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JP2018168226A - Paste-like silver powder composition, method for producing joined body, and method for producing silver film - Google Patents

Paste-like silver powder composition, method for producing joined body, and method for producing silver film Download PDF

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JP2018168226A JP2017064992A JP2017064992A JP2018168226A JP 2018168226 A JP2018168226 A JP 2018168226A JP 2017064992 A JP2017064992 A JP 2017064992A JP 2017064992 A JP2017064992 A JP 2017064992A JP 2018168226 A JP2018168226 A JP 2018168226A
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弘太郎 増山
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和彦 山▲崎▼
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Abstract

【課題】塗布性に優れ、比較的低温での加熱によって放熱性と接合性が高い銀膜(接合層)を形成ができるペースト状銀粉組成物を提供する。【解決手段】銀粉と、分子内に窒素原子またはリン原子を有する高分子分散剤と、ジオール類およびカルビトールアセテート類からなる群より選ばれる少なくとも1種の溶剤とを含み、前記銀粉は、飛行時間型二次イオン質量分析法によって測定される、C3H3O3−イオンとC6H6O8−イオンのそれぞれの検出量が、Ag+イオンの検出量に対して、C3H3O3−イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC6H6O8−イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲にあり、前記高分子分散剤は、ゲル濾過クロマトグラフィーによって測定されるピークトップ分子量が1500以上15000以下の範囲にあって、前記高分子分散剤の含有量が1質量%以上5質量%以下の範囲にあるペースト状銀粉組成物。【選択図】図1The present invention provides a paste-like silver powder composition which is excellent in coatability and capable of forming a silver film (bonding layer) having high heat dissipation and bonding properties by heating at a relatively low temperature. The silver powder contains a silver powder, a polymer dispersant having a nitrogen atom or a phosphorus atom in the molecule, and at least one solvent selected from the group consisting of diols and carbitol acetates. The detected amount of each of C3H3O3- ions and C6H6O8- ions measured by time-type secondary ion mass spectrometry is 0.2 times or more that of Ag+ ions. 0 times or less, the amount of detection of C6H6O8- ions is in the range of 0.005 times or more and 0.02 times or less, and the polymer dispersant has a peak top molecular weight of 1500 or more and 15000 or less as measured by gel filtration chromatography. and the content of the polymer dispersant is in the range of 1% by mass or more and 5% by mass or less. [Selection drawing] Fig. 1

Description

本発明は、ペースト状銀粉組成物と、このペースト状銀粉組成物を用いた接合体の製造方法および銀膜の製造方法に関する。   The present invention relates to a paste-like silver powder composition, a method for producing a joined body using the paste-like silver powder composition, and a method for producing a silver film.

粒径がナノサイズの金属ナノ粒子からなる微細な金属粉は、金属本来の融点よりも低い温度で焼結させることが可能となることが知られている。特に、銀粉は導電性と放熱性が高いことから、微細な銀粉を溶剤に分散させたペースト状銀粉組成物は、回路基板と半導体チップやLED素子などの電子部品とを接合するための接合材や太陽電池素子の電極などの原料として注目されている。   It is known that a fine metal powder composed of metal nanoparticles having a nano particle size can be sintered at a temperature lower than the original melting point of the metal. In particular, since silver powder has high conductivity and heat dissipation, a paste-like silver powder composition in which fine silver powder is dispersed in a solvent is a bonding material for bonding a circuit board and an electronic component such as a semiconductor chip or LED element. And as a raw material for electrodes of solar cell elements.

例えば、特許文献1には、ヘキサン酸などの炭素数8以下の有機化合物で被覆され平均一次粒子径1〜50nmの銀微粒子と、オレイン酸などの有機化合物で被覆された平均一次粒子径0.5〜4μmの銀粒子と、1級アルコール系溶剤とテルペン系アルコール溶剤とからなる溶剤と、リン酸エステル系分散剤からなる分散剤を含むペースト状銀粉組成物が開示されている。   For example, Patent Document 1 discloses that silver fine particles having an average primary particle diameter of 1 to 50 nm coated with an organic compound having 8 or less carbon atoms such as hexanoic acid, and an average primary particle diameter of 0.1 .mu.m coated with an organic compound such as oleic acid. A paste-like silver powder composition containing 5 to 4 μm silver particles, a solvent composed of a primary alcohol solvent and a terpene alcohol solvent, and a dispersant composed of a phosphate ester dispersant is disclosed.

特開2015−225842号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-225842

近年の電気機器の小型化や高機能化に伴って、半導体素子の高集積化が進められており、半導体素子にて発生する熱量は増加する傾向にある。このため、ペースト状銀粉組成物においては、なるべく低温での加熱によって、空孔が少ない緻密な銀膜(銀粉焼結体)を微細なパターンで形成できるものであることが望まれている。緻密な銀膜とすることによって、基板回路と半導体素子とを高い接合強度で接合することができ、また、熱伝導性が高くなるので半導体素子で発生した熱を外部に放出し易くなり、さらには熱膨張や熱収縮による破損が起こりにくいという利点がある。   With the recent miniaturization and higher functionality of electrical equipment, higher integration of semiconductor elements has been promoted, and the amount of heat generated in the semiconductor elements tends to increase. For this reason, in the paste-like silver powder composition, it is desired that a dense silver film (silver powder sintered body) with few pores can be formed in a fine pattern by heating at as low a temperature as possible. By forming a dense silver film, the substrate circuit and the semiconductor element can be bonded with high bonding strength, and the heat conductivity is increased, so that the heat generated in the semiconductor element is easily released to the outside. Has the advantage that damage due to thermal expansion and contraction hardly occurs.

従来、緻密な銀膜を形成可能とするために、ペースト状銀粉組成物の銀粉の濃度を高くすることが検討されている。しかしながら、ペースト状銀粉組成物の銀粉の濃度を高くすると粘度が上昇し、塗布性が低下して、微細なパターンで銀膜を形成するのが困難となることがあった。また、特許文献1に記載されているように、ペースト状銀粉組成物の粘度を低減させるために、分散剤を添加することが検討されている。しかし、分散剤を添加することによって、加熱時の銀粉の焼結が妨げられ、得られる銀膜の密度が却って低くなり、放熱性や接合性が低下することがあった。   Conventionally, in order to be able to form a dense silver film, it has been studied to increase the concentration of silver powder in a paste-like silver powder composition. However, when the concentration of the silver powder in the paste-like silver powder composition is increased, the viscosity increases, the applicability decreases, and it may be difficult to form a silver film with a fine pattern. In addition, as described in Patent Document 1, in order to reduce the viscosity of the pasty silver powder composition, it has been studied to add a dispersant. However, the addition of a dispersant hinders the sintering of silver powder during heating, and the density of the resulting silver film is rather lowered, resulting in a decrease in heat dissipation and bondability.

本発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、塗布性に優れ、比較的低温での加熱によって放熱性と接合性が高い銀膜(銀粉焼結体)を形成することができるペースト状銀粉組成物を提供することを目的としている。本発明また、比較的低温での加熱によって熱伝導性と接合強度が高い接合体を製造することができる接合体の製造方法および比較的低温での加熱によって熱伝導性が高い銀膜を製造することができる銀膜の製造方法を提供することも目的としている。   This invention is made | formed in view of the situation mentioned above, Comprising: It is excellent in applicability | paintability and can form the silver film (silver powder sintered compact) with high heat dissipation and joining property by the heating at comparatively low temperature. The object is to provide a paste-like silver powder composition. The present invention also provides a method for manufacturing a bonded body capable of manufacturing a bonded body having high thermal conductivity and high bonding strength by heating at a relatively low temperature, and a silver film having high thermal conductivity by heating at a relatively low temperature. Another object of the present invention is to provide a method for producing a silver film.

上記の課題を解決するために、本発明のペースト状銀粉組成物は、銀粉と、分子内に窒素原子またはリン原子を有する高分子分散剤と、ジオール類およびカルビトールアセテート類からなる群より選ばれる少なくとも1種の溶剤とを含み、前記銀粉は、飛行時間型二次イオン質量分析法によって測定される、C イオンとC イオンのそれぞれの検出量が、Agイオンの検出量に対して、C イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲にあり、前記高分子分散剤は、ゲル濾過クロマトグラフィーによって測定されるピークトップ分子量が1500以上15000以下の範囲にあって、前記高分子分散剤の含有量が1質量%以上5質量%以下の範囲にあることを特徴としている。 In order to solve the above problems, the paste-like silver powder composition of the present invention is selected from the group consisting of silver powder, a polymer dispersant having a nitrogen atom or phosphorus atom in the molecule, diols and carbitol acetates. and at least one solvent is, the silver powder is measured by time-of-flight secondary ion mass spectrometry, C 3 H 3 O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - each detected amount of ions However, the detected amount of C 3 H 3 O 3 ions is 0.2 to 1.0 times the detected amount of Ag + ions, and the detected amount of C 6 H 6 O 8 ions is 0.1. 005 times or more and 0.02 times or less, and the polymer dispersant has a peak top molecular weight measured by gel filtration chromatography in the range of 1500 to 15000, and contains the polymer dispersant. The content is in the range of 1% by mass to 5% by mass.

この構成のペースト状銀粉組成物においては、銀粉が、飛行時間型二次イオン質量分析法によってC イオン及びC イオンとして検出される有機化合物で被覆されているので、銀粒子同士の凝集が抑制され、ペースト状銀粉組成物の塗布性が向上する。そして、この飛行時間型二次イオン質量分析法によって測定される、C イオンとC イオンのそれぞれの検出量が、Agイオンの検出量に対して、C イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲にあり、粒子表面を被覆している有機化合物の量が少ないため、比較的低温での加熱によって、有機化合物が消失して銀粒子の表面が露出するので、銀粒子同士を比較的低温で焼結させることが可能となる。 In the paste-like silver powder composition having this configuration, the silver powder is coated with an organic compound detected as C 3 H 3 O 3 ions and C 6 H 6 O 8 ions by time-of-flight secondary ion mass spectrometry. Therefore, aggregation of silver particles is suppressed and the applicability of the paste-like silver powder composition is improved. The detected amounts of C 3 H 3 O 3 ions and C 6 H 6 O 8 ions measured by this time-of-flight secondary ion mass spectrometry are compared to the detected amount of Ag + ions. The detected amount of C 3 H 3 O 3 ions is in the range of 0.2 to 1.0 times, and the detected amount of C 6 H 6 O 8 ions is in the range of 0.005 to 0.02 times. Yes, since the amount of organic compound covering the particle surface is small, the organic compound disappears and the surface of the silver particle is exposed by heating at a relatively low temperature, so the silver particles are sintered at a relatively low temperature. It becomes possible to make it.

また、上記の構成のペースト状銀粉組成物においては、分子内に窒素原子またはリン原子を有する高分子分散剤が銀粒子の表面に付着することによって、銀粒子同士の凝集が抑制され、ペースト状銀粉組成物の塗布性が向上する。さらに高分子分散剤は、ゲル濾過クロマトグラフィーによって測定されるピークトップ分子量が1500以上とされているので、銀粒子同士の凝集を確実に抑制される。また、高分子分散剤はそのピークトップ分子量が15000以下とされているので、加熱時には銀粒子表面から脱離しやすく、銀粒子同士を比較的低温で焼結させることが可能となる。   Further, in the paste-like silver powder composition having the above-described configuration, the polymer dispersant having a nitrogen atom or a phosphorus atom in the molecule adheres to the surface of the silver particle, whereby aggregation of the silver particles is suppressed, and the paste-like silver powder composition The applicability of the silver powder composition is improved. Furthermore, since the polymer dispersant has a peak top molecular weight of 1500 or more as measured by gel filtration chromatography, aggregation of silver particles is reliably suppressed. In addition, since the polymer dispersant has a peak top molecular weight of 15000 or less, it can be easily detached from the surface of the silver particles during heating, and the silver particles can be sintered at a relatively low temperature.

