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JP2018161862A - Manufacturing method of resin molded product and manufacturing method of optical component - Google Patents

Manufacturing method of resin molded product and manufacturing method of optical component Download PDF

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JP2018161862A JP2017061867A JP2017061867A JP2018161862A JP 2018161862 A JP2018161862 A JP 2018161862A JP 2017061867 A JP2017061867 A JP 2017061867A JP 2017061867 A JP2017061867 A JP 2017061867A JP 2018161862 A JP2018161862 A JP 2018161862A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a resin molded product which hardly causes occurrence of air bubbles when a curable composition is applied to a mold having a pattern shape in imprint molding.SOLUTION: A method for producing a resin molded product includes: a curable composition application step of applying a curable composition having a contact angle with respect to a mold having a pattern shape of 50° or less to a curable composition unapplied portion of the mold so that a particle diameter of a fine particle of the curable composition when being deposited to the mold is 0.5 mm or less; and a curing step of curing the curable composition applied to the mold to obtain a resin molded product.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、樹脂成型品の製造方法、及び光学部品の製造方法に関する。より詳細には、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法、及び該樹脂成型品を用いて光学部品を製造する方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a resin molded product and a method for producing an optical component. More specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a resin molded product by imprint molding and a method for manufacturing an optical component using the resin molded product.

近年、携帯電話、スマートフォンをはじめとする、モバイル電子機器について、センサーやカメラを搭載することによる製品価値の向上が進んでいる。年々、小型化、薄型化が進み、それらに使用されるレンズ等の光学部品も、より小型で、より薄型のものが求められている。そのような要求に対して、従来、射出成型によって光学部品を製造することで対応してきたが、射出成型法では小型化、薄型化への対応に限界がきている。そこで、射出成型法に代わる新たな成型方法としてインプリント成型技術が注目を浴びている(特許文献1参照)。   In recent years, mobile electronic devices such as mobile phones and smartphones have been improved in product value by mounting sensors and cameras. Every year, miniaturization and thinning have progressed, and optical components such as lenses used for them have been required to be smaller and thinner. Conventionally, such demands have been dealt with by manufacturing optical parts by injection molding, but the injection molding method has a limit in dealing with downsizing and thinning. Therefore, an imprint molding technique is attracting attention as a new molding method that replaces the injection molding method (see Patent Document 1).

特開2010−266664号公報JP 2010-266664 A

微細な形状を有する樹脂成型品をインプリント成型により成型する場合、用いるモールドには、樹脂成型品の微細な形状に対応する微細なパターン形状が設けられている。しかしながら、本発明者は、このような微細なパターン形状を有するモールドを用いてインプリント成型により樹脂成型品を成型する場合、樹脂成型品を形成する硬化性組成物をモールドに塗布した際に硬化性組成物中に気泡が発生(泡かみ)しやすいことを見出した。上記気泡は、モールドに設けられた微細なパターン形状の凹部の底付近(成型後に樹脂成型品の凸部の先端となる部分)に特に発生しやすい。   When a resin molded product having a fine shape is molded by imprint molding, the mold to be used is provided with a fine pattern shape corresponding to the fine shape of the resin molded product. However, the present inventor, when molding a resin molded product by imprint molding using a mold having such a fine pattern shape, is cured when a curable composition that forms the resin molded product is applied to the mold. It has been found that bubbles are easily generated (foaming) in the composition. The air bubbles are particularly likely to be generated near the bottom of a concave portion having a fine pattern provided in the mold (the portion that becomes the tip of the convex portion of the resin molded product after molding).

従って、本発明の目的は、インプリント成型において、パターン形状を有するモールドに硬化性組成物を塗布した際に気泡の発生が起こりにくい樹脂成型品の製造方法、及び該樹脂成型品を用いた光学部品の製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a resin molded product in which bubbles are not easily generated when a curable composition is applied to a mold having a pattern shape in imprint molding, and an optical system using the resin molded product. It is to provide a method for manufacturing a component.

本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、パターン形状を有するモールドに、該モールドに対する接触角が小さい硬化性組成物を微細化して塗布することにより、パターン形状を有するモールドに硬化性組成物を塗布した際に気泡の発生を起こりにくくすることができることを見出した。本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。   As a result of intensive investigations to achieve the above object, the present inventor cured a mold having a pattern shape by finely applying a curable composition having a small contact angle to the mold having a pattern shape. It has been found that the generation of bubbles can be made difficult to occur when an adhesive composition is applied. The present invention has been completed based on these findings.

すなわち、本発明は、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であって、パターン形状を有するモールドの硬化性組成物未塗布部分に、前記モールドに対する接触角が50°以下の硬化性組成物を、前記モールドに付着する際の前記硬化性組成物の微粒子の粒径が0.5mm以下となるように塗布する微粒子塗布段階を含む硬化性組成物塗布工程、及び前記モールドに塗布された前記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程を有する、樹脂成型品の製造方法を提供する。   That is, the present invention is a method for producing a resin molded product by imprint molding, and a curable composition having a contact angle with respect to the mold of 50 ° or less on a curable composition uncoated portion of a mold having a pattern shape. A curable composition application step including a fine particle application step of applying the fine particle size of the curable composition when adhering to the mold to be 0.5 mm or less, and the mold applied to the mold Provided is a method for producing a resin molded product, which has a curing step for obtaining a resin molded product by curing a curable composition.

前記微粒子塗布段階において、前記モールドに付着する際の前記硬化性組成物の微粒子のアスペクト比が0.1以上となるように前記硬化性組成物を塗布することが好ましい。   In the fine particle application step, it is preferable to apply the curable composition so that the aspect ratio of the fine particles of the curable composition when adhering to the mold is 0.1 or more.

前記微粒子塗布段階における塗布はスプレー塗布であることが好ましい。   The coating in the fine particle coating step is preferably spray coating.

前記硬化性組成物塗布工程は、前記微粒子塗布段階の後に、前記モールドに塗布された硬化性組成物に付着する際の前記硬化性組成物の粒径が0.1mmを超えるように前記硬化性組成物を前記モールドに塗布する段階を含むことが好ましい。   In the curable composition coating step, the curable composition is coated such that the particle size of the curable composition when adhering to the curable composition coated on the mold exceeds 0.1 mm after the fine particle coating step. Preferably, the method includes a step of applying a composition to the mold.

前記硬化性組成物はエポキシ化合物を含有することが好ましい。   The curable composition preferably contains an epoxy compound.

前記硬化性組成物塗布工程の後に、減圧による脱泡工程を有することが好ましい。   It is preferable to have the defoaming process by pressure reduction after the said curable composition application | coating process.

前記モールドにおけるパターン形状が凹凸形状であり、凹部最底部と凸部最頂部の高低差が0.05mm以上であることが好ましい。   It is preferable that the pattern shape in the mold is a concavo-convex shape, and the height difference between the bottom of the concave portion and the top of the convex portion is 0.05 mm or more.

前記樹脂成型品はマイクロレンズアレイであることが好ましい。   The resin molded product is preferably a microlens array.

また、本発明は、前記樹脂成型品の製造方法により得られる樹脂成型品を用いた光学部品の製造方法を提供する。   Moreover, this invention provides the manufacturing method of the optical component using the resin molded product obtained by the manufacturing method of the said resin molded product.

本発明の樹脂成型品の製造方法によれば、パターン形状を有するモールドに硬化性組成物を塗布した際に気泡の発生を起こりにくくすることができる。特に、微細なパターン形状を有するモールドを用いた場合であっても、気泡の発生が起こりにくい。このため、微細な形状を有する樹脂成型品及び光学部品を、優れた形状精度で且つ容易に製造することができる。   According to the method for producing a resin molded product of the present invention, it is possible to make it difficult for bubbles to occur when a curable composition is applied to a mold having a pattern shape. In particular, even when a mold having a fine pattern shape is used, bubbles are unlikely to occur. For this reason, a resin molded product and an optical component having a fine shape can be easily manufactured with excellent shape accuracy.

本発明の樹脂成型品の製造方法の一実施形態を示す工程図である。It is process drawing which shows one Embodiment of the manufacturing method of the resin molded product of this invention. フレネルレンズの一例を示す模式図であり、(1−a)は断面図、(1−b)は真上から見た図である。It is a schematic diagram which shows an example of a Fresnel lens, (1-a) is sectional drawing, (1-b) is the figure seen from right above. フレネルレンズ断面におけるレンズ面1と非レンズ面2、レンズ面1と基準面3の成す角θを示す模式図である。It is a schematic diagram showing an angle θ formed by a lens surface 1 and a non-lens surface 2 and a lens surface 1 and a reference surface 3 in a Fresnel lens cross section.

本発明の樹脂成型品の製造方法は、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であって、パターン形状を有するモールドの硬化性組成物未塗布部分に、上記モールドに対する接触角が50°以下の硬化性組成物を、上記モールドに付着する際の上記硬化性組成物の微粒子の粒径が0.5mm以下となるように塗布する微粒子塗布段階を含む硬化性組成物塗布工程、及び上記モールドに塗布された上記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程を有する。なお、本明細書において、本発明の樹脂成型品の製造方法を、単に「本発明の製造方法」と称する場合がある。   The method for producing a resin molded product of the present invention is a method for producing a resin molded product by imprint molding, and a contact angle with respect to the mold is 50 ° or less at a curable composition uncoated portion of a mold having a pattern shape. A curable composition coating step including a fine particle coating step of coating the curable composition of the curable composition so that the particle size of the fine particles of the curable composition when adhering to the mold is 0.5 mm or less, and the mold A curing step of curing the curable composition applied to the substrate to obtain a resin molded product. In the present specification, the method for producing a resin molded product of the present invention may be simply referred to as “the production method of the present invention”.

