JP2018144384A - 基板及び液体吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板を保護基板から剥離する際に、基板に粘着剤が残存しにくくする。【解決手段】基板30と保護基板23とを発泡性を有する両面テープ31を介して貼り合わせ、保護基板23が貼り合わされた基板30に所定の加工を行う。所定の加工が行われた後に、両面テープ31を発泡させて保護基板23と両面テープ31とを分離し、保護基板23が分離された両面テープ31と基板30とを分離する。両面テープ31の基板30に接する面は、保護基板23に接する面よりも発泡性が低い。【選択図】図2
Description
本発明は基板の製造方法に関し、特に吐出口が形成された吐出口形成部材を備えた液体吐出ヘッドの製造方法に関する。
液体吐出ヘッドは、一般に、インク液滴を吐出させるための複数の吐出口が形成された吐出口形成部材と、吐出口形成部材に接合され、吐出口形成部材との間で圧力室を形成する圧力室基板と、を有している。吐出口形成部材は、一端が圧力室に連通し、他端に吐出口が形成された貫通孔(以下、吐出流路という)を備えている。圧力室基板には圧電素子などの駆動部が形成されている。駆動部を駆動して圧力室のインクに圧力を加えることで、選択された吐出口からインク液滴が吐出する。
近年、液体吐出ヘッドの印字品質に対する要求が一段と強まり、吐出性能の更なる向上が要求されている。吐出性能を改善するためには、例えば吐出口形成部材の吐出流路の流路抵抗を調整することが望ましい。そのため、吐出口形成部材の厚さを研削や研磨で調整し、吐出流路の流路長を最適化することが行われている(特許文献1,2)。
近年、液体吐出ヘッドの印字品質に対する要求が一段と強まり、吐出性能の更なる向上が要求されている。吐出性能を改善するためには、例えば吐出口形成部材の吐出流路の流路抵抗を調整することが望ましい。そのため、吐出口形成部材の厚さを研削や研磨で調整し、吐出流路の流路長を最適化することが行われている(特許文献1,2)。
特許文献1,2に記載された液体吐出ヘッドの製造方法では、研削や研磨によって薄化される吐出口形成部材を保護するため、吐出口形成部材に予め保護基板が取り付けられ、研削や研磨の終了後に吐出口形成部材が保護基板から剥離される。薄化された吐出口形成部材を保護基板から剥離する際に吐出口形成部材に割れやクラックが発生しないよう、吐出口形成部材は発泡性の両面テープで保護基板に貼り付けられる。発泡性の両面テープは、少なくとも片面に光や熱で発泡する自己剥離層を有している。自己剥離層は発泡性粘着層とも呼ばれる。両面テープに光または熱を照射し、自己剥離層で気泡を成長させることで、両面テープと吐出口形成部材との間に界面剥離が生じる。これによって、吐出口形成部材をわずかな外力で容易に保護基板から引き離すことができる。従って、剥離層界面での再密着による剥離性低下に起因するウェハの割れ、クラックといった不良が発生しにくくなり、生産性の向上と歩留まりの向上を同時に実現できる。発泡性の両面テープとしては、両面UV(紫外線)発泡タイプ(特許文献1)、片面熱発泡タイプ(特許文献2)などが知られている。また、両面テープの代わりに発泡性剥離層と樹脂層をコーティングする方法(特許文献3)も知られている。
吐出口形成部材のように、保護基板を貼り付けた状態で薄化などの加工を行う基板(第1の基板という)は、発泡性の両面テープで保護基板に貼り付けることで、加工後の保護基板の取り外しが容易となる。しかし、発泡性粘着層に含まれる粘着剤は、両面テープの剥離後に第1の基板に残存しやすいという問題がある。特許文献1,2に記載された製造方法では、両面テープは発泡性粘着層が吐出口形成部材に接するように貼られているため、保護基板から第1の基板を剥離する際に、粘着剤が第1の基板に残存しやすい。
本発明は、第1の基板を保護基板から剥離する際に、第1の基板に粘着剤が残存しにくい基板の製造方法を提供することを目的とする。
