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JP2018105805A - Sensor electrode - Google Patents

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JP2018105805A
JP2018105805A JP2016254789A JP2016254789A JP2018105805A JP 2018105805 A JP2018105805 A JP 2018105805A JP 2016254789 A JP2016254789 A JP 2016254789A JP 2016254789 A JP2016254789 A JP 2016254789A JP 2018105805 A JP2018105805 A JP 2018105805A
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JP
Japan
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electrode
layer
sensor
palladium
standard
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Application number
JP2016254789A
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Japanese (ja)
Inventor
拓也 樋口
Takuya Higuchi
樋口  拓也
佑基 天野
Yuki Amano
佑基 天野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】電極の形成が容易であり、センサとして安定的に機能するセンサ用電極を提供する。【解決手段】絶縁性を有する基材1の一方の面に第1電極層4を有し、上記第1電極層が、作用極21および標準電極22を含み、上記第1電極層は、上記基材の一方の面にパラジウムを含む第1層2を有し、さらに、上記第1層の上記基材が形成された面とは反対側の面に、上記標準電極が標準電極としての機能を奏するように形成された金を含む第2層3を有することを特徴とするセンサ用電極。【選択図】図2An electrode for a sensor that can be easily formed and functions stably as a sensor is provided. A first electrode layer 4 is provided on one surface of a base material 1 having insulating properties, the first electrode layer includes a working electrode 21 and a standard electrode 22, and the first electrode layer includes the first electrode layer described above. A first layer 2 containing palladium is provided on one surface of the substrate, and the standard electrode functions as a standard electrode on the surface of the first layer opposite to the surface on which the substrate is formed. An electrode for a sensor comprising the second layer 3 containing gold formed so as to exhibit the following. [Selection] Figure 2

Description

本発明は、電極の形成が容易であり、センサとして安定的に機能するセンサ用電極に関するものである。   The present invention relates to an electrode for a sensor that can be easily formed and functions stably as a sensor.

血液等の生体試料中の特定成分について迅速かつ簡便に濃度等を測定する方法として、電気化学的検出手段によるバイオセンサが実用化されている。
酵素をセンシング素子に用いる電気化学バイオセンサでは、一般に、電極として作用極および対極を含む電極系と、酵素および電子伝達体(メディエータ)を含む反応部とを基本構成として備えている。このようなバイオセンサの一例として、電気化学的に血液中のグルコースを定量化するグルコースセンサがある。
Biosensors using electrochemical detection means have been put into practical use as a method for quickly and easily measuring the concentration and the like of a specific component in a biological sample such as blood.
In general, an electrochemical biosensor using an enzyme as a sensing element includes an electrode system including a working electrode and a counter electrode as electrodes, and a reaction unit including an enzyme and an electron carrier (mediator). An example of such a biosensor is a glucose sensor that electrochemically quantifies glucose in blood.

例えば、グルコースセンサにおいては、当該反応部において、酵素が血液中のグルコースを選択的に酸化してグルコン酸を生成し、また同時に電子伝達体を還元して還元体を生じる。この還元体が電極系に伝達され、一定の電圧が印加されることにより還元体が再び酸化され、その際に電流が発生する。
このとき発生する電流の大きさは、血液中のグルコース濃度に依存することから、バイオセンサと接続する測定装置において測定された電流値から、血液中のグルコースを定量化することができる。
For example, in a glucose sensor, an enzyme selectively oxidizes glucose in blood to produce gluconic acid in the reaction part, and simultaneously reduces an electron carrier to produce a reduced form. The reductant is transmitted to the electrode system, and the reductant is oxidized again by applying a certain voltage, and current is generated at that time.
Since the magnitude of the current generated at this time depends on the glucose concentration in the blood, the glucose in the blood can be quantified from the current value measured by the measuring device connected to the biosensor.

グルコースセンサ等に代表されるバイオセンサは、少量の試料から短時間で測定を可能とするため、高い感度および測定精度を有することが必要とされる。一方で、バイオセンサは検査毎に交換して使用される消耗品であるため、低コストであることも求められる。
高感度で安価なバイオセンサとするために、電極系および配線部等の材料として、従来、銀、ニッケル等の導電性が高く、安価な金属材料が用いられていた(特許文献1参照)。
しかしながら、このような金属材料からなる電極は、大気中の水分、試料中の水分、試料および酵素の酵素反応により発生した過酸化水素等との接触による腐食によりバイオセンサの電気特性が低下し、センサとしての精度が低下するという問題がある。
Biosensors typified by glucose sensors and the like are required to have high sensitivity and measurement accuracy in order to enable measurement in a short time from a small amount of sample. On the other hand, since biosensors are consumables that are used after being exchanged for each test, they are also required to be low in cost.
In order to obtain a highly sensitive and inexpensive biosensor, a metal material having high conductivity such as silver and nickel has been conventionally used as a material for the electrode system and the wiring portion (see Patent Document 1).
However, the electrode made of such a metal material has the electrical characteristics of the biosensor deteriorated due to corrosion due to contact with moisture in the atmosphere, moisture in the sample, hydrogen peroxide generated by the enzyme reaction of the sample and the enzyme, There exists a problem that the precision as a sensor falls.

また、電極の材料として、例えば、カーボンを用いる方法が知られている(特許文献2)。カーボンは上述の金属材料よりも腐食しにくく、金属材料よりも安価である。しかしながら、カーボンは、平坦かつ精密なパターン形状に加工する安価な技術がなく、高精度なセンサとして使用可能な電極を量産すること困難であるといった問題がある。   In addition, as a material for the electrode, for example, a method using carbon is known (Patent Document 2). Carbon is less likely to corrode than the metal materials described above and is less expensive than metal materials. However, carbon does not have an inexpensive technique for processing into a flat and precise pattern shape, and there is a problem that it is difficult to mass-produce electrodes that can be used as a highly accurate sensor.

このようなことから、バイオセンサに用いられる電極の材料としては、一般的に、金等の非腐食性の貴金属材料を用いたものが使用される。
また、電極の形成方法としては、特許文献3に記載されるように、金等の非腐食性の貴金属材料膜を蒸着法により形成した後、フォトリソグラフィ法等により、電極以外の貴金属材料膜を除去する方法が用いられる。
なお、このような電極は、バイオセンサのみならず、ガスセンサ、生体物質検出用センサ等の様々な測定用センサや、SAW(弾性表面波)フィルタ、バイオ燃料電池の電極等にも用いられている。
For this reason, as an electrode material used for a biosensor, a material using a non-corrosive noble metal material such as gold is generally used.
In addition, as described in Patent Document 3, after forming a non-corrosive noble metal material film such as gold by a vapor deposition method, a noble metal material film other than the electrode is formed by a photolithography method or the like. The removal method is used.
Such electrodes are used not only for biosensors but also for various measurement sensors such as gas sensors and biological substance detection sensors, SAW (surface acoustic wave) filters, biofuel cell electrodes, and the like. .

特開2006−023291号公報JP 2006-023291 A 特開2004−294231号公報JP 2004-294231 A 特開2010−229135号公報JP 2010-229135 A

しかしながら、金電極を用いて作用極等を形成した場合、材料自体が高価であり、センサ用電極が高コストになるといった問題がある。
また、金電極を用いて作用極等を形成した場合、標準電極として銀/酸化銀電極等を別途形成する必要があり、製造工程が煩雑になると共に、高コストになるといった問題がある。
このような問題に対して、本発明者等は、パラジウムを用いて電極を形成することを検討している。パラジウムは金と比較して安価であると共に、それを用いた電極が標準電極として使用可能な数少ない材料である。このため、パラジウム電極を用いて作用極等を形成した場合、金電極を用いた場合のように別途標準電極を別材料を用いて形成することが不要となる。つまり、パラジウム電極であれば、標準電極および作用極を同時に形成でき、別の材料を用いて別途標準電極を形成する手間を省くことができる。このため、パラジウム電極を用いて電極を形成することで、大幅な低コス化を図ることが可能となる。
しかしながら、標準電極および作用極の両者をパラジウム電極により形成した場合には、センサとして機能しない場合があるといった問題がある。
However, when a working electrode or the like is formed using a gold electrode, there is a problem that the material itself is expensive and the sensor electrode is expensive.
In addition, when a working electrode or the like is formed using a gold electrode, it is necessary to separately form a silver / silver oxide electrode or the like as a standard electrode, which causes a problem that the manufacturing process becomes complicated and the cost is increased.
In order to solve such a problem, the present inventors are considering forming an electrode using palladium. Palladium is less expensive than gold, and the electrode using it is one of the few materials that can be used as a standard electrode. For this reason, when a working electrode or the like is formed using a palladium electrode, it is not necessary to separately form a standard electrode using a different material as in the case where a gold electrode is used. That is, if it is a palladium electrode, a standard electrode and a working electrode can be formed simultaneously, and the effort which forms a standard electrode separately using another material can be saved. For this reason, it becomes possible to achieve significant cost reduction by forming the electrode using a palladium electrode.
However, when both the standard electrode and the working electrode are formed of palladium electrodes, there is a problem that they may not function as a sensor.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、電極の形成が容易であり、センサとして安定的に機能するセンサ用電極を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and it is a main object of the present invention to provide a sensor electrode that can be easily formed and functions stably as a sensor.

本発明者等は、上記課題を解決すべく研究を重ねた結果、パラジウム電極を用いて作用極を形成した際に、測定対象物を含む試料中のタンパク質等の成分(以下、吸着性成分と称する場合がある。)が作用極表面に吸着し、作用極表面での電気化学反応を阻害することで、センサ用電極がセンサとして機能しなくなる場合があることを新たに発見した。
また、パラジウム電極表面に薄く金電極膜を形成した電極層は、これを用いて作用極および標準電極を形成した場合に、作用極表面への吸着性成分の吸着を抑制でき、作用極として安定的に機能すると共に、標準電極としても機能することを新たに見出し、本発明を完成させるに至ったのである。
As a result of repeated studies to solve the above problems, the present inventors, as a result of forming a working electrode using a palladium electrode, components such as proteins (hereinafter referred to as adsorptive components) in a sample containing a measurement object. It has been discovered that the sensor electrode may not function as a sensor by adsorbing to the surface of the working electrode and inhibiting the electrochemical reaction on the surface of the working electrode.
In addition, the electrode layer with a thin gold electrode film on the palladium electrode surface can suppress the adsorption of adsorptive components to the surface of the working electrode when it is used to form a working electrode and a standard electrode. The present invention has been completed by newly finding out that it also functions as a standard electrode.

すなわち、本発明は、絶縁性を有する基材の一方の面に第1電極層を有し、上記第1電極層が、作用極および標準電極を含み、上記第1電極層は、上記基材の一方の面にパラジウムを含む第1層(以下、パラジウム層と称する場合がある。)を有し、さらに、上記第1層の上記基材が形成された面とは反対側の面に、上記標準電極が標準電極としての機能を奏するように形成された金を含む第2層(以下、金層と称する場合がある。)を有することを特徴とするセンサ用電極を提供する。
つまり、本発明は、絶縁性を有する基材と、上記基材の一方の面に形成された第1電極層と、を有し、上記第1電極層が、作用極および標準電極を含み、上記第1電極層は、上記基材の一方の面に形成されたパラジウム層と、上記パラジウム層の上記基材が形成された面とは反対側の面に、上記標準電極が標準電極としての機能を奏するように形成された金層と、を有することを特徴とするセンサ用電極を提供する。
That is, the present invention has a first electrode layer on one surface of an insulating substrate, the first electrode layer includes a working electrode and a standard electrode, and the first electrode layer includes the substrate. Having a first layer containing palladium on one side (hereinafter sometimes referred to as a palladium layer), and on the surface of the first layer opposite to the surface on which the substrate is formed, There is provided a sensor electrode characterized in that the standard electrode has a second layer (hereinafter sometimes referred to as a gold layer) containing gold formed so as to function as a standard electrode.
That is, the present invention has a base material having insulating properties and a first electrode layer formed on one surface of the base material, and the first electrode layer includes a working electrode and a standard electrode, The first electrode layer includes a palladium layer formed on one surface of the substrate, and a surface of the palladium layer opposite to the surface on which the substrate is formed. There is provided a sensor electrode comprising a gold layer formed so as to exhibit a function.

本発明によれば、上記第1電極層が、パラジウム層と、上記パラジウム層の上記基材が形成された面とは反対側の面に、金層と、を有することにより、この第1電極層を用いて形成された作用極は、使用時の吸着性成分の吸着を抑制できる。このため、本発明のセンサ用電極は、センサとして安定的に機能するものとなる。
また、上記第1電極層は、金層が、上記標準電極が標準電極としての機能を奏するように形成されていることにより、上記第1電極層を用いて形成された標準電極は、標準電極としての機能を奏するものとなる。
したがって、上記第1電極層は、作用極および標準電極の両者として使用可能となり、このような第1電極層により作用極および標準電極の両者が形成されていることで、本発明のセンサ用電極は、電極の形成が容易なものとなる。
According to the present invention, the first electrode layer includes the palladium layer and the gold layer on the surface of the palladium layer opposite to the surface on which the base material is formed. The working electrode formed using the layer can suppress the adsorption of the adsorptive component during use. For this reason, the electrode for sensors of the present invention functions stably as a sensor.
The first electrode layer is formed of a gold layer so that the standard electrode functions as a standard electrode, so that the standard electrode formed using the first electrode layer is a standard electrode. As a result,
Therefore, the first electrode layer can be used as both a working electrode and a standard electrode, and both the working electrode and the standard electrode are formed by such a first electrode layer. This makes it easy to form electrodes.

本発明においては、上記第2層の厚みが、5nm以上50nm以下であることが好ましい。つまり、本発明においては、上記金層の厚みが、5nm以上50nm以下であることが好ましい。標準電極としての機能を奏する第1電極層の形成が容易となるからである。   In the present invention, the thickness of the second layer is preferably 5 nm or more and 50 nm or less. That is, in the present invention, the gold layer preferably has a thickness of 5 nm to 50 nm. This is because it is easy to form the first electrode layer that functions as a standard electrode.

本発明においては、上記第1層の厚みが、上記第2層の厚みより厚いことが好ましい。つまり、本発明においては、上記パラジウム層の厚みが、上記金層の厚みより厚いことが好ましい。金層の使用量、すなわち、金の使用量を低減することができ、本発明のセンサ用電極は、低コストなものとなるからである。   In the present invention, the thickness of the first layer is preferably thicker than the thickness of the second layer. That is, in the present invention, it is preferable that the palladium layer is thicker than the gold layer. This is because the amount of gold layer used, that is, the amount of gold used can be reduced, and the sensor electrode of the present invention is low-cost.

本発明においては、上記基材の一方の面に上記第1層を含む電極層を有し、上記電極層は、全て上記第1電極層であることが好ましい。つまり、本発明においては、上記基材の一方の面に形成され、上記パラジウム層を含む電極層が、全て上記第1電極層であることが好ましい。上記電極層により形成された電極の全てが、第1電極層により形成されたものとすることで、本発明のセンサ用電極は、電極の形成が容易なものとなるからである。   In this invention, it has an electrode layer containing the said 1st layer in one surface of the said base material, and it is preferable that all the said electrode layers are said 1st electrode layers. That is, in the present invention, it is preferable that all of the electrode layers formed on one surface of the substrate and including the palladium layer are the first electrode layer. This is because all the electrodes formed by the electrode layer are formed by the first electrode layer, whereby the sensor electrode of the present invention can be easily formed.

