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JP2018173545A - Varnish for optical alignment film and liquid crystal display - Google Patents

Varnish for optical alignment film and liquid crystal display Download PDF

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JP2018173545A JP2017071665A JP2017071665A JP2018173545A JP 2018173545 A JP2018173545 A JP 2018173545A JP 2017071665 A JP2017071665 A JP 2017071665A JP 2017071665 A JP2017071665 A JP 2017071665A JP 2018173545 A JP2018173545 A JP 2018173545A
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Abstract

【課題】 シール部との接着力を確保でき、しかも液晶表示装置の液晶の電圧保持率の低下並びに焼付きの発生を防止または抑制することができる光配向膜を形成するためのワニスを提供する。
【解決手段】 光配向膜用ワニスは、有機溶媒中に、アルコキシシランと、ポリアミド酸またはポリアミド酸エステルである第1ポリアミド酸系化合物とを含む。前記アルコキシシランは、第一級アミノ基および第二級アミノ基を含まない。
【選択図】なし
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a varnish for forming a photo-alignment film that can secure an adhesive force with a seal portion and can prevent or suppress the decrease in voltage holding ratio of liquid crystal and the occurrence of image sticking in a liquid crystal display device. .
A varnish for a photo-alignment film contains an alkoxysilane and a first polyamic acid compound that is a polyamic acid or a polyamic acid ester in an organic solvent. The alkoxysilane does not contain a primary amino group and a secondary amino group.
[Selection figure] None

Description

本発明は、光配向膜用ワニスおよび液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a varnish for a photoalignment film and a liquid crystal display device.

液晶表示装置は、対面して配置された2つの基板(第1基板および第2基板)を有する。第1基板は、第1領域と第2領域を有する一方、第2基板は、第1基板の第1領域に対向しているが、第1基板の第2領域には対向してはいない。すなわち、第1基板の第2領域は、第2基板の端縁よりも外側に延出している。第1基板の第1領域には、画素電極および薄膜トランジスタ等が設けられ、第2基板には、カラーフィルタ、遮光膜等が設けられている。第1基板の第2領域には、外部回路等が設けられている。   The liquid crystal display device has two substrates (a first substrate and a second substrate) arranged to face each other. The first substrate has a first region and a second region, while the second substrate faces the first region of the first substrate, but does not face the second region of the first substrate. That is, the second region of the first substrate extends outward from the edge of the second substrate. A pixel electrode, a thin film transistor, and the like are provided in the first region of the first substrate, and a color filter, a light shielding film, and the like are provided on the second substrate. An external circuit or the like is provided in the second region of the first substrate.

第1基板と第2基板とは、それらの間に一定のセルギャップを規定しており、第1基板の第1領域の周縁部と第2基板の周縁部とは、枠状に形成されたシール部により接着され、シール部の内側には液晶が封入されている。枠状のシール部は、第2基板に設けられた遮光膜によって覆われ、枠状のシール部と遮光膜とは、額縁領域を規定し、額縁領域は、その内側に画像表示領域を規定している。各基板の液晶側には、液晶を配向させるための配向膜が設けられている。   The first substrate and the second substrate define a certain cell gap therebetween, and the peripheral portion of the first region of the first substrate and the peripheral portion of the second substrate are formed in a frame shape. The liquid crystal is sealed inside the seal portion. The frame-shaped seal portion is covered with a light-shielding film provided on the second substrate. The frame-shaped seal portion and the light-shielding film define a frame region, and the frame region defines an image display region inside the frame region. ing. An alignment film for aligning liquid crystals is provided on the liquid crystal side of each substrate.

配向膜は、一般に、有機溶媒に溶かした前駆体有機化合物溶液(配向膜用ワニス)を基板上に塗布し、加熱して有機膜に変換し、有機膜に配向制御能を付与することによって、形成されている。従来、配向膜の周縁は、画像表示領域と額縁領域との境界部に止めて設けられていた。   The alignment film is generally obtained by applying a precursor organic compound solution (varnish for alignment film) dissolved in an organic solvent on a substrate, converting it to an organic film by heating, and imparting an alignment control ability to the organic film, Is formed. Conventionally, the peripheral edge of the alignment film is provided at the boundary between the image display area and the frame area.

有機膜に配向制御能を付与する方法として、ラビング処理に加えて、有機膜に非接触で配向制御能を付与する光配向処理が採用されている。光配向処理は、例えば、254nmから365nm領域の偏光紫外線を有機膜に照射して、有機膜の分子を偏光方向と平行する方向で切断することによって、有機膜に、偏光方向と直交する方向に一軸異方性を付与する。液晶分子は、一軸異方性を付与された配向膜によって配向される。   As a method for imparting alignment control ability to the organic film, photo-alignment treatment that imparts alignment control ability to the organic film in a non-contact manner is employed in addition to the rubbing treatment. The photo-alignment treatment is performed, for example, by irradiating the organic film with polarized ultraviolet rays in the range of 254 nm to 365 nm and cutting the molecules of the organic film in a direction parallel to the polarization direction, thereby causing the organic film to be perpendicular to the polarization direction. Add uniaxial anisotropy. The liquid crystal molecules are aligned by an alignment film imparted with uniaxial anisotropy.

近時、液晶表示装置は、額縁領域の幅を狭くすること、すなわち狭額縁化が要求されるようになっており、そのため、各配向膜の周縁を画像表示領域と額縁領域との境界部に止めて設けることが困難となった。その結果、各配向膜の周縁は額縁領域内にも延出して設けられるようになり、枠状のシール部は各配向膜を介して第1基板と第2基板とを接着する構造となってきている。   Recently, liquid crystal display devices have been required to narrow the width of the frame region, that is, to narrow the frame. Therefore, the periphery of each alignment film is located at the boundary between the image display region and the frame region. It was difficult to stop and install. As a result, the peripheral edge of each alignment film extends into the frame region, and the frame-shaped seal portion has a structure for bonding the first substrate and the second substrate through each alignment film. ing.

光配向処理によって形成された配向膜(光配向膜)は、未配向の有機膜と比較して、膜強度が低下する虞がある。配向膜の膜強度が低下すると、その配向膜に接着しているシール部が剥離しやすくなり、液晶表示装置の信頼性が低下してしまう。
そのため、例えば特許文献1では、アミン系シランカップリング剤を含む配向膜用ワニスから配向膜を形成し、光配向処理後においても配向膜強度を維持し、シール部との接着の信頼性を確保している。
The alignment film (photo-alignment film) formed by the photo-alignment treatment may have a lower film strength than an unoriented organic film. When the film strength of the alignment film is lowered, the seal portion adhered to the alignment film is easily peeled off, and the reliability of the liquid crystal display device is lowered.
Therefore, for example, in Patent Document 1, an alignment film is formed from an alignment film varnish containing an amine-based silane coupling agent, and the alignment film strength is maintained even after photo-alignment treatment, and the reliability of adhesion to the seal portion is ensured. doing.

特開2015−82015号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-82015

しかしながら、アミン系シランカップリング剤を含む配向膜用ワニスから形成した配向膜を組み込んだ液晶表示装置は、アミン系シランカップリング剤を含まない配向膜用ワニスから形成した配向膜を組み込んだ液晶表示装置と比較して、液晶の電圧保持率の低下、焼付きの発生等の液晶表示装置の表示品質の低下が本発明者らにより確認された。   However, a liquid crystal display incorporating an alignment film formed from an alignment film varnish containing an amine-based silane coupling agent is a liquid crystal display incorporating an alignment film formed from an alignment film varnish not containing an amine-based silane coupling agent. Compared with the device, the present inventors have confirmed that the display quality of the liquid crystal display device is lowered, such as a decrease in the voltage holding ratio of the liquid crystal and the occurrence of image sticking.

本発明の課題は、シール部との接着力を確保でき、しかも液晶表示装置の液晶の電圧保持率の低下、焼付きの発生を防止または抑制することができる光配向膜を形成するためのワニスを提供することである。
本発明の他の課題は、上記光配向膜を備える液晶表示装置を提供することである。
An object of the present invention is to provide a varnish for forming a photo-alignment film that can secure an adhesive force with a seal portion and that can prevent or suppress a decrease in voltage holding ratio of a liquid crystal of a liquid crystal display device and occurrence of seizure. Is to provide.
The other subject of this invention is providing a liquid crystal display device provided with the said photo-alignment film.

本発明の第1の側面によれば、有機溶媒中に、アルコキシシランと、ポリアミド酸またはポリアミド酸エステルである第1ポリアミド酸系化合物とを含み、アルコキシシランは、第一級アミノ基および第二級アミノ基を含まないことを特徴とする光配向膜用ワニスが提供される。   According to the first aspect of the present invention, the organic solvent contains an alkoxysilane and a first polyamic acid-based compound that is a polyamic acid or a polyamic acid ester, and the alkoxysilane has a primary amino group and a second amino group. There is provided a varnish for a photo-alignment film characterized by not containing a secondary amino group.

本発明の第2の側面によれば、第1基板と、第1基板に対向する第2基板と、第1基板と第2基板とを接着するシール部と、第1基板と第2基板とシール部との間にある液晶層と、第1基板にあり液晶層と接する配向膜とを備え、配向膜は、末端骨格が、第一級アミノ基および第二級アミノ基を有さず、アルコキシシラン基を有するポリイミド化合物を含むことを特徴とする液晶表示装置が提供される。   According to a second aspect of the present invention, a first substrate, a second substrate facing the first substrate, a seal portion for bonding the first substrate and the second substrate, a first substrate and a second substrate, A liquid crystal layer between the sealing portion and an alignment film in contact with the liquid crystal layer on the first substrate; the alignment film has a terminal skeleton that does not have a primary amino group and a secondary amino group; A liquid crystal display device comprising a polyimide compound having an alkoxysilane group is provided.

実施形態に係る液晶表示装置の斜視図である。It is a perspective view of the liquid crystal display device concerning an embodiment. 図1のii−ii線に沿った一部破断概略断面を拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows the partially broken schematic cross section along the ii-ii line of FIG. 図1のiii−iii線に沿った一部破断概略断面を拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows the partially broken schematic cross section along the iii-iii line | wire of FIG. 実施例の液晶表示装置の印加電圧と時間との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the applied voltage of the liquid crystal display device of an Example, and time. DC残像の検査パターンを示す図である。It is a figure which shows the test | inspection pattern of DC afterimage.

本発明者らは、アミン系シランカップリング剤を含む光配向膜用ワニスから形成された光配向膜が液晶表示装置における液晶の電圧保持率の低下、並びに焼付きの発生の原因について検討した結果、アミン系シランカップリング剤が有する第一級アミノ基または第二級アミノ基由来の物質が液晶中に溶出するためであると推察した。さらに研究を進めた結果、アミン系シランカップリング剤ではなく、第一級アミノ基および第二級アミノ基を含まないアルコキシシランをポリイミドの前駆体であるポリアミド酸またはポリアミド酸エステルに配合した光配向膜用ワニスから形成した配向膜では、液晶の電圧保持率の低下並びに焼付きの発生が防止または抑制できることを見いだした。アルコキシシランは、ポリアミド酸またはポリアミド酸エステルのイミド化反応の際に、ポリアミド酸またはポリアミド酸エステルと反応し、生成したポリイミド末端にアルコキシシラン基として導入される。従って、ポリアミド酸またはポリアミド酸エステルが末端に第一級アミノ基および/または第二級アミノ基を有している場合でも、反応生成物であるポリイミド化合物は、第一級アミノ基および第二級アミノ基を持たないものとなる。   The present inventors have examined the cause of the decrease in the voltage holding ratio of the liquid crystal and the occurrence of image sticking in the liquid crystal display device, as the photo alignment film formed from the varnish for the photo alignment film containing the amine-based silane coupling agent. It was presumed that the primary amino group or secondary amino group-derived substance of the amine silane coupling agent was eluted into the liquid crystal. As a result of further research, photo-alignment in which alkoxysilane containing no primary amino group or secondary amino group is blended with polyamic acid or polyamic acid ester, which is a polyimide precursor, instead of amine-based silane coupling agents In the alignment film formed from the varnish for film | membrane, it discovered that the fall of the voltage retention of a liquid crystal and generation | occurrence | production of image sticking could be prevented or suppressed. The alkoxysilane reacts with the polyamic acid or the polyamic acid ester during the imidation reaction of the polyamic acid or the polyamic acid ester, and is introduced as an alkoxysilane group at the end of the formed polyimide. Therefore, even when the polyamic acid or the polyamic acid ester has a primary amino group and / or a secondary amino group at the terminal, the polyimide compound as the reaction product has a primary amino group and a secondary amino group. It does not have an amino group.

