JP2018166155A - FCBGA substrate and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明はFCBGA基板の導体ランド部を除いた半導体装置が実装される直下の領域において、表面絶縁樹脂層(ソルダーレジスト層)の一部が除去されることにより下地が露出し、電気的な絶縁性が損なわれることが無く、半田リフロー時に発生する反りを抑制可能なFCBGA基板を提供することを課題とする。【解決手段】半導体チップ2が搭載される面に半導体チップのアレイ状配列の端子電極と半田接合するFCパッド電極を備え、もう一方の面にプリント配線基板6のアレイ状配列の端子電極との半田接合電極を備えたFCBGA基板1であって、FCBGA基板のFCパッド電極と、その裏面の半田接合電極以外はソルダーレジスト層3で被覆されており、FCパッド電極側のソルダーレジスト層の表面には格子状の凹部5が形成されていることを特徴とするFCBGA基板。【選択図】図1An object of the present invention is to remove a part of a surface insulating resin layer (solder resist layer) in a region immediately below where a semiconductor device is mounted except for a conductor land portion of an FCBGA substrate, thereby exposing a base. It is an object of the present invention to provide an FCBGA substrate capable of suppressing warpage that occurs at the time of solder reflow without impairing typical insulation properties. An FC pad electrode that is solder-bonded to a terminal electrode of an array of semiconductor chips is provided on a surface on which a semiconductor chip is mounted, and an array of terminal electrodes of a printed wiring board is provided on the other surface. An FCBGA substrate 1 having a solder bonding electrode, which is covered with a solder resist layer 3 except for the FC pad electrode of the FCBGA substrate and the solder bonding electrode on the back surface thereof, on the surface of the solder resist layer on the FC pad electrode side. Is an FCBGA substrate in which lattice-shaped recesses 5 are formed. [Selection] Figure 1
Description
本発明はFCBGA(Flip Chip Ball Grid Array)基板とその製造方法に関する。 The present invention relates to an FCBGA (Flip Chip Ball Grid Array) substrate and a manufacturing method thereof.
電子機器の小型化、薄型化、高性能化が進んでおり、それらに使用されるICチップの外部回路との接続電極(パッド電極)数も増加の一途を辿っている。パッド電極の数が増加するのに伴い、パッド電極の微細化が進んでいる。そのようなICチップのパッド電極の寸法は、プリント配線基板に形成可能な電極寸法との差が大き過ぎるため、まず電極寸法の整合をとるための基板であるインターポーザに実装する。インターポーザに実装した上で、プリント配線基板に実装することが主流となっている。 Electronic devices are becoming smaller, thinner, and higher in performance, and the number of connection electrodes (pad electrodes) with external circuits of IC chips used for them has been increasing. As the number of pad electrodes increases, the miniaturization of pad electrodes is progressing. Since the size of the pad electrode of such an IC chip differs from the size of the electrode that can be formed on the printed wiring board, it is first mounted on an interposer that is a substrate for matching the electrode dimensions. After mounting on an interposer, mounting on a printed wiring board has become the mainstream.
インターポーザとしては、電極数の増加に伴いパターンの微細化が進み、電極数が多いICチップには、FCBGA基板が使用されている。FCBGA基板は、プリント配線基板との接続およびICチップとの接続共にBGAが使用されている。 As an interposer, pattern miniaturization advances with an increase in the number of electrodes, and an FCBGA substrate is used for an IC chip having a large number of electrodes. As the FCBGA board, BGA is used for both connection with a printed wiring board and connection with an IC chip.
このようなFCBGA基板に形成されている電極の寸法は取扱い可能な範囲の最小寸法で形成されており、半田リフローの加熱時に発生する基板の反りにより、実装歩留まりが低下する。図3は、従来のFCBGA基板1´に反りが発生した場合のプリント配線基板6との半田接続不良の状況を例示した断面図である。FCBGA基板1´が反っているために、反り上がった部位の半田ボール7が接続できない状況となっている。 The dimensions of the electrodes formed on such an FCBGA substrate are the minimum dimensions that can be handled, and the mounting yield is reduced due to the warpage of the substrate that occurs during solder reflow heating. FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating the state of poor solder connection with the printed wiring board 6 when the conventional FCBGA board 1 ′ is warped. Since the FCBGA substrate 1 ′ is warped, the solder ball 7 at the warped portion cannot be connected.
