JP2019043849A - パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法 - Google Patents
パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019043849A JP2019043849A JP2017164450A JP2017164450A JP2019043849A JP 2019043849 A JP2019043849 A JP 2019043849A JP 2017164450 A JP2017164450 A JP 2017164450A JP 2017164450 A JP2017164450 A JP 2017164450A JP 2019043849 A JP2019043849 A JP 2019043849A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- salt
- organic base
- hydroxide
- fluoride
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 title claims abstract description 65
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 claims abstract description 45
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- -1 ammonium halide Chemical class 0.000 claims abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 33
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 16
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 37
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 32
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 26
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 26
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 24
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 21
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 16
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 16
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 13
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 12
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims description 11
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 11
- PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 1-methylpiperidine Chemical compound CN1CCCCC1 PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- BWZVCCNYKMEVEX-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-Trimethylpyridine Chemical compound CC1=CC(C)=NC(C)=C1 BWZVCCNYKMEVEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 9
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 8
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 8
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 7
- AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrolidine Chemical compound CN1CCCC1 AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 claims description 6
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 5
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 claims description 5
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 5
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 5
- SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-non-5-ene Chemical compound C1CCN=C2CCCN21 SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JUXXCHAGQCBNTI-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n,2-n,2-n-tetramethylpropane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)C(C)CN(C)C JUXXCHAGQCBNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylcyclohexylamine Chemical compound CN(C)C1CCCCC1 SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L barium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ba+2] OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 4
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- FVRNDBHWWSPNOM-UHFFFAOYSA-L strontium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Sr+2] FVRNDBHWWSPNOM-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 229910001637 strontium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 claims description 3
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 claims description 3
- QVCUKHQDEZNNOC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diazabicyclo[2.2.2]octane Chemical group C1CC2CCN1NC2 QVCUKHQDEZNNOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 claims description 2
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 claims description 2
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 claims description 2
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 14
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- SLVAEVYIJHDKRO-UHFFFAOYSA-N trifluoromethanesulfonyl fluoride Chemical compound FC(F)(F)S(F)(=O)=O SLVAEVYIJHDKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- FGDZQCVHDSGLHJ-UHFFFAOYSA-M rubidium chloride Chemical compound [Cl-].[Rb+] FGDZQCVHDSGLHJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M rubidium hydroxide Chemical compound [OH-].[Rb+] CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M caesium chloride Chemical compound [Cl-].[Cs+] AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- JAAGVIUFBAHDMA-UHFFFAOYSA-M rubidium bromide Chemical compound [Br-].[Rb+] JAAGVIUFBAHDMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229940102127 rubidium chloride Drugs 0.000 description 4
- WFUBYPSJBBQSOU-UHFFFAOYSA-M rubidium iodide Chemical compound [Rb+].[I-] WFUBYPSJBBQSOU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 4
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 4
- GRGCWBWNLSTIEN-UHFFFAOYSA-N trifluoromethanesulfonyl chloride Chemical compound FC(F)(F)S(Cl)(=O)=O GRGCWBWNLSTIEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 4
- VQHMMOSXFHZLPI-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoroethanesulfonyl chloride Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)S(Cl)(=O)=O VQHMMOSXFHZLPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JUZCVRZJGRPWJZ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoroethanesulfonyl fluoride Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)S(F)(=O)=O JUZCVRZJGRPWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFKBCIMLPVZLAO-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoroethanesulfonyl iodide Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)S(I)(=O)=O LFKBCIMLPVZLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- LYQFWZFBNBDLEO-UHFFFAOYSA-M caesium bromide Chemical compound [Br-].[Cs+] LYQFWZFBNBDLEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- IMNIECVIVJOTBH-UHFFFAOYSA-N trifluoromethanesulfonyl bromide Chemical compound FC(F)(F)S(Br)(=O)=O IMNIECVIVJOTBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BSRHWVYDTOKOQO-UHFFFAOYSA-N trifluoromethanesulfonyl iodide Chemical compound FC(F)(F)S(I)(=O)=O BSRHWVYDTOKOQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QQXQHCDPTVLMOO-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoroethanesulfonyl bromide Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)S(Br)(=O)=O QQXQHCDPTVLMOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYCUNTGQPFIWIO-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropane-1-sulfonyl bromide Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)S(Br)(=O)=O FYCUNTGQPFIWIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GCDXWZPDZBWMJA-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropane-1-sulfonyl fluoride Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)S(F)(=O)=O GCDXWZPDZBWMJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CKGXOJLVPKPGQU-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropane-1-sulfonyl iodide Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)S(I)(=O)=O CKGXOJLVPKPGQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXYPXQSKLGGKOL-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethylpiperazine Chemical compound CN1CCN(C)CC1 RXYPXQSKLGGKOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(2-fluorophenyl)ethanol Chemical compound NCC(O)C1=CC=CC=C1F MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical compound N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100496858 Mus musculus Colec12 gene Proteins 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RFFFKMOABOFIDF-UHFFFAOYSA-N Pentanenitrile Chemical compound CCCCC#N RFFFKMOABOFIDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L barium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ba+2] WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001626 barium chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M caesium iodide Chemical compound [I-].[Cs+] XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 2
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N isobutyronitrile Chemical compound CC(C)C#N LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L magnesium bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[Br-] OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001623 magnesium bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 2
- RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N phenanthridine Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=NC2=C1 RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L strontium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Sr+2] UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001866 strontium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWCSMYKERWVIQD-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethyl-2h-pyridin-1-ium-4-amine Chemical class C[N+]1(C)CC=C(N)C=C1 OWCSMYKERWVIQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTTATHOUSOIFOQ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6,7,8,8a-octahydropyrrolo[1,2-a]pyrazine Chemical compound C1NCCN2CCCC21 FTTATHOUSOIFOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1C GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 1H-indazole Chemical compound C1=CC=C2C=NNC2=C1 BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWKQJZCTQGMHKD-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylpyridine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=N1 UWKQJZCTQGMHKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYOPLBUKBYKFGV-UHFFFAOYSA-N 2,7-dimethyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC(C)=CC=C3C=CC2=C1C IYOPLBUKBYKFGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(CC=2C(=CC=C(C)C=2)O)=C1 XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTEXIOINCJRBIO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(dimethylamino)ethoxy]-n,n-dimethylethanamine Chemical compound CN(C)CCOCCN(C)C GTEXIOINCJRBIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGHKTFCBPXFFGE-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-imidazol-2-yl)-n,n-dimethylpropan-1-amine Chemical compound CN(C)CCCC1=NC=CN1 AGHKTFCBPXFFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=NC2=C1C=CC1=C(C=3C=CC=CC=3)C=CN=C21 DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 4-ethylmorpholine Chemical compound CCN1CCOCC1 HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBPGPQJFYXNFKN-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-(4-methylpyridin-2-yl)pyridine Chemical group CC1=CC=NC(C=2N=CC=C(C)C=2)=C1 NBPGPQJFYXNFKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXMSMRJQZMTIMT-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2-(4-phenylpyridin-2-yl)pyridine Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=NC(C=2N=CC=C(C=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 OXMSMRJQZMTIMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRPQDJPJBCQFSR-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=C2C(C)=C(C)C3=CC=CN=C3C2=N1 BRPQDJPJBCQFSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTRATZCAGVBFIQ-UHFFFAOYSA-N Abametapir Chemical group N1=CC(C)=CC=C1C1=CC=C(C)C=N1 PTRATZCAGVBFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIXTWBKIZKHKKH-UHFFFAOYSA-N CN(C)CCOC(C)O.CNN(NC)CCC Chemical compound CN(C)CCOC(C)O.CNN(NC)CCC XIXTWBKIZKHKKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNMYWSMUMWPJLR-UHFFFAOYSA-L Calcium iodide Chemical compound [Ca+2].[I-].[I-] UNMYWSMUMWPJLR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N L-lysine Chemical compound NCCCC[C@H](N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVRCCLWFUKOWFE-UHFFFAOYSA-L [F-].[Mg+2].[Cl-].[K+] Chemical compound [F-].[Mg+2].[Cl-].[K+] BVRCCLWFUKOWFE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZVAKTWSQIIRIIH-UHFFFAOYSA-N [K].[I] Chemical compound [K].[I] ZVAKTWSQIIRIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000005325 alkali earth metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001515 alkali metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229940107816 ammonium iodide Drugs 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- NKQIMNKPSDEDMO-UHFFFAOYSA-L barium bromide Chemical compound [Br-].[Br-].[Ba+2] NKQIMNKPSDEDMO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SGUXGJPBTNFBAD-UHFFFAOYSA-L barium iodide Chemical compound [I-].