JP2018180274A - 光学フィルムおよび画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光透過率を向上させることできる折り畳み可能な光学フィルム、およびこれを備えた画像表示装置を提供する。【解決手段】本発明の一の態様によれば、画像表示装置４０に用いられる折り畳み可能な光学フィルム１０であって、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材１１と、樹脂基材１１の一方の面１１Ａ側に設けられた樹脂層１２と、樹脂基材１１における一方の面１１Ａとは反対側の面である他方の面１１Ｂに設けられ、かつ屈折率が、１．０００より高く、かつ樹脂基材１１の屈折率よりも低い第１の光学調整層１３と、を備える、光学フィルム１０が提供される。【選択図】図１

Description

本発明は、光学フィルムおよび画像表示装置に関する。

従来から、スマートフォンやタブレット端末等の画像表示装置が知られているが、現在、折り畳み可能な画像表示装置の開発が行われている。通常、スマートフォンやタブレット端末等はカバーガラスで覆われているが、ガラスは、一般的に、硬度は優れるものの、曲がらないので、画像表示装置にカバーガラスを用いた場合には、折り畳もうとすると割れてしまうおそれが高い。このため、折り畳み可能な画像表示装置には、カバーガラスの代わりに、曲げられる樹脂基材とハードコート層とを備える折り畳み可能な光学フィルムを用いることが検討されている（例えば、特許文献１参照）。

特開２０１６−１２５０６３号公報

このような折り畳み可能な光学フィルムにおいて、光透過率の向上が求められているが、未だ光透過率の向上が達成されていないのが、現状である。

本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、光透過率を向上させることができる折り畳み可能な光学フィルム、およびこれを備えた画像表示装置を提供することを目的とする。

本発明の一の態様によれば、画像表示装置に用いられる折り畳み可能な光学フィルムであって、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材と、前記樹脂基材の一方の面側に設けられた樹脂層と、前記樹脂基材における前記一方の面とは反対側の面である他方の面に設けられ、かつ屈折率が、１．０００より高く、かつ前記樹脂基材の屈折率よりも低い第１の光学調整層と、を備える、光学フィルムが提供される。

上記光学フィルムにおいて、前記第１の光学調整層の膜厚が、３０ｎｍ以上１μｍ以下であってもよい。

上記光学フィルムにおいて、前記樹脂基材と前記樹脂層の間に設けられ、かつ前記樹脂層に隣接した第２の光学調整層をさらに備えていてもよい。

上記光学フィルムにおいて、前記第２の光学調整層の膜厚が、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であってもよい。

上記光学フィルムにおいて、前記光学フィルムのイエローインデックスが、１５以下であってもよい。

上記光学フィルムにおいて、前記樹脂層が内側となり、かつ前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように１８０°折り畳む試験を１万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましい。

本発明の他の態様によれば、表示素子と、前記表示素子よりも観察者側に配置された上記の光学フィルムと、を備える、折り畳み可能な画像表示装置が提供される。

上記画像表示装置において、前記表示素子が、有機発光ダイオード素子であってもよい。

本発明の一の態様によれば、光透過率を向上させることができる折り畳み可能な光学フィルムを提供できる。また、本発明の他の態様によれば、このような光学フィルムを備える画像表示装置を提供できる。

実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。 連続折り畳み試験の様子を模式的に示した図である。 折り畳み静置試験の様子を模式的に示した図である。 実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図である。 実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。

以下、本発明の実施形態に係る光学フィルムおよび画像表示装置について、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「フィルム」、「シート」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」はシートとも呼ばれるような部材も含む意味で用いられる。図１は本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図であり、図２は連続折り畳み試験の様子を模式的に示した図であり、図３は折り畳み静置試験の様子を模式的に示した図である。図４は本実施形態に係る他の光学フィルムの概略構成図である。

＜＜＜光学フィルム＞＞＞
図１に示される光学フィルム１０は、画像表示装置に用いられるものであり、折り畳み可能となっている。

光学フィルム１０は、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の一方の面１１Ａ側に設けられた樹脂層１２と、樹脂基材１１の一方の面１１Ａとは反対側の面である他方の面１１Ｂに設けられた第１の光学調整層１３（以下、単に「光学調整層１３」と称することもある。）とを備えるものである。図１に示される光学フィルム１０は、樹脂基材１１と樹脂層１２の間に設けられ、樹脂層１２に隣接した第２の光学調整層１４（以下、単に「光学調整層１４」と称することもある。）と、樹脂基材１１と第２の光学調整層１４の間に設けられ、かつ樹脂基材１１に隣接した第３の光学調整層１５（以下、単に「光学調整層１５」と称することもある。）とをさらに備えているが、第２の光学調整層１４および／または第３の光学調整層１５は備えられていなくともよい。本明細書における「樹脂層」とは、樹脂からなる層である。樹脂層は、樹脂の他、粒子や添加剤を含んでいてもよい。また、樹脂層は、光学フィルムにおいて、何らかの機能を発揮することを意図された層であってもよい。具体的には、樹脂層としては、例えば、ハードコート層、帯電防止層、防汚層等が挙げられる。樹脂層１２は、ハードコート層として機能するものである。また、樹脂層１２は単層構造となっているが、樹脂層は単層構造のみならず、２層以上の多層構造であってもよい。また、本明細書における各「光学調整層」は、単層構造であり、２層以上の多層構造ではない。なお、図１においては、樹脂基材１１の他方の面１１Ｂに第１の光学調整層１３が設けられているが、第１の光学調整層１３における樹脂基材１１側の面とは反対側の面１３Ａに他の光学調整層が設けられていてもよい。また、図１においては、樹脂基材１１と樹脂層１２との間に、第２の光学調整層１４および第３の光学調整層１５の２層の光学調整層が設けられているが、第２の光学調整層１４と第３の光学調整層１５との間に、他の光学調整層等をさらに設けて、３層以上の構造としてもよい。

図１においては、光学フィルム１０の表面１０Ａは、樹脂層１２の表面１２Ａとなっている。なお、本明細書においては、光学フィルムの表面は光学フィルムの片側の表面を意味するものとして用いるので、光学フィルムの表面とは反対側の面は、光学フィルムの表面と区別するために裏面と称するものとする。光学フィルム１０の裏面１０Ｂは、光学調整層１３における樹脂基材１１側の面とは反対側の面１３Ａとなっている。

光学フィルム１０の全光線透過率は、８５％以上であることが好ましい。光学フィルムの１０の全光線透過率が８５％以上であれば、光学フィルム１０をモバイル端末に用いた場合に充分な画像視認性を得ることができる。全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１：１９９７に準拠して、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、測定することができる。全光線透過率を測定する際には、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの裏面側から光を照射し、また全光線透過率は３回測定して得られた値の算術平均値とする。光学フィルム１０の全光線透過率は、８７％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが最も好ましい。

光学フィルム１０は、折り畳み可能となっているが、具体的には、光学フィルム１０に対し次に説明する折り畳み試験（連続折り畳み試験）を１万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことが好ましく、連続折り畳み試験を２万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことがより好ましく、１０万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないことがさらに好ましい。光学フィルム１０に対し連続折り畳み試験を１万回繰り返し行った場合に、光学フィルム１０に割れ等が生じると、光学フィルム１０の折り畳み性が不充分となる。連続折り畳み試験は、少なくとも樹脂層１２が内側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われる。また連続折り畳み試験を、樹脂層１２が内側となるように光学フィルム１０を折り畳むようにして行う他、樹脂層１２が外側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行ってもよい。この場合、樹脂層１２が内側となるように光学フィルム１０を折り畳む場合および樹脂層１２が外側となるように光学フィルム１０を折り畳む場合のいずれの場合にも、光学フィルムに割れまたは破断が生じないことが好ましい。

連続折り畳み試験は、以下のようにして行われる。図２（Ａ）に示すように連続折り畳み試験においては、まず、光学フィルム１０の辺部１０Ｃと、辺部１０Ｃと対向する辺部１０Ｄとを、平行に配置された固定部２０でそれぞれ固定する。なお、光学フィルム１０は、任意の形状であってよいが、連続折り畳み試験における光学フィルム１０は、矩形（例えば、３０ｍｍ×１００ｍｍの矩形）であることが好ましい。また、図２（Ａ）に示すように、固定部２０は水平方向にスライド移動可能なっている。

次に、図２（Ｂ）に示すように、固定部２０を互いに近接するように移動させることで、光学フィルム１０の折り畳むように変形させ、更に、図２（Ｃ）に示すように、光学フィルム１０の固定部２０で固定された対向する２つの辺部の間隔が１０ｍｍとなる位置まで固定部２０を移動させた後、固定部２０を逆方向に移動させて光学フィルム１０が変形を解消させる。

図２（Ａ）〜（Ｃ）に示すように固定部２０を移動させることで、光学フィルム１０を１８０°折り畳むことができる。また、光学フィルム１０の屈曲部１０Ｅが固定部２０の下端からはみ出さないように連続折り畳み試験を行い、かつ固定部２０が最接近したときの間隔を１０ｍｍに制御することで、光学フィルム１０の対向する２つの辺部の間隔を１０ｍｍにできる。この場合、屈曲部１０Ｅの外径を１０ｍｍとみなす。なお、光学フィルム１０の厚みは、固定部２０の間隔（１０ｍｍ）と比較して充分に小さな値であるため、光学フィルム１０の連続折り畳み試験の結果は、光学フィルム１０の厚みの違いによる影響は受けないとみなすことができる。光学フィルム１０においては、光学フィルム１０の対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように１８０°折り畳む連続折り畳み試験を１万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことがさらに好ましく、光学フィルム１０の対向する辺部の間隔が２ｍｍとなるように１８０°折り畳む連続折り畳み試験を１万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが最も好ましい。

光学フィルム１０においては、図３（Ａ）に示されるように、光学フィルム１０の辺部１０Ｃと、辺部１０Ｃと対向する辺部１０Ｄとを、辺部１０Ｃと辺部１０Ｄの間隔が１０ｍｍとなるように平行に配置された固定部２５でそれぞれ固定して、光学フィルム１０を折り畳んだ状態で、７０℃で１２時間静置する折り畳み静置試験を行い、図３（Ｂ）に示されるように、折り畳み静置試験後に辺部１０Ｄから固定部２５を外すことによって、折り畳み状態を開放して、室温で３０分後に光学フィルム１０において光学フィルム１０が自然に開く角度である開き角θを測定した場合に、光学フィルム１０の開き角θが１００°以上であることが好ましい。なお、開き角θは、大きいほど復元性が良好であることを意味し、最大で１８０°である。折り畳み静置試験は、樹脂層１２が内側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよく、また樹脂層１２が外側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよいが、いずれの場合であっても、開き角θが１００°以上であることが好ましい。

