JP2018168458A - Silver powder, silver powder manufacturing method, paste-like composition, joined body manufacturing method, and silver film manufacturing method - Google Patents
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Abstract
【課題】従来よりも低温での加熱により緻密な焼結体を生成させることができる銀粉と銀粉の製造方法を提供する。
【解決手段】飛行時間型二次イオン質量分析法において、Ag+イオンの検出量に対して、C3H3O3 −イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC6H6O8 −イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲にあり、一次粒子径の個数分布において、粒径が20nm以上50nm以下の範囲にある一次粒子の含有量が65個数%以上であり、かつ粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある一次粒子の含有量が3個数%以上であることを特徴とする銀粉。
【選択図】なしThe present invention provides a silver powder and a method for producing silver powder, which can form a dense sintered body by heating at a lower temperature than in the past.
In time-of-flight secondary ion mass spectrometry, the detected amount of C 3 H 3 O 3 − ions is 0.2 to 1.0 times the detected amount of Ag + ions, and C 6 H 6 O 8 - is in the range detection amount less 0.02 times 0.005 times the ion content of the primary particles is in the number distribution of the primary particle size in the range particle size of 20nm or more 50nm or less The silver powder is characterized in that the content of primary particles having a particle size of 200 nm or more and 500 nm or less is 3 number% or more.
[Selection figure] None
Description
本発明は、例えば、回路基板と電子部品とを接合するための接合材や太陽電池素子の電極の原料として用いられる銀粉と、この銀粉を製造する方法とに関するものである。本発明はまた、上記の銀粉を含むペースト状組成物と、このペースト状組成物を用いた接合体の製造方法および銀膜の製造方法にも関する。 The present invention relates to, for example, a silver powder used as a bonding material for bonding a circuit board and an electronic component or a raw material for an electrode of a solar cell element, and a method for producing the silver powder. The present invention also relates to a paste-like composition containing the above silver powder, a method for producing a joined body using the paste-like composition, and a method for producing a silver film.
粒径がナノサイズの金属ナノ粒子からなる微細な金属粉は、金属本来の融点よりも低い温度で焼結させることが可能となることが知られている。特に、微細な銀粉は導電性と放熱性が高いことから、回路基板と半導体チップやLED素子などの電子部品とを接合するための接合材や太陽電池素子の電極などの原料として注目されている。 It is known that a fine metal powder composed of metal nanoparticles having a nano particle size can be sintered at a temperature lower than the original melting point of the metal. In particular, since fine silver powder has high conductivity and heat dissipation, it attracts attention as a raw material for bonding materials for bonding circuit boards and electronic components such as semiconductor chips and LED elements, and electrodes for solar cell elements. .
特許文献1には、粒径がナノサイズの金属ナノ粒子を製造する方法として、金属塩水溶液(A)、カルボン酸類水溶液(B)、還元剤水溶液(C)をそれぞれ調製する工程と、カルボン酸類水溶液(B)と金属塩水溶液(A)又は還元剤水溶液(C)のいずれか一方とを混合して混合液を形成する工程と、混合液に金属塩水溶液(A)又は還元剤水溶液(C)のいずれか他方を添加して更に混合することにより金属ナノ粒子を生成させる工程とを有する方法が開示されている。
In
特許文献2には、金属ナノ粒子を用いた接合材として、平均一次粒径が0.5〜3.0μmである金属サブミクロン粒子と、平均一次粒子径が1〜200nmであって、炭素数6〜8の有機化合物で被覆された金属ナノ粒子と、これらを分散させる分散媒を含む接合材が開示されている。
In
近年の電気機器の小型化や高機能化に伴って、半導体素子の高集積化が進められており、半導体素子にて発生する熱量は増加する傾向にある。このため、金属ナノ粒子を用いた接合材においては、なるべく低温の加熱によって、空孔が少ない緻密な焼結体(接合層)を形成できるものであることが望まれている。緻密な焼結体とすることによって、基板回路と半導体素子とを高い接合強度で接合することができ、また、熱伝導性が高くなるので半導体素子で発生した熱を外部に放出し易くなり、さらには熱膨張や熱収縮による破損が起こりにくいという利点がある。 With the recent miniaturization and higher functionality of electrical equipment, higher integration of semiconductor elements has been promoted, and the amount of heat generated in the semiconductor elements tends to increase. For this reason, in the bonding material using metal nanoparticles, it is desired that a dense sintered body (bonding layer) with few voids can be formed by heating at as low a temperature as possible. By making a dense sintered body, the substrate circuit and the semiconductor element can be bonded with high bonding strength, and since the thermal conductivity is increased, the heat generated in the semiconductor element is easily released to the outside. Furthermore, there is an advantage that breakage due to thermal expansion and contraction hardly occurs.
特許文献1に記載されている金属ナノ粒子の製造方法は、金属ナノ粒子を製造する方法としては有用である。しかしながら、金属ナノ粒子のみを含む金属粉は、粒子間に隙間が形成しやすく、緻密な焼結体を形成するのが難しいという問題があった。
The method for producing metal nanoparticles described in
一方、特許文献2に記載されている金属ナノ粒子と金属サブミクロン粒子とを含む接合材は、金属サブミクロン粒子間の隙間に金属ナノ粒子が充填されるので、金属ナノ粒子のみからなる金属粉と比較して緻密な焼結体を形成することが可能となる。しかしながら、特許文献2に記載されている接合材は、金属ナノ粒子は炭素数6〜8の有機化合物で被覆されていて、金属サブミクロン粒子とは表面状態が異なるため、部分的に有機化合物が残存すると接合強度が低下してしまうおそれがあった。また、有機化合物を完全に除去するためには、高温で加熱する必要があった。さらに、その接合材の製造に際しては、表面状態が異なる金属サブミクロン粒子と金属ナノ粒子とをそれぞれ用意し、これらを分散媒に混合することが必要となるための作業が煩雑となるおそれがあった。
On the other hand, the bonding material including metal nanoparticles and metal submicron particles described in
本発明は、以上のような事情を背景としてなされたものであって、従来よりも低温での加熱により緻密な焼結体を生成させることができる銀粉と銀粉の製造方法を提供することを目的としている。本発明はまた、上記の銀粉を含むペースト状組成物と、このペースト状組成物を用いた接合体の製造方法および銀膜の製造方法を提供することも目的としている。 The present invention has been made in the background as described above, and an object of the present invention is to provide a silver powder and a method for producing the silver powder, which can generate a dense sintered body by heating at a lower temperature than in the past. It is said. Another object of the present invention is to provide a paste-like composition containing the above silver powder, a method for producing a joined body using the paste-like composition, and a method for producing a silver film.
上記の課題を解決するために、本発明の銀粉は、飛行時間型二次イオン質量分析法において、Ag+イオンの検出量に対して、C3H3O3 −イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC6H6O8 −イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲にあり、一次粒子径の個数分布において、粒径が20nm以上50nm以下の範囲にある一次粒子の含有量が65個数%以上であり、かつ粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある一次粒子の含有量が3個数%以上であることを特徴としている。
In order to solve the above problems, silver powder of the present invention, in a time-of-flight secondary ion mass spectrometry, the detection amount of the Ag + ion, C 3 H 3 O 3 - the detection of the
この構成の銀粉によれば、飛行時間型二次イオン質量分析法において、C3H3O3 −イオン及びC6H6O8 −イオンとして検出される有機化合物で被覆されているので、長期間保存しても表面が変質しにくい。また、Ag+イオンの検出量に対して、C3H3O3 −イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC6H6O8 −イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲にあり、粒子表面を被覆している有機化合物の量が少ないため、低温での加熱によって、有機化合物が消失して銀粒子の表面が露出するので、銀粒子同士の焼結が促進される。 According to silver powder of this configuration, in a time-of-flight secondary ion mass spectrometry, C 3 H 3 O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - because it is coated with an organic compound to be detected as an ion, the length Even when stored for a long period of time, the surface does not easily change. The detected amount of C 3 H 3 O 3 − ions is 0.2 to 1.0 times the detected amount of Ag + ions, and the detected amount of C 6 H 6 O 8 − ions is 0.2. Since the amount of the organic compound covering the particle surface is small in the range of 005 times to 0.02 times, the organic compound disappears and the surface of the silver particles is exposed by heating at a low temperature. Sintering between particles is promoted.
また、上記の構成の銀粉は、一次粒子径の個数分布において、粒径が20nm以上50nm以下の範囲にある、相対的に粒子径が小さい一次粒子の含有量が65個数%以上であり、かつ粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある、相対的に粒子径が大きい一次粒子の含有量が3個数%以上とされているので、加熱によって得られる焼結体は、相対的に粒径が大きい一次粒子同士の間に、相対的に粒径が小さい一次粒子が充填された形状となり緻密となる。
よって、上記の構成の銀粉によれば、従来よりも低温での加熱によって緻密な焼結体を形成することができる。
Further, the silver powder having the above-described configuration has a primary particle size content of 65% by number or more in the number distribution of primary particle sizes, in which the particle size is in the range of 20 nm to 50 nm, and the particle size is relatively small. Since the content of primary particles having a particle size in the range of 200 nm to 500 nm and having a relatively large particle size is 3% by number or more, the sintered body obtained by heating has a relatively particle size. A large primary particle is packed with primary particles having a relatively small particle size, and the particle becomes dense.
Therefore, according to the silver powder having the above-described configuration, a dense sintered body can be formed by heating at a lower temperature than conventional.
ここで、本発明の銀粉においては、前記一次粒子径の個数分布において、粒径が20nm以上50nm以下の範囲にある一次粒子と、粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある一次粒子との合計含有量が85個数%以上であることが好ましい。
この場合は、銀粉の一次粒子の大部分が、粒径が相対的に小さい20nm以上50nm以下の範囲にある一次粒子と、粒径が相対的に大きい粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある一次粒子となるので、加熱によって得られる焼結体を確実に緻密にすることができる。
Here, in the silver powder of the present invention, in the primary particle diameter number distribution, the total of primary particles having a particle diameter in the range of 20 nm to 50 nm and primary particles having a particle diameter in the range of 200 nm to 500 nm. The content is preferably 85% by number or more.
In this case, most of the primary particles of the silver powder are primary particles having a relatively small particle size in the range of 20 nm to 50 nm and a relatively large particle size in the range of 200 nm to 500 nm. Since it becomes a primary particle, the sintered compact obtained by heating can be reliably densified.
本発明の銀粉の製造方法は、銀塩水溶液とカルボン酸またはカルボン酸塩の水溶液とを水中に同時に滴下して、カルボン酸銀粒子を生成させてカルボン酸銀スラリーを調製する工程と、前記カルボン酸銀スラリーに還元剤水溶液を滴下した後、92℃以上95℃以下の範囲の温度で保持することにより、前記カルボン酸銀粒子を還元して銀粒子を生成させて銀粉スラリーを調製する工程と、前記銀粉スラリーを乾燥して銀粉を得る工程と、を有することを特徴としている。 The method for producing silver powder of the present invention comprises a step of simultaneously dropping a silver salt aqueous solution and a carboxylic acid or carboxylate aqueous solution into water to produce silver carboxylate particles to prepare a silver carboxylate slurry; A step of preparing a silver powder slurry by dropping the aqueous reducing agent solution into the acid silver slurry and then reducing the carboxylate silver particles to produce silver particles by holding at a temperature in the range of 92 ° C. to 95 ° C. And a step of drying the silver powder slurry to obtain silver powder.
