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JP2019070425A - シールガス供給システムおよびシールガス供給方法 - Google Patents

シールガス供給システムおよびシールガス供給方法 Download PDF

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JP2019070425A JP2017197561A JP2017197561A JP2019070425A JP 2019070425 A JP2019070425 A JP 2019070425A JP 2017197561 A JP2017197561 A JP 2017197561A JP 2017197561 A JP2017197561 A JP 2017197561A JP 2019070425 A JP2019070425 A JP 2019070425A
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敏祐 若林
Toshihiro Wakabayashi
敏祐 若林
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Abstract

【課題】圧縮比が比較的小さい圧縮機においても、タンデム型ドライガスシールを採用可能にするシールガス供給システムを提供する。【解決手段】シールガス供給システムは、圧縮機4のドライガスシール4aにシールガスを供給するシールガス供給システムであって、圧縮機4から吐出される圧縮ガスと実質的に同じ組成の液体を貯留する貯留槽1と、貯留槽1に貯留された液体を抜き出して昇圧する昇圧装置5と、昇圧装置5で昇圧された液体を気化させてシールガスを生成する気化装置9と、を有している。【選択図】図1

Description

本発明は、ドライガスシールにシールガスを供給するシールガス供給システムおよびシールガス供給方法に関する。
従来から、圧縮機のケーシングとシャフトとの間をシールする非接触式シールとして、ドライガスシールが広く用いられている。その中でも、機内のプロセスガスが外部(大気)に漏れることはもちろん、シールガスが機内に漏れることも許容できない圧縮機においては、タンデム型ドライガスシールが好適に用いられている(例えば、特許文献1参照)。
タンデム型ドライガスシールは、機内側に配置された一次シール部と、大気側に配置された二次シール部とを有している。一般に、一次シール部には、一次シールガスとして圧縮機の吐出側からプロセスガスが供給され、二次シール部には、二次シールガスとして不活性ガス(例えば窒素)が供給される。機内のプロセスガスは、一次シールガスによって一次シール部への流れが遮断され、一次シールガスとしてのプロセスガスは、二次シールガスによって二次シール部への流れが遮断される。一方、二次シールガスとしての不活性ガスは、一次シールガスによって一次シール部への流れが遮断される。こうして、プロセスガスが外部(大気)に漏れることが抑制されるとともに、不活性ガスが機内に漏れることが抑制される。なお、一次シールガスは、一次シール部よりも機内側に配置されたカーボンリングシールまたはラビリンスシールを通じて、わずかな量が機内に漏洩するが、一次シールガスとして圧縮機の吐出側から供給されるプロセスガスが用いられることで、そのような漏れが問題になることはない。
特開2013−210099号公報
通常、一次シールガスとしてのプロセスガスの供給は、圧縮機の吐出側に接続された一次シールガス供給配管を通じて行われるが、一次シールガス供給配管には、フィルタやバルブなどが設置されているため、圧力損失が発生する。したがって、一次シールガスの供給に必要な流量を確保するためには、機内側と吐出側との間に一定以上の差圧が必要になるが、圧縮比が比較的小さい圧縮機では、その差圧が十分でなく、一次シールガスの供給に必要な流量を確保できないおそれがある。そのため、そのような圧縮機では、タンデム型ドライガスシールを採用することができないのが現状である。