このような反りの発生を抑制するため、各種の技術が検討されている。基板の内部に応力が発生しても、反り量を小さくするため、基板を構成する材料として剛性が高いコア基板を採用したり、基板の表裏面に形成する配線パターンの分布を均等にしたり、基板の積層構成として、熱膨張係数を表裏面で対称に配置する、など、多岐に亘る検討がなされている。 In order to suppress the occurrence of such warping, various techniques have been studied. Even if stress occurs inside the substrate, to reduce the amount of warping, adopt a highly rigid core substrate as the material that constitutes the substrate, or evenly distribute the wiring pattern formed on the front and back surfaces of the substrate, As a laminated structure of the substrate, various studies have been made such as arranging the thermal expansion coefficients symmetrically on the front and back surfaces.
例えば特許文献1には、半田リフロー時の反りを防止し得るプリント配線基板として、コア基板の少なくとも片面に導体配線層と層間絶縁樹脂層が積層され、最表面の導体配線層上が表面絶縁樹脂層(ソルダーレジスト層)により覆われてなる多層プリント配線基板において、半導体パッケージなどの半導体装置を実装する領域内で、且つその半導体装置の外部電極と接合される導体ランド部を除いた半導体装置直下の領域において、層間絶縁樹脂層上または導体配線層上に形成された上記の表面絶縁樹脂層(ソルダーレジスト層)の一部が除去されたプリント配線基板が開示されている。 For example, in Patent Document 1, as a printed wiring board capable of preventing warpage during solder reflow, a conductor wiring layer and an interlayer insulating resin layer are laminated on at least one surface of a core substrate, and the uppermost conductive wiring layer is a surface insulating resin. In a multilayer printed wiring board covered with a layer (solder resist layer), in a region where a semiconductor device such as a semiconductor package is mounted and directly under the semiconductor device excluding a conductor land portion joined to an external electrode of the semiconductor device In this area, a printed wiring board is disclosed in which a part of the surface insulating resin layer (solder resist layer) formed on the interlayer insulating resin layer or the conductor wiring layer is removed.
このプリント配線基板は、半田リフロー時に発生する反りを防止可能な優れた技術であるが、表面絶縁樹脂層(ソルダーレジスト層)の一部が除去されているため、その部位で下地が露出している。そのためその部位において下地が露出し溶融した半田と接触し、電気的な絶縁性が損なわれてしまう虞がある。 This printed circuit board is an excellent technology that can prevent warping that occurs during solder reflow, but since the surface insulating resin layer (solder resist layer) has been partially removed, the substrate is exposed at that site. Yes. For this reason, the base is exposed at that portion and comes into contact with the molten solder, which may impair the electrical insulation.
特に、半田リフロー時に反りが発生し易いインターポーザや半導体パッケージ用の薄型のプリント配線基板であるFCBGA基板においては、反りの発生を抑制可能な技術が待望されていた。 In particular, for an interposer and a thin printed wiring board for a semiconductor package that are likely to be warped during solder reflow, an FCBGA substrate that is a thin printed circuit board for a semiconductor package has been expected to have a technique capable of suppressing the occurrence of warpage.
上記の事情に鑑み、本発明は、半電気的絶縁性が損なわれることなく反りの発生を抑制し得るFCBGA基板を提供することを課題とする。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide an FCBGA substrate capable of suppressing the occurrence of warp without impairing semi-electrical insulation.