この構成の銀粉の製造方法によれば、銀塩水溶液とカルボン酸またはカルボン酸塩の水溶液とを水中に同時に滴下して、カルボン酸銀粒子を生成させるので、粒径が20nm以上50nm以下の範囲と粒径が200nm以上500nm以下の範囲とにそれぞれピークを有するカルボン酸銀粒子を生成させることができる。そして、そのカルボン酸銀粒子を含むカルボン酸銀スラリーに還元剤水溶液を滴下した後、92℃以上95℃以下の範囲の温度で保持することにより、カルボン酸銀粒子を還元するので、表面がC3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンで被覆され、かつ一次粒子径の個数分布において、粒径が20nm以上50nm以下の範囲と粒径が200nm以上500nm以下の範囲とにそれぞれピークを有する銀粒子を生成させることができる。 According to the method for producing silver powder having this configuration, an aqueous silver salt solution and an aqueous solution of a carboxylic acid or a carboxylic acid salt are simultaneously dropped into water to produce silver carboxylate particles, so that the particle size ranges from 20 nm to 50 nm. And silver carboxylate particles each having a peak in the range of 200 nm to 500 nm. Then, after dropping the reducing agent aqueous solution into the silver carboxylate slurry containing the silver carboxylate particles, the silver carboxylate particles are reduced by holding at a temperature in the range of 92 ° C. or higher and 95 ° C. or lower. In the number distribution of primary particle diameters covered with 3 H 3 O 3 − ions and C 6 H 6 O 8 − ions, the particle size is in the range of 20 nm to 50 nm and the particle size is in the range of 200 nm to 500 nm. Silver particles each having a peak can be generated.
また、上記の構成の銀粉の製造方法によって得られる銀粒子の表面はカルボン酸に由来する有機化合物で被覆されているので、銀粒子の表面が酸化しにくく、凝集が起こりにくくなる。さらに、得られた銀粉は、粒径が20nm以上50nm以下の範囲にある銀粒子と、粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある銀粒子とを含み、その両方の銀粒子の表面が、比較的低温で分解するカルボン酸由来の有機化合物(保護剤)で被覆されているので、低温での加熱によって銀粉から保護剤が外れ、銀粉同士の焼結が進行し、緻密な焼結体を形成することができる。 Moreover, since the surface of the silver particle obtained by the manufacturing method of the silver powder of said structure is coat | covered with the organic compound derived from carboxylic acid, the surface of a silver particle cannot be oxidized easily and aggregation becomes difficult to occur. Furthermore, the obtained silver powder includes silver particles having a particle size in the range of 20 nm to 50 nm and silver particles having a particle size in the range of 200 nm to 500 nm, and the surfaces of both silver particles are compared. Since it is coated with a carboxylic acid-derived organic compound (protective agent) that decomposes at a low temperature, the protective agent is removed from the silver powder by heating at a low temperature, and sintering of the silver powder proceeds to form a dense sintered body. can do.
ここで、本発明の銀粉の製造方法においては、前記銀塩水溶液中の銀塩は、硝酸銀、塩素酸銀およびリン酸銀からなる群より選ばれた1種又は2種以上の化合物であることが好ましい。
この場合、硝酸銀、塩素酸銀およびリン酸銀などの銀塩は、水のへの溶解度が高いため、これらの銀塩の水溶液とカルボン酸またはカルボン酸塩の水溶液とを水中に同時に滴下することによって、確実にカルボン酸銀粒子を生成させることができる。
Here, in the method for producing silver powder of the present invention, the silver salt in the aqueous silver salt solution is one or more compounds selected from the group consisting of silver nitrate, silver chlorate and silver phosphate. Is preferred.
In this case, since silver salts such as silver nitrate, silver chlorate, and silver phosphate have high solubility in water, an aqueous solution of these silver salts and an aqueous solution of a carboxylic acid or a carboxylate should be dropped simultaneously into water. Thus, silver carboxylate particles can be reliably generated.
また、本発明の銀粉の製造方法においては、前記カルボン酸またはカルボン酸塩の水溶液中のカルボン酸は、グリコール酸、クエン酸、リンゴ酸、マレイン酸、マロン酸、フマル酸、コハク酸および酒石酸からなる群より選ばれた1種又は2種以上の化合物であることが好ましい。
この場合、グリコール酸、クエン酸、リンゴ酸、マレイン酸、マロン酸、フマル酸、コハク酸及び酒石酸は、銀との親和性が高く、銀と安定なキレート(カルボン酸銀)を形成するため、これらのカルボン酸またはカルボン酸塩の水溶液との銀塩水溶液とを水中に同時に滴下することによって、確実にカルボン酸銀粒子を生成させることができる。また、これらのカルボン酸は銀粉の表面に付着しやすいので、飛行時間型二次イオン質量分析法において、C3H3O3 −イオン及びC6H6O8 −イオンとして検出される有機化合物(カルボン酸由来の有機化合物)で被覆された銀粉を得ることができる。
In the method for producing silver powder of the present invention, the carboxylic acid in the aqueous solution of the carboxylic acid or carboxylate is selected from glycolic acid, citric acid, malic acid, maleic acid, malonic acid, fumaric acid, succinic acid, and tartaric acid. It is preferable that it is 1 type or 2 or more types of compounds chosen from the group which consists of.
In this case, glycolic acid, citric acid, malic acid, maleic acid, malonic acid, fumaric acid, succinic acid and tartaric acid have a high affinity with silver and form a stable chelate (silver carboxylate) with silver. By simultaneously dropping these carboxylic acid or carboxylic acid salt aqueous solution and silver salt aqueous solution into water, silver carboxylate particles can be reliably produced. In addition, since these carboxylic acids are likely to adhere to the surface of silver powder, organic compounds detected as C 3 H 3 O 3 − ions and C 6 H 6 O 8 − ions in time-of-flight secondary ion mass spectrometry. Silver powder coated with (an organic compound derived from carboxylic acid) can be obtained.
さらに、本発明の銀粉の製造方法においては、前記還元剤水溶液中の還元剤が、ヒドラジン、アスコルビン酸、シュウ酸、ギ酸及びこれらの塩類からなる群より選ばれた1種又は2種以上の化合物であることが好ましい。
この場合、ヒドラジン、アスコルビン酸、シュウ酸、ギ酸及びこれらの塩類は、カルボン酸銀に対して優れた還元作用を有するので、銀粒子を確実に生成させることができる。またこれらの化合物は、水との親和性が高く、還元によって生成した銀粒子の表面に付着しにくいので、銀粉に混入しにくい。
Furthermore, in the method for producing silver powder of the present invention, the reducing agent in the reducing agent aqueous solution is one or more compounds selected from the group consisting of hydrazine, ascorbic acid, oxalic acid, formic acid and salts thereof. It is preferable that
In this case, hydrazine, ascorbic acid, oxalic acid, formic acid, and salts thereof have an excellent reducing action on silver carboxylate, so that silver particles can be reliably generated. In addition, these compounds have a high affinity with water and do not easily adhere to the surface of the silver particles produced by the reduction, so that they are not easily mixed into the silver powder.
本発明のペースト状組成物は、前述の銀粉と溶媒とを含むことを特徴としている。
この構成のペースト状組成物によれば、前述の銀粉を含むので、比較的低温の加熱により緻密な焼結体を生成させることができる。
The pasty composition of the present invention is characterized by containing the above-mentioned silver powder and a solvent.
According to the paste-like composition having this configuration, since the above-described silver powder is included, a dense sintered body can be generated by heating at a relatively low temperature.
ここで、本発明のペースト状組成物において、前記溶媒はアミン系溶媒を含むことが好ましい。
この場合、アミン系溶媒は銀との親和性が高く、銀粒子の表面を均一に保護するので、長期間にわたって保存した後においても、比較的低温の加熱により緻密な焼結体を確実に生成させることができる。
Here, in the paste-like composition of the present invention, the solvent preferably contains an amine solvent.
In this case, the amine solvent has a high affinity with silver and uniformly protects the surface of the silver particles, so that even after storage for a long period of time, a dense sintered body is reliably generated by heating at a relatively low temperature. Can be made.
また、前記アミン系溶媒は、炭素数が6〜10であり、かつ分子量が101.19〜157.30であるアルキルアミンであることが好ましい。
この場合、アルキルアミンは銀粉との親和性が特に高いため、長期間にわたって保存した後においても、比較的低温の加熱により緻密な焼結体をより確実に生成させることができる。
The amine solvent is preferably an alkyl amine having 6 to 10 carbon atoms and a molecular weight of 101.19 to 157.30.
In this case, since the alkylamine has a particularly high affinity with the silver powder, a dense sintered body can be more reliably generated by heating at a relatively low temperature even after storage for a long period of time.
本発明の接合体の製造方法は、第1の部材と第2の部材とが接合層を介して接合されている接合体の製造方法であって、前記第1の部材と前記第2の部材とを、前述のペースト状組成物を介して積層した積層体を形成する積層工程と、前記積層体を加熱して、前記ペースト状組成物を乾燥、焼結させて接合層を生成させる焼結工程と、を有することを特徴としている。 The method for manufacturing a joined body according to the present invention is a method for producing a joined body in which a first member and a second member are joined together via a joining layer, the first member and the second member. And a laminating step for forming a laminated body laminated via the paste-like composition described above, and sintering for heating the laminated body to dry and sinter the paste-like composition to form a bonding layer. And a process.
この構成の接合体の製造方法によれば、接合層を生成させる接合材として前述の銀粉を含むペースト状組成物を用いるので、従来よりも低温での加熱により接合強度の高い接合体を製造することができる。 According to the method for manufacturing a bonded body having this configuration, since the paste-like composition containing the above-described silver powder is used as a bonding material for generating a bonding layer, a bonded body having a high bonding strength is manufactured by heating at a lower temperature than conventional. be able to.
本発明の銀膜の製造方法は、基材に、前述のペースト状組成物を塗布する塗布工程と、前記ペースト状組成物を塗布した基材を加熱して、前記ペースト状組成物を乾燥、焼結させて銀膜を生成させる焼結工程と、を含むことを特徴としている。 The method for producing a silver film of the present invention includes a coating step of applying the paste-like composition described above to a substrate, heating the substrate coated with the paste-like composition, and drying the paste-like composition. And a sintering step of forming a silver film by sintering.
この構成の銀膜の製造方法によれば、銀膜の材料として前述の銀粉を含むペースト状組成物を用いるので、従来よりも低温での加熱により緻密な銀膜を製造することができる。 According to the method for producing a silver film having this configuration, since the paste-like composition containing the above-described silver powder is used as the material for the silver film, a dense silver film can be produced by heating at a lower temperature than conventional.
本発明によれば、従来よりも低温での加熱により緻密な焼結体を生成させることができる銀粉と銀粉の製造方法を提供することが可能となる。また、本発明によれば、上記の銀粉を含むペースト状組成物と、このペースト状組成物を用いた接合体の製造方法および銀膜の製造方法を提供することが可能となる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it becomes possible to provide the manufacturing method of silver powder and silver powder which can produce | generate a dense sintered compact by heating at low temperature than before. Moreover, according to this invention, it becomes possible to provide the paste-like composition containing said silver powder, the manufacturing method of a conjugate | zygote using this paste-like composition, and the manufacturing method of a silver film.
以下、本発明を適用した一実施形態である銀粉及び接合体の製造方法について詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。 Hereinafter, the silver powder and the manufacturing method of a joined body which are one embodiment to which the present invention is applied will be described in detail. In addition, in the drawings used in the following description, in order to make the features easy to understand, there are cases where the portions that become the features are enlarged for the sake of convenience, and the dimensional ratios of the respective components are not always the same as the actual ones. Absent.
<銀粉>
本実施形態の銀粉は、純銀及び銀を主成分とする銀合金(銀の含有量が99質量%以上)で構成されたものとされている。
本実施形態の銀粉は、回路基板と電子部品とを接合するための接合材や太陽電池素子の電極の原料として使用することができる。本実施形態の銀粉を用いた接合材は、従来の加熱温度よりも低温の加熱処理であっても被接合物を接合することができるため、熱に弱い材料等を接合することができる。
<Silver powder>
The silver powder of the present embodiment is composed of pure silver and a silver alloy containing silver as a main component (silver content is 99% by mass or more).
The silver powder of this embodiment can be used as a bonding material for bonding a circuit board and an electronic component or a raw material for an electrode of a solar cell element. The bonding material using the silver powder of the present embodiment can bond an object to be bonded even when heat treatment is performed at a temperature lower than the conventional heating temperature, so that a material that is weak against heat can be bonded.
本実施形態の銀粉は、飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)において、Ag+イオンの検出量に対して、C3H3O3 −イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC6H6O8 −イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲とされている。また、一次粒子径の個数分布において2つのピークを有し、粒径が20nm以上50nm以下の範囲にある一次粒子の含有量が65個数%以上であり、かつ粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある一次粒子の含有量が3個数%以上とされている。一次粒子径の個数分布において、粒径が20nm以上50nm以下の範囲にある一次粒子と、粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある一次粒子との合計含有量が85個数%以上であることが好ましい。 The silver powder of this embodiment has a detection amount of C 3 H 3 O 3 − ions of 0.2 times or more with respect to the detection amount of Ag + ions in time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS). 1.0 times or less, and C 6 H 6 O 8 - detection of ions is in the range of less than 0.02 times 0.005 times. In addition, the number distribution of primary particles has two peaks, the content of primary particles having a particle size in the range of 20 nm to 50 nm is 65% by number or more, and the particle size is in the range of 200 nm to 500 nm. The content of the primary particles is 3% by number or more. In the number distribution of primary particle diameters, the total content of primary particles having a particle diameter in the range of 20 nm to 50 nm and primary particles having a particle diameter in the range of 200 nm to 500 nm may be 85% by number or more. preferable.
飛行時間型二次イオン質量分析法において検出されるC3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンは、銀粒子表面を被覆している有機化合物(保護剤)に由来する。
C3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンの検出量が少なくなりすぎると、すなわち銀粒子表面を被覆している有機化合物の量が少なくなりすぎると銀粒子の表面が活性となり、銀粉同士が強固に凝集し易くなるため、緻密な膜が得られなくなる。
一方、C3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンの検出量が多くなりすぎると、すなわち銀粒子表面を被覆している有機化合物の量が多くなりすぎると、焼結性が低下して銀粉を焼結させるための加熱温度を高温にすることが必要となるおそれがある。
以上の理由から、本実施形態では、Ag+イオンの検出量に対して、C3H3O3 −イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC6H6O8 −イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲とされている。なお、銀粉の保存安定性を確実に向上させ、焼結温度を確実に低減させるために、Ag+イオンの検出量に対するC3H3O3 −イオンの検出量は、0.3倍以上0.5倍以下にあることが好ましい。また、銀粒子の表面に付着している有機化合物は、低分子量である方が加熱によって消失させ易いので好ましい。従って、C3H3O3 −イオンの検出量が、C6H6O8 −イオンの検出量よりも多い方が好ましい。C3H3O3 −イオンの検出量は、C6H6O8 −イオンの検出量に対して30倍以上50倍以下の範囲にあることが好ましい。
C 3 H 3 O 3 − ions and C 6 H 6 O 8 − ions detected in time-of-flight secondary ion mass spectrometry are derived from an organic compound (protective agent) covering the surface of the silver particles.
C 3 H 3 O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - the detection of ions is too small, i.e. the surface activity of the amount is small becomes excessively when silver particles of the organic compound coating the silver particle surface As a result, the silver powder tends to strongly aggregate easily, so that a dense film cannot be obtained.
On the other hand, C 3 H 3 O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - the detection of the ion is too high, i.e. the amount of the organic compound coating the silver particle surface is too large, sinterability It may be necessary to increase the heating temperature for sintering the silver powder.
For the above reasons, in this embodiment, the detected amount of C 3 H 3 O 3 − ions is 0.2 to 1.0 times the detected amount of Ag + ions, and C 6 H 6 O 8. - detection of ions is in the range of less than 0.02 times 0.005 times. In order to reliably improve the storage stability of silver powder and to surely reduce the sintering temperature, the detected amount of C 3 H 3 O 3 − ions with respect to the detected amount of Ag + ions is 0.3 times or more and 0.00. It is preferably 5 times or less. Moreover, the organic compound adhering to the surface of the silver particles is preferable because it has a low molecular weight because it is easily lost by heating. Therefore, it is preferable that the detected amount of C 3 H 3 O 3 − ions is larger than the detected amount of C 6 H 6 O 8 − ions. C 3 H 3 O 3 - detection of ions, C 6 H 6 O 8 - is preferably in the range of 30 times 50 times or less with respect to the detection of ions.
また、本実施形態の銀粉は、一次粒子径の個数分布において、粒径が20nm以上50nm以下の範囲にある相対的に粒径が小さい一次粒子と、粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある相対的に粒径が大きい一次粒子とを含む。このため、加熱によって得られる焼結体は、相対的に粒径が大きい一次粒子同士の隙間に相対的に粒径が小さい一次粒子が充填されて緻密となる。
相対的に粒径が小さい一次粒子の量が少なくなりすぎると、焼結温度が高くなり、また相対的に粒径が大きい一次粒子同士の隙間に充填される一次粒子が少なくなるので、緻密な焼結体を製造しにくくなるおそれがある。
一方、相対的に粒径が大きい一次粒子の量が少なくなりすぎると、相対的に粒径が小さい一次粒子同士の隙間が多く形成されるので、緻密な焼結体を製造しにくくなるおそれがある。
以上の理由から、本実施形態では、粒径が20nm以上50nm以下の範囲にある相対的に粒径が小さい一次粒子の含有量が65個数%以上とされ、粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある相対的に粒径が大きい一次粒子の含有量が3個数%以上とされている。なお、緻密な焼結体の製造を確実に製造できるようにするために、相対的に粒径が小さい一次粒子の含有量は67個数%以上であって、相対的に粒径が大きい一次粒子の含有量は5個数%以上であることが好ましい。
Further, the silver powder of the present embodiment has a primary particle size distribution in which the particle size is in the range of 20 nm to 50 nm and the particle size is in the range of 200 nm to 500 nm. Primary particles having a relatively large particle size. For this reason, the sintered body obtained by heating becomes dense by filling the primary particles having a relatively small particle size in the gaps between the primary particles having a relatively large particle size.
If the amount of primary particles having a relatively small particle size becomes too small, the sintering temperature becomes high, and the number of primary particles filled in the gaps between primary particles having relatively large particle sizes becomes small. There is a possibility that it becomes difficult to manufacture the sintered body.
On the other hand, if the amount of primary particles having a relatively large particle size is too small, there are many gaps between primary particles having a relatively small particle size, which may make it difficult to produce a dense sintered body. is there.
For the above reasons, in the present embodiment, the content of primary particles having a relatively small particle size in the range of 20 nm to 50 nm is 65% by number or more, and the particle size is in the range of 200 nm to 500 nm. The content of primary particles having a relatively large particle diameter is 3% by number or more. In order to reliably manufacture a dense sintered body, the content of primary particles having a relatively small particle size is 67% by number or more, and primary particles having a relatively large particle size. The content of is preferably 5% by number or more.
さらに、一次粒子径の個数分布において、粒径が20nm以上50nm以下の範囲にある一次粒子と、粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある一次粒子との合計含有量が85個数%以上であることが好ましく、90個数%以上であることが特に好ましい。この場合、銀粉の一次粒子の大部分が、粒径が相対的に小さい20nm以上50nm以下の範囲にある一次粒子と、粒径が相対的に大きい粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある一次粒子となるので、加熱によって得られる焼結体を確実に緻密にすることができる。 Further, in the number distribution of primary particle diameters, the total content of primary particles having a particle diameter in the range of 20 nm to 50 nm and primary particles having a particle diameter in the range of 200 nm to 500 nm is 85% by number or more. It is preferably 90% by number or more. In this case, most of the primary particles of the silver powder are primary particles having a relatively small particle size in the range of 20 nm to 50 nm and primary particles having a relatively large particle size in the range of 200 nm to 500 nm. Since it becomes particle | grains, the sintered compact obtained by heating can be ensured precisely.
本実施形態の銀粉は、以上のとおり、飛行時間型二次イオン質量分析法によるC3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンのそれぞれの検出量と、一次粒子径の個数分布による粒径が20nm以上50nm以下の範囲にある一次粒子の含有量と粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある一次粒子の含有量とが所定の量とされているので、長期間にわたって保存しても、銀粒子の酸化や凝集が起こりにくく、従来よりも低温での加熱によって緻密な焼結体を生成することができる。
なお、銀粉の一次粒子径の形状としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、球状、棒状、鱗片状等が挙げられる。
Silver powder of the present embodiment, more than as flying C 3 H 3 O 3 with time secondary ion mass spectrometry - ion and C 6 H 6 O 8 - and each of the detected amount of ions, the number of primary particle size Preserved for a long period of time because the primary particle content in the range of 20 nm to 50 nm in particle size and the primary particle content in the range of 200 nm to 500 nm in size are determined by the distribution. Even so, oxidation and aggregation of the silver particles are unlikely to occur, and a dense sintered body can be generated by heating at a lower temperature than in the past.
The shape of the primary particle diameter of the silver powder is not particularly limited, and specific examples include a spherical shape, a rod shape, and a scale shape.
<銀粉の製造方法>
次に、上述した銀粉の製造方法について、図1,2を参照して説明する。
先ず、図1に示すように、銀塩水溶液1とカルボン酸またはカルボン酸塩が溶解しているカルボン酸類水溶液2とを水3中に同時に滴下して、カルボン酸銀粒子を生成させてカルボン酸銀スラリー4を調製する。本実施形態では、銀塩水溶液1とカルボン酸類水溶液2とを水3中に同時に滴下するので、水3中の銀塩濃度とカルボン酸塩の濃度が低くなる。このため、銀塩濃度とカルボン酸塩の反応速度が遅くなり、粒子径が20nm以上50nm以下の小さいカルボン酸銀粒子と粒子径が200nm以上500nm以下の大きいカルボン酸銀粒子とが生成される。
<Method for producing silver powder>
Next, the manufacturing method of the silver powder mentioned above is demonstrated with reference to FIG.
First, as shown in FIG. 1, a silver salt
水3中に同時に滴下する銀塩水溶液1とカルボン酸類水溶液2の量の割合は、銀とカルボン酸の当量比[=(銀イオンの価数:1価×モル数)/(カルボン酸の価数×モル数)]として、1.1以上2.0以下の範囲とすることが好ましい。この場合、滴下の進行に伴って、水3中にフリーなカルボン酸の量が増加することによって、銀塩水溶液1を滴下してからカルボン酸銀粒子が生成するまでの時間が短くなるので、粒子径が小さいカルボン酸銀粒子が生成し易くなる。従って、滴下の進行により、生成するカルボン酸銀粒子の粒子径を変えることができ、粒子径が20nm以上50nm以下の小さいカルボン酸銀粒子と粒子径が200nm以上500nm以下の大きいカルボン酸銀粒子とを確実に生成させることができる。
The ratio of the amount of the silver salt
ここで、カルボン酸銀スラリー4を調製する際は、各液1〜4の温度を20〜50℃の範囲内の所定温度に保持することが好ましい。各液1〜4の温度を20℃以上の所定温度に保持することにより、カルボン酸銀粒子が生成しやすくなり、カルボン酸銀粒子の粒径を大きくすることができる。また、各液1〜4の温度を50℃以下の所定温度に保持することにより、カルボン酸銀粒子が過剰に成長して粗大粒子となるのを防止することができる。
Here, when the silver carboxylate slurry 4 is prepared, it is preferable to maintain the temperatures of the
また、水3中に銀塩水溶液1とカルボン酸類水溶液2を同時に滴下している間、水3を撹拌していることが好ましい。
Moreover, it is preferable that the water 3 is stirred while the silver salt
銀塩水溶液1中の銀塩は、具体的には、例えば、硝酸銀、塩素酸銀及びリン酸銀からなる群より選ばれた1種又は2種以上の化合物が好ましい。
Specifically, the silver salt in the silver salt
カルボン酸類水溶液2中のカルボン酸としては、グリコール酸、クエン酸、リンゴ酸、マレイン酸、マロン酸、フマル酸、コハク酸及び酒石酸からなる群より選ばれた1種又は2種以上の化合物が好ましい。これらのカルボン酸は、銀と安定なキレートを形成するので、カルボン酸銀粒子として析出し易い。カルボン酸塩は、これらのカルボン酸のアンモニウム塩もしくはアルカリ金属塩であることが好ましい。
The carboxylic acid in the carboxylic acid
水3としては、イオン交換水、蒸留水等が挙げられる。カルボン酸銀粒子の生成に悪影響を与えるおそれのあるイオンが含まれないことや、蒸留水と比べて製造コストが低いことからイオン交換水を用いることが特に好ましい。 Examples of the water 3 include ion exchange water and distilled water. It is particularly preferable to use ion-exchanged water because it does not contain ions that may adversely affect the formation of silver carboxylate particles and the production cost is lower than that of distilled water.
次に、図2に示すように、カルボン酸銀スラリー4に還元剤水溶液5を滴下した後、得られた混合スラリーを、92℃以上95℃以下の範囲の温度で保持する熱処理を行うことにより、カルボン酸銀粒子を還元して銀粒子を生成させて銀粉スラリーを調製する。
Next, as shown in FIG. 2, after the reducing agent
混合スラリーの保持温度を92℃以上とすることにより、カルボン酸銀が還元されやすくなり、銀粒子を速やかに生成させることができる。また、混合スラリーの保持温度を95℃以下とすることにより、生成した銀粒子の表面に、カルボン酸をC3H3O3 −イオンもしくはC6H6O8 −イオンとして付着させることができるので、銀粒子が粗大粒子となるのを防止することができる。 By setting the holding temperature of the mixed slurry to 92 ° C. or higher, silver carboxylate is easily reduced, and silver particles can be generated quickly. Moreover, by setting the holding temperature of the mixed slurry to 95 ° C. or lower, the carboxylic acid can be attached as C 3 H 3 O 3 − ions or C 6 H 6 O 8 − ions to the surface of the generated silver particles. Therefore, silver particles can be prevented from becoming coarse particles.
混合スラリーを上記の温度で保持する時間は、0.25〜0.5時間の範囲にあることが好ましい。保持時間を0.25時間以上とすることにより、カルボン酸銀を確実に還元させることができ、銀粒子を安定して生成させることができる。また、保持時間を0.5時間以下にすることにより、生成した銀粒子が粗大粒子となるのを防止することができる。 The time for holding the mixed slurry at the above temperature is preferably in the range of 0.25 to 0.5 hours. By setting the holding time to 0.25 hours or longer, silver carboxylate can be reliably reduced, and silver particles can be generated stably. Moreover, it can prevent that the produced | generated silver particle turns into a coarse particle by making holding time into 0.5 hour or less.
混合スラリーを上記の温度とする一つの方法としては、92℃未満の温度で混合スラリーを調製し、その後、加熱する方法を挙げることができる。この方法では、混合スラリーの昇温速度を、15〜20℃/時間の範囲に設定することが好ましい。昇温速度を15℃/時間以上とすることにより、銀粒子が粗大粒子となるのを防止することができる。20℃/時間以下とすることにより、混合スラリー内部の液温にムラが生じにくくなる。 As one method for bringing the mixed slurry to the above-mentioned temperature, a method of preparing the mixed slurry at a temperature of less than 92 ° C. and then heating can be mentioned. In this method, it is preferable to set the temperature rising rate of the mixed slurry in the range of 15 to 20 ° C./hour. By setting the temperature rising rate to 15 ° C./hour or more, the silver particles can be prevented from becoming coarse particles. By setting it to 20 ° C./hour or less, the liquid temperature inside the mixed slurry is less likely to be uneven.
混合スラリーを上記の温度に調整する別の方法としては、カルボン酸銀スラリー4と還元剤水溶液5を加熱して、液温を92以上95℃以下の範囲内となるように保持しながら、カルボン酸銀スラリー4に還元剤水溶液5を滴下する方法を挙げることができる。この方法では、混合スラリー内部の液温にムラが生じにくくなる。
ことができる。
As another method for adjusting the mixed slurry to the above temperature, the silver carboxylate slurry 4 and the reducing agent
be able to.
還元剤水溶液5中の還元剤としては、ヒドラジン、アスコルビン酸、シュウ酸、ギ酸、及びこれらの塩類からなる群より選ばれた1種又は2種以上の化合物が好ましい。
As the reducing agent in the reducing agent
調製された銀粉スラリーは、銀粒子が粗大粒子となるのを防止するために、速やかに冷却することが好ましい。銀粉スラリーの冷却は、30℃まで降温する時間が15分以下となる降温速度により行うことが好ましい。 The prepared silver powder slurry is preferably cooled quickly in order to prevent the silver particles from becoming coarse particles. The cooling of the silver powder slurry is preferably performed at a temperature lowering rate at which the time for lowering the temperature to 30 ° C. is 15 minutes or less.
次に、銀粉スラリーを乾燥して銀粉を得る。ここで、銀粉スラリーを乾燥する前に、銀粉スラリーを遠心分離機で銀粉スラリー中の液層を除去し、銀粉スラリーを脱水及び脱塩することが好ましい。 Next, the silver powder slurry is dried to obtain silver powder. Here, before the silver powder slurry is dried, it is preferable that the liquid layer in the silver powder slurry is removed from the silver powder slurry by a centrifugal separator, and the silver powder slurry is dehydrated and desalted.
銀粉スラリーの乾燥方法としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、凍結乾燥法、減圧乾燥法、加熱乾燥法等が挙げられる。凍結乾燥法は、銀粉スラリーを密閉容器に入れて凍結し、密閉容器内を真空ポンプで減圧して被乾燥物の沸点を下げ、低い温度で被乾燥物の水分を昇華させて乾燥させる方法である。減圧乾燥法は、減圧して被乾燥物を乾燥させる方法である。加熱乾燥法は、加熱して被乾燥物を乾燥させる方法である。 Although it does not specifically limit as a drying method of a silver powder slurry, Specifically, a freeze-drying method, a reduced pressure drying method, a heat drying method etc. are mentioned, for example. The freeze-drying method is a method in which a silver powder slurry is put in a sealed container and frozen, the inside of the sealed container is depressurized with a vacuum pump to lower the boiling point of the material to be dried, and the moisture of the material to be dried is sublimated at a low temperature and dried. is there. The reduced-pressure drying method is a method of drying an object to be dried by reducing the pressure. The heat drying method is a method of drying an object to be dried by heating.
本実施形態の銀粉の製造方法は、以上のとおり、銀塩水溶液とカルボン酸類水溶液を水中に同時に滴下して、カルボン酸銀粒子を生成させるので、粒径が20nm以上50nm以下の範囲と粒径が200nm以上500nm以下の範囲にあるカルボン酸銀粒子を生成させることができる。そして、そのカルボン酸銀粒子を含むカルボン酸銀スラリーに還元剤水溶液を滴下した後、92℃以上95℃以下の範囲の温度で保持することにより、カルボン酸銀粒子を還元するので、表面がC3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンで被覆され、かつ一次粒子径の個数分布において、粒径が20nm以上50nm以下の範囲と粒径が200nm以上500nm以下の範囲とにそれぞれピークを有する銀粒子を生成させることができることができる。 As described above, the silver powder production method of the present embodiment drops silver salt aqueous solution and carboxylic acid aqueous solution simultaneously into water to produce silver carboxylate particles, so that the particle size ranges from 20 nm to 50 nm and the particle size. Can produce silver carboxylate particles in the range of 200 nm to 500 nm. Then, after dropping the reducing agent aqueous solution into the silver carboxylate slurry containing the silver carboxylate particles, the silver carboxylate particles are reduced by holding at a temperature in the range of 92 ° C. or higher and 95 ° C. or lower. In the number distribution of primary particle diameters covered with 3 H 3 O 3 − ions and C 6 H 6 O 8 − ions, the particle size is in the range of 20 nm to 50 nm and the particle size is in the range of 200 nm to 500 nm. Silver particles each having a peak can be produced.
<ペースト状組成物>
本実施形態のペースト状組成物は、前述の銀粉と溶媒とを含む。
溶剤は、所定の範囲の蒸気圧を有する。溶媒の蒸気圧としては、具体的には、例えば、20℃において5〜866Paであることが好ましい。溶媒の蒸気圧が20℃において5Pa以上であることにより、加熱処理した際に、溶媒が接合層内部から抜けやすくなるため、銀粉が焼結しやすくなり、接合層のシェア強度が向上する。また、溶媒の蒸気圧が20℃において866Pa以下であることにより、塗布後の乾燥が抑えられるため、被接合物と均一かつ十分に接着し、接合層のシェア強度が向上する。
<Paste-like composition>
The paste-like composition of this embodiment contains the above-mentioned silver powder and a solvent.
The solvent has a predetermined range of vapor pressure. Specifically, the vapor pressure of the solvent is preferably 5 to 866 Pa at 20 ° C., for example. When the vapor pressure of the solvent is 5 Pa or higher at 20 ° C., the solvent easily escapes from the inside of the bonding layer when the heat treatment is performed, so that the silver powder is easily sintered and the shear strength of the bonding layer is improved. In addition, since the vapor pressure of the solvent is 866 Pa or less at 20 ° C., drying after application is suppressed, so that the solvent is uniformly and sufficiently adhered to the object to be bonded, and the shear strength of the bonding layer is improved.
溶媒としては、具体的には、例えば、アルコール系溶媒、グリコール系溶媒、アセテート系溶媒、炭化水素系溶媒、アミン系溶媒等が挙げられる。
アルコール系溶媒としては、具体的には、例えば、α−テルピネオール、イソプロピルアルコール等が挙げられる。グリコール系溶媒としては、具体的には、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール等が挙げられる。アセテート系溶媒としては、具体的には、例えば、酢酸ブチルトールカルビテート等が挙げられる。また、炭化水素系溶媒としては、具体的には、例えば、デカン、ドデカン、テトラデカン等が挙げられる。また、アミン系溶媒は、炭素数が6〜10であり、かつ分子量が101.19〜157.30であるアルキルアミンであることが好ましい。アルキルアミンとしては、具体的には、例えば、ヘキシルアミン、オクチルアミン、ドデシルアミン等が挙げられる。
溶媒は、上記溶媒を単独で用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。
Specific examples of the solvent include alcohol solvents, glycol solvents, acetate solvents, hydrocarbon solvents, amine solvents, and the like.
Specific examples of the alcohol solvent include α-terpineol and isopropyl alcohol. Specific examples of the glycol solvent include ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, and the like. Specific examples of the acetate solvent include butyltolcarbate and the like. Specific examples of the hydrocarbon solvent include decane, dodecane, and tetradecane. The amine solvent is preferably an alkylamine having 6 to 10 carbon atoms and a molecular weight of 101.19 to 157.30. Specific examples of the alkylamine include hexylamine, octylamine, and dodecylamine.
As the solvent, the above solvents may be used alone, or two or more kinds may be mixed and used.
上記の溶媒は、アミン系溶媒を含むことが好ましい。アミン系溶媒は単独で用いてもよいし、アルコール系溶媒、グリコール系溶媒、アセテート系溶媒、炭化水素系溶媒などのアミン以外の溶媒と組み合わせて用いてもよい。アミンは銀との親和性が高く、銀粒子の表面を均一に保護するので、長期間にわたって保存した後においても、比較的低温の加熱により緻密な焼結体を確実に生成させることができる。 The solvent preferably contains an amine solvent. The amine solvent may be used alone or in combination with a solvent other than an amine such as an alcohol solvent, a glycol solvent, an acetate solvent, or a hydrocarbon solvent. Since amine has a high affinity with silver and uniformly protects the surface of silver particles, a dense sintered body can be reliably formed by heating at a relatively low temperature even after storage for a long period of time.
ペースト状組成物中に含まれる銀粉と溶剤との質量比は、ペースト状を維持できる比率であれば、特に限定されない。具体的には、例えば、質量比(銀粉:溶媒)が75:25〜95:5の範囲となることが好ましい。銀粉と溶剤の質量比が上記の範囲にあるペースト状組成物は、被塗布物の表面に均一に塗布することができる。また、その塗布したペースト状組成物を加熱して溶媒が蒸発しても塗膜に割れが生じにくく、緻密で強度の高い焼結体を生成させることができる。 The mass ratio of the silver powder and the solvent contained in the paste-like composition is not particularly limited as long as it is a ratio that can maintain the paste shape. Specifically, for example, the mass ratio (silver powder: solvent) is preferably in the range of 75:25 to 95: 5. A paste-like composition having a mass ratio of silver powder to solvent in the above range can be uniformly applied to the surface of an object to be coated. Further, even if the applied paste-like composition is heated to evaporate the solvent, the coating film is hardly cracked, and a dense and high-strength sintered body can be generated.
本実施形態のペースト状組成物は、上述した銀粉と溶剤とを、上記の質量比で混合することによって製造することができる。 The paste-like composition of this embodiment can be manufactured by mixing the above-described silver powder and solvent at the above mass ratio.
本実施形態のペースト状組成物は、以上のとおり、前述の銀粉と溶剤とを含むため、150〜200℃という低温の加熱処理であっても20MPa以上の高いシェア強度を有する焼結体(接合層)を形成することができる。そのため、熱に弱い材料であっても接合することができる。 As described above, since the paste-like composition of the present embodiment includes the above-described silver powder and solvent, a sintered body (bonding) having a high shear strength of 20 MPa or more even in a low-temperature heat treatment of 150 to 200 ° C. Layer) can be formed. Therefore, even a material that is weak against heat can be bonded.
<接合体の製造方法>
次に、本実施形態の接合体の製造方法について、図3を参照して説明する。
図3に本実施形態の接合体11を示す。図3に示すように、本実施形態の接合体11は、基板12と、第1の金属層13と、接合層14と、第2の金属層15と、被接合物16と、を備えて概略構成されている。
<Method for producing joined body>
Next, the manufacturing method of the joined body of this embodiment is demonstrated with reference to FIG.
FIG. 3 shows the joined
本実施形態では、一例として、上述したペースト状組成物を用いて基板12(第1の部材)と被接合物16(第2の部材)とを接合した接合体11について説明するが、ペースト状組成物を用いて接合するものとしては、特に限定されるものではない。
In the present embodiment, as an example, the bonded
基板12としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、アルミ板、及びアルミ板が接合された絶縁基板等が挙げられる。
Although it does not specifically limit as the board |
第1の金属層13は、基板12に隣接して積層されている。第1の金属層13を介して、基板12と接合層14とが接合されている。第1の金属層13の材料としては、具体的には、例えば、金、銀、銅等からなる群より選ばれた1種又は2種以上の金属を用いることができる。
The first metal layer 13 is laminated adjacent to the
接合層14は、第1の金属層13と第2の金属層15の間に隣接して積層されている。
接合層14は、第1の金属層13と接触して界面17を形成している。また、接合層14は、第2の金属層15と接触して界面18を形成している。接合層14は、上述したペースト状組成物を第1の金属層13上に塗布し、塗布した面と第2の金属層15が対向するように被接合物16を置き、加熱処理することで形成されるものである。
The
The
接合層14の厚さとしては、基板12と被接合物16とを接合することができる厚さであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、1〜100μmであってもよい。
The thickness of the
第2の金属層15は、接合層14であって第1の金属層13の反対側に隣接して積層されている。第2の金属層15を介して、接合層14と被接合物16とが接合されている。
第2の金属層15の材料としては、第1の金属層13に用いられる材料と同様のものを用いることができる。
The
As the material of the
被接合物16は、第2の金属層15であって接合層14の反対側に隣接して積層されている。被接合物16としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、シリコン(Si)、シリコンカーバイド(SiC)等が挙げられる。また、本実施形態の接合体11は、上述したペースト状組成物を用いているため、被接合物16として熱に弱い材料も用いることができる。
The
本実施形態の接合体11は、接合層14により、基板12と被接合物16とが接合される。接合層14は上述したペースト状組成物を用いて形成しているため、接合層14のシェア強度が高い。本実施形態の接合体11のシェア強度としては、具体的には、例えば、20MPa以上が好ましく、30MPa以上がより好ましい。
In the bonded
なお、シェア強度の測定は、例えば、市販のボンディングテスタ(例えば、RHESCA社製等)を用いて行うことができる。 The shear strength can be measured using, for example, a commercially available bonding tester (for example, manufactured by RHESCA).
次に、上述した接合体11の製造方法について説明する。
本実施形態の接合体11の製造方法は、積層工程と焼結工程とを有する。
Next, a method for manufacturing the above-described joined
The manufacturing method of the joined
(積層工程)
先ず、基板12(第1の部材)と被接合物16(第2の部材)とを、前述のペースト状組成物を介して積層した積層体を形成する。
具体的には、基板12の表面に、周知の方法により金属を積層することで、第1の金属層13を形成する。同様にして、被接合物16の表面に、第2の金属層15を形成する。基板12及び被接合物16の表面に金属を形成する方法としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、めっき法、印刷法等が挙げられる。
(Lamination process)
First, the laminated body which laminated | stacked the board | substrate 12 (1st member) and the to-be-joined object 16 (2nd member) through the above-mentioned paste-form composition is formed.
Specifically, the first metal layer 13 is formed by laminating metal on the surface of the
次に、第1の金属層13の表面に、周知の方法により前述のペースト状組成物を塗布する。第1の金属層13の表面にペースト状組成物を塗布する方法としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、スピンコーティング法、メタルマスク法、スプレーコーティング法、ディスペンサコーティング法、ナイフコーティング法、スリットコーティング法、インクジェットコーティング法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、ダイコーティング法等が挙げられる。
次に、第1の金属層13の表面に塗布したペースト状組成物の上に、第2の金属層15側が対向するように被接合物16を置いて積層体を作製する。
Next, the aforementioned paste-like composition is applied to the surface of the first metal layer 13 by a known method. The method for applying the paste-like composition to the surface of the first metal layer 13 is not particularly limited, but specifically, for example, spin coating method, metal mask method, spray coating method, dispenser coating method, knife coating. Method, slit coating method, inkjet coating method, screen printing method, offset printing method, die coating method and the like.
Next, an object to be bonded 16 is placed on the paste-like composition applied to the surface of the first metal layer 13 so that the
(焼結工程)
次に、上記のようにして形成した積層体を加熱して、ペースト状組成物を乾燥、焼結させて接合層14を生成させる。この接合層14を介して第1の金属層13及び第2の金属層15が接合される。
(Sintering process)
Next, the laminate formed as described above is heated to dry and sinter the paste-like composition, thereby generating the
加熱処理の際の加熱温度としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、150℃以上が好ましい。加熱温度が150℃以上であることにより、接合層14のシェア強度を高くすることができる。
Although it does not specifically limit as heating temperature in the case of heat processing, Specifically, 150 degreeC or more is preferable, for example. When the heating temperature is 150 ° C. or higher, the shear strength of the
加熱処理の際の加熱時間としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、30分以上が好ましい。加熱時間が30分以上であることにより、接合層14のシェア強度を高くすることができる。
以上の工程により、接合体11が製造される。
Although it does not specifically limit as heating time in the case of heat processing, Specifically, 30 minutes or more are preferable, for example. When the heating time is 30 minutes or more, the shear strength of the
The joined
本実施形態の接合体の製造方法は、以上のとおり、接合層を生成させる接合材として前述の銀粉を含むペースト状組成物を用いるので、従来よりも低温での加熱により接合強度の高い接合体を製造することができる。 Since the manufacturing method of the joined body of this embodiment uses the paste-like composition containing the above-mentioned silver powder as a joining material which produces | generates a joining layer as mentioned above, it is a joined body with high joint strength by heating at low temperature than before. Can be manufactured.
<銀膜の製造方法>
次に、本実施形態の銀膜の製造方法について説明する。
本実施形態の製造方法により得られる銀膜は、例えば、太陽電池素子の電極として用いられる。
本実施形態の銀膜の製造方法は、以下の塗布工程と焼結工程とを含む。
<Silver film production method>
Next, the manufacturing method of the silver film of this embodiment is demonstrated.
The silver film obtained by the manufacturing method of this embodiment is used as an electrode of a solar cell element, for example.
The manufacturing method of the silver film of this embodiment includes the following application | coating processes and a sintering process.
(塗布工程)
まず、基材に、前述のペースト状組成物を塗布する。
基材としては、シリコン、ガラス、透明導電材料を含むセラミックス、高分子材料又は金属からなる基板のいずれか、或いはシリコン、ガラス、透明導電材料を含むセラミックス、高分子材料及び金属からなる群より選ばれた2種以上の積層体であることができる。また基材は太陽電池素子又は透明金属膜付き太陽電池素子のいずれかであることが好ましい。透明金属膜としては、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide:ITO)、アンチモンドープ酸化錫(Antimony Tin Oxide:ATO)、ネサ(酸化錫SnO2)、IZO(Indium Zinc Oxide)、AZO(アルミドープZnO)等などが挙げられる。上記ペースト状組成物は太陽電池素子の光電変換半導体層の表面や、透明金属膜付き太陽電池素子の透明金属膜の表面に塗布されることが好ましい。
(Coating process)
First, the above paste-like composition is applied to a substrate.
The substrate is selected from the group consisting of silicon, glass, ceramics including a transparent conductive material, a substrate made of a polymer material or a metal, or silicon, glass, ceramics including a transparent conductive material, a polymer material and a metal. It can be a laminate of two or more types. Moreover, it is preferable that a base material is either a solar cell element or a solar cell element with a transparent metal film. As the transparent metal film, indium tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), nesa (tin oxide SnO 2 ), IZO (Indium Zinc Oxide), AZO (aluminum-doped ZnO) ) And the like. It is preferable that the said paste-form composition is apply | coated to the surface of the photoelectric conversion semiconductor layer of a solar cell element, or the surface of the transparent metal film of a solar cell element with a transparent metal film.
(焼結工程)
次に、前記ペースト状組成物を塗布した基材を加熱して、前記ペースト状組成物を乾燥、焼結させて銀膜を生成させる。加熱温度は、一般に130℃以上250℃以下の範囲、好ましくは150℃以上200℃以下の範囲である。上記の温度範囲にて加熱を行うことによって、強度が高く緻密な銀膜を形成することが可能となる。加熱時間は、一般に10分間〜1時間の範囲、好ましくは15〜40分間の範囲である。加熱雰囲気には特に制限はなく、大気雰囲気中、真空雰囲気中、還元性気体雰囲気中など任意に設定することができる。本実施形態の製造方法によって生成する銀膜の厚さは、一般に0.1μm以上2.0μm以下の範囲、好ましくは0.3μm以上1.5μm以下の範囲である。膜厚が薄くなりすぎると、例えば太陽電池素子の電極として用いる場合は、表面抵抗値が不十分となるおそれがある。一方、膜厚が厚くなりすぎると、銀粉の使用量が多くなってコストが高くなる。
(Sintering process)
Next, the base material coated with the paste composition is heated to dry and sinter the paste composition to form a silver film. The heating temperature is generally in the range of 130 ° C. to 250 ° C., preferably in the range of 150 ° C. to 200 ° C. By heating in the above temperature range, a dense silver film having high strength can be formed. The heating time is generally in the range of 10 minutes to 1 hour, preferably in the range of 15 to 40 minutes. There is no restriction | limiting in particular in a heating atmosphere, It can set arbitrarily in air | atmosphere atmosphere, a vacuum atmosphere, a reducing gas atmosphere, etc. The thickness of the silver film produced by the production method of the present embodiment is generally in the range of 0.1 μm to 2.0 μm, preferably in the range of 0.3 μm to 1.5 μm. If the film thickness becomes too thin, for example, when used as an electrode of a solar cell element, the surface resistance value may be insufficient. On the other hand, if the film thickness becomes too thick, the amount of silver powder used increases and the cost increases.
本実施形態の銀膜の製造方法によれば、以上のとおり、銀膜の材料として前述の銀粉を含むペースト状組成物を用いるので、従来よりも低温での加熱により緻密な銀膜を製造することができる。 According to the method for producing a silver film of the present embodiment, as described above, since the paste-like composition containing the above-described silver powder is used as the material for the silver film, a dense silver film is produced by heating at a lower temperature than conventional. be able to.
以下、本発明の効果を、実施例を用いて詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, although the effect of the present invention is explained in detail using an example, the present invention is not limited to the following example.
<銀粉の製造>
(分類I)
初めに、銀塩水溶液1として硝酸銀水溶液(硝酸銀の濃度:66質量%)、カルボン酸類水溶液2としてクエン酸アンモニウム水溶液(クエン酸の濃度:56質量%)、還元剤水溶液5としてシュウ酸ナトリウム水溶液(シュウ酸の濃度:58質量%)を用意した。
<Manufacture of silver powder>
(Classification I)
First, a silver nitrate aqueous solution (silver nitrate concentration: 66 mass%) as the silver salt
先ず、図1に示すように、湯浴で50℃に保持した1200gのイオン交換水(水3)の入ったガラス製容器に、湯浴で50℃に保持した900gの硝酸銀水溶液(銀塩水溶液1)と、湯浴で50℃に保持した600gのクエン酸アンモニウム水溶液(カルボン酸類水溶液2)とを、チューブポンプを用いて5分かけて同時に滴下して、クエン酸銀粒子を生成させてクエン酸銀スラリー(カルボン酸銀スラリー4)を調製した。調製したクエン酸銀スラリーは、温度を20℃まで空冷した。 First, as shown in FIG. 1, a 900 g silver nitrate aqueous solution (silver salt aqueous solution) held in a glass container containing 1200 g of ion-exchanged water (water 3) held at 50 ° C. in a hot water bath and held at 50 ° C. in a hot water bath. 1) and 600 g of an aqueous ammonium citrate solution (carboxylic acid aqueous solution 2) maintained at 50 ° C. in a hot water bath are simultaneously added dropwise over 5 minutes using a tube pump to produce silver citrate particles, and An acid silver slurry (silver carboxylate slurry 4) was prepared. The prepared silver citrate slurry was air-cooled to 20 ° C.
次いで、図2に示すように、上記クエン酸銀スラリー(カルボン酸銀スラリー4)を20℃に保持しながら、そのクエン酸銀スラリーに、20℃に保持した300gのシュウ酸ナトリウム水溶液(還元剤水溶液5)を30分かけて滴下して混合スラリーを調製した。 Next, as shown in FIG. 2, while maintaining the silver citrate slurry (silver carboxylate slurry 4) at 20 ° C., 300 g of sodium oxalate aqueous solution (reducing agent) maintained at 20 ° C. was added to the silver citrate slurry. Aqueous solution 5) was added dropwise over 30 minutes to prepare a mixed slurry.
次に、上記混合スラリーを昇温速度15℃/時間で温度92℃まで昇温し、92℃(最高温度)で0.33時間保持する条件にて熱処理して、クエン酸銀粒子を還元して銀粒子を生成させて銀粉スラリーを得た。銀粉スラリーを得た。得られた銀粉スラリーを、15分間かけて30℃まで温度を下げた。次いで、銀粉スラリーを遠心分離機に入れて1000rpmの回転速度で10分間遠心分離処理した。上澄み液(液層)を除去し、残部の固形分(銀粉)を水洗した後、凍結乾燥法により30時間乾燥して、銀粉を回収した。回収した銀粉を、分類Iの銀粉とした。 Next, the mixed slurry is heated to a temperature of 92 ° C. at a rate of temperature increase of 15 ° C./hour and heat-treated at a temperature of 92 ° C. (maximum temperature) for 0.33 hours to reduce silver citrate particles. Thus, silver particles were generated to obtain a silver powder slurry. A silver powder slurry was obtained. The resulting silver powder slurry was cooled to 30 ° C. over 15 minutes. Next, the silver powder slurry was put in a centrifuge and centrifuged at a rotational speed of 1000 rpm for 10 minutes. The supernatant liquid (liquid layer) was removed, and the remaining solid content (silver powder) was washed with water, and then dried by freeze-drying for 30 hours to recover the silver powder. The recovered silver powder was classified as Class I silver powder.
(分類II)
クエン酸銀スラリー(カルボン酸銀スラリー4)と、シュウ酸ナトリウム水溶液(還元剤水溶液5)とをそれぞれ30℃に保持しながら、クエン酸銀スラリーにシュウ酸ナトリウム水溶液を滴下して混合スラリーを調製したこと、調製した混合スラリーを95℃まで昇温し、95℃で0.5時間保持したこと以外は、分類Iと同様にして分類IIの銀粉を得た。
(Category II)
Prepare a mixed slurry by dropping the sodium oxalate aqueous solution into the silver citrate slurry while maintaining the silver citrate slurry (silver carboxylate slurry 4) and the sodium oxalate aqueous solution (reducing agent aqueous solution 5) at 30 ° C. Then, the prepared mixed slurry was heated to 95 ° C. and maintained at 95 ° C. for 0.5 hour to obtain a silver powder of class II in the same manner as in class I.
(分類III)
クエン酸銀スラリー(カルボン酸銀スラリー4)と、シュウ酸ナトリウム水溶液(還元剤水溶液5)とをそれぞれ50℃に保持しながら、クエン酸銀スラリーにシュウ酸ナトリウム水溶液を滴下して混合スラリーを調製したこと、調製した混合スラリーを92℃まで昇温し、92℃で0.25時間保持したこと以外は、分類Iと同様にして分類IIIの銀粉を得た。
(Category III)
While maintaining the silver citrate slurry (silver carboxylate slurry 4) and the sodium oxalate aqueous solution (reducing agent aqueous solution 5) at 50 ° C., the sodium oxalate aqueous solution was dropped into the silver citrate slurry to prepare a mixed slurry. Then, the prepared mixed slurry was heated to 92 ° C. and kept at 92 ° C. for 0.25 hour to obtain a silver powder of class III in the same manner as in class I.
(分類IV)
カルボン酸類水溶液2としてグリコール酸水溶液(グリコール酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液5としてヒドラジン水溶液(ヒドラジンの濃度:58質量%)を用いたこと、グリコール酸銀スラリー(カルボン酸銀スラリー4)と、ヒドラジン水溶液(還元剤水溶液5)とをそれぞれ30℃に保持しながら、グリコール酸銀スラリーにヒドラジン水溶液を滴下して混合スラリーを調製したこと以外は、分類Iと同様にして分類IVの銀粉を得た。
(Category IV)
A glycolic acid aqueous solution (glycolic acid concentration: 56 mass%) was used as the carboxylic acid
(分類V)
カルボン酸類水溶液2としてグリコール酸水溶液(グリコール酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液5としてギ酸水溶液(ギ酸の濃度:58質量%)を用いたこと、グリコール酸銀スラリー(カルボン酸銀スラリー4)と、ギ酸水溶液(還元剤水溶液5)とをそれぞれ30℃に保持しながら、グリコール酸銀スラリーにギ酸水溶液を滴下して混合スラリーを調製したこと以外は、分類Iと同様にして分類Vの銀粉を得た。
(Classification V)
A glycolic acid aqueous solution (glycolic acid concentration: 56% by mass) was used as the carboxylic acid
(分類VI)
還元剤水溶液5としてギ酸アンモニウム水溶液(ギ酸の濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類VIの銀粉を得た。
(Classification VI)
A silver powder of classification VI was obtained in the same manner as in classification I, except that an aqueous ammonium formate solution (formic acid concentration: 58% by mass) was used as the reducing agent
(分類VII)
カルボン酸類水溶液2としてリンゴ酸アンモニウム水溶液(リンゴ酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液5としてギ酸水溶液(ギ酸の濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類VIIの銀粉を得た。
(Category VII)
Except for using an ammonium malate aqueous solution (malic acid concentration: 56 mass%) as the carboxylic acid
(分類VIII)
カルボン酸類水溶液2としてマレイン酸二ナトリウム水溶液(マレイン酸の濃度:56質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類VIIIの銀粉を得た。
(Classification VIII)
A silver powder of class VIII was obtained in the same manner as class I, except that a disodium maleate aqueous solution (maleic acid concentration: 56 mass%) was used as the carboxylic acid
(分類IX)
カルボン酸類水溶液2としてマロン酸水溶液(マロン酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液5としてアスコルビン酸ナトリウム水溶液(アスコルビン酸の濃度:58質量%)を用いたこと、マロン酸銀スラリー(カルボン酸銀スラリー4)と、アスコルビン酸ナトリウム水溶液(還元剤水溶液5)とをそれぞれ40℃に保持しながら、マロン酸銀スラリーにアスコルビン酸ナトリウム水溶液を滴下して混合スラリーを調製したこと、調製した混合スラリーを昇温速度20℃/時間で温度92℃まで昇温したこと以外は、分類Iと同様にして分類IXの銀粉を得た。
(Classification IX)
A malonic acid aqueous solution (concentration of malonic acid: 56% by mass) was used as the carboxylic acid
(分類X)
カルボン酸類水溶液2としてフマル酸とコハク酸とを含むカルボン酸水溶液(フマル酸の濃度:28質量%、コハク酸の濃度:28質量%)を、還元剤水溶液5としてギ酸水溶液(ギ酸の濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類Xの銀粉を得た。
(Category X)
Carboxylic acid aqueous solution (fumaric acid concentration: 28 mass%, succinic acid concentration: 28 mass%) containing fumaric acid and succinic acid as carboxylic acid
(分類XI)
カルボン酸類水溶液2としてコハク酸水溶液(コハク酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液5としてギ酸水溶液(ギ酸の濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類XIの銀粉を得た。
(Classification XI)
Classification was carried out in the same manner as in Class I except that a succinic acid aqueous solution (succinic acid concentration: 56 mass%) was used as the carboxylic acid
(分類XII)
カルボン酸類水溶液2として酒石酸アンモニウム水溶液(酒石酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液5としてギ酸水溶液(ギ酸の濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類XIIの銀粉を得た。
(Classification XII)
Except for using an aqueous solution of ammonium tartrate (tartaric acid concentration: 56 mass%) as the carboxylic acid
(分類XIII)
銀塩水溶液1として塩素酸銀水溶液(塩素酸銀の濃度:66質量%)を、カルボン酸類水溶液2としてグリコール酸水溶液(グリコール酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液5としてヒドラジン水溶液(ヒドラジンの濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類XIIIの銀粉を得た。
(Classification XIII)
A silver chlorate aqueous solution (silver chlorate concentration: 66% by mass) as the silver salt
(分類XIV)
銀塩水溶液1として硝酸銀とりん酸銀とを含む銀塩水溶液(硝酸銀の濃度:33質量%、りん酸銀の濃度:33質量%)を、カルボン酸類水溶液2としてグリコール酸水溶液(グリコール酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液5としてヒドラジン水溶液(ヒドラジンの濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類XIVの銀粉を得た。
(Classification XIV)
Silver salt aqueous solution containing silver nitrate and silver phosphate (silver nitrate concentration: 33% by mass, silver phosphate concentration: 33% by mass) as silver salt
(分類XV)
クエン酸銀スラリー(カルボン酸銀スラリー4)と、シュウ酸ナトリウム水溶液(還元剤水溶液5)とをそれぞれ15℃に保持しながら、クエン酸銀スラリーにシュウ酸ナトリウム水溶液を滴下して混合スラリーを調製したこと、調製した混合スラリーを70℃まで昇温し、70℃で0.5時間保持したこと以外は、分類Iと同様にして分類XVの銀粉を得た。
(Classification XV)
While maintaining the silver citrate slurry (silver carboxylate slurry 4) and the sodium oxalate aqueous solution (reducing agent aqueous solution 5) at 15 ° C., the sodium oxalate aqueous solution was dropped into the silver citrate slurry to prepare a mixed slurry. Then, the prepared mixed slurry was heated up to 70 ° C. and kept at 70 ° C. for 0.5 hours to obtain a silver powder of classification XV in the same manner as in classification I.
(分類XVI)
クエン酸銀スラリー(カルボン酸銀スラリー4)と、シュウ酸ナトリウム水溶液(還元剤水溶液5)とをそれぞれ60℃に保持しながら、クエン酸銀スラリーにシュウ酸ナトリウム水溶液を滴下して混合スラリーを調製したこと、調製した混合スラリーを97℃まで昇温し、97℃で1時間保持したこと以外は、分類Iと同様にして分類XVIの銀粉を得た。
(Classification XVI)
While maintaining the silver citrate slurry (silver carboxylate slurry 4) and the sodium oxalate aqueous solution (reducing agent aqueous solution 5) at 60 ° C., the sodium oxalate aqueous solution was dropped into the silver citrate slurry to prepare a mixed slurry. Then, the prepared mixed slurry was heated to 97 ° C. and maintained at 97 ° C. for 1 hour, and a silver powder of classification XVI was obtained in the same manner as in classification I.
(分類XVII)
クエン酸銀スラリー(カルボン酸銀スラリー4)と、シュウ酸ナトリウム水溶液(還元剤水溶液5)とをそれぞれ50℃に保持しながら、クエン酸銀スラリーにシュウ酸ナトリウム水溶液を滴下して混合スラリーを調製したこと、調製した混合スラリーを91℃まで昇温し、91℃で0.75時間保持したこと以外は、分類Iと同様にして分類XVIIIの銀粉を得た。
(Classification XVII)
While maintaining the silver citrate slurry (silver carboxylate slurry 4) and the sodium oxalate aqueous solution (reducing agent aqueous solution 5) at 50 ° C., the sodium oxalate aqueous solution was dropped into the silver citrate slurry to prepare a mixed slurry. Then, the prepared mixed slurry was heated to 91 ° C. and maintained at 91 ° C. for 0.75 hour to obtain a silver powder of class XVIII in the same manner as in class I.
(分類XVIII)
クエン酸銀スラリー(カルボン酸銀スラリー4)と、シュウ酸ナトリウム水溶液(還元剤水溶液5)とをそれぞれ60℃に保持しながら、クエン酸銀スラリーにシュウ酸ナトリウム水溶液を滴下して混合スラリーを調製したこと、調製した混合スラリーを91℃まで昇温し、91℃で0.5時間保持したこと以外は、分類Iと同様にして分類XVIIIの銀粉を得た。
(Classification XVIII)
While maintaining the silver citrate slurry (silver carboxylate slurry 4) and the sodium oxalate aqueous solution (reducing agent aqueous solution 5) at 60 ° C., the sodium oxalate aqueous solution was dropped into the silver citrate slurry to prepare a mixed slurry. Then, the prepared mixed slurry was heated to 91 ° C. and kept at 91 ° C. for 0.5 hours to obtain a silver powder of class XVIII in the same manner as in class I.
(分類XIX)
クエン酸銀スラリー(カルボン酸銀スラリー4)と、シュウ酸ナトリウム水溶液(還元剤水溶液5)とをそれぞれ50℃に保持しながら、クエン酸銀スラリーにシュウ酸ナトリウム水溶液を滴下して混合スラリーを調製したこと、調製した混合スラリーを98℃まで昇温し、98℃で0.25時間保持したこと以外は、分類Iと同様にして分類XIXの銀粉を得た。
(Classification XIX)
While maintaining the silver citrate slurry (silver carboxylate slurry 4) and the sodium oxalate aqueous solution (reducing agent aqueous solution 5) at 50 ° C., the sodium oxalate aqueous solution was dropped into the silver citrate slurry to prepare a mixed slurry. Then, the prepared mixed slurry was heated to 98 ° C. and maintained at 98 ° C. for 0.25 hour to obtain a silver powder of class XIX in the same manner as class I.
(分類XX)
分類XXの銀粉として、市販の銀粉(三井金属工業社製、「SPQ03S」)を用意した。
(Classification XX)
A commercially available silver powder ("SPQ03S" manufactured by Mitsui Kinzoku Kogyo Co., Ltd.) was prepared as a silver powder of classification XX.
<銀粉の評価>
分類I〜XVIIの銀粉について、一次粒子径の個数分布と、Ag+イオンに対するC3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンの検出量を下記の方法により測定した。
<Evaluation of silver powder>
For the silver powders of classifications I to XVII, the number distribution of primary particle diameters and the detected amounts of C 3 H 3 O 3 − ions and C 6 H 6 O 8 − ions with respect to Ag + ions were measured by the following methods.
(一次粒子径の個数分布の測定方法)
銀粉の一次粒子径は、以下のようにして測定した。すなわち、銀粉をエポキシ樹脂と混合し、得られた混合物を硬化させて銀粒子径測定用試料を作製した。この銀粒子径測定用試料の中央部を切断し、その切断面をアルゴンイオンビームにより研磨加工した。研磨加工した加工面をSEM(走査型電子顕微鏡)にて観察し、無作為に1000個以上の一次粒子を選択し、選択した一次粒子について、アルゴンイオンビームの照射方向に沿った方向の直径を一次粒子径として計測した。一次粒子径の個数分布は、計測した一次粒子径を10nmごとに区分することによって作成した。
(Measurement method of primary particle size number distribution)
The primary particle diameter of silver powder was measured as follows. That is, silver powder was mixed with an epoxy resin, and the resulting mixture was cured to produce a silver particle diameter measurement sample. The central part of this silver particle diameter measurement sample was cut, and the cut surface was polished with an argon ion beam. The polished processed surface is observed with an SEM (scanning electron microscope), 1000 or more primary particles are randomly selected, and the diameter of the selected primary particles in the direction along the irradiation direction of the argon ion beam is determined. The primary particle size was measured. The number distribution of primary particle diameters was created by classifying the measured primary particle diameters every 10 nm.
(Ag+イオンに対するC3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンの検出量の測定方法)
Ag+イオンに対するC3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンの検出量は、飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)より測定した。銀粉をIn箔表面に埋没したものを測定用試料とした。測定装置はULVAC PHI社製nanoTOFIIを用いた。測定範囲は100μm平方の範囲、一次イオンはBi3 ++(30kV)、測定時間は5分の条件で測定してTOF−SIMSスペクトルを得た。得られたTOF−SIMSスペクトルから、Ag+イオン、C3H3O3 −イオン、C6H6O8 −イオンの検出量を求め、C3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンの検出量を、それぞれAg+イオンの検出量で除して、Ag+イオンに対するC3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンの検出量を算出した。
(Ag C 3 H 3 against + ions O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - method of measuring the detected amount of ions)
The detected amounts of C 3 H 3 O 3 − ions and C 6 H 6 O 8 − ions with respect to Ag + ions were measured by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS). A sample in which silver powder was buried in the surface of the In foil was used as a measurement sample. The measuring device used was nanoTOFII manufactured by ULVAC PHI. The measurement range was 100 μm square, the primary ion was Bi 3 ++ (30 kV), the measurement time was 5 minutes, and a TOF-SIMS spectrum was obtained. From the obtained TOF-SIMS spectrum, the detected amount of Ag + ion, C 3 H 3 O 3 − ion, C 6 H 6 O 8 − ion was determined, and C 3 H 3 O 3 − ion and C 6 H 6 O were obtained. 8 - a detectable amount of ions, each divided by the detected amount of Ag + ions, C 3 H 3 for Ag + ions O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - to calculate the detected amount of ions.
各測定の結果を下記表1に示す。なお、表1には、銀粉の製造に使用した銀塩、カルボン酸もしくはカルボン酸塩、還元剤の種類、カルボン酸銀スラリーと還元剤溶液の温度、混合スラリーの熱処理条件(昇温速度、最高温度、保持時間)を併せて記載した。 The results of each measurement are shown in Table 1 below. In Table 1, the silver salt, carboxylic acid or carboxylate salt used for the production of the silver powder, the kind of the reducing agent, the temperature of the silver carboxylate slurry and the reducing agent solution, the heat treatment conditions of the mixed slurry (heating rate, maximum (Temperature, holding time) are also listed.
<ペースト状組成物の調製>
(本発明例1−1)
分類Iの銀粉とα−テルピネオール(20℃における蒸気圧:24Pa)とを、質量比が85:15となるように容器に入れ、混練機(THINKY社製、「あわとり練太郎」)で2000rpmの回転速度で5分間回転させる混練を3回行うことでペースト状組成物を得た。
<Preparation of paste-like composition>
(Invention Example 1-1)
Class I silver powder and α-terpineol (vapour pressure at 20 ° C .: 24 Pa) are put in a container so that the mass ratio is 85:15, and 2000 rpm with a kneading machine (manufactured by THINKY, “Awatori Kentaro”). A paste-like composition was obtained by performing kneading for 5 minutes at a rotational speed of 3 times.
(本発明例1−2〜1−18および比較例1−1〜1−6)
下記の表2に記載されている分類の銀粉を用いたこと、下記の表2に記載の溶媒を用いたこと以外は、本発明例1−1と同様にしてペースト状組成物を得た。なお、表2には、銀粉の一次粒子の個数分布、20nm以上50nm以下の一次粒子と粒径が200nm以上500nm以下の一次粒子との合計含有量、有機化合物量のデータを併せて示した。
(Invention Examples 1-2 to 1-18 and Comparative Examples 1-1 to 1-6)
A paste-like composition was obtained in the same manner as in Example 1-1 of the present invention except that the silver powder of the classification described in Table 2 below was used and the solvent described in Table 2 below was used. Table 2 also shows data on the number distribution of primary particles of silver powder, the total content of primary particles of 20 to 50 nm and the primary particles of 200 to 500 nm, and the amount of organic compounds.
<接合体の作製>
(本発明例2−1)
基板としてアルミ板を銀で被覆した板を用意し、銀上に本発明例1−1のペースト状組成物を、メタルマスク(孔サイズ:縦3mm×横3mm×厚さ50μm)を用いて印刷し成形した。次に、ペースト状組成物の上に、表面を銀で被覆したシリコンチップ(サイズ:縦2.5mm×横2.5mm×厚さ200μm)を乗せ、大気雰囲気中において150℃の温度で30分間保持することで焼成を行った。これにより基板とシリコンチップの間に接合層が形成され、接合体を得た。
<Preparation of joined body>
(Invention Example 2-1)
A plate in which an aluminum plate is coated with silver is prepared as a substrate, and the paste-like composition of Example 1-1 of the present invention is printed on the silver using a metal mask (hole size: length 3 mm × width 3 mm × thickness 50 μm). And then molded. Next, a silicon chip (size: length 2.5 mm × width 2.5 mm × thickness 200 μm) whose surface is coated with silver is placed on the paste-like composition, and is placed in an air atmosphere at a temperature of 150 ° C. for 30 minutes. Firing was performed by holding. As a result, a bonding layer was formed between the substrate and the silicon chip to obtain a bonded body.
(本発明例2−2〜2−18および比較例2−1〜2−6)
ペースト状組成物として下記の表3に記載されているペースト状組成物を用いたこと以外は本発明例2−1と同様にして接合体を得た。ただし、比較例2−6では、基板とシリコンチップとが接合しなかった。
(Invention Examples 2-2 to 2-18 and Comparative Examples 2-1 to 2-6)
A joined body was obtained in the same manner as in Example 2-1 except that the pasty composition described in Table 3 below was used as the pasty composition. However, in Comparative Example 2-6, the substrate and the silicon chip were not bonded.