そこで、本発明の目的は、圧縮比が比較的小さい圧縮機においても、タンデム型ドライガスシールを採用可能にするシールガス供給システムおよびシールガス供給方法を提供することである。
上述した目的を達成するために、本発明のシールガス供給システムは、圧縮機のドライガスシールにシールガスを供給するシールガス供給システムであって、圧縮機から吐出される圧縮ガスと実質的に同じ組成の液体を貯留する貯留槽と、貯留槽に貯留された液体を抜き出して昇圧する昇圧装置と、昇圧装置で昇圧された液体を気化させてシールガスを生成する気化装置と、を有している。
また、本発明のシールガス供給方法は、圧縮機のドライガスシールにシールガスを供給するシールガス供給方法であって、圧縮機から吐出される圧縮ガスと実質的に同じ組成の液体を用意する工程と、用意した液体を昇圧する工程と、昇圧された液体を気化させてシールガスを生成する工程と、を含んでいる。
このようなシールガス供給システムおよびシールガス供給方法によれば、圧縮機の圧縮比にかかわらず、圧縮機から吐出される圧縮ガス(プロセスガス)と実質的に同じ組成のシールガスを十分な流量で圧縮機に供給することができる。
以上、本発明によれば、圧縮比が比較的小さい圧縮機においても、タンデム型ドライガスシールを採用することが可能になる。
本発明の一実施形態に係る熱交換型蒸留装置の概略構成図である。
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。本明細書では、熱交換型蒸留装置に設けられた圧縮機に本発明を適用した実施形態について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、ここでいう「圧縮機」とは、羽根車またはロータの回転運動によって気体を圧送する機械であって、有効吐出し圧力が200kPa以下のブロワを含むことを意味する。
図1は、本発明の一実施形態に係る熱交換型蒸留装置の概略構成図である。なお、図示した構成は、あくまで一例であり、例えば、熱移動システムの設置数、熱交換器や配管の設置位置、原料供給位置などは、装置の使用目的や用途、要求性能に応じて適宜変更可能である。
本実施形態の熱交換型蒸留装置10は、高圧塔1と、高圧塔1の上方に配置された低圧塔2とを有している。高圧塔1は、塔底部1aと、第1の濃縮部として利用される棚段塔部1bと、塔頂部1cとを有している。低圧塔2は、塔底部2aと、回収部として利用される棚段塔部2bと、第2の濃縮部として利用される棚段塔部2cと、塔頂部2dとを有している。低圧塔2の、回収部として利用される棚段塔部2bと第2の濃縮部として利用される棚段塔部2cとの間に、原料を供給する原料供給配管P1が接続されている。したがって、第2の濃縮部として利用される棚段塔部2cは、原料が供給される原料供給段2eを挟んで回収部として利用される棚段塔部2bの上方に位置している。高圧塔1の棚段塔部1b、および低圧塔の棚段塔部2b,2cは、それぞれ充填塔部で代用可能である。
棚段塔部は、塔内に水平な棚板(トレイ)がいくつも設置された塔である。それぞれの棚板間の空間を段という。各段では、気液接触が促進され、物質移動が行われる。その結果、より揮発性の高い成分に富んだ気相は上の段に送られ、より揮発性の低い成分に富んだ液相は下の段へ流れ落ち、そこでまた新たな液相または気相との気液接触が行われ、物質移動が行われる。こうして、塔の上部の段ほど揮発性の高い成分に富み、下部の段ほど揮発性の低い成分に富むことになり、蒸留操作が行われる。一方、充填塔部は、中空の塔内に何らかの充填物が充填され、その表面で気液接触が行われる塔である。棚段塔部と同じ機構により、塔の上部の段ほど揮発性の高い成分に富み、下部の段ほど揮発性の低い成分に富むことになり、蒸留操作が行われる。
以下、高圧塔1の、第1の濃縮部として利用される棚段塔部(または充填塔部)1bを、単に「第1の濃縮部」ともいう。また、低圧塔2の、回収部として利用される棚段塔部(または充填塔部)2bを、単に「回収部」ともいい、第2の濃縮部として利用される棚段塔部(または充填塔部)2cを、単に「第2の濃縮部」ともいう。
