JP2018120964A - Gas introduction member - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ガス導入部材に関する。 The present invention relates to a gas introduction member.
従来から、半導体製造プロセスにおいては、ガス供給源からガス導入配管を介して処理容器内に処理ガスを導入し、処理容器内で所定の処理を実行する基板処理装置が用いられている。 2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor manufacturing process, a substrate processing apparatus is used that introduces a processing gas into a processing container from a gas supply source via a gas introduction pipe and executes a predetermined process in the processing container.
基板処理装置としては、例えば処理容器内にて複数種類の処理ガスを順番にウエハに導入するサイクルを複数回繰り返して薄膜を形成する、所謂、回転テーブル式の成膜装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。 As a substrate processing apparatus, for example, a so-called rotary table type film forming apparatus that forms a thin film by repeating a cycle of sequentially introducing a plurality of types of processing gases into a wafer in a processing container a plurality of times is known ( For example, see Patent Document 1).
ところで、上記の成膜装置を用いて薄膜を形成する場合、電気特性の面内均一性の改善等の観点から、ガス供給源から供給される処理ガスを複数のラインに均等に分配して導入することが有効である場合がある。しかしながら、上記の文献には、ガス供給源から供給される処理ガスを均等に分配して導入する方法については開示されていない。 By the way, when forming a thin film using the above film forming apparatus, the processing gas supplied from the gas supply source is evenly distributed and introduced into a plurality of lines from the viewpoint of improving the in-plane uniformity of the electrical characteristics. It may be useful to do so. However, the above document does not disclose a method for evenly distributing and introducing the processing gas supplied from the gas supply source.
そこで、上記課題に鑑み、ガス供給源から供給されるガスを均等に分配することが可能なガス導入部材を提供することを目的とする。 Then, in view of the said subject, it aims at providing the gas introduction member which can distribute the gas supplied from a gas supply source equally.
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係るガス導入部材は、処理容器内にガスを導入可能なガス導入部材であって、ガス供給源と接続される第１流路と、前記第１流路を、第２流路及び第３流路に分岐させる第１分岐流路と、前記第２流路と前記第３流路とを接続すると共に、第４流路、第５流路及び第６流路に分岐させる第２分岐流路と、を有する。 In order to achieve the above object, a gas introduction member according to an aspect of the present invention is a gas introduction member capable of introducing gas into a processing container, the first flow path connected to a gas supply source, A first branch channel that branches one channel into a second channel and a third channel, and the second channel and the third channel are connected, and a fourth channel and a fifth channel are connected. And a second branch channel that branches into the sixth channel.
開示のガス導入部材によれば、ガス供給源から供給されるガスを均等に分配することができる。 According to the gas introduction member of the disclosure, the gas supplied from the gas supply source can be evenly distributed.
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の構成については、同一の符号を付することにより重複した説明を省く。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, in this specification and drawing, about the substantially same structure, the duplicate description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol.
本発明の実施形態のガス導入部材は、例えば半導体製造プロセスにおいて、ガス供給源から供給されるガスを複数に分配して処理容器内に導入可能なガス導入配管、マニホールドブロック等である。以下、一例として、第１実施形態及び第２実施形態ではガス導入配管について説明し、第３実施形態ではマニホールドブロックについて説明する。 The gas introduction member of the embodiment of the present invention is, for example, a gas introduction pipe, a manifold block, or the like that can distribute a gas supplied from a gas supply source into a plurality of parts and introduce it into a processing container in a semiconductor manufacturing process. Hereinafter, as an example, the first and second embodiments will describe the gas introduction pipe, and the third embodiment will explain the manifold block.
〔第１実施形態〕
第１実施形態のガス導入部材について説明する。図１は、第１実施形態のガス導入部材の一例を示す概略図である。図１（ａ）はガス導入部材の全体図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）の部分拡大図である。
[First Embodiment]
The gas introduction member of 1st Embodiment is demonstrated. FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an example of a gas introduction member of the first embodiment. FIG. 1A is an overall view of the gas introduction member, and FIG. 1B is a partially enlarged view of FIG.
図１（ａ）に示されるように、ガス導入部材は、第１配管１１、第１分岐配管２１、第２配管１２、第３配管１３、第２分岐配管２２、第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６を有する。第１配管１１、第２配管１２、第３配管１３、第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６は、それぞれ第１流路、第２流路、第３流路、第４流路、第５流路、及び第６流路を形成する。第１分岐配管２１、及び第２分岐配管２２は、それぞれ第１分岐流路、及び第２分岐流路を形成する。第１流路、第２流路、第３流路、第４流路、第５流路、第６流路、第１分岐配管２１、及び第２分岐配管２２は、略同一の断面積を有する。 As shown in FIG. 1A, the gas introduction members are the first pipe 11, the first branch pipe 21, the second pipe 12, the third pipe 13, the second branch pipe 22, the fourth pipe 14, and the fifth pipe. A pipe 15 and a sixth pipe 16 are provided. The first pipe 11, the second pipe 12, the third pipe 13, the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, and the sixth pipe 16 are respectively a first flow path, a second flow path, a third flow path, and a fourth flow path. A flow path, a fifth flow path, and a sixth flow path are formed. The first branch pipe 21 and the second branch pipe 22 form a first branch channel and a second branch channel, respectively. The first flow path, the second flow path, the third flow path, the fourth flow path, the fifth flow path, the sixth flow path, the first branch pipe 21, and the second branch pipe 22 have substantially the same cross-sectional area. Have.
第１配管１１は、ガス供給源（図示せず）と接続される配管である。第１配管１１の一端には、４つのガス入口１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄが形成されている。４つのガス入口１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄは、それぞれ異なるガス供給源に接続される。これにより、第１配管１１には、４つのガス供給源から異なるガスが供給され得る。ガス供給源は、例えば金属元素を含む有機金属ガス、半導体元素を含む半導体ガス、酸化ガス、窒化ガス等の処理ガスの供給源であってよく、Ｎ２ガス、Ａｒガス等の不活性ガスの供給源であってよい。第１配管１１の他端には、第１分岐配管２１が接続されている。 The first pipe 11 is a pipe connected to a gas supply source (not shown). At one end of the first pipe 11, four gas inlets 11a, 11b, 11c, and 11d are formed. The four gas inlets 11a, 11b, 11c, and 11d are connected to different gas supply sources. Thereby, different gases can be supplied to the first pipe 11 from the four gas supply sources. The gas supply source may be a supply source of a processing gas such as an organic metal gas containing a metal element, a semiconductor gas containing a semiconductor element, an oxidizing gas, or a nitriding gas, and an inert gas such as N 2 gas or Ar gas. It may be a source. A first branch pipe 21 is connected to the other end of the first pipe 11.
第１分岐配管２１は、第１配管１１を、第２配管１２及び第３配管１３に分岐させる配管である。第１分岐配管２１は、例えば第１配管１１と直交するように設けられている。 The first branch pipe 21 is a pipe that branches the first pipe 11 into the second pipe 12 and the third pipe 13. The first branch pipe 21 is provided, for example, so as to be orthogonal to the first pipe 11.
第２配管１２は、第１分岐配管２１の一端に接続される配管である。第２配管１２は、第１分岐配管２１を介して第１配管１１と連通する。これにより、第１配管１１を流れるガスの一部が、第１分岐配管２１を介して第２配管１２に供給される。第２配管１２は、例えば第１分岐配管２１と直交するように設けられている。 The second pipe 12 is a pipe connected to one end of the first branch pipe 21. The second pipe 12 communicates with the first pipe 11 via the first branch pipe 21. Thereby, a part of the gas flowing through the first pipe 11 is supplied to the second pipe 12 via the first branch pipe 21. The second pipe 12 is provided so as to be orthogonal to the first branch pipe 21, for example.
第３配管１３は、第１分岐配管２１の他端に接続される配管である。第３配管１３は、第１分岐配管２１を介して第１配管１１と連通する。これにより、第１配管１１を流れるガスの一部が、第１分岐配管２１を介して第３配管１３に供給される。第３配管１３は、例えば第１分岐配管２１と直交するように設けられている。 The third pipe 13 is a pipe connected to the other end of the first branch pipe 21. The third pipe 13 communicates with the first pipe 11 via the first branch pipe 21. As a result, part of the gas flowing through the first pipe 11 is supplied to the third pipe 13 via the first branch pipe 21. The third pipe 13 is provided, for example, so as to be orthogonal to the first branch pipe 21.
