JP2018135596A - Manufacturing method of metal products - Google Patents
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Abstract
【課題】機械加工後における金属製品の表面粗さを低減できる金属製品の製造方法を提供すること。【解決手段】金属材料の少なくとも表面に、アトム窒化法により、以下の(a)及び/又は(b)の条件の下で、所定の原子が侵入型固溶原子として存在する固溶体層を形成した後、前記固溶体層を機械加工する金属製品の製造方法。(a)アトム窒化法を10Pa以下の圧力で行うこと。(b)アトム窒化法において、プラズマの電位を基準とする前記金属材料の電位は−300〜300Vであること。【選択図】 図2PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a metal product capable of reducing the surface roughness of the metal product after machining. SOLUTION: A solid solution layer in which a predetermined atom exists as an intrusion type solid solution atom is formed on at least the surface of a metal material by an atom nitriding method under the following conditions (a) and / or (b). Later, a method for manufacturing a metal product in which the solid solution layer is machined. (A) Perform the atom nitriding method at a pressure of 10 Pa or less. (B) In the atom nitriding method, the potential of the metal material based on the potential of plasma is −300 to 300V. [Selection diagram] Fig. 2
Description
本開示は金属製品の製造方法に関する。 The present disclosure relates to a method of manufacturing a metal product.
従来、鋼等から成る金属材料を、ダイヤモンド工具等の工具を用いて機械加工し、金属製品を製造する技術が知られている。この技術において、工具の摩耗が早いという問題があった。非特許文献1には、金属材料の表面を、従来の方法でガス窒化処理し、ダイヤモンド工具を用いて機械加工することで、ダイヤモンド工具の摩耗を低減する技術が開示されている。 Conventionally, a technique for manufacturing a metal product by machining a metal material made of steel or the like using a tool such as a diamond tool is known. This technique has a problem that the tool wears quickly. Non-Patent Document 1 discloses a technique for reducing wear of a diamond tool by subjecting the surface of a metal material to gas nitriding treatment by a conventional method and machining using a diamond tool.
非特許文献1記載の技術では、機械加工後における金属製品の表面粗さが大きくなってしまう。本開示の一局面は、機械加工後における金属製品の表面粗さを低減できる金属製品の製造方法を提供することを目的とする。 In the technique described in Non-Patent Document 1, the surface roughness of the metal product after machining is increased. An object of one aspect of the present disclosure is to provide a method for manufacturing a metal product that can reduce the surface roughness of the metal product after machining.
本開示の一態様は、金属材料の少なくとも表面に、アトム窒化法により、以下の(a)及び/又は(b)の条件の下で、所定の原子が侵入型固溶原子として存在する固溶体層を形成した後、固溶体層を機械加工する金属製品の製造方法である。
(a)アトム窒化法を10Pa以下の圧力で行うこと。
(b)アトム窒化法において、プラズマの電位を基準とする金属材料の電位は−300〜300Vであること。
One aspect of the present disclosure is a solid solution layer in which a predetermined atom exists as an interstitial solid solution atom on at least a surface of a metal material by an atom nitriding method under the following conditions (a) and / or (b): Is a metal product manufacturing method in which a solid solution layer is machined.
(A) An atom nitriding method is performed at a pressure of 10 Pa or less.
(B) In the atom nitriding method, the potential of the metal material with respect to the plasma potential is −300 to 300V.
本開示の一態様である金属製品の製造方法によれば、機械加工後における金属製品の表面粗さを低減できる。
本開示の別の態様は、金属材料を機械加工する金属製品の製造方法であって、金属材料の少なくとも表面に、アトム窒化法により、以下の(a)及び/又は(b)の条件の下で、所定の原子が侵入型固溶原子として存在する固溶体層が形成されており、固溶体層を機械加工する金属製品の製造方法である。
(a)アトム窒化法を10Pa以下の圧力で行うこと。
(b)アトム窒化法において、プラズマの電位を基準とする金属材料の電位は−300〜300Vであること。
本開示の別の態様である金属製品の製造方法によれば、機械加工後における金属製品の表面粗さを低減できる。
According to the method for manufacturing a metal product that is one aspect of the present disclosure, the surface roughness of the metal product after machining can be reduced.
Another aspect of the present disclosure is a method for manufacturing a metal product in which a metal material is machined, wherein at least a surface of the metal material is subjected to an atom nitriding method under the following conditions (a) and / or (b): Thus, a solid solution layer in which predetermined atoms exist as interstitial solid solution atoms is formed, and this is a method for manufacturing a metal product in which the solid solution layer is machined.
(A) An atom nitriding method is performed at a pressure of 10 Pa or less.
(B) In the atom nitriding method, the potential of the metal material with respect to the plasma potential is −300 to 300V.
According to the metal product manufacturing method which is another aspect of the present disclosure, the surface roughness of the metal product after machining can be reduced.
本開示の実施形態を説明する。
1.金属材料
金属材料として、例えば鉄、ステンレスが挙げられる。鉄として、例えば、鋼材が挙げられる。金属材料は、鉄、ステンレス以外の金属から成るものであってもよい。鉄以外の金属として、例えば、タングステン、コバルト、ニッケルが挙げられる。また、金属材料は、2種以上の金属の合金であってもよい。
An embodiment of the present disclosure will be described.
1. Metal material Examples of the metal material include iron and stainless steel. An example of iron is steel. The metal material may be made of a metal other than iron or stainless steel. Examples of metals other than iron include tungsten, cobalt, and nickel. The metal material may be an alloy of two or more metals.
