JP2018120999A - Wiring board - Google Patents
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Abstract
【課題】セラミックからなり物理的強度を有する基板本体を備え、該基板本体の同じ表面で隣接する素子搭載用パッド同士間の距離を小さくでき、且つ搭載される素子からの熱を容易に放熱可能な配線基板を提供する。【解決手段】セラミックc1,c2からなり、対向する表面3および裏面4とこれら周辺間の側面5とを有する基板本体2aと、該基板本体2aの表面3側に先部7aが該表面3よりも外側に突出して形成された一対の素子搭載用パッド6a,6bと、上記表面3に形成された一対の外部接続端子10a,10bとを備え、素子搭載用パッド6a,6bの基部7bは、基板本体2aの表面3に形成された複数の凹部3a,3b内ごとに位置し、上記パッド6a,6bと部接続端子10a,10bとの間は、第1接続配線21を介して電気的に接続されていると共に、上記パッド6a,6bごとには、基板本体2aの内部に形成された内層配線23の一端が個別に接続されている、配線基板1b。【選択図】 図6PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate main body made of ceramic and having physical strength, the distance between adjacent element mounting pads on the same surface of the substrate main body can be reduced, and heat from the mounted element can be easily dissipated. Providing a flexible wiring board. SOLUTION: A substrate main body 2a made of ceramics c1 and c2 and having a front surface 3 and a back surface 4 facing each other and a side surface 5 between the peripheral surfaces thereof, and a tip portion 7a on the surface 3 side of the substrate main body 2a from the surface 3 A pair of element mounting pads 6a and 6b formed so as to project outward and a pair of external connection terminals 10a and 10b formed on the surface 3 are provided, and the base portion 7b of the element mounting pads 6a and 6b is formed. It is located in each of a plurality of recesses 3a and 3b formed on the surface 3 of the substrate body 2a, and is electrically connected between the pads 6a and 6b and the part connection terminals 10a and 10b via the first connection wiring 21. A wiring board 1b that is connected and one end of an inner layer wiring 23 formed inside the board main body 2a is individually connected to each of the pads 6a and 6b. [Selection diagram] Fig. 6
Description
本発明は、発熱量が比較的大きい発光素子などを基板本体の表面に搭載するための配線基板に関する。 The present invention relates to a wiring board for mounting a light emitting element having a relatively large amount of heat generation on the surface of a board body.
例えば、セラミックグリーンシートの両面にフライス加工の研削によって複数の凹部を個別に形成し、得られたセラミックグリーン体を焼成して、予め、セラミック焼結基板を得る。該セラミック焼結基板の上記凹部内ごとに貴金属ペーストまたは卑金属ペーストを個別に塗布または充填した後、前記貴金属ペーストなどを前記セラミック焼結基板と共に焼成するか、上記凹部内ごとに予め用意した金属層をロウ付けするか、あるいは、上記凹部内ごとに金属溶射を施すことによって、上記セラミック基板の片面に配線回路を形成し、且つ上部が突出する導体層の下部が埋め込まれると共に、上記セラミック基板の他面に放熱作用を果たし、且つ上部が突出する金属層の下部が埋め込まれたセラミック配線回路基板を得るための製造方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 For example, a plurality of concave portions are individually formed on both surfaces of the ceramic green sheet by grinding by milling, and the obtained ceramic green body is fired to obtain a ceramic sintered substrate in advance. After the precious metal paste or base metal paste is individually applied or filled in each of the recesses of the ceramic sintered substrate, the precious metal paste or the like is fired together with the ceramic sintered substrate, or a metal layer prepared in advance for each of the recesses Or by performing metal spraying in each of the recesses, a wiring circuit is formed on one side of the ceramic substrate, and the lower portion of the conductor layer protruding from the upper portion is embedded, and the ceramic substrate There has been proposed a manufacturing method for obtaining a ceramic wiring circuit board having a heat radiation effect on the other surface and having a lower part of a metal layer protruding from the upper part (see, for example, Patent Document 1).
しかし、前記セラミック配線回路基板の製造方法において開示された何れの製造方法であっても、比較的多くの工数を必要とし且つコストが嵩む、という問題がある。しかも、前記フライス加工により前記グリーンシートを研削して複数の凹部を形成した場合には、前記セラミック焼結基板の強度を保つため、同じ表面で隣接する金属層同士間の距離を一定以上に保持する必要がある。その結果、複数の導体層を高密度に配置したり、前記配線回路基板全体を小型化することが困難となる場合もあった。 However, any of the manufacturing methods disclosed in the method for manufacturing a ceramic wiring circuit board requires a relatively large number of man-hours and increases costs. In addition, when the green sheet is ground by milling to form a plurality of recesses, the distance between adjacent metal layers on the same surface is maintained at a certain level or more in order to maintain the strength of the ceramic sintered substrate. There is a need to. As a result, it may be difficult to arrange a plurality of conductor layers at a high density or downsize the entire printed circuit board.
本発明は、背景技術で説明した問題点を解決し、セラミックからなり物理的強度を有する基板本体を備え、且つ該基板本体の同じ表面で隣接する素子搭載用パッド同士間の距離を可及的に小さくできると共に、追って搭載される素子からの熱を外部などに容易に放熱可能な配線基板を提供する、ことを課題とする。 The present invention solves the problems described in the background art, and includes a substrate body made of ceramic and having physical strength, and the distance between adjacent element mounting pads on the same surface of the substrate body is as much as possible. It is an object of the present invention to provide a wiring board that can be made small and can easily dissipate heat from elements to be mounted to the outside.
本発明は、前記課題を解決するため、基板本体の表面側に形成する一対以上の素子搭載用パッドの基部を前記基板本体の表面に形成した凹部内に挿入し、且つ前記パッドの先部を表面よりも上方向および斜め上方向の双方に突出させる、ことに着想して成されたものである。
即ち、本発明の配線基板(請求項1)は、セラミックからなり、対向する表面および裏面とこれら周辺に位置する側面とを有する基板本体と、該基板本体の表面側に先部が該表面よりも外側に突出して形成された少なくとも一対の素子搭載用パッドと、上記基板本体の表面、裏面、および側面の少なくとも何れかに形成された一対の外部接続端子と、を備えた配線基板であって、上記素子搭載用パッドの基部、あるいは該基部の一部は、上記基板本体の表面に形成された複数の凹部内ごとに位置しており、上記素子搭載用パッドと上記外部接続端子との間は、第1接続配線を介して、電気的に接続されていると共に、上記素子搭載用パッドごとには、上記基板本体の内部に形成された内層配線が個別に接続されている、ことを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention inserts a base portion of a pair of element mounting pads formed on the surface side of the substrate body into a recess formed on the surface of the substrate body, and a tip portion of the pad. The idea is to project both upward and obliquely upward from the surface.
That is, the wiring board of the present invention (Claim 1) is made of ceramic, and has a substrate body having opposed front and back surfaces and side surfaces located in the periphery thereof, and a front portion on the front side of the substrate body from the surface. And a pair of external mounting terminals formed on at least one of the front surface, the back surface, and the side surface of the substrate body, and a wiring board comprising: The base portion of the element mounting pad or a part of the base portion is located in each of a plurality of recesses formed on the surface of the substrate body, and between the element mounting pad and the external connection terminal. Is electrically connected via the first connection wiring, and the inner layer wiring formed inside the substrate body is individually connected to each of the element mounting pads. And
前記配線基板によれば、以下の効果(1)〜(5)を得ることが可能である。
(1)前記一対以上の素子搭載用パッドの先部が前記基板本体の表面側に先部が該表面よりも外側(上方向および斜め上方向)に突出して形成されているので、例えば、発光ダイオードのような比較的大きな発熱量の素子を搭載した場合でも、その熱を上記素子搭載用パッドごとの周辺側や上記基板本体を構成するセラミックの内部に対し、容易且つ迅速に放熱させることが可能である。
(2)互いに隣接する前記素子搭載用パッドごとの基部が位置し且つ互いに隣接する前記凹部同士の距離を、上記素子搭載用パッドごとの先部同士間の距離よりも大きくできるので、セラミックからなる前記基板本体の表面側における物理的強度を高く保つことができる。
(3)互いに隣接する前記素子搭載用パッドの先部同士間の距離を短絡が生じないように最小限に短くできるので、複数の上記素子搭載用パッドを高密度で前記基板本体の表面に形成できると共に、本配線基板全体の小型化も容易に図り得る。
(4)前記基板本体の表面側に露出する前記素子搭載用パッドや外部接続端子の表面には、前記内層配線を介した電解金属メッキにより、下地側のNi層を介してAu層が表層側に強固に被覆されているので、比較的高い耐食性および前記素子の搭載時に必要なハンダの高い濡れ性の双方を発揮することができる。
(5)前記配線基板は、少なくとも2層のセラミックグリーンシートを用意し、少なくとも1層の前記グリーンシートに打ち抜き加工を施し、少なくとも前記グリーンシートの何れか一方に対してメタライズ層、前記第1接続配線、内層配線、および一対の外部接続端子となる導電性ペーストを印刷形成した後、複数回の電解金属メッキを施すことで得られるので、前記特許文献1に記載の技術に比べて比較的低コストで製作することが可能となる。
According to the wiring board, the following effects (1) to (5) can be obtained.
(1) The tip portions of the pair of element mounting pads are formed on the surface side of the substrate body so that the tip portions protrude outward (upward and obliquely upward) from the surface. Even when a device with a relatively large calorific value, such as a diode, is mounted, the heat can be dissipated easily and quickly to the peripheral side of each device mounting pad and to the inside of the ceramic constituting the substrate body. Is possible.
(2) Since the bases of the respective element mounting pads adjacent to each other are located and the distance between the concave parts adjacent to each other can be made larger than the distance between the front parts of each of the element mounting pads, it is made of ceramic. The physical strength on the surface side of the substrate body can be kept high.
(3) Since the distance between the tip portions of the element mounting pads adjacent to each other can be minimized so as not to cause a short circuit, a plurality of the element mounting pads are formed at a high density on the surface of the substrate body. In addition, the entire wiring board can be easily downsized.
(4) On the surface of the element mounting pads and external connection terminals exposed on the surface side of the substrate body, the Au layer is formed on the surface layer side through the Ni layer on the base side by electrolytic metal plating through the inner layer wiring. Therefore, it is possible to exhibit both relatively high corrosion resistance and high solder wettability necessary for mounting the element.
(5) The wiring board is provided with at least two ceramic green sheets, at least one of the green sheets is punched, and at least one of the green sheets is provided with a metallized layer and the first connection. Since it is obtained by printing a conductive paste to be a wiring, an inner layer wiring, and a pair of external connection terminals and then performing electrolytic metal plating a plurality of times, it is relatively low compared to the technique described in Patent Document 1. It can be manufactured at a low cost.
尚、前記セラミックは、例えば、アルミナや窒化アルミニウムなどの高温焼成セラミック、あるいはガラス−セラミックなどの低温焼成セラミックである。
また、前記基板本体には、対向する表面および裏面を有する平板形状の形態のほか、前記複数の素子搭載用パッドが形成された表面の周辺に沿って側壁が立設され、且つ該側壁に囲まれたキャビティを有しており、該キャビティの底面を上記表面とする形態も含まれる。
更に、前記素子搭載用パッドに追って搭載される素子は、例えば、発光ダイオード(以下、LED素子と称する)やレーザーダイオード(以下、LD素子と称する)などの発光素子や、あるいは、パワー半導体のような比較的大きい発熱性の素子である。該素子搭載用パッドは、互いに異極となる一対(2個)以上が前記基板本体の表面側に形成される。
The ceramic is, for example, a high-temperature fired ceramic such as alumina or aluminum nitride, or a low-temperature fired ceramic such as glass-ceramic.
The substrate body has a flat plate shape having a front surface and a back surface facing each other, and a side wall is erected along the periphery of the surface on which the plurality of element mounting pads are formed, and is surrounded by the side wall. A configuration in which a cavity is provided and the bottom surface of the cavity is the above surface is also included.
Further, the elements mounted on the element mounting pad are, for example, light emitting elements such as light emitting diodes (hereinafter referred to as LED elements) and laser diodes (hereinafter referred to as LD elements), or power semiconductors. This is a relatively large exothermic element. A pair (two) or more of the element mounting pads having different polarities are formed on the surface side of the substrate body.
また、前記素子搭載用パッドの「前記基板本体の表面側に先部が該表面よりも外側に突出して」の「外側」とは、上記基板本体の表面側よりも上方向および斜め上方向の双方に突出していることを表している。
更に、前記素子搭載用パッドは、導電性および放熱性の観点から銅(以下、Cuと称する)あるいは銀(以下、Agと称する)からなることが推奨される。
また、前記一対の外部接続端子は、互いに異極となるプラス(+)とマイナス(−)の少なくとも一対からなり、前記基板本体の同じ表面、同じ裏面、同じ側面または異なる側面の何れかに形成されていたり、あるいは、前記一対が表面と裏面、表面と側面、裏面と側面の何れかに分れて形成されていても良い。
更に、前記外部接続端子は、互いに並列とした二対以上としても良い。
また、前記第1接続配線は、後述する第2接続配線と区別する呼称である。
加えて、前記内層配線は、製造時において、前記基板本体の表面側に露出する前記素子搭載用パッドや外部接続端子を電解金属メッキにより形成したり、前記素子搭載用パッドや外部接続端子の表面に対し、ニッケル(以下、Niと称する)および金(以下、Auと称する)を順次電解金属メッキした際に活用されたメッキ用配線回路の一部(残部)である。このような配線回路を製造時に有することで、比較的容易に且つ低コストで前記配線基板を得ることが可能となる。
Further, the “outside” of “the front side of the substrate body protrudes outside the surface” of the element mounting pad is an upward direction and a diagonally upward direction from the surface side of the substrate body. It shows that it protrudes to both sides.