本発明の基板の製造方法は、第1の基板と保護基板とを発泡性を有する両面テープを介して貼り合わせることと、保護基板が貼り合わされた第1の基板に所定の加工を行うことと、所定の加工が行われた後に、両面テープを発泡させて保護基板と両面テープとを分離することと、保護基板が分離された両面テープと第1の基板とを分離することと、を有している。両面テープの第1の基板に接する面は、保護基板に接する面よりも発泡性が低い。
本発明によれば両面テープの第1の基板に接する面は、保護基板に接する面よりも発泡性が少ないため、第1の基板を保護基板から剥離する際の第1の基板に粘着剤が残存しにくい。
図1は、本発明に係る製造方法により製造される液体吐出ヘッド1の一例を、縦断面で模式的に示している。図1にはピエゾ圧電体を用いた圧電方式の液体吐出ヘッドを示しているが、本発明は圧電方式に限定されるものではなく、吐出口形成部材4を有するインクジェットヘッドに広く適用することができる。液体吐出ヘッド1は、インクが貯留される圧力室11が形成された圧力室基板2と、アクチュエータ3と、吐出口形成部材4と、を備えている。圧力室基板2はアクチュエータ3と吐出口形成部材4との間に位置している。圧力室11の内部のインクが接触する部分には、耐インク保護膜(図示せず)が形成されている。アクチュエータ3は、振動板12の上に下電極13と、圧電体14と、上電極15とが積層された構造になっている。吐出口形成部材4はシリコンからなる。吐出口形成部材4には、圧力室11と対向する位置で吐出口形成部材4を貫通する吐出流路17が形成されている。吐出流路17の一端は圧力室11と連通しており、他端はインクが吐出する吐出口17aとなっている。吐出口形成部材4の圧力室11と対向する面には第1の耐インク保護膜18が、この面の裏面、すなわち吐出口17aが開口する面には第2の耐インク保護膜19が、吐出流路17の内壁には第3の耐インク保護膜20が形成されている。第1〜第3の耐インク保護膜18,19,20はアルカリインクに耐性をもつ酸化シリコン、窒化シリコン、酸化タンタル等で形成することができる。第2の耐インク保護膜19は撥水膜21で覆われている。上電極15と下電極13との間にパルス電圧が印加されると圧電体14が変形し、振動板12が撓む。これによって圧力室11内の圧力が変化し、吐出口17aよりインクが吐出される。
次に、図2,3を参照して、上述した液体吐出ヘッド1の製造方法を実施例に基づいて説明する。
まず、図2(a)に示すように、SOI(Silicon on Insulator)基板5を用意した。SOI基板5は、吐出口形成部材4の主要部となる第1のシリコン層16と、後工程で除去される第2のシリコン層22と、この一対のシリコン層16,22の間に挿入され、第1の耐インク保護膜18となる第1の酸化シリコン層28と、からなる。第2のシリコン層22はSOI基板5のハンドル層である。第1のシリコン層16の厚さは10μm、第2のシリコン層22の厚さは525μm、第1の酸化シリコン層28の厚さは0.5μmである。第1のシリコン層16の第1の酸化シリコン層28と反対側の表面は、吐出口17aが形成される第1の面16aとなる。
まず、図2(a)に示すように、SOI(Silicon on Insulator)基板5を用意した。SOI基板5は、吐出口形成部材4の主要部となる第1のシリコン層16と、後工程で除去される第2のシリコン層22と、この一対のシリコン層16,22の間に挿入され、第1の耐インク保護膜18となる第1の酸化シリコン層28と、からなる。第2のシリコン層22はSOI基板5のハンドル層である。第1のシリコン層16の厚さは10μm、第2のシリコン層22の厚さは525μm、第1の酸化シリコン層28の厚さは0.5μmである。第1のシリコン層16の第1の酸化シリコン層28と反対側の表面は、吐出口17aが形成される第1の面16aとなる。
次に、図2(b)に示すように、第1のシリコン層16に後工程で吐出流路17となる第1の凹部24を形成した。具体的には、第1のシリコン層16の第1の面16aにレジストパターンを形成し、シリコンの深堀加工(deep-RIE)で第1のシリコン層16に貫通孔を形成した。続いて第1の酸化シリコン層28をドライエッチングし、第1の凹部24を形成し、レジストを除去した。第1の凹部24(すなわち吐出流路17)の直径は20μmとした。ドライエッチングされた第1の酸化シリコン層28は第1の耐インク保護膜18となる。
次に、図2(c)に示すように、第1の面16aに第2の耐インク保護膜19を形成した。本実施例では、熱酸化プロセスにより厚さ0.2μmの酸化シリコン層を形成した。これと同時に、第1の凹部24の側壁に同じく酸化シリコンからなる第3の耐インク保護膜20が形成され、さらに第1の凹部24の底部にも酸化シリコン層29が形成された。
次に、図2(d)に示すように、第2の耐インク保護膜19上に撥水膜21を形成した。撥水膜21は、フッ素原子を含有した化合物をスピンコーター、ディッピング、真空蒸着等の成膜方法で形成する。本実施例では、真空蒸着法でフッ素含有膜を形成した。撥水膜21は第1の凹部24の内部にも進入し、第3の耐インク保護膜20と酸化シリコン層29の上にも形成される。以上の工程により、SOI基板5に第1の凹部24が形成され、第1の面16aに第2の耐インク保護膜19と撥水膜21が形成された第1の基板30が形成される。
次に、図2(e)に示すように、第1の基板30と保護基板23とを、発泡性の両面テープ31を用いて貼り付けた。第1の基板30の第1の凹部24が形成された第1の面30a(すなわち、撥水膜21の表面)が保護基板23と対向する。保護基板23は厚さ525μmのガラス基板である。発泡性の両面テープ31は、一般的に基材(図示せず)の一方の面にUV光や熱により発泡する発泡性粘着層が、基材の他方の面に発泡性のない非発泡性粘着層が形成されている。非発泡性粘着層としては感圧型の粘着剤やUV硬化型の粘着剤が用いられる。本実施例では、発泡性粘着層32が保護基板23に接するように貼り付けられ、それによって、後述するように保護基板23を浮かせて剥離することができる。両面テープ31として、日東電工株式会社製の発泡性の熱剥離型両面テープであるリバアルファ3195Vを用い、撥水膜21すなわち第1の基板30の第1の面30aが非発泡性粘着層33に接するように第1の基板30と貼り合わせた。つまり、非発泡性粘着層33の発泡性がない粘着面が第1の基板30の第1の面30aに接する面となっている。リバアルファは基材と、基材の一方の面に形成された加熱発泡型の発泡性粘着層と、基材の他方の面に形成された感圧型の非発泡性粘着層と、で構成され、熱剥離温度は170℃である。この他、加熱発泡型の発泡性粘着層とUV硬化型の非発泡性粘着層を備える日東電工株式会社製NWS−U228F、UV発泡型の発泡性粘着層とUV硬化型の非発泡性粘着層を備える積水化学工業株式会社製SELFAを用いることもできる。
両面テープ31の代わりに、樹脂層と発泡性剥離層をコーティングすることも可能である。例えば、図2(e)において、第1の基板30の第1の面30a(撥水膜21の表面)に樹脂層、発泡性剥離層の順で塗布すれば、両面テープ31と同等の機能を持つ接着層が得られる。しかし、この方法は樹脂層を剥離する際、剥離された樹脂層が第1の基板30に残りやすく、除去のための追加の工程が必要となる。また、撥水膜21に樹脂を塗布する際、樹脂層が撥水膜21に弾かれ、樹脂層を均一に塗布することが困難である。さらに、樹脂層が吐出口の内部に流入してしまい、その除去の工程が必要となる。両面テープ31はこれらの弊害がなく、特に、両面テープ31の剥離後に非発泡性粘着層33の粘着剤が第1の基板30(撥水膜21の表面)に残存しにくい点で有利である。なお、撥水膜21を省略した場合、第2の耐インク保護膜19が両面テープ31と接することになるが、この場合も同様のことが言える。
次に、図2(f)に示すように第2のシリコン層22を除去した。具体的には、図2(e)において保護基板23が下方となるように全体を反転させ、グラインダーで第2のシリコン層22を、第1の面30aの裏面30bから約500μm削った(減肉した)。その後、第1の耐インク保護膜18(第1の酸化シリコン層28)をエッチストップ層として残りの第2のシリコン層22をドライエッチングによって除去した。第2のシリコン層22は、ウエットエッチング法とグラインダーの組合せ、あるいはウエットエッチング法とドライエッチング法の組み合わせを用いてもよい。この工程後、第1の基板30は、厚さ約10μm程度の薄い状態となるが、保護基板23と貼り合されているためハンドリング性に問題はなく、研削中及び研削後の破損の可能性も低い。この工程終了時には、図2(c)で形成した酸化シリコン層29と撥水膜21が第1の凹部24の底部に残っており、第1の凹部24は未貫通状態である。
次に、図2(g)に示すように、第1の凹部24の底部の酸化シリコン層29と撥水膜21を除去し、第1の凹部24を貫通させ、吐出流路17を形成した。第1の凹部24の側壁に形成された第3の耐インク保護膜20がエッチングで除去されるのを防ぐため、酸化シリコン層29は異方性ドライエッチングで除去した。酸化シリコン層29と同時に第1の耐インク保護膜18もエッチングされる。このため、酸化シリコン層29が除去されたときに第1の耐インク保護膜18が第1の面30a上に残存するように、酸化シリコン層29(第2の耐インク保護膜19)は第1の耐インク保護膜18より薄く形成することが望ましい。第1の凹部24の酸化シリコン層29と撥水膜21を除去するため、第1の凹部24以外をレジストマスクで保護して異方性エッチングを行うことも可能である。
次に、図3(h)に示すように吐出流路17の側壁に付着した撥水膜21を除去した。吐出流路17の開口からO2プラズマ処理を行い、吐出流路17の側壁に付着した撥水膜21を分解除去した。吐出流路17の側壁に第3の耐インク保護膜20の表面が現れ、吐出流路17をアルカリインクから保護できるようになる。第1の面30aの撥水膜21は両面テープ31と第2の耐インク保護膜19によって保護されている。以上の工程により吐出口形成部材4が形成される。
次に、図3(i)に示すように、吐出口形成部材4が保護基板23に貼り合された状態で、圧力室11を形成する第2の凹部26や流路(図示せず)が形成された圧力室基板(第2の基板)2を吐出口形成部材4に接合し、接合体27を形成した。圧力室基板2には予めアクチュエータ3が形成されている。圧力室基板2の吐出口形成部材4との対向部にエポキシ接着剤25を塗布し、第2の凹部26が第1の基板30の裏面30b、すなわち第1の耐インク保護膜18と対向する向きで吐出口形成部材4と位置合せし、100℃で1時間の加熱接合をした。これにより、第2の凹部26が吐出流路17を除いて吐出口形成部材4で覆われ、インクが滞留する圧力室11が形成される。
次に、図3(j)に示すように、接合体27を170℃のホットプレート35に載置した。発泡性粘着層32に気泡321が生じ、保護基板23は浮いた状態となる。次に、図3(k)に示すように、保護基板23と両面テープ31とを分離する。両面テープ31は非発泡性粘着層33の粘着力によって、吐出口形成部材4に付着したままである。吐出口形成部材4は発泡性粘着層32と直接接していないため、発泡圧力は吐出口形成部材4に直接加わらず、両面テープ31を介して間接的に加わるだけである。従って、吐出口形成部材4が薄くても発泡に伴い破損する可能性が低減する。また、発泡性粘着層32を発泡させる前は、吐出口形成部材4の撥水膜21と非発泡性粘着層33の界面、及び発泡性粘着層32と保護基板23の界面の密着性は高く、気泡がほとんど混入しない。すなわち、これらの界面は、吐出口形成部材4と非発泡性粘着層33、及び発泡性粘着層32と保護基板23が真空状態で互いに吸着されたのと同様の状態になっているため、容易に剥離できない状態となっている。しかし、加熱によって発泡性粘着層32に気泡321が生じるため、発泡性粘着層32と保護基板23の界面の真空状態が破れ、保護基板23を両面テープ31から容易に剥離することができる。なお、以上のことから理解できるように、発泡性粘着層32がない場合、保護基板23を両面テープ31から剥離することは困難である。これは、吐出口形成部材4と保護基板23が両面テープの非発泡性粘着層で接合されている状態では、両面テープの界面の真空状態を破壊することが難しく、かつ後述するように両面テープを丸めながら剥離することもできないためである。
次に、図3(l)に示すように、吐出口形成部材4と両面テープ31とを分離する。図3(m)に示すように、両面テープ31と吐出口形成部材4とは完全に分離される。非発泡性粘着層33が吐出口形成部材4(撥水膜21)に接しているため、吐出口形成部材4に残存する粘着剤が少なくなる。また、吐出口形成部材4と非発泡性粘着層33の界面は概ね真空状態が維持されているが、保護基板23がすでに剥離されているため、図示するように、端部から両面テープ31を丸めながら容易に剥離することができる。
以上述べた実施例では、第1の基板30に両面テープ31を貼ったが、別の基板に両面テープ31を貼って、当該基板に所定の加工を行う場合も本発明を適用することができる。また、本実施例では片側に非発泡性粘着層33を備えた両面テープ31を使用したが、両面で発泡性に差のある両面テープ31を用いてもよい。この場合、保護すべき基板(例えば、実施例の第1の基板30)に発泡性の低い面が、保護基板23に発泡性の高い面が接するように、保護基板23と第1の基板30とを両面テープ31で貼り合せることができる。
本実施例に従って製造された液体吐出ヘッドは、インクの吐出安定性に優れ、高精度に画像を記録することが可能であった。本発明は、画像を記録する用途のみならず、例えば導電材料を含む液体で描画して配線パターンを形成するなどの産業用途にも幅広く利用することが可能である。
23 保護基板
30 第1の基板
31 両面テープ
32 発泡性粘着層
33 非発泡性粘着層
30 第1の基板
31 両面テープ
32 発泡性粘着層
33 非発泡性粘着層
Claims (5)
- 第1の基板と保護基板とを発泡性を有する両面テープを介して貼り合わせることと、前記保護基板が貼り合わされた前記第1の基板に所定の加工を行うことと、前記所定の加工が行われた後に、前記両面テープを発泡させて前記保護基板と前記両面テープとを分離することと、前記保護基板が分離された前記両面テープと前記第1の基板とを分離することと、を有し、
前記両面テープの前記第1の基板に接する面は、前記保護基板に接する面よりも発泡性が低い、基板の製造方法。 - 前記両面テープの前記第1の基板に接する面は発泡性がない粘着面である、請求項1に記載の基板の製造方法。
- 前記所定の加工が行われる前の前記第1の基板の第1の面に第1の凹部が形成され、前記両面テープは、前記第1の基板の前記第1の面と貼り合わされ、前記所定の加工では、前記第1の基板を前記第1の面の裏面から減肉して、前記第1の基板に貫通孔を形成する、請求項1または2に記載の基板の製造方法。
- 前記貫通孔が形成された後、前記保護基板が前記両面テープから離される前に、第2の凹部を備えた第2の基板が、前記第2の凹部が前記裏面と対向する向きで前記第1の基板に貼り合わせられる、請求項3に記載の基板の製造方法。
- 請求項4に記載の基板の製造方法による液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記第1の基板は一対のシリコン層と当該一対のシリコン層の間に挟まれた酸化シリコン層とからなるSOI基板を含み、前記貫通孔は液体が吐出する吐出口を備えた吐出流路であり、前記第2の凹部は前記液体が貯留される圧力室である、液体吐出ヘッドの製造方法。
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