以下、いくつかの実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、先行する図に関して説明したものと同一または類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。   Hereinafter, some embodiments will be described with reference to the drawings. In addition, although the drawings may be schematically represented with respect to the width, thickness, shape, and the like of each part as compared with the actual mode for clarity of explanation, they are merely examples, and The interpretation is not limited. In addition, in the present specification and each drawing, components that perform the same or similar functions as those described with respect to the preceding drawings are denoted by the same reference numerals, and repeated detailed description may be omitted as appropriate. .

<液晶表示装置>
まず、実施形態に係る液晶表示装置を、図1、図2、および図3を参照して説明する。図1は、実施形態に係る液晶表示装置DSPの斜視図、図2は、図1のii−ii線に沿った一部破断概略断面を拡大して示す図、図3は、図1のiii−iii線に沿った一部破断概略断面を拡大して示す図である。
<Liquid crystal display device>
First, a liquid crystal display device according to an embodiment will be described with reference to FIGS. 1, 2, and 3. 1 is a perspective view of a liquid crystal display device DSP according to an embodiment, FIG. 2 is an enlarged view of a partially broken schematic cross section taken along line ii-ii in FIG. 1, and FIG. It is a figure which expands and shows the partially broken schematic cross section along the -iii line.

本実施形態においては、液晶表示装置DSPの短辺に平行な方向を第1方向Xとし、表示装置DSPの長辺に平行な方向を第2方向Yとし、第1方向Xおよび第2方向Yに垂直な方向を第3方向Zとしている。なお、第1方向Xおよび第2方向Yは、互いに直交しているが、90度以外の角度で交差していてもよい。また、本実施形態においては、第3方向Zの正の向きを上または上方と定義し、第3方向Zの負の向きを下または下方と定義する。   In the present embodiment, the direction parallel to the short side of the liquid crystal display device DSP is the first direction X, the direction parallel to the long side of the display device DSP is the second direction Y, and the first direction X and the second direction Y A direction perpendicular to the third direction Z is taken as a third direction Z. The first direction X and the second direction Y are orthogonal to each other, but may intersect at an angle other than 90 degrees. In the present embodiment, the positive direction in the third direction Z is defined as up or upward, and the negative direction in the third direction Z is defined as down or downward.

液晶表示装置DSPは、対面して配置された第1基板SUB1および第2基板SUB2を有する。第1基板SUB1は、第1領域RG1と第2領域RG2を有する。第2基板SUB2は、第1基板SUB1の第1領域RG1に対向しているが、第1基板SUB1の第2領域RG2には対向してはいない。言い換えると、第1基板SUB1の第2領域RG2は、第2基板SUB2の端縁よりも外側に延出している。第1基板SUB1の第1領域RG1の平面サイズは、第2基板SUB1の平面サイズと同じである。   The liquid crystal display device DSP has a first substrate SUB1 and a second substrate SUB2 that are arranged to face each other. The first substrate SUB1 has a first region RG1 and a second region RG2. The second substrate SUB2 faces the first region RG1 of the first substrate SUB1, but does not face the second region RG2 of the first substrate SUB1. In other words, the second region RG2 of the first substrate SUB1 extends outward from the edge of the second substrate SUB2. The planar size of the first region RG1 of the first substrate SUB1 is the same as the planar size of the second substrate SUB1.

第1基板SUB1の第1領域RG1には、画素電極および薄膜トランジスタ等が設けられている。第2基板SUB2には、カラーフィルタCF、遮光膜BM等が設けられている。第1基板SUB1の第2領域RG2には、外部回路EXCが設けられている。   In the first region RG1 of the first substrate SUB1, a pixel electrode, a thin film transistor, and the like are provided. The second substrate SUB2 is provided with a color filter CF, a light shielding film BM, and the like. An external circuit EXC is provided in the second region RG2 of the first substrate SUB1.

第1基板SUB1と第2基板SUB2とは、それらの間に一定のセルギャップを規定しており、第1基板SUB1の第1領域RG1の周縁部と第2基板SUB2の周縁部とは、枠状に形成されたシール部SPにより接着されている。シール部SPの内側には、液晶が封入され、液晶層LCを形成している。枠状のシール部SPと遮光膜BMとは、額縁領域NDAを規定している。額縁領域NDAは、その内側に画像表示領域DAを規定している。画像表示領域DAは、例えば、矩形状であり、m×n個(但し、mおよびnは正の整数である)のマトリクス状に配置された複数の画素PXによって構成されている。   The first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 define a certain cell gap between them, and the peripheral portion of the first region RG1 of the first substrate SUB1 and the peripheral portion of the second substrate SUB2 are framed. It is bonded by a seal part SP formed in a shape. Liquid crystal is sealed inside the seal portion SP to form a liquid crystal layer LC. The frame-shaped seal portion SP and the light shielding film BM define a frame area NDA. The frame area NDA defines an image display area DA inside thereof. The image display area DA has, for example, a rectangular shape and includes a plurality of pixels PX arranged in a matrix of m × n (where m and n are positive integers).

第1基板SUB1に対し第2基板SUB2の反対側に配置された光照射部LIは、第1基板SUB1側から画像表示部を照明する、いわゆるバックライトユニットに相当する。第1基板SUB1の第2領域RG2には、外部回路EXCよりも先端側にフレキシブル回路基板FPC1が設けられ、第1基板SUB1と制御モジュールCMとを電気的に接続している。制御モジュールCMには、フレキシブル回路基板FPC2が設けられ、制御モジュールCMと光照射部LIとを電気的に接続している。フレキシブル回路基板FPC1およびFPC2は、制御モジュールCMの駆動信号をそれぞれ第1基板SUB1および光照射部LIに伝送する。   The light irradiation unit LI disposed on the opposite side of the second substrate SUB2 with respect to the first substrate SUB1 corresponds to a so-called backlight unit that illuminates the image display unit from the first substrate SUB1 side. In the second region RG2 of the first substrate SUB1, a flexible circuit board FPC1 is provided on the tip side of the external circuit EXC, and electrically connects the first substrate SUB1 and the control module CM. The control module CM is provided with a flexible circuit board FPC2 and electrically connects the control module CM and the light irradiation unit LI. The flexible circuit boards FPC1 and FPC2 transmit the drive signal of the control module CM to the first board SUB1 and the light irradiation unit LI, respectively.

このような構成の液晶表示装置DSPは、光照射部LIから第1基板SUB1、液晶層LCおよび第2基板SUB2に入射する光を各画素PXで選択的に透過することによって画像を表示する透過表示機能を備えた、いわゆる透過型の液晶表示装置に相当する。   The liquid crystal display device DSP having the above configuration transmits light that selectively enters each pixel PX through the light irradiation unit LI and enters the first substrate SUB1, the liquid crystal layer LC, and the second substrate SUB2. This corresponds to a so-called transmissive liquid crystal display device having a display function.

図2によく示されるように、第1基板SUB1は、第1下地基板S1を有する。第1下地基板S1は、光透過性の絶縁性基板、例えばガラス基板である。   As well shown in FIG. 2, the first substrate SUB1 has a first base substrate S1. The first base substrate S1 is a light transmissive insulating substrate, for example, a glass substrate.

第1下地基板S1の液晶層LC側の表面には、第1絶縁膜IL1が設けられている。第1絶縁膜IL1は、アクリル樹脂等の有機材料で形成することができる。第1絶縁膜IL1の液晶層LC側の表面には、第2絶縁膜IL2が設けられている。第2絶縁膜IL2は、例えばシリコン酸化物、シリコン窒化物等の無機材料によって形成することができる。   A first insulating film IL1 is provided on the surface of the first base substrate S1 on the liquid crystal layer LC side. The first insulating film IL1 can be formed of an organic material such as an acrylic resin. A second insulating film IL2 is provided on the surface of the first insulating film IL1 on the liquid crystal layer LC side. The second insulating film IL2 can be formed of an inorganic material such as silicon oxide or silicon nitride.

第2絶縁膜IL2の液晶層LC側の表面には、走査引き出し線SLが設けられている。走査引き出し線SLには、例えば、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、Al(アルミニウム)等の単層の金属の配線、またはTi(チタン)/Al/Ti、Mo/Al/Mo、Mo/InOx(インジウム酸化物)、Cr/InOx等の積層膜の配線を用いることができる。   A scanning lead line SL is provided on the surface of the second insulating film IL2 on the liquid crystal layer LC side. For the scanning lead line SL, for example, a single layer metal wiring such as molybdenum (Mo), chromium (Cr), Al (aluminum), or Ti (titanium) / Al / Ti, Mo / Al / Mo, Mo / A multilayer film wiring such as InOx (indium oxide) or Cr / InOx can be used.

走査引き出し線SLの液晶層LC側の表面には、有機パッシベーション膜OPが設けられている。有機パッシベーション膜OPは、走査引き出し線SLを全体的に覆うとともに、第2絶縁膜IL2の部分的な露出表面を覆う。さらに、有機パッシベーション膜OPは、その端部にスリットSTが設けられている。スリットSTは、第2絶縁膜IL2の表面を部分的に露出させている。有機パッシベーション膜OPの液晶層LC側の表面は、凹凸形状を有する。有機パッシベーション膜OPは、例えばアクリル等の樹脂によって形成することができる。なお、有機パッシベーション膜OPは、その端部にスリットSTが設けられているため、端部側の有機パッシベーション膜OPから浸入してきた水分を遮断することができる。   An organic passivation film OP is provided on the surface of the scanning lead line SL on the liquid crystal layer LC side. The organic passivation film OP entirely covers the scanning lead line SL and covers a partially exposed surface of the second insulating film IL2. Further, the organic passivation film OP is provided with a slit ST at the end thereof. The slit ST partially exposes the surface of the second insulating film IL2. The surface of the organic passivation film OP on the liquid crystal layer LC side has an uneven shape. The organic passivation film OP can be formed of a resin such as acrylic. Since the organic passivation film OP is provided with the slit ST at the end thereof, it is possible to block moisture that has entered from the organic passivation film OP on the end side.

有機パッシベーション膜OPの液晶層LC側の表面には、有機パッシベーション膜の凹凸形状の表面に沿うようにして、第3絶縁膜IL3が設けられている。第3絶縁膜IL3は、例えばシリコン酸化物、シリコン窒化物、これらの積層膜である無機絶縁膜の無機材料によって形成することができる。第3絶縁膜IL3は、画像表示領域DA全体に面状に形成される共通電極(図示せず)とスリットを有する画素電極(図示せず)の層間(電極間)の絶縁膜である。例えば、画素電極は、第3絶縁膜IL3の液晶層LC側の表面に形成され、共通電極は、第3絶縁膜IL3と有機パッシベーション膜OPとの間に形成される。共通電極および画素電極は、例えばインジウムスズ酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)、インジウム亜鉛酸化物(IZO:Indium Zinc Oxide)等の光透過性の導電性材料、Ag、Al、Al合金等を含む光反射型の導電性材料等によって形成することができる。   A third insulating film IL3 is provided on the surface of the organic passivation film OP on the liquid crystal layer LC side so as to be along the uneven surface of the organic passivation film. The third insulating film IL3 can be formed of, for example, an inorganic material such as silicon oxide, silicon nitride, or an inorganic insulating film that is a stacked film of these. The third insulating film IL3 is an insulating film between layers (between electrodes) between a common electrode (not shown) formed in a planar shape over the entire image display area DA and a pixel electrode (not shown) having a slit. For example, the pixel electrode is formed on the surface of the third insulating film IL3 on the liquid crystal layer LC side, and the common electrode is formed between the third insulating film IL3 and the organic passivation film OP. The common electrode and the pixel electrode include, for example, a light-transmitting conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), Ag, Al, Al alloy, or the like. It can be formed of a light reflective conductive material or the like.

第1基板SUB1の液晶層LC側表面には、第1配向膜AL1が配置されている。第1配向膜AL1は、第3絶縁膜IL3および画素電極(例えばITO)を覆っている。   A first alignment film AL1 is disposed on the surface of the first substrate SUB1 on the liquid crystal layer LC side. The first alignment film AL1 covers the third insulating film IL3 and the pixel electrode (for example, ITO).

第2基板SUB2は、第2下地基板S2を有する。第2下地基板S2は、光透過性の絶縁性基板、例えばガラス基板である。   The second substrate SUB2 has a second base substrate S2. The second base substrate S2 is a light transmissive insulating substrate, for example, a glass substrate.

