JP2018151420A - レンズ構造体 - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 119
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 119
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims abstract description 65
- -1 acrylate compound Chemical class 0.000 claims abstract description 55
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 41
- 238000007373 indentation Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 11
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 claims abstract description 11
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 113
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 8
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- YDGMGEXADBMOMJ-LURJTMIESA-N N(g)-dimethylarginine Chemical compound CN(C)C(\N)=N\CCC[C@H](N)C(O)=O YDGMGEXADBMOMJ-LURJTMIESA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical class C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- YDGMGEXADBMOMJ-UHFFFAOYSA-N asymmetrical dimethylarginine Natural products CN(C)C(N)=NCCCC(N)C(O)=O YDGMGEXADBMOMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical class C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229940105570 ornex Drugs 0.000 description 3
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 3
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YSQZSPCQDXHJDJ-UHFFFAOYSA-N 1-(pentyldisulfanyl)pentane Chemical compound CCCCCSSCCCCC YSQZSPCQDXHJDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,4,4,5-hexamethylhexane-2-thiol Chemical compound CC(C)C(C)(C)C(C)(C)C(C)(C)S YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical class OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CETBSQOFQKLHHZ-UHFFFAOYSA-N Diethyl disulfide Chemical compound CCSSCC CETBSQOFQKLHHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N Diphenyl disulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YZGQDNOIGFBYKF-UHFFFAOYSA-N Ethoxyacetic acid Chemical compound CCOCC(O)=O YZGQDNOIGFBYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical class CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical group C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 2
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- ALVPFGSHPUPROW-UHFFFAOYSA-N dipropyl disulfide Chemical compound CCCSSCCC ALVPFGSHPUPROW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N disulfiram Chemical compound CCN(CC)C(=S)SSC(=S)N(CC)CC AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethanethiol Chemical compound CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1.CC(=C)C1=CC=CC=C1 FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUVIGLJNEAMWEG-UHFFFAOYSA-N propane-1-thiol Chemical compound CCCS SUVIGLJNEAMWEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 2
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 1,2-ethanedithiol Chemical compound SCCS VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDJPKRIELSFBPE-UHFFFAOYSA-N 1-(decyldisulfanyl)decane Chemical compound CCCCCCCCCCSSCCCCCCCCCC IDJPKRIELSFBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJPDBURPGLWRPW-UHFFFAOYSA-N 1-(hexyldisulfanyl)hexane Chemical compound CCCCCCSSCCCCCC GJPDBURPGLWRPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCCOCC(C)OC(C)=O FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZOVOULUMXXLOJ-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-[(4-methylphenyl)disulfanyl]benzene Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SSC1=CC=C(C)C=C1 TZOVOULUMXXLOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYNFOMQIXZUKRK-UHFFFAOYSA-N 2,2'-dithiodiethanol Chemical compound OCCSSCCO KYNFOMQIXZUKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJIKEAQNTPCOLU-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2-diethoxyethyldisulfanyl)-1,1-diethoxyethane Chemical compound CCOC(OCC)CSSCC(OCC)OCC XJIKEAQNTPCOLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKCNDTDWDGQHSD-UHFFFAOYSA-N 2-(tert-butyldisulfanyl)-2-methylpropane Chemical compound CC(C)(C)SSC(C)(C)C BKCNDTDWDGQHSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFCQDOVPMUSZMN-UHFFFAOYSA-N 2-Naphthalenethiol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S)=CC=C21 RFCQDOVPMUSZMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUODCTNNAKSRHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)CCS SUODCTNNAKSRHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSADPHQCUURWSW-UHFFFAOYSA-N 3,9-bis(2,6-ditert-butyl-4-methylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(C(C)(C)C)=C1OP1OCC2(COP(OC=3C(=CC(C)=CC=3C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC2)CO1 SSADPHQCUURWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKKHNUKNMQLBTJ-UHFFFAOYSA-N 