JP2018100221A - Pdを実質的に含まない有機化合物の製造方法及び水素ガスを用いた有機化合物からPdを除去する新規な方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】低コストかつ簡便な方法により、実質的にPdを含まない有機化合物の新規な製造方法を提供する。本発明に係る有機化合物の製造方法によれば、工業的に安価であり環境にも優しい水素ガスを用いた工程を含むことにより、残留Pdを効果的に除去することができ、実質的にPdを含まない有機化合物を簡便に製造することができる。【解決手段】有機化合物及びPdを含む溶液を水素ガス雰囲気下で撹拌する工程を含む、実質的にPdを含まない有機化合物の製造方法。【選択図】なし
Description
本発明は、Pdを実質的に含まない有機化合物を製造する新規な方法に関する。また、有機化合物からPdを除去する新規な方法に関する。
遷移金属の1種であるパラジウム(Pd)は、医薬品や医薬品中間体を含むファインケミカル分野の有機合成反応における触媒として非常に有用であり、工業的にも多く用いられている。
有機合成反応の種類としては、Pd/C等のPd触媒を用いた不均一系の水素添加反応(ニトロ基の還元、脱ベンジル化、脱フェネチル化等)、鈴木−宮浦カップリング反応や、Pd(PPh3)4等のPd触媒を用いた均一系の鈴木−宮浦カップリング反応、根岸カップリング反応など、多くの例が報告されている。
有機合成反応の種類としては、Pd/C等のPd触媒を用いた不均一系の水素添加反応(ニトロ基の還元、脱ベンジル化、脱フェネチル化等)、鈴木−宮浦カップリング反応や、Pd(PPh3)4等のPd触媒を用いた均一系の鈴木−宮浦カップリング反応、根岸カップリング反応など、多くの例が報告されている。
一方、医薬品中の残留金属の許容量がガイドラインとして示されており、医療品原薬である有機化合物中から残留Pdを除去する必要がある(非特許文献1)。
Pdの除去方法としては、蒸留による除去、結晶化による濾液への除去、シリカゲルなどを用いたカラム精製による除去、チオール系やチオウレア系、カルボン酸系、スルホン酸系などの吸着剤を用いた除去、n−Bu3P/乳酸やN−アセチルシステイン、L−システイン、エチレンジアミンなどの添加物を用いた除去(特許文献1及び2、並びに非特許文献2〜4)などが知られている。
Pdの除去方法としては、蒸留による除去、結晶化による濾液への除去、シリカゲルなどを用いたカラム精製による除去、チオール系やチオウレア系、カルボン酸系、スルホン酸系などの吸着剤を用いた除去、n−Bu3P/乳酸やN−アセチルシステイン、L−システイン、エチレンジアミンなどの添加物を用いた除去(特許文献1及び2、並びに非特許文献2〜4)などが知られている。
Guideline on the specification limits for residues of metal catalysts or metal reagents,European Medicines Agency(EMEA),Committee for Medicinal Products for Human Use(CHMP),London,21 February 2008,p1−34.
Cheng−yi Chen et al.,"Practical Asymmetric Synthesis of a Potent Cathepsin K Inhibitor.Efficient Palladium Removal Following Suzuki Coupling",Journal of Organic Chemistry,2003,68,2633−2638.
Kurt Konigsberger et al.,"A Practical Synthesis of 6−[2−(2,5−Dimethoxyphenyl)ethyl]−4−ethylquinazoline and the Art of Removing Palladium from the Products of Pd−Catalyzed Reactions",Organic Process Research&Development,2003,7,733−742.
Mahavir Prashad et al.,"An Expeditious Synthesis of 1−(4−Chlorophenyl)−3,3−dimethyl−2−butanone by a Ligand−Free Palladium−Catalyzed−Arylation of Pinacolone:Scale−Up and Effect of Base Concentration",Advanced Synthesis&Catalysis,2003,345,533−536.
従来のPdの除去方法では、Pdの除去効率が低い、吸着ロスによって収率が低下する、再現性に乏しい等、Pdを効果的に除去することができなかった。また、添加剤や吸着剤を使用することによりPdの除去効率を高くできても、当該添加剤や吸着剤が高価であったり、添加剤や吸着剤自身が不純物として有機化合物中に残留することがあり、低コストかつ簡便な方法によるPdの効果的な除去方法の開発が求められていた。
そこで本発明は、低コストかつ簡便な方法により、実質的にPdを含まない有機化合物の新規な製造方法を提供することを課題とする。
そこで本発明は、低コストかつ簡便な方法により、実質的にPdを含まない有機化合物の新規な製造方法を提供することを課題とする。
本発明者らは、鋭意研鑽を積んだ結果、有機化合物とPdを含む溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌することにより、実質的にPdを含まない有機化合物を製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は下記<1>〜<9>に関するものである。
<1>有機化合物及びPdを含む溶液を水素ガス雰囲気下で撹拌する工程を含む、実質的にPdを含まない有機化合物の製造方法。
<2>前記水素ガス雰囲気下で撹拌する工程に次いで、濾過によりPdを取り除く工程を含む、前記<1>に記載の製造方法。
<3>前記水素ガス雰囲気下で撹拌する工程における水素ガス圧が大気圧〜100psigである、前記<1>又は<2>に記載の製造方法。
<4>前記水素ガス雰囲気下で撹拌する工程における温度が0〜120℃である、前記<1>〜<3>のいずれか1に記載の製造方法。
<5>前記有機化合物がPdと水素ガスの組み合わせにより分解が起こらない化合物である、前記<1>〜<4>のいずれか1に記載の製造方法。
<6>前記有機化合物が窒素原子を含む化合物である、前記<1>〜<5>のいずれか1に記載の製造方法。