このように、上記の構成のペースト状銀粉組成物では、銀粒子の表面を被覆する有機化合物と、高分子分散剤とを組合せることによって銀粒子の凝集を抑制している。このため、高分子分散剤の含有量が1質量%以上5質量%以下の範囲と比較的少量であっても、ペースト状銀粉組成物の塗布性を向上させることができる。そして、高分子分散剤の含有量が5質量%以下と比較的少量であるため、比較的低温での加熱によって銀粒子を焼結させることが可能となる。よって、比較的低温での加熱によって放熱性と接合性が高い銀膜を得ることができる。   Thus, in the paste-like silver powder composition having the above-described configuration, aggregation of silver particles is suppressed by combining the organic compound covering the surface of the silver particles and the polymer dispersant. For this reason, even if content of a polymer dispersing agent is the range of 1 mass% or more and 5 mass% or less and a comparatively small quantity, the applicability | paintability of a paste-form silver powder composition can be improved. And since content of a polymer dispersing agent is comparatively small with 5 mass% or less, it becomes possible to sinter silver particle by the heating at comparatively low temperature. Therefore, a silver film having high heat dissipation and high bondability can be obtained by heating at a relatively low temperature.

さらにまた、上記の構成のペースト状銀粉組成物においては、ジオール類およびカルビトールアセテート類からなる群より選ばれる少なくとも1種の溶剤を含むので、さらに塗布性が向上する。   Furthermore, since the paste-like silver powder composition having the above-described structure contains at least one solvent selected from the group consisting of diols and carbitol acetates, the coatability is further improved.

ここで、本発明のペースト状銀粉組成物においては、前記高分子分散剤が、アミノ基またはリン酸基を有する高分子分散剤であることが好ましい。すなわち、分子内の窒素原子はアミノ基として、リン原子はリン酸基として存在していることが好ましい。
この場合、高分子分散剤を銀粒子の表面により確実に付着させることができ、これによってペースト状銀粉組成物の塗布性をより向上させることができる。
Here, in the paste-like silver powder composition of the present invention, the polymer dispersant is preferably a polymer dispersant having an amino group or a phosphate group. That is, the nitrogen atom in the molecule is preferably present as an amino group and the phosphorus atom is present as a phosphate group.
In this case, the polymer dispersant can be reliably attached to the surface of the silver particles, and thereby the applicability of the pasty silver powder composition can be further improved.

また、本発明のペースト状銀粉組成物においては、前記溶剤が、エチレングリコール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオールまたはブチルカルビトールアセテートであることが好ましい。
この場合、ペースト状銀粉組成物の塗布性が確実に向上する。
In the pasty silver powder composition of the present invention, the solvent is preferably ethylene glycol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, or butyl carbitol acetate.
In this case, the applicability of the pasty silver powder composition is reliably improved.

本発明の接合体の製造方法は、第1の部材と第2の部材とが接合層を介して接合されている接合体の製造方法であって、前記第1の部材と第2の部材とを、前記の本発明のペースト状銀粉組成物を介して積層した積層体を形成する積層工程と、前記積層体を加熱して、前記ペースト状銀粉組成物を乾燥、焼結させて接合層を生成させる焼結工程と、を有することを特徴としている。   The method for manufacturing a joined body according to the present invention is a method for producing a joined body in which a first member and a second member are joined together via a joining layer, the first member and the second member, A laminating step for forming a laminated body laminated via the pasty silver powder composition of the present invention, and heating the laminated body to dry and sinter the pasty silver powder composition to form a bonding layer. And a sintering step to be generated.

この構成の接合体の製造方法によれば、接合層を生成させる接合材として前述のペースト状銀粉組成物を用いるので、比較的低温での加熱によって熱伝導性と接合強度が高い接合体を製造することができる。   According to the method for manufacturing a bonded body having this configuration, since the paste-like silver powder composition described above is used as a bonding material for generating a bonding layer, a bonded body having high thermal conductivity and high bonding strength is manufactured by heating at a relatively low temperature. can do.

本発明の銀膜の製造方法は、基材に、前記の本発明のペースト状銀粉組成物を塗布する塗布工程と、前記ペースト状銀粉組成物を塗布した基材を加熱して、前記ペースト状銀粉組成物を乾燥、焼結させて銀膜を生成させる焼結工程と、を含むことを特徴としている。   The method for producing a silver film of the present invention comprises a step of applying a paste silver powder composition of the present invention to a substrate, and heating the substrate coated with the paste silver powder composition to form the paste And a sintering step of forming a silver film by drying and sintering the silver powder composition.

この構成の銀膜の製造方法によれば、銀膜の材料として前述のペースト状銀粉組成物を用いるので、比較的低温での加熱によって熱伝導性が高い銀膜を製造することができる。   According to the method for producing a silver film having this configuration, since the paste-like silver powder composition described above is used as a material for the silver film, a silver film having high thermal conductivity can be produced by heating at a relatively low temperature.

本発明によれば、塗布性に優れ、比較的低温での加熱によって放熱性と接合性が高い銀膜(銀粉焼結体)を形成することができるペースト状銀粉組成物を提供することが可能となる。また、本発明によれば、比較的低温での加熱によって熱伝導性と接合強度が高い接合体を製造することができる接合体の製造方法および比較的低温での加熱によって熱伝導性が高い銀膜を製造することができる銀膜の製造方法を提供することが可能となる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is possible to provide the paste-form silver powder composition which is excellent in applicability | paintability and can form a silver film (silver powder sintered compact) with high heat dissipation and joining property by the heating at comparatively low temperature. It becomes. Further, according to the present invention, a method for producing a joined body capable of producing a joined body having high thermal conductivity and high bonding strength by heating at a relatively low temperature, and silver having high thermal conductivity by heating at a relatively low temperature. It is possible to provide a method for producing a silver film that can produce a film.

本実施形態の接合体の製造方法を用いて製造された接合体の断面図である。It is sectional drawing of the conjugate | zygote manufactured using the manufacturing method of the conjugate | zygote of this embodiment.

以下、本発明を適用した一実施形態であるペースト状銀粉組成物、接合体の製造方法および銀膜の製造方法について詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。   Hereinafter, a paste-like silver powder composition, a method for producing a joined body, and a method for producing a silver film, which are embodiments to which the present invention is applied, will be described in detail. In addition, in the drawings used in the following description, in order to make the features easy to understand, there are cases where the portions that become the features are enlarged for the sake of convenience, and the dimensional ratios of the respective components are not always the same as the actual ones. Absent.

<ペースト状銀粉組成物>
本実施形態のペースト状銀粉組成物は、銀粉と、高分子分散剤と、溶剤とを含む。以下、これらの各成分について説明する。
<Paste silver powder composition>
The pasty silver powder composition of this embodiment contains silver powder, a polymer dispersant, and a solvent. Hereinafter, each of these components will be described.

(銀粉)
本実施形態で用いる銀粉は、純銀及び銀を主成分とする銀合金(銀の含有量が99質量%以上)で構成されたものとされている。銀粉の平均粒子径は、100nm以上150nm以下のナノサイズとされている。銀を高純度で含み、かつ平均粒子径がナノサイズとされている銀粉を用いることによって、銀本来の融点よりも低い温度、例えば、130℃以上、好ましくは150℃以上の温度での加熱によって、銀粉を焼結させることが可能となる。
(Silver powder)
The silver powder used in the present embodiment is composed of pure silver and a silver alloy containing silver as a main component (silver content is 99% by mass or more). The average particle diameter of the silver powder is a nano size of 100 nm or more and 150 nm or less. By using silver powder containing silver in high purity and having an average particle size of nano-size, by heating at a temperature lower than the original melting point of silver, for example, 130 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or higher. It becomes possible to sinter silver powder.

本実施形態で用いる銀粉は、飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)において、C イオンとC イオンのそれぞれの検出量が、Agイオンの検出量に対して、C イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲とされている。 In the silver powder used in the present embodiment, each of the detected amounts of C 3 H 3 O 3 ions and C 6 H 6 O 8 ions is Ag + in time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS). The detected amount of C 3 H 3 O 3 ions is 0.2 to 1.0 times the detected amount of ions, and the detected amount of C 6 H 6 O 8 ions is 0.005 to 0 times 0. .02 times or less.

飛行時間型二次イオン質量分析法において検出されるC イオンとC イオンは、銀粒子表面を被覆している有機化合物(保護剤)に由来する。
イオンとC イオンの検出量が少なくなりすぎると、すなわち銀粒子表面を被覆している有機化合物の量が少なくなりすぎると銀粒子の表面が活性となり、銀粒子が凝集し易くなり、ペースト状銀粉組成物の粘度が上昇して、塗布性が低下するおそれがある。一方、C イオンとC イオンの検出量が多くなりすぎると、すなわち銀粒子表面を被覆している有機化合物の量が多くなりすぎると、焼結性が低下して銀粉を焼結させるための加熱温度を高温にすることが必要となるおそれがある。
C 3 H 3 O 3 ions and C 6 H 6 O 8 ions detected in time-of-flight secondary ion mass spectrometry are derived from an organic compound (protective agent) covering the surface of the silver particles.
C 3 H 3 O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - the detection of ions is too small, i.e. the surface activity of the amount is small becomes excessively when silver particles of the organic compound coating the silver particle surface Thus, the silver particles are likely to aggregate, the viscosity of the pasty silver powder composition is increased, and the applicability may be reduced. On the other hand, C 3 H 3 O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - the detection of the ion is too high, i.e. the amount of the organic compound coating the silver particle surface is too large, sinterability It may be necessary to increase the heating temperature for sintering the silver powder.

以上の理由から、本実施形態では、Agイオンの検出量に対して、C イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲とされている。なお、銀粉の保存安定性を確実に向上させ、焼結温度を確実に低減させるために、Agイオンの検出量に対するC イオンの検出量は、0.3倍以上0.5倍以下にあることが好ましい。また、銀粒子の表面に付着している有機化合物は、低分子量である方が加熱によって消失させ易いので好ましい。従って、C イオンの検出量が、C イオンの検出量よりも多い方が好ましい。C イオンの検出量は、C イオンの検出量に対して30倍以上50倍以下の範囲にあることが好ましい。 For the above reasons, in this embodiment, the detected amount of C 3 H 3 O 3 ions is 0.2 to 1.0 times the detected amount of Ag + ions, and C 6 H 6 O 8. - detection of ions is in the range of less than 0.02 times 0.005 times. In order to surely improve the storage stability of silver powder and to surely reduce the sintering temperature, the detected amount of C 3 H 3 O 3 ions relative to the detected amount of Ag + ions is 0.3 times or more 0 It is preferable that it is 5 times or less. Moreover, the organic compound adhering to the surface of the silver particles is preferable because it has a low molecular weight because it is easily lost by heating. Therefore, it is preferable that the detected amount of C 3 H 3 O 3 ions is larger than the detected amount of C 6 H 6 O 8 ions. C 3 H 3 O 3 - detection of ions, C 6 H 6 O 8 - is preferably in the range of 30 times 50 times or less with respect to the detection of ions.

銀粉の銀粒子の形状としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、球状、棒状、鱗片状等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a shape of the silver particle of silver powder, Specifically, spherical shape, rod shape, scale shape, etc. are mentioned, for example.