上述のように、本発明の製造方法は、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であり、基板に樹脂成型品を形成する硬化性組成物を塗布し、塗布された硬化性組成物を挟み込むように他の基板を重ね合わせ、その後上記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を製造する。なお、本発明の製造方法では、少なくとも一方の基板としてパターン形状を有するモールドを用い、このパターン形状を有するモールド(以下、単に「モールド」と称する場合がある)に硬化性組成物を塗布する。   As described above, the production method of the present invention is a method for producing a resin molded product by imprint molding, and a curable composition for forming a resin molded product is applied to a substrate, and the applied curable composition is applied. Another substrate is stacked so as to be sandwiched, and then the curable composition is cured to produce a resin molded product. In the production method of the present invention, a mold having a pattern shape is used as at least one substrate, and the curable composition is applied to a mold having this pattern shape (hereinafter sometimes simply referred to as “mold”).

(硬化性組成物塗布工程)
上記硬化性組成物塗布工程は、パターン形状を有するモールドの硬化性組成物未塗布部分(すなわち、樹脂成型品を形成する硬化性組成物を塗布すべき部分であって塗布されていない部分)に、上記モールドに対する接触角が50°以下の硬化性組成物を、上記モールドに付着する際の上記硬化性組成物の微粒子の粒径が0.5mm以下となるように塗布する段階(「微粒子塗布段階」と称する場合がある)を含む。なお、本明細書において、モールドに付着する際の硬化性組成物の微粒子の粒径が0.5mm以下となるように塗布することを、「微粒子塗布」と称する場合がある。
(Curable composition application process)
The said curable composition application | coating process is a curable composition uncoated part (namely, part which should apply | coat the curable composition which forms a resin molded product, and is not apply | coated) of the mold which has a pattern shape The step of applying a curable composition having a contact angle of 50 ° or less to the mold so that the particle size of the curable composition when adhering to the mold is 0.5 mm or less (“particulate application”) Sometimes referred to as “stage”). In the present specification, the application so that the particle diameter of the fine particles of the curable composition when adhering to the mold is 0.5 mm or less may be referred to as “fine particle application”.

すなわち、上記微粒子塗布段階では、モールドに硬化性組成物を塗布する際、初めにモールドに塗布する、樹脂成型品を形成する硬化性組成物として上記モールドに対する接触角が50°以下の硬化性組成物を用い、付着時の硬化性組成物の微粒子の粒径が0.5mm以下となるように、パターン形状が付与された部分に塗布する。例えば、上記モールドに離型剤が塗布されている場合は離型剤が塗布されたモールドに、離型剤等が塗布されていない場合は上記モールド表面に、上記硬化性組成物の微粒子を塗布する。   That is, in the fine particle application step, when the curable composition is applied to the mold, the curable composition having a contact angle of 50 ° or less as the curable composition for forming a resin molded product is first applied to the mold. The product is applied to the portion to which the pattern shape has been applied so that the particle size of the fine particles of the curable composition at the time of adhesion is 0.5 mm or less. For example, when the mold release agent is applied to the mold, the mold with the mold release agent is applied. When the mold release agent is not applied, the mold surface is coated with the fine particles of the curable composition. To do.

上記硬化性組成物は、硬化して樹脂成型品を形成する組成物である。上記硬化性組成物は、上記モールドに対する接触角が50°以下である。これにより、モールドに対する硬化性組成物の濡れ性が高くなるため、パターン形状が微細な構造を有している場合であっても、微粒子塗布時にモールドに付着した際にはパターン形状に沿って硬化性組成物が濡れ広がりやすく、気泡が発生しにくい。上記接触角は、好ましくは45°以下、より好ましくは40°以下である。上記接触角は、公知乃至慣用の方法で測定することができる。   The said curable composition is a composition which hardens | cures and forms a resin molded product. The curable composition has a contact angle with respect to the mold of 50 ° or less. As a result, the wettability of the curable composition with respect to the mold increases, so that even when the pattern shape has a fine structure, it is cured along the pattern shape when attached to the mold during fine particle application. Property composition easily spreads and bubbles are not easily generated. The contact angle is preferably 45 ° or less, more preferably 40 ° or less. The contact angle can be measured by a known or common method.

微粒子塗布時の上記モールドに付着する際(より具体的には、付着する直前)の上記硬化性組成物の微粒子の粒径は、上述のように0.5mm以下であり、好ましくは0.1mm以下、より好ましくは0.05mm以下である。下限は、特に限定されないが、例えば0.001mmである。上記粒径を0.5mm以下とすることにより、硬化性組成物の微粒子の表面自由エネルギーを低下させることができる。そして、上記接触角が50°以下であることと組み合わせて、硬化性組成物とモールドとのなじみやすさが向上し、モールドに形成された微細なパターン形状の凹部先端に硬化性組成物が到達しやすく気泡の発生を抑制することができる。   The particle size of the fine particles of the curable composition at the time of adhering to the mold at the time of applying fine particles (more specifically, immediately before adhering) is 0.5 mm or less as described above, preferably 0.1 mm. Below, more preferably 0.05 mm or less. Although a minimum is not specifically limited, For example, it is 0.001 mm. By setting the particle size to 0.5 mm or less, the surface free energy of the fine particles of the curable composition can be reduced. In combination with the contact angle being 50 ° or less, the compatibility of the curable composition with the mold is improved, and the curable composition reaches the tip of the concave portion having a fine pattern shape formed in the mold. The generation of bubbles can be suppressed easily.

上記硬化性組成物の微粒子の粒径は、硬化性組成物の塗布に用いる装置(塗布装置)のノズル径(吐出口径)、吐出速度等により調節することができる。上記硬化性組成物を粒子状に断続的に塗布する場合、上記硬化性組成物の微粒子の粒径は、塗布装置のノズル径よりも小さくなる。例えば、断面直径が0.5mmのノズル径の塗布装置を用いて硬化性組成物を粒子状に断続的に塗布する場合、硬化性組成物の微粒子の粒径は0.5mm以下であると判断することができる。また、実際の微粒子の粒径を測定する方法としては、塗布装置から吐出された硬化性組成物の微粒子がモールドに着弾するまでの粒状の硬化性組成物を速いシャッタースピードで撮影し、撮影した画像から粒径を測定する方法が挙げられる。   The particle size of the fine particles of the curable composition can be adjusted by the nozzle diameter (discharge port diameter), the discharge speed, etc. of the apparatus (application apparatus) used for applying the curable composition. When the curable composition is intermittently applied in the form of particles, the particle size of the fine particles of the curable composition is smaller than the nozzle diameter of the coating apparatus. For example, when the curable composition is intermittently applied in the form of particles using a coating device having a nozzle diameter of 0.5 mm in cross section, the particle size of the fine particles of the curable composition is determined to be 0.5 mm or less. can do. In addition, as a method of measuring the particle size of the actual fine particles, the granular curable composition was shot at a high shutter speed until the fine particles of the curable composition discharged from the coating apparatus landed on the mold. A method for measuring the particle diameter from an image is mentioned.

微粒子塗布時の上記モールドに付着する際(より具体的には、付着する直前)の上記硬化性組成物の微粒子のアスペクト比は、特に限定されないが、0.1以上が好ましく、より好ましくは0.3以上である。上記アスペクト比が0.1以上であると、上記硬化性組成物の微粒子が球形により近くなり、硬化性組成物の微粒子の表面自由エネルギーをより低下させることができ、モールドに形成された微細形状の凹部先端に硬化性組成物が到達しやすく気泡の発生を抑制することができる。上記アスペクト比は、「横の長さ(短い方の長さ)/縦の長さ(長い方の長さ)」である。   The aspect ratio of the fine particles of the curable composition when adhering to the mold at the time of applying fine particles (more specifically, immediately before adhering) is not particularly limited, but is preferably 0.1 or more, more preferably 0. .3 or more. When the aspect ratio is 0.1 or more, the fine particles of the curable composition become closer to a sphere, the surface free energy of the fine particles of the curable composition can be further reduced, and the fine shape formed in the mold It is easy for the curable composition to reach the tip of the concave portion of the cavities, and the generation of bubbles can be suppressed. The aspect ratio is “horizontal length (shorter length) / vertical length (longer length)”.

上記アスペクト比は、微粒子塗布を行う塗布装置のノズル径(吐出口径)、吐出速度等により調節することができる。上記アスペクト比は、例えば、塗布装置から吐出された硬化性組成物の微粒子がモールドに着弾するまでの粒状の硬化性組成物を速いシャッタースピードで撮影し、撮影した画像から測定することができる。   The aspect ratio can be adjusted by a nozzle diameter (discharge port diameter), a discharge speed, and the like of a coating apparatus that performs fine particle coating. The aspect ratio can be measured from a photographed image of a granular curable composition until fine particles of the curable composition discharged from the coating apparatus land on the mold at a high shutter speed.

上記微粒子塗布の方法としては、スプレー塗布(スプレー噴霧)、エアーブラシ塗布(エアーブラシ噴霧)、超音波塗布(超音波噴霧)等が挙げられる。これらの塗布方法により塗布することにより、モールドに付着する際の微粒子の粒径が0.5mm以下(さらには、上記アスペクト比が0.1以上)となるように硬化性組成物を塗布することが容易となる。   Examples of the fine particle coating method include spray coating (spray spraying), air brush coating (air brush spraying), and ultrasonic coating (ultrasonic spraying). By applying by these application methods, the curable composition is applied so that the particle size of the fine particles when adhering to the mold is 0.5 mm or less (and the aspect ratio is 0.1 or more). Becomes easy.

上記微粒子塗布には、公知乃至慣用の塗布装置を用いることができる。上記塗布装置のノズル径(吐出口径)は、0.5mm以下が好ましく、より好ましくは0.1mm以下、さらに好ましくは0.05mm以下である。下限は、特に限定されないが、例えば0.001mmである。従って、上記微粒子塗布は、ノズル径が0.5mm以下のノズルから硬化性組成物を吐出して行うことが好ましい。   For the fine particle coating, a known or conventional coating apparatus can be used. The nozzle diameter (discharge port diameter) of the coating apparatus is preferably 0.5 mm or less, more preferably 0.1 mm or less, and still more preferably 0.05 mm or less. Although a minimum is not specifically limited, For example, it is 0.001 mm. Therefore, the fine particle coating is preferably performed by discharging the curable composition from a nozzle having a nozzle diameter of 0.5 mm or less.

上記微粒子塗布時の塗布速度(吐出速度)は、55ml/min以下が好ましく、より好ましくは30ml/min以下、さらに好ましくは10ml/min以下である。下限は、生産性の観点から例えば0.1ml/minである。上記塗布速度が55ml/min以下であると、硬化性組成物のモールドに対する濡れを制御でき、気泡の発生をより抑制することができる。   The application speed (discharge speed) at the time of applying the fine particles is preferably 55 ml / min or less, more preferably 30 ml / min or less, and still more preferably 10 ml / min or less. The lower limit is, for example, 0.1 ml / min from the viewpoint of productivity. When the coating speed is 55 ml / min or less, wetting of the curable composition with respect to the mold can be controlled, and generation of bubbles can be further suppressed.

上記硬化性組成物は、硬化性の化合物(硬化性化合物)を含有する。上記硬化性組成物としては、公知乃至慣用のインプリント成型に用いられる組成物を使用することができ、目的とする樹脂成型品の種類に応じて適宜選択される。上記硬化性化合物としては、例えば、カチオン硬化性化合物、ラジカル硬化性化合物、アニオン硬化性化合物等が挙げられる。上記カチオン硬化性化合物としては、例えば、エポキシ基を有する化合物(エポキシ化合物)、オキセタニル基を有する化合物(オキセタン化合物)、ビニルエーテル基を有する化合物(ビニルエーテル化合物)が挙げられ、好ましくはエポキシ化合物である。上記硬化性化合物は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。   The curable composition contains a curable compound (curable compound). As said curable composition, the composition used for well-known thru | or usual imprint molding can be used, According to the kind of the target resin molded product, it selects suitably. Examples of the curable compound include a cationic curable compound, a radical curable compound, and an anion curable compound. Examples of the cationic curable compound include an epoxy group-containing compound (epoxy compound), an oxetanyl group-containing compound (oxetane compound), and a vinyl ether group-containing compound (vinyl ether compound), and preferably an epoxy compound. The said curable compound may use only 1 type and may use 2 or more types.

上記エポキシ化合物としては、分子内に1以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、脂環式エポキシ化合物(脂環式エポキシ樹脂)、芳香族エポキシ化合物(芳香族エポキシ樹脂)、脂肪族エポキシ化合物(脂肪族エポキシ樹脂)等が挙げられる。   As said epoxy compound, the well-known thru | or usual compound which has 1 or more epoxy groups (oxirane ring) in a molecule | numerator can be used, Although it does not specifically limit, For example, an alicyclic epoxy compound (alicyclic epoxy resin) ), Aromatic epoxy compounds (aromatic epoxy resins), aliphatic epoxy compounds (aliphatic epoxy resins), and the like.

上記脂環式エポキシ化合物としては、分子内に1個以上の脂環と1個以上のエポキシ基とを有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、(1)分子内に脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(「脂環エポキシ基」と称する)を有する化合物;(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物;(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物(グリシジルエーテル型エポキシ化合物)等が挙げられる。   Examples of the alicyclic epoxy compound include known or conventional compounds having one or more alicyclic rings and one or more epoxy groups in the molecule, and are not particularly limited. For example, (1) A compound having an epoxy group (referred to as “alicyclic epoxy group”) composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic ring; (2) the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring by a single bond. (3) compounds having an alicyclic ring and a glycidyl ether group in the molecule (glycidyl ether type epoxy compound) and the like.

上記(1)分子内に脂環エポキシ基を有する化合物としては、下記式(i)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2018161862
As said (1) compound which has an alicyclic epoxy group in a molecule | numerator, the compound represented by following formula (i) is mentioned.
Figure 2018161862

上記式(i)中、Yは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基等が挙げられる。なお、式(i)におけるシクロヘキサン環(シクロヘキセンオキシド基)を構成する炭素原子の1以上には、アルキル基等の置換基が結合していてもよい。   In the above formula (i), Y represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include divalent hydrocarbon groups, alkenylene groups in which part or all of carbon-carbon double bonds are epoxidized, carbonyl groups, ether bonds, ester bonds, carbonate groups, amide groups, and the like. And a group in which a plurality of are connected. In addition, a substituent such as an alkyl group may be bonded to one or more carbon atoms constituting the cyclohexane ring (cyclohexene oxide group) in the formula (i).

上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等の二価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。   As said bivalent hydrocarbon group, a C1-C18 linear or branched alkylene group, a bivalent alicyclic hydrocarbon group, etc. are mentioned. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3-cyclopentylene group, And divalent cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as cyclohexylene group, 1,4-cyclohexylene group, and cyclohexylidene group.

上記炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1−ブテニレン基、2−ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2〜4のアルケニレン基である。   Examples of the alkenylene group in the alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as “epoxidized alkenylene group”) include, for example, a vinylene group, a propenylene group, and a 1-butenylene group. , A 2-butenylene group, a butadienylene group, a pentenylene group, a hexenylene group, a heptenylene group, an octenylene group, etc., and a linear or branched alkenylene group having 2 to 8 carbon atoms. In particular, the epoxidized alkenylene group is preferably an alkenylene group in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized, more preferably 2 to 4 carbon atoms in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized. Alkenylene group.

上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、(3,4,3’,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル、下記式(i−1)〜(i−10)で表される化合物等が挙げられる。なお、下記式(i−5)、(i−7)中のl、mは、それぞれ1〜30の整数を表す。下記式(i−5)中のR’は炭素数1〜8のアルキレン基であり、中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(i−9)、(i−10)中のn1〜n6は、それぞれ1〜30の整数を示す。また、上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物としては、その他、例えば、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタン、1,2−エポキシ−1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル等が挙げられる。

Figure 2018161862
Figure 2018161862
Representative examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (i) include (3,4,3 ′, 4′-diepoxy) bicyclohexyl, the following formulas (i-1) to (i-10). ) And the like. In the following formulas (i-5) and (i-7), l and m each represent an integer of 1 to 30. R ′ in the following formula (i-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and among them, a linear or branched chain having 1 to 3 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and an isopropylene group. -Like alkylene groups are preferred. N1-n6 in following formula (i-9) and (i-10) show the integer of 1-30, respectively. Other examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (i) include 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) propane and 1,2-bis (3,4-epoxycyclohexane). -1-yl) ethane, 1,2-epoxy-1,2-bis (3,4-epoxycyclohexane-1-yl) ethane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether and the like.
Figure 2018161862
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上述の(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記式(ii)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 2018161862
Examples of the compound (2) in which the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring with a single bond include compounds represented by the following formula (ii).
Figure 2018161862

式(ii)中、R"は、p価のアルコールの構造式からp個の水酸基(−OH)を除いた基(p価の有機基)であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R"(OH)p]としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール等の多価アルコール(炭素数1〜15のアルコール等)等が挙げられる。pは1〜6が好ましく、nは1〜30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの( )内(外側の括弧内)の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記式(ii)で表される化合物としては、具体的には、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)等]等が挙げられる。 In formula (ii), R ″ is a group (p-valent organic group) obtained by removing p hydroxyl groups (—OH) from the structural formula of a p-valent alcohol, and p and n each represent a natural number. Examples of the valent alcohol [R ″ (OH) p ] include polyhydric alcohols (such as alcohols having 1 to 15 carbon atoms) such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol. p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30. When p is 2 or more, n in each group in () (inside the outer parenthesis) may be the same or different. Specific examples of the compound represented by the above formula (ii) include 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol [for example, , Trade name “EHPE3150” (manufactured by Daicel Corporation), etc.].

上述の(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物としては、例えば、脂環式アルコール(特に、脂環式多価アルコール)のグリシジルエーテルが挙げられる。より詳しくは、例えば、2,2−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン、2,2−ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン等のビスフェノールA型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールA型エポキシ化合物);ビス[o,o−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[o,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[p,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン等のビスフェノールF型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールF型エポキシ化合物);水素化ビフェノール型エポキシ化合物;水素化フェノールノボラック型エポキシ化合物;水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;ビスフェノールAの水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;水素化ナフタレン型エポキシ化合物;トリスフェノールメタンから得られるエポキシ化合物の水素化エポキシ化合物;下記芳香族エポキシ化合物の水素化エポキシ化合物等が挙げられる。   Examples of the compound (3) having an alicyclic ring and a glycidyl ether group in the molecule include glycidyl ethers of alicyclic alcohols (particularly alicyclic polyhydric alcohols). More specifically, for example, 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] propane, 2,2-bis [3,5-dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy) Compound obtained by hydrogenating bisphenol A type epoxy compound such as cyclohexyl] propane (hydrogenated bisphenol A type epoxy compound); bis [o, o- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [o , P- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [p, p- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [3,5-dimethyl-4- (2, 3-epoxypropoxy) cyclohexyl] a compound obtained by hydrogenating a bisphenol F-type epoxy compound such as methane (hydrogenated bisphenol F-type epoxy compound); Hydrogenated phenol novolac epoxy compound; Hydrogenated cresol novolac epoxy compound; Hydrogenated cresol novolac epoxy compound of bisphenol A; Hydrogenated naphthalene epoxy compound; Epoxy compound obtained from trisphenolmethane Hydrogenated epoxy compounds; hydrogenated epoxy compounds of the following aromatic epoxy compounds and the like.