第2下地基板S2の液晶層LC側の表面には、遮光膜BMが設けられている。遮光膜BMは、額縁領域NDAを規定している。また、画像表示領域DAにおいて、第2下地基板S2の液晶層LC側の表面には、カラーフィルタ(図示せず)が設けられている。カラーフィルタは、それぞれ赤、緑、青のフィルターセグメントが周期的に配置されている。これら3色のサブピクセルは1組として、1画素を構成している。遮光膜BMは、各フィルターセグメントの間にも設けられている。遮光膜BMは、隣接するフィルターセグメント同士の混色を防いでいる。遮光膜BMは、例えば黒色の樹脂、低反射性の金属等である。   A light shielding film BM is provided on the surface of the second base substrate S2 on the liquid crystal layer LC side. The light shielding film BM defines a frame area NDA. In the image display area DA, a color filter (not shown) is provided on the surface of the second base substrate S2 on the liquid crystal layer LC side. In the color filter, red, green, and blue filter segments are periodically arranged. These three color sub-pixels form one pixel as a set. The light shielding film BM is also provided between the filter segments. The light shielding film BM prevents color mixing between adjacent filter segments. The light shielding film BM is made of, for example, a black resin, a low reflective metal, or the like.

遮光膜BMの液晶層LC側の表面には、オーバーコート層OCが形成されている。オーバーコート層OCは、遮光膜BMおよびカラーフィルタを覆っている。オーバーコート層OCの液晶層LC側表面は、凹凸形状を有する。   An overcoat layer OC is formed on the surface of the light shielding film BM on the liquid crystal layer LC side. The overcoat layer OC covers the light shielding film BM and the color filter. The surface of the overcoat layer OC on the liquid crystal layer LC side has an uneven shape.

オーバーコート層OCの液晶層LC側の表面の凸部には、第1柱状スペーサPS1が形成されている。第1柱状スペーサPS1は、一端がオーバーコート層OCの凸部と接し、他端が第1配向膜AL1の液晶層LC側の表面の凹凸形状の凸部と接するようにして設けられている。第1柱状スペーサPS1は、シール部SPにおける第1基板SUB1と第2基板SUB2との間隔を規定する役割を有する。   A first columnar spacer PS1 is formed on the convex portion of the surface of the overcoat layer OC on the liquid crystal layer LC side. The first columnar spacer PS1 is provided so that one end thereof is in contact with the convex portion of the overcoat layer OC and the other end is in contact with the convex and concave portion on the surface on the liquid crystal layer LC side of the first alignment film AL1. The first columnar spacer PS1 has a role of defining an interval between the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 in the seal portion SP.

オーバーコート層OCの液晶層LC側の表面の凹部には、壁状スペーサWSが形成されている。壁状スペーサWSは、第1柱状スペーサPS1の半分程度の長さを有する。   A wall-shaped spacer WS is formed in a recess on the surface of the overcoat layer OC on the liquid crystal layer LC side. The wall-shaped spacer WS has a length that is about half that of the first columnar spacer PS1.

オーバーコート層OCの液晶層LC側の表面には、オーバーコート層OCの表面の凹凸に沿うようにして、第2配向膜AL2が設けられている。第2配向膜AL2は、壁状スペーサWSによって外形が区切られている。   On the surface of the overcoat layer OC on the liquid crystal layer LC side, a second alignment film AL2 is provided so as to follow the irregularities on the surface of the overcoat layer OC. The outer shape of the second alignment film AL2 is delimited by the wall spacer WS.

第2配向膜AL2の液晶層LC側の表面の、第1柱状スペーサPS1よりも画像表示領域DA側には、第2柱状スペーサPS2が設けられている。第2柱状スペーサPS2は、第1柱状スペーサPS1よりも短くして設けられている。そのため、第2柱状スペーサPS2は、一端が第2配向膜AL2に接しているが、第1基板SUB1側に向かう他端は、第1配向膜AL1に接していない。第2柱状スペーサPS2は、第2基板SUB2に外部から圧力が加わった場合、第1基板SUB1と第2基板SUB2の間隔が過度に小さくなることを防止する役割を有する。   A second columnar spacer PS2 is provided on the surface of the second alignment film AL2 on the liquid crystal layer LC side, closer to the image display area DA than the first columnar spacer PS1. The second columnar spacer PS2 is provided shorter than the first columnar spacer PS1. Therefore, one end of the second columnar spacer PS2 is in contact with the second alignment film AL2, but the other end toward the first substrate SUB1 is not in contact with the first alignment film AL1. The second columnar spacer PS2 has a role of preventing the interval between the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 from becoming excessively small when pressure is applied to the second substrate SUB2 from the outside.

第1配向膜AL1と第2配向膜AL2およびオーバーコート層OCとの間には、シール部SPが設けられている。シール部SPは、図1によく示されるように、第1基板SUB1の第1領域RG1の周縁部と第2基板SUB2の周縁部とを枠状に接着している。シール部SPは、例えば、紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂等のシール材料によって形成され、ディスペンサ等を用いて始点から終点まで連続的に描画する方式で形成することができる。また、シール部SPの端部には、土手状スペーサBSが形成されている。シール部SPは、第1配向膜AL1の表面の凹凸形状と、第2配向膜AL2およびオーバーコート表面の凹凸形状とを埋めるように設けられているため、配向膜との接着表面積が増加し、接着力がより一層増加する。液晶層LCは、第1配向膜AL1および第2配向膜AL2の間にある。   A seal portion SP is provided between the first alignment film AL1, the second alignment film AL2, and the overcoat layer OC. As well shown in FIG. 1, the seal part SP bonds the peripheral part of the first region RG1 of the first substrate SUB1 and the peripheral part of the second substrate SUB2 in a frame shape. The seal part SP is formed of, for example, a seal material such as an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin, and can be formed by continuously drawing from the start point to the end point using a dispenser or the like. A bank-like spacer BS is formed at the end of the seal part SP. Since the seal part SP is provided so as to fill the uneven shape on the surface of the first alignment film AL1 and the uneven shape on the surface of the second alignment film AL2 and the overcoat surface, the adhesion surface area with the alignment film increases, The adhesive force is further increased. The liquid crystal layer LC is between the first alignment film AL1 and the second alignment film AL2.

図3に示されるように、第2領域RG2には、外部回路EXCやフレキシブル回路基板FPC1と電気的に接続されている、第1配線WL1と第2配線WL2と第3配線WL3がある。そして、第1基板SUB1は、第1配線WL1と、第1配線WL1を覆う第1絶縁膜IL1と、第1配線WL1よりも上側にある第2配線WL2と、第2配線WL2を覆う第2絶縁膜IL2と、第2配線WL2よりも上側にある第3配線WL3と、第3配線WL3を覆う第3絶縁膜IL3とを備えている。第1〜第3絶縁膜IL1〜IL3は、第1〜第3配線WL1〜WL3をそれぞれ電気的に絶縁し、これら配線を保護する保護膜でもある。第1〜第3配線WL1〜WL3は、第2領域RG2にある外部回路EXCやフレキシブル回路基板FPC1と、第1領域RG1にある走査引き出し線SLや第2領域RG2にある信号引き出し線等と電気的に接続して、駆動信号を伝送する。また、第3絶縁膜IL3の上には第1配向膜AL1が設けられ、第1配向膜AL1はシール部SPと第3絶縁膜IL3との間にある。なお、第3絶縁膜IL3の上に有機絶縁膜等をさらに設けてもよい。   As illustrated in FIG. 3, the second region RG2 includes a first wiring WL1, a second wiring WL2, and a third wiring WL3 that are electrically connected to the external circuit EXC and the flexible circuit board FPC1. The first substrate SUB1 includes a first wiring WL1, a first insulating film IL1 that covers the first wiring WL1, a second wiring WL2 that is above the first wiring WL1, and a second wiring that covers the second wiring WL2. The insulating film IL2, the third wiring WL3 located above the second wiring WL2, and the third insulating film IL3 covering the third wiring WL3 are provided. The first to third insulating films IL1 to IL3 are also protective films that electrically insulate the first to third wirings WL1 to WL3 and protect these wirings. The first to third wirings WL1 to WL3 are electrically connected to the external circuit EXC and the flexible circuit board FPC1 in the second region RG2, the scanning lead line SL in the first region RG1, the signal lead line in the second region RG2, and the like. Connected to each other to transmit a drive signal. A first alignment film AL1 is provided on the third insulating film IL3, and the first alignment film AL1 is between the seal portion SP and the third insulating film IL3. An organic insulating film or the like may be further provided on the third insulating film IL3.

なお、図3では、第1配線WL1が、第2配線WL2と第3配線WL3の下側に配置されているが、別の箇所では、例えば、第1配線WL1が、第2配線WL2または第3配線WL3と入れ替わり、第2絶縁膜IL2または第3絶縁膜IL3の層に配置されている。すなわち、第1〜第3配線WL1〜WL3は、別の配線と入れ替わりながら、異なる層を経由するようにして第2領域RG2にある外部回路EXCと、第1領域RG1にある走査引き出し線SL、第2領域RG2にある信号引き出し線等と電気的に接続している。このようにすることで、第1〜第3配線WL1〜WL3を第2領域RG2や、狭額縁化によって狭くした額縁領域NDAに効率よく設けることができる。一方で、図3の通り、第3配線WL3は、第1配向膜AL1との距離が近いため、第1配向膜AL1によって腐食されやすい。しかし、本発明の光配向膜用ワニスは、後述するアルコキシシランを含むため、カップリング反応により架橋構造を形成し、配向膜の強度が向上する。また、画素電極のITO、第3絶縁膜IL3等の無機材料(SiN)膜およびシール部と、配向膜との接着力を確保出来る。この結果、配向膜の材料が絶縁膜IL3を透過して第3配線WL3を腐食する不具合を抑制できる。   In FIG. 3, the first wiring WL1 is arranged below the second wiring WL2 and the third wiring WL3. However, in another place, for example, the first wiring WL1 is connected to the second wiring WL2 or the second wiring WL2. The third wiring WL3 is replaced with the second insulating film IL2 or the third insulating film IL3. That is, the first to third wirings WL1 to WL3 are replaced with other wirings, and pass through different layers so that the external circuit EXC in the second region RG2 and the scanning lead-out line SL in the first region RG1, It is electrically connected to a signal lead line or the like in the second region RG2. By doing in this way, the 1st-3rd wiring WL1-WL3 can be efficiently provided in 2nd area | region RG2 or the frame area | region NDA narrowed by narrowing the frame. On the other hand, as shown in FIG. 3, the third wiring WL3 is easily corroded by the first alignment film AL1 because the distance to the first alignment film AL1 is short. However, since the varnish for photo-alignment films of the present invention contains an alkoxysilane described later, a crosslinked structure is formed by a coupling reaction, and the strength of the alignment film is improved. In addition, it is possible to secure an adhesive force between the alignment film and the inorganic material (SiN) film such as ITO of the pixel electrode, the third insulating film IL3, and the seal portion. As a result, a problem that the material of the alignment film permeates the insulating film IL3 and corrodes the third wiring WL3 can be suppressed.

<光配向膜用ワニス>
実施形態に係る配向膜(第1配向膜AL1および第2配向膜AL2)は、光配向膜用ワニスを基板上に塗布し、加熱してポリイミド膜に変換し、ポリイミド膜に配向制御能を付与することによって設けられる。
<Varnish for photo-alignment film>
The alignment films (first alignment film AL1 and second alignment film AL2) according to the embodiment apply a varnish for a photo-alignment film on a substrate, heat it to convert it to a polyimide film, and provide alignment control ability to the polyimide film. To be provided.

本発明の第1の側面に係る光配向膜用ワニスは、有機溶媒中に、アルコキシシランと、ポリアミド酸またはポリアミド酸エステルである第1ポリアミド酸系化合物とを含み、アルコキシシランは、第一級アミノ基および第二級アミノ基を含まない。   The varnish for a photoalignment film according to the first aspect of the present invention includes an alkoxysilane and a first polyamic acid compound that is a polyamic acid or a polyamic acid ester in an organic solvent, and the alkoxysilane is a primary grade. Does not contain amino groups or secondary amino groups.

<アルコキシシラン>
アルコキシシランは、シランカップリング剤であるので画素電極のITO、第3絶縁膜等の無機材料(SiN)膜およびシール部と、配向膜との接着力を確保する。すなわち、アルコキシシランは、加熱により加水分解してシラノールとなり、画素電極、第3絶縁膜およびシール部の表面にある極性を有する置換基や官能基と水素結合または共有結合を形成し、接着力が発揮される。アルコキシシランは、上に記載したように、第一級アミノ基および第二級アミノ基を含まない。また、アルコキシシランは、例えば0.5wt%〜2.0wt%の割合で光配向膜用ワニス中に含まれる。
<Alkoxysilane>
Since alkoxysilane is a silane coupling agent, it secures the adhesive force between the alignment film and the inorganic material (SiN) film such as ITO and third insulating film of the pixel electrode and the seal portion. That is, alkoxysilane is hydrolyzed by heating to silanol, and forms a hydrogen bond or a covalent bond with a polar substituent or functional group on the surface of the pixel electrode, the third insulating film and the seal portion, and has an adhesive force. Demonstrated. Alkoxysilanes do not contain primary and secondary amino groups as described above. Moreover, alkoxysilane is contained in the varnish for photo-alignment films at a ratio of 0.5 wt% to 2.0 wt%, for example.

いくつかの実施形態において、アルコキシシランは、エポキシ骨格または酸無水物骨格を有する。
いくつかの実施形態において、アルコキシシランは、下記式(1):
In some embodiments, the alkoxysilane has an epoxy skeleton or an acid anhydride skeleton.
In some embodiments, the alkoxysilane has the following formula (1):

Figure 2018173545
(式(1)中、Jは、単結合または炭素数1〜4の2価の有機基であり、R、RおよびRは、それぞれ独立に、アルキル基またはアルコキシ基であり、少なくとも1つはアルコキシ基である)で表されるアルコキシシラン、または
下記式(2):
Figure 2018173545
(In the formula (1), J 1 is a single bond or a divalent organic group having 1 to 4 carbon atoms, and R 1 , R 2 and R 3 are each independently an alkyl group or an alkoxy group, At least one is an alkoxy group), or the following formula (2):

Figure 2018173545
(式(2)中、Kは、炭素数1〜6の3価の有機基であり、Jは、単結合または炭素数1〜4の2価の有機基であり、R、RおよびRは、それぞれ独立に、アルキル基またはアルコキシ基であり、少なくとも1つはアルコキシ基である)で表されるアルコキシシランである。
Figure 2018173545
(In the formula (2), K is a trivalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, J 2 is a single bond or a divalent organic group having 1 to 4 carbon atoms, R 5, R 6 And R 7 each independently represents an alkyl silane or an alkoxy group, and at least one is an alkoxy group.

いくつかの実施形態において、Jは、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等である。Jは、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等である。Kは脂環式基、例えば置換または無置換のシクロブタン基である。また、Kは、ベンゼン環またはベンゼン環を含む基であり、ベンゼン環は、アルキル基等によって置換されていてもよい。Kは、脂環式基であることが好ましい。 In some embodiments, J 1 is, for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, or the like. J 2 is, for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, or the like. K is an alicyclic group such as a substituted or unsubstituted cyclobutane group. K is a benzene ring or a group containing a benzene ring, and the benzene ring may be substituted with an alkyl group or the like. K is preferably an alicyclic group.

アルコキシシランには、トリアルコキシシラン、ジアルコキシシラン、およびモノアルコキシシランが含まれるが、より多くのシロキサン結合を形成して接着力を向上させるために、トリアルコキシシランが好ましい。また、アルコキシシランの置換基(R、R、R、R、RおよびR)は、シロキサン結合を形成するために立体障害の小さい置換基が好ましい。アルコキシシランの置換基は、例えばメトキシ基、エトキシ基であることが好ましい。 Alkoxysilanes include trialkoxysilanes, dialkoxysilanes, and monoalkoxysilanes, but trialkoxysilanes are preferred in order to form more siloxane bonds and improve adhesion. In addition, the alkoxysilane substituent (R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , R 6 and R 7 ) is preferably a substituent having a small steric hindrance in order to form a siloxane bond. The substituent of alkoxysilane is preferably, for example, a methoxy group or an ethoxy group.

エポキシ骨格を有するアルコキシシランの例は、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等である。   Examples of alkoxysilanes having an epoxy skeleton are 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycid Xylpropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, and the like.

酸無水物骨格を有するアルコキシシランの例は、3−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、3−トリエトキシシリルプロピルコハク酸無水物、4−(3−トリメトキシシリルプロピル)シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、4−(3−トリエトキシシリルプロピル)シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、4−(3−トリメトキシシリルプロピル)フタル酸無水物、4−(3−トリエトキシシリルプロピル)フタル酸無水物、3−ジメチルメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、3−ジメチルエトキシシリルプロピルコハク酸無水物、4−(3−ジメチルメトキシシリルプロピル)シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、4−(3−ジメチルエトキシシリルプロピル)シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、4−(3−ジメチルメトキシシリルプロピル)フタル酸無水物若しくは4−(3−ジメチルエトキシシリルプロピル)フタル酸無水物等である。   Examples of alkoxysilanes having an acid anhydride skeleton include 3-trimethoxysilylpropyl succinic anhydride, 3-triethoxysilylpropyl succinic anhydride, 4- (3-trimethoxysilylpropyl) cyclohexane-1,2- Dicarboxylic anhydride, 4- (3-triethoxysilylpropyl) cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride, 4- (3-trimethoxysilylpropyl) phthalic anhydride, 4- (3-triethoxysilylpropyl) ) Phthalic anhydride, 3-dimethylmethoxysilylpropyl succinic anhydride, 3-dimethylethoxysilylpropyl succinic anhydride, 4- (3-dimethylmethoxysilylpropyl) cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride, 4 -(3-Dimethylethoxysilylpropyl) cyclohexane-1,2-dicar Phosphate anhydride, 4- (3-dimethyl-trimethoxysilylpropyl) phthalic acid anhydride or 4- (3-dimethyl-ethoxysilylpropyl) phthalic anhydride and the like.

<第1ポリアミド酸系化合物>
いくつかの実施形態において、第1ポリアミド酸系化合物は、下記式(3):
<First polyamic acid compound>
In some embodiments, the first polyamic acid-based compound has the following formula (3):

Figure 2018173545
(式(3)中、Xは、環式基であり、RおよびRは、それぞれ独立に、−COOHまたは−COOR(ここで、Rは、アルキル基である)であり、Yは、有機基である)で表される構造単位を有する。
Figure 2018173545
(In Formula (3), X is a cyclic group, R 8 and R 9 are each independently —COOH or —COOR (where R is an alkyl group), and Y 1 is , Which is an organic group).

一つの実施形態において、Xは、脂環式基、例えば置換または無置換のシクロブタン基である。別の実施形態において、Xは、ベンゼン環またはベンゼン環を含む基であり、ベンゼン環は、アルキル基等によって置換されていてもよい。Xは、脂環式基であることが好ましい。   In one embodiment, X is an alicyclic group, such as a substituted or unsubstituted cyclobutane group. In another embodiment, X is a benzene ring or a group containing a benzene ring, and the benzene ring may be substituted with an alkyl group or the like. X is preferably an alicyclic group.

いくつかの実施形態において、第1ポリアミド酸系化合物は、下記式(4)で示されるジアミン骨格を有する。   In some embodiments, the first polyamic acid-based compound has a diamine skeleton represented by the following formula (4).

Figure 2018173545
式(4)において、Lは、有機基であり、例えば環式基を含む基である。いくつかの実施形態において、Lは、ArまたはAr−Z−Arであり、ここで、Arは、芳香族基であり、ArおよびArは、それぞれ独立に、芳香族基であり、Zは、第一級アミノ基および第二級アミノ基を含有しない有機基である。Ar、ArまたはArによって表される芳香族基の例は、ベンゼン環またはベンゼン環を含む基である。Zは、例えば、酸素、窒素、硫黄、炭素および水素、またはそれら2つ以上の組合せから構成される。Zは、ヒドロキシル基、チオール基および第三級を除くアミノ基(−NHまたは>NH)を有しない。
Figure 2018173545
In formula (4), L is an organic group, for example, a group containing a cyclic group. In some embodiments, L is Ar 0 or Ar 1 -Z-Ar 2 , wherein Ar 0 is an aromatic group, and Ar 1 and Ar 2 are each independently an aromatic group. And Z is an organic group that does not contain a primary amino group and a secondary amino group. Examples of the aromatic group represented by Ar 0 , Ar 1 or Ar 2 are a benzene ring or a group containing a benzene ring. Z is composed of, for example, oxygen, nitrogen, sulfur, carbon and hydrogen, or a combination of two or more thereof. Z does not have an amino group (—NH or> NH) except a hydroxyl group, a thiol group and a tertiary group.

<第1ポリアミド酸系化合物の末端骨格>
いくつかの実施形態において、第1ポリアミド酸系化合物の末端骨格は、それぞれ、下記式(5):
<Terminal skeleton of the first polyamic acid compound>
In some embodiments, each terminal skeleton of the first polyamic acid-based compound has the following formula (5):

Figure 2018173545
(式(5)中、Jは、式(1)に関して定義した通りであり、mは、1または2の整数であり、R、RおよびRは、式(1)に関して定義した通りである)で表されるか、または下記式(6):
Figure 2018173545
(In formula (5), J 1 is as defined for formula (1), m is an integer of 1 or 2, and R 1 , R 2 and R 3 are defined for formula (1). Or the following formula (6):

Figure 2018173545
(式(6)中、Kは、式(2)に関して定義した通りであり、Jは、式(2)に関して定義した通りであり、Rは、−COOHまたは−COOR(ここで、Rは、アルキル基である)であり、R、RおよびRは、式(2)に関して定義した通りである)で表される。
Figure 2018173545
(In formula (6), K is as defined for formula (2), J 2 is as defined for formula (2), and R 4 is —COOH or —COOR (where R Is an alkyl group), and R 5 , R 6 and R 7 are as defined for formula (2).

上記式(5)および(6)のような第1ポリアミド酸系化合物の末端骨格は、末端に第一級アミノ基および/または第二級アミノ基を有しているポリアミド酸またはポリアミド酸エステルのような第1ポリアミド酸系化合物と上記式(1)および(2)のようなアルコキシシランを反応させることによって形成することができる。   The terminal skeleton of the first polyamic acid compound such as the above formulas (5) and (6) is a polyamic acid or polyamic acid ester having a primary amino group and / or a secondary amino group at the terminal. It can be formed by reacting such a first polyamic acid compound with an alkoxysilane such as the above formulas (1) and (2).

いくつかの実施形態において、第1ポリアミド酸系化合物は、上記式(1)または(2)に示すアルコキシシランを分子末端に有する。   In some embodiments, the first polyamic acid-based compound has an alkoxysilane represented by the above formula (1) or (2) at the molecular end.

いくつかの実施形態において、第1ポリアミド酸系化合物の末端骨格は、イミド骨格、アミド骨格、ウレア骨格、第三級アミノ骨格、アゾ結合またはカルボキシル基を有する。   In some embodiments, the terminal skeleton of the first polyamic acid-based compound has an imide skeleton, an amide skeleton, a urea skeleton, a tertiary amino skeleton, an azo bond, or a carboxyl group.

いくつかの実施形態において、第1ポリアミド酸系化合物の末端骨格は、それぞれ、下記式(7):   In some embodiments, each terminal skeleton of the first polyamic acid-based compound has the following formula (7):

Figure 2018173545
(式(7)中、Yは、H、Sまたは有機基であり、かつYは、脂肪族基または芳香族基であり、またはYおよびYは、互いに結合して環式基(例えばイミド)を形成している)で表されるか、下記式(8):
Figure 2018173545
(In Formula (7), Y 2 is H, S or an organic group, and Y 3 is an aliphatic group or an aromatic group, or Y 2 and Y 3 are bonded to each other to form a cyclic group. (Forms an imide, for example) or the following formula (8):

Figure 2018173545
(式(8)中、Yは、有機基である)で表されるか、または下記式(9):
Figure 2018173545
(In formula (8), Y 4 is an organic group) or the following formula (9):

Figure 2018173545
(式(9)中、Xは、式(3)に関して定義した通りであり、R10およびR11は、互いに独立に、水素またはアルキル基である)で表される。
Figure 2018173545
(In formula (9), X is as defined for formula (3), and R 10 and R 11 are each independently hydrogen or an alkyl group).

<有機溶媒>
いくつかの実施形態において、光配向膜用ワニスは、ポリアミド酸系化合物を溶解または分散させる有機溶媒として、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルカプロラクタム、2−ピロリドン、N−エチルピロリドン、N−ビニルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、1,3−ジメチル−イミダゾリジノン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジグライム、および4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノンが使用できる。
<Organic solvent>
In some embodiments, the varnish for a photo-alignment film includes N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N as an organic solvent for dissolving or dispersing the polyamic acid-based compound. -Methylcaprolactam, 2-pyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylsulfoxide, γ-butyrolactone, 1,3-dimethyl-imidazolidinone, ethylamyl Ketone, methyl nonyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl isoamyl ketone, methyl isopropyl ketone, cyclohexanone, ethylene carbonate, propylene carbonate, diglyme, and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone You can use.

<第1ポリアミド酸系化合物の合成>
ポリアミド酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを常法により反応させることによって製造することができる。
テトラカルボン酸二無水物は、下記式(A)で示すことができる。
<Synthesis of First Polyamic Acid Compound>
The polyamic acid can be produced by reacting tetracarboxylic dianhydride and diamine by a conventional method.
Tetracarboxylic dianhydride can be represented by the following formula (A).

