JP2018174272A - Organic EL element and organic EL light source - Google Patents
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Abstract
【課題】電圧耐性が大きく、大きな電流を流すことが可能な有機EL素子を提供する。【解決手段】有機EL層16と、有機EL層の下面側に接する半導体層13と、有機EL層に流れる電流を制御する電流制御手段とを含み、有機EL層は、発光層161を含み、発光層は、有機半導体を含み、半導体層は、第一の半導体層131と第二の半導体層132とを含み、電流制御手段は、ゲート電極11と、ゲート絶縁膜12と、ソース電極14と、ドレイン電極15とを含み、半導体層は、一方がn型であり、他方がp型であり、ソース電極が、半導体層の下面側に接しており、ドレイン電極が、有機EL層の上面側に接しており、第一の半導体層が、無機半導体を含む半導体層である場合、ゲート電極への印加により、反転層133が形成され、第一の半導体層が、有機半導体を含む場合、第一の半導体層の型とは異なる型の第三の半導体層を形成する。【選択図】図1An object of the present invention is to provide an organic EL element that has high voltage resistance and allows a large amount of current to flow. An organic EL layer (16), a semiconductor layer (13) in contact with the lower surface side of the organic EL layer, and current control means for controlling current flowing through the organic EL layer, the organic EL layer including a light emitting layer (161), The light-emitting layer includes an organic semiconductor, the semiconductor layer includes a first semiconductor layer 131 and a second semiconductor layer 132, and the current control means includes a gate electrode 11, a gate insulating film 12, and a source electrode 14. , and a drain electrode 15, one of the semiconductor layers is n-type and the other is p-type, the source electrode is in contact with the lower surface side of the semiconductor layer, and the drain electrode is in contact with the upper surface side of the organic EL layer. When the first semiconductor layer is a semiconductor layer containing an inorganic semiconductor, application to the gate electrode forms an inversion layer 133, and when the first semiconductor layer contains an organic semiconductor, the second A third semiconductor layer of a type different from the type of the one semiconductor layer is formed. [Selection drawing] Fig. 1
Description
本発明は、有機EL素子および有機EL光源に関する。 The present invention relates to an organic EL element and an organic EL light source.
有機EL素子は、有機EL表示装置、通信装置、照明等への応用が期待されている。有機EL表示装置において、有機EL素子に要求される輝度は、例えば、500cd/m2程度である。しかし、照明や可視光通信向けの用途では、例えば、3000cd/m2以上の高輝度が必要となる。 The organic EL element is expected to be applied to an organic EL display device, a communication device, illumination, and the like. In the organic EL display device, the luminance required for the organic EL element is, for example, about 500 cd / m 2 . However, high brightness of 3000 cd / m 2 or more is required for applications such as illumination and visible light communication.
有機EL素子の輝度を向上させる方法として、例えば、有機EL素子を駆動する電流を大きくすることが考えられる。しかし、一般的な有機EL素子は、例えば、電流を増加させると、発光時に熱が発生し、前記熱により、有機EL素子が劣化したり破壊する可能性がある。 As a method for improving the luminance of the organic EL element, for example, increasing the current for driving the organic EL element can be considered. However, in a general organic EL element, for example, when the current is increased, heat is generated at the time of light emission, and the organic EL element may be deteriorated or destroyed by the heat.
このように、一般的な有機EL素子は、電圧耐性が低く、素子の短絡・破壊につながることから、電流密度を上げることができず、単位面積当たりの輝度を向上させることが困難である。そこで、発光層の面積を大きくすることにより、輝度を上げることが試みられている。しかし、発光層の面積を大きくすると、電極の配線抵抗が大きくなることにより、電圧降下が起きる。有機EL素子は電界注入型であるため、電圧降下により輝度ムラが生じるという問題がある。 As described above, a general organic EL element has low voltage resistance and leads to a short circuit / breakage of the element. Therefore, the current density cannot be increased, and it is difficult to improve the luminance per unit area. Therefore, attempts have been made to increase the luminance by increasing the area of the light emitting layer. However, when the area of the light emitting layer is increased, a voltage drop occurs due to an increase in the wiring resistance of the electrode. Since the organic EL element is an electric field injection type, there is a problem that luminance unevenness occurs due to a voltage drop.
このため、電圧耐性が大きく、大きな電流を流すことができる構造の有機EL素子が求められている。 For this reason, there is a demand for an organic EL element having a large voltage tolerance and a structure capable of flowing a large current.
大きな電流を流すことができる構造の有機EL素子として、ゲート電極、ソース電極、およびゲート電極の3端子、絶縁体層、ならびに有機半導体層を含む有機薄膜発光トランジスタが開示されている(特許文献1)。前記有機薄膜発光トランジスタは、ソース−ドレイン間の電流を利用して有機半導体層を発光させ、ゲート電極に電圧を印加することにより、前記発光を制御することができる。 As an organic EL element having a structure capable of flowing a large current, an organic thin film light-emitting transistor including a gate electrode, a source electrode, three terminals of the gate electrode, an insulator layer, and an organic semiconductor layer is disclosed (Patent Document 1). ). The organic thin film light emitting transistor can control the light emission by causing the organic semiconductor layer to emit light using a source-drain current and applying a voltage to the gate electrode.
本発明は、より電圧耐性が大きく、大きな電流を流すことができる構造の有機EL素子を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an organic EL device having a structure that has a higher voltage tolerance and can flow a large current.