[I-].[Ba+2] SGUXGJPBTNFBAD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L calcium dibromide Chemical compound [Ca+2].[Br-].[Br-] WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001640 calcium iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940046413 calcium iodide Drugs 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- MYWGVEGHKGKUMM-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;ethene Chemical compound C=C.C=C.OC(O)=O MYWGVEGHKGKUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCZVZNOTHYJIEI-UHFFFAOYSA-N cinnoline Chemical compound N1=NC=CC2=CC=CC=C21 WCZVZNOTHYJIEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- PQVSTLUFSYVLTO-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethoxycarbonylcarbamate Chemical compound CCOC(=O)NC(=O)OCC PQVSTLUFSYVLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007701 flash-distillation Methods 0.000 description 1
- JKFAIQOWCVVSKC-UHFFFAOYSA-N furazan Chemical compound C=1C=NON=1 JKFAIQOWCVVSKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hcl hcl Chemical compound Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 description 1
- ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N isothiazole Chemical compound C=1C=NSC=1 ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N isoxazole Chemical compound C=1C=NOC=1 CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940040692 lithium hydroxide monohydrate Drugs 0.000 description 1
- GLXDVVHUTZTUQK-UHFFFAOYSA-M lithium hydroxide monohydrate Substances [Li+].O.[OH-] GLXDVVHUTZTUQK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M lithium iodide Chemical compound [Li+].[I-] HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L magnesium iodide Chemical compound [Mg+2].[I-].[I-] BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- DTKANQSCBACEPK-UHFFFAOYSA-N n',n'-bis[3-(dimethylamino)propyl]-n,n-dimethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CN(C)CCCN(CCCN(C)C)CCCN(C)C DTKANQSCBACEPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- LUYQYZLEHLTPBH-UHFFFAOYSA-N perfluorobutanesulfonyl fluoride Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)S(F)(=O)=O LUYQYZLEHLTPBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 1
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPNGPNLZQNNVQM-UHFFFAOYSA-N pteridine Chemical compound N1=CN=CC2=NC=CN=C21 CPNGPNLZQNNVQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYTKGVODDQJIBU-UHFFFAOYSA-N pyrazine;quinoline Chemical compound C1=CN=CC=N1.N1=CC=CC2=CC=CC=C21 LYTKGVODDQJIBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N quinazoline Chemical compound N1=CN=CC2=CC=CC=C21 JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- AHLATJUETSFVIM-UHFFFAOYSA-M rubidium fluoride Chemical compound [F-].[Rb+] AHLATJUETSFVIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- YJPVTCSBVRMESK-UHFFFAOYSA-L strontium bromide Chemical compound [Br-].[Br-].[Sr+2] YJPVTCSBVRMESK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001631 strontium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- AHBGXTDRMVNFER-UHFFFAOYSA-L strontium dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sr+2] AHBGXTDRMVNFER-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KRIJWFBRWPCESA-UHFFFAOYSA-L strontium iodide Chemical compound [Sr+2].[I-].[I-] KRIJWFBRWPCESA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010888 waste organic solvent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/36—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids
- C07C303/38—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids by reaction of ammonia or amines with sulfonic acids, or with esters, anhydrides, or halides thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C303/44—Separation; Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/48—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of sulfonamide groups further bound to another hetero atom
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
【課題】
パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】
パーフルオロアルカンスルホニルハライドに、有機塩基と、アンモニアまたはハロゲン化アンモニウムとを反応させることにより、「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を含む混合物を得(第1工程)、続いて混合物に対し水を添加することにより、該「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を結晶として析出させ、続いてろ別を行い(第2工程)、続いて該「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」に、溶媒中、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物等を反応させた後、得られた混合液から不溶物をろ別後、濃縮する(第3工程)ことにより、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を製造する。
【選択図】なし
パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】
パーフルオロアルカンスルホニルハライドに、有機塩基と、アンモニアまたはハロゲン化アンモニウムとを反応させることにより、「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を含む混合物を得(第1工程)、続いて混合物に対し水を添加することにより、該「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を結晶として析出させ、続いてろ別を行い(第2工程)、続いて該「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」に、溶媒中、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物等を反応させた後、得られた混合液から不溶物をろ別後、濃縮する(第3工程)ことにより、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を製造する。
【選択図】なし
Description
本発明は、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法に関する。
パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩は電池電解質溶媒やイオン液体、帯電防止剤としても有用な化合物である。パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸化合物の製造方法として、非特許文献1や2に、パーフルオロアルキルスルホニルフルオリドとトリメチルシリル基含有パーフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩を反応させて、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸を得る製造法が開示されている。
さらに、非特許文献3に、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸リチウム塩等の製造方法として、トリフルオロメタンスルホニルフルオリドに、トリエチルアミンと、アンモニアとを反応させる方法が開示されている。
一方、特許文献1、特許文献2及び特許文献3に、トリフルオロメタンスルホニルクロリドまたはトリフルオロメタンスルホニルフルオリドと、アンモニアと、第3級アミンもしくは複素環式アミンとを反応させて製造する方法が開示されている。また、特許文献4にスルホンイミド酸に第3級アミンもしくは複素環式アミンとの塩をアルカリ金属の水酸化物水溶液中で反応させてアミンを遊離させた後、スルホンイミドのアルカリ金属塩を晶析させ、分離精製することによりパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を得る方法が、特許文献5にトリフルオロメタンスルホニルフルオリドと、無水アンモニアと、フッ化カリウムとを反応させることでパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を製造する方法が開示されている。
さらに、特許文献6に、含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法として、パーフルオロアルカンスルホニルフルオリドとアンモニアとを反応させて反応液を得た後、該反応液にアルカリ金属水酸化物等のアルカリ金属化合物とを反応させ、続いてパーフルオロアルカンスルホニルハライドとを反応させることにより製造する方法も開示されている。
