JP2018154040A - 光学フィルム、及び透明導電性フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、シクロオレフィン系樹脂を含む透明基板を備える光学フィルムであって、傷が付きにくくでき、且つ屈曲させた際に割れが生じにくくできる光学フィルムを提供する。【解決手段】本発明の光学フィルム１は、シクロオレフィン系樹脂を含有し、第１面２ａ及び第１面２ａと反対側に位置する第２面２ｂを有する透明基板２と、透明基板２の第１面２ａに設けられた第１層３とを備える。第１層３は、アクリル系樹脂と、金属酸化物粒子とを含む。前記金属酸化物粒子は、その平均粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内である。前記金属酸化物粒子の含有量は、第１層３の質量に対して、２０質量％〜５０質量％の範囲内である。【選択図】図１

Description

本発明は、光学フィルム及び透明導電性フィルムに関し、より詳細には、フロントガラス、サングラス、及び電気機器のディスプレイパネル等に好適に用いられる光学フィルム及び透明導電性フィルムに関する。

従来より、ディスプレイパネルなどに光学フィルムを設ける場合に生じるリタデーションを低下させるため、光学フィルムにおける基材としてシクロオレフィン系樹脂を含むフィルムを用いることが提案されている。シクロオレフィン系樹脂を含むフィルムは柔らかいため、これを保護するために、例えば特許文献１では、重量平均分子量が１００００以上で、含有量が９０重量％以下８０重量％以上の高分子量成分を含む硬化樹脂層をシクロオレフィン系樹脂フィルムの表面に設けることが提案されている。

特開２０１５−１１５１７１号公報

しかし、特許文献１における硬化樹脂層は割れには強いが傷つきやすいという問題がある。傷つきを抑制するために硬化樹脂層の硬度を上げると、逆に割れが生じ易くなってしまい、例えば光学フィルムを巻回してロールにするためなどに屈曲させた場合、割れが生じてしまう可能性がある。

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、シクロオレフィン系樹脂を含む透明基板を備える光学フィルムであって、傷が付きにくくでき、且つ屈曲させた際に割れが生じにくくできる光学フィルム、及びこの光学フィルムを備える透明導電性フィルムを提供することである。

本発明に係る光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を含有し、第１面及び前記第１面と反対側に位置する第２面を有する透明基板と、前記透明基板の第１面に設けられた第１層とを備え、前記第１層は、アクリル系樹脂と、金属酸化物粒子とを含み、前記金属酸化物粒子は、その平均粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であり、前記金属酸化物粒子の含有量は、前記第１層の質量に対して、２０質量％〜５０質量％の範囲内である。

本発明に係る光学フィルムでは、前記第１層の厚みは、５００ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲内であってもよい。

本発明に係る光学フィルムでは、前記第１層は、ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠した鉛筆硬度試験でＢより高い鉛筆硬度を有してもよい。

本発明に係る光学フィルムでは、前記第１層中の金属酸化物粒子は、二酸化珪素粒子、及びアルミナ粒子のうち少なくとも一方の粒子を含んでもよい。

本発明に係る光学フィルムでは、前記透明基板の第２面に設けられたアンチブロッキング層を更に備えてもよく、前記アンチブロッキング層は、金属酸化物粒子を含んでもよい。

本発明に係る光学フィルムでは、前記第１層の屈折率は１．５０〜１．６５の範囲内であってもよく、前記第１層の前記透明基材とは反対側に設けられた第２層を更に備えてもよく、前記第２層は、アクリル系樹脂と、金属酸化物粒子とを含んでもよく、前記第２層は、厚みが１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であり、且つ屈折率が１．６５超１．９５以下の範囲内であってもよい。

本発明に係る透明導電性フィルムは、前記光学フィルムと、前記光学フィルムにおける前記第２層の前記透明基板とは反対側に設けられている無機層と、前記無機層の前記透明基板とは反対側に設けられている透明導電層とを備える。