<7>前記有機化合物が単素環及び複素環の少なくともいずれか一方を含む化合物である、前記<1>〜<6>のいずれか1に記載の製造方法。
<8>前記有機化合物が、(R)−(−)−5−(2−アミノプロピル)−2−メトキシベンゼンスルホンアミド 塩酸塩、(R)−2−[[2−(4−アミノフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩、3−クロロ−4−{4−[5−(3−{[グリシル(メチル)アミノ]メチル}フェニル)ピリミジン−2−イル]ピペラジン−1−イル}安息香酸 一塩酸塩、9−ヒドロキシ−9−[3−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)プロピル]−9H−フルオレン−2−カルボン酸、1−[(3R,4R)−4−メチルピペリジン−3−イル)−1,6−ジヒドロジピロロ[2,3−b:2’,3’−d]ピリジン、ピリジン、2−ピコリン、2,6−ルチジン、またはエチレンジアミンである、前記<1>〜<4>のいずれか1に記載の製造方法。
<9>有機化合物及びPdを含む溶液を水素ガス雰囲気下で撹拌することを特徴とする、有機化合物からPdを除去する方法。
<1>有機化合物及びPdを含む溶液を水素ガス雰囲気下で撹拌する工程を含む、実質的にPdを含まない有機化合物の製造方法。
<2>前記水素ガス雰囲気下で撹拌する工程に次いで、濾過によりPdを取り除く工程を含む、前記<1>に記載の製造方法。
<3>前記水素ガス雰囲気下で撹拌する工程における水素ガス圧が大気圧〜100psigである、前記<1>又は<2>に記載の製造方法。
<4>前記水素ガス雰囲気下で撹拌する工程における温度が0〜120℃である、前記<1>〜<3>のいずれか1に記載の製造方法。
<5>前記有機化合物がPdと水素ガスの組み合わせにより分解が起こらない化合物である、前記<1>〜<4>のいずれか1に記載の製造方法。
<6>前記有機化合物が窒素原子を含む化合物である、前記<1>〜<5>のいずれか1に記載の製造方法。
<7>前記有機化合物が単素環及び複素環の少なくともいずれか一方を含む化合物である、前記<1>〜<6>のいずれか1に記載の製造方法。
<8>前記有機化合物が、(R)−(−)−5−(2−アミノプロピル)−2−メトキシベンゼンスルホンアミド 塩酸塩、(R)−2−[[2−(4−アミノフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩、3−クロロ−4−{4−[5−(3−{[グリシル(メチル)アミノ]メチル}フェニル)ピリミジン−2−イル]ピペラジン−1−イル}安息香酸 一塩酸塩、9−ヒドロキシ−9−[3−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)プロピル]−9H−フルオレン−2−カルボン酸、1−[(3R,4R)−4−メチルピペリジン−3−イル)−1,6−ジヒドロジピロロ[2,3−b:2’,3’−d]ピリジン、ピリジン、2−ピコリン、2,6−ルチジン、またはエチレンジアミンである、前記<1>〜<4>のいずれか1に記載の製造方法。
<9>有機化合物及びPdを含む溶液を水素ガス雰囲気下で撹拌することを特徴とする、有機化合物からPdを除去する方法。
本発明に係る有機化合物の製造方法によれば、工業的に安価であり環境にも優しい水素ガスを用いた工程を含むことにより、残留Pdを効果的に除去することができ、実質的にPdを含まない有機化合物を簡便に製造することができる。
また、Pd触媒は高価であることから、除去された残留Pdを回収し、触媒として再利用することも可能である。
また、Pd触媒は高価であることから、除去された残留Pdを回収し、触媒として再利用することも可能である。
以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施することができる。
本発明は有機化合物及びPdを含む溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌する工程を含むことによりPdを取り除きやすくなることから、実質的にPdを含まない有機化合物を得ることができる。前記攪拌の後に濾過によりPdを取り除くことが好ましい。なお、本明細書において「実質的にPdを含まない」とは、誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP−AES)にて測定した場合に、原則有機化合物中に含まれるPd濃度が25ppm以下であることを意味し、医薬品の原薬等厳格な管理が必要な場合はPdが未検出であるか、10ppm以下であることを意味する。
Pd/C等のPd触媒を用いて合成された有機化合物中には残留Pdが存在する。この残留Pdは有機化合物に配位または相互に作用し、残留していると考えられる。水素にはPdと有機化合物との配位能または相互作用を弱める作用があるため、有機化合物及びPdを含む溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌することによりPdを析出させ、濾過にて当該Pdを除去できるものと考えられる。
有機化合物及びPdを含む溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌する工程においては、Pdを含む有機化合物を溶媒に溶解させて溶液とし、当該溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌後、濾過を実施することにより、Pdを除去することができる。
水素ガス雰囲気下にするにあたり、系内を不活性ガスで置換し、次いで水素ガスで置換することが好ましい。不活性ガスとしては窒素ガス、アルゴンガス等が挙げられる。不活性ガスでの置換は3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。次いで行われる水素ガスでの置換は3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。
なお、使用する水素ガスの濃度は99.9%以上が好ましい。
水素ガス雰囲気下にするにあたり、系内を不活性ガスで置換し、次いで水素ガスで置換することが好ましい。不活性ガスとしては窒素ガス、アルゴンガス等が挙げられる。不活性ガスでの置換は3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。次いで行われる水素ガスでの置換は3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。
なお、使用する水素ガスの濃度は99.9%以上が好ましい。
溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌する工程における水素ガス圧は、通常大気圧〜100psigであり、Pd除去効率の点から水素ガス圧が高いほど好ましい。大気圧よりも高い水素ガス圧にする場合には、高気密が可能な耐圧容器を用いる。
溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌する工程における温度は、通常0〜120℃であり、Pd除去効率の点からより高温が好ましい。
溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌する工程における溶液のpHは特に制限されない。
溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌する工程における攪拌時間は、通常1〜48時間であり、Pd除去効率の点から長い方が好ましい。
溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌する工程における溶液のpHは特に制限されない。
溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌する工程における攪拌時間は、通常1〜48時間であり、Pd除去効率の点から長い方が好ましい。
溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌する工程における攪拌はマグネティックスターラー、メカニカルスターラー、撹拌翼等を用いることができる。
溶液の溶媒は有機化合物を溶解させることができればよい。例えば水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン(THF)、やこれらの混合溶媒を用いることができる。
本発明にかかる製造方法では、有機化合物の合成にあたってPd/C等のPd触媒を用いること等により、当該化合物内にPdが残留している有機化合物を対象とする。
残留Pdを含む有機化合物を水素ガス雰囲気下で攪拌することにより実質的にPdを含まない有機化合物を得ることから、有機化合物はPdと水素ガスの組み合わせにより分解が起こらない化合物であることが好ましい。
また、残留Pdと有機化合物との配位能または相互作用の強さがPd除去に影響していると考えられることから、Pdと配位能または相互作用が弱い有機化合物の方が好ましい。
また、有機化合物として窒素原子を含む化合物も好ましく用いることができ、単素環及び複素環の少なくともいずれか一方を含む化合物も好ましく用いることができる。
残留Pdを含む有機化合物を水素ガス雰囲気下で攪拌することにより実質的にPdを含まない有機化合物を得ることから、有機化合物はPdと水素ガスの組み合わせにより分解が起こらない化合物であることが好ましい。
また、残留Pdと有機化合物との配位能または相互作用の強さがPd除去に影響していると考えられることから、Pdと配位能または相互作用が弱い有機化合物の方が好ましい。
また、有機化合物として窒素原子を含む化合物も好ましく用いることができ、単素環及び複素環の少なくともいずれか一方を含む化合物も好ましく用いることができる。
窒素原子を含む化合物は、窒素を含む脂肪族化合物、又は、窒素を含む芳香族化合物であり、アミン、アミド等鎖状部分に窒素原子を含んでいてもよく、又、含窒素へテロ環を含んでいてもよい。
「含窒素へテロ環」とは窒素原子を少なくとも1つ含有するヘテロ環であり、具体的には以下が挙げられる。
(1)単環式飽和へテロ環
(a)1〜4個の窒素原子を含むもの、例えば、アゼパニル、ジアゼパニル、アジリジニル、アゼチジニル、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ピラゾリジニル、ピペラジニル、アゾカニル等;
(b)1〜3個の窒素原子、ならびに1〜2個の硫黄原子および/または1〜2個の酸素原子を含むもの、例えば、チオモルホリニル、チアゾリジニル、イソチアゾリジニル、オキサゾリジニル、モルホリニル等;
(2)単環式不飽和へテロ環基
(a)1〜4個の窒素原子を含むもの、例えば、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリジ二ル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル、テトラゾリル、トリアジニル、ジヒドロトリアジニル、アゼピニル等;
(b)1〜3個の窒素原子、ならびに1〜2個の硫黄原子および/または1〜2個の酸素原子を含むもの、例えば、チアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、ジヒドロチアジニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、オキサジニル等;
(3)縮合多環式飽和へテロ環基
(a)1〜5個の窒素原子を含むもの、例えば、キヌクリジニル、7−アザビシクロ[2.2.1]ヘプチル、3−アザビシクロ[3.2.2]ノナニル等;
(b)1〜4個の窒素原子、ならびに1〜3個の硫黄原子および/または1〜3個の酸素原子を含むもの、例えば、トリチアジアザインデニル、ジオキソロイミダゾリジニル等;
(4)縮合多環式不飽和へテロ環基
(a)1〜5個の窒素原子を含むもの、例えば、インドリル、イソインドリル、インドリニル、インドリジニル、ベンゾイミダゾリル、ジヒドロベンゾイミダゾリル、テトラヒゾロベンゾイミダゾリル、キノリル、テトラヒドロキノリル、イソキノリル、テトラヒドロイソキノリル、インダゾリル、イミダゾピリジル、ベンゾトリアゾリル、テトラゾロピリダジニル、カルバゾリル、アクリジニル、キノキサリニル、ジヒドロキノキサリニル、テトラヒドロキノキサリニル、フタラジニル、ジヒドロインダゾリル、ベンゾピリミジニル、ナフチリジニル、キナゾリニル、シンノリニル等;
(b)1〜4個の窒素原子、ならびに1〜3個の硫黄原子および/または1〜3個の酸素原子を含むもの、例えば、ベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、イミダゾチアゾリル、イミダゾチアジアゾリル、ベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサジニル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾイソオキサゾリル等;
「含窒素へテロ環」とは窒素原子を少なくとも1つ含有するヘテロ環であり、具体的には以下が挙げられる。
(1)単環式飽和へテロ環
(a)1〜4個の窒素原子を含むもの、例えば、アゼパニル、ジアゼパニル、アジリジニル、アゼチジニル、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ピラゾリジニル、ピペラジニル、アゾカニル等;