Inorganic Chemistry, 23(23), 3720−3723頁(1984年)
Inorganic Chemistry, 32(23), 5007−5010頁(1993年)
Journal of Fluorine Chemistry,125,243−252(2004年)
非特許文献1や2に記載の方法は、反応工程が多く、また、ヘキサメチルジシラザンのような高価な化合物を使用しなければならないため、工業的に量産を行うには不利である。非特許文献3に記載の方法は、副生成物の少ない、パーフルオロアルカンスルホニルイミドリチウム塩の効率的な製造方法ではあるが、精製時にベンゼンを用いて蒸留している為、工業的に採用するには難があった。
一方、特許文献1に記載の方法は、アルカリ金属フッ化物を多量に添加する必要がある。更に、これら以外の従来の方法においても、パーフルオロアルカンスルホニルイミドリチウム塩を収率良く得ることが出来ず、反応で得られたスルホンイミド化合物をアミン塩、カリウム塩、ナトリウム塩で単離した後に、硫酸などの強酸でスルホンイミド酸へと誘導し、水酸化リチウム(LiOH)や炭酸リチウム(Li2CO3)で中和してスルホンイミドリチウム塩を得る必要があった。そのため、工程が多くなり廃棄物が多量となるという課題があった。
本発明は、従来例で知られている方法よりも廃棄物が少なく、高純度、かつ効率的なパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を製造する方法を提供することを課題とする。
そこで本発明者らは、上記課題に鑑み、鋭意検討したところ、パーフルオロアルカンスルホニルハライドに、N,N−ジメチルアミノピリジン等の特定の有機塩基の存在下、アンモニア(NH3)等を反応させることで、形成される「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」が結晶となる知見を得た。そこで、この性質を利用することとした。すなわち、前記反応により得られた反応終了後の反応液に対し、水を加えることにより「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を結晶として析出させた後、ろ別操作を行い溶解している不純物を除去し、得られた該結晶に対し金属ハロゲン化物もしくは金属水酸化物との反応を行うことで、従来の製造方法と比べて廃棄物の少ない、かつ、高純度のパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を効率的に製造する方法を見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下の[発明1]−[発明7]に記載する発明を提供する。
[発明1]
式[1]:
[発明1]
式[1]:
[式中、Rfはそれぞれ独立に、炭素数1〜6の直鎖または炭素数3〜6の分岐鎖のパーフルオロアルキル基を表し、Mはアルカリ金属又はアルカリ土類金属を表す。nは該当する金属の価数と同数の整数を示す。]
で表されるパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法において、以下の工程を含むことを特徴とする、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法。
[第1工程]
式[2]:
で表されるパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法において、以下の工程を含むことを特徴とする、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法。
[第1工程]
式[2]:
[式中、Rfは炭素数1〜6の直鎖または炭素数3〜6の分岐鎖のパーフルオロアルキル基を表し、Xはハロゲン原子を表す]
で表されるパーフルオロアルカンスルホニルハライドに、下記式:
で表されるパーフルオロアルカンスルホニルハライドに、下記式:
[式中、R1、R2は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8の直鎖もしくは炭素数3〜8の分岐鎖のアルキル基を表す。R3は、炭素数1〜8の直鎖もしくは炭素数3〜8の分岐鎖のアルキル基、または炭素数3〜8の環状のアルキル基を表す。ここで、前記R3における炭素数1〜8の直鎖もしくは炭素数3〜8の分岐鎖のアルキル基は、該アルキル基の少なくとも1つの水素原子が置換基により置換され、該置換基はハロゲン(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、アルキルアミノ基(−NR4R5;R4、R5は、それぞれ独立に炭素数1〜6の直鎖又は炭素数3〜6の分岐鎖のアルキル基を表す。)、アルコキシ基(炭素数1〜6の直鎖もしくは炭素数3〜6の分岐鎖のアルキルオキシ基)、アリール基またはヒドロキシル基である。]
で表されるアミン、
複素環式化合物、
及び下記骨格:
で表されるアミン、
複素環式化合物、
及び下記骨格:
[式中、「−C」または「−C−」における「−」は結合手を表す。]
を有するイミン系塩基、
から選ばれる有機塩基の存在下、アンモニアもしくはハロゲン化アンモニウムを反応させることにより、
「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」と、
「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」とを含む混合物を得る工程。
[第2工程]
第1工程で得られた前記「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」と前記「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」とを含む混合物に対し、水を添加することにより、該「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を結晶として析出させ、続いてろ別を行うことにより、該混合物に含まれる「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」を分離除去し、該「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を得る工程。
[第3工程]
第2工程で得られた「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」に、溶媒中、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のハロゲン化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物を反応させ、式[1]で表されるパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩と不溶物を含む反応混合液を得、続いて該反応混合液から不溶物をろ別した後、該混合液を濃縮することにより、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を得る工程。
[発明2]
第1工程で用いるアミンが、N−ベンジルジメチルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルプロピレンジアミンまたはN,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリンである、発明1に記載の製造方法。
[発明3]
第1工程で用いる複素環式化合物が、N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジン、2,4,6−トリメチルピリジンまたは4−ジメチルアミノピリジンである、発明1に記載の製造方法。
[発明4]
第1工程で用いるイミン系塩基が、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エンまたは1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンである、発明1に記載の製造方法。
[発明5]
第1工程において、溶媒を用いて反応を行い、続く第2工程において、水の添加を行う前に濃縮して溶媒を留去する工程を更に含む、発明1乃至4の何れかに記載の製造方法。
[発明6]
第3工程で用いるアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のハロゲン化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物が、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化ストロンチウム、塩化マグネシウム、塩化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウムまたは水酸化カルシウムである、発明1乃至5の何れかに記載の製造方法。
[発明7]
第3工程において、アルカリ金属のハロゲン化物もしくは水酸化物を反応させる際に用いる溶媒が、エステル類、アミド類またはニトリル類である、発明1乃至6の何れかに記載の製造方法。
を有するイミン系塩基、
から選ばれる有機塩基の存在下、アンモニアもしくはハロゲン化アンモニウムを反応させることにより、
「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」と、
「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」とを含む混合物を得る工程。
[第2工程]
第1工程で得られた前記「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」と前記「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」とを含む混合物に対し、水を添加することにより、該「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を結晶として析出させ、続いてろ別を行うことにより、該混合物に含まれる「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」を分離除去し、該「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を得る工程。
[第3工程]
第2工程で得られた「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」に、溶媒中、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のハロゲン化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物を反応させ、式[1]で表されるパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩と不溶物を含む反応混合液を得、続いて該反応混合液から不溶物をろ別した後、該混合液を濃縮することにより、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を得る工程。
[発明2]
第1工程で用いるアミンが、N−ベンジルジメチルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルプロピレンジアミンまたはN,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリンである、発明1に記載の製造方法。
[発明3]
第1工程で用いる複素環式化合物が、N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジン、2,4,6−トリメチルピリジンまたは4−ジメチルアミノピリジンである、発明1に記載の製造方法。
[発明4]
第1工程で用いるイミン系塩基が、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エンまたは1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンである、発明1に記載の製造方法。
[発明5]
第1工程において、溶媒を用いて反応を行い、続く第2工程において、水の添加を行う前に濃縮して溶媒を留去する工程を更に含む、発明1乃至4の何れかに記載の製造方法。
[発明6]
第3工程で用いるアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のハロゲン化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物が、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化ストロンチウム、塩化マグネシウム、塩化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウムまたは水酸化カルシウムである、発明1乃至5の何れかに記載の製造方法。
[発明7]
第3工程において、アルカリ金属のハロゲン化物もしくは水酸化物を反応させる際に用いる溶媒が、エステル類、アミド類またはニトリル類である、発明1乃至6の何れかに記載の製造方法。
本発明における製造方法は、廃棄物の少ない、高純度のパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を効率的に製造できるという効果を奏する。
以下、本発明を詳細に説明する。以下、本発明の実施態様について説明するが、本発明は以下の実施の態様に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、適宜実施することができる。
以下、詳細に説明する。
[第1工程]
まず、第1工程について説明する。第1工程は、パーフルオロアルカンスルホニルハライドに、アミン、複素環式化合物及びイミン系塩基から選ばれる有機塩基の存在下、アンモニアまたはハロゲン化アンモニウムを反応させることにより、「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」と、「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」とを含む混合物を得る工程である(スキーム1;各反応試剤の定義は後述する)。
以下、詳細に説明する。
[第1工程]
まず、第1工程について説明する。第1工程は、パーフルオロアルカンスルホニルハライドに、アミン、複素環式化合物及びイミン系塩基から選ばれる有機塩基の存在下、アンモニアまたはハロゲン化アンモニウムを反応させることにより、「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」と、「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」とを含む混合物を得る工程である(スキーム1;各反応試剤の定義は後述する)。
本工程で用いるパーフルオロアルカンスルホニルハライドにおいて、Rfは炭素数1〜6の直鎖または炭素数3〜6の分岐鎖のパーフルオロアルキル基であり、Rfが炭素数1〜4の直鎖のものが好ましく、Rfが炭素数1のもの(トリフルオロメチル基)が特に好ましい。具体的な化合物としては、トリフルオロメタンスルホニルフルオリド、ペンタフルオロエタンスルホニルフルオリド、ヘプタフルオロプロパンスルホニルフルオリド、ノナフルオロブタンスルホニルフルオリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、ペンタフルオロエタンスルホニルクロリド、ヘプタフルオロプロパンスルホニルクロリド、ノナフルオロブタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルブロミド、ペンタフルオロエタンスルホニルブロミド、ヘプタフルオロプロパンスルホニルブロミド、ノナフルオロブタンスルホニルブロミド、トリフルオロメタンスルホニルヨージド、ペンタフルオロエタンスルホニルヨージド、ヘプタフルオロプロパンスルホニルヨージド、ノナフルオロブタンスルホニルヨージドなどが挙げられる。
このうち、トリフルオロメタンスルホニルフルオリド、ペンタフルオロエタンスルホニルフルオリド、ヘプタフルオロプロパンスルホニルフルオリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、ペンタフルオロエタンスルホニルクロリド、ヘプタフルオロプロパンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルブロミド、ペンタフルオロエタンスルホニルブロミド、ヘプタフルオロプロパンスルホニルブロミド、トリフルオロメタンスルホニルヨージド、ペンタフルオロエタンスルホニルヨージド、ヘプタフルオロプロパンスルホニルヨージドが好ましく、トリフルオロメタンスルホニルフルオリド、ペンタフルオロエタンスルホニルフルオリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、ペンタフルオロエタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルブロミド、ペンタフルオロエタンスルホニルブロミド、トリフルオロメタンスルホニルヨージド、ペンタフルオロエタンスルホニルヨージドが特に好ましい。
本工程で使用するパーフルオロアルカンスルホニルハライドはアンモニアもしくはハロゲン化アンモニウム1モルに対して、通常、1〜10モルで行うが、好ましくは1〜8モル、より好ましくは1〜5モルで行う。
本工程で用いる有機塩基は、下記式:
で表されるアミン、
複素環式化合物、
及び下記骨格:
複素環式化合物、
及び下記骨格:
を有するイミン系塩基から選ばれる。
前記のアミンのうち、R1、R2は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8の直鎖もしくは炭素数3〜8の分岐鎖のアルキル基を表す。
一方、前記のアミンのうち、R3は、炭素数1〜8の直鎖もしくは炭素数3〜8の分岐鎖のアルキル基、または炭素数3〜8の環状のアルキル基を表す。なお、前記R3におけるアルキル基(直鎖、分岐鎖のアルキル基)は、該アルキル基の少なくとも1つの水素原子が置換基により置換され、係る置換基はハロゲン(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、アルキルアミノ基(−NR4R5;R4、R5は、それぞれ独立に炭素数1〜6の直鎖もしくは炭素数3〜6の分岐鎖のアルキル基を表す。)、アルコキシ基(炭素数1〜6の直鎖もしくは炭素数3〜6の分岐鎖のアルキルオキシ基)、アリール基またはヒドロキシル基である。
前記R3における環状のアルキル基は、該アルキル基の少なくとも1つの水素原子がハロゲン(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のハロアルキル基で置換されていても良い。なお、前述したアルキルアミノ基またはアルコキシ基におけるアルキル基部分の、少なくとも水素原子の1つがアルキルアミノ基(−NR5R6;R5、R6の定義は、先のアルキルアミノ基におけるR4、R5と同じである。)で置換されていても良い。
これらのアミンのうち、R1、R2が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6の直鎖もしくは炭素数3〜6の分岐鎖のアルキル基であるもの、そして、R3が炭素数1〜6の直鎖もしくは炭素数3〜6の分岐鎖のアルキル基、炭素数3〜6の環状のアルキル基、
であって、前記炭素数1〜6の直鎖もしくは炭素数3〜6の分岐鎖のアルキル基の置換基としてアルキルアミノ基(−NR4R5;R4、R5は、それぞれ独立に炭素数1〜4の直鎖もしくは炭素数3〜4の分岐鎖のアルキル基を表す。)、アリール基が置換されているアミンが好ましい。さらに、これらの中でも、第3級アミン、すなわち、該アミンにおけるR1、R2が、それぞれ独立に、炭素数1〜4の直鎖のアルキル基、R3が、炭素数1〜4の直鎖のアルキル基であって、該アルキル基に置換基としてアルキルアミノ基(−NR4R5;R4、R5は、それぞれ独立に炭素数1〜4の直鎖のアルキル基を表す。)またはアリール基が置換されているものが特に好ましい。
であって、前記炭素数1〜6の直鎖もしくは炭素数3〜6の分岐鎖のアルキル基の置換基としてアルキルアミノ基(−NR4R5;R4、R5は、それぞれ独立に炭素数1〜4の直鎖もしくは炭素数3〜4の分岐鎖のアルキル基を表す。)、アリール基が置換されているアミンが好ましい。さらに、これらの中でも、第3級アミン、すなわち、該アミンにおけるR1、R2が、それぞれ独立に、炭素数1〜4の直鎖のアルキル基、R3が、炭素数1〜4の直鎖のアルキル基であって、該アルキル基に置換基としてアルキルアミノ基(−NR4R5;R4、R5は、それぞれ独立に炭素数1〜4の直鎖のアルキル基を表す。)またはアリール基が置換されているものが特に好ましい。
有機塩基の具体的な例としては、N−ベンジルジメチルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルプロピレンジアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N,N,N,N',N''−ペンタメチル−ジエチレントリアミン、トリエタノールアミン、トリプロパノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ジメチルアミノエトキシエタノール、N,N−ジメチルアミノプロピルアミン、N,N,N',N',N''−ペンタメチルジプロピレントリアミン、トリス(3−ジメチルアミノプロピル)アミン、テトラメチルイミノ−ビス(プロピルアミン)、N−ジエチル−エタノールアミン、N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリン、N−エチルモルホリン、N,N′−ジメチルピペラジン、N−メチルピペコリン、N−メチルピロリドン、N−ビニル−ピロリドン、ピリジン、2,4,6−トリメチルピリジン、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン、ルチジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、3−(ジメチルアミノ)プロピルイミダゾール、ピラゾール,フラザン、ピラジン、キノリン、イソキノリン、プリン、1H−インダゾール、キナゾリン、シンノリン、キノキサリン、フタラジン、プテリジン、フェナントリジン、2,6−ジ−t−ブチルピリジン、2,2'−ビピリジン、4,4'−ジメチル−2,2'−ビピリジル、4,4'−ジメチル−2,2'−ビピリジル、5,5'−ジメチル−2,2'−ビピリジル、6,6'−t−ブチル−2,2'−ジピリジル、4,4'−ジフェニル−2,2'−ビピリジル、1,10−フェナントロリン、2,7−ジメチル−1,10−フェナントロリン、5,6−ジメチル−1,10−フェナントロリン、4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、ビス(2−ジメチルアミノエチル)エーテル等であるが、これらのうち、N−ベンジルジメチルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルプロピレンジアミンまたはN,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジン、2,4,6−トリメチルピリジンまたはN,N−ジメチル−4−アミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジンが好ましい。
なお、本工程で得られる「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」は、後述する第2工程において、結晶として効率的に析出させることが、本発明の最終目的物であるパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を高い純度で製造する上で極めて重要である。本工程における前述した有機塩基のうち、中でも、2,4,6−トリメチルピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジンは、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と効率的に結晶として析出しやすいことから、特に好ましく用いられる。なお、有機塩基は単独又は組み合わせて使用することができる。
本工程で用いる有機塩基の使用量は、パーフルオロアルカンスルホニルハライド1モルに対して、化学量論的にはアンモニアを使用した場合は3モル、ハロゲン化アンモニウムを使用した場合は4モル必要とするが、通常3〜10モルであり、好ましくは3〜5モルである。3モルより少ないと反応収率が低下する原因となり、また、10モルを超えて用いても反応の進行について問題は無いが、反応速度、収率、または経済性の点で特にメリットがない。
本工程で用いるアンモニアは、気体状態(例えば無水アンモニアなど)であっても、液体状態(水、溶媒に溶解したもの等)であっても、いずれも用いることが可能である。また、本工程で用いるハロゲン化アンモニウムとしては具体的にフッ化アンモニウム、塩化アンモニウム、臭化アンモニウム、ヨウ化アンモニウムなどが挙げられる。
また、本工程は有機溶媒を共存させて反応を行うこともできる。ここで言う有機溶媒とは、本発明の反応に直接関与しない不活性な有機化合物のことを言う。反応溶媒としては、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、アミド類、ニトリル類またはスルホキシド類等が挙げられる。
これらの中でもエステル類、アミド類、ニトリル類またはスルホキシド類が好ましく、ニトリル類がより好ましい。
これらの中でもエステル類、アミド類、ニトリル類またはスルホキシド類が好ましく、ニトリル類がより好ましい。
有機溶媒の具体的な例としては、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、tert−ブチルメチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、バレロニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネートまたはジエチレンカーボネート等が挙げられる。
その中でも酢酸エチル、酢酸ブチル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、アセトニトリル、プロピオニトリルまたはジメチルスルホキシドが好ましく、アセトニトリルまたはプロピオニトリルがより好ましい。これらの反応溶媒は単独又は組み合わせて使用することができる。
その中でも酢酸エチル、酢酸ブチル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、アセトニトリル、プロピオニトリルまたはジメチルスルホキシドが好ましく、アセトニトリルまたはプロピオニトリルがより好ましい。これらの反応溶媒は単独又は組み合わせて使用することができる。
有機溶媒又は水の使用量としては、特に制限はないが、アンモニア1モルに対して0.1L(リットル)以上を使用すればよく、通常は0.1〜20Lが好ましく、特に0.1〜10Lがより好ましい。
なお、本工程で有機溶媒を用いた場合、該有機溶媒が水溶性の有機溶媒である場合は、本工程の反応後、蒸留等の一般的な有機化学の操作で除去しておき、除去後に第2工程を行うことが、操作の観点からも特に好ましい態様の一つとして挙げられる。一方、有機溶媒を用いない場合もしくは非水溶性の有機溶媒を用いた場合、本工程の反応後、特に溶媒を取り除く操作を行うことなく、そのまま第2工程を行うことができる。
本工程の温度条件としては、特に制限はないが、通常、−50〜200℃の範囲で行えば良いが、0〜100℃が好ましく、特に0〜70℃がより好ましい。−50℃よりも低い温度であれば反応速度が遅くなり、200℃を超える温度であれば、生成物の分解等が生じることもある。
本工程で用いる反応容器としては、ステンレス鋼、モネルTM、ハステロイTM、ニッケル、又はこれらの金属やポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロポリエーテル樹脂などのフッ素樹脂でライニングされた耐圧反応容器などが挙げられる。
本工程の反応時間としては、特に制限はないが、0.1〜240時間の範囲で行えばよく、基質および反応条件により異なるため、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、NMR等の分析手段により、反応の進行状況を追跡して原料であるパーフルオロアルカンスルホニルハライドが殆ど消失した時点を終点とすることが好ましい。
[第2工程]
次に第2工程について説明する。第2工程は、第1工程で得られた「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」と「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」とを含む混合物に対し水を添加することにより、該混合物に含まれる「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」を水に溶解させる一方、「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を結晶化させ、続いて、ろ別を行うことにより、「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」を分離除去し、「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を得る工程である(スキーム2)。
[第2工程]
次に第2工程について説明する。第2工程は、第1工程で得られた「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」と「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」とを含む混合物に対し水を添加することにより、該混合物に含まれる「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」を水に溶解させる一方、「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を結晶化させ、続いて、ろ別を行うことにより、「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」を分離除去し、「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を得る工程である(スキーム2)。
本工程を実施する実施態様としては、特に制限は無く、有機化学の通常のろ別等の操作でもって行えば良い。前記水洗浄で用いられる水の量は特に限定されないが、通常、反応混合物中の「イミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」に対して、50〜300質量%程度を用いることが好ましい。また、前記の量の水を数回に分けて洗浄を繰り返すことも好ましい操作の一つである。
前記水洗浄は通常は常温で行うことが好ましいが、温度条件に特に制限はなく、加温してもよい。また、水洗浄に使われる反応容器としては特に制限は無く、ステンレス鋼、モネルTM、ハステロイTM、ニッケル、又はこれらの金属やポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロポリエーテル樹脂などのフッ素樹脂でライニングされた反応容器などが挙げられる。
第2工程において、水洗浄した後の分離操作とは、有機混合物と、塩又は錯体を含む水層とを分けられる方法であれば特に限定はない。一般的には簡便な分液やろ過、遠心分離等で行うことが出来る。第1工程から引き続き、非水溶性の有機溶媒を使用した場合、分液後、蒸留等の一般的な有機化学の操作で除去することが好ましいが、そのまま第3工程で使用することも可能である。
[第3工程]
次に、第3工程について説明する。第3工程は、第2工程で得られた「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」に、溶媒中、アルカリ金属のハロゲン化物もしくは水酸化物、又はアルカリ土類金属のハロゲン化物もしくは水酸化物を反応させ、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を含む混合液を得た後、続けて該混合液を濃縮することにより、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を得る工程である。
[第3工程]
次に、第3工程について説明する。第3工程は、第2工程で得られた「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」に、溶媒中、アルカリ金属のハロゲン化物もしくは水酸化物、又はアルカリ土類金属のハロゲン化物もしくは水酸化物を反応させ、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を含む混合液を得た後、続けて該混合液を濃縮することにより、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を得る工程である。
アルカリ金属の水酸化物としては、水酸化リチウム(LiOH)、水酸化ナトリウム(NaOH)、水酸化カリウム(KOH)、水酸化ルビジウム(RbOH)、水酸化セシウム(CsOH)が、アルカリ金属のハロゲン化物としては、フッ化リチウム(LiF)、フッ化ナトリウム(NaF)、フッ化カリウム(KF)、フッ化ルビジウム(RbF)、フッ化セシウム(CsF)、塩化リチウム(LiCl)、塩化ナトリウム(NaCl)、塩化カリウム(KCl)、塩化ルビジウム(RbCl)、塩化セシウム(CsCl)、臭化リチウム(LiBr)、臭化ナトリウム(NaBr)、臭化カリウム(KBr)、臭化ルビジウム(RbBr)、臭化セシウム(CsBr)、ヨウ化リチウム(LiI)、ヨウ化ナトリウム(NaI)、ヨウ化カリウム(KI)、ヨウ化ルビジウム(RbI)、ヨウ化セシウム(CsI)が、アルカリ土類金属の水酸化物としては、水酸化マグネシウム(Mg(OH)2)、水酸化カルシウム(Ca(OH)2)、水酸化バリウム(Ba(OH)2)、水酸化ストロンチウム(Sr(OH)2)がアルカリ土類金属のハロゲン化物としては、フッ化マグネシウム(MgF2)、フッ化カルシウム(CaF2)、フッ化バリウム(BaF2)、フッ化ストロンチウム(SrF2)、塩化マグネシウム(MgCl2)、塩化カルシウム(CaCl2)、塩化バリウム(BaCl2)、塩化ストロンチウム(SrCl2)、臭化マグネシウム(MgBr2)、臭化カルシウム(CaBr2)、臭化バリウム(BaBr2)、臭化ストロンチウム(SrBr2)、ヨウ化マグネシウム(MgI2)、ヨウ化カルシウム(CaI2)、ヨウ化バリウム(BaI2)、ヨウ化ストロンチウム(SrI2)が挙げられ、好ましくは水酸化リチウム(LiOH)、水酸化ナトリウム(NaOH)、水酸化カリウム(KOH)、水酸化ルビジウム(RbOH)、水酸化セシウム(CsOH)、塩化リチウム(LiCl)、塩化ナトリウム(NaCl)、塩化カリウム(KCl)、塩化ルビジウム(RbCl)、塩化セシウム(CsCl)、水酸化マグネシウム(Mg(OH)2)、水酸化カルシウム(Ca(OH)2)、水酸化バリウム(Ba(OH)2)、水酸化ストロンチウム(Sr(OH)2)、塩化マグネシウム(MgCl2)、塩化カルシウム(CaCl2)、塩化バリウム(BaCl2)、塩化ストロンチウム(SrCl2)が挙げられる。
これらのうち、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のハロゲン化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物が好ましく、アルカリ金属のハロゲン化物としては、フッ化リチウム(LiF)、フッ化ナトリウム(NaF)、フッ化カリウム(KF)、塩化リチウム(LiCl)、塩化ナトリウム(NaCl)または塩化カリウム(KCl)が、アルカリ土類金属のハロゲン化物としては、フッ化マグネシウム(MgF2)、フッ化カルシウム(CaF2)、フッ化バリウム(BaF2)、フッ化ストロンチウム(SrF2)、塩化マグネシウム(MgCl2)または塩化カルシウム(CaCl2)が、アルカリ金属の水酸化物としては、水酸化リチウム(LiOH)、水酸化ナトリウム(NaOH)または水酸化カリウム(KOH)が、アルカリ土類金属の水酸化物としては、水酸化マグネシウム(Mg(OH)2)または水酸化カルシウム(Ca(OH)2)が、安価かつ入手の容易性の点で好ましく用いられる。
また、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のハロゲン化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物は、1種または2種以上を組み合わせて用いることもできる。2種以上を用いる場合、同一のアルカリ金属の水酸化物とハロゲン化物(例えば、水酸化カリウムと塩化カリウム)の組み合わせ、又は同一のアルカリ土類金属の水酸化物とハロゲン化物(例えば、水酸化マグネシウムと塩化マグネシウム)の組み合わせを用いることは、好ましい態様の一つである。なお、これらの化合物について、種類によって水和物の形になっている場合があるが、水和物の形態であっても本工程では好適に利用することができる。
アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のハロゲン化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物の使用量は、「イミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」1モルあたり1〜5モルが好ましく、より好ましくは1〜3モルである。5モルを超える量、すなわち過剰量の塩基を反応させた場合、反応は進行するが、「イミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」が分解してしまい、収率が低下してしまうことがある為、過剰量の塩基を用いることは好ましくない。また、1モルよりも少ないと、変換率が低下することからも、好ましくない。
本工程は、有機溶媒又は水を溶媒として用いて反応させることができる。有機溶媒としては、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、エーテル類、カーボネート類、エステル類、アミド類、ニトリル類またはスルホキシド類等が挙げられる。これらの中でもエステル類、アミド類、ニトリル類またはスルホキシド類が好ましく、ニトリル類がより好ましい。
有機溶媒の具体的な例としては、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、tert−ブチルメチルエーテル、ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、酢酸エチル、酢酸ブチル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、バレロニトリルまたはジメチルスルホキシド等が挙げられる。その中でも酢酸エチル、酢酸ブチル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、アセトニトリル、プロピオニトリルまたはジメチルスルホキシドが好ましく、アセトニトリルまたはプロピオニトリルがより好ましい。これらの反応溶媒は単独又は組み合わせて使用することができる。
反応温度に特別に制限はないが、通常−10℃〜+110℃、好ましくは+25〜+80℃である。−10℃未満であると反応が充分に進行せず、収率低下の原因となり、経済的に不利となる、あるいは、反応速度が低下して反応終了までに長時間を要するなどの問題を生ずる場合がある。一方、+110℃を超えると、副生物が生じやすく、また過剰な加熱はエネルギー効率が悪い。
反応時間としては、特に制限はないが、通常は24時間以内の範囲で行えばよく、イオンクロマトグラフィー、NMR等の分析手段により反応の進行状況を追跡し、原料基質が殆ど消失した時点を終点とするのが好ましい。
本工程に用いられる反応器は、ステンレス鋼、ハステロイTM、モネルTMなどの金属製容器や、四フッ化エチレン樹脂、クロロトリフルオロエチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、PFA樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂、そしてガラスなどを内部にライニングしたもの等、常圧又は加圧下で十分反応を行うことができる反応器を使用することができる。
