JP2018019884A - 過酸化水素ガスの分解除去方法および分解除去装置 - Google Patents

Abstract

【課題】作業環境室内の過酸化水素ガスを短時間で低濃度に分解除去できる過酸化水素ガスの分解除去方法および分解除去装置を提供する。【解決手段】過酸化水素ガスを触媒１３によって分解除去する分解除去工程と、作業環境室１０内を結露しない程度に加湿する加湿工程と、を含むので、分解除去工程で過酸化水素ガスを触媒１３によって分解除去するとともに、加湿工程で作業環境室１０内を結露しない程度に加湿することにより、水蒸気分圧を増やし作業環境室１０内の過酸化水素の分圧が増え易い状態として作業環境室１０内の壁面やその他の部材に付着している過酸化水素の離脱を促進して過酸化水素ガスとし、この過酸化水素ガスを分解除去工程で触媒によって分解除去できるので、作業環境室１０内の過酸化水素ガスを短時間で低濃度に分解除去できる。【選択図】図１

Description

本発明は、作業環境室内の過酸化水素ガスを分解除去する過酸化水素ガスの分解除去方法および分解除去装置に関する。

医薬品製造分野で使用されるアイソレーター並びに、微生物実験やウイルスの取り扱い時に使用される安全キャビネットは、浮遊粒子の管理および、微生物、菌、ウイルスの管理が重要となる。医薬品製造分野では、製造環境（作業環境室内）を無菌状態に保持することが求められ、その無菌保証水準（ＳＡＬ）は１０^−６となる。また、安全キャビネットでは、装置メンテナンス時に作業者が有害な菌、ウイルスに感染することを防止するために、装置内部（作業環境室内）を除染する必要がある。

除染方法としては、従来ではホルムアルデヒドガスによる燻蒸が主に行われてきたが、ホルムアルデヒドは発がん性物質であり、近年その使用は厳しく規制されている。これに対して、ホルムアルデヒド除染の代替法として、過酸化水素、過酢酸、オゾン等といった、代替薬を使用した除染法が検討されてきた。中でも、過酸化水素ガスは他の代替薬と比較して扱いやすく、医薬品製造分野では、アイソレーターの除染に多数使用されてきている。過酸化水素を利用した除染方法は、各種提案されている（例えば特許文献１参照）。

ところで、再生医療分野の細胞操作を行うためには、作業環境室内の完全な無菌化が必須であり、その除染には過酸化水素ガス除染が多く用いられる。過酸化水素ガス除染後には、人に害のなきように、過酸化水素ガスを専用の触媒により分解除去し、その気中濃度を１ｐｐｍまで分解除去することが一般的である。しかし、最近に至り、細胞へのダメージを更に低減させることを目的とし、０．１ｐｐｍまで低下させる要求が増えてきた。
除染時には作業環境室内の過酸化水素ガスの気中濃度を３００ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍとするが、この時に、作業環境室の壁面やＨＥＰＡフィルター等の他の部材に過酸化水素が付着する。
従来の除染後の過酸化水素ガスの中和（分解除去）は、図３に示すように、作業環境室１０内の高濃度の過酸化水素ガスを、中和（分解除去）装置１の触媒２により１／１００〜１／１０００の濃度に分解除去し、この分解除去された後の微量（超低濃度）な過酸化水素ガスを含む空気を作業環境室１０内に還気するシステムであった。なお、図３において、符号３は送風機、符号４は制御部を示す。

特開２００２−３６０６７２号公報

しかし、従来の除染後の過酸化水素ガスの分解除去方法では、以下のような問題がある。
すなわちまず、図４に従来の分解除去方法による過酸化水素ガスの濃度低下と中和（分解除去）時間の関係を示す。作業環境室内に存在する過酸化水素ガスが高濃度であれば、その分解除去効果は高く、中和（分解除去）に要する時間は比較的早いが、２０ｐｐｍ以下の低濃度となると、壁面やＨＥＰＡフィルター等の他の部材に付着した過酸化水素に影響され、１ｐｐｍまで還元するには長時間を要する。更に０．１ｐｐｍの超低濃度を要求される場合は、除染対象容積にもよるが、２４時間以上必要な場合も多く、２４時間経過しても要求濃度まで分解除去（還元）できない場合もある。

