JP2018016787A - Polyimide composition, polyimide film and polyimide laminate obtained from the polyimide composition, and method for producing polyimide laminate - Google Patents
Polyimide composition, polyimide film and polyimide laminate obtained from the polyimide composition, and method for producing polyimide laminate Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018016787A JP2018016787A JP2017116991A JP2017116991A JP2018016787A JP 2018016787 A JP2018016787 A JP 2018016787A JP 2017116991 A JP2017116991 A JP 2017116991A JP 2017116991 A JP2017116991 A JP 2017116991A JP 2018016787 A JP2018016787 A JP 2018016787A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyimide
- composition
- substituent
- dianhydride
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
Description
本発明は、剥離性に優れるポリイミドフィルムを得ることができるポリイミド前駆体及び/又はポリイミドを含む組成物に関する。更には該組成物より得られるポリイミドフィルム及びポリイミド積層体に関する。また、ポリイミド積層体の製造方法に関する。 The present invention relates to a polyimide precursor and / or a composition containing polyimide that can provide a polyimide film having excellent peelability. Furthermore, it is related with the polyimide film and polyimide laminated body obtained from this composition. Moreover, it is related with the manufacturing method of a polyimide laminated body.
従来、電気、電子部品、輸送機器、宇宙、航空機等の分野において、耐熱性、電気絶縁性、耐摩耗性、耐薬品性、機械特性等に優れたポリイミドが広く利用されている。 Conventionally, polyimides having excellent heat resistance, electrical insulation, wear resistance, chemical resistance, mechanical properties, and the like have been widely used in the fields of electricity, electronic parts, transportation equipment, space, aircraft, and the like.
従来、ポリイミドフィルムの製造方法としては、ポリイミド前駆体溶液を支持体に塗布し、該溶液中の溶媒を除去し自律性フィルムとして支持体から剥離させ、該自律性フィルムを加熱してイミド化させて製造する方法、ポリイミド前駆体溶液を支持体に塗布した後加熱して、該溶液中の溶媒を除去し、かつポリイミド前駆体をイミド化し自律性フィルムとして支持体から剥離して得る方法、ポリイミド溶液を支持体に塗布し、該溶液中の溶媒を除去後、自律性フィルムとして支持体から剥離して得る方法等が用いられている。しかし支持体から自律性フィルムを剥離させるためには、ポリイミド前駆体フィルムやポリイミドフィルムと支持体との接着性が強く、剥離が困難な場合が多い。 Conventionally, as a method for producing a polyimide film, a polyimide precursor solution is applied to a support, a solvent in the solution is removed, the autonomous film is peeled off from the support, and the autonomous film is heated to imidize. A method of producing a polyimide precursor solution after applying it to a support, heating to remove the solvent in the solution, and imidizing the polyimide precursor to obtain an autonomous film and removing it from the support, polyimide A method of applying the solution to a support, removing the solvent in the solution, and peeling off from the support as an autonomous film is used. However, in order to peel the autonomous film from the support, the adhesion between the polyimide precursor film or polyimide film and the support is strong, and peeling is often difficult.
特許文献1には、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂等にノニオン系のフッ素系界面活性剤を配合した樹脂ペーストが開示されている。
特許文献2では、シリコーンワニス等の有機シロキサンを含有する造膜用ポリマー組成物が開示されており、更にこのポリマー組成物から製造したポリイミドフィルムが流涎面からの剥離性に優れていることが開示されている。
Patent Document 1 discloses a resin paste in which a nonionic fluorosurfactant is blended with polyimide resin, polyamideimide resin, polyamide resin, or the like.
Patent Document 2 discloses a polymer composition for film formation containing an organic siloxane such as silicone varnish, and further discloses that a polyimide film produced from this polymer composition is excellent in peelability from a fluent surface. Has been.
しかしながら、特許文献1のようにフッ素系界面活性剤を添加したポリイミドフィルムは、例えばポリイミドフィルムの上に配線をする場合、またはデバイスを積層する場合等において、ポリイミドフィルム中に残存するフッ素系界面活性剤が、配線や上層とポリイミドフィルムとの密着性を阻害し、欠陥につながる傾向にある。
また、上層積層工程等が、ポリイミドフィルム製造温度よりも高温である場合は、その積層工程中にポリイミドフィルム中に残存するフッ素系界面活性剤がアウトガスとなって積層工程を阻害する要因となりうる。
一方、本発明者らの検討によれば、特許文献2のようなシリコーンワニス等の有機シロキサンを含有する造膜用ポリマー組成物を用いてポリイミドフィルムを製造する場合、十分な剥離性を得るためには、有機シロキサンを多量に添加しなければならず、製造したポリイミドフィルムが白化する場合がある、すなわちポリイミドフィルムの剥離性と透明性やヘイズ等の外観を両立することが困難であることが解った。
However, the polyimide film to which a fluorine-based surfactant is added as in Patent Document 1 is a fluorine-based surfactant that remains in the polyimide film, for example, when wiring on a polyimide film or when a device is laminated. The agent tends to inhibit the adhesion between the wiring or upper layer and the polyimide film, leading to defects.
Further, when the upper layer laminating step or the like is at a temperature higher than the polyimide film manufacturing temperature, the fluorosurfactant remaining in the polyimide film during the laminating step can be an outgas and become a factor that hinders the laminating step.
On the other hand, according to the study by the present inventors, when a polyimide film is produced using a film-forming polymer composition containing an organic siloxane such as a silicone varnish as in Patent Document 2, a sufficient peelability is obtained. In addition, a large amount of organosiloxane must be added, and the produced polyimide film may be whitened, that is, it is difficult to achieve both the peelability of the polyimide film and the appearance such as transparency and haze. I understand.
本発明者らは上記を鑑み、鋭意検討した結果、ポリイミド前駆体及び/又はポリイミドと水素結合性置換基を有する複素環化合物を含むポリイミド組成物を用いることで、上記課題が解決でき、且つ支持体から容易に効率よく剥離できるポリイミドフィルムが得られることを見出した。 As a result of intensive studies in view of the above, the present inventors have been able to solve the above problems and support by using a polyimide composition containing a polyimide precursor and / or a polyimide and a heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent. It has been found that a polyimide film that can be easily and efficiently peeled from the body can be obtained.
本発明は次の各項に関する。
[1]ポリイミド前駆体及び/又はポリイミド並びに水素結合性置換基を有する複素環化合物を含むポリイミド組成物。
[2]前記水素結合性置換基を有する複素環化合物の分極率が60×10-25cm3以上である、[1]に記載のポリイミド組成物。
[3]前記水素結合性置換基を有する複素環化合物の複素環を形成する複素元素が1つである、[1]又は[2]に記載のポリイミド組成物。
[4]前記水素結合性置換基を有する複素環化合物の水素結合性置換基が置換基内で分極し分子間で水素結合を形成しうる置換基である、[1]〜[3]のいずれか一に記載のポリイミド組成物。
[5]前記水素結合性置換基を有する複素環化合物の水素結合性置換基の置換位置がβ位またはγ位である、[1]〜[4]のいずれか一に記載のポリイミド組成物。
[6]前記ポリイミド前駆体及び/又はポリイミドが無色透明である、請求項[1]〜[5]のいずれか一に記載のポリイミド組成物。
[7]前記ポリイミド前駆体及び/又はポリイミドが脂環式骨格を有する、[1]〜[6]のいずれか一項に記載のポリイミド組成物。
[8][1]〜[7]のいずれか一に記載のポリイミド組成物より得られる樹脂層を有するポリイミド積層体。
[9][1]〜[7]のいずれか一に記載のポリイミド組成物より得られるポリイミドフィルム。
[10]ポリイミド前駆体及び/又はポリイミド並びに水素結合性置換基を有する複素環化合物を含むポリイミド組成物を用い樹脂層を得る工程、
該樹脂層を、加熱後の樹脂層中のポリイミド樹脂のガラス転移温度以上で加熱する工程、
を有するものである、ポリイミド積層体の製造方法。
The present invention relates to the following items.
[1] A polyimide composition comprising a polyimide precursor and / or a polyimide and a heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent.
[2] The polyimide composition according to [1], wherein the heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent has a polarizability of 60 × 10 −25 cm 3 or more.
[3] The polyimide composition according to [1] or [2], wherein the number of heteroelements forming the heterocyclic ring of the heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent is one.
[4] Any of [1] to [3], wherein the hydrogen-bonding substituent of the heterocyclic compound having a hydrogen-bonding substituent is a substituent that can polarize within the substituent and form a hydrogen bond between molecules. The polyimide composition as described in any one.
[5] The polyimide composition according to any one of [1] to [4], wherein the substitution position of the hydrogen bonding substituent of the heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent is β-position or γ-position.
[6] The polyimide composition according to any one of [1] to [5], wherein the polyimide precursor and / or the polyimide is colorless and transparent.
[7] The polyimide composition according to any one of [1] to [6], wherein the polyimide precursor and / or the polyimide has an alicyclic skeleton.
[8] A polyimide laminate having a resin layer obtained from the polyimide composition according to any one of [1] to [7].
[9] A polyimide film obtained from the polyimide composition according to any one of [1] to [7].
[10] A step of obtaining a resin layer using a polyimide composition containing a polyimide precursor and / or a polyimide and a heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent,
Heating the resin layer above the glass transition temperature of the polyimide resin in the resin layer after heating;
The manufacturing method of the polyimide laminated body which has this.
本発明のポリイミド組成物より得られるフィルムは、支持体から容易に効率よく剥離することができる。 The film obtained from the polyimide composition of the present invention can be easily and efficiently peeled from the support.
以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に例示するものや方法等は本発明の実施形態の一例(代表例)であり、本発明はその要旨を逸脱しない限り、これらの内容に限定されない。
なお、以下ポリイミド前駆体及び/又はポリイミドを含む組成物をポリイミド組成物と称する。また、本発明のポリイミド組成物を基材に塗布し樹脂層を形成して得られた積層体をポリイミド積層体、ポリイミド組成物を支持体上に塗布し、更に支持体から剥離して得られたフィルムをポリイミドフィルムと称する。
Embodiments of the present invention will be described in detail below, but the following examples and methods are examples (representative examples) of the embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to these unless they depart from the gist of the present invention. It is not limited to the contents.
Hereinafter, a composition containing a polyimide precursor and / or polyimide is referred to as a polyimide composition. In addition, a laminate obtained by applying the polyimide composition of the present invention to a substrate to form a resin layer is obtained by applying a polyimide laminate, a polyimide composition on a support, and further peeling from the support. This film is referred to as a polyimide film.
本発明のポリイミド樹脂組成物は、ポリイミド前駆体及び/又はポリイミド並びに水素結合性置換基を有する複素環化合物を含む。 The polyimide resin composition of the present invention includes a polyimide precursor and / or a polyimide and a heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent.
[水素結合性置換基を有する複素環化合物]
(水素結合性置換基)
本発明において水素結合性置換基とは、置換基内で分極し分子間で水素結合を形成し得る置換基や、非共有電子対を有する原子を含む置換基のことである。前者としては、例えば、硫黄、酸素、窒素等の電気陰性度が大きい原子に共有結合で水素が結びついた置換基、後者としてはハロゲン原子からなる置換基等が挙げられる。
水素結合性置換基の具体的例としては、ハロゲン基、ヒロドキシ基、チオール基、スルホ基、アミノ基、イミノ基、ヒドロキシアミノ基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、チオカルボキシ基、エステル基、チオエステル基、アルデヒド基、アセチル基等が挙げられる。
複素環化合物が水素結合性置換基を有することで、ガラスや金属等の支持体の表面と、ポリイミド前駆体やポリイミドとそれぞれ水素結合を形成する。そのため、支持体とポリイミド前駆体やポリイミドとの界面に複素環化合物が多く存在することができる。従って、支持体とポリイミド前駆体やポリイミドとの水素結合を減少させ、本発明のポリイミド組成物をフィルムとした際に支持体との剥離性が高くなる。
[Heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent]
(Hydrogen bonding substituent)
In the present invention, the hydrogen-bonding substituent is a substituent that can polarize within a substituent and form a hydrogen bond between molecules, or a substituent that includes an atom having an unshared electron pair. The former includes, for example, a substituent in which hydrogen is bonded to a large electronegativity atom such as sulfur, oxygen, and nitrogen, and the latter includes a substituent composed of a halogen atom.
Specific examples of the hydrogen bonding substituent include a halogen group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfo group, an amino group, an imino group, a hydroxyamino group, a nitro group, a nitroso group, a carboxy group, a thiocarboxy group, an ester group, Examples include a thioester group, an aldehyde group, and an acetyl group.
When the heterocyclic compound has a hydrogen-bonding substituent, a hydrogen bond is formed between the surface of the support such as glass or metal, and the polyimide precursor or polyimide. Therefore, many heterocyclic compounds can exist at the interface between the support and the polyimide precursor or polyimide. Therefore, the hydrogen bond between the support and the polyimide precursor or polyimide is reduced, and when the polyimide composition of the present invention is used as a film, the peelability from the support is enhanced.
水素結合性置換基としては特に制限はないが、置換基内で分極し分子間で水素結合を形成しうる置換基が、フィルム表面の密着性を阻害しないため好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular as a hydrogen bondable substituent, Since the substituent which can polarize in a substituent and can form a hydrogen bond between molecules does not inhibit the adhesiveness of a film surface, it is preferable.
水素結合性置換基の置換位置は、特に制限はないが、複素元素から離れた位置に置換している方が、分子間の水素結合を形成しやすいため、複素元素に対しβ位またはγ位に置換しているものが好ましく、γ位に置換しているものがより好ましい。 The substitution position of the hydrogen bonding substituent is not particularly limited, but it is easier to form an intermolecular hydrogen bond when substituted at a position away from the complex element. Are preferably substituted, more preferably substituted at the γ-position.
(水素結合性置換基を有する複素環化合物)
水素結合性置換基を有する複素環化合物の複素環の種類としては、特に制限はない。また、複素環は単環でも縮合環でもよく、飽和炭化水素で構成されていても、不飽和炭化水素で構成されていてもよい。
また、本発明のポリイミド樹脂組成物は、水素結合性置換基を有する複素環化合物を複数含んでいてもよい。
本発明においては、複素環を構成する元素のうち、炭素元素以外の元素を複素元素という。複素元素も特に限定されないが、窒素、酸素及び硫黄の各元素を少なくとも1つであることが好ましい。これらの中でも、窒素元素を有していることが、フィルムの着色が少なく、組成物の保存安定性が維持される傾向にあるため好ましい。
具体的には、
窒素元素を有し飽和炭化水素で構成される複素環;
エチレンイミン、シクロブタン、ピロリジン、ピペリジン、ヘキサメチレンイミン等の窒素元素を1つ有し不飽和結合をもつ複素環;
アジリン、アゼト、ピロール、ピリジン、アザトピリデン、インドール、イソインドール、キノリン、イソキノリン、カルバゾール等の窒素元素を2つ以上有する複素環;
イミダゾール、ピラゾール、イミダゾリン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、プリン、キノキサリン、シンノリン、プテリジン等、酸素元素を有し飽和炭化水素で構成される複素環;
エチレンオキシド、オキセタン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ヘキサメチレンオキシド等の酸素元素を1つ有し不飽和結合をもつ複素環;
アセチレンオキシド、オキセチウムイオン、フラン、ピリリウムイオン、オキシシクロヘプタトリエン、クロメン、イソクロメン等の硫黄元素を有し飽和炭化水素で構成される複素環;
エチレンスルフィド、トリメチレンスルフィド、テトラヒドロチオフェン、テトラヒドロチオピラン、ヘキサメチレンスルフィド等の硫黄元素を有し不飽和結合をもつ複素環;
アセチレンスルフィド、チエチウムイオン、チオフェン、チアピラン、チオトロピリデン等の複数種の複素元素を有する複素環;
オキサゾール、ベンゾオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、モルホリン、チアジン等が挙げられる。
(Heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent)
There is no restriction | limiting in particular as a kind of heterocyclic ring of the heterocyclic compound which has a hydrogen bondable substituent. The heterocyclic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and may be composed of a saturated hydrocarbon or an unsaturated hydrocarbon.
Moreover, the polyimide resin composition of the present invention may contain a plurality of heterocyclic compounds having a hydrogen bonding substituent.
In the present invention, among the elements constituting the heterocyclic ring, elements other than carbon elements are referred to as complex elements. The complex element is not particularly limited, but is preferably at least one of nitrogen, oxygen, and sulfur. Among these, it is preferable to have a nitrogen element because the film is less colored and the storage stability of the composition tends to be maintained.
In particular,
A heterocyclic ring containing nitrogen and composed of saturated hydrocarbons;
Heterocycle having one nitrogen element such as ethyleneimine, cyclobutane, pyrrolidine, piperidine, hexamethyleneimine and having an unsaturated bond;
A heterocyclic ring having two or more nitrogen elements such as azirine, azeto, pyrrole, pyridine, azatopyridene, indole, isoindole, quinoline, isoquinoline, carbazole;
Heterocycle composed of saturated hydrocarbons with oxygen elements such as imidazole, pyrazole, imidazoline, pyrazine, benzimidazole, purine, quinoxaline, cinnoline, pteridine, etc .;
Heterocycle having one oxygen element such as ethylene oxide, oxetane, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, hexamethylene oxide and the like, and having an unsaturated bond;
Heterocycles composed of saturated hydrocarbons with sulfur elements such as acetylene oxide, oxetium ions, furan, pyrylium ions, oxycycloheptatriene, chromene, isochromene;
Heterocycles having an elemental sulfur bond such as ethylene sulfide, trimethylene sulfide, tetrahydrothiophene, tetrahydrothiopyran, hexamethylene sulfide and the like;
A heterocycle having a plurality of types of heteroelements such as acetylene sulfide, thietium ion, thiophene, thiapyran, tiotropylidene;
Examples include oxazole, benzoxazole, thiazole, benzothiazole, morpholine, thiazine and the like.