本実施形態では、第2の濃縮部2cを高圧塔1の圧力より低い低圧塔2の圧力下で動作させることができる。そのため、第2の濃縮部2cにおける相対揮発度が大きくなることになり、もともと分離操作に必要なエネルギー(熱量)そのものを減らすことができる。
また、本実施形態の熱交換型蒸留装置10は、リボイラー3と、圧縮機4と、送出ポンプ5と、コンデンサー6と、2つの熱交換器7,8とを有している。
リボイラー3は、低圧塔2の塔底部2aの外側、具体的には、塔底部2aの最底部に接続された配管P2から分岐して塔底部2aの空間上部に接続された配管P3上に設けられている。リボイラー3は、低圧塔2の塔底液(回収部2bを流下して塔底部2aに溜まった液体)を加熱する機能を有している。したがって、低圧塔2の塔底液の一部は、リボイラー3で加熱されて蒸気になり、低圧塔2の塔頂に向かって上昇する。また、塔底部2aの最底部からは、配管P2を通じて、揮発性の低い成分に富んだ缶出液を得ることができる。
圧縮機4は、吸込側では、配管P4を介して低圧塔2の第2の濃縮部2cに接続され、吐出側では、配管P5を介して低圧塔2に設けられた第1の熱交換器7に接続されている。圧縮機4は、第2の濃縮部2cからの蒸気を圧縮し、昇圧および昇温した蒸気を第1の熱交換器7に送る機能を有している。
圧縮機4は、圧縮機4のケーシングとシャフト(共に図示せず)との間をシールする非接触式シールとして、タンデム型ドライガスシール(DGS)4aを備えている。DGS4aは、圧縮機において一般的に用いられているものであり、図面を用いた詳細な説明は省略するが、機内側に配置された一次シール部と、大気側に配置された二次シール部とを有している。DGS4aには、一次シール部に一次シールガスを供給する一次シールガス供給配管P6と、二次シール部に二次シールガスを供給する二次シールガス供給配管P7とが接続されている。本実施形態では、一次シール部には、一次シールガスとしてプロセスガスが供給され、二次シール部には、二次シールガスとして不活性ガス(例えば窒素)が供給される。圧縮機4のDGS4aに一次シールガスを供給するシールガス供給システムの詳細については後述する。
送出ポンプ5は、吸込側では、配管P8を介して高圧塔1の塔底部1aの最底部に接続され、吐出側では、配管P9を介して低圧塔2の第2の濃縮部2cに接続されている。送出ポンプ5は、高圧塔1の塔底部1aに溜まった液体(塔底液)を圧送して低圧塔2の第2の濃縮部2cに還流させる機能を有している。
コンデンサー6は、高圧塔1の塔頂部1cの外側、具体的には、塔頂部1cの空間上部に接続された配管P10上に設けられ、高圧塔1の塔頂部1cの蒸気を冷却する機能を有している。したがって、高圧塔1の塔頂部1cに移動した蒸気は、コンデンサー6で冷却されて液体になり、その一部は、揮発性の高い成分に富んだ留出液として得られ、残りは、必要に応じて塔頂部1cに還流される。
第1の熱交換器7は、低圧塔2の回収部2b、具体的には、回収部2bのうち塔底部2aの直近に設けられた液溜め部2f内に配置されている。液溜め部2fは、原料供給段2eから回収部2bを通って流下する原料液を液溜め用棚板11によって所定量貯留し、液溜め用棚板11からあふれた液体を下方に落下させるものである。第1の熱交換器7は、チューブバンドル型の熱交換器であり、U字形チューブが液溜め部2fに貯留された液体に浸漬されるように、液溜め部2f内に配置されている。第1の熱交換器7のU字形チューブは、液溜め用棚板11に沿って配置された平行なチューブ部分7a,7bを有している。下側チューブ部分7aは、配管P11を介して高圧塔1の塔底部1aに接続され、上側チューブ部分7bは、配管P5を介して圧縮機4の吐出側に接続されている。