なお、本工程でアルカリ金属のハロゲン化物もしくは水酸化物、又はアルカリ土類金属のハロゲン化物を用いた場合、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を含む反応混合液中に「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」等の不溶物が固体として生成する為、該混合液に対しろ別操作を行うことでこれらを分離除去する。この場合、本工程における反応直後に行っても良く、続く溶媒を留去する直前に行っても良い。なお、ろ別操作を実施する実施態様としては、特に制限は無く、有機化学の通常の操作でもって行えば良い。
続いて、得られた不溶物を除去したパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を含む反応混合液に対し、溶媒を留去することによりパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を得られるが、溶媒留去の実施態様は特に制限は無く、有機化学の通常の操作でもって行えば良い。
以上、本工程の方法を採用することにより、本来、高い吸湿性の性質を持ち、再結晶等の操作であっても高い純度で精製するのが大変難しいイミド酸金属塩を、単に溶媒留去のみで高い純度で得ることが可能である。後述の実施例で示すように、目的物の他には、副生成物が極めて微量含まれるだけであり、従来技術と比べ、大変有用な方法と言える。
[実施例]
次に本発明を実施例に基づき詳細に説明する。なお、本発明はかかる実施例に限定されるものではない。ここで、生成物の定量については、反応混合物を核磁気共鳴分析装置(NMR)によって測定して得られた組成の「モル%」を基に算出した。また、第3工程で得られた結晶について、イオンクロマトグラフィーよりトリフルオロメタンスルホン酸イオン濃度(CF3SO3 −)、トリフルオロメタンスルホンアミドイオン濃度(CF3SO2NH−)及びフッ素イオン濃度(F−)を定量した。
[実施例]
次に本発明を実施例に基づき詳細に説明する。なお、本発明はかかる実施例に限定されるものではない。ここで、生成物の定量については、反応混合物を核磁気共鳴分析装置(NMR)によって測定して得られた組成の「モル%」を基に算出した。また、第3工程で得られた結晶について、イオンクロマトグラフィーよりトリフルオロメタンスルホン酸イオン濃度(CF3SO3 −)、トリフルオロメタンスルホンアミドイオン濃度(CF3SO2NH−)及びフッ素イオン濃度(F−)を定量した。
[第1工程]
1000mlオートクレーブにアセトニトリルを250g、N,N−ジメチル−4−アミノピリジンを162g(1.33mоl)仕込み、氷水で5℃に冷却し、トリフルオロメタンスルホニルフルオリドを122g(0.80 mоl)導入した。トリフルオロメタンスルホニルフルオリドを導入した後、続いて、無水アンモニア6.5g(0.38mоl)を内温0℃〜5℃を保ちながら1時間掛けて導入した。無水アンモニアの導入が終了したら反応器を室温まで昇温させ、14時間攪拌した。14時間後、反応液を19F−NMRで定量した結果、出発原料のアンモニアに対するビストリフルオロメタンスルホニルイミドN,N−ジメチル−4−アミノピリジニウム塩の収率は92%(0.35mol)、純度は95.7%であった。
[第2工程]
上記反応工程で得られた反応液の溶媒を留去(濃縮溶媒は第1工程にて再利用)後、残渣に水を添加し、析出した白色結晶を桐山ロートを用いて減圧濾過することで、ビストリフルオロメタンスルホニルイミド−N,N−ジメチル−4−アミノピリジニウム塩を149g得た(ここで廃水が389g副生)。この結晶を19F−NMRにより定量を行ったところ出発原料のアンモニアに対する収率は87%(0.33mol)であった。
[第3工程]
上記第2工程で得られた結晶149gを500ml四つ口フラスコに入れ、水を150g加えた。水酸化リチウム一水和物17g(0.40mol)を加えて、30分攪拌後、不溶物を減圧濾過によりろ別し、ろ液を60℃に加熱し濃縮することでビストリフルオロメタンスルホニルイミドリチウムを92g、収率84%(0.32mоl)、純度99.9%で得た(ここで廃水220gが副生)。得られた結晶をイオンクロマトグラフィーにより測定した結果、トリフルオロメタンスルホン酸イオン濃度が3ppm、トリフルオロメタンスルホンアミドイオン濃度が11ppm、フッ素イオン濃度が10ppmであった。
1000mlオートクレーブにアセトニトリルを250g、N,N−ジメチル−4−アミノピリジンを162g(1.33mоl)仕込み、氷水で5℃に冷却し、トリフルオロメタンスルホニルフルオリドを122g(0.80 mоl)導入した。トリフルオロメタンスルホニルフルオリドを導入した後、続いて、無水アンモニア6.5g(0.38mоl)を内温0℃〜5℃を保ちながら1時間掛けて導入した。無水アンモニアの導入が終了したら反応器を室温まで昇温させ、14時間攪拌した。14時間後、反応液を19F−NMRで定量した結果、出発原料のアンモニアに対するビストリフルオロメタンスルホニルイミドN,N−ジメチル−4−アミノピリジニウム塩の収率は92%(0.35mol)、純度は95.7%であった。
[第2工程]
上記反応工程で得られた反応液の溶媒を留去(濃縮溶媒は第1工程にて再利用)後、残渣に水を添加し、析出した白色結晶を桐山ロートを用いて減圧濾過することで、ビストリフルオロメタンスルホニルイミド−N,N−ジメチル−4−アミノピリジニウム塩を149g得た(ここで廃水が389g副生)。この結晶を19F−NMRにより定量を行ったところ出発原料のアンモニアに対する収率は87%(0.33mol)であった。
[第3工程]
上記第2工程で得られた結晶149gを500ml四つ口フラスコに入れ、水を150g加えた。水酸化リチウム一水和物17g(0.40mol)を加えて、30分攪拌後、不溶物を減圧濾過によりろ別し、ろ液を60℃に加熱し濃縮することでビストリフルオロメタンスルホニルイミドリチウムを92g、収率84%(0.32mоl)、純度99.9%で得た(ここで廃水220gが副生)。得られた結晶をイオンクロマトグラフィーにより測定した結果、トリフルオロメタンスルホン酸イオン濃度が3ppm、トリフルオロメタンスルホンアミドイオン濃度が11ppm、フッ素イオン濃度が10ppmであった。
[第1工程〜第2工程]
実施例1と同様の方法によりビストリフルオロメタンスルホニルイミド−N,N−ジメチル−4−アミノピリジニウム塩を142g得た。この結晶を19F−NMRにより定量を行ったところ出発原料のアンモニアに対する収率は85%(0.32mol)であった。
[第3工程]
次に、この結晶142gを500ml四つ口フラスコに入れ、メチル−t−ブチルエーテル250g、塩化リチウム15.3g(0.36mol)を加えて15時間、室温で攪拌した。反応混合物をろ過し、得られた濾液を濃縮、乾燥を行った(ここでトラップされた有機溶媒320gは第3工程にて再利用)。乾燥後、純度99%以上のビストリフルオロメタンスルホニルイミドリチウムを89g、収率82%(0.31mоl)、純度99.9%で得た。得られた結晶をイオンクロマトグラフィーにより測定した結果、トリフルオロメタンスルホン酸イオン濃度が5ppm、トリフルオロメタンスルホンアミドイオン濃度が19ppm、フッ素イオン濃度はが1ppmであった。
[比較例1]
[第1工程]
500mlオートクレーブにアセトニトリルを120g、トリエチルアミンを120g(1.19mоl)仕込み、氷水で5℃に冷却し、トリフルオロメタンスルホニルフルオリドを122g(0.80 mоl)導入した。トリフルオロメタンスルホニルフルオリドを導入した後、続いて、無水アンモニア6.5g(0.38mоl)を内温0℃〜5℃を保ちながら1時間掛けて導入した。無水アンモニアの導入が終了したら反応器を室温まで昇温させ、14時間攪拌した。14時間後、反応液を19F−NMRで定量した結果、出発原料のアンモニアに対するビストリフルオロメタンスルホニルイミドトリエチルアンモニウム塩の収率は91.0%(0.346mol)、純度は95.7%であった。
[精製工程]
上記第1工程で得られた反応液の溶媒を留去後、残渣に48%水酸化カリウム水溶液330g、水250g加え、エバポレーターにて反応系内のトリエチルアミンを減圧留去した(ここで廃有機溶媒157g副生)。析出した結晶を、桐山ロートを用いて減圧濾過し、20%水酸化カリウム水溶液600gで洗浄することでビストリフルオロメタンスルホニルイミドカリウムの粗体を109g(0.33mol)得た(ここで廃水が1168g副生)。次に、4つ口フラスコにビストリフルオロメタンスルホニルイミドカリウムの粗体109g(0.33mol)と濃硫酸200gを入れ、内温60℃で1時間攪拌した。攪拌後、減圧下フラッシュ蒸留を行ないビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸を84g(0.30mol)得た(釜残として廃酸225g副生)。
[カチオン交換工程]
次に、500ml四つ口フラスコに上記精製工程で得られたビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸84g(0.30mol)と水36g、炭酸リチウム24g(0.33mol)を加え、内温60℃にて1時間攪拌した。過剰の炭酸リチウムをろ過し、得られた濾液を濃縮、乾燥を行った(ここで廃水が41g副生)。乾燥後、純度99%以上のビストリフルオロメタンスルホニルイミドリチウムを82g、収率76%(0.29mol)で得た。
ここで、実施例1、2及び比較例1の廃液量の比較を表1として以下にまとめる。
実施例1と同様の方法によりビストリフルオロメタンスルホニルイミド−N,N−ジメチル−4−アミノピリジニウム塩を142g得た。この結晶を19F−NMRにより定量を行ったところ出発原料のアンモニアに対する収率は85%(0.32mol)であった。
[第3工程]
次に、この結晶142gを500ml四つ口フラスコに入れ、メチル−t−ブチルエーテル250g、塩化リチウム15.3g(0.36mol)を加えて15時間、室温で攪拌した。反応混合物をろ過し、得られた濾液を濃縮、乾燥を行った(ここでトラップされた有機溶媒320gは第3工程にて再利用)。乾燥後、純度99%以上のビストリフルオロメタンスルホニルイミドリチウムを89g、収率82%(0.31mоl)、純度99.9%で得た。得られた結晶をイオンクロマトグラフィーにより測定した結果、トリフルオロメタンスルホン酸イオン濃度が5ppm、トリフルオロメタンスルホンアミドイオン濃度が19ppm、フッ素イオン濃度はが1ppmであった。
[比較例1]
[第1工程]
500mlオートクレーブにアセトニトリルを120g、トリエチルアミンを120g(1.19mоl)仕込み、氷水で5℃に冷却し、トリフルオロメタンスルホニルフルオリドを122g(0.80 mоl)導入した。トリフルオロメタンスルホニルフルオリドを導入した後、続いて、無水アンモニア6.5g(0.38mоl)を内温0℃〜5℃を保ちながら1時間掛けて導入した。無水アンモニアの導入が終了したら反応器を室温まで昇温させ、14時間攪拌した。14時間後、反応液を19F−NMRで定量した結果、出発原料のアンモニアに対するビストリフルオロメタンスルホニルイミドトリエチルアンモニウム塩の収率は91.0%(0.346mol)、純度は95.7%であった。
[精製工程]
上記第1工程で得られた反応液の溶媒を留去後、残渣に48%水酸化カリウム水溶液330g、水250g加え、エバポレーターにて反応系内のトリエチルアミンを減圧留去した(ここで廃有機溶媒157g副生)。析出した結晶を、桐山ロートを用いて減圧濾過し、20%水酸化カリウム水溶液600gで洗浄することでビストリフルオロメタンスルホニルイミドカリウムの粗体を109g(0.33mol)得た(ここで廃水が1168g副生)。次に、4つ口フラスコにビストリフルオロメタンスルホニルイミドカリウムの粗体109g(0.33mol)と濃硫酸200gを入れ、内温60℃で1時間攪拌した。攪拌後、減圧下フラッシュ蒸留を行ないビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸を84g(0.30mol)得た(釜残として廃酸225g副生)。
[カチオン交換工程]
次に、500ml四つ口フラスコに上記精製工程で得られたビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸84g(0.30mol)と水36g、炭酸リチウム24g(0.33mol)を加え、内温60℃にて1時間攪拌した。過剰の炭酸リチウムをろ過し、得られた濾液を濃縮、乾燥を行った(ここで廃水が41g副生)。乾燥後、純度99%以上のビストリフルオロメタンスルホニルイミドリチウムを82g、収率76%(0.29mol)で得た。
ここで、実施例1、2及び比較例1の廃液量の比較を表1として以下にまとめる。
表1に示すように、実施例1、2は比較例1と比べて廃液を格段に削減できることがわかる。
本発明で対象とするパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩は、医農薬の中間体、電池電解質、そして酸触媒として利用できる。
Claims (7)
- 式[1]:
[式中、Rfはそれぞれ独立に、炭素数1〜6の直鎖または炭素数3〜6の分岐鎖のパーフルオロアルキル基を表し、Mはアルカリ金属又はアルカリ土類金属を表す。nは該当する金属の価数と同数の整数を示す。]
で表されるパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法において、以下の工程を含むことを特徴とする、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法。
[第1工程]
式[2]:
[式中、Rfは炭素数1〜6の直鎖または炭素数3〜6の分岐鎖のパーフルオロアルキル基を表し、Xはハロゲン原子を表す]