上記の課題を解決する手段として、本発明の請求項1に記載の発明は、半導体チップが搭載される面に半導体チップのアレイ状配列の端子電極と半田接合するFCパッド電極を備え、もう一方の面にプリント配線基板のアレイ状配列した端子電極との半田接合電極を備えたFCBGA基板であって、
FCBGA基板のFCパッド電極と、その裏面の半田接合電極以外はソルダーレジスト層で被覆されており、
FCパッド電極側のソルダーレジスト層の表面には格子状の凹部が形成されていることを特徴とするFCBGA基板である。
As a means for solving the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 of the present invention includes an FC pad electrode that is solder-bonded to a terminal electrode of an array of semiconductor chips on the surface on which the semiconductor chip is mounted. An FCBGA board having solder joint electrodes with terminal electrodes arranged in an array of printed wiring boards on the surface,
Other than the FC pad electrode of the FCBGA substrate and the solder joint electrode on the back side, it is covered with a solder resist layer.
The FCBGA substrate is characterized in that a grid-like recess is formed on the surface of the solder resist layer on the FC pad electrode side.
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のFCBGA基板の製造方法であって、
コア基板の表裏面に導体配線層を形成する工程Aと、
表裏面の導体配線層の上に層間絶縁層を形成し、ビアホールを形成する工程Bと、
工程Aと工程Bとを繰り返すことにより、最表面に導体配線層が形成された配線基板を作製する工程と、
最表面の導体配線層の上にソルダーレジスト層を形成する工程と、
半導体チップが搭載される面の所望の位置のソルダーレジスト層を除去することにより、FCパッド電極を露出し、且つ格子状の凹部を形成する工程と、
もう一方の面に形成されたソルダーレジスト層の所望の位置のソルダーレジスト層を除去することにより、プリント配線基板との半田接合電極を露出する工程と、を備えていることを特徴とするFCBGA基板の製造方法である。
The invention according to claim 2 is a method for manufacturing an FCBGA substrate according to claim 1,
Forming a conductor wiring layer on the front and back surfaces of the core substrate; and
Forming an interlayer insulating layer on the conductor wiring layers on the front and back surfaces and forming a via hole; and
A step of producing a wiring board having a conductor wiring layer formed on the outermost surface by repeating step A and step B;
Forming a solder resist layer on the outermost conductor wiring layer;
Removing the solder resist layer at a desired position on the surface on which the semiconductor chip is mounted, exposing the FC pad electrode, and forming a lattice-shaped recess;
And a step of exposing a solder bonding electrode to the printed wiring board by removing the solder resist layer at a desired position of the solder resist layer formed on the other surface. It is a manufacturing method.
また、請求項3に記載の発明は、前記半導体チップが搭載される面の所望の位置の前記ソルダーレジスト層を除去することにより、前記FCパッド電極を露出し、且つ前記格子状の凹部を形成する工程が、感光性のソルダーレジストを使用して、ハーフトーンマスクにて露光・現像する工程であることを特徴とする請求項2に記載のFCBGA基板の製造方法である。 According to a third aspect of the present invention, the FC pad electrode is exposed and the lattice-shaped recess is formed by removing the solder resist layer at a desired position on the surface on which the semiconductor chip is mounted. 3. The method of manufacturing an FCBGA substrate according to claim 2, wherein the step of performing is a step of exposing and developing with a halftone mask using a photosensitive solder resist.
また、請求項4に記載の発明は、前記半導体チップが搭載される面の所望の位置の前記ソルダーレジスト層を除去することにより、前記FCパッド電極を露出し、且つ前記格子状の凹部を形成する工程が、感光性のソルダーレジストを使用して、ハーフトーンマスクにて露光・現像する工程であることを特徴とする請求項2に記載のFCBGA基板の製造方法である。 According to a fourth aspect of the present invention, the FC pad electrode is exposed and the lattice-shaped recesses are formed by removing the solder resist layer at a desired position on the surface on which the semiconductor chip is mounted. 3. The method of manufacturing an FCBGA substrate according to claim 2, wherein the step of performing is a step of exposing and developing with a halftone mask using a photosensitive solder resist.
本発明のFCBGA基板によれば、半導体チップが搭載される側のソルダーレジストの表面に格子状の凹部が備えられているため、半田リフロー時の高温に晒されても、FCBGA基板が反ることが抑制される。そのため、半導体チップとFCBGA基板との接続不良や、FCBGA基板とプリント配線基板との接続不良の発生が抑制される。 According to the FCBGA substrate of the present invention, the surface of the solder resist on the side where the semiconductor chip is mounted is provided with a lattice-shaped recess, so that the FCBGA substrate warps even when exposed to high temperatures during solder reflow. Is suppressed. Therefore, the occurrence of poor connection between the semiconductor chip and the FCBGA substrate and poor connection between the FCBGA substrate and the printed wiring board is suppressed.