第1の熱交換器7の作用は、以下の通りである。第1の熱交換器7のU字形チューブは、低圧塔2の原料供給段2eから流下して液溜め部2fに貯留された原料液に浸漬されている。この状態で、U字形チューブの上側チューブ部分7bには、配管P5を通じて圧縮機4による高温蒸気が導入される。この高温蒸気は、上側チューブ部分7bから下側チューブ部分7aへと移動するが、液溜め部2fに貯留されてチューブ部分7b,7aの外壁と接している液体の一部は加熱され、蒸気となって上昇する。なお、蒸気とならずに残った液体は、出口堰を越えて流下する。一方、第1の熱交換器7に導入された高温蒸気は、上側チューブ部分7bから下側チューブ部分7aに移動するにつれて、その一部または全部が凝縮されて気相から液相に変化する。こうして液相と気相が混在した流体は、配管P11を通じて高圧塔1の塔底部1aに導入され、蒸気は上昇し、液体は流下する。
このように、第1の熱交換器7と配管P5,P11によって、低圧塔2の回収部2bに熱を付与することができ、高圧塔2の下部に導入すべき流体を冷やすこともできる。したがって、第1の熱交換器7は、配管P5,P11と共に、第1の熱移動システム(サイド熱交換部)を構成する。第1の熱移動システムは、低圧塔2の回収部2bにサイドリボイラーが設置され、高圧塔1の下部の段(最下段)にサイドコンデンサーが設置されているのと同様の効果をもたらすことができる。そのため、このような第1の熱移動システムを備えていない蒸留装置と比べて、高圧塔1のコンデンサー6の除熱量を小さくすることができ、低圧塔2のリボイラー3の入熱量も小さくすることができる。
また、第1の熱移動システムは、低圧塔2の回収部2bと高圧塔1の下部の間で熱交換を可能にするために、圧縮機4からの高圧蒸気を低圧塔2内の第1の熱交換器7に直接導入し、第1の熱交換器7で凝縮された流体を高圧塔1内に送り込むように構成されている。このような構成では、低圧塔2から高圧塔1への液移送に液ヘッド(水頭差)を必要としないため、そのような液ヘッド(水頭差)を必要とする蒸留装置と比べて、省エネルギー性を向上させることができる。
第2の熱交換器8は、高圧塔1の第1の濃縮部1bの所定の段、すなわち、配管P11が接続された位置よりも上の段に配置されている。第2の熱交換器8は、チューブバンドル型の熱交換器であり、そのU字形チューブは、平行なチューブ部分8a,8bを有している。平行なチューブ部分8a,8bは、凝縮した液体を一時的に溜めるとともに下方から上昇する蒸気を整流する液溜め用棚板12に沿って配置されている。下側チューブ部分8aは、配管P12を介して低圧塔2の液抜き部2gに接続され、上側チューブ部分8bは、配管P13を介して液抜き部2gの直下の段に接続されている。液抜き部2gは、低圧塔2の回収部2bのうち液溜め部2f(すなわち第1の熱交換器7)よりも上の段に設けられている。液抜き部2gは、上方から流下する液体を液溜め用棚板13によって貯留し、配管P12を通じてその一部を低圧塔2の外部に抜き出すためのものである。液抜き部2gの直下の段には、上述したように、低圧塔2の外壁を貫通して配管P13が挿入されている。
第2の熱交換器8の作用は、以下の通りである。第2の熱交換器8のU字形チューブは、配管P11を通じて高圧塔1の塔底部1aに導入された流体のうち、第1の濃縮部1bを通って上昇する蒸気と接触する。このとき、U字形チューブの下側チューブ部分8aには、配管P12を通じて、低圧塔2の液抜き部2gから抜き出された液体が導入されている。このため、下側チューブ部分8a内の液体が蒸気で加熱されるとともに、このチューブ部分8aに接触した蒸気の一部は液体となって流下する。さらに、上側チューブ部分8bも蒸気で加熱されているため、配管P12を通じて第2の熱交換器8に導入された液体は、下側チューブ部分8aから上側チューブ部分8bを移動するにつれて、液相と気相が混在した流体に変化する。この流体は、配管P13を通じて、低圧塔2の液抜き部2gの直下の段に導入され、蒸気は上昇し、液体は流下する。
このように、第2の熱交換器8と配管P12,P13によって、高圧塔1内の蒸気の熱を奪い、この熱を低圧塔2に移動させることができる。したがって、第2の熱交換器8は、配管P12,P13と共に、第2の熱移動システム(サイド熱交換部)を構成する。第2の熱移動システムは、高圧塔1の第1の濃縮部1bにサイドコンデンサーが設置され、低圧塔2の回収部2bにサイドリボイラーが設置されているのと同様の効果をもたらすことができる。したがって、このような第2の熱移動システムを備えていない蒸留装置と比べて、高圧塔1のコンデンサー6の除熱量を小さくすることができ、低圧塔2のリボイラー3の入熱量も小さくすることができる。
