JP2018152510A - Printed Wiring Board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プリント配線板に関する。 The present invention relates to a printed wiring board.
特許文献1には、順に積層されている基体、枠体および回路板、ならびに枠体内に収容される導電性部材からなる回路基板が開示されている。回路板上には電子部品が実装される。電子部品から発生する熱は、主に、回路板、導電性部材および基体を介して外部に放熱される。
特許文献1の回路基板において電子部品の熱を導電性部材に伝える回路板、および、この導電性部材からの熱を伝える基体は、銅などの金属と比べて熱伝導性の低いアルミナなどの絶縁性材料で形成されている。また、導電性部材と回路板および基体とは単に接触しているだけなので、熱収縮などにより各界面において隙間が生じ易いと推察される。そのため、十分な放熱特性が得られ難いと考えられる。また、枠体内に収容される導電性部材を、任意の電気回路を構成する導体層として利用することは困難であると考えられる。そのため、所望の電気回路の実現のためにさらに多層化が必要となることがある。回路基板の構造の複雑化、厚さの増大、およびコストアップなどが懸念される。
In the circuit board of
本発明のプリント配線板は、一方および他方の最表層にそれぞれ形成されている外層の導体層と、前記外層の導体層よりも厚く形成される内層の導体層と、前記外層の導体層と前記内層の導体層との間に介在する絶縁層と、前記絶縁層に密集して形成されていて前記外層の導体層のそれぞれと前記内層の導体層とを接続する複数のビア導体と、を有している。そして、前記外層の導体層の一方には部品実装パッドが形成され、前記外層の導体層の他方には前記部品実装パッドと重なる位置に接続用導体パッドが形成され、前記部品実装パッドと前記内層の導体層とが複数個の前記ビア導体で接続され、前記接続用導体パッドと前記内層の導体層とが複数個の前記ビア導体で接続されており、前記接続用導体パッドと前記内層の導体層とを接続する前記ビア導体の数は、前記部品実装パッドと前記内層の導体層とを接続する前記ビア導体の数よりも多い。 The printed wiring board of the present invention comprises an outer conductor layer formed on one and the other outermost layers, an inner conductor layer formed thicker than the outer conductor layer, the outer conductor layer, An insulating layer interposed between the inner conductor layer and a plurality of via conductors formed densely in the insulating layer and connecting each of the outer conductor layer and the inner conductor layer; doing. A component mounting pad is formed on one of the outer conductor layers, and a connection conductor pad is formed on the other of the outer conductor layers at a position overlapping the component mounting pad. The component mounting pad and the inner layer Are connected by a plurality of via conductors, and the connection conductor pads and the inner conductor layers are connected by a plurality of via conductors, the connection conductor pads and the inner conductors. The number of via conductors that connect layers is greater than the number of via conductors that connect the component mounting pads and the inner conductor layer.
本発明の実施形態によれば、電子部品などの実装パッドから、実装パッドと反対側の外層の導体層まで、ビア導体を介して効率よく熱が伝導すると考えられる。優れた放熱特性を有するプリント配線板を提供することができると考えられる。また、内層の厚い導体層を有することで、より複雑な電気回路が放熱性の高いシンプルな基板構造で実現できると考えられる。 According to the embodiment of the present invention, it is considered that heat is efficiently conducted through the via conductor from the mounting pad such as an electronic component to the outer conductive layer on the side opposite to the mounting pad. It is considered that a printed wiring board having excellent heat dissipation characteristics can be provided. Further, it is considered that a more complicated electric circuit can be realized with a simple substrate structure with high heat dissipation by having a thick conductor layer.
本発明の一実施形態のプリント配線板が図面を参照して説明される。図1〜4には、一実施形態のプリント配線板1が示されており、プリント配線板1の一方の表面に形成されている導体層(第1導体層11)のパターンが図1に示されている。他方の表面に形成されている導体層(第2導体層12)のパターンは図2に示されている。図1および図2には、内層の導体層(第3導体層13)の導体パターンも破線で示されている。図2には、図1に示される状態から左右反転でプリント配線板1が示されている。そのため、図2には、図1に示される形状の左右反転形状で内層の導体パターンが示されている。図3は図1のIII−III線での断面図であり、図4はIV−IV線での断面図である。図3および図4では、各構成要素が理解され易いように、プリント配線板1の厚さ方向が平面方向よりも拡大して示されている。そのため、図3および図4上、縦方向の長さと横方向の長さは正確な比率で示されていない。
A printed wiring board according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 to 4 show a printed