本発明は、前記事情に鑑みてなされたもので、作業環境室内の過酸化水素ガスを短時間で低濃度に分解除去できる過酸化水素ガスの分解除去方法および分解除去装置を提供することを目的とする。

前記目的を達成するために、本発明の過酸化水素ガスの分解除去方法は、作業環境室内の過酸化水素ガスを分解除去する方法であって、
前記過酸化水素ガスを触媒によって分解除去する分解除去工程と、前記作業環境室内を結露しない程度に加湿する加湿工程と、を含むことを特徴とする。

本発明においては、分解除去工程で過酸化水素ガスを触媒によって分解除去するとともに、加湿工程で作業環境室内を結露しない程度に加湿することにより、水蒸気分圧を増やし作業環境室内の過酸化水素の分圧が増え易い状態として作業環境室内の壁面やその他の部材に付着している過酸化水素の離脱を促進して過酸化水素ガスとし、この過酸化水素ガスを分解除去工程で触媒によって分解除去できるので、作業環境室内の過酸化水素ガスを短時間で低濃度に分解除去できる。

また、本発明の前記構成において、前記過酸化水素ガスを２０ｐｐｍ以下の低濃度にした後、前記分解除去工程および前記加湿工程を行ってもよい。

ここで、上述したように、作業環境室内に存在する過酸化水素ガスが高濃度であれば、その分解除去効果は高く、分解除去に要する時間は比較的早いが、２０ｐｐｍ以下の低濃度となると、壁面やＨＥＰＡフィルター等の他の部材に付着した過酸化水素に影響され、１ｐｐｍまで分解除去するには長時間を要する。
このため前記構成によれば、過酸化水素ガスを２０ｐｐｍ以下の低濃度にした後、分解除去工程および加湿工程を行うので、効率的に短時間で過酸化水素ガスを分解除去できる。

また、本発明の前記構成において、前記作業環境室内を除湿する除湿工程を行いながら、前記加湿工程を間欠的に所定回数繰り返して行ってもよい。

このような構成によれば、除湿工程を行いながら加湿工程を間欠的に所定回数繰り返して行うことによって、作業環境室内の加湿による湿度制御を容易に行うことができ、その結果、過酸化水素ガスの分解除去時間を短縮でき、かつ過酸化水素ガスの気中濃度を０．１ｐｐｍまで分解除去できる。

また、本発明の前記構成において、前記作業環境室内に殺菌灯から紫外線を照射してもよい。

このような構成によれば、紫外線により、作業環境室の壁面やその他の部材に付着している過酸化水素をＯＨラジカルに分解する。ＯＨラジカルは不安定であるため、即時に過酸化水素（Ｈ_２Ｏ_２）に戻る、またはＨ_２ＯとＨ_２に分解される。したがって、過酸化水素ガス除染後の分解除去時間を短縮することができ、さらに、１ｐｐｍ以下の超低濃度に至る分解除去に非常に効果が高い。

本発明の過酸化水素ガスの分解除去装置は、作業環境室内の過酸化水素ガスを分解除去する過酸化水素ガスの分解除去装置であって、
前記作業環境室内の過酸化水素ガスと空気を引き込む引込み配管と、
この引込み配管によって引き込んだ前記過酸化水素ガスを分解除去する触媒と、
この触媒によって一部が分解除去された後の前記過酸化水素ガスと空気を前記作業環境室内に戻す戻し配管と、
前記作業環境室を結露しない程度に加湿する加湿する加湿器とを備えたことを特徴とする。

本発明においては、作業環境室内の過酸化水素ガスと空気を引込み配管によって引き込み、この引き込んだ過酸化水素ガスの一部を触媒によって分解除去し、この分解除去された後の過酸化水素ガスと空気を戻し配管によって作業環境室内に戻す工程を繰り返して行う。
一方、加湿器によって作業環境室内を結露しない程度に加湿する加湿することにより、水蒸気分圧を増やし作業環境室内の過酸化水素の分圧が増え易い状態として作業環境室内の壁面やその他の部材に付着している過酸化水素の離脱を促進して過酸化水素ガスとし、この過酸化水素ガスを触媒によって分解除去するので、作業環境室内の過酸化水素ガスを短時間で低濃度に分解除去できる。