複素環化合物が含む複素元素の数は特に限定されないが、3以下が好ましく、1又は2がより好ましく、1がさらに好ましい。上記範囲であることで、フィルムの着色が少なく、組成物の保存安定性が維持される傾向にある。 The number of heteroelements contained in the heterocyclic compound is not particularly limited, but is preferably 3 or less, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1. By being in the above-mentioned range, the film is less colored and the storage stability of the composition tends to be maintained.
複素環を形成する複素元素が1つである化合物としては、例えば、複素元素が窒素であり複素環が単環である、4−アミノピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、4−ヒドロキシピリジン、4−ピリジンカルボキシアルデヒド、4−アセチルピリジン、4−フルオロピリジン、4−ピリジンメタノール、4−(2−アミノエチル)ピリジン、4−ピリジンプロパノール、4−ピリジンエタンチオール、4−メルカプトピリジン、4−メトキシピリジン、イソニコチンアミド、イソニコチン酸、イソニコチン酸メチル、チオイソニコチン酸、3−アミノピリジン、3−ジメチルアミノピリジン、3−ヒドロキシピリジン、3−ピリジンカルボキシアルデヒド、3−アセチルピリジン、3−ピリジンメタノール、3−(2−アミノエチル)ピリジン、3−ピリジンプロパノール、3−ピリジンエタンチオール、3−メルカプトピリジン、3−メトキシピリジン、ニコチンアミド、ニコチン酸、ニコチン酸メチル、イソニコチン酸、2−アミノー4−メチルピリジン、3−アミノー4―メチルピリジン、3−ニトロピロール等が挙げられる。また、複素環を形成する複素元素が窒素元素1つであり、且つ縮合環である化合物として、4−キノリンカルボキシアルデヒド、7−キノリンカルボキシアルデヒド、4−キノリノール、5−キノリノール、7−キノリノール、6−メトキシー2−メチルキノリン、4−アミノー2−メチルキノリン、8−アミノー2−メチルキノリン、4−キノリンカルボン酸、5−キノリンカルボン酸等、複素元素が硫黄である、3−アセチルチオフェン、3−チオフェンカルボキシアルデヒド、3−チオフェンメタノール等が挙げられる。 Examples of the compound having one heteroelement forming a heterocycle include, for example, 4-aminopyridine, 4-dimethylaminopyridine, 4-hydroxypyridine, 4-aminopyridine, wherein the heteroelement is nitrogen and the heterocycle is a monocycle. Pyridinecarboxaldehyde, 4-acetylpyridine, 4-fluoropyridine, 4-pyridinemethanol, 4- (2-aminoethyl) pyridine, 4-pyridinepropanol, 4-pyridineethanethiol, 4-mercaptopyridine, 4-methoxypyridine, Isonicotinamide, isonicotinic acid, methyl isonicotinate, thioisonicotinic acid, 3-aminopyridine, 3-dimethylaminopyridine, 3-hydroxypyridine, 3-pyridinecarboxaldehyde, 3-acetylpyridine, 3-pyridinemethanol, 3- (2-aminoethyl) pyri , 3-pyridinepropanol, 3-pyridineethanethiol, 3-mercaptopyridine, 3-methoxypyridine, nicotinamide, nicotinic acid, methyl nicotinate, isonicotinic acid, 2-amino-4-methylpyridine, 3-amino-4- Examples include methylpyridine and 3-nitropyrrole. Further, as a compound in which the hetero element forming the hetero ring is one nitrogen element and is a condensed ring, 4-quinoline carboxaldehyde, 7-quinoline carboxaldehyde, 4-quinolinol, 5-quinolinol, 7-quinolinol, 6 -Methoxy-2-methylquinoline, 4-amino-2-methylquinoline, 8-amino-2-methylquinoline, 4-quinolinecarboxylic acid, 5-quinolinecarboxylic acid and the like, wherein the complex element is sulfur, 3-acetylthiophene, 3- Examples include thiophene carboxaldehyde, 3-thiophene methanol and the like.
複素環を形成する複素元素が2以上の化合物としては、4−イミダゾールカルボキシアルデヒド、4−イミダゾールカルボン酸、4−イミダゾールカルボン酸エチル、4,5−ビス(ヒドロキシメチル)イミダゾール、2−アセチルピラジン、2−ピラジンメタノール、2−アミノメチルー5−メチルピラジン等が挙げられる。 Examples of the compound having 2 or more heteroelements forming a heterocyclic ring include 4-imidazole carboxaldehyde, 4-imidazolecarboxylic acid, ethyl 4-imidazolecarboxylate, 4,5-bis (hydroxymethyl) imidazole, 2-acetylpyrazine, Examples include 2-pyrazinemethanol and 2-aminomethyl-5-methylpyrazine.
水素結合性置換基を有する複素環化合物としては、特に制限はないが、分子の平均分極率が60×10-25cm3以上が好ましく、80×10-25cm3以上がより好ましく、100×10-25cm3以上がさらに好ましい。分子の平均分極率が大きい方が、水素結合性が高くなるため好ましい。
分子の平均分極率はローレンツ・ローセンスの式より求めることができる。
The heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent is not particularly limited, but the average polarizability of the molecule is preferably 60 × 10 −25 cm 3 or more, more preferably 80 × 10 −25 cm 3 or more, and 100 ×. More preferably, it is 10 −25 cm 3 or more. A higher average polarizability of the molecule is preferable because hydrogen bondability is increased.
The average polarizability of the molecule can be obtained from the Lorentz Lawsen equation.
水素結合性置換基を有する複素環化合物の揮発温度は特に制限はないが、ポリイミドフィルム中への残留が少なくなるため、300℃以下が好ましく、280℃以下がより好ましく、250℃以下が更に好ましい。また下限は特に限定されないが、例えば60℃以上である。 The volatilization temperature of the heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent is not particularly limited, but is preferably 300 ° C. or lower, more preferably 280 ° C. or lower, and even more preferably 250 ° C. or lower because residual in the polyimide film decreases. . Moreover, although a minimum is not specifically limited, For example, it is 60 degreeC or more.
ポリイミド組成物の水素結合性置換基を有する複素環化合物の濃度は、特に制限はないが、組成物に含まれるポリイミド前駆体及び/又はポリイミドに対して、通常0.01質量%以上、好ましくは0.02質量%以上、さらに好ましくは0.05質量%以上である。また、通常20質量%以下、好ましくは15質量%以下、更に好ましくは10質量%以下である。水素結合性置換基を有する複素環化合物の量がこの範囲であることで、良好な剥離性を得られ、組成物の保存安定性が良好になる傾向にあるため好ましい。 The concentration of the heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent in the polyimide composition is not particularly limited, but is usually 0.01% by mass or more, preferably with respect to the polyimide precursor and / or polyimide contained in the composition. It is 0.02 mass% or more, More preferably, it is 0.05 mass% or more. Moreover, it is 20 mass% or less normally, Preferably it is 15 mass% or less, More preferably, it is 10 mass% or less. When the amount of the heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent is within this range, it is preferable because good release properties can be obtained and the storage stability of the composition tends to be good.
水素結合性置換基を有する複素環化合物の濃度は、従来既知の方法で分析することができる。例えば、核磁気共鳴分光法(NMR)、フーリエ変換赤外分光法(FT−IR)、液体クロマトグラフィー(LC)、ガスクロマトグラフィー(GC)、質量分析法(MS)、飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)、またはこれらを組み合わせた方法等が挙げられる。 The concentration of the heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent can be analyzed by a conventionally known method. For example, nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR), Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR), liquid chromatography (LC), gas chromatography (GC), mass spectrometry (MS), time-of-flight secondary ions Examples thereof include mass spectrometry (TOF-SIMS), a method combining these, and the like.
[ポリイミド前駆体及び/又はポリイミド]
本発明のポリイミド前駆体は、ポリアミック酸及び/又はポリアミック酸エステルを有するものである。また、ポリイミド前駆体の一部がポリイミド構造となっていてもよく、またポリアミック酸及び/又はポリアミック酸エステルとポリイミドが混合されていてもよい。
本発明のポリイミドはポリイミド構造を有するものであり、ポリアミック酸及び/又はポリアミック酸エステルを実質的に有さないものである。
[Polyimide precursor and / or polyimide]
The polyimide precursor of this invention has a polyamic acid and / or a polyamic acid ester. Moreover, a part of polyimide precursor may have a polyimide structure, and polyamic acid and / or polyamic acid ester and polyimide may be mixed.
The polyimide of the present invention has a polyimide structure and does not substantially contain a polyamic acid and / or a polyamic acid ester.
本発明のポリイミド前駆体及び/又はポリイミドはブロック共重合体であってもよい。例えば、ポリイミドブロックとポリイミド前駆体ブロックが結合したもの、ポリイミドブロックとポリイミドブロックが結合したもの、ポリイミド前駆体ブロックとポリイミド前駆体ブロックを結合したもの等が挙げられる。
また、本発明のポリイミド前駆体及び/又はポリイミドは、1種でもよく、複数種を含んでいてもよい。これらは、同じ反応条件で合成されたもの、同じイミド化率、溶媒に対する溶解性が同じもののみである必要はなく、異なる条件で調整され、物性が異なっていてもよい。本発明において、後記の分子量等は、組成物に含まれるポリイミド前駆体及び/又はポリイミドの平均値を表す。
The polyimide precursor and / or polyimide of the present invention may be a block copolymer. For example, a combination of a polyimide block and a polyimide precursor block, a combination of a polyimide block and a polyimide block, a combination of a polyimide precursor block and a polyimide precursor block, and the like can be given.
Further, the polyimide precursor and / or polyimide of the present invention may be one kind or may contain plural kinds. These are not necessarily synthesized under the same reaction conditions, the same imidization rate, and the same solubility in a solvent, and may be adjusted under different conditions and may have different physical properties. In the present invention, the molecular weight described below represents the average value of the polyimide precursor and / or polyimide contained in the composition.
本発明のポリイミド前駆体及び/又はポリイミドの構造は特に限定されず、例えば後述するポリイミド前駆体及び/又はポリイミドの原料であるテトラカルボン酸二無水物化合物に由来する単位(テトラカルボン酸残基)、並びにジアミン化合物、及びジイソシアネート化合物に由来する単位(ジアミン残基)を有する構造が挙げられる。 The structure of the polyimide precursor and / or polyimide of the present invention is not particularly limited. For example, a unit (tetracarboxylic acid residue) derived from a tetracarboxylic dianhydride compound that is a raw material of the polyimide precursor and / or polyimide described below. And a structure having a unit (diamine residue) derived from a diamine compound and a diisocyanate compound.
本発明のポリイミド前駆体及び/又はポリイミドは、溶媒に可溶であれば特に限定されないが、溶解性が高いものが、得られるポリイミドフィルムが無色透明となるため好ましい。本発明において、無色透明であるとは、フィルムの膜厚が1〜300μmにおいて、500nmの光線の透過率が70%以上であることを表す。前記透過率は、更に好ましくは80%以上、更に好ましくは85%以上である。ここで、透過率は、JIS K 7136−1による、500nmにおける全光線透過率を意味する。 The polyimide precursor and / or polyimide of the present invention are not particularly limited as long as they are soluble in a solvent, but those having high solubility are preferable because the resulting polyimide film becomes colorless and transparent. In the present invention, being colorless and transparent means that the transmittance of light of 500 nm is 70% or more when the film thickness is 1 to 300 μm. The transmittance is more preferably 80% or more, and still more preferably 85% or more. Here, the transmittance means the total light transmittance at 500 nm according to JIS K 7136-1.
本発明のポリイミド前駆体及び/又はポリイミドとしては、中でも、溶解性が優れているため、脂肪族骨格を有することが好ましく、更に脂環式構造を有することが好ましい。また、脂肪族骨格及び脂環式構造の位置は特に限定されないが、ポリイミド前駆体及び/又はポリイミドの原料であるテトラカルボン酸二無水物に由来する単位に有することが、ポリイミド前駆体及び/又はポリイミドを製造しやすく、組成物の粘度を制御しやすいため好ましい。 Among them, the polyimide precursor and / or polyimide of the present invention preferably has an aliphatic skeleton because of excellent solubility, and further preferably has an alicyclic structure. In addition, the position of the aliphatic skeleton and the alicyclic structure is not particularly limited, but the polyimide precursor and / or the unit derived from the tetracarboxylic dianhydride that is a raw material of the polyimide may have the polyimide precursor and / or It is preferable because it is easy to produce polyimide and it is easy to control the viscosity of the composition.
なお、本発明において、「溶媒に可溶」とは、本発明のポリイミド前駆体及び/又はポリイミド組成物に用いる溶媒中で、ポリイミド前駆体及び/又はポリイミドを室温(25℃)で溶解させた場合に完溶することをいう。完溶する濃度としては通常0.5質量%以上、好ましくは1質量%以上、より好ましくは10質量%以上である。 In the present invention, “soluble in a solvent” means that the polyimide precursor and / or polyimide is dissolved at room temperature (25 ° C.) in the solvent used for the polyimide precursor and / or polyimide composition of the present invention. In some cases, it dissolves completely. The concentration for complete dissolution is usually 0.5% by mass or more, preferably 1% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more.
ポリイミド前駆体及び/又はポリイミドの重量平均分子量(Mw)は特に制限されない。ポリスチレン換算の重量平均分子量で通常1000以上、好ましくは3000以上、より好ましくは5000以上である。また、通常200000以下であり、好ましくは180000以下であり、より好ましくは150000以下である。この範囲となることで、溶媒に対する溶解性、組成物粘度等が通常の製造設備で扱いやすい傾向となるため好ましい。なお、ポリスチレン換算の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)により求めることができる。 The weight average molecular weight (Mw) of the polyimide precursor and / or polyimide is not particularly limited. The weight average molecular weight in terms of polystyrene is usually 1000 or more, preferably 3000 or more, more preferably 5000 or more. Moreover, it is 200000 or less normally, Preferably it is 180000 or less, More preferably, it is 150,000 or less. By being in this range, the solubility in a solvent, the composition viscosity and the like tend to be easily handled with ordinary production equipment, which is preferable. The polystyrene-reduced weight average molecular weight can be determined by gel permeation chromatography (GPC).
ポリイミド前駆体及び/又はポリイミドの数平均分子量(Mn)は特に制限されない。ポリスチレン換算の数平均分子量で通常500以上、好ましくは1000以上、より好ましくは2500以上である。また通常100000以下、好ましくは90000以下、より好ましくは80000以下である。この範囲となることで、溶媒に対する溶解性、組成物粘度等が通常の製造設備で扱いやすい傾向となるため好ましい。ポリスチレン換算の数平均分子量は、前記重量平均分子量と同様の方法で求めることができる。 The number average molecular weight (Mn) of the polyimide precursor and / or polyimide is not particularly limited. The number average molecular weight in terms of polystyrene is usually 500 or more, preferably 1000 or more, more preferably 2500 or more. Further, it is usually 100,000 or less, preferably 90000 or less, more preferably 80000 or less. By being in this range, the solubility in a solvent, the composition viscosity and the like tend to be easily handled with ordinary production equipment, which is preferable. The number average molecular weight in terms of polystyrene can be determined by the same method as the weight average molecular weight.
ポリイミド前駆体及び/又はポリイミドの分子量分布(PDI:重量平均分子量/数平均分子量(Mw/Mn))は、通常1以上、好ましくは1.1以上、より好ましくは1.2以上である。また通常10以下、好ましくは9以下、より好ましくは8以下である。この範囲にあることで、膜中成分の均一性、および平滑性に優れた膜が得られる傾向にある。 The molecular weight distribution (PDI: weight average molecular weight / number average molecular weight (Mw / Mn)) of the polyimide precursor and / or polyimide is usually 1 or more, preferably 1.1 or more, more preferably 1.2 or more. Moreover, it is 10 or less normally, Preferably it is 9 or less, More preferably, it is 8 or less. By being in this range, a film excellent in uniformity and smoothness of components in the film tends to be obtained.
<テトラカルボン酸残基を誘導するテトラカルボン酸二無水物>
テトラカルボン酸二無水物としては、芳香環を有するテトラカルボン酸二無水物、脂肪族テトラカルボン酸二無水物、シリコーン系テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
<Tetracarboxylic dianhydride to induce tetracarboxylic acid residue>
Examples of the tetracarboxylic dianhydride include an aromatic ring-containing tetracarboxylic dianhydride, an aliphatic tetracarboxylic dianhydride, and a silicone-based tetracarboxylic dianhydride.
(芳香環を有するテトラカルボン酸二無水物)
芳香環を有するテトラカルボン酸二無水物としては、1分子内に含まれる芳香環が1つであるテトラカルボン酸二無水物、1分子内に独立した2つ以上の芳香環を有するテトラカルボン酸二無水物、1分子内に縮合芳香環を有するテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらの中でも、製造時の粘度が制御しやすいため、1分子内に含まれる芳香環が1つであるテトラカルボン酸二無水物又は1分子内に独立した2つ以上の芳香環を有するテトラカルボン酸二無水物が好ましく、特に、1分子内に独立した2つ以上の芳香環を有するテトラカルボン酸二無水物が好ましい。 1分子内に含まれる芳香環が1つであるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、1,2,3,4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
(Tetracarboxylic dianhydride having an aromatic ring)
As tetracarboxylic dianhydride having an aromatic ring, tetracarboxylic dianhydride having one aromatic ring contained in one molecule, tetracarboxylic acid having two or more independent aromatic rings in one molecule Examples of dianhydrides include tetracarboxylic dianhydrides having a condensed aromatic ring in one molecule. Among these, since the viscosity at the time of production is easy to control, tetracarboxylic dianhydride in which one aromatic ring is contained in one molecule or tetracarboxylic acid having two or more independent aromatic rings in one molecule Acid dianhydrides are preferable, and tetracarboxylic dianhydrides having two or more independent aromatic rings in one molecule are particularly preferable. Examples of the tetracarboxylic dianhydride having one aromatic ring in one molecule include pyromellitic dianhydride and 1,2,3,4-benzenetetracarboxylic dianhydride. .