2.固溶体層
固溶体層は、金属材料内に所定の原子が侵入型固溶原子として存在する層である。金属材料の少なくとも表面に固溶体層を形成することができる。所定の原子として、例えば、炭素原子、水素原子、ホウ素原子、窒素原子、酸素原子等が挙げられる。所定の原子として、窒素原子が好ましい。所定の原子が窒素原子である場合、機械加工後における金属製品の表面粗さを一層低減できる。例えば、図9に示すように、金属材料301は、表面に固溶体層303を備える。
2. Solid solution layer A solid solution layer is a layer in which predetermined atoms exist as interstitial solid solution atoms in a metal material. A solid solution layer can be formed on at least the surface of the metal material. Examples of the predetermined atom include a carbon atom, a hydrogen atom, a boron atom, a nitrogen atom, and an oxygen atom. The predetermined atom is preferably a nitrogen atom. When the predetermined atom is a nitrogen atom, the surface roughness of the metal product after machining can be further reduced. For example, as shown in FIG. 9, the metal material 301 includes a solid solution layer 303 on the surface.
固溶体層は、例えば、所定の原子を含む希薄気体内に金属材料を設置しておき、その希薄気体に電子ビームを照射して励起する方法で形成できる。
固溶体層は、所定の原子の化合物(以下では特定化合物とする)を実質的に含まないことが好ましい。この特定化合物とは、所定の原子と、金属材料に含まれる金属との化合物である。特定化合物として、例えば、鉄の窒化物等が挙げられる。所定の原子の化合物を実質的に含まない場合、機械加工後における金属製品の表面粗さを一層低減できる。
The solid solution layer can be formed, for example, by a method in which a metal material is placed in a dilute gas containing predetermined atoms, and the dilute gas is irradiated with an electron beam to be excited.
It is preferable that the solid solution layer does not substantially contain a compound having a predetermined atom (hereinafter referred to as a specific compound). This specific compound is a compound of a predetermined atom and a metal contained in a metal material. Specific examples of the specific compound include iron nitride. When the compound of a predetermined atom is not substantially contained, the surface roughness of the metal product after machining can be further reduced.
実質的に含まないとは、金属製品のうち、固溶体層が形成された表面をXRDにより分析したとき、金属製品の主成分である金属と所定の原子との特定化合物の量が検出限界以下であることを意味する。固溶体層は、特定化合物を含まないことが特に好ましい。 When the surface on which the solid solution layer is formed is analyzed by XRD, the amount of the specific compound of the metal that is the main component of the metal product and a predetermined atom is less than the detection limit. It means that there is. It is particularly preferable that the solid solution layer does not contain a specific compound.
所定の原子が窒素である場合、例えば、窒化処理により固溶体層を形成できる。窒化処理の方法として、例えば、アトム窒化法が挙げられる。アトム窒化法は、窒素原子を含むプラズマを用いて、窒素原子を金属材料の表面から侵入・拡散させる方法である。アトム窒化法を用いる場合、固溶体層が窒素と金属との特定化合物を含むことを抑制できる。 When the predetermined atom is nitrogen, for example, a solid solution layer can be formed by nitriding. An example of the nitriding method is an atom nitriding method. The atom nitriding method is a method of invading and diffusing nitrogen atoms from the surface of a metal material using plasma containing nitrogen atoms. When the atom nitriding method is used, the solid solution layer can be prevented from containing a specific compound of nitrogen and metal.
窒素原子を含むプラズマを発生する方法として、例えば、電子ビーム励起プラズマ法、又はマイクロ波励起プラズマ法が挙げられる。電子ビーム励起プラズマ法は、窒素を含むガスに電子ビームを照射してプラズマを生成する方法である。マイクロ波励起プラズマ法は、窒素を含むガスにマイクロ波を照射してプラズマを生成する方法である。窒素を含むガスとして、例えば、窒素のみから成るガス、窒素を主成分としさらに水素等を含むガス等が挙げられる。電子ビーム励起プラズマ法、又はマイクロ波励起プラズマ法によれば、
プラズマ中で高濃度の窒素原子を発生させることができる。
As a method for generating plasma containing nitrogen atoms, for example, an electron beam excited plasma method or a microwave excited plasma method can be given. The electron beam excitation plasma method is a method of generating plasma by irradiating a gas containing nitrogen with an electron beam. The microwave excitation plasma method is a method of generating plasma by irradiating a gas containing nitrogen with microwaves. Examples of the gas containing nitrogen include a gas composed only of nitrogen, a gas mainly containing nitrogen and further containing hydrogen and the like. According to the electron beam excited plasma method or the microwave excited plasma method,
A high concentration of nitrogen atoms can be generated in the plasma.
アトム窒化法において、金属材料の電位の方がプラズマの電位より低く、それらの電位差が50V以下であることが好ましい。この場合、金属材料の表面に化合物層が一層形成され難くなる。プラズマの電位を基準とする金属材料の電位をバイアス電圧とする。バイアス電圧は、−300〜300Vであることが好ましい。バイアス電圧が、−300〜300Vであることを以下では(b)条件とする。
バイアス電圧は、−200V以上であることがより好ましく、−100V以上であることがさらに好ましく、−50V以上であることが特に好ましい。バイアス電圧は、200V以下であることがより好ましく、100V以下であることがよりさらに好ましく、50V以下であることが特に好ましい。前記(b)条件の下でアトム窒化法を行うと、固溶体層が含む特定化合物の量を抑制できる。
また、バイアス電圧は、−5〜−10Vの範囲内であることがさらに好ましい。この範囲内であることにより、プラズマ中に含まれる電子が金属材料へ流入することを抑制できる。
アトム窒化法を行うときの圧力は、10Pa以下であることが好ましく、1Pa以下であることがより好ましい。アトム窒化法を行うときの圧力が10Pa以下であることを以下では(a)条件とする。前記(a)条件の下でアトム窒化法を行うと、固溶体層が含む特定化合物の量を抑制できる。前記(a)及び(b)の条件の下でアトム窒化法を行うと、固溶体層が含む特定化合物の量を一層抑制できる。
In the atom nitriding method, the potential of the metal material is preferably lower than the potential of the plasma, and the potential difference between them is preferably 50 V or less. In this case, it is difficult to form one compound layer on the surface of the metal material. The potential of the metal material based on the plasma potential is defined as a bias voltage. The bias voltage is preferably −300 to 300V. The condition (b) below is that the bias voltage is −300 to 300V.
