JP2019018326A - Grinding device - Google Patents
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Abstract
【課題】適切な加工条件で研削加工を実施できる研削装置を提供する。【解決手段】チャックテーブルと、スピンドルと、該スピンドルの下方に装着され該スピンドルの回転に伴って回転する研削砥石と、を備え、該チャックテーブルに保持された被加工物を該研削砥石で研削する研削ユニットと、該研削ユニットを該保持面に向かって研削送りする研削送りユニットと、該研削ユニット又は該研削送りユニットに装着されたAEセンサと、制御ユニットと、を備え、該制御ユニットは、該被加工物の研削時に該チャックテーブルと、該研削砥石と、を回転させ、該研削送りユニットにより該研削ユニットを研削送りさせて該研削砥石を該被加工物に接触させ、該研削によって生じ該AEセンサによって検出される弾性波に応じて、該チャックテーブルの回転速度、該研削砥石の回転速度、または、該研削送りユニットが該研削ユニットを研削送りする速度を制御する。【選択図】図3An object of the present invention is to provide a grinding device capable of performing a grinding process under appropriate processing conditions. A grinding table is provided with a chuck table, a spindle, and a grinding wheel mounted below the spindle and rotated with rotation of the spindle, and a workpiece held on the chuck table is ground by the grinding wheel. A grinding unit, a grinding feed unit for grinding and feeding the grinding unit toward the holding surface, an AE sensor mounted on the grinding unit or the grinding feed unit, and a control unit. When the workpiece is ground, the chuck table and the grinding wheel are rotated, and the grinding unit is ground and fed by the grinding feed unit to bring the grinding wheel into contact with the workpiece. The rotation speed of the chuck table, the rotation speed of the grinding wheel, or the feed speed of the grinding wheel depends on the generated elastic wave detected by the AE sensor. Tsu door to control the rate at which the grinding feed the the grinding unit. [Selection diagram] FIG.
Description
本発明は、板状の被加工物を研削する研削装置に関する。 The present invention relates to a grinding apparatus for grinding a plate-like workpiece.
シリコンやガリウムヒ素、サファイア、ガラス等からなる板状の被加工物から半導体デバイスや光デバイスを含むデバイスチップを形成する工程では、該板状の被加工物を研削して所定の厚みに薄化する研削装置が使用される。該研削装置は、該板状の被加工物を保持するチャックテーブルと、被加工物を研削する研削ユニットと、該研削ユニットを鉛直方向に研削送りする研削送りユニットと、を備える。 In the process of forming device chips including semiconductor devices and optical devices from plate-like workpieces made of silicon, gallium arsenide, sapphire, glass, etc., the plate-like workpiece is ground and thinned to a predetermined thickness A grinding device is used. The grinding apparatus includes a chuck table for holding the plate-like workpiece, a grinding unit for grinding the workpiece, and a grinding feed unit for grinding and feeding the grinding unit in the vertical direction.
該研削ユニットは、該鉛直方向に沿って伸長するスピンドルと、該スピンドルの下端に装着された研削ホイールと、該研削ホイールの下面に装着された研削砥石と、を備える。被加工物の研削加工時には、該スピンドルを回転させて該研削ホイールを回転させ、該研削送りユニットを作動させて該研削ユニットを研削送りする。回転する研削ホイールに装着された該研削砥石が被加工物に接触すると、該被加工物の研削加工が開始される。 The grinding unit includes a spindle extending along the vertical direction, a grinding wheel attached to the lower end of the spindle, and a grinding wheel attached to the lower surface of the grinding wheel. When grinding the workpiece, the spindle is rotated to rotate the grinding wheel, and the grinding feed unit is operated to feed the grinding unit by grinding. When the grinding wheel mounted on the rotating grinding wheel comes into contact with the workpiece, grinding of the workpiece is started.
研削加工時には、該被加工物や研削ユニットに加工による負荷(以下、加工負荷という)がかかる。許容される範囲を超えた加工負荷が該被加工物や研削ユニットにかかると、被加工物の破損や欠け、研削砥石の異常消耗を生じて正常な研削加工を実施できない場合がある。そこで、そのような問題の発生を抑制するために、該加工負荷の異常を検知する技術が開発されている(特許文献1参照)。 During grinding, a work load (hereinafter referred to as a work load) is applied to the workpiece and the grinding unit. If a work load exceeding the allowable range is applied to the work piece or the grinding unit, the work piece may be damaged or chipped, or the grinding wheel may be abnormally worn, and normal grinding may not be performed. Therefore, in order to suppress the occurrence of such a problem, a technique for detecting an abnormality in the machining load has been developed (see Patent Document 1).
該技術では、被加工物の研削加工中にスピンドルを回転させるモーターの電流値を計測する。該電流値には、研削加工により生じる加工負荷が反映される。そして、該電流値が所定の閾値を超えたときに加工負荷が異常であると判定する。加工負荷の異常を検知したとき、例えば、研削ユニットの研削送り速度を遅くする、研削ホイール及びチャックテーブルの回転速度を遅くする等の対策を実施することで、加工負荷を低下させることができる。 In this technique, a current value of a motor that rotates a spindle is measured during grinding of a workpiece. The current value reflects the processing load caused by grinding. Then, it is determined that the machining load is abnormal when the current value exceeds a predetermined threshold value. When an abnormality in the machining load is detected, for example, by taking measures such as slowing down the grinding feed speed of the grinding unit and slowing down the rotation speed of the grinding wheel and chuck table, the machining load can be reduced.