Furthermore, it is recommended that the element mounting pad be made of copper (hereinafter referred to as Cu) or silver (hereinafter referred to as Ag) from the viewpoint of conductivity and heat dissipation.
Further, the pair of external connection terminals includes at least a pair of plus (+) and minus (−) having different polarities, and is formed on the same surface, the same back surface, the same side surface, or different side surfaces of the substrate body. Alternatively, the pair may be divided into a front surface and a back surface, a front surface and a side surface, or a back surface and a side surface.
Furthermore, the external connection terminals may be two or more pairs in parallel with each other.
The first connection wiring is a name that distinguishes it from the second connection wiring described later.
In addition, the inner layer wiring is formed by electrolytic metal plating on the element mounting pads and external connection terminals exposed on the surface side of the substrate body during manufacture, or on the surface of the element mounting pads and external connection terminals. On the other hand, it is a part (remainder) of the wiring circuit for plating utilized when nickel (hereinafter referred to as Ni) and gold (hereinafter referred to as Au) are successively subjected to electrolytic metal plating. By having such a wiring circuit at the time of manufacture, the wiring board can be obtained relatively easily and at low cost.
また、本発明には、前記基板本体の表面側において、前記素子搭載用パッドは、互いに異極となる一対が一組となる組パッドを構成しており、複数組の前記組パッドは、上記基板本体の表面側において平面視で直線状または並列状に配置され、且つ該組パッドごとにおける一方の素子搭載用パッドは、隣り合う組パッドにおける他方の素子搭載用パッドと第2接続配線を介して導通可能とされていると共に、上記複数組の組パッドにおいて、上記第2接続配線を介して電気的に接続されていない一方または他方の素子搭載用パッドは、前記第1接続配線を介して、互いに異極となる一対の前記外部接続端子と個別に接続されている、配線基板(請求項2)も含まれる。 Further, in the present invention, on the surface side of the substrate body, the element mounting pad constitutes a pair of pairs each having a different polarity, and a plurality of sets of the pair of pads are described above. One element mounting pad for each set pad is arranged on the surface side of the substrate body in a plan view, and the other element mount pad in the adjacent set pad is connected to the other set pad via the second connection wiring. In the plurality of sets of sets of pads, one or the other element mounting pad that is not electrically connected via the second connection wiring is connected via the first connection wiring. Also included is a wiring board (Claim 2) individually connected to the pair of external connection terminals having different polarities.
前記のような配線基板によれば、更に以下の効果(6),(7)が得られる。
(6)1つの配線基板の表面上に複数の前記組パッドを直線状に配置することによって、例えば、複数のLED素子やLD素子を直線状に配列した形態の照明や表示手段を、高い耐久性および信頼性をもって容易に提供することが可能となる。
(7)複数の前記組パッドを直線状および並列状の双方に配置に配置することで、1つの配線基板により、比較的広い面積を有する形態の照明や表示手段を上記と同様に提供可能となる。
According to the wiring board as described above, the following effects (6) and (7) are further obtained.
(6) By arranging a plurality of the assembly pads in a straight line on the surface of one wiring board, for example, lighting and display means in a form in which a plurality of LED elements and LD elements are arranged in a straight line are highly durable. It can be easily provided with reliability and reliability.
(7) By arranging a plurality of the assembly pads in both a linear shape and a parallel shape, a single wiring board can provide illumination and display means having a relatively large area in the same manner as described above. Become.
更に、本発明には、前記組パッドを構成する個々の素子搭載用パッドには、前記基板本体の内部に形成された前記内層配線が個別に接続されている、配線基板(請求項3)も含まれる。
これによれば、前記素子搭載用パッドごとに内層配線が個別に接続されているので、前記効果(4),(5)を一層確実に奏することが可能となる。
また、本発明には、前記基板本体の表面側において、互いに隣接する素子搭載用パッド同士間の平面視における距離は、50μm以上である、配線基板(請求項4)も含まれる。
これによれば、互いに隣接する素子搭載用パッド同士間における不用意な短絡を防止できるので、前記効果(3)を一層確実に奏することが可能となる。
Furthermore, the present invention also provides a wiring board (Claim 3) in which the inner layer wiring formed inside the substrate body is individually connected to each element mounting pad constituting the assembly pad. included.
According to this, since the inner layer wiring is individually connected for each of the element mounting pads, the effects (4) and (5) can be achieved more reliably.
Further, the present invention includes a wiring board (claim 4) in which the distance between the element mounting pads adjacent to each other on the surface side of the substrate body is 50 μm or more.
According to this, since an inadvertent short circuit between adjacent element mounting pads can be prevented, the effect (3) can be achieved more reliably.
更に、本発明には、前記基板本体の裏面側には、平面視において前記素子搭載用パッドと少なくとも一部が重複する単数または複数の金属パッドが形成されている、配線基板(請求項5)も含まれる。
これによれば、前記一対の素子搭載パッド(組パッド)の上方に搭載される素子が発する熱を、上記金属パッドを介して基板本体の裏面側からも外部に放熱可能となるので、前記効果(1)をより一層奏することが可能となる。
尚、前記金属パッドも、導電性および放熱性の観点からCuあるいはAgからなることが推奨される。
また、前記金属パッドには、予め所定の形状に成形された金属板や、前記素子搭載用パッドと同様に複数回の電解金属メッキにより次述する形態に形成されるものが含まれる。
Further, according to the present invention, on the back surface side of the substrate body, one or a plurality of metal pads at least partially overlapping with the element mounting pads in a plan view are formed (Claim 5). Is also included.
According to this, since the heat generated by the elements mounted above the pair of element mounting pads (assembled pads) can be dissipated to the outside from the back side of the substrate body via the metal pads, the effect described above is achieved. (1) can be further improved.
The metal pad is also preferably made of Cu or Ag from the viewpoint of conductivity and heat dissipation.
The metal pad includes a metal plate formed in a predetermined shape in advance and a metal plate formed in the following form by electrolytic metal plating a plurality of times as in the case of the element mounting pad.