The bias voltage is more preferably −200 V or more, further preferably −100 V or more, and particularly preferably −50 V or more. The bias voltage is more preferably 200 V or less, still more preferably 100 V or less, and particularly preferably 50 V or less. When the atom nitriding method is performed under the condition (b), the amount of the specific compound contained in the solid solution layer can be suppressed.
The bias voltage is more preferably in the range of −5 to −10V. By being in this range, it is possible to suppress the electrons contained in the plasma from flowing into the metal material.
The pressure when performing the atom nitriding method is preferably 10 Pa or less, and more preferably 1 Pa or less. In the following, it is assumed that the pressure when performing the atom nitriding method is 10 Pa or less (a). When the atom nitriding method is performed under the condition (a), the amount of the specific compound contained in the solid solution layer can be suppressed. When the atom nitriding method is performed under the conditions (a) and (b), the amount of the specific compound contained in the solid solution layer can be further suppressed.
窒化処理において、例えば、プラズマ中に含まれる電子が金属材料へ流入することを抑制することができる。プラズマ中に含まれる電子が金属材料へ流入することを抑制する方法として、例えば、金属材料の付近に磁場を印加する方法がある。この磁場の方向は、金属材料の表面と平行な方向が好ましい。 In the nitriding treatment, for example, electrons contained in the plasma can be prevented from flowing into the metal material. As a method for suppressing the electrons contained in the plasma from flowing into the metal material, for example, there is a method of applying a magnetic field in the vicinity of the metal material. The direction of the magnetic field is preferably a direction parallel to the surface of the metal material.
固溶体層を形成した金属材料の表面硬度は、金属材料が鉄、又は主成分として鉄を含む合金である場合、例えば、700Hv以上であることが好ましく、1200〜1500Hvであることが一層好ましい。固溶体層を備える金属材料の表面硬度は、金属材料が鉄、又は主成分として鉄を含む合金である場合、例えば、700Hv以上であることが好ましく、1200〜1500Hvであることが一層好ましい。例えば、アトム窒化法を用いることにより、金属材料が鉄、又は主成分として鉄を含む合金である場合、金属材料の表面硬度を700Hv以上にすることができ、1200〜1500Hvにすることができる。金属材料の表面硬度は、微小硬度計(ビッカース硬度計)を用いて測定した値である。表面硬度が700Hv以上である場合、金属材料を金型等にした際に傷付きにくい。
金属材料がタングステン合金である場合、固溶体層を形成した金属材料の表面硬度は、例えば、580Hv以上であることが好ましく、600Hv以上であることがより好ましい。表面硬度が580Hv以上である場合、金属材料を金型等にした際に傷付きにくい。
When the metal material is iron or an alloy containing iron as a main component, the surface hardness of the metal material forming the solid solution layer is, for example, preferably 700 Hv or more, and more preferably 1200 to 1500 Hv. When the metal material is iron or an alloy containing iron as a main component, the surface hardness of the metal material including the solid solution layer is, for example, preferably 700 Hv or more, and more preferably 1200 to 1500 Hv. For example, by using an atom nitriding method, when the metal material is iron or an alloy containing iron as a main component, the surface hardness of the metal material can be 700 Hv or more, and can be 1200 to 1500 Hv. The surface hardness of the metal material is a value measured using a micro hardness meter (Vickers hardness meter). When the surface hardness is 700 Hv or more, it is difficult to be damaged when the metal material is made into a mold or the like.
When the metal material is a tungsten alloy, the surface hardness of the metal material on which the solid solution layer is formed is, for example, preferably 580 Hv or more, and more preferably 600 Hv or more. When the surface hardness is 580 Hv or more, it is difficult to be damaged when the metal material is made into a mold or the like.
3.機械加工
機械加工において、例えば、高硬度の工具を用いることができる。高硬度の工具として、例えば、ダイヤモンド工具が挙げられる。機械加工として、例えば、切削加工が挙げられる。
3. Machining In machining, for example, a tool with high hardness can be used. An example of a high hardness tool is a diamond tool. An example of machining is cutting.
本開示の金属製品の製造方法によれば、機械加工で用いるダイヤモンド工具の使用寿命を長くすることができる。その理由は以下のように推測できる。金属材料は固溶体層を有する。そのため、ダイヤモンド工具中の炭素は、金属材料中に拡散しにくく、金属と反応しにくい。その結果、機械加工で用いるダイヤモンド工具の摩耗が抑制され、工具の使用寿命が長くなる。 According to the metal product manufacturing method of the present disclosure, the service life of the diamond tool used in machining can be extended. The reason can be estimated as follows. The metal material has a solid solution layer. Therefore, the carbon in the diamond tool is difficult to diffuse into the metal material and hardly react with the metal. As a result, wear of the diamond tool used in machining is suppressed, and the service life of the tool is extended.
アトム窒化法により、前記(a)及び/又は前記(b)の条件の下で形成された窒素原子を侵入型固溶原子として含む固溶体層は、特定化合物を含みにくい。そのため、工具が鋭利な刃先を有する場合でも、その刃先に欠損が生じにくい。その結果、工具の使用寿命を長くすることができる。 The solid solution layer containing nitrogen atoms as interstitial solid solution atoms formed under the conditions (a) and / or (b) by the atom nitriding method is unlikely to contain a specific compound. For this reason, even when the tool has a sharp cutting edge, the cutting edge is not easily damaged. As a result, the service life of the tool can be extended.