第２分岐配管２２は、第２配管１２及び第３配管１３を接続すると共に、第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６に分岐させる配管である。以下、第２配管１２と第２分岐配管２２とが接続される位置を接続位置Ａ２２、第３配管１３と第２分岐配管２２とが接続される位置を接続位置Ａ３２と称する。第２分岐配管２２は、例えば第２配管１２及び第３配管１３と直交するように設けられている。 The second branch pipe 22 is a pipe that connects the second pipe 12 and the third pipe 13 and branches the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, and the sixth pipe 16. Hereinafter, a position where the second pipe 12 and the second branch pipe 22 are connected is referred to as a connection position A22, and a position where the third pipe 13 and the second branch pipe 22 are connected is referred to as a connection position A32. The second branch pipe 22 is provided so as to be orthogonal to the second pipe 12 and the third pipe 13, for example.
第４配管１４は、第２分岐配管の２２の一端に接続される配管である。以下、第４配管１４と第２分岐配管２２とが接続される位置を接続位置Ａ４２と称する。第４配管１４は、第２分岐配管２２を介して第２配管１２及び第３配管１３と連通する。これにより、第２配管１２及び第３配管１３を流れるガスの一部が、第２分岐配管２２を介して第４配管１４に供給される。第４配管１４は、例えば第２分岐配管２２と直交するように設けられている。第４配管１４の第２分岐配管２２と接続される側と反対側の端部は、処理容器内にガスを導入するためのガス出口１４ａである。処理容器内には、ガス出口１４ａからガスが導入される。また、ガス出口１４ａには、所定の長さを有し、長さ方向に沿って複数のガス吐出孔が形成されたガスノズルが接続されていてもよい。この場合、ガスノズルに形成されたガス吐出孔から処理容器内にガスが導入される。 The fourth pipe 14 is a pipe connected to one end of the second branch pipe 22. Hereinafter, a position where the fourth pipe 14 and the second branch pipe 22 are connected is referred to as a connection position A42. The fourth pipe 14 communicates with the second pipe 12 and the third pipe 13 via the second branch pipe 22. Thereby, part of the gas flowing through the second pipe 12 and the third pipe 13 is supplied to the fourth pipe 14 via the second branch pipe 22. The fourth pipe 14 is provided so as to be orthogonal to the second branch pipe 22, for example. The end of the fourth pipe 14 opposite to the side connected to the second branch pipe 22 is a gas outlet 14a for introducing gas into the processing container. Gas is introduced into the processing container from the gas outlet 14a. The gas outlet 14a may be connected to a gas nozzle having a predetermined length and having a plurality of gas discharge holes formed along the length direction. In this case, gas is introduced into the processing container from the gas discharge hole formed in the gas nozzle.
第５配管１５は、第２分岐配管２２の長さ方向の中央部に接続される配管である。以下、第５配管１５と第２分岐配管２２とが接続される位置を接続位置Ａ５２と称する。第５配管１５は、第２分岐配管２２を介して第２配管１２及び第３配管１３と連通する。これにより、第２配管１２及び第３配管１３を流れるガスの一部が、第２分岐配管２２を介して第５配管１５に供給される。第５配管１５は、例えば第２分岐配管２２と直交するように設けられている。第５配管１５の第２分岐配管２２と接続される側と反対側の端部は、処理容器内にガスを導入するためのガス出口１５ａである。処理容器内には、ガス出口１５ａからガスが導入される。また、ガス出口１５ａには、所定の長さを有し、長さ方向に沿って複数のガス吐出孔が形成されたガスノズルが接続されていてもよい。この場合、ガスノズルに形成されたガス吐出孔から処理容器内にガスが導入される。 The fifth pipe 15 is a pipe connected to the central portion in the length direction of the second branch pipe 22. Hereinafter, the position where the fifth pipe 15 and the second branch pipe 22 are connected is referred to as a connection position A52. The fifth pipe 15 communicates with the second pipe 12 and the third pipe 13 via the second branch pipe 22. Thereby, a part of the gas flowing through the second pipe 12 and the third pipe 13 is supplied to the fifth pipe 15 via the second branch pipe 22. The fifth pipe 15 is provided so as to be orthogonal to the second branch pipe 22, for example. The end of the fifth pipe 15 opposite to the side connected to the second branch pipe 22 is a gas outlet 15a for introducing gas into the processing container. Gas is introduced into the processing container from the gas outlet 15a. The gas outlet 15a may be connected to a gas nozzle having a predetermined length and having a plurality of gas discharge holes formed along the length direction. In this case, gas is introduced into the processing container from the gas discharge hole formed in the gas nozzle.
第６配管１６は、第２分岐配管の２２の他端に接続される配管である。以下、第６配管１６と第２分岐配管２２とが接続される位置を接続位置Ａ６２と称する。第６配管１６は、第２分岐配管２２を介して第２配管１２及び第３配管１３と連通する。これにより、第２配管１２及び第３配管１３を流れるガスの一部が、第２分岐配管２２を介して第６配管１６に供給される。第６配管１６は、例えば第２分岐配管２２と直交するように設けられている。第６配管１６の第２分岐配管２２と接続される側と反対側の端部は、処理容器内にガスを導入するためのガス出口１６ａである。処理容器内には、ガス出口１６ａからガスが導入される。また、ガス出口１６ａには、所定の長さを有し、長さ方向に沿って複数のガス吐出孔が形成されたガスノズルが接続されていてもよい。この場合、ガスノズルに形成されたガス吐出孔から処理容器内にガスが導入される。 The sixth pipe 16 is a pipe connected to the other end of the second branch pipe 22. Hereinafter, the position where the sixth pipe 16 and the second branch pipe 22 are connected is referred to as a connection position A62. The sixth pipe 16 communicates with the second pipe 12 and the third pipe 13 via the second branch pipe 22. Thereby, a part of the gas flowing through the second pipe 12 and the third pipe 13 is supplied to the sixth pipe 16 via the second branch pipe 22. The sixth pipe 16 is provided, for example, so as to be orthogonal to the second branch pipe 22. The end of the sixth pipe 16 opposite to the side connected to the second branch pipe 22 is a gas outlet 16a for introducing gas into the processing container. A gas is introduced into the processing container from the gas outlet 16a. The gas outlet 16a may be connected to a gas nozzle having a predetermined length and having a plurality of gas discharge holes formed along the length direction. In this case, gas is introduced into the processing container from the gas discharge hole formed in the gas nozzle.
また、図１（ｂ）に示されるように、接続位置Ａ４２と接続位置Ａ２２との間の長さをＬ１、接続位置Ａ２２と接続位置Ａ３２との間の長さをＬ２、接続位置Ａ３２と接続位置Ａ６２との間の長さをＬ３とする。この場合、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３は、下記の関係式（１）を満たすことが好ましい。 Further, as shown in FIG. 1B, the length between the connection position A42 and the connection position A22 is L1, the length between the connection position A22 and the connection position A32 is L2, and the connection position A32 is connected. The length between the position A62 and the position A62 is L3. In this case, L1, L2, and L3 preferably satisfy the following relational expression (1).
Ｌ１：Ｌ２：Ｌ３＝１：２：１ （１）
図２は、第１実施形態のガス導入部材の別の例を示す概略図である。図２（ａ）はガス導入部材の全体図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）の部分拡大図である。図２（ｂ）に示されるように、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３は、下記の関係式（２）を満たすことがより好ましい。
L1: L2: L3 = 1: 2: 1 (1)
FIG. 2 is a schematic view showing another example of the gas introduction member of the first embodiment. FIG. 2A is an overall view of the gas introduction member, and FIG. 2B is a partially enlarged view of FIG. As shown in FIG. 2B, it is more preferable that L1, L2, and L3 satisfy the following relational expression (2).
Ｌ１：Ｌ２：Ｌ３＝１：４：１ （２）
なお、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３が上記の関係式（１）及び関係式（２）を満たすことが好ましい理由については後述する。
L1: L2: L3 = 1: 4: 1 (2)
The reason why L1, L2, and L3 preferably satisfy the above relational expressions (1) and (2) will be described later.