上記芳香族エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール類[例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール等]と、エピハロヒドリンとの縮合反応により得られるエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;これらのエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を上記ビスフェノール類とさらに付加反応させることにより得られる高分子量エピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フェノール類[例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等]とアルデヒド[例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等]とを縮合反応させて得られる多価アルコール類を、さらにエピハロヒドリンと縮合反応させることにより得られるノボラック・アルキルタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フルオレン環の9位に2つのフェノール骨格が結合し、かつこれらフェノール骨格のヒドロキシ基から水素原子を除いた酸素原子に、それぞれ、直接又はアルキレンオキシ基を介してグリシジル基が結合しているエポキシ化合物等が挙げられる。   Examples of the aromatic epoxy compound include epibis type glycidyl ether type epoxy resins obtained by condensation reaction of bisphenols [for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol and the like] and epihalohydrin; High molecular weight epibis type glycidyl ether type epoxy resin obtained by addition reaction of bis type glycidyl ether type epoxy resin with the above bisphenols; phenols [eg, phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, etc.] and aldehyde [eg, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, salicy A novolak alkyl type glycidyl ether type epoxy resin obtained by further condensing a polyhydric alcohol obtained by a condensation reaction with an aldehyde etc. with an epihalohydrin; two phenol skeletons are bonded to the 9-position of the fluorene ring. In addition, an epoxy compound in which a glycidyl group is bonded to an oxygen atom obtained by removing a hydrogen atom from the hydroxy group of the phenol skeleton, either directly or via an alkyleneoxy group.

上記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、q価の環状構造を有しないアルコール(qは自然数である)のグリシジルエーテル;一価又は多価カルボン酸[例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ステアリン酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸等]のグリシジルエステル;エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化大豆油、エポキシ化ひまし油等の二重結合を有する油脂のエポキシ化物;エポキシ化ポリブタジエン等のポリオレフィン(ポリアルカジエンを含む)のエポキシ化物等が挙げられる。なお、上記q価の環状構造を有しないアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール等の一価のアルコール;エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の二価のアルコール;グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール等の三価以上の多価アルコール等が挙げられる。また、q価のアルコールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール等であってもよい。   Examples of the aliphatic epoxy compound include a glycidyl ether of an alcohol having no q-valent cyclic structure (q is a natural number); a monovalent or polyvalent carboxylic acid [for example, acetic acid, propionic acid, butyric acid, stearic acid, Adipic acid, sebacic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.] glycidyl ester; epoxidized oils and fats having double bonds such as epoxidized linseed oil, epoxidized soybean oil, epoxidized castor oil; polyolefins such as epoxidized polybutadiene (poly Epoxidized product of alkadiene). Examples of the alcohol having no q-valent cyclic structure include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol, and 1-butanol; ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1 , 3-propanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and other dihydric alcohols; Examples include trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, diglycerin, erythritol, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and sorbitol. That. The q-valent alcohol may be polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polyolefin polyol, or the like.

上記オキセタン化合物としては、分子内に1以上のオキセタン環を有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、3,3−ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(ヒドロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−[(フェノキシ)メチル]オキセタン、3−エチル−3−(ヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(クロロメチル)オキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)オキセタン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1−エチル(3−オキセタニル)]メチル}エーテル、4,4'−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビシクロヘキシル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]シクロヘキサン、1,4−ビス{〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ〕メチル}ベンゼン、3−エチル−3−{〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕メチル)}オキセタン、キシリレンビスオキセタン、3−エチル−3−{[3−(トリエトキシシリル)プロポキシ]メチル}オキセタン、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン等が挙げられる。   Examples of the oxetane compound include known or commonly used compounds having one or more oxetane rings in the molecule, and are not particularly limited. For example, 3,3-bis (vinyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (Hydroxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-[(phenoxy) methyl] oxetane, 3-ethyl-3- (hexyloxymethyl) oxetane, 3- Ethyl-3- (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, bis {[1-ethyl (3- Oxetanyl)] methyl} ether, 4,4′-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] bisi Chlohexyl, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] cyclohexane, 1,4-bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, 3-ethyl-3- {[(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl)} oxetane, xylylene bisoxetane, 3-ethyl-3-{[3- (triethoxysilyl) propoxy] methyl} oxetane, oxetanylsilsesquioxane And phenol novolac oxetane.

上記ビニルエーテル化合物としては、分子内に1以上のビニルエーテル基を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル(エチレングリコールモノビニルエーテル)、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1−メチル−3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−メチル−2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,8−オクタンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、p−キシレングリコールモノビニルエーテル、p−キシレングリコールジビニルエーテル、m−キシレングリコールモノビニルエーテル、m−キシレングリコールジビニルエーテル、o−キシレングリコールモノビニルエーテル、o−キシレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールジビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールジビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールジビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールジビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールジビニルエーテル、イソソルバイドジビニルエーテル、オキサノルボルネンジビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、ビスフェノールFジビニルエーテル、ヒドロキシオキサノルボルナンメタノールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。   The vinyl ether compound may be a known or conventional compound having one or more vinyl ether groups in the molecule, and is not particularly limited. For example, 2-hydroxyethyl vinyl ether (ethylene glycol monovinyl ether), 3-hydroxy Propyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxyisopropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxyisobutyl vinyl ether, 2-hydroxyisobutyl vinyl ether, 1-methyl-3 -Hydroxypropyl vinyl ether, 1-methyl-2-hydroxypropyl vinyl ether, 1-hydroxymethylpropyl vinyl ether 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 1,6-hexanediol monovinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, 1,8-octanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,4-cyclohexanedi Methanol divinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol divinyl ether, p-xylene glycol monovinyl ether P-xylene glycol divinyl ether, m-xylene glycol monovinyl ether, m-xylene glycol divinyl ether, o-xy Glycol monovinyl ether, o-xylene glycol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, penta Ethylene glycol monovinyl ether, pentaethylene glycol divinyl ether, oligoethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol monovinyl ether, dipropylene glycol Coal divinyl ether, tripropylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, tetrapropylene glycol monovinyl ether, tetrapropylene glycol divinyl ether, pentapropylene glycol monovinyl ether, pentapropylene glycol divinyl ether, oligopropylene glycol monovinyl ether, oligopropylene glycol di Vinyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, polypropylene glycol divinyl ether, isosorbide divinyl ether, oxanorbornene divinyl ether, phenyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, ha Droquinone divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, bisphenol A divinyl ether, bisphenol F divinyl ether, hydroxyoxanorbornane methanol divinyl ether, 1, Examples include 4-cyclohexanediol divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, and dipentaerythritol hexavinyl ether.

上記硬化性組成物中の硬化性化合物(特に、エポキシ化合物)の含有量は、特に限定されないが、硬化性組成物の総量(100重量%)に対して、10〜95重量%が好ましく、より好ましくは15〜90重量%、さらに好ましくは20〜85重量%である。上記含有量が10重量%以上であると、硬化性組成物の硬化性、樹脂成型品の耐熱性、耐光性、及び透明性に優れる傾向がある。   Although content of the curable compound (especially epoxy compound) in the said curable composition is not specifically limited, 10-95 weight% is preferable with respect to the total amount (100 weight%) of a curable composition, More Preferably it is 15 to 90 weight%, More preferably, it is 20 to 85 weight%. When the content is 10% by weight or more, the curability of the curable composition, the heat resistance, light resistance, and transparency of the resin molded product tend to be excellent.

上記硬化性組成物は、上記硬化性化合物と共に光重合開始剤を含有することが好ましく、特に光カチオン重合開始剤を含有することが好ましい。光カチオン重合開始剤は、光の照射によって酸を発生して、硬化性組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)の硬化反応を開始させる化合物であり、光を吸収するカチオン部と酸の発生源となるアニオン部からなる。   The curable composition preferably contains a photopolymerization initiator together with the curable compound, and particularly preferably contains a photocationic polymerization initiator. A cationic photopolymerization initiator is a compound that generates an acid upon irradiation with light and initiates a curing reaction of a curable compound (particularly a cationic curable compound) contained in the curable composition, and absorbs light. Part and an anion part which is a source of acid.

上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩系化合物、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物、ホスホニウム塩系化合物、セレニウム塩系化合物、オキソニウム塩系化合物、アンモニウム塩系化合物、臭素塩系化合物等が挙げられる。本発明においては、中でも、スルホニウム塩系化合物を使用することが、硬化性に優れた樹脂成型品を形成することができる点で好ましい。   Examples of the photocationic polymerization initiator include diazonium salt compounds, iodonium salt compounds, sulfonium salt compounds, phosphonium salt compounds, selenium salt compounds, oxonium salt compounds, ammonium salt compounds, bromine salt compounds. Etc. In the present invention, it is particularly preferable to use a sulfonium salt compound in that a resin molded product having excellent curability can be formed.

上記スルホニウム塩系化合物のカチオン部としては、例えば、トリフェニルスルホニウムイオン、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムイオン、トリ−p−トリルスルホニウムイオン、(4−ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウムイオン、4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル−4−ビフェニリルフェニルスルホニウムイオン等のアリールスルホニウムイオン(特に、トリアリールスルホニウムイオン)が挙げられる。   Examples of the cation moiety of the sulfonium salt compound include triphenylsulfonium ion, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium ion, tri-p-tolylsulfonium ion, (4-hydroxyphenyl) methylbenzylsulfonium ion, 4 Examples include arylsulfonium ions (particularly triarylsulfonium ions) such as-(4-biphenylylthio) phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium ions.

上記アニオン部としては、例えば、[(X)sB(Phf)4-s-(式中、Xはフェニル基又はビフェニリル基を示す。Phfは水素原子の少なくとも1つが、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも1種で置換されたフェニル基を示す。sは0〜3の整数である)、BF4 -、[(Rf)nPF6-n-(Rf:水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基、n:0〜5の整数)、AsF6 -、SbF6 -、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネート等が挙げられる。 As the anion moiety, for example, [(X) s B (Phf) 4-s ] (wherein X represents a phenyl group or a biphenylyl group. Phf is a perfluoroalkyl group, at least one of hydrogen atoms is A perfluoroalkoxy group and a phenyl group substituted with at least one selected from the group consisting of halogen atoms, s is an integer of 0 to 3), BF 4 , [(Rf) n PF 6−; n ] (Rf: an alkyl group in which 80% or more of hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms, n: an integer of 0 to 5), AsF 6 , SbF 6 , pentafluorohydroxyantimonate and the like.