光学フィルム１０の表面１０Ａ（樹脂層１２の表面１２Ａ）は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で測定されたときの硬度（鉛筆硬度）が、３Ｈ以上であることが好ましく、４Ｈ以上であることがより好ましい。ただし、鉛筆硬度試験は、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムをガラス板上に折れやシワがないようニチバン社製のセロテープ（登録商標）で固定し、鉛筆に７５０ｇの荷重を加えるとともに、ひっかき速度を１ｍｍ／秒とした状態で行うものとする。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上光学フィルムの表面に傷が付かなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断する。上記傷は、鉛筆硬度試験を行った光学フィルムの表面を蛍光灯下で透過観察して視認されるものを指す。

光学フィルム１０の表面１０Ａの表面抵抗値は、１０^１２Ω／□以下であることが好ましい。表面抵抗値は、ＪＩＳ Ｋ６９１１：２００６に準拠して、抵抗率計（製品名「ハイレスタ−ＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０」、三菱化学アナリテック社製、プローブ：ＵＲＳ）を用いて、測定することができる。光学フィルム１０の表面１０Ａの表面抵抗値は、５ｃｍ×５ｃｍの大きさに切り出した光学フィルム１０の表面１０Ａの表面抵抗値をランダムに１０箇所測定し、測定した１０箇所の表面抵抗値の算術平均値とする。

光学フィルム１０においては、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、光学フィルム１０の表面１０Ａより５０ｍｍの距離から１０ｋＶの電圧を印加したときの光学フィルム１０の表面１０Ａにおける飽和帯電圧が、０ｋＶを越えていることが好ましい。また、同様に、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、光学フィルム１０の裏面１０Ｂより５０ｍｍの距離から１０ｋＶの電圧を印加したときの光学フィルム１０の裏面１０Ｂにおける飽和帯電圧が、０ｋＶを越えていることが好ましい。飽和帯電圧とは、光学フィルムが蓄積できる最大電圧である。タッチセンサよりも観察者側に帯電防止ハードコート層を備える光学フィルムを配置した場合、帯電防止ハードコート層によってはタッチセンサによる指等の位置検出ができなくなるおそれがあるが、光学フィルム１０の表面１０Ａにおける飽和帯電圧が、０ｋＶを超えていれば、タッチセンサよりも観察者側に光学フィルム１０を配置した場合であっても、タッチセンサによる指等の位置検出ができる。飽和帯電圧は、帯電電荷減衰度測定器（製品名「Ｈ−０１１０」、シシド静電気社製）を用いて測定することができる。飽和帯電圧は、３回測定して得られた値の算術平均値とする。上記飽和帯電圧の下限は、０．１ｋＶ以上であることがより好ましく、上記飽和帯電圧の上限は、３ｋＶ以下であることがより好ましい。

光学フィルム１０は、イエローインデックス（ＹＩ）が１５以下であることが好ましい。光学フィルム１０のイエローインデックス（ＹＩ）が１５以下であれば、光学フィルムの黄色味を抑制でき、透明性が求められる用途に適用できる。イエローインデックス（ＹＩ）は、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）を用いて５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムについて測定された値からＪＩＳ Ｚ８７２２：２００９に記載された演算式に従って色度三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを計算し、三刺激値Ｘ、Ｙ、ＺからＡＳＴＭ Ｄ１９２５：１９６２に記載された演算式に従って算出された値である。光学フィルム１０のイエローインデックス（ＹＩ）の上限は、１０以下であることがより好ましく、５以下であることがより好ましい。

光学フィルム１０のイエローインデックス（ＹＩ）を調整するために、例えば、樹脂基材１１、樹脂層１２、光学調整層１３〜１５の少なくともいずれかに、黄色の補色となる青色の色素を含有させてもよい。樹脂基材として、ポリイミド系基材を用いたことで、黄色味が問題となるような場合であったとしても、樹脂基材１１等に青色の色素を含ませることで、光学フィルムのイエローインデックス（ＹＩ）を低下させることができる。

上記青色の色素としては、顔料または染料のいずれであってもよいが、例えば、光学フィルム１０が有機発光ダイオード表示装置に用いる場合、耐光性や耐熱性を兼ね備えたものが好ましい。上記青色の色素として、多環系有機顔料や金属錯体有機顔料等は、染料の分子分散に比べて紫外線による分子裂断の度合いが少なく耐光性が格段に優れるため、耐光性等が求められる用途に好ましく、より具体的には、フタロシアニン系の有機顔料等が好適に挙げられる。ただし、顔料は溶剤に対して粒子分散するため、粒子散乱による透明性阻害は存在するため、顔料分散体の粒度をレイリー散乱域に入れることが好ましい。一方、光学フィルムの透明性が重要視される場合には、上記青色の色素としては、溶剤に対して分子分散する染料を用いることが好ましい。また、上記青色の色素として、コバルトブルー等の無機顔料を用いてもよい。

光学フィルム１０に向けて光学調整層１３側から波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の領域において連続スペクトルを有する光を入射角度０°で照射し、光学フィルム１０を透過した光（透過光）におけるＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の色座標ａ^*、ｂ^*を求めたとき、ａ^*が−３．０以上２．０以下であり、ｂ^*が−２．０以上８．０以下であることが好ましい。ａ^*およびｂ^*がそれぞれ前記範囲内にあれば、イエローインデックスを１５以下にすることができる。ａ^*およびｂ^*の測定は、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製）を用いて５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムに対して行う。光源としては、タングステンハロゲン（ＷＩ）ランプ単体、または重水素（Ｄ２）ランプとタングステンハロゲン（ＷＩ）ランプとの併用が挙げられる。本明細書において、「入射角度０°の光」とは、光学フィルムの一方の面の法線方向を０°としたときの前記法線方向の光を意味する。「Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系」、「ａ^*」、および「ｂ^*」は、ＪＩＳ Ｚ８７２９：２００４に準拠するものである。

光学フィルム１０の波長３８０ｎｍの光の透過率は８％以下であることが好ましい。光学フィルムの上記透過率が８％を超えると、光学フィルムをモバイル端末に用いた場合、偏光子が紫外線に晒されて、劣化しやすくなるおそれがある。上記透過率は、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所製）を用いて測定することができる。上記透過率は、３回測定して得られた値の算術平均値とする。光学フィルム１０の上記透過率の上限は５％以下であることがより好ましい。なお、光学フィルム１０の上記透過率は、後述する紫外線吸収剤の添加量を調整すること等によって達成することができる。

光学フィルム１０のヘイズ値（全ヘイズ値）は２．５％以下であることが好ましい。光学フィルム１０の上記ヘイズ値が２．５％以下であれば、光学フィルム１０をモバイル端末に用いた場合、画像表示面の白化を抑制できる。上記ヘイズ値は、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠した方法により測定することができる。上記ヘイズ値は、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムに対して３回測定して得られた値の算術平均値とする。上記ヘイズ値は、１．５％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがより好ましい。なお、光学フィルム１０の上記ヘイズ値は、樹脂層１２中の後述する紫外線吸収剤の添加量を調整すること等によって達成することができる。

近年、パーソナルコンピュータやタブレット端末等の画像表示装置のバックライトの光源として発光ダイオード（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）が積極的に採用されているが、この発光ダイオードは、ブルーライトと呼ばれる光を強く発している。このブルーライトは、波長３８０ｎｍ〜４９５ｎｍの光で紫外線に近い性質を持っており、強いエネルギーを有しているため、角膜や水晶体で吸収されずに網膜に到達することで、網膜の損傷、眼精疲労、睡眠への悪影響等の原因になると言われている。このため、光学フィルムを、画像表示装置に適用した場合に、表示画面の色味に影響を与えることなく、ブルーライト遮蔽性に優れたものとなることが好ましい。このため、ブルーライトを遮光する観点から、光学フィルム１０は、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％未満であり、波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１０％未満であり、波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上であることが好ましい。上記波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％以上であったり、波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１０％以上であったりすると、ブルーライトによる問題を解消できないことがあり、波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％未満であると、光学フィルムを用いた画像表示装置の表示画面の色味に影響を及ぼしてしまうことがあるからである。光学フィルム１０は、ブルーライトの波長のうち、波長４１０ｎｍ以下の波長領域の光を充分に吸収させる一方で、波長４４０ｎｍ以上の光を充分に透過させ、表示画面の色味に影響を与えることなくブルーライトの遮蔽性を優れたものとすることができる。また、このようなブルーライトの遮蔽性に優れる光学フィルム１０を画像表示装置として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置に適用した場合、有機発光ダイオード素子の劣化抑制にも効果的である。

光学フィルム１０の光の透過率は、波長３８０ｎｍまでは殆ど０％であり、波長４１０ｎｍから徐々に光の透過が大きくなり、波長４４０ｎｍ付近で急激に光の透過が大きくなっていることが好ましい。具体的には、例えば、波長４１０ｎｍから４４０ｎｍの間で分光透過率がシグモイド型の曲線を描くように変化することが好ましい。上記波長３８０ｎｍにおける分光透過率は、より好ましくは０．５％未満、更に好ましくは０．２％未満であり、波長４１０ｎｍにおける分光透過率がより好ましくは７％未満、より好ましくは５％未満であり、波長４４０ｎｍにおける分光透過率がより好ましくは７５％以上、更に好ましくは８０％以上である。なお、光学フィルム１０は、波長４２０ｎｍにおける分光透過率が５０％未満であることが好ましい。このような分光透過率の関係を満たすことで、光学フィルム１０は、波長４４０ｎｍ付近で急激に透過率が向上するものとなり、表示画面の色味に影響を及ぼすことなく極めて優れたブルーライト遮蔽性を得ることができる。