しかしながら、スピンドルを回転させるモーターの電流値は、被加工物の微小な個体差によって変化する場合があり、例えば、研削加工に異常が生じる状況でも該電流値が低く観測される場合がある。そのため、異常の発生を確実に検知できるように、該閾値を低く設定する場合がある。 However, the current value of the motor that rotates the spindle may change due to minute individual differences in the workpiece. For example, the current value may be observed to be low even in a situation where an abnormality occurs in the grinding process. Therefore, the threshold value may be set low so that the occurrence of abnormality can be detected reliably.
しかし、該閾値を低くすると、被加工物の個体差により電流値が高くなる場合に、研削加工に異常が発生していなくても研削送り速度を小さくする等の対策が実施される場合がある。すると、加工速度が遅くなり加工効率が低下する。また、加工速度が小さくなると、研削砥石の自生発刃が促されず研削砥石の研削能力が低下して、かえって加工負荷の上昇を招く場合もある。 However, when the threshold value is lowered, when the current value increases due to individual differences of workpieces, measures such as reducing the grinding feed speed may be implemented even if there is no abnormality in grinding. . Then, the processing speed is slowed down and the processing efficiency is lowered. Further, when the processing speed is reduced, the self-generated blade of the grinding wheel is not promoted, and the grinding ability of the grinding wheel is lowered, which may cause an increase in processing load.
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、適切な加工条件で研削加工を実施できる研削装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a grinding apparatus capable of performing grinding under appropriate processing conditions.
本発明の一態様によれば、上面に保持面を有し、被加工物を該保持面上に保持し、該保持面に垂直な方向に沿った軸の周りに回転するチャックテーブルと、スピンドルと、該スピンドルの下方に装着され該スピンドルの回転に伴って回転する研削砥石と、を備え、該チャックテーブルに保持された被加工物を該研削砥石で研削する研削ユニットと、該研削ユニットを該保持面に向かって研削送りする研削送りユニットと、該研削ユニット又は該研削送りユニットに装着されたAEセンサと、該研削送りユニットと、該チャックテーブルと、該AEセンサと、を制御する制御ユニットと、を備え、該制御ユニットは、該チャックテーブルに保持された該被加工物の研削時に該チャックテーブルと、該研削砥石と、を回転させ、該研削送りユニットにより該研削ユニットを研削送りさせて該研削砥石を該被加工物に接触させ、該研削によって生じ該AEセンサによって検出される弾性波に応じて該チャックテーブルの回転速度、該研削砥石の回転速度、または、該研削送りユニットが該研削ユニットを研削送りする速度を制御することを特徴とする該被加工物を研削する研削装置が提供される。 According to one aspect of the present invention, a chuck table having a holding surface on an upper surface, holding a workpiece on the holding surface, and rotating about an axis along a direction perpendicular to the holding surface, and a spindle A grinding wheel mounted below the spindle and rotating in accordance with the rotation of the spindle, and a grinding unit for grinding the workpiece held on the chuck table with the grinding wheel, and the grinding unit Control for controlling the grinding feed unit that feeds the grinding toward the holding surface, the grinding unit or the AE sensor mounted on the grinding feed unit, the grinding feed unit, the chuck table, and the AE sensor And a control unit that rotates the chuck table and the grinding wheel during grinding of the work piece held on the chuck table to rotate the grinding feed unit. The grinding unit is fed by grinding to bring the grinding wheel into contact with the workpiece, and the rotation speed of the chuck table and the rotation speed of the grinding wheel according to the elastic wave generated by the grinding and detected by the AE sensor Alternatively, there is provided a grinding apparatus for grinding the workpiece, wherein the grinding feed unit controls a speed at which the grinding unit is fed by grinding.
被加工物の研削加工時には、該被加工物や該研削砥石から研削加工の内容に応じた弾性波が発生する。本発明の一態様に係る研削装置では、例えば、該研削ユニット又は該研削送りユニットにAE(Acoustic Emission)センサが装着されており、該AEセンサが装着された該研削ユニット又は該研削送りユニットに伝播する弾性波を該AEセンサで検出できる。 When grinding a workpiece, elastic waves corresponding to the content of the grinding process are generated from the workpiece and the grinding wheel. In the grinding apparatus according to one aspect of the present invention, for example, an AE (Acoustic Emission) sensor is attached to the grinding unit or the grinding feed unit, and the grinding unit or the grinding feed unit to which the AE sensor is attached is attached. The propagating elastic wave can be detected by the AE sensor.
例えば、研削加工により生じる弾性波は、被加工物にかかる加工負荷が大きい場合に振幅が大きくなる傾向にあり、その一方で、該加工負荷が小さい場合に振幅が小さくなる傾向にある。そこで、本発明の一態様に係る研削装置では、研削加工時にAEセンサで該弾性波を検出して研削加工の状態を把握する。 For example, the elastic wave generated by grinding tends to increase in amplitude when the processing load applied to the workpiece is large, while the amplitude tends to decrease when the processing load is small. Therefore, in the grinding apparatus according to one aspect of the present invention, the state of the grinding process is grasped by detecting the elastic wave with an AE sensor during the grinding process.
