JP2019088762A - 脱臭装置、冷蔵庫 - Google Patents

Abstract

【課題】低温を維持しなければならない環境でも使用することができる技術を提供する。
【解決手段】空気の流れを発生させるファン１０と、ファン１０の下流側に配置されて、通過する空気中の臭気物質を吸着すると共に加熱されることにより当該臭気物質を脱離する吸着材２０と、ファン１０の下流側であって吸着材２０の上流側に配置されて、吸着材２０に流入する空気を加熱する上流側ヒータ３０と、吸着材２０から脱離した臭気物質を分解する触媒５０と、触媒５０を通過した空気を冷却する冷却部７０と、を備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、脱臭装置、冷蔵庫に関する。

従来、活性炭などの臭気物質の吸着材を備えた脱臭装置が提案されている。ただし、吸着材は飽和状態に達したのち吸着性能が低下することから、触媒などの臭気物質を分解する材料も用いられている。
例えば、特許文献１に記載の脱臭装置は、以下のように構成されている。すなわち、有害物質を吸着するとともに加熱により該有害物質を脱離して再生する吸着剤を有する吸着構造体と、該吸着構造体から脱離した有害物質を分解する酸化触媒を担持させてなり、該酸化触媒を再生時に活性化させるための電気ヒータを具備した触媒構造体とを備えた脱臭装置において、前記吸着構造体の再生時には該吸着構造体から脱離した有害物質を前記触媒構造体に導く空気通路を形成する通路形成手段を付設して、再生時において吸着構造体から脱離した有害物質を、通路形成手段により触媒構造体に導き、ここで電気ヒータにより活性化された酸化触媒により無害な物質に分解されるようにしている。

特開２０００−５５６５号公報

臭気物質などの有害物質を吸着する吸着手段を再生するためには、電気ヒータなどの加熱手段にて触媒を活性化する必要がある。そのため、吸着手段を再生する際の触媒を通過した空気は温かくなる。脱臭装置から出る空気が温かいと、例えば冷蔵庫の冷蔵室内のように低温を維持しなければならない環境で使用することが困難となる。
本発明は、低温を維持しなければならない環境でも使用することができる脱臭装置、冷蔵庫を提供することを目的とする。

上記の目的を達成する本発明は、空気の流れを発生させる送風手段と、前記送風手段の下流側に配置されて、通過する空気中の臭気物質を吸着すると共に加熱されることにより当該臭気物質を脱離する吸着手段と、前記送風手段の下流側であって前記吸着手段の上流側に配置されて、前記吸着手段に流入する空気を加熱する上流側加熱手段と、前記吸着手段から脱離した前記臭気物質を分解する分解手段と、前記分解手段を通過した空気を冷却する冷却手段と、を備える脱臭装置である。
そして、前記送風手段の駆動を制御する送風制御部をさらに備え、前記送風制御部は、前記上流側加熱手段が空気を加熱するときには当該上流側加熱手段が加熱しないときよりも風量が低下するように前記送風手段の駆動を制御しても良い。
また、前記分解手段を加熱するための分解加熱手段をさらに備えていても良い。
また、前記分解手段の下流側に当該分解手段を通過した空気を冷却するための冷却用ヒートシンクが設けられていても良い。
また、前記送風手段の下流側であって前記吸着手段の上流側に当該送風手段にて送られた空気を加熱するための加熱用ヒートシンクが設けられていても良い。
また、前記冷却手段は、前記冷却用ヒートシンクと前記加熱用ヒートシンクとの間に配置され、当該冷却用ヒートシンク側で吸熱し、当該加熱用ヒートシンク側で放熱する熱交換素子を有していても良い。
また、前記吸着手段、前記分解手段、前記冷却手段を収容すると共に、空気が入る入口と空気が出る出口とが形成され、当該入口から当該出口までの空気の流路がＵ字状である筐体をさらに備えていても良い。
また、前記筐体は、内部に空気層が形成された二重構造でも良い。
上記の目的を達成する本発明は、空気の流れを発生させる送風手段と、前記送風手段の下流側に配置されて、通過する空気中の臭気物質を吸着すると共に加熱されることにより当該臭気物質を分解する吸着分解手段と、前記送風手段の下流側であって前記吸着分解手段の上流側に配置されて、前記吸着分解手段に流入する空気を加熱する加熱手段と、前記吸着分解手段を通過した空気の装置外への排出を抑制する抑制手段と、を備える脱臭装置である。
また、前記吸着分解手段は、前記送風手段の下流側に配置されて、通過する空気中の臭気物質を吸着すると共に加熱されることにより当該臭気物質を脱離する吸着手段と、前記吸着手段から脱離した前記臭気物質を分解する分解手段と、を備えていても良い。
また、前記抑制手段は、前記送風手段、前記加熱手段、前記吸着分解手段を収容すると共に空気が入る入口と空気が出る出口とが形成された筐体内で、当該吸着分解手段を通過した空気を、当該入口及び当該出口を閉じた状態で循環させても良い。
また、前記入口及び前記出口の開閉を連動して行う開閉手段と、前記加熱手段が空気を加熱するときに前記入口及び前記出口を閉じるように前記開閉手段を制御する開閉制御手段と、をさらに備えていても良い。
また、前記加熱手段は、前記吸着分解手段に接触しない状態で、当該吸着分解手段を加熱しても良い。
また、前記送風手段の駆動を制御する送風制御部をさらに備え、前記送風制御部は、前記加熱手段が空気を加熱するときには当該加熱手段が空気を加熱しないときよりも風量が低下するように前記送風手段の駆動を制御しても良い。
また、前記加熱手段は、前記吸着分解手段に接触した状態で、当該吸着分解手段を加熱しても良い。
また、前記送風手段の駆動を制御する送風制御部をさらに備え、前記送風制御部は、前記加熱手段が空気を加熱するときには停止するように前記送風手段の駆動を制御しても良い。
また、前記加熱手段の周囲に、伝熱効果及び安全性を向上するための部品が設けられていても良い。
上記の目的を達成する本発明は、空気の流れを発生させる送風手段と、前記送風手段の下流側に配置されて、通過する空気中の臭気物質を吸着すると共に加熱されることにより当該臭気物質を分解する吸着分解手段と、前記送風手段の下流側に配置されて、前記吸着分解手段を加熱する加熱手段と、前記吸着分解手段を通過した空気の装置外への排出を抑制する抑制手段と、を備える脱臭装置である。
また、前記抑制手段は、前記送風手段、前記加熱手段、前記吸着分解手段を収容すると共に空気が入る入口と空気が出る出口とが形成された筐体内で、当該吸着分解手段を通過した空気を、当該入口及び当該出口を閉じた状態で循環させても良い。
また、前記入口及び前記出口の開閉を連動して行う開閉手段と、前記加熱手段が前記吸着分解手段を加熱するときに前記入口及び前記出口を閉じるように前記開閉手段を制御する開閉制御手段と、をさらに備えていても良い。
また、前記開閉手段は、一部品により構成されていても良い。
また、前記開閉制御手段は、熱膨張率の異なる２種類の金属を結合した金属板であっても良い。
また、前記加熱手段の熱を前記開閉制御手段に伝達するための部品が設けられていても良い。
また、前記加熱手段は、前記吸着分解手段に接触した状態で、当該吸着分解手段を加熱しても良い。
また、上記の目的を達成する本発明は、物品を冷蔵する冷蔵室と、前記冷蔵室内に配置された、上述した脱臭装置を備える冷蔵庫である。

本発明によれば、低温を維持しなければならない環境でも使用することができる脱臭装置、冷蔵庫を提供することができる。

（ａ）は、第１の実施形態に係る脱臭装置の外観を示す正面図である。（ｂ）は、（ａ）のＩｂ−Ｉｂ部の断面における装置内部の概略構成図である。 制御装置のブロック図である。 脱臭装置が吸着モードであるときの空気の流れを示す図である。 脱臭装置が再生モードであるときの空気の流れ及び熱の移動を示す図である。 （ａ）は、第１の実施形態に係る脱臭装置が適用された冷蔵庫の概略正面図である。（ｂ）は、冷蔵庫の冷蔵室内を上方から示す図である。 （ａ）は、第３の実施形態に係る脱臭装置の上面図である。（ｂ）は、（ａ）のＶＩｂ−ＶＩｂ部の断面における装置内部の概略構成図である。 制御装置のブロック図である。 脱臭装置が吸着モードであるときの空気の流れを示す図である。 脱臭装置が再生モードであるときの熱の移動を示す図である。 （ａ）は、第４の実施形態に係る脱臭装置の上面図である。（ｂ）は、（ａ）のＸｂ−Ｘｂ部の断面における装置内部の概略構成図である。（ｃ）は、（ａ）のＸｃ−Ｘｃ部の断面における装置内部の概略構成図である。 制御装置のブロック図である。 （ａ）〜（ｃ）は、脱臭装置が吸着モードであるときの空気の流れを示す図である。 （ａ）〜（ｃ）は、脱臭装置が再生モードであるときの熱の移動を示す図である。 （ａ）は、第５の実施形態に係る脱臭装置の上面図である。（ｂ）は、（ａ）のＸＩＶｂ−ＸＩＶｂ部の断面における装置内部の概略構成図である。 （ａ）は、ヒータの熱が伝わっていないときのバイメタル板の状態を示した図である。（ｂ）は、ヒータの熱が伝わっているときのバイメタル板の状態を示した図である。 制御装置のブロック図である。 （ａ），（ｂ）は、脱臭装置が吸着モードであるときの空気の流れを示す図である。 （ａ），（ｂ）は、脱臭装置が再生モードであるときの熱の移動を示す図である。

以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について詳細に説明する。
＜第１の実施形態＞
図１（ａ）は、第１の実施形態に係る脱臭装置１の外観を示す正面図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）のＩｂ−Ｉｂ部の断面における装置内部の概略構成図である。
第１の実施形態に係る脱臭装置１は、空気の流れを発生させる送風手段の一例としてのファン１０と、ファン１０の下流側に配置されて、通過する空気中の臭気物質を吸着すると共に加熱されることにより当該臭気物質を脱離する吸着手段の一例としての吸着材２０とを備えている。