また、特定化合物の粒子が切れ刃と共に移動することで仕上げ面にスクラッチ(切削方向の傷)を生成する現象が生じ難い。その結果、仕上げ面粗さが劣化し難い。
なお、上記のスクラッチの生成は、特定化合物の粒子のような硬質粒子を析出して硬化している材料を切削した場合にしばしば見られる現象である。例えば、神戸製鋼技報 Vol.39, No.4 (1989) p.39等に上記のスクラッチの生成が開示されている。
In addition, it is difficult for the phenomenon of generating scratches (scratches in the cutting direction) on the finished surface because the particles of the specific compound move together with the cutting edge. As a result, the finished surface roughness is unlikely to deteriorate.
The generation of the scratch is a phenomenon often seen when a hard material such as particles of a specific compound is deposited and hardened. For example, the above-mentioned scratch generation is disclosed in Kobe Steel Technical Report Vol.39, No.4 (1989) p.39.
それに対し、ガス軟窒化の方法で窒化処理を行うと、特定化合物を生成し易い。この特定化合物が、工具の鋭利な刃先に欠損を生じさせることがある。その結果、工具の使用寿命が短くなる。また、特定化合物の粒子が切れ刃と共に移動することで仕上げ面にスクラッチを生成し易い。その結果、仕上げ面粗さが劣化し易い。 On the other hand, when nitriding is performed by a gas soft nitriding method, a specific compound is easily generated. This specific compound may cause defects in the sharp cutting edge of the tool. As a result, the service life of the tool is shortened. Moreover, it is easy to produce | generate a scratch on a finishing surface because the particle | grains of a specific compound move with a cutting edge. As a result, the finished surface roughness tends to deteriorate.
4.金属製品
本開示の金属製品の製造方法により製造する金属製品として、例えば、金型等が挙げられる。金属製品は、金型以外のものであってもよい。本開示の金属製品の製造方法により製造する金属製品の表面粗さは小さい。また、その金属製品の表面に虹面が生じにくい。その理由は以下のように推測される。本開示の金属製品の製造方法によれば、工具の切れ刀に筋状の損耗や欠損が生じにくい。また、特定化合物が切れ刃と共に移動することで仕上げ面にスクラッチを生成する現象が生じ難い。そのため、工具の切れ刃における筋状の損耗や欠損、またスクラッチに起因する虹面を抑制できる。
4). Metal Product Examples of the metal product manufactured by the method for manufacturing a metal product according to the present disclosure include a mold. The metal product may be other than a mold. The surface roughness of the metal product manufactured by the metal product manufacturing method of the present disclosure is small. In addition, a rainbow is unlikely to form on the surface of the metal product. The reason is presumed as follows. According to the method for manufacturing a metal product of the present disclosure, streaky wear or breakage is unlikely to occur on a cutting tool. In addition, the phenomenon that the specific compound moves with the cutting edge hardly generates a scratch on the finished surface. For this reason, it is possible to suppress streak-like wear and loss in the cutting edge of the tool, and rainbow surfaces caused by scratches.
5.実施例1
(5−1)加工ワーク
図1に示す加工ワーク101を用意した。加工ワーク101の材質はSUS420J2である。加工ワーク101は金属材料に対応する。加工ワーク101は、中心に孔102が設けられた、直径50mmの円板状の基本形態を有する。
5. Example 1
(5-1) Workpiece Workpiece 101 shown in FIG. 1 was prepared. The material of the workpiece 101 is SUS420J2. The workpiece 101 corresponds to a metal material. The workpiece 101 has a disk-like basic form having a diameter of 50 mm and having a hole 102 in the center.
加工ワーク101は、その一方の面103に、突出部105を備える。突出部105は、面103におけるその他の部分よりも1mmだけ、加工ワーク101の厚み方向に突出した部分である。突出部105は、面103の外周部分に形成されている。ただし、面103のうち、孔102を中心とする、要の角度が50°の扇形の領域には、突出部105は形成されていない。面103の径方向における、突出部105の幅は10mmである。 The workpiece 101 includes a protrusion 105 on one surface 103 thereof. The protruding portion 105 is a portion protruding in the thickness direction of the workpiece 101 by 1 mm from the other portion of the surface 103. The protruding portion 105 is formed on the outer peripheral portion of the surface 103. However, the protruding portion 105 is not formed in a fan-shaped region of the surface 103 having a central angle of 50 ° with the hole 102 as the center. The width of the protrusion 105 in the radial direction of the surface 103 is 10 mm.
(5−2)窒化処理装置1の構成
窒化処理装置1の構成を、図2に基づいて説明する。窒化処理装置1は、チャンバー3内に、カソード5、予備アノード7、アノード9、及び加速電極11を備えている。また、チャンバー3には、アルゴン導入口13、窒素導入口15、真空排気口17が設けられている。チャンバー3内において、カソード5と予備アノード7とに挟まれ、アルゴン導入口13に面している領域は、初期放電形成領域19である。また、チャンバー3内において、加速電極11よりも右側の部分であって、窒素導入口15、及び真空排気口17に面している部分は、反応室21である。
(5-2) Configuration of Nitriding Apparatus 1 The configuration of the nitriding apparatus 1 will be described with reference to FIG. The nitriding apparatus 1 includes a cathode 5, a preliminary anode 7, an anode 9, and an acceleration electrode 11 in a chamber 3. The chamber 3 is provided with an argon inlet 13, a nitrogen inlet 15, and a vacuum exhaust 17. In the chamber 3, a region sandwiched between the cathode 5 and the auxiliary anode 7 and facing the argon inlet 13 is an initial discharge formation region 19. In the chamber 3, a portion on the right side of the acceleration electrode 11 and facing the nitrogen inlet 15 and the vacuum exhaust port 17 is a reaction chamber 21.
