JP2018205667A - 表示装置及び表示パネル - Google Patents
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Abstract
【課題】歩留りを向上することができる表示装置及び表示パネルを提供する。
【解決手段】本実施形態によれば、表示領域と、表示領域を囲む非表示領域と、非表示領域に位置する第1遮光層を備える表示パネルと、平面部と曲面部とを有し、平面部及び曲面部において表示パネルと接着されたカバー部材と、を備え、第1遮光層は、平面部と重なる開口を有している、表示装置が提供される。
【選択図】図1
【解決手段】本実施形態によれば、表示領域と、表示領域を囲む非表示領域と、非表示領域に位置する第1遮光層を備える表示パネルと、平面部と曲面部とを有し、平面部及び曲面部において表示パネルと接着されたカバー部材と、を備え、第1遮光層は、平面部と重なる開口を有している、表示装置が提供される。
【選択図】図1
Description
本実施形態は、表示装置及び表示パネルに関する。
携帯電話やPDA(personal digital assistant)等に用いられる表示装置では、性能面や、デザイン性等の観点から、狭額縁化が要求されている。狭額縁化の一例として、近年では、可撓性を有する表示パネルを用い、曲面状の端部を有する表示装置が開発されている。
このような表示装置においては、表示パネルとカバー部材とを貼り合わせる際に、位置合わせ用のマークが必要となる。しかしながら、表示装置の狭額縁化や高精細化に伴い、マークの配置が困難となっている。
本実施形態の目的は、歩留りを向上することができる表示装置及び表示パネルを提供することである。
一実施形態によれば、
表示領域と、前記表示領域を囲む非表示領域と、前記非表示領域に位置する第1遮光層を備える表示パネルと、平面部と曲面部とを有し、前記平面部及び前記曲面部において前記表示パネルと接着されたカバー部材と、を備え、前記第1遮光層は、前記平面部と重なる開口を有している、表示装置が提供される。
表示領域と、前記表示領域を囲む非表示領域と、前記非表示領域に位置する第1遮光層を備える表示パネルと、平面部と曲面部とを有し、前記平面部及び前記曲面部において前記表示パネルと接着されたカバー部材と、を備え、前記第1遮光層は、前記平面部と重なる開口を有している、表示装置が提供される。
一実施形態によれば、
平面部と、曲面部と、前記平面部及び曲面部に位置する表示領域と、前記表示領域を囲む非表示領域と、前記非表示領域に位置する第1遮光層と、を備え、前記第1遮光層は、前記平面部に位置する第1開口を有している、表示パネルが提供される。
平面部と、曲面部と、前記平面部及び曲面部に位置する表示領域と、前記表示領域を囲む非表示領域と、前記非表示領域に位置する第1遮光層と、を備え、前記第1遮光層は、前記平面部に位置する第1開口を有している、表示パネルが提供される。
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
図1は、本実施形態に係る表示装置DSPの構成例を示す斜視図である。本実施形態において、表示装置DSPは、一例として、液晶層を有する液晶表示装置である。しかしながら、表示装置DSPは、有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子を有する有機EL表示装置、あるいは電気泳動型素子等を有する電子ペーパー型表示装置等、他の表示装置であってもよい。
図1は、第1方向Xと、第1方向Xに垂直な第2方向Yと、第1方向X及び第2方向Yに垂直な第3方向Zによって規定される三次元空間を示している。なお、第1方向Xと第2方向Yとは、90度以外の角度で交差していてもよい。本実施形態において、第3方向Zを上と定義し、第3方向Zと反対側の方向を下と定義する。また、第3方向Yに沿って見ることを平面視と称する。
表示装置DSPは、表示パネルPNLとカバー部材CGとを備えている。表示パネルPNLとカバー部材CGとは、第3方向Zに対向し、透明な接着剤によって貼り合わされている。図示した例では、表示パネルPNLの端部とカバー部材CGの端部とはほぼ揃っている。一例では、表示装置DSPは、略矩形状であり、第1方向Xに沿って延出した端部EX1及びEX2と、第2方向Yに沿って延出した端部EY1及びEY2とを有している。
本実施形態において、表示装置DSPは、端部EY1及びEY2の近傍において湾曲している。具体的には、カバー部材CGは、曲面状の曲面部C1a及びC1bと、平面状の平面部F1とを有している。曲面部C1a及びC1bは、端部EY1及びEY2に沿って設けられている。曲面部C1a及びC1bは、第2方向Yに沿った軸を中心として、表示パネルPNL側へ湾曲している。換言すると、曲面部C1a及びC1bの母線は、第2方向Yと平行である。平面部F1は、曲面部C1aと曲面部C1bとの間に位置している。すなわち、平面部F1と曲面部C1a及びC1bとは、第1方向Xに沿って並んでいる。平面部F1は、一例では、X−Y平面と平行であり、矩形状である。図示した例では、平面部F1と曲面部C1a及びC1bとは、端部EX1から端部EX2に亘って位置している。
表示パネルPNLは、可撓性を有している。表示パネルPNLは、カバー部材CGに沿って配置され、カバー部材CGと同様の形状に保たれている。具体的には、表示パネルPNLは、曲面部C1a及びC1bに沿って湾曲された曲面部C2a及びC2bと、平面部F1と対向する平面部F2と、を有している。
表示パネルPNLは、表示領域DAと、非表示領域NDAを有している。表示領域DAは、画像を表示する領域である。非表示領域NDAは、表示領域DAを囲む額縁状の領域である。図示した例では、表示領域DAは、平面部F2に位置するとともに、一部が曲面部C2a及びC2bにも位置している。
表示パネルPNLは、図において右下がりの斜線で示すように、非表示領域NDAに位置する遮光層BMを備えている。本実施形態において、遮光層BMは、平面部F1と重なる開口OP1、OP2、OP3、及びOP4を有している。開口OP1と開口OP2、及び開口OP3と開口OP4は、それぞれ第1方向Xに沿って並んでいる。開口OP1及びOP2は、端部EX1側に位置し、開口OP3及びOP4は、端部EX2側に位置している。また、開口OP1及びOP3は、平面視で平面部F1と曲面部C1aとの境界B1の近傍に位置している。開口OP2及びOP4は、平面視で平面部F1と曲面部C1bとの境界B2の近傍に位置している。なお、図示した例では、開口OP1、OP2、OP3、及びOP4は、矩形状であるが、円形状、十字状等の他の形状であってもよい。
一例では、カバー部材CGは、図において右上がりの斜線で示したように、遮光層LSを備えている。なお、図中で斜線がクロスする領域は、遮光層BM及びLSが重なる領域に相当する。遮光層LSは、端部EX1及びEX2に沿って設けられ、曲面部C1a、平面部F1、及び曲面部C1bに亘って位置している。開口OP1、OP2、OP3、及びOP4は、そのすべてが遮光層LSと重なっている。これにより、表示パネルPNL側からカバー部材CG側へ向かって開口OP1、OP2、OP3、及びOP4を通り抜ける光を遮光することができる。
なお、図示した例では、遮光層BMは、4つの開口OP1、OP2、OP3、及びOP4を有しているが、遮光層BMは、少なくとも2つの開口を有していればよい。
次に、図2を参照して、表示装置DSPの製造方法について説明する。
まず、図2(a)に示すように、表示パネルPNLが支持体50に固定される。支持体50は、X−Y平面と平行な平面部F3と、平面部F3の両端に位置する曲面部C3a及びC3bとを有している。曲面部C3a及びC3bは、下側に向ってそれぞれ湾曲している。ここで、曲面部C3a及びC3bの曲率は、後述するカバー部材CGの曲面部C1a及びC1bの曲率とほぼ等しい。
表示パネルPNLは、曲面部C3a、平面部F3、及びC3bに亘って位置し、支持体50側の全面が支持体50と接するように固定される。すなわち、表示パネルPNLは、支持体50の形状に倣った形状で固定される。これにより、表示パネルPNLに、平面部F3と対向する平面部F2と、曲面部C3a及びC3bと対向する曲面部C2a及びC2bとが形成される。このとき、表示パネルPNLは、開口OP1及びOP2が平面部F2に位置するように配置される。図示した例では、表示パネルPNLのうち、曲面部C3aに接する面積と曲面部C3bに接する面積とは、ほぼ等しい。
次に、図2(b)に示すように、表示パネルPNLとカバー部材CGとの位置合わせ(アライメント)が行われる。まず、例えばカメラ60を用いて開口OP1及びOP2を検出することで、表示パネルPNLの位置が検出される。ここで、開口OP1及びOP2は、一例では、反射光によって検出される。例えば、開口OP1及びOP2内には、後述するように金属材料からなる配線が位置している。カメラ60は、このような配線によって反射された光を検出することで、開口OP1及びOP2を検出する。
続いて、検出結果に基づいて、支持体50又はカバー部材CGが所定位置まで移動される。ここで、所定位置とは、表示パネルPNLとカバー部材CGとが対向し、表示パネルPNLとカバー部材CGとの貼り合わせが可能になる位置に相当する。続いて、表示パネルPNLに接着剤が塗布された後、支持体50がカバー部材CGへ向かって近接される。このとき、表示パネルPNLは、曲面部C1a及びC1bと同様の形状の曲面部C2a及びC2bを有しているため、表示パネルPNLの一部とカバー部材CGの一部とが干渉することなく、表示パネルPNLとカバー部材CGとを近接することができる。
次に、図2(c)に示すように、表示パネルPNLが、カバー部材CGと接触するまで近接され、接着される。図示した例では、表示パネルPNLのカバー部材CGと対向する側の全面に接着剤40が設けられている。その後、支持体50が表示パネルPNLから離間され、図1に示す表示装置DSPが形成される。
なお、上記の例では、表示パネルPNLとカバー部材CGとの位置合わせの際に、開口OP1及びOP2が用いられたが、開口OP1及びOP2は、表示パネルPNLを支持体50に固定する際の位置合わせに用いることもできる。
次に、図3乃至図10を参照して、表示装置DSPの各構成について説明する。
図3は、図1に示す表示パネルPNLの構成例を示す平面図である。図3は、第1方向X及び第2方向Yによって規定されるX−Y平面に平行な面を示している。図示した例では、曲面部C2a、平面部F2、及び曲面部C2bは、この順で第1方向Xに沿って並んでいる。開口OP1、OP2、OP3、及びOP4は、いずれも平面部F2に位置している。
表示パネルPNLは、一例では、照明装置からの光を選択的に透過させることで画像を表示する透過型である。なお、表示パネルPNLは、外光あるいは照明装置からの光を選択的に反射させることで画像を表示させる反射型であってもよいし、透過型及び反射型の双方の表示機能を備えた半透過型であってもよい。
表示パネルPNLは、第1基板SUB1と、第2基板SUB2とを備えている。第1基板SUB1と第2基板SUB2とは、第3方向Zに対向している。第1基板SUB1と第2基板SUB2とは、図において右上がりの斜線で示すように、非表示領域NDAに設けられたシールSEによって接着されている。第1基板SUB1は、第2基板SUB2より第2方向Yに沿って延出した実装部MTを備えている。実装部MTは、端部EX1に沿って設けられ、表示パネルPNLを外部装置等と電気的に接続するための端子TEを含んでいる。図示した例では、端子TEは、実装部MTのうち、平面部F2に位置している。第2基板SUB2は、図において右下がりの斜線で示すように、遮光層BMを備えている。遮光層BMは、ほぼシールSEと重なる領域に設けられている。なお、図中で斜線がクロスする領域は、シールSE及び遮光層BMが重なる領域に相当する。
表示パネルPNLは、表示領域DAにおいて、複数の走査線G、複数の信号線Sなどを備えている。また、表示パネルPNLは、表示領域DAにおいて、走査線G及び信号線Sと電気的に接続された複数の画素PXを備えている。ここで、画素PXとは、画素信号に応じて個別に制御することができる最小単位に相当し、後述するように、画素電極、共通電極、液晶層、及びスイッチング素子などを備えている。図示した例では、画素PXは、第1方向X及び第2方向Yに沿ってマトリクス状に配置されている。
一例では、表示領域DAに配置された走査線G、信号線Sなどは、配線WLとして表示領域DAから実装部MTまで引き出され、端子TEと電気的に接続されている。図示した例では、開口OP1及びOP2は、開口OP3及びOP4よりも実装部MTに近接し、これらの複数の配線WLと重なっている。一方、開口OP3及びOP4は、表示領域DAを間に挟み開口OP1及びOP2と反対側に位置し、配線WLと重なっていない。図示した例では、開口OP1と開口OP3、及び開口OP2と開口OP4は、第2方向Yに沿って並んでいる。図示した例では、開口OP1及びOP2と重なる配線WLは、第1方向X及び第2方向Yと交差する方向に延出している。
図4は、図3に示す表示領域DAの構成例を示す断面図である。ここでは、表示装置DSPを第3方向Zに沿って切断した断面図を示す。図示した表示パネルPNLは、主として基板主面にほぼ平行な横電界を利用する表示モードに対応した構成を有している。なお、ここでの基板主面とは、X−Y平面と平行な面である。
第1基板SUB1は、基体10、信号線S、共通電極CE、金属層ML、画素電極PE、第1絶縁層11、第2絶縁層12、第3絶縁層13、第1配向膜AL1などを備えている。基体10は、例えばポリイミド等の有機材料によって形成されている。基体10は、第2基板SUB2と対向する第1面10Aと、第1面10Aと反対側の第2面10Bとを有している。なお、ここでは、スイッチング素子や走査線、これらの間に介在する各種絶縁層等の図示を省略している。
第1絶縁層11は、基体10の上、すなわち第1面10A側に位置している。図示しない走査線やスイッチング素子の半導体層は、基体10と第1絶縁層11の間に位置している。信号線Sは、第1絶縁層11の上に位置している。第2絶縁層12は、信号線S、及び、第1絶縁層11の上に位置している。共通電極CEは、第2絶縁層12の上に位置している。金属層MLは、信号線Sの直上において共通電極CEに接触している。図示した例では、金属層MLは、共通電極CEの上に位置しているが、共通電極CEと第2絶縁層12との間に位置していてもよい。第3絶縁層13は、共通電極CE、及び、金属層MLの上に位置している。画素電極PEは、第3絶縁層13の上に位置している。画素電極PEは、第3絶縁層13を介して共通電極CEと対向している。また、画素電極PEは、共通電極CEと対向する位置にスリットSTを有している。第1配向膜AL1は、画素電極PE及び第3絶縁層13を覆っている。
走査線、信号線S、及び、金属層MLは、モリブデン、タングステン、チタン、アルミニウムなどの金属材料によって形成され、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。共通電極CE及び画素電極PEは、ITOやIZOなどの透明な導電材料によって形成されている。第1絶縁層11及び第3絶縁層13は無機絶縁層であり、第2絶縁層12は有機絶縁層である。
なお、第1基板SUB1の構成は、図示した例に限らず、画素電極PEが第2絶縁層12と第3絶縁層13との間に位置し、共通電極CEが第3絶縁層13と第1配向膜AL1との間に位置していてもよい。このような場合、画素電極PEはスリットを有していない平板状に形成され、共通電極CEは画素電極PEと対向するスリットを有する。また、画素電極PE及び共通電極CEの双方が櫛歯状に形成され、互いに噛み合うように配置されていてもよい。
第2基板SUB2は、基体20、遮光層BM、カラーフィルタCF、オーバーコート層OC、第2配向膜AL2などを備えている。基体20は、例えばポリイミド等の有機材料によって形成されている。基体20は、第1基板SUB1と対向する第1面20Aと、第1面20Aと反対側の第2面20Bとを有している。
遮光層BM及びカラーフィルタCFは、基体20の第1面20A側に位置している。遮光層BMは、各画素PXを区画する。図示した例では、遮光層BMは、信号線Sの直上に位置している。カラーフィルタCFは、画素電極PEと対向し、その一部が遮光層BMに重なっている。カラーフィルタCFは、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、青色カラーフィルタなどを含む。オーバーコート層OCは、カラーフィルタCFを覆っている。第2配向膜AL2は、オーバーコート層OCを覆っている。
なお、カラーフィルタCFは、第1基板SUB1に配置されてもよい。カラーフィルタCFは、4色以上のカラーフィルタを含んでいてもよい。白色を表示する画素には、白色のカラーフィルタが配置されてもよいし、無着色の樹脂材料が配置されてもよいし、カラーフィルタを配置せずにオーバーコート層OCを配置してもよい。また、遮光層BMは、オーバーコート層OC上に形成してもよい。
第1偏光板PL1を含む第1光学素子OD1は、第2面10B側、すなわち基体10と照明装置BLとの間に位置している。第2偏光板PL2を含む第2光学素子OD2は、第2面20B側に位置している。第1光学素子OD1及び第2光学素子OD2は、必要に応じて位相差板を含んでいてもよい。
なお、表示パネルPNLは、基板主面に対して垂直な縦電界や、基板主面に対して斜め方向の電界、或いは、それらを組み合わせて利用する表示モードに対応した構成を有していてもよい。縦電界や斜め電界を利用する表示モードでは、例えば、基板SUB1に画素電極PE及び共通電極CEのいずれか一方が備えられ、基板SUB2に画素電極PE及び共通電極CEのいずれか他方が備えられた構成が適用可能である。
図5は、図4に示す画素電極PEに接続されるスイッチング素子SWの構成例を示す断面図である。図5は、第1基板SUB1のみを示している。
第1基板SUB1は、基体10と第2絶縁層12との間に、スイッチング素子SWと、絶縁層111、112、113、及び114とを備えている。絶縁層111、112、113、及び114は、図3に示す第1絶縁層11に相当する。一例では、スイッチング素子SWは、シングルゲート型の薄膜トランジスタであるが、ダブルゲート型の薄膜トランジスタであってもよい。
スイッチング素子SWは、半導体層SC、ゲート電極GE、ソース電極SE、及びドレイン電極DEを備えている。図示した例では、ゲート電極GEの直下に、遮光層SMが設けられている。遮光層SMは、照明装置BLから半導体層SCに向かう光を遮光する。遮光層SMは、例えばチタンなどの金属材料によって形成されている。なお、遮光層SMは、省略されてもよい。
絶縁層111は、基体10と接している。遮光層SMは、絶縁層111の上に位置し、絶縁層112によって覆われている。半導体層SCは、絶縁層112の上に位置し、絶縁層113によって覆われている。ゲート電極GEは、絶縁層113の上に位置し、絶縁層114によって覆われている。図示した例では、ゲート電極GEは、遮光層SMの直上に位置している。ゲート電極GEは、図2に示す走査線Gと電気的に接続されている。ソース電極SE及びドレイン電極DEは、絶縁層114の上に位置し、第2絶縁層12によって覆われている。ソース電極SE及びドレイン電極DEは、絶縁層114及び113に設けられたコンタクトホールCH1及びCH2において、半導体層SCとそれぞれ接している。ソース電極SEは、図2及び図3に示す信号線Sと電気的に接続されている。ドレイン電極DEは、第2絶縁層12及び第3絶縁層13に設けられたコンタクトホールCH3において、画素電極PEと接している。これにより、スイッチング素子SWと画素電極PEとが電気的に接続される。
図6は、図3に示す開口OP2近傍の構成例を示す平面図である。
一例では、開口OP2は、正方形状である。開口OP2の4つの辺は、いずれも第1方向X及び第2方向Yから傾いている。図示した例では、開口OP2の頂点V1と頂点V3とは、第2方向Yに沿って並び、頂点V2と頂点V4とは、第1方向Xに沿って並んでいる。一例では、頂点V1と頂点V3との距離L1、及び頂点V2と頂点V4との距離L2は、約0.2mmである。
開口OP2は、第1金属層としての複数の配線WLと重なっている。配線WLは、一例では、非表示領域NDAまで引き出された信号線Sである。なお、配線WLは、非表示領域NDAまで引き出された走査線Gであってもよい。配線WLは、ほぼ一定の幅W1を有する帯状に形成され、第1方向X及び第2方向Yと交差する方向に沿って延出している。図示した例では、配線WLは、開口OP2の各辺とも交差している。図示した例では、隣り合う2本の配線WLの間隔D1は、幅W1とほぼ等しい。ここで、幅W1及び間隔D1は、配線WLの延出方向と直交する方向に沿った長さに相当する。
本実施形態において、幅W1は、間隔D1以上であることが望ましい。幅W1を間隔D1以上にすることで、開口OP2において、配線WLによって反射される光の割合を増加することができる。したがって、例えば図2(b)に示す表示パネルPNLの位置合わせの際に、開口OP2の視認性が向上する。なお、図示は省略するが、開口OP1の構成は、開口OP1と重なる配線WLの延出方向を除き、開口OP2の構成と同様である。
図7は、図6に示すA−B線に沿った断面図である。
第1基板SUB1は、基体10、第1絶縁層11、第2絶縁層12、第1配向膜AL1、及び配線WLを備えている。配線WLは、一例では、基体10と第2絶縁層12との間に位置している。図示した例では、配線WLは、第1絶縁層11の上に位置している。このような配線WLは、例えば図4に示す信号線Sと同時に形成することができる。図示した例では、第2面10Bに、第1光学素子OD1が接着されている。
第2基板SUB2は、基体20、遮光層BM、オーバーコート層OC、及び第2配向膜AL2を備えている。図示した例では、オーバーコート層OCは、開口OP2内にも位置し、基体20と接している。第2基板SUB2は、第1基板SUB1とカバー部材CGとの間に位置している。図示した例では、第2面20Bに、第2光学素子OD2が接着されている。第1基板SUB1と第2基板SUB2とは、シールSEによって接着されている。
カバー部材CGは、基体30と、遮光層LSとを備えている。基体30は、ガラス又は樹脂等の透明な絶縁材料によって形成されている。基体30は、第2基板SUB2と対向する内面30Aを有している。遮光層LSは、例えば黒色の樹脂であり、基体30の内面30Aに設けられている。カバー部材CGは、接着剤40によって、第2基板SUB2と接着されている。図示した例では、接着剤40は、遮光層LSと第2光学素子OD2とに接している。
なお、配線WLは、図5に示すゲート電極GE又は遮光層SMと同時に形成されてもよく、図4に示す金属層MLと同時に形成されてもよい。配線WLがゲート電極GE又は遮光層LSと同時に形成される場合、配線WLは、基体10と第2絶縁層12との間に位置する。一方、配線WLが金属層MLと同時に形成される場合、配線WLは、第2絶縁層12とシールSEとの間に位置する。
図8は、図3に示す開口OP4近傍の構成例を示す平面図である。なお、図示は省略するが、開口OP3の構成は、開口OP4と同様である。
開口OP4は、金属層M1と重なっている。金属層M1は、四角形状であり、一例では、正方形状である。図示した例では、金属層M1は、第1方向Xに沿って延出した辺S1及びS2と、第2方向Yに沿って延出したS3及びS4とを有している。一例では、辺S1の長さLM1は、距離L1及びL2より大きい。開口OP4は、そのすべてが金属層M1と重なっている。しかしながら、金属層M1と開口OP4とは少なくとも部分的に重なっていればよく、長さLM1は、距離L1及びL2と同等以下でもよい。このような金属層M1は、第1基板SUB1に設けられ、上述の信号線S、走査線G、遮光層SM、及び金属層MLのいずれかと同時に形成することができる。一例では、金属層M1は、電気的にフローティング状態である。しかしながら、金属層M1は、例えばいずれかの配線WLと電気的に接続されていてもよい。
図示した例では、頂点V3側(すなわち表示領域DA側)に、第1方向Xに沿って延出した複数の配線WLが配置されている。配線WLは、金属層M1及び開口OP4と重なっていない。辺S2は、頂点V3と配線WLとの間に位置している。なお、開口OP4は、これらの配線WLと重なっていてもよい。
なお、上記の説明では、反射光によって開口OP4を検出する場合を例としているが、例えば支持体50が光透過性を有している場合、又は開口OP4と支持体50とが重なっていない場合などは、開口OP4は、透過光によって検出されてもよい。開口OP4を透過する透過光によって開口OP4を視認する場合は、金属層M1は、省略される。
本実施形態によれば、表示パネルPNLの平面部F2に位置合わせ用のマークとして開口OP1乃至OP4が形成されている。したがって、曲面部C1a及びC1bを有するカバー部材CGと、曲面部C2a及びC2b有する表示パネルPNLとを貼り合わせる場合であっても、平面部F2に位置する開口OP1乃至OP4を検出することで、表示パネルPNLとカバー部材CGとの位置合わせが可能になる。さらに、開口OP1乃至OP4は、第2基板SUB2に設けられた遮光層BMに形成されている。したがって、第1基板SUB1における配線WL等の配置に依存することなく、開口OP1乃至OP4の配置及び形状を任意に変更することができる。
開口OP1及びOP2は、金属材料からなる複数の配線WLと重なっている。したがって、カバー部材CG側から表示パネルPNLを視認する際に、開口OP1及びOP2において、配線WLによって光が反射されることで、開口OP1及びOP2の視認性が向上する。このような構成は、新たな反射層を追加することなく、既存の配線WLを反射層として利用しているため、表示装置DSPの狭額縁化に好適である。また、開口OP3及びOP4は、配線WLと重なっていないが、図8に示すように、開口OP3及びOP4とそれぞれ重なる金属層M1を設けることで、開口OP3及びOP4の視認性を向上することができる。
したがって、本実施形態によれば、第1基板SUB1のレイアウトを変更することなく、位置合わせ用の開口OP1、OP2、OP3及びOP4の視認性を向上し、位置合わせの精度を向上することができ、結果として表示装置DSPの歩留りを向上することができる。
図9は、開口OP4の他の構成例を示す平面図である。図9に示す構成例は、開口OP4と重なる複数の金属層M2がさらに設けられている点で、図8に示す構成例と相違している。図示した例では、金属層M1は、単一部材からなり、金属層M2は、複数の部材からなる。
金属層M2は、一定の幅W2を有する帯状に形成されている。金属層M2は、開口OP4の辺S5と平行な方向に延出し、辺S5と直交する辺S6と平行な方向に沿って並んでいる。図示した例では、金属層M2の延出方向に沿った長さLM2は、辺S5の長さLS5とほぼ等しい。また、図示した例では、隣り合う金属層M2の間隔D2は、幅W2と等しいが、異なっていてもよい。なお、幅W2及び間隔D2は、金属層M2の延出方向と直交する方向、すなわち辺S6と平行な方向に沿った長さに相当する。一例では、金属層M2は、金属層M1と電気的に絶縁されているが、電気的に接続されていてもよい。
図10は、図9に示すC−D線に沿った断面図である。
第1基板SUB1は、基体10、絶縁層111、112、113、及び114、第2絶縁層12、第1配向膜AL1、金属層M1及びM2を備えている。一例では、金属層M1は、絶縁層113と絶縁層114との間に形成されている。このような金属層M1は、例えば図5に示すゲート電極GEと同時に形成することができる。金属層M2は、絶縁層114の上に形成され、第2絶縁層12によって覆われている。図示した例では、第2絶縁層12は、金属層M2に接するとともに、絶縁層114とも接している。このような金属層M2は、図5に示すソース電極SEと同時に形成することができる。
なお、図示した例では、第1金属層M1と第2金属層M2とは、電気的に絶縁されているが、絶縁層114が除去され、第1金属層M1と第2金属層M2とが電気的に接続されてもよい。また、絶縁層111、112、及び113は、省略されてもよい。その他の構成は、図7と同様であるため、説明を省略する。