また、脱臭装置１は、ファン１０の下流側であって吸着材２０の上流側に配置されて、吸着材２０に流入する空気を加熱する上流側加熱手段の一例としての上流側ヒータ３０と、ファン１０にて送られた空気を加熱するための加熱用ヒートシンク４０とを備えている。
また、脱臭装置１は、吸着材２０から脱離した臭気物質を分解する分解手段の一例としての触媒５０と、触媒５０を加熱するための分解加熱手段の一例としての下流側ヒータ６０と、触媒５０を通過した空気を冷却する冷却手段の一例としての冷却部７０とを備えている。
また、脱臭装置１は、触媒５０の下流側に配置されて触媒５０を活性化するため熱を保持する熱保持用ヒートシンク８０と、熱保持用ヒートシンク８０の下流側に配置されて、熱保持用ヒートシンク８０を通過した空気を冷却するための冷却用ヒートシンク８５とを備えている。

また、脱臭装置１は、吸着材２０、上流側ヒータ３０、加熱用ヒートシンク４０、触媒５０、下流側ヒータ６０、冷却部７０、熱保持用ヒートシンク８０及び冷却用ヒートシンク８５を収容すると共に、空気が入る入口９１と空気が出る出口９２とが形成された直方体状の筐体９０を備えている。筐体９０は、入口９１から入り、出口９２から出る空気の流路がＵターンするように、入口９１と出口９２との間を隔てると共に、吸着材２０を通過した空気が触媒５０の方へ向かわせる隔壁９５を有している。隔壁９５が設けられていることにより、筐体９０は、入口９１から出口９２までの空気の流路がＵ字状となる。
また、脱臭装置１は、ファン１０の駆動、上流側ヒータ３０の作動、下流側ヒータ６０の作動、冷却部７０の作動などを制御する制御装置１００を備えている。

第１の実施形態に係る脱臭装置１は、空気中の臭気物質を吸着材２０にて吸着する吸着モードと、吸着材２０から臭気物質を脱離させて吸着材２０を再生すると共に脱離した臭気物質を触媒５０にて分解させる再生モードとに切り替え可能な装置である。そして、脱臭装置１は、吸着モードと再生モードとを交互に行い、吸着材２０の高度な脱臭性能を長い期間維持することを実現している。

以下に、脱臭装置１が備える構成要素について詳述する。
ファン１０は、筐体９０の入口９１に配置されている。ファン１０は、回転軸１１と、回転軸１１周りに配置された複数の羽根１２と、回転軸１１を回転駆動させるモータ（不図示）とを有している。第１の実施形態に係るファン１０は、図１（ａ）で見た場合に回転軸１１が前後方向、図１（ｂ）で見た場合に回転軸１１が上下方向となるように配置されている。そして、ファン１０は、入口９１を介して筐体９０外の空気を筐体９０の内部に取り込むと共に、出口９２を介して筐体９０外に排出する。モータは、制御装置１００により回転速度が制御される。

吸着材２０は、通過する空気中の臭気物質を吸着して脱臭処理を行うと共に加熱されることにより当該臭気物質を脱離する活性炭を有する。
上流側ヒータ３０は、吸着材２０の上流であって加熱用ヒートシンク４０の下流に配置されている。上流側ヒータ３０は、予め定められた時間の間通電された場合に、吸着材２０又は吸着材２０に流入する空気を、吸着材２０に吸着した臭気物質を除去可能な所定の温度にまで上昇させることができる。上流側ヒータ３０は、制御装置１００により通電が制御される。

加熱用ヒートシンク４０は、上流側に配置された上流側加熱用ヒートシンク４１と、下流側に配置された下流側加熱用ヒートシンク４２とを有している。
上流側加熱用ヒートシンク４１、下流側加熱用ヒートシンク４２は、伝熱特性の良いアルミニウム、鉄、銅などの金属にて成形されている。

触媒５０は、熱伝導性が高い基材の両面に酸化触媒が担持された触媒担持フィルタであることを例示することができる。酸化触媒としては、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｍｎ、Ｒｈ、Ｆｅ、Ｃｏのうちから選ばれた１種以上の金属またはこれらの金属の酸化物であることを例示することができる。

下流側ヒータ６０は、吸着材２０の下流であって触媒５０の上流に配置されている。下流側ヒータ６０は、予め定められた時間の間通電された場合に、触媒５０又は触媒５０に流入する空気を、吸着材２０から脱離した臭気物質を分解可能な所定の温度にまで上昇させることができる。下流側ヒータ６０は、制御装置１００により通電が制御される。

冷却部７０は、冷却用ヒートシンク８５と加熱用ヒートシンク４０との間に配置されると共に、ＯＮ状態で、冷却用ヒートシンク８５側で吸熱し、加熱用ヒートシンク４０側で放熱する、ペルチェ素子等の熱交換機能を有する電子素子を有する。冷却部７０のＯＮ／ＯＦＦは、制御装置１００により制御される。

熱保持用ヒートシンク８０は、隔壁９５を介して下流側加熱用ヒートシンク４２と対向する位置に配置されている。
冷却用ヒートシンク８５は、隔壁９５を介して上流側加熱用ヒートシンク４１と対向する位置に配置されている。冷却用ヒートシンク８５と隔壁９５との間に冷却部７０が配置されている。
熱保持用ヒートシンク８０及び冷却用ヒートシンク８５は、伝熱特性の良いアルミニウム、鉄、銅などの金属にて成形されている。

筐体９０は、隔壁９５よりも入口９１側に形成された第１収容室９６と、隔壁９５よりも出口９２側に形成された第２収容室９７とを有している。
第１収容室９６には、入口９１側から順に、上流側加熱用ヒートシンク４１、下流側加熱用ヒートシンク４２、上流側ヒータ３０及び吸着材２０が配置されている。
第２収容室９７には、出口９２側から順に、冷却用ヒートシンク８５、熱保持用ヒートシンク８０、触媒５０、下流側ヒータ６０が配置されている。

隔壁９５を介して、上流側加熱用ヒートシンク４１と冷却用ヒートシンク８５とが対向し、下流側加熱用ヒートシンク４２と熱保持用ヒートシンク８０とが対向する。上流側ヒータ３０は、下流側加熱用ヒートシンク４２と吸着材２０との間に配置され、下流側ヒータ６０は、吸着材２０と触媒５０との間に配置されている。
上述した配置により、ファン１０にて入口９１を介して筐体９０内に入った空気は、上流側加熱用ヒートシンク４１、下流側加熱用ヒートシンク４２、上流側ヒータ３０、吸着材２０、下流側ヒータ６０、触媒５０、熱保持用ヒートシンク８０、冷却用ヒートシンク８５を順に通過して出口９２から筐体９０外へ出ていく。
筐体９０における外壁９８は、内部に空気層９９が形成された二重構造である。これにより、筐体９０内部と外部との間の断熱が図られている。

図２は、制御装置１００のブロック図である。
制御装置１００は、ファン１０を回転駆動するモータ（不図示）の回転速度を制御するファン制御部１０１と、上流側ヒータ３０の温度を制御する上流側ヒータ温度制御部１０２と、下流側ヒータ６０の温度を制御する下流側ヒータ温度制御部１０３と、冷却部７０のＯＮ／ＯＦＦを制御する冷却制御部１０４とを備えている。
制御装置１００は、演算処理を行うＣＰＵ（不図示）と、ＣＰＵにて実行されるプログラムや各種データ等が記憶されたＲＯＭ（不図示）と、ＣＰＵの作業用メモリ等として用いられるＲＡＭ（不図示）とを備えている。そして、ＣＰＵがプログラムを実行することで、ファン制御部１０１、上流側ヒータ温度制御部１０２、下流側ヒータ温度制御部１０３及び冷却制御部１０４を実現する。

ファン制御部１０１は、ファン１０の回転速度を高速と低速との２段階に切り替える。ファン制御部１０１は、吸着モードであるときには、ファン１０の回転速度を高速とし、再生モードであるときには、ファン１０の回転速度を低速とする。
上流側ヒータ温度制御部１０２は、ファン制御部１０１がファン１０の回転速度を低速にしているとき（再生モードであるとき）に、予め定められた時間の間通電することで上流側ヒータ３０を所定の温度にまで上昇させる。他方、上流側ヒータ温度制御部１０２は、ファン制御部１０１がファン１０の回転速度を高速にしているとき（吸着モードであるとき）には通電しない。

下流側ヒータ温度制御部１０３は、ファン制御部１０１がファン１０の回転速度を低速にしているとき（再生モードであるとき）に、予め定められた時間の間通電することで下流側ヒータ６０を所定の温度にまで上昇させる。他方、下流側ヒータ温度制御部１０３は、ファン制御部１０１がファン１０の回転速度を高速にしているとき（吸着モードであるとき）には通電しない。
冷却制御部１０４は、ファン制御部１０１がファン１０の回転速度を低速にしているとき（再生モードであるとき）に、冷却部７０をＯＮ状態とし、ファン制御部１０１がファン１０の回転速度を高速にしているとき（吸着モードであるとき）に、ＯＦＦ状態とする。

＜脱臭装置１の作用＞
図３は、脱臭装置１が吸着モードであるときの空気の流れを示す図である。
図４は、脱臭装置１が再生モードであるときの空気の流れ及び熱の移動を示す図である。
第１の実施形態に係る脱臭装置１は、吸着モードであるときに、ファン制御部１０１がファン１０の回転速度を高速とし、冷却制御部１０４が冷却部７０をＯＦＦ状態とする。また、上流側ヒータ温度制御部１０２，下流側ヒータ温度制御部１０３は、それぞれ上流側ヒータ３０，下流側ヒータ６０に通電せずに温度を高めない。このとき、ファン１０にて筐体９０内部に吸い込まれた空気は、第１収容室９６、第２収容室９７を通って出口９２から出ていく。その際、空気に含まれる臭気物質が吸着材２０に吸着される。また、触媒５０が触媒担持フィルタである場合には、空気に含まれる臭気物質は触媒５０にも吸着される。

一方、脱臭装置１は、触媒５０による臭気物質の分解速度が吸着材２０の吸着速度よりも遅いことに鑑み、再生モードであるときに、ファン制御部１０１がファン１０の回転速度を低速にする。冷却制御部１０４は、冷却部７０をＯＮ状態とし、上流側ヒータ温度制御部１０２，下流側ヒータ温度制御部１０３は、それぞれ上流側ヒータ３０，下流側ヒータ６０に通電して温度を高める。このときも、ファン１０にて筐体９０内部に吸い込まれた空気は、第１収容室９６、第２収容室９７を通って出口９２から出ていくが、空気の通過速度は、吸着モードであるときの速度よりも小さい。