そして、許容範囲を超える大きな振幅の弾性波がAEセンサで検出される場合、例えば、チャックテーブルや研削砥石の回転速度を速くしてチャックテーブルや研削砥石の1回転当たりの研削量を小さくする。または、該研削送りユニットによる研削ユニットの研削送り速度を遅くする。また、許容範囲を下回る小さな振幅の弾性波が検出される場合、チャックテーブルや研削砥石の回転速度を遅くし、または、該研削送りユニットによる研削ユニットの研削送り速度を速くする。 When an elastic wave having a large amplitude exceeding the allowable range is detected by the AE sensor, for example, the rotation speed of the chuck table or the grinding wheel is increased to reduce the grinding amount per rotation of the chuck table or the grinding wheel. Alternatively, the grinding feed speed of the grinding unit by the grinding feed unit is decreased. When an elastic wave having a small amplitude lower than the allowable range is detected, the rotation speed of the chuck table or the grinding wheel is decreased, or the grinding feed speed of the grinding unit by the grinding feed unit is increased.
このように、AEセンサで観測される弾性波から研削加工の状態を把握し、該研削加工の状態に応じてチャックテーブル、研削ユニット、または、研削送りユニットを制御することで、研削加工を適切に実施できる。 In this way, grasping the state of the grinding process from the elastic wave observed by the AE sensor, and controlling the chuck table, the grinding unit, or the grinding feed unit according to the state of the grinding process, the grinding process is appropriately performed. Can be implemented.
したがって、本発明の一態様によると、適切な加工条件で研削加工を実施できる研削装置を提供される。 Therefore, according to one embodiment of the present invention, a grinding apparatus that can perform grinding under appropriate machining conditions is provided.
添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。図1は、本実施形態に係る研削装置2の構成例を模式的に示す斜視図である。 Embodiments according to one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view schematically showing a configuration example of a grinding apparatus 2 according to the present embodiment.
図1に示すように、研削装置2の略直方体状の基台4上には、円盤状のターンテーブル6が水平面内において回転可能に設けられている。ターンテーブル6の上面には、円周方向に120度離間して3個のチャックテーブル8が備えられている。ターンテーブル6は、チャックテーブル位置付けユニットとして機能し、各チャックテーブル8を被加工物の搬入出領域、第1の加工領域、または、第2の加工領域にそれぞれ位置付ける。例えば、第1の加工領域では粗い砥粒による粗研削が実施され、第2の研削領域では細かい砥粒による仕上げ研削が実施される。 As shown in FIG. 1, a disc-shaped turntable 6 is provided on a substantially rectangular parallelepiped base 4 of the grinding device 2 so as to be rotatable in a horizontal plane. Three chuck tables 8 are provided on the upper surface of the turntable 6 so as to be 120 degrees apart in the circumferential direction. The turntable 6 functions as a chuck table positioning unit, and positions each chuck table 8 in a workpiece loading / unloading region, a first processing region, or a second processing region. For example, rough grinding with coarse abrasive grains is performed in the first processing area, and finish grinding with fine abrasive grains is performed in the second grinding area.
チャックテーブル8は、一端が吸引源(不図示)に接続された吸引路(不図示)を内部に有し、該吸引路の他端がチャックテーブル8上の保持面8aを構成する多孔質部材に通じている。チャックテーブル8は、該保持面8a上に載せられた被加工物に該吸引源により生じた負圧を該多孔質部材を通して作用させて被加工物を吸引保持する。 The chuck table 8 has a suction path (not shown) with one end connected to a suction source (not shown) inside, and the other end of the suction path forms a holding surface 8 a on the chuck table 8. Leads to. The chuck table 8 sucks and holds the workpiece by causing a negative pressure generated by the suction source to act on the workpiece placed on the holding surface 8a through the porous member.
ターンテーブル6の後方に隣接する位置には、2つの柱状のコラム12a,12bが立設されている。コラム12aには、研削ユニット10aが設けられている。コラム12bには、研削ユニット10bが設けられている。各研削ユニット10a,10bは、スピンドルモータ14a,14bと、該スピンドルモータ14a,14bによって回転駆動される研削ホイール16a,16bと、該研削ホイール16a,16bに装着された研削砥石18a,18bと、を備えている。 Two columnar columns 12 a and 12 b are provided upright at positions adjacent to the rear of the turntable 6. The column 12a is provided with a grinding unit 10a. The column 12b is provided with a grinding unit 10b. Each of the grinding units 10a and 10b includes a spindle motor 14a and 14b, a grinding wheel 16a and 16b rotated by the spindle motor 14a and 14b, and a grinding wheel 18a and 18b mounted on the grinding wheel 16a and 16b. It has.
該研削ホイール16a,16bに装着された研削砥石18a,18bは、研削送りユニット20a,20bにより上下方向(Z軸方向)に移動可能であり、チャックテーブル8上に保持される被加工物を研削加工する。 The grinding wheels 18a, 18b mounted on the grinding wheels 16a, 16b can be moved in the vertical direction (Z-axis direction) by the grinding feed units 20a, 20b, and grind the work piece held on the chuck table 8. Process.
研削装置2において加工される該被加工物は、例えば、シリコン、SiC(シリコンカーバイド)、若しくは、その他の半導体等の材料、または、サファイア、ガラス、石英等の材料からなる略円板状の基板である。被加工物の表面は格子状に配列された複数の分割予定ライン(ストリート)で複数の領域に区画されており、該複数の分割予定ラインにより区画された各領域にはIC等のデバイスが形成されている。 The workpiece to be processed in the grinding apparatus 2 is, for example, a substantially disk-shaped substrate made of silicon, SiC (silicon carbide), or other semiconductor material, or a material such as sapphire, glass, or quartz. It is. The surface of the workpiece is divided into a plurality of regions by a plurality of division lines (streets) arranged in a grid pattern, and devices such as ICs are formed in the regions divided by the plurality of division lines. Has been.
被加工物は、裏面が研削加工されることで薄化される。例えば、研削ユニット10aにより粗研削が実施され、研削ユニット10bにより仕上げ研削が実施される。研削された被加工物が最終的に該分割予定ラインに沿って分割されることで、個々のデバイスチップが形成される。 The workpiece is thinned by grinding the back surface. For example, rough grinding is performed by the grinding unit 10a, and finish grinding is performed by the grinding unit 10b. The ground workpiece is finally divided along the division lines, whereby individual device chips are formed.
基台4の前側にはカセット載置台22a,22bが設けられている。カセット載置台22a上には、例えば、加工前の被加工物を収容したカセット24aが載置される。カセット載置台22bには、例えば、加工後の被加工物を収容するためのカセット24bが載置される。 Cassette mounting tables 22 a and 22 b are provided on the front side of the base 4. On the cassette mounting table 22a, for example, a cassette 24a that accommodates a workpiece to be processed is placed. On the cassette mounting table 22b, for example, a cassette 24b for storing a processed workpiece is placed.
基台4上には、カセット載置台22a,22bに隣接して被加工物を搬送する被加工物搬送ロボット26が据え付けられている。基台4の前側部分には更に、複数の位置決めピンで被加工物の位置を決める位置決めテーブル28と、被加工物をチャックテーブル8に載せる被加工物搬入機構(ローディングアーム)30と、被加工物をチャックテーブル8から搬出する被加工物搬出機構(アンローディングアーム)32と、研削された被加工物を洗浄及びスピン乾燥するスピンナ洗浄装置34と、が配設されている。 On the base 4, a workpiece transfer robot 26 that transfers a workpiece adjacent to the cassette mounting tables 22 a and 22 b is installed. The front portion of the base 4 further includes a positioning table 28 for determining the position of the workpiece with a plurality of positioning pins, a workpiece loading mechanism (loading arm) 30 for placing the workpiece on the chuck table 8, and a workpiece. A workpiece unloading mechanism (unloading arm) 32 for unloading the workpiece from the chuck table 8 and a spinner cleaning device 34 for cleaning and spin drying the ground workpiece.
チャックテーブル8の保持面8a上に吸引保持された被加工物の研削加工を実施すると、該被加工物や研削砥石に加工負荷がかかる。該加工負荷が大きすぎると、被加工物の破損や欠け、研削砥石の異常消耗を生じる場合がある。また、該加工負荷を小さくするために必要以上の対策を実施すると、研削加工に要する時間が増大して加工効率が悪化し、また、研削砥石の自生発刃が適切に生じない場合がある。 When the workpiece that is sucked and held on the holding surface 8a of the chuck table 8 is ground, a processing load is applied to the workpiece and the grinding wheel. If the processing load is too large, the workpiece may be damaged or chipped, and the grinding wheel may be abnormally consumed. In addition, if more than necessary measures are taken in order to reduce the processing load, the time required for grinding increases, the processing efficiency deteriorates, and the self-generated blade of the grinding wheel may not be appropriately generated.
そこで、本実施形態に係る研削装置2にはAE(Acoustic Emission)センサ36が設置される。該AEセンサ36は、例えば、図1に示す通り、チャックテーブル8、研削ユニット10a,10b、研削送りユニット20a,20b等のいずれか少なくとも1か所に据え付けられる。 Therefore, an AE (Acoustic Emission) sensor 36 is installed in the grinding apparatus 2 according to the present embodiment. For example, as shown in FIG. 1, the AE sensor 36 is installed at at least one of the chuck table 8, the grinding units 10a and 10b, the grinding feed units 20a and 20b, and the like.
AEセンサ36は、物体が変形する際、あるいは破壊される際に物体の内部に蓄えていた弾性エネルギーを放出して発生させる弾性波を検出するセンサである。AEセンサ36が研削装置2に設置されると、研削装置2の各構成から発出され伝播される弾性波(振動)を検出することができる。例えば、AEセンサ36は、研削装置2の研削ユニットによる被加工物の研削加工時に発生する弾性波を検出できる。 The AE sensor 36 is a sensor that detects an elastic wave generated by releasing elastic energy stored in the object when the object is deformed or destroyed. When the AE sensor 36 is installed in the grinding apparatus 2, it is possible to detect elastic waves (vibrations) emitted and propagated from the components of the grinding apparatus 2. For example, the AE sensor 36 can detect an elastic wave generated when the workpiece is ground by the grinding unit of the grinding apparatus 2.
研削加工により生じる弾性波は、被加工物にかかる加工負荷が大きい場合に振幅が大きくなる傾向にあり、その一方で、該加工負荷が小さい場合に振幅が小さくなる傾向にある。そこで、研削加工時にAEセンサ36で該研削装置2に伝播する弾性波を検出すると研削加工の状態を把握できる。 The elastic wave generated by grinding tends to increase in amplitude when the processing load applied to the workpiece is large. On the other hand, the amplitude tends to decrease when the processing load is small. Therefore, when the elastic wave propagating to the grinding device 2 is detected by the AE sensor 36 during grinding, the state of grinding can be grasped.
そして、例えば、加工負荷が大きすぎる場合、チャックテーブルや研削砥石の回転速度を速くし、または、該研削送りユニットによる研削ユニットの研削送り速度を遅くする。また、加工負荷が小さすぎる場合、チャックテーブルや研削砥石の回転速度を遅くし、または、該研削送りユニットによる研削ユニットの研削送り速度を速くする。すると、研削加工を適切に実施できる。 For example, when the processing load is too large, the rotation speed of the chuck table or the grinding wheel is increased, or the grinding feed speed of the grinding unit by the grinding feed unit is decreased. When the processing load is too small, the rotation speed of the chuck table and the grinding wheel is decreased, or the grinding feed speed of the grinding unit by the grinding feed unit is increased. Then, grinding can be performed appropriately.