なお、第2の熱交換器8と配管P12,P13による高圧塔1と低圧塔2との間での流体循環は、上述した構成では、サーモサイフォン効果を利用しているため、ポンプなどの圧送手段を必要としない。すなわち、低圧塔2の液抜き部2gから抜き出した液体は、重力により高圧塔1に移動し、高圧塔1の第2の熱交換器8を通過した流体は、サーモサイフォン効果により低圧塔2へと移動することになる。
ところで、圧縮機4のDGS4aに一次シールガスとしてプロセスガスを供給する場合、圧縮機4の吐出側に接続された配管P5とDGS4aとを接続し、圧縮機4から吐出される圧縮ガスを直接導入することが考えられる。しかしながら、本実施形態の熱交換型蒸留装置10では、プロセス条件を適切に設定した結果、圧縮比が比較的小さい圧縮機4を選定する場合があり、その場合、機内側と吐出側との間に発生する差圧が十分でないことがある。したがって、配管P5とDGS4aとを接続する配管に生じる圧力損失を考慮すると、圧縮機4から吐出される圧縮ガスを一次シールガスとしてDGS4aに直接導入しようとしても、十分な流量を確保できないおそれがある。
そこで、本実施形態の熱交換型蒸留装置10は、高圧塔1の塔底部1aから低圧塔2の第2の濃縮部2cに圧送される液体の一部を気化させてシールガスとして利用するための気化装置9を有している。換言すると、気化装置9は、第1の熱交換器7と、高圧塔1と、送出ポンプ5と共に、圧縮機4のDGS4aにシールガス(一次シールガス)を供給するシールガス供給システムを構成する。
気化装置9は、入口側では、配管P14を介して、送出ポンプ5と低圧塔2の第2の濃縮部2cとを接続する配管P9に接続され、出口側では、一次シールガス供給配管P6を介して、圧縮機4のDGS4a、具体的には、DGS4aの一次シール部に接続されている。気化装置9としては、その構成に特に制限はなく、液体を気化させるために一般的に用いられるものを使用することができる。
本実施形態のシールガス供給システムの動作は、以下の通りである。圧縮機4から吐出された圧縮ガスは、配管P5を通じて第1の熱交換器(液化装置)7に供給され、第1の熱交換器7で一部が液化される。こうして液化された圧縮ガス(第1の熱交換器7で生成された液体)は、配管P11を通じて高圧塔1の塔底部1aに導入されて貯留される。すなわち、高圧塔(貯留槽)1には、圧縮機4から吐出された圧縮ガスと実質的に同じ組成の液体が貯留される。この液体は、送出ポンプ(昇圧装置)5によって抜き出されて昇圧され、その大部分が、配管P9を通じて低圧塔2の第2の濃縮部2cに還流されるが、一部は、配管P14を通じて気化装置9に供給される。気化装置9は、送出ポンプ5で昇圧された液体を気化させてシールガス(一次シールガス)を生成する。こうして生成された一次シールガスは、一次シールガス供給配管P6を通じて、圧縮機4のDGS4aに供給される。
ここで、圧縮機4に供給される一次シールガスの供給圧力は、送出ポンプ5の吐出圧力によって左右されるが、その吐出圧力は、一次シールガス供給配管P6に発生する圧力損失を考慮しても十分な流量を確保できる程度に、シールガスの供給圧力を大きくすることができる圧力である。このため、本実施形態のシールガス供給システムによれば、圧縮機4の圧縮比にかかわらず、圧縮機4から吐出される圧縮ガス(プロセスガス)と実質的に同じ組成の一次シールガスを十分な流量で圧縮機4に供給することができる。その結果、圧縮比が比較的小さい圧縮機4においても、タンデム型ドライガスシールを採用することが可能になる。
