JP2018142488A - Ceramic heater - Google Patents
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Abstract
【課題】加熱ゾーン内の温度を均一にするとともに、目標温度が異なる他の加熱ゾーンとの温度差を十分に確保することができるセラミックヒータを提供すること。【解決手段】セラミックヒータ5は、発熱層13と裏面との間に、セラミック材料より高い熱伝導率を有する(即ち熱が伝わり易い)熱分散層15が発熱層13毎に配置されているので、各発熱層13が配置された各加熱ゾーンKZにおける温度を容易に均一化できる。しかも、各熱分散層15は、発熱層13の発熱パターン47毎に配置されているので、目標温度が異なる他の加熱ゾーンKZとの温度差を十分に確保することができる。即ち、各加熱ゾーンKZ間の温度を分離することができる。【選択図】図5PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a ceramic heater capable of making the temperature in a heating zone uniform and sufficiently securing a temperature difference from another heating zone having a different target temperature. SOLUTION: In a ceramic heater 5, a heat dispersion layer 15 having a higher thermal conductivity than a ceramic material (that is, heat is easily transferred) is arranged between the heat generating layer 13 and the back surface of each heat generating layer 13. , The temperature in each heating zone KZ in which each heat generating layer 13 is arranged can be easily made uniform. Moreover, since each heat dispersion layer 15 is arranged for each heat generation pattern 47 of the heat generation layer 13, it is possible to sufficiently secure a temperature difference from other heating zones KZ having different target temperatures. That is, the temperature between the heating zones KZ can be separated. [Selection diagram] Fig. 5
Description
本発明は、例えば、例えば半導体ウェハ等の被加工物を加熱できるセラミックヒータに関するものである。 The present invention relates to a ceramic heater capable of heating a workpiece such as a semiconductor wafer, for example.
従来、半導体製造装置では、半導体ウェハ(例えばシリコンウェハ)に対して、ドライエッチング(例えばプラズマエッチング)等の処理が行われている。このドライエッチングの精度を高めるためには、半導体ウェハを確実に固定しておく必要があるので、半導体ウェハを固定する固定手段として、静電引力によって半導体ウェハを固定する静電チャックが用いられている。 Conventionally, in a semiconductor manufacturing apparatus, a process such as dry etching (for example, plasma etching) is performed on a semiconductor wafer (for example, a silicon wafer). In order to increase the accuracy of this dry etching, it is necessary to securely fix the semiconductor wafer. As a fixing means for fixing the semiconductor wafer, an electrostatic chuck for fixing the semiconductor wafer by electrostatic attraction is used. Yes.
この静電チャックには、吸着面に吸着された半導体ウェハの温度を調節する機能を有するものがある。例えば、セラミック基板内に線状の発熱体を配置したセラミックヒータを用いて、吸着面上の半導体ウェハを加熱する技術がある。なお、静電チャックには、通常、セラミックヒータの吸着面(表面)と反対側の面(裏面)に、冷却用の金属ベースが接続されている。 Some electrostatic chucks have a function of adjusting the temperature of a semiconductor wafer attracted to an attracting surface. For example, there is a technique for heating a semiconductor wafer on an adsorption surface using a ceramic heater in which a linear heating element is disposed in a ceramic substrate. In the electrostatic chuck, a cooling metal base is usually connected to a surface (back surface) opposite to the suction surface (front surface) of the ceramic heater.
さらに、静電チャックの加熱を精密に行うために、セラミック基板を平面視で複数の加熱ゾーン(即ち加熱領域:セグメント)に区分したセラミックヒータも開発されている。具体的には、各加熱ゾーン毎に各加熱ゾーンを個別に加熱できる発熱体を配置して、セラミック基板の温度調節機能を向上させた多ゾーンヒータ付きセラミックヒータも提案されている(特許文献1参照)。 Furthermore, in order to precisely heat the electrostatic chuck, a ceramic heater in which the ceramic substrate is divided into a plurality of heating zones (that is, heating regions: segments) in plan view has been developed. Specifically, a ceramic heater with a multi-zone heater has been proposed in which a heating element capable of individually heating each heating zone is arranged for each heating zone to improve the temperature adjustment function of the ceramic substrate (Patent Document 1). reference).
また、近年では、より精度の高い温度制御のために、更なる多ゾーン化(マルチゾーン化)の要求が高くなっており、例えば100以上の加熱ゾーンも検討されている。 In recent years, in order to perform temperature control with higher accuracy, the demand for further multi-zone (multi-zone) has increased, and for example, more than 100 heating zones have been studied.
ところで、セラミック基板の温度調整機能(即ち温度制御性)を向上させるためには、目的の温度に制御する箇所(即ち各加熱ゾーン)毎に精度良く温度調節を行うことが望ましいが、上述のように、加熱ゾーンが多い場合には、温度制御性を向上させることが容易ではないという問題があった。 By the way, in order to improve the temperature adjustment function (i.e., temperature controllability) of the ceramic substrate, it is desirable to accurately adjust the temperature for each location (i.e., each heating zone) controlled to the target temperature. In addition, when there are many heating zones, there is a problem that it is not easy to improve temperature controllability.
つまり、図22に示すように、発熱体が配置された各加熱ゾーン(セグメント)毎に、目的の温度(即ち目標温度)に制御する場合には、それぞれ目標温度に制御するだけでなく、各加熱ゾーン内における温度を均一化することが望まれるが、その対策は容易ではない。 That is, as shown in FIG. 22, when controlling to a target temperature (that is, target temperature) for each heating zone (segment) in which a heating element is disposed, Although it is desired to make the temperature uniform in the heating zone, the countermeasure is not easy.
詳しくは、例えば図22(b)に示すように、加熱ゾーン間(特にその境界近傍)で明瞭な温度差があるように制御することが望ましいが(実線で示す温度カーブ参照)、実際には、加熱ゾーン間(特にその境界近傍)で明瞭な温度差をつけにくい(破線で示す温度カーブ参照)という問題があった。 Specifically, for example, as shown in FIG. 22B, it is desirable to control so that there is a clear temperature difference between heating zones (especially in the vicinity of the boundary) (see the temperature curve shown by a solid line). There is a problem that it is difficult to make a clear temperature difference between heating zones (especially in the vicinity of the boundary) (see a temperature curve indicated by a broken line).
また、これとは別に、例えば前記特許文献2には、発熱体と金属ベースとの間に熱伝導部材を配置して、セラミックヒータの平面方向における温度分布を均一化する技術が開示されているが、この技術では、各加熱ゾーン間に温度差をつけること(即ち温度をセパレートすること)はできない。 Separately from this, for example, Patent Document 2 discloses a technique in which a heat conduction member is disposed between a heating element and a metal base to make the temperature distribution in the plane direction of the ceramic heater uniform. However, with this technique, it is not possible to make a temperature difference between the heating zones (ie, to separate the temperatures).
本発明は、前記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、加熱ゾーン内の温度を均一にするとともに、目標温度が異なる他の加熱ゾーンとの温度差を十分に確保することができるセラミックヒータを提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and the object thereof is to make the temperature in the heating zone uniform and to ensure a sufficient temperature difference from other heating zones having different target temperatures. It is to provide a ceramic heater.
(1)本発明の第1局面は、表面及び裏面を有するセラミック基板の内部に、通電により発熱する発熱層が、平面方向に沿って複数配置されているセラミックヒータに関するものである。 (1) A first aspect of the present invention relates to a ceramic heater in which a plurality of heat generating layers that generate heat by energization are arranged in a plane direction inside a ceramic substrate having a front surface and a back surface.
このセラミックヒータでは、セラミック基板の内部には、発熱層と裏面との間に、セラミック基板を構成するセラミック材料より高い熱伝導率を有する熱分散層が発熱層毎に配置されている。さらに、セラミック基板を厚み方向から見た平面視で、発熱層は、線状の発熱パターンを有するとともに、発熱パターンは屈曲する部分を有している。 In this ceramic heater, a heat dispersion layer having a higher thermal conductivity than the ceramic material constituting the ceramic substrate is disposed for each heat generating layer between the heat generating layer and the back surface inside the ceramic substrate. Furthermore, in a plan view of the ceramic substrate as viewed from the thickness direction, the heat generation layer has a linear heat generation pattern, and the heat generation pattern has a bent portion.
このように、本第1局面では、発熱層と裏面との間に、セラミック材料より高い熱伝導率を有する(即ち熱が伝わり易い)熱分散層が発熱層毎に配置されているので、各発熱層が配置された各加熱ゾーンにおける温度を均一化することができる。 As described above, in the first aspect, the heat dispersion layer having a higher thermal conductivity than the ceramic material (that is, heat is easily transmitted) is disposed between the heat generation layer and the back surface for each heat generation layer. The temperature in each heating zone in which the heat generating layer is disposed can be made uniform.
さらに、本第1局面では、熱分散層が、線状で屈曲する発熱パターンを有する発熱層毎に配置されているので、目標温度が異なる他の加熱ゾーンとの温度差を十分に確保することができる。即ち、各加熱ゾーン間の温度を分離する(即ちセパレート)することができる。 Furthermore, in the first aspect, since the heat dispersion layer is arranged for each heat generating layer having a heat generation pattern that is linear and bent, a sufficient temperature difference from other heating zones having different target temperatures is ensured. Can do. That is, the temperature between each heating zone can be separated (ie, separated).
このように、本第1局面では、加熱ゾーン内の温度を均一化するとともに、他の加熱ゾーンとの温度差を十分に確保することができるという顕著な効果を奏する。
なお、発熱層と裏面との間に熱分散層を配置することにより、熱分散層を配線部(例えば一対の端子部から発熱層に到る電力の供給経路:例えば内部配線層)の一部として流用できる。そのため、セラミック基板の厚み方向において、例えば内部配線層と別に新たに熱分散層を配置するスペースを必要としないため、セラミック基板を厚くせずに熱分散層を配置できるという利点がある。
As described above, in the first aspect, the temperature in the heating zone is made uniform, and a remarkable effect is obtained that a temperature difference from the other heating zones can be sufficiently secured.
In addition, by disposing the heat dispersion layer between the heat generation layer and the back surface, the heat distribution layer is part of the wiring portion (for example, a power supply path from the pair of terminal portions to the heat generation layer: for example, the internal wiring layer). Can be diverted as Therefore, in the thickness direction of the ceramic substrate, for example, a space for newly disposing the heat dissipating layer is not required separately from the internal wiring layer, so that there is an advantage that the heat dispersive layer can be disposed without increasing the thickness of the ceramic substrate.
