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JP2018112702A - Method of manufacturing reverse mode polymer dispersed light control device - Google Patents

Method of manufacturing reverse mode polymer dispersed light control device Download PDF

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JP2018112702A
JP2018112702A JP2017004313A JP2017004313A JP2018112702A JP 2018112702 A JP2018112702 A JP 2018112702A JP 2017004313 A JP2017004313 A JP 2017004313A JP 2017004313 A JP2017004313 A JP 2017004313A JP 2018112702 A JP2018112702 A JP 2018112702A
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英夫 藤掛
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Takahiro Ishinabe
隆宏 石鍋
陽生 柴田
Yosei Shibata
陽生 柴田
雅徳 大塚
Masanori Otsuka
雅徳 大塚
平井 真理子
Mariko Hirai
真理子 平井
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Hiroyuki Takemoto
博之 武本
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Abstract

【課題】電圧無印加時の透過性に優れたリバースモードの高分子分散型調光デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のリバースモードの高分子分散型調光デバイスの製造方法は、一対の基板を用意すること;一対の基板の一方の基板上に、液晶化合物およびモノマー成分を含む液晶組成物を塗布して塗布層を形成すること;塗布層上に他方の基板を積層して積層体を作製すること;および、積層体に活性エネルギー線照射を行うこと;を含む。本発明の実施形態においては、活性エネルギー線照射時の温度TIRは−10℃〜20℃である。
【選択図】図1
The present invention provides a method for producing a reverse mode polymer dispersed light control device having excellent permeability when no voltage is applied.
A method for producing a reverse mode polymer dispersed light control device according to the present invention comprises preparing a pair of substrates; a liquid crystal composition comprising a liquid crystal compound and a monomer component on one of the pair of substrates. Forming a coating layer by coating the other substrate on the coating layer; and irradiating the stack with active energy rays. In embodiments of the present invention, the temperature T IR during active energy ray irradiation is -10 ° C. to 20 ° C..
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、リバースモードの高分子分散型調光デバイスの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a reverse mode polymer dispersed light control device.

従来、ポリマーと液晶材料との複合体における光散乱効果を利用した調光デバイスの開発が行われている。このような複合体においては、ポリマーマトリクス内で液晶材料が相分離または分散した構造をとることから、ポリマーと液晶材料の屈折率をマッチングすること、および、該複合体に電圧を印加して液晶材料の配向を変化させることによって、光を透過させる透過モードと光を散乱させる散乱モードとを制御することができる。   Conventionally, a light control device using a light scattering effect in a composite of a polymer and a liquid crystal material has been developed. In such a composite, since the liquid crystal material has a structure in which the liquid crystal material is phase-separated or dispersed in the polymer matrix, the refractive index of the polymer and the liquid crystal material is matched, and a voltage is applied to the composite to apply the liquid crystal. By changing the orientation of the material, the transmission mode for transmitting light and the scattering mode for scattering light can be controlled.

上記高分子分散型(例えば、PDLC、PNLC)調光デバイスの駆動方式としては、ノーマルモードおよびリバースモードが挙げられる。ノーマルモードは、電圧が印加された状態で透過モードとなり、電圧が印加されていない状態で散乱モードとなり;リバースモードは、電圧が印加された状態で散乱モードとなり、電圧が印加されていない状態で透過モードとなる。リバースモードは、電圧が印加されていない状態で透過モードとなるので、消費電力が小さく、かつ、停電時の安全性に優れるという利点がある。一方、リバースモードにおいては、電圧が印加されていない状態での透過性(透明性)のさらなる改善が求められている。   Examples of the driving method of the polymer dispersion type (for example, PDLC, PNLC) light control device include a normal mode and a reverse mode. The normal mode is the transmission mode when voltage is applied, the scattering mode when no voltage is applied; the reverse mode is the scattering mode when voltage is applied, and no voltage is applied. It becomes the transmission mode. Since the reverse mode is a transmission mode in a state where no voltage is applied, there is an advantage that power consumption is small and safety at the time of power failure is excellent. On the other hand, in the reverse mode, there is a demand for further improvement in transparency (transparency) when no voltage is applied.

特許第5017963号公報Japanese Patent No. 5017963 特開2014−080605号公報JP 2014-080605 A 特開2014−080606号公報JP 2014-080606 A

本発明は、上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、電圧無印加時の透過性に優れたリバースモードの高分子分散型調光デバイスの製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in order to solve the above-described conventional problems, and its main object is to provide a method for producing a reverse mode polymer dispersion type light control device having excellent permeability when no voltage is applied. There is.

本発明のリバースモードの高分子分散型調光デバイスの製造方法は、一対の基板を用意すること;該一対の基板の一方の基板上に、液晶化合物およびモノマー成分を含む液晶組成物を塗布して塗布層を形成すること;該塗布層上に他方の基板を積層して積層体を作製すること;および、該積層体に活性エネルギー線照射を行うこと;を含む。該活性エネルギー線照射時の温度TIRは−10℃〜20℃である。
1つの実施形態においては、上記モノマー成分は液晶モノマーを含む。
1つの実施形態においては、上記液晶化合物の液晶相転移温度TLCと上記温度TIRとの差は50℃以上である。
1つの実施形態においては、上記活性エネルギー線照射は、上記積層体の所定部分に選択的に照射を行う第1の活性エネルギー線照射と、該第1の活性エネルギー線照射の後、該積層体の全面に照射を行う第2の活性エネルギー線照射と、を含み、該第2の活性エネルギー線照射時の温度TIR2が−10℃〜20℃である。
The method for producing a reverse mode polymer dispersed light control device of the present invention comprises preparing a pair of substrates; applying a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound and a monomer component onto one of the pair of substrates. Forming a coating layer; laminating the other substrate on the coating layer to produce a laminate; and irradiating the laminate with active energy rays. Temperature T IR during active energy ray irradiation is -10 ° C. to 20 ° C..
In one embodiment, the monomer component includes a liquid crystal monomer.
In one embodiment, the difference between the liquid crystal phase transition temperature TLC of the liquid crystal compound and the temperature TIR is 50 ° C. or more.
In one embodiment, the active energy ray irradiation includes a first active energy ray irradiation for selectively irradiating a predetermined portion of the laminate, and after the first active energy ray irradiation, the laminate. And a second active energy ray irradiation for irradiating the entire surface, and a temperature TIR2 at the time of the second active energy ray irradiation is −10 ° C. to 20 ° C.