(b)1〜3個の窒素原子、ならびに1〜2個の硫黄原子および/または1〜2個の酸素原子を含むもの、例えば、チオモルホリニル、チアゾリジニル、イソチアゾリジニル、オキサゾリジニル、モルホリニル等;
(2)単環式不飽和へテロ環基
(a)1〜4個の窒素原子を含むもの、例えば、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリジ二ル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル、テトラゾリル、トリアジニル、ジヒドロトリアジニル、アゼピニル等;
(b)1〜3個の窒素原子、ならびに1〜2個の硫黄原子および/または1〜2個の酸素原子を含むもの、例えば、チアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、ジヒドロチアジニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、オキサジニル等;
(3)縮合多環式飽和へテロ環基
(a)1〜5個の窒素原子を含むもの、例えば、キヌクリジニル、7−アザビシクロ[2.2.1]ヘプチル、3−アザビシクロ[3.2.2]ノナニル等;
(b)1〜4個の窒素原子、ならびに1〜3個の硫黄原子および/または1〜3個の酸素原子を含むもの、例えば、トリチアジアザインデニル、ジオキソロイミダゾリジニル等;
(4)縮合多環式不飽和へテロ環基
(a)1〜5個の窒素原子を含むもの、例えば、インドリル、イソインドリル、インドリニル、インドリジニル、ベンゾイミダゾリル、ジヒドロベンゾイミダゾリル、テトラヒゾロベンゾイミダゾリル、キノリル、テトラヒドロキノリル、イソキノリル、テトラヒドロイソキノリル、インダゾリル、イミダゾピリジル、ベンゾトリアゾリル、テトラゾロピリダジニル、カルバゾリル、アクリジニル、キノキサリニル、ジヒドロキノキサリニル、テトラヒドロキノキサリニル、フタラジニル、ジヒドロインダゾリル、ベンゾピリミジニル、ナフチリジニル、キナゾリニル、シンノリニル等;
(b)1〜4個の窒素原子、ならびに1〜3個の硫黄原子および/または1〜3個の酸素原子を含むもの、例えば、ベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、イミダゾチアゾリル、イミダゾチアジアゾリル、ベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾオキサジニル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾイソオキサゾリル等;
好ましい化合物として、具体的には以下の化合物が挙げられる。
(R)−(−)−5−(2−アミノプロピル)−2−メトキシベンゼンスルホンアミド 塩酸塩、(R)−2−[[2−(4−アミノフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩、3−クロロ−4−{4−[5−(3−{[グリシル(メチル)アミノ]メチル}フェニル)ピリミジン−2−イル]ピペラジン−1−イル}安息香酸 一塩酸塩、9−ヒドロキシ−9−[3−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)プロピル]−9H−フルオレン−2−カルボン酸、1−[(3R,4R)−4−メチルピペリジン−3−イル)−1,6−ジヒドロジピロロ[2,3−b:2’,3’−d]ピリジン、ピリジン、2−ピコリン、2,6−ルチジン、エチレンジアミン。
(R)−(−)−5−(2−アミノプロピル)−2−メトキシベンゼンスルホンアミド 塩酸塩、(R)−2−[[2−(4−アミノフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩、3−クロロ−4−{4−[5−(3−{[グリシル(メチル)アミノ]メチル}フェニル)ピリミジン−2−イル]ピペラジン−1−イル}安息香酸 一塩酸塩、9−ヒドロキシ−9−[3−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)プロピル]−9H−フルオレン−2−カルボン酸、1−[(3R,4R)−4−メチルピペリジン−3−イル)−1,6−ジヒドロジピロロ[2,3−b:2’,3’−d]ピリジン、ピリジン、2−ピコリン、2,6−ルチジン、エチレンジアミン。
溶媒中の有機化合物濃度は通常特に規定はないが、有機化合物が溶媒に溶解していればよい。
有機化合物及びPdを含む溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌する工程に次いで、濾過によりPdを取り出す工程を含むことが好ましい。濾過に代えて、遠心分離、蒸留等を用いてPdを取り出すこともできる。
取り出されたPdは、公知の方法によりPd触媒として再利用してもよい。
取り出されたPdは、公知の方法によりPd触媒として再利用してもよい。
有機化合物に含まれるPdは、誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP−AES)により同定することができる。
なお、Pdを除去した後、目的化合物である有機化合物は、蒸留、減圧乾燥、晶析・濾過等により単離することができる。また、目的化合物の収率向上のため、用いる原料や溶媒を、適宜脱気や脱水、精製等してから用いてもよい。脱気や脱水、精製は、公知の方法により行うことができる。
なお、Pdを除去した後、目的化合物である有機化合物は、蒸留、減圧乾燥、晶析・濾過等により単離することができる。また、目的化合物の収率向上のため、用いる原料や溶媒を、適宜脱気や脱水、精製等してから用いてもよい。脱気や脱水、精製は、公知の方法により行うことができる。
本発明は、有機化合物及びPdを含む溶液を水素ガス雰囲気下で攪拌することを特徴とする、有機化合物からPdを除去する方法にも関する。攪拌後に濾過を実施することが好ましく、濾過に代えて、遠心分離、蒸留等を用いてPdを取り出すこともできる。
当該方法における好ましい条件、具体例等は先述したPdを実質的に含まない有機化合物の製造方法における好ましい条件、具体例等とそれぞれ同様である。
当該方法における好ましい条件、具体例等は先述したPdを実質的に含まない有機化合物の製造方法における好ましい条件、具体例等とそれぞれ同様である。
以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
<市販試薬>