なお、金属層M1は、例えば図5に示すソース電極SEと同時に形成することもできる。この場合、金属層M2は、例えば金属層MLと同時に形成することができる。
本構成例においても、図8に示す構成例と同様の効果を得ることができる。さらに、単一部材からなる金属層M1の上に、複数の部材からなる金属層M2が配置されているため、開口OP4の視認性がさらに向上する。
本実施形態において、第1遮光層は、遮光層BMに相当し、第1金属層は、配線WL又は金属層M1に相当し、第2金属層は、金属層M2に相当し、第2遮光層は、遮光層LSに相当する。また、第1開口は、開口OP2に相当し、第2開口は、開口OP4に相当する。
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10,20…基体、11…第1絶縁層、12…第2絶縁層、13…第3絶縁層、111,112,113,114…絶縁層、PNL…表示パネル、LC…液晶層、SE…シール、BM…遮光層、OP1,OP2,OP3,OP4…開口、CG…カバー部材、LS…遮光層、WL…配線、M1,M2…金属層、F1,F2…平面部、C1a,C1b,C2a,C2b…曲面部。
Claims (12)
- 表示領域と、前記表示領域を囲む非表示領域と、前記非表示領域に位置する第1遮光層を備える表示パネルと、
平面部と曲面部とを有し、前記平面部及び前記曲面部において前記表示パネルと接着されたカバー部材と、
を備え、
前記第1遮光層は、前記平面部と重なる開口を有している、表示装置。 - 前記表示パネルは、第1基板と、第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に位置する液晶層と、前記液晶層を囲むシールと、をさらに備え、
前記第1遮光層は、前記第2基板に設けられ、前記シールと重なり、
前記第2基板は、前記カバー部材と前記第1基板との間に位置している、請求項1に記載の表示装置。 - 前記第1基板は、前記開口と重なる第1金属層を備えている、請求項2に記載の表示装置。
- 前記第1金属層は、複数の配線である、請求項3に記載の表示装置。
- 前記配線の幅は、前記配線の間隔以上である、請求項4に記載の表示装置。
- 前記第1基板は、前記開口及び前記第1金属層と重なる第2金属層を備えている、請求項3乃至5のいずれか1項に記載の表示装置。
- 前記第1金属層は、単一部材からなり、
前記第2金属層は、複数の部材からなる、請求項6に記載の表示装置。 - 前記カバー部材は、前記表示パネルと対向する側に位置する第2遮光層をさらに備え、
前記開口は、前記第2遮光層と重なっている、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の表示装置。 - 前記平面部と前記曲面部とは、第1方向に沿って並び、
前記曲面部の母線は、前記第1方向と交差する第2方向に沿って延出している、請求項8に記載の表示装置。 - 平面部と、
曲面部と、
前記平面部及び曲面部に位置する表示領域と、
前記表示領域を囲む非表示領域と、
前記非表示領域に位置する第1遮光層と、
を備え、
前記第1遮光層は、前記平面部に位置する第1開口を有している、表示パネル。 - 複数の端子が形成された実装部と、
前記表示領域から前記端子まで延出した配線と、
フローティング電位の第1金属層と、
をさらに備え、
前記第1遮光層は、前記平面部に位置し前記第1開口より前記実装部から離間した第2開口を有し、
前記表示領域は、前記第1開口と前記第2開口との間に位置し、
前記配線は、前記第1開口と重なり、
前記第1金属層は、前記第2開口と重なっている、請求項10に記載の表示パネル。 - 前記平面部と前記曲面部とは、第1方向に沿って並び、
前記第1開口と前記第2開口とは、前記第1方向と交差する第2方向に沿って並んでいる、請求項11に記載の表示パネル。
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