本発明の前記構成において、前記戻し配管によって前記作業環境室内に戻された前記過酸化水素ガスの濃度を検出する濃度センサと、
この濃度センサによって検出された前記過酸化水素ガスの濃度が２０ｐｐｍ以下の低濃度になった後、前記加湿器が前記作業環境室を結露しない程度に加湿してもよい。

このような構成によれば、濃度センサによって検出された過酸化水素ガスの濃度が２０ｐｐｍ以下の低濃度になった後、加湿器によって作業環境室を結露しない程度に加湿するので、効率的に短時間で過酸化水素ガスを分解除去できる。

また、本発明の前記構成において、前記除湿器によって前記作業環境室内を除湿する除湿運転を行いながら前記加湿器によって前記作業環境室内を結露しない程度に加湿する加湿運転を制御する制御部を備えていてもよい。

このような構成によれば、除湿器と加湿器を制御部で制御して、除湿運転を行いながら加湿運転を間欠的に所定回数繰り返して行うことによって、作業環境室内の加湿による湿度制御を容易に行うことができ、その結果、過酸化水素ガスの分解除去時間を短縮でき、かつ過酸化水素ガスの気中濃度を０．１ｐｐｍまで分解除去できる。

また、本発明の前記構成において、前記作業環境室内に紫外線を照射する殺菌灯を備えていてもよい。

このような構成によれば、殺菌灯から作業環境室内に紫外線を照射することによって、作業環境室の壁面やその他の部材に付着している過酸化水素をＯＨラジカルに分解する。ＯＨラジカルは不安定であるため、即時に過酸化水素（Ｈ_２Ｏ_２）に戻る、またはＨ_２ＯとＨ_２に分解される。したがって、過酸化水素ガス除染後の分解除去時間を短縮することができ、さらに、１ｐｐｍ以下の超低濃度に至る分解除去に非常に効果が高い。

本発明によれば、過酸化水素ガスを触媒によって分解除去するとともに、作業環境室内を結露しない程度に加湿することにより、水蒸気分圧を増やし作業環境室内の過酸化水素の分圧が増え易い状態として作業環境室内の壁面やその他の部材に付着している過酸化水素の離脱を促進して過酸化水素ガスとし、この過酸化水素ガスを触媒によって分解除去できるので、作業環境室内の過酸化水素ガスを短時間で低濃度に分解除去できる。

本発明の実施の形態に係る過酸化水素ガスの分解除去装置の概略構成を示す図である。 本発明の実施の形態に係る過酸化水素ガスの分解除去方法を説明するためのもので、過酸化水素ガスの中和（分解除去）時間と、過酸化水素ガス濃度および湿度との関係を示すグラフである。 従来の過酸化水素ガスの分解除去装置の概略構成を示す図である。 従来の過酸化水素ガスの中和（分解除去）時間と、過酸化水素ガス濃度との関係を示すグラフである。

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
図１は本実施の形態に係る過酸化水素ガスの分解除去装置の概略構成を示す図である。図１において符号１０は作業環境室を示す。この作業環境室１０は、過酸化水素ガスを用いて除染されるようになっており、この作業環境室１０としては、例えば医薬品製造分野で使用されるアイソレーターの作業空間や、微生物実験やウイルスの取り扱い時に使用される安全キャビネットの作業空間が挙げられるがこれに限るものではない。
そして、この作業環境室１０内は、過酸化水素ガスによって除染された後に本実施の形態に係る過酸化水素ガスの分解除去装置（以下、分解除去装置と略称する。）１１によって、過酸化水素ガスが分解除去されるようになっている。

分解除去装置１１は、引込み配管１２と、触媒１３と、戻し配管１４と、濃度センサ１５と、湿度センサ１６と、加湿器１７と、除湿器１８と、送風機１９と、殺菌灯２０と、加湿コントローラ２１と、制御部２２とを備えている。

引込み配管１２は、作業環境室１０内の過酸化水素ガスと空気を分解除去装置１１内に引き込むためのもので、当該引込み配管１２の一端部は作業環境室１０を形成する壁に設けられた流出口に接続され、他端部は除湿器１８に接続されている。
なお、この除湿器１８は除湿剤等の水分吸着剤でもよいし、コンプレッサーによって作業環境室１０内に圧縮空気を導入して当該作業環境室１０内をドライエリアにするような構成でもよいし、または作業環境室１０内に外部から窒素や乾燥空気を導入して当該作業環境室１０内をドライエリアにするような構成でもよい。

除湿器１８は、作業環境室１０内を除湿するためのものであり、制御部（ＰＬＣ）２２に電気的に接続され、この制御部２２によって制御されるようになっている。
この除湿器１８の下流側には、内部に触媒１３が収納された容器１３ａが設けられており、この容器１３ａに除湿器１８が配管によって接続されている。
触媒１３としては、例えば白金等の還元剤を使用することができ、当該触媒１３は容器１３ａに収納されている。そして、この触媒１３による還元反応により過酸化水素ガスを水と酸素に分解除去するようになっている。
また、触媒１３が収納された容器１３ａの下流側には送風機１９が設けられており、この送風機１９の吸気口に容器１３ａが配管によって接続されている。また、送風機１９は制御部２２に電気的に接続され、この制御部２２によって制御されるようになっている。
戻し配管１４は、触媒１３によって一部が分解除去された後の過酸化水素ガスと空気を作業環境室１０内に戻すもので、当該戻し配管１４の一端部は加湿器１７に接続され、他端部は作業環境室１０を形成する壁に設けられた流入口に接続されている。

加湿器１７は、作業環境室１０内を加湿するためのものであり、分解除去装置１１内において、触媒１３の下流側に設けられた送風機１９の送風口に接続されている。
この加湿器１７は加湿コントローラ２１に電気的に接続されており、この加湿コントローラ２１によって制御されるようになっている。また、加湿コントローラ２１には湿度センサ１６が電気的に接続されている。
また、加湿器１７は、濃度センサ１５によって検出された作業環境室１０内の過酸化水素ガスの濃度が２０ｐｐｍ以下の低濃度になった後、当該作業環境室１０を結露しない程度に加湿する加湿するように、加湿コントローラ２１によって制御可能となっている。
例えば、湿度センサ１６によって検出された作業環境室１０内の湿度に基づいて、加湿コントローラ２１が加湿器１７を制御して、作業環境室１０内の相対湿度を６０〜８０％に調整することが可能となっている。また、加湿コントローラ２１は制御部２２に電気的に接続されており、この制御部２２からの制御信号に基づいて、加湿コントローラ２１によって加湿器１７を制御できるようになっている。

濃度センサ１５は、作業環境室１０内の過酸化水素ガスの濃度を検出するためのもので、作業環境室１０を形成する壁に取り付けられている。この濃度センサ１５は制御部２２に電気的に接続されている。そして、濃度センサ１５は、戻し配管１４によって作業環境室１０内に戻された過酸化水素ガスの濃度を検出可能となっている。
湿度センサ１６は、作業環境室１０内の湿度を検出するもので、作業環境室１０を形成する壁に取り付けられている。この湿度センサ１６は加湿コントローラ２１に電気的に接続されている。

このような構成の分解除去装置１１において、制御部２２によって送風機１９が駆動されると、この送風機１９の吸気口に、触媒１３を収容した容器１３ａ、除湿器１８、引込み配管１２が順に接続され、さらに、送風機１９の送風口に加湿器１７、戻し配管１４が順に接続されているので、作業環境室１０内から過酸化水素ガスと空気を分解除去装置１１に引き込み、過酸化水素ガスを触媒１３によって分解除去したうえで作業環境室１０内に空気とともに戻すようになっている。
また、この際、加湿器１７や除湿器１８が加湿コントローラ２１や制御部２２によって制御されて適宜作動するようになっている。例えば、作業環境室１０内を除湿する除湿運転を行いながら、作業環境室１０内を結露しない程度に加湿する加湿運転を間欠的に所定回数繰り返して行えるようになっている。
また、加湿器１７による加湿運転の間欠運転制御では、制御部２２に予め設定された設定時間で、加湿運転時間を自動制御できるようになっている。また、前記設定時間は作業環境室１０の容積や形状により都度設定が可能となっている。