1分子内に独立した2つ以上の芳香環を有するテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、4,4−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、2,2’,6,6’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’、5,5’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロトリメチレン)−ジフタル酸二無水物、4,4’−(オクタフルオロテトラメチレン)−ジフタル酸二無水物、4,4’−オキシジフタル酸無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’、5,5’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロトリメチレン)−ジフタル酸二無水物、4,4’−(オクタフルオロテトラメチレン)−ジフタル酸二無水物等が挙げられる。
中でも溶解性の点から、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物又は4,4’−オキシジフタル酸二無水物が好ましい。
Examples of tetracarboxylic dianhydrides having two or more independent aromatic rings in one molecule include 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3- Dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3 4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, bis (3,4 -Dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3 3'-Ben Phenonetetracarboxylic dianhydride, 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 4,4- (p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride, 4,4- (m-phenylenedioxy) diphthalic acid Anhydride, 2,2 ′, 6,6′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoro Propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4 ', 5,5'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-(hexafluorotrimethylene) -diphthalic dianhydride, 4,4 '-(octafluorotetramethylene) -diphthal Acid dianhydride, 4,4'-oxydi Talic anhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis (2,3-di Carboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3- Hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2′-bis (trifluoro Methyl) -4,4 ′, 5,5′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4 ′-(hexafluorotrimethylene) -diphthalic dianhydride, 4,4 ′-(octafluorotetramethylene) -Diphthalic dianhydride etc. are mentioned.
Among these, from the viewpoint of solubility, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, or 4,4′-oxydiphthalic acid A dianhydride is preferred.
1分子内に縮合芳香環を有するテトラカルボン酸二無水物としては、1,2,5,6−ナフタレンジカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンジカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボン酸二無水物、1,2,7,8−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。 Examples of tetracarboxylic dianhydrides having a condensed aromatic ring in one molecule include 1,2,5,6-naphthalenedicarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenedicarboxylic dianhydride, 2, 3,6,7-naphthalenedicarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,7 , 8-phenanthrenetetracarboxylic dianhydride and the like.
(脂肪族テトラカルボン酸二無水物)
脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、脂環式テトラカルボン酸二無水物、鎖状脂肪族テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらの中でも、脂環式テトラカルボン酸二無水物が好ましい。
(Aliphatic tetracarboxylic dianhydride)
Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include alicyclic tetracarboxylic dianhydrides and chain aliphatic tetracarboxylic dianhydrides. Among these, alicyclic tetracarboxylic dianhydrides are preferable.
脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル) −3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、トリシクロ[6.4.0.0(2,7)]ドデカン−1,8:2,7−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、4−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1,2-ジカルボン酸無水物、1,1’−ビシクロヘキサン−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
脂環式テトラカルボン酸二無水物の中でも、3,3’、4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物又は1,2,4,5−シクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物が、溶媒に対するポリイミド前駆体及び/又はポリイミドの溶解性が向上し、且つ、寸法安定性に優れた膜を得られる傾向にあるため好ましい。
Examples of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride include 3,3 ′, 4,4′-bicyclohexyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1 , 2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-tetramethyl-1,2,3,4 -Cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, tricyclo [6.4.0.0 (2 7)] dodecane-1,8: 2,7-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 4- (2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) -1, Examples include 2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride, 1,1′-bicyclohexane-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic dianhydride, and the like.
Among the alicyclic tetracarboxylic dianhydrides, 3,3 ′, 4,4′-bicyclohexyltetracarboxylic dianhydride or 1,2,4,5-cyclohexyltetracarboxylic dianhydride is This is preferable because the solubility of the polyimide precursor and / or polyimide is improved and a film having excellent dimensional stability tends to be obtained.
鎖状脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、エチレンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、meso−ブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。 Examples of the chain aliphatic tetracarboxylic dianhydride include ethylene tetracarboxylic dianhydride, butanetetracarboxylic dianhydride, meso-butane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, etc. Is mentioned.
(シリコ−ン系テトラカルボン酸二無水物)
シリコ−ン系テトラカルボン酸二無水物としては、以下一般式(1)で表されるものが挙げられる。
(Silicon tetracarboxylic dianhydride)
Examples of the silicon-based tetracarboxylic dianhydride include those represented by the following general formula (1).
一般式(1)中、Xは酸無水物構造を含む有機基であり、R1及びR2はそれぞれ独立に2価の有機基であり、R3及びR4は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい、アルキル基又はフェニル基であり、n1は3〜200の整数である。 In general formula (1), X is an organic group containing an acid anhydride structure, R 1 and R 2 are each independently a divalent organic group, and R 3 and R 4 are each independently a substituent. It may be an alkyl group or a phenyl group, and n 1 is an integer of 3 to 200.
<ジアミン残基を誘導するジアミン化合物>
ジアミン化合物としては、芳香族ジアミン化合物、脂肪族ジアミン化合物、シリコーン系ジアミン化合物等が挙げられる。これらの化合物は、1種を単独で用いても、2種以上を任意の比率及び組合せで用いてもよい。
<Diamine compound that induces a diamine residue>
Examples of the diamine compound include aromatic diamine compounds, aliphatic diamine compounds, silicone diamine compounds and the like. These compounds may be used individually by 1 type, or may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.
(芳香族ジアミン化合物)
芳香族ジアミン化合物としては、1分子内に芳香環が1つであるジアミン化合物、1分子内に独立した2つ以上の芳香環を有するジアミン化合物、1分子内に縮合芳香環を有するジアミン化合物等が挙げられる。これらの中でも、製造時の粘度制御が容易になる点で、1分子内の芳香環が1つであるジアミン化合物又は独立した2つ以上の芳香環を有するジアミン化合物が好ましく、独立した2つ以上の芳香環を有するジアミン化合物が特に好ましい。
(Aromatic diamine compound)
As an aromatic diamine compound, a diamine compound having one aromatic ring in one molecule, a diamine compound having two or more independent aromatic rings in one molecule, a diamine compound having a condensed aromatic ring in one molecule, etc. Is mentioned. Among these, a diamine compound having one aromatic ring in one molecule or a diamine compound having two or more independent aromatic rings is preferable in terms of facilitating viscosity control during production. Particularly preferred are diamine compounds having the following aromatic rings.
1分子内に芳香環が1つであるジアミン化合物としては、例えば、1,4−フェニレンジアミン、1,2−フェニレンジアミン、1,3−フェニレンジアミン等が挙げられる。 Examples of the diamine compound having one aromatic ring in one molecule include 1,4-phenylenediamine, 1,2-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, and the like.
1分子内に独立した2つ以上の芳香環を有するジアミン化合物としては、例えば、4,4’−(ビフェニル−2,5−ジイルビスオキシ)ビスアニリン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ネオペンタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシビフェニル、ビス(4−アミノ−3−カルボキシフェニル)メタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、N−(4−アミノフェノキシ)−4−アミノベンズアミン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、ビス(3−アミノフェニル)スルホン、ノルボルナンジアミン、4,4’−ジアミノ−2−(トリフルオロメチル)ジフェニルエーテル、5−トリフルオロメチル−1,3−ベンゼンジアミン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、2,2−ビス[4−{4−アミノ−2−(トリフルオロメチル)フェノキシ}フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2−トリフルオロメチル−p−フェニレンジアミン、2,2−ビス(3−アミノ−4−メチルフェニル)ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。 Examples of the diamine compound having two or more independent aromatic rings in one molecule include 4,4 ′-(biphenyl-2,5-diylbisoxy) bisaniline, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4 '-Diaminodiphenyl ether, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 2,2-bis ( 4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 1,3-bis (4-aminophenoxy) ) Neopentane, 4,4′-diamino-3,3′-dimethylbiphenyl, 4,4′-diamino-2,2′-dimethylbiphenyl Enyl, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxybiphenyl, bis (4-amino-3-carboxyphenyl) methane, 4,4′-diamino Diphenyl sulfone, 3,3′-diaminodiphenyl sulfone, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, N- (4-aminophenoxy) -4-aminobenzamine, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4, 4′-diaminobiphenyl, bis (3-aminophenyl) sulfone, norbornanediamine, 4,4′-diamino-2- (trifluoromethyl) diphenyl ether, 5-trifluoromethyl-1,3-benzenediamine, 2,2 -Bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 4,4'-dia No-2,2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 2,2-bis [4- {4-amino-2- (trifluoromethyl) phenoxy} phenyl] hexafluoropropane, 2-trifluoromethyl-p -Phenylenediamine, 2,2-bis (3-amino-4-methylphenyl) hexafluoropropane and the like.
これらの中でも、溶解性の点から、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン等が好ましい。 Among these, from the viewpoint of solubility, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, 3, 3'-diaminodiphenyl sulfone, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane and the like are preferable.
1分子内に縮合芳香環を有するジアミン化合物としては、4,4’−(9−フルオレニリデン)ジアニリン、2,7−ジアミノフルオレン、1,5−ジアミノナフタレン、3,7−ジアミノ−2,8−ジメチルジベンゾチオフェン5,5−ジオキシド等が挙げられる。 Examples of the diamine compound having a condensed aromatic ring in one molecule include 4,4 '-(9-fluorenylidene) dianiline, 2,7-diaminofluorene, 1,5-diaminonaphthalene, 3,7-diamino-2,8- Examples include dimethyldibenzothiophene 5,5-dioxide.
(脂肪族ジアミン化合物)
脂肪族ジアミン化合物としては、脂環式ジアミン化合物、鎖状脂肪族ジアミン化合物等が挙げられる。
脂環式ジアミン化合物としては、例えば、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、4,4’−メチレンビス(2−メチルシクロヘキシルアミン)等が挙げられる。
(Aliphatic diamine compound)
Examples of the aliphatic diamine compound include alicyclic diamine compounds and chain aliphatic diamine compounds.
Examples of the alicyclic diamine compound include 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine), 4,4′-methylenebis (2-methylcyclohexylamine) and the like.
鎖状脂肪族系ジアミン化合物としては、例えば、(1,2−エチレンジアミン、1,2−ジアミノプロパン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,6−ヘキサメチレンジアミン、1,5−ジアミノペンタン、1,10−ジアミノデカン、1,2−ジアミノ−2−メチルプロパン、2,3−ジアミノ−2,3−ブタンジアミン、2−メチル−1,5−ジアミノペンタン)等が挙げられる。
これらの中でも、溶解性の点から、脂環式ジアミン化合物が好ましく、特に、1,4−ジアミノシクロヘキサン又は1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンが好ましい。
Examples of chain aliphatic diamine compounds include (1,2-ethylenediamine, 1,2-diaminopropane, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,6-hexamethylenediamine, 1, 5-diaminopentane, 1,10-diaminodecane, 1,2-diamino-2-methylpropane, 2,3-diamino-2,3-butanediamine, 2-methyl-1,5-diaminopentane) and the like. It is done.
Among these, from the viewpoint of solubility, alicyclic diamine compounds are preferable, and 1,4-diaminocyclohexane or 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane is particularly preferable.
(シリコーン系ジアミン化合物)
シリコ−ン系ジアミン化合物としては、以下一般式(2)で表されるものが挙げられる。
(Silicone-based diamine compounds)
Examples of the silicone-based diamine compound include those represented by the following general formula (2).
一般式(2)中、R5及びR6はそれぞれ独立に2価の有機基であり、R7及びR8はそれぞれ独立に置換基を有していてもよい、アルキル基又はフェニル基であり、n2は3〜2
00の整数である。
In general formula (2), R 5 and R 6 are each independently a divalent organic group, and R 7 and R 8 are each independently an alkyl group or a phenyl group which may have a substituent. , N 2 is 3 to 2
It is an integer of 00.
<ジアミン残基を誘導するジイソシアネート化合物>
ジイソシアネート化合物としては、例えば、脂肪族骨格を有する、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン4,4‘−ジイソシアネート、 1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン等、芳香族骨格を有する、3,3‘−ジクロロー4,4’−ジイソシアネートビフェニル、3,3‘−ジメチルー4,4’−ジイソシアネートビフェニル、1,5−ジイソシアネートナフタレン、メチレンジフェニル4,4−ジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、トリレンー2,4−ジイソシアネート、トリレンー2,6−ジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート等が挙げられる。
<Diisocyanate compound that induces a diamine residue>
Examples of the diisocyanate compound include an aromatic skeleton having an aliphatic skeleton, such as hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane 4,4′-diisocyanate, and 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane. 3,3′-dichloro-4,4′-diisocyanate biphenyl, 3,3′-dimethyl-4,4′-diisocyanate biphenyl, 1,5-diisocyanate naphthalene, methylenediphenyl 4,4-diisocyanate, 1,3- Examples include phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, tolylene-2,4-diisocyanate, tolylene-2,6-diisocyanate, and m-xylylene diisocyanate.
<屈曲部位を有する、テトラカルボン酸残基及び/又はジアミン残基>
本発明の組成物中のポリイミド前駆体及び/又はポリイミドにおいて、屈曲部位を有するテトラカルボン酸残基及び/又はジアミン残基を有することが、ポリイミド前駆体及び/又はポリイミドの溶媒に対する溶解性が向上し、吸湿白化及び焼成白化を抑制する傾向にあるため好ましい。また、得られる膜の光学特性が向上する傾向にあるため好ましい。
本発明において、屈曲部位とは、変形が抑制された屈曲部位であり、屈曲部位を中心とした環の結合角度、屈曲部位に結合した環の面角度、回転、振動等のテトラカルボン酸残基及び/又はジアミン残基を含む分子の動きを抑制する物をいう。中でも、屈曲部位を中心とした環の結合角度及び回転の動きを抑制するものが好ましい。
<Tetracarboxylic acid residue and / or diamine residue having a bent portion>
In the polyimide precursor and / or polyimide in the composition of the present invention, having a tetracarboxylic acid residue and / or diamine residue having a bent portion improves the solubility of the polyimide precursor and / or polyimide in the solvent. And is preferred because it tends to suppress moisture absorption whitening and baking whitening. Moreover, it is preferable because the optical properties of the obtained film tend to be improved.
In the present invention, the bending portion is a bending portion in which deformation is suppressed, and a ring bond angle around the bending portion, a ring surface angle bonded to the bending portion, a tetracarboxylic acid residue such as rotation, vibration, etc. And / or the thing which suppresses the movement of the molecule | numerator containing a diamine residue. Among them, those that suppress the ring coupling angle and rotational movement around the bent portion are preferable.
すなわち、屈曲部位とは環状構造と環状構造に直接結合し、環状構造同士の結合角が180度未満となる3価以上の基であることが好ましく、好ましくは160度以下、より好ましくは130度以下である。特に下限はないが、通常90度以上である。
上記角度は、従来既知の計算方法で求めることができる。例えば、ヒュッケル法、拡張ヒュッケル法等の経験的分子軌道法、ハートリーフォック法、配置間相互作用法、多置換SCF法等の非経験的分子軌道法、PPP近似、CNDO/2、INDO、MNDO、AMI、PM3等の半経験的分子軌道法、MM2等の分子動力学法、BLYP、B3LYP等の密度汎関数法等が挙げられる。
That is, the bent portion is preferably a trivalent or higher group that is directly bonded to the ring structure and the ring structure, and the bond angle between the ring structures is less than 180 degrees, preferably 160 degrees or less, more preferably 130 degrees. It is as follows. There is no particular lower limit, but it is usually 90 degrees or more.
The angle can be obtained by a conventionally known calculation method. For example, empirical molecular orbital methods such as Hückel method and extended Huckel method, Hartley Fock method, configuration interaction method, ab initio molecular orbital methods such as multi-substitution SCF method, PPP approximation, CNDO / 2, INDO, MNDO And semi-empirical molecular orbital methods such as AMI and PM3, molecular dynamics methods such as MM2, and density functional methods such as BLYP and B3LYP.
本発明において、屈曲部位を有することで、ポリイミド前駆体及び/又はポリイミド鎖全体の熱振動が抑制され、線膨張係数が向上する傾向にある。更に、ポリイミド前駆体及び/又はポリイミド鎖間の相互作用が抑制されることで、溶媒に対する溶解性が向上する傾向にある。また、得られる膜の光学特性が向上する傾向にあり、同鎖の規則的な配向が乱されることで、リタデーションが向上する傾向にある。
また、ポリイミド前駆体及び/又はポリイミドの分子鎖の絡まり合いが増加し、同鎖内の芳香環量が増えることで、耐熱性が向上する傾向にある。
In the present invention, by having a bent portion, thermal vibration of the polyimide precursor and / or the entire polyimide chain is suppressed, and the linear expansion coefficient tends to be improved. Furthermore, since the interaction between the polyimide precursor and / or the polyimide chain is suppressed, the solubility in a solvent tends to be improved. In addition, the optical properties of the obtained film tend to be improved, and the retardation tends to be improved by disrupting the regular alignment of the same chain.
Further, the entanglement of molecular chains of the polyimide precursor and / or polyimide increases, and the amount of aromatic rings in the chain increases, whereby the heat resistance tends to be improved.