光学フィルム１０における波長３８０ｎｍにおける分光透過率は０．１％未満であることがより好ましく、波長４１０ｎｍにおける分光透過率は７％未満であることがより好ましく、波長４４０ｎｍにおける分光透過率は８０％以上であることがより好ましい。

光学フィルム１０は、最小二乗法を用いて得られた波長４１５〜４３５ｎｍの範囲の透過スペクトルの傾きが２．０より大きいことが好ましい。上記傾きが２．０以下であると、ブルーライトの光波長領域、例えば、波長４１５〜４３５ｎｍの波長領域において充分に光がカットできずブルーライトカット効果が弱くなることがある。また、ブルーライトの光波長領域（波長４１５〜４３５ｎｍ）をカットしすぎている可能性も考えられ、その場合、画像表示装置のバックライトや発光波長領域（例えば、ＯＬＥＤの波長４３０ｎｍからの発光）に干渉してしまい、色味が悪くなるといった不具合が発生する可能性が大きくなることがある。上記傾きは、例えば、０．５％刻みにて測定可能の分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製）を用い、前後１ｎｍの間で最低５ポイント分の透過率のデータを４１５〜４３５ｎｍ間で測定することで算出することができる。

光学フィルム１０は、ブルーライトの遮蔽率が４０％以上であることが好ましい。ブルーライトの遮蔽率が４０％未満であると、上述したブルーライトに起因した問題が充分に解消できないことがある。上記ブルーライトの遮蔽率は、例えば、ＪＩＳ Ｔ７３３３：２００５により算出される値である。なお、このようなブルーライト遮蔽率は、例えば、樹脂層１２が後述するセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含むことで、達成することができる。

光学フィルム１０の大きさは、特に制限されず、例えば、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ウェアラブル端末、デジタルサイネージ、テレビジョン等の画像表示装置の表示面の大きさに応じて適宜決定される。具体的には、光学フィルム１０の大きさは、例えば、１インチ以上５００インチ以下となっていてもよい。なお、光学フィルム１０の上記大きさとは、折り畳んだ状態での大きさを意味するものとする。

＜＜樹脂基材＞＞
樹脂基材１１は、光透過性を有している。本明細書における「光透過性」とは、光を透過させる性質を意味し、例えば、全光線透過率が５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上であることを含む。光透過性とは、必ずしも透明である必要はなく、半透明であってもよい。

樹脂基材１１は、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂やポリエチレンナフタレート樹脂）からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる基材である。

これらの樹脂の中でも、連続折り畳み試験において割れ又は破断が発生しにくいだけでなく、優れた硬度及び透明性をも有し、また、耐熱性にも優れ、焼成することにより、更に優れた硬度及び透明性を付与することもできる観点から、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの混合物が好ましい。

ポリイミド系樹脂としては、例えば、下記式で表される構造を有する化合物が挙げられる。下記式中、ｎは、繰り返し単位であり、２以上の整数を表す。

ポリアミド系樹脂は、脂肪族ポリアミドのみならず、芳香族ポリアミド（アラミド）を含む概念である。ポリアミド系樹脂としては、例えば、下記式（１８）〜（２０）で表される骨格を有する化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｎは、繰り返し単位であり、２以上の整数を表す。

上記式（１）〜（１７）および（２０）で表されるポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂からなる基材は、市販のものを用いても良い。上記ポリイミド系樹脂からなる基材の市販品としては、例えば、三菱ガス化学社製のネオプリム等が挙げられ、上記ポリアミド系樹脂からなる基材の市販品としては、例えば、東レ社製のミクトロン等が挙げられる。

また、上記式（１）〜（１７）および（２０）で表されるポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂は、公知の方法により合成したものを用いても良い。例えば、上記式（１）で表されるポリイミド系樹脂の合成方法は、特開２００９−１３２０９１に記載されており、具体的には、下記式（２１）で表される４，４’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物（ＦＰＡ）と２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＴＦＤＢ）とを反応させることにより得ることができる。

上記ポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、３０００以上５０万以下の範囲であることが好ましく、５０００〜３０万の範囲であることがより好ましく、１万以上２０万以下の範囲であることが更に好ましい。重量平均分子量が３０００未満であると、充分な強度が得られないことがあり、５０万を超えると粘度が上昇し、溶解性が低下するため、表面が平滑で膜厚が均一な基材が得られないことがある。なお、本明細書において、「重量平均分子量」とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値である。

上記ポリイミド系樹脂およびポリアミド系樹脂のなかでも、優れた透明性を有することから、分子内又は分子間の電荷移動が起こりにくい構造を有するポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂が好ましく、具体的には、上記式（１）〜（８）等のフッ素化ポリイミド系樹脂、上記式（１０）〜（１３）等の脂環構造を有するポリイミド系樹脂、上記式（２０）等のハロゲン基を有するポリアミド系樹脂が挙げられる。

また、上記式（１）〜（８）等のフッ素化ポリイミド系樹脂では、フッ素化された構造を有するため、高い耐熱性を有しており、ポリイミド系樹脂からなる基材の製造時の熱によって着色されることもないので、優れた透明性を有する。

樹脂基材１１は、硬度を向上させることが可能な観点から、上記式（１）〜（８）等で表されるフッ素化ポリイミド系樹脂または上記式（２０）等のハロゲン基を有するポリアミド系樹脂からなる基材を用いることが好ましい。なかでも、硬度をより向上させることができる観点から、上記式（１）で表されるポリイミド系樹脂からなる基材を用いることがより好ましい。

ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートの少なくとも１種を構成成分とする樹脂等が挙げられる。

樹脂基材１１の屈折率は、樹脂層１２の屈折率よりも高くなっていてもよい。樹脂基材１１の屈折率は、例えば、ＪＩＳ Ｋ７１４２：２００８のＢ法に準拠したベッケ法によって測定することができる。樹脂基材１１の屈折率を、ベッケ法を用いて測定する場合、樹脂基材１１の欠片を１０個切り出し、切り出した１０個の欠片において、波長５８９ｎｍのナトリウムＤ線および屈折率標準液を用いて、欠片の屈折率をそれぞれ測定し、測定した欠片の屈折率の１０個の平均値を樹脂基材１１の屈折率とする。樹脂基材１１の屈折率は、１．５００以上１．８００以下となっていてもよい。また、樹脂基材１１の屈折率は、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製）に接続した大形試料室（製品名「ＭＰＣ−３１００」、島津製作所社製）内に絶対鏡面反射測定装置（製品名「ＡＳＲ３１０５」、島津製作所社製）を設置し、絶対鏡面反射測定装置のサンプルホルダに樹脂基材１１を取り付け、０．５ｎｍ間隔で波長３８０〜７８０ｎｍの鏡面反射光（５°反射）の絶対反射率を測定し、得られた絶対反射率の平均値を用いて、以下の式（Ａ）によって求めてもよい。樹脂基材１１の絶対反射率は、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒色ビニールテープ（例えば、製品名「ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１」、ヤマト社製、３８ｍｍ幅）を５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した樹脂基材１１の裏面に貼り付けてから測定するものとする。
Ｒ_１＝（１−ｎ_１）^２／（１＋ｎ_１）^２ …（Ａ）
上記式（Ａ）中、Ｒ_１は波長３８０〜７８０ｎｍにおける樹脂基材１１の絶対反射率の平均値（％）を表し、ｎ_１は樹脂基材１１の屈折率を表す。

樹脂基材１１の厚みは、１０μｍ以上１００μｍ以下となっていることが好ましい。樹脂基材１１の厚みが１０μｍ以上であれば、光学フィルム１０のカールを抑制でき、また充分な硬度を得ることができ、更に、光学フィルム１０をＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌで製造する場合であっても、シワが発生しにくくなり、外観の悪化を招くおそれがない。一方、樹脂基材１１の厚みが１００μｍ以下であれば、光学フィルム１０の折り畳み性能が良好であり、連続折り畳み試験の要件を満足させることができ、また、光学フィルム１０の軽量化の面で好ましい。樹脂基材１１の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、樹脂基材１１の断面を撮影し、その断面の画像において樹脂基材１１の膜厚を１０箇所測定し、その１０箇所の膜厚の算術平均値とする。樹脂基材１１の下限は２５μｍ以上であることがより好ましく、樹脂基材１１の上限は８０μｍ以下であることがより好ましい。

＜＜樹脂層＞＞
樹脂層１２は、ハードコート層として機能する層である。樹脂層１２は、ハードコート性の他、ハードコート性以外の機能を有していてもよい。樹脂層１２は、ハードコート性の他、帯電防止性を有している。すなわち、樹脂層１２は、帯電防止ハードコート層となっている。本明細書における「ハードコート層」とは、ハードコート層の断面中央におけるマルテンス硬度が３７５ＭＰａ以上の層を意味するものとする。本明細書において、「マルテンス硬度」とは、ナノインデンテーション法による硬度測定により、圧子を５００ｎｍ押込んだときの硬度である。上記ナノインデンテーション法によるマルテンス硬度の測定は、３０ｍｍ×３０ｍｍに切り出した光学フィルム１０についてＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて行うものとする。すなわち、以下の測定条件で、上記圧子としてＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子（三角錐）を樹脂層の断面中央に５００ｎｍ押し込み、一定保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐ_ｍａｘ（μＮ）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ^２）とを用い、Ｐ_ｍａｘ／Ａにより、マルテンス硬度を算出する。マルテンス硬度は、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とする。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２５℃

樹脂層１２は、樹脂層１２の断面中央におけるマルテンス硬度が５００ＭＰａ以上２０００ＭＰａ以下であることが好ましい。樹脂層１２のマルテンス硬度が、５００ＭＰａ以上であれば、ハードコート層として十分な硬度を得ることができ、また２０００ＭＰａ以下であれば、良好な光学フィルムの折り畳み性能を得ることができる。樹脂層１２の断面中央におけるマルテンス硬度の下限は６００ＭＰａ以上であることが好ましく、上限は１５００ＭＰａ以下であることが好ましい。