図1〜4に示されるように、一実施形態のプリント配線板1は、一方の表面である第1面1F側の最表層に形成されている第1導体層11および他方の表面である第2面1S側の最表層に形成されている第2導体層12、ならびに、第1および第2の導体層11、12よりも厚く形成される第3導体層13を有している。プリント配線板1において、第1および第2の導体層11、12は、第1面1Fまたは第2面1Sに形成されている外層の導体層であり、第3導体層13は、第1導体層11および第2導体層12の間に形成されている内層の導体層である。プリント配線板1は、さらに、外層の導体層と内層の導体層との間に介在する絶縁層(第1絶縁層21および第2絶縁層22)を含んでいる。
As shown in FIGS. 1 to 4, the printed
図1、3および4に示されるように、第1導体層11には、第1部品実装パッド2aおよび第2部品実装パッド2bが形成されている。第1および第2の部品実装パッド2a、2bには、外部の電子部品E1、E2が、はんだなどの接合材Sにより実装される。また、図2〜4に示されるように、第2導体層12には、第1接続用導体パッド3aおよび第2接続用導体パッド3bが形成されている。第1接続用導体パッド3aは、第1部品実装パッド2aと平面視で少なくとも部分的に重なる位置に形成されている。第2接続用導体パッド3bは、第2部品実装パッド2bと平面視で少なくとも部分的に重なる位置に形成されている。第1および第2の接続用導体パッド3a、3bは、たとえば、マザーボードなどの図示されない外部要素と接続される。すなわち、プリント配線板1では、第1面1Fが部品実装面であり、第2面1S側が、たとえばマザーボードなどの外部要素との接続面である。なお、図1および図2には、第1導体層11などの見易さのために示されていないが、図3および図4に示されるように、プリント配線板1の第1面1Fには、適切な位置に開口32を有するソルダーレジスト層30が形成されていてもよい。図示されていないが、ソルダーレジスト層30は、第2面1Sに、または、両面に形成されていてもよい。
As shown in FIGS. 1, 3 and 4, a first
プリント配線板1は、さらに、第1および第2の絶縁層21、22それぞれに密集して形成されている複数のビア導体(第1ビア導体4a、第2ビア導体4b、第3ビア導体4c、第4ビア導体4d)を有している。第1および第2のビア導体4a、4bは第1絶縁層21に形成され、第1導体層11と第3導体層13とを接続している。第3および第4のビア導体4c、4dは第2絶縁層22に形成され、第2導体層12と第3導体層13とを接続している。第1〜第4のビア導体4a〜4dは、第1〜第3の各導体層間を、高い熱伝導性を備えて熱的に接続する、所謂サーマルビアである(以下、第1〜第4のビア導体4a〜4dは、単に「サーマルビア」とも称される)。従って、第1〜第4の「ビア導体」4a〜4dは、少なくとも熱に関して良好な伝導性を備えていればよい。しかし好ましくは、第1〜第4のビア導体4a〜4dは第1〜第3の各導体層11、12、13間を電気的にも接続する。なお、図1〜4の例では、第1絶縁層21に、電気的接続を主目的とする一般的なビア導体である第5ビア導体6bも形成されている。
The printed
複数個の第1ビア導体4aによって、第1部品実装パッド2aと、内層の導体層である第3導体層13とが接続されており、複数個の第3ビア導体4cによって第1接続用導体パッド3aと第3導体層13とが接続されている。また、複数個の第2ビア導体4bによって第2部品実装パッド2bと第3導体層13とが接続されており、複数個の第4ビア導体4dによって第2接続用導体パッド3bと第3導体層13とが接続されている。このように、本実施形態では、各部品実装パッドと内層の厚い第3導体層13とが、各部品実装パッドに設けられた複数個のサーマルビアにより接続され、第3導体層13と各接続用導体パッドも各接続用導体パッドに設けられた複数個のサーマルビアで接続されている。サーマルビアとして機能する各ビア導体は、後述のように、銅のように熱伝導率の高い材料で形成され得る。従って、第1面1F側の各部品実装パッドから第1および第2のビア導体4a、4bを介して第3導体層13に効率よく熱が伝導し得ると考えられる。第3導体層13に伝導した熱は、厚い第3導体層13内で平面方向(プリント配線板1の厚さ方向と直交する方向)にも効率良く伝わると考えられる。そして、第3導体層13から第2面1Sの各接続用導体パッドへも第3および第4のビア導体4c、4dを介して効率よく熱が伝導すると考えられる。
The plurality of first via
さらに、本実施形態では、図1〜3に示されるように、第3ビア導体4cの数は、第1ビア導体4aの数よりも多い。図1、2および4に示されるように、第4ビア導体4dの数も、第2ビア導体4bの数よりも多い。すなわち、本実施形態では、各接続用導体パッドと内層の厚い第3導体層13とを接続するサーマルビアの数は、各接続用導体パッドのそれぞれと重なる位置に形成される各部品実装パッドと第3導体層13とを接続するサーマルビアの数よりも多い。個々のサーマルビアの端面の大きさが全て同じである場合、各接続用導体パッド3a、3b側のサーマルビアと第3導体層13との接触面積の合計は、部品実装パッド2a、2b側のサーマルビアと第3導体層13との接触面積の合計よりも大きい。そのため、厚い第3導体層13内で平面方向にも十分に拡散した熱が、多くの熱伝導経路によって効率よく各接続用導体パッドまで伝導すると考えられる。従って、各部品実装パッドから各接続用導体パッドまでの熱抵抗が小さいと考えられる。また、各接続用導体パッドは、前述のように外部のマザーボードのように容積の大きな、すなわち熱容量の大きな外部要素に接続され得る。本実施形態のプリント配線板1の実質的な放熱性は従来のプリント配線板に比べて高いと推察される。各部品実装パッドに実装される電子部品の動作時の発熱による温度上昇を小さくすることができると考えられる。
Furthermore, in this embodiment, as FIG. 1-3 shows, the number of the 3rd via
第1および第2の部品実装パッド2a、2bに実装される電子部品E1、E2は、たとえば、半導体装置のような能動部品や、抵抗やインダクタなどの受動部品である。しかし、電子部品E1、E2はこれらに限定されない。高い放熱性を有し得る実施形態のプリント配線板は、動作時に発熱を伴う電子部品、たとえば、電力系半導体装置、電力系抵抗器、および、発光ダイオードなどの実装に特に適していると考えられる。
The electronic components E1 and E2 mounted on the first and second
第1部品実装パッド2aは、第1部品実装パッド2aに実装される電子部品E1の異なる電極にそれぞれ接続される一対の導体パッドからなる部品実装パッドである。第2部品実装パッド2bは、第2部品実装パッド2bに実装される電子部品E2の異なる電極にそれぞれ接続される一対の導体パッドからなる部品実装パッドである。また、第1および第2の接続用導体パッド3a、3bは、第1および第2の部品実装パッド2a、2bそれぞれに対応して設けられる一対の導体パッドである。すなわち、第1接続用導体パッド3aは、第1部品実装パッド2aに実装される電子部品E1の異なる電極に、第1および第3のビア導体4a、4c、第3導体層13ならびに第1部品実装パッド2aを介して、それぞれ接続される一対の導体パッドからなる。第2接続用導体パッド3bは、第2部品実装パッド2bに実装される電子部品E2の異なる電極に、第2および第4のビア導体4b、4d、第3導体層13ならびに第2部品実装パッド2bを介して、それぞれ接続される一対の導体パッドからなる。プリント配線板1では、複数の第1ビア導体4aが第1部品実装パッド2aのほぼ全面にわたって設けられ、複数の第3ビア導体4cが第1接続用導体パッド3aのほぼ全面にわたって設けられている。複数の第1ビア導体4aと複数の第3ビア導体4cは、互いにほぼ同じ配置ピッチで配列されている。しかし、第1接続用導体パッド3aの各導体パッドの平面視での大きさは第1部品実装パッド2aの各導体パッドの平面視での大きさよりも大きいため、第3ビア導体4cの数は第1ビア導体4aの数よりも多い。