前記目的を達成するために、本発明の有機EL素子は、
基板と、有機EL層と、前記有機EL層の下面側に接する半導体層と、前記有機EL層に流れる電流を制御する電流制御手段とを含み、
前記有機EL層は、発光層を含み、
前記発光層は、有機半導体を含み、
前記半導体層は、第一の半導体層と第二の半導体層とを含み、
前記電流制御手段は、ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、ソース電極と、ドレイン電極とを含み、
前記第一の半導体層および前記第二の半導体層は、一方がn型半導体層であり、他方がp型半導体層であり、
前記ソース電極が、前記半導体層の下面側に接しており、前記ドレイン電極が、前記有機EL層の上面側に接しており、
前記第一の半導体層が、前記ソース電極を覆うようにして形成され、
前記ゲート電極が、前記ゲート絶縁膜を介して、前記ソース電極、および前記第一の半導体層に接しており、
前記第一の半導体層が、無機半導体を含む半導体層である場合、前記ゲート電極への印加により、前記第一の半導体層において反転層が形成され、
前記第一の半導体層が、有機半導体を含む半導体層である場合、前記第一の半導体層は、第三の半導体層を含み、前記第三の半導体層は、前記第一の半導体層の型とは異なる型の半導体層である
ことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the organic EL device of the present invention comprises:
A substrate, an organic EL layer, a semiconductor layer in contact with the lower surface side of the organic EL layer, and current control means for controlling a current flowing through the organic EL layer,
The organic EL layer includes a light emitting layer,
The light emitting layer includes an organic semiconductor,
The semiconductor layer includes a first semiconductor layer and a second semiconductor layer,
The current control means includes a gate electrode, a gate insulating film, a source electrode, and a drain electrode,
One of the first semiconductor layer and the second semiconductor layer is an n-type semiconductor layer, and the other is a p-type semiconductor layer,
The source electrode is in contact with the lower surface side of the semiconductor layer, the drain electrode is in contact with the upper surface side of the organic EL layer,
The first semiconductor layer is formed so as to cover the source electrode;
The gate electrode is in contact with the source electrode and the first semiconductor layer through the gate insulating film;
When the first semiconductor layer is a semiconductor layer containing an inorganic semiconductor, an inversion layer is formed in the first semiconductor layer by application to the gate electrode,
When the first semiconductor layer is a semiconductor layer including an organic semiconductor, the first semiconductor layer includes a third semiconductor layer, and the third semiconductor layer is a type of the first semiconductor layer. It is characterized by being a semiconductor layer of a different type.
本発明の有機EL光源は、前記本発明の有機EL素子を含むことを特徴とする。 The organic EL light source of the present invention includes the organic EL element of the present invention.
本発明によれば、より電圧耐性が大きく、大きな電流を流すことができることにより、例えば、高輝度の発光が可能な有機EL素子を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an organic EL element capable of emitting light with high luminance, for example, by having a higher voltage tolerance and allowing a large current to flow.
本発明の有機EL素子は、例えば、前記ゲート電極が、前記ゲート絶縁膜を介して、さらに、前記第二の半導体層に接している。 In the organic EL element of the present invention, for example, the gate electrode is further in contact with the second semiconductor layer through the gate insulating film.
本発明の有機EL素子は、例えば、前記基板上に、前記ゲート電極、前記ゲート絶縁膜、前記半導体層、および前記有機EL層が、前記順序で積層されている。 In the organic EL element of the present invention, for example, the gate electrode, the gate insulating film, the semiconductor layer, and the organic EL layer are stacked in the above order on the substrate.
本発明の有機EL素子は、例えば、前記ゲート電極、前記ソース電極、および前記ドレイン電極からなる群から選択される少なくとも一つが、透明電極である。 In the organic EL device of the present invention, for example, at least one selected from the group consisting of the gate electrode, the source electrode, and the drain electrode is a transparent electrode.
本発明の有機EL素子は、例えば、前記有機EL層が、さらに、電子注入層を含む。 In the organic EL element of the present invention, for example, the organic EL layer further includes an electron injection layer.
本発明の有機EL素子は、例えば、前記ゲート電極が、平面方向に延びる構造である。 The organic EL element of the present invention has, for example, a structure in which the gate electrode extends in the planar direction.
本発明の有機EL素子は、例えば、前記ゲート電極が、平面方向に対して垂直に延びる構造である。 The organic EL element of the present invention has, for example, a structure in which the gate electrode extends perpendicular to the planar direction.
本発明の有機EL素子は、例えば、前記ゲート電極が、上面からみて、丸い形状である。 In the organic EL device of the present invention, for example, the gate electrode has a round shape when viewed from above.
本発明の有機EL素子は、例えば、前記電流制御手段が、複数の前記ゲート電極を含み、前記発光層が、前記複数のゲート電極に対応する複数の色を発光する。 In the organic EL element of the present invention, for example, the current control unit includes a plurality of the gate electrodes, and the light emitting layer emits a plurality of colors corresponding to the plurality of gate electrodes.
つぎに、本発明の実施形態について、図を用いて説明する。本発明は、下記の実施形態によって何ら限定および制限されない。なお、以下の図面において、同一部分には、同一符号を付している。各実施形態における説明は、それぞれ、互いを援用できる。また、図面においては、説明の便宜上、各部の構造は適宜簡略化して示す部分があり、各部の寸法比等は、実際とは異なり、模式的に示す場合がある。 Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The present invention is not limited or restricted by the following embodiments. In the following drawings, the same parts are denoted by the same reference numerals. The description in each embodiment can mutually use each other. Further, in the drawings, for convenience of explanation, there is a portion where the structure of each portion is simplified as appropriate, and the dimensional ratio of each portion may be schematically shown, unlike the actual case.