本発明によれば、調光層を形成するための活性エネルギー線照射時の温度を−10℃〜20℃とすることにより、電圧無印加時の透過性に優れたリバースモードの高分子分散型調光デバイスの製造方法を実現することができる。   According to the present invention, the reverse mode polymer dispersion type having excellent permeability when no voltage is applied by setting the temperature at the time of irradiation with active energy rays for forming the light control layer to −10 ° C. to 20 ° C. A method of manufacturing a light control device can be realized.

本発明の調光デバイスの製造方法の一例を説明する概略図である。It is the schematic explaining an example of the manufacturing method of the light modulation device of this invention.

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。   Hereinafter, although embodiment of this invention is described, this invention is not limited to these embodiment.

A.調光デバイスの製造方法の概略
本発明の1つの実施形態によるリバースモードの高分子分散型調光デバイスの製造方法は、一対の基板を用意すること;該一対の基板の一方の基板上に、液晶化合物およびモノマー成分を含む液晶組成物を塗布して塗布層を形成すること;該塗布層上に他方の基板を積層して積層体を作製すること;および、該積層体に活性エネルギー線照射を行うこと;を含む。本発明の実施形態においては、活性エネルギー線照射時の温度TIRは−10℃〜20℃である。
A. Outline of Method for Manufacturing Light Control Device A method for manufacturing a reverse mode polymer dispersion type light control device according to an embodiment of the present invention comprises preparing a pair of substrates; on one of the pair of substrates, Applying a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound and a monomer component to form a coating layer; laminating the other substrate on the coating layer to produce a laminate; and irradiating the laminate with active energy rays Including: In embodiments of the present invention, the temperature T IR during active energy ray irradiation is -10 ° C. to 20 ° C..

以下、図1を参照しながら上記実施形態の製造方法についてより具体的に説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the above embodiment will be described more specifically with reference to FIG.

B.基板
まず、一対の基板10a、10bを用意する。基板10a、10bは、代表的には、基材上に透明電極および配向膜がこの順に設けられている(図示せず)。透明電極は、一対の基板の両方に設けられている必要はなく、目的に応じて、いずれか一方の基板にのみ設けられていてもよい。
B. Substrate First, a pair of substrates 10a and 10b is prepared. In the substrates 10a and 10b, typically, a transparent electrode and an alignment film are provided in this order on a base material (not shown). The transparent electrode does not need to be provided on both of the pair of substrates, and may be provided only on one of the substrates depending on the purpose.

基材は、樹脂基材であってもよく、ガラス基材であってもよい。好ましくは樹脂基材である。樹脂基材の形成材料としては、ポリエステル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース系樹脂、スチレン系樹脂等が好ましく用いられ得る。ポリエステル系樹脂の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、イソフタル酸、シクロヘキサン環等を含む脂環式のジカルボン酸または脂環式のジオール等を含む共重合PET(PET−G)、その他ポリエステル、および、これらの共重合体やブレンド体等が挙げられる。これらの材料は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いられ得る。   The substrate may be a resin substrate or a glass substrate. A resin base material is preferable. As a material for forming the resin base material, polyester resins, (meth) acrylic resins, olefin resins, cyclic olefin resins, polycarbonate resins, polyurethane resins, cellulose resins, styrene resins, and the like can be preferably used. . Specific examples of polyester resins include polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), isophthalic acid, cycloaliphatic dicarboxylic acid containing cyclohexane ring, alicyclic diol, etc. Copolymerized PET containing PET (PET-G), other polyesters, and copolymers and blends thereof. These materials may be used alone or in combination of two or more.

基材の厚みは、例えば20μm〜500μm、好ましくは50μm〜300μmであり得る。   The thickness of the substrate can be, for example, 20 μm to 500 μm, preferably 50 μm to 300 μm.

透明電極は、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化錫(SnO)等の金属酸化物を用いて形成され得る。あるいは、透明電極は、銀ナノワイヤー(AgNW)、カーボンナノチューブ(CNT)、有機導電膜、金属層またはこれらの積層体によって形成され得る。透明電極は、目的に応じて、所望の形状にパターニングされ得る。例えば、透明電極を縦ストライプ、横ストライプまたは格子状にパターン形成することにより、調光デバイスにブラインド機能を好適に付与することができる。 The transparent electrode can be formed using a metal oxide such as indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), for example. Alternatively, the transparent electrode can be formed of silver nanowires (AgNW), carbon nanotubes (CNT), an organic conductive film, a metal layer, or a laminate thereof. The transparent electrode can be patterned into a desired shape according to the purpose. For example, the blind function can be suitably imparted to the light control device by forming the transparent electrode in a pattern of vertical stripes, horizontal stripes, or lattices.

配向膜は、例えば、ポリイミド、ポリビニルアルコール等の塗布膜にレーヨン等の布でラビング処理を施すことによって形成され得る。   The alignment film can be formed, for example, by subjecting a coating film such as polyimide or polyvinyl alcohol to a rubbing treatment with a cloth such as rayon.