上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、(4−ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル−4−ビフェニリルフェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、[4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル]−4−ビフェニリルフェニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル−4−ビフェニリルフェニルスルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、[4−(2−チオキサントニルチオ)フェニル]フェニル−2−チオキサントニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、商品名「サイラキュアUVI−6970」、「サイラキュアUVI−6974」、「サイラキュアUVI−6990」、「サイラキュアUVI−950」(以上、米国ユニオンカーバイド社製)、「イルガキュア250」、「イルガキュア261」、「イルガキュア264」(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、「SP−150」、「SP−151」、「SP−170」、「オプトマーSP−171」(以上、(株)ADEKA製)、「CG−24−61」(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、「DAICAT II」((株)ダイセル製)、「UVAC1590」、「UVAC1591」(以上、ダイセル・サイテック(株)製)、「CI−2064」、「CI−2639」、「CI−2624」、「CI−2481」、「CI−2734」、「CI−2855」、「CI−2823」、「CI−2758」、「CIT−1682」(以上、日本曹達(株)製)、「PI−2074」(ローディア社製、テトラキス(ペンタフルオロフェニルボレート)トルイルクミルヨードニウム塩)、「FFC509」(3M社製)、「BBI−102」、「BBI−101」、「BBI−103」、「MPI−103」、「TPS−103」、「MDS−103」、「DTS−103」、「NAT−103」、「NDS−103」(以上、ミドリ化学(株)製)、「CD−1010」、「CD−1011」、「CD−1012」(以上、米国、Sartomer社製)、「CPI−100P」、「CPI−101A」、「CPI−200K」(以上、サンアプロ(株)製)等の市販品を使用できる。   Examples of the photocationic polymerization initiator include (4-hydroxyphenyl) methylbenzylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 4- (4-biphenylylthio) phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl). ) Borate, 4- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium phenyltris (pentafluorophenyl) borate, [4- (4-biphenylylthio) phenyl] -4-biphenylylphenylsulfonium phenyltris (pentafluorophenyl) borate, diphenyl [ 4- (phenylthio) phenyl] sulfonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium tetraki (Pentafluorophenyl) borate, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluorophosphate, 4- (4-biphenylylthio) phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate, bis [ 4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide phenyltris (pentafluorophenyl) borate, [4- (2-thioxanthonylthio) phenyl] phenyl-2-thioxanthonylsulfonium phenyltris (pentafluorophenyl) borate, commodity Names “Syracure UVI-6970”, “Syracure UVI-6974”, “Syracure UVI-6990”, “Syracure UVI-950” (above, Union Carbide, USA) "Irgacure 250", "Irgacure 261", "Irgacure 264" (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), "SP-150", "SP-151", "SP-170", "Optomer SP-171" (Above, manufactured by ADEKA Corporation), "CG-24-61" (produced by Ciba Specialty Chemicals), "DAICAT II" (produced by Daicel Corporation), "UVAC1590", "UVAC1591" (above, Manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd.), “CI-2064”, “CI-2639”, “CI-2624”, “CI-2481”, “CI-2734”, “CI-2855”, “CI-2823” , “CI-2758”, “CIT-1682” (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), “PI-2074” (manufactured by Rhodia, Tetra) (Pentafluorophenylborate) tolylcumyl iodonium salt), “FFC509” (manufactured by 3M), “BBI-102”, “BBI-101”, “BBI-103”, “MPI-103”, “TPS-” 103 "," MDS-103 "," DTS-103 "," NAT-103 "," NDS-103 "(manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.)," CD-1010 "," CD-1011 "," Commercial products such as “CD-1012” (manufactured by Sartomer, USA), “CPI-100P”, “CPI-101A”, and “CPI-200K” (manufactured by San Apro Co., Ltd.) can be used.

上記光重合開始剤は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。その使用量(配合量)は、硬化性組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)100重量部に対して、0.01〜15重量部が好ましく、より好ましくは0.05〜10重量部、さらに好ましくは0.1〜5重量部である。光重合開始剤を上記範囲内で使用することにより、硬化性、耐熱性、耐光性、透明性、光学特性等に優れた樹脂成型品を得ることができる。   Only 1 type may be used for the said photoinitiator, and 2 or more types may be used for it. The use amount (blending amount) is preferably 0.01 to 15 parts by weight, more preferably 0.05 to 100 parts by weight of the curable compound (particularly cationic curable compound) contained in the curable composition. -10 parts by weight, more preferably 0.1-5 parts by weight. By using the photopolymerization initiator within the above range, a resin molded product having excellent curability, heat resistance, light resistance, transparency, optical properties and the like can be obtained.

上記硬化性組成物は、上記硬化性化合物、上記光重合開始剤、及び必要に応じて他の成分(例えば、溶剤、酸化防止剤、光増感剤、消泡剤、レベリング剤、カップリング剤、界面活性剤、難燃剤、紫外線吸収剤、着色剤等)を混合することによって製造することができる。上記硬化性組成物として、例えば、商品名「CELVENUS OUH106」((株)ダイセル製)等の市販品を使用することもできる。   The curable composition includes the curable compound, the photopolymerization initiator, and other components as necessary (for example, a solvent, an antioxidant, a photosensitizer, an antifoaming agent, a leveling agent, a coupling agent). , Surfactants, flame retardants, ultraviolet absorbers, colorants, etc.). As said curable composition, commercial items, such as a brand name "CELVENUS OUH106" (made by Daicel Corporation), can also be used, for example.

上記モールドは、樹脂成型品に所望の形状を付与するための、当該形状に対応する逆凹凸形状のパターン形状(所望の樹脂成型品の反転形状)が付与されている。上記モールドは、樹脂成型品を形成する硬化性組成物のモールドに対する接触角が50°以下であればよいが、樹脂製であることが好ましい。上記モールドを形成する樹脂としては、上記硬化性組成物の接触角、硬化後の樹脂成型品の剥離性等を考慮して選択され、例えば、シリコーン系樹脂(ジメチルポリシロキサン等)、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ環状オレフィン等)、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂(ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリアミド系樹脂、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。上記樹脂としては、中でも、シリコーン系樹脂が好ましい。シリコーン系樹脂を用いると、エポキシ化合物を含む硬化性組成物との相性に優れ、上記接触角が小さくなりやすい傾向がある。また、樹脂成型品の離型性及びモールドの柔軟性にも優れるため、樹脂成型品をより容易に取り出すことができる。   The mold is provided with a reverse concave / convex pattern shape (inverted shape of the desired resin molded product) corresponding to the shape for giving the resin molded product a desired shape. Although the said mold should just have a contact angle with respect to the mold of the curable composition which forms a resin molded product, it is preferable that it is resin. The resin for forming the mold is selected in consideration of the contact angle of the curable composition, the peelability of the molded resin product after curing, and the like, for example, a silicone resin (dimethylpolysiloxane, etc.), a fluorine resin , Polyolefin resins (polyethylene, polypropylene, polycyclic olefins, etc.), polyethersulfone resins, polycarbonate resins, polyester resins (polyarylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyamide resins, polymethyl methacrylate, etc. Can be mentioned. Among these resins, silicone resins are preferable. When a silicone resin is used, it is excellent in compatibility with a curable composition containing an epoxy compound, and the contact angle tends to be small. Moreover, since it is excellent also in the mold release property of a resin molded product, and the softness | flexibility of a mold, a resin molded product can be taken out more easily.

上記モールドは、市販品を用いてもよいし、製造したものを用いてもよい。モールドを製造する場合、例えば、モールドを形成する樹脂組成物を成型(好ましくは、インプリント成型)し、その後熱硬化させることにより製造することができる。樹脂組成物の成型には、所望の凹凸形状を有する金型を使用することができ、例えば、下記(1)、(2)の方法で製造することができる。
(1)基板上に塗布した樹脂組成物の塗膜に対し、金型を押し付け、樹脂組成物の塗膜を硬化させたうえで、金型を剥離する方法
(2)金型に対し樹脂組成物を直接塗工し、その上から基板を密着させた後、樹脂組成物の塗膜を硬化させたうえで、金型を剥離する方法
A commercial item may be used for the above-mentioned mold, and what was manufactured may be used for it. In the case of producing a mold, for example, it can be produced by molding (preferably imprint molding) a resin composition forming the mold and then thermosetting. For molding the resin composition, a mold having a desired concavo-convex shape can be used, and for example, it can be produced by the following methods (1) and (2).
(1) A method in which a mold is pressed against a coating film of a resin composition applied on a substrate and the coating film of the resin composition is cured, and then the mold is peeled off. (2) A resin composition with respect to the mold A method of peeling a mold after applying a product directly, adhering a substrate from the top, and curing a coating film of a resin composition

上記モールドは、パターン形状の少なくとも一部に離型剤が塗布されていてもよい。上記微粒子塗布の前にモールドに離型剤が塗布されていると、形成された樹脂成型品をモールドから取り出す(離型する)際に容易に離型することができる。この場合、通常は離型層も同時にモールドから離型するため、得られる樹脂成型品は、表面に離型層を少なくとも1層有することとなる。   The mold may have a release agent applied to at least a part of the pattern shape. If the mold release agent is applied to the mold before the fine particle application, the formed resin molded product can be easily released from the mold (released). In this case, since the release layer is usually released from the mold at the same time, the obtained resin molded product has at least one release layer on the surface.

上記離型剤としては、例えば、フッ素系離型剤、シリコーン系離型剤、ワックス系離型剤等が挙げられる。上記離型剤は、1種を使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。上記離型剤の塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、スクリーン印刷法等が挙げられる。   Examples of the release agent include a fluorine release agent, a silicone release agent, and a wax release agent. The said mold release agent may use 1 type and may use 2 or more types. Examples of the method for applying the release agent include spraying, spin coating, and screen printing.

上記硬化性組成物塗布工程において、上記微粒子塗布は、少なくともパターン形状の全体に硬化性組成物の塗布膜ができていることを目視で確認できるまで行うことが好ましい。また、上記微粒子塗布は、樹脂成型品を形成するための硬化性組成物の全量を塗布するまで行ってもよいが、生産性の観点から、パターン形状の全体に硬化性組成物の塗布膜ができていることを目視で確認できるまで上記微粒子塗布を行った後、樹脂成型品を形成するための硬化性組成物の残りの全量を、微粒子塗布段階でモールドに塗布された硬化性組成物に付着する際の硬化性組成物の粒径が0.1mmを超えるように塗布することが好ましい。すなわち、上記硬化性組成物塗布工程は、上記微粒子塗布段階の後に、上記モールドに塗布された硬化性組成物に付着する際の上記硬化性組成物の粒径が0.1mmを超えるように上記硬化性組成物を上記モールドに塗布する段階を含むことが好ましい。なお、本明細書において、硬化性組成物の粒径が0.1mmを超えるように塗布することを、「微粒子塗布」に対して「通常塗布」と称する場合がある。   In the curable composition coating step, the fine particle coating is preferably performed until it can be visually confirmed that a coating film of the curable composition is formed on at least the entire pattern shape. The fine particle application may be performed until the entire amount of the curable composition for forming the resin molded product is applied, but from the viewpoint of productivity, the coating film of the curable composition is formed on the entire pattern shape. After performing the above-mentioned fine particle coating until it can be confirmed visually, the remaining total amount of the curable composition for forming a resin molded product is applied to the curable composition applied to the mold in the fine particle coating stage. It is preferable to apply so that the particle size of the curable composition when adhering exceeds 0.1 mm. That is, in the curable composition coating step, the particle size of the curable composition when adhering to the curable composition coated on the mold is greater than 0.1 mm after the fine particle coating step. It is preferable to include a step of applying a curable composition to the mold. In the present specification, coating so that the particle size of the curable composition exceeds 0.1 mm may be referred to as “normal coating” with respect to “fine particle coating”.

上記通常塗布は、公知乃至慣用の塗布方法により行うことができる。上記通常塗布としては、例えば、スピンコート塗布、ロールコート塗布、スプレー塗布、ディスペンスコート、ディップコート、インクジェット塗布等が挙げられる。   The normal coating can be performed by a known or common coating method. Examples of the normal coating include spin coating, roll coating, spray coating, dispensing coating, dip coating, and inkjet coating.

上記硬化性組成物塗布工程では、上記微粒子塗布、及びその後必要に応じて上記通常塗布を行うことにより、パターン形状に硬化性組成物が塗布(充填)されたモールドが得られる。   In the curable composition application step, the mold in which the curable composition is applied (filled) in a pattern shape is obtained by applying the fine particles and then applying the normal application as necessary.

(脱泡工程)
本発明の製造方法は、上記硬化性組成物塗布工程後に、塗布された硬化性組成物中の気泡を脱泡する工程(脱泡工程)を有していてもよい。本発明の製造方法において上記硬化性組成物塗布工程では、硬化性組成物中の気泡の発生はかなり抑制されるが、上記脱泡工程により、わずかに発生した気泡を抜くことができる。
(Defoaming process)
The manufacturing method of this invention may have the process (defoaming process) of defoaming the bubble in the apply | coated curable composition after the said curable composition application | coating process. In the production method of the present invention, in the curable composition coating step, the generation of bubbles in the curable composition is considerably suppressed, but the slightly generated bubbles can be removed by the defoaming step.

上記脱泡は、公知乃至慣用の脱泡方法により行うことができ、減圧による脱泡(減圧脱泡、真空脱泡)が好ましい。上記減圧脱泡は、例えば、上記硬化性組成物が充填されたモールドを、圧力0.1〜20kPaの環境下に1〜10分間静置して行うことができる。   The defoaming can be performed by a known or conventional defoaming method, and defoaming by reduced pressure (vacuum defoaming, vacuum defoaming) is preferable. The vacuum degassing can be performed, for example, by leaving the mold filled with the curable composition in an environment of pressure 0.1 to 20 kPa for 1 to 10 minutes.

(型閉じ工程)
上記硬化性組成物塗布工程(必要に応じて、脱泡工程)を経て得られた上記硬化性組成物が塗布(充填)されたモールドを、塗布された硬化性組成物を挟み込むように他の基板と重ね合わせる工程(型閉じ工程)を行う。すなわち、上記硬化性組成物が塗布されたモールドと上記他の基板とを、それぞれ、上型と下型として用い、硬化性化合物を挟み込むようにして上型及び下型の型閉じ工程を行う。この際、どちらが上型又は下型であってもよい。
(Mold closing process)
The mold coated with (filled with) the curable composition obtained through the curable composition coating step (if necessary, the defoaming step) is placed in another manner so as to sandwich the coated curable composition. A process of superimposing on the substrate (mold closing process) is performed. That is, the mold closing process of the upper mold and the lower mold is performed using the mold coated with the curable composition and the other substrate as the upper mold and the lower mold, respectively, and sandwiching the curable compound. At this time, either may be an upper mold or a lower mold.

上記他の基板としては、パターン形状を有するモールド(上記微粒子塗布を行ったモールドとは異なる他のモールド)であってもよく、パターン形状を有しない基板(平面基板)であってもよい。例えば、一方の面のみに凹凸形状を有する樹脂成型品を製造する場合は上記他の基板として上記平面基板を用いることができ、両面に凹凸形状を有する樹脂成型品を製造する場合は上記他の基板として上記他のモールドを用いることができる。   The other substrate may be a mold having a pattern shape (another mold different from the mold on which the fine particle is applied) or a substrate having no pattern shape (a planar substrate). For example, when manufacturing a resin molded product having a concavo-convex shape on only one surface, the flat substrate can be used as the other substrate, and when manufacturing a resin molded product having a concavo-convex shape on both sides, the other The other mold can be used as the substrate.

上記他のモールドとしては、上述の微粒子塗布を行うモールドと同様のものを用いることができる。上記の2つのモールドは、異なる材料から形成されていてもよいし、同じ材料から形成されていてもよい。また、上記の2つのモールドは、同じパターン形状を有していてもよいし、異なるパターン形状を有していてもよい。   As said other mold, the thing similar to the mold which performs the above-mentioned fine particle application | coating can be used. The two molds described above may be formed of different materials or may be formed of the same material. Moreover, said two molds may have the same pattern shape and may have a different pattern shape.

上記平面基板としては、例えば、ガラス板;シリコン、ガリウム砒素、窒化ガリウム等の半導体;ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン等の樹脂基板;金属基板;これらの材料の組み合わせ等が挙げられる。上記平面基板は、微細配線、結晶構造、光導波路、ホログラフィ等の光学的構造等のパターン構造物を有していてもよい。   Examples of the planar substrate include a glass plate; a semiconductor such as silicon, gallium arsenide, and gallium nitride; a resin substrate such as polycarbonate, polypropylene, and polyethylene; a metal substrate; and a combination of these materials. The planar substrate may have a pattern structure such as an optical structure such as a fine wiring, a crystal structure, an optical waveguide, or holography.

上記他の基板には、硬化性組成物が塗布されていてもよいし、塗布されていなくてもよい。上記他の基板に硬化性組成物が塗布されている場合、微粒子塗布を行う上記硬化性組成物塗布工程(必要に応じて、脱泡工程)を経て硬化性組成物が塗布(充填)された基板を用いてもよい。特に、上記他の基板としてモールドを用いる場合(すなわち、両面に凹凸形状を有する樹脂成型品を製造する場合)、上記他の基板としてのモールドは、微粒子塗布段階を含む上記硬化性組成物塗布工程(必要に応じて、脱泡工程)を経て硬化性組成物が塗布(充填)されたモールドを用いることが好ましい。上記他の基板として硬化性組成物が塗布された基板を用いる場合、上記型閉じ工程は、硬化性組成物同士が接触するように上型と下型とを重ね合わせる。   The curable composition may or may not be applied to the other substrate. When the curable composition is applied to the other substrate, the curable composition is applied (filled) through the curable composition application step (defoaming step, if necessary) for applying fine particles. A substrate may be used. In particular, when a mold is used as the other substrate (that is, when a resin molded product having an uneven shape on both sides is produced), the mold as the other substrate includes the fine particle application step. It is preferable to use a mold coated (filled) with the curable composition through (if necessary, a defoaming step). When using the board | substrate with which the curable composition was apply | coated as said other board | substrate, the said mold closing process overlaps an upper mold | type and a lower mold | type so that curable compositions may contact.

(プレス工程)
本発明の製造方法は、上記型閉じ工程後、上型の上部からプレスする工程(プレス工程)を有していてもよい。これにより、上型と下型の密着度を高め、また、厚みバラツキを防止することができる。プレスする際の圧力は、例えば、0.01〜100MPaである。
(Pressing process)
The manufacturing method of this invention may have the process (press process) pressed from the upper part of an upper mold | type after the said mold closing process. Thereby, the adhesion degree of an upper mold | type and a lower mold | type can be improved, and thickness variation can be prevented. The pressure at the time of pressing is, for example, 0.01 to 100 MPa.

(硬化工程)
上記硬化工程では、上記モールドに塗布(充填)された硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る。具体的には、上記硬化性組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)の重合反応を進行させることにより、該硬化性組成物を硬化させることができる。硬化の方法は、周知乃至慣用の方法より適宜選択でき、特に限定されないが、例えば、活性エネルギー線の照射、及び/又は、加熱する方法が挙げられる。上記活性エネルギー線としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、γ線等のいずれを使用することもできる。中でも、取り扱い性に優れる点で、紫外線が好ましい。
(Curing process)
In the curing step, the curable composition applied (filled) to the mold is cured to obtain a resin molded product. Specifically, the curable composition can be cured by advancing a polymerization reaction of a curable compound (particularly a cationic curable compound) contained in the curable composition. The curing method can be appropriately selected from well-known or conventional methods, and is not particularly limited, and examples thereof include a method of irradiation with active energy rays and / or heating. As the active energy ray, for example, any of infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, electron beams, α rays, β rays, γ rays and the like can be used. Among these, ultraviolet rays are preferable in terms of excellent handleability.

紫外線照射を行う際の光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯等が用いられる。照射時間は、光源の種類、光源と塗布面との距離、その他の条件により異なるが、長くとも数十秒である。照度は、例えば5〜200mW/cm2程度である。活性エネルギー線照射後は、必要に応じて加熱(ポストキュア)を行って硬化の促進を図ってもよい。 A high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like is used as a light source when performing ultraviolet irradiation. Although the irradiation time varies depending on the type of light source, the distance between the light source and the coating surface, and other conditions, it is several tens of seconds at the longest. Illuminance is, for example, about 5 to 200 mW / cm 2 . After active energy ray irradiation, curing may be promoted by heating (post-cure) as necessary.

上記硬化工程を経て、硬化性組成物が硬化し、樹脂成型品を得ることができる。上記硬化工程後、上型と下型とを開き、モールドから樹脂成型品を取り出すことができる。   Through the curing step, the curable composition is cured and a resin molded product can be obtained. After the curing step, the upper mold and the lower mold are opened, and the resin molded product can be taken out from the mold.

図1は、本発明の製造方法の一実施形態を示す工程図である。図1に示す本発明の製造方法は、パターン形状を有するモールドの硬化性組成物未塗布部分に、上記モールドに対する接触角が50°以下の硬化性組成物を、上記モールドに付着する際の上記硬化性組成物の微粒子の粒径が0.5mm以下となるように塗布する微粒子塗布段階を含む硬化性組成物塗布工程S1、塗布された硬化性組成物中の気泡を脱泡する脱泡工程S2、上記硬化性組成物が塗布(充填)されたモールドを、塗布された硬化性組成物を挟み込むように他の基板と重ね合わせる型閉じ工程S3、上型の上部からプレスするプレス工程S4、及び上記モールドに塗布された上記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程S5を、この順に有する。   FIG. 1 is a process diagram showing an embodiment of the production method of the present invention. In the production method of the present invention shown in FIG. 1, the curable composition having a contact angle with respect to the mold of 50 ° or less is attached to the mold on the mold-uncoated portion of the mold having a pattern shape. Curable composition application step S1 including a fine particle application step of applying the fine particles of the curable composition so that the particle diameter thereof is 0.5 mm or less, and a defoaming step of defoaming bubbles in the applied curable composition S2, a mold closing step S3 in which the mold coated (filled) with the curable composition is overlapped with another substrate so as to sandwich the applied curable composition, a pressing step S4 for pressing from the upper part of the upper mold, And a curing step S5 for curing the curable composition applied to the mold to obtain a resin molded product in this order.

本発明の製造方法により得られる樹脂成型品は、例えば、レンズ、プリズム、LED、有機EL素子、半導体レーザー、トランジスタ、太陽電池、CCDイメージセンサ、光導波路、光ファイバー、代替ガラス(例えば、ディスプレイ用基板、ハードディスク基板、偏光フィルム)等の光学部品として好ましく使用することができる。   The resin molded product obtained by the production method of the present invention is, for example, a lens, a prism, an LED, an organic EL element, a semiconductor laser, a transistor, a solar cell, a CCD image sensor, an optical waveguide, an optical fiber, an alternative glass (for example, a display substrate) , Hard disk substrate, polarizing film) and the like can be preferably used.

上記光学部品として、例えばレンズを製造する際は、マイクロレンズアレイ[例えば、複数のマイクロレンズが縦横方向に、行列状に並置された形状を有する構造体]として得てもよい。即ち、上記モールドは、マイクロレンズアレイの形状に対応するパターン形状を有することが好ましい。   When manufacturing a lens as the optical component, for example, a microlens array [for example, a structure having a shape in which a plurality of microlenses are arranged in a matrix in the vertical and horizontal directions] may be obtained. That is, the mold preferably has a pattern shape corresponding to the shape of the microlens array.

光学部品のサイズとしては、例えば光学部品がマイクロレンズアレイの場合、マイクロレンズ1個のサイズは、直径が例えば0.01〜100mm程度、厚みが例えば0.1〜2.0mm程度である。また、マイクロレンズアレイにおけるピッチ幅は、例えば10〜1000μm程度である。   As the size of the optical component, for example, when the optical component is a microlens array, the size of one microlens is about 0.01 to 100 mm in diameter and about 0.1 to 2.0 mm in thickness, for example. The pitch width in the microlens array is, for example, about 10 to 1000 μm.

上記光学部品としては、特に、フレネルレンズアレイであることが好ましい。なお、フレネルレンズとは、図2に示すように、表面にレンズ面1と、該レンズ面と相対する非レンズ面2によって構成されるプリズムであって、断面が山形形状であるプリズムが複数個形成されているレンズである。レンズ面1と基準面3のなす角θは、中心に向かっていくに従い、連続的に角度が小さく(又は大きく)なっており、レンズ面1のみを連続すると、1つの凸レンズ(または凹レンズ)を形成する(図3参照)。フレネルレンズアレイを成型するためのモールドは図2及び3に示すように凹凸形状が細かいため、硬化性組成物の塗布時に特に気泡が発生しやすい。しかし、本発明の樹脂成型品の製造方法は、フレネルレンズアレイのような特に微細な凹凸形状を有する樹脂成型品を製造するためのモールドに対しても塗布時の気泡の発生を抑制することができる。   In particular, the optical component is preferably a Fresnel lens array. As shown in FIG. 2, the Fresnel lens is a prism composed of a lens surface 1 on the surface and a non-lens surface 2 opposite to the lens surface, and a plurality of prisms having a cross section in a mountain shape. It is a formed lens. The angle θ formed by the lens surface 1 and the reference surface 3 continuously decreases (or increases) toward the center. When only the lens surface 1 is continuous, one convex lens (or concave lens) is formed. Form (see FIG. 3). Since the mold for molding the Fresnel lens array has fine irregularities as shown in FIGS. 2 and 3, bubbles are particularly likely to be generated when the curable composition is applied. However, the method for producing a resin molded product of the present invention can suppress the generation of bubbles during application even to a mold for producing a resin molded product having a particularly fine uneven shape such as a Fresnel lens array. it can.

上記フレネルレンズアレイにおける繰返し間隔(凸部最頂部間又は凹部最深部間の距離、つまりプリズム形状のピッチ幅)は、特に限定されないが、0.5mm以下が好ましく、より好ましくは0.2mm以下、さらに好ましくは0.1mm以下である。なお、下限は、例えば0.05mmである。上記繰返し間隔が狭いほど気泡発生の防止の難易度が高くなるが、本発明の樹脂成型品の製造方法によれば、このような繰返し間隔に対応するモールドに対しても塗布時の気泡の発生を抑制することができる。   The repeat interval in the Fresnel lens array (distance between the tops of the convex parts or the deepest part of the concave parts, that is, the pitch width of the prism shape) is not particularly limited, but is preferably 0.5 mm or less, more preferably 0.2 mm or less, More preferably, it is 0.1 mm or less. The lower limit is, for example, 0.05 mm. The narrower the repetition interval, the higher the difficulty of preventing the generation of bubbles. However, according to the method for producing a resin molded product of the present invention, the generation of bubbles at the time of application even to a mold corresponding to such a repetition interval. Can be suppressed.

上記フレネルレンズアレイにおける先鋭度(凸部先端部R又は凹部谷部R、つまり尖り角度・切れ込み角度の鋭さ)は、特に限定されないが、R0.01mm以下が好ましく、より好ましくはR0.005mm以下、さらに好ましくはR0.001mm以下である。なお、下限は、例えば0.0005mmである。上記Rが小さいほど気泡発生の防止の難易度が高くなるが、本発明の樹脂成型品の製造方法によれば、このような先鋭度に対応するモールドに対しても塗布時の気泡の発生を抑制することができる。   The sharpness in the Fresnel lens array (the convex tip portion R or the concave valley portion R, that is, the sharpness of the sharpness angle / cutting angle) is not particularly limited, but is preferably R0.01 mm or less, more preferably R0.005 mm or less, More preferably, it is R0.001 mm or less. The lower limit is, for example, 0.0005 mm. The smaller the R is, the higher the difficulty of preventing the generation of bubbles. However, according to the method for producing a resin molded product of the present invention, the generation of bubbles during application to a mold corresponding to such a sharpness is also achieved. Can be suppressed.