3-bicyclo[2.2.1]heptanyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1CC2C(OC(=O)C(=C)C)CC1C2 SKKHNUKNMQLBTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIGOJJYDFLNSGB-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanopropyl(trimethoxy)silane Chemical group CO[Si](OC)(OC)CCC[N+]#[C-] BIGOJJYDFLNSGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APWBGRBFKMJPLW-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound COC(C)CCOC(=O)CCS APWBGRBFKMJPLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPYGLNNTOXLWOB-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1-(3-methylbutyldisulfanyl)butane Chemical compound CC(C)CCSSCCC(C)C MPYGLNNTOXLWOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRXOZRLZDJAYDR-UHFFFAOYSA-N 3-methylbenzenethiol Chemical compound CC1=CC=CC(S)=C1 WRXOZRLZDJAYDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLHCBQAPPJAULW-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzenethiol Chemical compound CC1=CC=C(S)C=C1 WLHCBQAPPJAULW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEJMTSWXTZREOC-UHFFFAOYSA-N 4-sulfanylbutan-1-ol Chemical compound OCCCCS NEJMTSWXTZREOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVFNWEHKRMFNNK-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C(C(C(C)C)(C)C)(C)C)SSC(C)(C(C(C(C)C)(C)C)(C)C)C Chemical compound CC(C)(C(C(C(C)C)(C)C)(C)C)SSC(C)(C(C(C(C)C)(C)C)(C)C)C RVFNWEHKRMFNNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- CUDSBWGCGSUXDB-UHFFFAOYSA-N Dibutyl disulfide Chemical compound CCCCSSCCCC CUDSBWGCGSUXDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHAQPXNQDBHSH-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexyl disulfide Chemical compound C1CCCCC1SSC1CCCCC1 ODHAQPXNQDBHSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZAZXBXPKRULLB-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl disulfide Chemical compound CC(C)SSC(C)C LZAZXBXPKRULLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000628535 Homo sapiens Metalloreductase STEAP2 Proteins 0.000 description 1
- PWKSKIMOESPYIA-BYPYZUCNSA-N L-N-acetyl-Cysteine Chemical compound CC(=O)N[C@@H](CS)C(O)=O PWKSKIMOESPYIA-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- 102100026711 Metalloreductase STEAP2 Human genes 0.000 description 1
- 101100389975 Mus musculus Ezhip gene Proteins 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003670 adamantan-2-yl group Chemical group [H]C1([H])C(C2([H])[H])([H])C([H])([H])C3([H])C([*])([H])C1([H])C([H])([H])C2([H])C3([H])[H] 0.000 description 1
- MOLCWHCSXCKHAP-UHFFFAOYSA-N adamantane-1,3-diol Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(O)CC2(O)C3 MOLCWHCSXCKHAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001356 alkyl thiols Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- UENWRTRMUIOCKN-UHFFFAOYSA-N benzyl thiol Chemical compound SCC1=CC=CC=C1 UENWRTRMUIOCKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- LEDIWWJKWAMGLD-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylundecan-2-yl) disulfide Chemical compound CCCCCCCCCC(C)(C)SSC(C)(C)CCCCCCCCC LEDIWWJKWAMGLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DUGOZIWVEXMGBE-CHWSQXEVSA-N dexmethylphenidate Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(=O)OC)C=2C=CC=CC=2)CCCN1 DUGOZIWVEXMGBE-CHWSQXEVSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N dibenzothiazol-2-yl disulfide Chemical compound C1=CC=C2SC(SSC=3SC4=CC=CC=C4N=3)=NC2=C1 AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGAXJQVAHDTGBB-UHFFFAOYSA-N dibutylcarbamothioylsulfanyl n,n-dibutylcarbamodithioate Chemical compound CCCCN(CCCC)C(=S)SSC(=S)N(CCCC)CCCC PGAXJQVAHDTGBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- REQPQFUJGGOFQL-UHFFFAOYSA-N dimethylcarbamothioyl n,n-dimethylcarbamodithioate Chemical class CN(C)C(=S)SC(=S)N(C)C REQPQFUJGGOFQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)O GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCOC(=O)CO ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 150000002314 glycerols Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- YSGBMDFJWFIEDF-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate Chemical compound COC(=O)C(O)C(C)C YSGBMDFJWFIEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKIJJIMOAABWGF-UHFFFAOYSA-N methyl 2-sulfanylacetate Chemical compound COC(=O)CS MKIJJIMOAABWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDTLDBDUBGAEDT-UHFFFAOYSA-N methyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound COC(=O)CCS LDTLDBDUBGAEDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJVQNSXZGFXJKY-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-(1-phenylethyl)prop-2-yn-1-amine Chemical compound C#CCN(C)C(C)C1=CC=CC=C1 YJVQNSXZGFXJKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFHBOSSJYCHNBJ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)S LFHBOSSJYCHNBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWNSNYBMYBWJDN-UHFFFAOYSA-N octyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CCS LWNSNYBMYBWJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- KNBRWWCHBRQLNY-UHFFFAOYSA-N piperidine-1-carbothioylsulfanyl piperidine-1-carbodithioate Chemical compound C1CCCCN1C(=S)SSC(=S)N1CCCCC1 KNBRWWCHBRQLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-dithiol Chemical compound SCCCS ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000006254 rheological additive Substances 0.000 description 1
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 239000012321 sodium triacetoxyborohydride Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- WMXCDAVJEZZYLT-UHFFFAOYSA-N tert-butylthiol Chemical compound CC(C)(C)S WMXCDAVJEZZYLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O thiamine pyrophosphate Chemical compound CC1=C(CCOP(O)(=O)OP(O)(O)=O)SC=[N+]1CC1=CN=C(C)N=C1N AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
【課題】ガラス基板等の支持体の反り量を低減可能な、レンズ構造体を提供する。【解決手段】支持体4上に、室温での押し込み弾性率が0MPaより大きく3000MPa以下の第1の樹脂層1と、該第1の樹脂層上に第2の樹脂層2とを有し、前記支持体の反り量は0μm乃至50μmである、レンズ構造体である。前記第1の樹脂層1を形成する樹脂組成物が、下記(a)成分、下記(b)成分、並びに下記(c)成分及び/又は下記(d)成分を含む。(a)2官能ウレタン(メタ)アクリレート化合物、(b)光ラジカル開始剤、(c)フェノール系酸化防止剤、(d)ホスファイト系酸化防止剤【選択図】図1
Description
本発明は、室温での押し込み弾性率が0MPaより大きく3000MPa以下で、第2の樹脂層の下層膜として積層させることでガラス基板等の支持体の反りを抑制可能な、第1の樹脂層と、該第1の樹脂層上に前記第2の樹脂層とを、前記支持体上に有する、レンズ構造体に関するものである。本明細書では、23℃を室温と定義する。
樹脂レンズは、携帯電話、デジタルカメラ、車載カメラなどの電子機器に用いられており、その電子機器の目的に応じた、優れた光学特性を有するものであることが求められている。また、使用態様に合わせて、高い耐久性、例えば耐熱性及び耐候性、並びに歩留まりよく成形できる高い生産性が求められている。このような要求を満たす樹脂レンズ用の材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィンポリマー、メタクリル樹脂等の熱可塑性の透明樹脂が使用されていた。
しかし、熱可塑性樹脂を用いた射出成型は歩留まりや生産効率が悪く、その改善やレンズ積層時の光軸ずれの抑制のために、室温で液状の硬化性樹脂を使った押しつけ成形によるウェハレベル成形への移行が盛んに検討されている。ウェハレベル成形では、生産性の観点から、ガラス基板等の支持体上にレンズを形成するハイブリッドレンズ方式が一般的である。
ウェハレベル成形が可能な光硬化性樹脂としては、従来、金型からの良好な離型性、高透明性、半田リフロー時の耐熱黄変性といった観点から、ラジカル硬化性樹脂組成物が用いられている(特許文献1)。しかし、近年のカメラモジュールの薄化への市場要求に伴い、ハイブリッドレンズ方式に用いられる支持体の厚さが薄化している。そのため、特許文献1に記載されているラジカル硬化性樹脂組成物を用いると、半田リフロー後に、レンズ等の成形体が形成された支持体が反ってしまうという課題が顕在化している。
支持体が反る原因として、レンズ等の成形時に内部に発生する残留応力が挙げられる。したがって、反りを小さくするためには残留応力を低減する必要がある。
支持体の反りを低減する手法としては、例えば、ラジカル硬化性樹脂組成物の低収縮率化、及び冷却収縮による応力を低下させるために硬化物の低弾性率化が挙げられる。しかしながら、上記低収縮率化には限界があり、支持体の反りの問題を解決するのは難しいと考えられる。一方、硬化物の弾性率は低減できる範囲が広く、支持体の反り低減には有用である。そのため、特許文献2では、樹脂組成物を硬化してなる硬化物の25℃における動的弾性率の上限を適性に設定することで反りを抑制している。ただし、特許文献2に記載されている樹脂組成物を用いる場合、該樹脂組成物の(A)成分として好適なウレタンアクリレート化合物を合成する必要があり、汎用性に乏しい。
本発明は、前記の事情に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、汎用性が高く且つ入手性が容易な材料からなる樹脂組成物を用いても、ガラス基板等の支持体の反り量を低減可能な、室温での押し込み弾性率が0MPaより大きく3000MPa以下の第1の樹脂層を有する、レンズ構造体を提供することである。
本発明者らは、前記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、押し込み弾性率が所定の範囲の第1の樹脂層と、該第1の樹脂層上に第2の樹脂層とを、ガラス基板等の支持体上に積層することで、該支持体の反り量が低減することを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、支持体上に、室温での押し込み弾性率が0MPaより大きく3000MPa以下の第1の樹脂層と、該第1の樹脂層上に第2の樹脂層とを有し、前記支持体の反り量は0μm乃至50μmである、レンズ構造体である。前記押し込み弾性率は、好ましくは100MPaより大きく2000MPa以下である。さらに、前記支持体の反り量は、好ましくは0μm乃至45μmである。
前記支持体は、例えばガラス基板である。
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物が、例えば、下記(a)成分、該(a)成分100質量部に対し0.2質量部乃至5質量部の下記(b)成分、並びに該(a)成分100質量部に対し0.05質量部乃至1質量部の下記(c)成分及び/又は該(a)成分100質量部に対し0.1質量部乃至3質量部の下記(d)成分を含む。
(a)2官能ウレタン(メタ)アクリレート化合物
(b)光ラジカル開始剤
(c)フェノール系酸化防止剤
(d)ホスファイト系酸化防止剤
(a)2官能ウレタン(メタ)アクリレート化合物
(b)光ラジカル開始剤
(c)フェノール系酸化防止剤
(d)ホスファイト系酸化防止剤
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物が、前記(a)成分100質量部に対し0.1質量部乃至5質量部の下記(e)成分をさらに含有してもよい。
(e)接着補助剤
(e)接着補助剤
前記第1の樹脂層の膜厚が、例えば5μm乃至100μmである。
前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物が、例えば、下記(a´)成分、下記(b)成分、並びに下記(c)成分及び/又は下記(d)成分、及び任意成分として下記(f)成分を含むインプリント用光硬化性組成物である。
(a´)下記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物
(式中、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R3及びR4はそれぞれ独立に炭素原子数1乃至4のアルキレン基を表し、R5及びR6はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、r1及びr2はそれぞれ独立に1乃至5の整数を表す。)
(b)光ラジカル開始剤
(c)フェノール系酸化防止剤
(d)ホスファイト系酸化防止剤
(f)芳香族環を含まない単官能又は多官能(メタ)アクリレート化合物(ただし、前記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物を除く。)
(a´)下記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物
(b)光ラジカル開始剤
(c)フェノール系酸化防止剤
(d)ホスファイト系酸化防止剤
(f)芳香族環を含まない単官能又は多官能(メタ)アクリレート化合物(ただし、前記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物を除く。)
前記第2の樹脂層が、例えばレンズ形状を有する成形体である。
前記支持体と前記第1の樹脂層との間に接着層を有してもよい。
本発明のレンズ構造体は、支持体上に、弾性率の低い第1の樹脂層を、第2の樹脂層の下層に積層することで、該第2の樹脂層を形成する樹脂組成物を汎用性が高く且つ入手性が容易な材料で構成しても、該支持体の反り量を50μm以下に抑制することができる。
以下、本発明のレンズ構造体の構成について詳細を説明する。
<支持体>