The first
一方、図1、2および4に示されるように、第2部品実装パッド2bと第2接続用導体パッド3bとは、略同じ大きさを有している。しかし、複数個設けられている第4ビア導体4dの配置ピッチP4dは、複数個設けられている第2ビア導体4bの配置ピッチP4bよりも小さい。また、図1、2および4に示されるように、第4ビア導体4dが第2接続用導体パッド3bのほぼ全面にわたって形成されているのに対して、第2ビア導体4bは、第2部品実装パッド2bに余白部を残すように形成されている。これらの結果、第2部品実装パッド2bと第2接続用導体パッド3bとが略同じ大きさを有しているにも拘らず、第4ビア導体4dの数は第2ビア導体4bの数よりも多い。
On the other hand, as shown in FIGS. 1, 2, and 4, the second
このように、実施形態のプリント配線板では、各接続用導体パッド3a、3bに設けられる複数のビア導体4c、4dは、各部品実装パッド2a、2bに設けられる複数のビア導体4a、4bよりも小さいピッチで形成されてもよい。また、各部品実装パッド2a、2bに設けられるビア導体4a、4bが各部品実装パッド2a、2bの全面に設けられなくてもよい。すなわち、各接続用導体パッド3a、3bに設けられるサーマルビアの配置密度が各部品実装パッド2a、2bに設けられるサーマルビアの配置密度より大きくてもよい。そしてその結果、各接続用導体パッド3a、3bに設けられるサーマルビアの数が、各部品実装パッド2a、2bに設けられるサーマルビアの数より多くてもよい。
As described above, in the printed wiring board of the embodiment, the plurality of via
また、実施形態のプリント配線板では、各部品実装パッド2a、2b内の特定の領域内に設けられるサーマルビアの数よりも、各接続用導体パッド3a、3b内のその特定の領域に対応する領域に設けられるサーマルビアの数が多くてもよい。「特定の領域」としては、部品実装領域が例示される。部品実装領域は、その上に現に電子部品が接続される各部品実装パッド内の領域である。また、「特定の領域に対応する領域」は、部品実装領域に重なる、すなわち、部品実装領域の真下の領域(接続用導体パッドへの部品実装領域の正投影像により占められる領域)である。各接続用導体パッド3a、3b側のサーマルビアの数が、このように部品実装領域およびその真下の領域において各部品実装パッド2a、2b側のサーマルビアの数より多いだけでも、前述の放熱性向上の効果が得られることがある。なお、部品実装領域の例は後述される。
In the printed wiring board of the embodiment, the number of thermal vias provided in a specific area in each
図1および図2の例では、それぞれ複数個設けられているサーマルビアは、一行ごとに個々のビア導体がほぼハーフピッチずつずれて互いに近接し得るように、所謂千鳥配列で配置されている。隣接するビア導体間の間隔についての設計面や製造面からの制約の下で、より高密度に複数のサーマルビアが配置され得る。各部品実装パッド2a、2bおよび各接続用導体パッド3a、3bそれぞれの面積に対する、各パッドに形成される個々のサーマルビアと各パッドとの接触面の合計面積の比は、好ましくは、15%以上、40%以下であり、より好ましくは、35%以上、40%以下である。しかし、複数個設けられるサーマルビアの配置は、千鳥配列に限定されない。複数のサーマルビアは、たとえば、格子状(マトリックス状)に配置されてもよく、全くランダムに配置されてもよい。複数のサーマルビアの配置態様に関わらず、各接続用導体パッド3a、3bに設けられるサーマルビアは、各接続用導体パッド3a、3bと重なる位置に形成される各部品実装パッド2a、2bに設けられるサーマルビアよりも多く設けられる。
In the example of FIGS. 1 and 2, the plurality of thermal vias provided in each row are arranged in a so-called staggered arrangement so that individual via conductors can be shifted from each other by approximately half a pitch and close to each other. A plurality of thermal vias can be arranged at a higher density under the constraints of the design and manufacturing aspects of the spacing between adjacent via conductors. The ratio of the total area of the contact surface between each thermal via formed on each pad and each pad to the area of each
また、実施形態のプリント配線板には、第2面1S側の接続用導体パッドと重なる3つ以上の部品実装パッドが形成されてもよく、部品実装パッドが1つだけ形成されてもよい。部品実装パッドと接続用導体パッドとの組が複数組形成される場合、そのうちの少なくとも1組において、接続用導体パッドと内層の導体層とを接続するビア導体の数が、部品実装パッドと内層の導体層とを接続するビア導体の数よりも多い。なお、個々の部品実装パッドは、2つよりも多い、または少ない数の導体パッドにより構成されていてもよい。
In the printed wiring board of the embodiment, three or more component mounting pads that overlap with the connection conductor pads on the
各部品実装パッドまたは各接続用導体パッドを含む第1および第2の導体層11、12は、たとえば、金属箔およびめっき膜などにより形成される(なお、図3および図4では、第1および第2の導体層11、12は、簡略化されて単層構造で示されている)。第1および第2の導体層11、12の材料としては、銅やニッケルなどが例示される。しかし、第1および第2の導体層11、12の材料はこれらに限定されない。第1および第2の導体層11、12は、後述のように、サブトラクティブ法やアディティブ法により任意の導体パターンを有するように形成され得る。図1の例では、第1導体層11は、第1および第2の部品実装パッド2a、2bの他に、一対の導体パッドからなる2つの第3部品実装パッド6a、および第3部品実装パッド6aと第1部品実装パッド2aとを接続する配線パターン6cを含んでいる。
