JP2019000860A - 給湯用電磁ポンプの制御方法 - Google Patents

Abstract

【課題】きれいで温かい溶湯を高精度・高速かつ安全に供給することができる給湯用電磁ポンプの制御方法を提供する。【解決手段】下端が溶湯内に浸漬するように斜めに設置された保持管と、前記保持管の上端から斜め下方に向かって連設された給湯管とを有し、予め決めた前記保持管のベース位置まで前記溶湯を上げるための第１コイル、及び前記保持管のベース位置から上端まで前記溶湯を上げてさらに前記給湯管に送出するための第２コイルを制御する方法であって、前記第２コイルに印加する保持電圧を、前記溶湯の湯面高さに応じてレベル補正するとともに、前記保持管に上がった前記溶湯の変動を抑えてベース位置に近づくように保持位置補正し、さらに、前記第２コイルに印加する給湯電圧を、前記溶湯の湯面高さに応じてレベル補正するとともに、前記保持電圧にした補正の比率に応じて保持位置補正する。【選択図】図１

Description

本発明は、保持炉から鋳型やダイカストマシーンのスリーブに溶湯を供給するための給湯用電磁ポンプの制御方法に関する。

ダイカストマシーン等の鋳造装置においては、アルミニウム（Ａｌ）やアルミニウム合金等の金属を溶解し、保持炉に溜められた溶湯を必要な量だけ鋳型やダイカストマシーンのスリーブを介して鋳型に注入して冷却することにより目的の形状に成形する。保持炉から鋳型やダイカストマシーンのスリーブへの溶湯の移送には、ラドルや空圧又は電磁ポンプ等を使用する。なお、特許文献１に記載されているように、移送中の溶湯の酸化やガス吸収等を防止する溶湯移送ポンプの発明も開示されている。また、特許文献２に記載されているように、電磁ポンプを使用した鋳造装置の発明も開示されている。

特開２００５−８８０７０号公報 特開２０００−７１０５９号公報

しかしながら、特許文献１に記載の溶湯移送ポンプは、サイホン作用により溶湯を移送するため、中継炉から保持炉に移送するような場合には良いが、鋳型に注湯するような場合には給湯量の細かい調整が困難である。また、特許文献２に記載の電磁ポンプは、電圧に応じた給湯量が安定して得られるが、溶湯中の水素量や配管内の酸化膜などを要因とする湯面の上下位置の変動や揺れを考慮しないと適正な速度と時間で注湯することはできない。

そこで、本発明は、きれいで温かい溶湯を高精度・高速かつ安全に供給することができる給湯用電磁ポンプの制御方法を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するために、本発明である給湯用電磁ポンプの制御方法は、下端が溶湯内に浸漬するように斜めに設置された保持管と、前記保持管の上端から斜め下方に向かって連設された給湯管とを有し、予め決めた前記保持管のベース位置まで前記溶湯を上げるための第１コイル、及び前記保持管のベース位置から上端まで前記溶湯を上げてさらに前記給湯管に送出するための第２コイルを制御する方法であって、前記第１コイルで前記溶湯を押し上げた後に前記第１コイルの出力を弱めながら前記第２コイルの出力を上げていき前記第２コイルだけで前記溶湯を保持した上で、前記第２コイルに印加する保持電圧を、前記溶湯の湯面高さに応じてレベル補正するとともに、前記保持管に上がった前記溶湯の変動を抑えてベース位置に近づくように保持位置補正し、さらに、前記第２コイルに印加する給湯電圧を、前記溶湯の湯面高さに応じてレベル補正するとともに、前記保持電圧にした補正の比率に応じて保持位置補正することにより、指定した給湯量を送出するための給湯速度となるように前記給湯電圧が調整される、ことを特徴とする。

また、前記給湯用電磁ポンプの制御方法は、下端が溶湯内に浸漬するように斜めに設置された保持管と、前記保持管の上端から斜め下方に向かって連設された給湯管とを有し、予め決めた前記保持管のベース位置まで前記溶湯を上げるためのガス吸引機、及び前記保持管のベース位置から上端まで前記溶湯を上げてさらに前記給湯管に送出するための上部コイルを制御する方法であって、前記ガス吸引機で前記溶湯を吸い上げた後に前記上部コイルで前記溶湯を保持した上で、前記上部コイルに印加する保持電圧を、前記溶湯の湯面高さに応じてレベル補正するとともに、前記保持管に上がった前記溶湯の変動を抑えてベース位置に近づくように保持位置補正し、さらに、前記上部コイルに印加する給湯電圧を、前記溶湯の湯面高さに応じてレベル補正するとともに、前記保持電圧にした補正の比率に応じて保持位置補正することにより、指定した給湯量を送出するための給湯速度となるように前記給湯電圧が調整される、ことを特徴とする。

また、前記給湯用電磁ポンプの制御方法において、前記保持管のベース位置は、前記保持管に備えたレベル計により設定される、ことを特徴とする。

また、前記給湯用電磁ポンプの制御方法は、前記給湯電圧で給湯したときのビスケット厚を基に、次回の給湯電圧をフィードバック補正する、ことを特徴とする。

また、前記給湯用電磁ポンプの制御方法において、前記給湯電圧は、前記溶湯の湯面高さが基準位置から変動した差分に対して、指定した給湯量と給湯速度から導出された補正係数を用いてレベル補正される、ことを特徴とする。

また、前記給湯用電磁ポンプの制御方法において、前記給湯電圧は、前記保持電圧の保持位置補正量を用いて前記保持電圧と前記給湯電圧の比率を基に算出された補正量で保持位置補正される、ことを特徴とする。

本発明によれば、きれいで熱い溶湯を高精度・高速かつ安全に供給することができる。ラドルを使用せず電磁ポンプで直接に給湯するので、溶湯の温度低下を抑制することができる。炉内の脱ガスやノロ掻きにより溶湯中の水素量や酸化膜などを所定以下にする定期的保全をすることで、表面の酸化物を巻き込まず炉内のきれいな溶湯を安定して供給することができる。

さらに、溶湯を配管（保持管）内のベース位置まで持ち上げて保持する電圧と、そこから溶湯を送り出して給湯するための電圧について、保持炉内の湯面の高さやベース位置で保持されている湯面の変化を考慮した補正をすることにより、給湯速度と給湯時間が正確に求められ、保持炉から適切な給湯量で注湯することができる。また、注湯ごとにフィードバック制御することにより誤差を調整して精度を向上させることができる。

本発明である給湯用電磁ポンプの制御方法を用いる保持炉と第１コイルの無い給湯用電磁ポンプを示す縦断面図である。 本発明である給湯用電磁ポンプの制御方法を用いる保持炉と第１コイルの有る給湯用電磁ポンプを示す縦断面図である。 本発明である給湯用電磁ポンプの制御方法を示すフローチャートである。 本発明である給湯用電磁ポンプの制御方法における炉レベル補正について説明するためのグラフである。 本発明である給湯用電磁ポンプの制御方法におけるビスケット厚補正について説明するためのグラフである。

以下に、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する場合がある。

まず、本発明である給湯用電磁ポンプの制御方法を用いる給湯装置について説明する。図１は、給湯用電磁ポンプの制御方法を用いる保持炉と第１コイルの無い給湯用電磁ポンプを示す縦断面図である。図２は、給湯用電磁ポンプの制御方法を用いる保持炉と第１コイルの有る給湯用電磁ポンプを示す縦断面図である。

給湯装置は、アルミニウム（Ａｌ）等の金属を溶解するための溶解炉（図示せず）、溶解炉で溶解させた溶湯１２０を加温保持するための保持炉１００、保持炉１００に保持された溶湯１２０を流し込んで成形するための鋳型（図示せず）、保持炉１００から鋳型やダイカストマシーンのスリーブ（注湯管）２３０に溶湯１２０を移送するための電磁ポンプ２００、２０１等を有する。なお、図１の電磁ポンプ２００は、第１コイルの無い電磁ポンプであり、図２の電磁ポンプ２０１は、第１コイルの有る電磁ポンプである。図１に示すように、保持炉１００は、溶解炉から移送された溶湯１２０を加温するために加熱ヒータ１１０を備える。

保持炉１００では、大気中の水分と溶湯１２０が反応して水素ガスが溶湯１２０中に取り込まれると、鋳型に流し込んで冷却したときに気泡となって品質を低下させるので、溶湯１２０に対して脱ガス処理を施す。また、大気中の酸素や水分と溶湯１２０が反応して酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）等の酸化膜（ノロ）が溶湯１２０の表面を覆い比重の関係で溶湯１２０内に入ると、溶湯１２０の流れを阻害して品質を低下させるので、定期的にノロ掻きを行う。