上記フレネルレンズアレイにおける高さ間隔(凸部最頂部と凹部最深部の高低差)は、特に限定されないが、0.05mm以上が好ましく、より好ましくは0.5mm以上、さらに好ましくは5mm以上である。上限は、例えば10mmである。上記高さ間隔が高いほど気泡発生の防止の難易度が高くなるが、本発明の樹脂成型品の製造方法によれば、このような高さ間隔に対応するモールドに対しても塗布時の気泡の発生を抑制することができる。   The height interval in the Fresnel lens array (the difference in height between the top of the convex part and the deepest part of the concave part) is not particularly limited, but is preferably 0.05 mm or more, more preferably 0.5 mm or more, and even more preferably 5 mm or more. . The upper limit is 10 mm, for example. The higher the height interval, the higher the difficulty of preventing the generation of bubbles. According to the method for producing a resin molded product of the present invention, the bubbles at the time of application can be applied to a mold corresponding to such a height interval. Can be suppressed.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

製造例1
シリコーン樹脂として、商品名「X−32−3094−2」(信越化学工業(株)製)50重量部、商品名「KE−1606」(信越化学工業(株)製)50重量部、硬化剤として、商品名「CX−32−3094−2」(信越化学工業(株)製)5重量部、及び商品名「CAT−RG」(信越化学工業(株)製)5重量部を混合・撹拌して樹脂組成物を調製した。次いで、縦40mm×横20mm×厚み1.0mmのテフロン製のスペーサーを作製し、離型処理(商品名「オプツールHD1000」、ダイキン(株)製にディップし、24時間ドラフト内で放置した。)を施したスライドガラス(商品名「S2111」、松浪硝子(株)製)ではさみこみを行った。そして、上記で得られた樹脂組成物を隙間に注型した後、室温で2時間放置し、150℃のオーブンで30分間加熱して硬化させ、図2に示すようなフレネルレンズのアレイ(繰返し間隔:0.2mm、先鋭度:R0.005mm、高さ間隔:0.2mm)製造用のパターン形状を有するシリコーンモールド(厚み:1.0mm)を製造した。
Production Example 1
As silicone resin, 50 parts by weight of trade name “X-32-3094-2” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 50 parts by weight of trade name “KE-1606” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), curing agent As described above, 5 parts by weight of the product name “CX-32-3094-2” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 5 parts by weight of the product name “CAT-RG” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) are mixed and stirred. Thus, a resin composition was prepared. Next, a Teflon spacer having a length of 40 mm, a width of 20 mm, and a thickness of 1.0 mm was prepared, and released from the mold (trade name “OPTOOL HD1000”, manufactured by Daikin Co., Ltd. and left in a draft for 24 hours). The slide glass (trade name “S2111”, manufactured by Matsunami Glass Co., Ltd.) was subjected to scissoring. Then, after casting the resin composition obtained above in a gap, the resin composition is allowed to stand at room temperature for 2 hours and cured by heating in an oven at 150 ° C. for 30 minutes, and an array of Fresnel lenses as shown in FIG. A silicone mold (thickness: 1.0 mm) having a pattern shape for production was produced. (Interval: 0.2 mm, sharpness: R 0.005 mm, height interval: 0.2 mm)

実施例1
硬化性組成物(商品名「CELVENUS OUH106」(下記シリコーンモールドに対する接触角:28°、(株)ダイセル製)を、塗布装置としてエアーブラシ(商品名「エアーブラシキット EA121DF」(塗布ノズル径:0.2mm)、(株)エスコ製)を用いて、上記製造例1で得られたシリコーンモールドに、ノズルからシリコーンモールドまでの距離を50mmとし、吐出速度5ml/minで、塗布量5±0.1g(パターン形状の全体に硬化性組成物の塗布膜ができていることを目視で確認)を塗布した。なお、上記シリコーンモールドに接触する際の上記硬化性組成物の粒径は0.2mm以下であった。
塗布後、シリコーンモールドのパターン形状上に塗布された硬化性組成物中の気泡の数を目視で確認したところ、気泡数は20個程度であった。
Example 1
A curable composition (trade name “CELVENUS OUH106” (contact angle with respect to the following silicone mold: 28 °, manufactured by Daicel Corporation) was used as an application device with an air brush (trade name “air brush kit EA121DF” (application nozzle diameter: 0). 2 mm), manufactured by Esco Corporation), the distance from the nozzle to the silicone mold in the silicone mold obtained in Production Example 1 is 50 mm, the discharge rate is 5 ml / min, and the coating amount is 5 ± 0.00 mm. 1 g (visually confirmed that a coating film of the curable composition is formed on the entire pattern shape) was applied.The particle size of the curable composition when contacting the silicone mold was 0.2 mm. It was the following.
After the application, the number of bubbles in the curable composition applied on the pattern shape of the silicone mold was visually confirmed, and the number of bubbles was about 20.

実施例2
塗布装置として超音波噴霧装置(商品名「40K50ST」(塗布ノズル径:0.08mm)、Sonear社製)を用い、吐出速度を50ml/minとしたこと以外は、実施例1と同様にして硬化性組成物の塗布を行った。なお、上記シリコーンモールドに接触する際の上記硬化性組成物の粒径は0.08mm以下であった。
塗布後、シリコーンモールドのパターン形状上に塗布された硬化性組成物中の気泡の数を目視で確認したところ、気泡数は20個程度であった。
Example 2
Curing was carried out in the same manner as in Example 1 except that an ultrasonic spray device (trade name “40K50ST” (coating nozzle diameter: 0.08 mm), manufactured by Sonear) was used as the coating device, and the discharge speed was 50 ml / min. The composition was applied. In addition, the particle size of the said curable composition at the time of contacting the said silicone mold was 0.08 mm or less.
After the application, the number of bubbles in the curable composition applied on the pattern shape of the silicone mold was visually confirmed, and the number of bubbles was about 20.

実施例3
塗布装置としてエアー噴霧ノズル(塗布ノズル径:0.40mm)を用い、吐出速度を3ml/minとしたこと以外は、実施例1と同様にして硬化性組成物の塗布を行った。なお、上記シリコーンモールドに接触する際の上記硬化性組成物の粒径は0.45mm以下であった。
塗布後、シリコーンモールドのパターン形状上に塗布された硬化性組成物中の気泡の数を目視で確認したところ、気泡数は10個以下であった。
Example 3
The curable composition was applied in the same manner as in Example 1 except that an air spray nozzle (application nozzle diameter: 0.40 mm) was used as the application device and the discharge speed was 3 ml / min. In addition, the particle size of the said curable composition at the time of contacting the said silicone mold was 0.45 mm or less.
After the application, the number of bubbles in the curable composition applied onto the pattern shape of the silicone mold was visually confirmed, and the number of bubbles was 10 or less.

比較例1
塗布装置として塗布ノズル径1mm以上のスポイトを用い、吐出速度を約60ml/minとしたこと以外は、実施例1と同様にして硬化性組成物の塗布を行った。
塗布後、シリコーンモールドのパターン形状上に塗布された硬化性組成物中の気泡の数を目視で確認したところ、気泡数は1000個程度であった。なお、上記シリコーンモールドに接触する際の上記硬化性組成物の粒径は1mm以上であった。
Comparative Example 1
The curable composition was applied in the same manner as in Example 1 except that a dropper with a coating nozzle diameter of 1 mm or more was used as the coating apparatus and the discharge speed was about 60 ml / min.
After the application, the number of bubbles in the curable composition applied on the pattern shape of the silicone mold was visually confirmed, and the number of bubbles was about 1000. In addition, the particle size of the said curable composition at the time of contacting the said silicone mold was 1 mm or more.

S1 硬化性組成物塗布工程
S2 脱泡工程
S3 型閉じ工程
S4 プレス工程
S5 硬化工程
S1 curable composition coating process S2 defoaming process S3 mold closing process S4 pressing process S5 curing process

Claims (9)

インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であって、パターン形状を有するモールドの硬化性組成物未塗布部分に、前記モールドに対する接触角が50°以下の硬化性組成物を、前記モールドに付着する際の前記硬化性組成物の微粒子の粒径が0.5mm以下となるように塗布する微粒子塗布段階を含む硬化性組成物塗布工程、及び前記モールドに塗布された前記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程を有する、樹脂成型品の製造方法。   A method for producing a resin molded product by imprint molding, wherein a curable composition having a contact angle with respect to the mold of 50 ° or less is attached to the mold on a curable composition uncoated portion of a mold having a pattern shape A curable composition application step including a fine particle application step of applying the fine particles of the curable composition so as to have a particle size of 0.5 mm or less, and curing the curable composition applied to the mold A method for producing a resin molded product, comprising a curing step for obtaining a resin molded product. 前記微粒子塗布段階において、前記モールドに付着する際の前記硬化性組成物の微粒子のアスペクト比が0.1以上となるように前記硬化性組成物を塗布する、請求項1に記載の樹脂成型品の製造方法。   2. The resin molded product according to claim 1, wherein in the fine particle application step, the curable composition is applied so that an aspect ratio of the fine particles of the curable composition when adhering to the mold is 0.1 or more. Manufacturing method. 前記微粒子塗布段階における塗布がスプレー塗布である、請求項1又は2に記載の樹脂成型品の製造方法。   The method for producing a resin molded product according to claim 1, wherein the coating in the fine particle coating step is spray coating. 前記硬化性組成物塗布工程が、前記微粒子塗布段階の後に、前記モールドに塗布された硬化性組成物に付着する際の前記硬化性組成物の粒径が0.1mmを超えるように前記硬化性組成物を前記モールドに塗布する段階を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂成型品の製造方法。   The curable composition is applied such that the particle size of the curable composition exceeds 0.1 mm when adhering to the curable composition applied to the mold after the fine particle application step. The manufacturing method of the resin molded product of any one of Claims 1-3 including the step which apply | coats a composition to the said mold. 前記硬化性組成物がエポキシ化合物を含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂成型品の製造方法。   The manufacturing method of the resin molded product of any one of Claims 1-4 in which the said curable composition contains an epoxy compound. 前記硬化性組成物塗布工程の後に、減圧による脱泡工程を有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の樹脂成型品の製造方法。   The manufacturing method of the resin molded product of any one of Claims 1-5 which has the defoaming process by pressure reduction after the said curable composition application | coating process. 前記モールドにおけるパターン形状が凹凸形状であり、凹部最底部と凸部最頂部の高低差が0.05mm以上である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の樹脂成型品の製造方法。   The manufacturing method of the resin molded product of any one of Claims 1-6 whose pattern shape in the said mold is uneven | corrugated shape, and the height difference of a recessed part bottom part and a convex part top part is 0.05 mm or more. 前記樹脂成型品がマイクロレンズアレイである、請求項1〜7のいずれか1項に記載の樹脂成型品の製造方法。   The manufacturing method of the resin molded product of any one of Claims 1-7 whose said resin molded product is a micro lens array. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の樹脂成型品の製造方法により得られる樹脂成型品を用いた光学部品の製造方法。   The manufacturing method of the optical component using the resin molded product obtained by the manufacturing method of the resin molded product of any one of Claims 1-8.
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