本発明によれば、傷が付きにくく、且つ屈曲させた際に割れが生じにくくさせた光学フィルム及び透明導電性フィルムを得ることができる。

図１は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムの概略断面図を示す。 図２は、本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの概略断面図を示す。

以下、本発明を実施するための形態を説明する。

＜光学フィルム＞
本実施形態に係る光学フィルム１を、図１を参照して説明する。

光学フィルム１は、透明のフィルムであり、透明基板２を備える。透明基板２は、その厚さ方向において、第１面２ａと、この第１面２ａと反対側に位置する第２面２ｂとを有する。そして、透明基板２は、シクロオレフィン系樹脂を含有する。透明基板２がシクロオレフィン系樹脂を含有することで、透明基板２を光が通過する際に生じるリタデーションを軽減することができる。透明基板２に含有されるシクロオレフィン系樹脂の量は特に限定されない。透明基板２は、例えばシクロオレフィン系樹脂のみを含有できる。

シクロオレフィン系樹脂は、その分子中の主鎖のうち、少なくとも一部に環状オレフィン構造が含まれた樹脂である。すなわち、シクロオレフィン系樹脂は、シクロオレフィン系単量体を含む原料単量体の重合体である。このような原料単量体は、シクロオレフィン系単量体のみを含んでもよく、或いはシクロオレフィン系単量体以外に、エチレンやプロピレン等のエチレン性不飽和単量体を含んでもよい。シクロオレフィン系単量体は、ノルボルネン骨格を有することが好ましく、この場合、シクロオレフィン系樹脂はノルボルネン系樹脂を含むことが好ましい。ノルボルネン系樹脂は、透明基板２の、透明性を向上させると共にヘイズを低下させることができ、さらにリタデーションを軽減させることができる。

光学フィルム１は、透明基板２の第１面２ａに設けられた第１層３を備える。この第１層３は、透明の層であって、透明基板２の第１面２ａと接触していてもよい。また、第１層３は、アクリル系樹脂と、金属酸化物粒子とを含む。第１層３がアクリル系樹脂を含むことにより、第１層３に適度な柔軟性を付与することができ、光学フィルム１を屈曲させても光学フィルム１を割れにくくさせることができる。また、第１層３が金属酸化物粒子を含むことにより、第１層３に硬さを付与することができ、これにより、光学フィルム１は傷が付きにくくなる。第１層３の厚みは、５００ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲内であることが好ましい。この場合、第１層３は、硬さと柔軟性との両方を有することができる。特に、第１層３の厚みは、８００ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲内であることが好ましい。

第１層３は、透明基板２よりも高い硬度を有することが好ましい。特に、第１層３の鉛筆硬度はＢより高いことが好ましい。本実施形態の鉛筆硬度は、例えば、ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠した鉛筆硬度試験により得られる。

アクリル系樹脂は、例えば（メタ）アクリル基を有する化合物を含む不飽和化合物の重合体を含むものである。不飽和化合物は、（メタ）アクリル基を有する化合物と共重合可能な他の単量体（以下、単量体（Ａ）という）も含むことができる。

アクリル系樹脂は、例えば熱硬化型樹脂組成物、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂組成物、又は電子線硬化型樹脂組成物から形成されてもよい。これらのうち、紫外線硬化型樹脂組成物は、アクリル系樹脂を得る際の利便性から好適である。また、任意の重合開始剤により不飽和化合物から重合体を形成できる。この重合開始剤は、ラジカルを生成して重合反応を開始するものであるとよい。このようなラジカルは、重合開始剤の性状に応じた紫外線照射、加熱、電子線照射等の任意の処理を施すことで生成される。

アクリル系樹脂が熱硬化型樹脂組成物から形成される場合、この熱硬化型樹脂組成物は不飽和化合物と、重合開始剤となる有機過酸化物とを含むことができる。有機過酸化物としては、例えばｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、α，α’−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサンが挙げられる。