樹脂層１２の屈折率は、１．４００以上１．８００以下となっていてもよい。樹脂層１２の屈折率は、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製）に接続した大形試料室（製品名「ＭＰＣ−３１００」、島津製作所社製）内に絶対鏡面反射測定装置（製品名「ＡＳＲ３１０５」、島津製作所社製）を設置し、絶対鏡面反射測定装置のサンプルホルダに樹脂層１２を取り付け、０．５ｎｍ間隔で波長３８０〜７８０ｎｍの鏡面反射光（５°反射）の絶対反射率を測定し、得られた絶対反射率の平均値を用いて、以下の式（Ｂ）によって求めることができる。樹脂層１２の絶対反射率は、易接着処理が施されていない厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上に樹脂層用組成物を塗布し、硬化させて膜厚１〜１０μｍの樹脂層を形成し、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出し、ＰＥＴ基材における樹脂層側の面とは反対側の面（裏面）に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒色ビニールテープ（例えば、製品名「ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１」、ヤマト社製、３８ｍｍ幅）を貼り付けてから測定するものとする。
Ｒ_２＝（１−ｎ_２）^２／（１＋ｎ_２）^２ …（Ｂ）
上記式（Ｂ）中、Ｒ_２は波長３８０〜７８０ｎｍにおける樹脂層１２の絶対反射率の平均値（％）を表し、ｎ_２は樹脂層１２の屈折率を表す。

樹脂層１２の膜厚は、２μｍ以上４０μｍ以下となっていることが好ましい。樹脂層１２の膜厚が、２μｍ以上であれば、ハードコート層として十分な硬度を得ることができ、また４０μｍ以下であれば、加工性の悪化を抑制できる。本明細書における「樹脂層の膜厚」とは、樹脂層が多層構造となっている場合には、各樹脂層の膜厚を合計した膜厚（総厚）を意味するものとする。樹脂層１２の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、樹脂層１２の断面を撮影し、その断面の画像において樹脂層１２の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とする。樹脂層１２の上限は３０μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましい。

樹脂層１２は、ハードコート層であるが、帯電防止性を有するハードコート層となっている。このため、樹脂層１２は、バインダ樹脂と、バインダ樹脂中に存在する帯電防止剤とを含んでいる。なお、樹脂層１２が、帯電防止性を有しないハードコート層である場合には、帯電防止剤を含んでいなくともよい。また、樹脂層１２は、バインダ樹脂等の他、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば、無機粒子や有機粒子等の粒子、紫外線吸収剤、接着性向上剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、着色剤、フィラー等の添加剤を含んでいてもよい。

＜バインダ樹脂＞
バインダ樹脂は、重合性化合物（硬化性化合物）の重合体（硬化物）を含む。重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。

重合性化合物としては、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。上記多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ、カプロラクトン等で変性したものが挙げられる。

これらの中でも上述したマルテンス硬度を好適に満たし得ることから、３〜６官能のものが好ましく、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート等が好ましい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」および「メタクリレート」を意味する。

なお、硬度や組成物の粘度調整、密着性の改善等のために、更に単官能（メタ）アクリレートモノマーを含んでいてもよい。上記単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）、グリシジルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、及び、アダマンチルアクリレート等が挙げられる。

上記モノマーの重量平均分子量は、樹脂層の硬度を向上させる観点から、１０００未満が好ましく、２００以上８００以下がより好ましい。また、上記重合性オリゴマーの重量平均分子量は、１０００以上２万以下であることが好ましく、１０００以上１万以下であることがより好ましく、２０００以上７０００以下であることが更に好ましい。

＜帯電防止剤＞
樹脂層１２に用いられる帯電防止剤は、バインダ樹脂との相溶性が良好であるものであれば、特に限定されない。帯電防止剤としては、イオン伝導型帯電防止剤と電子伝導型帯電防止剤があり、バインダ樹脂との相溶性の観点から、イオン伝導型帯電防止剤が好ましい。

上記イオン伝導型帯電防止剤としては、例えば、第４級アンモニウム塩、ピリジウム塩等のカチオン性帯電防止剤、スルホン酸、リン酸、カルボン酸等のアルカリ金属塩（例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等）等のアニオン性帯電防止剤、アミノ酸系、アミノ酸硫酸エステル系等の両性帯電防止剤、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性帯電防止剤等が挙げられる。これらの中でも、バインダ樹脂に対して優れた相溶性を示すことから、第４級アンモニウム塩やリチウム塩が好ましい。

上記電子伝導型帯電防止剤としては、例えば、ポリアセチレン系、ポリチオフェン系等の導電性ポリマー、金属粒子、金属酸化物粒子等の導電性粒子が挙げられる。これらの中でも、ポリアセチレン、ポリチオフェン等の導電性ポリマーにドーパントを組み合わせた帯電防止剤、金属粒子、金属酸化物粒子が好ましい。また、上記導電性ポリマーに導電性粒子を含有させることもできる。

上記導電性ポリマーからなる帯電防止剤としては、具体的には、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（１，６−ヘプタジイン）、ポリビフェニレン（ポリパラフェニレン）、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ（２，５−チエニレン）、又は、これらの誘導体等の導電性高分子が挙げられ、好ましくは、ポリチオフェン系の導電性有機ポリマー（例えば、３，４−エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等）が挙げられる。

上記導電性有機ポリマーからなる帯電防止剤を用いることで、湿度依存性が少なく長期間にわたって帯電防止性が維持でき、また、高い透明性、低いヘイズを有し、更に、高いハードコート性、特に鉛筆硬度、スチールウール等に対する耐擦傷性を著しく向上できる。

上記金属粒子を構成する金属としては特に限定されず、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ等の単独、或いはこれら金属の合金が挙げられる。また、上記金属酸化物粒子を構成する金属酸化物としては特に限定されず、例えば、酸化錫（ＳｎＯ_２）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_５）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等が挙げられる。

帯電防止剤の含有量としては、特に限定されないが、樹脂層用組成物の重合性化合物１００質量部に対して１質量部以上５０質量部以下であることが好ましい。１質量部以上であれば、上述した帯電防止性を充分に得ることができ、５０質量部以下であればヘイズ値が小さく、全光線透過率が良好な高透明の膜を得ることができる。上記帯電防止剤の含有量の下限は、１０質量部以上であることがより好ましく、上限は４０質量部以下であることがより好ましい。

樹脂層１２は、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、および／または防汚剤をさらに含んでいてもよい。

＜紫外線吸収剤＞
光学フィルムは、折り畳み可能なスマートフォンやタブレット端末のようなモバイル端末に特に好適に用いられるが、このようなモバイル端末は屋外で使用されることが多く、そのため、光学フィルムより表示素子側に配置された偏光子が紫外線に晒されて劣化しやすいという問題がある。しかしながら、樹脂層１２は、偏光子の観察者側に配置されるため、樹脂層１２に紫外線吸収剤が含有されていると、偏光子が紫外線に晒されることによる劣化を好適に防止することができる。なお、上記紫外線吸収剤（ＵＶＡ）は、樹脂層１２ではなく、樹脂基材１１に含有されていてもよい。

紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、及び、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等が挙げられる。

上記トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、および２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。市販されているトリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ４６０、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７（いずれも、ＢＡＳＦ社製）、ＬＡ−４６（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。

上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸及びその三水塩、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム等が挙げられる。市販されているベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、ＣＨＭＡＳＳＯＲＢ８１／ＦＬ（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。

上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネート、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−〔５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、及び、２−（２’−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等が挙げられる。市販されているベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、ＫＥＭＩＳＯＲＢ７１Ｄ、ＫＥＭＩＳＯＲＢ７９（いずれも、ケミプロ化成社製）、ＪＦ−８０、ＪＡＳＴ−５００（いずれも、城北化学社製）、ＵＬＳ−１９３３Ｄ（一方社製）、ＲＵＶＡ−９３（大塚化学社製）等が挙げられる。

紫外線吸収剤は、なかでも、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好適に用いられる。紫外線吸収剤は、樹脂層を構成する樹脂成分との溶解性が高いほうが好ましく、また、上述した連続折り畳み試験後のブリードアウトが少ないほうが好ましい。紫外線吸収剤は、ポリマー化又はオリゴマー化されていることが好ましい。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾフェノン骨格を有するポリマー又はオリゴマーが好ましく、具体的には、ベンゾトリアゾールやベンゾフェノン骨格を有する（メタ）アクリレートと、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）とを任意の比率で熱共重合したものであることが好ましい。なお、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置に光学フィルムを適用する場合、紫外線吸収剤は、ＯＬＥＤを紫外線から保護する役割も果たすことができる。

紫外線吸収剤の含有量としては特に限定されないが、樹脂層用組成物の固形分１００質量部に対して１質量部以上６質量部以下であることが好ましい。１質量部以上であれば、上述した紫外線吸収剤を樹脂層に含有させる効果を充分に得ることができ、６質量部以下であれば、樹脂層に著しい着色や強度低下が生じることもない。上記紫外線吸収剤の含有量の下限は２質量部以上であることがより好ましく、上限は５質量部以下であることがより好ましい。

＜分光透過率調整剤＞
分光透過率調整剤は、光学フィルムの分光透過率を調整するものである。樹脂層１２に、例えば、下記一般式（２２）で表されるセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含ませた場合には、上述した分光透過率を好適に満たすことができる。

式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は炭素数１〜６の直鎖状又は枝分かれ鎖状のアルキレン基又は炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のオキシアルキレン基を表す。

上記のセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体としては特に制限されないが、具体的な物質名としては、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］エチルメタクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］エチルアクリレート、３−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］プロピルメタクリレート、３−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］プロピルアクリレート、４−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］ブチルメタクリレート、４−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］ブチルアクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、４−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］ブチルメタクリレート、４−［３−{ ２ −（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］ブチルアクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５カルボキシレート、２−（アクリロイルオキシ）エチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート、４−（メタクリロイルオキシ）ブチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート、４−（アクリロイルオキシ）ブチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート等を挙げることができる。また、これらセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は１種類で用いてもよいし、また２種類以上用いてもよい。

＜防汚剤＞
防汚剤としては、特に限定されず、例えば、シリコーン系防汚剤、フッ素系防汚剤、シリコーン系かつフッ素系防汚剤が挙げられ、それぞれ単独で使用してもよく、混合して使用してもよい。また、防汚剤としては、アクリル系防汚剤であってもよい。

防汚剤の含有量としては、上述した重合性化合物１００質量部に対して、０．０１〜３．０質量部であることが好ましい。０．０１質量部以上であれば、樹脂層に充分な防汚性能を付与でき、また、３．０質量部以下であれば、樹脂層の硬度が低下するおそれもない。