(実施形態1)
図1は、本実施形態における有機EL素子の断面図(模式図)である。図1に示すように、本実施形態の有機EL素子1は、基板10と、ゲート電極11と、ゲート絶縁膜12と、半導体層13と、ソース電極14と、ドレイン電極15と、有機EL層16とを含み、基板10上に、ゲート電極11、ゲート絶縁膜12、半導体層13、および有機EL層16が、前記順序で積層されている。本実施形態において、ソース電極14は、半導体層13の下面側に接して配置され、ドレイン電極15は、有機EL層16の上面側に接して配置されている。半導体層13は、n型半導体層(第一の半導体層)131とp型半導体層(第二の半導体層)132とを含み、n型半導体層131が、ソース電極14を覆うようにして形成され、その上に、p型半導体層132が形成されている。本実施形態において、n型半導体層131は、無機半導体によって形成されている。この場合、後述するように、n型半導体層131において、ゲート電極11への電圧印加により、反転層133が形成される。また、本実施形態において、有機EL層16は、発光層161、および電子注入層162を含む。発光層161は、有機半導体を含む。本実施形態において、電子注入層162は、任意の構成であり、有機EL素子1に含まれてもよいし、含まれなくてもよい。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional view (schematic diagram) of an organic EL element in the present embodiment. As shown in FIG. 1, the
本発明において、上下方向とは、基板10に対する各部材の積層方向であり、基板10側が下方向であり、基板10と反対側が上方向である。また、上面とは、有機EL素子における、上方向の面をいう。
In the present invention, the vertical direction is a stacking direction of each member with respect to the
実施形態1において、半導体層13は、n型半導体層131とp型半導体層132とを含み、n型半導体層131が、ソース電極14を覆うようにして形成され、その上に、p型半導体層132が形成されているが、本発明は、これには限定されず、n型半導体層とp型半導体層とが逆の構成であってもよい。この場合、有機EL素子1の極性が逆となる。以下の説明において、有機EL素子1についての記載は、n型半導体層とp型半導体層とが逆の構成である場合についても、同様とすることができる。
In the first embodiment, the
有機EL素子1において、ゲート電極11、ゲート絶縁膜12、半導体層13、ソース電極14、およびドレイン電極15の材料は、特に制限されず、公知の材料を用いることができる。
In the
ゲート電極11を形成する材料としては、例えば、Al−Nd、Au、Ag、Cu、Mo−Nb、Ta、Cr、およびこれらの合金、ならびにITO、IGZO、IZO、およびSnO2等があげられる。ソース電極14およびドレイン電極15を形成する材料としては、例えば、Al−Nd、Au、Ag、Cu、Al、Mo−Nb、およびこれらの合金、ならびにITO、IGZO、IZO、およびSnO2等があげられる。ゲート電極11、ソース電極14およびドレイン電極15は、例えば、有機EL素子1から光を取り出すため、これらのうち少なくとも1つが、透明導電膜により形成されることが好ましい。前記透明導電膜の材料としては、例えば、ITOがあげられる。ゲート電極11、ソース電極14およびドレイン電極15は、例えば、それぞれ、積層膜であってもよい。前記積層膜は、例えば、前記材料を、電極およびバリアメタルのクラッド構造とすることにより形成できる。
Examples of the material for forming the
ゲート絶縁膜12を形成する材料は、例えば、無機系の材料として、SiO2、Si3N4、SiON、Al2O3、Ta2O5があげられる。また、前記無機系の材料により形成された膜に対し、例えば、表面エネルギーを下げるため、および、移動度を向上させるため、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)処理等のシランカップリング処理を行ってもよい。ゲート絶縁膜12を形成する材料は、例えば、有機系の材料として、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ノボラック系樹脂があげられる。
Examples of the material for forming the
有機EL素子1において、半導体層13は、n型半導体層131とp型半導体層132とを含む。n型半導体層およびp型半導体層が、有機半導体によって形成される場合、n型半導体層を形成する材料は、例えば、低分子n型半導体として、フラーレンC60、フラーレンC70等のフラーレンとその誘導体類、N,N'-ジメチル-3,4,9,10-ペリレンテトラカルボン酸ジイミド、N,N'-ジ-n-オクチル-3,4,9,10-ペリレンテトラカルボン酸ジイミド、N,N′-ジオクチル-3,4,9,10-ペリレンジカルボキシルジイミド(PTCDI)等のイミド類、銅(II)1,2,3,4,8,9,10,11,15,16,17,18,22,23,24,25-ヘキサデカフルオロフタロシアニン、ナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物等のテトラカルボン酸類、3,4,9,10-ペリレンテトラカルボン酸二無水物、テトラシアノキノジメタン(TCNQ)等があげられる。また、n型半導体層を形成する材料は、例えば、高分子を用いた有機半導体として、ポリチオフェン類やポリフルオレン類等があげられる。また、p型半導体層を形成する材料は、例えば、低分子p型半導体として、ペンタセン、5,6,11,12-テトラフェニルナフタセン(ルブレン)、2,3-ベンゾアントラセン(テトラセン)、2,6-ジフェニルアントラセン等のアセン類、ジナフト[3,2-b:2’,3’-f]チエノ[3,2-b]チオフェン(DNTT)、2,7-ジフェニル[1]ベンゾチエノ[3,2-b][1]ベンゾチオフェン(DPh-BTBT)、フェナントロ[1,2-b:8,7-b']ジチオフェン、ベンゾ[a]クリセン等のヘテロアセン類、2,5-ビス(4-ビフェニルイル)チオフェン、2,8-ジメチルアントラ[2,3-b:7,6-b']ジチオフェン(DMADT)等のチオフェン類およびオリゴチオフェン類、フタロシアニン、銅フタロシアニン等のポルフィリン類、4,7-ジ(2-チエニル)-2,1,3-ベンゾチアジアゾール等のベンゾチアゾール類、ならびにビス(エチレンジチオ)テトラチアフルバレン(TTF)等があげられる。
In the
n型半導体層およびp型半導体層が、無機半導体によって形成される場合、n型半導体層を形成する材料は、例えば、ボロンなどのnドープシリコンを用いることができる。p型半導体層を形成する材料は、例えば、リンやヒ素などのpドープシリコンを用いることができる。n型半導体層およびp型半導体層は、上記の材料の他、IGZO等の金属酸化物半導体を用いて形成することもできる。 In the case where the n-type semiconductor layer and the p-type semiconductor layer are formed of an inorganic semiconductor, for example, n-doped silicon such as boron can be used as a material for forming the n-type semiconductor layer. As a material for forming the p-type semiconductor layer, for example, p-doped silicon such as phosphorus or arsenic can be used. The n-type semiconductor layer and the p-type semiconductor layer can be formed using a metal oxide semiconductor such as IGZO in addition to the above materials.
有機EL素子1において、n型半導体層131が、無機半導体によって形成されている場合、例えば、ゲート電圧により、n型半導体層131中にpチャネルとなる反転層が形成され、チャネルに流れる正孔を制御するpチャネルトランジスタとなる。
In the
有機EL素子1において、発光層161は、例えば、正孔輸送性および電子輸送性のいずれであってもよい。発光層161の材料は、特に制限されず、公知の材料を用いることができる。発光層161が、正孔輸送性である場合、発光層161を形成する材料としては、例えば、ジベンゾクリセン誘導体(DBC)、ビス−スチリルベンゼン誘導体(BSB)等があげられる。また、発光層161は、ホストとドーパントの二成分系により形成されてもよく、4,4’−ビス(m−トリルフェニルアミノ)ビフェニル(TPD)、ビス(ジ(p−トリル)アミノフェニル)−1,1−シクロヘキサン、N,N’−ジフェニル−N−N−ビス(1−ナフチル)−1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(α−NPD)等のトリフェニルジアミン誘導体をホストに、ルブレン、およびBTXをドーパントに用いたもの、ならびに4,4’−ビスカルバゾリルビフェニル(CBP)、4,4’−ビス(9−カルバゾリル)−2,2’−ジメチルビフェニル(CDBP)等のカルバゾール誘導体をホストに、白金錯体、トリス−(2−フェニルピリジン)イリジウム錯体(Ir(ppy)3)、(ビス(4,6−ジフルオロフェニル)−ピリジネート−N,C2’)ピコリネートイリジウム錯体(FIr(pic))、(ビス(2−(2’−ベンゾ4,5−αチエニル)ピリジネート−N,C2’)アセチルアセトネート)イリジウム錯体(Btp2Ir(acac))、Ir(pic)3、Bt2Ir(acac)等のイリジウム錯体をドーパントに用いたものがあげられる。発光層161が、電子輸送性である場合、発光層161を形成する材料としては、例えば、アルミキノリノール錯体(Alq3)、4-メチル-8-ヒドロキシキノリン(Almq)、ベリリウムキノリノール錯体(BeBq2)、ヒドロキキシフェニルオキサゾール(ZnPBO)、ヒドロキキシフェニルチアゾール(ZnPBT)4,4'−ビス(2,2-ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)等があげられる。また、発光層161は、ホストとドーパントの二成分系により形成されてもよく、Alq3等のキノリノール金属錯体をホストに、4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン(DCM)、DCJTB、2,3−キナクリドン等のキナクリドン誘導体、3−(2' −ベンゾチアゾール)−7−ジエチルアミノクマリン等のクマリン誘導体、ペリレン等の縮合多環芳香族をドーパントに用いたもの、および4,4'−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニルをホストに、ペリレン、ジスチリルアリーレン誘導体をドーパントに用いたものがあげられる。
In the
電子注入層162の材料は、特に制限されず、公知の材料を用いることができる。電子注入層162は、例えば、仕事関数の小さい材料により形成されることが好ましく、電子注入層162を形成する材料としては、例えば、リチウムおよびセシウム等のアルカリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金属のフッ化物や酸化物、ならびに、マグネシウム銀、リチウムアルミニウム合金等があげられる。
The material of the
有機EL層16は、例えば、電子輸送層、正孔注入層、および正孔輸送層を含んでもよい。前記電子輸送層、正孔注入層、および正孔輸送層の材料は、特に制限されず、公知の材料を用いることができる。電子輸送層を形成する材料としては、例えば、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(Bu−PBD)、2,9‐ジメチル‐4,7‐ジフェニル‐1,10‐フェナントロリン(BCP)、1,3−ビス(p−t−ブチルフェニル−1,3,4−オキサジアゾールイル)フェニル(OXD−7)等のオキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、キノリノール系の金属錯体、トリフェニルジアミン誘導体等があげられる。前記正孔注入層の材料としては、例えば、銅フタロシアニン(Cu−Pc)、m−MTDATA、2−TNATA、およびTCTA等のスターバースト型芳香族アミン等のアリールアミン誘導体、スピロ−TAD、2,3,6,7,10,11−ヘキサシアノ−1,4,5,8,9,12−ヘキサアザトリフェニレン(HAT-CN)、ならびに、正孔注入性有機材料に五酸化バナジウムや三酸化モリブデン等を化学ドーピングしたもの等があげられる。正孔輸送層の材料としては、例えば、ビス(ジ(p−トリル)アミノフェニル)−1,1−シクロヘキサン、N,N’−ジフェニル−N−N−ビス(1−ナフチル)−1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(α−NPD)、4,4'−ビス(m−トリルフェニルアミノ)ビフェニル(TPD)、TAPC等のトリフェニルジアミン類、トリフェニルアミンをさらに多量化したTPTR、TPTE、NTPA、スターバースト型芳香族アミン等があげられる。有機EL層16において、電子注入層、電子輸送層、正孔注入層、および正孔輸送層の積層位置は、例えば、有機EL素子1の極性に基づき、適宜設定することができる。
The
有機EL素子1において、基板10を形成する材料としては、例えば、ガラス、または可撓性(フレキシブル)を有するフィルム等の透明基板があげられる。
In the
有機EL素子1の大きさは、特に制限されず、例えば、有機EL素子1における発光単位の大きさが、0.05〜1000mm、0.05〜500mm、0.05〜300mmである。発光単位とは、例えば、1つの発光素子を表し、光源として機能する最小単位を意味する。発光単位の大きさとは、例えば、発光単位の一辺、および直径である。有機EL素子1は、後述するように、例えば、小型化が可能であるため、例えば、発光単位の大きさを、0.5mm以下とすることができる。
The magnitude | size in particular of the
ゲート電極11、ゲート絶縁膜12、ソース電極14、およびドレイン電極15は、有機EL層16に流れる電流を制御する電流制御手段として機能する。このように、有機EL素子1は、素子内に、電流を制御し、且つ電流の入口と出口となる端子を有する。
The