加えて、本発明には、前記金属パッドは、基部が前記基板本体の裏面に形成された凹部内に位置し、且つ先部が前記裏面よりも外側に突出して形成されている、配線基板(請求項6)も含まれる。
これによれば、上記金属パッドの基部や先部を通じて、前記素子が発する熱の放熱性を一層高められ、前記効果(1)を一層顕著に奏することが可能となる。
尚、前記素子搭載用パッドの基部と上記金属パッドの基部との間に位置する前記基板本体を構成するセラミックの厚みは、約50〜100μmと比較的薄くすることが、上記放熱性を確保するための観点から望ましい。
また、前記金属パッドと前記素子搭載用パッドとを互いに同数とし、且つ両者の基部同士を前記基板本体の内部で対向させた形態のほか、前記複数の組パッドに対して単数または異なる総数(複数)の金属パッドを、平面視において少なくとも両者の基部同士が一部で重複する形態としても良い。
更に、前記形態の金属パッドを有する配線基板を得るには、3層以上のセラミック層を積層した基板本体が用いられる。
In addition, according to the present invention, the metal pad includes a wiring board in which a base portion is located in a recess formed on the back surface of the substrate body, and a tip portion protrudes outward from the back surface. Claim 6) is also included.
According to this, the heat dissipation of the heat generated by the element can be further enhanced through the base portion and the tip portion of the metal pad, and the effect (1) can be more remarkably exhibited.
The thickness of the ceramic constituting the substrate body located between the base of the element mounting pad and the base of the metal pad is relatively thin, about 50 to 100 μm, to ensure the heat dissipation. Because of this is desirable.
In addition to the form in which the number of the metal pads and the element mounting pads are equal to each other and the bases of the two are opposed to each other inside the substrate body, the number of the pads is singular or different from the plurality of set pads. The metal pad may have a configuration in which at least a part of both bases partially overlap each other in plan view.
Furthermore, in order to obtain a wiring board having the metal pads of the above-described form, a substrate body in which three or more ceramic layers are laminated is used.
以下において、本発明を実施するための形態について説明する。
図1は、本発明による一形態の配線基板1aを示す平面図、図2は、図1中のX−X線の矢視に沿った垂直断面図、図3は、図2中の一点鎖線部分Yの部分拡大垂直断面図である。
上記配線基板1aは、図1〜図3に示すように、平面視が細長い長方形(矩形)を呈し且つ全体が板形状の基板本体2aと、該基板本体2aの表面3における長辺方向に沿って直線状に配列された複数組の組パッド6と、前記表面3における長辺方向の両端側に個別に位置する一対の外部接続端子10a,10bとを備えている。
上記基板本体2aは、セラミック層c1,c2を一体に積層したもので、対向する表面3および裏面4と、これらの周辺間に位置する長辺および短辺の側面5a,5bとを有している。上記セラミック層c1,c2は、例えば、アルミナまたは窒化アルミニウムなどを主成分とし、複数の凹部3a,3bとなる貫通孔を有する上層側のセラミック層c1と、平板状のセラミック層c2とからなる。
Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described.
1 is a plan view showing an embodiment of a wiring board 1a according to the present invention, FIG. 2 is a vertical sectional view taken along the line XX in FIG. 1, and FIG. 3 is an alternate long and short dash line in FIG. 3 is a partially enlarged vertical sectional view of a portion Y. FIG.
As shown in FIGS. 1 to 3, the wiring board 1 a has an elongated rectangular (rectangular) shape in plan view, and has a plate-
The
図1〜図3に示すように、前記基板本体2aの表面3における長辺方向に沿って直線状に配列された複数組(本実施形態では4組)の組パッド6は、互いに異極(プラスとマイナス)となる一対の素子搭載用パッド6a,6bからなる。
上記素子搭載用パッド6a,6bは、平面視が矩形(長方形)状を呈し、前記基板本体2aの表面3に開口する凹部3a,3b内に位置する基部7bと、前記表面3よりも外側(即ち、該表面3よりも上方向および斜め上方向)に突出した先部7aとから構成される放熱部(パッド本体)7からなる。上記凹部3a,3bは、平面視が矩形(長方形)状であり、それらの底面ごとには、相似形のメタライズ層18が形成され、且つ上記先部7aの外部に露出する表面(上面および側面)には、電解金属メッキにより形成されたNi層8およびAu層9がそれぞれ所要の厚みで被覆されている。図3中に示すように、互いに最短距離で隣接する素子搭載用パッド6a,6b間の距離L1は、平面視で50μm以上とされている。かかる距離L1は、上記パッド6a,6b間の不用意な短絡を防止する。
As shown in FIGS. 1 to 3, a plurality of sets (four sets in this embodiment) of the
The
図1,図2に示すように、前記基板本体2aの表面3における長辺方向の両端側には、互いに異極となる一対の外部接続端子10a,10bが前記素子搭載用パッド6a,6bと同様にして形成されている。該外部接続端子10a,10bと、隣接する組パッド6ごとにおける上記素子搭載用パッド6a,6bとの間は、前記セラミック層c1,c2間に形成された第1接続配線21を介して、互い且つ個別に通電可能とされている。
また、複数組の組パッド6において、互いに隣接する前記素子搭載用パッド6a,6b間は、前記セラミック層c1,c2間に形成された第2接続配線22を介して、個別に電気的に接続されている。
更に、図1,図3に示すように、各組パッド6の前記素子搭載用パッド6a,6bには、基板本体2aにおける一対の側面5aの何れかに達する内層配線23が、基板本体2aの表面3の長手方向に沿って交互に且つ個別に接続されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, a pair of
Further, in the plurality of sets of
Further, as shown in FIG. 1 and FIG. 3, the
前記内層配線23は、前記セラミック層c1,c2間に形成され、本配線基板1aの製造時において、前記放熱部7を電解銅メッキまたは電解銀メッキによって形成すると共に、かかる放熱部7ごとにおける先部7aの表面に前記Ni層8およびAu層9を、電解Niメッキと電解Auメッキとによって個別に且つ順次被覆する際に用いられたメッキ電流専用の配線の一部(残部)である。
尚、前記放熱部(パッド本体)7は、導電性および伝熱性に優れたCuあるいはAgからなり、前記外部接続端子10a,10b、メタライズ層18、第1・第2接続配線21,22、および内層配線23は、主にWあるいはMoからなる。
また、上記外部接続端子10a,10bの外部に露出する表面にも、前記同様のNi層およびAu層(図示せず)が順次被覆されている。
The
The heat radiating portion (pad body) 7 is made of Cu or Ag having excellent conductivity and heat conductivity, and the
In addition, the same Ni layer and Au layer (not shown) as described above are sequentially coated on the surfaces exposed to the outside of the
図1〜図3に示すように、各組パッド6を構成する素子搭載用パッド6a,6bごとの上方には、図示しないロウ材を介して、例えば、LED素子のような比較的発熱量の大きな素子20が追って搭載される。
図1,図2に示すように、前記一対の外部接続端子10a,10bは、各組パッド6ごとの上方に個別に追って搭載される複数の上記素子20と、前記第1接続配線21および第2接続配線22とを介して、互いに電気的に導通可能となる。換言すると、上記一対の外部接続端子10a,10bと、複数組の組パッド6ごとの前記素子搭載用パッド6a,6bとは、第1接続配線21および第2接続配線22と、組パッド6ごとの上方に追って搭載される複数の上記素子20とを介して、1つの直列回路を形成可能としている。
As shown in FIG. 1 to FIG. 3, a relatively large amount of heat generated by, for example, an LED element is provided above each of the
As shown in FIGS. 1 and 2, the pair of
図4は、前記配線基板1aの応用形態を示す図3と同様な垂直断面図である。
かかる応用形態の配線基板1aは、図4に示すように、3層のセラミック層c1〜c3を一体に積層した基板本体2bを有し、下層側のセラミック層c3には、裏面4に開口し且つ平面視で前記凹部3a,3bと重複する複数の凹部4a,4bが形成されている。かかる凹部4a,4bの天井面(底面)にも、前記同様であるメタライズ層18が個別に形成され、該メタライズ層18同士間は、セラミック層c2,c3間に適宜パターンで形成された内層配線24を介して、電気的に接続されている。上記メタライズ層18を天井面に有する凹部4a,4b内ごとには、金属パッド14を構成する放熱部(パッド本体)15の基部15bが位置すると共に、基板本体2bの裏面4において、上記凹部4a,4bごとにおける裏面4の開口部側には、前記裏面4よりも外側に突出し、且つ前記先部7aと対称となる先部15aが形成されている。かかる先部15aごとの表面には、前記同様のNi層16とAu層17とが順次被覆されている。
FIG. 4 is a vertical sectional view similar to FIG. 3 showing an application form of the wiring board 1a.
As shown in FIG. 4, the wiring board 1a of such an application has a
尚、前記セラミック層c2の厚みを、約50〜100μmと比較的薄くすることで、前記素子搭載用パッド6a,6bの基部7bごとと、該セラミック層c2を挟んで対向する金属パッド14ごとの基部15bとの間における伝熱性を確保し、且つ裏面4側からの放熱も効率良くできるようにしている。
また、前記セラミックc1,c2は、前記基板本体2a,2bで凹部3a,3b,4a,4bが形成されている箇所ごとにおいて、貫通孔やビア導体を設けていないので、上記基板本体2a,2b自体の強度させることがない。
更に、前記基部7bと基部15bとは、平面視で一部が重複していても良い。
加えて、図4で上記パッド6a,6b間の距離L2も前記距離L1と同じである。
以上のような配線基板1aによれば、複数対の素子搭載用パッド6a,6bの先部7aが前記基板本体2a,2bの表面3よりも外側に突出して形成されていおり、前記凹部3a,3b間の距離を、前記素子搭載用パッド6a,6b間の距離L1,L2より大きくでき、且つ先部7a同士間の距離L1,L2を短絡が生じないように最小限に短くでき、且つ素子搭載用パッド6a,6bや外部接続端子10a,10bや金属パッド14ごとの表面にNi層8,16およびAu層9,17が順次被覆されているなどによって、前記効果(1)〜(4)、(6),(7)を奏し得る。
In addition, by making the thickness of the ceramic layer c2 relatively thin, about 50 to 100 μm, the
Further, since the ceramics c1 and c2 are not provided with through holes or via conductors in the portions where the
Further, the
In addition, the distance L2 between the
According to the wiring substrate 1a as described above, the
図5は、前記配線基板1aを製造するための素基板30を示す平面図である。
上記素基板30は、図5に示すように、平面視が矩形状を呈し、前記配線基板1aにおける長手方向の両側に一対の耳部31を個別に有している。前記配線基板1aと一対の耳部31との間には、仮想の切断予定面cfが設定されている。
上記一対の耳部31ごとにおける長辺の側面36には、平面視で半円形状である一対の凹み34が形成され、該凹み34ごとの内壁面に沿って平面視が円弧形状であるメッキ用電極35が個別に形成されている。該メッキ用電極35には、上記耳部31ごとの内部に形成されたメッキ専用の主内層配線32が副内層配線33を介して接続されている。前記主内層配線32と、前記配線基板1aにおける複数組の組パッド6における素子搭載用パッド6a,6bごととの間には、上記切断予定面cfを横切る複数の前記内層配線23が個別に形成されている。
FIG. 5 is a plan view showing an
As shown in FIG. 5, the
A pair of
前記のような素基板30を得るため、予め、アルミナ粉末などを含む2層または3層のグリーンシート(図示せず)を用意し、何れか1層のグリーンシートを平板状の形態のままとし、残り1層または2層のグリーンシートに打ち抜き加工を行い、追って前記凹部3a,3b、更に凹部4a,4bとなる複数の貫通孔を穿孔した。上記平板状のグリーンシートの片面または両面にW粉末などを含む導電性ペーストを所定パターンにより印刷して、未焼成の前記メタライズ層18、第1・第2接続配線21,22、および主・副内層配線32,33を形成した。
次に、平板状のグリーンシートの片面または両面に、上記貫通孔が形成された1層または2層のグリーンシートを積層および圧着してグリーンシート積層体を形成し、該積層体で対向する長辺の側面ごとに一対の前記凹み34を切り欠いた後、該凹み34ごとの内壁面に沿って未焼成の前記メッキ用電極35を形成した。かかる状態のグリーンシート積層体を同時焼成して前記セラミック層c1,c2、あるいはセラミック層c1〜c3からなる前記素基板31の基板本体を得た。
In order to obtain the
Next, the green sheet laminate is formed by laminating and pressing one or two green sheets with the through holes formed on one or both sides of a flat green sheet, and the laminate is opposed to the long sheet. After notching the pair of
次いで、前記基板本体を電解Cuメッキ浴中に浸漬して、前記前記凹部3a,3b、4a,4b内に基部7b、15bを有し、表面3の外側に突出する先部7aを有する放熱部7と、必要に応じて裏面4の外側に突出する先部15aを有する放熱部15とを形成した。更に、複数の上記放熱部7,15が形成された前記基板本体を、電解Niメッキ浴および電解Auメッキ浴中に順次浸漬して、上記放熱部7,15ごとの先部7a,15aの表面に前記Ni層8,16やAu層9,17を順次被覆した。そして、得られた前記素基板30に対し、前記切断予定面cfごとに沿ってダイシング加工を施して、前記一対の耳部31を切除した。その結果、前記配線基板1aを得ることができた。
Next, the substrate main body is immersed in an electrolytic Cu plating bath, and the heat radiating portion has
以上のように、前記配線基板1aを製造するには、複数のグリーンシートに対し、打ち抜き加工、導電性ペーストの印刷、積層・焼成、および複数回の電解金属メッキの各工程を順次行うことで済むので、背景技術で説明した従来の技術に比較して、少なく且つ簡素な工程により、低コストで製造することができた。
従って、前記配線基板1aが前記効果(5)を奏することも判明した。
尚、前記素基板30は、複数の前記配線基板1aを前記切断予定面cfにより区分して併設し、隣接する配線基板1a同士の間にも前記内層配線23を形成し、これらの配線基板1aの両側に前記一対の耳部31を設けた形態としても良い。
また、前記基板本体に電解Cuメッキを施す前に、前記電解Niメッキ浴中に前記基板本体を浸漬し、且つ前記第1・第2接続配線21,22、および内層配線32,33に通電する電解Niメッキを施すことによって、前記メタライズ層18ごとの表面にNi層を形成した後、該Ni層を含む前記基板本体を約500〜900℃に加熱し且つ所定時間にわたり保持する熱処理を施しても良い。かかるメッキ工程と熱処理工程とを施すことにより、前記放熱部7,15の基部7b,15bとメタライズ層18との間に上記Ni層が形成されるので、かかる両者間の密着強度が高められた配線基板1aを得ることが可能となる。
As described above, in order to manufacture the wiring board 1a, a plurality of green sheets are sequentially subjected to stamping, conductive paste printing, lamination / firing, and a plurality of times of electrolytic metal plating. Therefore, compared with the conventional technique described in the background art, it was possible to manufacture at a low cost with fewer and simple processes.
Therefore, it was also found that the wiring board 1a has the effect (5).
The
Further, before the electrolytic Cu plating is applied to the substrate body, the substrate body is immersed in the electrolytic Ni plating bath, and the first and
図6(A)は、前記とは異なる形態の配線基板1bを示す垂直断面図である。
上記配線基板1bは、図6(A)に示すように、セラミック層c1,c2からなり、対向する表面3および裏面4と、これらの周辺間に位置する側面5とを有する板形状の基板本体2aと、該基板本体2aの表面3における平面視で中央側に形成された一対の素子搭載用パッド6a,6b(一組の組パッド6)と、上記表面3の周辺側に形成された一対の外部接続端子10a,10bとを備えている。
上記素子搭載用パッド6a,6bは、それらの基部7bが前記と同じ凹部3a,3b内に位置し、該凹部3a,3bの底面ごとに形成された前記同様のメタライズ層18には、セラミック層c1,c2間において互いに離れて形成された一対の第1接続配線21の一端が個別に接続されている。該一対の第1接続配線21は、セラミック層c1を厚み方向に沿って貫通するビア導体19を介して、前記表面3に位置する外部接続端子10a,10bと個別に導通可能とされ、且つ当該第1接続配線21ごとの他端は、対向する側面5ごとに個別に達している。
FIG. 6A is a vertical sectional view showing a
As shown in FIG. 6A, the
The
また、前記メタライズ層18ごとには、平面視で前記第1接続配線21と直交する方向に沿って前記セラミック層c1,c2間に形成された内層配線23の一端が接続され、かかる内層配線23の他端は、図6(A)で前後方向に位置する側面5(図示せず)に達している。
更に、前記外部接続端子10a,10bは、図6(A)に示すように、基板本体2aの表面3上に形成された端子本体11と、その表面(上面および側面または周面)に順次被覆されたNi層12およびAu層13とを有している。
前記同様に、一対の素子搭載用パッド6a,6bの上方に追って前記素子20を搭載した際、一対の外部接続端子10a,10bは、図6(A)で左右のビア導体19、第1接続配線21、メタライズ層18、上記パッド6a,6b、および素子20を介して、互いに導通可能となる1つの直列回路を形成可能となる。
尚、前記端子本体11やビア導体19は、主にWあるいはMoからなる。
また、前記配線基板1bは、前記素基板31に準じて、複数の該配線基板1bを平面視で縦横に隣接して併設した多数個取りにて製造することが可能である。
Further, for each metallized
Further, as shown in FIG. 6A, the
Similarly to the above, when the
The
Further, the
図6(B)は、前記配線基板1bの変形形態である配線基板1cを示す前記同様の垂直断面図である。
上記配線基板1cも、図6(B)に示すように、前記同様の基板本体2a、一組の組パッド6となる素子搭載用パッド6a,6b、メタライズ層18、第1接続配線21、および内層配線23を備えている。該配線基板1cが前記配線基板1bと相違するのは、前記外部接続端子10a,10bに替えて、基板本体2aで対向する一対の側面5に個別に形成した一対の外部接続端子25a,25bを有している点である。
上記外部接続端子25a,25bは、上記一対の側面5ごとに平面視で半円形状の凹み26を前記表面3と裏面4との間で垂直に形成し、該凹み26ごとの内壁面に沿って平面視が円弧形状である一対の端子本体27を個別に形成すると共に、該端子本体27ごとの内壁面に沿って、Ni層28およびAu層29を順次被覆したものである。尚、上記端子本体27も、主にWまたはMoからなる。
FIG. 6B is a vertical sectional view similar to the above, showing a
As shown in FIG. 6B, the
The
図7は、前記配線基板1cを得るための製造方法の一例に関し、該配線基板1cを多数個取りによって得るための素基板40を示す平面図である。
上記素基板40は、前記セラミック層c1,c2からなり、図7に示すように、平面視で3個の前記配線基板1cを図示で左右方向に連続して配置し、これら同士の間および周辺に沿って仮想の切断予定面cfが設定され、かかる切断予定面cfの外周側を平面視が矩形枠状の耳部41が囲んでいる。図7中で左右方向に沿って連設された上記配線基板1c同士の間の切断予定面cfと、左右両端の配線基板1cにおける外周側の切断予定面cfとには、これらの切断予定面cfの中間部に跨って、全体が円筒形状で且つ平面視で中心側に円形の中空部39を垂直に有する複数の筒形導体38が個別に形成されている。
上記複数の筒形導体38と、これらと個別に隣接する各組パッド6の素子搭載用パッド6aあるいは素子搭載用パッド6bとの間には、前記同様の第1接続配線21が個別に形成されている。
FIG. 7 is a plan view showing an
The
Between the plurality of
また、前記素基板40において対向する長辺の側面36ごとの中間には、前記同様である一対の凹み34およびメッキ用電極35が個別に形成されている。該メッキ用電極35は、前記セラミック層c1,c2間に形成された副内層配線33、主内層配線32、および複数の前記内層配線23を介して、組パッド6ごとの素子搭載用パッド6a,6bの何れか一方と個別に導通可能とされている。
前記素基板40も、前述した2層のグリーンシートを用い、一方のグリーンシートにおける所要の位置ごとに対する打ち抜き加工、1層ないし2層のグリーンシートにおける両面または片面に対する導電性ペーストの印刷形成、上記グリーンシートの積層および圧着、得られたグリーンシート積層体を貫通する貫通孔の内壁面に対する導電性ペーストの塗布、および該グリーンシート積層体の焼成を行った後、前述した複数回の電解金属メッキを施すことによって、容易に製造可能である。
A pair of
The
但し、前記配線基板1cに対して、前述した複数回の電解金属メッキを施す場合には、以下のように、一部の工程が異なってくる。
前述した製造方法では、焼成後の素基板本体に電解Cuメッキを施したが、前記配線基板1cを製造する場合には、前記筒形導体38の内周面にCu層が被覆されないように、マスキングを行う。次いで、電解Cuメッキにより放熱部7を形成した後、前記マスキングを除去し、電解Niメッキ浴および電解Auメッキ浴に順次浸漬する。かかる方法により、上記筒形導体38は、Cu層がなく且つ中空部39を有する形態とされる。その後、前記切断予定面cfに沿ったダイシング加工を行うことによって、前記配線基板1cを得ることが可能となる。
However, when the above-described electrolytic metal plating is performed a plurality of times on the
In the manufacturing method described above, electrolytic Cu plating was performed on the fired base substrate body. However, when manufacturing the
以上のような配線基板1b,1cによれば、前記効果(1)〜(5)を奏することができる。
尚、前記配線基板1b,1cは、前記セラミック層c1〜c3を積層してなる前記基板本体2bと、その裏面4側に単数または複数の前記金属パッド14とを更に有する形態としても良い。
また、前記配線基板1a,1bは、前記図6(A)中の一点鎖線で例示するように、前記第1接続配線21を基板本体2a(2b)の表面3に沿って形成した形態としても良い。かかる形態とした場合、該第1接続配線21の外側に露出する表面にも、前記Ni層およびAu層が順次被覆される。
According to the
The
Further, the
図8(A)は、更に異なる形態の配線基板1dを示す平面図である。
上記配線基板1dは、図8(A)に示すように、平面視が長方形状の基板本体2aと、該基板本体2aにおける表面3の左辺側に沿って形成された上下一対の外部接続端子10a,10bと、上記表面3における図示で上下に併設された2組ずつ(合計4組)の組パッド6とを備えている。上記一対の外部接続端子10a,10bと、隣接する組パッド6ごとの素子搭載用端子6a,6bとの間は、上記基板本体2a内に形成された前記同様の第1接続配線21により接続されている。また、図8(A)に示すように、前記基板本体2aの表面3において、互いに隣接する組パッド6ごとの素子搭載用パッド6a,6b間と、図示で右辺側の組パッド6ごとの素子搭載用パッド6a,6b間とは、それぞれ上記基板本体2a内に形成された前記同様の第2接続配線22により個別に接続されている。
FIG. 8A is a plan view showing a further different form of the
As shown in FIG. 8A, the
更に、図8(A)に示すように、前記基板本体2aの表面3において、上下に併設された2組ずつの合計4組の組パッド6における素子搭載用端子6a,6bの一方と、基板本体2aにおける図示で上下の側面5との間には、前記同様の内層配線23が個別に形成されている。加えて、前記基板本体2aの表面3において、上下に併設された2組ずつの合計4組の組パッド6に囲まれた部位には、上記基板本体2a内に形成された水平な内層配線23と、該内層配線23と組パッド6ごとの素子搭載用端子6a,6bの一方との間を接続する複数の垂直な内層配線23とが形成されている。
即ち、前記配線基板1dは、平面視による基板本体2aの表面3において、図示で左辺側に設けた上下一対の外部接続端子10a,10bの間に、上記第1接続配線21と、上下一対ずつ合計4組の組パッド6と、隣接する組パッド6同士間で隣接する素子搭載用端子6a,6b間に形成された第2接続配線22と、各組パッド6における素子搭載用端子6a,6bの上方に追って搭載される前記素子20とを介して、図示で横向きU字形状の直列回路が形成可能とされている。
Further, as shown in FIG. 8A, on the
That is, the
図8(B)は、本発明による別異な形態の配線基板1eを示す平面図である。
上記配線基板1eは、図8(B)に示すように、前記同様の前記基板本体2aと、該基板本体2aの表面3における左右の短辺の側面5側に設けた左右一対の外部接続端子10a,10bと、上記表面3における図示で上下に併設された2組ずつ(合計4組)の組パッド6とを備えている。
上記左右一対の外部接続端子10a,10bと、これらと個別に隣接する上下2組の組パッド6ごとの素子搭載用パッド6a,6bの一方との間は、前記同様で且つ中間で二股に分岐した第1接続配線21を介して、導通可能とされている。また、図8(B)に示すように、前記基板本体2aの表面3において、互いに左右方向で隣接する組パッド6ごとの素子搭載用バッド6a,6b間は、上記基板本体2a内に形成された前記同様の第2接続配線22により接続されている。
FIG. 8B is a plan view showing a wiring board 1e having a different form according to the present invention.
As shown in FIG. 8B, the wiring board 1e includes a pair of left and right external connection terminals provided on the side 5 of the left and right short sides of the
Between the pair of left and right
更に、前記基板本体2aの表面3において、上下に併設された2組ごとの合計4組の組パッド6に囲まれた部位には、図8(B)に示すように、上記基板本体2a内に形成された水平な内層配線23と、該内層配線23から組パッド6ごとの素子搭載用端子6a,6bの一方との間を接続する複数の垂直な内層配線23とが形成されている。加えて、上記水平な内層配線23の中間には、平面視が円形状の幅広部が形成され、該幅広部の中心側には、下層側の前記セラミック層c2を貫通するビア導体19が接続され、該ビア導体19の先端には、何れかの側面5に達する内層配線(図示せず)が接続されている。
即ち、前記配線基板1eは、平面視の基板本体2aの表面3において、図示で左右の側面5側に設けた左右一対の外部接続端子10a,10b間に、前記第1接続配線21、上下一対ずつ合計4組の組パッド6と、左右で隣接する組パッド6間で隣接する素子搭載用端子6a,6b間に個別に形成された第2接続配線22と、各組パッド6における素子搭載用端子6a,6bの上方に追って搭載される前記素子20とを介して、平面視で1つの並列回路を形成可能とされている。
尚、上記配線基板1eは、前記素基板40に準じて製造することが可能である。
Further, in the
That is, the wiring board 1e includes the
The wiring board 1e can be manufactured according to the
図9は、前記配線基板1dを得るための素基板42を示す平面図である。
上記素基板42は、前記セラミック層c1,c2からなり、図9に示すように、平面視の中央側に前記配線基板1dを配置しており、該配線基板1dの周囲を切断予定面cfにより区分された平面視が矩形枠状の耳部43が囲んでいる。
平面視の上記素基板42において、上下一対の側面44の中間ごとに前記同様の凹み34およびメッキ用電極35が形成され、該メッキ用電極35と、近接する組パッド6ごとの素子搭載用端子6bとの間は、副内層配線33、主内層配線32、および前記同様の内層配線23を介して電気的に接続されている。
また、平面視の上記素基板42において、左辺の側面44の中間にも、前記同様の凹み34およびメッキ用電極35が形成され、該メッキ用電極35と、上下に併設された2組の組パッド6ごとの素子搭載用パッド6aとの間とは、記基板本体2a内の中間に形成された図示で水平な内層配線23と、該内層配線23から分岐した複数の垂直な内層配線23とを介して、導通可能とされている。
FIG. 9 is a plan view showing a
The
In the
Further, in the
前記素基板42も、前記素基板40と同様に容易に製造することが可能である。
従って、前記のような配線基板1d,1eによっても、前記効果(1)〜(7)を奏することが可能である。
尚、前記配線基板1d,1eは、前記セラミック層c1〜c3を積層してなる前記基板本体2bと、その裏面4側に単数または複数の前記金属パッド14とを更に有する形態としても良い。
The
Therefore, the effects (1) to (7) can be achieved by the
The
本発明は、以上において説明した各形態に限定されるものではない。
例えば、前記基板本体2a,2bを構成するセラミックは、ムライトなどの高温焼成セラミックとしたり、あるいはガラス−セラミックなどの低温焼成セラミックとしても良い。後者の場合、前記第1・第2接続配線21,22などには、上記ガラス−セラミックなどと同時焼成が可能なCuまたはAgが適用される。
また、前記基板本体2a,2bは、その表面3の周辺に沿って平面視が矩形枠状の側壁を突設した形態とし、該側壁に囲まれたキャビティの底面が前記表面3を兼用である形態としても良い。
更に、前記配線基板1b,1cは、基板本体2a(2b)の表面3側に複数組の組パッド6を併有し、且つこれらなどと追って搭載される素子20とにより、1組あるいは複数組の直列回路または並列回路が構成可能な形態としても良い。
The present invention is not limited to the embodiments described above.
For example, the ceramic constituting the
The
Further, the
また、前記外部接続端子10a,10b,25a,25bは、何れか一方を前記基板本体2a,2bの表面3に形成し、且つ他方を該基板本体2a,2bの側面5,5a,5bの何れかに形成した形態としたり、あるいは、何れか一方を前記基板本体2a,2bの表面3に形成し、且つ他方を該基板本体2a,2bの裏面4に形成した形態としても良い。
更に、前記素子搭載用パッド6a,6bの基部7bや、前記金属パッド14の基部15bは、複数の部分に分かれた(例えば、垂直断面で下駄形状を呈する)形態としても良く、かかる形態の場合、前記凹部3a,3b,4a,4bも同数の複数にして形成される。この場合、前記素子搭載用パッド6a,6bおよび前記金属パッド14と、前記基板本体2a,2bとの接触面積が増えることで、良好な放熱性が得られると共に、より高い接合強度を確保することもできる。
加えて、前記配線基板1d,1eは、追って搭載される素子20を介して、複数組の直列回路あるいは複数組の並列回路を併有可能とする形態としても良い。
One of the
Further, the
In addition, the
本発明によれば、セラミックからなり物理的強度を有する基板本体を備え、且つ該基板本体の同じ表面で隣接する素子搭載用パッド同士間の距離を小さくできると共に、搭載される素子の熱を外部に容易に放熱可能な配線基板を提供できる。 According to the present invention, a substrate main body made of ceramic and having physical strength is provided, and the distance between adjacent element mounting pads on the same surface of the substrate main body can be reduced, and the heat of the mounted element is externally transmitted. A wiring board capable of easily dissipating heat can be provided.
1a〜1e……………………………配線基板
2a,2b……………………………基板本体
3………………………………………表面
3a,3b……………………………凹部
4………………………………………裏面
5,5a,5b………………………側面
6………………………………………組パッド
6a,6b……………………………素子搭載用パッド
7a,15a…………………………先部
7b,15b…………………………基部
10a,10b,25a,25b…外部接続端子
14……………………………………金属パッド
21……………………………………第1接続配線
22……………………………………第2接続配線
23……………………………………内層接続配線
c1〜c3……………………………セラミック層(絶縁材)
L1,L2……………………………距離
1a to 1e ...................
L1, L2 …………………………… Distance
Claims (6)
上記素子搭載用パッドの基部、あるいは該基部の一部は、上記基板本体の表面に形成された複数の凹部内ごとに位置しており、
上記素子搭載用パッドと上記外部接続端子との間は、第1接続配線を介して、電気的に接続されていると共に、
上記素子搭載用パッドごとには、上記基板本体の内部に形成された内層配線が個別に接続されている、
ことを特徴とする配線基板。 A substrate main body made of ceramic and having opposing front and back surfaces and side surfaces located in the periphery thereof, and at least a pair of elements formed on the front surface side of the substrate main body so that the front portion protrudes outward from the surface A wiring board comprising a pad and a pair of external connection terminals formed on at least one of the front surface, the back surface, and the side surface of the substrate body,
The base part of the element mounting pad, or a part of the base part is located in each of the plurality of recesses formed on the surface of the substrate body,
The element mounting pad and the external connection terminal are electrically connected via a first connection wiring,
For each element mounting pad, the inner layer wiring formed inside the substrate body is individually connected.
A wiring board characterized by that.
複数組の上記組パッドは、上記基板本体の表面側において平面視で直線状または並列状に配置され、且つ該組パッドごとにおける一方の素子搭載用パッドは、隣り合う組パッドにおける他方の素子搭載用パッドと第2接続配線を介して導通可能とされていると共に、
上記複数組の組パッドにおいて、上記第2接続配線を介して電気的に接続されていない一方または他方の素子搭載用パッドは、前記第1接続配線を介して、互いに異極となる一対の前記外部接続端子と個別に接続されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の配線基板。 On the surface side of the substrate body, the element mounting pad constitutes a pair of pads each having a pair of different polarities,
The plurality of sets of the set pads are arranged linearly or in parallel in a plan view on the surface side of the substrate body, and one element mounting pad for each set pad is mounted on the other element in the adjacent set pad And can be conducted through the pad and the second connection wiring,
In the plurality of sets of sets of pads, one or the other element mounting pad that is not electrically connected via the second connection wiring is a pair of the polarities that are different from each other via the first connection wiring. Individually connected to the external connection terminal,
The wiring board according to claim 1.
ことを特徴とする請求項1または2に記載の配線基板。 The inner layer wiring formed inside the substrate body is individually connected to each element mounting pad constituting the set pad,
The wiring board according to claim 1 or 2, wherein
ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の配線基板。 On the surface side of the substrate body, the distance in plan view between the element mounting pads adjacent to each other is 50 μm or more.
The wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein
ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の配線基板。 On the back side of the substrate body, a single or a plurality of metal pads at least partially overlapping with the element mounting pads in plan view are formed.
The wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein the wiring board is provided.
ことを特徴とする請求項5に記載の配線基板。 The metal pad is formed such that a base portion is located in a recess formed on the back surface of the substrate body, and a tip portion protrudes outward from the back surface.
The wiring board according to claim 5.
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