The first and second conductor layers 11 and 12 including each component mounting pad or each connection conductor pad are formed of, for example, a metal foil and a plating film (in FIG. 3 and FIG. The second conductor layers 11, 12 are shown in a simplified single layer structure). Examples of the material of the first and second conductor layers 11 and 12 include copper and nickel. However, the materials of the first and second conductor layers 11 and 12 are not limited to these. As will be described later, the first and second conductor layers 11 and 12 can be formed to have an arbitrary conductor pattern by a subtractive method or an additive method. In the example of FIG. 1, the
プリント配線板1の第3導体層13は所定の導体パターンを含んでいる。図1および図4に示されるように、第3導体層13には、第2部品実装パッド2bと第2接続用導体パッド3bとの間に形成されている内層の導体パッド7aから延びる内層の配線パターン7bが形成されている。内層の配線パターン7bは、図1および図3に示されるように、その先端で、第5ビア導体6bによって第1導体層11に接続されている。すなわち、前述のようにプリント配線板1の放熱構造において良好な熱伝導体かつ熱拡散体として高い放熱性の実現に寄与する第3導体層13は、プリント配線板1内の所定の電気回路の形成にも利用されている。本実施形態の第3導体層13は、後述の製造方法に記載されるようにたとえばエッチングにより容易にパターニングされ得る。すなわち、第3導体層13は、基本的に任意の導体パターンを有し得る。第1および第2の導体層11、12だけでは所望の電気回路が構成され得ない場合に、さらなる導体層の追加無く所望の電気回路を形成し得ることがある。放熱用の導電性部材を回路基板内に埋設する前述の特許文献1の開示と異なり、単純な構造および容易な製法で、より複雑な電気回路を含む放熱性の高いプリント配線板が得られると考えられる。
The
第3導体層13は、たとえば、銅やニッケルなどからなる金属箔や金属板により構成され得る。しかし、第3導体層13の材料は、これらに限定されない。一実施形態のプリント配線板1では、第3導体層13は、金属箔13aおよび金属箔13aの一面に形成されている金属被膜13bにより構成されている。金属被膜13bは、たとえば、金属箔13aと同種の材料からなる電解めっき膜もしくは無電解めっき膜またはこれらの積層膜である。また、金属被膜13bは、めっき以外の方法で形成される金属製の被膜であってもよい。第3導体層13は、このように2以上の材料からなる多層構造を有していてもよい。たとえば、金属被膜13bの厚さの調整により、第3導体層13の厚さが所望の厚さに容易に調整され得る。
The
第3導体層13の厚さは、たとえば、100μm以上、2000μm以下であり、好ましくは、200μm以上、300μm以下である。その理由は、第3導体層13の厚さが薄すぎると平面方向への熱拡散効果が十分に得られないし、逆に厚過ぎると厚さ方向の熱抵抗の増加が顕著になるからである。しかし、第3導体層13の厚さは、これらに限定されない。図3および図4に示されるように、第3導体層13が2層構造を有する場合は、好ましくは、金属箔13aは第3導体層13の厚さの9割以上を占める厚さを有する。金属被膜13bの厚さを薄くすることができ、金属被膜13bの形成時間が短くなり得る。
The thickness of the
図3および図4の例では、2層構造の第3導体層13は、金属箔13a側が各部品実装パッド側となるように設けられている。プリント配線板用の金属箔は、面粗度の大きなマット面を一面に有し得る。このマット面を各部品実装パッド側に向けることで、第3導体層13と、第1絶縁層21や第1および第2のビア導体4a、4bとの接触面積が、面粗度の大きいマット面の凹凸によって大きくなる。第3導体層13と第1面1F側の各要素とが強固に密着する。第1面1F側の温度は、各部品実装パッドに実装される電子部品E1、E2の発熱により、第2面1S側の温度よりも高くなると推察される。金属箔13aを各部品実装パッド側とすることで、より大きな温度上昇に晒されがちな第1面1F側の要素と第3導体層13との間での熱膨張率の違いによる剥離が防止されると考えられる。
In the example of FIGS. 3 and 4, the
第3導体層13は、前述のように、第1および第2の部品実装パッド2a、2bと第1および第2の接続用導体パッド3a、3bとの間に形成される内層の導体パッド7a、ならびに内層の配線パターン7bなどの導体パターンを含んでいる。図3および図4に示されるように、第3導体層13の各導体パターンの側面は、各接続用導体パッド側(第2面1S側)から各部品実装パッド側(第1面1F側)に向かって、各導体パターンの平面視でのサイズが大きくなるように傾斜している。第3導体層13と第1絶縁層21との接触面積は、第3導体層13と第2絶縁層22との接触面積より大きいと考えられる。前述のように、より大きな温度上昇に晒されがちな第1面1F側の第1絶縁層21と第3導体層13との間での熱膨張率の違いによる剥離がいっそう防止されると考えられる。
As described above, the
図3および図4に示されるように、第3導体層13の各導体パターンの間には、絶縁物の充填により層内絶縁体23が形成されている。層内絶縁体23により、第3導体層13の各導体パターン間が確実に絶縁される。第3導体層13の厚さ方向の両方の表面と層内絶縁体23の両方の表面とは、それぞれほぼ面一である。層内絶縁体23により、第3導体層13と、第1および第2の絶縁層21、22との界面がほぼ全面的に平坦となり得る。第1および第2の導体層11、12の導体パターンを第1および第2の絶縁層21、22の平坦な表面上に形成することができると考えられる。層内絶縁体23は、たとえば、エポキシ樹脂などにより形成される。しかし、層内絶縁体23の材料はエポキシ樹脂に限定されず、エポキシ樹脂以外の任意の絶縁性材料が層内絶縁体23の形成に用いられ得る。
As shown in FIGS. 3 and 4, an in-
第1および第2の絶縁層21、22は、たとえば樹脂からなる任意の絶縁性材料により形成される。好ましくは、第1および第2の絶縁層21、22は、プリプレグのようにガラス繊維などの補強材を含む、または、含まないエポキシ樹脂により形成される。ビスマレイミドトリアジン樹脂(BT樹脂)、フェノール樹脂などが、第1および第2の絶縁層21、22の材料として用いられてもよい。各絶縁層を形成する樹脂は、シリカなどの無機フィラーを含んでいてもよい。第1および第2の絶縁層21、22の厚さは、たとえば、10μm以上、100μm以下であり、好ましくは30μmである。
The first and second insulating
第1〜第4のビア導体4a〜4dは、第1絶縁層21または第2絶縁層22に設けられたビアホール内に形成されている。第1〜第4のビア導体4a〜4dは、金属などの熱伝導性の高い材料で形成され、好ましくは導電性の材料で形成される。また、第1〜第4のビア導体4a〜4dは、好ましくは、第1導体層11および第2導体層12と同じ材料で形成される。第1〜第4のビア導体4a〜4dの好ましい材料としては、銅のめっき膜が例示される。各ビア導体は、好ましくは、60W/(m・K)以上、より好ましくは、350W/(m・K)以上の熱伝導率を有する材料で形成される。第1〜第4のビア導体4a〜4dは、第3導体層13側に向かって細くなるテーパー形状を有している。第1〜第4のビア導体4a〜4dの大きさは、第1および第2の絶縁層21、22の厚さや、各ビア導体の配置ピッチなどに応じて任意に選択される。たとえば、ほぼ円形の平面形状を有する第1〜第4のビア導体4a〜4dの場合、第3導体層13との界面における各ビア導体の直径は、20μm以上、300μm以下である。好ましくは、各ビア導体の直径は第3導体層13との界面において150μm以上である。各ビア導体4a〜4dのそれぞれは、第3導体層13との接触面積に関して、たとえば、2,000μm2以上、70,680μm2以下の面積で形成され、好ましくは、17,600μm2以上の面積で形成される。サーマルビアとして機能し得る十分な熱伝導性が得られると考えられる。なお、第5ビア導体6bは、銅のめっき膜などにより形成される。
The first to fourth via
前述の「部品実装領域」は、先の説明のように、その上に現に電子部品が接続される各部品実装パッド内の領域である。すなわち、電子部品が各部品実装パッドに配置されたときに、現に電子部品が接続されたその領域が部品実装領域である。従って、「部品実装領域」は、電子部品の配置前に部品実装パッド内で明確に画定されていなくてもよい。しかし、図5Aおよび図5Bに示される例のように、部品実装領域は、部品実装パッドにおいて何らかの構成要素によって画定されていてもよい。 The aforementioned “component mounting area” is an area in each component mounting pad on which an electronic component is actually connected as described above. That is, when an electronic component is placed on each component mounting pad, the region where the electronic component is actually connected is the component mounting region. Therefore, the “component mounting area” may not be clearly defined in the component mounting pad before the electronic component is arranged. However, as in the example shown in FIGS. 5A and 5B, the component mounting area may be defined by some component in the component mounting pad.
図5Aの例では、部品実装領域Rは、ソルダーレジスト31に設けられた開口32に沿って画定されている。ソルダーレジスト31は第1部品実装パッド2aの一部を覆うように形成されている。第1部品実装パッド2aの残部が開口32に露出している。この露出している領域が部品実装領域Rであり、部品実装領域Rに電子部品E1が配置される。
In the example of FIG. 5A, the component mounting region R is defined along the
図5Bの例では、部品実装領域Rは、第1部品実装パッド2aに設けられた開口により画定されている。第1部品実装パッド2aの一対の導体パッドそれぞれには、スリット状の開口33が3つずつ形成されている(開口33内には第1絶縁層21が露出している)。6つの開口33のそれぞれに沿って、部品実装領域Rの一辺がそれぞれ画定される。6つの開口33に囲まれた領域が部品実装領域Rである。開口33は、図5Bの例のようにスリット状の単一の開口で無くてもよく、ミシン目のように複数個連なって形成されてもよい。
In the example of FIG. 5B, the component mounting region R is defined by an opening provided in the first
一実施形態のプリント配線板1では、第3導体層13の両側には、それぞれ、各1層の絶縁層および導体層(第1絶縁層21および第1導体層11ならびに第2絶縁層22および第2導体層12)が形成されている。しかし、実施形態のプリント配線板は、内層の厚い導体層の両側それぞれに、2つ以上の絶縁層および導体層を有していてもよい。各絶縁層にはサーマルビアが形成される。内層の厚い導体層と、一方の最表層の導体層に形成される部品実装パッドおよび他方の最表層の導体層に形成される接続用導体パッドとは、複数の絶縁層にそれぞれ形成されるサーマルビアにより接続される。その場合、少なくとも、接続用導体パッドに直接接するサーマルビアの数は、部品実装パッドに直接接するサーマルビアの数よりも多い。好ましくは、接続用導体パッド側の絶縁層それぞれに形成されるサーマルビアの数は、いずれも、部品実装パッド側のいずれの絶縁層に形成されるサーマルビアの数よりも多い。
In the printed
図1に示されるプリント配線板1を例に、一実施形態のプリント配線板の製造方法の一例が、図6A〜6Jを参照して以下に説明される。図6A〜6Jは、図3に相当する断面を示している。
Taking the printed
図6Aに示されるように、表面に金属箔11aが設けられている支持板80が用意される。金属箔11aはプリント配線板1の完成時には第1導体層11(図3参照)を構成する。金属箔11aは一面に接着されたキャリア金属箔81を備えており、キャリア金属箔81の金属箔11aと反対側の面が支持板80の一面に熱圧着などにより接合されている。金属箔11aとキャリア金属箔81とは、たとえば、熱可塑性接着剤などの分離可能な接着剤で接着されている。金属箔11aとキャリア金属箔81とは、外周付近の余白部分だけで接着されてもよい。支持板80には、たとえば、ガラス繊維などの芯材にエポキシ樹脂などの樹脂材料を含浸してなるプリプレグが用いられる。このプリプレグは、キャリア金属箔81との熱圧着時に本硬化され得る。銅などの金属板が支持板80に用いられてもよい。また、両面銅張積層板が、キャリア金属箔81を備えた支持板80として用いられてもよい。金属箔11aおよびキャリア金属箔81は好ましくは銅箔である。ニッケル箔などの他の金属箔が用いられてもよい。金属箔11aの厚さは、たとえば3μm以上、10μm以下である。なお、図6A〜6Jにおいて、各構成要素の厚さの正確な比率を示すことは意図されていない。
As shown in FIG. 6A, a