図３は、比較例のガス導入部材を示す概略図である。図３に示されるように、比較例のガス導入部材は、第１実施形態のガス導入部材と異なり、第２分岐配管２２を有していない。即ち、比較例のガス導入部材は、第１配管１１、第１分岐配管２１、第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６を有する。第１配管１１の一端には、４つのガス入口１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄが形成されている。第４配管１４の第１分岐配管２１と接続される側と反対側の端部は、処理容器内にガスを導入するためのガス出口１４ａである。第５配管１５の第１分岐配管２１と接続される側と反対側の端部は、処理容器内にガスを導入するためのガス出口１５ａである。第６配管１６の第１分岐配管２１と接続される側と反対側の端部は、処理容器内にガスを導入するためのガス出口１６ａである。 FIG. 3 is a schematic view showing a gas introducing member of a comparative example. As shown in FIG. 3, the gas introduction member of the comparative example does not have the second branch pipe 22 unlike the gas introduction member of the first embodiment. That is, the gas introduction member of the comparative example includes the first pipe 11, the first branch pipe 21, the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, and the sixth pipe 16. At one end of the first pipe 11, four gas inlets 11a, 11b, 11c, and 11d are formed. The end of the fourth pipe 14 opposite to the side connected to the first branch pipe 21 is a gas outlet 14a for introducing gas into the processing container. The end of the fifth pipe 15 opposite to the side connected to the first branch pipe 21 is a gas outlet 15a for introducing gas into the processing container. The end of the sixth pipe 16 opposite to the side connected to the first branch pipe 21 is a gas outlet 16a for introducing gas into the processing container.
次に、第１実施形態のガス導入部材の作用・効果について説明する。図４は、第１実施形態のガス導入部材の作用・効果を説明するための図である。図４（ａ）は、ガス入口１１ａからＡｒガスを１００ｓｃｃｍの流量で流したときのガス出口１４ａ，１５ａ，１６ａから吐出されるガスの流量比を示す。図４（ｂ）は、ガス入口１１ａからＡｒガスを１０００ｓｃｃｍの流量で流したときのガス出口１４ａ，１５ａ，１６ａから吐出されるガスの流量比を示す。図４（ａ）及び図４（ｂ）において、横軸はガス導入部材の種類（Ｐｉｐｅ ｔｙｐｅ）を示し、縦軸はＡｒガスの流量比（Ａｒ ｆｌｏｗ ｒａｔｉｏ［％］）を示す。また、四角印はガス出口１４ａから吐出されるＡｒガスの流量比、三角印はガス出口１５ａから吐出されるＡｒガスの流量比、丸印はガス出口１６ａから吐出されるＡｒガスの流量比を示す。また、「Ｃｕｒｒｅｎｔ」は図３に示される比較例のガス導入部材、「１：２：１」は図１に示される第１実施形態のガス導入部材、「１：４：１」は図２に示される第１実施形態のガス導入部材を用いた場合の結果を示す。 Next, operations and effects of the gas introduction member of the first embodiment will be described. FIG. 4 is a diagram for explaining the operation and effect of the gas introduction member of the first embodiment. FIG. 4A shows the flow rate ratio of the gas discharged from the gas outlets 14a, 15a and 16a when Ar gas is flowed from the gas inlet 11a at a flow rate of 100 sccm. FIG. 4B shows the flow rate ratio of the gas discharged from the gas outlets 14a, 15a, 16a when Ar gas is flowed from the gas inlet 11a at a flow rate of 1000 sccm. 4A and 4B, the horizontal axis indicates the type of the gas introduction member (Pipe type), and the vertical axis indicates the flow rate ratio of Ar gas (Ar flow ratio [%]). The square marks indicate the flow ratio of Ar gas discharged from the gas outlet 14a, the triangle marks indicate the flow ratio of Ar gas discharged from the gas outlet 15a, and the circle marks indicate the flow ratio of Ar gas discharged from the gas outlet 16a. Show. Further, “Current” is the gas introducing member of the comparative example shown in FIG. 3, “1: 2: 1” is the gas introducing member of the first embodiment shown in FIG. 1, and “1: 4: 1” is FIG. The result at the time of using the gas introduction member of 1st Embodiment shown by is shown.
図４（ａ）に示されるように、Ａｒガスの流量が１００ｓｃｃｍである場合、第１実施形態のガス導入部材を用いると（「１：２：１」，「１：４：１」）、ガス出口１４ａ，１５ａ，１６ａから吐出されるＡｒガスの流量が略均一になっていることが分かる。即ち、第１実施形態のガス導入部材を用いることで、ガス供給源から供給されるガスを均等に分配することができる。また、図１に示される第１実施形態のガス導入部材よりも、図２に示される第１実施形態のガス導入部材を用いる方が、ガス出口１４ａ，１５ａ，１６ａから吐出されるＡｒガスの流量の均一性が良好になっていることが分かる。 As shown in FIG. 4A, when the flow rate of Ar gas is 100 sccm, when the gas introduction member of the first embodiment is used (“1: 2: 1”, “1: 4: 1”), It can be seen that the flow rate of Ar gas discharged from the gas outlets 14a, 15a, 16a is substantially uniform. That is, by using the gas introduction member of the first embodiment, the gas supplied from the gas supply source can be evenly distributed. Further, the Ar gas discharged from the gas outlets 14a, 15a, and 16a is more effective when the gas introducing member of the first embodiment shown in FIG. 2 is used than the gas introducing member of the first embodiment shown in FIG. It can be seen that the uniformity of the flow rate is good.
これに対し、図３に示される比較例のガス導入部材を用いると（「Ｃｕｒｒｅｎｔ」）、ガス出口１４ａから吐出されるＡｒガスの流量が、ガス出口１５ａ及びガス出口１６ａから吐出されるＡｒガスの流量よりも１０％程度大きくなっていることが分かる。即ち、比較例のガス導入部材を用いると、ガス供給源から供給されるＡｒガスを均等に分配することができない。 On the other hand, when the gas introduction member of the comparative example shown in FIG. 3 is used (“Current”), the flow rate of Ar gas discharged from the gas outlet 14a is Ar gas discharged from the gas outlet 15a and the gas outlet 16a. It can be seen that the flow rate is about 10% larger than the flow rate. That is, when the gas introduction member of the comparative example is used, the Ar gas supplied from the gas supply source cannot be evenly distributed.
また、図４（ｂ）に示されるように、Ａｒガスの流量が１０００ｓｃｃｍの場合、第１実施形態のガス導入部材を用いると（「１：２：１」，「１：４：１」）、ガス出口１４ａ，１５ａ，１６ａから吐出されるＡｒガスの流量が略均一になっていることが分かる。即ち、第１実施形態のガス導入部材を用いることで、ガス供給源から供給されるＡｒガスを均等に分配することができる。また、図１に示される第１実施形態のガス導入部材よりも、図２に示される第１実施形態のガス導入部材を用いる方が、ガス出口１４ａ，１５ａ，１６ａから吐出されるＡｒガスの流量の均一性が良好になっていることが分かる。 As shown in FIG. 4B, when the flow rate of Ar gas is 1000 sccm, the gas introduction member of the first embodiment is used (“1: 2: 1”, “1: 4: 1”). It can be seen that the flow rate of Ar gas discharged from the gas outlets 14a, 15a, 16a is substantially uniform. That is, the Ar gas supplied from the gas supply source can be evenly distributed by using the gas introduction member of the first embodiment. Further, the Ar gas discharged from the gas outlets 14a, 15a, and 16a is more effective when the gas introducing member of the first embodiment shown in FIG. 2 is used than the gas introducing member of the first embodiment shown in FIG. It can be seen that the uniformity of the flow rate is good.
これに対し、図３に示される比較例のガス導入部材を用いた場合、ガス出口１４ａから吐出されるＡｒガスの流量が、ガス出口１５ａ，１５ａから吐出されるＡｒガスの流量よりも１０％以上大きくなっていることが分かる。即ち、比較例のガス導入部材を用いると、ガス供給源から導入されるＡｒガスを均等に分配することができない。 On the other hand, when the gas introduction member of the comparative example shown in FIG. 3 is used, the flow rate of Ar gas discharged from the gas outlet 14a is 10% of the flow rate of Ar gas discharged from the gas outlets 15a and 15a. It turns out that it is larger. That is, when the gas introduction member of the comparative example is used, the Ar gas introduced from the gas supply source cannot be evenly distributed.