ここで、AEセンサ36の構造について説明する。図2(A)は、AEセンサ36の構造を模式的に示す斜視図であり、図2(B)は、AEセンサ36の構造を模式的に示す断面図である。図2(A)に示す通り、AEセンサ36は、例えば、上部が塞がれた円筒状に形成されステンレスでなる筐体36aを有する。該筐体36aの側面に開口(不図示)が設けられ該開口を通じて同軸ケーブル36bが該筐体36aの内部に接続されている。該同軸ケーブル36bは、例えば、後述の制御ユニット38に電気的に接続されている。 Here, the structure of the AE sensor 36 will be described. FIG. 2A is a perspective view schematically showing the structure of the AE sensor 36, and FIG. 2B is a cross-sectional view schematically showing the structure of the AE sensor 36. As shown in FIG. 2A, the AE sensor 36 includes a casing 36a made of stainless steel, for example, formed in a cylindrical shape whose upper portion is closed. An opening (not shown) is provided on a side surface of the housing 36a, and the coaxial cable 36b is connected to the inside of the housing 36a through the opening. The coaxial cable 36b is electrically connected to a control unit 38, which will be described later, for example.
図2(B)に示す通り、筐体36aの内部には、振動子36gが備えられ、同軸ケーブル36bの内部導体と、外部導体と、の一方は、該振動子36gのマイナス電極36cに接続されており、他方は、該振動子36g上面のプラス電極36dに接続されている。該筐体36aの内部の隙間には、封止樹脂36eが充填されている。該振動子36gの下部は、該筐体36aの底部を塞ぐように配設されたセラミックス等でなる絶縁材36fに接している。 As shown in FIG. 2B, the housing 36a is provided with a vibrator 36g, and one of the inner conductor and the outer conductor of the coaxial cable 36b is connected to the negative electrode 36c of the vibrator 36g. The other is connected to the plus electrode 36d on the upper surface of the vibrator 36g. A sealing resin 36e is filled in a gap inside the housing 36a. The lower part of the vibrator 36g is in contact with an insulating material 36f made of ceramics or the like disposed so as to close the bottom of the housing 36a.
該AEセンサ36は、該絶縁材36fが研削装置2に接するように設置され、検出対象となる弾性波(振動)は該絶縁材36fを介して該振動子36gに伝播する。振動子36gに到達した弾性波(振動)は、該振動子36gにより該弾性波(振動)に応じた電圧の電気信号に変換される。該電気信号は、該同軸ケーブル36bを通じて次に説明する制御ユニット38に伝達される。 The AE sensor 36 is installed so that the insulating material 36f is in contact with the grinding device 2, and an elastic wave (vibration) to be detected propagates to the vibrator 36g via the insulating material 36f. The elastic wave (vibration) reaching the vibrator 36g is converted into an electric signal having a voltage corresponding to the elastic wave (vibration) by the vibrator 36g. The electrical signal is transmitted to the control unit 38 described below through the coaxial cable 36b.
研削装置2は、さらに、該研削装置2の各構成要素を制御するための制御ユニット38を備える。該制御ユニット38は、該研削装置2における研削加工を制御し、また、AEセンサ36による弾性波の測定を制御する。そして、AEセンサ36による測定により得られた測定結果を反映して、研削送りユニット20a,20b、研削ユニット10a,10b、及びチャックテーブル8の動作を補正する。 The grinding apparatus 2 further includes a control unit 38 for controlling each component of the grinding apparatus 2. The control unit 38 controls grinding processing in the grinding apparatus 2 and controls measurement of elastic waves by the AE sensor 36. The operations of the grinding feed units 20a and 20b, the grinding units 10a and 10b, and the chuck table 8 are corrected by reflecting the measurement result obtained by the measurement by the AE sensor 36.
次に、研削装置2において実施される被加工物の研削加工と、AEセンサ36による弾性波の測定と、該測定の結果を反映した加工条件の補正と、について説明する。 Next, the grinding of the workpiece performed in the grinding apparatus 2, the measurement of the elastic wave by the AE sensor 36, and the correction of the processing conditions reflecting the measurement result will be described.
まず、該被加工物が収容されたカセット22aをカセット載置台24aに載せる。そして、被加工物搬送ロボット26を作動させて、該カセット22aに収容された被加工物をカセット22aから搬出する。搬出された被加工物を位置決めテーブル28に載置して、該位置決めテーブル28の各ピンを作動させて被加工物を該位置決めテーブル28の中央に精密に位置付ける。 First, the cassette 22a containing the workpiece is placed on the cassette mounting table 24a. Then, the workpiece conveying robot 26 is operated to carry out the workpiece accommodated in the cassette 22a from the cassette 22a. The unloaded workpiece is placed on the positioning table 28, and each pin of the positioning table 28 is operated to precisely position the workpiece in the center of the positioning table 28.
次に、被加工物搬入機構(ローディングアーム)30を作動させて、被加工物を搬入出領域に位置付けられたチャックテーブル8の上に載せる。このとき、被加工物の被加工面側を上方に露出させる。そして、該チャックテーブル8に被加工物を吸引保持させて、ターンテーブル6を回転させてチャックテーブル8を第1の加工領域、すなわち、研削ユニット10aの下方に位置付ける。 Next, the workpiece loading mechanism (loading arm) 30 is operated to place the workpiece on the chuck table 8 positioned in the loading / unloading area. At this time, the processing surface side of the workpiece is exposed upward. Then, the workpiece is sucked and held on the chuck table 8 and the turntable 6 is rotated to position the chuck table 8 below the first machining area, that is, below the grinding unit 10a.
次に、研削ユニット10aのスピンドルモータ14aを作動させて研削ホイール16aを回転させる。また、チャックテーブル8を保持面8aに垂直な方向に沿った軸の周りに回転させる。そして、研削送りユニット20aを作動させて研削ホイール16aを被加工物に向けて下降させる。研削ホイール16aに装着された研削砥石18aが被加工物の被加工面に触れると被加工物が研削加工される。研削送りユニット20aにより研削砥石18aを所定の高さ位置まで下降させることで、被加工物を所定の厚さに薄化できる。 Next, the spindle motor 14a of the grinding unit 10a is operated to rotate the grinding wheel 16a. Further, the chuck table 8 is rotated around an axis along a direction perpendicular to the holding surface 8a. Then, the grinding feed unit 20a is operated to lower the grinding wheel 16a toward the work piece. When the grinding wheel 18a mounted on the grinding wheel 16a touches the workpiece surface of the workpiece, the workpiece is ground. The workpiece can be thinned to a predetermined thickness by lowering the grinding wheel 18a to a predetermined height position by the grinding feed unit 20a.
なお、研削加工は、研削ユニット10bを用いて実施してもよい。第1の加工領域(研削ユニット10aの下方)に位置付けられたチャックテーブル8上に保持された被加工物と、第2の加工領域(研削ユニット10bの下方)に位置付けられたチャックテーブル8上に保持された被加工物と、を同時に研削加工してもよい。また、例えば、第1の加工領域において粗研削を実施して、その次に該第2の加工領域において仕上げ研削を実施してもよい。 In addition, you may implement a grinding process using the grinding unit 10b. On the workpiece held on the chuck table 8 positioned in the first processing region (below the grinding unit 10a) and on the chuck table 8 positioned in the second processing region (below the grinding unit 10b) The held workpiece may be ground simultaneously. Further, for example, rough grinding may be performed in the first processing region, and then finish grinding may be performed in the second processing region.
研削加工を実施した後は、チャックテーブル8を再び被加工物の搬入出領域に位置付けて、被加工物搬出機構(アンローディングアーム)32を作動させて、被加工物をチャックテーブル8からスピンナ洗浄装置34に搬送する。このとき、チャックテーブル8は被加工物の吸引保持を解除しておく。 After carrying out the grinding process, the chuck table 8 is positioned again in the workpiece loading / unloading area, the workpiece unloading mechanism (unloading arm) 32 is operated, and the workpiece is removed from the chuck table 8 by the spinner cleaning. Transport to device 34. At this time, the chuck table 8 releases the suction holding of the workpiece.
次に、スピンナ洗浄装置34を作動させて該被加工物を洗浄及び乾燥し、被加工物搬送ロボット26を作動させて、カセット載置台22bに載置されたカセット24bに該被加工物を収納する。 Next, the workpiece cleaning robot 34 is operated to clean and dry the workpiece, and the workpiece transfer robot 26 is operated to store the workpiece in the cassette 24b mounted on the cassette mounting table 22b. To do.
研削加工を実施する間、研削装置2に取り付けられたAEセンサ36に弾性波を観測させる。該被加工物の研削加工時には、研削砥石18a,18bによって研削される被加工物や、該研削砥石18a,18bから該研削加工の内容に応じた弾性波が発生する。該AEセンサ36は、該AEセンサ36が装着された該研削ユニット10a,10b又は該研削送りユニット20a,20b等に伝播する弾性波を検出できる。 While performing the grinding process, the AE sensor 36 attached to the grinding device 2 is caused to observe the elastic wave. At the time of grinding of the workpiece, an elastic wave corresponding to the content of the grinding process is generated from the workpiece to be ground by the grinding wheels 18a and 18b and the grinding wheels 18a and 18b. The AE sensor 36 can detect elastic waves propagating to the grinding units 10a and 10b or the grinding feed units 20a and 20b to which the AE sensor 36 is attached.
図3(A)及び図3(B)に、AEセンサ36で観測される弾性波の波形の例を示す。それぞれの図には、AEセンサ36で観測される弾性波の波形とともに、研削ユニットの高さ位置の変化を示す。グラフの横軸は時間を表し、縦軸は弾性波を検出したAEセンサ36が出力する電気信号の電圧及び該研削ユニットの高さを表している。 3A and 3B show examples of the acoustic wave waveform observed by the AE sensor 36. FIG. Each figure shows the change in the height position of the grinding unit along with the waveform of the elastic wave observed by the AE sensor 36. The horizontal axis of the graph represents time, and the vertical axis represents the voltage of the electrical signal output from the AE sensor 36 that has detected the elastic wave and the height of the grinding unit.
図3(A)は、AEセンサで測定される弾性波の振幅が許容される範囲を上回る場合における研削ユニットの高さ位置と、AEセンサで測定される弾性波と、の関係の例を示す図であり、図3(B)は、AEセンサで測定される弾性波の振幅が許容される範囲を下回る場合を示す図である。 FIG. 3A shows an example of the relationship between the height position of the grinding unit and the elastic wave measured by the AE sensor when the amplitude of the elastic wave measured by the AE sensor exceeds the allowable range. FIG. 3B is a diagram illustrating a case where the amplitude of the elastic wave measured by the AE sensor falls below an allowable range.