基板の光透過率(波長550nm)は、好ましくは80%以上であり、より好ましくは85%以上であり、さらに好ましくは90%以上である。光透過率がこのような範囲であれば、透過モードにおいて優れた透明性を実現できる。   The light transmittance (wavelength 550 nm) of the substrate is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and further preferably 90% or more. If the light transmittance is within such a range, excellent transparency in the transmission mode can be realized.

C.液晶組成物の塗布および積層体の作製
次に、図1(a)に示すように、基板10aの配向膜側表面に液晶組成物を塗布して塗布層40を形成する。液晶組成物は、代表的には液晶化合物およびモノマー成分を含む。
C. Next, as shown in FIG. 1A, the liquid crystal composition is applied to the alignment film side surface of the substrate 10a to form a coating layer 40. The liquid crystal composition typically includes a liquid crystal compound and a monomer component.

液晶化合物としては、非重合型の任意の適切な液晶化合物が用いられる。例えば、ネマティック型、スメクティック型、コレステリック型液晶化合物が挙げられる。透過モードにおいて優れた透明性を実現できることから、ネマティック型液晶化合物を用いることが好ましい。誘電率の異方性は、正または負のいずれであってもよい。   As the liquid crystal compound, any appropriate non-polymerization type liquid crystal compound is used. For example, nematic, smectic, and cholesteric liquid crystal compounds can be given. A nematic liquid crystal compound is preferably used because excellent transparency can be realized in the transmission mode. The dielectric anisotropy may be positive or negative.

上記液晶化合物の具体例としては、特開平11−174211等に記載されるように、シアノビフェニル系、シアノフェニルシクロヘキサン系、シアノフェニルエステル系、安息香酸フェニルエステル系、フェニルピリミジン系化合物やそれらの混合物等の室温または高温でネマティック相やスメクティック相を呈する低分子液晶化合物が挙げられる。このような低分子液晶化合物の具体例としては、特開平11−153787に記載されるように、ビフェニル系、フェニルベンゾエート系、シクロヘキシルベンゼン系、アゾキシベンゼン系、アゾベンゼン系、アゾメチン系、ターフェニル系、ビフェニルベンゾエート系、シクロヘキシルビフェニル系、フェニルピリミジン系、シクロヘキシルピリミジン系、コレステロール系等の各種低分子液晶化合物を挙げることができる。これらの低分子液晶化合物は、単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。   Specific examples of the liquid crystal compound include cyanobiphenyl, cyanophenylcyclohexane, cyanophenyl ester, benzoic acid phenyl ester, phenylpyrimidine compounds, and mixtures thereof as described in JP-A-11-174211, etc. And a low-molecular liquid crystal compound exhibiting a nematic phase or a smectic phase at room temperature or high temperature. Specific examples of such a low-molecular liquid crystal compound include biphenyl, phenylbenzoate, cyclohexylbenzene, azoxybenzene, azobenzene, azomethine, and terphenyl, as described in JP-A-11-153787. And various low molecular liquid crystal compounds such as biphenylbenzoate, cyclohexylbiphenyl, phenylpyrimidine, cyclohexylpyrimidine, and cholesterol. These low-molecular liquid crystal compounds may be used alone or in combination.

液晶化合物の液晶相転移温度(液晶相−等方相転移温度)TLCは、好ましくは60℃〜150℃であり、より好ましくは80℃〜150℃である。液晶相転移温度がこのような範囲であれば、後述の活性エネルギー線照射時の温度を所定の低温とした場合に、液晶化合物の配向性が非常に高い状態となる。したがって、得られる調光層において、液晶化合物は、ポリマーが形成するネットワーク構造中で配向性が非常に高い状態で相分離または分散することとなり、その結果、電圧無印加時の透過性(透明性)が非常に高いリバースモードの高分子分散型調光デバイスが得られる。 Liquid crystal phase transition temperature of the liquid crystal compound (a liquid crystal phase - isotropic phase transition temperature) T LC is preferably 60 ° C. to 150 DEG ° C., more preferably 80 ° C. to 150 DEG ° C.. If the liquid crystal phase transition temperature is in such a range, the orientation of the liquid crystal compound becomes very high when the temperature at the time of irradiation of active energy rays described later is set to a predetermined low temperature. Therefore, in the obtained light control layer, the liquid crystal compound is phase-separated or dispersed in a state where the orientation is very high in the network structure formed by the polymer. As a result, the transparency (transparency when no voltage is applied) ) Having a very high reverse mode can be obtained.

モノマー成分は、光透過率、上記液晶化合物の屈折率等に応じて適切に選択され得る。モノマー成分の代表例としては、重合型の液晶モノマー(2官能以上の架橋型モノマーを含み得る)、活性エネルギー線硬化型樹脂のモノマーが挙げられる。活性エネルギー線硬化型樹脂の具体例としては、(メタ)アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、フッ素系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド樹脂が挙げられる。モノマー成分は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。上記液晶化合物との屈折率のマッチングが容易となることから、好ましくは、モノマー成分は、少なくとも1種の液晶モノマーを含む。   The monomer component can be appropriately selected according to the light transmittance, the refractive index of the liquid crystal compound, and the like. Typical examples of the monomer component include a polymerization type liquid crystal monomer (which may include a bifunctional or higher functional crosslinking monomer) and a monomer of an active energy ray curable resin. Specific examples of the active energy ray-curable resin include (meth) acrylic resins, silicone resins, epoxy resins, fluorine resins, polyester resins, and polyimide resins. A monomer component may be used independently and may use 2 or more types together. Preferably, the monomer component contains at least one liquid crystal monomer because the matching of the refractive index with the liquid crystal compound is facilitated.

上記液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは40℃〜120℃であり、さらに好ましくは50℃〜100℃であり、最も好ましくは60℃〜90℃である。   The temperature range in which the liquid crystal monomer exhibits liquid crystal properties varies depending on the type. Specifically, the temperature range is preferably 40 ° C to 120 ° C, more preferably 50 ° C to 100 ° C, and most preferably 60 ° C to 90 ° C.