Figure 2018173545
式(A)において、Xは、式(3)に関して定義した通りである。
Xとして置換または無置換のシクロブタン基を有するテトラカルボン酸二無水物は、下記式(B)で示すことができる。
Figure 2018173545
In formula (A), X is as defined for formula (3).
A tetracarboxylic dianhydride having a substituted or unsubstituted cyclobutane group as X can be represented by the following formula (B).

Figure 2018173545
式(B)において、各Rは、それぞれ独立に、水素またはアルキル基である。アルキル基の例は、1個〜6個の炭素原子を有するアルキル基である。アルキル基としては、メチル基が特に好ましい。
Figure 2018173545
In the formula (B), each R b is independently hydrogen or an alkyl group. Examples of alkyl groups are alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms. As the alkyl group, a methyl group is particularly preferable.

Xとしてベンゼン環を有するテトラカルボン酸二無水物の例は、ピロメリット酸である。   An example of a tetracarboxylic dianhydride having a benzene ring as X is pyromellitic acid.

テトラカルボン酸二無水物としては、式(B)で示されるテトラカルボン酸二無水物が好ましい。   As the tetracarboxylic dianhydride, a tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (B) is preferable.

上記テトラカルボン酸二無水物と反応させるジアミンは、2個の第一級アミノ基を有する有機化合物である。ジアミンは、下記式(C)で示すことができる。   The diamine to be reacted with the tetracarboxylic dianhydride is an organic compound having two primary amino groups. Diamine can be represented by the following formula (C).

Figure 2018173545
式(C)において、Lは、式(4)に関して定義した通りである。
式(C)で示されるジアミンには、脂環式ジアミン、複素環式ジアミン、脂肪族ジアミンおよび芳香族ジアミンが含まれる。代表例は芳香族ジアミンである。
Figure 2018173545
In formula (C), L is as defined for formula (4).
Diamines represented by formula (C) include alicyclic diamines, heterocyclic diamines, aliphatic diamines and aromatic diamines. A typical example is an aromatic diamine.

芳香族ジアミンの例は、o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、3,5−ジアミノトルエン、1,4−ジアミノ−2−メトキシベンゼン、2,5−ジアミノ−p−キシレン、1,3−ジアミノ−4−クロロベンゼン、3,5−ジアミノ安息香酸、1,4−ジアミノ−2,5−ジクロロベンゼン、4,4’−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビベンジル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’―ジメチルジフェニルメタン、2,2’−ジアミノスチルベン、4,4’−ジアミノスチルベン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、3,5−ビス(4−アミノフェノキシ)安息香酸、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビベンジル、2,2−ビス[(4−アミノフェノキシ)メチル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフロロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、1,1−ビス(4−アミノフェニル)シクロヘキサン、α、α’−ビス(4−アミノフェニル)−1,4−ジイソプロピルベンゼン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフロロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフロロプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルアミン、2,4−ジアミノジフェニルアミン、1,8−ジアミノナフタレン、1,5−ジアミノナフタレン、1,5−ジアミノアントラキノン、1,3−ジアミノピレン、1,6−ジアミノピレン、1,8―ジアミノピレン、2,7−ジアミノフルオレン、1,3−ビス(4−アミノフェニル)テトラメチルジシロキサン、ベンジジン、2,2’−ジメチルベンジジン、1,2−ビス(4−アミノフェニル)エタン、1,3−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、1,4−ビス(4−アミノフェニル)ブタン、1,5−ビス(4−アミノフェニル)ペンタン、1,6−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサン、1,7−ビス(4−アミノフェニル)ヘプタン、1,8−ビス(4−アミノフェニル)オクタン、1,9−ビス(4−アミノフェニル)ノナン、1,10−ビス(4−アミノフェニル)デカン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)プロパン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ブタン、1,5−ビス(4−アミノフェノキシ)ペンタン、1,6−ビス(4−アミノフェノキシ)ヘキサン、1,7−ビス(4−アミノフェノキシ)ヘプタン、1,8−ビス(4−アミノフェノキシ)オクタン、1,9−ビス(4−アミノフェノキシ)ノナン、1,10−ビス(4−アミノフェノキシ)デカン、ジ(4−アミノフェニル)プロパン−1,3−ジオエート、ジ(4−アミノフェニル)ブタン−1,4−ジオエート、ジ(4−アミノフェニル)ペンタン−1,5−ジオエート、ジ(4−アミノフェニル)ヘキサン−1,6−ジオエート、ジ(4−アミノフェニル)ヘプタン−1,7−ジオエート、ジ(4−アミノフェニル)オクタン−1,8−ジオエート、ジ(4−アミノフェニル)ノナン−1,9−ジオエート、ジ(4−アミノフェニル)デカン−1,10−ジオエート、1,3−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ〕プロパン、1,4−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ〕ブタン、1,5−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ〕ペンタン、1,6−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ〕ヘキサン、1,7−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ〕ヘプタン、1,8−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ]オクタン、1,9−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ〕ノナン、1,10−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ]デカン等である。さらに、芳香族ジアミンの例を以下に示す(以下の例において、nは、1〜10の整数である)。   Examples of aromatic diamines are o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 2,5-diaminotoluene, 3,5-diaminotoluene, 1,4-diamino-2. -Methoxybenzene, 2,5-diamino-p-xylene, 1,3-diamino-4-chlorobenzene, 3,5-diaminobenzoic acid, 1,4-diamino-2,5-dichlorobenzene, 4,4'- Diamino-1,2-diphenylethane, 4,4′-diamino-2,2′-dimethylbibenzyl, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-diaminodiphenylmethane, 3,4′-diaminodiphenylmethane, 4, , 4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 2,2'-diaminostilbene, 4,4'-diaminostil 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, 3,3′-diaminodiphenyl sulfone, 4,4′- Diaminobenzophenone, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 3,5-bis (4- Aminophenoxy) benzoic acid, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) bibenzyl, 2,2-bis [(4-aminophenoxy) methyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) Phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, bis [4 (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 1,1-bis (4-aminophenyl) cyclohexane, α, α′-bis (4-aminophenyl)- 1,4-diisopropylbenzene, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 2,2-bis (3-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4′-diaminodiphenylamine, 2,4-diaminodiphenylamine, 1,8-diaminonaphthalene, 1,5-diaminonaphthalene, 1,5-diaminoanthraquinone, 1,3-diaminopyrene, 1,6-diaminopyrene, 1,8-diaminopyrene, 2,7-diaminofluorene, 1,3-bis (4-aminophenyl) Tetramethyldisiloxane, benzidine, 2,2'-dimethylbenzidine, 1,2-bis (4-aminophenyl) ethane, 1,3-bis (4-aminophenyl) propane, 1,4-bis (4-amino) Phenyl) butane, 1,5-bis (4-aminophenyl) pentane, 1,6-bis (4-aminophenyl) hexane, 1,7-bis (4-aminophenyl) heptane, 1,8-bis (4 -Aminophenyl) octane, 1,9-bis (4-aminophenyl) nonane, 1,10-bis (4-aminophenyl) decane, 1,3-bis (4-aminophenoxy) propane, 1,4-bis (4-aminophenoxy) butane, 1,5-bis (4-aminophenoxy) pentane, 1,6-bis (4-aminophenoxy) hexane, 1,7-bis (4-aminophenyl) Enoxy) heptane, 1,8-bis (4-aminophenoxy) octane, 1,9-bis (4-aminophenoxy) nonane, 1,10-bis (4-aminophenoxy) decane, di (4-aminophenyl) Propane-1,3-dioate, di (4-aminophenyl) butane-1,4-dioate, di (4-aminophenyl) pentane-1,5-dioate, di (4-aminophenyl) hexane-1,6 -Dioate, di (4-aminophenyl) heptane-1,7-dioate, di (4-aminophenyl) octane-1,8-dioate, di (4-aminophenyl) nonane-1,9-dioate, di ( 4-aminophenyl) decane-1,10-dioate, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] propane, 1,4-bis [4- 4-aminophenoxy) phenoxy] butane, 1,5-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] pentane, 1,6-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] hexane, 1,7-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] heptane, 1,8-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] octane, 1,9-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] nonane, 1 , 10-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] decane and the like. Furthermore, the example of aromatic diamine is shown below (in the following examples, n is an integer of 1-10).

Figure 2018173545
Figure 2018173545

Figure 2018173545
上記芳香族ジアミンは、下記式(D)または式(E)で表すことができる。
Figure 2018173545
The aromatic diamine can be represented by the following formula (D) or formula (E).

Figure 2018173545
Figure 2018173545

Figure 2018173545
式(D)および(E)において、Ar、ArおよびAr、並びにZは、式(3)に関して定義した通りである。式(D)に示されるアミンによって生成された配向膜は光配向性が高く、第2ポリアミド酸系化合物の生成に用いると好ましい。また式(E)で示されるアミンによって生成された配向膜は、チオール基およびヒドロキシル基がないため水素結合の影響が小さく高抵抗になりやすい。また、このアミンは、Z内に第三級を除くアミノ基(−NHまたは>NH)を有していないため、第1ポリアミド酸系化合物の生成に用いることが好ましい。なお、アミド結合は、第二級アミノ基とは化学性質が異なるため区別されている。つまり、Z内にアミド結合を有するアミンは除かれていない。
Figure 2018173545
In formulas (D) and (E), Ar 0 , Ar 1 and Ar 2 , and Z are as defined for formula (3). The alignment film formed by the amine represented by the formula (D) has high photoalignment, and is preferably used for generating the second polyamic acid compound. In addition, since the alignment film produced by the amine represented by the formula (E) does not have a thiol group and a hydroxyl group, the influence of hydrogen bonding is small and the resistance tends to be high. Moreover, since this amine does not have an amino group (-NH or> NH) excluding tertiary in Z, it is preferably used for the production of the first polyamic acid compound. The amide bond is distinguished from the secondary amino group because it has different chemical properties. That is, amines having an amide bond in Z are not excluded.

テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの反応において、ジアミンをテトラカルボン酸二無水物よりもやや過剰に(例えば、テトラカルボン酸二無水物の1.1〜1.5倍モル量)用いると、第一級アミノ基を両末端に有するポリアミド酸系化合物が、いいかえると末端骨格として第一級アミンを有するポリアミド酸系化合物が、生成する。   In the reaction of tetracarboxylic dianhydride and diamine, if diamine is used in a slight excess (for example, 1.1 to 1.5 times the molar amount of tetracarboxylic dianhydride) than tetracarboxylic dianhydride, In other words, a polyamic acid compound having a primary amino group at both ends, in other words, a polyamic acid compound having a primary amine as a terminal skeleton is formed.

ポリアミド酸エステルは、以上説明したポリアミド酸に、例えばN,N−ジメチルホルムアミドジアルキルアセタールを反応させることによって製造することができる。あるいは、ポリアミド酸エステルは、特開2000−273172号公報に記載された方法によっても製造することができる。   The polyamic acid ester can be produced by reacting, for example, N, N-dimethylformamide dialkyl acetal with the polyamic acid described above. Alternatively, the polyamic acid ester can also be produced by the method described in JP 2000-273172 A.

両末端に第一級アミノ基を有するポリアミド酸またはポリアミド酸エステルの両末端第一級アミノ基を化学修飾することによって、第1ポリアミド酸系化合物を得ることができる。この化学修飾は、第一級アミノ基の封止である。   A first polyamic acid-based compound can be obtained by chemically modifying both terminal primary amino groups of a polyamic acid or polyamic acid ester having primary amino groups at both ends. This chemical modification is the sealing of the primary amino group.

末端第一級アミノ基を化学修飾する方法として、アミド化がある。このための封止剤(アミド化剤)として、1分子中に1個のハロゲン化カルボニル基を有する化合物、すなわち一官能酸ハライドを用いることができる。ハライドは、クロリド、ブロミド、フルオリドが含まれる。一官能酸ハライドの例は、ベンゾイルクロリド、アセチルクロリド、プロピオニルクロリド、アクリロイルクロリド、メタクリロイルクロリド、トシルクロリド等を含む。   As a method for chemically modifying the terminal primary amino group, there is amidation. As a sealing agent (amidating agent) for this purpose, a compound having one halogenated carbonyl group per molecule, that is, a monofunctional acid halide can be used. Halides include chloride, bromide, and fluoride. Examples of monofunctional acid halides include benzoyl chloride, acetyl chloride, propionyl chloride, acryloyl chloride, methacryloyl chloride, tosyl chloride and the like.

また、アミド化する別の封止材として、1分子中に1個の酸無水物を有する化合物、すなわち一官能酸無水物を用いてもよい。一官能酸無水物の例は、フタル酸無水物、マレイン酸無水物、コハク酸無水物、イタコン酸無水物、トリメリット酸無水物、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物等である。これらの化合物で末端第一級アミノ基を化学修飾した場合、通常配向膜用ワニスとしては、末端部位はポリアミド酸系化合物の状態となる。その後にこの化合物を製膜して焼成する際にイミド化する。   Moreover, you may use the compound which has one acid anhydride in 1 molecule, ie, a monofunctional acid anhydride, as another sealing material to amidate. Examples of monofunctional anhydrides are phthalic anhydride, maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, trimellitic anhydride, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid-1,2-anhydride Products, cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, and the like. When the terminal primary amino group is chemically modified with these compounds, the terminal portion of the alignment film varnish is usually in the state of a polyamic acid compound. Thereafter, the compound is imidized when formed into a film and fired.

また、アミド化する別の方法として、アミド酸エステルにしてもよい。末端をアミド酸エステル化させるためには、カルボキシル基や酸ハライド(ハロゲン化したカルボキシル基)のようなアミン反応性基と、エステル骨格を有する公知の芳香族化合物を封止剤として用いればよい。また、末端を上述の方法でアミド酸の状態にした化合物を、例えばN,N−ジメチルホルムアミドジアルキルアセタールを反応させることによってもアミド酸エステルにすることができる。これらの化合物で末端第一級アミノ基を化学修飾させた場合、通常、配向膜用ワニスとしては、末端部位はポリアミド酸エステルの状態となる。そして、その後、末端部位は製膜して焼成する際にイミド化する。   Further, as another method for amidation, an amic acid ester may be used. In order to convert the terminal to an amic acid ester, a known aromatic compound having an amine reactive group such as a carboxyl group or an acid halide (halogenated carboxyl group) and an ester skeleton may be used as a sealant. Moreover, the compound which made the terminal the state of amic acid by the above-mentioned method can also be made into an amic acid ester by making N, N-dimethylformamide dialkyl acetal react, for example. When the terminal primary amino group is chemically modified with these compounds, the terminal portion of the alignment film varnish is usually in a polyamic acid ester state. After that, the terminal portion is imidized when the film is formed and fired.

また、配向膜用ワニスとして末端がイミド化された状態であってもよい。イミド化された末端を得る場合は、アミド酸またはアミド酸エステルにして封止した化合物を、加熱して脱水縮合させればよい。   Moreover, the state by which the terminal was imidated may be sufficient as the varnish for alignment films. In order to obtain an imidized end, a compound sealed with amide acid or amide acid ester may be heated to cause dehydration condensation.

なお、アミド化、イミド化以外の方法での化学修飾であってもよく、例えばアゾ化、ウレア化、第三級アミノ化でもよい。   In addition, chemical modification by a method other than amidation or imidation may be used. For example, azotization, urea formation, or tertiary amination may be used.

アゾ化には、封止剤(アゾ化剤)の例として、ジアゾニウム塩系のジアゾカップリング剤が挙げられる。ウレア化には、封止剤として、イソシアナート系の材料を用いることができる。イソシアナートの例は、フェニルイソシアナート、ナフチルイソシアナート等である。第三級アミノ化には、封止剤(第三級アミノ化剤)として、ハロゲン基(特に塩素)またはヒドロキシル基を有する化合物を用いることができる。なお、上記に記載をした封止剤以外の材料で、アゾ化、ウレア化、第三級アミノ化してもよい。   Examples of the azotization include diazonium salt-based diazo coupling agents as examples of sealing agents (azotizing agents). For urea formation, an isocyanate-based material can be used as a sealant. Examples of isocyanate are phenyl isocyanate, naphthyl isocyanate, and the like. In the tertiary amination, a compound having a halogen group (especially chlorine) or a hydroxyl group can be used as a sealing agent (tertiary amination agent). In addition, you may azotize, urea, and tertiary amination with materials other than the sealing agent described above.

他の実施形態において、第一級アミノ基を含まない末端骨格を有するポリアミド酸系化合物は、上記テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの反応において、テトラカルボン酸二無水物をジアミンよりも多く(例えば、ジアミンの1.1〜1.5倍モル量)用いることによって製造することができる。この反応によって、カルボキシル基を両末端に有するポリアミド酸系化合物が生成する。   In another embodiment, the polyamic acid-based compound having a terminal skeleton that does not contain a primary amino group has more tetracarboxylic dianhydride than diamine in the reaction of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine ( For example, it can be produced by using 1.1 to 1.5 times the molar amount of diamine). By this reaction, a polyamic acid compound having carboxyl groups at both ends is produced.

以上の説明から明らかなように、両末端に第一級アミノ基以外の基を有する第1ポリアミド酸系化合物は、下記式(10)で示される酸骨格を有し得る。   As is clear from the above description, the first polyamic acid-based compound having groups other than the primary amino group at both ends can have an acid skeleton represented by the following formula (10).

Figure 2018173545
式(10)において、Xは、式(3)に関して定義した通りであ
Figure 2018173545
In formula (10), X is as defined for formula (3).

式(10)で示される酸骨格は、下記式(10−1)および下記式(10−2)で示される酸骨格を含む。   The acid skeleton represented by the formula (10) includes an acid skeleton represented by the following formula (10-1) and the following formula (10-2).

Figure 2018173545
Figure 2018173545

Figure 2018173545
式(10−1)において、Raは、アルキル基(例えば、1〜6個の炭素原子を有するアルキル基)であり、Rbは、式(B)に関して定義したとおり、水素またはアルキル基である。
Figure 2018173545
In Formula (10-1), R a is an alkyl group (eg, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), and R b is hydrogen or an alkyl group as defined for Formula (B). is there.

アミン骨格は、上に記載したとおりである。
また、上記記載から明らかなように、第1ポリアミド酸系化合物は、前記式(3)で示される構造単位(繰り返し単位)を有し得、その末端骨格は、イミド骨格、アミド骨格、ウレア骨格、第三級アミノ骨格、アゾ結合またはカルボキシル基を有し得る。式(3)で示される構造単位は、下記式(3−1)または下記式(3−2)で示される構造単位を含む。
The amine skeleton is as described above.
Further, as apparent from the above description, the first polyamic acid-based compound may have a structural unit (repeating unit) represented by the formula (3), and the terminal skeleton thereof is an imide skeleton, an amide skeleton, or a urea skeleton. A tertiary amino skeleton, an azo bond or a carboxyl group. The structural unit represented by the formula (3) includes a structural unit represented by the following formula (3-1) or the following formula (3-2).

Figure 2018173545
Figure 2018173545

Figure 2018173545
式(3−1)および式(3−2)において、Arは、前記式(4)に関して定義したAr0、またはAr1-Z−Ar2である。式(3−1)において、RaおよびRbは、前記式(10−1)に関して定義したとおりである。Zは式(4)で定義した通りである。
Figure 2018173545
In Formula (3-1) and Formula (3-2), Ar is Ar 0 or Ar 1 -Z-Ar 2 defined with respect to Formula (4). In formula (3-1), R a and R b are as defined for formula (10-1). Z is as defined in Equation (4).

<第2ポリアミド酸系化合物をさらに含む光配向膜用ワニス>
別の実施形態において、光配向膜用ワニスは、ポリアミド酸系化合物として、第1ポリアミド酸系化合物に加えて、ポリアミド酸またはポリアミド酸エステルである第2ポリアミド酸系化合物をさらに含む。その場合、第1ポリアミド酸系化合物は、第2ポリアミド酸系化合物よりも高い極性(大きな表面エネルギー)を有する。したがって、第1ポリアミド酸系化合物と第2ポリアミド酸系化合物とを共存させた場合、両者は相分離する。この場合、第1ポリアミド酸系化合物の方が、液晶表示装置における画素電極を形成するITOまたはシリコン酸化物、シリコン窒化物等の無機材料膜または有機樹脂を用いた有機パッシベーション膜との親和性が高いので、第1ポリアミド酸系化合物が下層となる。通常、ポリアミド酸エステルとポリアミド酸が共存する場合、ポリアミド酸エステルが上層を形成し、ポリアミド酸が下層を形成する。また、2種のポリアミド酸が共存する場合であって、一方のポリアミド酸のジアミン骨格に酸素またはフッ素が存在し、他方のポリアミド酸のジアミン骨格に酸素およびフッ素のいずれも存在しない場合、上記一方のポリアミド酸が下層を形成し、上記他方のポリアミド酸が上層を形成する。また、上記他方のポリアミド酸に酸素またはフッ素が存在していてもその量が上記一方のポリアミド酸のジアミン骨格における酸素またはフッ素の量よりも少ない場合も、上記一方のポリアミド酸が下層を形成し、上記他方のポリアミド酸が上層を形成する。
<Varnish for photo-alignment film further containing second polyamic acid compound>
In another embodiment, the varnish for a photo-alignment film further includes a second polyamic acid-based compound that is a polyamic acid or a polyamic acid ester in addition to the first polyamic acid-based compound as the polyamic acid-based compound. In this case, the first polyamic acid compound has a higher polarity (large surface energy) than the second polyamic acid compound. Therefore, when the first polyamic acid-based compound and the second polyamic acid-based compound coexist, they are phase-separated. In this case, the first polyamic acid compound is more compatible with an organic passivation film using an inorganic material film such as ITO or silicon oxide or silicon nitride, or an organic resin, which forms a pixel electrode in a liquid crystal display device. Since it is high, a 1st polyamic-acid type compound becomes a lower layer. Usually, when a polyamic acid ester and a polyamic acid coexist, the polyamic acid ester forms an upper layer and the polyamic acid forms a lower layer. Further, when two kinds of polyamic acids coexist, oxygen or fluorine is present in the diamine skeleton of one polyamic acid, and neither oxygen nor fluorine is present in the diamine skeleton of the other polyamic acid. The polyamic acid forms a lower layer, and the other polyamic acid forms an upper layer. In addition, even when oxygen or fluorine is present in the other polyamic acid, when the amount is less than the amount of oxygen or fluorine in the diamine skeleton of the one polyamic acid, the one polyamic acid forms a lower layer. The other polyamic acid forms the upper layer.

いうまでもなく、配向膜が単層である場合、ポリアミド酸系化合物として、上記第1ポリアミド酸系化合物を用いる。   Needless to say, when the alignment film is a single layer, the first polyamic acid compound is used as the polyamic acid compound.

第2ポリアミド酸系化合物は、上記第1ポリアミド酸系化合物として掲げた化合物の中から選ぶことができる。また上記第1のポリアミド酸系化合物生成するための両末端第一級アミノ基の封止前のポリアミド酸系化合物、すなわち、両末端に第一級アミノ基を有するポリアミド酸またはポリアミド酸エステルの中から選ぶこともできる。しかしながら、第2ポリアミド酸系化合物も、第1ポリアミド酸系化合物と同様、両末端に第一級アミノ基を持たないことが好ましい。また、配向膜が単層であるか、二層構造であるかにかかわらず、第1ポリアミド酸系化合物も、第2ポリアミド酸系化合物も、第二級アミノ基(アミドを形成している第二級アミノ基を除く)を持たないことが好ましい。   The second polyamic acid compound can be selected from the compounds listed as the first polyamic acid compound. Also, the polyamic acid-based compound before sealing the primary amino groups at both ends for producing the first polyamic acid-based compound, that is, the polyamic acid or the polyamic acid ester having primary amino groups at both ends is used. You can also choose from. However, like the first polyamic acid compound, the second polyamic acid compound preferably does not have a primary amino group at both ends. Regardless of whether the alignment film has a single layer or a two-layer structure, both the first polyamic acid-based compound and the second polyamic acid-based compound have secondary amino groups (the first forming an amide). It preferably has no secondary amino group).

上の説明から明らかなように、二層構造の配向膜について、下層とは、適用対象(例えば、ITO膜や無機材料膜や有機パッシベーション膜)に直接接触する層をいい、上層とは、下層と接する層をいう。   As is clear from the above description, regarding the alignment film having a two-layer structure, the lower layer refers to a layer that directly contacts an application target (for example, an ITO film, an inorganic material film, or an organic passivation film), and the upper layer refers to the lower layer. The layer that touches.

二層構造の配向膜の場合、極性が高い第1ポリアミド酸系化合物は、下層に含まれ画素電極と接する。焼付きを抑制するためには、下層膜のフォトチャージによる電荷の蓄積を避けなければならないため、少なくとも下層膜に含まれる第1ポリアミド酸系化合物は、両末端に第一級アミノ基を有しないことが好ましい。   In the case of an alignment film having a two-layer structure, the first polyamic acid compound having high polarity is included in the lower layer and is in contact with the pixel electrode. In order to suppress image sticking, it is necessary to avoid charge accumulation due to photocharge of the lower layer film, so at least the first polyamic acid compound contained in the lower layer film does not have a primary amino group at both ends. It is preferable.

<配向膜>
本発明のワニスは、これを塗布対象に塗布し、200℃程度の温度で加熱することによってイミド化する。より具体的には、ポリアミド酸系化合物として第1ポリアミド酸系化合物のみを含むワニスの場合には、第1ポリアミド酸系化合物が、イミド化する。ポリアミド酸系化合物として第1ポリアミド酸系化合物および第2ポリアミド酸系化合物を含むワニスの場合には、塗布後二層に相分離し、加熱により第1ポリアミド酸系化合物および第2ポリアミド酸系化合物の両方がイミド化する。
<Alignment film>
The varnish of the present invention is imidized by applying it to an application target and heating at a temperature of about 200 ° C. More specifically, in the case of a varnish containing only the first polyamic acid compound as the polyamic acid compound, the first polyamic acid compound is imidized. In the case of a varnish containing a first polyamic acid compound and a second polyamic acid compound as the polyamic acid compound, the first polyamic acid compound and the second polyamic acid compound are phase-separated into two layers after coating and heated. Both imidize.

イミド化後の膜に、光配向処理を行って、配向膜を提供する。光配向処理は、波長254nmまたは365nmの短波長紫外光を膜に照射することによって行うことができる。
いくつかの実施形態において、ポリイミド化合物は、下記式(11):
A photo-alignment process is performed on the film after imidation to provide an alignment film. The photo-alignment treatment can be performed by irradiating the film with short wavelength ultraviolet light having a wavelength of 254 nm or 365 nm.
In some embodiments, the polyimide compound has the following formula (11):

Figure 2018173545
(式(11)中、J、並びにR、RおよびRは、式(1)に関して定義した通りである)で表される末端骨格、
下記式(12)
Figure 2018173545
(In formula (11), J 1 and R 1 , R 2 and R 3 are as defined for formula (1)),
Following formula (12)

Figure 2018173545
(式(12)中、J、並びにR、RおよびRは、式(1)に関して定義した通りである)で表される末端骨格、
下記式(13):
Figure 2018173545
(In formula (12), J 1 and R 1 , R 2 and R 3 are as defined in relation to formula (1)),
Following formula (13):

Figure 2018173545
(式(13)中、J、並びにR、RおよびRは、式(1)に関して定義した通りである)で表される末端骨格、または
下記式(14):
Figure 2018173545
(In formula (13), J 1 and R 1 , R 2 and R 3 are as defined for formula (1)), or the following formula (14):

Figure 2018173545
(式(14)中、K、J並びにR、RおよびRは、式(2)に関して定義した通りである)で表される末端骨格を有する。
Figure 2018173545
(In the formula (14), K, J 2 and R 5 , R 6 and R 7 are as defined in relation to the formula (2)).

上記式(11)〜(14)のような末端骨格を有するポリイミド化合物は、上記式(4)および(5)のような末端骨格を有する第1ポリアミド酸系化合物を加熱してイミド化することによって形成することができる。   The polyimide compound having a terminal skeleton as in the above formulas (11) to (14) is heated to imidize the first polyamic acid compound having a terminal skeleton as in the above formulas (4) and (5). Can be formed.

以下、本発明を実施例により説明するが、初めに、ポリアミド酸系化合物の合成例を記載する。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, the synthesis example of a polyamic-acid type compound is described first.

ポリアミド酸系化合物の合成例
1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物100モル部のNMP溶液と、p−フェニレンジアミン90モル部のNMP溶液とを混合し、室温で8時間反応させて、ポリアミド酸を生成させた。未反応のモノマー、低分子量成分を除去して、固形分濃度15質量%のポリアミド酸溶液を得た。
Synthesis Example of Polyamic Acid Compound 1,3-Dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride 100 mol part NMP solution and p-phenylenediamine 90 mol part NMP solution were mixed. The reaction was carried out at room temperature for 8 hours to produce polyamic acid. Unreacted monomers and low molecular weight components were removed to obtain a polyamic acid solution having a solid concentration of 15% by mass.

上述した合成例で合成したポリアミド酸系化合物の酸骨格、ジアミン骨格、各末端骨格を下記表1に示す。表1において、酸骨格に付されている「※」印は、ジアミン骨格との結合部位を示し、ジアミン骨格に付されている「※」印は、酸骨格との結合部位を示し、末端骨格における「※」印は、末端骨格がアミドを有する場合は、酸骨格との結合部位を示し、末端骨格がカルボキシル基を有する場合は、ジアミン骨格との結合部位を示す。   Table 1 below shows the acid skeleton, diamine skeleton, and terminal skeleton of the polyamic acid compound synthesized in the synthesis example described above. In Table 1, the “*” mark attached to the acid skeleton indicates the binding site with the diamine skeleton, and the “*” mark attached to the diamine skeleton indicates the binding site with the acid skeleton, In the case where the terminal skeleton has an amide, the “*” mark indicates the binding site with the acid skeleton, and when the terminal skeleton has a carboxyl group, the binding site with the diamine skeleton.

Figure 2018173545
Figure 2018173545

実施例1〜3および比較例1,2
上記表1の ポリアミド酸系化合物には、下記表2に示すようなアルコキシシランをそれぞれ加え(加えない場合もある)、均一になるように撹拌して各塗布液を調製した。図1および図2に示す構造の液晶表示装置の第1基板SUB1上の第1配向膜AL1、および第2基板SUB2上の第2配向膜AL2を塗布すべき領域に各塗布液を塗布し、200℃に加熱してイミド化を行った。イミド化率は、いずれも80%であった。各イミド化膜に対し、短波長の紫外光を用いて光配向処理を行った。各配向膜を洗浄した後、こうして第1配向膜AL1を形成した第1基板SUB1、および第2配向膜AL2を形成した第2基板SUB2を用いて常法により図1に示す構造の液晶表示装置を作製した。液晶としては、誘電異方性がΔεが負でその値が−4.1(1kHz,20℃)であり、屈折率異方性Δnが0.0821(波長590nm,20℃)のネマチック液晶材料(メルク社製MLC−2039)を用いた。
Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2
To the polyamic acid compound of Table 1 above, alkoxysilane as shown in Table 2 below was added (may not be added), and each coating solution was prepared by stirring uniformly. Each coating liquid is applied to the region where the first alignment film AL1 on the first substrate SUB1 and the second alignment film AL2 on the second substrate SUB2 of the liquid crystal display device having the structure shown in FIGS. Imidization was performed by heating to 200 ° C. The imidation ratio was 80% in all cases. Each imidized film was subjected to photo-alignment treatment using short-wavelength ultraviolet light. After each alignment film is cleaned, the liquid crystal display device having the structure shown in FIG. 1 is formed by a conventional method using the first substrate SUB1 formed with the first alignment film AL1 and the second substrate SUB2 formed with the second alignment film AL2. Was made. As a liquid crystal, a nematic liquid crystal material having a negative dielectric anisotropy Δε and a value of −4.1 (1 kHz, 20 ° C.) and a refractive index anisotropy Δn of 0.0821 (wavelength 590 nm, 20 ° C.). (Merck MLC-2039) was used.

最初に、作製した比較例1および比較例2の液晶表示装置を温度60℃、フレーム周波数1Hz、印加電圧5Vの条件下で駆動させ、液晶表示装置に含まれる液晶の電圧保持率へのアミン系シランカップリング剤(3−アミノプロピルトリメトキシシラン)の影響を検討した。その結果を図4に示す。   First, the produced liquid crystal display devices of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 are driven under the conditions of a temperature of 60 ° C., a frame frequency of 1 Hz, and an applied voltage of 5 V, and an amine system for the voltage holding ratio of the liquid crystal contained in the liquid crystal display device The influence of a silane coupling agent (3-aminopropyltrimethoxysilane) was examined. The result is shown in FIG.

図4から明らかなように、アミン系シランカップリング剤を含む比較例2(図4中の(ii))は、アルコキシシランを含まない比較例1(図4中の(i))と比較して、電圧印加1秒後の電圧が低下している、すなわち電圧保持率が低下していることがわかる。   As is clear from FIG. 4, Comparative Example 2 ((ii) in FIG. 4) containing an amine-based silane coupling agent was compared with Comparative Example 1 ((i) in FIG. 4) containing no alkoxysilane. Thus, it can be seen that the voltage one second after the voltage application is lowered, that is, the voltage holding ratio is lowered.

次に、実施例1〜3および比較例1,2の液晶表示装置に、図5に示す白と黒(図中斜線で示す)のチェッカーフラグパターンを60℃で1時間表示させた。各チェッカーパターンは、一辺5mmの正方形であった。白は最大輝度(256/256階調)であり、黒は最少輝度(0/256階調)である。その後、画面全体に31/256階調のグレー表示をさせると、1時間表示時の白表示部と黒表示部で輝度が異なる現象(焼付き)が観察された。両表示部の輝度変化率:
{(a−b)/b}×100
(式中、aは、白表示部の輝度であり、bは、黒表示部の輝度である)を残像強度とした。この数値が1%以上あると、人間の目には残像として認識される。
Next, on the liquid crystal display devices of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, the checker flag pattern of white and black (shown by hatching in the figure) shown in FIG. 5 was displayed at 60 ° C. for 1 hour. Each checker pattern was a square with a side of 5 mm. White has the maximum luminance (256/256 gradations), and black has the minimum luminance (0/256 gradations). Thereafter, when gray display with 31/256 gradations was made on the entire screen, a phenomenon (burn-in) in which the luminance was different between the white display portion and the black display portion during 1 hour display was observed. Brightness change rate of both displays:
{(Ab) / b} × 100
(Where a is the luminance of the white display portion and b is the luminance of the black display portion) was defined as the afterimage intensity. If this value is 1% or more, it is recognized as an afterimage by human eyes.

上記チェッカーフラグパターンを60℃で1時間連続点灯した後のグレー表示における焼付きの発生の有無を目視によって観測し、以下の3段階で評価した。
A:グレー表示において焼付きは視認されなかった。
B:グレー表示において焼付きが視認されたが許容範囲(斜めから見たらかろうじて見える焼付き)であった。
C:グレー表示において焼付きが視認された。
The presence or absence of image sticking in the gray display after the checker flag pattern was continuously lit at 60 ° C. for 1 hour was visually observed and evaluated in the following three stages.
A: Seizure was not visually recognized in gray display.
B: Although seizure was visually recognized in gray display, it was within an allowable range (seizure barely visible when viewed obliquely).
C: Image sticking was visually recognized in gray display.

また、窒化ケイ素膜(SiN)を備えるガラス基板の当該SiN上に上記表2の各塗布液を塗布し、200℃に加熱してイミド化を行った。イミド化率は、いずれも80%であった。各イミド化膜に対し、短波長の紫外光を用いて光配向処理を行った。各配向膜を洗浄した後、同じ構成の基板同士を、シール剤を介して貼り合せた後に接着し、基板同士の密着性を以下の3段階で評価した。
A:基板を手で剥がすことができなかった。
B:基板を手で剥がすことができた。
C:基板を手で容易に剥がすことができた。
結果を表2に併記する。
Moreover, each coating liquid of the said Table 2 was apply | coated on the said SiN of the glass substrate provided with a silicon nitride film (SiN), and it heated at 200 degreeC, and imidated. The imidation ratio was 80% in all cases. Each imidized film was subjected to photo-alignment treatment using short-wavelength ultraviolet light. After each alignment film was washed, substrates having the same structure were bonded together after a sealant was bonded thereto, and the adhesion between the substrates was evaluated in the following three stages.
A: The substrate could not be peeled off by hand.
B: The substrate could be peeled off by hand.
C: The substrate could be easily peeled off by hand.
The results are also shown in Table 2.

Figure 2018173545
表2の結果から明らかなように、実施例1〜3の光配向膜用ワニスを含む配向膜を備える液晶表示装置は、焼付きが抑制または防止され、シール部との接着力を確保できる。
Figure 2018173545
As is apparent from the results in Table 2, the liquid crystal display device including the alignment film containing the varnish for optical alignment film of Examples 1 to 3 can suppress or prevent seizure and secure an adhesive force with the seal portion.

以上の実施形態では、液晶表示装置の例として、透過型の液晶表示装置について説明したが、液晶表示装置DSPは、例えば、外部から入射する外光を各画素PXで選択的に反射することによって画像を表示する反射表示機能を兼ね備えた、いわゆる半透過型の液晶表示装置であってもよい。半透過型の液晶表示装置については、光源として、液晶表示パネルPNLの観察者側に、フロントライトユニットが配置されていてもよい。   In the above embodiment, the transmissive liquid crystal display device has been described as an example of the liquid crystal display device. However, the liquid crystal display device DSP, for example, selectively reflects external light incident from the outside on each pixel PX. A so-called transflective liquid crystal display device having a reflective display function for displaying an image may also be used. In the transflective liquid crystal display device, a front light unit may be disposed on the viewer side of the liquid crystal display panel PNL as a light source.