本発明の組成物中のポリイミド前駆体及び/又はポリイミドは、前述したように、屈曲部位を有する、テトラカルボン酸残基及び/又はジアミン残基を有しているのが好ましく、中でも溶媒に対する溶解性が向上する傾向にあり、更に光学特性が向上しやすい傾向にあるため、ジアミン残基が屈曲部位を有することが好ましい。また、テトラカルボン酸残基及びジアミン残基が屈曲部位を有することも、光学特性が向上しやすい傾向にあるため好ましい。 As described above, the polyimide precursor and / or polyimide in the composition of the present invention preferably has a tetracarboxylic acid residue and / or a diamine residue having a bent portion, and in particular, is soluble in a solvent. It is preferable that the diamine residue has a bent portion because the optical properties tend to be improved and the optical properties tend to be improved. In addition, it is also preferable that the tetracarboxylic acid residue and the diamine residue have a bent portion because the optical properties tend to be improved.
本発明において、テトラカルボン酸残基及び/又はジアミン残基中に屈曲部位を複数有していてもよいが、複数の屈曲部位が連結していないことが好ましい。屈曲部位が連結していないことで、重合性の維持及び向上ができる傾向にある。
本発明において、屈曲部位には環状構造が直接結合していることが好ましい。環状構造が直接結合することで、結合角度、屈曲部位に結合した環の面角度、回転、振動等の変形がより抑制される。屈曲部位に直接結合する環状構造は、屈曲部位と同じテトラカルボン酸残基/ジアミン残基由来でもよく、異なっていてもよい。屈曲部位と同じテトラカルボン酸残基/ジアミン残基由来の場合、環状構造はテトラカルボン酸モノマー/ジアミンモノマーが有する構造となる。屈曲部位と同じテトラカルボン酸残基/ジアミン残基由来ではない場合、環状構造は環状イミド構造である。
In the present invention, the tetracarboxylic acid residue and / or diamine residue may have a plurality of bending sites, but it is preferable that the plurality of bending sites are not connected. It exists in the tendency which can maintain and improve polymerizability because the bending part is not connected.
In the present invention, it is preferable that a cyclic structure is directly bonded to the bent portion. By directly bonding the annular structure, deformations such as a bonding angle, a surface angle of a ring bonded to a bent portion, rotation, vibration, and the like are further suppressed. The cyclic structure directly bonded to the bending site may be derived from the same tetracarboxylic acid residue / diamine residue as the bending site or may be different. When derived from the same tetracarboxylic acid residue / diamine residue as that of the bent part, the cyclic structure is a structure possessed by the tetracarboxylic acid monomer / diamine monomer. When not derived from the same tetracarboxylic acid residue / diamine residue as the bending site, the cyclic structure is a cyclic imide structure.
屈曲部位の導入量は特に制限はないが、組成物中のテトラカルボン酸残基及び/又はジアミン残基の和に対する割合で、通常0.1モル%以上、好ましくは0.5モル%以上、より好ましくは1モル%以上、更に好ましくは5モル%以上である。また通常150モル%以下、好ましくは100モル%以下、より好ましくは50モル%以下である。これらの範囲であることで、溶媒に対する溶解性が向上し、吸湿白化及び焼成白化を抑制する傾向にある。また、光学特性が良好となり、機械特性が向上する傾向にある。 The amount of the bent portion introduced is not particularly limited, but is usually 0.1 mol% or more, preferably 0.5 mol% or more, in a ratio to the sum of tetracarboxylic acid residues and / or diamine residues in the composition. More preferably, it is 1 mol% or more, More preferably, it is 5 mol% or more. Moreover, it is 150 mol% or less normally, Preferably it is 100 mol% or less, More preferably, it is 50 mol% or less. By being in these ranges, solubility in a solvent is improved, and moisture absorption whitening and fired whitening tend to be suppressed. In addition, the optical characteristics are good, and the mechanical characteristics tend to be improved.
屈曲部位としては、環と結合した、主鎖を構成する元素に3価以上の結合を有することが好ましい。3価以上の結合の中でも、4級炭素原子、6価の硫黄原子、3級アミン、ベンゼン環から選ばれる少なくとも1つが好ましい。特に、屈曲部位を有する、テトラカルボン残及び/又はジアミン残基が、4級炭素原子及び/又は6価の硫黄原子によって2つ以上の芳香環が結合されるものであることが、溶媒に対する溶解性が向上し、更に光学特性を向上させる傾向にあるため好ましい。
3価以上の結合を有するものは本発明の主旨を逸脱しない限り特に制限はないが、例えば一般式(3)で表される構造が挙げられる。
As a bending part, it is preferable that the element which comprises a principal chain couple | bonded with the ring has a trivalent or more bond. Among the trivalent or higher bonds, at least one selected from a quaternary carbon atom, a hexavalent sulfur atom, a tertiary amine, and a benzene ring is preferable. In particular, a tetracarboxylic residue and / or a diamine residue having a bending site is one in which two or more aromatic rings are bonded to each other by a quaternary carbon atom and / or a hexavalent sulfur atom. It is preferable because the optical properties tend to be improved and the optical properties are further improved.
Those having a bond of 3 or more are not particularly limited as long as they do not depart from the gist of the present invention.
上記一般式(3)中、Z1は4級炭素原子、6価の硫黄原子、3級アミン又はベンゼン
環を表す。Y1及びY2はそれぞれ独立して、環状構造を表す。
4級炭素としてはヘキサフルオロプロパン、プロパン、フルオレン等が、光学特性を向上させ、耐熱性を向上させる傾向にあるため好ましい。6価の硫黄としてはスルホニル基が光学特性を向上させる傾向にあるため好ましい。3級アミンとしてはトリメチルアミンが好ましい。
In the general formula (3), Z 1 represents a quaternary carbon atom, a hexavalent sulfur atom, a tertiary amine, or a benzene ring. Y 1 and Y 2 each independently represent a cyclic structure.
As the quaternary carbon, hexafluoropropane, propane, fluorene and the like are preferable because they tend to improve optical characteristics and heat resistance. As hexavalent sulfur, a sulfonyl group is preferable because it tends to improve optical properties. Trimethylamine is preferred as the tertiary amine.
Y1及びY2の環状構造とは、芳香族化合物、脂環式化合物又はイミド環を示す。
芳香族化合物とは、1つの環を形成する元素数が5以上、8以下であり、単環又は2つの環が縮合していてもよい。具体的には、ベンゼン環、縮合芳香環又は複素環である。
縮合芳香環の環数は特に限定されないが、2以上、5以下が耐熱性と光学特性が両立できる傾向にあるため好ましい。
複素環は、特に限定はないが、具体的には、フラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール等が挙げられる。
芳香族化合物が有していてもよい置換基は、炭素数1以上、6以下のアルキル基、炭素数1以上、6以下のアルコキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基等が挙げられる。
炭素数1以上、6以下のアルキル基は及び炭素数1以上、6以下のアルコキシ基は置換基を有していてもよい。
炭素数1以上、6以下のアルキル基が有していてもよい置換基は、ハロゲン原子、水酸基等が挙げられる。
炭素数1以上、6以下のアルコキシ基が有していてもよい置換基は、ハロゲン原子、水酸基等が挙げられる。
The cyclic structure of Y 1 and Y 2 represents an aromatic compound, an alicyclic compound, or an imide ring.
With the aromatic compound, the number of elements forming one ring is 5 or more and 8 or less, and a single ring or two rings may be condensed. Specifically, it is a benzene ring, a condensed aromatic ring or a heterocyclic ring.
The number of condensed aromatic rings is not particularly limited, but is preferably 2 or more and 5 or less because heat resistance and optical properties tend to be compatible.
The heterocyclic ring is not particularly limited, and specific examples include furan, thiophene, pyrrole, imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, oxazole, benzimidazole, benzoxazole and the like.
Examples of the substituent that the aromatic compound may have include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an amino group, and a hydroxyl group.
The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms may have a substituent.
Examples of the substituent that the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms may have include a halogen atom and a hydroxyl group.
Examples of the substituent that the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms may have include a halogen atom and a hydroxyl group.
脂環式化合物とは、1つの環を形成する炭素数が4以上、8以下であり、単環又は2つの環が縮合していてもよい。また、環中に不飽和結合を有していてもよい。
具体的には、シクロブタン、シクロブタジエン、シクロペンタン、シクロペンタエン、シクロヘキサン、シクロヘキサエン、シクロヘキサジエン、シクロヘプタン、シクロヘプタエン、シクロオクタン等が挙げられる。
脂環式化合物は、置換基を有していてもよく、有していてもよい置換基としては、炭素数1以上、6以下のアルキル基、炭素数1以上、6以下のアルコキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基等が挙げられる。炭素数1以上、6以下のアルキル基及び炭素数1以上、6以下のアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、有していてもよい置換基としては、上記芳香族化合物で挙げたものと同義である。
The alicyclic compound has 4 or more and 8 or less carbon atoms forming one ring, and a single ring or two rings may be condensed. Moreover, you may have an unsaturated bond in the ring.
Specific examples include cyclobutane, cyclobutadiene, cyclopentane, cyclopentaene, cyclohexane, cyclohexaene, cyclohexadiene, cycloheptane, cycloheptaene, cyclooctane, and the like.
The alicyclic compound may have a substituent, and examples of the substituent that may be included include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and an amino group. Group, hydroxyl group and the like. The alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms and the alkoxy group having 1 or more and 6 or less carbon atoms may have a substituent. Is synonymous with
イミド環とは、イミド結合を有する環であり、1つの環を形成する元素数が4以上、6以下である。イミド環のみでもよく、他の環と縮合していてもよい。縮合していてもよい環としては、芳香族化合物及び/又は脂環式化合物である。縮合する場合の環数は特に限定されないが、2以上、4以下が、耐熱性と光学特性が両立できる傾向にあるため好ましい。
芳香族化合物及び脂環式化合物は置換基を有していてもよく、具体的には、上記芳香族化合物で挙げたものと同義である。
An imide ring is a ring having an imide bond, and the number of elements forming one ring is 4 or more and 6 or less. Only an imide ring may be sufficient and it may be condensed with another ring. The ring which may be condensed is an aromatic compound and / or an alicyclic compound. The number of rings in the case of condensation is not particularly limited, but is preferably 2 or more and 4 or less because heat resistance and optical properties tend to be compatible.
The aromatic compound and the alicyclic compound may have a substituent, and specifically have the same meaning as those mentioned for the aromatic compound.
一般式(3)で表される構造の中でも、下記一般式(4)〜(8)で表される構造から選ばれる部位であることが光学特性向上の点から好ましい。 Among the structures represented by the general formula (3), a site selected from the structures represented by the following general formulas (4) to (8) is preferable from the viewpoint of improving optical properties.
一般式(4)中、R10及びR11はそれぞれ独立に、アルキル基、アミノ基又はヒドロキシル基を表し、Y1及びY2はそれぞれ独立して、環状構造を表す。
R10及びR11のアルキル基は、炭素数1以上が好ましい。一方、10以下が好ましく、8以下が更に好ましく、6以下が特に好ましい。この範囲であることで、線膨張係数が低くなる傾向にあるため好ましい。また、アルキル基は、置換基を有していてもよい。アルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、スルホ基等が挙げられる。これらの中でも無置換又はハロゲン原子を有することが好ましく、フッ素原子が特に好ましい。この範囲であることで、線膨張係数が低くなる傾向にある。
一般式(4)のY1及びY2は、一般式(3)のY1及びY2とそれぞれ同義であり、具体例、好ましい範囲及び有していてもよい置換基も同義である。
In General Formula (4), R 10 and R 11 each independently represent an alkyl group, an amino group, or a hydroxyl group, and Y 1 and Y 2 each independently represent a cyclic structure.
The alkyl group for R 10 and R 11 preferably has 1 or more carbon atoms. On the other hand, 10 or less is preferable, 8 or less is more preferable, and 6 or less is particularly preferable. This range is preferable because the linear expansion coefficient tends to be low. Moreover, the alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent that the alkyl group may have include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, and a sulfo group. Among these, unsubstituted or preferably having a halogen atom is preferable, and a fluorine atom is particularly preferable. Within this range, the linear expansion coefficient tends to be low.
Y 1 and Y 2 in the general formula (4) has the general formula (3) have the same meanings as Y 1 and Y 2, specific examples, preferred ranges, and the substituent which may have also the same.
一般式(5)中、R12〜R15はそれぞれ独立に、アルキル基又はヒドロキシル基を示し、Y1及びY2はそれぞれ独立して、環状構造を表す。
R12〜R15のアルキル基は、炭素数は1以上が好ましい。一方、炭素数は10以下が好ましく、8以下が更に好ましく、6以下が特に好ましい。この範囲であることで、線膨張係数が低くなる傾向にあるため好ましい。また、アルキル基は、置換基を有していてもよい。アルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、スルホ基等が挙げられる。これらの中でもハロゲン原子を有することが好ましく、フッ素原子が特に好ましい。この範囲であることで、線膨張係数が低くなる傾向にある。
一般式(5)のY1及びY2は、一般式(3)のY1及びY2とそれぞれ同義であり、具体例、好ましい範囲及び有していてもよい置換基も同義である。
In the general formula (5), R 12 to R 15 each independently represents an alkyl group or a hydroxyl group, and Y 1 and Y 2 each independently represent a cyclic structure.
The alkyl group of R 12 to R 15 preferably has 1 or more carbon atoms. On the other hand, the carbon number is preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and particularly preferably 6 or less. This range is preferable because the linear expansion coefficient tends to be low. Moreover, the alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent that the alkyl group may have include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, and a sulfo group. Among these, it is preferable to have a halogen atom, and a fluorine atom is particularly preferable. Within this range, the linear expansion coefficient tends to be low.
Y 1 and Y 2 in the general formula (5) has the general formula (3) have the same meanings as Y 1 and Y 2, specific examples, preferred ranges, and the substituent which may have also the same.
一般式(6)中、Y1及びY2はそれぞれ独立して、環状構造を表す。
一般式(6)のY1及びY2は、一般式(3)のY1及びY2とそれぞれ同義であり、具体例、好ましい範囲及び有していてもよい置換基も同義である。
In General Formula (6), Y 1 and Y 2 each independently represent a cyclic structure.
Y 1 and Y 2 in the general formula (6) has the general formula (3) have the same meanings as Y 1 and Y 2, specific examples, preferred ranges, and the substituent which may have also the same.
一般式(7)中、R16はアルキル基又は芳香族化合物を示し、Y1及びY2はそれぞれ独立して、環状構造を表す。
一般式(7)のY1及びY2は、一般式(3)のY1及びY2とそれぞれ同義であり、具体例、好ましい範囲及び有していてもよい置換基も同義である。
R16のアルキル基は、炭素数1以上が好ましい。一方、炭素数は10以下が好ましく、8以下が更に好ましく、6以下が特に好ましい。この範囲であることで、線膨張係数が低くなる傾向にあるため好ましい。また、アルキル基は、置換基を有していてもよい。アルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、スルホ基等が挙げられる。これらの中でもハロゲン原子を有することが好ましく、フッ素原子が特に好ましい。この範囲であることで、線膨張係数が低くなる傾向にある。
In General Formula (7), R 16 represents an alkyl group or an aromatic compound, and Y 1 and Y 2 each independently represent a cyclic structure.
Y 1 and Y 2 in the general formula (7) is general formula (3) have the same meanings as Y 1 and Y 2, specific examples, preferred ranges, and the substituent which may have also the same.
The alkyl group for R 16 preferably has 1 or more carbon atoms. On the other hand, the carbon number is preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and particularly preferably 6 or less. This range is preferable because the linear expansion coefficient tends to be low. Moreover, the alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent that the alkyl group may have include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, and a sulfo group. Among these, it is preferable to have a halogen atom, and a fluorine atom is particularly preferable. Within this range, the linear expansion coefficient tends to be low.
R16の芳香族化合物は、1つの環を形成する元素数が5以上、8以下であり、単環又は2つの環が縮合していてもよい。具体的には、ベンゼン環、縮合芳香環又は複素環である。これらの中でも、単環のベンゼン環、ベンゼン環が縮合した縮合芳香環が、線膨張係数が低くなる傾向にあるため好ましい。
縮合芳香環の環数は特に限定されないが、2以上、5以下であることが、耐熱性と光学特性が両立できる傾向にあるため好ましい。
In the aromatic compound of R 16, the number of elements forming one ring is 5 or more and 8 or less, and a single ring or two rings may be condensed. Specifically, it is a benzene ring, a condensed aromatic ring or a heterocyclic ring. Among these, a monocyclic benzene ring and a condensed aromatic ring obtained by condensing a benzene ring are preferable because the linear expansion coefficient tends to be low.
The number of condensed aromatic rings is not particularly limited, but is preferably 2 or more and 5 or less because heat resistance and optical characteristics tend to be compatible.
複素環は、特に限定はないが、具体的には、フラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール等が挙げられる。
芳香族化合物が有していてもよい置換基は、炭素数1以上、6以下のアルキル基、炭素数1以上、6以下のアルコキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基等が挙げられる。
炭素数1以上、6以下のアルキル基及び炭素数1以上、6以下のアルコキシ基は、置換基を有していてもよい。
炭素数1以上、6以下のアルキル基が有していてもよい置換基は、ハロゲン原子、水酸基等が挙げられる。
炭素数1以上、6以下のアルコキシ基が有していてもよい置換基は、ハロゲン原子、水酸基等が挙げられる。
The heterocyclic ring is not particularly limited, and specific examples include furan, thiophene, pyrrole, imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, oxazole, benzimidazole, benzoxazole and the like.
Examples of the substituent that the aromatic compound may have include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an amino group, and a hydroxyl group.
The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms may have a substituent.
Examples of the substituent that the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms may have include a halogen atom and a hydroxyl group.
Examples of the substituent that the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms may have include a halogen atom and a hydroxyl group.
一般式(8)中、R17は、アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基又はハロゲン原子を示す。 In the general formula (8), R 17 represents an alkyl group, a nitro group, an amino group, a hydroxyl group or a halogen atom.