(2)本発明の第2局面では、平面視で、各発熱層において、発熱パターンのうち隣り合って配置されている線状の発熱パターンの間の領域にも、熱分散層が配置されている。
本第2局面では、同じ発熱層の発熱パターンにおいて、隣り合う発熱パターンの間に熱分散層が配置されているので、一層各加熱ゾーンにおける温度を均一化できる。
(2) In the second aspect of the present invention, in a plan view, in each heat generation layer, a heat dispersion layer is also disposed in a region between the linear heat generation patterns disposed adjacent to each other among the heat generation patterns. Yes.
In the second aspect, in the heat generation pattern of the same heat generation layer, since the heat dispersion layer is disposed between the adjacent heat generation patterns, the temperature in each heating zone can be made uniform.
(3)本発明の第3局面では、発熱層と熱分散層との間の第1距離は、熱分散層と裏面との間の第2距離よりも短い。
本第3局面では、熱分散層は、裏面よりも発熱層に近い位置に配置されているので、一層容易に、各加熱ゾーンの均熱化ができるとともに、各加熱ゾーン間の温度を分離することができる。
(3) In the third aspect of the present invention, the first distance between the heat generation layer and the heat dispersion layer is shorter than the second distance between the heat dispersion layer and the back surface.
In the third aspect, since the heat dispersion layer is disposed at a position closer to the heat generation layer than the back surface, it is possible to more easily equalize the heating zones and to separate the temperatures between the heating zones. be able to.
(4)本発明の第4局面では、熱分散層は、平面視で、導電性を有するパッド部と、パッド部より面積が広く且つパッド部との間に間隔をあけ、パッド部の全周を囲む導電性を有する主熱分散部とを備えている。さらに、パッド部と発熱層とを電気的に接続する第1ビアと、発熱層と主熱分散部とを電気的に接続する第2ビアと、を備えている。しかも、発熱層に給電するための一対の端子部が、それぞれパッド部及び主熱分散部と電気的に接続されている。 (4) In the fourth aspect of the present invention, the heat dispersion layer has a conductive pad part having a larger area than the pad part and spaced from the pad part in plan view, and the entire circumference of the pad part. And a main heat dispersion portion having electrical conductivity surrounding. Furthermore, a first via that electrically connects the pad portion and the heat generating layer and a second via that electrically connects the heat generating layer and the main heat dispersion portion are provided. In addition, a pair of terminal portions for supplying power to the heat generating layer are electrically connected to the pad portion and the main heat dispersion portion, respectively.
本第4局面では、一対の端子部から、第1ビア及びパッド部と、第2ビア及び主熱分散部とを介して、発熱層(詳しくは発熱パターン)に電力を供給することによって、加熱ゾーンを加熱することができる。 In the fourth aspect, heating is performed by supplying power from the pair of terminal portions to the heat generation layer (specifically, the heat generation pattern) through the first via and the pad portion, the second via and the main heat dispersion portion. The zone can be heated.
また、一対の端子部から発熱層に到る電力の供給経路を短くすることができるので、電極の供給経路の構成を簡易化できる。
さらに、パッド部を囲むように、面積の大きな主熱分散部が配置されているので、加熱ゾーンにおける均熱性を高めることができる。
In addition, since the power supply path from the pair of terminal portions to the heat generating layer can be shortened, the configuration of the electrode supply path can be simplified.
Furthermore, since the main heat dispersion portion having a large area is disposed so as to surround the pad portion, it is possible to improve the heat uniformity in the heating zone.
(5)本発明の第5局面では、熱分散層は、平面視で、導電性を有する一対のパッド部と、パッド部より面積が広く且つパッド部との間に間隔をあけ、パッド部の全周を囲む導電性を有する主熱分散部と、を備えている。さらに、発熱層は一対のパッド部と電気的に接続されており、発熱層に給電するための一対の端子部が、それぞれ一対のパッド部に電気的に接続されている。 (5) In the fifth aspect of the present invention, the heat dispersion layer has a pair of conductive pad portions having a larger area than the pad portions and a space between the pad portions in plan view. And a main heat dispersion part having conductivity surrounding the entire circumference. Further, the heat generating layer is electrically connected to the pair of pad portions, and a pair of terminal portions for supplying power to the heat generating layer are electrically connected to the pair of pad portions, respectively.
本第5局面では、一対の端子部から、一対のパッド部を介して、発熱層(詳しくは発熱パターン)に電力を供給することによって、加熱ゾーンを加熱することができる。
また、一対の端子部から発熱層に到る電力の供給経路を短くすることができるので、電極の供給経路の構成を簡易化できる。
In the fifth aspect, the heating zone can be heated by supplying power from the pair of terminal portions to the heat generation layer (specifically, the heat generation pattern) via the pair of pad portions.
In addition, since the power supply path from the pair of terminal portions to the heat generating layer can be shortened, the configuration of the electrode supply path can be simplified.
さらに、一対のパッド部を囲むように、面積の大きな主熱分散部が配置されているので、加熱ゾーンにおける均熱性を高めることができる。
<以下に、本発明の各構成について説明する>
・セラミックヒータの表面とは、加熱する対象である部材が配置される面(例えば静電チャックでは吸着面)であり、裏面とは、表面と反対側の面(例えば静電チャックでは金属ベースが接合される面)である。
Furthermore, since the main heat dispersion part with a large area is arrange | positioned so that a pair of pad part may be enclosed, the thermal uniformity in a heating zone can be improved.
<Each configuration of the present invention will be described below>
The surface of the ceramic heater is a surface on which a member to be heated is disposed (for example, an attracting surface for an electrostatic chuck), and the back surface is a surface opposite to the surface (for example, a metal base for an electrostatic chuck). Surface to be joined).
・セラミック基板とは、セラミックを主成分(50質量%以上)とする基板(板状の部材)である。このセラミックの材料としては、酸化アルミニウム(アルミナ)、窒化アルミニウム、酸化イットリウム(イットリア)等が挙げられる。 A ceramic substrate is a substrate (plate-shaped member) containing ceramic as a main component (50% by mass or more). Examples of the ceramic material include aluminum oxide (alumina), aluminum nitride, yttrium oxide (yttria), and the like.
・発熱層(従って発熱パターン)とは、通電によって発熱する抵抗発熱体からなる層であり、この発熱層の材料としては、タングステン、タングステンカーバイド、モリブデン、モリブデンカーバイド、タンタル、白金等が挙げられる。 The heat generation layer (and hence the heat generation pattern) is a layer made of a resistance heating element that generates heat when energized. Examples of the material of the heat generation layer include tungsten, tungsten carbide, molybdenum, molybdenum carbide, tantalum, and platinum.
・平面方向とは、セラミック基板が広がる平面の方向である。つまり、セラミック基板の厚み方向と垂直な平面が広がる方向である。
・熱分散層の平面視の外周形状は、矩形状、円形形状など、発熱層の外周に沿った形状等である。例えば、平面視で、発熱層の発熱パターンの外周のうち、隣り合う発熱パターンの凸部同士を結んだ領域の内部が挙げられる。また、平面視で、発熱パターンの外周を紐で囲むようにした場合に形成される領域の内部が挙げられる。
The plane direction is the plane direction in which the ceramic substrate spreads. That is, this is a direction in which a plane perpendicular to the thickness direction of the ceramic substrate spreads.
The outer peripheral shape of the heat dispersion layer in plan view is a shape along the outer periphery of the heat generating layer, such as a rectangular shape or a circular shape. For example, the inside of the area | region which connected the convex part of the adjacent heat generation pattern among the outer periphery of the heat generation pattern of a heat generating layer by planar view is mentioned. Moreover, the inside of the area | region formed when the outer periphery of a heat generation pattern is made to surround with a string by planar view is mentioned.
・熱分散層の材料としては、例えばタングステン、モリブデン等からなる導電材料を採用できるが、これに限定される訳ではない。例えば、熱分散層を給電のために用いない場合には、導電材料とは異なる材料を採用できる。 As the material of the heat dispersion layer, for example, a conductive material made of tungsten, molybdenum or the like can be used, but is not limited thereto. For example, when the heat dispersion layer is not used for power feeding, a material different from the conductive material can be employed.
つまり、熱分散層は、セラミック基板を構成するセラミック材料より高い熱伝導率を有するものであるので、セラミック材料に応じた各種の材料を用いることができる。例えばセラミック材料にもよるが、グラファイト、SiC(炭化珪素)、AlN(窒化アルミニウム)などを採用できる。 That is, since the heat dispersion layer has a higher thermal conductivity than the ceramic material constituting the ceramic substrate, various materials corresponding to the ceramic material can be used. For example, although it depends on the ceramic material, graphite, SiC (silicon carbide), AlN (aluminum nitride), or the like can be used.
・端子部やビアやパッド部は、例えばタングステン、モリブデン等からなる導電部分である。 The terminal part, the via, and the pad part are conductive parts made of, for example, tungsten or molybdenum.
[1.第1実施形態]
ここでは、第1実施形態として、例えば半導体ウェハを吸着保持できる静電チャックに用いられるセラミックヒータを例に挙げる。
[1−1.全体構成]
まず、本第1実施形態の静電チャックの構造について説明する。
[1. First Embodiment]
Here, as a first embodiment, for example, a ceramic heater used for an electrostatic chuck capable of attracting and holding a semiconductor wafer is taken as an example.
[1-1. overall structure]
First, the structure of the electrostatic chuck of the first embodiment will be described.
図1に示す様に、本第1実施形態における静電チャック1は、図1の上側にて被加工物である半導体ウェハ3を吸着する装置であり、セラミックヒータ5と金属ベース7とが積層されて接着剤層9により接合されたものである。 As shown in FIG. 1, the electrostatic chuck 1 according to the first embodiment is a device for adsorbing a semiconductor wafer 3 as a workpiece on the upper side of FIG. 1, and a ceramic heater 5 and a metal base 7 are laminated. And bonded by the adhesive layer 9.
なお、セラミックヒータ5の図1の上方の面(上面:吸着面)が第1の主面S1(即ち表面)であり、下面が第2の主面S2(即ち裏面)である。また、金属ベース7の上面が第3の主面S3であり、下面が第4の主面S4である。 The upper surface (upper surface: adsorption surface) of FIG. 1 of the ceramic heater 5 is the first main surface S1 (that is, the front surface), and the lower surface is the second main surface S2 (that is, the back surface). The upper surface of the metal base 7 is the third main surface S3, and the lower surface is the fourth main surface S4.
このうち、セラミックヒータ5は、円盤形状であり、吸着用電極(静電電極)11、発熱層13、熱分散層15を備えたセラミック基板(絶縁基板)17から構成されている。なお、吸着用電極11、発熱層13は、熱分散層15は、セラミック基板17に埋設されている。 Among these, the ceramic heater 5 has a disk shape, and is composed of a ceramic substrate (insulating substrate) 17 having an adsorption electrode (electrostatic electrode) 11, a heat generation layer 13, and a heat dispersion layer 15. The adsorption electrode 11 and the heat generation layer 13 are embedded in the ceramic substrate 17 and the heat dispersion layer 15 is embedded therein.