アクリル系樹脂が紫外線硬化型樹脂組成物から形成される場合、この紫外線硬化型樹脂組成物は、不飽和化合物と、重合開始剤となる光重合開始剤及び光増感剤のうち少なくとも一方の成分とを含むことができる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類が挙げられる。光増感剤としては、例えばｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、チオキサントンが挙げられる。

（メタ）アクリル基を有する化合物は、例えば（メタ）アクリレート基を有する樹脂を含むことができる。このような樹脂としては、例えば、比較的低分子量の多官能化合物と、（メタ）アクリレートとのオリゴマーやプレポリマーが挙げられる。多官能化合物としては、例えばポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、及び多価アルコールが挙げられる。

単量体（Ａ）は、（メタ）アクリル基を有する化合物と異なる化合物であって、組成物中の反応性希釈剤となり得る。単量体（Ａ）としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、及びＮ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー；並びにトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、及びネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートの多官能モノマーが挙げられる。

アクリル系樹脂が熱可塑型樹脂から形成される場合、熱可塑型樹脂は、不飽和化合物の重合体を含むものであって、加熱で溶融し、且つ冷却で再硬化するような性質を有する樹脂であるとよい。

また、アクリル系樹脂は、不飽和化合物の重合体と任意の溶媒とを含むバインダー組成物の乾燥硬化物であってもよい。この場合、バインダー組成物と金属酸化物粒子との混合物から第１層３が形成される。このような混合物は、例えば湿式で透明基板２の第１面２ａに成膜される。

第１層３に含まれる金属酸化物粒子は、その平均粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であり、好ましくは２０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内である。平均粒径が１０ｎｍ以上であることで光学フィルム１の傷付きを抑制することができ、平均粒径が１００ｎｍ以下であることで金属酸化物粒子を起点とする光学フィルム１の割れを抑制できる。このため、光学フィルム１の割れを抑制しながら、光学フィルム１の傷つきを抑制できる。本実施形態の平均粒子径は、レーザー回折・散乱法で測定される粒度分布から算出される体積基準の算術平均値である。

また、金属酸化物粒子の含有量は、第１層３の質量に対して、２０質量％〜５０質量％の範囲内であり、より好ましくは３０質量％〜４０質量％の範囲内である。この含有量が２０質量％以上であることで光学フィルム１の傷付きを抑制することができ、含有量が５０質量％以下であることで金属酸化物粒子を起点とする光学フィルム１の割れを抑制するとともに金属酸化物粒子によって光学フィルム１の透明性が損なわれにくくできる。このため、光学フィルム１の割れを抑制しながら、光学フィルム１の傷つきを抑制し、更に光学フィルム１の良好な透明性を維持できる。

第１層３中の金属酸化物粒子は、二酸化珪素粒子、及びアルミナ粒子のうち少なくとも一方の粒子を含むことが好ましい。これらの粒子は、光学フィルム１の傷付き抑制に特に寄与できる。

第１層３を形成するにあたって、例えば不飽和化合物と、金属酸化物粒子とを含む混合物を透明基板２の第１面２ａに塗布する。また、不飽和化合物の重合体を含むバインダー組成物と、金属酸化物粒子とを含む混合物を湿式で透明基板２の第１面２ａに塗布してもよい。このようにして塗布された混合物が、透明基板２の第１面２ａで成膜される。

混合物を塗布する際、透明基板２の第１面２ａに直接混合物を塗布してもよい。混合物の塗布方法としては、例えば、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法が挙げられる。

混合物が不飽和化合物と重合開始剤とを含む場合、この重合開始剤の性状に応じた処理を施すことにより不飽和化合物の重合反応を開始させ、塗布された混合物を透明基板２の第１面２ａ上で硬化させることで、第１層３を形成できる。

また、混合物がバインダー組成物を含む場合、塗布された混合物を透明基板２の第１面２ａ上で乾燥硬化させることで、第１層３を形成できる。

また、不飽和化合物の重合体が熱可塑型樹脂に含まれる場合、熱可塑型樹脂と、金属酸化物粒子とを加熱混錬して混合物を作製してもよい。そして、この混合物をワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法等の塗布方法で透明基板２の第１面２ａに直接混合物を塗布してもよい。このようにして塗布された混合物を冷却して硬化させることで、第１層３を形成できる。また、加熱混錬で得られた混合物を、予めシート状に形成してもよい。そして、シート状の混合物を透明基板２の第１面２ａに設置して積層体を作製し、この積層体に、例えば加熱プレス、又は加熱ロールを施すことで、第１層３は透明基板２と一体に形成されてもよい。

また、第１層３を形成する前段階で、透明基板２の第１面２ａを、予めエッチング処理で粗化する工程を含んでもよい。この場合、透明基板２と第１層３との密着性を向上させることができる。エッチング処理としては、例えば、プラズマ処理、コロナ放電処理、及びフレーム処理などの物理的表面処理；並びにカップリング剤、酸、又はアルカリ剤による化学的表面処理が挙げられる。

光学フィルム１は、第１層３の透明基材２とは反対側に設けられた第２層４を含むことができる。すなわち、透明基板２、第１層３及び第２層４が、この順で積層しているとよい。このような第２層４は、透明の層であって、第１層３の表面と接触していてもよい。

第２層４は、第１層３よりも高い屈折率を有する。光学フィルム１が第２層４を備えると、光学フィルム１と透明導電層７とが重なる場合に、透明導電層７を視認されにくくできる。

光学フィルム１が第２層４を備える場合、第１層３の屈折率は１．５０〜１．６５の範囲内であることが好ましい。一方、第２層４の屈折率は１．６５超１．９５以下の範囲内であり、厚みは１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。この場合、光学フィルム１は、透明導電層７を特に視認されにくくできる。

また、第２層４は、アクリル系樹脂と、金属酸化物粒子とを含むことができる。この場合、金属酸化物粒子の平均粒子径は、２０〜５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。

第２層４が金属酸化物粒子を含むと、第２層４の屈折率は、上記の範囲に調整されやすくなる。第２層４中の金属酸化物粒子は、例えば、二酸化珪素粒子、アルミナ粒子、及びジルコニア粒子からなる群から選択される少なくとも１種の粒子を含むことができる。特に第２層４は、ジルコニア粒子を金属酸化物粒子として含むことが好ましい。上記の粒子以外に第２層４に適した粒子があれば、この粒子も金属酸化物粒子として用いることができる。また、金属酸化物粒子の含有量は、第２層４の質量に対して、５０質量％〜６０質量％の範囲内であることが好ましい。

また、第２層４がアクリル系樹脂を含む場合、このアクリル系樹脂は、第１層３に用いるためのアクリル系樹脂と同じであってもよい。この場合、第２層４に適度な柔軟性を付与することができる。

第２層４を形成するにあたって、例えば不飽和化合物と、金属酸化物粒子とを含む混合物を、第１層３の厚み方向で第２面２ｂとは反対側に位置する、第１層３の表面に塗布することができる。また、不飽和化合物の重合体を含むバインダー組成物と、金属酸化物粒子とを含む混合物を湿式で第１層３の表面に塗布してもよい。このようにして塗布された混合物が、第１層３の表面で成膜される。

混合物を塗布する際、第１層３の表面に直接混合物を塗布してもよい。混合物の塗布方法としては、例えば、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法が挙げられる。

混合物が不飽和化合物と重合開始剤とを含む場合、この重合開始剤の性状に応じた処理を施すことにより不飽和化合物の重合反応を開始させ、塗布された混合物を第１層３の表面上で硬化させることで、第２層４を形成できる。