前記アルキル基としては、特に限定されないが、炭素数1以上であることが好ましい。一方、炭素数は8以下が好ましく、5以下が更に好ましい。これらの範囲であることで、溶媒との相溶性が良くなる傾向にある。
アルキル基は置換基を有していてもよく、例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
The alkyl group is not particularly limited, but preferably has 1 or more carbon atoms. On the other hand, the carbon number is preferably 8 or less, and more preferably 5 or less. By being in these ranges, the compatibility with the solvent tends to be improved.
The alkyl group may have a substituent, and examples thereof include an amino group, a hydroxyl group, a nitro group, and a halogen atom.
一般式(8)で表される構造を有するジアミン残基としては、例えば、2,6−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノトルエン、3,4−ジアミノトルエン、2,3−ジアミノトルエン、4−フルオロ−1,2−フェニレンジアミン、4−フルオロ−1,3―フェニレンジアミン、4−ニトロ−1,2−フェニレンジアミン、4−ニトロ−1,3−フェニレンジアミン、2−ニトロ−1,2−フェニレンジアミン、3−トリフルオロメチル−1,5−フェニレンジアミン、4−トリフルオロメチル−1,5−フェニレンジアミン、4―トリフルオロメチル−1,2−フェニレンジアミン、3−ヒドロキシ−1,5−フェニレンジアミン、4−ヒドロキシ−1,5−フェニレンジアミン、4―ヒドロキシ−1,2−フェニレンジアミン等のジアミン化合物から誘導されたジアミン残基が挙げられる。 Examples of the diamine residue having the structure represented by the general formula (8) include 2,6-diaminotoluene, 2,5-diaminotoluene, 2,4-diaminotoluene, 3,4-diaminotoluene, 2, 3-diaminotoluene, 4-fluoro-1,2-phenylenediamine, 4-fluoro-1,3-phenylenediamine, 4-nitro-1,2-phenylenediamine, 4-nitro-1,3-phenylenediamine, 2 -Nitro-1,2-phenylenediamine, 3-trifluoromethyl-1,5-phenylenediamine, 4-trifluoromethyl-1,5-phenylenediamine, 4-trifluoromethyl-1,2-phenylenediamine, 3 -Hydroxy-1,5-phenylenediamine, 4-hydroxy-1,5-phenylenediamine, 4-hydroxy-1,2- Derived diamine residue from a diamine compound such Enirenjiamin like.
2つ以上の芳香環が4級炭素原子によって結合されたテトラカルボン酸残基としては、例えば、9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物、4,4’−イソプロピリデンジフタル酸無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物等のテトラカルボン酸二無水物から誘導されたテトラカルボン酸残基が挙げられる。 Examples of the tetracarboxylic acid residue in which two or more aromatic rings are bonded by a quaternary carbon atom include 9,9-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fluorene dianhydride, 4,4′-isopropyl acetate. Redene diphthalic anhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis (2,3 A tetracarboxylic acid residue derived from a tetracarboxylic dianhydride such as -dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride.
2つ以上の芳香環が6価の硫黄原子によって結合されたテトラカルボン酸残基としては、例えば、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−[p−スルホニルビス(フェニレンスルファニル)]ジフタル酸無水物、3,3’−[p−スルホニルビス(フェニレンスルファニル)]ジフタル酸無水物等のテトラカルボン酸二無水物から誘導されたテトラカルボン酸残基が挙げられる。 Examples of tetracarboxylic acid residues in which two or more aromatic rings are bonded by a hexavalent sulfur atom include 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,3, and the like. ', 4'-Diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 4,4 '-[p-sulfonylbis (phenylenesulfanyl)] diphthalic acid Examples include tetracarboxylic acid residues derived from tetracarboxylic dianhydrides such as anhydrides and 3,3 ′-[p-sulfonylbis (phenylenesulfanyl)] diphthalic anhydride.
2つ以上の芳香環が4級炭素原子によって結合されたジアミン残基としては、例えば、2、2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)プロパン、1,3−ビス[2−(4−アミノフェニル)−2−プロピル]ベンゼン、1,4−ビス[2−(4−アミノフェニ)−2−プロピル]ベンゼン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3―アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2−アミノフェニル)フルオレン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−{4−アミノ−2−(トリフルオロメチル)フェノキシ}フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジブロモフェニル}ヘキサフルオロプロパン等のジアミン化合物から誘導されたジアミン残基が挙げられる。 Examples of the diamine residue in which two or more aromatic rings are bonded by a quaternary carbon atom include 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane and 2,2-bis (3-aminophenyl) hexa. Fluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (3-aminophenyl) propane, 1,3-bis [2- (4-aminophenyl) -2-propyl] benzene, 1,4-bis [2- (4-aminopheni) -2-propyl] benzene, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (3-amino-4) -Hydroxyphenyl) propane, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (3-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (2-aminophenyl) Fluorene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [4- From diamine compounds such as {4-amino-2- (trifluoromethyl) phenoxy} phenyl] hexafluoropropane and 2,2-bis {4- (4-aminophenoxy) -3,5-dibromophenyl} hexafluoropropane Derived diamine residues are mentioned.
2つ以上の芳香環が6価の硫黄原子によって繋がれたジアミン残基としては、例えば、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ビス(4−アミノフェニレンスルファニル)ジフェニルスルホン、3,3’−ビス(4−アミノフェニレンスルファニル)ジフェニルスルホン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)スルホン、3,3’,4,4’−テトラアミノジフェニルスルホン等のジアミン化合物から誘導されたジアミン残基が挙げられる。 Examples of the diamine residue in which two or more aromatic rings are connected by a hexavalent sulfur atom include 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-diaminodiphenylsulfone, and 3,4′-diaminodiphenylsulfone. 4,4′-bis (4-aminophenylenesulfanyl) diphenylsulfone, 3,3′-bis (4-aminophenylenesulfanyl) diphenylsulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4 Derived from diamine compounds such as-(3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) sulfone, 3,3 ', 4,4'-tetraaminodiphenylsulfone A diamine residue is mentioned.
[ポリイミド前駆体の製造方法]
本発明のポリイミド前駆体は、テトラカルボン酸二無水物と、ジアミン化合物及び/又はジイソシアネート化合物を溶媒中で反応させて得られる。テトラカルボン酸二無水物を溶媒中で反応させる方法は特に限定されない。また、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物の添加順序や添加方法も特に限定されない。例えば、溶媒にテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物を順に投入し、適切な温度で撹拌することにより、ポリイミド前駆体を得ることができる。
[Production method of polyimide precursor]
The polyimide precursor of the present invention is obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a diamine compound and / or a diisocyanate compound in a solvent. The method for reacting tetracarboxylic dianhydride in a solvent is not particularly limited. Moreover, the addition order and addition method of a tetracarboxylic dianhydride and a diamine compound are not particularly limited. For example, a polyimide precursor can be obtained by sequentially adding a tetracarboxylic dianhydride and a diamine compound to a solvent and stirring at an appropriate temperature.
ジアミン化合物の量は、テトラカルボン酸二無水物1モルに対して、通常0.7モル以上、好ましくは0.8モル以上であり、通常1.3モル以下、好ましくは1.2モル以下である。ジアミン化合物をこの範囲とすることで、得られるポリイミド前駆体の収率が向上する傾向にある。 The amount of the diamine compound is usually 0.7 mol or more, preferably 0.8 mol or more, usually 1.3 mol or less, preferably 1.2 mol or less, relative to 1 mol of tetracarboxylic dianhydride. is there. By making a diamine compound into this range, it exists in the tendency for the yield of the polyimide precursor obtained to improve.
溶媒中のテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の濃度は、反応条件や得られるポリイミド前駆体の粘度に応じて適宜設定できる。
テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の合計質量は、とくに制限はないが、テトラカルボン酸二無水物、ジアミン化合物及び溶媒を含む溶液全量に対し、通常1質量%以上、好ましくは5質量%以上であり、通常70質量%以下、好ましくは50質量%以下である。テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の濃度が低すぎないことで、分子量の伸長が起こりやすい傾向にある。また、高すぎないことで、粘度が高くなりすぎず、溶液の撹拌が容易である傾向にある。
The concentration of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound in the solvent can be appropriately set according to the reaction conditions and the viscosity of the obtained polyimide precursor.
The total mass of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound is not particularly limited, but is usually 1% by mass or more, preferably 5% by mass or more, based on the total amount of the solution containing the tetracarboxylic dianhydride, the diamine compound and the solvent. It is usually 70% by mass or less, preferably 50% by mass or less. Since the concentrations of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound are not too low, the molecular weight tends to increase. In addition, by not being too high, the viscosity does not become too high and the solution tends to be easily stirred.
テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物を溶媒中で反応させる温度は、反応が進行する温度であれば、特に制限はないが、通常0℃以上、好ましくは20℃以上であり、通常120℃以下、好ましくは100℃以下である。
反応時間は通常1時間以上、好ましくは2時間以上であり、通常100時間以下、好ましくは42時間以下である。このような条件で行うことにより、低コストで収率よくポリイミド前駆体を得ることができる傾向にある。
反応時の圧力は、常圧、加圧及び減圧のいずれでもよい。雰囲気は空気下でも不活性雰囲気下でもよい。
The temperature at which the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound are reacted in the solvent is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is usually 0 ° C or higher, preferably 20 ° C or higher, and usually 120 ° C or lower. The temperature is preferably 100 ° C. or lower.
The reaction time is usually 1 hour or longer, preferably 2 hours or longer, usually 100 hours or shorter, preferably 42 hours or shorter. By carrying out under such conditions, the polyimide precursor tends to be obtained at a low cost and in a high yield.
The pressure during the reaction may be normal pressure, pressurization, or reduced pressure. The atmosphere may be air or an inert atmosphere.
テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物を反応させる際に用いる溶媒は特に限定されない。例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、アニソール等の炭化水素系溶媒;四塩化炭素、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、フルオロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、メトキシベンゼン等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコール系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド等のスルホン系溶媒;ピリジン、ピコリン、ルチジン、キノリン、イソキノリン等の複素環系溶媒;フェノール、クレゾール等のフェノール系溶媒;γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン系溶媒;等が挙げられる。これらの溶媒は、1種を単独で用いても、2種以上を任意の比率及び組合せで用いてもよい。 The solvent used when making tetracarboxylic dianhydride and a diamine compound react is not specifically limited. For example, hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane, heptane, benzene, toluene, xylene, mesitylene, anisole; halogenated carbon tetrachloride, methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene, fluorobenzene, etc. Hydrocarbon solvents; ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, methoxybenzene; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene Glycol solvents such as glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate; N, N Amide solvents such as dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone; sulfone solvents such as dimethyl sulfoxide; heterocyclic solvents such as pyridine, picoline, lutidine, quinoline, isoquinoline; phenol, cresol Phenol solvents such as γ-butyrolactone, γ-valerolactone, lactone solvents such as δ-valerolactone, and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more in any ratio and combination.
(ポリイミド前駆体の再沈再溶解)
得られたポリイミド前駆体はそのまま用いてもよく、また貧溶媒中に添加することで固体状に析出させた後に、他の溶媒に再溶解させてポリイミド前駆体組成物として得ることもきできる。
用いる貧溶媒は特に制限は無く、ポリイミド前駆体の種類によって適宜選択し得るが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、イソブチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒;等が挙げられる。中でも、アルコール系溶媒が効率良く析出物が得られ、沸点が低く乾燥が容易となる傾向にあるため好ましい。これらの溶媒は、1種を単独で用いても、2種以上を任意の比率及び組合せで用いてもよい。
(Reprecipitation and re-dissolution of polyimide precursor)
The obtained polyimide precursor may be used as it is, or may be added to a poor solvent to precipitate in a solid state, and then redissolved in another solvent to obtain a polyimide precursor composition.
The poor solvent to be used is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the type of the polyimide precursor, but ether solvents such as diethyl ether and diisopropyl ether; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, isobutyl ketone and methyl isobutyl ketone; methanol, And alcohol solvents such as ethanol and isopropyl alcohol. Among these, alcohol solvents are preferable because precipitates can be obtained efficiently, the boiling point is low, and drying tends to be easy. These solvents may be used alone or in combination of two or more in any ratio and combination.
[ポリイミドの製造方法]
本発明の組成物に含まれるポリイミドの製造方法は、特に制限はない。例えば、ポリイミド前駆体を製造しポリイミドを得る方法、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物及び/又はジイソシアネート化合物から直接ポリイミドを製造する方法等を用いることができる。
[Production method of polyimide]
There is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of the polyimide contained in the composition of this invention. For example, the method of manufacturing a polyimide precursor and obtaining a polyimide, the method of manufacturing a polyimide directly from a tetracarboxylic dianhydride, a diamine compound, and / or a diisocyanate compound, etc. can be used.
<ポリイミド前駆体から製造する方法>
前記の方法等で得られたポリイミド前駆体を溶媒存在下で、脱水環化(イミド化)することにより、ポリイミドを得ることができる。イミド化は従来知られている任意の方法を用いて行うことができるが、例えば熱的に環化させる加熱イミド化、化学的に環化させる化学イミド化等が挙げられる。これらのイミド化反応は単独で行っても、複数組み合わせて行ってもよい。
<Method of manufacturing from polyimide precursor>
A polyimide can be obtained by dehydrating and cyclizing (imidizing) the polyimide precursor obtained by the above method in the presence of a solvent. Although imidation can be performed using any conventionally known method, for example, thermal imidization for thermal cyclization, chemical imidization for chemical cyclization, and the like can be given. These imidation reactions may be performed alone or in combination.
(加熱イミド化)
ポリイミド前駆体をイミド化する際の溶媒は、前記のポリイミド前駆体を得る反応時に使用した溶媒と同様のものが挙げられる。ポリイミド前駆体製造時の溶媒と、ポリイミド製造時の溶媒は同じものを用いても、異なるものを用いてもよい。
この場合、イミド化によって生じた水は閉環反応を阻害するため、系外に排出してもよい。イミド化反応時のポリイミド前駆体の濃度は特に制限はないが、通常1質量%以上、好ましくは5質量%以上であり、通常70質量%以下、好ましくは40質量%以下である。この範囲で行うことによって、生産効率が高く、また製造しやすい溶液粘度で製造することができる傾向にある。
(Heat imidization)
Examples of the solvent for imidizing the polyimide precursor include the same solvents as those used in the reaction for obtaining the polyimide precursor. The solvent at the time of manufacturing the polyimide precursor and the solvent at the time of manufacturing the polyimide may be the same or different.
In this case, water generated by imidization may be discharged out of the system in order to inhibit the ring closure reaction. The concentration of the polyimide precursor during the imidation reaction is not particularly limited, but is usually 1% by mass or more, preferably 5% by mass or more, and usually 70% by mass or less, preferably 40% by mass or less. By carrying out in this range, the production efficiency tends to be high and the solution viscosity tends to be easy to produce.
イミド化反応温度は特に制限されないが、通常50℃以上、好ましくは80℃以上、更に好ましくは100℃以上であり、通常300℃以下、好ましくは280℃以下、より好ましくは250℃以下である。この範囲で行うことで、イミド化反応が効率よく進行し、イミド化反応以外の反応が抑制される傾向にあるため好ましい。
反応時の圧力は常圧、加圧、減圧のいずれでもよい。雰囲気は、空気下でも不活性雰囲気下でもよい。
The imidation reaction temperature is not particularly limited, but is usually 50 ° C. or higher, preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and usually 300 ° C. or lower, preferably 280 ° C. or lower, more preferably 250 ° C. or lower. Performing in this range is preferable because the imidization reaction proceeds efficiently and reactions other than the imidization reaction tend to be suppressed.
The pressure during the reaction may be normal pressure, pressurization, or reduced pressure. The atmosphere may be air or an inert atmosphere.
また、イミド化を促進するイミド化促進剤として、求核性、求電子性を高める働きをもつ化合物を加えることもできる。具体的には、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、トリエチレンジアミン、N−メチルピロリジン、N−エチルピロリジン、N−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、ピリジン、キノリン、イソキノリン等の三級アミン化合物;4−ヒドロキシフェニル酢酸、3−ヒドロキシ安息香酸、N−アセチルグリシン、N−ベンゾイルグリシン等のカルボン酸化合物;3,5−ジヒドロキシアセトフェノン、3,5−ジヒドロキシ安息香酸メチル、ピロガロール、メチルガレート、エチルガレート、ナフタレン−1,6−ジオール等の多価フェノール化合物、ピリジン、キノリン、イソキノリン、フェナントロリン、1,10−フェナントロリン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、1,2,4−トリアゾール等の複素環化合物;等が挙げられる。
等が挙げられる。
In addition, as an imidization accelerator for promoting imidization, a compound having a function of enhancing nucleophilicity and electrophilicity can be added. Specifically, for example, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, triethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, triethylenediamine, N-methylpyrrolidine, N-ethylpyrrolidine Tertiary amine compounds such as N-methylpiperidine, N-ethylpiperidine, pyridine, quinoline and isoquinoline; carboxylic acid compounds such as 4-hydroxyphenylacetic acid, 3-hydroxybenzoic acid, N-acetylglycine and N-benzoylglycine; Polyhydric phenol compounds such as 3,5-dihydroxyacetophenone, methyl 3,5-dihydroxybenzoate, pyrogallol, methyl gallate, ethyl gallate, naphthalene-1,6-diol, pyridine, quinoline, isoquino Emissions, phenanthroline, 1,10-phenanthroline, imidazole, benzimidazole, heterocyclic compounds such as 1,2,4-triazole; and the like.
Etc.