金属ベース7は、セラミックヒータ5より大径の円盤形状であり、セラミックヒータ5と同軸に接合されている。この金属ベース7には、セラミック基板17(従って半導体ウェハ3)を冷却するために、冷却用流体(冷媒)が流される流路(冷却路)19が設けられている。なお、冷却用流体としては、例えばフッ化液又は純水等の冷却用液体などを用いることができる。 The metal base 7 has a disk shape larger in diameter than the ceramic heater 5 and is joined to the ceramic heater 5 coaxially. The metal base 7 is provided with a flow path (cooling path) 19 through which a cooling fluid (refrigerant) flows in order to cool the ceramic substrate 17 (and thus the semiconductor wafer 3). As the cooling fluid, for example, a cooling liquid such as a fluorinated liquid or pure water can be used.
また、静電チャック1には、リフトピン(図示せず)が挿入されるリフトピン孔21等が、静電チャック1を厚み方向に貫くように、複数箇所に設けられている。このリフトピン孔21は、半導体ウェハ3を冷却するために第1の主面S1側に供給される冷却用ガスの流路(冷却用ガス孔)としても用いられる。 The electrostatic chuck 1 is provided with a plurality of lift pin holes 21 or the like into which lift pins (not shown) are inserted so as to penetrate the electrostatic chuck 1 in the thickness direction. The lift pin hole 21 is also used as a flow path (cooling gas hole) for cooling gas supplied to the first main surface S1 side in order to cool the semiconductor wafer 3.
なお、リフトピン孔21とは別に、冷却用ガス孔(図示せず)を設けてもよい。冷却用ガスとしては、例えばヘリウムガスや窒素ガス等の不活性ガスなどを用いることができる。 In addition to the lift pin holes 21, a cooling gas hole (not shown) may be provided. As the cooling gas, for example, an inert gas such as helium gas or nitrogen gas can be used.
次に、静電チャック1の各構成について、図2に基づいて詳細に説明する。
<セラミックヒータ>
図2に模式的に示すように、セラミックヒータ5(従ってセラミック基板17)は、その第2の主面S2側が、例えばシリコーンからなる接着剤層9により、金属ベース7の第3の主面S3側に接合されている。
Next, each configuration of the electrostatic chuck 1 will be described in detail with reference to FIG.
<Ceramic heater>
As schematically shown in FIG. 2, the ceramic heater 5 (and hence the ceramic substrate 17) has a third main surface S3 of the metal base 7 on the second main surface S2 side by an adhesive layer 9 made of, for example, silicone. It is joined to the side.
このセラミック基板17は、複数のセラミック層23(図5(a)参照)が積層されたものであり、アルミナを主成分とするアルミナ質焼結体である。なお、アルミナ質焼結体は、絶縁体(誘電体)である。 The ceramic substrate 17 is formed by laminating a plurality of ceramic layers 23 (see FIG. 5A), and is an alumina sintered body mainly composed of alumina. The alumina sintered body is an insulator (dielectric).
セラミック基板17の内部には、図2の上方より、後に詳述するように、吸着用電極11、複数の発熱層13、複数の熱分散層15等が配置されている。なお、図2では、複数の発熱層13等は模式的に表示してある。 Inside the ceramic substrate 17, as will be described in detail later from above in FIG. 2, an adsorption electrode 11, a plurality of heat generation layers 13, a plurality of heat dispersion layers 15, and the like are arranged. In FIG. 2, the plurality of heat generating layers 13 and the like are schematically shown.
このうち、複数の発熱層13は第1平面HM1に配置され、複数の熱分散層15は第2平面HM2に配置されている。なお、第1、第2平面HM1、HM2は、セラミック基板17を厚み方向(図2の上下方向)にて所定距離だけ離れた異なる位置において、厚み方向と垂直に広がる平面(即ち平面方向に平行な平面)である。 Among these, the plurality of heat generating layers 13 are arranged on the first plane HM1, and the plurality of heat dispersion layers 15 are arranged on the second plane HM2. The first and second planes HM1 and HM2 are planes extending perpendicularly to the thickness direction (that is, parallel to the plane direction) at different positions away from the ceramic substrate 17 by a predetermined distance in the thickness direction (vertical direction in FIG. 2). Plane).
また、後述するように、セラミック基板17は、厚み方向から見た平面視で、複数の加熱ゾーンKZ(図3参照)に区分されており、各加熱ゾーンKZに、それぞれ発熱層13及び熱分散層15が配置されている。つまり、セラミック基板17は、平面視で、複数の発熱層13及び複数の熱分散層15が配置された構成となっている。 Further, as will be described later, the ceramic substrate 17 is divided into a plurality of heating zones KZ (see FIG. 3) in a plan view viewed from the thickness direction, and the heating layer 13 and the heat dispersion are respectively provided in each heating zone KZ. Layer 15 is disposed. That is, the ceramic substrate 17 has a configuration in which the plurality of heat generating layers 13 and the plurality of heat dispersion layers 15 are arranged in plan view.
そして、各発熱層13は、それぞれ給電用端子25に対して電気的に接続されている。詳しくは、各発熱層13は、独自に温度制御が可能なように、各発熱層13の両端(一対の端部13a、13b)が、それぞれ配線部27を介して、セラミック基板17の一方の側(即ち第2の主面S2側)にて、各一対の給電用端子25に電気的に接続されている。 Each heat generating layer 13 is electrically connected to the power supply terminal 25. Specifically, each heat generating layer 13 has its both ends (a pair of end portions 13a and 13b) connected to one of the ceramic substrates 17 via the wiring portion 27 so that the temperature can be controlled independently. On the side (that is, the second main surface S2 side), each pair of power feeding terminals 25 is electrically connected.
この配線部27は、発熱層13に給電する構成として、後述するように、第1ビア29、第2ビア31、第3ビア33、第4ビア35、第5ビア37、内部配線層39、端子部(即ち端子パッド)40を備えており、その端子部40に給電用端子25が接合されている。なお、配線部27は、例えばタングステンからなる。 As will be described later, the wiring portion 27 is configured to supply power to the heat generating layer 13. The first via 29, the second via 31, the third via 33, the fourth via 35, the fifth via 37, the internal wiring layer 39, A terminal portion (that is, a terminal pad) 40 is provided, and the power supply terminal 25 is joined to the terminal portion 40. The wiring part 27 is made of, for example, tungsten.
また、吸着用電極11は、電圧を印加する周知の電極用端子(図示せず)に電気的に接続されている。
<金属ベース>
金属ベース7は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる金属製である。金属ベース7には、前記冷却路19やリフトピン孔21以外に、前記電極用端子、給電用端子25が配置される貫通孔である貫通部41がそれぞれ形成されている。
The adsorption electrode 11 is electrically connected to a known electrode terminal (not shown) for applying a voltage.
<Metal base>
The metal base 7 is made of metal made of aluminum or an aluminum alloy. In addition to the cooling path 19 and the lift pin hole 21, the metal base 7 is formed with through portions 41 that are through holes in which the electrode terminals and the power feeding terminals 25 are disposed.
なお、静電チャック1の第4の主面S4側には、給電用端子25を収容するために、第4の主面S4からセラミックヒータ5の内部に到るような内部孔43が複数設けられており、金属ベース7の貫通部41は、この内部孔43の一部を構成している。 A plurality of internal holes 43 are provided on the fourth main surface S4 side of the electrostatic chuck 1 so as to accommodate the power supply terminals 25 from the fourth main surface S4 to the inside of the ceramic heater 5. The penetrating portion 41 of the metal base 7 constitutes a part of the internal hole 43.
また、電極用端子や給電用端子25を収容する内部孔43には、電気絶縁性を有する絶縁筒45が配置されている。
<吸着用電極>
吸着用電極11は、例えば平面形状が円形の電極から構成されている。この吸着用電極11とは、静電チャック1を使用する場合には、直流高電圧が印加され、これにより、半導体ウェハ3を吸着する静電引力(吸着力)を発生させ、この吸着力を用いて半導体ウェハ3を吸着して固定するものである。
An insulating tube 45 having electrical insulation is disposed in the internal hole 43 that accommodates the electrode terminal and the power feeding terminal 25.
<Adsorption electrode>
The adsorption electrode 11 is composed of, for example, an electrode having a circular planar shape. When the electrostatic chuck 1 is used, a DC high voltage is applied to the adsorption electrode 11, thereby generating an electrostatic attractive force (adsorption force) for adsorbing the semiconductor wafer 3. It is used to adsorb and fix the semiconductor wafer 3.
なお、吸着用電極11については、これ以外に、周知の各種の構成(単極性や双極性の電極など)を採用できる。なお、吸着用電極11は、例えばタングステン等の導電材料からなる。
[1−2.発熱層及び熱分散層の構成]
次に、本第1実施形態の要部である発熱層13及び熱分散層15の構成について説明する。
In addition to the above, various known configurations (monopolar or bipolar electrodes, etc.) can be employed for the adsorption electrode 11. The adsorption electrode 11 is made of a conductive material such as tungsten.
[1-2. Configuration of heat generation layer and heat dispersion layer]
Next, the structure of the heat generating layer 13 and the heat dispersion layer 15 which are the main parts of the first embodiment will be described.
図3に示すように、セラミック基板17(従ってセラミックヒータ5)には、平面視で、複数の加熱ゾーンKZが設定されており、各加熱ゾーンKZには、各加熱ゾーンKZの温度を独立して調節できるように、線状の発熱パターン47によって構成された前記発熱層13が1つずつ配置されている。 As shown in FIG. 3, the ceramic substrate 17 (and hence the ceramic heater 5) has a plurality of heating zones KZ in plan view, and the temperature of each heating zone KZ is independent in each heating zone KZ. The heat generating layers 13 constituted by the linear heat generating patterns 47 are arranged one by one so that they can be adjusted.
なお、加熱ゾーンKZの数は、例えば100以上の範囲の例えば200であるが、図3では、簡略化して示してある(即ち加熱ゾーンKZの数は少なく表示してある)。また、発熱層13(従って発熱パターン47)は、電圧が印加されて電流が流れると発熱する金属材料(タングステン等)からなる抵抗発熱体である。 Note that the number of the heating zones KZ is, for example, 200 in the range of 100 or more, for example, but is simplified in FIG. 3 (that is, the number of the heating zones KZ is reduced). The heating layer 13 (and hence the heating pattern 47) is a resistance heating element made of a metal material (such as tungsten) that generates heat when a voltage is applied and a current flows.
一方、熱分散層15は、発熱層13と同様な導電材料からなる。詳しくは、熱分散層15は、セラミック基板17を構成するセラミック材料(即ちアルミナ)より高い熱伝導率を有する材料(例えばタングステン)からなる。 On the other hand, the heat dispersion layer 15 is made of the same conductive material as that of the heat generation layer 13. Specifically, the heat dispersion layer 15 is made of a material (for example, tungsten) having a higher thermal conductivity than the ceramic material (that is, alumina) constituting the ceramic substrate 17.
<発熱層及び熱分散層の平面形状>
図4(a)に示すように、加熱ゾーンKZには、平面視で、加熱ゾーンKZの外周より所定距離だけ離れた内側に、蛇行する形状の発熱パターン47からなる発熱層13が形成されている。なお、線状の発熱パターン47の両端には、円形の端部13a、13bが形成されている。
<Planar shape of heat generation layer and heat dispersion layer>
As shown in FIG. 4A, in the heating zone KZ, the heat generating layer 13 including the heat generating pattern 47 having a meandering shape is formed inside the heating zone KZ by a predetermined distance from the outer periphery of the heating zone KZ. Yes. Note that circular ends 13 a and 13 b are formed at both ends of the linear heat generation pattern 47.
また、図4(b)に示すように、熱分散層15は、平面視で、その外周が矩形状であり、加熱ゾーンKZの外周より所定距離だけ離れた内側に設けられている。
この熱分散層15は、円形のパッド部15aと、パッド部15aより面積が広く且つパッド部15aとの間に帯状の間隔をあけて、パッド部15aの全周を囲む主熱分散部15bとから構成されている。
Further, as shown in FIG. 4B, the heat dispersion layer 15 has a rectangular outer periphery in plan view, and is provided inside a predetermined distance from the outer periphery of the heating zone KZ.
The heat distribution layer 15 includes a circular pad portion 15a, a main heat distribution portion 15b having a larger area than the pad portion 15a and a band-like space between the pad portion 15a and surrounding the entire periphery of the pad portion 15a. It is composed of
なお、パッド部15aと主熱分散部15bとの間の間隔が大きくなると、加熱ゾーンKZ内にて熱を分散させて均熱化することが難しくなる。そのため、パッド部15aと主熱分散部15bとの間の絶縁はとりつつ、熱の分散を妨げない程度の間隔とする必要がある。また、パッド部15aの面積が大きくなると、主熱分散部15bの均熱性および熱分散性の効果が減ってしまうため、できるだけパッド部15aの面積は小さくすることが好ましい。 In addition, when the space | interval between the pad part 15a and the main heat dispersion | distribution part 15b becomes large, it will become difficult to disperse | distribute heat within the heating zone KZ and to equalize | homogenize. For this reason, it is necessary to maintain an insulation between the pad portion 15a and the main heat dispersion portion 15b, while maintaining an interval that does not hinder heat dispersion. Further, when the area of the pad portion 15a is increased, the effects of heat uniformity and heat dispersibility of the main heat dispersion portion 15b are reduced. Therefore, it is preferable to make the area of the pad portion 15a as small as possible.
さらに、図4(c)に示すように、熱分散層15(詳しくは主熱分散部15b)は、平面視で、発熱層13の最も外側部分を含むように、発熱層13と重なる位置に配置されている。つまり、加熱ゾーンKZの外周より所定距離だけ離れた内側にて、熱分散層15の外周よりも内側に発熱パターン47が配置されている。 Further, as shown in FIG. 4C, the heat dispersion layer 15 (specifically, the main heat dispersion portion 15b) is located at a position overlapping the heat generation layer 13 so as to include the outermost portion of the heat generation layer 13 in plan view. Has been placed. That is, the heat generation pattern 47 is arranged on the inner side of the outer periphery of the heat dispersion layer 15 on the inner side of the heating zone KZ by a predetermined distance.
また、熱分散層15は、平面視で、蛇行するように形成された発熱パターン47のうち、隣り合って配置されている発熱パターン47の間の領域にも配置されている。つまり、熱分散層15は、隣り合う発熱パターン47の間に入り込むように形成されている。 Further, the heat dispersion layer 15 is also disposed in a region between the heat generation patterns 47 arranged adjacent to each other among the heat generation patterns 47 formed to meander in a plan view. That is, the heat dispersion layer 15 is formed so as to enter between adjacent heat generation patterns 47.
<発熱層及び熱分散層の立体配置>
図5(a)に示すように、発熱層13(従って発熱パターン47)は、セラミック基板17の平面方向(同図左右方向)に沿って配置されており、熱分散層15は、発熱層13より第2の主面S2側にて、平面方向に配置されている。
<Configuration of heat generation layer and heat dispersion layer>
As shown in FIG. 5A, the heat generating layer 13 (and hence the heat generating pattern 47) is disposed along the plane direction (the left-right direction in FIG. 5) of the ceramic substrate 17, and the heat dispersion layer 15 is the heat generating layer 13. Further, they are arranged in the plane direction on the second main surface S2 side.
詳しくは、発熱層13と熱分散層15との間の第1距離t1は、熱分散層15と第2の主面S2(即ち裏面)との間の第2距離t2よりも短いように設定されている(即ちt1<t2)。 Specifically, the first distance t1 between the heat generation layer 13 and the heat dispersion layer 15 is set to be shorter than the second distance t2 between the heat dispersion layer 15 and the second main surface S2 (that is, the back surface). (Ie, t1 <t2).
また、図5(b)に示すように、パッド部15aと発熱層13とを電気的に接続する第1ビア29と、発熱層13と主熱分散部15bと電気的に接続する第2ビア31と、を備えており、発熱層13に給電するための一対の端子部40は、それぞれパッド部15a及び主熱分散部15bと電気的に接続されている。 5B, the first via 29 that electrically connects the pad portion 15a and the heat generating layer 13 and the second via that is electrically connected to the heat generating layer 13 and the main heat dispersing portion 15b. The pair of terminal portions 40 for supplying power to the heat generating layer 13 are electrically connected to the pad portion 15a and the main heat dispersion portion 15b, respectively.
つまり、発熱パターン47の端部13aは、第1ビア29、パッド部15a、第3ビア33等を介して、一方の端子部40に接続されており、発熱パターン47の他方の端部13bは、第2ビア31、主熱分散部15b、第4ビア35等を介して、他方の端子部40に接続されている。
[1−3.製造方法]
次に、本第1実施形態の静電チャック1の製造方法について、簡単に説明する。
That is, the end portion 13a of the heat generation pattern 47 is connected to one terminal portion 40 via the first via 29, the pad portion 15a, the third via 33, and the like, and the other end portion 13b of the heat generation pattern 47 is The second via 31, the main heat dispersion part 15 b, the fourth via 35, etc. are connected to the other terminal part 40.
[1-3. Production method]
Next, a method for manufacturing the electrostatic chuck 1 of the first embodiment will be briefly described.
(1)セラミック基板17の原料として、主成分であるAl2O3:92重量%、MgO:1重量%、CaO:1重量%、SiO2:6重量%の各粉末を混合して、ボールミルで、50〜80時間湿式粉砕した後、脱水乾燥する。 (1) As a raw material of the ceramic substrate 17, the main components of Al 2 O 3 : 92 wt%, MgO: 1 wt%, CaO: 1 wt%, and SiO 2 : 6 wt% are mixed to form a ball mill. Then, after wet grinding for 50 to 80 hours, dehydrated and dried.
(2)次に、この粉末に溶剤等を加え、ボールミルで混合して、スラリーとする。
(3)次に、このスラリーを、減圧脱泡後平板状に流し出して徐冷し、溶剤を発散させて、各セラミック層23となる各アルミナグリーンシートを形成する。
(2) Next, a solvent or the like is added to the powder and mixed with a ball mill to form a slurry.
(3) Next, this slurry is degassed under reduced pressure, and then poured out into a flat plate shape, slowly cooled, and the solvent is diffused to form each alumina green sheet that becomes each ceramic layer 23.
そして、各アルミナグリーンシートに対して、リフトピン孔21等となる空間、各ビアとなるスルーホールを、必要箇所に開ける。
(4)また、前記アルミナグリーンシート用の原料粉末中にタングステン粉末を混ぜて、スラリー状にして、メタライズインクとする。
And the space used as the lift pin hole 21 grade | etc., And the through hole used as each via | veer are opened to a required location with respect to each alumina green sheet.
(4) Further, a tungsten powder is mixed in the raw material powder for the alumina green sheet to form a slurry to obtain a metallized ink.
(5)そして、吸着用電極11、発熱層13、熱分散層15、端子部40等を形成するために、前記メタライズインクを用いて、アルミナグリーンシート上の、吸着用電極11、発熱層13、熱分散層15、端子部40等の形成箇所に対応した箇所に、通常のスクリーン印刷法により、各未焼成パターンを印刷する。なお、各ビアを形成するために、スルーホールに対して、メタライズインクを充填する。 (5) Then, in order to form the adsorption electrode 11, the heat generation layer 13, the heat dispersion layer 15, the terminal portion 40, etc., the adsorption electrode 11, the heat generation layer 13 on the alumina green sheet is formed using the metallized ink. Each unfired pattern is printed by a normal screen printing method at a location corresponding to a location where the heat dispersion layer 15 and the terminal portion 40 are formed. In order to form each via, metallized ink is filled into the through hole.
(6)次に、各アルミナグリーンシートを、リフトピン孔21等の必要な空間が形成されるように位置合わせして、熱圧着し、積層シートを形成する。
(7)次に、熱圧着した各積層シートを、それぞれ所定の形状(即ち円板形状)にカットする。
(6) Next, the alumina green sheets are aligned so that necessary spaces such as lift pin holes 21 are formed, and thermocompression-bonded to form a laminated sheet.
(7) Next, each thermocompression-bonded laminated sheet is cut into a predetermined shape (that is, a disc shape).
(8)次に、カットした各積層シートを、還元雰囲気にて、1400〜1600℃の範囲(例えば、1550℃)にて5時間焼成(本焼成)し、各アルミナ質焼結体を作製する。
(9)そして、焼成後に、各アルミナ焼結体に対して、例えば第1の主面S1側の加工など必要な加工を行って、セラミック基板17を作製する。
(8) Next, each cut laminated sheet is fired in a reducing atmosphere in the range of 1400 to 1600 ° C. (for example, 1550 ° C.) for 5 hours (main firing) to produce each alumina sintered body. .
(9) Then, after firing, necessary processing such as processing on the first main surface S1 side is performed on each alumina sintered body to produce the ceramic substrate 17.
(10)次に、セラミック基板17の第2の主面S2上の端子部40に、端子金具(図示せず)をろう付けする。
(11)これとは別に、金属ベース7を製造する。具体的には、金属板に対して切削加工等を行うことにより金属ベース7を形成する。
(10) Next, a terminal fitting (not shown) is brazed to the terminal portion 40 on the second main surface S2 of the ceramic substrate 17.
(11) Separately, the metal base 7 is manufactured. Specifically, the metal base 7 is formed by performing cutting or the like on the metal plate.
(12)次に、金属ベース7とセラミック基板17とを接合して一体化する。
(13)次に、給電用端子25等を配置して、静電チャック1を完成する。
[1−4.効果]
次に、本第1実施形態の効果について説明する。
(12) Next, the metal base 7 and the ceramic substrate 17 are joined and integrated.
(13) Next, the power supply terminal 25 and the like are arranged to complete the electrostatic chuck 1.
[1-4. effect]
Next, the effect of the first embodiment will be described.
(1)本第1実施形態のセラミックヒータ5では、発熱層13と裏面(即ち第2の主面S2)との間に、セラミック材料より高い熱伝導率を有する(即ち熱が伝わり易い)熱分散層15が発熱層13毎に配置されているので、各発熱層13が配置された各加熱ゾーンKZにおける温度を容易に均一化することができる。 (1) In the ceramic heater 5 of the first embodiment, heat having a higher thermal conductivity (that is, heat is easily transmitted) between the heat generating layer 13 and the back surface (that is, the second main surface S2) than the ceramic material. Since the dispersion layer 15 is disposed for each heat generating layer 13, the temperature in each heating zone KZ in which each heat generating layer 13 is disposed can be easily made uniform.
しかも、本第1実施形態では、平面視で、発熱層13の線状で屈曲する発熱パターン47は、各熱分散層15の外周よりも内側に配置されているので、目標温度が異なる他の加熱ゾーンKZとの温度差を十分に確保することができる。即ち、各加熱ゾーンKZ間の温度を分離(即ちセパレート)することができる。 Moreover, in the first embodiment, the heat generation pattern 47 that is bent in a linear shape of the heat generation layer 13 is arranged on the inner side of the outer periphery of each heat dispersion layer 15 in plan view, so that other target temperatures are different. A sufficient temperature difference from the heating zone KZ can be secured. That is, the temperature between the heating zones KZ can be separated (that is, separated).
このように、本第1実施形態では、加熱ゾーンKZ内の温度を均一化できるとともに、他の加熱ゾーンKZとの温度差を十分に確保することができるという顕著な効果を奏する。 Thus, in the first embodiment, the temperature in the heating zone KZ can be made uniform, and a significant effect can be obtained that a temperature difference from the other heating zones KZ can be sufficiently secured.
なお、発熱層13と裏面との間に熱分散層15を配置することにより、熱分散層15を配線部27(例えば一対の端子部40から発熱層13に到る電力の供給経路:例えば内部配線層39)の一部として流用できる。そのため、セラミック基板17の厚み方向において、例えば内部配線層39と別に新たに熱分散層15を配置するスペースを必要としないため、セラミック基板17を厚くせずに熱分散層15を配置できる。 By disposing the heat dispersion layer 15 between the heat generation layer 13 and the back surface, the heat distribution layer 15 is connected to the wiring portion 27 (for example, a power supply path from the pair of terminal portions 40 to the heat generation layer 13: It can be used as a part of the wiring layer 39). For this reason, in the thickness direction of the ceramic substrate 17, for example, a space for newly disposing the heat dispersion layer 15 is not required separately from the internal wiring layer 39, and thus the heat dispersion layer 15 can be disposed without increasing the thickness of the ceramic substrate 17.
さらに、本第1実施形態では、発熱層13と金属ベース7との間、つまり、熱のやりとりが多い位置に、熱分散層15を配置することにより、均熱性および熱分散性の効果がより得やすくなるという利点がある。 Furthermore, in the first embodiment, by arranging the heat dispersion layer 15 between the heat generating layer 13 and the metal base 7, that is, at a position where there is a lot of heat exchange, the effects of heat uniformity and heat dispersion are further improved. There is an advantage that it is easy to obtain.
(2)本第1実施形態では、平面視で、各発熱層13において、発熱パターン47のうち隣り合って配置されている線状の発熱パターン47の間の領域にも、熱分散層15が配置されている。 (2) In the first embodiment, the heat dispersion layer 15 is also provided in a region between the linear heat generation patterns 47 arranged adjacent to each other in the heat generation patterns 47 in each heat generation layer 13 in plan view. Has been placed.
つまり、同じ発熱層13の発熱パターン47において、隣り合う発熱パターン47の間に熱分散層15が配置されているので、一層各加熱ゾーンKZにおける温度を均一化できる。 That is, in the heat generation pattern 47 of the same heat generation layer 13, since the heat dispersion layer 15 is disposed between the adjacent heat generation patterns 47, the temperature in each heating zone KZ can be made uniform.
(3)本第1実施形態では、発熱層13と熱分散層15との間の第1距離t1は、熱分散層15と裏面との間の第2距離t2よりも短い。
つまり、熱分散層15は、裏面よりも発熱層13に近い位置に配置されているので、一層、各加熱ゾーンKZにおける均熱性が向上するとともに、各加熱ゾーンKZ間の温度を分離することができる。
(3) In the first embodiment, the first distance t1 between the heat generating layer 13 and the heat dispersion layer 15 is shorter than the second distance t2 between the heat dispersion layer 15 and the back surface.
That is, since the heat dispersion layer 15 is disposed at a position closer to the heat generation layer 13 than the back surface, the heat uniformity in each heating zone KZ is further improved, and the temperature between the heating zones KZ can be separated. it can.
(4)本第1実施形態では、一対の端子部40から、第1ビア29及びパッド部15aと、第2ビア31及び主熱分散部15bとを介して、発熱層13(詳しくは発熱パターン47)に電力を供給することによって、加熱ゾーンKZを加熱することができる。 (4) In the first embodiment, the heat generating layer 13 (specifically, the heat generation pattern) is connected from the pair of terminal portions 40 through the first via 29 and the pad portion 15a, the second via 31 and the main heat dispersion portion 15b. The heating zone KZ can be heated by supplying electric power to 47).
つまり、このような簡易な給電のために構成(特に給電の経路が短い構成)によって、発熱層13(詳しくは発熱パターン47)に容易に電力を供給するができる。
また、パッド部15aを囲むように、面積の大きな主熱分散部15bが配置されているので、加熱ゾーンKZにおける均熱性を高めることができるという利点がある。
[1−5.文言の対応関係]
本第1実施形態の、セラミックヒータ5、発熱層13、熱分散層15、パッド部15a、主熱分散部15b、セラミック基板17、端子部40は、それぞれ、本発明の、セラミックヒータ、発熱層、熱分散層、パッド部、主熱分散部、セラミック基板、端子部の一例に相当する。
[2.第2実施形態]
次に、第2実施形態について説明するが、第1実施形態と同様な内容については、説明を省略又は簡略化する。なお、第1実施形態と同様な構成には、同様な番号を付す。
That is, power can be easily supplied to the heat generating layer 13 (specifically, the heat generating pattern 47) by such a simple power supply configuration (particularly a configuration in which the power supply path is short).
Moreover, since the main heat dispersion part 15b with a large area is arrange | positioned so that the pad part 15a may be enclosed, there exists an advantage that the thermal uniformity in the heating zone KZ can be improved.
[1-5. Correspondence of wording]
In the first embodiment, the ceramic heater 5, the heat generation layer 13, the heat dispersion layer 15, the pad portion 15a, the main heat dispersion portion 15b, the ceramic substrate 17, and the terminal portion 40 are respectively the ceramic heater and the heat generation layer of the present invention. This corresponds to an example of a heat dispersion layer, a pad portion, a main heat dispersion portion, a ceramic substrate, and a terminal portion.
[2. Second Embodiment]
Next, the second embodiment will be described, but the description similar to that of the first embodiment will be omitted or simplified. In addition, the same number is attached | subjected to the structure similar to 1st Embodiment.
本第2実施形態は、熱分散層に2つのパッド部を備えたものである。
本第2実施形態では、図6(a)、(b)に示すように、熱分散層51は、平面視で、一対の円形のパッド部51a、51bと、各パッド部51a、51bより面積が広く且つ各パッド部51a、51bとの間に帯状の間隔をあけて、各パッド部51a、51bの全周を囲む主熱分散部51cと、を備えている。
In the second embodiment, two pad portions are provided in the heat dispersion layer.
In the second embodiment, as shown in FIGS. 6A and 6B, the heat distribution layer 51 has a larger area than the pair of circular pad parts 51a and 51b and the pad parts 51a and 51b in plan view. And a main heat dispersion part 51c surrounding the entire circumference of each pad part 51a, 51b with a band-like space between each pad part 51a, 51b.
また、図6(c)に示すように、発熱層13(従って発熱パターン47)は、一対のパッド部51a、51bと電気的に接続されており、発熱層13に給電するための一対の端子部40が、それぞれ一対のパッド部51a、51bに電気的に接続されている。 As shown in FIG. 6C, the heat generating layer 13 (and hence the heat generating pattern 47) is electrically connected to the pair of pad portions 51a and 51b, and a pair of terminals for supplying power to the heat generating layer 13. The portions 40 are electrically connected to the pair of pad portions 51a and 51b, respectively.
つまり、発熱パターン47の端部13aは、第1ビア29、一方のパッド部51a、第3ビア33等を介して、一方の端子部40に接続されており、発熱パターン47の他方の端部13bは、第2ビア31、他方のパッド部51b、第4ビア35等を介して、他方の端子部40に接続されている。 That is, the end portion 13 a of the heat generation pattern 47 is connected to the one terminal portion 40 via the first via 29, one pad portion 51 a, the third via 33, and the like, and the other end portion of the heat generation pattern 47. 13b is connected to the other terminal portion 40 via the second via 31, the other pad portion 51b, the fourth via 35, and the like.
本第2実施形態も第1実施形態と同様な効果を奏する。
[3.第3実施形態]
次に、第3実施形態について説明するが、第1実施形態と同様な内容については、説明を省略又は簡略化する。なお、第1実施形態と同様な構成には、同様な番号を付す。
The second embodiment also has the same effect as the first embodiment.
[3. Third Embodiment]
Next, the third embodiment will be described, but the description similar to that of the first embodiment will be omitted or simplified. In addition, the same number is attached | subjected to the structure similar to 1st Embodiment.
本第3実施形態は、熱分散層にパッド部がないものである。
本第3実施形態では、図7に示すように、熱分散層61は、平面視で、矩形状であり、その熱分散層61内に、発熱層13(従って発熱パターン47)が配置されている。
In the third embodiment, the heat dispersion layer does not have a pad portion.
In the third embodiment, as shown in FIG. 7, the heat dispersion layer 61 has a rectangular shape in plan view, and the heat generation layer 13 (and hence the heat generation pattern 47) is disposed in the heat dispersion layer 61. Yes.
つまり、熱分散層61の外周と発熱層13の上下左右の外周とが一致するように配置されている。
なお、図7には、発熱層13に給電するための構成は記載されていていないが、例えば熱分散層を回避するようにして、一対の端部13a、13bと接続するビアや内部配線層を形成すればよい。
That is, the outer periphery of the heat dispersion layer 61 and the upper, lower, left, and right outer peripheries of the heat generating layer 13 are arranged to coincide.
Although FIG. 7 does not describe a configuration for supplying power to the heat generating layer 13, for example, vias and internal wiring layers connected to the pair of end portions 13a and 13b so as to avoid the heat dispersion layer. May be formed.
本第3実施形態も第1実施形態と同様な効果を奏する。
[4.実験例]
次に、本発明の各構成による効果を確認するために行った実験例1〜4について説明する。
The third embodiment also has the same effect as the first embodiment.
[4. Experimental example]
Next, experimental examples 1 to 4 performed for confirming the effects of the respective configurations of the present invention will be described.
以下の実験例1〜4は、コンピュータシミュレーションによって、発熱層を発熱させた場合において、セラミック基板の熱の状態(即ち温度分布)を調べたものである。
<実験例1>
本実験例1は、各加熱ゾーンにおける均熱性を調べたものである。
In the following Experimental Examples 1 to 4, the heat state (that is, the temperature distribution) of the ceramic substrate was examined when the heat generating layer was heated by computer simulation.
<Experimental example 1>
In this Experimental Example 1, the thermal uniformity in each heating zone was examined.
本実験例1では、実験に用いるセラミックヒータのモデルとして、図8(a)に示すように、3つの同形状の加熱ゾーン(セグメント)が左右方向に連続して配置されるとともに、1つの加熱ゾーン内において、1本の蛇行する発熱パターンを備えた基準モデルを設定した。なお、この基準モデルには熱分散層は設定されていない。 In Experimental Example 1, as a model of the ceramic heater used in the experiment, as shown in FIG. 8A, three heating zones (segments) having the same shape are continuously arranged in the left-right direction and one heating is performed. In the zone, a reference model having one meandering heat generation pattern was set. In this reference model, no heat dispersion layer is set.
詳しくは、各加熱ゾーンにおいて、同図の上下方向に延びるとともに、左右方向において等間隔に10本並列に配置されたラインを備えたモデルを設定した。なお、発熱パターンのうち上下方向に延びる部分をラインと称する。 Specifically, in each heating zone, a model having 10 lines extending in the vertical direction in the figure and arranged in parallel at equal intervals in the horizontal direction was set. In addition, the part extended in an up-down direction among heat_generation | fever patterns is called a line.
そして、この基準モデルにおいて、左右方向に配列されたラインのうち、左のラインから順番に、「H−C−C−H−H−C−C・・」のように、発熱状態を調節した。なお、Hが発熱を示し、Cが非発熱を示している。つまり、隣り合う2本のライン同士を1組として、左右方向において(但し、左端は1本のみが発熱とし)、「2本が非発熱−2本が発熱−2本が非発熱・・」のように順次設定した。 Then, in this reference model, the heat generation state was adjusted in order from the left line among the lines arranged in the left-right direction, such as “HCCCHHCC. . Note that H indicates heat generation and C indicates non-heat generation. In other words, two adjacent lines are considered as one set in the left-right direction (however, only one line at the left end generates heat), “two lines do not generate heat, two lines generate heat, two lines do not generate heat, etc.” Were set sequentially.
詳しくは、このような発熱状態として、基準モデルにおいて、1つの加熱ゾーン内で温度差(セグメント内温度差)が1.50℃以上となるように、発熱量を調整した。即ち、発熱する各ラインの温度を調節した。 Specifically, in such a heat generation state, the heat generation amount was adjusted in the reference model so that the temperature difference (segment temperature difference) was 1.50 ° C. or more in one heating zone. That is, the temperature of each line generating heat was adjusted.
その状態を図8(b)の上図に示すが、発熱部分と非発熱部分とが明瞭に分かれており、均熱性が十分でないことが分かる。なお、図8(b)の上図では、ハッチングの種類(模様)によって、温度の高低を示している。つまり、図8(b)の下図の6個のブロックの模様によって温度の高低を示し、同図の右側にゆくほど温度が高いことを示している。なお、この模様の示す温度については、他の発熱状態を示す図面も同様である。 The state is shown in the upper part of FIG. 8B, and it can be seen that the heat-generating part and the non-heat-generating part are clearly separated, and the heat uniformity is not sufficient. In the upper diagram of FIG. 8B, the level of temperature is indicated by the type (pattern) of hatching. That is, the pattern of the six blocks in the lower diagram of FIG. 8B indicates the temperature level, and the higher the temperature is on the right side of the diagram, the higher the temperature. In addition, about the temperature which this pattern shows, the drawing which shows another heat_generation | fever state is also the same.
なお、図8(b)に示す発熱状態となるような各ラインの発熱状態を、発熱試験条件1とした。
次に、上述した基準モデルにおいて、さらに、図9(a)に示すように、各加熱ゾーンの各発熱パターンに重なるように、矩形状の各熱分散層(即ち3つの熱分散層:図9(a)灰色部分)を配置した本発明例Aのモデルを設定した。なお、本発明例Aとは第3実施形態に対応したモデルである。
In addition, the heat generation state of each line so that the heat generation state shown in FIG.
Next, in the reference model described above, as shown in FIG. 9A, each rectangular heat dispersion layer (that is, three heat dispersion layers: FIG. 9) overlaps with each heat generation pattern of each heating zone. A model of Example A of the present invention in which (a) gray part) was arranged was set. The invention example A is a model corresponding to the third embodiment.
そして、前記基準モデルにおける発熱試験条件1にて、本発明例Aのモデルを加熱した。その結果を図9(b)に示すが、セグメント内温度差は1.16℃以下であり、各加熱ゾーンにおける均熱性が優れていることが分かる。 Then, the model of Invention Example A was heated under the exothermic test condition 1 in the reference model. The result is shown in FIG. 9B, and the temperature difference within the segment is 1.16 ° C. or less, and it is understood that the heat uniformity in each heating zone is excellent.
次に、上述した基準モデルにおいて、さらに、図9(c)に示すように、加熱ゾーン間を含み、かつ、全ての加熱ゾーンの全ての発熱パターンに重なるように、矩形状の1つの熱分散層(図9(c)の灰色部分参照)を配置した比較例1のモデルを設定した。 Next, in the reference model described above, as shown in FIG. 9C, one rectangular heat dispersion is provided so as to include between the heating zones and overlap all the heat generation patterns of all the heating zones. The model of the comparative example 1 which has arrange | positioned the layer (refer the gray part of FIG.9 (c)) was set.
そして、前記基準モデルにおける発熱試験条件1にて、比較例1のモデルを加熱した。その結果を図9(d)に示すが、セグメント内温度差は1.13℃以下であり、均熱性について優れていることが分かる(なお、後述する熱の分離性は劣っている)。 And the model of the comparative example 1 was heated on the heat_generation | fever test condition 1 in the said reference | standard model. The result is shown in FIG. 9 (d), and it can be seen that the temperature difference within the segment is 1.13 ° C. or less and that the heat uniformity is excellent (the heat separation property described later is inferior).
次に、上述した基準モデルにおいて、さらに、図9(e)に示すように、各加熱ゾーンの各発熱パターンに対して、それぞれ矩形状の2つの熱分散層(合計で6つの熱分散層:図9(e)の灰色部分)を配置した比較例2のモデルを設定した。 Next, in the above-described reference model, as shown in FIG. 9E, for each heat generation pattern in each heating zone, two rectangular heat dispersion layers (total of six heat dispersion layers: The model of the comparative example 2 which has arrange | positioned the gray part of FIG.9 (e) was set.
そして、前記基準モデルにおける発熱試験条件1にて、比較例2のモデルを加熱した。その結果を図9(f)に示すが、セグメント内温度差は1.41℃であり、本発明例Aより劣っていることが分かる。 And the model of the comparative example 2 was heated on the heat_generation | fever test condition 1 in the said reference | standard model. The result is shown in FIG. 9 (f), and it can be seen that the temperature difference within the segment is 1.41 ° C., which is inferior to Example A of the present invention.
この実験例1の結果を、図10にまとめて示す。この図10から明らかなように、均熱性については、本発明例Aは、基準モデル及び比較例2に対して優れていることが分かる。 The results of Experimental Example 1 are collectively shown in FIG. As is apparent from FIG. 10, it can be seen that the example A of the present invention is superior to the reference model and the comparative example 2 with respect to the thermal uniformity.
<実験例2>
本実験例2は、各加熱ゾーン間における熱の分離性を調べたものである。
本実験例2の基準モデルは、図11(a)に示すように、実験例1と同様である。
<Experimental example 2>
In Experimental Example 2, the heat separability between the heating zones was examined.
The reference model of Experimental Example 2 is the same as that of Experimental Example 1 as shown in FIG.
そして、この基準モデルにおいて、3箇所の加熱ゾーンのうち、左右の加熱ゾーンの発熱パターンを全て発熱させるとともに、中央の加熱ゾーンの発熱パターンを全て発熱させないようにした。 In this reference model, all the heating patterns in the left and right heating zones among the three heating zones are heated, and all the heating patterns in the central heating zone are not heated.
詳しくは、基準モデルにおいて、発熱した加熱ゾーンと発熱しない加熱ゾーンとの温度差(セグメント間温度差)が2.0℃以上(詳しくは2.19℃)となるように、発熱量を調整した。その状態を図11(b)に示す。なお、図11(b)に示す発熱状態となるような発熱パターンの発熱状態を、発熱試験条件2とした。 Specifically, in the reference model, the amount of heat generated was adjusted so that the temperature difference (temperature difference between segments) between the heating zone that generated heat and the heating zone that did not generate heat was 2.0 ° C. or more (specifically 2.19 ° C.). . The state is shown in FIG. In addition, the heat generation state of the heat generation pattern as shown in FIG.
次に、上述した基準モデルにおいて、さらに、図12(a)に示すように、各加熱ゾーンの各発熱パターンに重なるように、矩形状に各熱分散層(即ち3つの熱分散層:図12(a)の灰色部分)を配置した本発明例Aのモデルを設定した。 Next, in the reference model described above, as shown in FIG. 12A, each heat dispersion layer (that is, three heat dispersion layers: FIG. 12) is formed in a rectangular shape so as to overlap each heat generation pattern of each heating zone. A model of Example A of the present invention in which (g) (gray portion) is arranged was set.
そして、前記基準モデルにおける発熱試験条件2にて、本発明例Aのモデルを加熱した。その結果を図12(b)に示すが、セグメント間温度差は2.11℃であり、各加熱ゾーン間における熱の分離性が優れていることが分かる。 Then, the model of Invention Example A was heated under the exothermic test condition 2 in the reference model. The result is shown in FIG. 12 (b). The temperature difference between segments is 2.11 ° C., and it can be seen that the heat separability between the heating zones is excellent.
次に、上述した基準モデルにおいて、さらに、図12(c)に示すように、加熱ゾーン間を含み、かつ、全ての加熱ゾーンの全ての発熱パターンに重なるように、矩形状に1つの熱分散層(図12(c)の灰色部分参照)を配置した比較例1のモデルを設定した。 Next, in the reference model described above, as shown in FIG. 12 (c), one heat distribution is formed in a rectangular shape so as to include between the heating zones and overlap all the heat generation patterns of all the heating zones. The model of the comparative example 1 which has arrange | positioned the layer (refer the gray part of FIG.12 (c)) was set.
そして、前記基準モデルにおける発熱試験条件2にて、比較例1のモデルを加熱した。その結果を図12(d)に示すが、セグメント間温度差は1.60℃であり、本発明例Aに比べて熱の分離性が低いことが分かる。 And the model of the comparative example 1 was heated on the heat_generation | fever test condition 2 in the said reference | standard model. The result is shown in FIG. 12 (d), and the temperature difference between segments is 1.60 ° C., which indicates that the heat separability is lower than that of Example A of the present invention.
次に、上述した基準モデルにおいて、さらに、図12(e)に示すように、各加熱ゾーンの各発熱パターンに対して、それぞれ矩形状の2つの熱分散層(即ち3つの熱分散層:図12(e)の灰色部分)を配置した比較例2のモデルを設定した。 Next, in the above-described reference model, as shown in FIG. 12E, two rectangular heat dispersion layers (that is, three heat dispersion layers: FIG. The model of Comparative Example 2 in which the gray portion of 12 (e) was disposed was set.
そして、前記基準モデルにおける発熱試験条件2にて、比較例2のモデルを加熱した。その結果は、前記図12(b)と同様であり、熱の分離性については優れていた(なお、上述のように、本発明例Aに比べて均熱性は劣っている)。 And the model of the comparative example 2 was heated on the heat_generation | fever test condition 2 in the said reference | standard model. The result was the same as in FIG. 12B, and the heat separability was excellent (as described above, the thermal uniformity was inferior to that of Example A of the present invention).
この実験例2の結果を、図13にまとめて示す。この図13から明らかなように、熱の分離性については、本発明例Aは、基準モデル及び比較例1に対して優れていることが分かる。 The results of Experimental Example 2 are collectively shown in FIG. As is apparent from FIG. 13, it can be seen that the invention example A is superior to the reference model and the comparative example 1 in terms of heat separability.
なお、図13の温度集計範囲の両端を示す一点鎖線は、各セグメントにおける一点鎖線の位置で温度を測定したことを示している。
<実験例3>
本実験例3は、熱分散層の厚み方向の位置における均熱性及び熱の分離性を調べたものである。
In addition, the dashed-dotted line which shows the both ends of the temperature totaling range of FIG. 13 has shown that the temperature was measured in the position of the dashed-dotted line in each segment.
<Experimental example 3>
In this Experimental Example 3, the thermal uniformity and heat separation at the position in the thickness direction of the heat dispersion layer were examined.
図14(a)に示すように、本発明例B(なお、発熱層や熱分散層の平面形状は第3実施形態に対応したモデル)として、発熱層と裏面との間に熱分散層を配置するとともに、第1距離t1を0.356mmとし、第2距離t2を0.844mmとした。即ち、t1<t2とした。 As shown in FIG. 14A, as Example B of the present invention (where the heat generating layer and the heat dispersive layer have a planar shape corresponding to the third embodiment), a heat dispersive layer is provided between the heat generating layer and the back surface. The first distance t1 was set to 0.356 mm, and the second distance t2 was set to 0.844 mm. That is, t1 <t2.
なお、セラミック基板の厚みは2.4mmとし、表面から発熱層までの距離は1.2mmとした。
本発明例Bでは、実験例1の前記図8(a)に示すように、3箇所の加熱ゾーンを設定するとともに、同様に発熱パターンを設定した。なお、図14(a)では、2つの加熱ゾーンのみを示している。
The thickness of the ceramic substrate was 2.4 mm, and the distance from the surface to the heat generating layer was 1.2 mm.
In Invention Example B, as shown in FIG. 8A of Experimental Example 1, three heating zones were set and a heat generation pattern was set in the same manner. In FIG. 14 (a), only two heating zones are shown.
そして、前記発熱試験条件1にて、本発明例Bのモデルを加熱した。その結果を図14(b)に示すが、セグメント内温度差は1.16℃以下であり、各加熱ゾーン内における均熱性が優れていることが分かる。 The model of Invention Example B was heated under the heat generation test condition 1. The result is shown in FIG. 14B, and the temperature difference within the segment is 1.16 ° C. or less, and it can be seen that the heat uniformity in each heating zone is excellent.
また、前記発熱試験条件2にて、本発明例Bのモデルを加熱した。その結果を図14(c)に示すが、セグメント間温度差は2.11℃であり、各加熱ゾーン間における熱の分離性が優れていることが分かる。 In addition, the model of Invention Example B was heated under the exothermic test condition 2. The result is shown in FIG. 14 (c), and the temperature difference between segments is 2.11 ° C., and it can be seen that the heat separability between the heating zones is excellent.
一方、図15(a)に示すように、本発明例C(なお、発熱層や熱分散層の平面形状は本発明例Bと同様)として、発熱層と裏面との間に熱分散層を配置するとともに、第1距離t1を0.800mmとし、第2距離t2を0.400mmとした。即ち、t1>t2とした。 On the other hand, as shown in FIG. 15 (a), the present invention example C (note that the planar shape of the heat generation layer and the heat dispersion layer is the same as that of the present invention example B) is provided with a heat dispersion layer between the heat generation layer and the back surface. The first distance t1 was set to 0.800 mm, and the second distance t2 was set to 0.400 mm. That is, t1> t2.
この本発明例Cでも、実験例1の前記図8(a)に示すように、3箇所の加熱ゾーンを設定するとともに、同様に発熱パターンを設定した。なお、図15(a)では、2つの加熱ゾーンのみを示している。 In Example C of the present invention, as shown in FIG. 8A of Experimental Example 1, three heating zones were set and a heat generation pattern was set in the same manner. In FIG. 15A, only two heating zones are shown.
そして、前記発熱試験条件1にて、本発明例Cのモデルを加熱した。その結果を図15(b)に示すが、セグメント内温度差は1.40℃以下であり、本発明例Bに比べて各加熱ゾーン内における均熱性がやや劣っているものの、均熱性が高いことが分かる。 Then, the model of Invention Example C was heated under the exothermic test condition 1. The result is shown in FIG. 15 (b), and the temperature difference in the segment is 1.40 ° C. or less, and the heat uniformity in each heating zone is slightly inferior to that of Example B of the present invention, but the heat uniformity is high. I understand that.
また、前記発熱試験条件2にて、本発明例Cのモデルを加熱した。その結果を図15(c)に示すが、セグメント間温度差は2.14℃であり、各加熱ゾーン間における熱の分離性は優れていることが分かる。 Further, the model of Invention Example C was heated under the exothermic test condition 2. The result is shown in FIG. 15 (c), and the temperature difference between segments is 2.14 ° C., and it can be seen that the heat separation between the heating zones is excellent.
この実験例3の結果を、図16(a)及び図16(b)にまとめて示す。この図16から明らかなように、本発明例Bは、均熱性及び熱の分離性の両方が優れていることが分かる。なお、本発明例Cは、本発明例Bに比べて、均熱性がやや劣っている。 The results of Experimental Example 3 are collectively shown in FIGS. 16 (a) and 16 (b). As can be seen from FIG. 16, Example B of the present invention is excellent in both heat uniformity and heat separation. In addition, Invention Example C is slightly inferior in heat uniformity as compared with Invention Example B.
<実験例4>
図17(a)に、本発明例Dに対応した第1実施形態における発熱層と熱分散層との重ね合わせの状態を示す。
<Experimental example 4>
FIG. 17A shows a state where the heat generation layer and the heat dispersion layer are overlaid in the first embodiment corresponding to Example D of the present invention.
なお、実験例4に用いる本発明例Dのモデルは、前記図9(a)に示すようなモデル(本発明例A)において、二重の円(図17(b)参照)に挟まれた帯状の領域には、熱分散層が無いとしたものである(即ち第1実施形態に対応したものである)。 The model of Invention Example D used in Experimental Example 4 was sandwiched between double circles (see FIG. 17 (b)) in the model (Invention Example A) as shown in FIG. 9 (a). It is assumed that the belt-like region has no heat dispersion layer (that is, corresponds to the first embodiment).
そして、前記発熱試験条件1にて、本発明例Dのモデルを加熱した。その結果を図17(b)に示すが、セグメント内温度差は1.26℃以下であり、各加熱ゾーン内における均熱性が優れていることが分かる。 The model of Invention Example D was heated under the heat generation test condition 1. The result is shown in FIG. 17B, and the temperature difference in the segment is 1.26 ° C. or less, and it is understood that the heat uniformity in each heating zone is excellent.
図18(a)に、比較例3における発熱層と熱分散層との重ね合わせの状態を示す。この比較例3では、発熱層の一部(即ち各加熱ゾーンにおける同図の左角の部分)は熱分散層が重ね合されていない。 FIG. 18A shows a state in which the heat generation layer and the heat dispersion layer in Comparative Example 3 are overlaid. In Comparative Example 3, a part of the heat generating layer (that is, the left corner portion of the drawing in each heating zone) is not overlapped with the heat dispersion layer.
なお、実験例4に用いる比較例3のモデルは、前記図9(a)に示すようなモデル(本発明例A)において、図18(a)の形状に対応するように、矩形の熱分散層の左下が切り欠かれてL字状に凹んでおり、その部分には、熱分散層が無いものである。但し、図18(b)凹んだ部分にある円内には熱分散層があるとした。 The model of Comparative Example 3 used in Experimental Example 4 is a rectangular heat dispersion so as to correspond to the shape of FIG. 18 (a) in the model (Example A) of the model shown in FIG. 9 (a). The lower left of the layer is cut out and recessed in an L shape, and there is no heat dispersion layer in that portion. However, in FIG. 18B, it is assumed that there is a heat dispersion layer in the circle in the recessed portion.
そして、前記発熱試験条件1にて、比較例3のモデルを加熱した。その結果を図18(b)に示すが、セグメント内温度差は1.44℃以上であり、各加熱ゾーン内における均熱性は、本発明例A、Dに比べて劣っていることが分かる。 And the model of the comparative example 3 was heated on the said heat_generation | fever test condition 1. FIG. The result is shown in FIG. 18B, and the temperature difference within the segment is 1.44 ° C. or more, and it is understood that the heat uniformity in each heating zone is inferior to that of Examples A and D of the present invention.
この実験例4の結果を、図19にまとめて示す。なお、図19には、上述した本発明例Aの発熱試験条件1における温度分布の状態も合わせて示す。
この図19からも明らかなように、本発明例A、Dは、比較例3に比べて均熱性が優れていることが分かる。
The results of Experimental Example 4 are collectively shown in FIG. FIG. 19 also shows the state of the temperature distribution in the heat generation test condition 1 of the invention example A described above.
As can be seen from FIG. 19, Invention Examples A and D are superior in heat uniformity as compared with Comparative Example 3.
<実験例のまとめ>
図20に、実験例1〜4の結果をまとめて示す。なお、図20では、発熱層や熱分散層の配置による特徴が分かり易いように、各実験に使用した各モデルの形状ではなく、各モデルに対応した各実施形態等の実際の発熱層や熱分散層の形状を示している。均熱性に関しては、実験例1〜4のセグメント内温度差のうち、一番大きい温度差の結果を示した。
<Summary of experimental examples>
FIG. 20 collectively shows the results of Experimental Examples 1 to 4. In FIG. 20, the shape of each model used in each experiment is not the shape of each model used in each experiment, but the actual heat generation layer and heat of each embodiment etc. corresponding to each model so that the characteristics due to the arrangement of the heat generation layer and the heat dispersion layer are easy to understand. The shape of the dispersion layer is shown. Regarding the thermal uniformity, the result of the largest temperature difference among the temperature differences in the segments of Experimental Examples 1 to 4 was shown.
なお、図20の「×」は、性能が低いことを示し、「△」は「×」より性能が高いことを示し、「○」は「△」より性能が高いことを示している。
図20の実験例1、2から明らかなように、本発明例A(第3実施形態に対応した構成)は、均熱性及び熱の分離性に優れていることが分かる。それに対して、本発明ではない、基準モデル、比較例1、2では、均熱性及び熱の分離性のいずれかが、本発明例Aより劣っている。
In FIG. 20, “X” indicates that the performance is low, “Δ” indicates that the performance is higher than “X”, and “◯” indicates that the performance is higher than “Δ”.
As is apparent from Experimental Examples 1 and 2 of FIG. 20, Example A of the present invention (configuration corresponding to the third embodiment) is excellent in heat uniformity and heat separation. On the other hand, in the reference model and Comparative Examples 1 and 2, which are not the present invention, either the soaking property or the heat separation property is inferior to that of the Invention Example A.
図20の実験例3から明らかなように、本発明例B(第3実施形態に対応した構成)は、均熱性及び熱の分離性に優れていることが分かる。また、本発明例Cは、熱の分離性に優れていることが分かる。なお、本発明例Cの均熱性については、比較例2の均熱性より優れている。 As is apparent from Experimental Example 3 of FIG. 20, Example B of the present invention (configuration corresponding to the third embodiment) is excellent in heat uniformity and heat separation. In addition, it can be seen that Example C of the present invention is excellent in heat separability. The soaking property of Invention Example C is superior to that of Comparative Example 2.
図20の実験例4から明らかなように、本発明例D(第1実施形態に対応した構成)は、均熱性及び熱の分離性に優れていることが分かる。それに対して、本発明ではない、比較例3では、均熱性が、本発明例Dより劣っている。
[5.他の実施形態]
本発明は前記実施形態になんら限定されるものではなく、本発明を逸脱しない範囲において種々の態様で実施しうることはいうまでもない。
As is apparent from Experimental Example 4 in FIG. 20, Example D of the present invention (configuration corresponding to the first embodiment) is excellent in heat uniformity and heat separation. On the other hand, in Comparative Example 3, which is not the present invention, the thermal uniformity is inferior to that of Inventive Example D.
[5. Other Embodiments]
It goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be implemented in various modes without departing from the present invention.
(1)熱分散層の外周形状としては、矩形状、円形形状など、発熱層の外周に沿った形状を採用できる。
(2)熱分散層は、発熱層と裏面との間の中央より発熱層側にあることが望ましいが、発熱層と裏面との中央や、中央より裏側に近い位置にあってもよい。
(1) As the outer peripheral shape of the heat dispersion layer, a shape along the outer periphery of the heat generating layer such as a rectangular shape or a circular shape can be adopted.
(2) Although it is desirable that the heat dispersion layer be on the heat generation layer side from the center between the heat generation layer and the back surface, it may be located at the center between the heat generation layer and the back surface, or closer to the back side than the center.
(3)前記実施形態において、平面視で、発熱層は、各熱分散層の外周よりも所定距離だけ離れた内側に各発熱パターンが配置されていたが、各発熱パターンの外周と対応する各熱分散層の外周とが平面視で重なっていてもよい。また、熱の分離性の効果が得られる範囲であれば、平面視で、各熱分散層の外周よりも所定距離だけ離れた外側に各発熱パターンを配置してもよい。 (3) In the above-described embodiment, each heat generation pattern is arranged on the inner side of the heat generation layer at a predetermined distance from the outer periphery of each heat dispersion layer in plan view. The outer periphery of the heat dispersion layer may overlap in plan view. Further, each heat generation pattern may be arranged outside the outer periphery of each heat dispersion layer by a predetermined distance in a plan view as long as the effect of heat separation is obtained.
(4)熱分散層は、平面視で、隣り合って配置されている発熱パターンの間の領域にも配置されていることが望ましいが、図21に示すように、熱分散層(従ってその外周)が、隣り合う発熱パターンの間に入り込むように形成されていてもよい。 (4) Although it is desirable that the heat dispersion layer is also disposed in a region between adjacent heat generation patterns in plan view, as shown in FIG. ) May be formed so as to enter between adjacent heat generation patterns.
(5)また、セラミックヒータとしては、静電チャックに限らず、真空チャックなど他の用途に用いることができる。
(6)さらに、本発明は、金属ベースを備えない静電チャックにも適用できる。つまり、セラミックヒータに、吸着用電極や複数の発熱層を備えた静電チャックにも適用できる。
(5) Further, the ceramic heater is not limited to the electrostatic chuck but can be used for other applications such as a vacuum chuck.
(6) Furthermore, the present invention can be applied to an electrostatic chuck that does not include a metal base. That is, the present invention can also be applied to an electrostatic chuck provided with an adsorption electrode and a plurality of heat generation layers in a ceramic heater.
(7)また、本発明は、静電チャックなどではないセラミックヒータ単体にも適用できる。例えば、セラミック基板内に、前記各実施形態と同様な複数の発熱層を備えたセラミックヒータに適用できる。 (7) The present invention can also be applied to a ceramic heater alone that is not an electrostatic chuck or the like. For example, the present invention can be applied to a ceramic heater provided with a plurality of heat generation layers similar to those in the above embodiments in a ceramic substrate.
(8)なお、前記実施形態における1つの構成要素が有する機能を複数の構成要素に分担させたり、複数の構成要素が有する機能を1つの構成要素に発揮させたりしてもよい。また、前記実施形態の構成の一部を、省略してもよい。また、前記実施形態の構成の少なくとも一部を、他の実施形態の構成に対して付加、置換等してもよい。なお、特許請求の範囲に記載の文言から特定される技術思想に含まれるあらゆる態様が本発明の実施形態である。 (8) In addition, the function which one component in the said embodiment has may be shared by a some component, or the function which a some component has may be exhibited by one component. Moreover, you may abbreviate | omit a part of structure of the said embodiment. In addition, at least a part of the configuration of the embodiment may be added to or replaced with the configuration of the other embodiments. In addition, all the aspects included in the technical idea specified from the wording described in the claims are embodiments of the present invention.
1…静電チャック
5…セラミックヒータ
13…発熱層
15、51、61…熱分散層
15a、51a、51b…パッド部
15b、51c…主熱分散部
17…セラミック基板
40…端子部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electrostatic chuck 5 ... Ceramic heater 13 ... Heat generating layer 15, 51, 61 ... Heat dispersion layer 15a, 51a, 51b ... Pad part 15b, 51c ... Main heat dispersion part 17 ... Ceramic substrate 40 ... Terminal part
Claims (5)
前記セラミック基板の内部には、前記発熱層と前記裏面との間に、前記セラミック基板を構成するセラミック材料より高い熱伝導率を有する熱分散層が前記発熱層毎に配置されており、
前記セラミック基板を厚み方向から見た平面視で、
前記発熱層は、線状の発熱パターンを有するとともに、該発熱パターンは屈曲する部分を有していることを特徴とするセラミックヒータ。 In the ceramic heater in which a plurality of heat generating layers that generate heat by energization are arranged along the plane direction inside the ceramic substrate having the front surface and the back surface,
Inside the ceramic substrate, a heat dispersion layer having a higher thermal conductivity than the ceramic material constituting the ceramic substrate is disposed for each of the heat generation layers between the heat generation layer and the back surface.
In a plan view of the ceramic substrate viewed from the thickness direction,
The heat generating layer has a linear heat generating pattern, and the heat generating pattern has a bent portion.
前記パッド部と前記発熱層とを電気的に接続する第1ビアと、前記発熱層と前記主熱分散部とを電気的に接続する第2ビアと、を備え、
前記発熱層に給電するための一対の端子部が、それぞれ前記パッド部及び前記主熱分散部と電気的に接続されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のセラミックヒータ。 The heat dissipating layer has a conductive main part having a conductive pad part having a larger area than the pad part and a space between the pad part and surrounding the entire periphery of the pad part in plan view. A heat dispersion part,
A first via that electrically connects the pad portion and the heat generating layer; and a second via that electrically connects the heat generating layer and the main heat dispersing portion;
The pair of terminal portions for supplying power to the heat generating layer are electrically connected to the pad portion and the main heat dispersion portion, respectively. Ceramic heater.
前記発熱層は前記一対のパッド部と電気的に接続されており、
前記発熱層に給電するための一対の端子部が、それぞれ前記一対のパッド部に電気的に接続される請求項1〜3のいずれか1項に記載のセラミックヒータ。 The heat dispersion layer has a pair of conductive pad parts in plan view and a conductive area that has a larger area than the pad parts and is spaced from the pad parts and surrounds the entire circumference of the pad parts. A main heat dispersion part having,
The heat generating layer is electrically connected to the pair of pad portions;
The ceramic heater according to any one of claims 1 to 3, wherein a pair of terminal portions for supplying power to the heat generating layer are electrically connected to the pair of pad portions, respectively.
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