電磁ポンプ２００、２０１は、溶湯１２０など導電性流体を圧送する管状のポンプである。例えば、管の方向と直角に磁場を掛け、管と磁場の双方に直角に電流が流れるようにコイルを巻くことにより、誘導電流と磁場との相互作用（フレミングの左手則）により溶湯１２０を移動させる。

図１に示す電磁ポンプ２００は、図２に示す第１コイル２４０が無いので、図示しないガス吸引機を保持管２１０の上部先端に接続し、ガス吸引機の圧力を計測しながらガス吸引機のモータをインバータにて回転数制御して、保持管２１０の上部に取り付けたレベル計２８１の所定の位置まで溶湯１２０を吸い上げた後、ガス吸引機のモータを回転数制御して減圧を弱めながら電磁ポンプ２００の上部コイル２５１の出力を上げて溶湯１２０を所定の位置に上部コイル２５１だけで保持する。給湯時には電磁ポンプ２００の上部コイル２５１の出力を更に上げて保持管２１０の先端から必要な溶湯１２０を図示しない樋を介して鋳型等に給湯する。尚、レベル計２８１は、差動トランス型誘導式レベル計や一時的に電極が上部先端から差し込まれる電極式等でもよい。

電磁ポンプ２００、２０１とも溶湯１２０を引き上げた後又は押し上げた後、保持炉１００の溶湯１２０より上方にあるコイル（図１では電磁ポンプ２００の上部コイル２５１、図２では電磁ポンプ２０１の第２コイル２５０）を用いての湯面保持及び給湯制御は同じなので、以後は主に図２を基に説明する。

図２に示すように、電磁ポンプ２０１は、下端が溶湯１２０内に浸漬するように保持炉１００から斜め上方に向かって設置された保持管２１０、保持管２１０の上端から折れ曲がるように斜め下方に向かって連設された給湯管２２０、給湯管２２０に送り込まれた溶湯１２０をダイカスト用金型に注入するためのスリーブ（注湯管）２３０等を有する。さらに、保持管２１０には、内部を上がってきた溶湯１２０を所定の高さ（例えば、上端から７０ｍｍ下の位置）まで押し上げるための第１コイル２４０、所定の高さを測定するレベル計２８０、所定の高さに押し上げた後に第１コイル２４０の出力を弱めつつ所定の高さを維持するとともに、更に溶湯１２０を所定の高さの保持位置から上げて給湯管２２０に送り込むための第２コイル２５０等を備える。

保持管２１０及び給湯管２２０には、内部を通過する溶湯１２０の温度を維持するためのヒータ２６０を備える。ヒータ２６０は、例えば、保持管２１０及び給湯管２２０の周りに螺旋状に巻いたコイルヒータ等を使用すれば良い。

給湯管２２０には、保持管２１０の上端に達しそれを越えた溶湯１２０が流れ落ちるが、給湯を止める際に保持管２１０の上端付近の溶湯１２０が保持管２１０と給湯管２２０のどちらに流れ落ちるかで給湯量が変動するので、溶湯１２０を切るためのエアブロー等の湯切り手段を備える。また、給湯時間を計るために、給湯管２２０に溶湯１２０が流れ込んだことを検知する光電スイッチ等の湯流れセンサを備えても良い。給湯管２２０からスリーブ（注湯管）２３０に流下してきた溶湯１２０は、プランジャー２７０でダイカスト用鋳型に射出（ショット）される。

保持炉１００には、溶湯１２０の表面（湯面）の高さを検知するためのフロート１３０を設置する。フロート１３０には、湯面が基準となる位置から低下したときにその差分値を取得させれば良い。また、湯面が上限位置や下限位置その他任意の位置となったことを検知させても良い。

電磁ポンプ２００、２０１では、保持炉１００から上がってきた溶湯１２０を所定の高さで保持しておくが、保持炉１００における湯面高さが低くなっていると、より強い力が必要になる。また、溶湯１２０中の水素ガスが増えたり、保持管２１０内に酸化膜が入り込んだりすると、溶湯１２０の見かけ上の電気抵抗が増減するので保持する位置が上下に変動する場合がある。そのため、第１コイル２４０による溶湯１２０の立ち上げ時及び第２コイル２５０に掛ける電圧を調整する必要がある。