本発明においては、上記基材の一方の面に、測定対象物を収容し得るものであり、その内部に上記作用極および上記標準電極が配置される収容部と、一端が上記収容部に接続され、他端が導入口に接続された流路と、を有することが好ましい。つまり、本発明においては、上記基材の一方の面に形成され、測定対象物を収容し得るものであり、その内部に上記作用極および上記標準電極が配置される収容部と、一端が上記収容部に接続され、他端が導入口に接続された流路と、を有することが好ましい。
上記収容部および流路を有することにより、本発明のセンサ用電極は、センサとして使用容易なものとなるからである。
In the present invention, the object to be measured can be accommodated on one surface of the base material, and a housing part in which the working electrode and the standard electrode are disposed, and one end connected to the housing part And a flow path having the other end connected to the inlet. That is, in the present invention, it is formed on one surface of the base material and can accommodate a measurement object, and a housing portion in which the working electrode and the standard electrode are disposed, and one end of the housing It is preferable to have a flow path that is connected to the accommodating portion and has the other end connected to the introduction port.
This is because the sensor electrode of the present invention can be easily used as a sensor by having the housing portion and the flow path.

本発明においては、上記作用極の平面視形状が櫛形形状であることが好ましい。上記作用極の平面視形状が櫛形形状であることにより、本発明のセンサ用電極は、高感度なセンサとなるからである。   In the present invention, the working electrode preferably has a comb shape in plan view. This is because the sensor electrode of the present invention is a highly sensitive sensor because the working electrode has a comb shape in plan view.

本発明においては、上記センサ用電極が、エンドトキシンセンサとして用いられることが好ましい。本発明のセンサ用電極は低コストなものとなるため、例えば、様々な場面で測定されるエンドトキシン濃度の測定を低コストで実施可能となるからである。   In the present invention, the sensor electrode is preferably used as an endotoxin sensor. This is because the sensor electrode of the present invention is low in cost, and therefore, for example, it is possible to measure endotoxin concentration measured in various situations at low cost.

本発明は、電極の形成が容易であり、センサとして安定的に機能するセンサ用電極を提供できるといった効果を奏する。   The present invention is advantageous in that an electrode can be easily formed and a sensor electrode that functions stably as a sensor can be provided.

本発明のセンサ用電極の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the electrode for sensors of this invention. 図1のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line of FIG. 本発明における電極層を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the electrode layer in this invention. 本発明における電極層を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the electrode layer in this invention. 本発明のセンサ用電極の他の例を示す概略平面図および断面図である。It is the schematic plan view and sectional drawing which show the other example of the electrode for sensors of this invention. 本発明のセンサ用電極の他の例を示す概略平面図および断面図である。It is the schematic plan view and sectional drawing which show the other example of the electrode for sensors of this invention. 実施例1におけるサイクリックボルタモグラムである。2 is a cyclic voltammogram in Example 1. FIG. 実施例2におけるサイクリックボルタモグラムである。4 is a cyclic voltammogram in Example 2. 実施例3におけるサイクリックボルタモグラムである。4 is a cyclic voltammogram in Example 3. 実施例4におけるサイクリックボルタモグラムである。6 is a cyclic voltammogram in Example 4. 実施例5におけるサイクリックボルタモグラムである。6 is a cyclic voltammogram in Example 5. 実施例6におけるサイクリックボルタモグラムである。7 is a cyclic voltammogram in Example 6. 比較例1におけるサイクリックボルタモグラムである。2 is a cyclic voltammogram in Comparative Example 1. 比較例2におけるサイクリックボルタモグラムである。4 is a cyclic voltammogram in Comparative Example 2. 比較例3におけるサイクリックボルタモグラムである。10 is a cyclic voltammogram in Comparative Example 3. 比較例4におけるサイクリックボルタモグラムである。10 is a cyclic voltammogram in Comparative Example 4. 比較例5におけるサイクリックボルタモグラムである。10 is a cyclic voltammogram in Comparative Example 5. 比較例6におけるサイクリックボルタモグラムである。10 is a cyclic voltammogram in Comparative Example 6. 参考例1におけるサイクリックボルタモグラムである。2 is a cyclic voltammogram in Reference Example 1. 実施例1におけるアンペログラムである。2 is an amperogram in Example 1. FIG. 実施例7におけるアンペログラムである。10 is an amperogram in Example 7.

本発明は、センサ用電極に関するものである。
以下、本発明のセンサ用電極について詳細に説明する。
The present invention relates to a sensor electrode.
Hereinafter, the sensor electrode of the present invention will be described in detail.

本発明のセンサ用電極は、絶縁性を有する基材と、上記基材の一方の面に形成された第1電極層と、を有し、上記第1電極層が、作用極および標準電極を含み、上記第1電極層は、上記基材の一方の面に形成されたパラジウム層と、上記パラジウム層の上記基材が形成された面とは反対側の面に、上記標準電極が標準電極としての機能を奏するように形成された金層と、を有することを特徴とするものである。   The sensor electrode of the present invention has a base material having an insulating property and a first electrode layer formed on one surface of the base material, and the first electrode layer includes a working electrode and a standard electrode. The first electrode layer includes a palladium layer formed on one surface of the substrate and a surface of the palladium layer opposite to the surface on which the substrate is formed. And a gold layer formed so as to perform the function as.

このような本発明のセンサ用電極について図を参照して説明する。図1は、本発明のセンサ用電極の一例を示す概略平面図であり、図2は図1のA−A線断面図である。
図1および図2に例示するように、本発明のセンサ用電極10は、絶縁性を有する基材1と、上記基材1の一方の面に形成された第1電極層4と、を有し、上記第1電極層4が、作用極21および標準電極22を含み、上記第1電極層4は、上記基材1の一方の面に形成されたパラジウム層2と、上記パラジウム層2の上記基材1が形成された面とは反対側の面に、上記標準電極22が標準電極としての機能を奏するように形成された金層3と、を有するものである。
なお、図1および図2は、上記基材1の一方の面に形成された上記パラジウム層2を含む電極層6が、2つの作用極21、標準電極22および対極23を含む電極部11と、電極部11に接続され、測定装置との接続に用いられる端子部13と、電極部11および端子部13を接続する配線部12と、を有する電極を含み、これらの電極の全てが第1電極層4により形成される例を示すもの、すなわち、パラジウム層2を含む電極層6が全て上記第1電極層4である例を示すものである。
Such a sensor electrode of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of a sensor electrode of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG.
As illustrated in FIGS. 1 and 2, the sensor electrode 10 of the present invention includes a base material 1 having an insulating property and a first electrode layer 4 formed on one surface of the base material 1. The first electrode layer 4 includes a working electrode 21 and a standard electrode 22, and the first electrode layer 4 includes a palladium layer 2 formed on one surface of the substrate 1, and a palladium layer 2. The gold layer 3 is formed on the surface opposite to the surface on which the base material 1 is formed so that the standard electrode 22 functions as a standard electrode.
1 and FIG. 2, the electrode layer 6 including the palladium layer 2 formed on one surface of the substrate 1 includes an electrode portion 11 including two working electrodes 21, a standard electrode 22, and a counter electrode 23. And an electrode having a terminal part 13 connected to the electrode part 11 and used for connection to the measuring device, and a wiring part 12 connecting the electrode part 11 and the terminal part 13, all of these electrodes being the first An example in which the electrode layer 4 is formed, that is, an example in which the electrode layer 6 including the palladium layer 2 is the first electrode layer 4 is shown.

本発明によれば、上記第1電極層が、パラジウム層と、上記パラジウム層の上記基材が形成された面とは反対側の面に、金層と、を有することにより、この第1電極層を用いて形成された作用極は、金層の存在により使用時の吸着性成分の吸着を抑制でき、吸着性成分による電気化学反応の阻害を抑制できる。このため、本発明のセンサ用電極は、センサとして安定的に機能するものとなる。
また、上記第1電極層は、金層が、上記標準電極が標準電極としての機能を奏するように形成されていること、例えば、測定対象物を含む試料がパラジウム層に接触可能に形成されていることにより、パラジウム層としての機能も発揮可能となる。その結果、上記第1電極層を用いて形成された標準電極は、標準電極としての機能を奏するものとなる。
したがって、上記第1電極層は、作用極および標準電極の両者として使用可能となり、このような第1電極層により作用極および標準電極の両者が形成されていることで、本発明のセンサ用電極は、電極の形成が容易なものとなる。
さらに、第1電極層は、パラジウム層を含むものであることから、金層のみによって電極を形成する場合と比較して低コスト化を図ることができる。
According to the present invention, the first electrode layer includes the palladium layer and the gold layer on the surface of the palladium layer opposite to the surface on which the base material is formed. The working electrode formed using the layer can suppress the adsorption of the adsorptive component during use due to the presence of the gold layer, and can suppress the inhibition of the electrochemical reaction by the adsorbing component. For this reason, the electrode for sensors of the present invention functions stably as a sensor.
In addition, the first electrode layer is formed such that the gold layer is formed so that the standard electrode functions as a standard electrode, for example, a sample including an object to be measured can be brought into contact with the palladium layer. Thus, the function as a palladium layer can be exhibited. As a result, the standard electrode formed using the first electrode layer functions as a standard electrode.
Therefore, the first electrode layer can be used as both a working electrode and a standard electrode, and both the working electrode and the standard electrode are formed by such a first electrode layer. This makes it easy to form electrodes.
Furthermore, since the first electrode layer includes a palladium layer, the cost can be reduced as compared with the case where the electrode is formed only by the gold layer.

本発明のセンサ用電極は、基材および電極層を有するものである。
以下、本発明のセンサ用電極の各構成について詳細に説明する。
The sensor electrode of the present invention has a substrate and an electrode layer.
Hereafter, each structure of the electrode for sensors of this invention is demonstrated in detail.

1.電極層
上記電極層は、上記基材の一方の面に形成されたパラジウム層を含むものである。
上記電極層は、少なくとも第1電極層を含むものである。
1. Electrode layer The electrode layer includes a palladium layer formed on one surface of the substrate.
The electrode layer includes at least a first electrode layer.

(1)第1電極層
上記第1電極層は、作用極および標準電極を少なくとも含むものである。
上記第1電極層は、上記基材の一方の面に形成されたパラジウム層と、上記パラジウム層の上記基材が形成された面とは反対側の面に、上記標準電極が標準電極としての機能を奏するように形成された金層と、を有するものである。
(1) First electrode layer The first electrode layer includes at least a working electrode and a standard electrode.
The first electrode layer includes a palladium layer formed on one surface of the substrate, and a surface of the palladium layer opposite to the surface on which the substrate is formed. And a gold layer formed so as to exhibit a function.

ここで、上記標準電極が標準電極としての機能を奏するように形成されるとは、パラジウム層の上記基材が形成された面とは反対側の面(以下、パラジウム層表面と称する場合がある。)に金層が形成された場合でも、本発明のセンサ用電極において第1電極層を用いて形成された標準電極が、標準電極としての機能を発揮可能なものであればよい。
上記標準電極が標準電極としての機能を奏するように形成されるとは、より具体的には、後述する実施例の評価1に記載する条件でサイクリックボルタモグラムを作成し、そのサイクリックボルタモグラムより酸化ピークおよび還元ピークの両者が観察されるものとすることができる。
具体的には、酸化ピーク位置が0.3V以下で観察された場合に、酸化ピークを観察できたと判断することができる。
また、サイクリックボルタモグラムで観察される還元ピークを通過し、X軸に並行な直線を引いた時、その線より還元ピーク後の特性が上にあるもの、すなわち、電位を0.6Vから−0.4Vに走査する際に、還元ピークが観察された電位より低電位側で、還元ピークにおける電流値以上の電流値が観察された場合に、還元ピークを観察できたと判断することができる。
このような第1電極層としては、例えば、測定対象物を含む試料(以下、単に試料と称する場合がある。)がパラジウム層まで到達可能な状態でパラジウム層表面に形成された金層を有するものとすることができ、より具体的には、厚みが50nm以下である金層を有する態様(第1実施態様)と、平面視形状が部分的にパラジウム層が露出するパターン形状である金層を有する態様(第2実施態様)と、を挙げることができる。
本発明においては、なかでも、上記第1電極層が、第1実施態様であることが好ましい。金層の形成が容易だからである。
なお、図3(a)は、厚みが50nm以下である金層3を有する第1電極層4の一例を示す概略平面図であり、図3(b)は図3(a)のB−B線断面図である。
また、図4(a)、(c)および(e)は、平面視形状が、部分的にパラジウム層2が露出するパターン形状である金層3を有する第1電極層4の一例を示す概略平面図であり、図4(b)、(d)および(f)は、図4(a)、(c)および(e)のそれぞれのC−C線断面図である。
以下、このような各実施態様の第1電極層について分けて説明する。
Here, the standard electrode is formed so as to function as a standard electrode. The surface of the palladium layer opposite to the surface on which the base material is formed (hereinafter sometimes referred to as a palladium layer surface). Even if a gold layer is formed on the sensor electrode of the present invention, the standard electrode formed using the first electrode layer in the sensor electrode of the present invention may be any one that can exhibit the function as the standard electrode.
More specifically, the standard electrode is formed so as to function as a standard electrode. More specifically, a cyclic voltammogram is created under the conditions described in the evaluation 1 of the embodiment described later, and oxidation is performed from the cyclic voltammogram. Both peaks and reduction peaks can be observed.
Specifically, it can be determined that the oxidation peak was observed when the oxidation peak position was observed at 0.3 V or less.
Further, when a straight line parallel to the X axis passes through the reduction peak observed in the cyclic voltammogram, the characteristic after the reduction peak is higher than that line, that is, the potential is changed from 0.6 V to −0. When scanning at .4 V, when a current value equal to or higher than the current value at the reduction peak is observed on the lower potential side than the potential at which the reduction peak was observed, it can be determined that the reduction peak could be observed.
As such a 1st electrode layer, it has the gold layer formed in the palladium layer surface in the state in which the sample (henceforth a sample may only be called a sample) containing a measuring object can reach a palladium layer, for example. More specifically, an embodiment (first embodiment) having a gold layer having a thickness of 50 nm or less and a gold layer having a pattern shape in which the palladium layer is partially exposed in plan view. And an embodiment (second embodiment) having
In the present invention, in particular, the first electrode layer is preferably the first embodiment. This is because the formation of the gold layer is easy.
3A is a schematic plan view showing an example of the first electrode layer 4 having the gold layer 3 having a thickness of 50 nm or less, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. It is line sectional drawing.
4A, 4 </ b> C, and 4 </ b> E schematically illustrate an example of the first electrode layer 4 having a gold layer 3 having a pattern shape in which the palladium layer 2 is partially exposed in plan view. FIGS. 4B, 4D, and 4F are cross-sectional views taken along the line CC of FIGS. 4A, 4C, and 4E, respectively.
Hereinafter, the first electrode layer of each of such embodiments will be described separately.

(a)第1実施態様
本態様の第1電極層は、厚みが50nm以下である金層を有するものである。
(A) 1st embodiment The 1st electrode layer of this aspect has a gold layer whose thickness is 50 nm or less.

ここで、厚みが50nm以下の金層を有するものであることにより、第1電極層を用いて形成された標準電極が標準電極としての機能を奏するものとなる理由については明確ではないが、以下のように推察される。
すなわち、金層は、一般的にピンホール等を有し易く、薄膜である程ピンホール等の数が多いものとなる。このため、金層の厚みが所定の範囲以下であることで、試料がパラジウム層まで到達可能となる結果、第1電極層は標準電極としての機能を奏するものとなるのである。
また、パラジウム層が金層に覆われることで、吸着性成分の吸着を抑制できる結果、第1電極層は作用極としても安定的に機能を奏するものとなるのである。
さらに、厚みが50nm以下であることで、低コスト化を図ることができる。
Here, it is not clear why the standard electrode formed using the first electrode layer has a function as a standard electrode by having a gold layer having a thickness of 50 nm or less. It is guessed as follows.
That is, the gold layer generally has pinholes and the like, and the thinner the film, the greater the number of pinholes. For this reason, when the thickness of the gold layer is equal to or less than a predetermined range, the sample can reach the palladium layer. As a result, the first electrode layer functions as a standard electrode.
Further, since the palladium layer is covered with the gold layer, the adsorption of the adsorptive component can be suppressed. As a result, the first electrode layer functions stably as a working electrode.
Furthermore, cost reduction can be achieved because thickness is 50 nm or less.

上記金層の厚みは、50nm以下であればよく、本発明のセンサ用電極の用途等によって異なるものであるが、例えば、5nm以上50nm以下であることが好ましく、5nm以上30nm以下であることが好ましく、特に、5nm以上20nm以下であることが好ましく、なかでも特に、5nm以上15nm以下であることが好ましい。
上記金層の厚みが上述の範囲内であることにより、安定的に試料がパラジウム層まで到達可能であり、さらに、吸着性成分がパラジウム層に吸着することを安定的に抑制できるからである。
なお、上記金層の厚みは、上記パラジウム層の上記基材が形成された面とは反対側の面から金層のパラジウム層が形成された面とは反対側の面までの距離をいうものであり、具体的には、既に説明した図3(b)中のh1で示されるものである。
The thickness of the gold layer may be 50 nm or less, and varies depending on the application of the sensor electrode of the present invention. For example, the thickness is preferably 5 nm or more and 50 nm or less, and preferably 5 nm or more and 30 nm or less. In particular, it is preferably 5 nm or more and 20 nm or less, and particularly preferably 5 nm or more and 15 nm or less.
This is because when the thickness of the gold layer is within the above range, the sample can stably reach the palladium layer, and further, the adsorption of the adsorptive component to the palladium layer can be stably suppressed.
The thickness of the gold layer refers to the distance from the surface of the palladium layer opposite to the surface on which the substrate is formed to the surface on the opposite side of the surface of the gold layer on which the palladium layer is formed. Specifically, it is indicated by h1 in FIG. 3 (b) already described.

以下、本態様の第1電極層に含まれる金層およびパラジウム層について説明する。   Hereinafter, the gold layer and the palladium layer included in the first electrode layer of this embodiment will be described.

(i)金層
上記金層は、上記パラジウム層の上記基材が形成された面とは反対側の面に、上記第1電極層が上記標準電極としての機能を奏するものとなるように形成されるものであり、本態様においては、厚みが50nm以下のものである。
また、上記金層は、金を主成分として含む層である。
(I) Gold layer The gold layer is formed on the surface of the palladium layer opposite to the surface on which the substrate is formed so that the first electrode layer functions as the standard electrode. In this embodiment, the thickness is 50 nm or less.
The gold layer is a layer containing gold as a main component.

ここで、金を主成分として含むとは、第1電極層が作用極および標準電極としての機能を安定的に奏するものであればよく、例えば、金層中の金の含有量が、95質量%以上であるものとすることができ、なかでも、98質量%以上であることが好ましく、特に、100質量%、すなわち、金のみを含むものであることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、第1電極層は作用極および標準電極としての機能を安定的に奏するものとなるからである。
なお、上記含有量が100質量%未満である場合、上記金層が含有可能な材料としては、例えば、白金等を挙げることができる。
Here, including gold as a main component is sufficient if the first electrode layer stably functions as a working electrode and a standard electrode. For example, the gold content in the gold layer is 95 mass. %, More preferably 98% by mass or more, and particularly preferably 100% by mass, that is, one containing only gold. This is because the first electrode layer stably functions as the working electrode and the standard electrode when the content is within the above-described range.
In addition, when the said content is less than 100 mass%, as a material which the said gold layer can contain, platinum etc. can be mentioned, for example.

上記金層の、パラジウム層表面の形成箇所としては、パラジウム層が露出するパターン状であってもよいが、通常、パラジウム層表面の全面である。上記形成箇所であることで、第1電極層は形成容易となるからである。   The place where the gold layer is formed on the surface of the palladium layer may be a pattern where the palladium layer is exposed, but is usually the entire surface of the surface of the palladium layer. This is because the formation of the first electrode layer is facilitated by the formation location.

上記金層は、上記パラジウム層の上記基材が形成された面とは反対側の面に形成されるものであればよいが、必要に応じて、パラジウム層の側面にも形成されていてもよい。   The gold layer may be formed on the surface of the palladium layer opposite to the surface on which the base material is formed, but may be formed on the side surface of the palladium layer as necessary. Good.

上記金層は、他の層を介してパラジウム層の上記基材が形成された面とは反対側の面に形成されるものであってもよいが、通常、パラジウム層と直接接するように形成されるものである。   The gold layer may be formed on the surface of the palladium layer opposite to the surface on which the base material is formed through another layer, but is usually formed so as to be in direct contact with the palladium layer. It is what is done.

(ii)パラジウム層
上記パラジウム層は、上記基材の一方の面に形成されるものである。
上記パラジウム層は、パラジウムを主成分として含む層である。
(Ii) Palladium layer The palladium layer is formed on one surface of the substrate.
The palladium layer is a layer containing palladium as a main component.

ここで、パラジウムを主成分として含むとは、第1電極層が作用極および標準電極としての機能を安定的に奏するものであればよく、例えば、パラジウム層中のパラジウムの含有量が、95質量%以上であるものとすることができ、なかでも、98質量%以上であることが好ましく、特に、100質量%、すなわち、パラジウムのみを含むものであることが好ましい。上記含有量が上述の範囲内であることにより、第1電極層が作用極および標準電極としての機能を安定的に奏するものとなるからである。
なお、上記含有量が100質量%未満である場合、上記パラジウム層が含有可能な材料としては、例えば、金、ニッケル、クロム、カーボン等を挙げることができる。
Here, including palladium as a main component is not limited as long as the first electrode layer stably functions as a working electrode and a standard electrode. For example, the palladium content in the palladium layer is 95 mass%. %, More preferably 98% by mass or more, and particularly preferably 100% by mass, that is, one containing only palladium. This is because the first electrode layer stably functions as the working electrode and the standard electrode when the content is within the above-described range.
In addition, when the said content is less than 100 mass%, as a material which the said palladium layer can contain, gold | metal | money, nickel, chromium, carbon etc. can be mentioned, for example.

上記パラジウム層の厚みは、第1電極層が作用極および標準電極としての機能を安定的に奏するものであればよく、例えば、5nm以上500nm以下とすることができ、なかでも10nm以上100nm以下であることが好ましく、特に30nm以上50nm以下であることが好ましい。上記厚みが上述の範囲内であることにより、第1電極層が作用極および標準電極としての機能を安定的に奏するものとなるからである。
また、上記パラジウム層の厚みは、上記金層の厚みより厚いことが好ましい。本発明のセンサ用電極は、低コストなものとなるからである。
なお、上記パラジウム層の厚みは、パラジウム層の基材側の面から金層が形成された面までの距離をいうものであり、具体的には、既に説明した図3(b)中のh2で示されるものである。
The thickness of the palladium layer is not particularly limited as long as the first electrode layer stably functions as a working electrode and a standard electrode. For example, the thickness can be 5 nm or more and 500 nm or less, and in particular, 10 nm or more and 100 nm or less. It is preferable that it is 30 nm or more and 50 nm or less especially. This is because, when the thickness is within the above range, the first electrode layer stably functions as the working electrode and the standard electrode.
The palladium layer is preferably thicker than the gold layer. This is because the sensor electrode of the present invention is low-cost.
The thickness of the palladium layer refers to the distance from the surface of the palladium layer on the substrate side to the surface on which the gold layer is formed. Specifically, h2 in FIG. 3 (b) already described. It is shown by.

(iii)第1電極層の形成方法
上記第1電極層は、作用極および標準電極を少なくとも含むものであり、その平面視形状は、通常、パターン形状である。
このような第1電極層の形成方法としては、所望のパターン形状の第1電極層を形成可能な方法であればよく、例えば、パターン状のパラジウム層を形成した後、パラジウム層上に金層を積層する方法(第1方法)、パラジウム層を形成可能なパラジウム層形成膜および金層を形成可能な金層形成膜の両者を積層した後、パラジウム層形成膜および金層形成膜の積層体をパターニングする方法(第2方法)等を挙げることができる。
本発明においては、なかでも、上記形成方法が、上記第1方法であることが好ましい。金層を形成するために用いる金の使用量を低減できるからである。
(Iii) Forming method of first electrode layer The first electrode layer includes at least a working electrode and a standard electrode, and its planar view shape is usually a pattern shape.
As a method for forming such a first electrode layer, any method can be used as long as the first electrode layer having a desired pattern shape can be formed. For example, after forming a patterned palladium layer, a gold layer is formed on the palladium layer. A first layer, a palladium layer-forming film capable of forming a palladium layer, and a gold layer-forming film capable of forming a gold layer, and then a laminated body of the palladium layer-forming film and the gold layer-forming film. And the like (second method).
In the present invention, it is preferable that the formation method is the first method. This is because the amount of gold used for forming the gold layer can be reduced.

パターン状のパラジウム層を形成する方法としては、パラジウム層形成膜を形成した後、パターン状のレジストを形成し、次いでレジストから露出するパラジウム層形成膜をエッチングする方法を用いることができる。また、上記形成方法としては、第1電極層の形成箇所に開口部を有するマスク層を形成した後、パラジウム層形成膜を製膜する方法や、第1電極層の形成箇所に形成されパラジウム層と密着可能な密着層を形成した後、上記パラジウム層の構成材料を用いて形成されたパラジウム層形成膜を製膜する方法を用いることができる。
上記マスク層としては、フォトレジスト、印刷層、メタルマスク、水性インク層等を挙げることができる。また、上記密着層としてはめっき下地等を挙げることができる。
パターン状のパラジウム層上に金層を積層する方法としては、めっき法等を用いることができ、なかでも、無電解めっき法を好ましく用いることができる。また、無電解金めっき液としては、例えば、ノンシアン系の無電解金めっき液を用いることができる。
また、パラジウム層形成膜および金層形成膜の形成方法としては、所望の厚みのパラジウム層形成膜および金層形成膜を形成可能な方法であればよく、一般的な製膜方法を用いることができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング、イオンプレーティング等の物理気相成長法等の気相法、めっき法等の公知の製膜方法を挙げることができ、なかでも、気相法であることが好ましく、特に、物理気相成長法であることが好ましい。
上記積層体のパターニング方法としては、上記パターン状のパラジウム層を形成する方法と同様の方法を用いることができる。
なお、上記形成方法がマスク層等を形成した後製膜する方法である場合には、必要に応じて、マスク層と共に不要なパラジウム層形成膜を除去する処理を行ってもよい。
As a method of forming a patterned palladium layer, a method of forming a patterned resist after forming a palladium layer forming film and then etching the palladium layer forming film exposed from the resist can be used. In addition, as the above formation method, after forming a mask layer having an opening at the formation position of the first electrode layer, a method of forming a palladium layer formation film, or a palladium layer formed at the formation position of the first electrode layer After forming an adhesion layer that can be adhered to the substrate, a method of forming a palladium layer forming film formed using the constituent material of the palladium layer can be used.
Examples of the mask layer include a photoresist, a printing layer, a metal mask, and a water-based ink layer. Examples of the adhesion layer include a plating base.
As a method for laminating the gold layer on the patterned palladium layer, a plating method or the like can be used, and among them, an electroless plating method can be preferably used. As the electroless gold plating solution, for example, a non-cyanide electroless gold plating solution can be used.
Moreover, as a formation method of a palladium layer formation film and a gold layer formation film, what is necessary is just a method which can form the palladium layer formation film and gold layer formation film of desired thickness, and using a general film forming method is used. For example, known vapor deposition methods such as vacuum vapor deposition, physical vapor deposition methods such as sputtering, ion plating, etc., plating methods, etc., among others, vapor deposition methods. In particular, the physical vapor deposition method is preferable.
As a method for patterning the laminate, a method similar to the method for forming the patterned palladium layer can be used.
In addition, when the said formation method is a method of forming into a film after forming a mask layer etc., you may perform the process which removes an unnecessary palladium layer formation film with a mask layer as needed.

(b)第2実施態様
上記第1電極層の第2実施態様は、平面視形状が部分的にパラジウム層が露出するパターン形状の金層を有するものである。
(B) Second Embodiment A second embodiment of the first electrode layer has a gold layer having a pattern shape in which the palladium layer is partially exposed in plan view.

本態様においては、金層の平面視形状が部分的にパラジウム層が露出するパターン形状であることにより、試料がパラジウム層まで到達可能となる結果、第1電極層は標準電極としての機能を奏するものとなる。
また、パラジウム層が部分的に金層に覆われることで、吸着性成分の吸着を抑制できる結果、第1電極層は作用極としての機能も安定的に奏することができるのである。
In this aspect, since the plan view shape of the gold layer is a pattern shape in which the palladium layer is partially exposed, the sample can reach the palladium layer, so that the first electrode layer functions as a standard electrode. It will be a thing.
In addition, since the palladium layer is partially covered with the gold layer, adsorption of the adsorptive component can be suppressed. As a result, the first electrode layer can also stably function as a working electrode.

上記金層の平面視形状は、部分的にパラジウム層が露出するパターン形状であればよく、ドット形状(網点形状)、ライン形状、複数の開口部が配列した形状等とすることができる。
上記ドット形状の金層の平面視形状としては、第1電極層が標準電極としての機能を奏することができるものであればよく、例えば、三角形状、四角形状、五角形状等の多角形状、円形状、楕円形状等とすることができる。
上記開口部の形状としては、上記ドット形状の金層の平面視形状と同様とすることができる。
なお、既に説明した図4(a)、(c)および(e)は、上記平面視形状が、それぞれ、ライン形状、ドット形状、および複数の開口部が配列した形状である例を示すものである。
また、図4(c)および図4(e)は、それぞれドット形状および開口部の平面視形状が、正方形状である例を示すものである。
The shape of the gold layer in plan view may be a pattern shape in which the palladium layer is partially exposed, and may be a dot shape (halftone dot shape), a line shape, a shape in which a plurality of openings are arranged, or the like.
The shape of the dot-shaped gold layer in plan view is not particularly limited as long as the first electrode layer can function as a standard electrode. For example, a polygonal shape such as a triangular shape, a quadrangular shape, a pentagonal shape, a circular shape, etc. The shape may be an ellipse or the like.
The shape of the opening can be the same as the shape of the dot-shaped gold layer in plan view.
4A, 4C, and 4E described above show examples in which the planar view shape is a line shape, a dot shape, and a shape in which a plurality of openings are arranged, respectively. is there.
Moreover, FIG.4 (c) and FIG.4 (e) show the example whose planar view shape of a dot shape and an opening part is a square shape, respectively.

上記金層の被覆割合、すなわち、パラジウム層の上記基材が形成された面とは反対側の面の面積(パラジウム層面積)に対する、金層により覆われる面積(金層面積)の割合(金層面積/パラジウム層面積)としては、1未満であればよく、本発明のセンサ用電極の用途等によって異なるものであるが、例えば、0.50以上0.99以下とすることができ、なかでも0.60以上0.95以下であることが好まく、特に、0.80以上0.95以下であることが好しい。上記被覆割合が上述の範囲内であることにより、第1電極層が作用極および標準電極としての機能を安定的に奏するものとなるからである。
なお、上記被覆割合は、例えば、第1電極層により形成された電極について、平面視上の重なりが最大となるように少なくとも1辺が10μm以上の正方形領域を配置し、その正方形領域と平面視上重なる部位での被覆割合を求めることができる。
The covering ratio of the gold layer, that is, the ratio of the area covered by the gold layer (gold layer area) to the area of the palladium layer opposite to the surface on which the substrate is formed (palladium layer area) (gold The layer area / palladium layer area) may be less than 1 and varies depending on the application of the sensor electrode of the present invention, and may be, for example, 0.50 or more and 0.99 or less. However, it is preferably 0.60 or more and 0.95 or less, and particularly preferably 0.80 or more and 0.95 or less. This is because the first electrode layer stably functions as the working electrode and the standard electrode when the covering ratio is in the above-described range.
The covering ratio is, for example, that, for an electrode formed by the first electrode layer, a square region having at least one side of 10 μm or more is disposed so as to maximize the overlap in a plan view, and the square region and the plan view are arranged. It is possible to obtain the covering ratio at the overlapping portion.

以下、本態様の第1電極層に含まれる金層およびパラジウム層について説明する。
なお、パラジウム層については、上記「(a)第1実施態様」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
Hereinafter, the gold layer and the palladium layer included in the first electrode layer of this embodiment will be described.
The palladium layer can be the same as that described in the section “(a) First embodiment”, and the description thereof is omitted here.

(i)金層
上記金層は、上記パラジウム層の上記基材が形成された面とは反対側の面に、上記第1電極層が上記標準電極としての機能を奏するように形成されるものであり、本態様においては、平面視形状が部分的にパラジウム層が露出するパターン形状であるものである。
(I) Gold layer The gold layer is formed on the surface of the palladium layer opposite to the surface on which the base material is formed so that the first electrode layer functions as the standard electrode. In this embodiment, the plan view shape is a pattern shape in which the palladium layer is partially exposed.

上記金層の厚みとしては、第1電極層が作用極および標準電極としての機能を安定的に奏するものであればよく、例えば、5nm以上50nm以下とすることができ、なかでも、10nm以上50nm以下であることが好ましく、特に、10nm以上30nm以下であることが好ましい。上記厚みが上述の範囲内であることにより、所定のパターン形状の金層を安定的に形成できるからである。また、低コスト化を図ることができるからである。   The thickness of the gold layer is not particularly limited as long as the first electrode layer stably functions as a working electrode and a standard electrode. For example, the thickness can be 5 nm or more and 50 nm or less. Is preferably 10 nm or more and 30 nm or less in particular. This is because a gold layer having a predetermined pattern shape can be stably formed when the thickness is within the above range. In addition, the cost can be reduced.

上記金層のその他の内容については、上記「(a)第1実施態様」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。   About the other content of the said gold layer, since it can be made to be the same as that of the content of the term of the said "(a) 1st embodiment", description here is abbreviate | omitted.

(ii)第1電極層の形成方法
上記第1電極層は、作用極および標準電極を少なくとも含むものであり、その平面視形状は、通常、パターン形状である。
また、本態様の第1電極層は、パラジウム層が露出するパターン状に金層が形成されるものである。
このような第1電極層の形成方法としては、所望のパターン形状の第1電極層を形成可能な方法であればよく、例えば、パターン状のパラジウム層を形成した後、パラジウム層上にパターン状の金層を形成する方法等を挙げることができる。
パターン状に金層を形成する方法およびパターン状にパラジウム層を形成する方法等については、上記「(a)第1実施態様」の項に記載のパターン状にパラジウム層を形成する方法と同様とすることができる。
(Ii) Method for Forming First Electrode Layer The first electrode layer includes at least a working electrode and a standard electrode, and its planar view shape is usually a pattern shape.
In the first electrode layer of this aspect, the gold layer is formed in a pattern in which the palladium layer is exposed.
As a method for forming such a first electrode layer, any method can be used as long as the first electrode layer having a desired pattern shape can be formed. For example, after forming a patterned palladium layer, a pattern shape is formed on the palladium layer. And a method of forming a gold layer.
The method for forming the gold layer in a pattern and the method for forming the palladium layer in a pattern are the same as the method for forming the palladium layer in the pattern described in the section “(a) First embodiment” above. can do.

(c)その他の層
上記第1電極層は、パラジウム層および金層が基材側からこの順で積層した構造を有するものであり、パラジウム層および金層以外のその他の層を有するものであってもよいが、上記第1電極層が、パラジウム層および金層のみを含み、パラジウム層が基材に直接接するように形成されるものであることが好ましい。上記層構造の第1電極層であることにより、本発明のセンサ用電極は、低コストなものとなるからである。
上記その他の層としては、導電性を有するものであればよく、Ti層、Cr層、Ni層等のパラジウム層および基材の間に形成され、第1電極層の基材への密着性を向上する密着性向上層等を挙げることができる。
なお、パラジウム層をめっき法により形成する際に用いるめっき下地層については、上記密着性向上層に含まれないものである。
(C) Other layers The first electrode layer has a structure in which a palladium layer and a gold layer are laminated in this order from the base material side, and has a layer other than the palladium layer and the gold layer. However, it is preferable that the first electrode layer includes only a palladium layer and a gold layer, and is formed so that the palladium layer is in direct contact with the substrate. This is because the sensor electrode of the present invention is low in cost because it is the first electrode layer having the above layer structure.
The other layer may be any layer having conductivity, and is formed between a palladium layer such as a Ti layer, a Cr layer, or a Ni layer and a base material, and the adhesion of the first electrode layer to the base material is improved. Examples include an improved adhesion improving layer.
In addition, about the plating base layer used when forming a palladium layer by a plating method, it is not contained in the said adhesive improvement layer.

(2)第1電極層の形成対象
上記第1電極層は、作用極および標準電極を少なくとも含むものである。
ここで、第1電極層が作用極および標準電極を含むとは、作用極および標準電極が第1電極層により形成されていることをいうものである。
本発明において、第1電極層は、作用極および標準電極のそれぞれ試料と接触可能な部位を含むものであればよく、例えば、それぞれの一部のみを含むものであってもよいが、作用極および標準電極の試料と接触可能な部位の全てを含むことが好ましく、なかでも、作用極および標準電極の両者の全てを含むもの、すなわち、作用極および標準電極は全て第1電極層であることが好ましい。
なお、既に説明した図1および図2は、第1電極層が作用極および標準電極の全てを含む例を示すものである。
また、図5は、第1電極層が、作用極および標準電極のそれぞれの一部のみを含む例を示すものであり、それぞれの試料と接触可能な部位のみを含む例を示すものであり、図5(a)は、本発明のセンサ用電極10の他の例を示す概略平面図であり、図5(b)および(c)はそれぞれ図5(a)のD−D線断面図およびE−E線断面図である。
なお、図5は、第1電極層が、作用極および標準電極の試料と接触可能な部位の全てを含む例を示すものである。
(2) Target for forming first electrode layer The first electrode layer includes at least a working electrode and a standard electrode.
Here, the phrase “the first electrode layer includes a working electrode and a standard electrode” means that the working electrode and the standard electrode are formed of the first electrode layer.
In the present invention, the first electrode layer only needs to include a part that can contact the sample of the working electrode and the standard electrode. For example, the first electrode layer may include only a part of each of the working electrode and the standard electrode. It is preferable to include all the parts of the standard electrode that can come into contact with the sample, and in particular, to include both the working electrode and the standard electrode, that is, the working electrode and the standard electrode are all the first electrode layer. Is preferred.
FIG. 1 and FIG. 2 already described show examples in which the first electrode layer includes all of the working electrode and the standard electrode.
FIG. 5 shows an example in which the first electrode layer includes only a part of each of the working electrode and the standard electrode, and shows an example including only a part that can contact each sample. FIG. 5 (a) is a schematic plan view showing another example of the sensor electrode 10 of the present invention, and FIGS. 5 (b) and 5 (c) are cross-sectional views taken along the line DD of FIG. 5 (a), respectively. It is EE sectional view taken on the line.
FIG. 5 shows an example in which the first electrode layer includes all the parts that can contact the working electrode and the standard electrode sample.

(a)作用極
上記作用極は、試料に含まれる酸化還元物質と電気化学反応を生じ、酸化還元物質の還元体の酸化および酸化還元物質の酸化体の還元が行われる結果流れる電流により測定対象物を検出するものである。
(A) Working electrode The working electrode is an object to be measured by an electric current that flows as a result of an electrochemical reaction with the redox substance contained in the sample and oxidation of the redox substance and oxidation of the redox substance. It detects objects.

上記作用極の平面視形状としては、酸化還元物質と電気化学反応を生じることができるものであればよく、一般的なセンサ用電極と同様とすることができる。
本発明においては、上記平面視形状が、少なくとも2以上の櫛歯部と、これらの櫛歯部を連結する連結部と、を有する櫛形形状であることが好ましい。上記平面視形状が櫛形形状であることにより、上記作用極は、試料との接触面積の広いものとすることが容易である。したがって本発明のセンサ用電極は高精度なセンサとして使用可能となるからである。
また、上記櫛形形状であることで、例えば2つの櫛形形状の作用極を櫛歯部が幅方向に隣接するように、すなわち、上記櫛歯部同士が噛み合うように配置することで、上記センサ用電極は、検出される電流値を効率的に増幅可能となる。このため、本発明のセンサ用電極は高精度なセンサとして使用可能となるからである。
なお、既に説明した図1は、作用極21が、少なくとも2以上の櫛歯部14aと、これらの櫛歯部14aを連結する連結部14bと、を有する櫛形形状である例を示すものである。
The shape of the working electrode in plan view is not particularly limited as long as it can cause an electrochemical reaction with a redox substance, and can be the same as that of a general sensor electrode.
In this invention, it is preferable that the said planar view shape is a comb shape which has at least 2 or more comb-tooth part and the connection part which connects these comb-tooth parts. When the planar view shape is a comb shape, the working electrode can easily have a large contact area with the sample. Therefore, the sensor electrode of the present invention can be used as a highly accurate sensor.
Further, by being in the comb shape, for example, two comb-shaped working electrodes are arranged so that the comb teeth portions are adjacent in the width direction, that is, the comb teeth portions are engaged with each other, thereby The electrode can efficiently amplify the detected current value. This is because the sensor electrode of the present invention can be used as a highly accurate sensor.
Note that FIG. 1 already described shows an example in which the working electrode 21 has a comb shape having at least two or more comb teeth portions 14a and a connecting portion 14b that connects these comb teeth portions 14a. .

上記櫛歯部の幅としては、所望の精度のセンサとすることができるものであれば特に限定されるものではないが、0.1μm以上20μm以下であることが好ましく、なかでも、0.1μm以上10μm以下であることが好ましい。
上記櫛歯部の長さとしては、本発明のセンサ用電極の用途等に応じて異なるものであるが、500μm以上10000μm以下とすることができる。
上記櫛歯部の本数としては、本発明のセンサ用電極の用途等に応じて異なるものであるが、50本以上500本以下とすることができる。
隣接する上記櫛歯部間の幅としては、本発明のセンサ用電極の用途等に応じて異なるものであるが、0.1μm以上60μm以下とすることができる。
上記連結部の幅としては、本発明のセンサ用電極の用途等に応じて異なるものであるが、0.1μm以上10000μm以下とすることができる。
なお、上記櫛歯部の幅、長さ、隣接する上記櫛歯部間の幅、および上記連結部の幅は、具体的には、図1中のa,b、c、dで示されるものである。また、既に説明した図1では、1つの櫛形電極当たりの櫛歯部の本数が4本である例を示すものである。
The width of the comb portion is not particularly limited as long as it can be a sensor with a desired accuracy, but it is preferably 0.1 μm or more and 20 μm or less, and in particular, 0.1 μm. It is preferably 10 μm or less.
The length of the comb tooth portion varies depending on the application of the sensor electrode of the present invention, and can be 500 μm or more and 10,000 μm or less.
The number of the comb-tooth portions varies depending on the application of the sensor electrode of the present invention, and can be 50 or more and 500 or less.
The width between the adjacent comb tooth portions varies depending on the application of the sensor electrode of the present invention, but can be 0.1 μm or more and 60 μm or less.
The width of the connecting portion varies depending on the application of the sensor electrode of the present invention, but can be 0.1 μm or more and 10,000 μm or less.
In addition, the width | variety of the said comb-tooth part, length, the width | variety between the said adjacent comb-tooth parts, and the width | variety of the said connection part are specifically shown by a, b, c, d in FIG. It is. FIG. 1 already described shows an example in which the number of comb teeth per comb electrode is four.

上記作用極の数としては、1個以上であればよく、本発明のセンサ用電極の用途等に応じて適宜設定されるものである。
上記作用極の数が2個である場合、すなわち、作用極として第1作用極および第2作用極を有する場合には、第1作用極および第2作用極は、それぞれ酸化還元物質の還元体を酸化するための電極と、酸化還元物質の酸化体を還元するための電極として用いることが可能となる。
そして、第1作用極および第2作用極が近接配置されることで、酸化還元物質の酸化および還元を高頻度で繰り返すことができ、本発明のセンサ用電極は高精度なセンサとして使用可能となる。
The number of working electrodes may be one or more, and is appropriately set according to the use of the sensor electrode of the present invention.
When the number of working electrodes is two, that is, when the first working electrode and the second working electrode are provided as working electrodes, the first working electrode and the second working electrode are reduced forms of redox substances, respectively. It can be used as an electrode for oxidizing and an electrode for reducing an oxidized form of the redox substance.
Since the first working electrode and the second working electrode are arranged close to each other, the oxidation and reduction of the redox substance can be repeated with high frequency, and the sensor electrode of the present invention can be used as a highly accurate sensor. Become.

(b)標準電極
上記標準電極は、作用極の電位を決定する際の基準となる電極である。
(B) Standard electrode The standard electrode is a reference electrode when determining the potential of the working electrode.

上記標準電極の平面視形状としては、電気化学センサに一般的に用いられるものと同様とすることができる。   The planar view shape of the standard electrode can be the same as that generally used for electrochemical sensors.

上記標準電極の作用極との間の距離は、ショートを起こさない距離であればよい。
このような各電極間の距離は、本発明のセンサ用電極の大きさに応じて適宜設定することができる。
The distance between the working electrode of the standard electrode may be a distance that does not cause a short circuit.
Such a distance between the electrodes can be appropriately set according to the size of the sensor electrode of the present invention.

(c)その他
上記第1電極層は、電極層により形成される電極のうち、作用極および標準電極を少なくとも含むものである。
本発明においては、電極層により形成される電極のうちの一部が第1電極層により形成されるもの、すなわち、電極層に含まれるパラジウム層の一部のみが金層により覆われるものであってもよいが、電極層により形成される電極の全てが第1電極層により形成されるもの、すなわち、電極層に含まれるパラジウム層の全てが金層により覆われ、上記基材の一方の面に形成された上記パラジウム層を含む電極層が全て第1電極層であることが好ましい。上記電極層により形成される電極の全てが、第1電極層により形成されるものとすることで、本発明のセンサ用電極は、電極の形成が容易なものとなるからである。
なお、既に説明した図1および図2は、電極層6が全て第1電極層4である例、すなわち、電極層6により形成される電極の全てが第1電極層4により形成される例を示すものである。
また、既に説明した図5は、電極層6の一部が第1電極層4である例、すなわち、電極層6により形成される電極の一部が第1電極層4により形成される例を示すものである。
(C) Others The first electrode layer includes at least a working electrode and a standard electrode among electrodes formed by the electrode layer.
In the present invention, a part of the electrodes formed by the electrode layer is formed by the first electrode layer, that is, only a part of the palladium layer included in the electrode layer is covered by the gold layer. However, all the electrodes formed by the electrode layer are formed by the first electrode layer, that is, all the palladium layers contained in the electrode layer are covered with the gold layer, It is preferable that all of the electrode layers including the palladium layer formed on the first electrode layer are first electrode layers. This is because all the electrodes formed by the electrode layer are formed by the first electrode layer, whereby the sensor electrode of the present invention can be easily formed.
1 and 2 described above are examples in which all the electrode layers 6 are the first electrode layers 4, that is, examples in which all the electrodes formed by the electrode layers 6 are formed by the first electrode layers 4. It is shown.
FIG. 5 described above is an example in which a part of the electrode layer 6 is the first electrode layer 4, that is, an example in which a part of the electrode formed by the electrode layer 6 is formed by the first electrode layer 4. It is shown.

本発明において、電極層により形成される電極のうち、作用極および標準電極以外のその他の電極としては、作用極および標準電極以外の電極部、電極部に接続され、測定装置との接続に用いられる端子部、電極部および端子部を接続する配線部等を挙げることができる。   In the present invention, among the electrodes formed by the electrode layer, the other electrodes other than the working electrode and the standard electrode are connected to the electrode portion and the electrode portion other than the working electrode and the standard electrode, and are used for connection to the measuring device. The terminal part, the electrode part, the wiring part which connects the terminal part, etc. can be mentioned.

(i)電極部
上記電極部は、試料と接して電気化学反応を生じる電極である。このような電極部としては、既に説明した作用極および標準電極以外に、例えば、対極を有するものであってもよい。
ここで、対極は、作用極における電気化学反応が,電気的中性の原理の影響のために滞ることを防ぐために用いられる電極である。
なお、対極は、標準電極がその機能を兼ねるものであってもよい。また、標準電極が対極としての機能も兼ねる共通電極である場合、共通電極と測定装置との接続方法としては、上記共通電極を測定装置の標準電極用端子および対極用端子の両方と接続する方法を用いることができる。
(I) Electrode part The said electrode part is an electrode which produces an electrochemical reaction in contact with a sample. As such an electrode part, you may have a counter electrode other than the working electrode and standard electrode which were already demonstrated, for example.
Here, the counter electrode is an electrode used to prevent the electrochemical reaction at the working electrode from stagnation due to the influence of the principle of electrical neutrality.
The counter electrode may be one in which the standard electrode also functions. Further, when the standard electrode is a common electrode that also functions as a counter electrode, as a method for connecting the common electrode and the measuring device, a method of connecting the common electrode to both the standard electrode terminal and the counter electrode terminal of the measuring device. Can be used.

上記対極の平面視形状としては、電気化学センサに一般的に用いられるものと同様とすることができる。   The shape of the counter electrode in plan view can be the same as that generally used for electrochemical sensors.

上記対極の作用極との間の距離は、ショートを起こさない距離であればよい。
このような各電極間の距離は、本発明のセンサ用電極の大きさに応じて適宜設定することができる。
The distance between the counter electrode and the working electrode may be a distance that does not cause a short circuit.
Such a distance between the electrodes can be appropriately set according to the size of the sensor electrode of the present invention.

(ii)端子部および配線部
上記端子部は、上記電極部に接続され、測定装置との接続に用いられるものである。
また、上記配線部は、電極部および端子部を接続するものである。
上記端子部が接続される測定装置については、本発明のセンサ用電極の用途等により異なるものであるが、一般に電気化学測定に使用される装置を用いることができ、例えばポテンショスタット、電流増幅器、これらと同等の機能を持つ装置を挙げることができる。これらの装置は、例えば、上記センサ用電極で生じた電気信号を受信するための接続電極、演算部、電源、表示部および操作部等を備えるものを挙げることができる。
上記端子部および上記配線部の平面視形状については、一般的な配線基板に用いられるものと同様とすることができる。
例えば、上記端子部の平面視形状としては円形状、長方形状、正方形状等の多角形状、円形状等とすることができる。また、配線部については、ライン形状等とすることができる。
(Ii) Terminal part and wiring part The said terminal part is connected to the said electrode part, and is used for a connection with a measuring apparatus.
Moreover, the said wiring part connects an electrode part and a terminal part.
The measuring device to which the terminal portion is connected varies depending on the application of the sensor electrode of the present invention, but a device generally used for electrochemical measurement can be used, for example, a potentiostat, a current amplifier, Devices having functions equivalent to these can be mentioned. These devices can include, for example, a device including a connection electrode for receiving an electrical signal generated by the sensor electrode, a calculation unit, a power source, a display unit, and an operation unit.
About the planar view shape of the said terminal part and the said wiring part, it can be made to be the same as that used for a general wiring board.
For example, the shape of the terminal portion in plan view may be a circular shape, a rectangular shape, a polygonal shape such as a square shape, a circular shape, or the like. In addition, the wiring portion can have a line shape or the like.

(3)その他
上記電極層は、第1電極層を少なくとも有するものであるが、必要に応じて、第2電極層を有するものであってもよい。このような第2電極層としては、上記基材の一方の面に形成された上記パラジウム層を含むものであればよい。例えば、図5に例示するように、第2電極層5として、パラジウム層2を有し、金層を有しないもの、すなわち、パラジウム層2のうち、その基材1が形成された面とは反対側の面に金層3が形成されていないものを第2電極層5として使用することができる。
本発明における第2電極層に含まれるパラジウム層については、上記「(1)第1電極層」の項に記載の内容と同様とすることができる。
なお、図5(a)は、電極層6が、第1電極層4および第2電極層5を有する例を示すものである。また、第2電極層5は、その基材1が形成された面とは反対側の面が絶縁層24により覆われるものである例を示すものである。
また、図5では、櫛形形状の作用極21、標準電極22および対極23を含む電極部11のうち、絶縁層24により覆われていない部位のみが第1電極層4により形成され、絶縁層24に覆われる部分が第2電極層5により形成されるものである。また、図5では、配線部12のうち、絶縁層24により覆われていない部位のみが第1電極層4により形成され、絶縁層24に覆われる部分が第2電極層5により形成されるものである。なお、図5では、端子部13はその全てが第1電極層4により形成されるものである。
なお、図5は、電極部11のうち、作用極21、標準電極22および対極23の試料と接触可能な部位の全てが第1電極層4により形成される例を示すものである。
(3) Others The electrode layer has at least a first electrode layer, but may have a second electrode layer as necessary. As such a 2nd electrode layer, what contains the said palladium layer formed in one surface of the said base material should just be included. For example, as illustrated in FIG. 5, the second electrode layer 5 has a palladium layer 2 and does not have a gold layer, that is, the surface of the palladium layer 2 on which the substrate 1 is formed. A material in which the gold layer 3 is not formed on the opposite surface can be used as the second electrode layer 5.
About the palladium layer contained in the 2nd electrode layer in this invention, it can be made to be the same as that of the content as described in the term of said (1) 1st electrode layer.
FIG. 5A shows an example in which the electrode layer 6 includes the first electrode layer 4 and the second electrode layer 5. The second electrode layer 5 is an example in which the surface opposite to the surface on which the substrate 1 is formed is covered with the insulating layer 24.
In FIG. 5, only the portion of the electrode portion 11 including the comb-shaped working electrode 21, standard electrode 22, and counter electrode 23 that is not covered by the insulating layer 24 is formed by the first electrode layer 4. The portion covered with is formed by the second electrode layer 5. In FIG. 5, only the portion of the wiring portion 12 that is not covered by the insulating layer 24 is formed by the first electrode layer 4, and the portion that is covered by the insulating layer 24 is formed by the second electrode layer 5. It is. In FIG. 5, all of the terminal portions 13 are formed by the first electrode layer 4.
FIG. 5 shows an example in which all the parts of the electrode portion 11 that can contact the sample of the working electrode 21, the standard electrode 22, and the counter electrode 23 are formed by the first electrode layer 4.

電極層が第1電極層および第2電極層を有する場合、電極層の形成方法としては、まず、パラジウム層をパターン状に形成した後、第1電極層として使用するパラジウム層表面にのみ金層をパターン状に形成する方法、例えば、パラジウム層を用いてパターン状に電極層を形成した後、第2電極層を形成する箇所をレジスト層により被覆し、レジスト層から露出するパラジウム層表面上に金層を形成することで、電極層の一部を第1電極層とし、残りを第2電極層とする方法を挙げることができる。
また、金層形成後のレジスト層については、金層形成後に剥離するものであってもよく、除去せずに絶縁層として本発明のセンサ用電極の構成として使用してもよい。
When the electrode layer has a first electrode layer and a second electrode layer, the electrode layer is formed by first forming a palladium layer in a pattern and then forming a gold layer only on the surface of the palladium layer used as the first electrode layer. For example, after forming an electrode layer in a pattern using a palladium layer, a portion where the second electrode layer is formed is covered with a resist layer, and the surface of the palladium layer exposed from the resist layer is covered. By forming the gold layer, a method in which a part of the electrode layer is the first electrode layer and the rest is the second electrode layer can be mentioned.
Further, the resist layer after the gold layer is formed may be peeled off after the gold layer is formed, or may be used as the configuration of the sensor electrode of the present invention as an insulating layer without being removed.

2.基材
上記基材は、絶縁性を有するものであり、電極層を支持するものである。
2. Base material The base material has an insulating property and supports the electrode layer.

ここで、絶縁性を有するとは、上記基材表面に離間して設けられた作用極および標準電極同士の短絡を防ぐことが可能なものであればよい。上記基材の体積抵抗値としては、例えば、1×1012Ω・m以上とすることができる。なお、上記体積抵抗値は、JISK9611に準じた測定方法により求めることができる。
このような基材としては、例えば、樹脂基材、紙、セラミック基材、ガラス基材、少なくとも表面が絶縁された半導体基材や金属基材等を用いることができる。上記基材は、剛性を有していてもよく、弾性を有していてもよい。中でも、上記基材は、弾性を有することが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリスチレン(PS)樹脂、ポリプロピレン(PP)樹脂、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリフェニレンサルファイド樹脂(PPS)等のフィルムを好適に用いることができる。
なお、基材は、可撓性を有していてもよく有さなくてもよい。また、基材の透明性の有無は問わない。
Here, having an insulating property is not limited as long as it is possible to prevent a short circuit between a working electrode and a standard electrode provided on the surface of the base material. The volume resistance value of the substrate can be, for example, 1 × 10 12 Ω · m or more. In addition, the said volume resistance value can be calculated | required with the measuring method according to JISK9611.
As such a base material, for example, a resin base material, paper, a ceramic base material, a glass base material, a semiconductor base material or a metal base material having at least a surface insulation can be used. The substrate may have rigidity or elasticity. Among them, the substrate preferably has elasticity, for example, polyethylene terephthalate (PET) resin, vinyl chloride resin, polystyrene (PS) resin, polypropylene (PP) resin, polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN). A film such as polyphenylene sulfide resin (PPS) can be suitably used.
Note that the substrate may or may not have flexibility. Moreover, the presence or absence of transparency of a base material is not ask | required.

上記基材の形状、大きさ、厚さ等は、本発明のセンサ用電極を使用する測定機器の接続部の形状等により、適宜設定することができる。   The shape, size, thickness, and the like of the substrate can be appropriately set depending on the shape of the connecting portion of the measuring instrument that uses the sensor electrode of the present invention.

3.その他
本発明のセンサ用電極は、基材および電極層を有するものであるが、必要に応じてその他の構成を有するものであってもよい。
このようなその他の構成としては、例えば、図6に例示するように、上記基材1の一方の面に形成され、測定対象物を収容し得るものであり、その内部に上記作用極21および上記標準電極22が配置される収容部28、上記基材の一方の面に形成され、一端が上記収容部28に接続され、他端が導入口30に接続された流路29、導入口30から収容部28までの間に配置され、酵素を含む反応部27、上記基材1上に配置されるカバー層26、配線部12を覆うように形成される絶縁層24等を挙げることができる。
なお、図6(a)は、本発明のセンサ用電極の他の例を示す概略平面図であり、図6(b)は、図6(a)からカバー層の記載を省略したものであり、図6(c)は、図6(a)のF−F線断面図である。
3. Others The electrode for a sensor of the present invention has a substrate and an electrode layer, but may have other configurations as necessary.
As such other configuration, for example, as illustrated in FIG. 6, it is formed on one surface of the base material 1 and can accommodate the measurement object, and the working electrode 21 and the inside thereof can be accommodated therein. An accommodation portion 28 in which the standard electrode 22 is disposed, a flow path 29 formed on one surface of the base material, one end connected to the accommodation portion 28 and the other end connected to the introduction port 30, and the introduction port 30. A reaction part 27 containing an enzyme, a cover layer 26 arranged on the substrate 1, an insulating layer 24 formed so as to cover the wiring part 12, and the like. .
6A is a schematic plan view showing another example of the sensor electrode of the present invention, and FIG. 6B is a diagram in which the cover layer is omitted from FIG. 6A. FIG.6 (c) is the FF sectional view taken on the line of Fig.6 (a).