吸着材２０は、上流側ヒータ３０及び下流側ヒータ６０により暖められると共に、上流側加熱用ヒートシンク４１及び下流側加熱用ヒートシンク４２にて暖められた空気が流入する。それゆえ、吸着材２０は加熱され、吸着していた臭気物質を脱離する。これにより、吸着材２０は再生する。
触媒５０は、下流側ヒータ６０により暖められると共に、上流側加熱用ヒートシンク４１及び下流側加熱用ヒートシンク４２にて暖められた後に吸着材２０を通過した空気が流入する。それゆえ、触媒５０は、加熱されて活性化し、吸着材２０から脱離した臭気物質を分解する。また、触媒５０が触媒担持フィルタである場合には、吸着していた臭気物質をも分解する。

熱保持用ヒートシンク８０には、触媒５０を通過した空気が流入する。そして、熱保持用ヒートシンク８０は、高温を維持する。熱保持用ヒートシンク８０の周囲の熱が、隔壁９５を介して対向する下流側加熱用ヒートシンク４２に伝わる。これにより、下流側加熱用ヒートシンク４２の温度が高められ、吸着材２０に流入する空気の温度が高まる。

冷却用ヒートシンク８５には、熱保持用ヒートシンク８０を通過した空気が流入する。冷却部７０は、脱臭装置１が再生モードであるときにはＯＮ状態であるので、冷却用ヒートシンク８５側で吸熱し、上流側加熱用ヒートシンク４１側で放熱する。つまり、冷却用ヒートシンク８５側の温度を低下させ、上流側加熱用ヒートシンク４１側の温度を高める。その結果、出口９２から出ていく空気が冷却用ヒートシンク８５にて冷却される。他方、上流側加熱用ヒートシンク４１の温度が高められ、下流側加熱用ヒートシンク４２及び吸着材２０に流入する空気の温度が高まる。

上述したように、第１の実施形態に係る脱臭装置１においては、吸着材２０にて脱臭（臭気物質除去）を行うので、省エネルギーで素早い吸着速度を実現することができる。また、第１の実施形態に係る脱臭装置１においては、吸着材２０を再生させるので、再生させない場合に比べて、吸着材２０の吸着性能（脱臭性能）を長期間維持することができる。そして、再生するために触媒５０を用い、吸着材２０で濃縮した臭気を触媒５０に曝露させることで、分解速度を高めている。また、吸着材２０を再生させるために、筐体９０内部の温度を高めたとしても、冷却部７０及び冷却用ヒートシンク８５の作用により、出口９２から出ていく空気が冷却される。また、筐体９０の外壁９８は、内部に空気層９９が形成された二重構造であるため、筐体９０内部と外部との間の断熱が図られている。それゆえ、脱臭装置１は、加熱に用いた熱を排出しない。その結果、例えば冷蔵庫の冷蔵室内のように、低温を維持しなければならない環境でも第１の実施形態に係る脱臭装置１を使用することができる。

なお、上述した脱臭装置１において、吸着モードと再生モードとを交互に行うタイミングは特に限定されない。例えば、脱臭装置１は、吸着モードを予め定められた吸着モード期間行った後に再生モードに切り替え、その後、再生モードを予め定められた再生モード期間行った後に吸着モードに切り替えるようにしても良い。吸着モード期間と再生モード期間とは同じでも良いし、異なっていても良い。
また、脱臭装置１は、臭気を検出する臭気センサ（不図示）を、例えば吸着材２０の下流に備え、臭気センサが検出する臭気の量が予め定められた量以上となったときに、吸着モードから再生モードに切り替えても良い。かかる場合、脱臭装置１は、再生モードを再生モード期間行った後に吸着モードに切り替えると良い。

図５（ａ）は、第１の実施形態に係る脱臭装置１が適用された冷蔵庫２００の概略正面図である。図５（ｂ）は、冷蔵庫２００の冷蔵室内を上方から示す図である。
冷蔵庫２００は、図５（ａ）に示すように、物品を冷蔵する冷蔵室２１０と、冷蔵室２１０を開閉する扉２２０と、物品が載せられる複数の棚２３０と、上述した脱臭装置１とを備えている。

脱臭装置１は、図５（ａ）に示すように、複数の棚２３０の内の一番上の棚２３０と、冷蔵室２１０を区画する上部の壁２１１との間に配置されている。また、脱臭装置１は、図５（ｂ）に示すように、冷蔵室２１０内の奥側、つまり扉２２０よりも冷蔵室２１０を区画する後部の壁２１２に近い位置に配置されている。また、脱臭装置１は、ファン１０が配置された筐体９０の入口９１が前方、筐体９０の出口９２が後方となるように配置されている。

そして、脱臭装置１は、吸着モードであるときに、冷蔵室２１０内の空気を前方から吸い込み、空気中の臭気物質を吸着すると共に、空気を後方から排出する。このようにして、脱臭装置１は、冷蔵室２１０内の空気の臭気物質を除去する。
他方、脱臭装置１は、再生モードであるときに、吸着材２０を再生させる。再生する際に筐体９０内の空気が加熱されるが、冷却部７０及び冷却用ヒートシンク８５を備えていることにより、筐体９０の出口９２から排出される空気は冷却されている。それゆえ、冷蔵室２１０内の温度は、低温に維持される。

なお、冷蔵室２１０内に配置された脱臭装置１においても、吸着モードと再生モードとを交互に行うタイミングは特に限定されない。例えば、脱臭装置１は、冷蔵庫２００の扉２２０が頻繁に開閉される時間帯で吸着モードを行い、冷蔵庫２００の扉２２０があまり開閉されない時間帯で再生モードを行うと良い。冷蔵庫２００の扉２２０が頻繁に開閉される時間帯は、予め設定された時間帯（例えば午前７時〜午後９時）でも良いし、ユーザが設定した時間帯でも良い。冷蔵庫２００の扉２２０があまり開閉されない時間帯は、予め設定された時間帯（例えば午後９時〜午前７時）でも良いし、ユーザが設定した時間帯でも良い。

＜第２の実施形態＞
第２の実施形態に係る脱臭装置１は、第１の実施形態に係る脱臭装置１に対して冷却部７０を備えていない点が異なる。
冷却用ヒートシンク８５と上流側加熱用ヒートシンク４１との間に冷却部７０を備えていない構成の第２の実施形態に係る脱臭装置１においても、冷却用ヒートシンク８５にて熱交換が行われる。それゆえ、再生モードであるときに、筐体９０内部の温度を高めたとしても、冷却用ヒートシンク８５の作用により、出口９２から出ていく空気が冷却される。その結果、第２の実施形態に係る脱臭装置１は、加熱に用いた熱を排出しない。従って、例えば冷蔵庫の冷蔵室内のように、低温を維持しなければならない環境でも第２の実施形態に係る脱臭装置１を使用することができる。

＜第３の実施形態＞
図６（ａ）は、第３の実施形態に係る脱臭装置３の上面図である。なお、この上面図には脱臭装置３の内部構造も一部示している。図６（ｂ）は、図６（ａ）のＶＩｂ−ＶＩｂ部の断面における装置内部の概略構成図である。
第３の実施形態に係る脱臭装置３は、空気の流れを発生させる送風手段の一例としてのファン３１０を備えている。

また、脱臭装置３は、ファン３１０の下流側に配置されて、通過する空気中の臭気物質を吸着すると共に加熱されることにより当該臭気物質を分解する吸着分解手段の一例としての触媒３５０と、触媒３５０に流入する空気を加熱する加熱手段の一例としてのヒータ３６０と、伝熱効果及び安全性を向上するための部品の一例としての金属部品３６５とを備えている。
また、脱臭装置３は、触媒３５０を通過した空気の装置外への排出を抑制する抑制手段の一例としての開閉機構であるシャッター３７１及びダンパー３７２並びにその開閉を同時に行うソレノイド３７３とを備えている。

また、脱臭装置３は、ファン３１０、触媒３５０、ヒータ３６０、金属部品３６５、シャッター３７１、ダンパー３７２及びソレノイド３７３を収容すると共に、空気が入る入口３９１と空気が出る出口３９２とが形成された略直方体状の筐体３９０を備えている。
また、脱臭装置３は、ファン３１０の駆動、ヒータ３６０の作動、ソレノイド３７３の駆動などを制御する制御装置３００を備えている。

第３の実施形態に係る脱臭装置３は、空気中の臭気物質を触媒３５０にて吸着する吸着モードと、吸着された臭気物質を触媒３５０にて分解させて触媒３５０を再生する再生モードとに切り替え可能な装置である。そして、脱臭装置３は、吸着モードと再生モードとを交互に行い、触媒３５０の高度な脱臭性能を長い期間維持することを実現している。

以下に、脱臭装置３が備える構成要素について詳述する。
ファン３１０は、回転軸３１１と、回転軸３１１周りに配置された複数の羽根３１２と、回転軸３１１を回転駆動させるモータ（不図示）とを有している。第３の実施形態に係るファン３１０は、図６（ａ）で見た場合に回転軸３１１が右方向にやや傾いた前後方向、図６（ｂ）で見た場合に回転軸３１１が右方向にやや傾いた上下方向となるように配置されている。そして、ファン３１０は、入口３９１を介して筐体３９０外の空気を筐体３９０の内部に取り込むと共に、空気を触媒３５０に流入させる。モータは、制御装置３００により回転速度が制御される。

触媒３５０は、ガス吸着機能を有する多孔質構造体からなり熱伝導性が高い基材の両面に酸化触媒が担持された触媒担持フィルタであることを例示することができる。酸化触媒としては、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｍｎ、Ｒｈ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｉ、Ｐ、Ｔｉ、Ｋのうちから選ばれた１種以上の物質またはこれらの物質の酸化物であることを例示することができる。これらの酸化触媒は、触媒担持フィルタに吸着された臭気成分の分解プロセスにおいて発生しうる副産物の臭気成分を無臭化または低臭化する。例えば、メチルメルカプタン（ＣＨ_３ＳＨ）の分解プロセスで発生しうる二硫化メチル（（ＣＨ_３）_２Ｓ_２）は、メチルメルカプタンに対して低臭である。或いは、触媒３５０は、光触媒としても良い。

ヒータ３６０は、ファン３１０の下流であって触媒３５０の上流に配置されている。ヒータ３６０は、予め定められた時間の間通電された場合に、触媒３５０に流入する空気を、触媒３５０に吸着された臭気物質を分解可能な所定の温度にまで上昇させることができる。ヒータ３６０は、制御装置３００により通電が制御される。なお、このように、ヒータ３６０として、冷蔵庫本体の霜取りヒータを用いずに、冷蔵庫本体からの電源供給で動作する専用のヒータを用いることで、脱臭装置３が冷凍サイクルを阻害しないようにしている。また、触媒３５０を活性化させるヒータ３６０の温度は１００℃以下とし、家電製品（特に冷蔵庫）に適用できる温度帯を使用するものとする。触媒３５０は、低温条件でも分解能力があるが、高温加熱条件（１００℃以下）で活性化されることで分解力が向上する。
金属部品３６５は、ヒータ３６０及び触媒３５０の周囲に、伝熱効果及び安全性を向上するために設けられる。金属部品３６５としては、例えば、ＳＵＳを用いることができる。