次に、本発明である給湯用電磁ポンプの制御方法について説明する。図３は、給湯用電磁ポンプの制御方法を示すフローチャートである。図４は、給湯用電磁ポンプの制御方法における炉レベル補正について説明するためのグラフである。図５は、給湯用電磁ポンプの制御方法におけるビスケット厚補正について説明するためのグラフである。

図３に示すように、制御方法３００の例としては、まず、ベース位置設定Ｓ３１０、溶湯保持Ｓ３２０、保持電圧のレベル補正Ｓ３３０、保持電圧の保持位置補正Ｓ３４０等のステップにより、溶湯１２０を保持管２１０のベース位置まで上げて保持する。次に、給湯量指定Ｓ３５０、給湯電圧のレベル補正Ｓ３６０、給湯電圧の保持位置補正Ｓ３７０、ビスケット厚補正Ｓ３８０、給湯電圧印加Ｓ３９０等のステップにより、溶湯１２０を給湯管２２０に送出する。そして、指定した給湯量に達したら、湯切りＳ４００等のステップにより、溶湯１２０の供給を止める。

なお、溶湯１２０を保持管２１０内の所定の高さで保持するのに必要な電圧を保持電圧（Ｖ）とし、そこから溶湯１２０を給湯管２２０に送り出すのに必要な電圧を給湯電圧（Ｖ）とする。また、保持電圧は標準保持電圧を補正したもの、給湯電圧は標準給湯電圧を補正したものであり、保持電圧と給湯電圧の加算された電圧が電磁ポンプ２００への印加電圧となる。

ベース位置設定Ｓ３１０では、保持管２１０における溶湯１２０の保持位置としてベース位置を設定しておく。例えば、ベース位置を保持管２１０の上端から下に７０ｍｍの位置とすれば、溶湯１２０を給湯管２２０に送り込むために、上端から下の７０ｍｍの位置まで上げる力と上端を越える力を毎回発生させれば良い。

溶湯保持Ｓ３２０では、第１コイル２４０に標準保持電圧より僅かに少ない電圧を印加し、レベル計２８０の下限位置まで溶湯１２０を保持炉１００から保持管２１０内に導入させ、第１コイル２４０の出力を下げながら第２コイル２５０の出力を標準保持電圧より僅かに少ない電圧まで上げていくと、第２コイル２５０だけでベース位置より僅かに低い位置まで上がり、その後徐々にベース位置まで上げて維持する。このベース位置まで徐々に上げていく方式は、オーバーフロー防止のためである。標準保持電圧は、溶湯１２０をベース位置まで上げる力を発生させるための溶湯１２０の種類と温度毎の電圧であるが、溶湯１２０中の水素ガスや酸化物などの要因等を考慮していないので、必ずしも溶湯１２０の高さがベース位置になるとは限らない。そのため、溶湯１２０の保持位置を検知してベース位置にないときは電圧を補正する。

保持電圧のレベル補正Ｓ３３０では、保持炉１００の湯面高さが低いと標準保持電圧では溶湯１２０が保持管２１０のベース位置まで達しないので、湯面高さが基準位置から低下した分に応じて電圧を上げる。逆に、保持炉１００の湯面高さが高いときは、基準位置からの差分に応じて電圧を下げれば良い。基準位置は、湯面高さの上限から下限の間の任意の位置であり、フロート１３０により湯面高さを把握してその差分を得れば良い。

保持電圧の保持位置補正Ｓ３４０では、溶湯１２０中の水素量や酸化膜によって、溶湯１２０の保持位置がベース位置に対して上下に１０ｍｍほど違いを生じるので、その変化を抑えてベース位置に近づくように、保持管２１０の上部先端に付いているレベル計２８０の信号で以って電磁ポンプ２００、２０１へ印加する電圧を補正する。なお、予め、脱ガス処理やノロ掻きをしたきれいな溶湯１２０にすることが好ましい。