殺菌灯２０は、作業環境室１０内に紫外線を照射するためもので、作業環境室１０を形成する壁に取り付けられている。この殺菌灯２０は制御部２２に電気的に接続され、この制御部２２によって制御されるようになっている。
そして、殺菌灯２０は作業環境室１０内の過酸化水素ガスの濃度が例えば２０ｐｐｍ程度の低濃度に達したことを濃度センサ１５が検出することによって、制御部２２によって駆動されて作業環境室１０内に紫外線を照射できるようになっている。なお、殺菌灯２０は制御部２２によって常に紫外線を作業環境室１０内に照射することもできる。

また、加湿器１７の運転と殺菌灯２０による紫外線照射は、作業環境室１０内の除染運転直後の過酸化水素ガスが高濃度の状態から運転開始することができるようになっている。さらに、作業環境室１０内の過酸化水素ガス濃度が予め設定した中和完了濃度（例えば０．１ｐｐｍ）以下のとなった時点で、自動的に運転完了を自動制御することも可能となっている。
また、過酸化水素ガスが２０ｐｐｍ以下の低濃度となったことを濃度センサ１５が検出した時点で、加湿器１７の運転と殺菌灯２０による紫外線照射を自動制御することも可能となっている。さらに、加湿器１７の運転と殺菌灯２０の紫外線照射の開始時刻と修了時刻を予め設定しておくことで濃度センサ１５を省くこともできる。

次にこのような分解除去装置１１によって、作業環境室１０内の除染運転後における過酸化水素ガスを分解除去する方法の一例について説明する。
まず、分解除去装置１１を起動すると、制御部２２によって送風機１９と除湿器１８が駆動する。なお、除湿器１８は、分解除去装置１１の運転中は、常に運転状態が保持される。
送風機１９が駆動すると、作業環境室１０内から引込み配管１２によって過酸化水素ガスと空気を分解除去装置１１に引き込み、過酸化水素ガスを触媒１３によって分解除去したうえで作業環境室１０内に空気とともに戻す。この際、除湿器１８によって除湿したうえで、作業環境室１０内に、一部が分解除去された後の過酸化水素ガスと空気を戻す。
このような工程（除湿分解除去工程）は所定時間（例えば５分程度）繰り返して行われる。
また、過酸化水素ガスの分解除去と除湿を行っている最中は常に濃度センサ１５によって作業環境室１０内の過酸化水素ガスの濃度を検出するとともに、湿度センサ１６によって作業環境室１０内の湿度を検出する。

除湿器１８による除湿運転が所定時間（例えば５分程度）経過すると、制御部２２によって加湿器１７が駆動する。なお、加湿器１７は制御部２２からの駆動信号に基づいて加湿コントローラ２１によって駆動制御される。
そして、湿度センサ１６によって検出された作業環境室１０内の湿度に基づいて、加湿コントローラ２１が加湿器１７を制御して、作業環境室１０内の相対湿度を６０〜８０％に調整する。このような工程（加湿工程）は所定時間（例えば２５分程度）繰り返して行われ、この加湿工程の際にも触媒１３によって過酸化水素ガスを分解除去する（分解除去工程）。
加湿器１７を駆動させて、作業環境室１０内を結露しない程度に加湿する（加湿工程）ことによって、当該作業環境室１０の壁面やその他の部材に付着している過酸化水素を離脱させて過酸化水素ガスとし、この過酸化水素ガスを触媒１３によって分解除去する。
また、過酸化水素ガスの分解除去（分解除去工程）と加湿（加湿工程）を行っている最中も常に濃度センサ１５によって作業環境室１０内の過酸化水素ガスの濃度を検出するとともに、湿度センサ１６によって作業環境室１０内の湿度を検出する。なお、加湿運転中においても除湿器１８は停止することなく稼働している。