防汚剤は、重量平均分子量が５０００以下であることが好ましく、防汚性能の耐久性を改善するために、反応性官能基を好ましくは１以上、より好ましくは２以上有する化合物である。なかでも、２以上の反応性官能基を有する防汚剤を用いることにより、優れた耐擦傷性を付与することができる。

防汚剤が反応性官能基を有さない場合、光学フィルムがロール状の場合でも、シート状の場合でも、重ねたときに光学フィルムの裏面に防汚剤が転移してしまい、光学フィルムの裏面に他の層を貼り付けまたは塗布しようとすると、他の層の剥がれ発生することがあり、更に、複数回の連続折り畳み試験を行うことで容易に剥がれる場合がある。

更に、上記反応性官能基を有する防汚剤は、防汚性能の性能持続性（耐久性）が良好となり、なかでも、上述したフッ素系防汚剤を含む樹脂層は、指紋が付きにくく（目立ちにくく）、拭き取り性も良好である。更に、樹脂層用組成物の塗工時の表面張力を下げることができるので、レベリング性がよく、形成する樹脂層の外観が良好なものとなる。

シリコーン系防汚剤を含む樹脂層は、滑り性がよく、耐スチールウール性が良好である。樹脂層にこのようなシリコーン系防汚剤を含む光学フィルムを搭載したタッチセンサは、指やペンなどで接触したときの滑りがよくなるため、触感がよくなる。また、樹脂層に指紋も付きにくく（目立ちにくく）、拭き取り性も良好となる。更に、樹脂層用組成物の塗工時の表面張力を下げることができるので、レベリング性がよく、形成する樹脂層の外観が良好なものとなる。

シリコーン系防汚剤の市販品としては、例えば、ＳＵＡ１９００Ｌ１０（新中村化学社製）、ＳＵＡ１９００Ｌ６（新中村化学社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ１３６０（ダイセルサイテック社製）、ＵＴ３９７１（日本合成社製）、ＢＹＫＵＶ３５００（ビックケミー社製）、ＢＹＫＵＶ３５１０（ビックケミー社製）、ＢＹＫＵＶ３５７０（ビックケミー社製）、Ｘ２２−１６４Ｅ、Ｘ２２−１７４ＢＸ、Ｘ２２−２４２６、ＫＢＭ５０３．ＫＢＭ５１０３（信越化学社製）、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２２５０、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２３００．ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２２００Ｎ、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２０１０、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２５００、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２６００、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２７００（エボニックジャパン社製）、メガファックＲＳ８５４（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。

フッ素系防汚剤の市販品としては、例えば、オプツールＤＡＣ、オプツールＤＳＸ（ダイキン工業社製）、メガファックＲＳ７１、メガファックＲＳ７４（ＤＩＣ社製）、ＬＩＮＣ１５２ＥＰＡ、ＬＩＮＣ１５１ＥＰＡ、ＬＩＮＣ１８２ＵＡ（共栄社化学社製）、フタージェント６５０Ａ、フタージェント６０１ＡＤ、フタージェント６０２等が挙げられる。

フッ素系かつシリコーン系で反応性官能基を有する防汚剤の市販品としては、例えば、メガファックＲＳ８５１、メガファックＲＳ８５２、メガファックＲＳ８５３、メガファックＲＳ８５４（ＤＩＣ社製）、オプスターＴＵ２２２５、オプスターＴＵ２２２４（ＪＳＲ社製）、Ｘ７１−１２０３Ｍ（信越化学社製）等が挙げられる。

＜＜第１の光学調整層＞＞
光学調整層１３は、光学フィルム１０の光透過率を向上させるための層である。光学調整層１３の屈折率は、光学フィルム１０の光透過率を向上させる観点から、空気の屈折率である１．０００より高く、かつ樹脂基材１１の屈折率よりも低くなっている。光学調整層１３の屈折率は、上記樹脂層１２の屈折率と同様の方法によって測定することができるので、ここでは説明を省略するものとする。

樹脂基材１１と光学調整層１３との屈折率差（樹脂基材の屈折率−第１の光学調整層の屈折率）は、０．００５以上０．７００以下であることが好ましい。この屈折率差が、０．００５以上であれば、光学フィルム１０の光透過率を向上させることができ、また０．７００以下であれば、光学フィルム１０の透明性を損なわない。この屈折率差の下限は、０．００１以上であることがより好ましく、上限は０．６００以下であることがより好ましい。光学調整層１３の屈折率は、０．０５０以上０．５００以下であってもよい。

光学調整層１３の膜厚は、３０ｎｍ以上１μｍ以下となっていることが好ましい。光学調整層１３の膜厚が、３０ｎｍ以上であれば、光学フィルム１０の光透過率をより向上させることができ、また１μｍ以下であれば、加工性の悪化を抑制できる。光学調整層１３の膜厚は、樹脂層１２と同様の方法によって求めることができる。光学調整層１３の下限は５０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は７００ｎｍ以下であることがより好ましく、５００ｎｍ以下がさらに好ましい。

光学調整層１３の構成は、屈折率が、１．０００より高く、かつ樹脂基材１１の屈折率よりも低い層であれば、特に限定されない。光学調整層１３は、樹脂から構成することが可能である。光学調整層１３は、樹脂の他、さらに屈折率を低下させるために、この樹脂よりも低い屈折率を有する低屈折率粒子を含んでいてもよい。また、光学調整層１３は、帯電防止性を得るために、帯電防止剤を含んでいてもよい。光学調整層１３が、帯電防止剤を含んでいる場合、光学調整層１３は、帯電防止層としても機能する。さらに、光学調整層１３は、光学フィルム１０の色味を調整するために、上記分光透過率調整剤等の色味調整剤を含んでいてもよい。

＜樹脂＞
樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、およびＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂であることが好ましい。これらの中でも、樹脂基材１１との密着性の観点から、（メタ）アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂等が好ましい。

上記（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。また、上記セルロース系樹脂としては、例えば、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）等が挙げられる。上記ウレタン系樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂等が挙げられる。

上記塩化ビニル系樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。また、上記ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。また、上記ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。

＜低屈折率粒子＞
低屈折率粒子としては、例えば、シリカ、またはフッ化マグネシウムからなる中実または中空粒子等が挙げられる。これらの中でも、中空シリカ粒子が好ましく、このような中空シリカ粒子は、例えば、特開２００５−０９９７７８号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。

低屈折率粒子の平均粒子径（平均一次粒子径）は、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率粒子の平均粒径が上記範囲内であれば、光学調整層１３の透明性を損なうことがなく、良好な粒子の分散状態が得られる。低屈折率粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した光学調整層１３の断面の画像から２０個の低屈折率粒子の粒子径を測定し、２０個の低屈折率粒子の粒子径の算術平均値とする。低屈折率粒子の平均粒子径の下限は１０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は８０ｎｍ以下がより好ましく、７０ｎｍ以下がさらに好ましい。

低屈折率粒子としては、表面に反応基を有するシリカ粒子（反応性シリカ粒子）を用いることが好ましく、反応性中空シリカ粒子が特に好ましい。このような表面に反応基を有するシリカ粒子は、シランカップリング剤等によってシリカ粒子を表面処理することによって作成することができる。シリカ粒子の表面をシランカップリング剤で処理する方法としては、シリカ粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、シリカ粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。

＜帯電防止剤＞
光学調整層１３に含有させる帯電防止剤としては、樹脂層１２の欄で説明した帯電防止剤と同様のものを用いることができるので、ここでは説明を省略するものとする。

＜＜第２の光学調整層＞＞
光学調整層１４は、干渉縞の発生を抑制するための層である。光学調整層１４の屈折率は、干渉縞の発生を抑制する観点から、樹脂基材１１の屈折率よりも低く、かつ樹脂層１２の屈折率よりも高いことが好ましい。光学調整層１４の屈折率は、樹脂層１２の屈折率と同様の方法によって測定することができるので、ここでは説明を省略するものとする。

光学調整層１４と樹脂層１２との屈折率差（光学調整層の屈折率−樹脂層の屈折率）は、０．００５以上０．１００以下であることが好ましい。この屈折率差が、０．００５以上であれば、光学調整層１４と樹脂層１２における界面反射は生じるが干渉縞が視認できないレベルにすることができ、また０．１００以下であれば、干渉縞は若干確認されるが、実使用上問題ないレベルにすることができる。この屈折率差の下限は、０．００７以上であることがより好ましく、上限は０．０９０以下であることがより好ましい。光学調整層１４の屈折率は、０．０１０以上０．０８０以下であってもよい。

光学調整層１４の膜厚は、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。光学調整層１４の膜厚が、３０ｎｍ以上であれば、樹脂層１２と光学調整層１４の充分な密着性を確保でき、また２００ｎｍ以下であれば、干渉縞をより抑制することができる。光学調整層１４の膜厚は、樹脂層１２の膜厚と同様の方法によって求めるものとする。光学調整層１４の下限は５０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。

光学調整層１４は、樹脂のみから構成されていてもよいが、バインダ樹脂および屈折率を調整するための粒子を含んでいることが好ましい。光学調整層１４のバインダ樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、およびＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂であることが好ましい。光学調整層１４の粒子は、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率粒子、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子、コバルトブルー等の無機顔料等からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。これらの中でも、密着性と屈折率差調整の観点から、ポリエステル系樹脂と、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子との組み合わせがより好ましい。

＜＜第３の光学調整層＞＞
光学調整層１５は、主に干渉縞を発生させずに樹脂基材１１と光学調整層１４との間の密着性を向上させるための層である。樹脂基材１１と光学調整層１４の間に光学調整層１５を設けることにより、樹脂基材１１と光学調整層１４が直接接している場合よりも、密着性を向上させることができる。

光学調整層１５の屈折率は、干渉縞の観点から、樹脂基材１１の屈折率よりも低く、かつ光学調整層１４の屈折率よりも高いことが好ましい。光学調整層１５の屈折率は樹脂層１２の屈折率と同様の方法によって測定することができるので、ここでは説明省略するものとする。

