察領域のいずれにおいても、フィルムの表面に付着している緑膿菌の菌数は5個以下だった。
試料フィルムNo.60は、純水を用いて流水洗浄を5分間行った。試料フィルムNo.60の表面には、緑膿菌が付着していた。緑膿菌がフィルムの表面の凸部の先端部分にこびりついているように見えた。
試料フィルムNo.61は、純水を用いて超音波洗浄を5分間行った。試料フィルムN
o.61の表面には、緑膿菌が付着していた。緑膿菌がフィルムの表面の凸部の先端部分にこびりついているように見えた。
o.61の表面には、緑膿菌が付着していた。緑膿菌がフィルムの表面の凸部の先端部分にこびりついているように見えた。
試料フィルムNo.62は、試料フィルムNo.59と同様に、純水を含ませたワイピングクロスで拭いた。試料フィルムNo.62の表面の緑膿菌は、実質的に完全に除去されていた。15の観察領域のいずれにおいても、フィルムの表面に付着している緑膿菌は5個以下だった。純水を含ませたワイピングクロスで拭くことによる表面の再活性化方法(洗浄方法)の再現性を確かめることができた。
以上の実験例から、合成高分子膜の表面を拭く方法が、表面に付着した微生物を除去する方法として効果的である。合成高分子膜の表面を水で拭く方法(水拭き)が、表面に付着した微生物を除去する方法としてさらに効果的である。例えば、水を含ませた布で合成高分子膜の表面を拭いてもよい。表面に付着した微生物を、化学的な処理によって表面から除去するよりも、表面から物理的に除去する方が効果的であった。この理由について考察するために、本発明者は、合成高分子膜の殺菌効果を有する表面に微生物が付着している様子について、より詳細に調べた。
図16(a)〜(d)に、試料フィルムNo.51のモスアイ構造を有する表面で死に至った緑膿菌のSEM像を示す。図16(a)および図16(b)は、図16(c)を拡大したものであり、図16(d)は、図16(a)および図16(b)を拡大したものである。
図16(a)〜(d)から明らかなように、合成高分子膜の凸部は緑膿菌に引き寄せられるように傾いている(しなっている)。本発明の実施形態による合成高分子膜が有する、2次元的な大きさが20nm超500nm未満の範囲にある凸部(第1の凸部)は、微生物と接触したときにしなる(傾く)ことができる。図16(b)および(c)から分かるように、緑膿菌が付着していない凸部は、合成高分子膜の法線方向にほぼ平行であるのに対し、緑膿菌が付着している凸部には、緑膿菌の方向へ傾いて(しなって)いるものもある様子が見て取れる。凸部が傾く(しなる)ことによって、より多くの凸部が微生物に接することができる。微生物の方向へ傾く(しなる)ことができる凸部を表面に有する合成高分子膜は、より優れた殺菌効果を有し得ると考えられる。
図16(a)〜(d)において観察された凸部の傾き(しなり)は、緑膿菌を例えば拭き取りにより除去した後は見られなかった。表面に付着した緑膿菌が除去されることによって、凸部を引き寄せていた力がなくなり、しなっていた凸部が、緑膿菌が付着する前の状態(合成高分子膜の法線方向にほぼ平行)に戻ったと考えられる。このように、凸部の傾き(しなり)は、微生物を除去することによってリセットされるので、合成高分子膜の表面に付着した微生物を除去することによって、表面が殺菌効果を有する合成高分子膜をリサイクルする、および/または、その表面を再活性化することができる。
合成高分子膜の表面を拭く方法が、表面に付着した微生物を除去する方法として効果的である理由について、以下のように考えられ得る。
上述したように、緑膿菌の一部は凸部との凸部との間に入り込んでいるが、図5および図16から分かるように、緑膿菌は主に凸部の先端側に付着している。緑膿菌は、凸部の根本側(例えば凸部が円錐形の場合は円錐の底面近傍)にはほとんど付着していない。例えば、図16(a)〜(d)においては、高さ約300nmの凸部の先端から、約50nm〜約150nmの範囲に緑膿菌が付着しているように見える。すなわち、凸部の先端から、凸部の高さの約1/6〜約1/2の範囲に菌が付着している。このように、微生物は主に凸部の先端側に付着しているので、合成高分子膜の表面を拭くことによって効果的に