この保持位置補正は、フロート１３０により保持炉１００の湯面高さの補正だけでは溶湯１２０の電気抵抗などの変化が分からないので、実際に電磁ポンプ２００、２０１で保持管２１０内に溶湯１２０を上昇させてレベル計２８０、２８１で規定されたベース位置との違いを補正するものである。

給湯量指定Ｓ３５０では、鋳型の容量を基に保持位置から給湯管２２０に送り出すべき給湯量（ｋｇ）が設定される。さらに、その給湯量を得るための給湯速度（ｋｇ／ｓ）と時間（ｓ）が設定され、その給湯速度を出すための標準給湯電圧（Ｖ）が算出される。この標準給湯電圧も溶湯１２０と温度毎で決定されるものである。なお、給湯速度は１秒あたりに流れる溶湯１２０の重量で表され、給湯速度又は時間の何れかが指定されれば、必要な給湯量を基に算出される。

なお、給湯速度（ｋｇ／ｓ）は、最も給湯精度が良い範囲から設定される。出湯口にできる酸化物等により流路断面が一定せずゆっくり流しても給湯精度が悪く、保持管２１０の上部先端から空間に飛び出すように給湯しても慣性力により湯切り位置が一定せず給湯精度が悪いので、最適な給湯速度を設定する必要がある。

給湯電圧のレベル補正Ｓ３６０では、電磁ポンプ２００、２０１の出力が僅かに非線形のため保持炉１００の湯面高さにより標準給湯電圧も影響を受けるので、標準保持電圧と同様に補正する。補正方法の例としては、まず、図４（ａ）に示すような補正係数を設定しておく。補正係数は、図４（ｂ）に示すように、湯面高さのレベル偏差（ｍｍ）と補正値（Ｖ）の相関を表す係数である。補正係数は、給湯量と給湯電圧の関係から、給湯速度ごとに給湯量との関係を導出すれば良い。例えば、１５ｋｇの溶湯１２０を５ｋｇ／ｓの給湯速度で移動させる場合、図４（ａ）から補正係数は０．０３４６となり、補正値をＹ、レベル偏差をＸとして、図４（ｂ）に示すＹ＝０．０３４６Ｘの式から、レベル偏差が１００ｍｍのとき補正値は３．４６Ｖとなる。

給湯電圧の保持位置補正Ｓ３７０では、保持位置のバラつきにより標準給湯電圧も影響を受けるので、保持電圧の保持位置補正Ｓ３４０における補正量を基に補正する。補正方法の例としては、標準保持電圧に対する保持電圧の保持位置補正値の比率を標準給湯電圧に掛けたものを給湯電圧とする。例えば、標準保持電圧が１２０Ｖで、保持電圧の保持位置補正値が４Ｖであった場合、標準給湯電圧が３０Ｖであれば、給湯電圧の保持位置補正値は１Ｖ（＝３０×４／１２０）となる。

ビスケット厚補正Ｓ３８０では、前ショット（給湯）におけるビスケット厚を基に給湯電圧を補正する。ビスケットは、ダイカストマシーンのスリーブ２３０内に供給された溶湯１２０がプランジャー２７０で金型に押し込まれた後にスリーブ２３０内に残る凝固したアルミニウム合金を指しており、プランジャー２７０の先端のチップ２７１が鋳型の湯口に直接衝突しないように設けられたものである。ビスケットは、鋳物にとっては余分に付いた部分であり、鋳型の鋳込口の部分に形成され、鋳型から取り出した後に除去されるが、その厚さで給湯量を判断することが一般的である。ビスケット厚は、電磁ポンプ２００、２０１や保持管２１０以外の給湯管２２０も含めたすべての配管系が影響したものなので、最終的にはこのビスケット厚で補正する必要がある。

補正方法の例としては、図５に示すような許容値を設定しておく。許容値は、ビスケット厚の差に応じて、段階的に補正値を設定したものである。例えば、基準のビスケット厚が４０ｍｍで、前ショットのビスケット厚が４５ｍｍであったとき、ビスケット厚の差が５ｍｍであることから第２許容の０．１５Ｖが補正値となる。

給湯電圧印加Ｓ３９０では、第２コイル２５０（図１では上部コイル２５１）に給湯電圧を印加し、ベース位置に保持された溶湯１２０を給湯電圧に応じた給湯速度で上昇させる。給湯管２２０に溶湯１２０が流れ込んだことを光電スイッチ等で検知し、給湯の開始時間とすれば良い。