液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表2002−533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、およびGB2280445等に記載の重合型メソゲン化合物等が使用できる。このような重合型メソゲン化合物の具体例としては、例えば、BASF社の商品名LC242、Merck社の商品名E7、Wacker−Chem社の商品名LC−Sillicon−CC3767が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマティック型液晶モノマーが好ましい。   Any appropriate liquid crystal monomer can be adopted as the liquid crystal monomer. For example, polymerized mesogenic compounds described in JP-T-2002-533742 (WO00 / 37585), EP358208 (US52111877), EP66137 (US4388453), WO93 / 22397, EP02661712, DE195504224, DE44081171, and GB2280445 can be used. Specific examples of such a polymerization type mesogenic compound include, for example, trade name LC242 of BASF, trade name E7 of Merck, and trade name LC-Silicon-CC3767 of Wacker-Chem. As the liquid crystal monomer, for example, a nematic liquid crystal monomer is preferable.

上記液晶組成物中における液晶化合物とモノマー成分との配合比(液晶化合物:モノマー成分(重量基準))は、例えば5:95〜30:70、好ましくは10:90〜20:80である。液晶組成物は、感光性のモノマー成分を用いること、光開始剤を配合すること等により、感光性材料とされている。   The compounding ratio (liquid crystal compound: monomer component (weight basis)) of the liquid crystal compound and the monomer component in the liquid crystal composition is, for example, 5:95 to 30:70, preferably 10:90 to 20:80. The liquid crystal composition is used as a photosensitive material by using a photosensitive monomer component, blending a photoinitiator, and the like.

液晶組成物は、目的に応じて任意の適切な成分をさらに含み得る。例えば、液晶組成物は、カイラル剤をさらに含み得る。カイラル剤を用いることにより、上記液晶化合物または得られる液晶ポリマーをコレステリック配向性とすることができる。カイラル剤の種類や添加量は、らせんピッチ等の所望の設定値に応じて適切に決定できる。また例えば、液晶組成物は、重合開始剤をさらに含み得る。重合開始剤の種類や添加量は、モノマー成分の種類、組成等に応じて適切に決定できる。他の任意成分としては、酸化防止剤、可塑剤、色素等が挙げられる。液晶組成物中における任意成分の含有量は、例えば10重量%以下であり得る。   The liquid crystal composition may further include any appropriate component depending on the purpose. For example, the liquid crystal composition may further include a chiral agent. By using a chiral agent, the liquid crystal compound or the obtained liquid crystal polymer can be made cholesteric alignment. The type and amount of the chiral agent can be appropriately determined according to a desired set value such as a helical pitch. For example, the liquid crystal composition may further contain a polymerization initiator. The type and addition amount of the polymerization initiator can be appropriately determined according to the type and composition of the monomer component. Examples of other optional components include an antioxidant, a plasticizer, and a pigment. The content of optional components in the liquid crystal composition can be, for example, 10% by weight or less.

液晶組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。例えば、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ナイフコート法(コンマコート法等)等が挙げられる。塗布層は、必要に応じて自然乾燥または加熱乾燥処理され得る。   Any appropriate method can be adopted as a method for applying the liquid crystal composition. Examples thereof include a roll coating method, a spin coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, a die coating method, a curtain coating method, a spray coating method, a knife coating method (comma coating method and the like). The coating layer may be naturally dried or heat dried as necessary.

次いで、図1(b)に示すように、基板10bを配向膜側表面が塗布層40と対向するように塗布層40上に積層し、積層体を作製する。   Next, as shown in FIG. 1B, the substrate 10 b is laminated on the coating layer 40 so that the surface on the alignment film side faces the coating layer 40, thereby producing a laminate.

必要に応じて、積層体に加熱処理を施してもよい。加熱処理を行う場合、加熱温度は例えば70℃〜110℃であり、加熱時間は例えば40秒〜120秒である。加熱処理を行うことにより、塗布により生じた液晶配向の乱れを解消することができる。その結果、電圧無印加時の透明性をさらに高めることができる。   You may heat-process a laminated body as needed. When performing the heat treatment, the heating temperature is, for example, 70 ° C. to 110 ° C., and the heating time is, for example, 40 seconds to 120 seconds. By performing the heat treatment, the disorder of the liquid crystal alignment caused by the application can be eliminated. As a result, the transparency when no voltage is applied can be further enhanced.

D.活性エネルギー線照射による調光層の形成
次いで、図1(c)に示すように、積層体に活性エネルギー線照射を行う。これにより、塗布層40の活性エネルギー線照射領域においてモノマー成分が重合し、調光層30が形成される。活性エネルギー線としては、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線が用いられる。なかでも、紫外線が好ましい。なお、図示例では積層体の全面に活性エネルギー線照射を行っているが、積層体の所定の位置のみに活性エネルギー線照射を行ってもよい。
D. Formation of Light Control Layer by Active Energy Ray Irradiation Next, active energy ray irradiation is performed on the laminate as shown in FIG. Thereby, a monomer component superposes | polymerizes in the active energy ray irradiation area | region of the coating layer 40, and the light control layer 30 is formed. As the active energy ray, ionizing radiation such as ultraviolet ray, electron beam, α ray, β ray, γ ray and the like is used. Of these, ultraviolet rays are preferable. In the illustrated example, active energy ray irradiation is performed on the entire surface of the multilayer body, but active energy beam irradiation may be performed only on a predetermined position of the multilayer body.