有機EL素子1は、有機EL層16に対する正孔注入側から見た場合、pnpトランジスタとpn有機EL層で構成されている。すなわち、有機EL素子1は、有機EL層16への正孔注入側から見た場合、有機EL層16のpnダイオードを、pnpトランジスタ部で制御および駆動する素子となっている。以下の説明において、有機EL層16を、pnダイオード、半導体層13を、pnpトランジスタ部ということがある。有機EL素子1は、有機EL層16に対する電子注入側から見た場合、np有機ELとpnpトランジスタ部で構成されている。
The
ゲートに負電位を加えると、n型半導体層131のゲート絶縁膜12上にp型反転層(pチャネル)が形成され、ソース電極14とp型半導体層132との間が開通する。有機EL層16は、発光ダイオードとなっており、このダイオードを通して、ソース電極14とドレイン電極15との間は、導通(ON)の状態になる。このため、ソース電極14およびドレイン電極15は、それぞれ、アノードおよびカソードということもできる。ゲート電圧を切ることにより、チャネルがなくなり、非導通(OFF)の状態になる。
When a negative potential is applied to the gate, a p-type inversion layer (p-channel) is formed on the
有機EL素子1におけるpnpトランジスタ部は、ON状態において、p型半導体層132に向かって、ソース電極14およびn型半導体層131におけるpチャネルから正孔が注入され、同時に、発光層161に向かって、ドレイン電極15および電子注入層162から電子が注入され、発光層161でこれらが再結合し、発光する。
In the ON state, the pnp transistor portion in the
p型半導体層132は、ソース電極14から注入された正孔を輸送する。このため、p型半導体層132は、例えば、有機EL層16の正孔輸送層、および正孔注入層として機能することもできる。
The p-
このように、有機EL素子において、前記電流制御手段を含むことにより、有機EL層16に流れる電流を制御し、発光層16の発光を制御することができる。
Thus, in the organic EL element, by including the current control means, the current flowing through the
ソース電極14およびドレイン電極15は、有機EL層16および半導体層13を挟むように配置されているため、ソース電極14およびドレイン電極15の表面積が大きく、素子の広い領域で電子および正孔(キャリア)を流すことができるため、1素子あたりの電流密度を高くすることができる。また、ソース電極14およびドレイン電極15の間には、ほぼ一定の電圧降下が生じ、且つ、前記電圧降下の程度が小さい。このため、有機EL素子1は、一般的な、両極性(バイポーラ)の有機発光トランジスタ、および、ソース電極およびドレイン電極を同層に配置した横型のMOSFET構造の有機発光トランジスタと比較して、大電流になるほど、電力の損失を低減することができる。
Since the
また、従来の横型のMOSFET構造では、ピンチオフが発生し、そのため発光に影響を与えるのに対し、本発明の有機EL素子1は、ピンチオフを抑えることができ、発光への影響を小さくできる。
Further, in the conventional lateral MOSFET structure, pinch-off occurs, which affects the light emission. On the other hand, the
さらに、有機EL素子1は、ドレイン電極15から、電子が注入されことにより、有機半導体を含む発光層161の導電率が変調し、抵抗が低下する。このため、有機EL素子1は、発光層161に、正孔および電子の両キャリアを高密度で注入することができ、大きな電流を流すことができる。一方、従来のMOSFET構造の有機発光トランジスタは、キャリアがユニポーラであり、電流を大きくすることができない。このように、有機EL素子1は、従来の有機発光トランジスタと比較して、低抵抗(低ON抵抗)で大電流を流すことができるため、熱による劣化・破壊が少なく、耐電圧性、短絡耐性を高くすることができる。また、有機EL素子1は、低抵抗で大電流を流すことができるため、従来の有機発光トランジスタと比較して、高輝度・高光束を得ることができる。
Further, in the
このように、有機EL素子1は、従来の有機発光トランジスタと比較して、高輝度・高光束を得ることができるため、例えば、輝度を上げるために、面積を大きくする必要がなく、小型化が可能になる。
As described above, the
また、従来の縦型の有機発光トランジスタでは、絶縁抵抗が低いため、パンチスルーや熱による特性変化が大きいのに対し、本発明の有機EL素子1は四層構造であるため、例えば、これらを抑制することができる。
In addition, since the conventional vertical organic light-emitting transistor has a low insulation resistance, the characteristic change due to punch-through or heat is large, whereas the
さらに、有機EL素子1は、応答速度およびON/OFF速度について、一般的な有機発光トランジスタと比較して、高速な動作が期待できる。一般的な有機発光トランジスタは、キャリアの蓄積電荷が発生するため、ON/OFF時間の遅れが生じやすい。これに対し、有機EL素子1は、ソース電極14(アノード)からドレイン電極15(カソード)にかけて、pnpnの四層構造になっており、この中にpnpとnpnのトランジスタが1個ずつ含まれる構造になる。これにより、蓄積電荷を低減できるため、有機EL素子1は、より動作速度を早くすることができる。したがって、本発明の有機EL素子1は、例えば、光通信等、高い応答速度が求められる場合に好適である。
Furthermore, the
(変形例)
有機EL素子1におけるn型半導体層131は、有機半導体によって形成されていてもよい。この場合、図1の符号133で示す層は、n型半導体層131に含まれ、且つ、n型半導体層131とは別の材料により形成される、p型の有機半導体層(第三の半導体層)となる。この点を除いては、本変形例は、前記実施例1と同様であり、本変形例についての説明は、前記実施例1についての説明を援用できる。
(Modification)
The n-
n型半導体層131が、有機半導体によって形成されている場合、チャネルに流れるキャリアは、電極から注入された極性のキャリアとなる。すなわち、例えば、p型半導体にチャネルが形成される場合、ホール電流を制御するpチャネルトランジスタとなる。
In the case where the n-
前記p型半導体層を形成する有機材料としては、例えば、前述の材料があげられる。 Examples of the organic material for forming the p-type semiconductor layer include the materials described above.
n型半導体層131が、有機半導体によって形成されている場合、有機EL素子1は、さらに、n型半導体層131に接して、電荷発生層を含んでもよい。前記電荷発生層を形成する材料としては、例えば、フタロシアニン、酸化モリブデン(MoO3)、酸化バナジウム(V2O5)があげられる。
When the n-
本変形例においても、前述のように、有機EL素子1の極性が逆であってもよい。この場合、図1の符号131で示す層は、p型の有機半導体層であり、図1の符号133で示す層は、n型の有機半導体層となる。前記n型半導体層を形成する有機材料としては、例えば、前述の材料があげられる。
Also in this modification, the polarity of the
(実施形態2)
図2は、本実施形態における有機EL素子の断面図(模式図)である。図2に示すように、本実施形態の有機EL素子1は、基板10上にソース電極14が積層され、その上に、ゲート電極11が、ゲート絶縁膜12を介して形成されており、ゲート電極11が平面方向に延びる横型の構造となっている。n型半導体層131は、n型半導体層131のゲート絶縁膜上に形成されるp型反転層133に沿うように、ソース電極14を覆うようにして形成されている。前記点を除いては、実施形態1と同様である。有機EL素子1を、このように形成することによっても、実施形態1と同様の効果を得ることができる。
(Embodiment 2)
FIG. 2 is a cross-sectional view (schematic diagram) of the organic EL element in the present embodiment. As shown in FIG. 2, the
本実施形態の有機EL素子1は、ソース電極14およびドレイン電極15の表面積が大きいため、例えば、素子の広い領域でキャリアを流すことができる。このため、例えば、1素子あたりの電流密度をより大きくすることができる。また、ソース電極14とドレイン電極15とが対向している領域の面積が大きいため、例えば、広い領域で均一な電界を印加することができる。このように、本実施形態の有機EL素子1は、より大きく、安定した電流、および、より大きな発光面積が得られるため、高効率で高輝度の発光を得ることができる。また、より電力の損失を低減することができる。
In the
(実施形態3)
図3は、本実施形態における有機EL素子の断面図(模式図)および平面図である。図3(A)に示すように、本実施形態の有機EL素子1は、基板10上に、ソース電極14、半導体層13、および有機EL層16が、前記順序で積層されている。ゲート電極11は、基板10上に、ゲート絶縁膜12を介してソース電極14ならびにn型半導体層131およびp型半導体層132と接するように形成されており、ゲート電極11が平面方向に対して垂直に延びる縦型の構造となっている。前記点を除いては、実施形態1と同様である。
(Embodiment 3)
FIG. 3 is a cross-sectional view (schematic diagram) and a plan view of the organic EL element in the present embodiment. As shown in FIG. 3A, in the
このように、本実施形態の有機EL素子1は、ゲート電極11を縦型の構成とすることにより、基板10上に、より多くのゲート電極11を設けることができる。このため、単位面積あたりの発光単位の数を増やすことができ、より高輝度・高光束を得ることができる。
As described above, in the
ゲート電極11は、図3(B)に示すように、上面からみて、丸い形状であることが好ましい。このような構成とすることにより、基板10上に、より多くのゲート電極11を設けることができる。
As shown in FIG. 3B, the
(実施形態4)
図4は、本実施形態における有機EL素子の平面図である。図4に示すように、本実施形態の有機EL素子1は、1つの基板10に対し3つのゲート電極11が形成され、1つのユニットとなっている。そして、発光層16が、3つのゲート電極11に対応する、RGB(赤、緑、青)の各色を発光する。前記点を除いては、前記実施形態と同様である。図4において、ゲート電極11を前記縦型の構成としているが、本実施形態の有機EL素子1は、これには限定されず、ゲート電極11を前記横型の構成としてもよい。
(Embodiment 4)
FIG. 4 is a plan view of the organic EL element in the present embodiment. As shown in FIG. 4, the
各発光層16を各色に対応させる方法は、特に制限されず、例えば、発光層16を、公知の方法により塗り分けることができ、例えば、ステンシルマスクを用いて、RGB3色の発光層を分離形成する方法、有機EL発光層を白色とし、光を取り出す面側にカラーフィルタを用いて3色に分ける方法、有機EL発光層を青色とし、光を取り出す面側に色変換層(CCM)を用いて青から緑、青から赤へ変換し、3色に分ける方法等があげられる。
The method for causing each light emitting
各発光層16に対応させる色は、特に制限されず、例えば、RGB(赤、緑、青)のほか、RGBW(赤、緑、青、白)、BY(青、黄)、W(白)があげられる。
The color corresponding to each light emitting
1つのユニットに含まれる有機EL素子1の数は、特に制限されず、例えば、3〜6、2〜4、1である。
The number of the
有機EL素子1を、このような構成とすることにより、各色に対応するゲート電位で電流を調整することにより、有機EL素子1から得られる光の調色を行うことができる。
With the
(実施形態5)
本発明の有機EL光源は、有機EL素子1を含むことを特徴とする。本発明の有機EL光源は、例えば、有機EL素子(発光単位)を、透明基板上に複数並べた構成とすることができる。有機EL素子1は、大きな電流を流すことができるため、例えば、高輝度の有機EL光源を得ることができる。