以上に説明したように、第１実施形態のガス導入部材は、２つの配管（第２配管１２、第３配管１３）を接続すると共に、３つの配管（第４配管１４、第５配管１５、第６配管１６）に分岐させる第２分岐配管２２を有する。これにより、ガス供給源から供給されるガスを均等に分配することができる。 As explained above, the gas introduction member of the first embodiment connects two pipes (second pipe 12 and third pipe 13) and three pipes (fourth pipe 14, fifth pipe 15, The second branch pipe 22 is branched to the sixth pipe 16). Thereby, the gas supplied from a gas supply source can be distributed equally.
また、第１実施形態のガス導入部材では、バッファタンクを使用することなく、ガス供給源から供給されるガスを均等に分配することができる。このため、処理容器内に導入するガスの種類を変更する際、ガスの置換を短時間で行うことができる。 Moreover, in the gas introduction member of 1st Embodiment, the gas supplied from a gas supply source can be equally distributed, without using a buffer tank. For this reason, when changing the kind of gas introduce | transduced in a processing container, substitution of gas can be performed in a short time.
〔第２実施形態〕
第２実施形態のガス導入部材について説明する。図５は、第２実施形態のガス導入部材の一例を示す概略図である。図５（ａ）はガス導入部材の全体図であり、図５（ｂ）は図５（ａ）の部分拡大図である。
[Second Embodiment]
The gas introduction member of 2nd Embodiment is demonstrated. FIG. 5 is a schematic view showing an example of a gas introduction member of the second embodiment. FIG. 5A is an overall view of the gas introduction member, and FIG. 5B is a partially enlarged view of FIG.
図５（ａ）に示されるように、第２実施形態のガス導入部材は、４つのガス出口を有する点で、第１実施形態のガス導入部材と異なる。 As shown in FIG. 5A, the gas introduction member of the second embodiment is different from the gas introduction member of the first embodiment in that it has four gas outlets.
ガス導入部材は、第１配管１１、第１分岐配管２１、第２配管１２、第３配管１３、第２分岐配管２２、第４配管１４、第５配管１５、第６配管１６、第３分岐配管２３、第７配管１７、第８配管１８、第９配管１９、及び第１０配管２０を有する。第１配管１１から第１０配管２０は、第１流路から第１０流路を形成する。第１分岐配管２１から第３分岐配管２３は、第１分岐流路から第３分岐流路を形成する。第１流路から第１０流路、及び第１分岐流路から第３分岐流路は、略同一の断面積を有する。 The gas introduction members are the first pipe 11, the first branch pipe 21, the second pipe 12, the third pipe 13, the second branch pipe 22, the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, the sixth pipe 16, and the third branch. It has a pipe 23, a seventh pipe 17, an eighth pipe 18, a ninth pipe 19, and a tenth pipe 20. The first pipe 11 to the tenth pipe 20 form the tenth flow path from the first flow path. The first branch pipe 21 to the third branch pipe 23 form a third branch path from the first branch path. The first channel to the tenth channel and the first branch channel to the third branch channel have substantially the same cross-sectional area.
第１配管１１の一端には、４つのガス入口１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄが形成されている。４つのガス入口１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄは、それぞれ異なるガス供給源に接続される。これにより、第１配管１１には、４つのガス供給源から異なるガスが供給され得る。 At one end of the first pipe 11, four gas inlets 11a, 11b, 11c, and 11d are formed. The four gas inlets 11a, 11b, 11c, and 11d are connected to different gas supply sources. Thereby, different gases can be supplied to the first pipe 11 from the four gas supply sources.
第１分岐配管２１、第２配管１２、第３配管１３、及び第２分岐配管２２については、第１実施形態と同様とすることができる。 The first branch pipe 21, the second pipe 12, the third pipe 13, and the second branch pipe 22 can be the same as those in the first embodiment.
第４配管１４は、第２分岐配管の２２の一端に接続される配管である。第４配管１４は、第２分岐配管２２を介して第２配管１２及び第３配管１３と連通する。これにより、第２配管１２及び第３配管１３を流れるガスの一部が、第２分岐配管２２を介して第４配管１４に供給される。 The fourth pipe 14 is a pipe connected to one end of the second branch pipe 22. The fourth pipe 14 communicates with the second pipe 12 and the third pipe 13 via the second branch pipe 22. Thereby, part of the gas flowing through the second pipe 12 and the third pipe 13 is supplied to the fourth pipe 14 via the second branch pipe 22.
第５配管１５は、第２分岐配管２２の長さ方向の中央部に接続される配管である。第５配管１５は、第２分岐配管２２を介して第２配管１２及び第３配管１３と連通する。これにより、第２配管１２及び第３配管１３を流れるガスの一部が、第２分岐配管２２を介して第５配管１５に供給される。 The fifth pipe 15 is a pipe connected to the central portion in the length direction of the second branch pipe 22. The fifth pipe 15 communicates with the second pipe 12 and the third pipe 13 via the second branch pipe 22. Thereby, a part of the gas flowing through the second pipe 12 and the third pipe 13 is supplied to the fifth pipe 15 via the second branch pipe 22.
第６配管１６は、第２分岐配管の２２の他端に接続される配管である。第６配管１６は、第２分岐配管２２を介して第２配管１２及び第３配管１３と連通する。これにより、第２配管１２及び第３配管１３を流れるガスの一部が、第２分岐配管２２を介して第６配管１６に供給される。 The sixth pipe 16 is a pipe connected to the other end of the second branch pipe 22. The sixth pipe 16 communicates with the second pipe 12 and the third pipe 13 via the second branch pipe 22. Thereby, a part of the gas flowing through the second pipe 12 and the third pipe 13 is supplied to the sixth pipe 16 via the second branch pipe 22.
第３分岐配管２３は、第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６を接続すると共に、第７配管１７、第８配管１８、第９配管１９、及び第１０配管２０に分岐させる配管である。以下、第４配管１４と第３分岐配管２３とが接続される位置を接続位置Ａ４３、第５配管１５と第３分岐配管２３とが接続される位置を接続位置Ａ５３、第６配管１６と第３分岐配管２３とが接続される位置を接続位置Ａ６３と称する。第３分岐配管２３は、例えば第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６と直交するように設けられている。 The third branch pipe 23 connects the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, and the sixth pipe 16, and branches to the seventh pipe 17, the eighth pipe 18, the ninth pipe 19, and the tenth pipe 20. It is piping. Hereinafter, the position where the fourth pipe 14 and the third branch pipe 23 are connected is the connection position A43, the position where the fifth pipe 15 and the third branch pipe 23 are connected is the connection position A53, the sixth pipe 16 and the sixth pipe 16. A position where the three-branch pipe 23 is connected is referred to as a connection position A63. The third branch pipe 23 is provided so as to be orthogonal to the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, and the sixth pipe 16, for example.
第７配管１７は、第３分岐配管の２３の一端に接続される配管である。以下、第７配管１７と第３分岐配管２３とが接続される位置を接続位置Ａ７３と称する。第７配管１７は、第３分岐配管２３を介して第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６と連通する。これにより、第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６を流れるガスの一部が、第３分岐配管２３を介して第７配管１７に供給される。第７配管１７は、例えば第３分岐配管２３と直交するように設けられている。第７配管１７の第３分岐配管２３と接続される側と反対側の端部は、処理容器内にガスを導入するためのガス出口１７ａである。処理容器内には、ガス出口１７ａからガスが導入される。また、ガス出口１７ａには、所定の長さを有し、長さ方向に沿って複数のガス吐出孔が形成されたガスノズルが接続されていてもよい。この場合、ガスノズルに形成されたガス吐出孔から処理容器内にガスが導入される。 The seventh pipe 17 is a pipe connected to one end of the third branch pipe 23. Hereinafter, a position where the seventh pipe 17 and the third branch pipe 23 are connected is referred to as a connection position A73. The seventh pipe 17 communicates with the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, and the sixth pipe 16 through the third branch pipe 23. Thereby, a part of the gas flowing through the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, and the sixth pipe 16 is supplied to the seventh pipe 17 through the third branch pipe 23. The seventh pipe 17 is provided, for example, so as to be orthogonal to the third branch pipe 23. The end of the seventh pipe 17 opposite to the side connected to the third branch pipe 23 is a gas outlet 17a for introducing gas into the processing container. A gas is introduced into the processing container from a gas outlet 17a. The gas outlet 17a may be connected to a gas nozzle having a predetermined length and having a plurality of gas discharge holes formed along the length direction. In this case, gas is introduced into the processing container from the gas discharge hole formed in the gas nozzle.