活性エネルギー線として紫外線を採用する場合、紫外線の照射条件は、モノマー成分の種類等に応じて適切に設定され得る。例えば、活性エネルギー線照射における紫外線の照射条件は、照度を好ましくは1mW/cm〜300mW/cm、より好ましくは10mW/cm〜150mW/cm、照射時間を好ましくは1分間〜30分間、より好ましくは3分間〜15分間とすることができる。光源としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、UV−LED等を用いることができる。 When ultraviolet rays are employed as the active energy rays, the irradiation conditions of the ultraviolet rays can be appropriately set according to the type of monomer component. For example, the irradiation conditions of the ultraviolet rays in the active energy ray irradiation are preferably an illuminance of 1 mW / cm 2 to 300 mW / cm 2 , more preferably 10 mW / cm 2 to 150 mW / cm 2 and an irradiation time of preferably 1 minute to 30 minutes. More preferably, it can be 3 minutes to 15 minutes. As the light source, for example, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a UV-LED, or the like can be used.

本発明の実施形態においては、上記のとおり、紫外線照射時の温度TIRは−10℃〜20℃であり、好ましくは−5℃〜15℃である。温度TIRがこのような範囲であれば、液晶化合物の配向性が非常に高い状態での紫外線照射(モノマー成分の重合)が可能となる。したがって、得られる調光層において、液晶化合物は、ポリマーが形成するネットワーク構造中で配向性が非常に高い状態で相分離または分散することとなり、その結果、電圧無印加時の透過性(透明性)が非常に高いリバースモードの高分子分散型調光デバイスが得られる。 In embodiments of the present invention, as described above, the temperature T IR during ultraviolet irradiation was -10 ° C. to 20 ° C., preferably from -5 ° C. to 15 ° C.. When the temperature TIR is within such a range, ultraviolet irradiation (polymerization of monomer components) is possible in a state where the alignment of the liquid crystal compound is very high. Therefore, in the obtained light control layer, the liquid crystal compound is phase-separated or dispersed in a state where the orientation is very high in the network structure formed by the polymer. As a result, the transparency (transparency when no voltage is applied) ) Having a very high reverse mode can be obtained.

照射時の温度TIRと液晶相転移温度TLCとの差は、好ましくは50℃以上であり、より好ましくは60℃〜95℃である。当該温度差がこのような範囲であれば、紫外線照射時の液晶化合物を高い配向状態に制御することがさらに容易となる。 The difference between the temperature T IR and the liquid crystal phase transition temperature T LC when the irradiation is preferably at 50 ° C. or higher, more preferably 60 ° C. to 95 ° C.. When the temperature difference is within such a range, it becomes easier to control the liquid crystal compound at the time of ultraviolet irradiation to a high alignment state.

上記のような活性エネルギー線照射により、モノマー成分が重合する。その結果、得られる調光層は、ポリマー(モノマー成分の重合体)および液晶化合物を含む。より具体的には、調光層は、ポリマーが形成するネットワーク構造中で相分離または分散状態で存在する液晶化合物を含む。   The monomer component is polymerized by the active energy ray irradiation as described above. As a result, the obtained light control layer contains a polymer (polymer of monomer components) and a liquid crystal compound. More specifically, the light control layer includes a liquid crystal compound that exists in a phase-separated or dispersed state in a network structure formed by the polymer.

モノマー成分が液晶モノマーを含む場合、上記重合により液晶ポリマーが得られる。液晶ポリマーは、好ましくは、所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている。液晶ポリマーの配向状態が固定化されていることにより、液晶化合物の配向状態の変化を通じて透過モードと散乱モードとの切換えが好適に行われ得る。このような液晶ポリマーは、液晶モノマー(2官能以上の架橋型モノマーを含み得る)を配向させた後に、液晶モノマー同士を重合または架橋させることによって得られ得る。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋によりネットワーク構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、得られる液晶ポリマーにおいては、例えば、液晶性の化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。   When the monomer component contains a liquid crystal monomer, a liquid crystal polymer is obtained by the above polymerization. The liquid crystal polymer is preferably aligned in a predetermined direction, and the alignment state is fixed. Since the alignment state of the liquid crystal polymer is fixed, switching between the transmission mode and the scattering mode can be suitably performed through a change in the alignment state of the liquid crystal compound. Such a liquid crystal polymer can be obtained by aligning liquid crystal monomers (which can include a bifunctional or higher functional cross-linked monomer) and then polymerizing or cross-linking the liquid crystal monomers. Here, a polymer is formed by polymerization, and a network structure is formed by crosslinking, but these are non-liquid crystalline. Therefore, in the obtained liquid crystal polymer, for example, a transition to a liquid crystal phase, a glass phase, or a crystal phase due to a temperature change specific to a liquid crystal compound does not occur.

以上のようにして、調光層30が形成され、リバースモードの高分子分散型調光デバイスが得られる。   As described above, the light control layer 30 is formed, and a reverse mode polymer dispersed light control device is obtained.