光学調整層１５と光学調整層１４との屈折率差（第３の光学調整層の屈折率−第２の光学調整層の屈折率）は、０．００５以上０．１００以下であることが好ましい。この屈折率差が、０．００５以上であれば、光学調整層１５と光学調整層１４における界面反射は生じるが干渉縞が視認できないレベルにすることができ、また０．１００以下であれば、干渉縞は若干確認されるが、実使用上問題ないレベルにすることができる。この屈折率差の下限は、０．００７以上であることがより好ましく、上限は０．０９０以下であることがより好ましい。光学調整層１３の屈折率は、０．０１０以上０．０８０以下であってもよい。

光学調整層１５の膜厚は、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。光学調整層１５の膜厚が、３０ｎｍ以上であれば、光学調整層１４と光学調整層１５および樹脂基材１１と光学調整層１５の充分な密着性を確保でき、また２００ｎｍ以下であれば、光学調整層１５と光学調整層１４との屈折率差に起因して、干渉縞が発生することもない。光学調整層１５の膜厚は、樹脂層１２と同様の方法によって求めるものとする。光学調整層１５の下限は５０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。

光学調整層１５は、樹脂のみから構成されていてもよいが、バインダ樹脂および屈折率を調整するための粒子を含んでいることが好ましい。光学調整層１５の樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、およびＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂であることが好ましい。光学調整層１５の粒子は、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率粒子、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子、コバルトブルー等の無機顔料等からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。これらの中でも、密着性と屈折率差調整の観点から、ポリエステル系樹脂と、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子との組み合わせがより好ましい。

＜＜光学フィルムの製造方法＞＞
光学フィルム１０は、例えば、以下のようにして作製することができる。まず、樹脂基材１１の一方の面１１Ａ上に、バーコーター等の塗布装置によって、光学調整層１５を形成するための第３の光学調整層用組成物を塗布して、第３の光学調整層用組成物の塗膜を形成する。

＜第３の光学調整層用組成物＞
第３の光学調整層用組成物は、バインダ樹脂前駆体、金属酸化物等の粒子および溶剤を含んでいる。本明細書における「バインダ樹脂前駆体」とは、溶剤を除去することによって、または熱や電離放射線で硬化させることによって、バインダ樹脂となる成分である。バインダ樹脂前駆体としては、溶剤乾燥型樹脂および熱や電離放射線で硬化する重合性化合物が挙げられる。本明細書における電離放射線としては、可視光線、並びに紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線が挙げられる。第３の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率粒子、コバルトブルー等の無機顔料、レベリング剤、および重合開始剤の少なくともいずれかを含んでいてもよい。また、バインダ樹脂前駆体として、ポリエステル系樹脂を用いた場合には、第２の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂からなる群より選択される１種以上の樹脂を含んでいてもよい。

第３の光学調整層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば４０℃以上２００℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させて、または硬化させて、樹脂基材１１に隣接した光学調整層１５を形成する。

次いで、光学調整層１５上に、バーコーター等の塗布装置によって、光学調整層１４を形成するための第２の光学調整層用組成物を塗布して、第２の光学調整層用組成物の塗膜を形成する。

＜第２の光学調整層用組成物＞
第２の光学調整層用組成物は、バインダ樹脂前駆体、金属酸化物等の粒子および溶剤を含んでいる。第２の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率粒子、コバルトブルー等の無機顔料、レベリング剤、および重合開始剤の少なくともいずれかを含んでいてもよい。また、バインダ樹脂前駆体として、ポリエステル系樹脂を用いた場合には、第２の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂からなる群より選択される１種以上の樹脂を含んでいてもよい。

第２の光学調整層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば４０℃以上２００℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させて、または硬化させて、光学調整層１４を形成する。

光学調整層１４を形成した後、光学調整層１４上に、バーコーター等の塗布装置によって、樹脂層１２を形成するための樹脂層用組成物を塗布して、樹脂層用組成物の塗膜を形成する。

＜樹脂層用組成物＞
樹脂層用組成物は、硬化後バインダ樹脂となる重合性化合物を含んでいる。樹脂層用組成物は、その他、必要に応じて、帯電防止剤、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、防汚剤、無機粒子、レベリング剤、溶媒、重合開始剤を含んでいてもよい。

（溶媒）
上記溶媒としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール、ジアセトンアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジアセトンアルコール）、エステル（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、蟻酸メチル、ＰＧＭＥＡ）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、カーボネート（炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル）、等が挙げられる。これらの溶媒、単独で用いられてもよく、２種類以上が併用されてもよい。なかでも、上記溶媒としては、ウレタン（メタ）アクリレート等の成分、並びに、他の添加剤を溶解或いは分散させ、樹脂層用組成物を好適に塗工できる点で、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンが好ましい。

（重合開始剤）
重合開始剤は、電離放射線照射より分解されて、ラジカルを発生して重合性化合物の重合（架橋）を開始または進行させる成分である。

重合開始剤は、電離放射線照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。

樹脂層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させる。

塗膜を乾燥させた後、塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、塗膜を硬化させる。これにより、光学調整層１４に隣接した樹脂層１２が形成される。

樹脂層１２を形成した後、樹脂基材１１の他方の面１１Ｂに、バーコーター等の塗布装置によって、光学調整層１３を形成するための第１の光学調整層用組成物を塗布して、第１の光学調整層用組成物の塗膜を形成する。

＜第１の光学調整層用組成物＞
第１の光学調整層用組成物は、樹脂前駆体および溶剤を含んでいる。第１の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、低屈折率粒子、帯電防止剤、コバルトブルー等の無機顔料、レベリング剤、および重合開始剤の少なくともいずれかを含んでいてもよい。また、樹脂前駆体として、ポリエステル系樹脂を用いた場合には、第１の光学調整層用組成物は、その他、必要に応じて、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂からなる群より選択される１種以上の樹脂を含んでいてもよい。溶剤は、樹脂層用組成物の欄で説明した溶剤と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。

第１の光学調整層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば４０℃以上２００℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させて、または硬化させて、光学調整層１３を形成する。これにより、図１に示される光学フィルム１０が得られる。

＜＜＜他の光学フィルム＞＞＞
光学フィルムは、図４に示される光学フィルム３０であってもよい。図４に示される光学フィルム３０も、画像表示装置に用いられるものであり、折り畳み可能となっている。

光学フィルム３０は、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の一方の面１１Ａ側に設けられた樹脂層１２と、樹脂基材１１の一方の面１１Ａとは反対側の面である他方の面１１Ｂに設けられた光学調整層１３と、樹脂基材１１と樹脂層１２の間に設けられ、樹脂層１２に隣接した光学調整層１４とを備えるものである。なお、図４に示される光学フィルム３０は、光学調整層１５は設けられておらず、光学調整層１４は樹脂層１２および樹脂基材１１に隣接している。光学フィルム３０の物性等は光学フィルム１０の物性等と同様であるので、ここでは、説明を省略するものとする。光学フィルム３０の表面３０Ａは、樹脂層１２の表面１２Ａとなっており、光学フィルム３０の裏面３０Ｂは、光学調整層１３における樹脂基材１１側の面とは反対側の面１３Ａとなっている。

＜＜＜画像表示装置＞＞＞
光学フィルム１０、３０は、折り畳み可能な画像表示装置に組み込んで使用することが可能である。図５は、本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。図５に示されるように、画像表示装置４０は、観察者側に向けて、主に、電池等が収納された筐体４１、保護フィルム４２、表示素子４３、タッチセンサ４４、円偏光板４５、および光学フィルム１０がこの順で積層されている。表示素子４３とタッチセンサ４４との間、タッチセンサ４４と円偏光板４５との間、円偏光板４５と光学フィルム１０との間には、光透過性を有する粘着層４６が配置されており、これら部材は粘着層４６によって互いに固定されている。なお、粘着層４６は、表示素子４３とタッチセンサ４４との間、タッチセンサ４４と円偏光板４５との間、円偏光板４５と光学フィルム１０との間に配置されているが、粘着層の配置箇所は、カバーフィルムと表示パネルとの間であれば、特に限定されない。

光学フィルム１０は、樹脂層１２が光学調整層１３よりも観察者側となるように配置されている。画像表示装置４０においては、光学フィルム１０の表面１０Ａ（樹脂層１２の表面１２Ａ）が、画像表示装置４０の表面４０Ａを構成している。

画像表示装置４０においては、表示素子４３は、有機発光ダイオード等を含む有機発光ダイオード素子となっている。タッチセンサ４４は、円偏光板４５よりも表示素子４３側に配置されているが、円偏光板４５と光学フィルム１０との間に配置されていてもよい。また、タッチセンサ４４は、オンセル方式やインセル方式であってもよい。粘着層４６としては、例えば、ＯＣＡ(Optical Clear Adhesive)を用いることができる。

光学フィルムの裏面が樹脂基材となっている場合、樹脂基材は空気層と接することになるので、樹脂基材と空気層との界面で反射が生じ、これにより光透過率が低下してしまうおそれがある。特に樹脂基材として、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材を用いた場合には、これらの樹脂基材の屈折率は比較的高いので、界面反射が生じやすい。これに対し、本実施形態においては、樹脂基材として、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材１１を用いているが、樹脂基材１１の他方の面１１Ｂに屈折率が１．０００より高く、かつ樹脂基材１１の屈折率よりも低い光学調整層１３を設けているので、樹脂基材が空気層と接しているときと比べて、界面反射を低減させることができ、光反射率を低下させることができる。これにより、光学フィルム１０、３０の光透過率を向上させることができる。

上記したように樹脂基材として、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材を用いた場合には、これらの樹脂基材の屈折率は比較的高いので、樹脂基材と樹脂層の屈折率差が大きい。このため、樹脂基材と樹脂層との屈折率差に起因して、虹色状のムラである干渉縞が発生するおそれがある。ここで、干渉縞の発生を抑制するためには、樹脂層の膜厚を厚くするという方法もあるが、樹脂層の膜厚を厚くすると、折り畳み時に樹脂層が割れてしまうおそれがあるので、この方法は採用できない。これに対し、本実施形態においては、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材１１を用いているが、樹脂基材１１と樹脂層１２の間に、樹脂層１２に隣接した光学調整層１５を設けているので、折り畳み可能でありながら、干渉縞の発生を抑制することができる。