で表されるパーフルオロアルカンスルホニルハライドに、下記式:
[式中、R1、R2は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8の直鎖もしくは炭素数3〜8の分岐鎖のアルキル基を表す。R3は、炭素数1〜8の直鎖もしくは炭素数3〜8の分岐鎖のアルキル基、または炭素数3〜8の環状のアルキル基を表す。ここで、前記R3における炭素数1〜8の直鎖もしくは炭素数3〜8の分岐鎖のアルキル基は、該アルキル基の少なくとも1つの水素原子が置換基により置換され、該置換基はハロゲン(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、アルキルアミノ基(−NR4R5;R4、R5は、それぞれ独立に炭素数1〜6の直鎖又は炭素数3〜6の分岐鎖のアルキル基を表す。)、アルコキシ基(炭素数1〜6の直鎖もしくは炭素数3〜6の分岐鎖のアルキルオキシ基)、アリール基またはヒドロキシル基である。]
で表されるアミン、
複素環式化合物、
及び下記骨格:
[式中、「−C」または「−C−」における「−」は結合手を表す。]
を有するイミン系塩基、
から選ばれる有機塩基の存在下、アンモニアもしくはハロゲン化アンモニウムを反応させることにより、
「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」と、
「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」とを含む混合物を得る工程。
[第2工程]
第1工程で得られた前記「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」と前記「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」とを含む混合物に対し水を添加することにより、該「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を結晶として析出させ、続いてろ別を行うことにより、該混合物に含まれる「有機塩基とハロゲン化水素からなる塩または錯体」を分離除去し、該「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」を得る工程。
[第3工程]
第2工程で得られた「パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸と有機塩基からなる塩又は錯体」に、溶媒中、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のハロゲン化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物を反応させ、式[1]で表されるパーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩と不溶物を含む反応混合液を得、続けて該反応混合液から不溶物をろ別した後、該混合液を濃縮することにより、パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩を得る工程。 - 第1工程で用いるアミンが、N−ベンジルジメチルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルプロピレンジアミンまたはN,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリンである、請求項1に記載の製造方法。
- 第1工程で用いる複素環式化合物が、N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジン、2,4,6−トリメチルピリジンまたは4−ジメチルアミノピリジンである、請求項1に記載の製造方法。
- 第1工程で用いるイミン系塩基が、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エンまたは1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンである、請求項1に記載の製造方法。
- 第1工程において、溶媒を用いて反応を行い、続く第2工程において、水の添加を行う前に濃縮して溶媒を留去する工程を更に含む、請求項1乃至4の何れかに記載の製造方法。
- 第3工程で用いるアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のハロゲン化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物が、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化ストロンチウム、塩化マグネシウム、塩化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウムまたは水酸化カルシウムである、請求項1乃至5の何れかに記載の製造方法。
- 第3工程において、アルカリ金属のハロゲン化物もしくは水酸化物を反応させる際に用いる溶媒が、エステル類、アミド類またはニトリル類である、請求項1乃至6の何れかに記載の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017164450A JP2019043849A (ja) | 2017-08-29 | 2017-08-29 | パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法 |
| PCT/JP2018/027795 WO2019044286A1 (ja) | 2017-08-29 | 2018-07-25 | パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法 |
| CN201880055768.5A CN111051278B (zh) | 2017-08-29 | 2018-07-25 | 全氟烷基磺酰亚胺酸金属盐的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017164450A JP2019043849A (ja) | 2017-08-29 | 2017-08-29 | パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019043849A true JP2019043849A (ja) | 2019-03-22 |
Family
ID=65525402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017164450A Pending JP2019043849A (ja) | 2017-08-29 | 2017-08-29 | パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2019043849A (ja) |
| CN (1) | CN111051278B (ja) |
| WO (1) | WO2019044286A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112552213A (zh) * | 2020-12-24 | 2021-03-26 | 杉杉新材料(衢州)有限公司 | 一种高纯烷基磺酰氟代苯胺盐的制备方法 |
| CN116534813B (zh) * | 2023-05-12 | 2025-12-05 | 河北圣泰材料股份有限公司 | 一种氟代双磺酰基亚氨基锂化合物的合成方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3117369B2 (ja) * | 1994-09-12 | 2000-12-11 | セントラル硝子株式会社 | スルホンイミドの製造方法 |
| US5874616A (en) * | 1995-03-06 | 1999-02-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Preparation of bis (fluoroalkylenesulfonyl) imides and (fluoroalkysulfony) (fluorosulfonyl) imides |
| JPH11209338A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-08-03 | Central Glass Co Ltd | スルホンイミドの製造方法 |
| US6252111B1 (en) * | 1999-02-16 | 2001-06-26 | Central Glass Company, Limited | Method for producing sulfonimide or its salt |
| JP3874585B2 (ja) * | 1999-02-16 | 2007-01-31 | セントラル硝子株式会社 | スルホンイミドのアルカリ金属塩の製造方法 |
| CN101456832A (zh) * | 2008-11-24 | 2009-06-17 | 张家港市华盛化学有限公司 | 双三氟甲磺酰亚胺金属盐的制备方法 |
| CN102786450A (zh) * | 2008-12-05 | 2012-11-21 | 华中科技大学 | 一种碱金属盐的制备方法 |
| JP5630048B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-11-26 | セントラル硝子株式会社 | イミド酸化合物の製造方法 |
| WO2012039025A1 (ja) * | 2010-09-21 | 2012-03-29 | 三菱マテリアル株式会社 | ペルフルオロアルキルスルホンアミドの製造方法 |
| JP5756999B2 (ja) * | 2011-04-06 | 2015-07-29 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | ビス(ペルフルオロアルカンスルホン)イミド塩の製造方法 |
| JP5928149B2 (ja) * | 2012-05-18 | 2016-06-01 | セントラル硝子株式会社 | イミド酸化合物の製造方法 |
| JP2019069904A (ja) * | 2016-02-29 | 2019-05-09 | セントラル硝子株式会社 | パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法 |
-
2017
- 2017-08-29 JP JP2017164450A patent/JP2019043849A/ja active Pending
-
2018
- 2018-07-25 WO PCT/JP2018/027795 patent/WO2019044286A1/ja not_active Ceased
- 2018-07-25 CN CN201880055768.5A patent/CN111051278B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN111051278B (zh) | 2022-05-13 |
| WO2019044286A1 (ja) | 2019-03-07 |
| CN111051278A (zh) | 2020-04-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2019089663A (ja) | ビス(ハロゲン化スルホニル)イミド酸金属塩の製造方法 | |
| CN102378755B (zh) | 酰亚胺化合物的制造方法 | |
| JP7737982B2 (ja) | ビス(フルオロスルホニル)イミド塩及びその調製方法 | |
| JP5146149B2 (ja) | トリフルオロメタンスルホニルフルオリドの精製方法 | |
| US20110269990A1 (en) | Process for producing perfluoroalkylsulfonic acid salt | |
| JP5402634B2 (ja) | 精製された含フッ素ビススルホニルイミドのアンモニウム塩の製造方法 | |
| JP6631534B2 (ja) | (フルオロスルホニル)パーフルオロアルカンスルホニルイミド塩の製造方法 | |
| JP5928149B2 (ja) | イミド酸化合物の製造方法 | |
| CN111051278B (zh) | 全氟烷基磺酰亚胺酸金属盐的制造方法 | |
| JP5891598B2 (ja) | フルオロスルホン酸リチウムの製造方法、およびフルオロスルホン酸リチウム | |
| JP6035835B2 (ja) | フルオロスルホン酸リチウムの製造方法、およびフルオロスルホン酸リチウム | |
| US8304580B2 (en) | Method for producing tris(perfluoroalkanesulfonyl)methide acid salt | |
| JP2019069904A (ja) | パーフルオロアルカンスルホニルイミド酸金属塩の製造方法 | |
| JP2008255100A (ja) | トリフルオロメタンスルホニルフルオリドの製造方法 | |
| CN117361452B (zh) | 一种高纯度双氟磺酰亚胺钾盐的制备方法 | |
| JP2008222659A (ja) | スルホンアミド化合物の製造方法 | |
| CN102834366B (zh) | 3-氯-五氟丙烯的制造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20190628 |