第８配管１８は、第３分岐配管の２３における接続位置Ａ４３と接続位置Ａ５３との間に接続される配管である。以下、第８配管１８と第３分岐配管２３とが接続される位置を接続位置Ａ８３と称する。第８配管１８は、第３分岐配管２３を介して第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６と連通する。これにより、第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６を流れるガスの一部が、第３分岐配管２３を介して第８配管１８に供給される。第８配管１８は、例えば第３分岐配管２３と直交するように設けられている。第８配管１８の第３分岐配管２３と接続される側と反対側の端部は、処理容器内にガスを導入するためのガス出口１８ａである。処理容器内には、ガス出口１８ａからガスが導入される。また、ガス出口１８ａには、所定の長さを有し、長さ方向に沿って複数のガス吐出孔が形成されたガスノズルが接続されていてもよい。この場合、ガスノズルに形成されたガス吐出孔から処理容器内にガスが導入される。 The eighth pipe 18 is a pipe connected between the connection position A43 and the connection position A53 in the third branch pipe 23. Hereinafter, a position where the eighth pipe 18 and the third branch pipe 23 are connected is referred to as a connection position A83. The eighth pipe 18 communicates with the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, and the sixth pipe 16 through the third branch pipe 23. Thereby, a part of the gas flowing through the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, and the sixth pipe 16 is supplied to the eighth pipe 18 through the third branch pipe 23. For example, the eighth pipe 18 is provided so as to be orthogonal to the third branch pipe 23. The end of the eighth pipe 18 opposite to the side connected to the third branch pipe 23 is a gas outlet 18a for introducing gas into the processing container. Gas is introduced into the processing container from the gas outlet 18a. The gas outlet 18a may be connected to a gas nozzle having a predetermined length and having a plurality of gas discharge holes formed along the length direction. In this case, gas is introduced into the processing container from the gas discharge hole formed in the gas nozzle.
第９配管１９は、第３分岐配管の２３における接続位置Ａ５３と接続位置Ａ６３との間に接続される配管である。以下、第９配管１９と第３分岐配管２３とが接続される位置を接続位置Ａ９３と称する。第９配管１９は、第３分岐配管２３を介して第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６と連通する。これにより、第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６を流れるガスの一部が、第３分岐配管２３を介して第９配管１９に供給される。第９配管１９は、例えば第３分岐配管２３と直交するように設けられている。第９配管１９の第３分岐配管２３と接続される側と反対側の端部は、処理容器内にガスを導入するためのガス出口１９ａである。処理容器内には、ガス出口１９ａからガスが導入される。また、ガス出口１９ａには、所定の長さを有し、長さ方向に沿って複数のガス吐出孔が形成されたガスノズルが接続されていてもよい。この場合、ガスノズルに形成されたガス吐出孔から処理容器内にガスが導入される。 The ninth pipe 19 is a pipe connected between the connection position A53 and the connection position A63 in the third branch pipe 23. Hereinafter, the position where the ninth pipe 19 and the third branch pipe 23 are connected is referred to as a connection position A93. The ninth pipe 19 communicates with the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, and the sixth pipe 16 through the third branch pipe 23. As a result, part of the gas flowing through the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, and the sixth pipe 16 is supplied to the ninth pipe 19 through the third branch pipe 23. The ninth pipe 19 is provided so as to be orthogonal to the third branch pipe 23, for example. The end of the ninth pipe 19 opposite to the side connected to the third branch pipe 23 is a gas outlet 19a for introducing gas into the processing container. A gas is introduced into the processing container from a gas outlet 19a. The gas outlet 19a may be connected to a gas nozzle having a predetermined length and having a plurality of gas discharge holes formed along the length direction. In this case, gas is introduced into the processing container from the gas discharge hole formed in the gas nozzle.
第１０配管２０は、第３分岐配管の２３の他端に接続される配管である。以下、第１０配管２０と第３分岐配管２３とが接続される位置を接続位置Ａ１０３と称する。第１０配管２０は、第３分岐配管２３を介して第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６と連通する。これにより、第４配管１４、第５配管１５、及び第６配管１６を流れるガスの一部が、第３分岐配管２３を介して第１０配管２０に供給される。第１０配管２０は、例えば第３分岐配管２３と直交するように設けられている。第１０配管２０の第３分岐配管２３と接続される側と反対側の端部は、処理容器内にガスを導入するためのガス出口２０ａである。処理容器内には、ガス出口２０ａからガスが導入される。また、ガス出口２０ａには、所定の長さを有し、長さ方向に沿って複数のガス吐出孔が形成されたガスノズルが接続されていてもよい。この場合、ガスノズルに形成されたガス吐出孔から処理容器内にガスが導入される。 The tenth pipe 20 is a pipe connected to the other end of the third branch pipe 23. Hereinafter, a position where the tenth pipe 20 and the third branch pipe 23 are connected is referred to as a connection position A103. The tenth pipe 20 communicates with the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, and the sixth pipe 16 through the third branch pipe 23. Thereby, a part of the gas flowing through the fourth pipe 14, the fifth pipe 15, and the sixth pipe 16 is supplied to the tenth pipe 20 through the third branch pipe 23. For example, the tenth pipe 20 is provided so as to be orthogonal to the third branch pipe 23. The end of the tenth pipe 20 opposite to the side connected to the third branch pipe 23 is a gas outlet 20a for introducing gas into the processing container. Gas is introduced into the processing container from the gas outlet 20a. The gas outlet 20a may be connected to a gas nozzle having a predetermined length and having a plurality of gas discharge holes formed along the length direction. In this case, gas is introduced into the processing container from the gas discharge hole formed in the gas nozzle.
また、図５（ｂ）に示されるように、接続位置Ａ７３と接続位置Ａ４３との間の長さをＬ１１、接続位置Ａ４３と接続位置Ａ８３との間の長さをＬ１２、接続位置Ａ８３と接続位置Ａ９３との間の長さをＬ１３、接続位置Ａ９３と接続位置Ａ６３との間の長さをＬ１４、接続位置Ａ６３と接続位置Ａ１０３との間の長さをＬ１５とする。この場合、Ｌ１１，Ｌ１２，Ｌ１３，Ｌ１４，Ｌ１５は、下記の関係式（３）を満たすことが好ましい。 Further, as shown in FIG. 5B, the length between the connection position A73 and the connection position A43 is L11, the length between the connection position A43 and the connection position A83 is L12, and the connection position A83 is connected. The length between the position A93 is L13, the length between the connection position A93 and the connection position A63 is L14, and the length between the connection position A63 and the connection position A103 is L15. In this case, L11, L12, L13, L14, and L15 preferably satisfy the following relational expression (3).
Ｌ１１：Ｌ１２：Ｌ１３：Ｌ１４：Ｌ１５＝１：１：４：１：１ （３）
なお、Ｌ１１，Ｌ１２，Ｌ１３，Ｌ１４，Ｌ１５が上記の関係式（３）を満たすことが好ましい理由については後述する。
L11: L12: L13: L14: L15 = 1: 1: 4: 1: 1 (3)
The reason why L11, L12, L13, L14, and L15 preferably satisfy the above relational expression (3) will be described later.
次に、第２実施形態のガス導入部材の作用・効果について説明する。図６は、第２実施形態のガス導入部材の作用・効果を説明するための図である。図６において、左図及び右図は、ガス入口１１ａからＡｒガスを、それぞれ１００ｓｃｃｍ及び１０００ｓｃｃｍの流量で流したときのガス出口１７ａ，１８ａ，１９ａ，２０ａから吐出されるガスの流量比を示す。図６において、縦軸はＡｒガスの流量比（Ａｒ ｆｌｏｗ ｒａｔｉｏ［％］）を示す。 Next, the operation and effect of the gas introduction member of the second embodiment will be described. FIG. 6 is a view for explaining the operation and effect of the gas introduction member of the second embodiment. In FIG. 6, the left figure and the right figure show the flow rate ratio of the gas discharged from the gas outlets 17a, 18a, 19a, and 20a when Ar gas is supplied from the gas inlet 11a at flow rates of 100 sccm and 1000 sccm, respectively. In FIG. 6, the vertical axis represents the Ar gas flow ratio (Ar flow ratio [%]).