(5−3)窒化処理装置1を用いる窒化処理方法
窒化処理装置1を用いて加工ワーク101に対し行う窒化処理方法を説明する。この窒化処理方法では、電子ビーム励起プラズマ法を用いる。まず、加工ワーク101を反応室21内に設置する。そして、窒化処理装置1内を十分な真空に排気した後、反応室21内
に、窒素導入口15から窒素ガスを導入する。
(5-3) Nitriding Method Using Nitriding Apparatus 1 A nitriding method performed on the workpiece 101 using the nitriding apparatus 1 will be described. In this nitriding method, an electron beam excited plasma method is used. First, the workpiece 101 is installed in the reaction chamber 21. Then, after the inside of the nitriding apparatus 1 is evacuated to a sufficient vacuum, nitrogen gas is introduced into the reaction chamber 21 from the nitrogen inlet 15.
次に、アルゴン導入口13から、初期放電形成領域19にアルゴンガスを導入し、カソード5と予備アノード7間で放電を発生させる。その後、カソード5とアノード9間に放電を移行し、安定したアルゴンプラズマ27を生成する。このアルゴンプラズマ27から、加速電極11によって電子のみを加速することで電子ビーム29を生成し、その電子ビーム29を反応室21へ引き出す。 Next, argon gas is introduced from the argon inlet 13 into the initial discharge formation region 19 to generate a discharge between the cathode 5 and the auxiliary anode 7. Thereafter, discharge is transferred between the cathode 5 and the anode 9 to generate a stable argon plasma 27. From the argon plasma 27, only the electrons are accelerated by the acceleration electrode 11 to generate an electron beam 29, and the electron beam 29 is extracted to the reaction chamber 21.
反応室21では、窒素ガスに電子ビーム29が照射され、窒素ガスが効率良く解離・電離して、窒素原子密度が高いプラズマ31が生成する。加工ワーク101は、プラズマ31の中に含まれる。プラズマ31により、加工ワーク101の表面が窒化処理され、窒素原子が侵入型固溶原子として存在する固溶体層が形成される。 In the reaction chamber 21, the nitrogen gas is irradiated with the electron beam 29, and the nitrogen gas is efficiently dissociated and ionized to generate a plasma 31 having a high nitrogen atom density. The workpiece 101 is included in the plasma 31. The surface of the workpiece 101 is nitrided by the plasma 31 to form a solid solution layer in which nitrogen atoms exist as interstitial solid solution atoms.
なお、反応室21の温度は、窒化処理装置1が備える図示しないヒータにより、適切な温度に制御される。また、電子ビーム29のエネルギーは、加速電極11に印加する電圧により、任意に設定可能である。 The temperature of the reaction chamber 21 is controlled to an appropriate temperature by a heater (not shown) provided in the nitriding apparatus 1. The energy of the electron beam 29 can be arbitrarily set by the voltage applied to the acceleration electrode 11.
窒化処理の動作条件は以下のようにした。
反応室21内の圧力:0.2Pa
電子ビーム29の加速電圧:80V
電子ビーム29の電流:8A
反応室21の温度:500℃
窒化処理の時間:5時間
バイアス電圧(プラズマ31の電位を基準とする加工ワーク101の電位):−50V
窒化処理の終了後、加工ワーク101を窒化処理装置1から取り出した。面103の表面硬度を、微小硬度計(ビッカース硬度計)を用いて測定した。測定の結果、表面硬度は1120Hvであった。この表面硬度は、窒化処理前の値である205Hvに比べて、顕著に向上していた。なお、以上のように窒化処理を行った後の加工ワーク101を、以下では、処理後ワーク101Aとする。処理後ワーク101Aは表面に固溶体層を備える。(5−4)ガス軟窒化の方法
加工ワーク101に対し行うガス軟窒化の方法を説明する。加工ワーク101を、アンモニア及び二酸化炭素を含む雰囲気中に置き、580℃で100分間処理する。その後、液体窒素を用いて加工ワーク101を冷却する。なお、以上のようにガス軟窒化を行った後の加工ワーク101を、以下では、処理後ワーク101Rとする。処理後ワーク101Rの表面には、鉄の窒化物から成る化合物層が形成されている。
The operating conditions for nitriding were as follows.
Pressure in reaction chamber 21: 0.2 Pa
Electron beam 29 acceleration voltage: 80V
Current of electron beam 29: 8A
Temperature in reaction chamber 21: 500 ° C
Time for nitriding treatment: 5 hours Bias voltage (potential of workpiece 101 based on plasma 31 potential): -50V
After the nitriding process, the workpiece 101 was taken out from the nitriding apparatus 1. The surface hardness of the surface 103 was measured using a micro hardness meter (Vickers hardness meter). As a result of the measurement, the surface hardness was 1120 Hv. This surface hardness was remarkably improved as compared with 205 Hv which was a value before nitriding. In addition, the workpiece 101 after performing the nitriding treatment as described above is hereinafter referred to as a post-treatment workpiece 101A. The post-treatment workpiece 101A has a solid solution layer on the surface. (5-4) Gas Soft Nitriding Method A gas soft nitriding method performed on the workpiece 101 will be described. The workpiece 101 is placed in an atmosphere containing ammonia and carbon dioxide and treated at 580 ° C. for 100 minutes. Thereafter, the workpiece 101 is cooled using liquid nitrogen. In addition, the workpiece 101 after performing the gas soft nitriding as described above is hereinafter referred to as a post-treatment workpiece 101R. A compound layer made of iron nitride is formed on the surface of the processed workpiece 101R.