湯切りＳ４００では、給湯管２２０に溶湯１２０が流れた時間を計り、設定された給湯量に達する時間で第２コイル２５０（図１では上部コイル２５１）への印加を止めるとともに、エアブロー等で保持管２１０と給湯管２２０の境（両上端）における溶湯１２０を分ける。なお、給湯精度を上げるために、湯切れがバラつかない給湯速度（例えば、４〜５ｋｇ／ｓ）とすることが好ましい。

このような制御方法３００により電磁ポンプ２００、２０１を制御することにより、きれいで熱い溶湯１２０を高精度・高速かつ安全に供給することができる。ラドルを使用せず電磁ポンプ２００、２０１で直接に給湯するので、表層の酸化物のない溶湯１２０を酸化させず且つ溶湯１２０の温度低下を抑制することができる。炉内の脱ガスやノロ掻きにより溶湯１２０中の水素量や酸化膜などを所定以下にする定期的保全をすることで、表面の酸化物を巻き込まず炉内のきれいな溶湯１２０を安定して供給することができる。

さらに、溶湯１２０を配管（保持管２１０）内のベース位置まで持ち上げて保持する電圧と、そこから溶湯１２０を送り出して給湯するための電圧について、保持炉１００内の湯面の高さやベース位置で保持されている湯面の変化を考慮した補正をすることにより、給湯速度と給湯時間が正確に求められ、保持炉１００から適切な給湯量で注湯することができる。また、注湯ごとにフィードバック制御することにより誤差を調整して精度を向上させることができる。

以上、本発明の実施例を述べたが、これらに限定されるものではない。

１００：保持炉
１１０：加熱ヒータ
１２０：溶湯
１３０：フロート
２００：電磁ポンプ（第１コイルの無い電磁ポンプ）
２０１：電磁ポンプ（第１コイルの有る電磁ポンプ）
２１０：保持管
２２０：給湯管
２３０：スリーブ（注湯管）
２４０：第１コイル
２５０：第２コイル
２５１：上部コイル
２６０：ヒータ
２７０：プランジャー
２７１：チップ
２８０：レベル計
２８１：レベル計
３００：制御方法

Claims (6)

1. 下端が溶湯内に浸漬するように斜めに設置された保持管と、前記保持管の上端から斜め下方に向かって連設された給湯管とを有し、予め決めた前記保持管のベース位置まで前記溶湯を上げるための第１コイル又はガス吸引機、及び前記保持管のベース位置から上端まで前記溶湯を上げてさらに前記給湯管に送出するための第２コイル又は上部コイルを制御する方法であって、
   前記第２コイル又は上部コイルに印加する保持電圧を、前記溶湯の湯面高さに応じてレベル補正するとともに、前記保持管に上がった前記溶湯の変動を抑えてベース位置に近づくように保持位置補正し、
   さらに、前記第２コイル又は上部コイルに印加する給湯電圧を、前記溶湯の湯面高さに応じてレベル補正するとともに、前記保持電圧にした補正の比率に応じて保持位置補正することにより、指定した給湯量を送出するための給湯速度となるように前記給湯電圧が調整される、
   ことを特徴とする給湯用電磁ポンプの制御方法。
2. 前記保持管のベース位置は、前記保持管に備えたレベル計により設定される、
   ことを特徴とする請求項１に記載の給湯用電磁ポンプの制御方法。
3. 前記給湯電圧で給湯したときのビスケット厚を基に、次回の給湯電圧をフィードバック補正する、
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の給湯用電磁ポンプの制御方法。
4. 前記給湯電圧は、前記溶湯の湯面高さが基準位置から変動した差分に対して、指定した給湯量と給湯速度から導出された補正係数を用いてレベル補正される、
   ことを特徴とする請求項１乃至３の何れか一に記載の給湯用電磁ポンプの制御方法。
5. 前記給湯電圧は、前記保持電圧の保持位置補正量を用いて前記保持電圧と前記給湯電圧の比率を基に算出された補正量で保持位置補正される、
   ことを特徴とする請求項１乃至４の何れか一に記載の給湯用電磁ポンプの制御方法。
6. 請求項１乃至５の何れか一に記載の制御方法により制御される、
   ことを特徴とする給湯用電磁ポンプ。

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