光学調整層１３が帯電防止剤を含んでいる場合には、光学フィルム１０、３０は、樹脂基材１１の一方の面１１Ａ側に帯電防止ハードコート層である樹脂層１２を備えており、また樹脂基材１１の他方の面１１Ｂ側に帯電防止剤を含む光学調整層１５を備えているので、光学フィルム１０、３０に埃等が付着することが抑制できる。また、この場合には、光学フィルム１０、３０の両面に保護フィルム（図示せず）を貼り付けた状態で、光学フィルム１０、３０から保護フィルムを剥離したとしても、光学フィルム１０、３０の帯電を抑制できる。これにより、画像表示装置の組立工程の歩留まりを向上させることができる。

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。なお、下記の「固形分１００％換算値」とは、溶剤希釈品中の固形分を１００％としたときの値である。

＜光学調整層用組成物の調製＞
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、光学調整層用組成物を得た。
（光学調整層用組成物１）
・第４級アンモニウム基塩含有帯電防止剤（製品名「１ＳＸ−３０００」、大成ファインケミカル社製）：１００質量部（固形分１００％換算値）
・重合開始剤（製品名「イルガキュア（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１５０質量部

（光学調整層用組成物２）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−３２００」、東洋紡社製）：８５質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：１５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部

（光学調整層用組成物３）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−１７００」、東洋紡社製）：７０質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：３０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部

（光学調整層用組成物４）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−３２００」、東洋紡社製）：８０質量部（固形分１００％換算値）
・コバルトブルー（平均粒子径４０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：２０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部

（光学調整層用組成物５）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−３２００」、東洋紡社製）：７０質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：１５質量部（固形分１００％換算値）
・コバルトブルー（平均粒子径４０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：１５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部

（光学調整層用組成物６）
・ポリオレフィン系樹脂（製品名「Ｐ−９０１」、三井化学社製）：７０質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：３０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部

（光学調整層用組成物７）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−１７００」、東洋紡社製）：３５質量部（固形分１００％換算値）
・酸化ジルコニウム（平均粒子径２０ｎｍ、ＣＩＫナノテック社製）：６５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部

＜ハードコート層用組成物＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物を得た。
（ハードコート層用組成物１）
・ウレタン系樹脂（製品名「Ｕ−６ＬＰＡ」、新中村化学社製）：７０質量部
・ウレタン系樹脂（製品名「ＵＶ２７５０Ｂ」、日本合成化学社製）：２０質量部
・第４級アンモニウム基塩含有帯電防止剤（製品名「１ＳＸ−３０００」、大成ファインケミカル社製）：１０質量部（固形換算）
・重合開始剤（製品名「イルガキュア（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・紫外線吸収剤（製品名「ＴＩＮＵＶＩＮ４７７」、ＢＡＳＦ社製）：５質量部（固形分１００％換算値）
・防汚剤（製品名「ＢＹＫＵＶ３５００」、ビックケミー社製）：１．５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１５０質量部

＜実施例１＞
樹脂基材として、屈折率１．６３０および厚さ３０μｍのポリイミド系基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学社製）を準備し、ポリイミド系基材の一方の面に、バーコーターで光学調整層用組成物３を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃で１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、屈折率１．５６２および膜厚１００ｎｍの第３の光学調整層を形成した。第３の光学調整層を形成した後、第３の光学調整層の表面に、バーコーターで光学調整層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃で１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、屈折率１．５４４および膜厚１００ｎｍの第２の光学調整層を形成した。第２の光学調整層を形成した後、第２の光学調整層の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させて、屈折率１．５３１および膜厚１０μｍのハードコート層を形成した。次いで、ポリイミド系基材における前記一方の面とは反対側の面である他方の面に、バーコーターで光学調整層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、屈折率１．５３６および膜厚１００ｎｍの第１の光学調整層を形成した。これにより、第１の光学調整層、ポリイミド系基材、第３の光学調整層、第２の光学調整層、およびハードコート層がこの順で積層された光学フィルムを得た。なお、実施例１に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、裏面は第１の光学調整層の表面であった。

ポリイミド系基材の屈折率は、以下のようにして求められた。まず、ハードコート層や光学調整層が形成されていない状態で５ｃｍ×１０ｃｍの大きさにポリイミド系基材を切り出し、サンプルを得た。そして、このサンプルにおいて、ポリイミド系基材の一方の面に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼り付けた。そして、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製）に接続した大形試料室（製品名「ＭＰＣ−３１００」、島津製作所社製）内に絶対鏡面反射測定装置（製品名「ＡＳＲ３１０５」、島津製作所社製）を設置し、絶対鏡面反射測定装置のサンプルホルダに上記サンプルを取り付け、０．５ｎｍ間隔で波長３８０〜７８０ｎｍの鏡面反射光（５°反射）の絶対反射率を測定し、得られた絶対反射率の平均値を用いて上記式（Ａ）に基づいてポリイミド系基材の屈折率を求めた。また、ポリイミド系基材の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、ポリイミド系基材の断面を撮影し、その断面の画像においてポリイミド系基材の厚みをそれぞれ２０箇所測定し、その２０箇所の厚みの算術平均値とした。実施例２〜１３および比較例１〜４においても、実施例１と同様の手法によってポリイミド系基材等の樹脂基材の屈折率および膜厚を測定した。

ハードコート層の屈折率は、以下のようにして求められた。まず、易接着処理が施されていない厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上にハードコート層用組成物を塗布し、硬化させて膜厚１〜１０μｍのハードコート層を形成した後、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出して、サンプルを得た。そして、サンプルにおいて、ＰＥＴ基材におけるハードコート層が形成されていない面（裏面）に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼り付けた。次いで、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製）に接続した大形試料室（製品名「ＭＰＣ−３１００」、島津製作所社製）内に絶対鏡面反射測定装置（製品名「ＡＳＲ３１０５」、島津製作所社製）を設置し、絶対鏡面反射測定装置のサンプルホルダに上記サンプルを取り付け、０．５ｎｍ間隔で波長３８０〜７８０ｎｍの鏡面反射光（５°反射）の絶対反射率を測定し、得られた絶対反射率の平均値を用いて上記式（Ｂ）に基づいてハードコート層の屈折率を求めた。また、光学調整層の屈折率も、ハードコート層の屈折率と同様にして、求められた。また、各層の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、各層の断面を撮影し、その断面の画像において各層の膜厚をそれぞれ２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とした。実施例２〜１３および比較例１〜４においても、実施例１と同様の手法によって各層の屈折率および膜厚を測定した。

なお、上記においては、ポリイミド系基材等の屈折率を、波長３８０〜７８０ｎｍの平均反射率を用いて求めているが、ＪＩＳ Ｋ７１４２：２００８のＢ法に準拠したベッケ法によっても、同等の屈折率となるので、ベッケ法によってポリイミド系基材等の屈折率を求めてもよい。ポリイミド系基材の屈折率を、ベッケ法を用いて求める場合、ポリイミド系基材の欠片を１０個切り出し、切り出した１０個の欠片において、波長５８９ｎｍのナトリウムＤ線および屈折率標準液を用いて、欠片の屈折率をそれぞれ測定し、測定した欠片の屈折率の１０個の平均値をポリイミド系基材の屈折率とする。ハードコート層や光学調整層の屈折率を、ベッケ法を用いて求める場合も、上記ベッケ法によるポリイミド系基材の屈折率の求め方と同様の方法によって求めるものとする。

＜実施例２＞
実施例２においては、第１の光学調整層の膜厚を１μｍ（１０００ｎｍ）としたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。

＜実施例３＞
実施例３においては、第２の光学調整層の膜厚を２００ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。

＜実施例４＞
実施例４においては、第３の光学調整層の膜厚を２００ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。

＜実施例５＞
実施例３においては、光学調整層用組成物１に代わりに光学調整層用組成物４を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。なお、光学調整層用組成物４を用いて形成した第１の光学調整層の屈折率は１．５４１であった。

＜実施例６＞
実施例６においては、光学調整層用組成物２に代わりに光学調整層用組成物５を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。なお、光学調整層用組成物５を用いて形成した第２の光学調整層の屈折率は１．５４７であった。

＜実施例７＞
実施例７においては、光学調整層用組成物３に代わりに光学調整層用組成物６を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。なお、光学調整層用組成物６を用いて形成した第３の光学調整層の屈折率は１．５６３であった。

＜実施例８＞
樹脂基材として、屈折率１．６３０および厚さ３０μｍのポリイミド系基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学社製）を準備し、ポリイミド系基材の一方の面に、バーコーターで光学調整層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、ポリイミド系基材に隣接した屈折率１．５４４および膜厚１００ｎｍの第２の光学調整層を形成した。第２の光学調整層を形成した後、第２の光学調整層の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させて、屈折率１．５３１および膜厚１０μｍのハードコート層を形成した。次いで、ポリイミド系基材における前記一方の面とは反対側の面である他方の面に、バーコーターで光学調整層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、屈折率１．５３６および膜厚１００ｎｍの第１の光学調整層を形成した。これにより、第１の光学調整層、ポリイミド系基材、第２の光学調整層、およびハードコート層がこの順で積層された光学フィルムを得た。なお、実施例８に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、裏面は第１の光学調整層の表面であった。

＜実施例９＞
実施例９においては、ハードコート層の膜厚を２０μｍにしたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。

＜実施例１０＞
実施例１０においては、ハードコート層の膜厚を４０μｍにしたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。

＜実施例１１＞
実施例１１においては、ポリイミド系基材の代わりに、屈折率１．６６２および厚さ３０μｍのポリアミドイミド系基材（製品名「ＴＨＤ−３０」、コーロン社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。

＜実施例１２＞
実施例１２においては、ポリイミド系基材の代わりに、屈折率１．７０１および厚さ３０μｍのポリアミド系基材（製品名「アラミド」、東レ社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。

＜実施例１３＞
実施例１３においては、ポリイミド系基材の代わりに、屈折率１．６５４および厚さ２３μｍのポリエステル系基材（製品名「Ｕ４０３」、東レ社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。

＜比較例１＞
樹脂基材として、屈折率１．６３０および厚さ３０μｍのポリイミド系基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学社製）を準備し、ポリイミド系基材の一方の面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させて、屈折率１．５３１および膜厚１０μｍのハードコート層を形成し、ポリイミド系基材にハードコート層が隣接した光学フィルムを得た。なお、比較例１に係る光学フィルムの表面はハードコート層の表面であり、裏面はポリイミド系基材の一方の面とは反対側の面であった。