また、本発明のFCBGA基板の製造方法によれば、本発明のFCBGA基板を提供可能とする。 Moreover, according to the manufacturing method of the FCBGA substrate of the present invention, the FCBGA substrate of the present invention can be provided.
<FCBGA基板>
本発明は、配線基板の最表面の絶縁樹脂層であるソルダーレジスト層の形態と、多層配線基板が半田リフローなどの高温環境に晒された時に生じる基板の反りについて、鋭意研究を重ねた結果、ソルダーレジストに形成した格子状の凹部が反りを低減する効果についての知見を得るに至り、本発明を完成させることができた。
<FCBGA substrate>
As a result of earnestly researching the form of the solder resist layer, which is the outermost insulating resin layer of the wiring board, and the warping of the board that occurs when the multilayer wiring board is exposed to a high temperature environment such as solder reflow, As a result of obtaining knowledge about the effect of the lattice-shaped recesses formed in the solder resist to reduce warpage, the present invention has been completed.
本発明のFCBGA基板について、図1と図2を用いて説明する。
本発明のFCBGA基板1は、半導体チップが搭載される面に半導体チップ2のアレイ状配列の端子電極と半田接合するFC(フリップチップ)パッド電極(図示せず)を備え、もう一方の面にプリント配線基板6のアレイ状配列の端子電極との半田接合電極(図示せず)を備えたFCBGA基板1である。
The FCBGA substrate of the present invention will be described with reference to FIGS.
The FCBGA substrate 1 of the present invention includes FC (flip chip) pad electrodes (not shown) which are solder-bonded to the arrayed terminal electrodes of the semiconductor chip 2 on the surface on which the semiconductor chip is mounted, and the other surface. This is an FCBGA substrate 1 provided with solder joint electrodes (not shown) with terminal electrodes arranged in an array on the printed wiring board 6.
本発明のFCBGA基板1は、コアとなる基板の表裏面に導体配線層と層間絶縁層とを交互に形成して作製した配線基板4の、最表面の導体配線層の上に最表面の絶縁樹脂層であるソルダーレジスト層3を形成した構成を備えている。半導体チップ2が搭載される面に備えられたFCパッド電極と、その裏面の半田接合電極以外はソルダーレジスト層3で被覆されており、FCパッド電極側のソルダーレジスト層3の表面には格子状の凹部が形成されていることが特徴となっている(図1(b)参照)。 The FCBGA substrate 1 of the present invention has an insulation on the outermost surface on the outermost conductor wiring layer of the wiring substrate 4 produced by alternately forming a conductor wiring layer and an interlayer insulating layer on the front and back surfaces of the core substrate. The solder resist layer 3 which is a resin layer is formed. The FC pad electrode provided on the surface on which the semiconductor chip 2 is mounted and the solder bonding electrode on the back side thereof are covered with the solder resist layer 3, and the surface of the solder resist layer 3 on the FC pad electrode side is in a lattice shape It is the feature that the recessed part of this is formed (refer FIG.1 (b)).
半導体チップ2が搭載される面のソルダーレジスト層3に、格子状の凹部5が形成されていることにより、半田リフローなどの高温処理工程を経ても、本発明のFCBGA基板1が反ることが抑制される。 Since the grid-like recesses 5 are formed in the solder resist layer 3 on the surface on which the semiconductor chip 2 is mounted, the FCBGA substrate 1 of the present invention may warp even after a high-temperature processing step such as solder reflow. It is suppressed.
格子状の凹部5は、ソルダーレジスト層3が全て除去されておらず、途中まで除去されることにより凹部を形成している。 The grid-like recesses 5 are not removed from the solder resist layer 3 but are removed halfway to form recesses.