(Embodiment 5)
The organic EL light source of the present invention includes an
図5は、本実施形態の有機EL光源の等価回路を示す図である。図5において、一例として、2×2単位の有機EL光源を示す。図5に示すように、ソース線(S(A))およびドレイン線(D(K))が、交互に配列されている。さらに、ソース線およびドレイン線は、ゲート線と交差するように配置されている。ここで、ソース線は信号・電源線であり、ゲート線はアドレス線である。有機EL素子は、それぞれ、ソース線、ドレイン線およびゲート線に接続されている。ゲート線は、アドレス選択回路に繋がっており、ソース線は、データ選択回路・電源走査回路に繋がっている。前記選択回路により、素子を選択し、発光させることができる。 FIG. 5 is a diagram showing an equivalent circuit of the organic EL light source of the present embodiment. In FIG. 5, an organic EL light source of 2 × 2 units is shown as an example. As shown in FIG. 5, source lines (S (A)) and drain lines (D (K)) are alternately arranged. Further, the source line and the drain line are arranged so as to intersect the gate line. Here, the source line is a signal / power supply line, and the gate line is an address line. Each organic EL element is connected to a source line, a drain line, and a gate line. The gate line is connected to the address selection circuit, and the source line is connected to the data selection circuit / power supply scanning circuit. By the selection circuit, an element can be selected to emit light.
(実施形態6)
本発明の有機EL照明装置は、本発明の有機EL光源を含むことを特徴とする。有機EL素子1は、大きな電流を流すことができるため、高輝度が必要とされる有機EL照明装置の用途にも、好適に使用することができる。また、有機EL素子1は、小型化が可能であることにより、単位面積あたりの発光単位を多くすることが可能となる。このような構成によれば、発光単位の面積を大きくした従来技術と比較して、電圧降下が小さいため、単位面積あたりの発光部の輝度が均一になり、有機EL照明装置の輝度ムラを抑えることができる。
(Embodiment 6)
The organic EL lighting device of the present invention includes the organic EL light source of the present invention. Since the
(実施形態7)
本発明の有機EL通信装置は、本発明の有機EL光源を含むことを特徴とする。有機EL素子1は、大きな電流を流すことができるため、高輝度が必要とされる有機EL通信装置の用途にも、好適に使用することができる。本発明の有機EL光源を、有機EL通信装置として用いる場合、例えば、光のON/OFFと二次元の映像信号を組み合わせてデータ信号とすることができるため、同時に大きなデータ量の信号を伝送することができる。
(Embodiment 7)
The organic EL communication device of the present invention includes the organic EL light source of the present invention. Since the
以上、実施形態を参照して本発明を説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細には、本発明のスコープ内で当業者が理解しうる様々な変更をできる。 The present invention has been described above with reference to the embodiments. However, the present invention is not limited to the above embodiments. Various changes that can be understood by those skilled in the art can be made to the configuration and details of the present invention within the scope of the present invention.
本発明の有機EL素子は、より電圧耐性が大きく、大きな電流を流すことができる。このため、例えば、本発明の有機EL素子は、有機EL表示装置、通信装置、照明等に、好適に使用できる。 The organic EL device of the present invention has higher voltage tolerance and can pass a large current. For this reason, for example, the organic EL element of this invention can be used conveniently for an organic EL display apparatus, a communication apparatus, illumination, etc.
上記の実施形態の一部または全部は、以下の付記のようにも記載しうるが、以下には限定されない。 A part or all of the above embodiment can be described as in the following supplementary notes, but is not limited to the following.