(5−5)処理後ワーク101A、101Rの分析
処理後ワーク101A、101Rの表面を観察した。観察には、三次元光学プロファイラー(製品名:Zygo、NewView7300)を用いた。処理後ワーク101A、101Rの表面形状を図3に示す。図3に示す表面形状は、1本の走査線における断面プロファイルである。処理後ワーク101Aの表面形状は、処理後ワーク101Rの表面形状に比べて、平坦であった。
(5-5) Analysis of post-treatment workpieces 101A and 101R The surfaces of the post-treatment workpieces 101A and 101R were observed. A three-dimensional optical profiler (product name: Zygo, NewView 7300) was used for observation. The surface shapes of the processed workpieces 101A and 101R are shown in FIG. The surface shape shown in FIG. 3 is a cross-sectional profile in one scanning line. The surface shape of the post-treatment workpiece 101A was flat compared to the surface shape of the post-treatment workpiece 101R.
処理後ワーク101A、101Rの深さ方向での元素分布を測定した。測定には、電子線マイクロアナライザー(島津製作所、EPMA-1610)を用いた。処理後ワーク101Aの測定結果を図4Aに示し、処理後ワーク101Rの測定結果を図4Bに示す。処理後ワーク101A、101Rのいずれにおいても、表面付近で窒素の濃度が高くなっていた。 The element distribution in the depth direction of the workpieces 101A and 101R after the treatment was measured. An electron beam microanalyzer (Shimadzu Corporation, EPMA-1610) was used for the measurement. The measurement result of the processed workpiece 101A is shown in FIG. 4A, and the measurement result of the processed workpiece 101R is shown in FIG. 4B. In both the treated workpieces 101A and 101R, the concentration of nitrogen was high near the surface.
処理後ワーク101A、101Rの深さ方向での硬度分布を測定した。測定には、株式会社ミツトヨ製の硬度計を用いた。測定結果を図5に示す。処理後ワーク101A、10
1Rのいずれにおいても、表面付近での硬度が高くなっていた。処理後ワーク101Aにおける表面付近での硬度は700Hv以上であった。
The hardness distribution in the depth direction of the workpieces 101A and 101R after processing was measured. For the measurement, a hardness meter manufactured by Mitutoyo Corporation was used. The measurement results are shown in FIG. Post-processing workpiece 101A, 10
In any of 1R, the hardness near the surface was high. The hardness in the vicinity of the surface of the processed workpiece 101A was 700 Hv or more.
また、処理後ワーク101Aについて、X線回折を行った。処理後ワーク101Aには、鉄と窒素の化合物のピークは認められなかった。すなわち、処理後ワーク101Aには、鉄の窒化物から成る化合物層の存在は認められなかった。 Further, X-ray diffraction was performed on the processed workpiece 101A. No peak of iron and nitrogen compound was observed in the workpiece 101A after the treatment. That is, the presence of a compound layer made of iron nitride was not recognized in the processed workpiece 101A.
(5−6)機械加工
処理後ワーク101A、101Rに対し、機械加工を行った。機械加工は、突出部105を所定の深さまで切削する加工である。処理後ワークの種類と、機械加工の条件との組み合わせを表1に示す。以下では、処理後ワークの種類と、機械加工の条件との組み合わせを製造方法とする。製造方法には、表1に示すP1〜P4がある。なお、P4における切込み深さは、最後のパスでは2μmであり、その他のパスでは5μmである。
(5-6) Machining Machined workpieces 101A and 101R were processed. The machining is a process of cutting the protruding portion 105 to a predetermined depth. Table 1 shows combinations of types of workpieces after processing and machining conditions. Hereinafter, the combination of the type of workpiece after processing and the machining conditions will be referred to as a manufacturing method. The manufacturing method includes P1 to P4 shown in Table 1. Note that the depth of cut at P4 is 2 μm in the final pass and 5 μm in the other passes.
使用した切削工具は全てにおいて共通であって、単結晶ダイヤの切削工具である。この切削工具のノーズ半径は1mmである。
表1における「第1の装置」は、株式会社ナガセインテグレックス製の超精密微細加工機(商品名:N2C-53US4N4)である。「第2の装置」は、株式会社不二越製の超精密5軸加工機(商品名:ASP01UPX)である。
The cutting tools used are common to all, and are single crystal diamond cutting tools. The nose radius of this cutting tool is 1 mm.
The “first device” in Table 1 is an ultra-precision micromachining machine (trade name: N2C-53US4N4) manufactured by Nagase Integrex Co., Ltd. The “second device” is an ultra-precision 5-axis machine (trade name: ASP01UPX) manufactured by Fujikoshi Co., Ltd.
使用したオイルミストは全ての製造方法において共通であって、フジBC技研株式会社製のBluebe LB10(商品名)である。
(5−7)金属製品及び工具の評価
製造方法P1〜P4を実施した後のワークを、以下では、それぞれ金属製品M1〜M4とする。製造方法P1〜P4を実施した後のワークは工作物又は被削材に該当する。金属製品M1〜M4の突出部105における表面粗さRtを測定した。測定には、三次元光学プロファイラー(製品名:Zygo、NewView7300)を用いた。測定結果を図6に示す。金属製品M1〜M3における表面粗さRtは、金属製品M4における表面粗さRtよりも小さかった。
The oil mist used is common to all manufacturing methods, and is Bluebe LB10 (trade name) manufactured by Fuji BC Giken Co., Ltd.
(5-7) Evaluation of metal product and tool The work after implementing manufacturing method P1-P4 is set as metal product M1-M4 below, respectively. The workpiece after performing the manufacturing methods P1 to P4 corresponds to a workpiece or a work material. The surface roughness Rt at the protrusions 105 of the metal products M1 to M4 was measured. For the measurement, a three-dimensional optical profiler (product name: Zygo, NewView7300) was used. The measurement results are shown in FIG. The surface roughness Rt in the metal products M1 to M3 was smaller than the surface roughness Rt in the metal product M4.
金属製品M1〜M3では虹面は生じなかった。それに対し、金属製品M4では虹面が生じた。
製造方法P2、P4において使用した切削工具の切れ刃近傍の逃げ面の表面粗さを測定した。測定には、三次元光学プロファイラー(製品名:Zygo、NewView7300)を用いた。
測定結果を図7に示す。図7は逃げ面の表面粗さを表す。
The rainbow surface did not occur in the metal products M1 to M3. On the other hand, a rainbow surface occurred in the metal product M4.