図６に示されるように、第２実施形態のガス導入部材を用いると、Ａｒガスの流量によらず、ガス出口１７ａ，１８ａ，１９ａ，２０ａから吐出されるＡｒガスの流量が略均一になっていることが分かる。即ち、第２実施形態のガス導入部材を用いることで、ガス供給源から供給されるＡｒガスを均等に分配することができる。 As shown in FIG. 6, when the gas introduction member of the second embodiment is used, the flow rate of Ar gas discharged from the gas outlets 17a, 18a, 19a, and 20a becomes substantially uniform regardless of the flow rate of Ar gas. I understand that That is, the Ar gas supplied from the gas supply source can be evenly distributed by using the gas introduction member of the second embodiment.
以上に説明したように、第２実施形態のガス導入部材は、２つの配管（第２配管１２、第３配管１３）を接続すると共に、３つの配管（第４配管１４、第５配管１５、第６配管１６）に分岐させる第２分岐配管２２を有する。また、３つの配管（第４配管１４、第５配管１５、第６配管１６）を接続すると共に、４つの配管（第７配管１７、第８配管１８、第９配管１９、第１０配管２０）に分岐させる第３分岐配管２３を有する。これにより、ガス供給源から供給されるガスを均等に分配することができる。 As described above, the gas introduction member of the second embodiment connects two pipes (second pipe 12 and third pipe 13) and three pipes (fourth pipe 14, fifth pipe 15, The second branch pipe 22 is branched to the sixth pipe 16). In addition, three pipes (fourth pipe 14, fifth pipe 15, and sixth pipe 16) are connected and four pipes (seventh pipe 17, eighth pipe 18, ninth pipe 19, and tenth pipe 20) are connected. A third branch pipe 23 that branches into Thereby, the gas supplied from a gas supply source can be distributed equally.
また、第２実施形態のガス導入部材では、バッファタンクを使用することなく、ガス供給源から供給されるガスを均等に分配することができる。このため、処理容器内に導入するガスの種類を変更する際、ガスの置換を短時間で行うことができる。 Moreover, in the gas introduction member of 2nd Embodiment, the gas supplied from a gas supply source can be equally distributed, without using a buffer tank. For this reason, when changing the kind of gas introduce | transduced in a processing container, substitution of gas can be performed in a short time.
〔第３実施形態〕
第３実施形態のガス導入部材について説明する。
[Third Embodiment]
The gas introduction member of 3rd Embodiment is demonstrated.
図７は、第３実施形態のガス導入部材の一例を示す概略斜視図である。図８は、図７における一点鎖線Ａ−Ａにおいて切断した断面図である。 FIG. 7 is a schematic perspective view showing an example of the gas introduction member of the third embodiment. 8 is a cross-sectional view taken along the one-dot chain line AA in FIG.
図９から図１３は、図７のガス導入部材を各方向から見た図である。具体的には、図９は、図７のガス導入部材をＹ２側から見たときの図（正面図）である。図１０は、図７のガス導入部材をＺ１側から見たときの図（上面図）である。図１１は、図７のガス導入部材をＺ２側から見たときの図（下面図）である。図１２は、図７のガス導入部材をＸ２側から見たときの図（左側面図）である。図１３は、図７のガス導入部材をＸ１側から見たときの図（右側面図）である。 9 to 13 are views of the gas introduction member of FIG. 7 as viewed from each direction. Specifically, FIG. 9 is a view (front view) when the gas introduction member of FIG. 7 is viewed from the Y2 side. FIG. 10 is a view (top view) when the gas introduction member of FIG. 7 is viewed from the Z1 side. FIG. 11 is a view (bottom view) when the gas introduction member of FIG. 7 is viewed from the Z2 side. 12 is a view (left side view) of the gas introduction member of FIG. 7 when viewed from the X2 side. FIG. 13 is a view (right side view) of the gas introduction member of FIG. 7 viewed from the X1 side.
図７から図１３に示されるように、第３実施形態のガス導入部材は、配管に代えてマニホールドブロックによってガスの流路が形成されている点で、第１実施形態のガス導入部材と異なる。 As shown in FIGS. 7 to 13, the gas introduction member of the third embodiment is different from the gas introduction member of the first embodiment in that a gas flow path is formed by a manifold block instead of a pipe. .
ガス導入部材は、基台１００と、ガス入力穴１１１と、ガス出力穴１１４，１１５，１１６と、ガス流路穴１１２，１１３，１２１，１２２と、プラグ１５２，１５３，１６１，１６２とを有する。基台１００は、例えばアルミ合金により形成される。ガス入力穴１１１は、第１流路を形成する。ガス流路穴１２１及びプラグ１６１は、第１分岐流路を形成する。ガス流路穴１１２及びプラグ１５２は、第２流路を形成する。ガス流路穴１１３及びプラグ１５３は、第３流路を形成する。ガス流路穴１２２及びプラグ１６２は、第２分岐流路を形成する。ガス出力穴１１４、ガス出力穴１１５、及びガス出力穴１１６は、それぞれ第４流路、第５流路、及び第６流路を形成する。第１流路、第２流路、第３流路、第４流路、第５流路、第６流路、第１分岐配管２１、及び第２分岐配管２２は、略同一の断面積を有する。 The gas introduction member has a base 100, a gas input hole 111, gas output holes 114, 115, 116, gas flow path holes 112, 113, 121, 122, and plugs 152, 153, 161, 162. . The base 100 is made of, for example, an aluminum alloy. The gas input hole 111 forms a first flow path. The gas channel hole 121 and the plug 161 form a first branch channel. The gas flow path hole 112 and the plug 152 form a second flow path. The gas flow path hole 113 and the plug 153 form a third flow path. The gas passage hole 122 and the plug 162 form a second branch passage. The gas output hole 114, the gas output hole 115, and the gas output hole 116 form a fourth flow path, a fifth flow path, and a sixth flow path, respectively. The first flow path, the second flow path, the third flow path, the fourth flow path, the fifth flow path, the sixth flow path, the first branch pipe 21, and the second branch pipe 22 have substantially the same cross-sectional area. Have.
また、基台１００の上面には、ヒータを取り付けるためのヒータ取付穴１７２が形成されている。ヒータ取付穴１７２は、例えば基台１００の下面まで貫通する貫通穴である。ヒータ取付穴１７２にヒータを取り付けることで、流路を流れるガスを容易に加熱することができる。 A heater mounting hole 172 for mounting a heater is formed on the upper surface of the base 100. The heater mounting hole 172 is a through hole that penetrates to the lower surface of the base 100, for example. By attaching a heater to the heater attachment hole 172, the gas flowing through the flow path can be easily heated.
また、基台１００の左側面には、熱電対等の温度センサを取り付けるためのセンサ取付穴１７４が形成されている。センサ取付穴１７４に温度センサを取り付けることで、流路を流れるガスの温度を測定することができる。 A sensor mounting hole 174 for mounting a temperature sensor such as a thermocouple is formed on the left side surface of the base 100. By attaching a temperature sensor to the sensor attachment hole 174, the temperature of the gas flowing through the flow path can be measured.
また、基台１００の正面には、基台１００を処理容器等に固定するための基台取付穴１７６が形成されている。 A base mounting hole 176 for fixing the base 100 to a processing container or the like is formed on the front surface of the base 100.
ガス入力穴１１１は、ガス入口１１１ａを介してガス供給源（図示せず）と接続される穴である。ガス入力穴１１１には、ガス供給源からガスが供給され得る。ガス入力穴１１１には、ガス流路穴１２１が接続されている。 The gas input hole 111 is a hole connected to a gas supply source (not shown) through the gas inlet 111a. Gas can be supplied to the gas input hole 111 from a gas supply source. A gas passage hole 121 is connected to the gas input hole 111.