ペースト状銀粉組成物中の銀粉の含有量は、例えば、75質量%以上95質量%以下の範囲にある。銀粉の含有量が少なくなりすぎると、高密度の銀膜を生成させるのが難しくなるおそれがある。一方、銀粉の含有量が多くなりなりすぎると、ペースト状銀粉組成物の粘度が高くなって塗布性が低下するおそれがある。   Content of the silver powder in a paste-form silver powder composition exists in the range of 75 mass% or more and 95 mass% or less, for example. If the silver powder content is too low, it may be difficult to produce a high-density silver film. On the other hand, if the content of silver powder becomes too large, the viscosity of the paste-like silver powder composition becomes high and the applicability may be lowered.

上記の銀粉は、例えば、銀塩水溶液とカルボン酸またはカルボン酸塩が溶解しているカルボン酸類水溶液とを水中に同時に滴下して、カルボン酸銀粒子を生成させてカルボン酸銀スラリーを調製する第1工程と、カルボン酸銀スラリーに還元剤水溶液を滴下し、得られた混合スラリーを、熱処理してカルボン酸銀粒子を還元して銀粒子を生成させて銀粉スラリーを調製する第2工程と、銀粉スラリーから銀粉を回収する第3工程とを有する方法によって製造することができる。   The above silver powder is prepared by, for example, simultaneously dropping an aqueous silver salt solution and an aqueous carboxylic acid solution in which a carboxylic acid or a carboxylic acid salt is dissolved into water to produce silver carboxylate particles to prepare a silver carboxylate slurry. A second step of preparing a silver powder slurry by dropping a reducing agent aqueous solution into the silver carboxylate slurry and preparing a silver powder slurry by heat-treating the resulting mixed slurry to reduce silver carboxylate particles to form silver particles; And a third step of recovering silver powder from the silver powder slurry.

上記第1工程では、銀塩水溶液とカルボン酸類水溶液とを水中に同時に滴下するので、水中の銀塩濃度とカルボン酸塩の濃度が低くなる。このため、銀塩濃度とカルボン酸塩の反応速度が遅くなり、粒子径がナノサイズの微細なカルボン酸銀粒子が生成される。   In the first step, since the silver salt aqueous solution and the carboxylic acid aqueous solution are simultaneously dropped into water, the silver salt concentration and the carboxylate concentration in the water are lowered. For this reason, the reaction rate between the silver salt concentration and the carboxylate is decreased, and fine silver carboxylate particles having a nano-sized particle size are generated.

水中に同時に滴下する銀塩水溶液とカルボン酸類水溶液の量の割合は、銀とカルボン酸の当量比[=(銀イオンの価数:1価×モル数)/(カルボン酸の価数×モル数)]として、1.1以上2.0以下の範囲とすることが好ましい。この場合、滴下の進行に伴って、水中にフリーなカルボン酸の量が増加することによって、銀塩水溶液を滴下してからカルボン酸銀粒子が生成するまでの時間が短くなるので、微細なカルボン酸銀粒子が生成し易くなる。   The ratio of the amount of the silver salt aqueous solution and the carboxylic acid aqueous solution simultaneously dropped into water is the equivalent ratio of silver and carboxylic acid [= (valence of silver ions: 1 valence × number of moles) / (valence of carboxylic acid × number of moles). ]] Is preferably in the range of 1.1 to 2.0. In this case, as the amount of free carboxylic acid increases in water as the dropping proceeds, the time from dropping the aqueous silver salt solution to the formation of silver carboxylate particles is shortened. It becomes easy to produce silver oxide particles.

ここで、カルボン酸銀スラリーを調製する際は、銀塩水溶液、カルボン酸類水溶液および水(カルボン酸銀スラリー)の各液の温度を20〜50℃の範囲内の所定温度に保持することが好ましい。各液の温度を20℃以上の所定温度に保持することにより、カルボン酸銀粒子が生成しやすくなり、カルボン酸銀粒子の粒径を大きくすることができる。また、各液の温度を50℃以下の所定温度に保持することにより、カルボン酸銀粒子が過剰に成長して粗大粒子となるのを防止することができる。   Here, when preparing the silver carboxylate slurry, it is preferable to maintain the temperature of each solution of the silver salt aqueous solution, the carboxylic acid aqueous solution, and water (silver carboxylate slurry) at a predetermined temperature in the range of 20 to 50 ° C. . By maintaining the temperature of each liquid at a predetermined temperature of 20 ° C. or higher, silver carboxylate particles are easily generated, and the particle size of the silver carboxylate particles can be increased. Further, by maintaining the temperature of each liquid at a predetermined temperature of 50 ° C. or lower, it is possible to prevent silver carboxylate particles from growing excessively and becoming coarse particles.

また、水中に銀塩水溶液とカルボン酸類水溶液を同時に滴下している間、水を撹拌していることが好ましい。   Moreover, it is preferable that water is stirred while the silver salt aqueous solution and the carboxylic acid aqueous solution are simultaneously dropped into water.

銀塩水溶液としては、硝酸銀、塩素酸銀及びリン酸銀からなる群より選ばれた1種又は2種以上の銀塩化合物の水溶液を用いることができる。   As the silver salt aqueous solution, an aqueous solution of one or more silver salt compounds selected from the group consisting of silver nitrate, silver chlorate and silver phosphate can be used.

カルボン酸類水溶液としては、グリコール酸、クエン酸、リンゴ酸、マレイン酸、マロン酸、フマル酸、コハク酸及び酒石酸からなる群より選ばれた1種又は2種以上のカルボン酸もしくはその塩の水溶液を用いることができる。これらのカルボン酸は、銀と安定なキレートを形成するので、カルボン酸銀粒子として析出し易い。カルボン酸塩は、これらのカルボン酸のアンモニウム塩もしくはアルカリ金属塩であることが好ましい。   As the carboxylic acid aqueous solution, an aqueous solution of one or more carboxylic acids or salts thereof selected from the group consisting of glycolic acid, citric acid, malic acid, maleic acid, malonic acid, fumaric acid, succinic acid and tartaric acid is used. Can be used. Since these carboxylic acids form a stable chelate with silver, they are easily precipitated as silver carboxylate particles. The carboxylate is preferably an ammonium salt or alkali metal salt of these carboxylic acids.

水としては、イオン交換水、蒸留水を用いることができる。カルボン酸銀粒子の生成に悪影響を与えるおそれのあるイオンが含まれないことや、蒸留水と比べて製造コストが低いことからイオン交換水を用いることが特に好ましい。   As water, ion-exchanged water or distilled water can be used. It is particularly preferable to use ion-exchanged water because it does not contain ions that may adversely affect the formation of silver carboxylate particles and the production cost is lower than that of distilled water.

上記第2工程では、カルボン酸銀スラリーに還元剤水溶液を滴下して得た混合スラリーを、92℃以上95℃以下の範囲の温度で保持する熱処理を行うことが好ましい。混合スラリーの保持温度を92℃以上とすることにより、カルボン酸銀が還元されやすくなり、銀粒子を速やかに生成させることができる。また、混合スラリーの保持温度を95℃以下とすることにより、生成した銀粒子の表面に、カルボン酸をC イオンもしくはC イオンとして付着させることができるので、銀粒子が粗大粒子となるのを防止することができる。 In the second step, it is preferable to perform a heat treatment in which the mixed slurry obtained by dropping the aqueous reducing agent solution into the silver carboxylate slurry is held at a temperature in the range of 92 ° C to 95 ° C. By setting the holding temperature of the mixed slurry to 92 ° C. or higher, silver carboxylate is easily reduced, and silver particles can be generated quickly. Moreover, by setting the holding temperature of the mixed slurry to 95 ° C. or lower, the carboxylic acid can be attached as C 3 H 3 O 3 ions or C 6 H 6 O 8 ions to the surface of the generated silver particles. Therefore, silver particles can be prevented from becoming coarse particles.

混合スラリーを上記の温度で保持する時間は、0.25〜0.5時間の範囲にあることが好ましい。保持時間を0.25時間以上とすることにより、カルボン酸銀を確実に還元させることができ、銀粒子を安定して生成させることができる。また、保持時間を0.5時間以下にすることにより、生成した銀粒子が粗大粒子となるのを防止することができる。   The time for holding the mixed slurry at the above temperature is preferably in the range of 0.25 to 0.5 hours. By setting the holding time to 0.25 hours or longer, silver carboxylate can be reliably reduced, and silver particles can be generated stably. Moreover, it can prevent that the produced | generated silver particle turns into a coarse particle by making holding time into 0.5 hour or less.

混合スラリーを上記の温度とする一つの方法としては、92℃未満の温度で混合スラリーを調製し、その後、加熱する方法を挙げることができる。この方法では、混合スラリーの昇温速度を、15〜20℃/時間の範囲に設定することが好ましい。昇温速度を15℃/時間以上と高くすることにより、銀粒子が粗大粒子となるのを防止することができる。20℃/時間以下とすることにより、混合スラリー内部の液温にムラが生じにくくなる。   As one method for bringing the mixed slurry to the above-mentioned temperature, a method of preparing the mixed slurry at a temperature of less than 92 ° C. and then heating can be mentioned. In this method, it is preferable to set the temperature rising rate of the mixed slurry in the range of 15 to 20 ° C./hour. By increasing the rate of temperature rise to 15 ° C./hour or more, silver particles can be prevented from becoming coarse particles. By setting it to 20 ° C./hour or less, the liquid temperature inside the mixed slurry is less likely to be uneven.

混合スラリーを上記の温度に調整する別の方法としては、カルボン酸銀スラリーと還元剤水溶液を加熱して、液温を92以上95℃以下の範囲内となるように保持しながら、カルボン酸銀スラリーに還元剤水溶液を滴下する方法を挙げることができる。この方法では、混合スラリー内部の液温にムラが生じにくくなる。
ことができる。
Another method for adjusting the mixed slurry to the above temperature is to heat the silver carboxylate slurry and the reducing agent aqueous solution and maintain the liquid temperature within the range of 92 to 95 ° C. An example is a method of dropping a reducing agent aqueous solution into the slurry. In this method, the liquid temperature inside the mixed slurry is less likely to be uneven.
be able to.

還元剤水溶液としては、ヒドラジン、アスコルビン酸、シュウ酸、ギ酸、及びこれらの塩類からなる群より選ばれた1種又は2種以上の化合物の水溶液を用いることができる。   As the reducing agent aqueous solution, an aqueous solution of one or more compounds selected from the group consisting of hydrazine, ascorbic acid, oxalic acid, formic acid, and salts thereof can be used.

調製された銀粉スラリーは、銀粒子が粗大粒子となるのを防止するために、速やかに冷却することが好ましい。銀粉スラリーの冷却は、30℃まで降温する時間が15分以下となる降温速度により行うことが好ましい。   The prepared silver powder slurry is preferably cooled quickly in order to prevent the silver particles from becoming coarse particles. The cooling of the silver powder slurry is preferably performed at a temperature lowering rate at which the time for lowering the temperature to 30 ° C. is 15 minutes or less.

第3工程では、銀粉スラリーから銀粉を回収する。銀粉の回収方法としては、銀粉スラリーを乾燥する方法を用いることができる。銀粉スラリーを乾燥する前に、遠心分離機を用いて銀粉スラリー中の液層を除去し、銀粉スラリーを脱水及び脱塩することが好ましい。   In the third step, silver powder is recovered from the silver powder slurry. As a method for collecting the silver powder, a method of drying the silver powder slurry can be used. Before drying the silver powder slurry, it is preferable to remove the liquid layer in the silver powder slurry using a centrifuge, and to dehydrate and desalt the silver powder slurry.

銀粉スラリーの乾燥方法としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、凍結乾燥法、減圧乾燥法、加熱乾燥法等が挙げられる。凍結乾燥法は、銀粉スラリーを密閉容器に入れて凍結し、密閉容器内を真空ポンプで減圧して被乾燥物の沸点を下げ、低い温度で被乾燥物の水分を昇華させて乾燥させる方法である。減圧乾燥法は、減圧して被乾燥物を乾燥させる方法である。加熱乾燥法は、加熱して被乾燥物を乾燥させる方法である。   Although it does not specifically limit as a drying method of a silver powder slurry, Specifically, a freeze-drying method, a reduced pressure drying method, a heat drying method etc. are mentioned, for example. The freeze-drying method is a method in which a silver powder slurry is put in a sealed container and frozen, the inside of the sealed container is depressurized with a vacuum pump to lower the boiling point of the material to be dried, and the moisture of the material to be dried is sublimated at a low temperature and dried. is there. The reduced-pressure drying method is a method of drying an object to be dried by reducing the pressure. The heat drying method is a method of drying an object to be dried by heating.

(高分子分散剤)
本実施形態で用いる高分子分散剤は、分子内に窒素原子またはリン原子を有する。高分子分散剤の分子量は、ゲル濾過クロマトグラフィーによって測定されるピークトップ分子量として1500以上15000以下の範囲とされている。本実施形態では、分子内の窒素原子はアミノ基として、リン原子はリン酸基として存在している。この場合、高分子分散剤は、銀粒子の表面を被覆している有機物に、アミノ基またはリン酸基を介して付着していると考えられる。高分子分散剤が銀粒子の表面に付着することによって、銀粒子同士の凝集が抑制され、ペースト状銀粉組成物の塗布性が向上する。また、アミノ基またはリン酸基は、比較的低温での加熱によって銀粒子表面から脱離しやすい。このため、比較的低温での加熱によって銀粒子を焼結させることが可能となる。
(Polymer dispersant)
The polymer dispersant used in this embodiment has a nitrogen atom or a phosphorus atom in the molecule. The molecular weight of the polymer dispersant is in the range of 1500 to 15000 as the peak top molecular weight measured by gel filtration chromatography. In this embodiment, the nitrogen atom in the molecule exists as an amino group, and the phosphorus atom exists as a phosphate group. In this case, it is considered that the polymer dispersant is attached to the organic substance covering the surface of the silver particles via an amino group or a phosphate group. When the polymer dispersant adheres to the surface of the silver particles, aggregation of the silver particles is suppressed, and the applicability of the pasty silver powder composition is improved. In addition, amino groups or phosphate groups are easily detached from the surface of silver particles by heating at a relatively low temperature. For this reason, silver particles can be sintered by heating at a relatively low temperature.

高分子分散剤のピークトップ分子量は小さくなりすぎると、銀粒子同士の凝集を抑制する効果が弱くなり、銀粒子が凝集して、ペースト状銀粉組成物の粘度が上昇し、ペースト状銀粉組成物の塗布性が低下するおそれがある。一方、高分子分散剤のピークトップ分子量が大きくなりすぎると、加熱時に高分子分散剤が銀粒子表面から脱離しにくくなり、得られる銀膜の放熱性や接合性が低下するおそれがある。このため、本実施形態では、高分子分散剤のピークトップ分子量を1500以上15000以下の範囲と設定している。   If the peak top molecular weight of the polymer dispersant becomes too small, the effect of suppressing the aggregation of silver particles becomes weak, the silver particles aggregate, the viscosity of the paste-like silver powder composition increases, and the paste-like silver powder composition The applicability of the coating may be reduced. On the other hand, if the peak top molecular weight of the polymer dispersant is too large, the polymer dispersant is difficult to be detached from the surface of the silver particles during heating, and the heat dissipation and bonding properties of the resulting silver film may be reduced. For this reason, in this embodiment, the peak top molecular weight of the polymer dispersant is set in the range of 1500 to 15000.

高分子分散剤のアミノ基またはリン酸基の位置は、特に制限はなく、主鎖にあってもよいし、側鎖にあってもよい。また、主鎖と側鎖にそれぞれあってもよい。また、高分子分散剤は、アミノ基とリン酸基とを有していてもよい。   The position of the amino group or phosphate group of the polymer dispersant is not particularly limited, and may be in the main chain or in the side chain. Moreover, you may exist in a principal chain and a side chain, respectively. The polymer dispersant may have an amino group and a phosphate group.

高分子分散剤の含有量は、1質量%以上5質量%以下の範囲とされている。高分子分散剤の含有量が少なくなりすぎると、銀粒子同士の凝集を抑制する効果が弱くなり、ペースト状銀粉組成物の塗布性が低下するおそれがある。一方、高分子分散剤の含有量が多くなりすぎると、加熱時に銀粒子の表面に残留する高分子分散剤の量が多くなり、得られる銀膜の放熱性や接合性が低下するおそれがある。   The content of the polymer dispersant is in the range of 1% by mass to 5% by mass. If the content of the polymer dispersant is too small, the effect of suppressing the aggregation of silver particles becomes weak, and the applicability of the pasty silver powder composition may be reduced. On the other hand, if the content of the polymer dispersant is excessively large, the amount of the polymer dispersant remaining on the surface of the silver particles during heating increases, and the heat dissipation and bonding properties of the resulting silver film may be reduced. .

(溶剤)
本実施形態のペースト状銀粉組成物は、溶剤として、ジオール類およびカルビトールアセテート類からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む。
ジオール類は、鎖状炭化水素のジオールであることが好ましい。鎖状炭化水素のジオールは、分岐を有していてもよい。ジオール類の例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオールが挙げられる。カルビトールアセテート類の例としては、ブチルカルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテートが挙げられる。これらの溶剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組合せて使用してもよい。溶剤は、エチレングリコール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオールまたはブチルカルビトールアセテートであることが好ましい。
(solvent)
The pasty silver powder composition of the present embodiment contains at least one selected from the group consisting of diols and carbitol acetates as a solvent.
The diol is preferably a chain hydrocarbon diol. The chain hydrocarbon diol may have a branch. Examples of diols include ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, and 2-ethyl-1,3-hexanediol. Examples of carbitol acetates include butyl carbitol acetate and ethyl carbitol acetate. These solvent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. The solvent is preferably ethylene glycol, 2-ethyl-1,3-hexanediol or butyl carbitol acetate.

溶剤の含有量は、1質量%以上20質量%以下の範囲とされている。溶剤の含有量が少なくなりすぎると、ペースト状銀粉組成物の粘度が高くなり、塗布性が低下するおそれがある。一方、溶剤の含有量が多くなりすぎると、相対的に銀粉の含有量が少なくなるため、緻密な銀膜を生成させるのが難しくなるおそれがある。   The content of the solvent is in the range of 1% by mass to 20% by mass. When the content of the solvent is too low, the viscosity of the pasty silver powder composition is increased, and the applicability may be lowered. On the other hand, when the content of the solvent is excessively large, the content of the silver powder is relatively decreased, which may make it difficult to form a dense silver film.

ペースト状銀粉組成物は、粘度が50Pa・s以下であることが好ましく、15Pa・s以上40Pa・s以下の範囲にあることがより好ましい。なお、ペースト状銀粉組成物の粘度は、レオメーターを用いて測定することができる。   The pasty silver powder composition preferably has a viscosity of 50 Pa · s or less, and more preferably 15 Pa · s or more and 40 Pa · s or less. The viscosity of the pasty silver powder composition can be measured using a rheometer.

(ペースト状銀粉組成物の製造方法)
本実施形態のペースト状銀粉組成物は、上述した銀粉と高分子分散剤と溶剤とを、それぞれ上記の含有量となる混合比で混練することによって製造することができる。混練方法としては、特に制限はなく、従来のペースト状銀粉組成物の製造に使用されている各種の混練機を用いて行うことができる。
(Method for producing paste-like silver powder composition)
The paste-like silver powder composition of the present embodiment can be produced by kneading the above-described silver powder, polymer dispersant, and solvent at a mixing ratio that results in the above contents. There is no restriction | limiting in particular as a kneading | mixing method, It can carry out using the various kneading machines currently used for manufacture of the conventional paste-form silver powder composition.

以上のような構成とされた本実施形態のペースト状銀粉組成物においては、銀粉が、飛行時間型二次イオン質量分析法によってC イオン及びC イオンとして検出される有機化合物で被覆されているので、銀粒子同士の凝集が抑制され、ペースト状銀粉組成物の塗布性が向上する。そして、この飛行時間型二次イオン質量分析法によって測定される、C イオンとC イオンのそれぞれの検出量が、Agイオンの検出量に対して、C イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲にあり、粒子表面を被覆している有機化合物の量が少ないため、比較的低温での加熱によって、有機化合物が消失して銀粒子の表面が露出するので、銀粒子同士を比較的低温で焼結させることが可能となる。 In the paste-like silver powder composition of the present embodiment configured as described above, silver powder is obtained by C 3 H 3 O 3 ions and C 6 H 6 O 8 ions by time-of-flight secondary ion mass spectrometry. Since it coat | covers with the organic compound detected as, aggregation of silver particles is suppressed and the applicability | paintability of a paste-form silver powder composition improves. The detected amounts of C 3 H 3 O 3 ions and C 6 H 6 O 8 ions measured by this time-of-flight secondary ion mass spectrometry are compared to the detected amount of Ag + ions. The detected amount of C 3 H 3 O 3 ions is in the range of 0.2 to 1.0 times, and the detected amount of C 6 H 6 O 8 ions is in the range of 0.005 to 0.02 times. Yes, since the amount of organic compound covering the particle surface is small, the organic compound disappears and the surface of the silver particle is exposed by heating at a relatively low temperature, so the silver particles are sintered at a relatively low temperature. It becomes possible to make it.

また、本実施形態のペースト状銀粉組成物においては、分子内に窒素原子またはリン原子を有する高分子分散剤が銀粒子の表面に付着することによって、銀粒子同士の凝集が抑制され、ペースト状銀粉組成物の塗布性が向上する。さらに高分子分散剤は、ゲル濾過クロマトグラフィーによって測定されるピークトップ分子量が1500以上とされているので、銀粒子同士の凝集を確実に抑制される。また、高分子分散剤はそのピークトップ分子量が15000以下とされているので、加熱時には銀粒子表面から脱離しやすく、銀粒子同士を比較的低温で焼結させることが可能となる。   Further, in the paste-like silver powder composition of the present embodiment, the polymer dispersant having a nitrogen atom or a phosphorus atom in the molecule adheres to the surface of the silver particles, whereby aggregation of the silver particles is suppressed, and the paste-like silver powder composition The applicability of the silver powder composition is improved. Furthermore, since the polymer dispersant has a peak top molecular weight of 1500 or more as measured by gel filtration chromatography, aggregation of silver particles is reliably suppressed. In addition, since the polymer dispersant has a peak top molecular weight of 15000 or less, it can be easily detached from the surface of the silver particles during heating, and the silver particles can be sintered at a relatively low temperature.

このように、本実施形態のペースト状銀粉組成物では、銀粒子の表面を被覆する有機化合物と、高分子分散剤とを組合せることによって銀粒子の凝集を抑制している。このため、高分子分散剤の含有量が1質量%以上5質量%以下の範囲と比較的少量であっても、ペースト状銀粉組成物の塗布性を向上させることができる。そして、高分子分散剤の含有量が5質量%以下と比較的少量であるため、比較的低温での加熱によって銀粒子を焼結させることが可能となる。よって、比較的低温での加熱によって放熱性と接合性が高い銀膜を得ることができる。   Thus, in the paste-like silver powder composition of the present embodiment, aggregation of silver particles is suppressed by combining the organic compound covering the surface of the silver particles and the polymer dispersant. For this reason, even if content of a polymer dispersing agent is the range of 1 mass% or more and 5 mass% or less and a comparatively small quantity, the applicability | paintability of a paste-form silver powder composition can be improved. And since content of a polymer dispersing agent is comparatively small with 5 mass% or less, it becomes possible to sinter silver particle by the heating at comparatively low temperature. Therefore, a silver film having high heat dissipation and high bondability can be obtained by heating at a relatively low temperature.

さらにまた、本実施形態の構成のペースト状銀粉組成物においては、ジオール類およびカルビトールアセテート類からなる群より選ばれる少なくとも1種の溶剤を含むので、さらに塗布性が向上する。   Furthermore, since the paste-like silver powder composition having the configuration of the present embodiment contains at least one solvent selected from the group consisting of diols and carbitol acetates, the coatability is further improved.

また、本実施形態のペースト状銀粉組成物においては、高分子分散剤は分子内の窒素原子はアミノ基として、リン原子はリン酸基として存在していることが好ましいので、高分子分散剤を銀粒子の表面により確実に付着させることができ、これによってペースト状銀粉組成物の塗布性をより向上させることができる。   In the paste-like silver powder composition of the present embodiment, the polymer dispersant is preferably present as a nitrogen atom in the molecule as an amino group and a phosphorus atom as a phosphate group. It can be made to adhere more reliably to the surface of the silver particles, whereby the applicability of the pasty silver powder composition can be further improved.

本実施形態のペースト状銀粉組成物は、さらに用途に応じて酸化防止剤、粘度調整剤、界面活性剤などの添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組合せて使用してもよい。   The paste-like silver powder composition of this embodiment may further contain additives such as an antioxidant, a viscosity modifier, and a surfactant depending on the application. These additives may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

<接合体の製造方法>
次に、本実施形態の接合体の製造方法について、図1を参照して説明する。
図1は、本実施形態の接合体の製造方法を用いて製造された接合体の断面図である。図1において、接合体11は、基板12と、第1の金属層13と、接合層14と、第2の金属層15と、被接合物16と、を備えて概略構成されている。
<Method for producing joined body>
Next, the manufacturing method of the joined body of this embodiment is demonstrated with reference to FIG.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a bonded body manufactured using the bonded body manufacturing method of the present embodiment. In FIG. 1, the bonded body 11 is schematically configured to include a substrate 12, a first metal layer 13, a bonding layer 14, a second metal layer 15, and an object to be bonded 16.

本実施形態では、一例として、上述したペースト状銀粉組成物を用いて基板12(第1の部材)と被接合物16(第2の部材)とを接合した接合体11について説明するが、ペースト状銀粉組成物を用いて接合するものとしては、特に限定されるものではない。   In this embodiment, as an example, the bonded body 11 in which the substrate 12 (first member) and the workpiece 16 (second member) are bonded using the above-described paste-like silver powder composition will be described. It does not specifically limit as what joins using a silver powder composition.

基板12としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、アルミニウム板、及びアルミウム板が接合された絶縁基板等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as the board | substrate 12, Specifically, the insulating board etc. which the aluminum plate and the aluminum plate were joined are mentioned, for example.

第1の金属層13は、基板12に隣接して積層されている。第1の金属層13を介して、基板12と接合層14とが接合されている。第1の金属層13の材料としては、具体的には、例えば、金、銀、銅等からなる群より選ばれた1種又は2種以上の金属を用いることができる。   The first metal layer 13 is laminated adjacent to the substrate 12. The substrate 12 and the bonding layer 14 are bonded via the first metal layer 13. Specifically, as the material of the first metal layer 13, for example, one or more metals selected from the group consisting of gold, silver, copper, and the like can be used.

接合層14は、第1の金属層13と第2の金属層15の間に隣接して積層されている。
接合層14は、第1の金属層13と接触して界面17を形成している。また、接合層14は、第2の金属層15と接触して界面18を形成している。接合層14は、上述したペースト状銀粉組成物を第1の金属層13上に塗布し、塗布した面と第2の金属層15が対向するように被接合物16を置き、加熱処理することで形成される銀膜(銀粉焼結体)からなる。
The bonding layer 14 is laminated adjacently between the first metal layer 13 and the second metal layer 15.
The bonding layer 14 is in contact with the first metal layer 13 to form an interface 17. The bonding layer 14 is in contact with the second metal layer 15 to form an interface 18. For the bonding layer 14, the paste-like silver powder composition described above is applied onto the first metal layer 13, and the object 16 is placed so that the applied surface and the second metal layer 15 face each other, followed by heat treatment. It consists of the silver film (silver powder sintered compact) formed by.

接合層14の厚さとしては、基板12と被接合物16とを接合することができる厚さであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、1〜100μmであってもよい。   The thickness of the bonding layer 14 is not particularly limited as long as the thickness can bond the substrate 12 and the workpiece 16 to each other. Specifically, for example, 1-100 micrometers may be sufficient.

第2の金属層15は、接合層14であって第1の金属層13の反対側に隣接して積層されている。第2の金属層15を介して、接合層14と被接合物16とが接合されている。
第2の金属層15の材料としては、第1の金属層13に用いられる材料と同様のものを用いることができる。
The second metal layer 15 is a bonding layer 14 and is laminated adjacent to the opposite side of the first metal layer 13. The bonding layer 14 and the workpiece 16 are bonded via the second metal layer 15.
As the material of the second metal layer 15, the same material as that used for the first metal layer 13 can be used.

被接合物16は、第2の金属層15であって接合層14の反対側に隣接して積層されている。被接合物16としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、シリコン(Si)チップ、シリコンカーバイド(SiC)等が挙げられる。また、本実施形態の接合体11の製造方法では、上述したペースト状銀粉組成物を用いるため、被接合物16として熱に弱い材料も用いることができる。   The workpiece 16 is the second metal layer 15 and is laminated adjacent to the opposite side of the bonding layer 14. Although it does not specifically limit as the to-be-joined object 16, Specifically, a silicon | silicone (Si) chip | tip, a silicon carbide (SiC) etc. are mentioned, for example. Moreover, in the manufacturing method of the joined body 11 of this embodiment, since the paste-like silver powder composition mentioned above is used, a material weak to heat can also be used as the article 16 to be joined.

本実施形態の接合体11は、接合層14により、基板12と被接合物16とが接合される。接合層14は上述したペースト状銀粉組成物を用いて形成しているため、接合層14のシェア強度が高い。本実施形態の接合体11のシェア強度は、10MPa以上が好ましく、30MPa以上がより好ましい。なお、シェア強度の測定は、例えば、市販のボンディングテスタ(例えば、RHESCA社製等)を用いて行うことができる。また、接合層14の熱伝導度は、75W/mK以上であることが好ましく、150W/mK以上であることがより好ましい。なお、熱伝導度は、接合層14の比抵抗から、ヴィーデマンフランツ則を用いて算出することができる。   In the bonded body 11 of this embodiment, the substrate 12 and the object to be bonded 16 are bonded by the bonding layer 14. Since the bonding layer 14 is formed using the above-described paste-like silver powder composition, the shear strength of the bonding layer 14 is high. The shear strength of the joined body 11 of the present embodiment is preferably 10 MPa or more, and more preferably 30 MPa or more. The shear strength can be measured using, for example, a commercially available bonding tester (for example, manufactured by RHESCA). Further, the thermal conductivity of the bonding layer 14 is preferably 75 W / mK or more, and more preferably 150 W / mK or more. The thermal conductivity can be calculated from the specific resistance of the bonding layer 14 using the Wiedemann Franz rule.

次に、上述した接合体11の製造方法について説明する。
本実施形態の接合体11の製造方法は、積層工程と焼結工程とを有する。
Next, a method for manufacturing the above-described joined body 11 will be described.
The manufacturing method of the joined body 11 of this embodiment has a lamination process and a sintering process.

(積層工程)
先ず、基板12(第1の部材)と被接合物16(第2の部材)とを、前述のペースト状銀粉組成物を介して積層した積層体を形成する。
具体的には、基板12の表面に、周知の方法により金属を積層することで、第1の金属層13を形成する。同様にして、被接合物16の表面に、第2の金属層15を形成する。基板12及び被接合物16の表面に金属を形成する方法としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、めっき法、印刷法等が挙げられる。
(Lamination process)
First, the laminated body which laminated | stacked the board | substrate 12 (1st member) and the to-be-joined object 16 (2nd member) through the above-mentioned paste-form silver powder composition is formed.
Specifically, the first metal layer 13 is formed by laminating metal on the surface of the substrate 12 by a known method. Similarly, the second metal layer 15 is formed on the surface of the workpiece 16. A method for forming a metal on the surfaces of the substrate 12 and the object to be bonded 16 is not particularly limited, and specific examples include a vacuum deposition method, a sputtering method, a plating method, and a printing method.

次に、第1の金属層13の表面に、前述のペースト状銀粉組成物を周知の方法により塗布する。第1の金属層13の表面にペースト状銀粉組成物を塗布する方法としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、スピンコーティング法、メタルマスク法、スプレーコーティング法、ディスペンサコーティング法、ナイフコーティング法、スリットコーティング法、インクジェットコーティング法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、ダイコーティング法等が挙げられる。
次に、第1の金属層13の表面に塗布したペースト状銀粉組成物の上に、第2の金属層15側が対向するように被接合物16を置いて積層体を作製する。
Next, the paste-like silver powder composition is applied to the surface of the first metal layer 13 by a known method. The method for applying the paste-like silver powder composition to the surface of the first metal layer 13 is not particularly limited. Specifically, for example, a spin coating method, a metal mask method, a spray coating method, a dispenser coating method, a knife Examples thereof include a coating method, a slit coating method, an inkjet coating method, a screen printing method, an offset printing method, and a die coating method.
Next, the object to be joined 16 is placed on the paste-like silver powder composition applied to the surface of the first metal layer 13 so that the second metal layer 15 side is opposed to produce a laminate.

(焼結工程)
次に、上記のようにして形成した積層体を加熱して、ペースト状銀粉組成物を乾燥、焼結させて接合層14を生成させる。この接合層14を介して第1の金属層13及び第2の金属層15が接合される。
(Sintering process)
Next, the laminated body formed as described above is heated to dry and sinter the pasty silver powder composition, thereby generating the bonding layer 14. The first metal layer 13 and the second metal layer 15 are bonded via the bonding layer 14.

加熱処理の際の加熱温度は、一般に130℃以上、好ましくは150℃以上の温度である。この温度にて加熱を行うことによって、放熱性と接合性が高く緻密な銀膜を形成することが可能となる。加熱温度の上限には、特に制限はないが、例えば、250℃以下、特に200℃以下とすることができる。   The heating temperature during the heat treatment is generally 130 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or higher. By heating at this temperature, it is possible to form a dense silver film with high heat dissipation and bonding properties. Although there is no restriction | limiting in particular in the upper limit of heating temperature, For example, it can be 250 degrees C or less, Especially 200 degrees C or less.

加熱処理の際の加熱時間としては、例えば、30分以上が好ましい。加熱時間が30分以上であることにより、接合層14のシェア強度を高くすることができる。
以上の工程により、接合体11が製造される。
As heating time in the case of heat processing, 30 minutes or more are preferable, for example. When the heating time is 30 minutes or more, the shear strength of the bonding layer 14 can be increased.
The joined body 11 is manufactured by the above process.

本実施形態の接合体の製造方法は、以上のとおり、接合層を生成させる接合材として前述のペースト状銀粉組成物を用いるので、比較的低温での加熱により放熱性と接合性が高い接合体を製造することが可能となる。   As described above, since the paste-like silver powder composition is used as a bonding material for generating a bonding layer, the manufacturing method of the bonded body according to the present embodiment has a high heat dissipation and bonding property by heating at a relatively low temperature. Can be manufactured.

<銀膜の製造方法>
次に、本実施形態の銀膜の製造方法について説明する。
本実施形態の製造方法により得られる銀膜は、例えば、太陽電池素子の電極として用いられる。
本実施形態の銀膜の製造方法は、塗布工程と焼結工程とを有する。
<Silver film production method>
Next, the manufacturing method of the silver film of this embodiment is demonstrated.
The silver film obtained by the manufacturing method of this embodiment is used as an electrode of a solar cell element, for example.
The manufacturing method of the silver film of this embodiment has an application | coating process and a sintering process.

(塗布工程)
先ず、基材に、前述のペースト状銀粉組成物を塗布する。
基材としては、シリコン、ガラス、透明導電材料を含むセラミックス、高分子材料又は金属からなる基板のいずれか、あるいはシリコン、ガラス、透明導電材料を含むセラミックス、高分子材料及び金属からなる群より選ばれた2種以上の積層体であることができる。また基材は太陽電池素子又は透明金属膜付き太陽電池素子のいずれかであることが好ましい。透明金属膜としては、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide:ITO)、アンチモンドープ酸化錫(Antimony Tin Oxide:ATO)、ネサ(酸化錫SnO)、IZO(Indium Zinc Oxide)、AZO(アルミドープZnO)等などが挙げられる。上記ペースト状銀粉組成物は太陽電池素子の光電変換半導体層の表面や、透明金属膜付き太陽電池素子の透明金属膜の表面に塗布されることが好ましい。
(Coating process)
First, the above paste-like silver powder composition is applied to a substrate.
The substrate is selected from the group consisting of silicon, glass, ceramics including a transparent conductive material, a polymer material or a metal substrate, or silicon, glass, ceramics including a transparent conductive material, a polymer material and a metal. It can be a laminate of two or more types. Moreover, it is preferable that a base material is either a solar cell element or a solar cell element with a transparent metal film. As the transparent metal film, indium tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), nesa (tin oxide SnO 2 ), IZO (Indium Zinc Oxide), AZO (aluminum-doped ZnO) ) And the like. It is preferable that the said paste-form silver powder composition is apply | coated to the surface of the photoelectric conversion semiconductor layer of a solar cell element, or the surface of the transparent metal film of a solar cell element with a transparent metal film.

(焼結工程)
次に、前記ペースト状銀粉組成物を塗布した基材を加熱して、前記ペースト状銀粉組成物を乾燥、焼結させて銀膜を生成させる。加熱温度は、一般に130℃以上、好ましくは150℃以上の温度である。この温度にて加熱を行うことによって、放熱性が高く緻密な銀膜を形成することが可能となる。加熱時間は、一般に10分間〜1時間の範囲、好ましくは15〜40分間の範囲である。加熱雰囲気には特に制限はなく、大気雰囲気中、真空雰囲気中、還元性気体雰囲気中など任意に設定することができる。本実施形態の製造方法によって生成する銀膜の厚さは、一般に0.1μm以上2.0μm以下の範囲、好ましくは0.3μm以上1.5μm以下の範囲である。膜厚が薄くなりすぎると、例えば太陽電池素子の電極として用いる場合は、表面抵抗値が不十分となるおそれがある。一方、膜厚が厚くなりすぎると、銀粉の使用量が多くなってコストが高くなる。
(Sintering process)
Next, the base material coated with the pasty silver powder composition is heated, and the pasty silver powder composition is dried and sintered to form a silver film. The heating temperature is generally 130 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or higher. By heating at this temperature, it is possible to form a dense silver film with high heat dissipation. The heating time is generally in the range of 10 minutes to 1 hour, preferably in the range of 15 to 40 minutes. There is no restriction | limiting in particular in a heating atmosphere, It can set arbitrarily in air | atmosphere atmosphere, a vacuum atmosphere, a reducing gas atmosphere, etc. The thickness of the silver film produced by the production method of the present embodiment is generally in the range of 0.1 μm to 2.0 μm, preferably in the range of 0.3 μm to 1.5 μm. If the film thickness becomes too thin, for example, when used as an electrode of a solar cell element, the surface resistance value may be insufficient. On the other hand, if the film thickness becomes too thick, the amount of silver powder used increases and the cost increases.

本実施形態の銀膜の製造方法によれば、以上のとおり、銀膜の材料として前述のペースト状銀粉組成物を用いるので、比較的低温での加熱により緻密な銀膜を製造することが可能となる。   According to the method for producing a silver film of the present embodiment, as described above, since the paste-like silver powder composition described above is used as the material for the silver film, a dense silver film can be produced by heating at a relatively low temperature. It becomes.

<銀粉の製造>
(分類I)
銀塩水溶液として硝酸銀水溶液(硝酸銀の濃度:66質量%)を900g、カルボン酸塩水溶液として、グルコール酸水溶液(グルコール酸の濃度:56質量%)を600g、還元剤水溶液としてヒドラジン水溶液(ヒドラジンの濃度:58質量%)を300g、そして、1200gのイオン交換水を用意した。用意した硝酸銀水溶液、グルコール酸水溶液およびイオン交換水はそれぞれガラス製容器に入れて湯浴により50℃に保温した。用意したヒドラジン水溶液は、ガラス製容器に入れて水浴により20℃に保温した。
<Manufacture of silver powder>
(Classification I)
As silver salt aqueous solution, 900 g of silver nitrate aqueous solution (silver nitrate concentration: 66% by mass), as carboxylate aqueous solution, 600 g of aqueous glycolic acid solution (concentration of glycolic acid: 56% by mass), and as a reducing agent aqueous solution, hydrazine aqueous solution (hydrazine concentration). : 58% by mass) of 300 g and 1200 g of ion-exchanged water were prepared. The prepared silver nitrate aqueous solution, glycolic acid aqueous solution and ion-exchanged water were each placed in a glass container and kept at 50 ° C. with a hot water bath. The prepared aqueous hydrazine solution was put in a glass container and kept at 20 ° C. by a water bath.

先ず、50℃に保温されているイオン交換水を撹拌しながら、そのイオン交換水に、50℃に保温されている硝酸銀水溶液と50℃に保温されているグルコール酸水溶液とを、チューブポンプを用いて5分かけてそれぞれ全量滴下して、グルコール酸銀粒子を生成させてグルコール酸銀スラリーを調製した。調製したグルコール酸銀スラリーは、空冷により、温度20℃まで冷却した。   First, while stirring ion-exchanged water kept at 50 ° C., a tube pump is used to mix the aqueous solution of silver nitrate kept at 50 ° C. and the aqueous solution of glycolic acid kept at 50 ° C. into the ion-exchanged water. All of the solution was added dropwise over 5 minutes to produce silver glycolate particles to prepare a silver glycolate slurry. The prepared silver glycolate slurry was cooled to 20 ° C. by air cooling.

次いで、グルコール酸銀スラリーを水浴により20℃に保温した状態で、撹拌しながら、そのグルコール酸銀スラリーに、20℃に保温されているヒドラジン水溶液を、チューブポンプを用いて30分かけて全量滴下して混合スラリーを調製した。
次に、調製した混合スラリーを撹拌しながら、ラバーヒーターを用いて、昇温速度15℃/時間で温度92℃まで昇温させ、92℃(最高温度)で0.33時間保持する条件にて熱処理して、グルコール酸銀粒子を還元して銀粒子を生成させて銀粉スラリーを得た。得られた銀粉スラリーを、水浴で15分間かけて温度30℃まで冷却した。次いで、銀粉スラリーを遠心分離機に入れて1000rpmの回転速度で10分間遠心分離処理した。上澄み液(液層)を除去し、残部の固形分(銀粉)を水洗した後、凍結乾燥法により30時間乾燥して、銀粉を回収した。回収した銀粉を、分類Iの銀粉とした。
Next, while stirring the silver glycolate slurry at 20 ° C. with a water bath, the aqueous solution of hydrazine kept at 20 ° C. is dropped into the silver glycolate slurry over 30 minutes using a tube pump while stirring. Thus, a mixed slurry was prepared.
Next, while stirring the prepared mixed slurry, using a rubber heater, the temperature was increased to 92 ° C. at a temperature increase rate of 15 ° C./hour, and maintained at 92 ° C. (maximum temperature) for 0.33 hours. A silver powder slurry was obtained by heat treatment to reduce silver glycolate particles to produce silver particles. The obtained silver powder slurry was cooled to a temperature of 30 ° C. in a water bath for 15 minutes. Next, the silver powder slurry was put in a centrifuge and centrifuged at a rotational speed of 1000 rpm for 10 minutes. The supernatant liquid (liquid layer) was removed, and the remaining solid content (silver powder) was washed with water, and then dried by freeze-drying for 30 hours to recover the silver powder. The recovered silver powder was classified as Class I silver powder.

(分類II)
還元剤水溶液としてギ酸水溶液(ギ酸の濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類IIの銀粉を得た。
(Category II)
A silver powder of class II was obtained in the same manner as class I, except that a formic acid aqueous solution (formic acid concentration: 58% by mass) was used as the reducing agent aqueous solution.

(分類III)
カルボン酸類水溶液としてクエン酸アンモニウム水溶液(クエン酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液としてギ酸アンモニウム水溶液(ギ酸の濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類IIIの銀粉を得た。
(Category III)
Classification was carried out in the same manner as in Class I except that ammonium citrate aqueous solution (citric acid concentration: 56% by mass) was used as the carboxylic acid aqueous solution, and ammonium formate aqueous solution (formic acid concentration: 58% by mass) as the reducing agent aqueous solution. III silver powder was obtained.

(分類IV)
カルボン酸類水溶液としてマロン酸水溶液(マロン酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液としてアスコルビン酸ナトリウム水溶液(アスコルビン酸の濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類IVの銀粉を得た。
(Category IV)
Except for using a malonic acid aqueous solution (malonic acid concentration: 56% by mass) as the carboxylic acid aqueous solution and a sodium ascorbate aqueous solution (concentration of ascorbic acid: 58% by mass) as the reducing agent aqueous solution. A classification IV silver powder was obtained.

(分類V)
カルボン酸類水溶液としてクエン酸ナトリウム水溶液(クエン酸の濃度:56質量%)を、還元剤水溶液としてギ酸アンモニウム水溶液(ギ酸の濃度:58質量%)を用いたこと以外は、分類Iと同様にして分類Vの銀粉を得た。
(Classification V)
Classification was performed in the same manner as in Class I except that sodium citrate aqueous solution (citric acid concentration: 56% by mass) was used as the carboxylic acid aqueous solution, and ammonium formate aqueous solution (formic acid concentration: 58% by mass) as the reducing agent aqueous solution. V silver powder was obtained.

(分類VI)
混合スラリーを温度95℃まで昇温し、95℃(最高温度)で0.5時間保持する条件にて加熱して銀粉スラリーを得たこと以外は、分類Iと同様にして分類VIの銀粉を得た。
(Classification VI)
The mixed slurry was heated to 95 ° C. and heated at 95 ° C. (maximum temperature) for 0.5 hours to obtain a silver powder slurry. Obtained.

(分類VII)
混合スラリーを温度92℃(最高温度)で0.25時間保持する条件にて加熱して銀粉スラリーを得たこと以外は、分類Iと同様にして分類VIIの銀粉を得た。
(Category VII)
A silver powder of class VII was obtained in the same manner as class I except that the mixed slurry was heated at a temperature of 92 ° C. (maximum temperature) for 0.25 hours to obtain a silver powder slurry.

(分類VIII)
混合スラリーを温度70℃まで昇温し、70℃(最高温度)で0.5時間保持する条件にて加熱して銀粉スラリーを得たこと以外は、分類Iと同様にして分類VIの銀粉を得た。
(Classification VIII)
The mixture slurry was heated to a temperature of 70 ° C. and heated at 70 ° C. (maximum temperature) for 0.5 hours to obtain a silver powder slurry. Obtained.

(分類IX)
混合スラリーを温度97℃まで昇温し、97℃(最高温度)で1時間保持する条件にて加熱して銀粉スラリーを得たこと以外は、分類Iと同様にして分類VIの銀粉を得た。
(Classification IX)
The mixed slurry was heated to a temperature of 97 ° C. and heated at 97 ° C. (maximum temperature) for 1 hour to obtain a silver powder slurry. .

<銀粉の評価>
分類I〜IXで製造した銀粉の平均粒子径と、Agイオンに対するC イオンとC イオンの検出量を下記の方法により測定した。
<Evaluation of silver powder>
An average particle diameter of the silver powder prepared in classification I~IX, C 3 H 3 O 3 with respect to Ag + ions - was measured by detecting the amount of the following methods ion - ion and C 6 H 6 O 8.

(平均粒子径の測定方法)
銀粉をエポキシ樹脂と混合し、得られた混合物を硬化させて平均粒子径測定用試料を作製した。この平均粒子径測定用試料の中央部を切断し、その切断面をアルゴンイオンビームにより研磨加工した。研磨加工した加工面をSEM(走査型電子顕微鏡)にて観察し、無作為に1000個以上の銀粒子を選択し、選択した銀粒子について、アルゴンイオンビームの照射方向に沿った方向の直径を粒子径として計測し、計測した粒子径の平均を算出した。
(Measurement method of average particle size)
Silver powder was mixed with an epoxy resin, and the resulting mixture was cured to produce a sample for measuring the average particle size. The central part of this sample for measuring average particle diameter was cut, and the cut surface was polished by an argon ion beam. The polished processed surface is observed with an SEM (scanning electron microscope), 1000 or more silver particles are randomly selected, and the diameter of the selected silver particles in the direction along the irradiation direction of the argon ion beam is determined. It measured as a particle diameter and computed the average of the measured particle diameter.

(Agイオンに対するC イオンとC イオンの検出量の測定方法)
Agイオンに対するC イオンとC イオンの検出量は、飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)より測定した。銀粉をIn箔表面に埋没したものを測定用試料とした。測定装置はULVAC PHI社製nanoTOFIIを用いた。測定範囲は100μm平方の範囲、一次イオンはBi ++(30kV)、測定時間は5分の条件で測定してTOF−SIMSスペクトルを得た。得られたTOF−SIMSスペクトルから、Agイオン、C イオン、C イオンの検出量を求め、C イオンとC イオンの検出量を、それぞれAgイオンの検出量で除して、Agイオンに対するC イオンとC イオンの検出量を算出した。
(Ag C 3 H 3 against + ions O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - method of measuring the detected amount of ions)
The detected amounts of C 3 H 3 O 3 ions and C 6 H 6 O 8 ions with respect to Ag + ions were measured by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS). A sample in which silver powder was buried in the surface of the In foil was used as a measurement sample. The measuring device used was nanoTOFII manufactured by ULVAC PHI. The measurement range was 100 μm square, the primary ion was Bi 3 ++ (30 kV), the measurement time was 5 minutes, and a TOF-SIMS spectrum was obtained. From the obtained TOF-SIMS spectrum, the detected amount of Ag + ion, C 3 H 3 O 3 ion, C 6 H 6 O 8 ion was determined, and C 3 H 3 O 3 ion and C 6 H 6 O were obtained. 8 - a detectable amount of ions, each divided by the detected amount of Ag + ions, C 3 H 3 for Ag + ions O 3 - ions and C 6 H 6 O 8 - to calculate the detected amount of ions.

各測定の結果を下記表1に示す。なお、表1には、銀粉の製造に使用した銀塩、カルボン酸塩および還元剤の種類と、混合スラリーの熱処理条件(最高温度、保持時間)を併せて記載した。   The results of each measurement are shown in Table 1 below. In Table 1, the types of silver salt, carboxylate and reducing agent used for the production of silver powder and the heat treatment conditions (maximum temperature, holding time) of the mixed slurry are also shown.

<ペースト状銀粉組成物の製造>
[本発明例1]
銀粉として分類Iの銀粉と、分散剤としてアミン系高分子分散剤(ゲル濾過クロマトグラフィー(東ソー社製、LC−8020)によって測定されるピークトップ分子量:8000)と、溶剤としてブチルカルビトールアセテートとを、それぞれ配合量が質量部で87:3:10となるように秤量して、容器に入れた。次いで、この容器を、混練機(THINKY社製、「あわとり練太郎」)を用いて、2000rpmの回転速度で5分間回転させる操作を3回行って、銀粉と分散剤と溶剤とを混練してペースト状銀粉組成物を製造した。
<Production of paste-like silver powder composition>
[Invention Example 1]
Silver powder of category I as silver powder, amine polymer dispersant (peak top molecular weight measured by gel filtration chromatography (LC-8020, manufactured by Tosoh Corporation, LC-8020)) as dispersant, and butyl carbitol acetate as solvent Were weighed so that the blending amount would be 87: 3: 10 in parts by mass, and placed in a container. Next, the operation of rotating this container for 5 minutes at a rotational speed of 2000 rpm using a kneader (THINKY, “Awatori Nertaro”) is performed three times to knead the silver powder, the dispersant and the solvent. Thus, a pasty silver powder composition was produced.

[本発明例2〜11、および比較例1〜9]
銀粉、分散剤、溶剤として表2に記載の種類のものを、表2に記載の配合量にて秤量して使用したこと以外は、本発明例1と同様にしてペースト状銀粉組成物を製造した。
[Invention Examples 2 to 11 and Comparative Examples 1 to 9]
A paste-like silver powder composition was produced in the same manner as in Example 1 except that silver powder, a dispersant and a solvent listed in Table 2 were used by weighing in the amounts shown in Table 2. did.

<ペースト状銀粉組成物の評価>
本発明例1〜11及び比較例1〜9で製造したペースト状銀粉組成物について塗布性を評価した。さらに、そのペースト状銀粉組成物を用いて作製した銀膜(接合層)について放熱性と接合性とを評価した。そして、最後に総合評価を行った。その結果を、表3に示す。
<Evaluation of Pasty Silver Powder Composition>
The applicability of the pasty silver powder compositions produced in Invention Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 9 was evaluated. Furthermore, heat dissipation and bondability were evaluated about the silver film (bonding layer) produced using the paste-form silver powder composition. Finally, comprehensive evaluation was performed. The results are shown in Table 3.

(塗布性の評価)
塗布性は、ペースト状銀粉組成物の粘度から評価した。
ペースト状銀粉組成物の粘度は、レオメーターを用いて測定した。測定温度は25℃とし、治具は直径20mmφのものを使用して、せん断速度が10[/s]のときの粘度を測定した。
(Evaluation of applicability)
The applicability was evaluated from the viscosity of the pasty silver powder composition.
The viscosity of the pasty silver powder composition was measured using a rheometer. The measurement temperature was 25 ° C., a jig having a diameter of 20 mmφ was used, and the viscosity at a shear rate of 10 [/ s] was measured.

塗布性は、上記の方法で測定した粘度が、15Pa・s以上40Pa・s以下のものを◎とし、10Pa・s以上15Pa・s未満または40Pa・sを超え50Pa・s以下のものを○とし、50Pa・sを超えるものを×とした。   The coating property is ◎ when the viscosity measured by the above method is 15 Pa · s or more and 40 Pa · s or less, and ○ when the viscosity is 10 Pa · s or more and less than 15 Pa · s or more than 40 Pa · s and 50 Pa · s or less. X exceeding 50 Pa · s.

(放熱性の評価)
ガラス基板上に、ペースト状銀粉組成物をメタルマスク版(孔サイズ:縦10mm×横10mm、厚さ:50μm)を用いて塗布して塗布膜を形成した。次いで、塗布膜を、マッフル炉中で大気雰囲気200℃60分加熱して、ガラス基板に銀膜を作製した。そして、作製した銀膜の熱伝導度を測定した。
(Evaluation of heat dissipation)
On the glass substrate, the paste-like silver powder composition was applied using a metal mask plate (hole size: length 10 mm × width 10 mm, thickness: 50 μm) to form a coating film. Next, the coating film was heated in an air atmosphere at 200 ° C. for 60 minutes in a muffle furnace to produce a silver film on the glass substrate. And the thermal conductivity of the produced silver film was measured.

熱伝導度は、ヴィーデマンフランツ則を用いて算出した。すなわち、温度25℃(絶対温度T=298K)の環境中で、銀膜のシート抵抗値と膜厚を測定した。そして、銀膜の比抵抗σ(=シート抵抗値×膜厚)を求め、熱伝導度K(単位:W/mK)を下記の式より算出した。
K=L×T×σ
(L:ローレンツ数L=2.44×10−8WΩK−2、T:温度=298K)
The thermal conductivity was calculated using the Wiedemann Franz rule. That is, the sheet resistance value and film thickness of the silver film were measured in an environment at a temperature of 25 ° C. (absolute temperature T = 298K). And specific resistance (sigma) (= sheet resistance value x film thickness) of a silver film was calculated | required, and thermal conductivity K (unit: W / mK) was computed from the following formula.
K = L × T × σ
(L: Lorentz number L = 2.44 × 10 −8 WΩK −2 , T: temperature = 298 K)

放熱性は、上記の方法で測定した熱伝導度が、150W/mK以上のものを◎、75W/mK以上150W/mK未満のものを○とし、75W/mK未満のものを×とした。なお、ガラス基板上に、厚さが均一な塗布膜を形成できなかったものは評価不可とした。   For the heat dissipation, the thermal conductivity measured by the above method was ◎ for those having a thermal conductivity of 150 W / mK or more, ◯ for those having a thermal conductivity of 75 W / mK or more and less than 150 W / mK, and × for those having a thermal conductivity of less than 75 W / mK. It should be noted that evaluation was not possible if a coating film having a uniform thickness could not be formed on a glass substrate.

(接合性の評価)
表面が銀層で被覆されているアルミウム基板と、表面が銀層で被覆されているシリコンチップ(底面:縦2.5mm×横2.5mm、厚さ:200μm)とを用意した。アルミウム基板の表面(銀層)に、ペースト状銀粉組成物をメタルマスク版(孔サイズ:縦3mm×横3mm、厚さ:50μm)を用いて塗布し、塗布層を成形した。次に、塗布層の上にシリコンチップの底面を配置し、大気雰囲気中において200℃の温度で60分間加熱して、塗布層を焼結させ、アルミウム基板とシリコンチップの間に接合層が形成された接合体を得た。そして、得られた接合体の接合層のシェア強度を測定した。
(Evaluation of bondability)
An aluminum substrate whose surface is covered with a silver layer and a silicon chip whose surface is covered with a silver layer (bottom surface: 2.5 mm long × 2.5 mm wide, thickness: 200 μm) were prepared. The pasty silver powder composition was applied to the surface (silver layer) of the aluminum substrate using a metal mask plate (hole size: 3 mm length × 3 mm width, thickness: 50 μm) to form a coating layer. Next, the bottom surface of the silicon chip is placed on the coating layer, heated in the atmosphere at a temperature of 200 ° C. for 60 minutes to sinter the coating layer, and a bonding layer is formed between the aluminum substrate and the silicon chip. The obtained joined body was obtained. And the shear strength of the joining layer of the obtained joined body was measured.

シェア強度は、アルミウム基板とシリコンチップの間に形成された接合層を破断するのに要する力を、ボンディングテスタ(RHESCA社製)により測定し、この測定値を接合面積(シリコンチップの底面の面積)で除してシェア強度とした。   For the shear strength, the force required to break the bonding layer formed between the aluminum substrate and the silicon chip is measured by a bonding tester (manufactured by RHESCA), and this measured value is measured as the bonding area (the area of the bottom surface of the silicon chip). ) To obtain the share strength.

接合性は、上記の方法で測定したシェア強度が、30MPa以上のものを◎とし、10MPa以上30MPa未満のものを○とし、10MPa未満のものを×とした。なお、アルミウム基板の表面に、厚さが均一な塗布層を形成できなかったものは評価不可とした。   As for the bondability, the shear strength measured by the above-mentioned method was ◎ when the shear strength was 30 MPa or more, ○ when the shear strength was 10 MPa or more and less than 30 MPa, and × when the shear strength was less than 10 MPa. In addition, the thing which could not form the coating layer with a uniform thickness on the surface of the aluminum substrate was regarded as unacceptable.

(総合評価)
塗布性、放熱性および放熱性の3つの評価項目の全てが◎であったものを◎とし、3つの評価項目のうちの1つもしくは2つが◎で、その残りが○であったものを○とし、3つの評価項目の全てが○であったものを△とし、3つの評価項目のうちの1つでも×があったものを×とした。
(Comprehensive evaluation)
All three evaluation items of applicability, heat dissipation, and heat dissipation were ◎, and one or two of the three evaluation items were ◎, and the rest were ○ The case where all the three evaluation items were “good” was evaluated as “△”, and the case where any one of the three evaluation items was “×” was evaluated as “poor”.

比較例1は、放熱性と接合性が低くなった。これは、銀粒子表面を被覆している有機物量が多くなりすぎたことによって、銀膜作製の加熱時に、銀粒子同士および銀粒子と被接合物との間での焼結が抑制され、銀膜の密度が低下したためであると考えられる。比較例2は、塗布性が低く、放熱性および接合性は評価不可であった。これは、銀粒子表面を被覆している有機物量が少なくなりすぎたことによって、銀粒子表面への高分子分散剤の吸着不良が生じたためであると考えられる。比較例3は、塗布性が低く、放熱性および接合性は評価不可であった。これは、分散剤として低分子量のブチルアミンを用いたことによって、銀粒子同士の凝集を抑制する効果が弱くなったためであると考えられる。比較例4は、放熱性と接合性が低くなった。これは、高分子分散剤の分子量が大きくなりすぎたことによって、銀膜作製時の加熱時に銀粒子表面から脱離しにくくなり、銀粒子同士および銀粒子と被接合物との間での焼結が抑制され、銀膜の密度が低下したためであると考えられる。比較例5は、高分子分散剤の含有量が少なくなりすぎたため、高分子分散剤による効果が得られなかったと考えられる。比較例6は、放熱性と接合性が低くなった。これは、高分子分散剤の含有量が多くなりすぎたため、銀膜作製時の加熱時に銀粒子の表面に残留する高分子分散剤の量が多くなり、銀粒子同士および銀粒子と被接合物との間での焼結が抑制され、銀膜の密度が低下したためであると考えられる。   In Comparative Example 1, heat dissipation and bondability were low. This is because the amount of the organic material covering the surface of the silver particles is excessively increased, so that during the heating of the silver film production, sintering between the silver particles and between the silver particles and the object to be bonded is suppressed. This is probably because the density of the film was lowered. In Comparative Example 2, the applicability was low, and the heat dissipation and bonding properties could not be evaluated. This is considered to be because the adsorption of the polymer dispersant to the surface of the silver particles was caused by the amount of the organic substance covering the surface of the silver particles being too small. The comparative example 3 had low applicability | paintability, and heat dissipation and joining property could not be evaluated. This is considered to be because the effect of suppressing aggregation of silver particles was weakened by using low molecular weight butylamine as a dispersant. In Comparative Example 4, heat dissipation and bondability were low. This is because when the molecular weight of the polymer dispersant becomes too large, it becomes difficult to detach from the surface of the silver particles during heating during the production of the silver film, and sintering between the silver particles and between the silver particles and the object to be joined is difficult. This is considered to be because the density of the silver film was reduced. In Comparative Example 5, it is considered that the effect of the polymer dispersant was not obtained because the content of the polymer dispersant was too small. In Comparative Example 6, heat dissipation and bondability were low. This is because the amount of the polymer dispersant is excessively large, so that the amount of the polymer dispersant remaining on the surface of the silver particles during heating during the production of the silver film increases, This is considered to be because the sintering of the film was suppressed and the density of the silver film was reduced.

比較例7は、放熱性と接合性が低くなった。これは、高分子分散剤がカルボキシル基を有しており、このカルボキシル基が銀粒子に強く付着して、銀膜作製時の加熱時に銀粒子の表面に残留する高分子分散剤の量が多くなり、銀粒子同士および銀粒子と被接合物との間での焼結が抑制され、銀膜の密度が低下したためであると考えられる。比較例8は、塗布性、放熱性、接合性が低くなった。塗布性が低くなったのは、高分子分散剤の分子量が小さくなりすぎたため、銀粒子同士の凝集を抑制する効果が弱くなったためであると考えられる。また、放熱性と接合性が低くなったのは、高分子分散剤がチオ基を有しており、このチオ基が銀粒子に強く付着して、銀膜作製時の加熱時に銀粒子の表面に残留する高分子分散剤の量が多くなり、銀粒子同士および銀粒子と被接合物との間での焼結が抑制され、銀膜の密度が低下したためであると考えられる。比較例9は、塗布性が悪かった。これは、溶剤と高分子分散剤の相溶性が低いために、分散効果が抑制されたためであると考えられる。   In Comparative Example 7, heat dissipation and bondability were low. This is because the polymer dispersant has a carboxyl group, and this carboxyl group strongly adheres to the silver particles, and the amount of the polymer dispersant remaining on the surface of the silver particles during heating during the production of the silver film is large. Thus, it is considered that the sintering between the silver particles and between the silver particles and the article to be bonded was suppressed, and the density of the silver film was lowered. In Comparative Example 8, the coating property, heat dissipation property, and bonding property were low. The reason why the coating property was lowered is considered to be that the effect of suppressing the aggregation of silver particles became weak because the molecular weight of the polymer dispersant became too small. In addition, the heat dissipation and bonding properties are low because the polymer dispersant has a thio group, and this thio group adheres strongly to the silver particles, and the surface of the silver particles during heating during the preparation of the silver film This is considered to be because the amount of the polymer dispersant remaining on the substrate increases, sintering between the silver particles and between the silver particles and the article to be bonded is suppressed, and the density of the silver film is reduced. Comparative Example 9 had poor applicability. This is considered to be because the dispersion effect was suppressed because the compatibility between the solvent and the polymer dispersant was low.

これに対して、本発明例1〜11のペースト状銀粉組成物は塗布性に優れ、また200℃での加熱によって得られた銀膜は、放熱性と接合性が高かった。
以上の結果から、本発明例によれば、塗布性に優れ、比較的低温で加熱によって放熱性と接合性が高い銀膜(銀粉焼結体)を形成することができるペースト状銀粉組成物を提供することが可能となることが確認された。また、本発明例によれば、比較的低温での加熱によって熱伝導性と接合強度が高い接合体を製造することができる接合体の製造方法および比較的低温での加熱によって熱伝導性が高い銀膜を製造することができる銀膜の製造方法を提供することが可能となることが確認された。
On the other hand, the paste-like silver powder compositions of Invention Examples 1 to 11 were excellent in coatability, and the silver film obtained by heating at 200 ° C. had high heat dissipation and bondability.
From the above results, according to the examples of the present invention, a paste-like silver powder composition that is excellent in coatability and capable of forming a silver film (silver powder sintered body) with high heat dissipation and high bondability by heating at a relatively low temperature. It was confirmed that it would be possible to provide. In addition, according to the present invention example, a bonded body manufacturing method capable of manufacturing a bonded body having high thermal conductivity and high bonding strength by heating at a relatively low temperature, and high thermal conductivity by heating at a relatively low temperature. It has been confirmed that it is possible to provide a method for producing a silver film capable of producing a silver film.

11…接合体
12…基板
13…第1の金属層
14…接合層
15…第2の金属層
16…被接合物
17,18…界面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Bonded body 12 ... Board | substrate 13 ... 1st metal layer 14 ... Bonding layer 15 ... 2nd metal layer 16 ... To-be-joined object 17, 18 ... Interface

Claims (5)

銀粉と、分子内に窒素原子またはリン原子を有する高分子分散剤と、ジオール類およびカルビトールアセテート類からなる群より選ばれる少なくとも1種の溶剤とを含み、
前記銀粉は、飛行時間型二次イオン質量分析法によって測定される、C イオンとC イオンのそれぞれの検出量が、Agイオンの検出量に対して、C イオンの検出量が0.2倍以上1.0倍以下、かつC イオンの検出量が0.005倍以上0.02倍以下の範囲にあり、
前記高分子分散剤は、ゲル濾過クロマトグラフィーによって測定されるピークトップ分子量が1500以上15000以下の範囲にあって、
前記高分子分散剤の含有量が1質量%以上5質量%以下の範囲にあることを特徴とするペースト状銀粉組成物。
Silver powder, a polymer dispersant having a nitrogen atom or a phosphorus atom in the molecule, and at least one solvent selected from the group consisting of diols and carbitol acetates,
The silver powder has a detected amount of C 3 H 3 O 3 ions and C 6 H 6 O 8 ions measured by time-of-flight secondary ion mass spectrometry with respect to the detected amount of Ag + ions. The detection amount of C 3 H 3 O 3 ions is in the range of 0.2 to 1.0 times, and the detection amount of C 6 H 6 O 8 ions is in the range of 0.005 to 0.02 times. And
The polymer dispersant has a peak top molecular weight measured by gel filtration chromatography in the range of 1500 to 15000,
The pasty silver powder composition, wherein the content of the polymer dispersant is in the range of 1% by mass to 5% by mass.
前記高分子分散剤が、アミノ基またはリン酸基を有する高分子分散剤であることを特徴とする請求項1に記載のペースト状銀粉組成物。   The pasty silver powder composition according to claim 1, wherein the polymer dispersant is a polymer dispersant having an amino group or a phosphate group. 前記溶剤が、エチレングリコール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオールまたはブチルカルビトールアセテートであることを特徴とする請求項1または2に記載のペースト状銀粉組成物。   The pasty silver powder composition according to claim 1 or 2, wherein the solvent is ethylene glycol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, or butyl carbitol acetate. 第1の部材と第2の部材とが接合層を介して接合されている接合体の製造方法であって、
前記第1の部材と前記第2の部材とを、請求項1から3のいずれか1項に記載のペースト状銀粉組成物を介して積層した積層体を形成する積層工程と、
前記積層体を加熱して、前記ペースト状銀粉組成物を乾燥、焼結させて接合層を生成させる焼結工程と、
を有することを特徴とする接合体の製造方法。
A method for manufacturing a joined body in which a first member and a second member are joined via a joining layer,
The lamination process which forms the laminated body which laminated | stacked the said 1st member and the said 2nd member through the paste-form silver powder composition of any one of Claim 1 to 3,
A sintering process in which the laminate is heated to dry and sinter the paste-like silver powder composition to form a bonding layer;
A method for producing a joined body, comprising:
基材に、請求項1から3のいずれか1項に記載のペースト状銀粉組成物を塗布する塗布工程と、
前記ペースト状銀粉組成物を塗布した基材を加熱して、前記ペースト状銀粉組成物を乾燥、焼結させて銀膜を生成させる焼結工程と、
を有することを特徴とする銀膜の製造方法。
An application step of applying a paste-like silver powder composition according to any one of claims 1 to 3 to a substrate;
Heating the substrate coated with the paste-like silver powder composition, drying and sintering the paste-like silver powder composition to produce a silver film; and
A method for producing a silver film, comprising:
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