AEセンサ36で観測される弾性波には、その振幅に対して所定の許容範囲が設定される。例えば、図3(A)及び図3(B)に示すグラフにおいて、弾性波の振幅として許容される範囲は、符号44aに示す弾性波の振幅の許容範囲の上限と、符号44bに示す弾性波の振幅の許容範囲の下限と、の間の範囲である。 A predetermined allowable range is set for the amplitude of the elastic wave observed by the AE sensor 36. For example, in the graphs shown in FIGS. 3A and 3B, the allowable range of the amplitude of the elastic wave is the upper limit of the allowable range of the elastic wave indicated by the symbol 44a and the elastic wave indicated by the symbol 44b. It is a range between the lower limit of the allowable range of the amplitude.
例えば、図3(A)に示す通り、AEセンサ36により観測される弾性波42aの振幅が大きくなり、弾性波の振幅の許容範囲の上限44aを超える振幅となる場合、許容範囲を超えた研削負荷が生じていることが示唆される。そのまま研削加工を継続すると、被加工物の破損や欠け、研削砥石18a,18bの異常消耗を生じる場合がある。 For example, as shown in FIG. 3A, when the amplitude of the elastic wave 42a observed by the AE sensor 36 becomes large and exceeds the upper limit 44a of the elastic wave amplitude allowable range, grinding exceeding the allowable range is performed. This suggests that a load is occurring. If grinding is continued as it is, the workpiece may be damaged or chipped, and the grinding wheels 18a and 18b may be abnormally worn.
そのような弾性波42aが観測されたとき、制御ユニット38は、例えば、研削送りユニット20a,20bによる研削ユニット10a,10bの研削送り速度を低下させる。すると、図3(A)に示す通り、研削送り速度の変更のタイミング46a以降、AEセンサ36に観測される弾性波の振幅が小さくなり、該加工負荷を低下できたことが確認される。 When such an elastic wave 42a is observed, the control unit 38 decreases the grinding feed speed of the grinding units 10a and 10b by the grinding feed units 20a and 20b, for example. Then, as shown in FIG. 3A, after the timing 46a of changing the grinding feed rate, the amplitude of the elastic wave observed by the AE sensor 36 is reduced, and it is confirmed that the machining load can be reduced.
その一方で、図3(B)に示す通り、AEセンサ36により観測される弾性波42bの振幅が小さくなり、弾性波の振幅の許容範囲の下限44bを下回る振幅となる場合、被加工物にかかる研削負荷が小さすぎることが示唆される。この場合、研削負荷が小さすぎて、研削砥石18a,18bの自生発刃が適切に進行しないおそれがある。また、研削送り速度をより大きくして加工効率を上げる余地がある。 On the other hand, as shown in FIG. 3B, when the amplitude of the elastic wave 42b observed by the AE sensor 36 becomes small and falls below the lower limit 44b of the allowable range of the elastic wave amplitude, This suggests that the grinding load is too small. In this case, there is a possibility that the grinding load is too small, and the self-generated blades of the grinding wheels 18a and 18b do not advance appropriately. In addition, there is room for increasing the grinding feed rate to increase the processing efficiency.
そのような弾性波42bが観測されたとき、制御ユニット38は、例えば、研削送りユニット20a,20bによる研削ユニット10a,10bの研削送り速度を増大させる。すると、図3(B)に示す通り、研削送り速度の変更のタイミング46b以降、被加工物にかかる加工負荷が適切となり、AEセンサ36に観測される弾性波の振幅が大きくなる。該研削砥石18a,18bの自生発刃も適切に進行する。 When such an elastic wave 42b is observed, the control unit 38 increases the grinding feed speed of the grinding units 10a and 10b by the grinding feed units 20a and 20b, for example. Then, as shown in FIG. 3B, after the timing 46b of changing the grinding feed rate, the processing load applied to the workpiece becomes appropriate, and the amplitude of the elastic wave observed by the AE sensor 36 increases. The self-generated blades of the grinding wheels 18a and 18b also proceed appropriately.
以上に説明する通り、本実施形態に係る研削装置2は、AEセンサ36を備えるため、研削加工により被加工物等にかかる加工負荷を監視することができる。そのため、被加工物や研削砥石の破損等が生じにくくなり、また、加工効率を適切に維持できる。ここで、本実施形態に係る研削装置2では、研削送りユニット20a,20bの研削送り速度以外にも、チャックテーブル8の回転速度、または、研削砥石18a,18bの回転速度を該AEセンサ36が検出する該弾性波に応じて制御してもよい。 As described above, since the grinding apparatus 2 according to the present embodiment includes the AE sensor 36, it is possible to monitor the processing load applied to the workpiece by grinding. Therefore, it becomes difficult to cause damage to the workpiece and the grinding wheel, and the processing efficiency can be appropriately maintained. Here, in the grinding apparatus 2 according to the present embodiment, in addition to the grinding feed speed of the grinding feed units 20a and 20b, the AE sensor 36 determines the rotational speed of the chuck table 8 or the grinding wheels 18a and 18b. You may control according to this elastic wave to detect.