シャッター３７１は、筐体３９０の下面に沿って配置される。シャッター３７１は、筐体３９０の下面の入口３９１の配置及びサイズと略同じ配置及びサイズの穴を有しており、筐体３９０の下面に沿ってスライド可能になっている。
ダンパー３７２は、筐体３９０内において出口３９２の近くに配置される。ダンパー３７２は、シャッター３７１が筐体３９０の下面に沿ってスライドすることに連動して回動可能になっている。
すなわち、シャッター３７１及びダンパー３７２は、入口３９１及び出口３９２の開閉を連動して行う開閉手段の一例である。

ソレノイド３７３は、筐体３９０内の空気の流れを妨げない位置に配置されている。ソレノイド３７３は、ＯＮ状態で、シャッター３７１を筐体３９０の下面に沿ってスライドさせて入口３９１を閉じ、空気が入ってこないようにすると共に、ダンパー３７２を回動させて出口３９２を閉じ、空気が出ていかないようにする。すなわち、ソレノイド３７３は、ヒータ３６０が空気を加熱するときに入口３９１及び出口３９２を閉じるようにシャッター３７１及びダンパー３７２を制御する開閉制御手段の一例である。ソレノイド３７３のＯＮ／ＯＦＦは、制御装置３００により制御される。なお、図は、ソレノイド３７３がＯＮ状態で入口３９１及び出口３９２が閉じられた状態を示している。

筐体３９０は、入口３９１及び出口３９２が形成された中央部分の収容室３９６を有している。
収容室３９６には、入口３９１側から順に、シャッター３７１、ファン３１０、ヒータ３６０、触媒３５０及びダンパー３７２が配置されている。

上述した配置により、ファン３１０にて入口３９１を介して筐体３９０内に入った空気は、ヒータ３６０、触媒３５０を順に通過して出口３９２から筐体３９０外へ出ていったり筐体３９０内を循環したりする。
筐体３９０は、収容室３９６の両側に空気層３９９が形成された二重構造である。これにより、筐体３９０内部と外部との間の断熱が図られている。

図７は、制御装置３００のブロック図である。
制御装置３００は、ファン３１０を回転駆動するモータ（不図示）の回転速度を制御するファン制御部３０１と、ヒータ３６０の温度を制御するヒータ温度制御部３０３と、ソレノイド３７３のＯＮ／ＯＦＦを制御するソレノイド制御部３０４とを備えている。
制御装置３００は、演算処理を行うＣＰＵ（不図示）と、ＣＰＵにて実行されるプログラムや各種データ等が記憶されたＲＯＭ（不図示）と、ＣＰＵの作業用メモリ等として用いられるＲＡＭ（不図示）とを備えている。そして、ＣＰＵがプログラムを実行することで、ファン制御部３０１、ヒータ温度制御部３０３及びソレノイド制御部３０４を実現する。

ファン制御部３０１は、ファン３１０の回転速度を高速と低速との２段階に切り替える。ファン制御部３０１は、吸着モードであるときには、ファン３１０の回転速度を高速とし、再生モードであるときには、ファン３１０の回転速度を低速とする。すなわち、ファン制御部３０１は、ヒータ３６０が空気を加熱するときにはヒータ３６０が空気を加熱しないときよりも風量が低下するようにファン３１０の駆動を制御する送風制御部の一例である。

ヒータ温度制御部３０３は、ファン制御部３０１がファン３１０の回転速度を低速にしているとき（再生モードであるとき）に、予め定められた時間の間通電することでヒータ３６０を所定の温度にまで上昇させる。他方、ヒータ温度制御部３０３は、ファン制御部３０１がファン３１０の回転速度を高速にしているとき（吸着モードであるとき）には通電しない。
ソレノイド制御部３０４は、ファン制御部３０１がファン３１０の回転速度を低速にしているとき（再生モードであるとき）に、ソレノイド３７３をＯＮ状態とし、ファン制御部３０１がファン３１０の回転速度を高速にしているとき（吸着モードであるとき）に、ＯＦＦ状態とする。

＜脱臭装置３の作用＞
図８は、脱臭装置３が吸着モードであるときの空気の流れを示す図である。
図９は、脱臭装置３が再生モードであるときの熱の移動を示す図である。
第３の実施形態に係る脱臭装置３は、吸着モードであるときに、ファン制御部３０１がファン３１０の回転速度を高速とし、ソレノイド制御部３０４がソレノイド３７３をＯＦＦ状態とする。また、ヒータ温度制御部３０３は、ヒータ３６０に通電せずに温度を高めない。このとき、ファン３１０にて筐体３９０内部に吸い込まれた空気は、収容室３９６を通って出口３９２から出ていく。その際、空気に含まれる臭気物質が触媒３５０に吸着される。

一方、脱臭装置３は、触媒３５０による臭気物質の分解速度が触媒３５０の吸着速度よりも遅いことに鑑み、再生モードであるときに、ファン制御部３０１がファン３１０の回転速度を低速にする。ソレノイド制御部３０４は、ソレノイド３７３をＯＮ状態とし、ヒータ温度制御部３０３は、ヒータ３６０に通電して温度を高める。このときも、ファン３１０にて筐体３９０内部に吸い込まれた空気は、収容室３９６を出口３９２の方に流れるが、ダンパー３７２が出口３９２を閉じているので、収容室３９６の下側を通って入口３９１付近に達する。そして、シャッター３７１が入口３９１を閉じているので、入口３９１から出ていくこともなく、ファン３１０にて再び筐体３９０内部に吸い込まれる。なお、このときの空気の通過速度は、吸着モードであるときの速度よりも小さい。

触媒３５０は、ヒータ３６０により暖められた空気が流入する。それゆえ、触媒３５０は、加熱されて活性化し、吸着していた臭気物質を分解する。

なお、この第３の実施形態では、ソレノイド３７３が開閉機構であるシャッター３７１及びダンパー３７２を駆動するようにしたが、この限りではない。例えば、シャッター３７１及びダンパー３７２の駆動は、モータ等により行っても良い。また、シャッター３７１の開閉は、ファン３１０の運転の有無により行っても良い。更に、シャッター３７１及びダンパー３７２の開閉は、熱により収縮及び膨張する材料をシャッター３７１及びダンパー３７２に使用することで行っても良い。

また、この第３の実施形態では、ヒータ３６０について非接触方式を採用した。すなわち、ファン３１０の下流であって触媒３５０の上流の送風路内にヒータ３６０を配置する構成を採用した。この構成は、送風路内の空気を加熱し、触媒３５０の全面を均一に活性化温度まで上昇させることを可能にするものである。

しかしながら、ヒータ３６０については接触方式を採用しても良い。すなわち、ヒータ３６０を触媒３５０の外周に直接接触させた構成を採用しても良い。このような構成としては、第一に、ヒータ３６０がコードヒータである場合にこれを触媒３５０に直接巻き付けた構成がある。第二に、触媒３５０をヒータ３６０内蔵のヒータ内蔵型触媒とする構成がある。第三に、ヒータ３６０が複数の面をつなげたタイプの面状ヒータである場合に触媒３５０の外周の１面または２〜４面にこれを接触させた構成がある。第四に、ヒータ３６０がフィルムタイプの面状ヒータである場合に触媒３５０の外周にこれを巻き付けた構成がある。第五に、ヒータ３６０がＰＴＣ（Positive Temperature Coefficient）ヒータである場合に触媒３５０の外周にこれを接触させた構成がある。

また、この第３の実施形態では、ヒータ３６０について非接触方式を採用したため、脱臭装置３が再生モードであるときに、ファン制御部３０１がファン３１０の回転速度を低速にしたが、この限りではない。ヒータ３６０について接触方式を採用した場合は、脱臭装置３が再生モードであるときに、ファン制御部３０１がファン３１０の回転を停止するようにしても良い。この場合、ファン制御部３０１は、ヒータ３６０が空気を加熱するときには停止するようにファン３１０の駆動を制御する送風制御部の一例となる。

更に、この第３の実施形態では、ヒータ３６０及び触媒３５０の周囲に金属部品３６５を設けたが、この限りではない。例えば、ヒータ３６０の周辺に温度ヒューズや温度センサ等の温度過昇防止装置を設けても良い。

上述したように、第３の実施形態に係る脱臭装置３においては、触媒３５０を再生させるので、再生させない場合に比べて、触媒３５０の吸着性能（脱臭性能）を長期間維持することができる。そして、再生するために触媒３５０を用い、触媒３５０に吸着した臭気を触媒３５０に曝露させることで、分解速度を高めている。また、触媒３５０を再生させるために、筐体３９０内部の温度を高めたとしても、開閉機構を閉じることで、加熱に用いた熱を循環させるようにする。また、筐体３９０は、内部に空気層３９９が形成された二重構造であるため、筐体３９０内部と外部との間の断熱が図られている。それゆえ、脱臭装置３は、加熱に用いた熱を排出しない。その結果、例えば冷蔵庫の冷蔵室内のように、低温を維持しなければならない環境でも第３の実施形態に係る脱臭装置３を使用することができる。更に、触媒３５０に吸着した臭気物質の分解時に臭気が発生したとしても、開閉機構を閉じることで、臭気も冷蔵庫内へ排出しない。

また、第３の実施形態では、ヒータ３６０として非接触方式及び接触方式のいずれを採用しても良いものとした。非接触方式、つまり、ファン３１０の下流側であって触媒３５０の上流側の送風路内にヒータ３６０を配置した構成を採用した場合、触媒３５０の全面に加温することができ、安価とすることができる。一方、接触方式、つまり、ヒータ３６０を触媒３５０に直接接触させた構成を採用した場合、構成を簡素化することができる。

更に、第３の実施形態では、ヒータ３６０の周囲に、伝熱効果及び安全性を向上するための金属部品３６５を設けた。これにより、異常時の延焼を防止することができる。

なお、上述した脱臭装置３において、吸着モードと再生モードとを交互に行うタイミングは特に限定されない。例えば、脱臭装置３は、吸着モードを予め定められた吸着モード期間行った後に再生モードに切り替え、その後、再生モードを予め定められた再生モード期間行った後に吸着モードに切り替えるようにしても良い。吸着モード期間と再生モード期間とは同じでも良いし、異なっていても良い。
また、脱臭装置３は、臭気を検出する臭気センサ（不図示）を、例えば触媒３５０の下流に備え、臭気センサが検出する臭気の量が予め定められた量以上となったときに、吸着モードから再生モードに切り替えても良い。かかる場合、脱臭装置３は、再生モードを再生モード期間行った後に吸着モードに切り替えると良い。