図6Aの例では、支持板80の表裏両面に金属箔11aが設けられている。支持板80の両面において、プリント配線板1が同時に形成され得る。プリント配線板1を効率よく製造することができる。しかし、金属箔11aは、必ずしも支持板80の表裏両面に設けられていなくてもよい。図6B〜6Gおよび以下の説明では、各図面上、支持板80の上側で形成されるプリント配線板に関する符号や説明は適宜省略される。また、図6B〜6Gには、支持板80の各面に製造途中のプリント配線板が1つだけ示されている。しかし、支持板80の各面において複数のプリント配線板が並置状態で同時に形成されてもよい。
In the example of FIG. 6A,
図6Bに示されるように、金属箔11aの表面上に第1絶縁層21となる絶縁材が積層され、さらにその絶縁材上に第3導体層13(図3参照)となる厚い金属箔13aが積層される。金属箔13a側から加圧され、さらに加熱されることにより、絶縁材が金属箔11aおよび金属箔13aと接合すると共に、第1絶縁層21が形成される。第1絶縁層21となる絶縁材は、たとえば、フィルム状に成型されたエポキシ樹脂や、ガラス繊維などの補強材にエポキシ樹脂を含浸してなるプリプレグである。金属箔13aは、銅箔やニッケル箔などの任意の金属箔である。好ましくは、マット面を有する金属箔が、金属箔13aに用いられる。好ましくは、図6B中の部分拡大図に示されるように、金属箔13aは、マット面(凹凸13aGを有する面)側を第1絶縁層21となる絶縁材側に向けて積層される(なお、凹凸13aGは、図6B、6D、6E、6Fおよび6G中の各部分拡大図でのみ示され、他の図面では省略されている)。
As shown in FIG. 6B, an insulating material to be the first insulating
図6Cに示されるように、金属箔13aの一面上の全面に金属被膜13bが形成される。金属被膜13bは、無電解めっきや、金属箔13aをシード層とする電解めっきにより形成される。金属箔13aおよび金属被膜13bからなる第3導体層13が得られる。たとえば、金属箔13aが第3導体層13の所望の厚さよりも薄い場合、必要に応じて金属被膜13bが形成される。従って、実施形態のプリント配線板の製造において、金属被膜13bは必ずしも形成されなくてもよい。なお、スパッタリングや蒸着法により金属被膜13bが金属箔13aの一面上に形成されてもよい。
As shown in FIG. 6C, a
図6Dに示されるように、第3導体層13が、所望の導体パターンを有するようにパターニングされる。たとえば、第3導体層13の所望の導体パターンに応じた開口を有するエッチングマスクが第3導体層13上に形成される。そして、開口内に露出する部分をエッチングで除去することにより第3導体層13がパターニングされる。その結果、第3導体層13は、内層の導体パッド7aおよび内層の配線パターン7bなどの個々の導体パターンに分離される。エッチングによる除去部分は、エッチング液の特性やエッチングの条件によって、図6Dに示されるように、金属箔11a側に向かって狭小となるテーパー形状を有し得る。第3導体層13は、サンドブラストやイオンエッチングなどのドライエッチングによりパターニングされてもよい。この場合、テーパー形状をほぼ有さない個々の導体パターンが形成され得る。なお、エッチングは、第3導体層13の厚さに応じた時間をかけて実施される。第3導体層13のエッチングは複数回に分けて行われてもよい。
As shown in FIG. 6D, the
第3導体層13のパターニング後、好ましくは、第3導体層13の各導体パターンの側面を含む第3導体層13の露出面が粗化処理される。その結果、図6D中の部分拡大図に示されるように、金属箔13aおよび金属被膜13bの露出面に凹凸13Gが形成される。この凹凸13Gは、前述の金属箔13aのマット面の凹凸13aGよりも小さい。粗化処理としては、たとえば、強アルカリ性溶液への浸漬による黒化処理や、有機酸系のエッチング剤への浸漬によるマイクロエッチングが例示される。粗化処理により、後述の層内絶縁体23(図6E参照)と第3導体層13との密着性が向上すると考えられる。なお、第1絶縁層21の金属箔13a側の露出面には、第3導体層13のエッチングや粗化処理の後も、凹凸13aGの跡が残り得る。しかし、図6D中の部分拡大図は第3導体層13に対する粗化処理の効果を示すためのものであるため、第1絶縁層21の露出面の凹凸は省略されている。後述の図6E、6Fおよび6Gにおいても、第1絶縁層21と層内絶縁体23(図6E参照)との界面の凹凸は省略されている。
After the patterning of the
図6Eに示されるように、第3導体層13の各導体パターン間のエッチングによる除去部分に層内絶縁体23が形成される。たとえば、エポキシ樹脂が第3導体層13上に印刷される。印刷されたエポキシ樹脂のうち各導体パターンの間に入り込んだ樹脂により層内絶縁体23が形成される。必要に応じて、加熱などによりエポキシ樹脂が硬化される。前述のように、層内絶縁体23は、エポキシ以外の任意の絶縁性材料を用いて形成されてもよい。図6E中の部分拡大図に示されるように、金属箔13aおよび金属被膜13bの層内絶縁体23との界面には、凹凸13Gが、前述の図6D中の部分拡大図に示される状態とほぼ同じ状態で残存している。
As shown in FIG. 6E, the in-
層内絶縁体23を構成する材料は、印刷などにより塗布される場合、図6Eに示されるように、第3導体層13の各導体パターン間だけでなく、各導体パターンの金属箔11aと反対側の表面上にも塗布され得る。その場合、図6Fに示されるように、第3導体層13の各導体パターンの表面が露出するまで、第3導体層13の各導体パターン上に塗布された層内絶縁体23の構成材料が、CMP(化学機械研磨)などにより除去される。第3導体層13の各導体パターンの一面が露出すると共に、その一面と、層内絶縁体23の金属箔11a側と反対側の一面とがほぼ面一にされる。なお、図6F中の部分拡大図に示されるように、導体被膜13bの表面では、凹凸13Gが研磨によりほぼ消滅するか、僅かな凹凸だけが導体被膜13bの表面に残ることがある。
When the material constituting the in-
その後、好ましくは、第3導体層13の露出面が、黒化処理やマイクロエッチングにより粗化処理される。前述のように、第3導体層13上の層内絶縁体の研磨工程により、凹凸13G(図6E参照)がほぼ消滅し得るか、少なくとも、その表面状態が変化し得るため、好ましくは、第3導体層13の露出面が再度粗化される。粗化処理により、後述の第2絶縁層22(図6G参照)と第3導体層13との密着性が向上すると考えられる。
Thereafter, the exposed surface of the
図6Gに示されるように、第3導体層13および層内絶縁体23の露出面上に、第2絶縁層22となる絶縁材が積層され、さらにその絶縁材上に第2導体層12(図3参照)となる金属箔12aが積層される。金属箔12a側から加圧され、さらに加熱されることにより、絶縁材が第3導体層13a、層内絶縁体23および金属箔12aと接合すると共に、第2絶縁層22が形成される。第2絶縁層22となる絶縁材は、たとえば、フィルム状に成形されたエポキシ樹脂やプリプレグであり、好ましくは、前述の第1絶縁層21となる絶縁材と同じものである。金属箔12aは、銅箔やニッケル箔などの任意の金属箔であり、好ましくは、金属箔11aと同じ材料およびほぼ同じ厚さの金属箔が、金属箔12aに用いられる。図6G中の拡大図に示されるように、前述の層内絶縁体23の研磨後の粗化処理により、導体被膜13bの表面(第2絶縁層22との界面)には、凹凸13bGが形成されている。なお、前述の層内絶縁体23の研磨工程では、導体被膜13bの表面に多少の凹凸が残ることがある。その場合、残った凹凸も再度粗化処理され得る。そのため、凹凸13bGは、層内絶縁体23の形成前の粗化処理で形成される凹凸13Gよりも若干大きくなることがある。