本発明のレンズ構造体の支持体としてガラス基板を使用する場合、該ガラス基板として、例えば、ソーダ石灰ガラス、硼珪酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、及びサファイアガラスが挙げられる。前記ガラス基板としては、アルカリ金属酸化物を実質的に含まず石英ガラス及びサファイアガラスよりも低価格な無アルカリガラスが好ましく、該無アルカリガラスとして各種市販品を採用することができる。また、前記支持体の厚さは、例えば0.05mm乃至1.1mm、好ましくは0.1mm乃至0.8mmである。
本発明のレンズ構造体の支持体としてガラス基板を使用する場合、該ガラス基板として、例えば、ソーダ石灰ガラス、硼珪酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、及びサファイアガラスが挙げられる。前記ガラス基板としては、アルカリ金属酸化物を実質的に含まず石英ガラス及びサファイアガラスよりも低価格な無アルカリガラスが好ましく、該無アルカリガラスとして各種市販品を採用することができる。また、前記支持体の厚さは、例えば0.05mm乃至1.1mm、好ましくは0.1mm乃至0.8mmである。
<第1の樹脂層>
本発明のレンズ構造体の第1の樹脂層を形成する樹脂組成物は、下記(a)成分、下記(b)成分、並びに下記(c)成分及び/又は下記(d)成分を含む。
(a)2官能ウレタン(メタ)アクリレート化合物
(b)光ラジカル開始剤
(c)フェノール系酸化防止剤
(d)ホスファイト系酸化防止剤
本発明のレンズ構造体の第1の樹脂層を形成する樹脂組成物は、下記(a)成分、下記(b)成分、並びに下記(c)成分及び/又は下記(d)成分を含む。
(a)2官能ウレタン(メタ)アクリレート化合物
(b)光ラジカル開始剤
(c)フェノール系酸化防止剤
(d)ホスファイト系酸化防止剤
[(a)成分:2官能ウレタン(メタ)アクリレート化合物]
前記(a)成分として、軟質タイプの2官能ウレタン(メタ)アクリレート化合物を用いることにより、弾性率の低い第1の樹脂層が得られ、ガラス基板等の支持体の反りを抑制することが可能である。また、本発明のレンズ構造体はカメラレンズ用途であるため、該2官能ウレタン(メタ)アクリレート化合物は無黄変タイプが好適である。
前記(a)成分として、軟質タイプの2官能ウレタン(メタ)アクリレート化合物を用いることにより、弾性率の低い第1の樹脂層が得られ、ガラス基板等の支持体の反りを抑制することが可能である。また、本発明のレンズ構造体はカメラレンズ用途であるため、該2官能ウレタン(メタ)アクリレート化合物は無黄変タイプが好適である。
前記(a)成分の具体例として、アロニックス〔登録商標〕M−1100、同M−1200(以上、東亞合成(株)製)、UA−4200、UA−4400(以上、新中村化学工業(株)製)、及びEBECRYL〔登録商標〕8402、同8804、同8807(以上、ダイセル・オルネクス(株)製)が挙げられる。
[(b)成分:光ラジカル開始剤]
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の(b)成分として使用可能な光ラジカル開始剤は、例えば、アルキルフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラー(Michler)のケトン類、アシルホスフィンオキシド類、ベンゾイルベンゾエート類、オキシムエステル類、テトラメチルチウラムモノスルフィド類及びチオキサントン類が挙げられ、特に、光開裂型の光ラジカル開始剤が好ましい。
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の(b)成分として使用可能な光ラジカル開始剤は、例えば、アルキルフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラー(Michler)のケトン類、アシルホスフィンオキシド類、ベンゾイルベンゾエート類、オキシムエステル類、テトラメチルチウラムモノスルフィド類及びチオキサントン類が挙げられ、特に、光開裂型の光ラジカル開始剤が好ましい。
前記光ラジカル開始剤として、IRGACURE〔登録商標〕184、同369、同651、同500、同819、同907、同784、同2959、同CGI1700、同CGI1750、同CGI1850、同CG24−61、同TPO、同1116、同1173(以上、BASFジャパン(株)製)、及びESACURE KIP150、同KIP75(以上、Lamberti社製)等の市販品を採用することができる。
前記(b)成分の含有量は、前記(a)成分100質量部に対し、0.2質量部乃至5質量部、好ましくは0.5質量部乃至3質量部である。該(b)成分の含有量が0.2質量部より少ないと得られる硬化物の強度が低下し、5質量部より多いと得られる硬化物の耐熱黄変性が悪化する。
[(c)成分:フェノール系酸化防止剤]
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の(c)成分として使用可能なフェノール系酸化防止剤は、例えば、IRGANOX〔登録商標〕245、同1010、同1035、同1076、同1135(以上、BASFジャパン(株)製)、スミライザー〔登録商標〕GA−80、同GP、同MDP−S、同BBM−S、同WX−R(以上、住友化学(株)製)、及びアデカスタブ〔登録商標〕AO−20、同AO−30、同AO−40、同AO−50、同AO−60、同AO−80、同AO−330(以上、(株)ADEKA製)が挙げられる。
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の(c)成分として使用可能なフェノール系酸化防止剤は、例えば、IRGANOX〔登録商標〕245、同1010、同1035、同1076、同1135(以上、BASFジャパン(株)製)、スミライザー〔登録商標〕GA−80、同GP、同MDP−S、同BBM−S、同WX−R(以上、住友化学(株)製)、及びアデカスタブ〔登録商標〕AO−20、同AO−30、同AO−40、同AO−50、同AO−60、同AO−80、同AO−330(以上、(株)ADEKA製)が挙げられる。
前記フェノール系酸化防止剤の含有量は、前記(a)成分100質量部に対し0.05質量部乃至1質量部である。
[(d)成分:ホスファイト系酸化防止剤]
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の(d)成分として使用可能なホスファイト系酸化防止剤は、例えば、IRGAFOS〔登録商標〕168(BASFジャパン(株)製)及びアデカスタブ〔登録商標〕PEP−36、同PEP−8、同HP−18、同HP−10、同2112、同2112RG、同1178、同1500、同C、同135A、同3010、同TPP(以上、(株)ADEKA製)が挙げられる。
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の(d)成分として使用可能なホスファイト系酸化防止剤は、例えば、IRGAFOS〔登録商標〕168(BASFジャパン(株)製)及びアデカスタブ〔登録商標〕PEP−36、同PEP−8、同HP−18、同HP−10、同2112、同2112RG、同1178、同1500、同C、同135A、同3010、同TPP(以上、(株)ADEKA製)が挙げられる。
前記ホスファイト系酸化防止剤の含有量は、前記(a)成分100質量部に対し0.1質量部乃至3質量部である。
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物は、前記(c)成分及び前記(d)成分のいずれか一方を単独で使用しても、両方組み合わせて使用してもよい。
[(e)成分:接着補助剤]
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物は、ガラス基板等の支持体との密着性向上のため、(e)成分として接着補助剤を含有することもできる。
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物は、ガラス基板等の支持体との密着性向上のため、(e)成分として接着補助剤を含有することもできる。
前記(e)成分として使用可能な接着補助剤は、官能基として(メタ)アクリロイルオキシ基、アミノ基、イソシアネート基、又は酸無水物基を有するシランカップリング剤が挙げられる。
前記(e)成分の具体例として、KBM−503、KBM−5103、KBM−903、KBM−9659、X−12−967C(以上、信越化学工業(株)製)、及びY−9936、A−174、A−1100、A−1110、A−1310、Y−5187(以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製)が挙げられる。
前記(e)成分の含有量は、前記(a)成分100質量部に対し、0.1質量部乃至5質量部、好ましくは0.5質量部乃至3質量部である。
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物は、必要に応じて、溶剤で希釈してもよい。
前記溶剤としては、前記(a)成分、前記(b)成分、並びに前記(c)成分及び/又は前記(d)成分、さらに前記(e)成分を溶解するものであれば特に限定されない。そのような溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、2−ヘプタノン、及びγ−ブチロラクトンを挙げることができる。これらの溶剤は、単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
これらの溶剤の中でも、前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物を支持体上に塗布して形成される塗膜のレベリング性の向上の観点より、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2−ヘプタノン、乳酸エチル、乳酸ブチル、シクロペンタノン及びシクロヘキサノンが好ましい。
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の固形分濃度は、50質量%乃至100質量%(無溶剤)が好ましい。
また、前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、その他の添加剤として、紫外線吸収剤、光安定化剤、レベリング剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、消泡剤などを含有することができる。
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の調製方法は、特に限定されない。調製方法としては、例えば、前記(a)成分、前記(b)成分、並びに前記(c)成分及び/又は前記(d)成分、さらに任意で前記(e)成分を所定の割合で混合し、所望により前記溶剤、その他の添加剤をさらに添加して混合し、均一な溶液とする方法が挙げられる。
前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物を露光(光硬化)して、硬化物を得ることができる。露光する光線としては、例えば、紫外光、電子線及びX線が挙げられる。紫外線照射に用いる光源としては、例えば、太陽光線、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、及びUV−LEDが使用できる。また、溶剤を含む場合、露光前に、ホットプレート及びオーブン等の加熱手段を用いてプリベークを行ってもよい。
前記第1の樹脂層は、膜厚が厚いほど反りの低減に有利であり、好ましくは5μm乃至100μmであり、より好ましくは10μm乃至70μmである。膜厚が薄すぎる場合は反り低減効果が十分に得られず、厚すぎる場合はカメラモジュールの薄化に不利となる。
<第2の樹脂層>
本発明のレンズ構造体の第2の樹脂層を形成する樹脂組成物は、金型からの良好な離型性、高透明性、半田リフロー時の耐熱黄変性といった観点から、光ラジカル硬化性樹脂組成物であることが好ましく、下記(a´)成分、下記(b)成分、並びに下記(c)成分及び/又は下記(d)成分、及び任意成分として下記(f)成分を含む。
(a´)下記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物
(式中、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R3及びR4はそれぞれ独立に炭素原子数1乃至4のアルキレン基を表し、R5及びR6はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、r1及びr2はそれぞれ独立に1乃至5の整数を表す。)
(b)光ラジカル開始剤
(c)フェノール系酸化防止剤
(d)ホスファイト系酸化防止剤
(f)芳香族環を含まない単官能又は多官能(メタ)アクリレート化合物(ただし、前記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物を除く。)
本発明のレンズ構造体の第2の樹脂層を形成する樹脂組成物は、金型からの良好な離型性、高透明性、半田リフロー時の耐熱黄変性といった観点から、光ラジカル硬化性樹脂組成物であることが好ましく、下記(a´)成分、下記(b)成分、並びに下記(c)成分及び/又は下記(d)成分、及び任意成分として下記(f)成分を含む。
(a´)下記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物
(b)光ラジカル開始剤
(c)フェノール系酸化防止剤
(d)ホスファイト系酸化防止剤
(f)芳香族環を含まない単官能又は多官能(メタ)アクリレート化合物(ただし、前記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物を除く。)
[(a´)成分:ジ(メタ)アクリレート化合物]
前記(a´)成分として使用可能なジ(メタ)アクリレート化合物は、前記式(1)で表される、芳香族環を含まない、水添ビスフェノール骨格を有するものである。該ジ(メタ)アクリレート化合物として、例えば、エトキシ変性水添ビスフェノールAジアクリレート、エトキシ変性水添ビスフェノールAジメタクリレート、プロポキシ変性水添ビスフェノールAジアクリレート、プロポキシ変性水添ビスフェノールAジメタクリレート、ブトキシ変性水添ビスフェノールAジアクリレート、ブトキシ変性水添ビスフェノールAジメタクリレート、エトキシプロポキシ変性水添ビスフェノールAジアクリレート、エトキシプロポキシ変性水添ビスフェノールAジメタクリレート、エトキシ変性水添ビスフェノールFジアクリレート、及びエトキシ変性水添ビスフェノールFジメタクリレートが挙げられるが、これらの例に限定されるものではない。
前記(a´)成分として使用可能なジ(メタ)アクリレート化合物は、前記式(1)で表される、芳香族環を含まない、水添ビスフェノール骨格を有するものである。該ジ(メタ)アクリレート化合物として、例えば、エトキシ変性水添ビスフェノールAジアクリレート、エトキシ変性水添ビスフェノールAジメタクリレート、プロポキシ変性水添ビスフェノールAジアクリレート、プロポキシ変性水添ビスフェノールAジメタクリレート、ブトキシ変性水添ビスフェノールAジアクリレート、ブトキシ変性水添ビスフェノールAジメタクリレート、エトキシプロポキシ変性水添ビスフェノールAジアクリレート、エトキシプロポキシ変性水添ビスフェノールAジメタクリレート、エトキシ変性水添ビスフェノールFジアクリレート、及びエトキシ変性水添ビスフェノールFジメタクリレートが挙げられるが、これらの例に限定されるものではない。
前記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物として、ニューフロンティア(登録商標)HBPE−4、同HBPEM−10(以上、第一工業製薬(株)製)等の市販品を採用することができる。
[(b)成分、(c)成分、及び(d)成分]
前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物の(b)成分は、前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の(b)成分として使用可能な光ラジカル開始剤が採用される。該(b)成分の含有量は、前記(a´)成分100質量部に対し、例えば0.2質量部乃至5質量部、好ましくは0.5質量部乃至5質量部である。該(b)成分の含有量が0.2質量部より少ないと得られる硬化物の強度が低下し、5質量部より多いと得られる硬化物の耐熱黄変性が悪化する。前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物の(c)成分は、前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の(c)成分として使用可能なフェノール系酸化防止剤が採用される。該(c)成分の含有量は、前記(a´)成分100質量部に対し、例えば0.05質量部乃至2質量部である。前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物の(d)成分は、前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の(d)成分として使用可能なホスファイト系酸化防止剤が採用される。該(d)成分の含有量は、前記(a´)成分100質量部に対し、例えば0.1質量部乃至3質量部である。前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物は、前記(c)成分及び前記(d)成分のいずれか一方を単独で使用しても、両方組み合わせて使用してもよい。
前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物の(b)成分は、前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の(b)成分として使用可能な光ラジカル開始剤が採用される。該(b)成分の含有量は、前記(a´)成分100質量部に対し、例えば0.2質量部乃至5質量部、好ましくは0.5質量部乃至5質量部である。該(b)成分の含有量が0.2質量部より少ないと得られる硬化物の強度が低下し、5質量部より多いと得られる硬化物の耐熱黄変性が悪化する。前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物の(c)成分は、前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の(c)成分として使用可能なフェノール系酸化防止剤が採用される。該(c)成分の含有量は、前記(a´)成分100質量部に対し、例えば0.05質量部乃至2質量部である。前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物の(d)成分は、前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の(d)成分として使用可能なホスファイト系酸化防止剤が採用される。該(d)成分の含有量は、前記(a´)成分100質量部に対し、例えば0.1質量部乃至3質量部である。前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物は、前記(c)成分及び前記(d)成分のいずれか一方を単独で使用しても、両方組み合わせて使用してもよい。
[(f)成分:単官能又は多官能(メタ)アクリレート化合物]
前記(f)成分として使用可能な単官能又は多官能(メタ)アクリレート化合物は、芳香族環を含まないことを要件とし、且つ前記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物を除くものである。上記単官能(メタ)アクリレート化合物として、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレート、1−アダマンチル(メタ)アクリレート、2−アダマンチル(メタ)アクリレート、2−メチルアダマンタン−2−イル(メタ)アクリレート、2−エチルアダマンタン−2−イル(メタ)アクリレート、1,3−アダマンタンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカニル(メタ)アクリレート、及びトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−4−エニル(メタ)アクリレートが挙げられるが、これらの例に限定されるものではない。上記多官能(メタ)アクリレート化合物として、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化グリセリントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ポリグリセリンモノエチレンオキサイドポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、及びイソシアヌル酸トリス(2−アクリロイルオキシエチル)が挙げられるが、これらの例に限定されるものではない。
前記(f)成分として使用可能な単官能又は多官能(メタ)アクリレート化合物は、芳香族環を含まないことを要件とし、且つ前記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物を除くものである。上記単官能(メタ)アクリレート化合物として、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレート、1−アダマンチル(メタ)アクリレート、2−アダマンチル(メタ)アクリレート、2−メチルアダマンタン−2−イル(メタ)アクリレート、2−エチルアダマンタン−2−イル(メタ)アクリレート、1,3−アダマンタンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカニル(メタ)アクリレート、及びトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−4−エニル(メタ)アクリレートが挙げられるが、これらの例に限定されるものではない。上記多官能(メタ)アクリレート化合物として、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化グリセリントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ポリグリセリンモノエチレンオキサイドポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、及びイソシアヌル酸トリス(2−アクリロイルオキシエチル)が挙げられるが、これらの例に限定されるものではない。
前記単官能又は多官能(メタ)アクリレート化合物は、ファンクリル(登録商標)FA−511AS、同FA−512AS(以上、日立化成(株)製)、EtADA、EAMA(P)、ADA、ADMA、IBXA、ビスコート#150、同#155、同#200(以上、大阪有機化学(株)製)、NKエステル A−200、同A−400、同A−600、同A−1000、同A−9300、同A−9300−1CL、同UA−53H、同1G、同2G、同3G、同4G、同9G、同14G、同23G、同A−GLY−3E、同A−GLY−9E、同A−GLY−20E、同A−TMPT−3EO、同A−TMPT−9EO、同ATM−4E、同ATM−35E、同A−DPH、同A−TMPT、同A−DCP、同A−HD−N、同AD−TMP、同A−DOG、同TMPT、同DCP、同NPG、同HD−N、同D−TMP、NKオリゴ U−15HA(以上、新中村化学工業(株)製)、KAYARAD(登録商標)DPEA−12、同PEG400DA、同THE−330、同RP−1040(以上、日本化薬(株)製)、M−210、M−350、マクロモノマーAA−6、同AB−6(以上、東亞合成(株)製)、及びKAYARAD(登録商標)DPHA、同NPGDA、同PET30(以上、日本化薬(株)製)、等の市販品を採用することができる。
前記(f)成分の含有量は、前記(a´)成分100質量部に対し、例えば0質量部乃至110質量部である。該(f)成分の含有量が0質量部を含む範囲であることは、すなわち(f)成分は必須成分ではないことを意味する。該(f)成分の含有量が110質量部より多いと、前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物から得られる硬化物の機械特性が低下し、上記半田リフロー工程にてレンズの変形が生じるか、又は支持体の反りが増加してしまう。
[その他添加剤]
前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、単官能チオール化合物、ジスルフィド化合物及びα−メチルスチレンダイマーからなる群から選ばれる連鎖移動剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、レベリング剤、レオロジー調整剤、接着補助剤(シランカップリング剤)、顔料、染料、消泡剤などを含有することができる。
前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、単官能チオール化合物、ジスルフィド化合物及びα−メチルスチレンダイマーからなる群から選ばれる連鎖移動剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、レベリング剤、レオロジー調整剤、接着補助剤(シランカップリング剤)、顔料、染料、消泡剤などを含有することができる。
上記単官能チオール化合物として、例えば、メルカプト酢酸メチル、3−メルカプトプロピオン酸メチル、3−メルカプトプロピオン酸2−エチルヘキシル、3−メルカプトプロピオン酸3−メトキシブチル、3−メルカプトプロピオン酸n−オクチル、3−メルカプトプロピオン酸ステアリル等のメルカプトカルボン酸エステル類;エタンチオール、2−メチルプロパン−2−チオール、n−ドデカンチオール、2,3,3,4,4,5−ヘキサメチルヘキサン−2−チオール(tert−ドデカンチオール)、エタン−1,2−ジチオール、プロパン−1,3−ジチオール、ベンジルチオール等のアルキルチオール類;ベンゼンチオール、3−メチルベンゼンチオール、4−メチルベンゼンチオール、ナフタレン−2−チオール、ピリジン−2−チオール、ベンゾイミダゾール−2−チオール、ベンゾチアゾール−2−チオール等の芳香族チオール類;2−メルカプトエタノール、4−メルカプト−1−ブタノール等のメルカプトアルコール類;及び3−(トリメトキシシリル)プロパン−1−チオール、3−(トリエトキシシリル)プロパン−1−チオール等のシラン含有チオール類が挙げられる。
前記単官能チオール化合物として、チオカルコール〔登録商標〕08、同20(以上、花王(株)製)、BMPA、MPA−80、EHMP、NOMP、MBMP、STMP(以上、SC有機化学(株)製)、KBM−802、KBM−803(以上、信越化学(株)製)等の市販品を採用することができる。
上記ジスルフィド化合物として、例えば、ジエチルジスルフィド、ジプロピルジスルフィド、ジイソプロピルジスルフィド、ジブチルジスルフィド、ジ−tert−ブチルジスルフィド、ジペンチルジスルフィド、ジイソペンチルジスルフィド、ジヘキシルジスルフィド、ジシクロヘキシルジスルフィド、ジデシルジスルフィド、ビス(2,3,3,4,4,5−ヘキサメチルヘキサン−2−イル)ジスルフィド(ジ−tert−ドデシルジスルフィド)、ビス(2,2−ジエトキシエチル)ジスルフィド、ビス(2−ヒドロキシエチル)ジスルフィド、ジベンジルジスルフィド等のアルキルジスルフィド類;ジフェニルジスルフィド、ジ−p−トリルジスルフィド、ジ(ピリジン−2−イル)ピリジルジスルフィド、ジ(ベンゾイミダゾール−2−イル)ジスルフィド、ジ(ベンゾチアゾール−2−イル)ジスルフィド等の芳香族ジスルフィド類;及びテトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ビス(ペンタメチレン)チウラムジスルフィド等のチウラムジスルフィド類が挙げられる。
前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物が、前記単官能チオール化合物、ジスルフィド化合物及びα−メチルスチレンダイマーからなる群から選ばれる連鎖移動剤を含む場合、その含有量は、前記(a)成分100質量部に対し0.1質量部乃至3質量部である。前記連鎖移動剤の含有量が3質量%より多いと、樹脂組成物から得られる第2の樹脂層の機械強度が低下する。
ガラス基板等の支持体上に、前記第1の樹脂層を前記第2の樹脂層の下層膜として積層することで、該第2の樹脂層にレンズ形状を成形する際に該第2の樹脂層の内部に発生する残留応力が緩和し、前記支持体の反りが低減する。前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物は、レンズ材として使用可能なラジカル硬化性樹脂組成物を広く用いることができる。
前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物は、例えば、インプリント成形法を使用することによって、硬化物の形成と並行して各種成形体を容易に製造することができる。成形体を製造する方法としては、例えば、接し合う支持体と鋳型との間の空間に、前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物を充填する工程、該空間に充填された樹脂組成物を露光して光硬化する工程、得られた光硬化物を取り出して離型する工程、並びに、該光硬化物を離型する工程の前、中途又は後において加熱する工程を含む方法が挙げられる。
上記露光して光硬化する工程は、前述の第1の樹脂層を形成する樹脂組成物から硬化物を得るための条件を適用して実施することができる。さらに、上記光硬化物を加熱する条件としては、特に限定されないが、通常、50℃乃至260℃、1分乃至24時間の範囲から適宜選択される。また、加熱手段としては、特に限定されないが、ホットプレート及びオーブンが挙げられる。このような方法で製造された成形体は、カメラモジュール用レンズとして好適に使用することができる。
<接着層>
<接着層>
本発明のレンズ構造体は、ガラス基板等の支持体と前記第1の樹脂層との間に、接着層を積層することで、該支持体と該第1の樹脂層と間の密着性を向上させることができる。
前記接着層として、前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の(e)成分として例示した、官能基として(メタ)アクリロイルオキシ基、アミノ基、イソシアネート基、又は酸無水物基を有する前記シランカップリング剤を、前記溶剤で1質量%に希釈した溶液を用いることができる。
本発明のレンズ構造体を、図1及び図2を参照しながら説明する。図1に示す例においては、本発明のレンズ構造体は、ガラス基板等の支持体4上に、第1の樹脂層1及び、その上層に第2の樹脂層2を積層した構造からなる。
また、図2に示す例のように、必要に応じて、ガラス基板等の支持体4と前記第1の樹脂層1の間に接着層3を積層してもよい。
以下に実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでない。なお、下記実施例において、試料の調製及び物性の分析に用いた装置及び条件は以下の通りである。
(1)撹拌脱泡機
装置:(株)シンキー製 自転・公転ミキサー あわとり練太郎〔登録商標〕ARE−310
(2)スピンコーター
装置:Brewer Science社製 CEE 200X
(3)UV露光
装置:アイグラフィックス(株)製 バッチ式UV照射装置(高圧水銀灯2kW×1灯)
(4)膜厚測定
機器:(株)ミツトヨ製 クイックマイクロ MDQ−30
(5)押し込み弾性率測定
装置:(株)島津製作所製 島津ダイナミック超微小硬度計 DUH−211
圧子:三角錐圧子(材質:ダイヤモンド)
(6)透過率測定
装置:(株)島津製作所製 紫外線可視分光光度計UV−2600
リファレンス:石英
(7)反り量測定
装置:三鷹公器(株)製 非接触表面性状装置PF−60
(1)撹拌脱泡機
装置:(株)シンキー製 自転・公転ミキサー あわとり練太郎〔登録商標〕ARE−310
(2)スピンコーター
装置:Brewer Science社製 CEE 200X
(3)UV露光
装置:アイグラフィックス(株)製 バッチ式UV照射装置(高圧水銀灯2kW×1灯)
(4)膜厚測定
機器:(株)ミツトヨ製 クイックマイクロ MDQ−30
(5)押し込み弾性率測定
装置:(株)島津製作所製 島津ダイナミック超微小硬度計 DUH−211
圧子:三角錐圧子(材質:ダイヤモンド)
(6)透過率測定
装置:(株)島津製作所製 紫外線可視分光光度計UV−2600
リファレンス:石英
(7)反り量測定
装置:三鷹公器(株)製 非接触表面性状装置PF−60
各実施例及び比較例において使用した化合物の供給元は以下の通りである。
M1200:東亞合成(株)製 商品名:アロニックス〔登録商標〕M−1200
EB8402:ダイセル・オルネクス(株)製 商品名:EBECRYL〔登録商標〕8402
UA4400:新中村化学工業(株)製 商品名:UA−4400
EB4738:ダイセル・オルネクス(株)製 商品名:EBECRYL〔登録商標〕4738
KBM5103:信越化学工業(株)製 商品名:KBM−5103
X−12−967C:信越化学工業(株)製 商品名:X−12−967C
HBPE4:第一工業製薬(株)製 商品名:ニューフロンティア〔登録商標〕HBPE−4
ADMA:大阪有機化学工業(株)製 商品名:ADMA
I184:BASF社製 商品名:Irgacure〔登録商標〕184
I1010:BASF社製 商品名:Irganox〔登録商標〕1010
1178:(株)ADEKA製 商品名:アデカスタブ〔登録商標〕1178
DDT:花王(株)製 商品名:チオカルコール〔登録商標〕20
M1200:東亞合成(株)製 商品名:アロニックス〔登録商標〕M−1200
EB8402:ダイセル・オルネクス(株)製 商品名:EBECRYL〔登録商標〕8402
UA4400:新中村化学工業(株)製 商品名:UA−4400
EB4738:ダイセル・オルネクス(株)製 商品名:EBECRYL〔登録商標〕4738
KBM5103:信越化学工業(株)製 商品名:KBM−5103
X−12−967C:信越化学工業(株)製 商品名:X−12−967C
HBPE4:第一工業製薬(株)製 商品名:ニューフロンティア〔登録商標〕HBPE−4
ADMA:大阪有機化学工業(株)製 商品名:ADMA
I184:BASF社製 商品名:Irgacure〔登録商標〕184
I1010:BASF社製 商品名:Irganox〔登録商標〕1010
1178:(株)ADEKA製 商品名:アデカスタブ〔登録商標〕1178
DDT:花王(株)製 商品名:チオカルコール〔登録商標〕20
[第1の樹脂層を形成する樹脂組成物の調製]
<実施例1>
前記(a)成分としてM1200を100質量部、前記(b)成分としてI184を2質量部、前記(c)成分としてI1010を0.5質量部、前記(d)成分として1178を1質量部、及び前記(e)成分としてKBM5103を1質量部、をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させ、80質量%の溶液(樹脂組成物1)を調製した。
<実施例1>
前記(a)成分としてM1200を100質量部、前記(b)成分としてI184を2質量部、前記(c)成分としてI1010を0.5質量部、前記(d)成分として1178を1質量部、及び前記(e)成分としてKBM5103を1質量部、をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させ、80質量%の溶液(樹脂組成物1)を調製した。
<実施例2>
前記(a)成分としてEB8402を100質量部、前記(b)成分としてI184を2質量部、前記(c)成分としてI1010を0.5質量部、前記(d)成分として1178を1質量部、及び前記(e)成分としてX−12−967Cを1質量部、をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させ、90質量%の溶液(樹脂組成物2)を調製した。
前記(a)成分としてEB8402を100質量部、前記(b)成分としてI184を2質量部、前記(c)成分としてI1010を0.5質量部、前記(d)成分として1178を1質量部、及び前記(e)成分としてX−12−967Cを1質量部、をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させ、90質量%の溶液(樹脂組成物2)を調製した。
<実施例3>
前記(a)成分としてUA4400を100質量部、前記(b)成分としてI184を2質量部、前記(c)成分としてI1010を0.5質量部、前記(d)成分として1178を1質量部、及び前記(e)成分としてX−12−967Cを1質量部、を混合し、無溶媒サンプル(樹脂組成物3)を調製した。
前記(a)成分としてUA4400を100質量部、前記(b)成分としてI184を2質量部、前記(c)成分としてI1010を0.5質量部、前記(d)成分として1178を1質量部、及び前記(e)成分としてX−12−967Cを1質量部、を混合し、無溶媒サンプル(樹脂組成物3)を調製した。
<比較例1>
3官能ウレタンアクリレート化合物であるEB4738を100質量部、前記(b)成分としてI184を2質量部、前記(c)成分としてI1010を0.5質量部、前記(d)成分として1178を1質量部、及び前記(e)成分としてX−12−967Cを1質量部、をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させ、90質量%の溶液(樹脂組成物4)を調製した。
3官能ウレタンアクリレート化合物であるEB4738を100質量部、前記(b)成分としてI184を2質量部、前記(c)成分としてI1010を0.5質量部、前記(d)成分として1178を1質量部、及び前記(e)成分としてX−12−967Cを1質量部、をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させ、90質量%の溶液(樹脂組成物4)を調製した。
[第2の樹脂層を形成する樹脂組成物の調製]
<実施例4>
前記(a´)成分としてHBPE4を50質量部、前記(f)成分としてADMAを50質量部、前記(b)成分としてI184を2質量部、前記(c)成分としてI1010を0.5質量部、前記(d)成分として1178を1質量部、及びその他添加剤として単官能チオール化合物であるDDTを1質量部の割合で配合し、前記撹拌脱泡機を用いて50℃で3時間撹拌混合した。更に同装置を用いて10分間撹拌脱泡することで、第2の樹脂層を形成する樹脂組成物を調製した。
<実施例4>
前記(a´)成分としてHBPE4を50質量部、前記(f)成分としてADMAを50質量部、前記(b)成分としてI184を2質量部、前記(c)成分としてI1010を0.5質量部、前記(d)成分として1178を1質量部、及びその他添加剤として単官能チオール化合物であるDDTを1質量部の割合で配合し、前記撹拌脱泡機を用いて50℃で3時間撹拌混合した。更に同装置を用いて10分間撹拌脱泡することで、第2の樹脂層を形成する樹脂組成物を調製した。
[押し込み弾性率評価]
実施例1乃至実施例3及び比較例1で調製した第1の樹脂層を形成する樹脂組成物1乃至4を、それぞれ、前記スピンコーターを用いてガラス基板(松浪硝子工業(株)製 MICRO SLIDE GLASS S9111、2.5cm角、0.8mm〜1.0mm厚)に塗布し、ホットプレート上において60℃で5分間プリベークした。次いで、前記UV照射装置を用いてi線バンドパスフィルター(朝日分光(株)製)を介して20mW/cm2で300秒間UV露光することで第1の樹脂層を作製した。作製された第1の樹脂層の膜厚を前記膜厚測定器で測定した結果、50μmであった。
実施例1乃至実施例3及び比較例1で調製した第1の樹脂層を形成する樹脂組成物1乃至4を、それぞれ、前記スピンコーターを用いてガラス基板(松浪硝子工業(株)製 MICRO SLIDE GLASS S9111、2.5cm角、0.8mm〜1.0mm厚)に塗布し、ホットプレート上において60℃で5分間プリベークした。次いで、前記UV照射装置を用いてi線バンドパスフィルター(朝日分光(株)製)を介して20mW/cm2で300秒間UV露光することで第1の樹脂層を作製した。作製された第1の樹脂層の膜厚を前記膜厚測定器で測定した結果、50μmであった。
前記の方法で作製した第1の樹脂層の押し込み弾性率の測定は、室温にて、前記押し込み弾性率測定装置を用いて以下の手順で行った。
(1)負荷速度1.46mN/secで荷重5mNまで荷重を負荷。
(2)最大荷重が付加された状態で10秒間保持後、荷重を除荷。
測定位置を変えながら、以上の(1)及び(2)の手順を繰り返し実施し、3点のデータを取得した。得られた3点の押し込み弾性率の平均値を下記表1に示す。
(1)負荷速度1.46mN/secで荷重5mNまで荷重を負荷。
(2)最大荷重が付加された状態で10秒間保持後、荷重を除荷。
測定位置を変えながら、以上の(1)及び(2)の手順を繰り返し実施し、3点のデータを取得した。得られた3点の押し込み弾性率の平均値を下記表1に示す。
[透過率及び耐熱黄変性評価]
実施例1乃至実施例3及び比較例1で調製した第1の樹脂層を形成する樹脂組成物1乃至4を、それぞれ、前記スピンコーターを用いて石英ガラス上に650rpm乃至1200rpmの回転数で塗布し、ホットプレート上において60℃で5分間プリベークした。次いで、前記UV照射装置を用いて前記i線バンドパスフィルターを介して20mW/cm2で300秒間UV露光することで、膜厚50μmの第1の樹脂層を作製した。