E.調光層および隔壁の形成
活性エネルギー線(例えば、紫外線)照射は、2段階で行ってもよい。具体的には、活性エネルギー線照射は、積層体の所定部分に選択的に照射を行う第1の活性エネルギー線照射と、第1の活性エネルギー線照射の後、積層体の全面に照射を行う第2の活性エネルギー線照射と、を含む。このような構成であれば、当該所定部分に隔壁を形成することができる。第1の活性エネルギー線照射における選択的な照射は、所定の開口パターンを有するマスクを用いて行うことができる。例えば、平面視格子状の開口パターンを有するマスクを介して積層体を照射し、次いで、マスクを外して積層体の全面を照射することにより、調光層と、平面視格子状の連続構造を有し、調光層を複数の区画に区画する隔壁と、が形成される。調光層と隔壁とは、露光条件の違いによって1つの液晶組成物から互いに異なるポリマー含有量を有する領域として形成され得る。このような構成とすることにより、耐衝撃性および機械的強度に優れた調光デバイスを得ることができる。
E. Formation of light control layer and partition wall Irradiation with active energy rays (for example, ultraviolet rays) may be performed in two stages. Specifically, in the active energy ray irradiation, the entire surface of the laminate is irradiated after the first active energy ray irradiation for selectively irradiating a predetermined portion of the laminate and the first active energy ray irradiation. Second active energy ray irradiation. With such a configuration, a partition wall can be formed in the predetermined portion. The selective irradiation in the first active energy ray irradiation can be performed using a mask having a predetermined opening pattern. For example, by irradiating the laminated body through a mask having an opening pattern having a planar lattice shape, and then irradiating the entire surface of the laminated body by removing the mask, the light control layer and the continuous structure in the planar lattice shape are formed. And a partition wall that divides the light control layer into a plurality of sections. The light control layer and the partition can be formed as regions having different polymer contents from one liquid crystal composition due to a difference in exposure conditions. By setting it as such a structure, the light control device excellent in impact resistance and mechanical strength can be obtained.

本実施形態においては、第2の活性エネルギー線照射時の温度TIR2が−10℃〜20℃であり、好ましくは−5℃〜15℃である。なお、第1の活性エネルギー線照射時の温度TIR1は、任意の適切な温度に設定され得る。TIR1は、例えば20℃〜50℃である。 In this embodiment, temperature TIR2 at the time of 2nd active energy ray irradiation is -10 degreeC- 20 degreeC , Preferably it is -5 degreeC-15 degreeC. The temperature TIR1 at the time of the first active energy ray irradiation can be set to any appropriate temperature. TIR1 is, for example, 20 ° C to 50 ° C.

F.調光デバイス
本発明の製造方法により得られる調光デバイスはリバースモードであり、電圧が印加された状態で散乱モードとなり、電圧が印加されていない状態で透過モードとなる。具体的には、基板10a、10bの透明電極面に設けられた配向膜の配向作用によって、電圧無印加時に液晶化合物が配向して透過モードとなり、電圧の印加によって該液晶化合物の配向が乱れて散乱モードとなる。なお、電圧無印加時に液晶化合物が配向し得る限りにおいて、配向膜は省略され得る(例えば、電極表面に直接ラビング処理が施されている場合)。
F. Light control device The light control device obtained by the manufacturing method of the present invention is in the reverse mode, and is in the scattering mode when a voltage is applied, and in the transmission mode when no voltage is applied. Specifically, due to the alignment action of the alignment film provided on the transparent electrode surfaces of the substrates 10a and 10b, the liquid crystal compound is aligned when no voltage is applied and becomes a transmission mode, and the alignment of the liquid crystal compound is disturbed by the application of voltage. It becomes a scattering mode. Note that the alignment film can be omitted as long as the liquid crystal compound can be aligned when no voltage is applied (for example, when the electrode surface is directly rubbed).

液晶化合物は、配向状態においてポリマーと略同一の屈折率を示す。よって、液晶化合物の配向度が高い状態にある透過モード(電圧無印加時)においては、調光層に入射した光は、進行方向を大きく曲げることなく、調光層を透過することができる。このとき、調光層のヘイズ値は、例えば10%以下、好ましくは7%以下であり得る。ヘイズ値は、例えば、JIS K7136に準拠して測定され得る。なお、カイラル性を付与していない場合には液晶配向による偏光依存性が発生し得るので、そのような場合には偏光板を介して測定が行われ得る。   The liquid crystal compound exhibits substantially the same refractive index as the polymer in the alignment state. Therefore, in the transmission mode (when no voltage is applied) in which the degree of alignment of the liquid crystal compound is high, light incident on the light control layer can be transmitted through the light control layer without greatly bending the traveling direction. At this time, the haze value of the light control layer may be, for example, 10% or less, preferably 7% or less. The haze value can be measured according to, for example, JIS K7136. In addition, since the polarization dependence by liquid crystal orientation may generate | occur | produce when chiral property is not provided, in such a case, it can measure through a polarizing plate.

一方、液晶化合物の配向度が低い状態にある散乱モード(電圧印加時)においては、液晶化合物の向きが不規則となるのでポリマーと液晶化合物との間で屈折率差が増大する。この状態において、調光層に入射した光は、該屈折率差に起因して進行方向を大きく曲げて散乱する。このとき、調光層のヘイズ値は、例えば80%以上、好ましくは85%以上であり得る。   On the other hand, in the scattering mode (when voltage is applied) in which the degree of orientation of the liquid crystal compound is low, the orientation of the liquid crystal compound becomes irregular, so that the refractive index difference increases between the polymer and the liquid crystal compound. In this state, the light incident on the light control layer is scattered with the traveling direction greatly bent due to the difference in refractive index. At this time, the haze value of the light control layer may be, for example, 80% or more, preferably 85% or more.

隔壁を形成する実施形態においては、上記のとおり、マスクの開口パターンに対応した平面視形状の隔壁が形成され得る。例えば平面視格子状の隔壁が形成される場合、同一方向に延びる隔壁の配置間隔は、例えば1mm以下であり、好ましくは30μm〜500μmであり;隔壁の幅(延びる方向によって幅が異なる場合は、最大の幅)は、例えば3μm〜50μm、好ましくは5μm〜30μmである。   In the embodiment in which the partition walls are formed, as described above, the partition walls having a plan view shape corresponding to the opening pattern of the mask can be formed. For example, when a partition wall having a lattice shape in plan view is formed, the arrangement interval of the partition walls extending in the same direction is, for example, 1 mm or less, preferably 30 μm to 500 μm; The maximum width is, for example, 3 μm to 50 μm, preferably 5 μm to 30 μm.

隔壁は、電圧の印加時および無印加時において、光透過率が実質的に変化しない。隔壁の光透過率(波長550nm)は、例えば30%〜95%、好ましくは40%〜90%である。   The partition wall has substantially no change in light transmittance when a voltage is applied and when no voltage is applied. The light transmittance (wavelength 550 nm) of the partition wall is, for example, 30% to 95%, preferably 40% to 90%.

1つの実施形態において、平面視における調光層と隔壁との面積の合計に対する調光層の面積の割合(開口率)は、例えば60%以上であり、好ましくは70%以上であり、より好ましくは80%〜95%である。調光層の面積(開口率)が60%以上であることにより、調光機能を好適に発揮することができる。   In one embodiment, the ratio (aperture ratio) of the area of the light control layer to the total area of the light control layer and the partition in plan view is, for example, 60% or more, preferably 70% or more, and more preferably. Is 80% to 95%. When the area (aperture ratio) of the light control layer is 60% or more, the light control function can be suitably exhibited.

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。また、以下の「部」または「%」の記載はそれぞれ、特段の記載が無いかぎり、「重量部」または「重量%」を意味する。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited by these Examples. Further, the following “parts” or “%” means “parts by weight” or “% by weight” unless otherwise specified.

[実施例1]
100Ω/□の透明電極(ITO膜)を片面に有する40mm×30mmのPETフィルム(厚み100μm)の電極面にポリイミド(JSR社製、「オプトマーAL1254」)を100nmの厚みで塗布し、90℃で10分加熱後120℃で90分間焼成し、一軸方向にラビング処理を施すことにより、平行配向膜を形成した。これにより、[配向膜/透明電極/PETフィルム]の構成を有する基板Aを得た。
液晶化合物(HCCH社製、「854600−100」、TLC=82℃)95部と、架橋型液晶モノマー(BASF社製、「LC242」)5部とを混合した。得られた混合物に、重合開始剤(BASF社製、「IRGACURE TPO」)を0.95部添加し、等方相まで加熱後、撹拌して液晶組成物を得た。
得られた液晶組成物を上記基板Aの配向膜表面に10μm厚で塗布した。次いで、配向膜が該塗布層に接するように別の基板Aを塗布層上に貼り合わせて、[基板A/塗布層/基板A]の構成を有する積層体を作製した。この積層体を、90℃、60秒間の加熱処理に供した。次いで、積層体に紫外線を照射した。具体的には、365nmに中心波長を有するLED光源にて30mW/cmの照度で10分間連続的に照射した。照射時の温度は20℃であった。これにより、上記液晶モノマーが重合して液晶ポリマーとなり、当該液晶ポリマーのネットワーク中に液晶化合物が相分離または分散した複合体(調光層)が形成された。
以上のようにして、リバースモードの調光フィルムを得た。
[Example 1]
A polyimide (manufactured by JSR, “Optomer AL1254”) is applied to the electrode surface of a 40 mm × 30 mm PET film (thickness: 100 μm) having a transparent electrode (ITO film) of 100Ω / □ on one side, and the thickness is 90 ° C. After heating for 10 minutes, the film was baked at 120 ° C. for 90 minutes and rubbed in a uniaxial direction to form a parallel alignment film. As a result, a substrate A having a configuration of [alignment film / transparent electrode / PET film] was obtained.
Liquid crystal compound (HCCH Co., "854600-100", T LC = 82 ° C.) and 95 parts of cross-linked liquid crystal monomer (BASF Corp., "LC242") obtained by mixing 5 parts. 0.95 parts of a polymerization initiator (manufactured by BASF, “IRGACURE TPO”) was added to the obtained mixture, heated to an isotropic phase, and stirred to obtain a liquid crystal composition.
The obtained liquid crystal composition was applied to the surface of the alignment film of the substrate A with a thickness of 10 μm. Next, another substrate A was bonded onto the coating layer so that the alignment film was in contact with the coating layer, and a laminate having a configuration of [substrate A / coating layer / substrate A] was produced. This laminate was subjected to a heat treatment at 90 ° C. for 60 seconds. Next, the laminate was irradiated with ultraviolet rays. Specifically, irradiation was performed continuously for 10 minutes at an illuminance of 30 mW / cm 2 with an LED light source having a center wavelength of 365 nm. The temperature at the time of irradiation was 20 ° C. Thereby, the liquid crystal monomer was polymerized to form a liquid crystal polymer, and a composite (light control layer) in which the liquid crystal compound was phase-separated or dispersed in the network of the liquid crystal polymer was formed.
As described above, a reverse mode light control film was obtained.

得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。   The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

[実施例2]
紫外線照射時の温度を10℃としたこと以外は実施例1と同様にしてリバースモードの調光フィルムを得た。得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。
[Example 2]
A reverse mode light control film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature during UV irradiation was 10 ° C. The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

[実施例3]
紫外線照射時の温度を10℃としたこと以外は実施例1と同様にしてリバースモードの調光フィルムを得た。得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。
[Example 3]
A reverse mode light control film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature during UV irradiation was 10 ° C. The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

[実施例4]
紫外線照射時の温度を5℃としたこと以外は実施例1と同様にしてリバースモードの調光フィルムを得た。得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。
[Example 4]
A reverse mode light control film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature during UV irradiation was 5 ° C. The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

[実施例5]
紫外線照射時の温度を0℃としたこと以外は実施例1と同様にしてリバースモードの調光フィルムを得た。得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。
[Example 5]
A reverse mode light control film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature during UV irradiation was 0 ° C. The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

[実施例6]
紫外線照射時の温度を−5℃としたこと以外は実施例1と同様にしてリバースモードの調光フィルムを得た。得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。
[Example 6]
A reverse mode light control film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature at the time of ultraviolet irradiation was −5 ° C. The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