<FCBGA基板の製造方法>
次に、本発明のFCBGA基板の製造方法について説明する。
本発明のFCBGA基板の製造方法は、コア基板の表裏面に導体配線層を形成する工程Aと、表裏面の導体配線層の上に層間絶縁層を形成し、ビアホールを形成する工程Bと、工程Aと工程Bとを繰り返すことにより、最表面に導体配線層が形成された配線基板を作製する工程と、最表面の導体配線層の上にソルダーレジスト層を形成する工程と、半導体チップが搭載される面の所望の位置のソルダーレジスト層を除去することにより、FCパッド電極を露出し、且つ格子状の凹部を形成する工程と、もう一方の面に形成されたソルダーレジスト層の所望の位置のソルダーレジスト層を除去することにより、プリント配線基板との半田接合電極を露出する工程と、を備えている。
<Manufacturing method of FCBGA substrate>
Next, a method for manufacturing the FCBGA substrate of the present invention will be described.
The manufacturing method of the FCBGA substrate of the present invention includes a step A of forming a conductor wiring layer on the front and back surfaces of the core substrate, a step B of forming an interlayer insulating layer on the conductor wiring layer on the front and back surfaces, and forming a via hole; By repeating step A and step B, a step of manufacturing a wiring board having a conductor wiring layer formed on the outermost surface, a step of forming a solder resist layer on the outermost conductor wiring layer, and a semiconductor chip By removing the solder resist layer at a desired position on the surface to be mounted, the step of exposing the FC pad electrode and forming a lattice-shaped recess, and the desired solder resist layer formed on the other surface And removing the solder resist layer at the position to expose the solder joint electrode with the printed wiring board.
上記の半導体チップが搭載される面の所望の位置のソルダーレジスト層を除去すること
により、FCパッド電極を露出し、且つ格子状の凹部を形成する手段が、感光性のソルダーレジストを使用して、ハーフトーンマスクにて露光・現像する手段であっても良い。
By removing the solder resist layer at a desired position on the surface on which the semiconductor chip is mounted, a means for exposing the FC pad electrode and forming a lattice-shaped recess is formed using a photosensitive solder resist. A means for exposing and developing with a halftone mask may be used.
また、上記の半導体チップが搭載される面の所望の位置のソルダーレジスト層を除去することにより、FCパッド電極を露出し、且つ格子状の凹部を形成する手段が、レーザービームを照射してソルダーレジスト層を除去する手段であっても良い。 In addition, by removing the solder resist layer at a desired position on the surface on which the semiconductor chip is mounted, the means for exposing the FC pad electrode and forming the lattice-shaped recess is irradiated with a laser beam to the solder. It may be a means for removing the resist layer.
(導体配線層を形成する工程A)
導体配線層を形成する手段としては、従来の多層プリント配線基板の製造工程を好適に使用することができる。また、コアとなる基板としては、例えばガラスクロスにBステージのFR−4のエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグの表裏両面に電解銅箔の粗面を向い合わせにして熱プレスすることにより作製した銅張積層板を使用することができる。
(Process A for forming a conductor wiring layer)
As a means for forming the conductor wiring layer, a conventional manufacturing process of a multilayer printed wiring board can be suitably used. Moreover, as a board | substrate used as a core, the copper produced by, for example, heat-pressing the rough surface of electrolytic copper foil to the both surfaces of the prepreg which made the glass cloth impregnate the epoxy resin of B stage FR-4 face each other. A tension laminate can be used.
この表裏両面の銅箔の所望の位置にドリル加工などによりスルーホールを形成後、スルーホールめっき工程を経て、スルーホール内部に銅めっき層を形成する。その後、感光性ドライフィルムを表裏両面にラミネートし、所望の露光パターンを備えたフォトマスクを用いて露光し、現像する。その後、そのドライフィルムパターンをエッチングマスクとして不要な銅箔をエッチング除去し、エッチングマスクを剥離することにより、銅箔層を導体とする導体配線層(導体パターン、配線パターンとも言う。)を形成することができる。 After through holes are formed by drilling or the like at desired positions on the front and back copper foils, a copper plating layer is formed inside the through holes through a through hole plating step. Thereafter, a photosensitive dry film is laminated on both the front and back surfaces, exposed using a photomask having a desired exposure pattern, and developed. Thereafter, unnecessary copper foil is removed by etching using the dry film pattern as an etching mask, and the etching mask is peeled off to form a conductor wiring layer (also referred to as a conductor pattern or wiring pattern) having the copper foil layer as a conductor. be able to.
導体配線層としては、銅張積層板を使用して銅箔をパターニングして形成する例を説明したが、これに限定する必要はなく、例えば、絶縁性基板上に形成したアルミニウム箔をパターニングしたものでも良いし、金属インキや導体インキを印刷することによって形成した導体パターンを使用することもできる。またスルーホール内の銅めっきの代わりに、金属インキや導体インキをスルーホール内に充填して、基板の表裏面に形成した導体配線層と導通をとっても良い。 As an example of the conductor wiring layer, a copper-clad laminate was used to pattern and form a copper foil. However, the present invention is not limited to this. For example, an aluminum foil formed on an insulating substrate is patterned. It is also possible to use a conductive pattern formed by printing metal ink or conductive ink. Further, instead of copper plating in the through hole, metal ink or conductor ink may be filled in the through hole to conduct with the conductor wiring layer formed on the front and back surfaces of the substrate.
(導体配線層の上に層間絶縁層を形成し、ビアホールを形成する工程B)
導体配線層の上に層間絶縁層を形成する手段としては、従来の多層プリント配線基板の製造工程を好適に使用することができる。
(Process B in which an interlayer insulating layer is formed on a conductor wiring layer and a via hole is formed)
As a means for forming an interlayer insulating layer on the conductor wiring layer, a conventional multilayer printed wiring board manufacturing process can be suitably used.
層間絶縁層としては、例えば、有機絶縁樹脂シートを、真空ラミネーターを用いて張り合わせることができる。また、液状の絶縁樹脂を導体配線層の上に塗布・乾燥することで形成することができる。 As the interlayer insulating layer, for example, an organic insulating resin sheet can be bonded using a vacuum laminator. Moreover, it can form by apply | coating and drying a liquid insulating resin on a conductor wiring layer.
層間絶縁層の材料としては、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系、エポキシアクリレー系、フェノールエポキシ系、ポリイミド系、ポリアミド系、シアネート系、ポリマー液晶からなるシート類、これら樹脂にガラスやポリアミド、液晶からなる補強繊維を含浸させた材料、シリカやブチル系有機材料、炭酸カルシウムなどのフィラーを含んでいてもよい。 Materials for the interlayer insulation layer include epoxy, acrylic, urethane, epoxy acrylate, phenol epoxy, polyimide, polyamide, cyanate, polymer liquid crystal sheets, glass, polyamide, and liquid crystal. A material impregnated with a reinforcing fiber made of silica, a filler such as silica, a butyl organic material, or calcium carbonate may be included.
層間絶縁層にビアホールを形成する手段としては、従来の多層プリント配線基板の製造工程を好適に使用することができる。具体的には、レーザ(CO2、UV、エキシマ)を使用して所望の部位の層間絶縁層を除去する方法が挙げられる。また、層間絶縁層として、感光性の樹脂材料を使用し、所望のパターンを備えたフォトマスクを使用して露光・現像する工程により、層間絶縁層にビアホールを形成することが可能である。 As means for forming a via hole in the interlayer insulating layer, a conventional multilayer printed wiring board manufacturing process can be suitably used. Specifically, a method of removing an interlayer insulating layer at a desired site using a laser (CO 2 , UV, excimer) can be mentioned. Further, a via hole can be formed in the interlayer insulating layer by a process of using a photosensitive resin material as the interlayer insulating layer and exposing and developing using a photomask having a desired pattern.
(ソルダーレジスト層を表裏面の導体配線層の上に形成する工程)
最上層の導体配線層を形成した後、その上にソルダーレジスト層を形成する。ソルダー
レジスト層となるソルダーレジストインキを表裏面の導体配線層の上に塗布する手段としては、例えばロールコータを用いて所望の厚さに塗布することができる。塗布する手段としてはロールコータに限定する必要はなく、スクリーン印刷、カーテンコータ、スプレーコータなどを適宜使用することができる。
(Process of forming solder resist layer on conductor wiring layer on front and back)
After forming the uppermost conductor wiring layer, a solder resist layer is formed thereon. As a means for applying the solder resist ink to be the solder resist layer on the conductor wiring layers on the front and back surfaces, for example, it can be applied to a desired thickness using a roll coater. The means for applying is not limited to a roll coater, and screen printing, curtain coater, spray coater and the like can be used as appropriate.
塗布後、乾燥することによって、ソルダーレジスト層とすることができる。乾燥の手段としては、通常、クリーンオーブン中で温風の中に保管し、ソルダーレジスト中の溶剤を揮発することによって、乾燥させる。そのため、使用されている溶剤に合せて乾燥温度と処理時間を設定すれば良い。 It can be set as a soldering resist layer by drying after application | coating. As a drying means, it is usually stored in warm air in a clean oven and dried by volatilizing the solvent in the solder resist. Therefore, what is necessary is just to set drying temperature and processing time according to the solvent currently used.
(ソルダーレジスト層を除去する手段)
所望の位置のソルダーレジスト層を除去する手段は、ソルダーレジスト層として感光性の材料を使用している場合と、そうでない場合によって異なる。
(Means for removing solder resist layer)
The means for removing the solder resist layer at a desired position differs depending on whether or not a photosensitive material is used as the solder resist layer.
感光性のソルダーレジストを使用した場合、所望のパターンを備えたフォトマスクを使用して露光・現像処理を行うことによって、所望の部位のソルダーレジスト層を除去することができる。フォトマスクとしてハーフトーンマスクを使用することによって、FCパッド電極部とその裏面の半田接合電極部のソルダーレジスト層を全て除去し、下地を露出させる一方、本願発明の凹部においては、露光量を調整することで、ソルダーレジスト層の表面から一定の深さまで現像により除去するが、それ以上の深さにあるソルダーレジスト層は残留させることができる。 When a photosensitive solder resist is used, a solder resist layer at a desired site can be removed by performing exposure and development using a photomask having a desired pattern. By using a halftone mask as a photomask, all the solder resist layers of the FC pad electrode part and the solder joint electrode part on the back surface are removed to expose the base, while the exposure amount is adjusted in the recess of the present invention. By doing so, it is removed by development from the surface of the solder resist layer to a certain depth, but the solder resist layer at a depth higher than that can be left.
また、感光性が無いソルダーレジストを使用した場合、レーザ(CO2、UV、エキシマ)を使用して所望の部位の層間絶縁層を除去する手段を使用することができる。電極以外はソルダーレジストで覆われている必要があるので、ソルダーレジスト層のある一定の深さまでは除去するが、それ以上の深さにあるソルダーレジスト層は残留させるためには、レーザ出力を下げて照射することにより、ソルダーレジスト層の所望の部位に凹部を形成することができる。 Further, when a solder resist having no photosensitivity is used, means for removing an interlayer insulating layer at a desired site using a laser (CO 2 , UV, excimer) can be used. Since the parts other than the electrodes need to be covered with the solder resist, the solder resist layer is removed at a certain depth, but in order to leave the solder resist layer deeper than that, the laser output is lowered. By irradiating, a recess can be formed at a desired portion of the solder resist layer.
以上の様にして、半導体チップが搭載される面に半導体チップのアレイ状配列の端子電極と半田接合するFCパッド電極の部位にそれらの電極を露出する開口部と、もう一方の面にプリント配線基板のアレイ状配列の端子電極との半田接合する電極の部位にそれらの電極を露出する開口部以外には、ソルダーレジスト層が形成されており、且つ、ソルダーレジスト層の半導体チップが搭載される面には、格子状の凹部が備えられたFCBGA基板を作製することができる。 As described above, on the surface where the semiconductor chip is mounted, an opening for exposing the electrode to the portion of the FC pad electrode to be soldered to the terminal electrode of the array arrangement of the semiconductor chip, and the printed wiring on the other surface A solder resist layer is formed on the portion of the electrode to be soldered with the terminal electrode in the array arrangement on the substrate, except for the opening that exposes the electrode, and the semiconductor chip of the solder resist layer is mounted On the surface, an FCBGA substrate having a lattice-shaped recess can be manufactured.
この半導体チップが搭載される面に格子状の凹部が備えられたFCBGA基板とすることにより、半田リフローなどの高温処理がなされた場合においても、反ることが抑制され、半田接続不良などの不具合の発生を抑制可能なFCBGA基板を提供することができる。 By using an FCBGA substrate with a grid-like recess on the surface on which this semiconductor chip is mounted, even when high-temperature processing such as solder reflow is performed, warping is suppressed and defects such as poor solder connection It is possible to provide an FCBGA substrate capable of suppressing the occurrence of the above.
1・・・FCBGA基板
2・・・半導体チップ
3・・・ソルダーレジスト層
4・・・配線基板
5・・・凹部
6・・・プリント配線基板
7・・・半田ボール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... FCBGA board 2 ... Semiconductor chip 3 ... Solder resist layer 4 ... Wiring board 5 ... Recess 6 ... Printed wiring board 7 ... Solder ball
Claims (4)
FCBGA基板のFCパッド電極と、その裏面の半田接合電極以外はソルダーレジスト層で被覆されており、
FCパッド電極側のソルダーレジスト層の表面には格子状の凹部が形成されていることを特徴とするFCBGA基板。 The surface on which the semiconductor chip is mounted has FC pad electrodes that are solder-bonded to the arrayed terminal electrodes of the semiconductor chip, and the other surface has solder-bonded electrodes to the arrayed terminal electrodes of the printed wiring board FCBGA board,
Other than the FC pad electrode of the FCBGA substrate and the solder joint electrode on the back side, it is covered with a solder resist layer.
An FCBGA substrate characterized in that a grid-like recess is formed on the surface of the solder resist layer on the FC pad electrode side.
コア基板の表裏面に導体配線層を形成する工程Aと、
表裏面の導体配線層の上に層間絶縁層を形成し、ビアホールを形成する工程Bと、
工程Aと工程Bとを繰り返すことにより、最表面に導体配線層が形成された配線基板を作製する工程と、
最表面の導体配線層の上にソルダーレジスト層を形成する工程と、
半導体チップが搭載される面の所望の位置のソルダーレジスト層を除去することにより、FCパッド電極を露出し、且つ格子状の凹部を形成する工程と、
もう一方の面に形成されたソルダーレジスト層の所望の位置のソルダーレジスト層を除去することにより、プリント配線基板との半田接合電極を露出する工程と、を備えていることを特徴とするFCBGA基板の製造方法。 It is a manufacturing method of the FCBGA board according to claim 1,
Forming a conductor wiring layer on the front and back surfaces of the core substrate; and
Forming an interlayer insulating layer on the conductor wiring layers on the front and back surfaces and forming a via hole; and
A step of producing a wiring board having a conductor wiring layer formed on the outermost surface by repeating step A and step B;
Forming a solder resist layer on the outermost conductor wiring layer;
Removing the solder resist layer at a desired position on the surface on which the semiconductor chip is mounted, exposing the FC pad electrode, and forming a lattice-shaped recess;
And a step of exposing a solder bonding electrode to the printed wiring board by removing the solder resist layer at a desired position of the solder resist layer formed on the other surface. Manufacturing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017062922A JP2018166155A (en) | 2017-03-28 | 2017-03-28 | FCBGA substrate and manufacturing method thereof |
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN111952198A (en) * | 2020-08-25 | 2020-11-17 | 济南南知信息科技有限公司 | A kind of semiconductor package and preparation method thereof |
-
2017
- 2017-03-28 JP JP2017062922A patent/JP2018166155A/en active Pending
Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| CN111952198A (en) * | 2020-08-25 | 2020-11-17 | 济南南知信息科技有限公司 | A kind of semiconductor package and preparation method thereof |
| CN111952198B (en) * | 2020-08-25 | 2022-09-13 | 嘉兴启创科技咨询有限公司 | Semiconductor package and preparation method thereof |
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