実施例1乃至実施例3及び比較例1で調製した第1の樹脂層を形成する樹脂組成物1乃至4を、それぞれ、前記スピンコーターを用いて石英ガラス上に650rpm乃至1200rpmの回転数で塗布し、ホットプレート上において60℃で5分間プリベークした。次いで、前記UV照射装置を用いて前記i線バンドパスフィルターを介して20mW/cm2で300秒間UV露光することで、膜厚50μmの第1の樹脂層を作製した。
前記の方法で作製した第1の樹脂層の波長410nmの透過率を、前記紫外可視近赤外分光光度計を用いて測定した。結果を下記表1に示す。さらに前記第1の樹脂層を260℃に加熱したホットプレート上で3分間加熱し、耐熱性試験を行った。耐熱性試験後の硬化膜の波長410nmの透過率を、前記紫外可視近赤外分光光度計を用いて測定し、加熱前後の透過率変化から耐熱黄変性を評価した。結果を下記表1に併せて示す。
[反り量の評価]
実施例1乃至実施例3及び比較例1で調製した第1の樹脂層を形成する樹脂組成物1乃至4を、それぞれ、前記スピンコーターを用いてガラス基板(1.8cm角、0.5mm厚)に塗布し、ホットプレート上において60℃で5分間プリベークした。次いで、前記UV照射装置を用いて前記i線バンドパスフィルターを介して20mW/cm2で300秒間UV露光することで、第1の樹脂層を作製した。
実施例1乃至実施例3及び比較例1で調製した第1の樹脂層を形成する樹脂組成物1乃至4を、それぞれ、前記スピンコーターを用いてガラス基板(1.8cm角、0.5mm厚)に塗布し、ホットプレート上において60℃で5分間プリベークした。次いで、前記UV照射装置を用いて前記i線バンドパスフィルターを介して20mW/cm2で300秒間UV露光することで、第1の樹脂層を作製した。
さらに、実施例4で調製した第2の樹脂層を形成する樹脂組成物0.040gを、NOVEC〔登録商標〕1720(スリーエムジャパン(株)製)を塗布し乾燥することで離型処理したガラス基板上に秤量した。その後、500μm厚のシリコーンゴム製スペーサーを介して、前記ガラス基板上に作製した第1の樹脂層で挟み込んだ。次いで、この第2の樹脂層を形成する樹脂組成物を、前記UV照射装置を用いて前記i線バンドパスフィルターを介して20mW/cm2で300秒間UV露光した。露光後得られた硬化物を、前記離型処理したガラス基板から剥離した後、150℃のホットプレートで20分間加熱することで、前記ガラス基板上に作製した第1の樹脂層上に、直径1.0cm、厚さ0.5mm及び質量0.040gの第2の樹脂層を作製した。
<比較例2>
本比較例は、第1の樹脂層を作製しない例である。実施例4で調製した第2の樹脂層を形成する樹脂組成物0.040gを、NOVEC〔登録商標〕1720(スリーエムジャパン(株)製)を塗布し乾燥することで離型処理したガラス基板上に秤量した。その後、500μm厚のシリコーンゴム製スペーサーを介して、KBM−5103をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで1質量%に希釈した溶液を塗布し乾燥することで密着処理したガラス基板(1.8cm角、0.5mm厚)で挟み込んだ。次いで、この第2の樹脂層を形成する樹脂組成物を、前記UV照射装置を用いて前記i線バンドパスフィルターを介して20mW/cm2で300秒間UV露光した。露光後得られた硬化物を、前記離型処理したガラス基板から剥離した後、150℃のホットプレートで20分間加熱することで、前記密着処理したガラス基板上に、直径1.0cm、厚さ0.5mm及び質量0.04gの第2の樹脂層を作製した。
本比較例は、第1の樹脂層を作製しない例である。実施例4で調製した第2の樹脂層を形成する樹脂組成物0.040gを、NOVEC〔登録商標〕1720(スリーエムジャパン(株)製)を塗布し乾燥することで離型処理したガラス基板上に秤量した。その後、500μm厚のシリコーンゴム製スペーサーを介して、KBM−5103をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで1質量%に希釈した溶液を塗布し乾燥することで密着処理したガラス基板(1.8cm角、0.5mm厚)で挟み込んだ。次いで、この第2の樹脂層を形成する樹脂組成物を、前記UV照射装置を用いて前記i線バンドパスフィルターを介して20mW/cm2で300秒間UV露光した。露光後得られた硬化物を、前記離型処理したガラス基板から剥離した後、150℃のホットプレートで20分間加熱することで、前記密着処理したガラス基板上に、直径1.0cm、厚さ0.5mm及び質量0.04gの第2の樹脂層を作製した。
前記第2の樹脂層が作製されたガラス基板を、前記非接触表面性状測定装置のステージに該ガラス基板が上面になるよう配置した。ガラス基板の中心を測定開始点とし、該ガラス基板の4つの頂点に向け前記ステージに対して垂直方向(Z軸)の変位を測定した。測定データから、前記ガラス基板の中心と該ガラス基板の各頂点との間の垂直方向(Z軸)の変位量を算出し、それらの平均値を反り量と定義した。図3にガラス基板の反り量の評価方法を模式図で示す。前記測定後のガラス基板を、260℃のホットプレートで3分間加熱することで耐熱性試験を行った後、前記方法により再度測定を行い、反り量の評価を行った。それぞれの結果を下記表1に併せて示す。
表1に示すように、実施例1乃至実施例3で調製した樹脂組成物1乃至3から作製した第1の樹脂層は、押し込み弾性率が十分に低く、ガラス基板の反り量の低減に有利である。また、前記第1の樹脂層は、耐熱性試験前後の透過率及び耐熱黄変性が良好であることが分かった。
さらに、実施例1乃至実施例3で調製した樹脂組成物1乃至樹脂組成物3から作製した第1の樹脂層を有する本発明の構造体は、比較例1で調製した樹脂組成物4から作製した第1の樹脂層を有する構造体、及び第1の樹脂層を有さない比較例2と比べて、耐熱性試験前後でのガラス基板の反り量が半分以下に減少することが確認された。すなわち、樹脂組成物1乃至樹脂組成物3から作製した第1の樹脂層を、第2の樹脂層の下層膜として積層させることで、支持体であるガラス基板の反り量を大幅に低減できることが示された。
1:第1の樹脂層
2:第2の樹脂層
3:接着層
4:ガラス基板等の支持体
2:第2の樹脂層
3:接着層
4:ガラス基板等の支持体
Claims (8)
- 支持体上に、室温での押し込み弾性率が0MPaより大きく3000MPa以下の第1の樹脂層と、該第1の樹脂層上に第2の樹脂層とを有し、前記支持体の反り量は0μm乃至50μmである、レンズ構造体。
- 前記支持体はガラス基板である、請求項1に記載のレンズ構造体。
- 前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物が、下記(a)成分、該(a)成分100質量部に対し0.2質量部乃至5質量部の下記(b)成分、並びに該(a)成分100質量部に対し0.05質量部乃至1質量部の下記(c)成分及び/又は該(a)成分100質量部に対し0.1質量部乃至3質量部の下記(d)成分を含む、請求項1又は請求項2に記載のレンズ構造体。
(a)2官能ウレタン(メタ)アクリレート化合物
(b)光ラジカル開始剤
(c)フェノール系酸化防止剤
(d)ホスファイト系酸化防止剤 - 前記第1の樹脂層を形成する樹脂組成物が、前記(a)成分100質量部に対し0.1質量部乃至5質量部の下記(e)成分をさらに含有する、請求項3に記載のレンズ構造体。
(e)接着補助剤 - 前記第1の樹脂層の膜厚が5μm乃至100μmである、請求項1乃至請求項4の何れか一項に記載のレンズ構造体。
- 前記第2の樹脂層を形成する樹脂組成物が、下記(a´)成分、下記(b)成分、並びに下記(c)成分及び/又は下記(d)成分、及び任意成分として下記(f)成分を含むインプリント用光硬化性組成物である、請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載のレンズ構造体。
(a´)下記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物
(式中、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R3及びR4はそれぞれ独立に炭素原子数1乃至4のアルキレン基を表し、R5及びR6はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、r1及びr2はそれぞれ独立に1乃至5の整数を表す。)
(b)光ラジカル開始剤
(c)フェノール系酸化防止剤
(d)ホスファイト系酸化防止剤
(f)芳香族環を含まない単官能又は多官能(メタ)アクリレート化合物(ただし、前記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物を除く。) - 前記第2の樹脂層がレンズ形状を有する成形体である、請求項1乃至請求項6の何れか一項に記載のレンズ構造体。
- 前記支持体と前記第1の樹脂層との間に接着層を有する、請求項1乃至請求項7の何れか一項に記載のレンズ構造体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017045387A JP2018151420A (ja) | 2017-03-09 | 2017-03-09 | レンズ構造体 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP2017045387A JP2018151420A (ja) | 2017-03-09 | 2017-03-09 | レンズ構造体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018151420A true JP2018151420A (ja) | 2018-09-27 |
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Family Applications (1)
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| JP2017045387A Pending JP2018151420A (ja) | 2017-03-09 | 2017-03-09 | レンズ構造体 |
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| JP (1) | JP2018151420A (ja) |
-
2017
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