第３の実施形態に係る脱臭装置３が適用された冷蔵庫については、図５（ａ），（ｂ）に示された第１の実施形態に係る脱臭装置１が適用された冷蔵庫と同様なので、説明を省略する。但し、第１の実施形態では、脱臭装置１が、筐体９０の入口９１が前方、筐体９０の出口９２が後方となるように配置されているが、第３の実施形態では、脱臭装置３が、筐体３９０の入口３９１が下方、筐体３９０の出口３９２が前方となるように配置される。

＜第４の実施形態＞
図１０（ａ）は、第４の実施形態に係る脱臭装置４の上面図である。なお、この上面図には脱臭装置３の内部構造も一部示している。図１０（ｂ）は、図１０（ａ）のＸｂ−Ｘｂ部の断面における装置内部の概略構成図であり、図１０（ｃ）は、図１０（ａ）のＸｃ−Ｘｃ部の断面における装置内部の概略構成図である。
第４の実施形態に係る脱臭装置４は、空気の流れを発生させる送風手段の一例としてのファン４１０を備えている。

また、脱臭装置４は、ファン４１０の下流側に配置されて、通過する空気中の臭気物質を吸着すると共に加熱されることにより当該臭気物質を脱離する吸着手段の一例としての吸着材４２０と、ファン４１０の下流側であって吸着材４２０の上流側に配置されて、吸着材４２０に流入する空気を加熱する上流側加熱手段の一例としての上流側ヒータ４３０とを備えている。
また、脱臭装置４は、吸着材４２０から脱離した臭気物質を分解する分解手段の一例としての触媒４５０と、吸着材４２０の下流側であって触媒４５０の上流側に配置されて、触媒４５０に流入する空気を加熱する分解加熱手段の一例としての下流側ヒータ４６０とを備えている。
また、脱臭装置４は、触媒４５０を通過した空気の装置外への排出を抑制する抑制手段の一例としての開閉機構であるシャッター４７１及びダンパー４７２並びにその開閉を同時に行うソレノイド４７３と、上流側ヒータ４３０及び下流側ヒータ４６０の熱が外部に伝わらないようにする断熱材４９４とを備えている。

また、脱臭装置４は、ファン４１０、吸着材４２０、上流側ヒータ４３０、触媒４５０、下流側ヒータ４６０、シャッター４７１、ダンパー４７２、ソレノイド４７３及び断熱材４９４を収容すると共に、空気が入る入口４９１と空気が出る出口４９２とが形成された略直方体状の筐体４９０を備えている。
また、脱臭装置４は、ファン４１０の駆動、上流側ヒータ４３０の作動、下流側ヒータ４６０の作動、ソレノイド４７３の駆動などを制御する制御装置４００を備えている。

第４の実施形態に係る脱臭装置４は、空気中の臭気物質を吸着材４２０にて吸着する吸着モードと、吸着材４２０から臭気物質を脱離させて吸着材４２０を再生すると共に脱離した臭気物質を触媒４５０にて分解させる再生モードとに切り替え可能な装置である。そして、脱臭装置４は、吸着モードと再生モードとを交互に行い、吸着材４２０の高度な脱臭性能を長い期間維持することを実現している。

以下に、脱臭装置４が備える構成要素について詳述する。
ファン４１０は、回転軸４１１と、回転軸４１１周りに配置された複数の羽根４１２と、回転軸４１１を回転駆動させるモータ（不図示）とを有している。第４の実施形態に係るファン４１０は、図１０（ａ）で見た場合に回転軸４１１が左方向にやや傾いた前後方向、図１０（ｂ）で見た場合に回転軸４１１が左方向にやや傾いた上下方向となるように配置されている。そして、ファン４１０は、入口４９１を介して筐体４９０外の空気を筐体４９０の内部に取り込むと共に、空気を吸着材４２０に流入させる。モータは、制御装置４００により回転速度が制御される。

吸着材４２０は、通過する空気中の臭気物質を吸着して脱臭処理を行うと共に加熱されることにより当該臭気物質を脱離する活性炭を有する。
上流側ヒータ４３０は、ファン４１０の下流であって吸着材４２０の上流に配置されている。上流側ヒータ４３０は、予め定められた時間の間通電された場合に、吸着材４２０又は吸着材４２０に流入する空気を、吸着材４２０に吸着した臭気物質を除去可能な所定の温度にまで上昇させることができる。上流側ヒータ４３０は、制御装置４００により通電が制御される。なお、このように、上流側ヒータ４３０として、冷蔵庫本体の霜取りヒータを用いずに、冷蔵庫本体からの電源供給で動作する専用のヒータを用いることで、脱臭装置４が冷凍サイクルを阻害しないようにしている。

触媒４５０は、熱伝導性が高い基材の両面に酸化触媒が担持された触媒担持フィルタであることを例示することができる。酸化触媒としては、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｍｎ、Ｒｈ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｉ、Ｐ、Ｔｉ、Ｋのうちから選ばれた１種以上の物質またはこれらの物質の酸化物であることを例示することができる。これらの酸化触媒は、触媒担持フィルタに吸着された臭気成分の分解プロセスにおいて発生しうる副産物の臭気成分を無臭化または低臭化する。例えば、メチルメルカプタン（ＣＨ_３ＳＨ）の分解プロセスで発生しうる二硫化メチル（（ＣＨ_３）_２Ｓ_２）は、メチルメルカプタンに対して低臭である。或いは、触媒４５０は、光触媒としても良い。

下流側ヒータ４６０は、吸着材４２０の下流であって触媒４５０の上流に配置されている。下流側ヒータ４６０は、予め定められた時間の間通電された場合に、触媒４５０又は触媒４５０に流入する空気を、吸着材４２０から脱離した臭気物質を分解可能な所定の温度にまで上昇させることができる。下流側ヒータ４６０は、制御装置４００により通電が制御される。なお、このように、下流側ヒータ４６０として、冷蔵庫本体の霜取りヒータを用いずに、冷蔵庫本体からの電源供給で動作する専用のヒータを用いることで、脱臭装置４が冷凍サイクルを阻害しないようにしている。また、触媒４５０を活性化させる下流側ヒータ４６０の温度は１００℃以下とし、家電製品（特に冷蔵庫）に適用できる温度帯を使用するものとする。触媒４５０は、低温条件でも分解能力があるが、高温加熱条件（１００℃以下）で活性化されることで分解力が向上する。

シャッター４７１は、筐体４９０の下面に沿って配置される。シャッター４７１は、筐体４９０の下面の入口４９１の配置及びサイズと略同じ配置及びサイズの穴を有しており、筐体４９０の下面に沿ってスライド可能になっている。
ダンパー４７２は、筐体４９０内において出口４９２の近くに配置される。ダンパー４７２は、シャッター４７１が筐体４９０の下面に沿ってスライドすることに連動して回動可能になっている。
すなわち、シャッター４７１及びダンパー４７２は、入口４９１及び出口４９２の開閉を連動して行う開閉手段の一例である。

ソレノイド４７３は、筐体４９０内の空気の流れを妨げない位置に配置されている。ソレノイド４７３は、ＯＮ状態で、シャッター４７１を筐体４９０の下面に沿ってスライドさせて入口４９１を閉じ、空気が入ってこないようにすると共に、ダンパー４７２を回動させて出口４９２を閉じ、空気が出ていかないようにする。すなわち、ソレノイド４７３は、上流側ヒータ４３０及び下流側ヒータ４６０が空気を加熱するときに入口４９１及び出口４９２を閉じるようにシャッター４７１及びダンパー４７２を制御する開閉制御手段の一例である。ソレノイド４７３のＯＮ／ＯＦＦは、制御装置４００により制御される。なお、図は、ソレノイド４７３がＯＮ状態で入口４９１及び出口４９２が閉じられた状態を示している。
断熱材４９４は、上流側ヒータ４３０及び下流側ヒータ４６０の熱が脱臭装置４外に伝わらないようにして、筐体４９０内部と外部との間の断熱を図るために設けられている。

筐体４９０は、入口４９１及び出口４９２が形成された中央部分の第１収容室４９６と、第１収容室４９６の片側に形成された第２収容室４９７とを有している。
第１収容室４９６及び第２収容室４９７には、入口４９１側から順に、シャッター４７１、ファン４１０、上流側ヒータ４３０、吸着材４２０、下流側ヒータ４６０、触媒４５０及びダンパー４７２が配置されている。

上述した配置により、ファン４１０にて入口４９１を介して筐体４９０内に入った空気は、上流側ヒータ４３０、吸着材４２０、下流側ヒータ４６０、触媒４５０を順に通過して出口４９２から筐体４９０外へ出ていったり筐体４９０内を循環したりする。
筐体４９０は、第１収容室４９６の第２収容室４９７とは反対側及び第２収容室４９７の第１収容室４９６とは反対側に空気層４９９が形成された二重構造である。これにより、筐体４９０内部と外部との間の断熱が図られている。

図１１は、制御装置４００のブロック図である。
制御装置４００は、ファン４１０を回転駆動するモータ（不図示）の回転速度を制御するファン制御部４０１と、上流側ヒータ４３０の温度を制御する上流側ヒータ温度制御部４０２と、下流側ヒータ４６０の温度を制御する下流側ヒータ温度制御部４０３と、ソレノイド４７３のＯＮ／ＯＦＦを制御するソレノイド制御部４０４とを備えている。
制御装置４００は、演算処理を行うＣＰＵ（不図示）と、ＣＰＵにて実行されるプログラムや各種データ等が記憶されたＲＯＭ（不図示）と、ＣＰＵの作業用メモリ等として用いられるＲＡＭ（不図示）とを備えている。そして、ＣＰＵがプログラムを実行することで、ファン制御部４０１、上流側ヒータ温度制御部４０２、下流側ヒータ温度制御部４０３及びソレノイド制御部４０４を実現する。

ファン制御部４０１は、ファン４１０の回転速度を高速と低速との２段階に切り替える。ファン制御部４０１は、吸着モードであるときには、ファン４１０の回転速度を高速とし、再生モードであるときには、ファン４１０の回転速度を低速とする。すなわち、ファン制御部４０１は、上流側ヒータ４３０及び下流側ヒータ４６０が空気を加熱するときには上流側ヒータ４３０及び下流側ヒータ４６０が空気を加熱しないときよりも風量が低下するようにファン４１０の駆動を制御する送風制御部の一例である。
上流側ヒータ温度制御部４０２は、ファン制御部４０１がファン４１０の回転速度を低速にしているとき（再生モードであるとき）に、予め定められた時間の間通電することで上流側ヒータ４３０を所定の温度にまで上昇させる。他方、上流側ヒータ温度制御部４０２は、ファン制御部４０１がファン４１０の回転速度を高速にしているとき（吸着モードであるとき）には通電しない。

下流側ヒータ温度制御部４０３は、ファン制御部４０１がファン４１０の回転速度を低速にしているとき（再生モードであるとき）に、予め定められた時間の間通電することで下流側ヒータ４６０を所定の温度にまで上昇させる。他方、下流側ヒータ温度制御部４０３は、ファン制御部４０１がファン４１０の回転速度を高速にしているとき（吸着モードであるとき）には通電しない。
ソレノイド制御部４０４は、ファン制御部４０１がファン４１０の回転速度を低速にしているとき（再生モードであるとき）に、ソレノイド４７３をＯＮ状態とし、ファン制御部４０１がファン４１０の回転速度を高速にしているとき（吸着モードであるとき）に、ＯＦＦ状態とする。

＜脱臭装置４の作用＞
図１２（ａ）〜（ｃ）は、脱臭装置４が吸着モードであるときの空気の流れを示す図である。
図１３（ａ）〜（ｃ）は、脱臭装置４が再生モードであるときの熱の移動を示す図である。
第４の実施形態に係る脱臭装置４は、吸着モードであるときに、ファン制御部４０１がファン４１０の回転速度を高速とし、ソレノイド制御部４０４がソレノイド４７３をＯＦＦ状態とする。また、上流側ヒータ温度制御部４０２，下流側ヒータ温度制御部４０３は、それぞれ上流側ヒータ４３０，下流側ヒータ４６０に通電せずに温度を高めない。このとき、ファン４１０にて筐体４９０内部に吸い込まれた空気は、第１収容室４９６、第２収容室４９７を通り、再び第１収容室４９６に戻って出口４９２から出ていく。その際、空気に含まれる臭気物質が吸着材４２０に吸着される。また、触媒４５０が触媒担持フィルタである場合には、空気に含まれる臭気物質は触媒４５０にも吸着される。

一方、脱臭装置４は、触媒４５０による臭気物質の分解速度が吸着材４２０の吸着速度よりも遅いことに鑑み、再生モードであるときに、ファン制御部４０１がファン４１０の回転速度を低速にする。ソレノイド制御部４０４は、ソレノイド４７３をＯＮ状態とし、上流側ヒータ温度制御部４０２，下流側ヒータ温度制御部４０３は、それぞれ上流側ヒータ４３０，下流側ヒータ４６０に通電して温度を高める。このときも、ファン４１０にて筐体４９０内部に吸い込まれた空気は、第１収容室４９６、第２収容室４９７を通り、再び第１収容室４９６に戻るが、ダンパー４７２が出口４９２を閉じているので、第１収容室４９６の下側を通って入口４９１付近に達する。なお、このときの空気の通過速度は、吸着モードであるときの速度よりも小さい。

吸着材４２０は、上流側ヒータ４３０及び下流側ヒータ４６０により暖められると共に、上流側ヒータ４３０にて暖められた空気が流入する。それゆえ、吸着材４２０は加熱され、吸着していた臭気物質を脱離する。これにより、吸着材４２０は再生する。
触媒４５０は、下流側ヒータ４６０により暖められると共に、上流側ヒータ４３０にて暖められた後に吸着材４２０を通過し、その後、下流側ヒータ４６０にて暖められた空気が流入する。それゆえ、触媒４５０は、加熱されて活性化し、吸着材４２０から脱離した臭気物質を分解する。また、触媒４５０が触媒担持フィルタである場合には、吸着していた臭気物質をも分解する。

なお、この第４の実施形態では、ソレノイド４７３が開閉機構であるシャッター４７１及びダンパー４７２を駆動するようにしたが、この限りではない。例えば、シャッター４７１及びダンパー４７２の駆動は、モータ等により行っても良い。また、シャッター４７１の開閉は、ファン４１０の運転の有無により行っても良い。更に、シャッター４７１及びダンパー４７２の開閉は、熱により収縮及び膨張する材料をシャッター４７１及びダンパー４７２に使用することで行っても良い。

また、この第４の実施形態では、上流側ヒータ４３０及び下流側ヒータ４６０について非接触方式を採用した。すなわち、ファン４１０の下流であって吸着材４２０の上流の送風路内に上流側ヒータ４３０を配置し、吸着材４２０の下流であって触媒４５０の上流の送風路内に下流側ヒータ４６０を配置する構成を採用した。この構成は、送風路内の空気を加熱し、吸着材４２０及び触媒４５０の全面を均一に活性化温度まで上昇させることを可能にするものである。

しかしながら、上流側ヒータ４３０及び下流側ヒータ４６０については接触方式を採用しても良い。すなわち、上流側ヒータ４３０を吸着材４２０の外周に直接接触させた構成や、下流側ヒータ４６０を触媒４５０の外周に直接接触させた構成を採用しても良い。このような構成の具体例については、第３の実施形態で述べたので、ここでの説明は省略する。

また、この第４の実施形態では、上流側ヒータ４３０及び下流側ヒータ４６０について非接触方式を採用したため、脱臭装置４が再生モードであるときに、ファン制御部４０１がファン４１０の回転速度を低速にしたが、この限りではない。上流側ヒータ４３０及び下流側ヒータ４６０について接触方式を採用した場合は、脱臭装置３が再生モードであるときに、ファン制御部４０１がファン４１０の回転を停止するようにしても良い。この場合、ファン制御部４０１は、上流側ヒータ４３０及び下流側ヒータ４６０が空気を加熱するときには停止するようにファン４１０の駆動を制御する送風制御部の一例となる。

更に、この第４の実施形態でも、上流側ヒータ４３０及び吸着材４２０の周囲と、下流側ヒータ４６０及び触媒４５０の周囲とに金属部品を設けても良い。或いは、例えば、上流側ヒータ４３０及び吸着材４２０の周辺と、下流側ヒータ４６０及び触媒４５０の周辺とに温度ヒューズや温度センサ等の温度過昇防止装置を設けても良い。

上述したように、第４の実施形態に係る脱臭装置４においては、吸着材４２０にて脱臭（臭気物質除去）を行うので、省エネルギーで素早い吸着速度を実現することができる。また、第４の実施形態に係る脱臭装置４においては、吸着材４２０を再生させるので、再生させない場合に比べて、吸着材４２０の吸着性能（脱臭性能）を長期間維持することができる。そして、再生するために触媒４５０を用い、吸着材４２０で濃縮した臭気を触媒４５０に曝露させることで、分解速度を高めている。また、吸着材４２０を再生させるために、筐体４９０内部の温度を高めたとしても、開閉機構を閉じることで、加熱に用いた熱を循環させるようにする。また、筐体４９０は、内部に空気層４９９が形成された二重構造であるため、筐体４９０内部と外部との間の断熱が図られている。それゆえ、脱臭装置４は、加熱に用いた熱を排出しない。その結果、例えば冷蔵庫の冷蔵室内のように、低温を維持しなければならない環境でも第４の実施形態に係る脱臭装置４を使用することができる。更に、吸着材４２０に吸着した臭気物質の分解時に臭気が発生したとしても、開閉機構を閉じることで、臭気も冷蔵庫内へ排出しない。

また、第４の実施形態では、上流側ヒータ４３０及び下流側ヒータ４６０として非接触方式及び接触方式のいずれを採用しても良いものとした。非接触方式、つまり、ファン４１０の下流側であって吸着材４２０の上流側の送風路内に上流側ヒータ４３０を配置し、吸着材４２０の下流側であって触媒４５０の上流側の送風路内に下流側ヒータ４６０を配置した構成を採用した場合、吸着材４２０及び触媒４５０の全面に加温することができ、安価とすることができる。一方、接触方式、つまり、上流側ヒータ４３０を吸着材４２０に直接接触させ、下流側ヒータ４６０を触媒４５０に直接接触させた構成を採用した場合、構成を簡素化することができる。

更に、第４の実施形態では、上流側ヒータ４３０及び下流側ヒータ４６０の周囲に、伝熱効果及び安全性を向上するための金属部品を設けても良いこととした。このような金属部品を設けることで、異常時の延焼を防止することができる。

なお、上述した脱臭装置４において、吸着モードと再生モードとを交互に行うタイミングは特に限定されない。例えば、脱臭装置４は、吸着モードを予め定められた吸着モード期間行った後に再生モードに切り替え、その後、再生モードを予め定められた再生モード期間行った後に吸着モードに切り替えるようにしても良い。吸着モード期間と再生モード期間とは同じでも良いし、異なっていても良い。
また、脱臭装置４は、臭気を検出する臭気センサ（不図示）を、例えば吸着材４２０の下流に備え、臭気センサが検出する臭気の量が予め定められた量以上となったときに、吸着モードから再生モードに切り替えても良い。かかる場合、脱臭装置４は、再生モードを再生モード期間行った後に吸着モードに切り替えると良い。

第４の実施形態に係る脱臭装置４が適用された冷蔵庫については、図５（ａ），（ｂ）に示された第１の実施形態に係る脱臭装置１が適用された冷蔵庫と同様なので、説明を省略する。但し、第１の実施形態では、脱臭装置１が、筐体９０の入口９１が前方、筐体９０の出口９２が後方となるように配置されているが、第４の実施形態では、脱臭装置４が、筐体４９０の入口４９１が下方、筐体４９０の出口４９２が前方となるように配置される。

＜第５の実施形態＞
図１４（ａ）は、第５の実施形態に係る脱臭装置５の上面図である。なお、この上面図には脱臭装置５の内部構造も一部示している。図１４（ｂ）は、図１４（ａ）のＸＩＶｂ−ＸＩＶｂ部の断面における装置内部の概略構成図である。
第５の実施形態に係る脱臭装置５は、空気の流れを発生させる送風手段の一例としてのファン５１０を備えている。

また、脱臭装置５は、ファン５１０の下流側に配置されて、通過する空気中の臭気物質を吸着すると共に加熱されることにより当該臭気物質を分解する吸着分解手段の一例としての触媒５５０と、ファン５１０の下流側に配置されて、触媒５５０を加熱する加熱手段の一例としてのヒータ５６０とを備えている。
また、脱臭装置５は、触媒５５０を通過した空気の装置外への排出を抑制する抑制手段の一例としての開閉機構であるシャッター５７１及びその開閉を行うバイメタル板５７３と、ヒータ５６０の熱をバイメタル板５７３に伝達するための部品の一例としての金属部品５６５とを備えている。

また、脱臭装置５は、ファン５１０、触媒５５０、ヒータ５６０、金属部品５６５、シャッター５７１及びバイメタル板５７３を収容すると共に、空気が入る入口５９１と空気が出る出口５９２とが形成された略直方体状の筐体５９０を備えている。
また、脱臭装置５は、ファン５１０の駆動、ヒータ５６０の作動などを制御する制御装置５００を備えている。

第５の実施形態に係る脱臭装置５は、空気中の臭気物質を触媒５５０にて吸着する吸着モードと、吸着された臭気物質を触媒５５０にて分解させて触媒５５０を再生する再生モードとに切り替え可能な装置である。そして、脱臭装置５は、吸着モードと再生モードとを交互に行い、触媒５５０の高度な脱臭性能を長い期間維持することを実現している。

以下に、脱臭装置５が備える構成要素について詳述する。
ファン５１０は、回転軸５１１と、回転軸５１１周りに配置された複数の羽根５１２と、回転軸５１１を回転駆動させるモータ（不図示）とを有している。第５の実施形態に係るファン５１０は、図１４（ａ）で見た場合に回転軸５１１が左方向にやや傾いた前後方向、図１４（ｂ）で見た場合に回転軸５１１が左方向にやや傾いた上下方向となるように配置されている。そして、ファン５１０は、入口５９１を介して筐体５９０外の空気を筐体５９０の内部に取り込むと共に、空気を触媒５５０に流入させる。モータは、制御装置５００により回転速度が制御される。

触媒５５０は、ガス吸着機能を有する多孔質構造体からなり熱伝導性が高い基材の両面に酸化触媒が担持された触媒担持フィルタであることを例示することができる。酸化触媒としては、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｍｎ、Ｒｈ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｉ、Ｐ、Ｔｉ、Ｋのうちから選ばれた１種以上の物質またはこれらの物質の酸化物であることを例示することができる。これらの酸化触媒は、触媒担持フィルタに吸着された臭気成分の分解プロセスにおいて発生しうる副産物の臭気成分を無臭化または低臭化する。例えば、メチルメルカプタン（ＣＨ_３ＳＨ）の分解プロセスで発生しうる二硫化メチル（（ＣＨ_３）_２Ｓ_２）は、メチルメルカプタンに対して低臭である。或いは、触媒５５０は、光触媒としても良い。

ヒータ５６０は、ファン５１０の下流に配置されている。ヒータ５６０は、予め定められた時間の間通電された場合に、触媒５５０に吸着された臭気物質を分解可能な所定の温度にまで触媒５５０の温度を上昇させることができる。ヒータ５６０は、制御装置５００により通電が制御される。なお、このように、ヒータ５６０として、冷蔵庫本体の霜取りヒータを用いずに、冷蔵庫本体からの電源供給で動作する専用のヒータを用いることで、脱臭装置５が冷凍サイクルを阻害しないようにしている。また、触媒５５０を活性化させるヒータ５６０の温度は１００℃以下とし、家電製品（特に冷蔵庫）に適用できる温度帯を使用するものとする。触媒５５０は、低温条件でも分解能力があるが、高温加熱条件（１００℃以下）で活性化されることで分解力が向上する。
金属部品５６５は、ヒータ５６０とバイメタル板５７３との間に、伝熱効果を向上するために設けられる。金属部品５６５としては、例えば、ＳＵＳを用いることができる。なお、図１５（ａ），（ｂ）を参照して後述するように、バイメタル板５７３は一方の端部しか固定されていないので、金属部品５６５は、ヒータ５６０とバイメタル板５７３のその固定された端部とを接続するように設けるとよい。

シャッター５７１は、筐体５９０の下面に沿って配置される。シャッター５７１は、筐体５９０の下面の入口５９１及び出口５９２の配置及びサイズと略同じ配置及びサイズの穴を有しており、筐体５９０の下面に沿ってスライド可能になっている。すなわち、シャッター５７１は、入口５９１及び出口５９２の開閉を連動して行う開閉手段の一例である。なお、第５の実施形態において、開閉手段は、シャッター５７１という一部品により構成されている。

バイメタル板５７３は、筐体５９０内のヒータ５６０の熱が伝わる位置に配置されている。バイメタル板５７３は、熱膨張率の異なる２種類の金属を結合した金属板である。熱膨張率の異なる２種類の金属としては、例えば、熱膨張率が高い方の金属として、鉄ニッケルクロム合金を用い、熱膨張率が低い方の金属として、ニッケル約３６％の鉄ニッケル合金を用いることができる。バイメタル板５７３は、ヒータ５６０の熱が伝わると、後述するように、第１突起部５７１１及び第２突起部５７１２を通じて、シャッター５７１を筐体５９０の下面に沿ってスライドさせて入口５９１及び出口５９２を閉じ、空気が入ってこないようにすると共に空気が出ていかないようにする。すなわち、バイメタル板５７３は、ヒータ５６０が触媒５５０を加熱するときに入口５９１及び出口５９２を閉じるようにシャッター５７１を制御する開閉制御手段の一例である。なお、図は、バイメタル板５７３にヒータ５６０の熱が伝わった状態で入口５９１及び出口５９２が閉じられた状態を示している。

筐体５９０は、入口５９１及び出口５９２が形成された中央部分の第１収容室５９６と、第１収容室５９６の片側に形成された第２収容室５９７とを有している。
第１収容室５９６には、入口５９１側から順に、シャッター５７１、ファン５１０、及び、ヒータ５６０が接触した触媒５５０が配置され、シャッター５７１は、出口５９２側にも配置されている。第２収容室５９７は、出口５９２が閉じられている場合に、空気がファン５１０側へ戻る通路として設けられている。

上述した配置により、ファン５１０にて入口５９１を介して筐体５９０内に入った空気は、ヒータ５６０が接触した触媒５５０を通過して出口５９２から筐体５９０外へ出ていったり筐体５９０内を循環したりする。
筐体５９０は、第１収容室５９６の第２収容室５９７とは反対側及び第２収容室５９７の第１収容室５９６とは反対側に空気層５９９が形成された二重構造である。これにより、筐体５９０内部と外部との間の断熱が図られている。

ここで、バイメタル板５７３によるシャッター５７１のスライド制御について更に詳細に説明する。
図１５（ａ）は、ヒータ５６０の熱が伝わっていないときのバイメタル板５７３の状態を示した図である。図１５（ｂ）は、ヒータ５６０の熱が伝わっているときのバイメタル板５７３の状態を示した図である。バイメタル板５７３の配置は、図１４（ａ）において触媒５５０、ヒータ５６０及び金属部品５６５を取り除いたときの配置に一致させてある。バイメタル板５７３において、第１端部５７３１は、固定された端部であるが、第２端部５７３２は、固定されていない状態でシャッター５７１の第１突起部５７１１及び第２突起部５７１２に接する端部である。

ヒータ５６０の熱が伝わっていないとき、バイメタル板５７３は、本来の直線的な形状をなしているので、第１突起部５７１１及び第２突起部５７１２を押すことはなく、シャッター５７１は入口５９１及び出口５９２を開く位置に移動する。
一方、ヒータ５６０の熱が伝わっているとき、バイメタル板５７３は、第２端部５７３２側が右側に湾曲しているので、第１突起部５７１１及び第２突起部５７１２を押すことになり、シャッター５７１は入口５９１及び出口５９２を閉じる位置に移動する。

図１６は、制御装置５００のブロック図である。
制御装置５００は、ファン５１０を回転駆動するモータ（不図示）の回転速度を制御するファン制御部５０１と、ヒータ５６０の温度を制御するヒータ温度制御部５０３とを備えている。
制御装置５００は、演算処理を行うＣＰＵ（不図示）と、ＣＰＵにて実行されるプログラムや各種データ等が記憶されたＲＯＭ（不図示）と、ＣＰＵの作業用メモリ等として用いられるＲＡＭ（不図示）とを備えている。そして、ＣＰＵがプログラムを実行することで、ファン制御部５０１及びヒータ温度制御部５０３を実現する。

ファン制御部５０１は、ファン５１０の回転速度を高速と低速との２段階に切り替える。ファン制御部５０１は、吸着モードであるときには、ファン５１０の回転速度を高速とし、再生モードであるときには、ファン５１０の回転速度を低速とする。すなわち、ファン制御部５０１は、ヒータ５６０が触媒５５０を加熱するときにはヒータ５６０が触媒５５０を加熱しないときよりも風量が低下するようにファン５１０の駆動を制御する送風制御部の一例である。

ヒータ温度制御部５０３は、ファン制御部５０１がファン５１０の回転速度を低速にしているとき（再生モードであるとき）に、予め定められた時間の間通電することでヒータ５６０を所定の温度にまで上昇させる。他方、ヒータ温度制御部５０３は、ファン制御部５０１がファン５１０の回転速度を高速にしているとき（吸着モードであるとき）には通電しない。

＜脱臭装置５の作用＞
図１７（ａ），（ｂ）は、脱臭装置５が吸着モードであるときの空気の流れを示す図である。
図１８（ａ），（ｂ）は、脱臭装置５が再生モードであるときの熱の移動を示す図である。
第５の実施形態に係る脱臭装置５は、吸着モードであるときに、ファン制御部５０１がファン５１０の回転速度を高速とし、ヒータ温度制御部５０３は、ヒータ５６０に通電せずに温度を高めない。このとき、ファン５１０にて筐体５９０内部に吸い込まれた空気は、第１収容室５９６を通って出口５９２から出ていく。その際、空気に含まれる臭気物質が触媒５５０に吸着される。

一方、脱臭装置５は、触媒５５０による臭気物質の分解速度が触媒５５０の吸着速度よりも遅いことに鑑み、再生モードであるときに、ファン制御部５０１がファン５１０の回転速度を低速にし、ヒータ温度制御部５０３は、ヒータ５６０に通電して温度を高める。このときも、ファン５１０にて筐体５９０内部に吸い込まれた空気は、第１収容室５９６を通って出口５９２付近に達するが、シャッター５７１が出口５９２を閉じているため、第２収容室５９７を通って、ファン５１０の下側に達する。

触媒５５０は、ヒータ５６０により暖められる。それゆえ、触媒５５０は、加熱されて活性化し、吸着していた臭気物質を分解する。

なお、この第５の実施形態では、ヒータ５６０について接触方式を採用した。すなわち、ヒータ５６０を触媒５５０の外周に直接接触させた構成を採用した。
しかしながら、ヒータ５６０については非接触方式を採用しても良い。すなわち、ファン５１０の下流であって触媒５５０の上流の送風路内にヒータ５６０を配置する構成を採用しても良い。この構成は、送風路内の空気を加熱し、触媒５５０の全面を均一に活性化温度まで上昇させることを可能にするものである。