また、液晶表示装置の例として、IPS(In−Plane Switching)モード、FFS(Fringe Field Switching)モードなどの主として横電界を利用するモードの液晶表示装置について説明したが、本発明は他のモード、例えば、TN(Twisted Nematic)モード、OCB(Optically Compensated Bend)モード、VA(Vertical Aligned)モードなどの主として縦電界を利用するモードの液晶表示装置にも適用することができる。   In addition, as an example of the liquid crystal display device, a liquid crystal display device in a mode mainly using a lateral electric field such as an IPS (In-Plane Switching) mode and an FFS (Fringe Field Switching) mode has been described. For example, the present invention can also be applied to a liquid crystal display device that mainly uses a vertical electric field, such as a TN (Twisted Nematic) mode, an OCB (Optically Compensated Bend) mode, or a VA (Vertical Aligned) mode.

以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。   As mentioned above, although some embodiment of this invention was described, these embodiment is shown as an example and is not intending limiting the range of invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.

DSP…液晶表示装置 SUB1…第1基板 SUB2…第2基板 RG1…第1領域 RG2…第2領域 CF…カラーフィルタ BM…遮光膜 EXC…外部回路 SP…シール部 LC…液晶層 NDA…額縁領域 DA…画像表示領域 PX…画素 FPC1、FPC2…フレキシブル回路基板 CM…制御モジュール LI…光照射部 S1…第1下地基板 IL1…第1絶縁膜 IL2…第2絶縁膜 IL3…第3絶縁膜 SL…走査引き出し線 OP…有機パッシベーション膜 ST…スリット AL1…第1配向膜 S2…第2下地基板 OC…オーバーコート層 PS1、PS2…柱状スペーサ WS…壁状スペーサ AL2…第2配向膜 WL1…第1配線 WL2…第2配線 WL3…第3配線   DSP ... Liquid crystal display device SUB1 ... First substrate SUB2 ... Second substrate RG1 ... First region RG2 ... Second region CF ... Color filter BM ... Shading film EXC ... External circuit SP ... Sealing part LC ... Liquid crystal layer NDA ... Frame region DA ... Image display area PX ... Pixel FPC1, FPC2 ... Flexible circuit board CM ... Control module LI ... Light irradiation part S1 ... First base substrate IL1 ... First insulating film IL2 ... Second insulating film IL3 ... Third insulating film SL ... Scanning Lead line OP ... Organic passivation film ST ... Slit AL1 ... First alignment film S2 ... Second base substrate OC ... Overcoat layer PS1, PS2 ... Column spacer WS ... Wall spacer AL2 ... Second alignment film WL1 ... First wiring WL2 ... second wiring WL3 ... third wiring

Claims (12)

有機溶媒中に、アルコキシシランと、ポリアミド酸またはポリアミド酸エステルである第1ポリアミド酸系化合物とを含み、
前記アルコキシシランは、第一級アミノ基および第二級アミノ基を含まないことを特徴とする光配向膜用ワニス。
In an organic solvent, an alkoxysilane and a first polyamic acid compound that is a polyamic acid or a polyamic acid ester are included,
The varnish for a photo-alignment film, wherein the alkoxysilane does not contain a primary amino group and a secondary amino group.
前記アルコキシシランが、エポキシ骨格または酸無水物骨格を有することを特徴とする請求項1に記載の光配向膜用ワニス。   The varnish for a photoalignment film according to claim 1, wherein the alkoxysilane has an epoxy skeleton or an acid anhydride skeleton. 前記第1ポリアミド酸系化合物が、下記式(1):
Figure 2018173545
(式(1)中、Jは、単結合または炭素数1〜4の2価の有機基であり、mは、1または2の整数であり、R、RおよびRは、それぞれ独立に、アルキル基またはアルコキシ基であり、少なくとも1つはアルコキシ基である)で表される末端骨格、または
下記式(2):
Figure 2018173545
(式(2)中、Kは、炭素数1〜6の3価の有機基であり、Jは、単結合または炭素数1〜4の2価の有機基であり、Rは、−COOHまたは−COOR(ここで、Rは、アルキル基である)であり、R、RおよびRは、それぞれ独立に、アルキル基またはアルコキシ基であり、少なくとも1つはアルコキシ基である)で表される末端骨格を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光配向膜用ワニス。
The first polyamic acid-based compound has the following formula (1):
Figure 2018173545
(In the formula (1), J 1 is a single bond or a divalent organic group having 1 to 4 carbon atoms, m is an integer of 1 or 2, and R 1 , R 2 and R 3 are respectively Independently an alkyl group or an alkoxy group, and at least one is an alkoxy group), or a terminal skeleton represented by the following formula (2):
Figure 2018173545
(In the formula (2), K is a trivalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, J 2 is a single bond or a divalent organic group having 1 to 4 carbon atoms, R 4 is - COOH or —COOR (wherein R is an alkyl group), R 5 , R 6 and R 7 are each independently an alkyl group or an alkoxy group, and at least one is an alkoxy group) The varnish for a photo-alignment film according to claim 1, which has a terminal skeleton represented by
前記アルコキシシランは、下記式(3):
Figure 2018173545
(式(3)中、Kは、炭素数1〜6の3価の有機基であり、Jは、単結合または炭素数1〜4の2価の有機基であり、R、RおよびRは、それぞれ独立に、アルキル基またはアルコキシ基であり、少なくとも1つはアルコキシ基である)で表されることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の光配向膜用ワニス。
The alkoxysilane has the following formula (3):
Figure 2018173545
(In the formula (3), K is a trivalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, J 2 is a single bond or a divalent organic group having 1 to 4 carbon atoms, R 5, R 6 4 and R 7 are each independently an alkyl group or an alkoxy group, and at least one is an alkoxy group). Varnish for photo-alignment film.
前記第1ポリアミド酸系化合物が、下記式(4):
Figure 2018173545
(式(4)中、Xは、環式基であり、RおよびRは、それぞれ独立に、−COOHまたは−COOR(ここで、Rは、アルキル基である)であり、Yは、有機基である)で表される構造単位を有することを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の光配向膜用ワニス。
The first polyamic acid-based compound has the following formula (4):
Figure 2018173545
(In Formula (4), X is a cyclic group, R 8 and R 9 are each independently —COOH or —COOR (where R is an alkyl group), and Y 1 is The varnish for a photo-alignment film according to claim 1, wherein the varnish for a photo-alignment film has a structural unit represented by:
前記第1ポリアミド酸系化合物は、下記式(5):
Figure 2018173545
(式(5)中、Lは、Ar、またはAr−Z−Arであり、Ar、ArおよびArは、それぞれ独立に、芳香族基であり、Zは、第一級アミノ基および第二級アミノ基を含有しない有機基である)で示されるジアミン骨格を有することを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の光配向膜用ワニス。
The first polyamic acid-based compound has the following formula (5):
Figure 2018173545
(In the formula (5), L is Ar 0 or an Ar 1 -Z-Ar 2,, Ar 0, Ar 1 and Ar 2 each independently, an aromatic group, Z is a primary 6. The varnish for a photoalignment film according to claim 1, which has a diamine skeleton represented by an organic group containing no amino group and secondary amino group.
前記Zが、酸素、窒素、硫黄、炭素、水素またはそれら2つ以上の組合せから構成され、当該Zは、ヒドロキシル基、チオール基および第三級を除くアミノ基(−NHまたは>NH)を有しないことを特徴とする請求項6に記載の光配向膜用ワニス。   The Z is composed of oxygen, nitrogen, sulfur, carbon, hydrogen or a combination of two or more thereof, and the Z has an amino group (—NH or> NH) excluding a hydroxyl group, a thiol group and a tertiary group. The varnish for a photo-alignment film according to claim 6, wherein the varnish is not used. ポリアミド酸またはポリアミド酸エステルである第2ポリアミド酸系化合物をさらに含み、前記第1ポリアミド酸系化合物は、前記第2ポリアミド酸系化合物よりも高い極性を有することを特徴とする請求項1から請求項7までのいずれか一項に記載の光配向膜用ワニス。   The second polyamic acid compound which is a polyamic acid or a polyamic acid ester is further included, and the first polyamic acid compound has a higher polarity than the second polyamic acid compound. Item 8. The varnish for a photoalignment film according to any one of Items 7 to 7. 第1基板と、
前記第1基板に対向する第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板とを接着するシール部と、
前記第1基板と前記第2基板と前記シール部との間にある液晶層と、
前記第1基板にあり前記液晶層と接する配向膜と
を備え、
前記配向膜は、末端骨格が、第一級アミノ基および第二級アミノ基を有さず、アルコキシシラン基を有するポリイミド化合物を含むことを特徴とする液晶表示装置。
A first substrate;
A second substrate facing the first substrate;
A seal portion for bonding the first substrate and the second substrate;
A liquid crystal layer between the first substrate, the second substrate, and the seal portion;
An alignment film on the first substrate and in contact with the liquid crystal layer;
The alignment film includes a polyimide compound whose terminal skeleton does not have a primary amino group and a secondary amino group but has an alkoxysilane group.
前記ポリイミド化合物が、下記式(6):
Figure 2018173545
(式(6)中、Jは、単結合または炭素数1〜4の2価の有機基であり、R、RおよびRは、それぞれ独立に、アルキル基またはアルコキシ基であり、少なくとも1つはアルコキシ基である)で表される末端骨格、
下記式(7):
Figure 2018173545
(式(7)中、Jは、単結合または炭素数1〜4の2価の有機基であり、R、RおよびRは、それぞれ独立に、アルキル基またはアルコキシ基であり、少なくとも1つはアルコキシ基である)で表される末端骨格、
下記式(8):
Figure 2018173545
(式(8)中、Jは、単結合または炭素数1〜4の2価の有機基であり、R、RおよびRは、それぞれ独立に、アルキル基またはアルコキシ基であり、少なくとも1つはアルコキシ基である)で表される末端骨格、または
下記式(9):
Figure 2018173545
(式(9)中、Kは、炭素数1〜6の3価の有機基であり、Jは、単結合または炭素数1〜4の2価の有機基であり、R、RおよびRは、それぞれ独立に、アルキル基またはアルコキシ基であり、少なくとも1つはアルコキシ基である)で表される末端骨格を有することを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置。
The polyimide compound has the following formula (6):
Figure 2018173545
(In the formula (6), J 1 is a single bond or a divalent organic group having 1 to 4 carbon atoms, R 1, R 2 and R 3 are each independently an alkyl group or an alkoxy group, At least one is an alkoxy group)
Following formula (7):
Figure 2018173545
(In the formula (7), J 1 is a single bond or a divalent organic group having 1 to 4 carbon atoms, R 1, R 2 and R 3 are each independently an alkyl group or an alkoxy group, At least one is an alkoxy group)
Following formula (8):
Figure 2018173545
(In the formula (8), J 1 is a single bond or a divalent organic group having 1 to 4 carbon atoms, R 1, R 2 and R 3 are each independently an alkyl group or an alkoxy group, At least one is an alkoxy group), or the following formula (9):
Figure 2018173545
(In the formula (9), K is a trivalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, J 2 is a single bond or a divalent organic group having 1 to 4 carbon atoms, R 5, R 6 And R 7 each independently has an end group represented by an alkyl group or an alkoxy group, and at least one is an alkoxy group.
前記第1基板は、前記液晶層側に絶縁膜を備え、前記シール部と前記絶縁膜との間に、前記配向膜があることを特徴とする請求項9または請求項10に記載の液晶表示装置。   11. The liquid crystal display according to claim 9, wherein the first substrate includes an insulating film on the liquid crystal layer side, and the alignment film is provided between the seal portion and the insulating film. apparatus. 前記第1基板は、第1配線と、前記第1配線を覆う第1絶縁膜と、前記第1配線よりも上側にある第2配線と、前記第2配線を覆う第2絶縁膜と、前記第2配線よりも上側にある第3配線と、前記第3配線を覆う第3絶縁膜とを備え、前記シール部と前記第3絶縁膜との間に、前記配向膜があることを特徴とする請求項9から請求項11までのいずれか一項に記載の液晶表示装置。   The first substrate includes a first wiring, a first insulating film that covers the first wiring, a second wiring that is above the first wiring, a second insulating film that covers the second wiring, A third wiring on the upper side of the second wiring; a third insulating film covering the third wiring; and the alignment film between the seal portion and the third insulating film. The liquid crystal display device according to any one of claims 9 to 11.
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