(1)収容部
本発明における収容部は、基板上に形成され、測定対象物を収容し得るものであり、その内部に上記作用極および上記標準電極が配置されるものであり、通常、これらの電極を含む全ての電極部が配置されるものである。
収容部の形状としては特に限定されるものではなく、収容部の平面視形状としては、例えば円形状、楕円形状、四角形状等を挙げることができる。
本発明のセンサ用電極においては、試料を数μL〜数十μL程度導入して測定を行うことができることから、収容部の容量としては、1mm以上200mm以下であることが好ましく、中でも1mm以上100mm以下、特に1mm以上50mm以下であることが好ましい。収容部の大きさとしては、例えば収容部の平面視形状が円形の場合には、直径が1mm以上5mm以下程度、深さが1mm以上10mm以下程度とすることができる。
(1) Storage part The storage part in this invention is formed on a board | substrate, and can accommodate a measuring object, The said working electrode and the said standard electrode are arrange | positioned in the inside, Usually these All electrode parts including these electrodes are arranged.
The shape of the accommodating portion is not particularly limited, and examples of the shape of the accommodating portion in plan view include a circular shape, an elliptical shape, and a rectangular shape.
In the sensor electrode of the present invention, since the sample can be measured by introducing about several μL to several tens of μL, the capacity of the accommodating portion is preferably 1 mm 3 or more and 200 mm 3 or less, particularly 1 mm. It is preferably 3 or more and 100 mm 3 or less, particularly 1 mm 3 or more and 50 mm 3 or less. For example, when the shape of the housing portion is circular, the housing portion may have a diameter of about 1 mm to 5 mm and a depth of about 1 mm to 10 mm.

収容部の配置としては、測定対象物を収容することができ、その内部に上記電極部を配置することができれば特に限定されるものではない。例えば図5に示すように上部が導入口30となるように収容部28が配置されていてもよく、図6に示すように流路29に接続して収容部28が配置されていてもよい。
収容部の数は、1つでもよく複数でもよい。
The arrangement of the accommodation part is not particularly limited as long as the measurement object can be accommodated and the electrode part can be arranged inside the measurement object. For example, as shown in FIG. 5, the accommodating part 28 may be arrange | positioned so that an upper part may become the inlet 30, and the accommodating part 28 may be arrange | positioned connected to the flow path 29 as shown in FIG. .
The number of accommodating parts may be one or plural.

収容部は、基材の溝によって形成されていてもよく、また、既に説明した図5に示すように、基材1上に収容部28の形状の開口部を有するカバー層26や、既に説明した図6に示すように、基材1上に収容部28の形状の開口部を有するスペーサ25を配置することによって形成されていてもよい。   The housing portion may be formed by a groove in the base material, and as shown in FIG. 5 which has already been described, the cover layer 26 having an opening in the shape of the housing portion 28 on the base material 1 or already described. As shown in FIG. 6, it may be formed by disposing a spacer 25 having an opening in the shape of the accommodating portion 28 on the base material 1.

(2)流路
本発明のセンサ用電極は、一端が上記収容部に接続され、他端が導入口に接続された流路を有していてもよい。
流路は、基材の溝によって形成されていてもよく、また、既に説明した図6に示すように、基材1上に流路29の形状の開口部を有するスペーサ25を配置することによって形成されていてもよい。
流路の幅や高さとしては、被検体を収容部に導くことができれば特に限定されるものではなく、例えば0.5mm〜5mm程度とすることができる。
(2) Flow path The sensor electrode of the present invention may have a flow path having one end connected to the housing portion and the other end connected to the inlet.
The flow path may be formed by a groove in the base material, and by arranging a spacer 25 having an opening in the shape of the flow path 29 on the base material 1, as shown in FIG. It may be formed.
The width and height of the flow path are not particularly limited as long as the subject can be guided to the accommodating portion, and can be, for example, about 0.5 mm to 5 mm.

(3)反応部
本発明のセンサ用電極は、導入口から収容部までの間に配置され、酵素を含む反応部を有していてもよい。
上記反応部は、基質特異的な物質の変化移動に伴う、化学ポテンシャル、熱あるいは光学的な変化を電気信号へ変換する部分である。
(3) Reaction part The electrode for sensors of this invention is arrange | positioned from an inlet to an accommodating part, and may have the reaction part containing an enzyme.
The reaction part is a part that converts a chemical potential, heat, or an optical change into an electric signal accompanying a change movement of a substrate-specific substance.

本発明のセンサ用電極を、グルコース濃度を測定するグルコースセンサとして用いる場合には、上記酵素としては、例えば、グルコースオキシダーゼ(GOD)、グルコースデヒドロゲナーゼ(GDH)を用いることができる。
本発明のセンサ用電極を、コレステロールセンサ、アルコールセンサ、スクロールセンサ、乳酸センサ、フルクトースセンサに用いる場合には、上記酵素としては、例えば、コレステロールエステラーゼ、コレステロールオキシダーゼ、アルコールオキシダーゼ、乳酸オキシダーゼ、フルクトースデヒドロゲナーゼ、キサンチンオキシダーゼ、アミノ酸オキシダーゼ等の反応系に合ったものを適宜用いることができる。
上記反応部は、これらの酵素と共に、酸化還元物質として、例えば、フェリシアン化カリウム、フェロセン誘導体、キノン誘導体、オスミューム誘導体等を含むものであってもよい。
When the sensor electrode of the present invention is used as a glucose sensor for measuring glucose concentration, examples of the enzyme include glucose oxidase (GOD) and glucose dehydrogenase (GDH).
When the sensor electrode of the present invention is used for a cholesterol sensor, an alcohol sensor, a scroll sensor, a lactate sensor, or a fructose sensor, examples of the enzyme include cholesterol esterase, cholesterol oxidase, alcohol oxidase, lactate oxidase, fructose dehydrogenase, Those suitable for the reaction system such as xanthine oxidase and amino acid oxidase can be appropriately used.
The reaction part may contain, for example, potassium ferricyanide, a ferrocene derivative, a quinone derivative, an osmum derivative, etc. as a redox substance together with these enzymes.

本発明のセンサ用電極を、エンドトキシン濃度を測定するエンドトキシンセンサとして用いる場合には、上記酵素として、少なくともC因子を含むものを用いることができ、なかでも、さらにB因子および凝固酵素前駆体を含むものを好ましく用いることができる。
上記反応部は、上記酵素と共に、酸化還元物質が結合したペプチド化合物を含むものとすることができる。
また、上記酸化還元物質としては、例えば、パラメトキシアニリン(以下、単にpMAと称する場合がある。)等を含む下記一般式(1)で示す化合物、色素、パラアミノフェノール(pAP)等を挙げることができる。
上記色素としては、具体的には、例えば、2、4−ジニトロアニリン(DNP)、p−ニトロアニリン(pNA)、7−メトキシクマリン−4−酢酸(MCA)、Dansyl色素等を挙げることができる。
When the sensor electrode of the present invention is used as an endotoxin sensor for measuring endotoxin concentration, an enzyme containing at least factor C can be used as the enzyme, and in particular, factor B and a clotting enzyme precursor are further included. Those can be preferably used.
The reaction part may contain a peptide compound to which a redox substance is bound together with the enzyme.
Examples of the redox substance include compounds represented by the following general formula (1) including paramethoxyaniline (hereinafter sometimes simply referred to as pMA), dyes, paraaminophenol (pAP), and the like. Can do.
Specific examples of the dye include 2,4-dinitroaniline (DNP), p-nitroaniline (pNA), 7-methoxycoumarin-4-acetic acid (MCA), Dansyl dye, and the like. .

(式(1)中、Rは、−O−C2n+1または−S−C2n+1であり、nは1から4までの整数である。) (In the formula (1), R is —O—C n H 2n + 1 or —S—C n H 2n + 1 , and n is an integer from 1 to 4.)

本発明においては、上記一般式(1)で示した化合物がpMAであることが好ましい。上記一般式(1)で示した化合物のアルキル鎖が短い程、水溶性が高くなり、かつ、活性化したC因子または上記活性型凝固酵素が、上記ペプチド化合物に含まれるオリゴペプチドのペプチド配列を認識しやすくなる。このため、酸化還元物質としてオリゴペプチドに結合している上記一般式(1)で示す化合物がpMAであることにより、上記ペプチド化合物は、上記活性化したC因子等との反応性が高まるからである。   In the present invention, the compound represented by the general formula (1) is preferably pMA. The shorter the alkyl chain of the compound represented by the above general formula (1), the higher the water solubility, and the activated factor C or the activated coagulase has a peptide sequence of the oligopeptide contained in the peptide compound. It becomes easy to recognize. For this reason, since the compound represented by the general formula (1) bound to the oligopeptide as a redox substance is pMA, the peptide compound has increased reactivity with the activated factor C and the like. is there.

本発明においては、上記酸化還元物質が、pMAまたはpAPであることが好ましい。ペプチド化合物から遊離したpMAおよびpAPと、ペプチド化合物に結合したpMAおよびpAPとは、酸化還元電位が異なっており、その差が比較的大きい。このため、ペプチド化合物から遊離したpMAまたはpAPの濃度が極微量であっても、エンドトキシンの濃度を高い精度で検出することができるからである。   In the present invention, the redox substance is preferably pMA or pAP. PMA and pAP released from the peptide compound and pMA and pAP bound to the peptide compound have different redox potentials, and the difference is relatively large. For this reason, even if the concentration of pMA or pAP released from the peptide compound is extremely small, the concentration of endotoxin can be detected with high accuracy.

上記酸化還元物質が結合したペプチド化合物としては、酸化還元物資と、酸化還元物質が結合しているオリゴペプチドと、を有するものであればよく、オリゴペプチドの一端に酸化還元物質が結合し、他端にペプチドの保護基が結合したものを用いることができる。
上記オリゴペプチドとしては、C因子または凝固酵素前駆体の作用によって酸化還元物質を遊離することができるものであれば特に限定されるものではない。凝固酵素前駆体の作用によって上記酸化還元物質を遊離可能なオリゴペプチドとしては、例えば、Leu−Gly−Arg、Thr−Gly−Arg等のトリペプチド等を挙げることができる。
The peptide compound to which the redox substance is bound is not limited as long as it has a redox material and an oligopeptide to which the redox substance is bound. A peptide having a peptide protecting group bonded to the end can be used.
The oligopeptide is not particularly limited as long as it can release a redox substance by the action of factor C or a coagulase precursor. Examples of the oligopeptide capable of releasing the redox substance by the action of the coagulation enzyme precursor include tripeptides such as Leu-Gly-Arg and Thr-Gly-Arg.

上記反応部の配置箇所は、導入口から収容部までの間に配置されるものである。
本発明においては、なかでも、上記配置箇所が、収容部内であることが好ましく、特に、上記電極部と平面視上重なる箇所であることが好ましく、なかでも特に、上記電極部と接する箇所であることが好ましい。上記配置箇所は、上記反応部と試料との混合、測定が容易だからである。
なお、既に説明した図6は、反応部27の形成箇所が電極部11に含まれる作用極21および対極23の一部と平面視上重なる箇所であり、さらに、これらの電極と接するように配置される例を示すものである。
The place where the reaction unit is arranged is arranged between the introduction port and the storage unit.
In the present invention, it is particularly preferable that the arrangement location is in the accommodating portion, in particular, a location that overlaps the electrode portion in plan view, and in particular, a location in contact with the electrode portion. It is preferable. This is because the arrangement location is easy to mix and measure the reaction part and the sample.
6 that has already been described is a portion where the reaction portion 27 is formed so as to overlap a part of the working electrode 21 and the counter electrode 23 included in the electrode portion 11 in plan view, and is further arranged so as to be in contact with these electrodes. An example is shown.

反応部の形成方法としては、所望の位置に反応部を配置できる方法であれば特に限定されない。例えば、収容部において露出される上記電極部上に上記酵素を含む溶液を塗布した後、乾燥させ溶媒成分を除去して形成することができる。
酵素を含む溶液の塗布方法としては、例えばディスペンサー法を用いることができる。
反応部を形成する場合、酵素は40℃以上で長時間放置すると活性を失うため、溶媒の乾燥は40℃以下で行い、乾燥後は速やかに室温に戻すことが好ましい。
The method for forming the reaction part is not particularly limited as long as the reaction part can be arranged at a desired position. For example, it can be formed by applying a solution containing the enzyme onto the electrode part exposed in the housing part and then drying to remove the solvent component.
As a method for applying the enzyme-containing solution, for example, a dispenser method can be used.
When forming the reaction part, the enzyme loses its activity when left at a temperature of 40 ° C. or higher for a long time. Therefore, it is preferable to dry the solvent at 40 ° C. or lower and quickly return to room temperature after drying.

(4)カバー層
本発明においては、基板上にカバー層が配置されていてもよい。
(4) Cover layer In this invention, the cover layer may be arrange | positioned on the board | substrate.

カバー層は貫通孔を有していてもよい。貫通孔を導入口とすることができる。また、図5に例示するようにカバー層26に設けられた貫通孔によって収容部28を形成することもできる。
貫通孔の大きさとしては、図5に例示するように貫通孔によって収容部28を形成する場合には、収容部の大きさと同様とすることができる。また、図示しないが貫通孔が導入口であり流路に接続されている場合には、試料を導入可能な大きさであればよい。
貫通孔の形状としては特に限定されないが、貫通孔の形成し易さから、貫通孔の平面視形状は円形、楕円形が好ましい。
The cover layer may have a through hole. A through hole can be used as the inlet. Moreover, the accommodating part 28 can also be formed by the through-hole provided in the cover layer 26 so that it may illustrate in FIG.
The size of the through hole can be the same as the size of the housing portion when the housing portion 28 is formed by the through hole as illustrated in FIG. Although not shown, when the through hole is an introduction port and is connected to the flow path, it may be of a size capable of introducing the sample.
The shape of the through hole is not particularly limited, but the shape of the through hole in plan view is preferably a circle or an ellipse because it is easy to form the through hole.

また、カバー層の基材との対向面には、流路および収容部を形成するための溝が形成されていてもよい。流路や収容部を形成するための溝の大きさとしては、流路や収容部の大きさと同様とすることができる。   Moreover, the groove | channel for forming a flow path and an accommodating part may be formed in the opposing surface with the base material of a cover layer. The size of the groove for forming the flow path and the accommodating portion can be the same as the size of the flow path and the accommodating portion.

カバー層としては、表面が絶縁性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ガラス基板、樹脂基板等が挙げられる。
カバー層の形状としては、特に限定されるものではなく、例えば、正方形状等の四角形状、円形状、楕円形状等、任意の形状とすることができる。
The cover layer is not particularly limited as long as the surface has insulating properties, and examples thereof include a glass substrate and a resin substrate.
The shape of the cover layer is not particularly limited, and can be an arbitrary shape such as a square shape such as a square shape, a circular shape, or an elliptical shape.

カバー層は、少なくとも端子が露出するように基材上に配置される。また、カバー層の貫通孔によって収容部を形成する場合には、貫通孔が上記電極部上に位置するように、カバー層が配置される。また、カバー層の溝によって流路および収容部を形成する場合には、溝の一部が電極部上に位置するように、カバー層が配置される。
カバー層は、例えば、接着剤や粘着剤を介して基材に貼付することができる。
A cover layer is arrange | positioned on a base material so that a terminal may be exposed at least. Further, when the housing portion is formed by the through hole of the cover layer, the cover layer is arranged so that the through hole is located on the electrode portion. Further, when the flow path and the accommodating portion are formed by the groove of the cover layer, the cover layer is arranged so that a part of the groove is located on the electrode portion.
The cover layer can be attached to the substrate via an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, for example.

(5)スペーサ
本発明においては、基材とカバー層との間にスペーサが配置されていてもよい。スペーサは収容部および流路等を形成するために設けられるものである。
スペーサは収容部および流路に相当する開口部を有することができる。開口部の大きさおよび形状としては、収容部および流路の大きさおよび形状と同様とすることができる。
(5) Spacer In the present invention, a spacer may be disposed between the base material and the cover layer. The spacer is provided in order to form the accommodating portion and the flow path.
The spacer can have an opening corresponding to the accommodating portion and the flow path. The size and shape of the opening can be the same as the size and shape of the accommodating portion and the flow path.

スペーサとしては、絶縁性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等を用いることができる。光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる場合には、安価にスペーサを形成することができる。また、スペーサとして樹脂基材を用いることもでき、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリスチレン(PS)樹脂、ポリプロピレン(PP)樹脂、ポリエステル樹脂等の樹脂基材を用いることが可能である。
スペーサの形状としては、特に限定されるものではなく、例えば、正方形状等の四角形状、円形状、楕円形状等、任意の形状とすることができる。
The spacer is not particularly limited as long as it has insulating properties, and for example, a photocurable resin, a thermosetting resin, or the like can be used. In the case of using a photocurable resin or a thermosetting resin, the spacer can be formed at low cost. In addition, a resin base material can be used as the spacer. For example, a resin base material such as polyethylene terephthalate (PET) resin, vinyl chloride resin, polystyrene (PS) resin, polypropylene (PP) resin, or polyester resin can be used. It is.
The shape of the spacer is not particularly limited, and may be any shape such as a square shape such as a square shape, a circular shape, or an elliptical shape.

スペーサは、少なくとも端子が露出し、スペーサの開口部が電極部上に位置するように基材上に配置される。
スペーサは、例えば、接着剤や粘着剤を介して基材に貼付することができる。
The spacer is disposed on the substrate so that at least the terminal is exposed and the opening of the spacer is positioned on the electrode portion.
The spacer can be attached to the substrate via an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, for example.

(6)絶縁層
本発明においては、配線部を覆うように絶縁層を形成することができる。絶縁層により、配線部の酸化を抑制するとともに、ショートを防ぐことができる。
絶縁層の材料としては、例えば、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等を用いることができる。
絶縁層の形成方法としては、配線部を覆い、電極部および端子部を覆わないように絶縁層をパターン状に形成する方法とすることができ、例えば、フォトリソグラフィ法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法等が挙げられる。
(6) Insulating layer In this invention, an insulating layer can be formed so that a wiring part may be covered. The insulating layer can suppress oxidation of the wiring portion and prevent a short circuit.
As a material for the insulating layer, for example, a thermosetting resin, a photocurable resin, or the like can be used.
The insulating layer can be formed by covering the wiring portion and forming the insulating layer in a pattern so as not to cover the electrode portion and the terminal portion. For example, a photolithography method, a screen printing method, and a gravure printing method. Method, flexographic printing method, inkjet method and the like.

4.用途
本発明のセンサ用電極の用途としては、様々な測定に用いることができ、具体的には、湿度センサ等の用途の電極;においセンサ、NOセンサ等のガスセンサ用途の電極;グルコースセンサ、コレステロールセンサ、アルコールセンサ、スクロールセンサ、乳酸センサ、フルクトースセンサ、エンドトキシンセンサ、免疫センサ等のバイオセンサ用途の電極等を挙げることができる。
本発明においては、なかでも、上記センサ用電極が、バイオセンサ用途に用いられることが好ましく、特に、エンドトキシンセンサとして用いられることが好ましい。本発明のセンサ用電極は低コストなものとなるため、様々な場面で測定されるエンドトキシン濃度の測定を低コストで実施可能となるからである。
例えば、上記センサ用電極をエンドトキシンセンサとして使用する方法としては、電極層として、第1作用極および第2作用極の2つの作用極、標準電極、および必要に応じて対極を有するものを使用し、エンドトキシンの濃度を測定する方法を挙げることができる。
また、上記センサ用電極の用途としては、例えば、誘電分析の電極用途、バイオ燃料電池の電極用途も挙げることができる。
4). Applications The sensor electrode of the present invention can be used for various measurements, specifically, electrodes for applications such as humidity sensors; electrodes for gas sensors such as odor sensors and NO 2 sensors; glucose sensors, Examples include electrodes for biosensor applications such as cholesterol sensors, alcohol sensors, scroll sensors, lactic acid sensors, fructose sensors, endotoxin sensors, and immunosensors.
In the present invention, the sensor electrode is preferably used for biosensor applications, and particularly preferably used as an endotoxin sensor. This is because the sensor electrode of the present invention is low-cost, and therefore, endotoxin concentration measured in various situations can be measured at low cost.
For example, as a method for using the sensor electrode as an endotoxin sensor, an electrode layer having two working electrodes, a first working electrode and a second working electrode, a standard electrode, and a counter electrode as necessary is used. And a method for measuring the concentration of endotoxin.
In addition, examples of the application of the sensor electrode include an electrode application for dielectric analysis and an electrode application for a biofuel cell.

また、上記センサ用電極を用いて測定される試料としては、例えば血液、唾液、汗、尿等の生体試料や、環境検査の対象物、食品、化粧品、廃液、樹脂等を挙げることができる。
なお、上記試料については、液体試料に限定されず、気体試料も含むことができる。
本発明においては、作用極および標準電極の両者を有するとの観点からは、上記試料が、液体試料であることが好ましい。
Examples of the sample measured using the sensor electrode include biological samples such as blood, saliva, sweat and urine, environmental inspection objects, foods, cosmetics, waste liquids, resins, and the like.
In addition, about the said sample, it is not limited to a liquid sample, A gas sample can also be included.
In the present invention, from the viewpoint of having both a working electrode and a standard electrode, the sample is preferably a liquid sample.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下、本発明について実施例および比較例を用いて具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described using examples and comparative examples.

本実施例で使用した試薬は以下の通りである。   The reagents used in this example are as follows.

(1)標準エンドトキシン溶液
エンドトキシン標準品は、生化学工業社製のE.Coli O113:H10株由来USP Reference Standard Endotoxinを用いた。標準エンドトキシン溶液は、生化学工業社製のエンドスペシーES24Mに添付されているエンドトキシンフリー水を用いて調製し、使用の直前に30分間ボルテックスミキサーで激しく攪拌した。なお、エンドトキシン濃度は測定溶液中の最終濃度で示した。
(1) Standard endotoxin solution The endotoxin standard product is manufactured by Seikagaku Corporation E.I. Coli O113: USP Reference Standard Endotoxin derived from H10 strain was used. A standard endotoxin solution was prepared using endotoxin-free water attached to Endospecy ES24M manufactured by Seikagaku Corporation, and was vigorously stirred with a vortex mixer for 30 minutes immediately before use. The endotoxin concentration was shown as the final concentration in the measurement solution.

(2)ライセート試薬
ライセート試薬としては、ライセート試薬が凍結乾燥状態で1テスト分ずつ専用の試験管に封入されている、生化学工業社製のエンドスペシーES24Mを用いた。
(2) Lysate reagent As the lysate reagent, Endspecy ES24M manufactured by Seikagaku Corporation, in which the lysate reagent was sealed in a dedicated test tube for each test in a lyophilized state, was used.

(3)LGR−pAP
特開2015−187607号公報に記載のLGR−pMAの合成と同様の方法を用いて、LGR−pAPを合成し、10mMのストック溶液として−20℃で保管した。
LGR−pAPの希釈には生化学工業社製のエンドスペシーES24Mに添付されている緩衝液を用いた。
(3) LGR-pAP
LGR-pAP was synthesized using the same method as the synthesis of LGR-pMA described in JP-A-2015-187607, and stored at −20 ° C. as a 10 mM stock solution.
For dilution of LGR-pAP, a buffer solution attached to Endospecy ES24M manufactured by Seikagaku Corporation was used.

[実施例1]
上記PET基材(基板)上にスパッタにて50nmのパラジウム(Pd)膜を形成した後、フォトリソグラフィ法によりエッチングを行い、既に説明した図1に示すような2つの作用極、1つの対極および1つの標準電極を含む電極部、端子部および配線部を有するパターン形状のパラジウム層を形成した。
次いで、パターン形状のパラジウム層上に、無電解めっき法により厚さ10nmの金層を形成し、基材と第1電極層とを有するセンサ用電極を形成した。なお、金層の無電解めっきは、ノンシアンタイプの無電解金めっきを液を用いた。
なお、2つの作用極は、櫛形形状とし、櫛歯部の幅および櫛歯部間の幅をそれぞれ9μmおよび9μmとした。また、それぞれの作用極の隣接する櫛歯部間の幅(図1中のc)は、櫛歯部の幅と櫛歯部間の幅の2倍との合計とし、2つの櫛形形状の作用極は、櫛歯部間の幅が等間隔となるように配置した。なお、実施例1においては、隣接する櫛歯部間の幅(図1中のc)は、27μmとした。
また、櫛歯部間の幅は、2つの櫛形形状の作用極の櫛歯部間の距離であり、具体的には、図1中のeで示されるものである。
[Example 1]
After forming a 50 nm palladium (Pd) film on the PET base material (substrate) by sputtering, etching is performed by a photolithography method, and the two working electrodes, one counter electrode, and the like already shown in FIG. A patterned palladium layer having an electrode part including one standard electrode, a terminal part, and a wiring part was formed.
Next, a gold layer having a thickness of 10 nm was formed on the patterned palladium layer by electroless plating to form a sensor electrode having a base material and a first electrode layer. The electroless plating of the gold layer was performed using a non-cyan type electroless gold plating solution.
The two working electrodes have a comb shape, and the width of the comb teeth and the width between the comb teeth are 9 μm and 9 μm, respectively. The width between adjacent comb teeth of each working electrode (c in FIG. 1) is the sum of the width of the comb teeth and twice the width between the comb teeth. The poles were arranged so that the widths between the comb teeth were equal. In Example 1, the width between adjacent comb teeth (c in FIG. 1) was 27 μm.
Further, the width between the comb teeth is a distance between the comb teeth of the two comb-shaped working electrodes, and specifically, is indicated by e in FIG.

[実施例2]
金層の厚みを、30nmとした以外は実施例1と同様にしてセンサ用電極を形成した。
[Example 2]
A sensor electrode was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the gold layer was 30 nm.

[実施例3]
金層の厚みを、50nmとした以外は実施例1と同様にしてセンサ用電極を形成した。
[Example 3]
A sensor electrode was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the gold layer was 50 nm.

[実施例4]
金層の厚みを、5nmとし、櫛歯部の幅および櫛歯部間の幅をそれぞれ5μmおよび5μmとした以外は実施例1と同様にしてセンサ用電極を形成した。
[Example 4]
A sensor electrode was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the gold layer was 5 nm, and the width of the comb teeth and the width between the comb teeth were 5 μm and 5 μm, respectively.

[実施例5]
金層の厚みを、10nmとし、櫛歯部の幅および櫛歯部間の幅をそれぞれ5μmおよび5μmとした以外は実施例1と同様にしてセンサ用電極を形成した。
[Example 5]
A sensor electrode was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the gold layer was 10 nm, and the width of the comb teeth and the width between the comb teeth were 5 μm and 5 μm, respectively.

[実施例6]
金層の厚みを、5nmとし、櫛歯部の幅および櫛歯部間の幅をそれぞれ7μmおよび7μmとした以外は実施例1と同様にしてセンサ用電極を形成した。
[Example 6]
A sensor electrode was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the gold layer was 5 nm, and the width of the comb teeth and the width between the comb teeth were 7 μm and 7 μm, respectively.

[実施例7]
金層の厚みを、10nmとし、櫛歯部の幅および櫛歯部間の幅をそれぞれ7μmおよび7μmとした以外は実施例1と同様にしてセンサ用電極を形成した。
[Example 7]
A sensor electrode was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the gold layer was 10 nm, and the width of the comb teeth and the width between the comb teeth were 7 μm and 7 μm, respectively.

[比較例1]
金層を形成しなかった以外は、実施例1と同様にしてセンサ用電極を形成した。
[Comparative Example 1]
A sensor electrode was formed in the same manner as in Example 1 except that the gold layer was not formed.

[比較例2]
金層の厚みを、100nmとした以外は実施例1と同様にしてセンサ用電極を形成した。
[Comparative Example 2]
A sensor electrode was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the gold layer was 100 nm.

[比較例3]
金層の厚みを、1nmとし、櫛歯部の幅および櫛歯部間の幅をそれぞれ8μmおよび8μmとした以外は実施例1と同様にしてセンサ用電極を形成した。
[Comparative Example 3]
A sensor electrode was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the gold layer was 1 nm, and the width of the comb teeth and the width between the comb teeth were 8 μm and 8 μm, respectively.

[比較例4]
金層の厚みを、1nmとした以外は実施例1と同様にしてセンサ用電極を形成した。
[Comparative Example 4]
A sensor electrode was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the gold layer was 1 nm.

[比較例5]
金層の厚みを、0.5nmとした以外は実施例1と同様にしてセンサ用電極を形成した。
[Comparative Example 5]
A sensor electrode was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the gold layer was 0.5 nm.

[比較例6]
金層の厚みを、1nmとし、櫛歯部の幅および櫛歯部間の幅をそれぞれ6μmおよび6μmとした以外は実施例1と同様にしてセンサ用電極を形成した。
[Comparative Example 6]
A sensor electrode was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the gold layer was 1 nm, and the width of the comb teeth and the width between the comb teeth were 6 μm and 6 μm, respectively.

[参考例1]
上記PET基材(基板)上にスパッタにて50nmのパラジウム(Pd)膜を形成した後、フォトリソグラフィ法によりエッチングを行い、既に説明した図1に示すような1つの対極および1つの標準電極を含む電極部、ならびに対極および標準電極に接続された端子部および配線部を有するパターン形状のパラジウム層を形成した。
次いで、パラジウム層を覆うマスクを配置した状態で、上記PET基材(基板)上にスパッタにて50nmの金(Au)膜を形成した後、フォトリソグラフィ法によりエッチングを行い、既に説明した図1に示すような2つの作用極、ならびに2つの作用極に接続された端子部および配線部を有するパターン形状の金層を形成し、金作用極と、パラジウム標準電極およびパラジウム対極と、を有するセンサ用電極を形成した。
なお、2つの作用極は、櫛形形状とし、櫛歯部の幅および櫛歯部間の幅をそれぞれ9μmおよび9μmとした。
[Reference Example 1]
After forming a 50 nm palladium (Pd) film on the PET substrate (substrate) by sputtering, etching is performed by photolithography, and one counter electrode and one standard electrode as shown in FIG. A patterned palladium layer having an electrode part including the terminal part and a wiring part connected to the counter electrode and the standard electrode was formed.
Next, after a 50 nm gold (Au) film is formed on the PET base material (substrate) by sputtering with a mask covering the palladium layer, etching is performed by a photolithography method. A sensor having a gold working electrode, a palladium standard electrode, and a palladium counter electrode, in which a pattern-shaped gold layer having a terminal portion and a wiring portion connected to the two working electrodes is formed. An electrode was formed.
The two working electrodes have a comb shape, and the width of the comb teeth and the width between the comb teeth are 9 μm and 9 μm, respectively.

[評価1]
LALカスケード反応を用いてエンドトキシンの濃度検出を行った。
ライセート試薬および緩衝液は、生化学工業社製のエンドスペシー添付の試薬を用いた。凍結乾燥状態のライセート試薬(エンドスペシーES24M)が入った試験管へ、LGR−pAP20μL、緩衝液180μLおよびエンドトキシン標準溶液200μLを添加して撹拌し、混合液400μLを調製した。
37℃で60分間反応を行った後、混合液200μLを、実施例、比較例および参考例で作製したセンサ用電極の電極部上に滴下した後、LGR−pAPから遊離したpAPをサイクリックボルタンメトリ法(CV法)を用いて検出した。結果を、図7(実施例1)、図8(実施例2)、図9(実施例3)、図10(実施例4)、図11(実施例5)、図12(実施例6)、図13(比較例1)、図14(比較例2)、図15(比較例3)、図16(比較例4)、図17(比較例5)、図18(比較例6)および図19(参考例1)に示す。
また、実施例、比較例および参考例について得られたサイクリックボルタモグラムより、酸化ピークおよび還元ピークの観察可否、およびピーク電流値の評価を行った。結果を下記表1に示す。なお、表1中のL/Sは、Lが櫛歯部の幅を示し、Sが櫛歯部間の幅を示すものである。
なお、CV法は、走査速度を20mV/sとし、範囲を0V→0.6V→−0.4V→0Vとした。
また、上記混合液中のLGR−pAPの濃度は0.5mMであり、エンドトキシン標準溶液の濃度は1000EU/Lとした。
[Evaluation 1]
Endotoxin concentration was detected using the LAL cascade reaction.
As the lysate reagent and the buffer, a reagent attached to Endospecy manufactured by Seikagaku Corporation was used. LGR-pAP (20 μL), buffer (180 μL) and endotoxin standard solution (200 μL) were added to a test tube containing the lysate reagent (Endospecy ES24M) in a lyophilized state, and stirred to prepare 400 μL of a mixed solution.
After reacting at 37 ° C. for 60 minutes, 200 μL of the mixed solution was dropped on the electrode part of the sensor electrode prepared in Examples, Comparative Examples and Reference Examples, and then pAP released from LGR-pAP was cyclic vol Detection was performed using a tammetry method (CV method). The results are shown in FIG. 7 (Example 1), FIG. 8 (Example 2), FIG. 9 (Example 3), FIG. 10 (Example 4), FIG. 11 (Example 5), and FIG. FIG. 13 (Comparative Example 1), FIG. 14 (Comparative Example 2), FIG. 15 (Comparative Example 3), FIG. 16 (Comparative Example 4), FIG. 17 (Comparative Example 5), FIG. 19 (Reference Example 1).
In addition, from the cyclic voltammograms obtained for the examples, comparative examples, and reference examples, the observability of the oxidation peak and the reduction peak and the peak current value were evaluated. The results are shown in Table 1 below. Note that L / S in Table 1 indicates that L indicates the width of the comb teeth and S indicates the width between the comb teeth.
In the CV method, the scanning speed was 20 mV / s, and the range was 0 V → 0.6 V → −0.4 V → 0 V.
In addition, the concentration of LGR-pAP in the mixed solution was 0.5 mM, and the concentration of the endotoxin standard solution was 1000 EU / L.

なお、酸化ピークおよび還元ピークの観察は、サイクリックボルタモグラムを目視にて確認し、酸化ピークおよび還元ピークの両者を観察できた場合は○とし、酸化ピークおよび還元ピークの両者を観察できなかった場合は×とした。
具体的には、酸化ピーク位置(例えば、図7〜図19中の縦軸に平行なG−G線の位置)が0.3V以下で観察された場合に、酸化ピークを観察できたと判断した。
また、サイクリックボルタモグラムで観察される還元ピークを通過し、横軸に並行な直線(例えば、図7〜図19中のH−H線)を引いた時、その線より還元ピーク後の特性が上にあるもの、すなわち、電位を0.6Vから−0.4Vに走査する際に、還元ピークが観察された電位より低電位側で、還元ピークにおける電流値以上の電流値が観察された場合に、還元ピークを観察できたと判断した。
なお、実施例4および実施例6では、酸化ピーク位置が0.3V以下であり、かつ、サイクリックボルタモグラムとして、−0.2V以上0Vの間に、少なくとも0.05V以上平行な部分が観察された。そして、平行な部分の高電圧側端部を還元ピークと認識し、それより低電圧側の電流値が一定の部位が観察されたことで、還元ピークにおける電流値以上の電流値が観察されたと判断した。
また、実施例1〜6では、還元ピークが−0.2V以上0V以下の電位で観察された。
また、上記ピーク電流値は、サイクリックボルタモグラムにおいて、−0.2V以上0V以下の電位において検出される下に凸の変極点(還元ピーク)と、その還元ピークに隣接して上記還元ピークを挟持する2つの上に凸の変極点(隣接ピーク)と、を認定し、2つの隣接ピークを直線で結ぶ補助線を作成し、還元ピークと補助線との電流値の差(図7〜図12および図19中のp)を測定することで得た。
なお、図11(実施例5)のように、隣接ピークのうち高電位側の変極点が不明確な場合には、0.1Vにおける曲線上の値を隣接ピークとして認定した。
In addition, the observation of the oxidation peak and the reduction peak is made by visually confirming the cyclic voltammogram, and when both the oxidation peak and the reduction peak can be observed, it is indicated as ◯, and when both the oxidation peak and the reduction peak cannot be observed. Is x.
Specifically, when the oxidation peak position (for example, the position of the GG line parallel to the vertical axis in FIGS. 7 to 19) was observed at 0.3 V or less, it was determined that the oxidation peak could be observed. .
Further, when a straight line parallel to the horizontal axis (for example, the HH line in FIGS. 7 to 19) passes through the reduction peak observed in the cyclic voltammogram, the characteristic after the reduction peak is determined from that line. What is above, that is, when the potential is scanned from 0.6 V to -0.4 V, a current value higher than the current value at the reduction peak is observed on the lower potential side than the potential at which the reduction peak was observed It was judged that a reduction peak could be observed.
In Example 4 and Example 6, the oxidation peak position was 0.3 V or less, and as a cyclic voltammogram, a portion parallel to at least 0.05 V was observed between −0.2 V and 0 V. It was. And, the high voltage side end of the parallel part is recognized as a reduction peak, and the current value on the low voltage side is observed to be a current value equal to or higher than the current value at the reduction peak by observing the part where the current value on the low voltage side is constant. It was judged.
Moreover, in Examples 1-6, the reduction | restoration peak was observed by the electric potential of -0.2V or more and 0V or less.
Further, the peak current value includes a downwardly convex inflection point (reduction peak) detected at a potential of −0.2 V or more and 0 V or less and a reduction peak adjacent to the reduction peak in the cyclic voltammogram. Two inflected inflection points (adjacent peaks) are identified, an auxiliary line connecting the two adjacent peaks with a straight line is created, and the difference in current value between the reduction peak and the auxiliary line (FIGS. 7 to 12) And p) in FIG. 19 was obtained.
In addition, as shown in FIG. 11 (Example 5), when the inflection point on the high potential side among the adjacent peaks is unclear, the value on the curve at 0.1 V is recognized as the adjacent peak.

[評価2]
エンドトキシン標準溶液として濃度が1EU/Lのエンドトキシン標準溶液200μLを用いた以外は、評価1と同様にして混合液を400μL調製した。次いで、混合液200μLを、実施例1および実施例7で作製したセンサ用電極の電極部上に滴下した後、LGR−pAPから遊離したpAPをアンペロメトリ法を用いた検出を行った。アンペロメトリ法では−0.2Vの初期電位を10秒間印加した後、0.4Vに電位をステップして30秒間印加し、pAPの酸化反応に由来する電流を記録し、次いで、−0.15Vに電位をステップして30秒間印加し、pAPの還元反応に由来する電流を記録した。結果を、図20(実施例1)および図21(実施例7)に示す。
[Evaluation 2]
400 μL of a mixed solution was prepared in the same manner as in Evaluation 1, except that 200 μL of an endotoxin standard solution having a concentration of 1 EU / L was used as the endotoxin standard solution. Next, 200 μL of the mixed solution was dropped on the electrode part of the sensor electrode produced in Example 1 and Example 7, and then pAP released from LGR-pAP was detected using the amperometry method. In the amperometry method, an initial potential of −0.2 V is applied for 10 seconds, then the potential is stepped to 0.4 V and applied for 30 seconds to record the current resulting from the oxidation reaction of pAP, and then to −0.15 V. The potential was stepped and applied for 30 seconds, and the current from the pAP reduction reaction was recorded. The results are shown in FIG. 20 (Example 1) and FIG. 21 (Example 7).

[評価3]
エンドトキシン標準溶液を添加しなかった以外は、評価2と同様にして、pAPをアンペロメトリ法を用いた検出を行った。結果を、図20(実施例1)および図21(実施例7)に示す。
[Evaluation 3]
PAP was detected using the amperometry method in the same manner as in Evaluation 2, except that the endotoxin standard solution was not added. The results are shown in FIG. 20 (Example 1) and FIG. 21 (Example 7).

[まとめ]
評価1より、金層が形成されていない場合(比較例1)、金層の厚みが1nm以下の場合(比較例3〜6)や50nmより大きい場合(比較例2)では、酸化ピークおよび還元ピークの両者を明確に検出できない場合があったのに対して、金層の厚みが5nm以上50nm以下である実施例では、酸化ピークおよび還元ピークの両者を明確に検出できた。
このように、金層が所定の厚みの範囲内である場合、例えば、50nm以下である場合、特に、5nm以上50nm以下である場合、パラジウム層および金層が積層した第1電極層は、安定的に標準電極としても機能することが確認できた。
また、評価2および評価3より、実施例では、エンドトキシンの濃度が0EU/Lの場合と1EU/Lの場合とで、明確に区別できることが確認できた。したがって、実施例では、測定対象物であるエンドトキシンの濃度が1EU/Lのような低濃度である場合でも、安定的に検出できることが確認できた。
[Summary]
From Evaluation 1, when the gold layer is not formed (Comparative Example 1), when the thickness of the gold layer is 1 nm or less (Comparative Examples 3 to 6) or larger than 50 nm (Comparative Example 2), the oxidation peak and reduction In some cases, both of the peaks could not be clearly detected, whereas in the examples where the thickness of the gold layer was 5 nm to 50 nm, both the oxidation peak and the reduction peak could be clearly detected.
Thus, when the gold layer is within a predetermined thickness range, for example, when it is 50 nm or less, particularly when it is 5 nm or more and 50 nm or less, the first electrode layer in which the palladium layer and the gold layer are laminated is stable. It was confirmed that it also functions as a standard electrode.
Moreover, from the evaluation 2 and the evaluation 3, in the Example, it has confirmed that it could distinguish clearly by the case where the density | concentration of an endotoxin is 0 EU / L and the case of 1 EU / L. Therefore, in the Examples, it was confirmed that stable detection was possible even when the concentration of endotoxin as a measurement target was as low as 1 EU / L.

1 … 基材
2 … パラジウム層
3 … 金層
4 … 第1電極層
5 … 第2電極層
6 … 電極層
10 … センサ用電極
11 … 電極部
12 … 配線部
13 … 端子部
21 … 作用極
22 … 標準電極
23 … 対極
24 … 絶縁層
25 … スペーサ
26 … カバー層
27 … 反応部
28 … 収容部
29 … 流路
30 … 導入口
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base material 2 ... Palladium layer 3 ... Gold layer 4 ... 1st electrode layer 5 ... 2nd electrode layer 6 ... Electrode layer 10 ... Electrode for sensors 11 ... Electrode part 12 ... Wiring part 13 ... Terminal part 21 ... Working electrode 22 ... Standard electrode 23 ... Counter electrode 24 ... Insulating layer 25 ... Spacer 26 ... Cover layer 27 ... Reaction part 28 ... Housing part 29 ... Channel 30 ... Inlet

Claims (7)

絶縁性を有する基材の一方の面に第1電極層を有し、
前記第1電極層が、作用極および標準電極を含み、
前記第1電極層は、前記基材の一方の面にパラジウムを含む第1層を有し、さらに、前記第1層の前記基材が形成された面とは反対側の面に、前記標準電極が標準電極としての機能を奏するように形成された金を含む第2層を有することを特徴とするセンサ用電極。
Having a first electrode layer on one surface of the insulating substrate;
The first electrode layer includes a working electrode and a standard electrode;
The first electrode layer has a first layer containing palladium on one surface of the substrate, and further, the standard of the first layer on the surface opposite to the surface on which the substrate is formed. An electrode for a sensor having a second layer containing gold formed so that the electrode functions as a standard electrode.
前記第2層の厚みが、5nm以上50nm以下であることを特徴とする請求項1に記載のセンサ用電極。   The sensor electrode according to claim 1, wherein the thickness of the second layer is 5 nm or more and 50 nm or less. 前記第1層の厚みが、前記第2層の厚みより厚いことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のセンサ用電極。   The sensor electrode according to claim 1, wherein a thickness of the first layer is larger than a thickness of the second layer. 前記基材の一方の面に前記第1層を含む電極層を有し、
前記電極層は、全て前記第1電極層であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のセンサ用電極。
Having an electrode layer including the first layer on one surface of the substrate;
4. The sensor electrode according to claim 1, wherein all of the electrode layers are the first electrode layers. 5.
前記基材の一方の面に、
測定対象物を収容し得るものであり、その内部に前記作用極および前記標準電極が配置される収容部と、
一端が前記収容部に接続され、他端が導入口に接続された流路と、
を有することを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載のセンサ用電極。
On one side of the substrate,
An object to be measured can be accommodated, and an accommodating part in which the working electrode and the standard electrode are disposed,
A flow path having one end connected to the housing and the other end connected to the inlet;
The sensor electrode according to any one of claims 1 to 4, wherein the sensor electrode is provided.
前記作用極の平面視形状が櫛形形状であることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載のセンサ用電極。   The sensor electrode according to any one of claims 1 to 5, wherein the working electrode has a comb shape in a plan view. 前記センサ用電極が、エンドトキシンセンサとして用いられることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれかの請求項に記載のセンサ用電極。   The sensor electrode according to any one of claims 1 to 6, wherein the sensor electrode is used as an endotoxin sensor.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN113514388A (en) * 2021-07-15 2021-10-19 帕孚(上海)电气设备有限公司 Electrochemical corrosion sensor and preparation method thereof

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