(本発明例2−19)
基板として金板を用いたこと、及びシリコンチップの表面に金を被覆したこと以外は本発明例2−1と同様にして接合体を得た。
(Invention Example 2-19)
A joined body was obtained in the same manner as in Example 2-1 except that a gold plate was used as the substrate and that the surface of the silicon chip was coated with gold.
(本発明例2−20)
基板として銅板を用いたこと、及びシリコンチップの表面に銅を被覆したこと以外は本発明例2−1と同様にして接合体を得た。
(Invention Example 2-20)
A joined body was obtained in the same manner as in Example 2-1 except that a copper plate was used as the substrate and that the surface of the silicon chip was coated with copper.
<接合層の評価>
本発明例2−1〜2−20及び比較例2−1〜2−5の基板とシリコンチップの間に形成された接合層について、シェア強度をそれぞれ測定した。シェア強度は、基板とシリコンチップの間に形成された接合層を破断するのに要する力を、ボンディングテスタ(RHESCA社製)により測定し、この測定値を接合面積で除してシェア強度とした。また、緻密性の評価は以下のようにして行った。すなわち、接合層の断面をバフ研磨、イオンビーム研磨後、接合層の断面をSEMにて観察し、視野中の銀部と空孔部とに分け、画像処理ソフトによって二値化処理し、視野中の銀部の割合を面積%で表わした際、85面積%以上を◎、面積75wt%以上85面積%未満を○、75面積%未満を×とした。
<Evaluation of bonding layer>
For the bonding layers formed between the substrates of the inventive examples 2-1 to 2-20 and comparative examples 2-1 to 2-5 and the silicon chip, the shear strength was measured. The shear strength was determined by measuring the force required to break the bonding layer formed between the substrate and the silicon chip with a bonding tester (manufactured by RHESCA) and dividing this measured value by the bonding area to obtain the shear strength. . In addition, the evaluation of denseness was performed as follows. That is, after the cross section of the bonding layer is buffed and ion beam polished, the cross section of the bonding layer is observed with an SEM, divided into a silver portion and a void portion in the field of view, and binarized by image processing software. When the ratio of the silver portion in the area was expressed in area%, 85 area% or more was marked with ◎, area 75 wt% or more and less than 85 area% was marked with ○, and less than 75 area% was marked with x.
下記表3に、各本発明例及び各比較例の接合体について、ペースト状組成物、接合面(基板とシリコンチップの表面に被覆した金属種)、緻密性及びシェア強度の評価結果について示す。 Table 3 below shows the evaluation results of the paste-like composition, the bonding surface (metal species coated on the surface of the substrate and the silicon chip), the denseness, and the shear strength of the bonded bodies of the present invention examples and the comparative examples.
200nm以上500nm以下の粒子が少なく、Ag+イオンの検出量に対して、C3H3O3 −イオンの検出量が1.0倍を超え、かつC6H6O8 −イオンの検出量が0.02倍を超える銀粉を用いた比較例2−1の接合体は、緻密性と強度が低かった。これは、相対的に粒径が大きい一次粒子の量が少なく一次粒子間に隙間が形成され易かったこと、銀粒子の表面を被覆している有機化合物の量が多く焼結性が低下したことが原因と推測される。 There are few particles of 200 nm or more and 500 nm or less, the detection amount of C 3 H 3 O 3 − ions exceeds 1.0 times the detection amount of Ag + ions, and the detection amount of C 6 H 6 O 8 − ions The joined body of Comparative Example 2-1 using silver powder exceeding 0.02 times had low denseness and strength. This is because the amount of primary particles having a relatively large particle size is small and gaps are easily formed between the primary particles, and the amount of the organic compound covering the surface of the silver particles is large and the sinterability is reduced. Is presumed to be the cause.
20nm以上50nm以下の粒子が少なく、Ag+イオンの検出量に対して、C3H3O3 −イオンの検出量が0.2倍未満、かつC6H6O8 −イオンの検出量が0.005倍未満の銀粉を用いた比較例2−2の接合体は、緻密性と強度が低かった。これは、相対的に粒径が小さい一次粒子の量が少なく一次粒子間に隙間が形成され易かったこと、銀粒子の表面を被覆している有機化合物の量が少なく、銀粉同士が強固に凝集したため、緻密な接合層が得られなかったことが原因と推測される。 There are few particles of 20 nm or more and 50 nm or less, the detection amount of C 3 H 3 O 3 − ions is less than 0.2 times the detection amount of Ag + ions, and the detection amount of C 6 H 6 O 8 − ions is The joined body of Comparative Example 2-2 using silver powder less than 0.005 times had low denseness and strength. This is because the amount of primary particles having a relatively small particle size was small and gaps were easily formed between the primary particles, the amount of the organic compound covering the surface of the silver particles was small, and the silver powders were strongly agglomerated. Therefore, it is presumed that the dense bonding layer was not obtained.
Ag+イオンの検出量に対して、C3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンの検出量は本発明の範囲にあるが、20nm以上50nm以下の粒子が少ない銀粉を用いた比較例2−3の接合体は、強度は高くなったが緻密性が低かった。C3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンが本発明の範囲にあるために、被接合物と接合層の界面および接合層内部での焼結が進行したが、相対的に粒径が小さい一次粒子の量が少なく一次粒子間に隙間が形成され易かったことが原因と推測される。 The detection amount of C 3 H 3 O 3 − ion and C 6 H 6 O 8 − ion is within the range of the present invention with respect to the detection amount of Ag + ion, but silver powder with less particles of 20 nm to 50 nm is used. The joined body of Comparative Example 2-3 had high strength but low density. Since C 3 H 3 O 3 − ions and C 6 H 6 O 8 − ions are within the scope of the present invention, the sintering of the interface between the workpiece and the bonding layer and the inside of the bonding layer progressed. This is probably because the amount of primary particles having a small particle size is small and gaps are easily formed between the primary particles.
Ag+イオンの検出量に対して、C3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンの検出量は本発明の範囲にあるが、200nm以上500nm以下の粒子が少ない銀粉を用いた比較例2−4の接合体は、強度は高くなったが緻密性が低かった。C3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンが本発明の範囲にあるために、被接合物と接合層の界面および接合層内部での焼結が進行したが、相対的に粒径が大きい一次粒子の量が少ないため、相対的に粒径が小さい一次粒子が余り、接合層の隙間が形成され易かったことが原因と推測される。 The detection amount of C 3 H 3 O 3 − ion and C 6 H 6 O 8 − ion is within the range of the present invention relative to the detection amount of Ag + ion, but silver powder with few particles of 200 nm to 500 nm is used. The joined body of Comparative Example 2-4 was high in strength but low in density. Since C 3 H 3 O 3 − ions and C 6 H 6 O 8 − ions are within the scope of the present invention, the sintering of the interface between the workpiece and the bonding layer and the inside of the bonding layer progressed. This is presumed to be because the amount of primary particles having a large particle size is small, so that the primary particles having a relatively small particle size remain and the gap between the bonding layers is easily formed.
Ag+イオンの検出量に対して、C3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンの検出量は本発明の範囲にあるが、20nm以上50nm以下の粒子が少ない銀粉を用いた比較例2−5の接合体は、強度は高くなったが緻密性が低かった。C3H3O3 −イオンとC6H6O8 −イオンが本発明の範囲にあるために、被接合物と接合層の界面および接合層内部での焼結が進行したが、相対的に粒径が大きい一次粒子の量が多いため、相対的に粒径が小さい一次粒子が隙間を埋めきれず、接合層の隙間が形成され易かったことが原因と推測される。 The detection amount of C 3 H 3 O 3 − ion and C 6 H 6 O 8 − ion is within the range of the present invention with respect to the detection amount of Ag + ion, but silver powder with less particles of 20 nm to 50 nm is used. The joined body of Comparative Example 2-5 had high strength but low density. Since C 3 H 3 O 3 − ions and C 6 H 6 O 8 − ions are within the scope of the present invention, the sintering of the interface between the workpiece and the bonding layer and the inside of the bonding layer progressed. This is presumably because the primary particles having a large particle size have a large amount of primary particles, and the primary particles having a relatively small particle size cannot fill the gaps, and the gaps in the bonding layer are easily formed.
これに対して、飛行時間型二次イオン質量分析法において、Ag+イオンの検出量に対して、C3H3O3 −イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC6H6O8 −イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲にあり、一次粒子径の個数分布において、粒径が20nm以上50nm以下の範囲にある一次粒子の含有量が65個数%以上であり、かつ粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある一次粒子の含有量が3個数%以上である銀粉を用いた本発明例2−1〜2−20の接合体は、強度と緻密性が高かった。特に、粒径が20nm以上50nm以下の範囲にある一次粒子と、粒径が200nm以上500nm以下の範囲にある一次粒子との合計含有量が85個数%以上である銀粉を用いた本発明例2−9の接合体は、強度と緻密性が顕著に向上した。 In contrast, in the time-of-flight secondary ion mass spectrometry, the detected amount of C 3 H 3 O 3 − ions is 0.2 to 1.0 times the detected amount of Ag + ions, and C 6 H 6 O 8 - is in the range detection amount less 0.02 times 0.005 times the ions, containing the primary particles in the number distribution of the primary particle size in the range particle size of 20nm or more 50nm or less The joined body of Examples 2-1 to 2-20 of the present invention using silver powder having an amount of 65% by number or more and a content of primary particles having a particle size in the range of 200 nm to 500 nm of 3% by number or more Was strong and dense. In particular, Invention Example 2 using silver powder having a total content of primary particles having a particle size in the range of 20 nm to 50 nm and primary particles having a particle size in the range of 200 nm to 500 nm of 85% by number or more. The joined body of -9 was remarkably improved in strength and denseness.
1…銀塩水溶液
2…カルボン酸塩水溶液
3…水
4…カルボン酸銀スラリー
5…還元剤水溶液
11…接合体
12…基板
13…第1の金属層
14…接合層
15…第2の金属層
16…被接合物
17、18…界面
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記カルボン酸銀スラリーに還元剤水溶液を滴下した後、92℃以上95℃以下の範囲の温度で保持することにより、前記カルボン酸銀粒子を還元して銀粒子を生成させて銀粉スラリーを調製する工程と、
前記銀粉スラリーを乾燥して銀粉を得る工程と、
を有することを特徴とする銀粉の製造方法。 A step of simultaneously dropping an aqueous silver salt solution and an aqueous solution of a carboxylic acid or a carboxylate salt into water to produce silver carboxylate particles to prepare a silver carboxylate slurry;
After dropping the reducing agent aqueous solution into the silver carboxylate slurry, the silver carboxylate particles are reduced by holding at a temperature in the range of 92 ° C. or higher and 95 ° C. or lower to produce silver particles, thereby preparing a silver powder slurry. Process,
Drying the silver powder slurry to obtain silver powder;
A method for producing silver powder, comprising:
前記第1の部材と前記第2の部材とを、請求項7に記載のペースト状組成物を介して積層した積層体を形成する積層工程と、
前記積層体を加熱して、前記ペースト状組成物を乾燥、焼結させて接合層を生成させる焼結工程と、
を有することを特徴とする接合体の製造方法。 A method for manufacturing a joined body in which a first member and a second member are joined via a joining layer,
A laminating step of forming a laminate in which the first member and the second member are laminated via the paste-like composition according to claim 7;
A sintering step in which the laminate is heated to dry and sinter the paste-like composition to form a bonding layer;
A method for producing a joined body, comprising:
前記ペースト状組成物を塗布した基材を加熱して、前記ペースト状組成物を乾燥、焼結させて銀膜を生成させる焼結工程と、
を含むことを特徴とする銀膜の製造方法。 An application step of applying the paste-like composition according to claim 7 to a substrate;
Heating the substrate coated with the paste-like composition, drying and sintering the paste-like composition to produce a silver film; and
A method for producing a silver film, comprising:
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