本実施例において使用するPd/Cは、実施例2はエヌ・イーケムキャット株式会社製の商品名:10% Pd/C(K)、実施例4は川研ファインケミカル株式会社製の商品名:10% Pd/C(M)、実施例5はエヌ・イーケムキャット株式会社製の商品名:20%Pd(OH)2/C、その他の実施例においては川研ファインケミカル株式会社製の商品名:5%Pd/C(PH)を、前処理を施すことなくそのまま用いた。なお、それぞれのPd/Cの含水率は約50%である。
<評価方法>
本実施例において、合成した化合物中に含まれるPd含有量は株式会社島津製作所社製の誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP−AES)(商品名:ICPE−9000)による測定によって求めた。
<市販試薬>
本実施例において使用するPd/Cは、実施例2はエヌ・イーケムキャット株式会社製の商品名:10% Pd/C(K)、実施例4は川研ファインケミカル株式会社製の商品名:10% Pd/C(M)、実施例5はエヌ・イーケムキャット株式会社製の商品名:20%Pd(OH)2/C、その他の実施例においては川研ファインケミカル株式会社製の商品名:5%Pd/C(PH)を、前処理を施すことなくそのまま用いた。なお、それぞれのPd/Cの含水率は約50%である。
<評価方法>
本実施例において、合成した化合物中に含まれるPd含有量は株式会社島津製作所社製の誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP−AES)(商品名:ICPE−9000)による測定によって求めた。
<実施例1>
(R)−(−)−5−(2−アミノプロピル)−2−メトキシベンゼンスルホンアミド 塩酸塩
特公平06−6565号公報の実施例1の方法に基づき合成した2R,1R−メトキシ−5−[2−(1−メチルベンジルアミノ)プロピル]ベンゼンスルホンアミド 塩酸塩2g、メタノール45mL、5%Pd/C0.86gを加え、窒素置換を3回実施後、水素置換を2回実施した。水素ガス加圧下(80psig)外温70℃にて3時間撹拌した。50℃以下まで冷却し、空気下終夜撹拌した。撹拌後の溶液を濾過し、水18mLにて洗浄した。得られた溶液のPd濃度は82.0ppmであった。
次に、得られた溶液を水素ガス雰囲気下(大気圧、20〜30℃)5時間撹拌後、ろ過を実施し、Pd濃度を測定したところ、Pd未検出(結晶換算:Pd未検出、Pd除去率100%)であった。その濾液を濃縮し、溶媒を完全に留去し、析出した結晶を乾燥し、Pd濃度を測定したところ4.1ppmであった。
(R)−(−)−5−(2−アミノプロピル)−2−メトキシベンゼンスルホンアミド 塩酸塩
特公平06−6565号公報の実施例1の方法に基づき合成した2R,1R−メトキシ−5−[2−(1−メチルベンジルアミノ)プロピル]ベンゼンスルホンアミド 塩酸塩2g、メタノール45mL、5%Pd/C0.86gを加え、窒素置換を3回実施後、水素置換を2回実施した。水素ガス加圧下(80psig)外温70℃にて3時間撹拌した。50℃以下まで冷却し、空気下終夜撹拌した。撹拌後の溶液を濾過し、水18mLにて洗浄した。得られた溶液のPd濃度は82.0ppmであった。
次に、得られた溶液を水素ガス雰囲気下(大気圧、20〜30℃)5時間撹拌後、ろ過を実施し、Pd濃度を測定したところ、Pd未検出(結晶換算:Pd未検出、Pd除去率100%)であった。その濾液を濃縮し、溶媒を完全に留去し、析出した結晶を乾燥し、Pd濃度を測定したところ4.1ppmであった。
<実施例2>
(R)−2−[[2−(4−アミノフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩
特許第3800220号公報の参考例2に記載の方法に従い合成した(R)−2−[[2−(4−ニトロフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩50g、メタノール250mL、10% Pd/C2gを1Lオートクレーブに仕込み、次いで撹拌下、窒素置換(5回)、次いで水素置換(5回)を実施した。その後、内温5〜25℃、水素ガス加圧下(43psig)で4時間撹拌し、反応を行った。次いで、反応液を開放系で内温23℃にて撹拌した。
触媒をろ過後、メタノールで洗浄後、残量83mLまで減圧濃縮し、残渣に酢酸エチル37mLを35℃で1時間かけて滴下した。(R)−2−[[2−(4−アミノフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩を種結晶として50mg加え、2時間撹拌した。次いで、酢酸エチル330mLを加えた後、内温20℃で撹拌した。結晶を濾過後、酢酸エチルで洗浄し、50℃で減圧乾燥することにより、(R)−2−[[2−(4−アミノフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩40gを得た(収率88.2%)。得られた結晶中のPd濃度は58.8ppmであった。
得られた(R)−2−[[2−(4−アミノフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩5gをメタノール40mL、水0.1mLに溶解し、オートクレーブに仕込んだ。窒素置換(7回)、水素置換(7回)後、水素ガス加圧下(50psig)25℃で8時間撹拌した。
撹拌開始後から3時間経過後及び8時間経過後に各々サンプリングを実施し、それぞれの溶液についてPd濃度を測定したところ、撹拌開始から3時間経過後のPd濃度は0.36ppm(結晶換算:4.5ppm、Pd除去率92%)であり、撹拌開始から8時間経過後のPd濃度は0.19ppm(結晶換算:2.3ppm、Pd除去率96%)であった。
(R)−2−[[2−(4−アミノフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩
特許第3800220号公報の参考例2に記載の方法に従い合成した(R)−2−[[2−(4−ニトロフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩50g、メタノール250mL、10% Pd/C2gを1Lオートクレーブに仕込み、次いで撹拌下、窒素置換(5回)、次いで水素置換(5回)を実施した。その後、内温5〜25℃、水素ガス加圧下(43psig)で4時間撹拌し、反応を行った。次いで、反応液を開放系で内温23℃にて撹拌した。
触媒をろ過後、メタノールで洗浄後、残量83mLまで減圧濃縮し、残渣に酢酸エチル37mLを35℃で1時間かけて滴下した。(R)−2−[[2−(4−アミノフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩を種結晶として50mg加え、2時間撹拌した。次いで、酢酸エチル330mLを加えた後、内温20℃で撹拌した。結晶を濾過後、酢酸エチルで洗浄し、50℃で減圧乾燥することにより、(R)−2−[[2−(4−アミノフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩40gを得た(収率88.2%)。得られた結晶中のPd濃度は58.8ppmであった。
得られた(R)−2−[[2−(4−アミノフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩5gをメタノール40mL、水0.1mLに溶解し、オートクレーブに仕込んだ。窒素置換(7回)、水素置換(7回)後、水素ガス加圧下(50psig)25℃で8時間撹拌した。
撹拌開始後から3時間経過後及び8時間経過後に各々サンプリングを実施し、それぞれの溶液についてPd濃度を測定したところ、撹拌開始から3時間経過後のPd濃度は0.36ppm(結晶換算:4.5ppm、Pd除去率92%)であり、撹拌開始から8時間経過後のPd濃度は0.19ppm(結晶換算:2.3ppm、Pd除去率96%)であった。
<実施例3>
3−クロロ−4−{4−[5−(3−{[グリシル(メチル)アミノ]メチル}フェニル)ピリミジン−2−イル]ピペラジン−1−イル}安息香酸 一塩酸塩
国際公開第2011/034078号の実施例263に記載の方法に従い合成した3−クロロ−4−{4−[5−(3−{[グリシル(メチル)アミノ]メチル}フェニル)ピリミジン−2−イル]ピペラジン−1−イル}安息香酸 一塩酸塩250mgにテトラヒドロフラン(THF)50mL、メタノール50mLを加え溶解後、不要物を濾過した。この時の溶液のPd濃度は21.1ppmであった。
次にこの溶液を窒素置換を3回実施後、水素置換を2回実施し、その後、水素ガス雰囲気下(大気圧、20〜30℃)、終夜撹拌した。撹拌後、溶液を濾過してPd濃度を測定したところ、0.07ppm(結晶換算:23.4ppm、Pd除去率99.7%)であった。
3−クロロ−4−{4−[5−(3−{[グリシル(メチル)アミノ]メチル}フェニル)ピリミジン−2−イル]ピペラジン−1−イル}安息香酸 一塩酸塩
国際公開第2011/034078号の実施例263に記載の方法に従い合成した3−クロロ−4−{4−[5−(3−{[グリシル(メチル)アミノ]メチル}フェニル)ピリミジン−2−イル]ピペラジン−1−イル}安息香酸 一塩酸塩250mgにテトラヒドロフラン(THF)50mL、メタノール50mLを加え溶解後、不要物を濾過した。この時の溶液のPd濃度は21.1ppmであった。
次にこの溶液を窒素置換を3回実施後、水素置換を2回実施し、その後、水素ガス雰囲気下(大気圧、20〜30℃)、終夜撹拌した。撹拌後、溶液を濾過してPd濃度を測定したところ、0.07ppm(結晶換算:23.4ppm、Pd除去率99.7%)であった。
<実施例4>
9−ヒドロキシ−9−[3−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)プロピル]−9H−フルオレン−2−カルボン酸
Organic Process Research&Development,2012,16,654−663記載の方法に従い合成した9−ヒドロキシ−9−[3−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)プロプ−1−イン−1−イル]−9H−フルオレン−2−カルボン酸500mgをメタノール10mLに溶解し、10%Pd/C80mgを加え、水素ガス雰囲気下撹拌した。反応終了後、空気雰囲気下終夜撹拌し、触媒を濾過しメタノール5.5mLで洗浄した。この時の溶液のPd濃度は6.6ppmであった。
次に、この溶液を窒素置換3回実施後、水素置換2回実施し、その後、水素ガス雰囲気下(大気圧、20〜30℃)、5時間撹拌した。撹拌後、濾過してPd濃度を測定したところ、Pd未検出(結晶換算:Pd未検出、Pd除去率100%)であった。
9−ヒドロキシ−9−[3−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)プロピル]−9H−フルオレン−2−カルボン酸
Organic Process Research&Development,2012,16,654−663記載の方法に従い合成した9−ヒドロキシ−9−[3−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)プロプ−1−イン−1−イル]−9H−フルオレン−2−カルボン酸500mgをメタノール10mLに溶解し、10%Pd/C80mgを加え、水素ガス雰囲気下撹拌した。反応終了後、空気雰囲気下終夜撹拌し、触媒を濾過しメタノール5.5mLで洗浄した。この時の溶液のPd濃度は6.6ppmであった。
次に、この溶液を窒素置換3回実施後、水素置換2回実施し、その後、水素ガス雰囲気下(大気圧、20〜30℃)、5時間撹拌した。撹拌後、濾過してPd濃度を測定したところ、Pd未検出(結晶換算:Pd未検出、Pd除去率100%)であった。
<実施例5>
1−[(3R,4R)−4−メチルピペリジン−3−イル)−1,6−ジヒドロジピロロ[2,3−b:2’,3’−d]ピリジン
国際公開第2010/119875号の参考例6に記載の方法に従い合成した1−[(3R,4R)−1−ベンジル−4−メチルピペリジン−3−イル)−1,6−ジヒドロジピロロ[2,3−b:2’,3’−d]ピリジン10gにエタノール20mL、常水30mLを加え溶解し、6N塩酸を9.5mL、20%Pd(OH)2/Cを1g加えた。窒素置換3回実施後、水素置換3回実施し、水素ガス加圧下(30psig)、室温にて19時間撹拌後、空気中でさらに3時間撹拌した。その後触媒を濾過し、得られた濾液に水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH13に調整した。析出した結晶を濾取し、1−[(3R,4R)−4−メチルピペリジン−3−イル)−1,6−ジヒドロジピロロ[2,3−b:2’,3’−d]ピリジンの結晶を得た。この時の結晶125mgをメタノール25mLに溶解させた水溶液のPd濃度は36.9ppmであった。
次に、当該溶液を窒素置換3回、水素置換2回実施後、外温100℃、水素ガス加圧下(80psig)にて24時間撹拌した。この時の溶液中のPd濃度は0.19ppm(結晶換算:30.9ppm、除去率:99.5%)であった。引き続き外温を120℃まで加温し、水素ガス加圧下(80psig)24時間攪拌後、濾過して溶液中のPd濃度を測定したところ、Pd濃度は0.08ppm(結晶換算:12.1ppm、除去率:99.8%)であった。
1−[(3R,4R)−4−メチルピペリジン−3−イル)−1,6−ジヒドロジピロロ[2,3−b:2’,3’−d]ピリジン
国際公開第2010/119875号の参考例6に記載の方法に従い合成した1−[(3R,4R)−1−ベンジル−4−メチルピペリジン−3−イル)−1,6−ジヒドロジピロロ[2,3−b:2’,3’−d]ピリジン10gにエタノール20mL、常水30mLを加え溶解し、6N塩酸を9.5mL、20%Pd(OH)2/Cを1g加えた。窒素置換3回実施後、水素置換3回実施し、水素ガス加圧下(30psig)、室温にて19時間撹拌後、空気中でさらに3時間撹拌した。その後触媒を濾過し、得られた濾液に水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH13に調整した。析出した結晶を濾取し、1−[(3R,4R)−4−メチルピペリジン−3−イル)−1,6−ジヒドロジピロロ[2,3−b:2’,3’−d]ピリジンの結晶を得た。この時の結晶125mgをメタノール25mLに溶解させた水溶液のPd濃度は36.9ppmであった。
次に、当該溶液を窒素置換3回、水素置換2回実施後、外温100℃、水素ガス加圧下(80psig)にて24時間撹拌した。この時の溶液中のPd濃度は0.19ppm(結晶換算:30.9ppm、除去率:99.5%)であった。引き続き外温を120℃まで加温し、水素ガス加圧下(80psig)24時間攪拌後、濾過して溶液中のPd濃度を測定したところ、Pd濃度は0.08ppm(結晶換算:12.1ppm、除去率:99.8%)であった。
<実施例6>
ピリジン
5% Pd/C1gをメタノール50mLに懸濁し、ピリジン(関東化学社製)を1.01mL加えて水素ガス雰囲気下(大気圧)で1時間撹拌し、空気中で48時間撹拌した。その後Pd/Cを濾過により取り除いた。この時の溶液のPd濃度は25.4ppmであった。
次に、得られた濾液を窒素置換3回、水素置換2回実施後、水素ガス雰囲気下(大気圧)、50℃にて24時間撹拌後、濾過してPd濃度を測定したところ、Pd濃度は未検出であった。(ピリジン換算:Pd未検出、Pd除去率100%)。
ピリジン
5% Pd/C1gをメタノール50mLに懸濁し、ピリジン(関東化学社製)を1.01mL加えて水素ガス雰囲気下(大気圧)で1時間撹拌し、空気中で48時間撹拌した。その後Pd/Cを濾過により取り除いた。この時の溶液のPd濃度は25.4ppmであった。
次に、得られた濾液を窒素置換3回、水素置換2回実施後、水素ガス雰囲気下(大気圧)、50℃にて24時間撹拌後、濾過してPd濃度を測定したところ、Pd濃度は未検出であった。(ピリジン換算:Pd未検出、Pd除去率100%)。
<実施例7>
2−ピコリン
5% Pd/C1gをメタノール50mLに懸濁し、2−ピコリン(東京化成社製)を1.23mL加えて水素ガス雰囲気下(大気圧)で1時間撹拌し、空気中で48時間撹拌した。その後Pd/Cを濾過により取り除いた。この時の溶液のPd濃度は6.81ppmであった。
次に、得られた濾液を窒素置換3回、水素置換2回実施後、水素ガス雰囲気下(大気圧)、50℃にて24時間撹拌後、濾過してPd濃度を測定したところ、Pd濃度は未検出であった(2−ピコリン換算:Pd未検出、Pd除去率:100%)。
2−ピコリン
5% Pd/C1gをメタノール50mLに懸濁し、2−ピコリン(東京化成社製)を1.23mL加えて水素ガス雰囲気下(大気圧)で1時間撹拌し、空気中で48時間撹拌した。その後Pd/Cを濾過により取り除いた。この時の溶液のPd濃度は6.81ppmであった。
次に、得られた濾液を窒素置換3回、水素置換2回実施後、水素ガス雰囲気下(大気圧)、50℃にて24時間撹拌後、濾過してPd濃度を測定したところ、Pd濃度は未検出であった(2−ピコリン換算:Pd未検出、Pd除去率:100%)。
<実施例8>
2,6−ルチジン
5% Pd/C1gをメタノール50mLに懸濁し、2,6−ルチジン(東京化成社製)を1.45mL加えて水素ガス雰囲気下(大気圧)で1時間撹拌し、空気中で48時間撹拌した。その後Pd/Cを濾過により取り除いた。この時の溶液のPd濃度は2.79ppmであった。
次に、得られた濾液を窒素置換3回、水素置換2回実施後、水素ガス雰囲気下(大気圧)、50℃にて24時間撹拌後、濾過してPd濃度を測定したところ、Pd濃度は0.03ppmであった(2,6−ルチジン換算:0.80ppm、Pd除去率98.9%)。
2,6−ルチジン
5% Pd/C1gをメタノール50mLに懸濁し、2,6−ルチジン(東京化成社製)を1.45mL加えて水素ガス雰囲気下(大気圧)で1時間撹拌し、空気中で48時間撹拌した。その後Pd/Cを濾過により取り除いた。この時の溶液のPd濃度は2.79ppmであった。
次に、得られた濾液を窒素置換3回、水素置換2回実施後、水素ガス雰囲気下(大気圧)、50℃にて24時間撹拌後、濾過してPd濃度を測定したところ、Pd濃度は0.03ppmであった(2,6−ルチジン換算:0.80ppm、Pd除去率98.9%)。
<実施例9>
エチレンジアミン
5% Pd/C1gをメタノール50mLに懸濁し、エチレンジアミン(和光社製)を0.84mL加えて水素ガス雰囲気下(大気圧)で1時間撹拌し、空気中で24時間撹拌した。その後Pd/Cを濾過により取り除いた。この時の溶液のPd濃度は12.3ppmであった。
次に、得られた濾液を窒素置換3回、水素置換2回実施後、水素ガス加圧下(80psig)、100℃にて6時間撹拌後、濾過してPd濃度を測定したところ、Pd未検出であった(Pd除去率100%)。
エチレンジアミン
5% Pd/C1gをメタノール50mLに懸濁し、エチレンジアミン(和光社製)を0.84mL加えて水素ガス雰囲気下(大気圧)で1時間撹拌し、空気中で24時間撹拌した。その後Pd/Cを濾過により取り除いた。この時の溶液のPd濃度は12.3ppmであった。
次に、得られた濾液を窒素置換3回、水素置換2回実施後、水素ガス加圧下(80psig)、100℃にて6時間撹拌後、濾過してPd濃度を測定したところ、Pd未検出であった(Pd除去率100%)。
<参考例1>
L−システイン
5% Pd/C1gを常水40mL、メタノール10mLに懸濁し、L−システイン(東京化成社品)を0.3g加えて水素ガス雰囲気下で1時間撹拌後、空気中で終夜撹拌した。その後Pd/Cを濾過により取り除いた。この時の溶液のPd濃度は113.1ppmであった。
次に、得られた濾液を窒素置換3回、水素置換2回実施後、水素ガス加圧下(80psig)、80℃にて16時間撹拌後、濾過してPd濃度を測定したところ、Pd濃度は105.0ppmであった(Pd除去率7.2%)。
L−システイン
5% Pd/C1gを常水40mL、メタノール10mLに懸濁し、L−システイン(東京化成社品)を0.3g加えて水素ガス雰囲気下で1時間撹拌後、空気中で終夜撹拌した。その後Pd/Cを濾過により取り除いた。この時の溶液のPd濃度は113.1ppmであった。