また、この第５の実施形態では、脱臭装置５が再生モードであるときに、ファン制御部５０１がファン５１０の回転速度を低速にしたが、この限りではない。ファン制御部５０１がファン５１０の回転を間欠的にしてもよい。この場合、ファン制御部５０１は、ヒータ５６０が触媒５５０を加熱するときには間欠的に回転するようにファン５１０の駆動を制御する送風制御部の一例となる。また、ヒータ５６０について接触方式を採用した場合は、脱臭装置５が再生モードであるときに、ファン制御部５０１がファン５１０の回転を停止するようにしても良い。この場合、ファン制御部５０１は、ヒータ５６０が触媒５５０を加熱するときには停止するようにファン５１０の駆動を制御する送風制御部の一例となる。

上述したように、第５の実施形態に係る脱臭装置５においては、触媒５５０を再生させるので、再生させない場合に比べて、触媒５５０の吸着性能（脱臭性能）を長期間維持することができる。そして、再生するために触媒５５０を用い、触媒５５０に吸着した臭気を触媒５５０に曝露させることで、分解速度を高めている。また、触媒５５０を再生させるために、筐体５９０内部の温度を高めたとしても、開閉機構を閉じることで、加熱に用いた熱を循環させるようにする。また、筐体５９０は、内部に空気層５９９が形成された二重構造であるため、筐体５９０内部と外部との間の断熱が図られている。それゆえ、脱臭装置５は、加熱に用いた熱を排出しない。その結果、例えば冷蔵庫の冷蔵室内のように、低温を維持しなければならない環境でも第５の実施形態に係る脱臭装置５を使用することができる。更に、触媒５５０に吸着した臭気物質の分解時に臭気が発生したとしても、開閉機構を閉じることで、臭気も冷蔵庫内へ排出しない。

また、第５の実施形態では、ヒータ５６０として非接触方式及び接触方式のいずれを採用しても良いものとした。非接触方式、つまり、ファン５１０の下流側であって触媒５５０の上流側の送風路内にヒータ５６０を配置した構成を採用した場合、触媒５５０の全面に加温することができ、安価とすることができる。一方、接触方式、つまり、ヒータ５６０を触媒５５０に直接接触させた構成を採用した場合、構成を簡素化することができる。

なお、上述した脱臭装置５において、吸着モードと再生モードとを交互に行うタイミングは特に限定されない。例えば、脱臭装置５は、吸着モードを予め定められた吸着モード期間行った後に再生モードに切り替え、その後、再生モードを予め定められた再生モード期間行った後に吸着モードに切り替えるようにしても良い。吸着モード期間と再生モード期間とは同じでも良いし、異なっていても良い。
また、脱臭装置５は、臭気を検出する臭気センサ（不図示）を、例えば触媒５５０の下流に備え、臭気センサが検出する臭気の量が予め定められた量以上となったときに、吸着モードから再生モードに切り替えても良い。かかる場合、脱臭装置５は、再生モードを再生モード期間行った後に吸着モードに切り替えると良い。

第５の実施形態に係る脱臭装置５が適用された冷蔵庫については、図５（ａ），（ｂ）に示された第１の実施形態に係る脱臭装置１が適用された冷蔵庫と同様なので、説明を省略する。但し、第１の実施形態では、脱臭装置１が、筐体９０の入口９１が前方、筐体９０の出口９２が後方となるように配置されているが、第５の実施形態では、脱臭装置５が、筐体５９０の下面が冷蔵庫の下方を向くように、かつ、筐体５９０の下面において、入口５９１が後方、出口５９２が前方となるように配置される。

１，３，４，５…脱臭装置、１０，３１０，４１０，５１０…ファン、２０，４２０…吸着材、３０，４３０…上流側ヒータ、４０…加熱用ヒートシンク、５０，３５０，４５０，５５０…触媒、６０，４６０…下流側ヒータ、７０…冷却部、８０…熱保持用ヒートシンク、８５…冷却用ヒートシンク、９０，３９０，４９０，５９０…筐体、１００，３００，４００，５００…制御装置、３６０，５６０…ヒータ、３６５，５６５…金属部品、３７１，４７１，５７１…シャッター、３７２，４７２…ダンパー、３７３，４７３…ソレノイド、５７３…バイメタル板

Claims (25)

1. 空気の流れを発生させる送風手段と、
   前記送風手段の下流側に配置されて、通過する空気中の臭気物質を吸着すると共に加熱されることにより当該臭気物質を脱離する吸着手段と、
   前記送風手段の下流側であって前記吸着手段の上流側に配置されて、前記吸着手段に流入する空気を加熱する上流側加熱手段と、
   前記吸着手段から脱離した前記臭気物質を分解する分解手段と、
   前記分解手段を通過した空気を冷却する冷却手段と、
   を備える脱臭装置。
2. 前記送風手段の駆動を制御する送風制御部をさらに備え、
   前記送風制御部は、前記上流側加熱手段が空気を加熱するときには当該上流側加熱手段が加熱しないときよりも風量が低下するように前記送風手段の駆動を制御する
   請求項１に記載の脱臭装置。
3. 前記分解手段を加熱するための分解加熱手段をさらに備えている
   請求項１又は２に記載の脱臭装置。
4. 前記分解手段の下流側に当該分解手段を通過した空気を冷却するための冷却用ヒートシンクが設けられている
   請求項１から３のいずれか１項に記載の脱臭装置。
5. 前記送風手段の下流側であって前記吸着手段の上流側に当該送風手段にて送られた空気を加熱するための加熱用ヒートシンクが設けられている
   請求項４に記載の脱臭装置。
6. 前記冷却手段は、前記冷却用ヒートシンクと前記加熱用ヒートシンクとの間に配置され、当該冷却用ヒートシンク側で吸熱し、当該加熱用ヒートシンク側で放熱する熱交換素子を有する
   請求項５に記載の脱臭装置。
7. 前記吸着手段、前記分解手段、前記冷却手段を収容すると共に、空気が入る入口と空気が出る出口とが形成され、当該入口から当該出口までの空気の流路がＵ字状である筐体をさらに備える
   請求項１から６のいずれか１項に記載の脱臭装置。
8. 前記筐体は、内部に空気層が形成された二重構造である
   請求項７に記載の脱臭装置。
9. 空気の流れを発生させる送風手段と、
   前記送風手段の下流側に配置されて、通過する空気中の臭気物質を吸着すると共に加熱されることにより当該臭気物質を分解する吸着分解手段と、
   前記送風手段の下流側であって前記吸着分解手段の上流側に配置されて、前記吸着分解手段に流入する空気を加熱する加熱手段と、
   前記吸着分解手段を通過した空気の装置外への排出を抑制する抑制手段と、
   を備える脱臭装置。
10. 前記吸着分解手段は、
    前記送風手段の下流側に配置されて、通過する空気中の臭気物質を吸着すると共に加熱されることにより当該臭気物質を脱離する吸着手段と、
    前記吸着手段から脱離した前記臭気物質を分解する分解手段と、
    を備えている請求項９に記載の脱臭装置。
11. 前記抑制手段は、前記送風手段、前記加熱手段、前記吸着分解手段を収容すると共に空気が入る入口と空気が出る出口とが形成された筐体内で、当該吸着分解手段を通過した空気を、当該入口及び当該出口を閉じた状態で循環させる
    請求項９又は１０に記載の脱臭装置。
12. 前記入口及び前記出口の開閉を連動して行う開閉手段と、
    前記加熱手段が空気を加熱するときに前記入口及び前記出口を閉じるように前記開閉手段を制御する開閉制御手段と、
    をさらに備えている請求項１１に記載の脱臭装置。
13. 前記加熱手段は、前記吸着分解手段に接触しない状態で、当該吸着分解手段を加熱する
    請求項９又は１０に記載の脱臭装置。
14. 前記送風手段の駆動を制御する送風制御部をさらに備え、
    前記送風制御部は、前記加熱手段が空気を加熱するときには当該加熱手段が空気を加熱しないときよりも風量が低下するように前記送風手段の駆動を制御する
    請求項１３に記載の脱臭装置。
15. 前記加熱手段は、前記吸着分解手段に接触した状態で、当該吸着分解手段を加熱する
    請求項９又は１０に記載の脱臭装置。
16. 前記送風手段の駆動を制御する送風制御部をさらに備え、
    前記送風制御部は、前記加熱手段が空気を加熱するときには停止するように前記送風手段の駆動を制御する
    請求項１５に記載の脱臭装置。
17. 前記加熱手段の周囲に、伝熱効果及び安全性を向上するための部品が設けられている
    請求項９又は１０に記載の脱臭装置。
18. 空気の流れを発生させる送風手段と、
    前記送風手段の下流側に配置されて、通過する空気中の臭気物質を吸着すると共に加熱されることにより当該臭気物質を分解する吸着分解手段と、
    前記送風手段の下流側に配置されて、前記吸着分解手段を加熱する加熱手段と、
    前記吸着分解手段を通過した空気の装置外への排出を抑制する抑制手段と、
    を備える脱臭装置。
19. 前記抑制手段は、前記送風手段、前記加熱手段、前記吸着分解手段を収容すると共に空気が入る入口と空気が出る出口とが形成された筐体内で、当該吸着分解手段を通過した空気を、当該入口及び当該出口を閉じた状態で循環させる
    請求項１８に記載の脱臭装置。
20. 前記入口及び前記出口の開閉を連動して行う開閉手段と、
    前記加熱手段が前記吸着分解手段を加熱するときに前記入口及び前記出口を閉じるように前記開閉手段を制御する開閉制御手段と、
    をさらに備えている請求項１９に記載の脱臭装置。
21. 前記開閉手段は、一部品により構成されている
    請求項２０に記載の脱臭装置。
22. 前記開閉制御手段は、熱膨張率の異なる２種類の金属を結合した金属板である
    請求項２０に記載の脱臭装置。
23. 前記加熱手段の熱を前記開閉制御手段に伝達するための部品が設けられている
    請求項２０に記載の脱臭装置。
24. 前記加熱手段は、前記吸着分解手段に接触した状態で、当該吸着分解手段を加熱する
    請求項１８に記載の脱臭装置。
25. 物品を冷蔵する冷蔵室と、
    前記冷蔵室内に配置された請求項１から２４のいずれか１項に記載の脱臭装置と、
    を備える冷蔵庫。