[実施例7]
紫外線照射時の温度を−10℃としたこと以外は実施例1と同様にしてリバースモードの調光フィルムを得た。得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。
[Example 7]
A reverse mode light control film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature at the time of ultraviolet irradiation was −10 ° C. The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

[比較例1]
紫外線照射時の温度を室温(23℃)としたこと以外は実施例1と同様にしてリバースモードの調光フィルムを得た。得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
A reverse mode light control film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature at the time of ultraviolet irradiation was room temperature (23 ° C.). The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

[比較例2]
紫外線照射時の温度を50℃としたこと以外は実施例1と同様にしてリバースモードの調光フィルムを得た。得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 2]
A reverse mode light control film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature during UV irradiation was 50 ° C. The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

[比較例3]
紫外線照射時の温度を75℃としたこと以外は実施例1と同様にしてリバースモードの調光フィルムを得た。得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 3]
A reverse mode light control film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature during ultraviolet irradiation was 75 ° C. The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

[比較例4]
紫外線照射時の温度を−15℃としたこと以外は実施例1と同様にしてリバースモードの調光フィルムを得た。得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 4]
A reverse mode light control film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature at the time of ultraviolet irradiation was −15 ° C. The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

[実施例8]
液晶化合物としてHCCH社製の「850100−100」(TLC=73℃)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてリバースモードの調光フィルムを得た。得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。
[Example 8]
To obtain a light control film of the reverse mode except for using "850100-100" (T LC = 73 ℃) HCCH manufactured by the liquid crystal compound in the same manner as in Example 1. The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

[実施例9]
液晶化合物としてHCCH社製の「21600−000」(TLC=95℃)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてリバースモードの調光フィルムを得た。得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。
[Example 9]
To give a light control film of the reverse mode except for using the "21600-000" (T LC = 95 ℃) HCCH manufactured by the liquid crystal compound in the same manner as in Example 1. The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

[実施例10]
液晶化合物としてHCCH社製の「21700−000」(TLC=114℃)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてリバースモードの調光フィルムを得た。得られた調光フィルムの電圧無印加時のヘイズを測定した。結果を表1に示す。
[Example 10]
To obtain a light control film of the reverse mode except for using the "21700-000" (T LC = 114 ℃) HCCH manufactured by the liquid crystal compound in the same manner as in Example 1. The haze when no voltage was applied to the obtained light control film was measured. The results are shown in Table 1.

表1から明らかなように、調光層を形成するための紫外線照射時の温度を所定範囲の低温とすることにより、電圧無印加時の透過性に優れたリバースモードの高分子分散型調光デバイスを得ることができる。温度が高すぎても低すぎてもヘイズ値は高く(悪く)なる。これは、温度が高すぎると、液晶化合物の流動性が高すぎて配向性が不十分となり;温度が低すぎると、流動性が低すぎかつ光重合反応が進行しないので配向状態を固定できない;からであると推定される。   As is apparent from Table 1, reverse mode polymer dispersion type dimming with excellent transparency when no voltage is applied, by setting the temperature at the time of ultraviolet irradiation for forming the dimming layer to a low temperature within a predetermined range. You can get a device. If the temperature is too high or too low, the haze value will be high (bad). If the temperature is too high, the fluidity of the liquid crystal compound is too high and the orientation is insufficient; if the temperature is too low, the orientation is not fixed because the fluidity is too low and the photopolymerization reaction does not proceed; It is estimated that

本発明の製造方法により得られる調光デバイスは、窓ガラス用フィルムや画像表示装置等の分野において好適に用いられる。   The light control device obtained by the manufacturing method of this invention is used suitably in field | areas, such as a film for window glasses, an image display apparatus.

10a 基板
10b 基板
30 調光層
40 塗布層
10a substrate 10b substrate 30 light control layer 40 coating layer

Claims (4)

一対の基板を用意すること、
該一対の基板の一方の基板上に、液晶化合物およびモノマー成分を含む液晶組成物を塗布して塗布層を形成すること、
該塗布層上に他方の基板を積層して積層体を作製すること、および
該積層体に活性エネルギー線照射を行うこと、を含み、
該活性エネルギー線照射時の温度TIRが−10℃〜20℃である、
リバースモードの高分子分散型調光デバイスの製造方法。
Preparing a pair of substrates,
Applying a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound and a monomer component on one of the pair of substrates to form a coating layer;
Laminating the other substrate on the coating layer to produce a laminate, and irradiating the laminate with active energy rays,
Temperature T IR during active energy ray irradiation is -10 ° C. to 20 ° C.,
A method for producing a reverse mode polymer dispersed light control device.
前記モノマー成分が液晶モノマーを含む、請求項1に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the monomer component includes a liquid crystal monomer. 前記液晶化合物の液晶相転移温度TLCと前記温度TIRとの差が50℃以上である、請求項1または2に記載の製造方法。 The manufacturing method of Claim 1 or 2 whose difference of the liquid crystal phase transition temperature TLC of the said liquid crystal compound and the said temperature TIR is 50 degreeC or more. 前記活性エネルギー線照射が、前記積層体の所定部分に選択的に照射を行う第1の活性エネルギー線照射と、該第1の活性エネルギー線照射の後、該積層体の全面に照射を行う第2の活性エネルギー線照射と、を含み、
該第2の活性エネルギー線照射時の温度TIR2が−10℃〜20℃である、
請求項1から3のいずれかに記載の製造方法。

In the active energy ray irradiation, a first active energy ray irradiation that selectively irradiates a predetermined portion of the stacked body, and a first active energy ray irradiation that irradiates the entire surface of the stacked body after the first active energy ray irradiation. 2 active energy ray irradiation,
The temperature TIR2 at the time of irradiation with the second active energy ray is −10 ° C. to 20 ° C.,
The manufacturing method in any one of Claim 1 to 3.

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