また、混合物がバインダー組成物を含む場合、塗布された混合物を第１層３の表面上で乾燥硬化させることで、第２層４を形成できる。

また、不飽和化合物の重合体が熱可塑型樹脂に含まれる場合、熱可塑型樹脂と、金属酸化物粒子とを加熱混錬して混合物を作製してもよい。そして、この混合物をワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法等の塗布方法で第１層３の表面に直接混合物を塗布してもよい。このようにして塗布された混合物を冷却して硬化させることで、第２層４を形成できる。また、加熱混錬で得られた混合物を、予めシート状に形成してもよい。そして、シート状の混合物を第１層３の表面に設置して積層体を作製し、この積層体に、例えば加熱プレス、又は加熱ロールを施すことで、第２層４は、第１層３及び透明基板２と一体に形成されてもよい。

光学フィルム１は、透明基板２の第２面２ｂに設けられたアンチブロッキング層５を含むことができる。アンチブロッキング層５は、透明の層であって、透明基板２の第２面２ｂと接触してもよい。アンチブロッキング層５は、その外表面（露出面）に凹凸構造が形成されている。アンチブロッキング層５の外表面は、アンチブロッキング層５の厚み方向で透明基板２の第２面２ｂとは反対側に位置する。

アンチブロッキング層５が設けられた光学フィルム１は、その製造工程で、例えば、ロール状に巻き取ったり、所定の大きさに切断されたりされる。このような光学フィルム１は、上下に積み重ねられた場合に、アンチブロッキング層５の凹凸構造が、上下の光学フィルム１、１が互いに貼りつきにくくできる。このような凹凸構造で貼りつきにくくさせるような光学フィルム１の性質を、アンチブロッキング性ともいう。

アンチブロッキング層５にアンチブロッキング性を付与するために、アンチブロッキング層５に金属酸化物粒子を含ませることができる。この場合、金属酸化物粒子によりアンチブロッキング層５の外表面に凹凸構造が形成される。

アンチブロッキング層５中の金属酸化物粒子は、例えば二酸化珪素粒子、アルミナ粒子、及びジルコニア粒子からなる群から選択される少なくとも１種の粒子を含むことができる。特に金属酸化物粒子は、二酸化珪素粒子を含むことが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径は、５０ｎｍ〜５０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。

アンチブロッキング層５が金属酸化物粒子を含む場合、アンチブロッキング層５も光学フィルム１の傷付きを抑制できる。アンチブロッキング層５の質量に対する、金属酸化物粒子の含有量は、アンチブロッキング層５が光学フィルム１の傷つき抑制に十分に寄与できると共にアンチブロッキング性を付与させるような、所定含有量に設定され得る。金属酸化物粒子の含有量は、例えば、アンチブロッキング層５の質量に対して、５〜４０質量％の範囲内であることが好ましい。

また、アンチブロッキング層５は、光学フィルム１の傷つき抑制に十分に寄与できるような所定厚さに設定されていることが好ましく、具体的には、５００〜１００００ｎｍの範囲内の厚さに設定設定されていることが好ましい。

アンチブロッキング層５は、金属酸化物粒子以外に、アクリル系樹脂を更に含むこともできる。このアクリル系樹脂は、第１層３に用いるためのアクリル系樹脂と同じであってもよい。この場合、アンチブロッキング層５に適度な柔軟性を付与することができる。

アンチブロッキング層５を形成するにあたって、例えば不飽和化合物と、金属酸化物粒子とを含む混合物を、透明基板２の第２面２ｂに塗布することができる。また、不飽和化合物の重合体を含むバインダー組成物と、金属酸化物粒子とを含む混合物を湿式で透明基板２の第２面２ｂに塗布してもよい。このようにして塗布された混合物が、透明基板２の第２面２ｂで成膜される。

混合物を塗布する際、透明基板２の第２面２ｂに直接混合物を塗布してもよい。混合物の塗布方法としては、例えば、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法が挙げられる。

混合物が不飽和化合物と重合開始剤とを含む場合、この重合開始剤の性状に応じた処理を施すことにより不飽和化合物の重合反応を開始させ、塗布された混合物を透明基板２の第２面２ｂ上で硬化させることで、アンチブロッキング層５を形成できる。

また、混合物がバインダー組成物を含む場合、塗布された混合物を透明基板２の第２面２ｂ上で乾燥硬化させることで、アンチブロッキング層５を形成できる。

また、不飽和化合物の重合体が熱可塑型樹脂に含まれる場合、熱可塑型樹脂と、金属酸化物粒子とを加熱混錬して混合物を作製してもよい。そして、この混合物をワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法等の塗布方法で透明基板２の第２面２ｂに直接混合物を塗布してもよい。このようにして塗布された混合物を冷却して硬化させることで、アンチブロッキング層５を形成できる。また、アンチブロッキング性を付与する観点から、加熱混錬で得られた混合物を、予めシート状に形成しないことが好ましい。

＜透明導電性フィルム＞
次に透明導電性フィルム１０を、図２を参照して説明する。

本実施形態に係る透明導電性フィルム１０は、光学フィルム１を含むものである。このため、図２で符号が付けられた構成のうち、図１と同じ符号の構成については、光学フィルム１の説明を参照することができる。

透明導電性フィルム１０は、無機層６と、透明導電層７とを更に含むことができる。この場合、無機層６は、第２層４の、透明基板２とは反対側に設けられ得る。また、透明導電層７は、無機層６の、透明基板２とは反対側に設けられ得る。この場合、第２層４、無機層６及び透明導電層７が、この順で積層されているとよい。

無機層６は、例えば電気絶縁性を有する金属酸化物から作製される。金属酸化物は、例えば二酸化珪素、及びアルミナからなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含むことができるが、これらに限られない。

無機層６は、光学フィルム１と透明導電層７との密着性を向上できる。また、第１層３、第２層４及び無機質層６がこの順に積層していることで、透明導電層７を特に視認されにくくできる。無機層６は、第２層４に接触して形成されている。

無機層６の厚みは、１０〜３０ｎｍの範囲内であることが好ましい。この場合、透明導電層７の平面視形状を、光学フィルム１越しで、より視認させにくくできる。すなわち、平面視形状が付与されている透明導電層７を備える透明導電性フィルム１０を観察した場合に、透明導電層７がある領域と無い領域との色相差を生じ難くできる。

無機層６の屈折率は、１．３〜１．５の範囲内であることが好ましい。この場合、透明導電層７の平面視形状を、光学フィルム１越しで、より視認させにくくできる。すなわち、平面視形状が付与されている透明導電層７を備える透明導電性フィルム１０を観察した場合に、透明導電層７がある領域と無い領域との色相差を生じ難くできる。

無機層６を形成するにあたって、例えば金属酸化物を含む蒸着材料を任意の蒸着方法により薄膜に形成することができる。蒸着方法としては、例えばスパッタ蒸着法、及び真空蒸着法が挙げられる。

また、無機層６は、例えばシリコンアルコキシド系化合物を含有する組成物から形成されてもよい。この場合、シリコンアルコキシド系化合物を含有する組成物を湿式で第２層４に薄く塗布し、塗布された組成物を硬化させて薄膜の無機層６を形成することができる。組成物が硬化する際、組成物中のシリコンアルコキシド系化合物から加水分解縮合物を形成できる。この場合、シリコンアルコキシド系化合物の性状に応じて加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等の処理を施すことができる。

シリコンアルコキシド系化合物としては、例えば、シリコンアルコキシド；並びにシリコンアルコキシドの部分的加水分解物であるオリゴマー及びポリマーが挙げられる。シリコンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシランが挙げられる。

組成物の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法が挙げられる。

透明導電層７は、無機層６に接触して形成されていることが好ましい。透明導電層７は、導電性を有する金属酸化物から作製される。金属酸化物は、例えばインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ＺｎＯ、及びアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）の群から選択される少なくとも１種の化合物を含むことができるが、これらに限られない。特に、透明導電層７は、その主成分としてインジウムスズ酸化物を含むことが好ましい。透明導電層７の厚みは、例えば１０〜６０ｎｍの範囲内である。

透明導電層７を形成するにあたって、例えば導電性を有する金属酸化物を、任意の蒸着方法により無機層６の表面に成膜させる。蒸着方法としては、例えば、スパッタ蒸着法、及び真空蒸着法が挙げられる。また、透明導電層７は、その目的に応じて、任意の平面視形状を有する。例えば透明導電層７にエッチング処理を施すこで、透明導電層７に平面視形状を付与できる。

以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。

まず、厚み５０μｍのノルボルネン系樹脂フィルム（日本ゼオン社製、品番：ＣＯＰ ＺＦ１６−０５０）に、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物をワイヤーバーコート法で塗布した。続いて、塗布されたアクリル系紫外線硬化型樹脂組成物を６０℃で１分間加熱することにより乾燥させ、乾燥されたアクリル系紫外線硬化型樹脂組成物に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ^２の条件で照射した。これにより、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物を硬化させて、厚み１μｍの試験塗膜を作製した。そして、この試験塗膜とノルボルネン系樹脂フィルムとを有する試験片を、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物の選定試験に用いた。試験片の両端が重なり合うようにして試験片を１８０°折り曲げて、ノルボルネン系樹脂フィルムに破断が、試験塗膜に割れが生じているか否かを目視で確認した。このような選定試験で、ノルボルネン系樹脂フィルムの破断と、試験塗膜の割れとが生じなかったアクリル系紫外線硬化型樹脂組成物を、下記の各実施例及び比較例に用いた。

［実施例１］
透明基材としては、厚み１００μｍのノルボルネン系樹脂フィルム（日本ゼオン社製、品番：ＣＯＰ ＺＦ１６−１００）を用いた。ノルボルネン系樹脂フィルムのリタデーションを後掲の表に示す。

ノルボルネン系樹脂フィルムは、その厚み方向で第１面と、この第１面とは反対側に位置する第２面とを有する。ノルボルネン系樹脂フィルムの第１面及び第２面のうち、第１面に第１層（ハードコート層）を下記にようにして形成した。まず、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物とシリカ粒子（平均粒子径２０ｎｍ）とを混合することで、紫外線硬化型の混合物を調製した。この混合物を調製する段階において、固形分換算で、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物とシリカ粒子の合計量に対して、３５質量％のシリカ粒子を配合した。このようにして得られた混合物を、ノルボルネン系樹脂フィルムの第１面に、ワイヤーバーコーター＃６を用いて塗布した。続いて、塗布された混合物を６０℃で１分間加熱することにより乾燥させ、乾燥された混合物に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ^２の条件で照射した。これにより、混合物を硬化させて、厚み１．０μｍの第１層を形成した。この第１層の屈折率と厚みと鉛筆硬度とを、後掲の表に示す。

次に、第１層の表面に第２層（光学調整層）を下記のようにして形成した。まず、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物とジルコニア粒子（平均粒子径２０ｎｍ）とを混合することで、紫外線硬化型の混合物を調製した。この混合物を調製する段階において、固形分換算で、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物とジルコニア粒子の合計量に対して、５５質量％のジルコニア粒子を配合した。このようにして得られた混合物を、第１層の表面に、ワイヤーバーコーター＃３を用いて塗布した。続いて、塗布された混合物を１００℃で１分間加熱することにより乾燥させ、乾燥された混合物に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ^２の条件で照射した。これにより、混合物を硬化させて、厚み６０ｎｍの第２層を形成した。この第２層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。

次に、ノルボルネン系樹脂フィルムの第２面にアンチブロッキング層を下記にようにして形成した。まず、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物とシリカ粒子（平均粒子径１００ｎｍ）とを混合することで、紫外線硬化型の混合物を調製した。この混合物を調製する段階において、固形分換算で、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物とシリカ粒子の合計量に対して、４０質量％のシリカ粒子を配合した。このようにして得られた混合物を、ノルボルネン系樹脂フィルムの第２面に、ワイヤーバーコーター＃６を用いて塗布した。続いて、塗布された混合物を６０℃で１分間加熱することにより乾燥させ、乾燥された混合物に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ^２の条件で照射した。これにより、混合物を硬化させて、厚み１．０μｍのアンチブロッキング層（ＡＢ層）を形成した。

以上により、光学フィルムを得た。

［実施例２］
第１層を形成する際に、シリカ粒子の割合を３５質量％にした以外は、実施例１と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。

［実施例３］
第１層を形成する際に、シリカ粒子の割合を２０質量％にした以外は、実施例１と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。

［実施例４］
第１層を形成する際に、平均粒子径が１０ｎｍのシリカ粒子に変更した以外は、実施例２と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。

［実施例５］
第１層を形成する際に、平均粒子径が１００ｎｍのシリカ粒子に変更した以外は、実施例２と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。

［実施例６］
第１層を形成する際に、シリカ粒子をアルミナ粒子（平均粒子径２０ｎｍ）に変更した以外は、実施例２と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。

［比較例１］
第１層を形成する際に、シリカ粒子を配合しなかった以外は、実施例１と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。

［比較例２］
第１層を形成する際に、平均粒子径が１２０ｎｍのシリカ粒子に変更した以外は、実施例２と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。

［比較例３］
第１層を形成する際に、シリカ粒子の割合を６５質量％にした以外は、実施例１と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。

［評価試験］
各実施例及び比較例で得られた光学フィルムについて、次の評価試験を実施した。その結果を、後掲の表に示す。

（ヘイズ測定）
光学フィルムのヘイズを、ヘイズメータ（日本電色工業株式会社製、型番ＮＤＨ２０００）を使用して測定した。

（全光線透過率測定）
光学フィルムの全光線透過率を、ヘイズメータ（日本電色工業株式会社製、型番ＮＤＨ２０００）を使用して測定した。

（鉛筆硬度）
第１層の鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠した鉛筆硬度試験で評価された。

（屈曲性）
光学フィルムの両端が重なり合うようにして光学フィルムを１８０°折り曲げて、その折り目に割れが生じているか否かを目視で評価した。後掲の表において、「Ａ」は、折り目に割れが生じていなかった場合を示し、「Ｃ」は折り目に割れが生じていた場合を示す。

１ 光学フィルム
２ 透明基板
２ａ 第１面
２ｂ 第２面
３ 第１層

Claims (7)

1. シクロオレフィン系樹脂を含有し、第１面及び前記第１面と反対側に位置する第２面を有する透明基板と、
   前記透明基板の第１面に設けられた第１層とを備え、
   前記第１層は、アクリル系樹脂と、金属酸化物粒子とを含み、
   前記金属酸化物粒子は、その平均粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であり、
   前記金属酸化物粒子の含有量は、前記第１層の質量に対して、２０質量％〜５０質量％の範囲内である、
   光学フィルム。
2. 前記第１層の厚みは、５００ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲内である、
   請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記第１層は、ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠した鉛筆硬度試験でＢより高い鉛筆硬度を有する、
   請求項１又は２に記載の光学フィルム。
4. 前記第１層中の金属酸化物粒子は、二酸化珪素粒子、及びアルミナ粒子のうち少なくとも一方の粒子を含む、
   請求項１から３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
5. 前記透明基板の第２面に設けられたアンチブロッキング層を更に備え、
   前記アンチブロッキング層は、金属酸化物粒子を含む、
   請求項１から４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
6. 前記第１層の屈折率は１．５０〜１．６５の範囲内であり、
   前記第１層の前記透明基板とは反対側に設けられた第２層を更に備え、
   前記第２層は、アクリル系樹脂と、金属酸化物粒子とを含み、
   前記第２層は、厚みが１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であり、且つ屈折率が１．６５超１．９５以下の範囲内である、
   請求項１から５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
7. 請求項６に記載の光学フィルムと、
   前記光学フィルムにおける前記第２層の前記透明基板とは反対側に設けられている無機層と、
   前記無機層の前記透明基板とは反対側に設けられている透明導電層とを備える、
   透明導電性フィルム。

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