＜比較例２＞
比較例２においては、ハードコート層の膜厚を５０μｍにしたこと以外は、比較例１と同様にして、光学フィルムを得た。

＜比較例３＞
比較例３においては、第１の光学調整層を設けなかったこと以外は、実施例８と同様にして、光学フィルムを得た。

＜比較例４＞
比較例４においては、光学調整層用組成物１に代わりに光学調整層用組成物７を用いたこと以外は、実施例８と同様にして、光学フィルムを得た。なお、光学調整層用組成物７を用いて形成した第１の光学調整層の屈折率は１．６４７であった。

＜全光線透過率測定＞
実施例および比較例に係る光学フィルムについて、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７３６１に従って全光線透過率を測定した。全光線透過率を測定する際には５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの裏面側から光を照射し、また全光線透過率は３回測定して得られた値の算術平均値とした。

＜干渉縞評価＞
実施例および比較例に係る光学フィルムにおいて、干渉縞が観察されるか評価した。具体的には、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの裏面に透明粘着剤を介して、裏面反射を防止するための黒色アクリル板を貼り、光学フィルムの表面側から各光学フィルムに光を照射し、干渉縞が確認されるか目視で観察した。光源としては、三波長管蛍光灯を使用した。干渉縞の発生を以下の基準により評価した。
○：干渉縞は確認されなかった、または干渉縞は若干確認されたが、実使用上問題ないレベルであった。
×：干渉縞が明確に確認された。

＜連続折り畳み性および密着性＞
実施例および比較例に係る光学フィルムを、３０ｍｍ×１００ｍｍの長方形にカットして作製したサンプルを、耐久試験機（製品名「ＤＬＤＭＬＨ−ＦＳ」、ユアサシステム機器社製）に、サンプルの短辺（３０ｍｍ）側を固定部でそれぞれ固定し、図２（Ｃ）に示したように対向する２つの辺部の最小の間隔が１０ｍｍとなるようにして取り付け、サンプルの表面側を１８０°折り畳む連続折り畳み試験（ハードコート層が内側となり、第１の光学調整層または基材が外側となるように折り畳む試験）を１万回行い、基材とハードコート層との間に浮き（隙間）が生じていないか調べるとともに、屈曲部に割れ又は破断が生じていないか調べた。連続折り畳み試験の結果を、連続折り畳み性および密着性に分けて、以下の基準で評価した。
（連続折り畳み性）
○：連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が生じていなかった。
×：連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が生じていた。
（密着性）
○：連続折り畳み試験において、基材とハードコート層の間に浮きが生じていなかった。
△：連続折り畳み試験において、基材とハードコート層の間に浮きが若干生じていたが、実使用上問題ないレベルであった。
×：連続折り畳み試験において、基材とハードコート層の間に明らかに浮きが生じていた。

＜鉛筆硬度＞
実施例および比較例に係る光学フィルムの表面における鉛筆硬度を、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４：１９９９に基づいてそれぞれ測定した。鉛筆硬度の測定の際には、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムをガラス板上に折れやシワがないようニチバン社製のセロテープ（登録商標）で固定した状態で、鉛筆に７５０ｇの荷重をかけながら、鉛筆を速度１ｍｍ／秒で移動させた。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上蛍光灯下で光学フィルムの表面を透過観察した際に光学フィルムの表面に傷が視認されなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断する。

＜剥離帯電防止性＞
実施例および比較例に係る光学フィルムの表面および裏面に保護フィルムを貼り合わせて、光学フィルムの表面から保護フィルムを剥離させたときの剥離帯電量を測定して、剥離帯電量の大きさを評価した。具体的には、光学フィルムの表面に粘着層付き保護フィルム（製品名「ＳＡＴ２０３８Ｔ−ＪＳＬ」、サンエー化研社製）を貼り合わせて、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、光学フィルムの表面および裏面から剥離速度３００ｍｍ／分で保護フィルムを１８０°剥離したときの光学フィルムの表面の電位を、静電気測定器（製品名「ＫＳＤ−０１０３」、春日電機社製）を用いて、表面より５０ｍｍの距離から測定し、剥離帯電量を測定した。剥離帯電量は、光学フィルムの両面において、それぞれ１０回測定し、１０回測定した剥離帯電量の算術平均値とした。評価基準は以下の通りとした。
○：光学フィルムの表面における剥離帯電量がいずれも−１０ｋＶ〜１０ｋＶの範囲内であった。
×：光学フィルムの表面における剥離帯電量のいずれかが±１０ｋＶを超えていた。

＜飽和帯電圧＞
実施例および比較例に係る光学フィルムの表面における飽和帯電圧をそれぞれ測定した。具体的には、２３℃、相対湿度５０％の環境下で、光学フィルムの表面より５０ｍｍの距離から１０ｋＶの電圧を印加し、帯電電荷減衰度測定器（製品名「Ｈ−０１１０」、シシド静電気社製）を用いて、１０ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの表面の飽和耐電圧を測定した。飽和帯電圧は、３回測定して得られた値の算術平均値とした。

＜表面抵抗値＞
実施例および比較例に係る光学フィルムにおいて、抵抗率計（製品名「ハイレスタ−ＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０」、三菱化学アナリテック社製、プローブ：ＵＲＳ）を用いて、表面の抵抗値を測定した。表面抵抗値は、５ｃｍ×５ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの表面の表面抵抗値をランダムにそれぞれ１０箇所測定し、測定した１０箇所の表面抵抗値の算術平均値とした。なお、光学フィルムとしては、上記耐久性試験前の光学フィルムを用いた。

＜イエローインデックス（ＹＩ）＞
実施例および比較例に係る光学フィルムにおいて、イエローインデックスをそれぞれ測定した。具体的には、光学フィルムのイエローインデックスは、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、島津製作所社製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）を用いて、５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した光学フィルムの裏面側から波長２００ｎｍ〜７８０ｎｍの光を照射し、光学フィルムを透過する波長２００ｎｍ〜７８０ｎｍの光から測定した。イエローインデックスは、測定された値からＪＩＳ Ｚ８７２２：２００９に記載された演算式に従って色度三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを計算し、三刺激値Ｘ、Ｙ、ＺからＡＳＴＭ Ｄ１９２５：１９６２に記載された演算式に従って算出した。イエローインデックスは、３回測定して得られた値の算術平均値とした。

以下、結果を表１および表２に示す。

以下、結果について述べる。実施例１〜１３に係る光学フィルムにおいては、各種樹脂基材の他方の面に第１の光学調整層が設けられていたので、ポリイミド系基材の他方の面に第１の光学調整層が設けられていない比較例１〜３に係る光学フィルムまたはポリイミド系基材の他方の面に第１の光学調整層が設けられているが、屈折率がポリイミド系基材の屈折率よりも高い比較例４よりも、全光線透過率が高かった。

比較例２に係る光学フィルムにおいては、ハードコート層の膜厚が厚かったので、干渉縞の発生が抑制されたが、連続折り畳み性に劣っていた。これに対し、実施例１〜１３に係る光学フィルムにおいては、各種基材とハードコート層との間に、ハードコート層に隣接する第２の光学調整層が設けられていたので、干渉縞の発生が抑制され、かつ連続折り畳み性にも優れていた。

また、実施例１および１０に係る光学フィルムにおいて、３０ｍｍ×１００ｍｍの長方形にカットして作製したサンプルの短辺（３０ｍｍ）側を、サンプルの対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように平行に配置された固定部にそれぞれ固定し、光学フィルムを折り畳んだ状態で、７０℃で１２時間静置する折り畳み静置試験を行った。そして、折り畳み静置試験後に片方の辺部から固定部を外すことによって、折り畳み状態を開放して、室温で３０分後に光学フィルムが自然に開く角度である開き角（図３（Ｂ）参照）を測定したところ、実施例１に係る光学フィルムの開き角は１００°以上であり、実施例１０に係る光学フィルムの開き角よりも大きかった。なお、開き角としては、ハードコート層が内側となるように折り畳む場合と、ハードコート層が外側となるように折り畳む場合との両方で折り畳み静置試験をし、角度が小さい方を採用した。

また、実施例１〜１３に係る光学フィルムに係る光学フィルムのハードコート層のマルテンス硬度を用いて測定したところ、ハードコート層のマルテンス硬度は６５０ＭＰａであった。マルテンス硬度は、ＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて、以下の測定条件で、ハードコート層の断面中央においてそれぞれＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子（三角錐）を５００ｎｍ押し込み、一定保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐ_ｍａｘ（μＮ）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ^２）とを用い、Ｐ_ｍａｘ／Ａにより算出した。マルテンス硬度は、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とした。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２５℃

１０、３０…光学フィルム
１０Ａ、１２Ａ…表面
１１…樹脂基材
１１Ａ…一方の面
１１Ｂ…他方の面
１２…樹脂層
１３…第１の光学調整層
１４…第２の光学調整層
１５…第３の光学調整層
４０…画像表示装置
４３…表示素子

Claims (8)

1. 画像表示装置に用いられる折り畳み可能な光学フィルムであって、
   ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される１種以上の樹脂からなる樹脂基材と、
   前記樹脂基材の一方の面側に設けられた樹脂層と、
   前記樹脂基材における前記一方の面とは反対側の面である他方の面に設けられ、かつ屈折率が、１．０００より高く、かつ前記樹脂基材の屈折率よりも低い第１の光学調整層と、
   を備える、光学フィルム。
2. 前記第１の光学調整層の膜厚が、３０ｎｍ以上１μｍ以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記樹脂基材と前記樹脂層の間に設けられ、かつ前記樹脂層に隣接した第２の光学調整層をさらに備える、請求項１に記載の光学フィルム。
4. 前記第２の光学調整層の膜厚が、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、請求項３に記載の光学フィルム。
5. 前記光学フィルムのイエローインデックスが、１５以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
6. 前記光学フィルムにおいて、前記樹脂層が内側となり、かつ前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が１０ｍｍとなるように１８０°折り畳む試験を１万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じない、請求項１に記載の光学フィルム。
7. 表示素子と、
   前記表示素子よりも観察者側に配置された請求項１に記載の光学フィルムと、
   を備える、折り畳み可能な画像表示装置。
8. 前記表示素子が、有機発光ダイオード素子である、請求項７に記載の画像表示装置。

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