微生物を除去することができると考えられる。
微生物を除去することができると考えられる。
表面に付着した微生物を除去する方法として、微生物を化学的に処理する方法よりも、物理的に拭き取る方法の方が効果的であった理由として、以下のことが寄与しているかもしれない。表面に付着した微生物を除去するために、化学的な処理を行う(例えば洗浄液中に浸漬する)と、例えば微生物が変形することにより、微生物が凸部の根本側にも付着する可能性があると考えられる。従って、合成高分子膜の表面を化学的に処理することなく、水を含ませた布で合成高分子膜の表面を拭く方法が、表面に付着した微生物を除去する方法として効果的であったと考えられ得る。
微生物が凸部の先端側にのみ付着するように、例えば凸部の高さ、凸部のアスペクト比、凸部の形状等を適宜調整してもよい。ここで凸部のアスペクト比は、凸部の2次元的な大きさに対する凸部の高さを指す。凸部の高さは、合成高分子膜の表面の法線方向における高さである。また、凸部がしなるように、合成高分子膜を形成する樹脂の材料や固さ等を適宜調整することもできる。
図17(a)は、合成高分子膜34Aの模式的な断面図の一例であり、図17(b)は、図17(a)を拡大したものであり凸部34Apの模式的な断面図を示し、図17(c)は、図17(a)の合成高分子膜34Aを形成するためのモスアイ用型の断面のSEM像を示す。例えば図17(a)に示す凸部34Apのような形状の凸部を表面に有する合成高分子膜においては、微生物は凸部の先端側に主に付着し、凸部の底面側(根本側)まで入り込みにくいと考えられる。
図17(a)に示すように、凸部34Apの断面積(合成高分子膜34Aの膜面に平行な断面の面積)は、凸部34Apの先端から断面までの距離(合成高分子膜34Aの法線方向における距離)が増加するにつれて、増加する。本発明の実施形態による合成高分子膜34Aが有する凸部34Apの側面の法線は、合成高分子膜34Aの法線方向に垂直な方向(例えば合成高分子膜34Aの膜面に平行な方向)に対して傾斜角を有し、その傾斜角は、凸部34Apの先端からの距離(合成高分子膜34Aの法線方向における距離)によって変化してもよい。例えば、上記傾斜角は、凸部34Apの先端からの距離(合成高分子膜34Aの法線方向における距離)に対して、連続的に変化してもよいし、不連続的に変化してもよい。
図17(b)には、凸部34Apの側面の3点P1〜P3における法線方向をそれぞれ矢印で示し、合成高分子膜34Aの法線方向に垂直な方向(例えば合成高分子膜34Aの膜面に平行な方向)を点線で示し、3点P1〜P3における法線の、合成高分子膜34Aの法線方向に垂直な方向に対する傾斜角θ1〜θ3を図示している。凸部34Apの先端P0からの距離(合成高分子膜34Aの法線方向における距離)は、点P1が最も小さく、点P3が最も大きい。図17(b)に示すように、点P2における傾斜角θ2は、点P2よりも先端P0からの距離が小さい点P1における傾斜角θ1よりも大きい。このように、凸部34Apの先端部分が、凸部34Apの先端からの距離が大きいほど上記傾斜角が大きい構造を有すると、微生物は凸部34Apの先端側に主に付着し、凸部34Apの底面側(根本側)まで入り込みにくいと考えられる。このような場合には、表面に付着した微生物の拭き取りが容易であると考えられる。点P3における傾斜角θ3は、図17(b)に示すように、点P3よりも先端P0からの距離が小さい点P2における傾斜角θ2よりも小さくてもよい。点P3における傾斜角θ3は、傾斜角θ2よりも大きくてももちろんよい。
図17(a)の合成高分子膜34Aを形成するためのモスアイ用型は、図17(c)に示すような断面を有する。図17(c)に示すモスアイ用型は、例えば、以下のような製