加湿器１７による加湿運転が所定時間（例えば２５分程度）経過すると、つまり加湿工程が所定時間行われると、制御部２２によって加湿器１７の駆動が一時停止され、上述した除湿分解除去工程が所定時間行われ、その後、さらに上述した加湿工程および分解除去工程が所定時間行われる。
このような除湿分解除去工程と、加湿工程および分解除去工程を順次所定回数繰り返して行うことによって、作業環境室１０内の過酸化水素ガスの濃度が例えば０．１ｐｐｍ以下になると、制御部２２が、送風機１９、除湿器１８および加湿器１７を自動停止させる。つまり、分解除去装置１１を自動停止させる。

また、除湿分解除去工程と加湿工程および分解除去工程を順次所定回数繰行っている最中に、作業環境室１０に設けられた殺菌灯２０から紫外線を作業環境室１０内に照射してもよい。この場合、制御部２２が殺菌灯２０を、紫外線を照射するように制御する。

また、上述したような工程によって作業環境室１０内の過酸化水素ガスを分解除去する方法の他、以下のような方法によって分解除去してもよい。
例えば、上述したような除湿分解除去工程と加湿工程および分解除去工程とを最初から終了まで連続して行ってもよいし、除湿分解除去工程を連続して行いながら、過酸化水素ガスを触媒１３によって分解除去（分解除去工程）して、当該過酸化水素ガスが２０ｐｐｍ以下の低濃度になった際に、加湿器１７を駆動させて、作業環境室１０内を結露しない程度に加湿する（加湿工程）してもよい。
この場合、過酸化水素ガスが２０ｐｐｍ以下の低濃度にした後、作業環境室１０内に殺菌灯２０から紫外線を照射して、作業環境室１０の壁面やその他の部材に付着している過酸化水素を分解除去してもよいし、最初から終了まで常時紫外線を照射してもよい。

以上のように、本実施の形態によれば、分解除去工程で過酸化水素ガスを触媒１３によって分解除去するとともに、加湿工程で作業環境室１０内を結露しない程度に加湿することにより、水蒸気分圧を増やし作業環境室１０内の過酸化水素の分圧が増え易い状態として作業環境室１０内の壁面やその他の部材に付着している過酸化水素の離脱を促進して過酸化水素ガスとし、この過酸化水素ガスを分解除去工程で触媒１３によって分解除去できるので、作業環境室１０内の過酸化水素ガスを短時間で低濃度に分解除去できる。

また、過酸化水素ガスを２０ｐｐｍ以下の低濃度にした後、分解除去工程および加湿工程を行うことによって、効率的に短時間で過酸化水素ガスを分解除去できる。
さらに、作業環境室１０内を除湿する除湿運転を行いながら、加湿工程を間欠的に所定回数繰り返して行うことによって、作業環境室１０内の加湿による湿度制御を容易に行うことができ、その結果、過酸化水素ガスの分解除去時間を短縮でき、かつ過酸化水素ガスの気中濃度を０．１ｐｐｍまで分解除去できる。
また、作業環境室１０内に殺菌灯２０から紫外線を照射することにより、作業環境室１０の壁面やその他の部材に付着している過酸化水素をＯＨラジカルに分解する。ＯＨラジカルは不安定であるため、即時に過酸化水素（Ｈ_２Ｏ_２）に戻る、またはＨ_２ＯとＨ_２に分解される。したがって、過酸化水素ガス除染後の分解除去時間を短縮することができ、さらに、１ｐｐｍ以下の超低濃度に至る分解除去に非常に効果が高い。

次に、本実施の形態に係る過酸化水素ガスの分解除去方法に実験例について説明する。
実験例１として、最初に除湿分解除去工程を行った後、加湿工程および分解除去工程（以下、加湿分解除去工程と略称する。）を間欠的に４回行った。最初の除湿分解除去工程は５分程度行い、加湿分解除去工程は２５分程度行い、間欠時間は５分程度とした。また、間欠時間中も除湿分解除去工程を行い、さらに、加湿分解除去工程後も除湿分解除去工程を行い続けた。