ガス流路穴１２１は、ガス入力穴１１１を、ガス流路穴１１２及びガス流路穴１１３に分岐させる穴である。ガス流路穴１２１は、例えばガス入力穴１１１と直交するように設けられている。ガス流路穴１２１は、基台１００の右側面においてプラグ１６１により封止されている。 The gas channel hole 121 is a hole that branches the gas input hole 111 into the gas channel hole 112 and the gas channel hole 113. The gas passage hole 121 is provided so as to be orthogonal to the gas input hole 111, for example. The gas passage hole 121 is sealed with a plug 161 on the right side surface of the base 100.
ガス流路穴１１２は、ガス流路穴１２１に接続される穴である。ガス流路穴１１２は、ガス流路穴１２１を介してガス入力穴１１１と連通する。これにより、ガス入力穴１１１を流れるガスの一部が、ガス流路穴１２１を介してガス流路穴１１２に供給される。ガス流路穴１１２は、例えばガス流路穴１２１と直交するように設けられている。ガス流路穴１１２は、基台１００の下面においてプラグ１５２により封止されている。 The gas flow path hole 112 is a hole connected to the gas flow path hole 121. The gas channel hole 112 communicates with the gas input hole 111 through the gas channel hole 121. Thereby, a part of the gas flowing through the gas input hole 111 is supplied to the gas flow path hole 112 through the gas flow path hole 121. The gas channel hole 112 is provided so as to be orthogonal to the gas channel hole 121, for example. The gas flow path hole 112 is sealed with a plug 152 on the lower surface of the base 100.
ガス流路穴１１３は、ガス流路穴１２１に接続される穴である。ガス流路穴１１３は、ガス流路穴１２１を介してガス入力穴１１１と連通する。これにより、ガス入力穴１１１を流れるガスの一部が、ガス流路穴１２１を介してガス流路穴１１３に供給される。ガス流路穴１１３は、例えばガス流路穴１２１と直交するように設けられている。ガス流路穴１１３は、基台１００の下面においてプラグ１５３により封止されている。 The gas flow path hole 113 is a hole connected to the gas flow path hole 121. The gas channel hole 113 communicates with the gas input hole 111 through the gas channel hole 121. Thereby, a part of the gas flowing through the gas input hole 111 is supplied to the gas flow path hole 113 through the gas flow path hole 121. The gas passage hole 113 is provided so as to be orthogonal to the gas passage hole 121, for example. The gas passage hole 113 is sealed with a plug 153 on the lower surface of the base 100.
ガス流路穴１２２は、ガス流路穴１１２及びガス流路穴１１３を接続すると共に、ガス出力穴１１４、ガス出力穴１１５、及びガス出力穴１１６に分岐させる穴である。以下、ガス流路穴１１２とガス流路穴１２２とが接続される位置を接続位置Ｂ２２、ガス流路穴１１３とガス流路穴１２２とが接続される位置を接続位置Ｂ３２と称する。ガス流路穴１２２は、例えばガス流路穴１１２及びガス流路穴１１３と直交するように設けられている。ガス流路穴１２２は、基台１００の右側面においてプラグ１６２により封止されている。 The gas channel hole 122 is a hole that connects the gas channel hole 112 and the gas channel hole 113 and branches to the gas output hole 114, the gas output hole 115, and the gas output hole 116. Hereinafter, a position where the gas flow path hole 112 and the gas flow path hole 122 are connected is referred to as a connection position B22, and a position where the gas flow path hole 113 and the gas flow path hole 122 are connected is referred to as a connection position B32. The gas flow path hole 122 is provided so as to be orthogonal to the gas flow path hole 112 and the gas flow path hole 113, for example. The gas passage hole 122 is sealed with a plug 162 on the right side surface of the base 100.
ガス出力穴１１４は、ガス流路穴１２２に接続される穴である。以下、ガス出力穴１１４とガス流路穴１２２とが接続される位置を接続位置Ｂ４２と称する。ガス出力穴１１４は、ガス流路穴１２２を介してガス流路穴１１２及びガス流路穴１１３と連通する。これにより、ガス流路穴１１２及びガス流路穴１１３を流れるガスの一部が、ガス流路穴１２２を介してガス出力穴１１４に供給される。ガス出力穴１１４は、例えばガス流路穴１２２と直交するように設けられている。ガス出力穴１１４のガス流路穴１２２と接続される側と反対側は、ガスを出力するためのガス出口１１４ａである。処理容器内には、ガス出口１１４ａからガスが導入される。 The gas output hole 114 is a hole connected to the gas flow path hole 122. Hereinafter, the position where the gas output hole 114 and the gas passage hole 122 are connected is referred to as a connection position B42. The gas output hole 114 communicates with the gas flow path hole 112 and the gas flow path hole 113 through the gas flow path hole 122. As a result, part of the gas flowing through the gas passage hole 112 and the gas passage hole 113 is supplied to the gas output hole 114 through the gas passage hole 122. The gas output hole 114 is provided so as to be orthogonal to the gas flow path hole 122, for example. The side opposite to the side connected to the gas flow path hole 122 of the gas output hole 114 is a gas outlet 114a for outputting gas. A gas is introduced into the processing container from a gas outlet 114a.
ガス出力穴１１５は、ガス流路穴１２２に接続される穴である。以下、ガス出力穴１１５とガス流路穴１２２とが接続される位置を接続位置Ｂ５２と称する。ガス出力穴１１５は、ガス流路穴１２２を介してガス流路穴１１２及びガス流路穴１１３と連通する。これにより、ガス流路穴１１２及びガス流路穴１１３を流れるガスの一部が、ガス流路穴１２２を介してガス出力穴１１５に供給される。ガス出力穴１１５は、例えばガス流路穴１２２と直交するように設けられている。ガス出力穴１１５のガス流路穴１２２と接続される側と反対側は、ガスを出力するためのガス出口１１５ａである。処理容器内には、ガス出口１１５ａからガスが導入される。 The gas output hole 115 is a hole connected to the gas flow path hole 122. Hereinafter, a position where the gas output hole 115 and the gas flow path hole 122 are connected is referred to as a connection position B52. The gas output hole 115 communicates with the gas flow path hole 112 and the gas flow path hole 113 through the gas flow path hole 122. As a result, a part of the gas flowing through the gas passage hole 112 and the gas passage hole 113 is supplied to the gas output hole 115 via the gas passage hole 122. The gas output hole 115 is provided so as to be orthogonal to the gas flow path hole 122, for example. A side of the gas output hole 115 opposite to the side connected to the gas flow path hole 122 is a gas outlet 115a for outputting gas. A gas is introduced into the processing container from a gas outlet 115a.
ガス出力穴１１６は、ガス流路穴１２２に接続される穴である。以下、ガス出力穴１１６とガス流路穴１２２とが接続される位置を接続位置Ｂ６２と称する。ガス出力穴１１６は、ガス流路穴１２２を介してガス流路穴１１２及びガス流路穴１１３と連通する。これにより、ガス流路穴１１２及びガス流路穴１１３を流れるガスの一部が、ガス流路穴１２２を介してガス出力穴１１６に供給される。ガス出力穴１１６は、例えばガス流路穴１２２と直交するように設けられている。ガス出力穴１１６のガス流路穴１２２と接続される側と反対側は、ガスを出力するためのガス出口１１６ａである。処理容器内には、ガス出口１１６ａからガスが導入される。 The gas output hole 116 is a hole connected to the gas flow path hole 122. Hereinafter, a position where the gas output hole 116 and the gas flow path hole 122 are connected is referred to as a connection position B62. The gas output hole 116 communicates with the gas passage hole 112 and the gas passage hole 113 through the gas passage hole 122. As a result, a part of the gas flowing through the gas passage hole 112 and the gas passage hole 113 is supplied to the gas output hole 116 via the gas passage hole 122. The gas output hole 116 is provided so as to be orthogonal to the gas flow path hole 122, for example. The side of the gas output hole 116 opposite to the side connected to the gas flow path hole 122 is a gas outlet 116a for outputting gas. A gas is introduced into the processing container from a gas outlet 116a.
また、図８に示されるように、接続位置Ｂ４２と接続位置Ｂ２２との間の長さをＬ２１、接続位置Ｂ２２と接続位置Ｂ３２との間の長さをＬ２２、接続位置Ｂ３２と接続位置Ｂ６２との間の長さをＬ２３とする。この場合、Ｌ２１，Ｌ２２，Ｌ２３は、下記の関係式（４）を満たすことが好ましい。 Further, as shown in FIG. 8, the length between the connection position B42 and the connection position B22 is L21, the length between the connection position B22 and the connection position B32 is L22, and the connection position B32 and the connection position B62 are The length between is set to L23. In this case, L21, L22, and L23 preferably satisfy the following relational expression (4).
Ｌ２１：Ｌ２２：Ｌ２３＝１：２：１ （４）
また、Ｌ２１，Ｌ２２，Ｌ２３は、下記の関係式（５）を満たすことがより好ましい。
L21: L22: L23 = 1: 2: 1 (4)
L21, L22, and L23 more preferably satisfy the following relational expression (5).
Ｌ２１：Ｌ２２：Ｌ２３＝１：４：１ （５）
以上に説明したように、第３実施形態のガス導入部材は、２つの穴（ガス流路穴１１２、ガス流路穴１１３）を接続すると共に、３つの穴（ガス出力穴１１４、ガス出力穴１１５、ガス出力穴１１６）に分岐させるガス流路穴１２２を有する。これにより、第１実施形態と同様に、ガス供給源から供給されるガスを均等に分配することができる。
L21: L22: L23 = 1: 4: 1 (5)
As described above, the gas introduction member of the third embodiment connects two holes (the gas passage hole 112 and the gas passage hole 113) and three holes (the gas output hole 114 and the gas output hole). 115 and a gas passage hole 122 for branching to a gas output hole 116). Thereby, similarly to 1st Embodiment, the gas supplied from a gas supply source can be distributed equally.
また、第３実施形態のガス導入部材では、バッファタンクを使用することなく、ガス供給源から供給されるガスを均等に分配することができる。このため、第１実施形態と同様に、処理容器内に導入するガスの種類を変更する際、ガスの置換を短時間で行うことができる。 In the gas introduction member of the third embodiment, the gas supplied from the gas supply source can be evenly distributed without using the buffer tank. For this reason, as in the first embodiment, when the type of gas introduced into the processing container is changed, gas replacement can be performed in a short time.
特に、第３実施形態のガス導入部材は、ガスの流路がマニホールドブロックにより形成されている。これにより、ガス導入部材の小型化を図ることができる。 In particular, in the gas introduction member of the third embodiment, the gas flow path is formed by a manifold block. Thereby, size reduction of a gas introduction member can be achieved.
また、第３実施形態のガス導入部材では、基台１００の上面に、ヒータを取り付けるためのヒータ取付穴１７２が形成されている。これにより、ヒータ取付穴１７２にヒータを取り付けて、流路を流れるガスを容易に加熱することができる。 In the gas introducing member of the third embodiment, a heater mounting hole 172 for mounting a heater is formed on the upper surface of the base 100. Thereby, a heater can be attached to the heater attachment hole 172, and the gas which flows through a flow path can be heated easily.
以上、本発明を実施するための形態について説明したが、上記内容は、発明の内容を限定するものではなく、本発明の範囲内で種々の変形及び改良が可能である。 As mentioned above, although the form for implementing this invention was demonstrated, the said content does not limit the content of invention, Various deformation | transformation and improvement are possible within the scope of the present invention.
上記の各実施形態では、ガス入口が４個の場合を例に挙げて説明したが、これに限定されず、ガス入口が１個の場合であっても、複数個の場合であっても、本発明を適用することができる。 In each of the above embodiments, the case where the number of gas inlets is four has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and the number of gas inlets may be one or plural. The present invention can be applied.
上記の各実施形態では、ガス出口が３個又は４個の場合を例に挙げて説明したが、これに限定されず、ガス出口が５個以上の場合であっても本発明を適用することができる。 In each of the above embodiments, the case where there are three or four gas outlets has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied even when there are five or more gas outlets. Can do.
１１ 第１配管
１２ 第２配管
１３ 第３配管
１４ 第４配管
１５ 第５配管
１６ 第６配管
２１ 第１分岐配管
２２ 第２分岐配管
１１１ ガス入力穴
１１２ ガス流路穴
１１３ ガス流路穴
１１４ ガス出力穴
１１５ ガス出力穴
１１６ ガス出力穴
１２１ ガス流路穴
１２２ ガス流路穴
１５２ プラグ
１５３ プラグ
１６１ プラグ
１６２ プラグ
11 1st piping 12 2nd piping 13 3rd piping 14 4th piping 15 5th piping 16 6th piping 21 1st branch piping 22 2nd branch piping 111 Gas input hole 112 Gas channel hole 113 Gas channel hole 114 Gas Output hole 115 Gas output hole 116 Gas output hole 121 Gas flow path hole 122 Gas flow path hole 152 Plug 153 Plug 161 Plug 162 Plug
Claims (8)
ガス供給源と接続される第１流路と、
前記第１流路を、第２流路及び第３流路に分岐させる第１分岐流路と、
前記第２流路と前記第３流路とを接続すると共に、第４流路、第５流路及び第６流路に分岐させる第２分岐流路と、
を有する、
ガス導入部材。 A gas introduction member capable of introducing gas into the processing container,
A first flow path connected to the gas supply source;
A first branch channel that branches the first channel into a second channel and a third channel;
A second branch flow path for connecting the second flow path and the third flow path and branching into a fourth flow path, a fifth flow path, and a sixth flow path;
Having
Gas introduction member.
前記第２流路と前記第２分岐流路との接続位置と、前記第３流路と前記第２分岐流路との接続位置との間の長さをＬ２、
前記第３流路と前記第２分岐流路との接続位置と、前記第２分岐流路と前記第６流路との接続位置との間の長さをＬ３、
としたとき、Ｌ１：Ｌ２：Ｌ３＝１：２：１の関係を満たす、
請求項１に記載のガス導入部材。 The length between the connection position of the second flow path and the second branch flow path and the connection position of the second branch flow path and the fourth flow path is L1,
The length between the connection position of the second flow path and the second branch flow path and the connection position of the third flow path and the second branch flow path is L2,
The length between the connection position of the third flow path and the second branch flow path and the connection position of the second branch flow path and the sixth flow path is L3,
And satisfying the relationship of L1: L2: L3 = 1: 2: 1.
The gas introduction member according to claim 1.
前記第２流路と前記第２分岐流路との接続位置と、前記第３流路と前記第２分岐流路との接続位置との間の長さをＬ２、
前記第３流路と前記第２分岐流路との接続位置と、前記第２分岐流路と前記第６流路との接続位置との間の長さをＬ３、
としたとき、Ｌ１：Ｌ２：Ｌ３＝１：４：１の関係を満たす、
請求項１に記載のガス導入部材。 The length between the connection position of the second flow path and the second branch flow path and the connection position of the second branch flow path and the fourth flow path is L1,
The length between the connection position of the second flow path and the second branch flow path and the connection position of the third flow path and the second branch flow path is L2,
The length between the connection position of the third flow path and the second branch flow path and the connection position of the second branch flow path and the sixth flow path is L3,
And satisfying the relationship of L1: L2: L3 = 1: 4: 1.
The gas introduction member according to claim 1.
請求項１乃至３のいずれか一項に記載のガス導入部材。 The second branch channel is orthogonal to the second channel, the third channel, the fourth channel, the fifth channel, and the sixth channel.
The gas introduction member according to any one of claims 1 to 3.
請求項１乃至４のいずれか一項に記載のガス導入部材。 The cross-sectional area of the second branch flow path is substantially the same as the cross-sectional area of the second flow path and the cross-sectional area of the third flow path.
The gas introduction member according to any one of claims 1 to 4.
請求項１乃至５のいずれか一項に記載のガス導入部材。 The first flow path communicates with a plurality of gas supply sources.
The gas introduction member according to any one of claims 1 to 5.
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のガス導入部材。 The first channel, the second channel, the third channel, the fourth channel, the fifth channel, the sixth channel, the first branch channel, and the second branch channel Is formed by piping,
The gas introduction member according to any one of claims 1 to 6.
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のガス導入部材。 The first flow path, the second flow path, the third flow path, the fourth flow path, the fifth flow path, and the sixth flow path are formed by a manifold block.
The gas introduction member according to any one of claims 1 to 6.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP (1) | JP6735688B2 (en) |
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