上述した実施形態では、本発明のシールガス供給システムが熱交換型蒸留装置に組み込まれている場合を例示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、本発明のシールガス供給システムは、圧縮機を有する他の装置に組み込まれていてもよく、あるいは、独立したシステムとして構成されていてもよい。このような場合、圧縮機から吐出される圧縮ガスと実質的に同じ組成の液体を別途用意できるのであれば、必ずしも圧縮機から吐出される圧縮ガスを液化するようになっていなくてもよい。すなわち、本発明のシールガス供給システムは、少なくとも、圧縮機から吐出される圧縮ガスと実質的に同じ組成の液体を貯留する貯留槽と、貯留槽に貯留された液体を抜き出して昇圧する昇圧装置と、昇圧装置で昇圧された液体を気化させてシールガスを生成する気化装置とを含んでいればよく、熱交換器などの液化装置を含んでいる必要はない。なお、ここでいう「実質的に同じ組成」とは、それぞれのガスを構成する成分が同じ種類であることを意味し、その成分比は異なっていてもよいことを意味する。
1 高圧塔
1a 塔底部
1b 第1の濃縮部(棚段塔部または充填塔部)
1c 塔頂部
2 低圧塔
2a 塔底部
2b 回収部(棚段塔部または充填塔部)
2c 第2の濃縮部(棚段塔部または充填塔部)
2d 塔頂部
2e 原料供給段
2f 液溜め部
2g 液抜き部
3 リボイラー
4 圧縮機
4a ドライガスシール(DGS)
5 送出ポンプ
6 コンデンサー
7 第1の熱交換器
7a 下側チューブ部分
7b 上側チューブ部分
8 第2の熱交換器
8a 下側チューブ部分
8b 上側チューブ部分
9 気化装置
10 熱交換型蒸留装置
11〜13 液溜め用棚板
P1〜P14 配管

Claims (6)

  1. 圧縮機のドライガスシールにシールガスを供給するシールガス供給システムであって、
    前記圧縮機から吐出される圧縮ガスと実質的に同じ組成の液体を貯留する貯留槽と、
    前記貯留槽に貯留された前記液体を抜き出して昇圧する昇圧装置と、
    前記昇圧装置で昇圧された前記液体を気化させて前記シールガスを生成する気化装置と、を有するシールガス供給システム。
  2. 前記圧縮機から吐出された圧縮ガスを液化して前記液体を生成する液化装置を有する、請求項1に記載のシールガス供給システム。
  3. 請求項2に記載のシールガス供給システムを含む熱交換型蒸留装置。
  4. 第1の濃縮部として利用される棚段塔部または充填塔部を有する高圧塔と、
    前記高圧塔の上方に配置された低圧塔であって、回収部として利用される棚段塔部または充填塔部と、原料が供給される原料供給段を挟んで前記回収部の上方に位置し、第2の濃縮部として利用される棚段塔部または充填塔部と、を有する低圧塔と、
    前記高圧塔の塔底部に溜まった液体を前記第2の濃縮部に圧送する送出ポンプと、
    前記第2の濃縮部からの蒸気を圧縮する前記圧縮機と、
    前記低圧塔の前記回収部に配置され、前記圧縮機から吐出される圧縮ガスの一部または全部を液化して前記高圧塔の塔底部に送る熱交換器と、
    前記送出ポンプによって圧送される前記液体の一部を気化させて前記シールガスを生成する前記気化装置と、を有し、
    前記高圧塔が、前記シールガス供給システムの前記貯留槽として機能し、前記送出ポンプが、前記シールガス供給システムの前記昇圧装置として機能し、前記熱交換器が、前記シールガス供給システムの前記液化装置として機能する、請求項3に記載の熱交換型蒸留装置。
  5. 圧縮機のドライガスシールにシールガスを供給するシールガス供給方法であって、
    前記圧縮機から吐出される圧縮ガスと実質的に同じ組成の液体を用意する工程と、
    前記用意した液体を昇圧する工程と、
    前記昇圧された液体を気化させて前記シールガスを生成する工程と、を含むシールガス供給方法。
  6. 前記液体を用意する工程が、前記圧縮機から吐出された圧縮ガスを液化して前記液体を生成することを含む、請求項5に記載のシールガス供給方法。
JP2017197561A 2017-10-11 2017-10-11 シールガス供給システムおよびシールガス供給方法 Pending JP2019070425A (ja)

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