これらの中で、三級アミン化合物、カルボン酸化合物及び複素環化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つが好ましく、更に、トリエチルアミン、イミダゾール及びピリジンからなる群から選ばれる少なくとも1つが、イミド化率を制御しやすい傾向があるためより好ましい。これらの化合物は、1種を単独で用いても、2種以上を任意の比率及び組合せで用いてもよい。 Among these, at least one selected from the group consisting of tertiary amine compounds, carboxylic acid compounds and heterocyclic compounds is preferable, and at least one selected from the group consisting of triethylamine, imidazole and pyridine controls the imidization rate. It is more preferable because it tends to be easy to do. These compounds may be used individually by 1 type, or may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.
イミド化促進剤の使用量は、カルボキシル基又はエステル基に対して、通常0.01mol以上であり、0.1mol%以上が好ましく、1mol%以上が更に好ましい。また、50mol%以下であることが好ましく、10mol%以下であることがより好ましい。触媒の使用量が上記範囲にあることにより、イミド化反応が効率よく進行し、且つ、イミド化率を制御したポリイミドを得ることができる傾向にある。
また、イミド化促進剤を添加するタイミングは、所望のイミド化率にするために適宜調整することができ、加熱開始前でもよく、加熱中でもよい。また複数回に分けて添加してもよい。
The amount of the imidization accelerator used is usually 0.01 mol or more, preferably 0.1 mol% or more, and more preferably 1 mol% or more with respect to the carboxyl group or ester group. Moreover, it is preferable that it is 50 mol% or less, and it is more preferable that it is 10 mol% or less. When the usage-amount of a catalyst exists in the said range, it exists in the tendency for the imidation reaction to advance efficiently and to obtain the polyimide which controlled the imidation ratio.
Moreover, the timing which adds an imidation promoter can be adjusted suitably in order to make it a desired imidation rate, may be before a heating start, and may be during a heating. Moreover, you may add in multiple times.
(化学イミド化)
ポリイミド前駆体を溶媒存在下で、脱水縮合剤を用いて化学的にイミド化することにより、ポリイミドを得ることができる。
化学イミド化の際に使用する溶媒としては前記のポリイミド前駆体を得る反応時に使用した溶媒と同様のものが挙げられる。
(Chemical imidization)
A polyimide can be obtained by chemically imidizing a polyimide precursor using a dehydration condensing agent in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the chemical imidization include the same solvents as those used in the reaction for obtaining the polyimide precursor.
脱水縮合剤としては、例えば、N,N−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N−ジフェニルカルボジイミド等のN,N−2置換カルボジイミド;無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物;塩化チオニル、塩化トシル等の塩化物;アセチルクロライド、アセチルブロマイド、プロピオニルアイオダイド、アセチルフルオライド、プロピオニルクロライド、プロピオニルブロマイド、プロピオニルアイオダイド、プロピオニルフルオライド、イソブチリルクロライド、イソブチリルブロマイド、イソブチリルアイオダイド、イソブチリルフルオライド、n−ブチリルクロライド、n−ブチリルブロマイド、n−ブチリルアイオダイド、n−ブチリルフルオライド、モノ−,ジ−,トリ−クロロアセチルクロライド、モノ−,ジ−,トリ−ブロモアセチルクロライド、モノ−,ジ−,トリ−アイオドアセチルクロライド、モノ−,ジ−,トリ−フルオロアセチルクロライド、無水クロロ酢酸、フェニルホスフォニックジクロライド、チオニルクロライド、チオニルブロマイド、チオニルアイオダイド、チオニルフルオライド等のハロゲン化化合物;三塩化リン、亜リン酸トリフェニル、ジエチルリン酸シアニド等のリン化合物;等が挙げられる。 Examples of the dehydrating condensing agent include N, N-2-substituted carbodiimides such as N, N-dicyclohexylcarbodiimide and N, N-diphenylcarbodiimide; acid anhydrides such as acetic anhydride and trifluoroacetic anhydride; thionyl chloride and tosyl chloride and the like. Chlorides of: acetyl chloride, acetyl bromide, propionyl iodide, acetyl fluoride, propionyl chloride, propionyl bromide, propionyl iodide, propionyl fluoride, isobutyryl chloride, isobutyryl bromide, isobutyryl iodide, isobuty Ryl fluoride, n-butyryl chloride, n-butyryl bromide, n-butyryl iodide, n-butyryl fluoride, mono-, di-, tri-chloroacetyl chloride, mono-, di-, tri Bromoacetyl chloride, mono-, di-, tri-iodoacetyl chloride, mono-, di-, tri-fluoroacetyl chloride, chloroacetic anhydride, phenylphosphonic dichloride, thionyl chloride, thionyl bromide, thionyl iodide, thionyl fluoride Halide compounds such as rides; Phosphorus compounds such as phosphorus trichloride, triphenyl phosphite, and cyanide diethyl phosphate; and the like.
これらの中で、酸無水物及び/又はハロゲン化化合物が好ましく、特に、酸無水物が、イミド化反応が効率よく進行し、且つ、イミド化率を制御したポリイミドを得ることができる傾向にあるためより好ましい。これらの化合物は、1種を単独で用いても、2種以上を任意の比率及び組合せで用いてもよい。 Among these, acid anhydrides and / or halogenated compounds are preferred, and in particular, acid anhydrides tend to allow the imidization reaction to proceed efficiently and to obtain a polyimide with a controlled imidization rate. Therefore, it is more preferable. These compounds may be used individually by 1 type, or may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.
これらの脱水縮合剤の使用量は、ポリイミド前駆体1molに対して、通常0.1mol以上、好ましくは0.2mol以上であり、通常1.0mol以下、好ましくは0.9mol以下である。脱水縮合剤をこの範囲とすることで、イミド化率を制御することができる。 The amount of these dehydrating condensing agents used is usually 0.1 mol or more, preferably 0.2 mol or more, and usually 1.0 mol or less, preferably 0.9 mol or less, relative to 1 mol of the polyimide precursor. By setting the dehydration condensing agent within this range, the imidization rate can be controlled.
イミド化反応時のポリイミド前駆体の濃度に特に制限はないが、通常1質量%以上、好ましくは5質量%以上であり、通常70質量%以下、好ましくは40質量%以下である。この範囲とすることで、イミド化率を制御でき、生産効率が高く、また製造しやすい溶液粘度で製造することができる傾向にある。 Although there is no restriction | limiting in particular in the density | concentration of the polyimide precursor at the time of imidation reaction, Usually, 1 mass% or more, Preferably it is 5 mass% or more, and is 70 mass% or less normally, Preferably it is 40 mass% or less. By setting it within this range, the imidation rate can be controlled, production efficiency tends to be high, and the solution viscosity tends to be easy to manufacture.
イミド化反応温度は特に制限されないが、通常0℃以上、好ましくは10℃以上、更に好ましくは20℃以上である。また、通常150℃以下、好ましくは130℃以下、更に好ましくは100℃以下である。この範囲で行うことで、イミド化反応が効率よく進行し、且つ、イミド化率を制御したポリイミドを得ることができる傾向にあるため好ましい。更に、イミド化反応以外の副反応が抑制されるため好ましい。
反応時の圧力は常圧、加圧又は減圧のいずれでもよい。雰囲気は、空気下でも不活性雰囲気下でもよい。
The imidization reaction temperature is not particularly limited, but is usually 0 ° C. or higher, preferably 10 ° C. or higher, more preferably 20 ° C. or higher. Moreover, it is 150 degrees C or less normally, Preferably it is 130 degrees C or less, More preferably, it is 100 degrees C or less. It is preferable to carry out in this range since the imidization reaction proceeds efficiently and a polyimide having a controlled imidization rate tends to be obtained. Furthermore, it is preferable because side reactions other than the imidization reaction are suppressed.
The pressure during the reaction may be normal pressure, increased pressure, or reduced pressure. The atmosphere may be air or an inert atmosphere.
また、イミド化を促進する触媒として、前記の三級アミン類等を加熱イミド化と同様に加えることもできる。 Further, as a catalyst for promoting imidization, the above-mentioned tertiary amines and the like can be added in the same manner as in the heating imidization.
<テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物及び/又はジイソシアネート化合物からポリイミドを製造する方法>
テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物及び/又はジイソシアネート化合物から、従来既知の方法を用いて、直接ポリイミドを得ることができる。この方法はポイミド前駆体の合成からイミド化までを、反応の停止や前駆体の単離を経ることなく、行うものである。
<Method for producing polyimide from tetracarboxylic dianhydride and diamine compound and / or diisocyanate compound>
A polyimide can be obtained directly from a tetracarboxylic dianhydride and a diamine compound and / or a diisocyanate compound using a conventionally known method. In this method, the synthesis from the synthesis of the polyimide precursor to the imidization is performed without stopping the reaction or isolating the precursor.
テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物の添加順序や添加方法には特に限定はないが、例えば、溶媒にテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物を順に投入し、イミド化までの反応が進行する温度で撹拌することでポリイミドが得られる。 There are no particular limitations on the order and method of addition of tetracarboxylic dianhydride and diamine compound. For example, the temperature at which the reaction until imidization proceeds by sequentially adding tetracarboxylic dianhydride and diamine compound to the solvent. The polyimide is obtained by stirring at.
ジアミン化合物の量は、テトラカルボン酸二無水物1molに対して、通常0.7mol以上、好ましくは0.8mol以上であり、通常1.3mol以下、好ましくは1.2mol以下である。ジアミン化合物の量をこのような範囲とすることにより、イミド化率を制御したポリイミドを得ることができ、得られるポリイミドの収率が向上する傾向にある。 The amount of the diamine compound is usually 0.7 mol or more, preferably 0.8 mol or more, and usually 1.3 mol or less, preferably 1.2 mol or less, relative to 1 mol of tetracarboxylic dianhydride. By setting the amount of the diamine compound in such a range, it is possible to obtain a polyimide with a controlled imidization rate, and the yield of the resulting polyimide tends to be improved.
溶媒中のテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物の濃度は、各々の条件や重合中の粘度に対して適宜設定しうる。テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物の合計質量は、特段の設定ないが、全液量に対し、通常1質量%以上、好ましくは5質量%以上であり、通常70%質量%以下、好ましくは40質量%以下である。溶媒中の濃度が適当な範囲であることで、分子量の伸長が起こりやすくなり、また、撹拌も容易となる傾向にある。 The concentration of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound in the solvent can be appropriately set for each condition and the viscosity during polymerization. The total mass of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound is not particularly set, but is usually 1% by mass or more, preferably 5% by mass or more, and usually 70% by mass or less, preferably with respect to the total liquid amount. It is 40 mass% or less. When the concentration in the solvent is within an appropriate range, elongation of molecular weight tends to occur, and stirring tends to be facilitated.
この反応で用いる溶媒としては、前記のポリイミド前駆体を得る反応時に使用した溶媒と同様のものが挙げられる。
また、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物からポリイミドを得る場合も、ポリイミド前駆体からポリイミドを得る場合と同様に、加熱イミド化及び/又は化学イミド化を用いることができる。この場合の加熱イミド化や化学イミド化の反応条件等は、前記と同様である。
Examples of the solvent used in this reaction include the same solvents as those used in the reaction for obtaining the polyimide precursor.
Moreover, also when obtaining a polyimide from a tetracarboxylic dianhydride and a diamine compound, heating imidation and / or chemical imidation can be used similarly to the case where a polyimide is obtained from a polyimide precursor. The reaction conditions for heating imidization and chemical imidization in this case are the same as described above.
(ポリイミドの再沈再溶解)
得られたポリイミドは、そのまま用いてもよく、また貧溶媒中に添加することでポリイミドを固体状に析出させた後に、他の溶媒に再溶解させて用いることもできる。
(Reprecipitation and re-dissolution of polyimide)
The obtained polyimide may be used as it is, or may be added to a poor solvent so that the polyimide is precipitated in a solid state and then re-dissolved in another solvent.
この時用いる貧溶媒は特に制限はなく、ポリイミドの種類によって適宜選択しうるが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、イソブチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒;等が挙げられる。中でも、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒が効率よく析出物が得られ、沸点が低く乾燥が容易となる傾向にあるため好ましい。これらの溶媒は、1種を単独で用いても、2種以上を任意の比率及び組合せで用いてもよい。 The poor solvent used at this time is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the type of polyimide. For example, ether solvents such as diethyl ether and diisopropyl ether; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, isobutyl ketone and methyl isobutyl ketone; And alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and the like. Among them, alcohol solvents such as isopropyl alcohol are preferable because precipitates can be obtained efficiently and the boiling point is low and the drying tends to be easy. These solvents may be used alone or in combination of two or more in any ratio and combination.
また、ポリイミドを再溶解させる溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、アニソール等の炭化水素系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド等の非プロトン系溶媒;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコール系溶媒;等が挙げられる。この中でも特にアニソール、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、エチレングリコールジメチルエーテル、及びエチレングリコールモノメチルエーテルが好ましい。これらの溶媒は、1種を単独で用いても、2種以上を任意の比率及び組合せで用いてもよい。
[ポリイミド組成物]
<溶媒>
本発明のポリイミド組成物は、通常溶媒にポリイミド前駆体及び/またはポリイミドが溶解されている。本発明の組成物に用いられる溶媒としては、特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、アニソール等の炭化水素系溶媒;四塩化炭素、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、フルオロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、メトキシベンゼン等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコール系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド等の非プロトン系極性溶媒;ピリジン、ピコリン、ルチジン、キノリン、イソキノリン等の複素環系溶媒;フェノール、クレゾール等のフェノール系溶媒;γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン系溶媒、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、2−エチルー1−ヘキサノール、ヘプタノール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒等の有機系溶媒が挙げられる。これらの溶媒は、1種を単独で用いても、2種以上を任意の比率及び組合せで用いてもよい。
Examples of the solvent for re-dissolving polyimide include hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane, heptane, benzene, toluene, xylene, mesitylene, and anisole; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N Amide solvents such as methyl-2-pyrrolidone; aprotic solvents such as dimethyl sulfoxide; glycol solvents such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate; Etc. Among these, anisole, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, ethylene glycol dimethyl ether, and ethylene glycol monomethyl ether are particularly preferable. These solvents may be used alone or in combination of two or more in any ratio and combination.
[Polyimide composition]
<Solvent>
In the polyimide composition of the present invention, a polyimide precursor and / or polyimide is usually dissolved in a solvent. The solvent used in the composition of the present invention is not particularly limited. For example, hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane, heptane, benzene, toluene, xylene, mesitylene, anisole; carbon tetrachloride, methylene chloride, chloroform Halogenated hydrocarbon solvents such as 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene and fluorobenzene; ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and methoxybenzene; acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methyl isobutyl Ketone solvents such as ketones; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol Glycol solvents such as rumonomethyl ether acetate; Amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; Aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide; Pyridine and picoline Heterocyclic solvents such as lutidine, quinoline and isoquinoline; phenol solvents such as phenol and cresol; lactone solvents such as γ-butyrolactone, γ-valerolactone and δ-valerolactone, isopropyl alcohol, butanol, hexanol, 2- Examples include organic solvents such as alcohol solvents such as ethyl-1-hexanol, heptanol, and benzyl alcohol. These solvents may be used alone or in combination of two or more in any ratio and combination.
<ポリイミド組成物のその他の成分>
本発明のポリイミド組成物には、本発明の主旨を逸脱しない限りその他の成分を含むことができる。その他の成分としては、例えば、界面活性剤、酸化防止剤、潤滑油、着色剤、安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、可塑剤、離形剤、レベリング剤、消泡剤等が挙げられる。また、その他必要に応じて、発明の目的を損なわない範囲で、粉末状、粒状、板状又は繊維状等の、無機系充填剤又は有機系充填剤を配合してもよい。これらのその他の成分は、ポリイミド前駆体及び/又はポリイミド組成物を製造するどの工程のどの段階で添加してもよい。
<Other components of polyimide composition>
The polyimide composition of the present invention can contain other components without departing from the gist of the present invention. Other components include, for example, surfactants, antioxidants, lubricants, colorants, stabilizers, UV absorbers, antistatic agents, flame retardants, plasticizers, mold release agents, leveling agents, antifoaming agents, etc. Is mentioned. Moreover, you may mix | blend inorganic type fillers or organic type fillers, such as a powder form, a granular form, plate shape, or fiber form, as long as the objective of invention is not impaired as needed. These other components may be added at any stage of any process for producing the polyimide precursor and / or polyimide composition.
その他の成分の中で、レベリング剤を含むことがポリイミド膜の平滑性が向上する傾向となるため好ましい。レベリング剤としては、例えばシリコーン系化合物等が挙げられる。シリコーン系化合物は特に限定はないが、例えば、ポリエーテル変性シロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリメチルアルキルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリメチルアルキルシロキサン、アラルキル変性ポリメチルアルキルシロキサン、高重合シリコーン、アミノ変性シリコーン、アミノ誘導体シリコーン、フェニル変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が挙げられる。 Among other components, it is preferable to include a leveling agent because the smoothness of the polyimide film tends to be improved. Examples of the leveling agent include silicone compounds. The silicone compound is not particularly limited. For example, polyether-modified siloxane, polyether-modified polydimethylsiloxane, polyether-modified hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane, polyether-modified polymethylalkylsiloxane, polyester-modified polydimethylsiloxane, polyester-modified hydroxyl group Examples thereof include polydimethylsiloxane, polyester-modified polymethylalkylsiloxane, aralkyl-modified polymethylalkylsiloxane, highly polymerized silicone, amino-modified silicone, amino-derivative silicone, phenyl-modified silicone, and polyether-modified silicone.
<ポリイミド組成物の製造方法>
本発明の組成物の製造方法は特に制限はない。例えば、混合したポリイミド前駆体及び/又はポリイミドと水素結合性置換基を有する複素環化合物を溶媒に溶解する方法、溶媒中で製造したポリイミド前駆体及び/又はポリイミドに水素結合性置換基を有する複素環化合物を添加する方法、溶媒に溶解したポリイミド前駆体及び/又はポリイミドに水素結合性置換基を有する複素環化合物を添加する方法等が挙げられる。
<Method for producing polyimide composition>
There is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of the composition of this invention. For example, a mixed polyimide precursor and / or a method of dissolving a polyimide and a heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent in a solvent, a polyimide precursor and / or a polyimide prepared in a solvent having a hydrogen bonding substituent. Examples thereof include a method of adding a ring compound, a polyimide precursor dissolved in a solvent, and / or a method of adding a heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent to polyimide.