(付記1)
基板と、有機EL層と、前記有機EL層の下面側に接する半導体層と、前記有機EL層に流れる電流を制御する電流制御手段とを含み、
前記有機EL層は、発光層を含み、
前記発光層は、有機半導体を含み、
前記半導体層は、第一の半導体層と第二の半導体層とを含み、
前記電流制御手段は、ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、ソース電極と、ドレイン電極とを含み、
前記第一の半導体層および前記第二の半導体層は、一方がn型半導体層であり、他方がp型半導体層であり、
前記ソース電極が、前記半導体層の下面側に接しており、前記ドレイン電極が、前記有機EL層の上面側に接しており、
前記第一の半導体層が、前記ソース電極を覆うようにして形成され、
前記ゲート電極が、前記ゲート絶縁膜を介して、前記ソース電極、および前記第一の半導体層に接しており、
前記第一の半導体層が、無機半導体を含む半導体層である場合、前記ゲート電極への印加により、前記第一の半導体層において反転層が形成され、
前記第一の半導体層が、有機半導体を含む半導体層である場合、前記第一の半導体層は、第三の半導体層を含み、前記第三の半導体層は、前記第一の半導体層の型とは異なる型の半導体層であることを特徴とする有機EL素子。
(Appendix 1)
A substrate, an organic EL layer, a semiconductor layer in contact with the lower surface side of the organic EL layer, and current control means for controlling a current flowing through the organic EL layer,
The organic EL layer includes a light emitting layer,
The light emitting layer includes an organic semiconductor,
The semiconductor layer includes a first semiconductor layer and a second semiconductor layer,
The current control means includes a gate electrode, a gate insulating film, a source electrode, and a drain electrode,
One of the first semiconductor layer and the second semiconductor layer is an n-type semiconductor layer, and the other is a p-type semiconductor layer,
The source electrode is in contact with the lower surface side of the semiconductor layer, the drain electrode is in contact with the upper surface side of the organic EL layer,
The first semiconductor layer is formed so as to cover the source electrode;
The gate electrode is in contact with the source electrode and the first semiconductor layer through the gate insulating film;
When the first semiconductor layer is a semiconductor layer containing an inorganic semiconductor, an inversion layer is formed in the first semiconductor layer by application to the gate electrode,
When the first semiconductor layer is a semiconductor layer including an organic semiconductor, the first semiconductor layer includes a third semiconductor layer, and the third semiconductor layer is a type of the first semiconductor layer. An organic EL element characterized by being a semiconductor layer of a different type.
(付記2)
付記1記載の有機EL素子を含むことを特徴とする有機EL光源。
(Appendix 2)
An organic EL light source comprising the organic EL element according to
(付記3)
付記2記載の有機EL光源を含むことを特徴とする有機EL照明装置。
(Appendix 3)
An organic EL lighting device comprising the organic EL light source according to appendix 2.
(付記4)
付記2記載の有機EL光源を含むことを特徴とする有機EL通信装置。
(Appendix 4)
An organic EL communication device comprising the organic EL light source according to appendix 2.
1 有機EL素子
10 基板
11 ゲート電極
12 ゲート絶縁膜
13 半導体層
131 n型半導体層(第一の半導体層)
132 p型半導体層(第二の半導体層)
133 反転層(第三の半導体層)
14 ソース電極
15 ドレイン電極
16 有機EL層
161 発光層
162 電子注入層
DESCRIPTION OF
132 p-type semiconductor layer (second semiconductor layer)
133 Inversion layer (third semiconductor layer)
14
Claims (10)
前記有機EL層は、発光層を含み、
前記発光層は、有機半導体を含み、
前記半導体層は、第一の半導体層と第二の半導体層とを含み、
前記電流制御手段は、ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、ソース電極と、ドレイン電極とを含み、
前記第一の半導体層および前記第二の半導体層は、一方がn型半導体層であり、他方がp型半導体層であり、
前記ソース電極が、前記半導体層の下面側に接しており、前記ドレイン電極が、前記有機EL層の上面側に接しており、
前記第一の半導体層が、前記ソース電極を覆うようにして形成され、
前記ゲート電極が、前記ゲート絶縁膜を介して、前記ソース電極、および前記第一の半導体層に接しており、
前記第一の半導体層が、無機半導体を含む半導体層である場合、前記ゲート電極への印加により、前記第一の半導体層において反転層が形成され、
前記第一の半導体層が、有機半導体を含む半導体層である場合、前記第一の半導体層は、第三の半導体層を含み、前記第三の半導体層は、前記第一の半導体層の型とは異なる型の半導体層である
ことを特徴とする有機EL素子。 A substrate, an organic EL layer, a semiconductor layer in contact with the lower surface side of the organic EL layer, and current control means for controlling a current flowing through the organic EL layer,
The organic EL layer includes a light emitting layer,
The light emitting layer includes an organic semiconductor,
The semiconductor layer includes a first semiconductor layer and a second semiconductor layer,
The current control means includes a gate electrode, a gate insulating film, a source electrode, and a drain electrode,
One of the first semiconductor layer and the second semiconductor layer is an n-type semiconductor layer, and the other is a p-type semiconductor layer,
The source electrode is in contact with the lower surface side of the semiconductor layer, the drain electrode is in contact with the upper surface side of the organic EL layer,
The first semiconductor layer is formed so as to cover the source electrode;
The gate electrode is in contact with the source electrode and the first semiconductor layer through the gate insulating film;
When the first semiconductor layer is a semiconductor layer containing an inorganic semiconductor, an inversion layer is formed in the first semiconductor layer by application to the gate electrode,
When the first semiconductor layer is a semiconductor layer including an organic semiconductor, the first semiconductor layer includes a third semiconductor layer, and the third semiconductor layer is a type of the first semiconductor layer. An organic EL element characterized by being a semiconductor layer of a different type.
前記発光層が、前記複数のゲート電極に対応する複数の色を発光する、請求項1から8のいずれか一項に記載の有機EL素子。 The current control means includes a plurality of the gate electrodes,
The organic EL element according to claim 1, wherein the light emitting layer emits a plurality of colors corresponding to the plurality of gate electrodes.
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