次に、得られた濾液を窒素置換3回、水素置換2回実施後、水素ガス加圧下(80psig)、80℃にて16時間撹拌後、濾過してPd濃度を測定したところ、Pd濃度は105.0ppmであった(Pd除去率7.2%)。
本発明によれば、工業的に安価であり環境にも優しい、水素ガスを用いた工程により残留Pdを効果的に除去することができ、実質的にPdを含まない有機化合物を簡便に製造することができる。
また、除去された残留Pdを回収し、新たな触媒として再利用することができる。
また、除去された残留Pdを回収し、新たな触媒として再利用することができる。
Claims (9)
- 有機化合物及びPdを含む溶液を水素ガス雰囲気下で撹拌する工程を含む、実質的にPdを含まない有機化合物の製造方法。
- 前記水素ガス雰囲気下で撹拌する工程に次いで、濾過によりPdを取り除く工程を含む、請求項1に記載の製造方法。
- 前記水素ガス雰囲気下で撹拌する工程における水素ガス圧が大気圧〜100psigである、請求項1又は2に記載の製造方法。
- 前記水素ガス雰囲気下で撹拌する工程における温度が0〜120℃である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記有機化合物がPdと水素ガスの組み合わせにより分解が起こらない化合物である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記有機化合物が窒素原子を含む化合物である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記有機化合物が単素環及び複素環の少なくともいずれか一方を含む化合物である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記有機化合物が、(R)−(−)−5−(2−アミノプロピル)−2−メトキシベンゼンスルホンアミド 塩酸塩、(R)−2−[[2−(4−アミノフェニル)エチル]アミノ]−1−フェニルエタノール 一塩酸塩、3−クロロ−4−{4−[5−(3−{[グリシル(メチル)アミノ]メチル}フェニル)ピリミジン−2−イル]ピペラジン−1−イル}安息香酸 一塩酸塩、9−ヒドロキシ−9−[3−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)プロピル]−9H−フルオレン−2−カルボン酸、1−[(3R,4R)−4−メチルピペリジン−3−イル)−1,6−ジヒドロジピロロ[2,3−b:2’,3’−d]ピリジン、ピリジン、2−ピコリン、2,6−ルチジン、またはエチレンジアミンである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。
- 有機化合物及びPdを含む溶液を水素ガス雰囲気下で撹拌することを特徴とする、有機化合物からPdを除去する方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015085112A JP2018100221A (ja) | 2015-04-17 | 2015-04-17 | Pdを実質的に含まない有機化合物の製造方法及び水素ガスを用いた有機化合物からPdを除去する新規な方法 |
| PCT/JP2016/062160 WO2016167361A1 (ja) | 2015-04-17 | 2016-04-15 | Pdを実質的に含まない有機化合物の製造方法及び水素ガスを用いた有機化合物からPdを除去する新規な方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015085112A JP2018100221A (ja) | 2015-04-17 | 2015-04-17 | Pdを実質的に含まない有機化合物の製造方法及び水素ガスを用いた有機化合物からPdを除去する新規な方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018100221A true JP2018100221A (ja) | 2018-06-28 |
Family
ID=57125940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015085112A Pending JP2018100221A (ja) | 2015-04-17 | 2015-04-17 | Pdを実質的に含まない有機化合物の製造方法及び水素ガスを用いた有機化合物からPdを除去する新規な方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2018100221A (ja) |
| WO (1) | WO2016167361A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113816864B (zh) * | 2020-06-18 | 2024-03-29 | 南京正大天晴制药有限公司 | 一种(r)-2-羟基-n-[2-(4-氨基苯基)乙基]-2-苯乙胺的制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5320009B2 (ja) * | 1974-02-19 | 1978-06-24 | ||
| JPS6059974B2 (ja) * | 1979-04-05 | 1985-12-27 | 宇部興産株式会社 | パラジウムの回収方法 |
| FR2818638B1 (fr) * | 2000-12-27 | 2003-02-07 | Rhodia Polyamide Intermediates | Procede de preparation d'acides carboxyliques par carbonylation au palladium |
| JP2013202533A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-07 | Ube Industries Ltd | パラジウムの回収方法 |
-
2015
- 2015-04-17 JP JP2015085112A patent/JP2018100221A/ja active Pending
-
2016
- 2016-04-15 WO PCT/JP2016/062160 patent/WO2016167361A1/ja not_active Ceased
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2016167361A1 (ja) | 2016-10-20 |
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