また、実験例２として、最初に５分程度除湿分解除去工程を行った後、加湿分解除去工程を連続的に２時間程度行った。また、この加湿分解除去工程とともに除湿分解除去工程を行った。さらに、加湿分解除去工程後も除湿分解除去工程を行い続けた。

一方、比較例として、従来の過酸化水素ガスの分解除去方法、すなわち、除湿分解除去工程および加湿分解除去工程のいずれも行わずに、触媒による分解除去だけを行った。

なお、実験例１、２および比較例における作業環境室の容積は０．２ｍ^３程度である。

これらの結果を図２に示す。図２に示すグラフにおいて、横軸は中和経過時間（分解除去経過時間）、左側の縦軸は過酸化水素ガスの濃度、右側の縦軸は作業環境室の（相対）湿度を示す。
この図２に示したグラフのとおり、１ｐｐｍの過酸化水素ガスを０．３ｐｐｍまで中和（分解除去）するのに要する時間は、従来方式（比較例）では１時間要したが、実験例１および実験例２では、いずれも約３０分で済み、約１／２に時間を短縮することができた。
また、過酸化水素ガスが０．１ｐｐｍに達する中和時間は、従来方式（比較例）では３時間経過後も０．３ｐｐｍより低下しなかったが、実験例１では約１時間４０分、実験例２では約２時間１０分程度で、過酸化水素ガスが０．１ｐｐｍに達することが分かる。

１０ 作業環境室
１１ 分解除去装置
１２ 引込み配管
１３ 触媒
１４ 戻し配管
１５ 濃度センサ
１６ 湿度センサ
１７ 加湿器
１８ 除湿器
１９ 送風機
２０ 殺菌灯
２１ 加湿コントローラ
２２ 制御部

Claims (8)

1. 作業環境室内の過酸化水素ガスを分解除去する方法であって、
   前記過酸化水素ガスを触媒によって分解除去する分解除去工程と、
   前記作業環境室内を結露しない程度に加湿する加湿工程と、
   を含むことを特徴とする過酸化水素ガスの分解除去方法。
2. 前記過酸化水素ガスを２０ｐｐｍ以下の低濃度にした後、前記分解除去工程および前記加湿工程を行うことを特徴とする請求項１に記載の過酸化水素ガスの分解除去方法。
3. 前記作業環境室内を除湿する除湿工程を行いながら、前記加湿工程を間欠的に所定回数繰り返して行うことを特徴とする請求項１または２に記載の過酸化水素ガスの分解除去方法。
4. 前記作業環境室内に殺菌灯から紫外線を照射することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の過酸化水素ガスの分解除去方法。
5. 作業環境室内の過酸化水素ガスを分解除去する過酸化水素ガスの分解除去装置であって、
   前記作業環境室内の過酸化水素ガスと空気を引き込む引込み配管と、
   この引込み配管によって引き込んだ前記過酸化水素ガスを分解除去する触媒と、
   この触媒によって一部が分解除去された後の前記過酸化水素ガスと空気を前記作業環境室内に戻す戻し配管と、
   前記作業環境室を結露しない程度に加湿する加湿する加湿器とを備えたことを特徴とする過酸化水素ガスの分解除去装置。
6. 前記戻し配管によって前記作業環境室内に戻された前記過酸化水素ガスの濃度を検出する濃度センサと、
   この濃度センサによって検出された前記過酸化水素ガスの濃度が２０ｐｐｍ以下の低濃度になった後、前記加湿器が前記作業環境室を結露しない程度に加湿することを特徴とする請求項５に記載の過酸化水素ガスの分解除去装置。
7. 前記除湿器によって前記作業環境室内を除湿する除湿運転を行いながら前記加湿器によって前記作業環境室内を結露しない程度に加湿する加湿運転を制御する制御部を備えていることを特徴とする請求項５または６に記載の過酸化水素ガスの分解除去装置。
8. 前記作業環境室内に紫外線を照射する殺菌灯を備えていることを特徴とする請求項５〜７のいずれか１項に記載の過酸化水素ガスの分解除去装置。

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