造工程によって作製される。陽極酸化工程およびエッチング工程を交互に複数回、すなわち、陽極酸化を5回とエッチングを4回繰り返す。陽極酸化工程においては、陽極酸化液として蓚酸水溶液(濃度0.3mass%、温度10℃)を使用し、80Vにおける陽極酸化を130秒間行い、エッチング工程においては、エッチング液として燐酸水溶液(10mass%、30℃)を用いたエッチングを25分間行う。ただし、3回目のエッチング工程を行う時間はその半分の時間(12.5分間)とする。これにより、モスアイ用型が有する凹部の側面の傾斜が途中で変化する。
造工程によって作製される。陽極酸化工程およびエッチング工程を交互に複数回、すなわち、陽極酸化を5回とエッチングを4回繰り返す。陽極酸化工程においては、陽極酸化液として蓚酸水溶液(濃度0.3mass%、温度10℃)を使用し、80Vにおける陽極酸化を130秒間行い、エッチング工程においては、エッチング液として燐酸水溶液(10mass%、30℃)を用いたエッチングを25分間行う。ただし、3回目のエッチング工程を行う時間はその半分の時間(12.5分間)とする。これにより、モスアイ用型が有する凹部の側面の傾斜が途中で変化する。
図17(a)には合成高分子膜34Aが有する凸部34Apの形状の例を示したが、合成高分子膜34Bが有する凸部34Bp(図1(b)参照)が、図17(a)に示したような形状を有してももちろんよい。凸部34Bpの円錐形の部分が、図17(a)の凸部34Apの形状を有してもよい。
[油で表面が処理された合成高分子膜]
本発明の実施形態による表面が殺菌効果を有する合成高分子膜は、種々の用途に用いられ得る。上述したように、例えば、水回りの表面を殺菌する用途に用いることもできる。これに限られず、例えば、不特定多数が触れ得るディスプレイパネルやタッチパネルに、殺菌性表面を有する合成高分子膜を適用してもよい。例えば、病院や公共の場所に設置されたディスプレイパネルやタッチパネルに用いることができる。このような用途で用いた場合、合成高分子膜に指紋等の汚れが付着することが考えられ得る。モスアイ構造を有するフィルム(合成高分子膜)に指紋が付着すると、洗浄液や布を用いても指紋を除去することが困難である。例えば、ディスプレイパネルやタッチパネルの外観が損なわれたり、ディスプレイパネルやタッチパネルに表示される情報の視認性が低下したりすることがある。
本発明の実施形態による表面が殺菌効果を有する合成高分子膜は、種々の用途に用いられ得る。上述したように、例えば、水回りの表面を殺菌する用途に用いることもできる。これに限られず、例えば、不特定多数が触れ得るディスプレイパネルやタッチパネルに、殺菌性表面を有する合成高分子膜を適用してもよい。例えば、病院や公共の場所に設置されたディスプレイパネルやタッチパネルに用いることができる。このような用途で用いた場合、合成高分子膜に指紋等の汚れが付着することが考えられ得る。モスアイ構造を有するフィルム(合成高分子膜)に指紋が付着すると、洗浄液や布を用いても指紋を除去することが困難である。例えば、ディスプレイパネルやタッチパネルの外観が損なわれたり、ディスプレイパネルやタッチパネルに表示される情報の視認性が低下したりすることがある。
さらに、上述したように、合成高分子膜が優れた殺菌効果を有するためには、ヘキサデカンに対する接触角が例えば51°以下であることが好ましく、ヘキサデカンに対する接触角が小さいことが好ましい。ヘキサデカンに対する接触角が小さい、すなわち、親油性を有する合成高分子膜においては、付着した指紋(指の脂)が広がりやすく、汚れが目立つという問題が顕著であると考えられる。
本発明者は、合成高分子膜に付着した指紋等の汚れを目立ちにくくする方法として、合成高分子膜の表面を油で処理すること(表面に油を付与すること)に想到した。
本発明の実施形態による合成高分子膜は、複数の凸部を有する表面を備える合成高分子膜であって、合成高分子膜の法線方向から見たとき、複数の凸部の2次元的な大きさは20nm超500nm未満の範囲内にあり、表面が殺菌効果を有し、油で表面が処理されている。上記で例示した本発明の実施形態による合成高分子膜のいずれかの表面が油で処理されていてもよい。本発明の実施形態による合成高分子膜は、例えば、ヘキサデカンまたはオレイン酸で表面が処理されている。ここで、油は、水にほとんど相溶しない液体をいう。例えば、1mLを溶かすために必要な水が1L以上である液体をいう。
本発明の実施形態による合成高分子膜は、油で表面が処理されていると、指紋等が目立ちにくい。表面が油で処理されていない場合は、以下の理由から表面に付着した指紋が目立ちやすい。ある箇所に指紋(すなわち手の脂)が付着すると、指紋が付着した箇所とそれ以外の箇所との屈折率が異なる。加えて、付着した指紋の厚さは、一般に凸部の高さと比較して大きい。合成高分子膜を介した像の見え方に差異が生じるので、指紋が付着した箇所が目立ちやすい。これに対して、表面が油で処理された合成高分子膜においては、予め表面に油が付与されているので、手の脂が付着しても屈折率の違いがあまり生じない。(例えばヘキサデカンの屈折率はおよそ1.43、オレイン酸の屈折率はおよそ1.46
である。)また、手の脂が油に溶解して広がることにより、周囲との屈折率の差異および/または厚さの差異が小さくなる。これらの理由により、指紋が目立ちにくい。指等で触れることにより指紋が付着しても、例えばパネルの外観が損ねられることやパネルに表示される情報の視認性が低下することを抑制することができる。さらに、予め表面に油が付与されているので、付着した指紋を拭き取りやすい。
である。)また、手の脂が油に溶解して広がることにより、周囲との屈折率の差異および/または厚さの差異が小さくなる。これらの理由により、指紋が目立ちにくい。指等で触れることにより指紋が付着しても、例えばパネルの外観が損ねられることやパネルに表示される情報の視認性が低下することを抑制することができる。さらに、予め表面に油が付与されているので、付着した指紋を拭き取りやすい。
以下に実験例を示して説明するように、表面に油を付与した合成高分子膜も殺菌効果を有することが確かめられた。
下記の表6に示す試料フィルムNo.14〜No.18について、緑膿菌に対する殺菌性を評価した。
試料フィルムNo.14〜No.17は、シリコーン系潤滑剤を混合したアクリル樹脂E(先の試料フィルムNo.12と同じ)を用いて、先と同じ型を用いて作製した。
試料フィルムNo.14には、表面にオレイン酸(特級オレイン酸、林純薬株式会社製)を10μL付与した。その後、ベンコット(登録商標、商品名:BEMCOT CT−8、旭化成社製)でフィルムの上下方向および左右方向のそれぞれ10回ずつ擦り、オレイン酸をフィルム上に均一に付与することにより試料フィルムNo.14を得た。
試料フィルムNo.15は、表面にオレイン酸に代えてヘキサデカンを付与した点において、試料フィルムNo.14と異なる。
試料フィルムNo.16は、表面に指紋を付着させた。額の脂を指に付けて、フィルムの表面に12回(3行4列の形で)付与した。その後、試料フィルムNo.14と同様の方法で、フィルム上に均一に付与した。
試料フィルムNo.17の表面には何も付与していない。
試料フィルムNo.18は、試料フィルムNo.14〜No.17のベースフィルムとして用いたPETフィルムである。
緑膿菌に対する殺菌性の評価は、下記の手順で行った。
1.上記の表1について説明した菌希釈液Aと同様に、菌希釈液A2を調製する。菌希釈液A2は、緑膿菌の菌数が1E+05CFU/mLのオーダーである点において、菌希釈液Aと異なる。菌希釈液A2中の緑膿菌の菌数は、試料フィルムNo.14およびNo.16〜No.18においては3.9E+05CFU/mLであり、試料フィルムNo.15においては2.9+05CFU/mLである。
2.菌希釈液A2を各試料フィルム上に400μLを滴下し、菌希釈液A2上にカバー(例えばカバーガラス)を配置し、単位面積当たりの菌希釈液A2の量を調整する(約0.4mL/cm2)。