The surface roughness of the flank near the cutting edge of the cutting tool used in the manufacturing methods P2 and P4 was measured. For the measurement, a three-dimensional optical profiler (product name: Zygo, NewView7300) was used.
The measurement results are shown in FIG. FIG. 7 shows the surface roughness of the flank.
製造方法P2において使用した切削工具の表面粗さは平坦であった。それに対し、製造方法P4において使用した切削工具の表面には、筋状の損耗が生じていた。この筋状の損耗が、金属製品M4で生じた虹面の原因であると推測される。 The surface roughness of the cutting tool used in the manufacturing method P2 was flat. On the other hand, streak-like wear occurred on the surface of the cutting tool used in the manufacturing method P4. This streak-like wear is presumed to be the cause of the rainbow surface produced in the metal product M4.
6.実施例2
(6−1)実施例1との相違点
前述した実施例1は、電子ビーム励起プラズマ法によりプラズマを発生させる。これに対し、実施例2では、マイクロ波励起プラズマ法によりプラズマを発生させる点で実施例1と相違する。
6). Example 2
(6-1) Difference from Example 1 In Example 1 described above, plasma is generated by an electron beam excitation plasma method. In contrast, the second embodiment is different from the first embodiment in that plasma is generated by the microwave excitation plasma method.
(6−2)窒化処理装置201の構成
窒化処理装置201の構成を、図8に基づいて説明する。窒化処理装置201は、チャンバー203内に、石英ガラス窓205、及び処理対象物ホルダー207を備えている。処理対象物ホルダー207は、その上面に、加工ワーク101を保持することができる。また、処理対象物ホルダー207は、図示しないヒータを内蔵しており、加工ワーク101を加熱することができる。さらに、チャンバー203には、マイクロ波を送り込むための導波路209、窒素導入口211、及び真空排気口213が設けられている。チャンバー203の内部は、反応室215である。
(6-2) Configuration of Nitriding Apparatus 201 The configuration of the nitriding apparatus 201 will be described with reference to FIG. The nitriding apparatus 201 includes a quartz glass window 205 and a processing object holder 207 in a chamber 203. The processing object holder 207 can hold the workpiece 101 on its upper surface. Further, the processing object holder 207 incorporates a heater (not shown) and can heat the workpiece 101. Further, the chamber 203 is provided with a waveguide 209 for sending microwaves, a nitrogen inlet 211, and a vacuum exhaust 213. Inside the chamber 203 is a reaction chamber 215.
(6−3)窒化処理装置201を用いた窒化処理方法
窒化処理装置201を用いた窒化処理方法を説明する。まず、加工ワーク101を処理対象物ホルダー207に取り付け、反応室215内に設置する。加工ワーク101を500℃まで加熱し、次に、窒素導入口211から反応室215内に窒素ガスを導入する。次に、導波路209からマイクロ波を導入する。マイクロ波は、石英ガラス窓205を透過し、その下側表面で表面波プラズマを発生させる。その表面波プラズマが反応室215内の窒素ガスに作用して、反応室215内で、高濃度の窒素原子を含むプラズマが発生する。この高濃度の窒素原子を含むプラズマにより、加工ワーク101の表面が窒化処理される。
(6-3) Nitriding Method Using Nitriding Apparatus 201 A nitriding method using the nitriding apparatus 201 will be described. First, the workpiece 101 is attached to the processing object holder 207 and installed in the reaction chamber 215. The workpiece 101 is heated to 500 ° C., and then nitrogen gas is introduced into the reaction chamber 215 from the nitrogen inlet 211. Next, a microwave is introduced from the waveguide 209. The microwave passes through the quartz glass window 205 and generates surface wave plasma on its lower surface. The surface wave plasma acts on the nitrogen gas in the reaction chamber 215 to generate a plasma containing a high concentration of nitrogen atoms in the reaction chamber 215. The surface of the workpiece 101 is nitrided by the plasma containing high-concentration nitrogen atoms.
窒化処理装置201を用いた窒化処理方法によっても、加工ワーク101の表面に、窒素原子が侵入型固溶原子として存在する固溶体層を形成し、表面付近の硬度を高めることが可能である。また、窒化処理装置201を用いた窒化処理方法においても、鉄等の窒素化合物層を形成が抑制され、表面の粗さを増加させることはない。 Also by the nitriding method using the nitriding apparatus 201, a solid solution layer in which nitrogen atoms exist as interstitial solid solution atoms can be formed on the surface of the workpiece 101, and the hardness near the surface can be increased. Also in the nitriding method using the nitriding apparatus 201, the formation of a nitrogen compound layer such as iron is suppressed, and the surface roughness is not increased.
(6−4)機械加工
窒化処理後の加工ワークに対し、実施例1と同様に機械加工を行い、金属製品を製造することができる。製造された金属製品における表面粗さRtは小さい。また、金属製品の表面に虹面は生じない。
(6-4) Machining The machined workpiece after nitriding can be machined in the same manner as in Example 1 to produce a metal product. The manufactured metal product has a small surface roughness Rt. Further, no rainbow surface is formed on the surface of the metal product.
7.他の実施形態
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は上述の実施形態に限定されることなく、種々変形して実施することができる。
7). Other Embodiments Although the embodiment of the present disclosure has been described above, the present disclosure is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made.