As shown in FIG. 6G, an insulating material to be the second insulating
第2絶縁層22の形成後、キャリア金属箔81と金属箔11aとが分離される。その結果、製造工程中のプリント配線板と支持板80とが分離される。たとえば、金属箔11aとキャリア金属箔81とを接着している熱可塑性接着剤が加熱されることにより軟化し、その状態で、金属箔11aとキャリア金属箔81とが引き離される。金属箔11aとキャリア金属箔81とが外周部分だけで接着されている場合は、接着部分が除去されるように、その接着部分よりも内周側で金属箔11aおよびキャリア金属箔81それぞれが切断されてもよい。
After the formation of the second insulating
図6Hに示されるように、第1、第3および第5のビア導体4a、4c、6b(図3参照)の形成場所に金属箔11aおよび第1絶縁層21、または、金属箔12aおよび第2絶縁層22を貫通するビアホール41が形成される。図示されていないが、第2および第4のビア導体4b、4d(図4参照)の形成場所にも同様にビアホールが形成される。たとえばCO2レーザー光が金属箔11a上および金属箔12a上の所定の位置に照射される。金属箔11aおよび金属箔12aの第3導体層13と反対側からのレーザー光の照射により、第3導体層13に向って縮径するテーパー形状のビアホール41が第3導体層13の両側の各絶縁層に形成される。第1接続用導体パッドの形成領域3a1には、第1部品実装パッドの形成領域2a1よりも多くビアホール41が形成される。また、図示されていないが、第2接続用導体パッド3b(図4参照)の形成領域には、第2部品実装パッド2b(図4参照)の形成領域よりも多くビアホール41が形成される。
As shown in FIG. 6H, the
続いて、ビアホール41内および金属箔11a、12aそれぞれの表面上に、無電解めっきもしくはスパッタリングなどにより、図示されない金属膜が形成される。そして、この金属膜をシード層として電解めっきが行われ、ビアホール41内および金属箔11a、12aの上に電解めっき膜が形成される。電解めっきは、ビアホール41の穴径や深さおよび数に応じた適切なめっき時間をかけて行われる。電解めっき工程は、めっき液の特性やめっき条件などに応じて複数回にわたって行われてもよい。その結果、図6Iに示されるように、第1絶縁層21上に第1導体層11が形成され、第2絶縁層22上に第2導体層12が形成される。第1および第2の導体層11、12は、金属箔11aまたは金属箔12a(図6H参照)、無電解めっきなどにより形成された金属膜、およびその金属膜をシード層として形成された電解めっき膜により構成され得る。しかし、図6Iおよび後述の図6Jでは、第1および第2の導体層11、12は、それぞれ、便宜上、単層構造で示されている。
Subsequently, a metal film (not shown) is formed in the via
また、第1導体層11側の各ビアホール41内に、第1導体層11と第3導体層13とを接続する第1ビア導体4a、第2ビア導体4b(図4参照)および第5ビア導体6bが形成される。同様に、第2導体層12側の各ビアホール41内に、第2導体層12と第3導体層13とを接続する第3ビア導体4cおよび第4ビア導体4d(図4参照)が形成される。第1ビア導体4aは、第1部品実装パッドの形成領域2a1に形成されており、第3ビア導体4cは、第1接続用導体パッドの形成領域3a1に形成されている。なお、図示されていないが、第2ビア導体4bは、第2部品実装パッド2b(図4参照)の形成領域に形成されており、第4ビア導体4dは、第2接続用導体パッド3b(図4参照)の形成領域に形成されている。第1接続用導体パッドの形成領域3a1には、第1部品実装パッドの形成領域2a1に形成されるビア導体(第1ビア導体4a)よりも多数の第3ビア導体4cが形成される。また、図示されていないが、第2接続用導体パッド3bの形成領域には、第2部品実装パッド2bの形成領域に形成されるビア導体(第2ビア導体4b)よりも多数の第4ビア導体4dが形成される。なお、第1および第2の導体層11、12の形成後、好ましくは、表面の平坦化のために、第1および第2の導体層11、12が過酸化水素や硫酸などからなる薬液を用いてソフトエッチングされる。
In each via
その後、第1および第2導体層11、12が所望の導体パターンにパターニングされる。すなわち、第1および第2の部品実装パッド2a、2bならびに第1および第2の接続用導体パッド3a、3b(図3および図4参照)などの第1および第2導体層11、12の各導体パターンが形成される。図6Jに示されるように、第1および第2の導体層11、12のうちの各導体パターンとなる領域上を覆うエッチングレジスト82が形成される。第1部品実装パッドの形成領域および第1接続用導体パッドの形成領域などが、エッチングレジスト82によりマスクされる。そして、第1および第2の導体層11、12のうちのエッチングレジスト82に覆われずに露出している部分がエッチングにより除去される。その結果、第1および第2の導体層11、12が所望の導体パターンを有するようにパターニングされる。これらの工程を経ることにより、図1〜4に示されるプリント配線板1が完成する。
Thereafter, the first and second conductor layers 11 and 12 are patterned into a desired conductor pattern. That is, each of the first and second conductor layers 11, 12 such as the first and second
プリント配線板1には、前述のように、ソルダーレジスト層30が形成されてもよい。ソルダーレジスト層30は、たとえば、感光性のエポキシ樹脂などを第1面1Fおよび/または第2面1Sのほぼ全面に印刷や吹き付けなどにより塗布することにより形成され得る。そして、ソルダーレジスト層30には、フォトリソグラフィ技術を用いて各部品実装パッドや各接続用導体パッドなどを露出させる開口32が設けられる。また、さらに、各部品実装パッドや各接続用導体パッドの表面上に、ニッケルやパラジウムまたは金などの無電解めっきにより表面保護膜が必要に応じて形成されてもよい。
As described above, the solder resist
また、内層の厚い導体層の両側それぞれに2つ以上の絶縁層および導体層を有するプリント配線板が製造される場合は、たとえば、図6Jに示される両側の導体層のパターニング後に、さらに、上層の絶縁層となる絶縁材が積層される。そして、図6H〜6Jに示される工程と同様の工程が繰り返される。内層の厚い導体層の両側それぞれに任意の数の絶縁層および導体層ならびにビア導体(サーマルビア)を形成することができる。 When a printed wiring board having two or more insulating layers and conductor layers on both sides of the thick inner conductor layer is manufactured, for example, after patterning the conductor layers on both sides shown in FIG. An insulating material to be an insulating layer is laminated. And the process similar to the process shown by FIGS. 6H-6J is repeated. An arbitrary number of insulating layers and conductor layers and via conductors (thermal vias) can be formed on both sides of the thick inner conductor layer.
なお、所望の導体パターンを有する第1および第2の導体層11、12は、図6Iおよび図6Jに示されるサブトラクティブ法と異なり、所謂セミアディティブ法により形成されてもよい。また、第3導体層13は、図6B〜6Dに示されるように金属箔13aの積層後にパターニングされなくてもよい。たとえば、第3導体層13は、事前にエッチングやサンドブラストにより所望の導体パターンを有するようにパターニングされ、その後第1絶縁層21上に積層されてもよい。実施形態のプリント配線板の製造方法は、図6A〜6Jを参照して説明された方法に限定されない。実施形態のプリント配線板の製造方法には、前述の各工程以外に任意の工程が追加されてもよく、前述の説明で説明された工程のうちの一部が省略されてもよい。
Unlike the subtractive method shown in FIGS. 6I and 6J, the first and second conductor layers 11 and 12 having a desired conductor pattern may be formed by a so-called semi-additive method. Moreover, the
1 プリント配線板
1F 第1面
1S 第2面
2a 第1部品実装パッド
2a1 第1部品実装パッドの形成領域
2b 第2部品実装パッド
3a 第1接続用導体パッド
3a1 第1接続用導体パッドの形成領域
3b 第2接続用導体パッド
4a 第1ビア導体
4b 第2ビア導体
4c 第3ビア導体
4d 第4ビア導体
41 ビアホール
7a 内層の導体パッド
7b 内層の配線パターン
11 第1導体層
12 第2導体層
13 第3導体層
13a 金属箔
13b 金属被膜
21 第1絶縁層
22 第2絶縁層
23 層内絶縁体
30 ソルダーレジスト層
31 ソルダーレジスト
80 支持板
82 エッチングレジスト
R 部品実装領域
DESCRIPTION OF
Claims (8)
一方および他方の最表層にそれぞれ形成されている外層の導体層と、
前記外層の導体層よりも厚く形成される内層の導体層と、
前記外層の導体層と前記内層の導体層との間に介在する絶縁層と、
前記絶縁層に密集して形成されていて前記外層の導体層のそれぞれと前記内層の導体層とを接続する複数のビア導体と、を有し、
前記外層の導体層の一方には部品実装パッドが形成され、
前記外層の導体層の他方には前記部品実装パッドと重なる位置に接続用導体パッドが形成され、
前記部品実装パッドと前記内層の導体層とが複数個の前記ビア導体で接続され、
前記接続用導体パッドと前記内層の導体層とが複数個の前記ビア導体で接続されており、
前記接続用導体パッドと前記内層の導体層とを接続する前記ビア導体の数は、前記部品実装パッドと前記内層の導体層とを接続する前記ビア導体の数よりも多い。 A printed wiring board, wherein the printed wiring board is
An outer conductor layer formed on one and the other outermost layers,
An inner conductor layer formed thicker than the outer conductor layer;
An insulating layer interposed between the outer conductor layer and the inner conductor layer;
A plurality of via conductors formed densely in the insulating layer and connecting each of the outer conductor layers and the inner conductor layer;
A component mounting pad is formed on one of the outer conductor layers,
On the other side of the outer conductor layer, a connecting conductor pad is formed at a position overlapping the component mounting pad,
The component mounting pad and the inner conductor layer are connected by a plurality of the via conductors,
The connection conductor pad and the inner conductor layer are connected by a plurality of the via conductors,
The number of via conductors that connect the connection conductor pads and the inner conductor layer is greater than the number of via conductors that connect the component mounting pads and the inner conductor layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017048886A JP2018152510A (en) | 2017-03-14 | 2017-03-14 | Printed Wiring Board |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2017048886A JP2018152510A (en) | 2017-03-14 | 2017-03-14 | Printed Wiring Board |
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| JP2018152510A true JP2018152510A (en) | 2018-09-27 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110167287A (en) * | 2019-04-29 | 2019-08-23 | 恩达电路(深圳)有限公司 | The production method of new energy OBC blind hole plate |
-
2017
- 2017-03-14 JP JP2017048886A patent/JP2018152510A/en active Pending
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