3.一定時間35℃、相対湿度100%の環境で放置する(放置時間:0時間(5分)、4時間、24時間、72時間)。
4.菌希釈液A2が付いた試料フィルム全体と滅菌水9.6mLとを濾過袋に入れる。濾過袋の上から手で揉んで、試料フィルムの菌を十分に洗い流す。濾過袋の中の洗い出し液(菌希釈液B2)は、菌希釈液A2が25倍に希釈されたものである。
5.菌希釈液B2を滅菌水で10倍希釈して菌希釈液C2を調製する。具体的には、菌希釈液B2を120μL滅菌水1.08mLに入れて調製する。
6.菌希釈液C2の調製と同じ方法で、菌希釈液C2を10倍希釈して菌希釈液D2を調製する。さらに、菌希釈液D2を10倍希釈して菌希釈液E2を調製する。
7.菌希釈液B2、C2、D2およびE2をペトリフィルム(登録商標)培地(3M社製、製品名:生菌数測定用ACプレート)に1mLを滴下して、35℃、相対湿度100%で培養して48時間後に菌希釈液B2中の菌数をカウントする。
1.上記の表1について説明した菌希釈液Aと同様に、菌希釈液A2を調製する。菌希釈液A2は、緑膿菌の菌数が1E+05CFU/mLのオーダーである点において、菌希釈液Aと異なる。菌希釈液A2中の緑膿菌の菌数は、試料フィルムNo.14およびNo.16〜No.18においては3.9E+05CFU/mLであり、試料フィルムNo.15においては2.9+05CFU/mLである。
2.菌希釈液A2を各試料フィルム上に400μLを滴下し、菌希釈液A2上にカバー(例えばカバーガラス)を配置し、単位面積当たりの菌希釈液A2の量を調整する(約0.4mL/cm2)。
3.一定時間35℃、相対湿度100%の環境で放置する(放置時間:0時間(5分)、4時間、24時間、72時間)。
4.菌希釈液A2が付いた試料フィルム全体と滅菌水9.6mLとを濾過袋に入れる。濾過袋の上から手で揉んで、試料フィルムの菌を十分に洗い流す。濾過袋の中の洗い出し液(菌希釈液B2)は、菌希釈液A2が25倍に希釈されたものである。
5.菌希釈液B2を滅菌水で10倍希釈して菌希釈液C2を調製する。具体的には、菌希釈液B2を120μL滅菌水1.08mLに入れて調製する。
6.菌希釈液C2の調製と同じ方法で、菌希釈液C2を10倍希釈して菌希釈液D2を調製する。さらに、菌希釈液D2を10倍希釈して菌希釈液E2を調製する。
7.菌希釈液B2、C2、D2およびE2をペトリフィルム(登録商標)培地(3M社製、製品名:生菌数測定用ACプレート)に1mLを滴下して、35℃、相対湿度100%で培養して48時間後に菌希釈液B2中の菌数をカウントする。
なお、JISZ2801の5.6h)では、希釈液を調製する際にリン酸緩衝生理食塩水を用いるが、本明細書中においては滅菌水を用いることもある。滅菌水を用いた場合、試料フィルムの表面の凸部ではなく、微生物の細胞内の溶液と滅菌水との浸透圧が異なることが、微生物が死滅する原因になる可能性が考えられる。これに対しては、表面に凸部を有しないPETフィルム(例えば試料フィルムNo.13、No.18)において菌が死滅しないことを確認できた。滅菌水を用いても、試料フィルムの表面の凸部による殺菌効果を調べられることを確認している。
結果を図18に示す。図18は、試料フィルムNo.14〜No.18の殺菌性を評価した結果を示すグラフであり、横軸は放置時間(時間)であり、縦軸は菌希釈液B2中の菌数(CFU/mL)である。なお、図18において、見やすさのために、菌数が0の場合は0.1としてプロットしている。
図18から明らかなように、試料フィルムNo.14〜No.17はいずれも殺菌性を有している。試料フィルムNo.18(PET)は殺菌性を有さず、放置時間24時間以後は、カウントできない程度にまで菌数が増加していた。試料フィルムNo.14〜No.16の結果から、表面に油が付与された合成高分子膜にも殺菌効果があることが分かった。特に、表面にオレイン酸を付与した試料フィルムNo.14および表面にヘキサデカンを付与した試料フィルムNo.15は優れた殺菌効果を有し、表面に油が付与されていない試料フィルムNo.17と比較しても、その殺菌効果はほとんど劣らない。表面に指紋を付着させた試料フィルムNo.16は、表面に油が付与されていない試料フィルムNo.17と比較すると菌数が0になるまでの時間が長いが、依然として殺菌効果は認められる。