(7−1)上記各実施形態における1つの構成要素が有する機能を複数の構成要素に分担させたり、複数の構成要素が有する機能を1つの構成要素に発揮させたりしてもよい。また、上記各実施形態の構成の一部を省略してもよい。また、上記各実施形態の構成の少なくとも一部を、他の上記実施形態の構成に対して付加、置換等してもよい。なお、特許請求の範囲に記載の文言から特定される技術思想に含まれるあらゆる態様が本開示の実施形態である。
(7−2)実施例1、2において、窒化処理を行う場所と、機械加工を行う場所とは、異なっていてもよい。また、実施例1、2において、窒化処理を行う主体と、機械加工を行う主体とは異なっていてもよい。また、実施例1、2において、窒化処理の終了後、時間が経過してから、機械加工を行ってもよい。
(7-1) A function of one constituent element in each of the above embodiments may be shared by a plurality of constituent elements, or a function of a plurality of constituent elements may be exhibited by one constituent element. Moreover, you may abbreviate | omit a part of structure of each said embodiment. In addition, at least a part of the configuration of each of the above embodiments may be added to or replaced with the configuration of the other above embodiments. In addition, all the aspects included in the technical idea specified from the wording described in the claims are embodiments of the present disclosure.
(7-2) In Examples 1 and 2, the place where nitriding is performed and the place where machining is performed may be different. In the first and second embodiments, the main body that performs nitriding and the main body that performs machining may be different. In Examples 1 and 2, machining may be performed after a lapse of time after completion of the nitriding treatment.
(7−3)上述した金属製品の製造方法の他、金属製品、金属材料の加工方法等、種々の形態で本開示を実現することもできる。 (7-3) In addition to the above-described method for manufacturing a metal product, the present disclosure can also be realized in various forms such as a metal product and a processing method for a metal material.
1…窒化処理装置、3…チャンバー、5…突出部、5…カソード、7…予備アノード、9…アノード、11…加速電極、13…アルゴン導入口、15…窒素導入口、17…真空排気口、19…初期放電形成領域、21…反応室、27…アルゴンプラズマ、29…電子ビーム、31…プラズマ、101…加工ワーク、101A…処理後ワーク、101R…処理後ワーク、102…孔、103…面、105…突出部、201…窒化処理装置、203…チャンバー、205…石英ガラス窓、207…処理対象物ホルダー、209…導波路、211…窒素導入口、213…真空排気口、215…反応室 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Nitriding apparatus, 3 ... Chamber, 5 ... Projection part, 5 ... Cathode, 7 ... Preliminary anode, 9 ... Anode, 11 ... Accelerating electrode, 13 ... Argon inlet, 15 ... Nitrogen inlet, 17 ... Vacuum exhaust port 19 ... Initial discharge forming region, 21 ... Reaction chamber, 27 ... Argon plasma, 29 ... Electron beam, 31 ... Plasma, 101 ... Work piece, 101A ... Work piece, 101R ... Work piece, 102 ... Hole, 103 ... Surface, 105 ... Projection, 201 ... Nitriding apparatus, 203 ... Chamber, 205 ... Quartz glass window, 207 ... Object holder, 209 ... Waveguide, 211 ... Nitrogen inlet, 213 ... Vacuum exhaust, 215 ... Reaction Room
Claims (7)
前記固溶体層を機械加工する金属製品の製造方法。
(a)アトム窒化法を10Pa以下の圧力で行うこと。
(b)アトム窒化法において、プラズマの電位を基準とする前記金属材料の電位は−300〜300Vであること。 After forming a solid solution layer in which predetermined atoms exist as interstitial solid solution atoms on at least the surface of the metal material by the atom nitriding method under the following conditions (a) and / or (b):
A metal product manufacturing method for machining the solid solution layer.
(A) An atom nitriding method is performed at a pressure of 10 Pa or less.
(B) In the atom nitriding method, the potential of the metal material based on the plasma potential is −300 to 300V.
前記金属材料は鉄を含み、前記固溶体層を形成した前記金属材料の表面硬度が700Hv以上である金属製品の製造方法。 A method for producing a metal product according to claim 1,
The metal material includes iron, and the metal material on which the solid solution layer is formed has a surface hardness of 700 Hv or more.
前記金属材料の少なくとも表面に、アトム窒化法により、以下の(a)及び/又は(b)の条件の下で、所定の原子が侵入型固溶原子として存在する固溶体層が形成されており、
前記固溶体層を機械加工する金属製品の製造方法。
(a)アトム窒化法を10Pa以下の圧力で行うこと。
(b)アトム窒化法において、プラズマの電位を基準とする前記金属材料の電位は−300〜300Vであること。 A method of manufacturing a metal product by machining a metal material,
A solid solution layer in which a predetermined atom exists as an interstitial solid solution atom is formed on at least the surface of the metal material by an atom nitriding method under the following conditions (a) and / or (b):
A metal product manufacturing method for machining the solid solution layer.
(A) An atom nitriding method is performed at a pressure of 10 Pa or less.
(B) In the atom nitriding method, the potential of the metal material based on the plasma potential is −300 to 300V.
前記金属材料は鉄を含み、前記固溶体層を備える前記金属材料の表面硬度が700Hv以上である金属製品の製造方法。 It is a manufacturing method of the metal product according to claim 3,
The metal material includes iron, and the metal material including the solid solution layer has a surface hardness of 700 Hv or more.
前記固溶体層は、前記所定の原子の化合物を実質的に含まない金属製品の製造方法。 It is a manufacturing method of the metal product according to any one of claims 1 to 4,
The said solid solution layer is a manufacturing method of the metal product which does not contain the compound of the said predetermined atom substantially.
前記所定の原子は窒素原子である金属製品の製造方法。 It is a manufacturing method of the metal product according to any one of claims 1 to 5,
The method for producing a metal product, wherein the predetermined atom is a nitrogen atom.
ダイヤモンド工具を用いて前記金属材料を機械加工する金属製品の製造方法。 It is a manufacturing method of the metal product according to any one of claims 1 to 6,
A method for producing a metal product, wherein the metal material is machined using a diamond tool.
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