なお、本発明は上記実施形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記実施形態では、研削ユニット10a,10bによる被加工物の研削加工時に、AEセンサ36により弾性波を観測したが、本発明の一態様に係る加工措置はこれに限定されない。 In addition, this invention is not limited to description of the said embodiment, A various change can be implemented. For example, in the above-described embodiment, the elastic wave is observed by the AE sensor 36 when the workpiece is ground by the grinding units 10a and 10b. However, the processing measure according to one embodiment of the present invention is not limited thereto.
例えば、研削装置2により被加工物を研削加工していないときにAEセンサ36を作動させて弾性波を観測してもよい。例えば、研削装置2のメンテナンス等のタイミングにおいて、研削ホイール16a,16bやチャックテーブル8を回転させて、研削装置2から発生する弾性波を観測してもよい。 For example, the elastic wave may be observed by operating the AE sensor 36 when the workpiece is not ground by the grinding device 2. For example, at a timing such as maintenance of the grinding device 2, the grinding wheels 16a and 16b and the chuck table 8 may be rotated to observe an elastic wave generated from the grinding device 2.
例えば、研削ホイール16a,16bやチャックテーブル8が正常に動作するときにAEセンサ36により観測される弾性波を制御ユニット38が記憶しておき、メンテナンス時に観測される弾性波の波形と比較する。すると、研削ホイール16a,16bやチャックテーブル8の異常を検出することができる。 For example, the control unit 38 stores the elastic wave observed by the AE sensor 36 when the grinding wheels 16a, 16b and the chuck table 8 operate normally, and compares it with the waveform of the elastic wave observed during maintenance. Then, abnormality of the grinding wheels 16a and 16b and the chuck table 8 can be detected.
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structure, method, and the like according to the above-described embodiment can be appropriately modified and implemented without departing from the scope of the object of the present invention.
2 研削装置
4 基台
6 ターンテーブル
8 チャックテーブル
8a 保持面
10a,10b 研削ユニット
12a,12b コラム
14a,14b スピンドルモータ
16a,16b 研削ホイール
18a,18b 研削砥石
20a,20b 研削送りユニット
22a,22b カセット載置台
24a,24b カセット
26 被加工物搬送ロボット
28 位置決めテーブル
30 被加工物搬入機構(ローディングアーム)
32 被加工物搬出機構(アンローディングアーム)
34 スピンナ洗浄装置
36 AEセンサ
36a 筐体
36b 同軸ケーブル
36c マイナス電極
36d プラス電極
36e 封止樹脂
36f 絶縁材
36g 振動子
38 制御ユニット
40a,40b 研削ユニットの高さ
42a,42b 弾性波
44a 弾性波の振幅の許容範囲の上限
44b 弾性波の振幅の許容範囲の下限
46a,46b 研削送り速度の変更のタイミング
2 Grinding device 4 Base 6 Turntable 8 Chuck table 8a Holding surface 10a, 10b Grinding unit 12a, 12b Column 14a, 14b Spindle motor 16a, 16b Grinding wheel 18a, 18b Grinding wheel 20a, 20b Grind feed unit 22a, 22b Mounted on cassette Table 24a, 24b Cassette 26 Workpiece transfer robot 28 Positioning table 30 Workpiece loading mechanism (loading arm)
32 Workpiece unloading mechanism (unloading arm)
34 Spinner cleaning device 36 AE sensor 36a Housing 36b Coaxial cable 36c Negative electrode 36d Positive electrode 36e Sealing resin 36f Insulating material 36g Vibrator 38 Control unit 40a, 40b Grinding unit height 42a, 42b Elastic wave 44a Elastic wave amplitude Upper limit 44b Lower limit of elastic wave amplitude 46a, 46b Timing of change of grinding feed rate
Claims (1)
スピンドルと、該スピンドルの下方に装着され該スピンドルの回転に伴って回転する研削砥石と、を備え、該チャックテーブルに保持された被加工物を該研削砥石で研削する研削ユニットと、
該研削ユニットを該保持面に向かって研削送りする研削送りユニットと、
該研削ユニット又は該研削送りユニットに装着されたAEセンサと、
該研削送りユニットと、該チャックテーブルと、該AEセンサと、を制御する制御ユニットと、を備え、
該制御ユニットは、
該チャックテーブルに保持された該被加工物の研削時に該チャックテーブルと、該スピンドルと、を回転させ、該研削送りユニットにより該研削ユニットを研削送りさせて該研削砥石を該被加工物に接触させ、
該研削によって生じ該AEセンサによって検出される弾性波に応じて該チャックテーブルの回転速度、該研削砥石の回転速度、または、該研削送りユニットが該研削ユニットを研削送りする速度を制御することを特徴とする該被加工物を研削する研削装置。 A chuck table having a holding surface on an upper surface, holding a workpiece on the holding surface, and rotating about an axis along a direction perpendicular to the holding surface;
A grinding unit equipped with a spindle and a grinding wheel mounted below the spindle and rotating as the spindle rotates, and grinding a workpiece held on the chuck table with the grinding wheel;
A grinding feed unit for grinding and feeding the grinding unit toward the holding surface;
An AE sensor mounted on the grinding unit or the grinding feed unit;
A control unit for controlling the grinding feed unit, the chuck table, and the AE sensor;
The control unit is
When grinding the workpiece held on the chuck table, the chuck table and the spindle are rotated, and the grinding unit is ground and fed by the grinding feed unit so that the grinding wheel contacts the workpiece. Let
Controlling the rotational speed of the chuck table, the rotational speed of the grinding wheel, or the speed at which the grinding feed unit grinds the grinding unit according to the elastic wave generated by the grinding and detected by the AE sensor. A grinding apparatus for grinding the workpiece.
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