図19(a)〜(c)を参照して、表面が油で処理された合成高分子膜34Acの製造方法を説明する。図19(a)〜(c)は、表面が油で処理された合成高分子膜34Acの製造方法の一例を説明するための模式的な断面図である。
本発明の実施形態による表面が殺菌効果を有する合成高分子膜34Acの製造方法は、
複数の凸部34Apを有する表面を備える合成高分子膜34Aであって、合成高分子膜34Aの法線方向から見たとき、複数の凸部34Apの2次元的な大きさは20nm超500nm未満の範囲内にあり、表面が殺菌効果を有する合成高分子膜34Aを用意する工程(a)と、表面に油36が付与されたカバーフィルム40を用意する工程(b)と、合成高分子膜34Aとカバーフィルム40とを対向させた状態で、複数の凸部34Apと油36とを互いに接触させる工程(c)と、カバーフィルム40を合成高分子膜34Acから分離する工程(d)とを含む。
複数の凸部34Apを有する表面を備える合成高分子膜34Aであって、合成高分子膜34Aの法線方向から見たとき、複数の凸部34Apの2次元的な大きさは20nm超500nm未満の範囲内にあり、表面が殺菌効果を有する合成高分子膜34Aを用意する工程(a)と、表面に油36が付与されたカバーフィルム40を用意する工程(b)と、合成高分子膜34Aとカバーフィルム40とを対向させた状態で、複数の凸部34Apと油36とを互いに接触させる工程(c)と、カバーフィルム40を合成高分子膜34Acから分離する工程(d)とを含む。
まず、図19(a)に示すように、複数の凸部34Apを有する合成高分子膜34Aと、表面に油36が付与されたカバーフィルム40とを用意する。ベースフィルム42Aと、ベースフィルム42A上に形成された合成高分子膜34Aとを有するフィルム50Aを用意してもよい。カバーフィルム40は、例えば、ベースフィルム42Aと同じ材料から形成され得る。油36の厚さは、例えば1μm〜数10μmである。
次に、図19(b)に示すように、合成高分子膜34Aとカバーフィルム40とを貼り合わせる。合成高分子膜34Aとカバーフィルム40とを対向させた状態で、複数の凸部34Apと油36とを互いに接触させる。合成高分子膜34Aとカバーフィルム40とが貼り合わされた積層体60が形成される。積層体60において、カバーフィルム40の表面に付与されていた油36が合成高分子膜34Aの表面に付与され、表面が油36で処理された合成高分子膜34Acが形成される。
積層体60は、複数の凸部34Apを有する表面を備える合成高分子膜34Aであって、合成高分子膜34Aの法線方向から見たとき、複数の凸部34Apの2次元的な大きさは20nm超500nm未満の範囲内にあり、表面が殺菌効果を有する合成高分子膜34Aと、表面に油36が付与されたカバーフィルム40とを有し、カバーフィルム40は、油36が複数の凸部34Apに接触するように、配置されている。カバーフィルム40は、例えば、合成高分子膜34Aとほぼ平行に配置されていてもよい。
次に、図19(c)に示すように、カバーフィルム40を合成高分子膜34Acから分離する。表面が油36で処理された合成高分子膜34Acが形成される。ベースフィルム42Aを有するフィルム50Aを用意した場合は、ベースフィルム42Aと、ベースフィルム42A上に形成された表面が油36で処理された合成高分子膜34Acとを有するフィルム50Acが形成され得る。
図19(b)および(c)に示すように、油36の表面は、例えば合成高分子膜34Aの膜面とほぼ平行である。図19(b)および(c)に示すように、例えば、油36の表面から、複数の凸部34Apの先端部分が突出している。これに限られず、油36は複数の凸部34Apをほぼ完全に覆っていてもよい。ただし、油の表面から複数の凸部34Apの先端までの距離(合成高分子膜34Aの法線方向における距離)は、例えば10μm以下である。細菌の大きさは例えば数100nm〜約5μmであるので、上記油の表面から複数の凸部34Apの先端までの距離は、例えば数μm以下であることが好ましい。上記油の表面から複数の凸部34Apの先端までの距離は、1μm未満としてもよい。また、油36の表面は、複数の凸部34Apの表面とほぼ平行であってもよい。すなわち、油36の表面は、凸部34Apの形状に沿って変化していてもよい。ただし、この場合にも、上記と同様に、油の表面から複数の凸部34Apの先端までの距離(合成高分子膜34Aの法線方向における距離)は、例えば10μm以下である。細菌の大きさは例えば数100nm〜約5μmであるので、上記油の表面から複数の凸部34Apの先端までの距離は、例えば数μm以下であることが好ましい。上記油の表面から複数の凸部34Apの先端までの距離は、1μm未満としてもよい。
上述した製造方法によると、図3を参照して説明したロール・ツー・ロール方式による製造方法で製造された合成高分子膜から、表面が油で処理された合成高分子膜を容易に製造することができる。図3の製造方法によって製造された合成高分子膜は、巻き取りローラにより巻き取られている。この合成高分子膜をロールから適宜巻き出し、図19の製造方法によって、表面が油で処理された合成高分子膜を形成することができる。
また、積層体60として例えば出荷、流通、販売等が行われてもよい。例えば、合成高分子膜34Acを使用する直前に、カバーフィルム40を合成高分子膜34Acから分離させればよい。使用する直前まで、合成高分子膜34Acの表面を十分に保護することができ得る。
図19を参照して、合成高分子膜34Aから、表面が油で処理された合成高分子膜34Acを形成する方法を説明した。同様の方法を用いて、合成高分子膜34B(図1(b)参照)から、表面が油で処理された合成高分子膜を形成してもよい。
本発明の実施形態による殺菌性表面を有する合成高分子膜は、例えば、水回りの表面を殺菌する用途など、種々の用途に用いられ得る。本発明の実施形態による殺菌性表面を有する合成高分子膜は、安価に製造され得る。
34A、34B、34Ac 合成高分子膜
34Ap、34Bp 凸部
42A、42B ベースフィルム
50A、50B、50Ac フィルム
100、100A、100B モスアイ用型
34Ap、34Bp 凸部
42A、42B ベースフィルム
50A、50B、50Ac フィルム
100、100A、100B モスアイ用型
Claims (25)
- 複数の第1の凸部を有する表面を備える合成高分子膜であって、
前記合成高分子膜の法線方向から見たとき、前記複数の第1の凸部の2次元的な大きさDpは20nm超500nm未満の範囲内にあり、
前記表面は、前記複数の第1の凸部のうちの隣接する第1の凸部の間に平坦部を有する、合成高分子膜。 - 前記複数の第1の凸部の2次元的な大きさDpは、前記複数の第1の凸部の隣接間距離Dintよりも小さい、請求項1に記載の合成高分子膜。
- 前記複数の第1の凸部の隣接間距離Dintと前記複数の第1の凸部の2次元的な大きさDpとの差Dint−Dpは、前記複数の第1の凸部の2次元的な大きさDpよりも小さい、請求項2に記載の合成高分子膜。
- 前記複数の第1の凸部は略円柱形の部分を含む、請求項1から3のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 前記複数の第1の凸部は略円錐形の部分を含む、請求項1から4のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 前記複数の第1の凸部に重畳して形成された複数の第2の凸部をさらに有し、
前記複数の第2の凸部の2次元的な大きさは、前記複数の第1の凸部の2次元的な大きさDpよりも小さく、かつ、100nmを超えない、請求項1から5のいずれかに記載の合成高分子膜。 - 前記複数の第2の凸部は略円錐形の部分を含む、請求項6に記載の合成高分子膜。
- 前記複数の第2の凸部の高さは、20nm超100nm以下である、請求項6または7に記載の合成高分子膜。
- 前記表面のヘキサデカンに対する静的接触角が51°以下である、請求項1から8のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 前記表面のヘキサデカンに対する静的接触角が31°以下である、請求項1から9のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 前記表面の水に対する静的接触角が133°以下である、請求項1から10のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 前記複数の第1の凸部の隣接間距離Dintは20nm超1000nm以下である、請求項1から11のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 前記複数の第1の凸部の高さは、50nm以上500nm未満である、請求項1から12のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 前記複数の第1の凸部は、微生物と接触したときにしなることができる、請求項1から13のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 前記複数の第1の凸部の側面の法線は、前記合成高分子膜の法線方向に垂直な方向に対して傾斜角を有し、前記傾斜角は、前記複数の第1の凸部の先端からの前記合成高分子膜の法線方向における距離に対して連続的にまたは不連続的に変化する、請求項1から14のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 潤滑剤をさらに含む、請求項1から15のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 前記潤滑剤は、フッ素系潤滑剤である、請求項16に記載の合成高分子膜。
- 前記潤滑剤は、シリコーン系潤滑剤である、請求項16に記載の合成高分子膜。
- 前記潤滑剤のHLB値は、7未満である、請求項16から18のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 離型剤で表面が処理されている、請求項1から19のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 油で表面が処理されている、請求項1から20のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 前記合成高分子膜は、フッ素含有モノマーを硬化させたアクリル樹脂から形成されている、請求項1から21のいずれかに記載の合成高分子膜。
- 請求項1から22のいずれかに記載の合成高分子膜と、
表面に油が付与されたカバーフィルムとを有し、
前記カバーフィルムは、前記カバーフィルムの前記表面に付与された前記油が前記複数の第1の凸部に接触するように配置されている、積層体。 - 請求項1から22のいずれかに記載の合成高分子膜の前記表面に、気体または液体を接触させることによって、前記気体または液体を殺菌する方法。
- 請求項1から22のいずれかに記載の合成高分子膜であって、前記表面に微生物が付着した合成高分子膜を用意する工程(a)と、
前記表面を水またはアルコールを含ませた布で拭くことによって、前記微生物を除去する工程(b)と
を包含する、合成高分子膜の表面の再活性化方法。
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