本発明の組成物のポリイミド前駆体及び/又はポリイミドの濃度は特に制限はないが、通常3質量%以上、好ましくは5質量%以上、より好ましくは7質量%以上である。また、通常60質量%以下、好ましくは50質量%以下、より好ましくは45質量%以下である。濃度がこの範囲であることで、組成物の製造が容易となり、また膜の厚さ、表面等が均一になりやすい傾向にある。 The concentration of the polyimide precursor and / or polyimide in the composition of the present invention is not particularly limited, but is usually 3% by mass or more, preferably 5% by mass or more, more preferably 7% by mass or more. Moreover, it is 60 mass% or less normally, Preferably it is 50 mass% or less, More preferably, it is 45 mass% or less. When the concentration is within this range, the composition can be easily produced, and the thickness and surface of the film tend to be uniform.
組成物中のポリイミド前駆体及び/又はポリイミドの濃度は従来知られている方法を用いて適宜確認することができる。例えば、組成物の溶媒や、その他成分を減圧乾燥等の方法を用いて留去し、留去する前後の質量比から求めることができる。 The concentration of the polyimide precursor and / or polyimide in the composition can be appropriately confirmed using a conventionally known method. For example, the solvent of the composition and other components can be distilled off using a method such as drying under reduced pressure, and the mass ratio before and after the distillation can be obtained.
本発明の組成物の粘度は特に制限はないが、25℃における濃度20%の粘度で、通常100cP以上、好ましくは200cP以上、より好ましくは500cP以上である。また通常200000cP以下、好ましくは100000cP以下、更に好ましくは80000cP以下である。組成物の粘度がこの範囲であることで、製造時の取り扱いが容易になり、また塗工時の取り扱いが容易となる。
組成物の粘度は従来知られている方法で測定することができる。例えば、振動式粘度計、E型粘度計等を用いて測定することができる。
Although there is no restriction | limiting in particular in the viscosity of the composition of this invention, it is a viscosity of the density | concentration 20% in 25 degreeC, and is 100 cP or more normally, Preferably it is 200 cP or more, More preferably, it is 500 cP or more. Further, it is usually 200000 cP or less, preferably 100000 cP or less, more preferably 80000 cP or less. When the viscosity of the composition is within this range, handling during production becomes easy, and handling during coating becomes easy.
The viscosity of the composition can be measured by a conventionally known method. For example, it can be measured using a vibration viscometer, an E-type viscometer or the like.
[ポリイミド積層体]
本発明の積層体は、本発明のポリイミド組成物より得られる樹脂層を有するものである。樹脂層の形成方法は時に制限はないが、基材等に該ポリイミド組成物を塗布する方法等が挙げられる。
塗布する方法としては、ダイコーティング、スピンコーティング、スクリーン印刷、スプレー、キャスト法、コーターを用いる方法、吹付による塗布方法、浸漬法、カレンダー法、流涎法等が挙げられる。これらの方法は塗布面積及び被塗布面の形状等に応じて適宜選択することができる。
[Polyimide laminate]
The laminate of the present invention has a resin layer obtained from the polyimide composition of the present invention. Although the formation method of the resin layer is not limited at times, a method of applying the polyimide composition to a substrate or the like can be mentioned.
Examples of the application method include die coating, spin coating, screen printing, spraying, a casting method, a method using a coater, a coating method by spraying, a dipping method, a calendar method, and a fluency method. These methods can be appropriately selected according to the application area, the shape of the surface to be applied, and the like.
塗布等で形成した樹脂層に含まれる溶媒を揮発させる方法も特に制限はない。通常は、組成物が塗布された基材等を加熱することにより、溶媒が揮発させられる。加熱方法は特に制限されず、例えば、熱風加熱、真空加熱、赤外線加熱、マイクロ波加熱、熱板・ホットロール等を用いた接触による加熱等が挙げられる。
また、塗布等で形成した樹脂層を焼成させるために、加熱を行ってもよい。
The method for volatilizing the solvent contained in the resin layer formed by coating or the like is not particularly limited. Usually, a solvent is volatilized by heating the base material etc. with which the composition was apply | coated. The heating method is not particularly limited, and examples thereof include hot air heating, vacuum heating, infrared heating, microwave heating, heating by contact using a hot plate / hot roll, and the like.
Further, heating may be performed in order to fire the resin layer formed by coating or the like.
上記の場合の加熱温度(乾燥及び/又は焼成温度)は、溶媒の種類等に応じて好適な温度を用いることができる。加熱温度は、通常40℃以上、好ましくは60℃以上、さらに好ましくは加熱後の樹脂層中に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度以上である。
一方、加熱温度は、通常400℃以下、好ましくは350℃以下である。加熱温度が40℃以上である場合、溶媒が十分揮発される点で好ましい。また、加熱温度が400℃以下である場合、有機溶媒の揮発が急激におこらないため、得られる樹脂層中に気泡等が発生することが防止されうる。このことは、得られる樹脂層の外観や品質を低下させる可能性を低減できるため好ましい。 また、加熱の雰囲気は、空気下でも不活性雰囲気下でもよく特に制限はないが、樹脂層、後述するポリイミドフィルムに無色透明が要求されるときは、着色抑制のため窒素等の不活性雰囲気下で加熱することが好ましい。
本発明の加熱後の樹脂層中に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度(Tg)は、特に制限はないが、好ましくは150℃以上、より好ましくは180℃以上、更に好ましくは200℃以上である。ガラス転移温度が高いことにより、様々な用途の加工工程に適用しうる傾向にある。
As the heating temperature (drying and / or firing temperature) in the above case, a suitable temperature can be used according to the type of the solvent and the like. The heating temperature is usually 40 ° C. or higher, preferably 60 ° C. or higher, and more preferably the glass transition temperature or higher of the polyimide resin contained in the heated resin layer.
On the other hand, the heating temperature is usually 400 ° C. or lower, preferably 350 ° C. or lower. When heating temperature is 40 degreeC or more, it is preferable at the point from which a solvent is fully volatilized. In addition, when the heating temperature is 400 ° C. or lower, since the organic solvent does not volatilize rapidly, it is possible to prevent bubbles and the like from being generated in the obtained resin layer. This is preferable because the possibility of reducing the appearance and quality of the resulting resin layer can be reduced. The heating atmosphere may be air or an inert atmosphere, and is not particularly limited. However, when colorless and transparent is required for the resin layer and the polyimide film described later, the atmosphere is inert under nitrogen or the like for color control. It is preferable to heat with.
The glass transition temperature (Tg) of the polyimide resin contained in the heated resin layer of the present invention is not particularly limited, but is preferably 150 ° C. or higher, more preferably 180 ° C. or higher, and further preferably 200 ° C. or higher. . Due to the high glass transition temperature, it tends to be applicable to processing steps for various uses.
本発明の積層体に用いられる基材は、硬質で耐熱性を有することが好ましい。すなわち、製造工程上必要とされる温度条件で、変形しない素材を用いることが好ましい。具体的には、通常200℃以上、好ましくは250℃以上のガラス転移温度を持つ素材で、基材が構成されていることが好ましい。具体的には例えば、ガラス、セラミック、金属、シリコンウェハ等が挙げられる。 The substrate used in the laminate of the present invention is preferably hard and heat resistant. That is, it is preferable to use a material that does not deform under the temperature conditions required in the manufacturing process. Specifically, it is preferable that the base material is made of a material having a glass transition temperature of usually 200 ° C. or higher, preferably 250 ° C. or higher. Specific examples include glass, ceramic, metal, and silicon wafer.
基材としてガラスを用いる場合、用いられるガラス基材としては、特に限定されるものではないが、例えば青板ガラス(アルカリガラス)、高ケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、鉛ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス(ホウケイ酸ガラス、コーニング社製イーグルXG等)、アルミノケイ酸塩ガラス等が挙げられる。 When glass is used as the substrate, the glass substrate used is not particularly limited. For example, blue plate glass (alkali glass), high silicate glass, soda lime glass, lead glass, aluminoborosilicate glass, Examples include alkali-free glass (borosilicate glass, Corning Eagle XG, etc.), aluminosilicate glass, and the like.
<ポリイミドフィルム>
本発明のポリイミドフィルムは、例えば、支持体に、上述したように本発明のポリイミド組成物を塗布後、加熱し、該支持体から樹脂層を剥離することにより得られる。
支持体から樹脂層を剥離する方法は特に制限はないが、フィルムの性能を損なうことなく剥離できるという点で、物理的に剥離する方法、レーザーによって剥離する方法が好ましい。
<Polyimide film>
The polyimide film of the present invention can be obtained, for example, by applying the polyimide composition of the present invention to a support as described above and then heating and peeling the resin layer from the support.
The method of peeling the resin layer from the support is not particularly limited, but a method of physically peeling and a method of peeling with a laser are preferable in that the film can be peeled without impairing the performance of the film.
物理的に剥離する方法とは、例えば、樹脂層/支持体を含む積層体の周縁を切離してポリイミドフィルムを得る方法、周縁部を吸引してポリイミドフィルムを得る方法、周縁を固定し支持体を移動させてポリイミドフィルムを得る方法等が挙げられる。
このような物理的に剥離する方法を用いるためには、JIS K 6854−2に準じた剥離試験において、支持体と樹脂層(フィルム)の剥離強度は、0N/mより大きいことが必要である。0N/mであると、積層体上に他の層等を形成する工程において、支持体上からポリイミドフィルムがずれたり、剥離したりする場合がある。
実際の製造プロセスにおいては、積層体にレーザーやカッター等で切り込みを入れ、その後フィルムを剥離する場合がある。その場合、切り込みを入れるまではフィルムは剥離しない事が好ましく、また切り込み後の剥離強度はより小さい値であることが好ましい。
よって、支持体とポリイミドフィルムの剥離強度は、0N/mより大きく、好ましくは0.5N/m以上、更に好ましくは1N/m以上であり、一方、通常1.0×103N/m以下、更には7.0×102N/m以下が好ましい。剥離強度が上記範囲であることにより、各種工程中に支持体からフィルムが剥離したり、ずれたりしない傾向にある。また、フィルム損傷させずに、積層体から支持体を容易に剥離できる傾向にある。
The method of physically peeling is, for example, a method of obtaining a polyimide film by separating the periphery of the laminate including the resin layer / support, a method of obtaining a polyimide film by sucking the periphery, and fixing the support by fixing the periphery. Examples thereof include a method of obtaining a polyimide film by moving it.
In order to use such a physically peeling method, the peeling strength between the support and the resin layer (film) needs to be greater than 0 N / m in the peeling test according to JIS K 6854-2. . If it is 0 N / m, the polyimide film may be displaced or peeled off from the support in the step of forming another layer or the like on the laminate.
In an actual manufacturing process, the laminate may be cut with a laser or a cutter, and then the film may be peeled off. In that case, it is preferable that the film is not peeled until the cut is made, and the peel strength after the cut is preferably a smaller value.
Therefore, the peel strength between the support and the polyimide film is greater than 0 N / m, preferably 0.5 N / m or more, more preferably 1 N / m or more, and usually 1.0 × 10 3 N / m or less. Furthermore, 7.0 × 10 2 N / m or less is preferable. When the peel strength is in the above range, the film tends not to peel or shift from the support during various steps. Moreover, it exists in the tendency which can peel a support body easily from a laminated body, without damaging a film.
なお、剥離性を簡便に評価する方法としては、JIS K 5400、または5600に準ずるクロスカット試験で評価する方法が挙げられる。
本発明のポリイミドフィルムの厚さは、通常1μm以上、好ましくは2μm以上であり、300μm以下、好ましくは200μm以下である。厚さが1μm以上であることにより、ポリイミドフィルムの強度が十分となるので自律フィルムとして得ることができるため、ハンドリング性が向上する傾向にある。また、厚さを300μm以下にすることによりフィルムの均一性が担保しやすい傾向にある。
In addition, as a method of evaluating peelability simply, the method of evaluating by the crosscut test according to JISK5400 or 5600 is mentioned.
The thickness of the polyimide film of the present invention is usually 1 μm or more, preferably 2 μm or more, and 300 μm or less, preferably 200 μm or less. When the thickness is 1 μm or more, the polyimide film has sufficient strength and can be obtained as an autonomous film. Therefore, the handling property tends to be improved. Moreover, it exists in the tendency which is easy to ensure the uniformity of a film by making thickness into 300 micrometers or less.
本発明のポリイミドフィルムの線膨張係数は、100〜200℃の範囲において100ppm/K以下であることが好ましく、70ppm/K以下がより好ましく、基材の線膨張係数に近いものであることがより好ましい。この範囲にあることで、基材とポリイミドの積層体の変形が抑制される傾向にある。 The linear expansion coefficient of the polyimide film of the present invention is preferably 100 ppm / K or less, more preferably 70 ppm / K or less in the range of 100 to 200 ° C., and more preferably close to the linear expansion coefficient of the substrate. preferable. By being in this range, the deformation of the laminate of the base material and the polyimide tends to be suppressed.
ポリイミドフィルムの透過率は特に制限はなく、着色していてもよいが、デバイス用途等無色透明が要求される場合には、膜厚1〜100μmのフィルムにおいて、500nmの光線の透過率が通常70%以上、好ましくは80%以上、特に好ましくは85%以上である。透過率はJIS K 7136−1による、500nmにおける全光線透過率を用いる。 The transmittance of the polyimide film is not particularly limited and may be colored. However, when colorless and transparent such as device use is required, the transmittance of 500 nm light is usually 70 in a film having a thickness of 1 to 100 μm. % Or more, preferably 80% or more, particularly preferably 85% or more. The transmittance is the total light transmittance at 500 nm according to JIS K 7136-1.
ポリイミドフィルムに、特に無色性が要求される場合、フィルム膜厚50±5μmとした際の黄色度(イエローインデックス(Y.I.))は、通常下限は―10以上、好ましくは−5以上、より好ましくは−1以上である。一方、通常上限は20以下、好ましくは15以下、より好ましくは10以下、更に好ましくは5以下である。 When the polyimide film is particularly required to be colorless, the yellowness (yellow index (YI)) when the film thickness is 50 ± 5 μm is usually −10 or more, preferably −5 or more, More preferably, it is −1 or more. On the other hand, the upper limit is usually 20 or less, preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and still more preferably 5 or less.
本発明のポリイミドフィルムのガラス転移温度(Tg)は、特に制限はないが、好ましくは150℃以上、より好ましくは180℃以上、更に好ましくは200℃以上である。ガラス転移温度が高いことにより、様々な用途の加工工程に適用しうる傾向にある。 The glass transition temperature (Tg) of the polyimide film of the present invention is not particularly limited, but is preferably 150 ° C. or higher, more preferably 180 ° C. or higher, and further preferably 200 ° C. or higher. Due to the high glass transition temperature, it tends to be applicable to processing steps for various uses.
ポリイミドフィルムは、求められる性能は用途に依存するが、以下のような機械的強度を有することが好ましい。
本発明のポリイミドフィルムの引張強度は、特段の制限はないが、通常50MPa以上、好ましくは70MPa以上であり、一方、通常400MPa以下、好ましくは300MPa以下である。引張り弾性率は、特段の制限はないが、通常1000MPa以上、好ましくは1500MPaであり、一方、通常20GPa以下、好ましくは10GPa以下である。
また、引張伸度は、特段の制限はないが、通常5%GL以上、好ましくは10%GLであり、一方、通常300%GL以下、好ましくは200%GL以下である。
ポリイミドフィルムがこのような機械的強度を有することにより、各種加工に耐えうるフィルムとなる傾向がある。
The required performance of the polyimide film depends on the application, but preferably has the following mechanical strength.
The tensile strength of the polyimide film of the present invention is not particularly limited, but is usually 50 MPa or more, preferably 70 MPa or more, and is usually 400 MPa or less, preferably 300 MPa or less. The tensile modulus of elasticity is not particularly limited, but is usually 1000 MPa or more, preferably 1500 MPa, and is usually 20 GPa or less, preferably 10 GPa or less.
Further, the tensile elongation is not particularly limited, but is usually 5% GL or more, preferably 10% GL, and is usually 300% GL or less, preferably 200% GL or less.
When the polyimide film has such mechanical strength, it tends to be a film that can withstand various types of processing.
以下実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。なお、以下の実施例は本発明を詳細に説明するために示すものであり、本発明はその主旨に反しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. In addition, the following examples are shown in order to describe the present invention in detail, and the present invention is not limited to the following examples unless it is contrary to the gist thereof.
[ポリイミド前駆体の合成例1]
熱電対、冷却器及び攪拌機を備えた300mLの4つ口フラスコに、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル19.2g、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン14.9g(0.06mol)、3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物18.5g(0.06mol)、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物17.8g(0.06mol)及びN−メチル−2−ピロリドン(NMP)211gを加え、窒素下、80℃で8時間撹拌することでポリイミド前駆体溶液1を得た。
[Synthesis example 1 of polyimide precursor]
Into a 300 mL four-necked flask equipped with a thermocouple, a condenser, and a stirrer was charged 19.2 g of 4,4′-diamino-2,2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 4,4′-diaminodiphenylsulfone 14 .9 g (0.06 mol), 3,3 ′, 4,4′-bicyclohexyltetracarboxylic dianhydride 18.5 g (0.06 mol), 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid di 17.8 g (0.06 mol) of anhydride and 211 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) were added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 8 hours under nitrogen to obtain a polyimide precursor solution 1.
[ポリイミド前駆体の合成例2]
合成例1の4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニルと4,4’−ジアミノジフェニルスルホンを4.4‘−ジアミノジフェニルエーテル22.0g(0.11mol)に、3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物と3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物33.4g(0.11mol)に、NMPをN,N−ジメチルアセトアミド222gに変更した以外は合成例1と同様にして、ポリイミド前駆体溶液2を得た。
[Synthesis example 2 of polyimide precursor]
4,2′-Diamino-2,2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl of Synthesis Example 1 and 4,4′-diaminodiphenyl sulfone were added to 22.0 g (0.11 mol) of 4.4′-diaminodiphenyl ether. 3,3 ′, 4,4′-bicyclohexyltetracarboxylic dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride are converted into 3,3 ′, 4,4′-bicyclohexyltetra A polyimide precursor solution 2 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 33.4 g (0.11 mol) of carboxylic acid dianhydride was changed to 222 g of N, N-dimethylacetamide.
(粘度評価)
ポリイミド組成物の粘度はブルックスフィールド社製E型粘度計を用いて25℃における粘度を測定し、水素結合性置換基を有する複素環化合物またはその代替化合物の添加前後の粘度を比較した。
添加前後で、粘度が変化しない、または増加したものを○、減少したものを×として評価した。
(Viscosity evaluation)
The viscosity of the polyimide composition was measured at 25 ° C. using a Brooksfield E-type viscometer, and the viscosity before and after the addition of the heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent or an alternative compound thereof was compared.
Before and after the addition, the viscosity did not change or increased, and evaluated as ◯ and decreased as x.
[積層体の作成]
ポリイミド前駆体組成物を、コーニング社製イーグルXGガラスに、スピンコート法にて、乾燥・焼成後のポリイミドフィルムの膜厚が10μmになるように塗布し、330℃、または300℃で30分加熱(乾燥・焼成)を行うことにより、ポリイミドフィルム積層体を得た。
[Create laminate]
The polyimide precursor composition is applied to Corning Eagle XG glass by spin coating so that the film thickness of the polyimide film after drying and baking becomes 10 μm and heated at 330 ° C. or 300 ° C. for 30 minutes. By performing (drying and firing), a polyimide film laminate was obtained.
[剥離性評価]
ポリイミドフィルム積層体を一晩以上25℃・50%湿度下で調湿後、カット幅1mmのクロスカット法によって剥離性を評価した。
90枚以上剥離したものをA、50枚以上90枚未満剥離したものをB、1枚以上50枚未満剥離したものをC、剥離しなかったものをDと評価した。評価A及びBのものが、剥離性が良好であると言える。
[Peelability evaluation]
The polyimide film laminate was conditioned overnight at 25 ° C. and 50% humidity, and then peelability was evaluated by a cross-cut method with a cut width of 1 mm.
90 pieces or more peeled off were evaluated as A, 50 pieces or more and less than 90 pieces peeled off as B, 1 piece or more and less than 50 pieces peeled off as C, and those not peeled off evaluated as D. It can be said that the evaluations A and B have good peelability.
[分極率]
使用した化合物の平均分極率はchemsketchを用いて算出した。
[Polarizability]
The average polarizability of the compound used was calculated using chemetch.
[実施例1]
上記合成例で得られた6gのポリイミド前駆体溶液1に、NMP1.5g、4−ジメチルアミノピリジン0.078gを加え撹拌し、ポリイミド組成物1を得た。得られたポリイミド組成物1の粘度評価を行った。
また、得られたポリイミド組成物1を用いて上述の方法で塗布し、330℃で加熱(乾燥・焼成)を行うことによってポリイミド積層体1を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。
ポリイミド積層体1の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、308℃であった。また、得られたポリイミドフィルム1は無色透明であった。
[Example 1]
To 6 g of the polyimide precursor solution 1 obtained in the above synthesis example, 1.5 g of NMP and 0.078 g of 4-dimethylaminopyridine were added and stirred to obtain a polyimide composition 1. Viscosity evaluation of the obtained polyimide composition 1 was performed.
Moreover, it apply | coated by the above-mentioned method using the obtained polyimide composition 1, the polyimide laminated body 1 was produced by heating (drying and baking) at 330 degreeC, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1.
The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 1 was 308 ° C. Moreover, the obtained polyimide film 1 was colorless and transparent.
[実施例2]
実施例1の4−ジメチルアミノピリジンを4−ヒドロキシピリジン0.061gに変更した以外は実施例1と同様にして、ポリイミド組成物2を得、粘度評価を行った。また、実施例1と同様にしてポリイミド積層体2を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。
ポリイミド積層体2の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、308℃であった。また、得られたポリイミドフィルム2は無色透明であった。
[Example 2]
A polyimide composition 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4-dimethylaminopyridine in Example 1 was changed to 0.061 g of 4-hydroxypyridine, and the viscosity was evaluated. Moreover, the polyimide laminated body 2 was produced like Example 1, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1.
The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 2 was 308 ° C. Moreover, the obtained polyimide film 2 was colorless and transparent.
[実施例3]
実施例1の4−ジメチルアミノピリジンを3−ヒドロキシピリジン0.061gに変更した以外は実施例1と同様にして、ポリイミド組成物3を得、粘度評価を行った。また、実施例1と同様にしてポリイミド積層体3を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。
ポリイミド積層体3の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、308℃であった。また、得られたポリイミドフィルム3は無色透明であった。
[Example 3]
A polyimide composition 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4-dimethylaminopyridine in Example 1 was changed to 0.061 g of 3-hydroxypyridine, and the viscosity was evaluated. Moreover, it carried out similarly to Example 1, the polyimide laminated body 3 was produced, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1.
The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 3 was 308 ° C. Moreover, the obtained polyimide film 3 was colorless and transparent.
[実施例4]
実施例1の4−ジメチルアミノピリジンをニコチンアミド0.078gに変更した以外は実施例1と同様にして、ポリイミド組成物4を得、粘度評価を行った。また、実施例1と同様にしてポリイミド積層体4を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。
ポリイミド積層体4の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、308℃であった。また、得られたポリイミドフィルム4は無色透明であった。
[Example 4]
Except having changed 4-dimethylamino pyridine of Example 1 into 0.078 g of nicotinamide, it carried out similarly to Example 1, and obtained the polyimide composition 4, and performed viscosity evaluation. Moreover, it carried out similarly to Example 1, the polyimide laminated body 4 was produced, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1.
The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 4 was 308 ° C. Moreover, the obtained polyimide film 4 was colorless and transparent.
[実施例5]
実施例1のポリイミド前駆体溶液1を7.5gのポリイミド前駆体溶液2 に、4−ジメチルアミノピリジンを0.15gに変更し、NMPを加えなかった以外は実施例1と同様にして、ポリイミド組成物5を得、粘度評価を行った。 また、実施例1と同様にして塗布し、300℃で加熱(乾燥・焼成)することでポリイミド積層体5を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。
ポリイミド積層体5の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、260℃であった。また、得られたポリイミドフィルムは無色透明であった。
[Example 5]
The polyimide precursor solution 1 of Example 1 was changed to 7.5 g of polyimide precursor solution 2, 4-dimethylaminopyridine was changed to 0.15 g, and NMP was not added. Composition 5 was obtained and evaluated for viscosity. Moreover, it apply | coated like Example 1 and the polyimide laminated body 5 was produced by heating (drying and baking) at 300 degreeC, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1.
The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 5 was 260 ° C. Moreover, the obtained polyimide film was colorless and transparent.
[実施例6]
実施例2のポリイミド前駆体溶液1を、7.5gのポリイミド前駆体溶液2に、4−ヒドロキシピリジンを0.13gに変更し、NMPを加えなかった以外は実施例2と同様にして、ポリイミド組成物6を得、粘度評価をおこなった。また、実施例1と同様にして塗布し、300℃で加熱(乾燥・焼成)することでポリイミド積層体6を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。
ポリイミド積層体6の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、260℃であった。また、得られたポリイミドフィルムは無色透明であった。
[Example 6]
The polyimide precursor solution 1 of Example 2 was changed to 7.5 g of polyimide precursor solution 2, 4-hydroxypyridine was changed to 0.13 g, and NMP was not added. Composition 6 was obtained and the viscosity was evaluated. Moreover, it apply | coated like Example 1 and the polyimide laminated body 6 was produced by heating (drying and baking) at 300 degreeC, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1.
The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 6 was 260 ° C. Moreover, the obtained polyimide film was colorless and transparent.
[実施例7]
実施例3のポリイミド前駆体溶液1を、7.5gのポリイミド前駆体溶液2に、3−ヒドロキシピリジンを0.13gに変更し、NMPを加えなかった以外は実施例3と同様にして、ポリイミド組成物7を得、粘度評価を行った。また、実施例1と同様にして塗布し、300℃で加熱(乾燥・焼成)することで積層体7を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。
ポリイミド積層体7の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、260℃であった。また、得られたポリイミドフィルムは無色透明であった。
[Example 7]
The polyimide precursor solution 1 of Example 3 was changed to 7.5 g of polyimide precursor solution 2, 3-hydroxypyridine was changed to 0.13 g, and NMP was not added. Composition 7 was obtained and the viscosity was evaluated. Moreover, it apply | coated like Example 1 and the laminated body 7 was produced by heating (drying and baking) at 300 degreeC, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1.
The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 7 was 260 ° C. Moreover, the obtained polyimide film was colorless and transparent.
[比較例1]
実施例1の4−ジメチルアミノピリジンを4−プロピルピリジン0.078gに変更した以外は実施例1と同様にして、ポリイミド組成物8を得、粘度評価を行った。また、実施例1と同様にしてポリイミド積層体8を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。
ポリイミド積層体8の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、308℃であった。
[Comparative Example 1]
A polyimide composition 8 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4-dimethylaminopyridine in Example 1 was changed to 0.078 g of 4-propylpyridine, and the viscosity was evaluated. Moreover, it carried out similarly to Example 1, the polyimide laminated body 8 was produced, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1.
The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 8 was 308 ° C.
[比較例2]
実施例1の4−ジメチルアミノピリジンを3−アミノベンジルアルコール0.079gに変更した以外は実施例1と同様にして、ポリイミド組成物9を得、粘度評価を行った。また、実施例1と同様にしてポリイミド積層体9を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。
ポリイミド積層体9の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、308℃であった。
[Comparative Example 2]
A polyimide composition 9 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4-dimethylaminopyridine in Example 1 was changed to 0.079 g of 3-aminobenzyl alcohol, and the viscosity was evaluated. Moreover, the polyimide laminated body 9 was produced like Example 1, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1.
The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 9 was 308 ° C.
[比較例3]
実施例1の4−ジメチルアミノピリジンをピリジン0.051gに変更した以外は実施例1と同様にして、ポリイミド組成物10を得、粘度評価を行った。また、実施例1と同様にしてポリイミド積層体10を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。
ポリイミド積層体10の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、308℃であった。
[Comparative Example 3]
A polyimide composition 10 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4-dimethylaminopyridine in Example 1 was changed to 0.051 g of pyridine, and the viscosity was evaluated. Moreover, the polyimide laminated body 10 was produced like Example 1, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1.
The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 10 was 308 ° C.
[比較例4]
実施例1の4−ジメチルアミノピリジンをピラジン0.051gに変更した以外は実施例1と同様にして、ポリイミド組成物11を得、粘度評価を行った。また、実施例1と同様にしてポリイミド積層体11を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。
ポリイミド積層体11の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、308℃であった。
[Comparative Example 4]
Except having changed 4-dimethylamino pyridine of Example 1 into 0.051 g of pyrazine, it carried out similarly to Example 1, and obtained the polyimide composition 11, and performed viscosity evaluation. Moreover, the polyimide laminated body 11 was produced like Example 1, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1.
The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 11 was 308 ° C.
[比較例5]
実施例1の4−ジメチルアミノピリジンを1,2−ジメチルイミダゾール0.062gに変更した以外は実施例1と同様にして、ポリイミド組成物12を得、粘度評価を行った。また、実施例1と同様にしてポリイミド積層体12を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。
ポリイミド積層体12の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、308℃であった。
[Comparative Example 5]
A polyimide composition 12 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4-dimethylaminopyridine in Example 1 was changed to 0.062 g of 1,2-dimethylimidazole, and the viscosity was evaluated. Moreover, the polyimide laminated body 12 was produced like Example 1, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1.
The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 12 was 308 ° C.
[比較例6]
実施例1の4−ジメチルアミノピリジンを添加しなかった以外は実施例1と同様にして、ポリイミド組成物13を得た。また、実施例1と同様にしてポリイミド積層体13を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。ポリイミド積層体13の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、308℃であった。
[Comparative Example 6]
A polyimide composition 13 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4-dimethylaminopyridine of Example 1 was not added. Moreover, it carried out similarly to Example 1, the polyimide laminated body 13 was produced, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1. The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 13 was 308 ° C.
[比較例7]
ポリイミド前駆体溶液2をポリイミド組成物14とし、実施例1と同様にしてポリイミド積層体14を作製し、剥離性評価を行った。結果を表1に示す。ポリイミド積層体14の樹脂層に含まれるポリイミド樹脂のガラス転移温度は、260℃であった。
[Comparative Example 7]
The polyimide precursor solution 2 was used as the polyimide composition 14, and the polyimide laminated body 14 was produced like Example 1, and peelability evaluation was performed. The results are shown in Table 1. The glass transition temperature of the polyimide resin contained in the resin layer of the polyimide laminate 14 was 260 ° C.
表1で示すように、ポリイミド組成物が水素結合性置換基を有する複素環化合物を含むことで、剥離性が向上し、粘度が維持または増加し、ポリイミド組成物の安定性が良好であることが示された。 As shown in Table 1, when the polyimide composition contains a heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent, the peelability is improved, the viscosity is maintained or increased, and the stability of the polyimide composition is good. It has been shown.
本発明のポリイミド組成物は、コーティング材料、表面保護層、接着剤、デバイス用基板、絶縁膜、配線膜等に用いることができる。 The polyimide composition of the present invention can be used for coating materials, surface protective layers, adhesives, device substrates, insulating films, wiring films and the like.
Claims (10)
該樹脂層を、加熱後の樹脂層中のポリイミド樹脂のガラス転移温度以上で加熱する工程、
を有するものである、ポリイミド積層体の製造方法。 A step of obtaining a resin layer using a polyimide composition comprising a polyimide precursor and / or a polyimide and a heterocyclic compound having a hydrogen bonding substituent,
Heating the resin layer above the glass transition temperature of the polyimide resin in the resin layer after heating;
The manufacturing method of the polyimide laminated body which has this.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016140668 | 2016-07-15 | ||
| JP2016140668 | 2016-07-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018016787A true JP2018016787A (en) | 2018-02-01 |
Family
ID=61081337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017116991A Pending JP2018016787A (en) | 2016-07-15 | 2017-06-14 | Polyimide composition, polyimide film and polyimide laminate obtained from the polyimide composition, and method for producing polyimide laminate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2018016787A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020189556A1 (en) * | 2019-03-19 | 2020-09-24 | 三菱ケミカル株式会社 | Polyimide film |
| CN115558412A (en) * | 2022-10-12 | 2023-01-03 | 深圳市华之美科技有限公司 | Polyimide composite material and preparation method and application thereof |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0643648A (en) * | 1992-07-22 | 1994-02-18 | Nitto Denko Corp | Positive photoresist composition, photosensitive insulating film and pattern forming method |
| JPH09297400A (en) * | 1996-03-04 | 1997-11-18 | Toshiba Corp | Negative-type photosensitive polymer resin composition, pattern forming method using the same, and electronic component |
| JP2000098609A (en) * | 1998-09-28 | 2000-04-07 | Nitto Denko Corp | Negative photosensitive composition and pattern forming method using the same |
| JP2002008446A (en) * | 2000-06-22 | 2002-01-11 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Resin composite for insulating material and insulating material using it |
| JP2006016568A (en) * | 2004-07-05 | 2006-01-19 | Hitachi Chem Co Ltd | Heat-resistant resin composition, coating material and enameled wire |
| JP2016042177A (en) * | 2014-02-25 | 2016-03-31 | Jsr株式会社 | Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element |
-
2017
- 2017-06-14 JP JP2017116991A patent/JP2018016787A/en active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0643648A (en) * | 1992-07-22 | 1994-02-18 | Nitto Denko Corp | Positive photoresist composition, photosensitive insulating film and pattern forming method |
| JPH09297400A (en) * | 1996-03-04 | 1997-11-18 | Toshiba Corp | Negative-type photosensitive polymer resin composition, pattern forming method using the same, and electronic component |
| JP2000098609A (en) * | 1998-09-28 | 2000-04-07 | Nitto Denko Corp | Negative photosensitive composition and pattern forming method using the same |
| JP2002008446A (en) * | 2000-06-22 | 2002-01-11 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Resin composite for insulating material and insulating material using it |
| JP2006016568A (en) * | 2004-07-05 | 2006-01-19 | Hitachi Chem Co Ltd | Heat-resistant resin composition, coating material and enameled wire |
| JP2016042177A (en) * | 2014-02-25 | 2016-03-31 | Jsr株式会社 | Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020189556A1 (en) * | 2019-03-19 | 2020-09-24 | 三菱ケミカル株式会社 | Polyimide film |
| CN115558412A (en) * | 2022-10-12 | 2023-01-03 | 深圳市华之美科技有限公司 | Polyimide composite material and preparation method and application thereof |
| CN115558412B (en) * | 2022-10-12 | 2023-06-09 | 深圳市华之美科技有限公司 | Polyimide composite material and preparation method and application thereof |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5888472B2 (en) | Composition containing polyimide precursor and / or polyimide, and polyimide film | |
| JP7163437B2 (en) | Polyamic acid composition with improved adhesion and polyimide film containing the same | |
| JP7564854B2 (en) | