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JP2018020454A - Mask cleaning device, printing machine, mask cleaning method - Google Patents

Mask cleaning device, printing machine, mask cleaning method Download PDF

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JP2018020454A JP2016151350A JP2016151350A JP2018020454A JP 2018020454 A JP2018020454 A JP 2018020454A JP 2016151350 A JP2016151350 A JP 2016151350A JP 2016151350 A JP2016151350 A JP 2016151350A JP 2018020454 A JP2018020454 A JP 2018020454A
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猛志 藤本
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Abstract

【課題】マスクの吸引によってマスクをクリーニングするにあたり、マスクに作用する過大な負圧によってマスクが劣化するのを抑制可能とする。【解決手段】開口部を有するマスクに対向する吸引口を有するクリーニングヘッドと、マスクに対してクリーニングヘッドを相対的に移動させる駆動部と、吸引口に連通するクリーニングヘッドの内部を排気することで、マスクのうち吸引口に対向する吸引対象範囲を吸引する排気部と、クリーニングヘッドの内部の圧力の変化を検出する検出部と、クリーニングヘッドの内部の圧力が目標圧力に近づくように、排気部がクリーニングヘッドの内部を排気する排気速度を、検出部の検出結果に基づきフィードバック制御する制御部とを備える。【選択図】図2PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress deterioration of a mask due to an excessive negative pressure acting on the mask when cleaning the mask by suction of the mask. A cleaning head having a suction port facing a mask having an opening, a drive unit that relatively moves the cleaning head with respect to the mask, and the interior of the cleaning head communicating with the suction port are exhausted. , An exhaust unit that sucks a suction target range facing the suction port of the mask, a detection unit that detects a change in pressure inside the cleaning head, and an exhaust unit that makes the pressure inside the cleaning head close to a target pressure. And a control unit that feedback-controls the exhaust speed of exhausting the inside of the cleaning head based on the detection result of the detection unit. [Selection diagram] Figure 2

Description

本発明は、開口部を有するマスクの表面でペーストを広げることでマスクの裏面に重ねられた基板へペーストを印刷する印刷機で用いられるマスクをクリーニングする技術に関する。   The present invention relates to a technique for cleaning a mask used in a printing machine that prints a paste onto a substrate stacked on the back surface of the mask by spreading the paste on the surface of the mask having an opening.

従来、マスクを用いてペーストを基板に印刷する印刷機では、マスクの裏面や開口部の壁面に付着したペーストを除去するために、マスクのクリーニングが適宜実行される。例えば特許文献1の印刷機は、マスクを挟んで配置されたエアー噴射機構とエアー吸引機構とを備え、エアー噴射機構が噴射したエアーをエアー吸引機構が吸引することで、気流を生成する。そして、この印刷機は、エアー噴射機構とエアー吸引機構とで挟まれた吸引対象範囲からこの気流によってペーストを除去しながら、エアー噴射機構とエアー吸引機構とをマスクに沿って移動させることで、マスクをクリーニングする。   Conventionally, in a printing machine that prints a paste on a substrate using a mask, cleaning of the mask is performed as appropriate in order to remove the paste adhering to the back surface of the mask or the wall surface of the opening. For example, the printing machine of patent document 1 is provided with the air injection mechanism and air suction mechanism which are arrange | positioned on both sides of a mask, and an air suction mechanism attracts | sucks the air which the air injection mechanism injected, and produces | generates an airflow. And this printing machine moves the air injection mechanism and the air suction mechanism along the mask while removing the paste from the suction target range sandwiched between the air injection mechanism and the air suction mechanism, Clean the mask.

特に特許文献1は、微小な開口部が集中している部分からペーストを確実に除去することを課題としており、これに対応するために気流の流量を制御する。具体的には、エアー噴射機構とエアー吸引機構とで挟まれる吸引対象範囲に、微小な開口部が集中する部分が存在する場合には、気流の流量を多くする制御が実行される。   Especially patent document 1 makes it a subject to remove a paste reliably from the part where the minute opening part concentrates, and in order to respond | correspond to this, the flow volume of airflow is controlled. Specifically, when there is a portion where minute openings are concentrated in the suction target range sandwiched between the air injection mechanism and the air suction mechanism, control for increasing the flow rate of the airflow is executed.

特開平6−238866号公報JP-A-6-238866

ところで、近年はマスクの厚みが薄くなる傾向にあるのに対して、特許文献1に記載の上記の制御は、薄いマスクに対しては必ずしも適切でない場合があった。つまり、上記の制御は、微小な開口部が集中する部分が吸引対象範囲に存在すると、気流の流量を増大させる。しかしながら、微小な開口部が集中する部分が存在するとしても、吸引対象範囲の全体のうちで開口部が占める面積が小さいと、このような気流の流量の増大に伴って、マスクに作用する負圧が過大となる場合があった。そして、このような過大な負圧が薄いマスクに作用すると、マスクが劣化するおそれがあった。   By the way, in recent years, the thickness of the mask tends to be thin, whereas the above-described control described in Patent Document 1 may not always be appropriate for a thin mask. In other words, the above control increases the flow rate of the airflow when a portion where minute openings are concentrated exists in the suction target range. However, even if there is a portion where the minute openings are concentrated, if the area occupied by the openings is small in the entire suction target range, the negative pressure acting on the mask is increased as the flow rate of the airflow increases. In some cases, the pressure was excessive. When such an excessive negative pressure acts on a thin mask, the mask may be deteriorated.

本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、マスクの吸引によってマスクをクリーニングするにあたり、マスクに作用する過大な負圧によってマスクが劣化するのを抑制可能とする技術の提供を目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a technique capable of suppressing deterioration of a mask due to an excessive negative pressure acting on the mask when the mask is cleaned by suction of the mask.

本発明の第1態様に係るマスククリーニング装置は、開口部を有するマスクに対向する吸引口を有するクリーニングヘッドと、マスクに対してクリーニングヘッドを相対的に移動させる駆動部と、吸引口に連通するクリーニングヘッドの内部を排気することで、マスクのうち吸引口に対向する吸引対象範囲を吸引する排気部と、クリーニングヘッドの内部の圧力の変化を検出する検出部と、クリーニングヘッドの内部の圧力が目標圧力に近づくように、排気部がクリーニングヘッドの内部を排気する排気速度を、検出部の検出結果に基づきフィードバック制御する制御部とを備える。   A mask cleaning apparatus according to a first aspect of the present invention communicates with a cleaning head having a suction port facing a mask having an opening, a drive unit that moves the cleaning head relative to the mask, and the suction port. By exhausting the inside of the cleaning head, the exhaust part for sucking the suction target range facing the suction port in the mask, the detection part for detecting the pressure change inside the cleaning head, and the pressure inside the cleaning head A control unit that feedback-controls an exhaust speed at which the exhaust unit exhausts the interior of the cleaning head so as to approach the target pressure based on a detection result of the detection unit;

本発明の第1態様に係るマスククリーニング方法は、開口部を有するマスクにクリーニングヘッドの吸引口を向けつつマスクに対してクリーニングヘッドを相対的に移動させる工程と、吸引口に連通するクリーニングヘッドの内部の圧力の変化を検出部が検出した結果に応じた排気速度でクリーニングヘッドの内部を排気することで、マスクのうち吸引口に対向する吸引対象範囲を吸引する工程とを備え、排気速度は、クリーニングヘッドの内部の圧力が目標圧力に近づくように、検出部の検出結果に基づきフィードバック制御される。   The mask cleaning method according to the first aspect of the present invention includes a step of moving the cleaning head relative to the mask while directing the suction port of the cleaning head toward the mask having an opening, and a cleaning head communicating with the suction port. And a step of sucking a suction target range facing the suction port of the mask by exhausting the inside of the cleaning head at an exhaust speed according to a result of detection of a change in the internal pressure by the detection unit. The feedback control is performed based on the detection result of the detection unit so that the pressure inside the cleaning head approaches the target pressure.

このように構成された発明(マスククリーニング装置、マスククリーニング方法)では、マスクに対向する吸引口を有するクリーニングヘッドの内部が排気されることで、マスクのうち吸引口が対向する吸引対象範囲が吸引される。そして、クリーニングヘッドに伴って吸引対象範囲がマスクに対して相対的に移動することで、マスクがクリーニングされる。この際、クリーニングヘッドの内部の圧力の変化が検出部により検出され、クリーニングヘッドの内部の排気速度は、クリーニングヘッドの内部の圧力が目標圧力に近づくように、検出部の検出結果に基づきフィードバック制御される。したがって、吸引対象範囲のうち開口部が占める面積が小さい場合でも、マスクに作用する負圧を抑えることができ、マスクの劣化を抑制することが可能となっている。   In the invention thus configured (mask cleaning device, mask cleaning method), the inside of the cleaning head having the suction port facing the mask is exhausted, so that the suction target range of the mask facing the suction port is suctioned. Is done. Then, the suction target range moves relative to the mask with the cleaning head, whereby the mask is cleaned. At this time, the change in the pressure inside the cleaning head is detected by the detection unit, and the exhaust speed inside the cleaning head is feedback-controlled based on the detection result of the detection unit so that the pressure inside the cleaning head approaches the target pressure. Is done. Therefore, even when the area occupied by the opening in the suction target range is small, negative pressure acting on the mask can be suppressed, and deterioration of the mask can be suppressed.

また、制御部は、マスクの厚みに応じて目標圧力を変更するように、マスククリーニング装置を構成しても良い。これによって、マスクに作用する負圧をマスクの厚みに応じて適切に制御することができ、マスクの劣化をより効果的に抑制することが可能となる。   In addition, the control unit may configure the mask cleaning device so as to change the target pressure according to the thickness of the mask. Accordingly, the negative pressure acting on the mask can be appropriately controlled according to the thickness of the mask, and the deterioration of the mask can be more effectively suppressed.

本発明の第2態様に係るマスククリーニング装置は、開口部を有するマスクに対向する吸引口を有するクリーニングヘッドと、マスクに対してクリーニングヘッドを相対的に移動させる駆動部と、吸引口に連通するクリーニングヘッドの内部を排気することで、マスクのうち吸引口に対向する吸引対象範囲を吸引する排気部と、マスクに対するクリーニングヘッドの相対移動に伴って吸引対象範囲内に対する開口部の面積比が減少するのに応じて、排気部がクリーニングヘッドの内部を排気する排気速度を減少させる排気パターンを記憶する記憶部と、排気部の排気速度を排気パターンに従って制御する制御部とを備える。   A mask cleaning device according to a second aspect of the present invention communicates with a cleaning head having a suction port facing a mask having an opening, a drive unit that moves the cleaning head relative to the mask, and the suction port. By exhausting the inside of the cleaning head, the area ratio of the exhaust portion that sucks the suction target range facing the suction port of the mask and the opening portion relative to the suction target range is reduced as the cleaning head moves relative to the mask. Accordingly, the exhaust unit includes a storage unit that stores an exhaust pattern that reduces the exhaust rate of exhausting the inside of the cleaning head, and a control unit that controls the exhaust rate of the exhaust unit according to the exhaust pattern.

本発明の第2態様に係るマスククリーニング方法は、開口部を有するマスクにクリーニングヘッドの吸引口を向けつつマスクに対してクリーニングヘッドを相対的に移動させる工程と、吸引口に連通するクリーニングヘッドの内部を記憶部に記憶された排気パターンが示す排気速度で排気することで、マスクのうち吸引口に対向する吸引対象範囲を吸引する工程とを備え、排気パターンは、マスクに対するクリーニングヘッドの相対移動に伴って吸引対象範囲に対する開口部の面積比が減少するのに応じて、排気部がクリーニングヘッドの内部を排気する排気速度を減少させる。   The mask cleaning method according to the second aspect of the present invention includes a step of moving the cleaning head relative to the mask while directing the suction port of the cleaning head toward the mask having an opening, and a cleaning head communicating with the suction port. A step of sucking the suction target range facing the suction port of the mask by exhausting the inside at an exhaust speed indicated by the exhaust pattern stored in the storage unit, and the exhaust pattern moves relative to the mask relative to the cleaning head. Accordingly, as the area ratio of the opening to the suction target range decreases, the exhaust speed at which the exhaust section exhausts the inside of the cleaning head is decreased.

このように構成された発明(マスククリーニング装置、マスククリーニング方法)では、マスクに対向する吸引口を有するクリーニングヘッドの内部が排気されることで、マスクのうち吸引口が対向する吸引対象範囲が吸引される。そして、クリーニングヘッドに伴って吸引対象範囲がマスクに対して相対的に移動して、マスクがクリーニングされる。この際、クリーニングヘッドの内部の排気は、記憶部に記憶された排気パターンに従って実行される。そのため、マスクに対するクリーニングヘッドの相対移動に伴って吸引対象範囲に対する開口部の面積比が減少するのに応じて、排気部がクリーニングヘッドの内部を排気する排気速度が減少する。したがって、吸引対象範囲のうち開口部が占める面積が小さい場合でも、マスクに作用する負圧を抑えることができ、マスクの劣化を抑制することが可能となっている。   In the invention thus configured (mask cleaning device, mask cleaning method), the inside of the cleaning head having the suction port facing the mask is exhausted, so that the suction target range of the mask facing the suction port is suctioned. Is done. The suction target range moves relative to the mask with the cleaning head, and the mask is cleaned. At this time, the exhaust inside the cleaning head is executed according to the exhaust pattern stored in the storage unit. Therefore, the exhaust speed at which the exhaust unit exhausts the interior of the cleaning head decreases as the area ratio of the opening to the suction target range decreases with the relative movement of the cleaning head with respect to the mask. Therefore, even when the area occupied by the opening in the suction target range is small, negative pressure acting on the mask can be suppressed, and deterioration of the mask can be suppressed.

本発明にかかる印刷機は、開口部を有するマスクの表面でペーストを広げることで、マスクの裏面に重ねられた基板へペーストを印刷する印刷機であって、上記のマスククリーニング装置を備え、マスククリーニング装置によってマスクの裏面をクリーニングする。したがって、吸引対象範囲のうち開口部が占める面積が小さい場合でも、マスクに作用する負圧を抑えることができ、マスクの劣化を抑制することが可能となっている。   A printing machine according to the present invention is a printing machine for printing a paste on a substrate stacked on the back surface of the mask by spreading the paste on the surface of the mask having an opening, and includes the mask cleaning device described above. The back surface of the mask is cleaned with a cleaning device. Therefore, even when the area occupied by the opening in the suction target range is small, negative pressure acting on the mask can be suppressed, and deterioration of the mask can be suppressed.

以上のように、本発明によれば、マスクの吸引によってマスクをクリーニングするにあたり、マスクに作用する過大な負圧によってマスクが劣化するのを抑制することが可能となっている。   As described above, according to the present invention, when a mask is cleaned by suction of the mask, it is possible to suppress deterioration of the mask due to excessive negative pressure acting on the mask.

図1は本発明を適用した印刷機の一例を模式的に示す正面図。FIG. 1 is a front view schematically showing an example of a printing machine to which the present invention is applied. 第1実施形態に係るマスククリーニング装置を装備した図1の印刷機が備える電気的構成を示すブロック図。The block diagram which shows the electrical constitution with which the printing machine of FIG. 1 equipped with the mask cleaning apparatus which concerns on 1st Embodiment is provided. クリーニングユニットが有するクリーニングヘッドの構成の一例を部分的に示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view partially showing an example of the configuration of a cleaning head included in the cleaning unit. クリーニングユニットが有するクリーニングヘッドの構成の一例を部分的に示す平面図。FIG. 4 is a plan view partially showing an example of a configuration of a cleaning head included in the cleaning unit. 第1実施形態でのクリーニング動作の一例を示すフローチャート。6 is a flowchart illustrating an example of a cleaning operation in the first embodiment. 第2実施形態に係るマスククリーニング装置を装備した図1の印刷機が備える電気的構成を示すブロック図。The block diagram which shows the electrical constitution with which the printing machine of FIG. 1 equipped with the mask cleaning apparatus which concerns on 2nd Embodiment is provided. 吸引対象範囲に対する開口部の面積比と排気速度との関係を規定する排気速度特性の一例を示す図。The figure which shows an example of the exhaust speed characteristic which prescribes | regulates the relationship between the area ratio of the opening part with respect to the suction | inhalation object range, and exhaust speed. 図7の排気速度特性を用いて設定された排気パターンの一例を示す図。The figure which shows an example of the exhaust pattern set using the exhaust speed characteristic of FIG. 第2実施形態でのクリーニング動作の一例を示すフローチャート。9 is a flowchart showing an example of a cleaning operation in the second embodiment.

図1は本発明を適用した印刷機の一例を模式的に示す正面図である。図2は第1実施形態に係るマスククリーニング装置を装備した図1の印刷機が備える電気的構成を示すブロック図である。図1および以下の図では、Z方向を鉛直方向とし、X方向およびY方向を水平方向とするXYZ直交座標軸を適宜示す。この印刷機1は、マスクMを保持するマスク保持ユニット2と、マスクMの下方に配置された基板保持ユニット4と、マスクMの上方に配置されたスキージユニット6と、基板保持ユニット4とY方向に並んで配置されたクリーニングユニット8とを備える(図1)。   FIG. 1 is a front view schematically showing an example of a printing machine to which the present invention is applied. FIG. 2 is a block diagram showing an electrical configuration provided in the printing machine of FIG. 1 equipped with the mask cleaning device according to the first embodiment. In FIG. 1 and the following drawings, XYZ orthogonal coordinate axes with the Z direction as a vertical direction and the X direction and the Y direction as horizontal directions are shown as appropriate. The printing machine 1 includes a mask holding unit 2 that holds a mask M, a substrate holding unit 4 that is disposed below the mask M, a squeegee unit 6 that is disposed above the mask M, a substrate holding unit 4 and a Y And a cleaning unit 8 arranged side by side in the direction (FIG. 1).

また、印刷機1は、CPU(Central Processing Unit)およびRAM(Random Access Memory)等で構成されたコンピューターである主制御部10と、HDD(Hard Disk Drive)等で構成された記憶部11とを備える(図2)。そして、主制御部10が記憶部11に記憶される印刷プログラムに従って各ユニット4、6を制御することで、基板保持ユニット4により基板Bの上面をマスクMの下面に対向させつつスキージユニット6のスキージ60の先端をマスクMの上面にY方向へ摺動させる(印刷動作)。これによって、マスクMの上面に供給された半田SP(ペースト)が、マスクMを貫通する開口部A(図4)を介して基板Bの上面に印刷される。また、主制御部10が記憶部11に記憶されるクリーニングプログラムに従って各ユニット4、8を制御することで、クリーニングユニット8をY方向へ移動させつつクリーニングユニット8にマスクMからの半田SPの除去を実行させる(クリーニング動作)。   The printing machine 1 includes a main control unit 10 which is a computer composed of a CPU (Central Processing Unit) and a RAM (Random Access Memory), and a storage unit 11 composed of an HDD (Hard Disk Drive). Provide (FIG. 2). The main control unit 10 controls the units 4 and 6 according to the printing program stored in the storage unit 11, so that the upper surface of the substrate B is opposed to the lower surface of the mask M by the substrate holding unit 4. The tip of the squeegee 60 is slid in the Y direction on the upper surface of the mask M (printing operation). As a result, the solder SP (paste) supplied to the upper surface of the mask M is printed on the upper surface of the substrate B through the opening A (FIG. 4) penetrating the mask M. Further, the main control unit 10 controls the units 4 and 8 according to the cleaning program stored in the storage unit 11 so that the cleaning unit 8 removes the solder SP from the mask M while moving the cleaning unit 8 in the Y direction. (Cleaning operation).

ちなみに、印刷機1は、装置に設けられた各可動部の駆動を制御するために駆動制御部12(図2)を備え、主制御部10は駆動制御部12によりユニット4、6、8の各可動部を制御することで、上述の印刷動作やクリーニング動作を実行する。また、印刷機1は、例えば液晶ディスプレイ等で構成された表示ユニット14と、キーボードやマウスといった入力機器で構成された入力ユニット15とを備える。したがって、作業者は、表示ユニット14の表示内容を確認することで印刷機1の稼働状況を確認したり、入力ユニット15を操作することで印刷機1に指令を入力したりできる。なお、表示ユニット14および入力ユニット15はタッチパネルにより一体的に構成しても構わない。   Incidentally, the printing press 1 includes a drive control unit 12 (FIG. 2) for controlling the driving of each movable unit provided in the apparatus, and the main control unit 10 controls the units 4, 6, and 8 by the drive control unit 12. By controlling each movable part, the above-described printing operation and cleaning operation are executed. Further, the printing machine 1 includes a display unit 14 configured by, for example, a liquid crystal display and an input unit 15 configured by input devices such as a keyboard and a mouse. Therefore, the operator can confirm the operation status of the printing press 1 by confirming the display content of the display unit 14, and can input a command to the printing press 1 by operating the input unit 15. Note that the display unit 14 and the input unit 15 may be integrally configured by a touch panel.

図1に示すように、マスク保持ユニット2はクランプ部材21を有し、マスクMはクランプ部材21により着脱可能に保持される。これによって、平板形状を有するマスクMがマスク保持ユニット2により水平に保持される。このマスクMには、基板Bへの印刷パターンに応じた形状の開口部Aが貫通している。   As shown in FIG. 1, the mask holding unit 2 has a clamp member 21, and the mask M is detachably held by the clamp member 21. Accordingly, the mask M having a flat plate shape is held horizontally by the mask holding unit 2. An opening A having a shape corresponding to the print pattern on the substrate B passes through the mask M.

スキージユニット6は、スキージ60を有する印刷ヘッド61と、印刷ヘッド61をZ方向に昇降可能に保持するユニット本体62とを有する。このユニット本体62は、Y方向に平行に延びるY軸ガイドレール621に沿って、印刷ヘッド61とともにY方向に移動可能である。さらに、スキージユニット6は、印刷ヘッド61をZ方向に駆動するZ軸駆動部M61と、ユニット本体62をY方向に駆動するY軸駆動部M62とを有する。これらZ軸駆動部M61およびY軸駆動部M62は、例えばボールネジとこれを駆動するモーターで構成される。そして、駆動制御部12はZ軸駆動部M61を制御することで、スキージ60をマスクMの上面に押圧する。さらに、駆動制御部12はY軸駆動部M62を制御することで、マスクMに押圧されたスキージ60をY方向に移動させる。これによって、基板保持ユニット4に保持される基板Bに対して印刷動作が実行される。   The squeegee unit 6 includes a print head 61 having a squeegee 60 and a unit main body 62 that holds the print head 61 so as to be movable up and down in the Z direction. The unit main body 62 is movable in the Y direction together with the print head 61 along a Y-axis guide rail 621 extending in parallel with the Y direction. Further, the squeegee unit 6 includes a Z-axis drive unit M61 that drives the print head 61 in the Z direction, and a Y-axis drive unit M62 that drives the unit main body 62 in the Y direction. The Z-axis drive unit M61 and the Y-axis drive unit M62 are composed of, for example, a ball screw and a motor that drives the ball screw. And the drive control part 12 presses the squeegee 60 on the upper surface of the mask M by controlling the Z-axis drive part M61. Further, the drive control unit 12 controls the Y-axis drive unit M62 to move the squeegee 60 pressed by the mask M in the Y direction. As a result, a printing operation is performed on the substrate B held by the substrate holding unit 4.

基板保持ユニット4は、マスク保持ユニット2に保持されたマスクMの下方に配置され、マスクMに対して基板Bの位置を合わせる機能を担う。この基板保持ユニット4は、基板Bを搬送する一対のコンベア41と、コンベア41から受け取った基板Bを保持する基板保持部42と、コンベア41および基板保持部42を支持するテーブル駆動機構43とを有する。   The substrate holding unit 4 is disposed below the mask M held by the mask holding unit 2 and has a function of aligning the position of the substrate B with respect to the mask M. The substrate holding unit 4 includes a pair of conveyors 41 that convey the substrate B, a substrate holding unit 42 that holds the substrate B received from the conveyor 41, and a table drive mechanism 43 that supports the conveyor 41 and the substrate holding unit 42. Have.

一対のコンベア41はY方向に間隔を空けつつX方向に平行に配置されており、それぞれの上面で基板BのY方向の両端を下方から支持する。そして、各コンベア41がX方向に基板Bを搬送することで、印刷機1に対する基板Bの搬入あるいは搬出を実行する。   The pair of conveyors 41 are arranged in parallel to the X direction with a gap in the Y direction, and support both ends of the substrate B in the Y direction from below on their upper surfaces. And each conveyor 41 carries in board | substrate B with respect to the printing machine 1 by carrying the board | substrate B to a X direction.

基板保持部42は、平板形状の昇降テーブル421と、テーブル駆動機構43のZ軸テーブル47に対してZ方向にスライド可能なスライド支柱422とを有し、昇降テーブル421がスライド支柱422の上端に支持されている。また、昇降テーブル421の上面にはZ方向に立設された複数のバックアップピン423がX方向およびY方向に間隔を空けて並ぶ。そして、スライド支柱422が昇降すると、昇降テーブル421とともにバックアップピン423が昇降する。例えばコンベア41による基板Bの搬入時は、各バックアップピン423の上端がコンベア41の上面より下方に位置する。そして、コンベア41がバックアップピン423の直上に基板Bを搬入すると、スライド支柱422が上昇して、バックアップピン423の上端がコンベア41の上面より上方へ突出する。これによって、コンベア41の上面から各バックアップピン423の上端へ基板Bが受け渡される。一方、これと逆の手順を実行することで、各バックアップピン423の上端からコンベア41に基板Bを受け渡して、コンベア41によりこの基板Bを搬出することができる。   The substrate holding unit 42 includes a flat plate-like lift table 421 and a slide column 422 that can slide in the Z direction with respect to the Z-axis table 47 of the table drive mechanism 43, and the lift table 421 is at the upper end of the slide column 422. It is supported. Further, a plurality of backup pins 423 erected in the Z direction are arranged on the upper surface of the lifting table 421 at intervals in the X direction and the Y direction. When the slide column 422 moves up and down, the backup pin 423 moves up and down together with the lifting table 421. For example, when the substrate B is carried in by the conveyor 41, the upper end of each backup pin 423 is positioned below the upper surface of the conveyor 41. Then, when the conveyor 41 carries the substrate B directly above the backup pin 423, the slide column 422 rises, and the upper end of the backup pin 423 protrudes upward from the upper surface of the conveyor 41. As a result, the substrate B is transferred from the upper surface of the conveyor 41 to the upper end of each backup pin 423. On the other hand, by executing the reverse procedure, the substrate B can be transferred from the upper end of each backup pin 423 to the conveyor 41, and the substrate B can be carried out by the conveyor 41.

また、基板保持部42は、一対のコンベア41の上方でX方向に間隔を空けて配置された一対のクランププレート424を有する。各クランププレート424の上面はX方向およびY方向に平行な平面であり、同じ高さに位置する。そして、バックアップピン423上の基板Bが一対のクランププレート424の間にまで上昇すると、2個のクランププレート424の一方が他方へ近づいて、基板Bがこれらクランププレート424によりY方向(水平方向)からクランプされる。   The substrate holding part 42 has a pair of clamp plates 424 arranged above the pair of conveyors 41 with an interval in the X direction. The upper surface of each clamp plate 424 is a plane parallel to the X direction and the Y direction, and is located at the same height. When the substrate B on the backup pin 423 rises between the pair of clamp plates 424, one of the two clamp plates 424 approaches the other, and the substrate B is moved in the Y direction (horizontal direction) by the clamp plates 424. Clamped from.

このような基板保持部42を支持するテーブル駆動機構43は、Y軸テーブル44と、Y軸テーブル44に取り付けられたX軸テーブル45と、X軸テーブル45に取り付けられたR軸テーブル46と、R軸テーブル46に取り付けられたZ軸テーブル47とを有する。さらに、テーブル駆動機構43は、Y方向に平行に延びるY軸ガイドレール441に沿ってY軸テーブル44を駆動するY軸駆動部M44と、Y軸テーブル44の上面でX方向に平行に延びるX軸ガイドレール451に沿ってX軸テーブル45を駆動するX軸駆動部M45と、X軸テーブル45に対してR軸テーブル46をR方向(Z方向に平行な軸を中心とする回転方向)に駆動するR軸駆動部M46と、R軸テーブル46に対してZ軸テーブル47をZ方向に駆動するZ軸駆動部M47を有する。Y軸駆動部M44、X軸駆動部M45およびZ軸駆動部M47は例えばボールネジとこれを駆動するモーターで構成され、R軸駆動部M46は例えばモーターで構成される。   The table driving mechanism 43 that supports the substrate holding unit 42 includes a Y-axis table 44, an X-axis table 45 attached to the Y-axis table 44, an R-axis table 46 attached to the X-axis table 45, And a Z-axis table 47 attached to the R-axis table 46. Furthermore, the table drive mechanism 43 includes a Y-axis drive unit M44 that drives the Y-axis table 44 along a Y-axis guide rail 441 that extends parallel to the Y direction, and an X that extends parallel to the X direction on the top surface of the Y-axis table 44. An X-axis drive unit M45 that drives the X-axis table 45 along the axis guide rail 451, and the R-axis table 46 with respect to the X-axis table 45 in the R direction (rotation direction about an axis parallel to the Z direction) An R-axis drive unit M46 for driving and a Z-axis drive unit M47 for driving the Z-axis table 47 in the Z direction with respect to the R-axis table 46 are provided. The Y-axis drive unit M44, the X-axis drive unit M45, and the Z-axis drive unit M47 are configured by, for example, a ball screw and a motor that drives the ball screw, and the R-axis drive unit M46 is configured by, for example, a motor.

したがって、駆動制御部12は、各駆動部M44〜M47を制御することで、Z軸テーブル47に配置されたコンベア41および基板保持部42をX、Y、Z、R方向に駆動することができる。例えば搬入された基板BをマスクMに対して位置決めする際には、駆動制御部12は、クランププレート424にクランプされた基板Bの位置を、Y・X・R軸駆動部M44〜M46によりXY面内で調整するとともに、Z軸駆動部M47によりZ方向に調整する。これによって、クランププレート424および基板Bそれぞれの上面がマスクMの下面に当接する。   Therefore, the drive control part 12 can drive the conveyor 41 and the board | substrate holding part 42 arrange | positioned at the Z-axis table 47 to a X, Y, Z, R direction by controlling each drive part M44-M47. . For example, when positioning the loaded substrate B with respect to the mask M, the drive control unit 12 determines the position of the substrate B clamped on the clamp plate 424 by the Y / X / R axis driving units M44 to M46. In-plane adjustment and adjustment in the Z direction by the Z-axis drive unit M47. Accordingly, the upper surfaces of the clamp plate 424 and the substrate B are in contact with the lower surface of the mask M.

続いて、図3および図4を併用して、クリーニングユニット8に関する構成について詳述する。ここで、図3はクリーニングユニットが有するクリーニングヘッドの構成の一例を部分的に示す断面図であり、図4はクリーニングユニットが有するクリーニングヘッドの構成の一例を部分的に示す平面図である。なお、図3および図4では、クリーニングヘッド以外にマスクM等の構成が示され、特に図4では、クリーニングヘッドのうちマスクMに隠れた部分が破線で示されている。   Next, the configuration relating to the cleaning unit 8 will be described in detail with reference to FIGS. Here, FIG. 3 is a sectional view partially showing an example of the configuration of the cleaning head included in the cleaning unit, and FIG. 4 is a plan view partially showing an example of the configuration of the cleaning head included in the cleaning unit. 3 and 4 show the configuration of the mask M and the like in addition to the cleaning head. In particular, in FIG. 4, the portion of the cleaning head hidden behind the mask M is indicated by a broken line.

クリーニングユニット8は、X方向に長尺なユニット本体81を有する。このユニット本体81は、特開2008−265153号公報に記載のクリーナーユニットと同様に、基板保持ユニット4のテーブル駆動機構43に係脱可能に係合する。したがって、ユニット本体81がテーブル駆動機構43に係合した状態では、駆動制御部12は、Y軸駆動部M44によりテーブル駆動機構43をY方向に駆動することで、クリーニングユニット8をY方向に駆動することができる。   The cleaning unit 8 has a unit body 81 that is long in the X direction. The unit main body 81 is detachably engaged with the table driving mechanism 43 of the substrate holding unit 4 in the same manner as the cleaner unit described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-265153. Therefore, in a state where the unit main body 81 is engaged with the table drive mechanism 43, the drive control unit 12 drives the cleaning unit 8 in the Y direction by driving the table drive mechanism 43 in the Y direction by the Y-axis drive unit M44. can do.

また、クリーニングユニット8は、X方向に長尺なクリーニングヘッド82と、クリーニングヘッド82をZ方向に昇降させるZ軸駆動部M82とを有する。Z軸駆動部M82は、例えばシリンダーやソレノイド等のアクチュエーターで構成され、ユニット本体81内に収容されている。一方、クリーニングヘッド82はZ軸駆動部M82の上側に配置され、Z軸駆動部M82がクリーニングヘッド82を上昇させると、クリーニングヘッド82がユニット本体81から上方に進出し、Z軸駆動部M82がクリーニングヘッド82を下降させると、クリーニングヘッド82がユニット本体81内に収容される。   The cleaning unit 8 also includes a cleaning head 82 that is long in the X direction, and a Z-axis drive unit M82 that raises and lowers the cleaning head 82 in the Z direction. The Z-axis drive unit M82 is configured by an actuator such as a cylinder or a solenoid, and is accommodated in the unit body 81. On the other hand, the cleaning head 82 is disposed above the Z-axis drive unit M82. When the Z-axis drive unit M82 raises the cleaning head 82, the cleaning head 82 moves upward from the unit body 81, and the Z-axis drive unit M82 When the cleaning head 82 is lowered, the cleaning head 82 is accommodated in the unit main body 81.

さらに、クリーニングユニット8はクリーニングヘッド82の上面にクリーニングシートSを供給するシート供給機構83を有する。シート供給機構83は、クリーニングシートSを供給する供給ローラー831と、クリーニングシートSを回収する回収ローラー832と、供給ローラー831と回収ローラー832との間でクリーニングシートSを支持する複数のローラー833〜836とを有する。こうして、供給ローラー831からクリーニングヘッド82の上面を経由して回収ローラー832に至る供給経路に沿ってクリーニングシートSが張架される。かかる構成では、駆動制御部12がZ軸駆動部M82に上昇指令を出すと、図3に示すように、上方に進出したクリーニングヘッド82の上面がクリーニングシートSを挟んでマスクMの下面に当接する。   Further, the cleaning unit 8 includes a sheet supply mechanism 83 that supplies the cleaning sheet S to the upper surface of the cleaning head 82. The sheet supply mechanism 83 includes a supply roller 831 that supplies the cleaning sheet S, a collection roller 832 that collects the cleaning sheet S, and a plurality of rollers 833 that support the cleaning sheet S between the supply roller 831 and the collection roller 832. 836. In this way, the cleaning sheet S is stretched along the supply path from the supply roller 831 to the collection roller 832 via the upper surface of the cleaning head 82. In such a configuration, when the drive control unit 12 issues an ascent command to the Z-axis drive unit M82, the upper surface of the cleaning head 82 that has advanced upward contacts the lower surface of the mask M across the cleaning sheet S as shown in FIG. Touch.

図3および図4に示すように、クリーニングヘッド82の上面には、X方向に平行に延びる複数の吸引口821が貫通しており、Y方向に並ぶ複数の吸引口821のそれぞれがクリーニングヘッド82の内部822に連通している。また、クリーニングヘッド82のX方向の一端には、クリーニングヘッド82の内部822に連通する排気口823が設けられており、クリーニングヘッド82の内部822を排気口823から排気することで、吸引口821に負圧を発生することができる。また、クリーニングヘッド82の内部822には圧力センサー824(気圧センサー)が配置されており、圧力センサー824によってクリーニングヘッド82の内部822の圧力(気圧)を計測することが可能となっている。   As shown in FIGS. 3 and 4, a plurality of suction ports 821 extending in parallel with the X direction pass through the upper surface of the cleaning head 82, and each of the plurality of suction ports 821 aligned in the Y direction is each the cleaning head 82. Communicated with the interior 822. Further, an exhaust port 823 that communicates with the interior 822 of the cleaning head 82 is provided at one end in the X direction of the cleaning head 82. By exhausting the interior 822 of the cleaning head 82 from the exhaust port 823, a suction port 821 is provided. A negative pressure can be generated. In addition, a pressure sensor 824 (atmospheric pressure sensor) is disposed in the interior 822 of the cleaning head 82, and the pressure (atmospheric pressure) in the interior 822 of the cleaning head 82 can be measured by the pressure sensor 824.

さらに、印刷機1には、クリーニングヘッド82の内部822を排気する排気部9と、排気部9による排気を制御する排気制御部16とが具備されている。排気部9は、クリーニングヘッド82の排気口823にダクト等の配管を介して接続されたブロワー91と、ブロワー91の回転数を調整するインバーター92とを有する。これに対して、排気制御部16は、記憶部11に記憶される目標圧力Pt(目標負圧)と、圧力センサー824が検出した検出圧力Pd(検出負圧)との偏差Δ(=Pt−Pd)に基づきブロワー91の排気速度をフィードバック制御する。つまり、排気制御部16は、偏差Δにゲインを乗じて算出した排気信号Eをインバーター92に送信し、インバーター92は排気制御部16から受信した排気信号Eに応じた回転数でブロワー91を回転させる。これによって、クリーニングヘッド82の内部822が排気信号Eに応じた排気速度(リットル/秒)で排気される。こうして、検出圧力Pdが目標圧力Ptに近づくようにクリーニングヘッド82の内部822を排気する排気速度がフィードバック制御される。   Further, the printing press 1 includes an exhaust unit 9 that exhausts the interior 822 of the cleaning head 82 and an exhaust control unit 16 that controls exhaust by the exhaust unit 9. The exhaust unit 9 includes a blower 91 connected to the exhaust port 823 of the cleaning head 82 via a pipe or the like, and an inverter 92 that adjusts the rotational speed of the blower 91. In contrast, the exhaust control unit 16 has a deviation Δ (= Pt−) between the target pressure Pt (target negative pressure) stored in the storage unit 11 and the detected pressure Pd (detected negative pressure) detected by the pressure sensor 824. Based on Pd), the exhaust speed of the blower 91 is feedback-controlled. That is, the exhaust control unit 16 transmits an exhaust signal E calculated by multiplying the deviation Δ by a gain to the inverter 92, and the inverter 92 rotates the blower 91 at a rotational speed corresponding to the exhaust signal E received from the exhaust control unit 16. Let As a result, the interior 822 of the cleaning head 82 is exhausted at an exhaust rate (liter / second) corresponding to the exhaust signal E. Thus, the exhaust speed at which the interior 822 of the cleaning head 82 is exhausted is feedback-controlled so that the detected pressure Pd approaches the target pressure Pt.

ちなみに、記憶部11には、マスクMの厚みMtに応じて異なる複数の目標圧力Ptが記憶されている。そして、排気制御部16には、入力ユニット15を介して設定されたマスクMの厚みMtに応じた目標圧力Ptが主制御部10により設定される。これによって、マスクMの厚みMtが薄いほど高い目標圧力Pt(すなわち、弱い目標負圧)が設定され、排気制御部16は設定された目標圧力Ptに圧力センサー824の検出圧力Pdが近づくようにフィードバック制御を実行する。   By the way, the storage unit 11 stores a plurality of target pressures Pt that differ depending on the thickness Mt of the mask M. In the exhaust control unit 16, a target pressure Pt corresponding to the thickness Mt of the mask M set via the input unit 15 is set by the main control unit 10. As a result, the thinner the thickness Mt of the mask M, the higher the target pressure Pt (that is, the weaker target negative pressure) is set, and the exhaust control unit 16 approaches the detected pressure Pd of the pressure sensor 824 to the set target pressure Pt. Execute feedback control.

このような構成では、クリーニングヘッド82がクリーニングシートSを介してマスクMの下面に当接する状態では(図3)、マスクMの下面のうち、各吸引口821に対向する吸引対象範囲Rが排気部9により吸引される。そして、クリーニングユニット8がY方向に平行なクリーニング方向Dc移動することで、吸引対象範囲Rをクリーニング方向Dcに移動させつつ吸引対象範囲Rの半田SPを吸引・除去する(クリーニング動作)。続いては、このクリーニング動作について説明する。   In such a configuration, when the cleaning head 82 is in contact with the lower surface of the mask M via the cleaning sheet S (FIG. 3), the suction target range R facing the suction ports 821 is exhausted from the lower surface of the mask M. Suctioned by part 9. Then, the cleaning unit 8 moves in the cleaning direction Dc parallel to the Y direction, thereby sucking and removing the solder SP in the suction target range R while moving the suction target range R in the cleaning direction Dc (cleaning operation). Next, this cleaning operation will be described.

図5は第1実施形態でのクリーニング動作の一例を示すフローチャートである。このフローチャートは、主制御部10が記憶部11に記憶されるクリーニングプログラムに従って駆動制御部12および排気制御部16を制御することで実行される。ステップS101では、マスクMの下面のうち開口部Aが形成された領域よりクリーニング方向Dcの上流側に設定されたクリーニング開始位置Lsに、クリーニングヘッド82が移動される。具体的には、駆動制御部12がY軸駆動部M44を制御することで、クリーニングヘッド82をクリーニング開始位置Lsの下方に移動させてから、駆動制御部12がZ軸駆動部M82を制御することでクリーニングヘッド82を上昇させる。これによって、クリーニングヘッド82の上面がマスクMの下面のクリーニング開始位置LsにクリーニングシートSを介して当接する。   FIG. 5 is a flowchart showing an example of the cleaning operation in the first embodiment. This flowchart is executed by the main control unit 10 controlling the drive control unit 12 and the exhaust control unit 16 according to the cleaning program stored in the storage unit 11. In step S101, the cleaning head 82 is moved to the cleaning start position Ls set on the upstream side in the cleaning direction Dc from the region where the opening A is formed on the lower surface of the mask M. Specifically, the drive control unit 12 controls the Y-axis drive unit M44 to move the cleaning head 82 below the cleaning start position Ls, and then the drive control unit 12 controls the Z-axis drive unit M82. As a result, the cleaning head 82 is raised. As a result, the upper surface of the cleaning head 82 contacts the cleaning start position Ls on the lower surface of the mask M via the cleaning sheet S.

続いて排気制御部16が回転開始指令をインバーター92に送信し、回転開始指令を受信したインバーター92がブロワー91の回転を開始する(ステップS102)。これに伴って、クリーニングヘッド82の内部822の圧力が大気圧から目標圧力Ptへ向けて減少し始める。そして、検出圧力Pdと目標圧力Ptとの差が所定値以下となると、駆動制御部12がY軸駆動部M44を制御して、クリーニングヘッド82のクリーニング方向Dcへの移動を開始する(ステップS103)。   Subsequently, the exhaust control unit 16 transmits a rotation start command to the inverter 92, and the inverter 92 that has received the rotation start command starts the rotation of the blower 91 (step S102). Along with this, the pressure in the interior 822 of the cleaning head 82 starts to decrease from the atmospheric pressure toward the target pressure Pt. When the difference between the detected pressure Pd and the target pressure Pt becomes equal to or smaller than a predetermined value, the drive control unit 12 controls the Y-axis drive unit M44 and starts moving the cleaning head 82 in the cleaning direction Dc (step S103). ).

ステップS104では、マスクMの下面のうち開口部Aが形成された領域よりクリーニング方向Dcの下流側に設定されたクリーニング終了位置Leにクリーニングヘッド82が到達したかが判断される。そして、クリーニングヘッド82がクリーニング終了位置Leに到達していない場合(ステップS104で「NO」の場合)は、排気制御部16が圧力センサー824から検出圧力Pdを取得し(ステップS105)、この検出圧力Pdに応じた排気信号Eをインバーター92に送信することで、ブロワー91による排気速度をフィードバック制御する(ステップS106)。そして、クリーニングヘッド82がクリーニング終了位置Leに到達するまでステップS105、S106のフィードバック制御が繰り返し実行され、クリーニングヘッド82がクリーニング終了位置Leに到達すると、ブロワー91による排気が終了し(ステップS107)、図5のフローチャートが終了する。こうして、クリーニング開始位置Lsからクリーニング終了位置Leの範囲に渡って、マスクMの下面や、開口部Aの壁面に付着していた半田SPを除去することができる。   In step S104, it is determined whether or not the cleaning head 82 has reached the cleaning end position Le set on the downstream side in the cleaning direction Dc from the region where the opening A is formed on the lower surface of the mask M. If the cleaning head 82 has not reached the cleaning end position Le (“NO” in step S104), the exhaust control unit 16 acquires the detected pressure Pd from the pressure sensor 824 (step S105), and this detection. By sending an exhaust signal E corresponding to the pressure Pd to the inverter 92, the exhaust speed by the blower 91 is feedback-controlled (step S106). The feedback control in steps S105 and S106 is repeatedly executed until the cleaning head 82 reaches the cleaning end position Le. When the cleaning head 82 reaches the cleaning end position Le, the exhaust by the blower 91 is ended (step S107). The flowchart of FIG. 5 ends. Thus, the solder SP adhered to the lower surface of the mask M and the wall surface of the opening A can be removed from the cleaning start position Ls to the cleaning end position Le.

このように、クリーニングヘッド82の内部822の圧力を圧力センサー824で検出した結果に基づき、クリーニングヘッド82の内部822を排気する排気速度をフィードバック制御する理由は次の通りである。上述のとおり、マスクMのクリーニングは、吸引口821の吸引対象範囲Rをクリーニング方向Dcに移動させつつ実行される。この際、図4から判るように、吸引対象範囲Rがクリーニング方向Dcに移動するのに伴って、吸引対象範囲R内に存在する開口部Aの面積(総面積)が変動する。したがって、一定の排気速度でクリーニングヘッド82の内部822を排気する制御では、吸引対象範囲Rのうち開口部Aが占める面積が小さいと、クリーニングヘッド82の内部822の圧力が低下して、マスクMに強い負圧が加わり、マスクMを劣化させる場合があった。   As described above, the reason why the exhaust speed for exhausting the inside 822 of the cleaning head 82 is feedback-controlled based on the result of detecting the pressure inside the cleaning head 82 by the pressure sensor 824 is as follows. As described above, the cleaning of the mask M is performed while moving the suction target range R of the suction port 821 in the cleaning direction Dc. At this time, as can be seen from FIG. 4, as the suction target range R moves in the cleaning direction Dc, the area (total area) of the opening A existing in the suction target range R varies. Therefore, in the control for exhausting the interior 822 of the cleaning head 82 at a constant exhaust speed, if the area occupied by the opening A in the suction target range R is small, the pressure in the interior 822 of the cleaning head 82 decreases, and the mask M In some cases, a strong negative pressure is applied to the mask M to deteriorate the mask M.

これに対して、第1実施形態では、クリーニングヘッド82の内部822の排気速度は、圧力センサー824による検出圧力Pdが目標圧力Ptに近づくようにフィードバック制御される。したがって、吸引対象範囲Rのうち開口部Aが占める面積が小さい場合でも、マスクMに作用する負圧を抑えることができ、マスクMの劣化を抑制することが可能となっている。   On the other hand, in the first embodiment, the exhaust speed of the interior 822 of the cleaning head 82 is feedback-controlled so that the pressure Pd detected by the pressure sensor 824 approaches the target pressure Pt. Therefore, even when the area occupied by the opening A in the suction target range R is small, the negative pressure acting on the mask M can be suppressed, and deterioration of the mask M can be suppressed.

また、この実施形態では、吸引対象範囲R内の開口部Aの面積に応じて排気速度を適切に抑えているため、電力を節約して、環境負荷の軽減を図ることが可能となっている。   Moreover, in this embodiment, since the exhaust speed is appropriately suppressed according to the area of the opening A within the suction target range R, it is possible to save electric power and reduce the environmental load. .

また、主制御部10は、マスクMの厚みMtに応じて目標圧力Ptを変更している。これによって、マスクMに作用する負圧をマスクMの厚みMtに応じて適切に制御することができ、マスクMの劣化をより効果的に抑制することが可能となっている。   The main control unit 10 changes the target pressure Pt according to the thickness Mt of the mask M. Accordingly, the negative pressure acting on the mask M can be appropriately controlled according to the thickness Mt of the mask M, and deterioration of the mask M can be more effectively suppressed.

図6は第2実施形態に係るマスククリーニング装置を装備した図1の印刷機が備える電気的構成を示すブロック図である。第2実施形態が第1実施形態と異なるのは、主として排気制御部16による排気速度の制御であるため、以下では差異点を中心に説明を行い、共通点については相当符号を付して適宜説明を省略する。   FIG. 6 is a block diagram showing an electrical configuration of the printing machine of FIG. 1 equipped with the mask cleaning device according to the second embodiment. Since the second embodiment is different from the first embodiment mainly in the control of the exhaust speed by the exhaust control unit 16, the following description will be made mainly on the differences, and the common points will be appropriately denoted by the corresponding reference numerals. Description is omitted.

図6に示すように、第2実施形態では第1実施形態のようなフィードバック制御を行う代わりに、記憶部11に記憶される排気パターンPeに基づく排気速度の制御が実行される。したがって、圧力センサー824は要しない。この排気パターンPeは、吸引対象範囲Rに対する開口部Aの面積比の変化に応じてブロワー91による排気速度を調整するパターンである。ここで、吸引対象範囲Rおよび開口部Aの面積は、マスクMの法線方向からの平面視におけるそれぞれの面積である。   As shown in FIG. 6, in the second embodiment, instead of performing feedback control as in the first embodiment, exhaust speed control based on the exhaust pattern Pe stored in the storage unit 11 is executed. Therefore, the pressure sensor 824 is not necessary. The exhaust pattern Pe is a pattern for adjusting the exhaust speed by the blower 91 in accordance with the change in the area ratio of the opening A to the suction target range R. Here, the areas of the suction target range R and the opening A are the respective areas in a plan view from the normal direction of the mask M.

図7は吸引対象範囲に対する開口部の面積比と排気速度との関係を規定する排気速度特性の一例を示す図であり、図8は図7の排気速度特性を用いて設定された排気パターンの一例を示す図である。図7の排気速度特性Ceは、吸引対象範囲Rに対する開口部Aの面積比Fが大きいほど、排気速度Vを高く設定し、吸引対象範囲Rに対する開口部Aの面積比Fが小さいほど排気速度Vを低く設定することを示す。第2実施形態では、この排気速度特性Ceと、マスクMでの開口部Aの位置を示すマスクデータDmとが記憶部11に記憶されている。なお、マスクデータDmとしては、ガーバーデータや、マスクMを撮像した画像データ等が利用できる。   FIG. 7 is a diagram showing an example of the exhaust speed characteristic that defines the relationship between the area ratio of the opening to the suction target range and the exhaust speed, and FIG. 8 shows the exhaust pattern set using the exhaust speed characteristic of FIG. It is a figure which shows an example. In the exhaust speed characteristic Ce of FIG. 7, the exhaust speed V is set higher as the area ratio F of the opening A with respect to the suction target range R is larger, and the exhaust speed is increased as the area ratio F of the opening A with respect to the suction target range R is smaller. Indicates that V is set low. In the second embodiment, the exhaust speed characteristic Ce and mask data Dm indicating the position of the opening A in the mask M are stored in the storage unit 11. As the mask data Dm, Gerber data, image data obtained by capturing the mask M, or the like can be used.

そして、主制御部10が、排気速度特性CeとマスクデータDmとに基づいて排気パターンPeを生成する。具体的には、クリーニングヘッド82の吸引口821をクリーニング方向Dcに移動させた際に、吸引対象範囲Rに対する開口部Aの面積比Fがどのように変化するのかを示す面積比変化曲線が演算により求められる。そして、この面積比変化曲線の面積比Fを、図7の排気速度特性Ceを用いて排気速度Vに変換することで、図8の排気パターンPeが得られる。こうして得られた排気パターンPeは、クリーニング方向Dcにおけるクリーニングヘッド82の位置(横軸)と、クリーニングヘッド82の内部822を排気する排気速度V(縦軸)との関係を規定する。つまり、排気パターンPeは、クリーニング方向Dcにおけるクリーニングヘッド82の位置に応じた排気速度Vを規定するものであり、主制御部10がこの排気パターンPeに従って排気速度Vを制御することで、クリーニング方向Dcへのクリーニングヘッド82の移動に伴って吸引対象範囲Rに対する開口部Aの面積比Fが変化するのに応じて排気速度Vが調整される。そして、第2実施形態では、この排気パターンPeに従って排気速度Vを制御しつつ、クリーニング動作が実行される。   Then, the main control unit 10 generates the exhaust pattern Pe based on the exhaust speed characteristic Ce and the mask data Dm. Specifically, when the suction port 821 of the cleaning head 82 is moved in the cleaning direction Dc, an area ratio change curve indicating how the area ratio F of the opening A to the suction target range R changes is calculated. Is required. Then, by converting the area ratio F of the area ratio change curve into the exhaust speed V using the exhaust speed characteristic Ce of FIG. 7, the exhaust pattern Pe of FIG. 8 is obtained. The exhaust pattern Pe thus obtained defines the relationship between the position (horizontal axis) of the cleaning head 82 in the cleaning direction Dc and the exhaust velocity V (vertical axis) at which the interior 822 of the cleaning head 82 is exhausted. That is, the exhaust pattern Pe defines the exhaust speed V according to the position of the cleaning head 82 in the cleaning direction Dc, and the main control unit 10 controls the exhaust speed V according to the exhaust pattern Pe, so that the cleaning direction As the cleaning head 82 moves to Dc, the exhaust speed V is adjusted in accordance with the change in the area ratio F of the opening A to the suction target range R. In the second embodiment, the cleaning operation is performed while controlling the exhaust speed V according to the exhaust pattern Pe.

図9は第2実施形態でのクリーニング動作の一例を示すフローチャートである。ステップS101〜S104は、第1実施形態と同様に実行される。そして、クリーニングヘッド82がクリーニング終了位置Leに到達していない場合(ステップS104で「NO」の場合)には、排気制御部16はクリーニング方向Dcにおけるクリーニングヘッド82の位置を取得する(ステップS202)。具体的には、排気制御部16は、Y軸駆動部M44を構成するモーターのエンコーダーの出力値を、クリーニングヘッド82の位置を示す情報として取得する。そして、排気制御部16は、取得されたクリーニングヘッド82の位置に応じた排気速度Vを排気パターンPeに基づき求めて、この排気速度Vで排気を行うように排気信号Eをインバーター92に送信する(ステップS202)。そして、クリーニングヘッド82がクリーニング終了位置Leに到達するまでステップS201、202の制御が繰り返し実行され、クリーニングヘッド82がクリーニング終了位置Leに到達すると、ブロワー91による排気が終了し(ステップS107)、図9のフローチャートが終了する。こうして、クリーニング開始位置Lsからクリーニング終了位置Leの範囲に渡って、マスクMの下面や、開口部Aの壁面に付着していた半田SPを除去することができる。   FIG. 9 is a flowchart showing an example of the cleaning operation in the second embodiment. Steps S101 to S104 are executed in the same manner as in the first embodiment. If the cleaning head 82 has not reached the cleaning end position Le (“NO” in step S104), the exhaust control unit 16 acquires the position of the cleaning head 82 in the cleaning direction Dc (step S202). . Specifically, the exhaust control unit 16 acquires the output value of the encoder of the motor constituting the Y-axis drive unit M44 as information indicating the position of the cleaning head 82. Then, the exhaust control unit 16 obtains an exhaust speed V corresponding to the acquired position of the cleaning head 82 based on the exhaust pattern Pe, and transmits an exhaust signal E to the inverter 92 so as to perform exhaust at this exhaust speed V. (Step S202). Then, the control in steps S201 and 202 is repeatedly executed until the cleaning head 82 reaches the cleaning end position Le. When the cleaning head 82 reaches the cleaning end position Le, the exhaust by the blower 91 is ended (step S107). The flowchart of 9 ends. Thus, the solder SP adhered to the lower surface of the mask M and the wall surface of the opening A can be removed from the cleaning start position Ls to the cleaning end position Le.

このように構成された第2実施形態では、マスクMに対するクリーニングヘッド82の相対移動に伴って吸引対象範囲R内の開口部Aの面積が減少するのに応じて、排気部9がクリーニングヘッド82の内部822を排気する排気速度Vが減少する。したがって、吸引対象範囲Rのうち開口部Aが占める面積が小さい場合でも、マスクMに作用する負圧を抑えることができ、マスクMの劣化を抑制することが可能となっている。   In the second embodiment configured as described above, the exhaust unit 9 moves to the cleaning head 82 as the area of the opening A within the suction target range R decreases as the cleaning head 82 moves relative to the mask M. The exhaust speed V for exhausting the interior 822 of the engine is reduced. Therefore, even when the area occupied by the opening A in the suction target range R is small, the negative pressure acting on the mask M can be suppressed, and deterioration of the mask M can be suppressed.

また、この実施形態においても、吸引対象範囲R内の開口部Aの面積に応じて排気速度Vを適切に抑えているため、電力を節約して、環境負荷の軽減を図ることが可能となっている。   Also in this embodiment, since the exhaust velocity V is appropriately suppressed according to the area of the opening A within the suction target range R, it is possible to save electric power and reduce the environmental load. ing.

このように上記実施形態では、マスクMが本発明の「マスク」の一例に相当し、開口部Aが本発明の「開口部」の一例に相当し、印刷機1が本発明の「印刷機」の一例に相当し、クリーニングユニット8、排気部9、Y軸駆動部M44、主制御部10、記憶部11、駆動制御部12および排気制御部16で構成されるマスククリーニング装置MCが本発明の「マスククリーニング装置」の一例に相当し、クリーニングヘッド82が本発明の「クリーニングヘッド」の一例に相当し、吸引口821が本発明の「吸引口」の一例に相当し、クリーニングヘッド82の内部822が本発明の「クリーニングヘッドの内部」の一例に相当し、Y軸駆動部M44が本発明の「駆動部」の一例に相当し、排気部9が本発明の「排気部」の一例に相当し、吸引対象範囲Rが本発明の「吸引対象範囲」の一例に相当し、圧力センサー824が本発明の「検出部」の一例に相当し、目標圧力Ptが本発明の「目標圧力」の一例に相当し、排気制御部16が本発明の「制御部」の一例に相当し、記憶部11が本発明の「記憶部」の一例に相当し、排気パターンPeが本発明の「排気パターン」の一例に相当する。   Thus, in the above embodiment, the mask M corresponds to an example of the “mask” of the present invention, the opening A corresponds to an example of the “opening” of the present invention, and the printing machine 1 corresponds to the “printing machine” of the present invention. The mask cleaning device MC comprising the cleaning unit 8, the exhaust unit 9, the Y-axis drive unit M44, the main control unit 10, the storage unit 11, the drive control unit 12 and the exhaust control unit 16 is the present invention. The cleaning head 82 corresponds to an example of the “cleaning head” of the present invention, the suction port 821 corresponds to an example of the “suction port” of the present invention, and the cleaning head 82 The interior 822 corresponds to an example of “the inside of the cleaning head” of the present invention, the Y-axis drive unit M44 corresponds to an example of the “drive unit” of the present invention, and the exhaust unit 9 is an example of the “exhaust unit” of the present invention. Equivalent to The target range R corresponds to an example of the “suction target range” of the present invention, the pressure sensor 824 corresponds to an example of the “detection unit” of the present invention, and the target pressure Pt corresponds to an example of the “target pressure” of the present invention. The exhaust control unit 16 corresponds to an example of the “control unit” of the present invention, the storage unit 11 corresponds to an example of the “storage unit” of the present invention, and the exhaust pattern Pe corresponds to an example of the “exhaust pattern” of the present invention. It corresponds to.

なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したものに対して種々の変更を加えることが可能である。例えば排気部9はブロワー91とインバーター92により構成されていた。しかしながら、排気部9の具体的な構成はこれに限られず、例えばエジェクターと電空レギュレーターにより排気部9を構成しても良い。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made to the above-described one without departing from the spirit of the present invention. For example, the exhaust unit 9 is composed of a blower 91 and an inverter 92. However, the specific configuration of the exhaust unit 9 is not limited to this, and the exhaust unit 9 may be configured by, for example, an ejector and an electropneumatic regulator.

また、クリーニングヘッド82の吸引口821の個数、形状あるいはサイズについても適宜変更が可能である。   Further, the number, shape, or size of the suction ports 821 of the cleaning head 82 can be appropriately changed.

また、圧力センサー824を配置する位置もクリーニングヘッド82の内部822に限られない。つまり、吸引口821からブロワー91までの排気経路のいずれかに圧力センサー824を配置することができる。   Further, the position where the pressure sensor 824 is disposed is not limited to the inside 822 of the cleaning head 82. That is, the pressure sensor 824 can be disposed in any of the exhaust paths from the suction port 821 to the blower 91.

また、クリーニングヘッド82の内部822の圧力変化を検出するのに利用できる測定器は、圧力センサー824に限られない。例えば吸引口821からブロワー91までの排気経路のいずれかに設けられた流量計によって、クリーニングヘッド82の内部822の圧力変化を検出しても良い。   Further, a measuring instrument that can be used to detect a pressure change in the interior 822 of the cleaning head 82 is not limited to the pressure sensor 824. For example, the pressure change in the interior 822 of the cleaning head 82 may be detected by a flow meter provided in any of the exhaust paths from the suction port 821 to the blower 91.

また、印刷機1の主制御部10で排気パターンPeを作成する必要は必ずしも無く、印刷機1の外部に設けられた演算装置で作成した排気パターンPeを印刷機1の記憶部11に記憶しても良い。   Further, it is not always necessary to create the exhaust pattern Pe by the main control unit 10 of the printing press 1, and the exhaust pattern Pe created by the arithmetic device provided outside the printing press 1 is stored in the storage unit 11 of the printing press 1. May be.

また、Y軸駆動部M44等の直動系の駆動部は、例えばリニアモーターにより構成しても良い。   Further, the linear drive unit such as the Y-axis drive unit M44 may be constituted by a linear motor, for example.

1…印刷機、
10…主制御部、
11…記憶部、
12…駆動制御部、
16…排気制御部、
8…クリーニングユニット、
82…クリーニングヘッド、
821…吸引口、
822…クリーニングヘッドの内部、
824…圧力センサー(検出部)、
9…排気部、
91…ブロワー、
92…インバーター、
M44…Y軸駆動部(駆動部)、
R…吸引対象範囲、
Pt…目標圧力、
Pd…検出圧力、
Pe…排気パターン、
M…マスク、
Mt…(マスクの)厚み、
A…開口部、
B…基板、
SP…半田(ペースト)、
MC…マスククリーニング装置、
V…排気速度、
F…(吸引対象範囲に対する開口部の)面積比
1 ... Printer,
10 ... main control part,
11 ... storage unit,
12 ... Drive control unit,
16 ... exhaust control unit,
8 ... Cleaning unit,
82 ... cleaning head,
821 ... suction port,
822 ... inside the cleaning head,
824 ... Pressure sensor (detector),
9 ... exhaust part,
91 ... Blower,
92 ... an inverter,
M44 ... Y-axis drive unit (drive unit),
R ... suction target range,
Pt ... Target pressure,
Pd: detected pressure,
Pe ... exhaust pattern,
M ... mask,
Mt ... (mask) thickness,
A ... opening,
B ... Substrate,
SP: Solder (paste),
MC: Mask cleaning device,
V: Exhaust speed,
F ... Area ratio (of opening to suction target range)

Claims (6)

開口部を有するマスクに対向する吸引口を有するクリーニングヘッドと、
前記マスクに対して前記クリーニングヘッドを相対的に移動させる駆動部と、
前記吸引口に連通する前記クリーニングヘッドの内部を排気することで、前記マスクのうち前記吸引口に対向する吸引対象範囲を吸引する排気部と、
前記クリーニングヘッドの前記内部の圧力の変化を検出する検出部と、
前記クリーニングヘッドの前記内部の圧力が目標圧力に近づくように、前記排気部が前記クリーニングヘッドの前記内部を排気する排気速度を、前記検出部の検出結果に基づきフィードバック制御する制御部と
を備えるマスククリーニング装置。
A cleaning head having a suction port facing a mask having an opening;
A drive unit that moves the cleaning head relative to the mask;
By exhausting the inside of the cleaning head communicating with the suction port, an exhaust unit that sucks the suction target range facing the suction port in the mask; and
A detection unit for detecting a change in the internal pressure of the cleaning head;
A mask including a control unit that feedback-controls an exhaust speed at which the exhaust unit exhausts the interior of the cleaning head based on a detection result of the detection unit so that the internal pressure of the cleaning head approaches a target pressure. Cleaning device.
前記制御部は、前記マスクの厚みに応じて前記目標圧力を変更する請求項1に記載のマスククリーニング装置。   The mask cleaning apparatus according to claim 1, wherein the control unit changes the target pressure according to a thickness of the mask. 開口部を有するマスクに対向する吸引口を有するクリーニングヘッドと、
前記マスクに対して前記クリーニングヘッドを相対的に移動させる駆動部と、
前記吸引口に連通する前記クリーニングヘッドの内部を排気することで、前記マスクのうち前記吸引口に対向する吸引対象範囲を吸引する排気部と、
前記マスクに対する前記クリーニングヘッドの相対移動に伴って前記吸引対象範囲に対する前記開口部の面積比が減少するのに応じて、前記排気部が前記クリーニングヘッドの前記内部を排気する排気速度を減少させる排気パターンを記憶する記憶部と、
前記排気部の前記排気速度を前記排気パターンに従って制御する制御部と
を備えるマスククリーニング装置。
A cleaning head having a suction port facing a mask having an opening;
A drive unit that moves the cleaning head relative to the mask;
By exhausting the inside of the cleaning head communicating with the suction port, an exhaust unit that sucks the suction target range facing the suction port in the mask; and
As the area ratio of the opening to the suction target range decreases as the cleaning head moves relative to the mask, the exhaust reduces the exhaust speed at which the exhaust exhausts the interior of the cleaning head. A storage unit for storing patterns;
A mask cleaning device comprising: a control unit that controls the exhaust speed of the exhaust unit according to the exhaust pattern.
開口部を有するマスクの表面でペーストを広げることで、前記マスクの裏面に重ねられた基板へペーストを印刷する印刷機であって、
請求項1ないし3のいずれか一項に記載のマスククリーニング装置を備え、
前記マスククリーニング装置によって前記マスクの裏面をクリーニングする印刷機。
By spreading the paste on the surface of the mask having an opening, it is a printing machine that prints the paste on the substrate superimposed on the back of the mask,
A mask cleaning device according to any one of claims 1 to 3,
The printing machine which cleans the back surface of the mask by the mask cleaning device.
開口部を有するマスクにクリーニングヘッドの吸引口を向けつつ前記マスクに対して前記クリーニングヘッドを相対的に移動させる工程と、
前記吸引口に連通する前記クリーニングヘッドの内部の圧力の変化を検出部が検出した結果に応じた排気速度で前記クリーニングヘッドの前記内部を排気することで、前記マスクのうち前記吸引口に対向する吸引対象範囲を吸引する工程と
を備え、
前記排気速度は、前記クリーニングヘッドの前記内部の圧力が目標圧力に近づくように、前記検出部の検出結果に基づきフィードバック制御されるマスククリーニング方法。
Moving the cleaning head relative to the mask while directing the suction port of the cleaning head to the mask having an opening;
By evacuating the inside of the cleaning head at an evacuation speed according to the result of detection by the detector that detects a change in the pressure inside the cleaning head communicating with the suction port, the mask faces the suction port. A step of sucking a suction target range,
The mask cleaning method, wherein the exhaust speed is feedback-controlled based on the detection result of the detection unit so that the internal pressure of the cleaning head approaches a target pressure.
開口部を有するマスクにクリーニングヘッドの吸引口を向けつつ前記マスクに対して前記クリーニングヘッドを相対的に移動させる工程と、
前記吸引口に連通する前記クリーニングヘッドの内部を記憶部に記憶された排気パターンが示す排気速度で排気することで、前記マスクのうち前記吸引口に対向する吸引対象範囲を吸引する工程と
を備え、
前記排気パターンは、前記マスクに対する前記クリーニングヘッドの相対移動に伴って前記吸引対象範囲に対する前記開口部の面積比が減少するのに応じて、前記排気部が前記クリーニングヘッドの前記内部を排気する排気速度を減少させるマスククリーニング方法。
Moving the cleaning head relative to the mask while directing the suction port of the cleaning head to the mask having an opening;
And a step of sucking a suction target range facing the suction port in the mask by exhausting the interior of the cleaning head communicating with the suction port at an exhaust speed indicated by an exhaust pattern stored in a storage unit. ,
The exhaust pattern is an exhaust pattern in which the exhaust section exhausts the inside of the cleaning head as the area ratio of the opening to the suction target range decreases as the cleaning head moves relative to the mask. A mask cleaning method that reduces the speed.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111748768A (en) * 2020-06-28 2020-10-09 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Mask plate cleaning equipment and mask plate cleaning method
CN115220298A (en) * 2022-07-28 2022-10-21 上海华力集成电路制造有限公司 Cleaning device and cleaning method
JP2024099497A (en) * 2023-01-12 2024-07-25 エーエスエムピーティー・エスエムティー・シンガポール・ピーティーイー・リミテッド Cleaning the underside of the screen

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62178145U (en) * 1986-05-02 1987-11-12
DE3928525A1 (en) * 1989-08-29 1991-03-14 Ind Siebdruck Systeme Neckarwe Flat bed screen printing machine - has integral automatic cleaning device for screen covering PCB e.g. with solder paste
JPH0379347A (en) * 1989-08-22 1991-04-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Screen printing machine
JPH06155723A (en) * 1992-11-18 1994-06-03 Hitachi Techno Eng Co Ltd Screen printer
JPH09314814A (en) * 1996-05-28 1997-12-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd Cleaning device and cleaning method
JPH10100388A (en) * 1996-10-02 1998-04-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Printing mask cleaning apparatus and method
US6036787A (en) * 1998-07-13 2000-03-14 Dek Printing Machines, Ltd. Stencil cleaning apparatus
JP2007307750A (en) * 2006-05-17 2007-11-29 Yamaha Motor Co Ltd Screen printing device
JP2013193403A (en) * 2012-03-22 2013-09-30 Panasonic Corp Screen printing machine and method for detecting abnormal condition of screen printing machine

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62178145U (en) * 1986-05-02 1987-11-12
JPH0379347A (en) * 1989-08-22 1991-04-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Screen printing machine
DE3928525A1 (en) * 1989-08-29 1991-03-14 Ind Siebdruck Systeme Neckarwe Flat bed screen printing machine - has integral automatic cleaning device for screen covering PCB e.g. with solder paste
JPH06155723A (en) * 1992-11-18 1994-06-03 Hitachi Techno Eng Co Ltd Screen printer
JPH09314814A (en) * 1996-05-28 1997-12-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd Cleaning device and cleaning method
JPH10100388A (en) * 1996-10-02 1998-04-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Printing mask cleaning apparatus and method
US6036787A (en) * 1998-07-13 2000-03-14 Dek Printing Machines, Ltd. Stencil cleaning apparatus
JP2007307750A (en) * 2006-05-17 2007-11-29 Yamaha Motor Co Ltd Screen printing device
JP2013193403A (en) * 2012-03-22 2013-09-30 Panasonic Corp Screen printing machine and method for detecting abnormal condition of screen printing machine

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111748768A (en) * 2020-06-28 2020-10-09 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Mask plate cleaning equipment and mask plate cleaning method
CN111748768B (en) * 2020-06-28 2022-08-02 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Mask plate cleaning equipment and mask plate cleaning method
CN115220298A (en) * 2022-07-28 2022-10-21 上海华力集成电路制造有限公司 Cleaning device and cleaning method
JP2024099497A (en) * 2023-01-12 2024-07-25 エーエスエムピーティー・エスエムティー・シンガポール・ピーティーイー・リミテッド Cleaning the underside of the screen

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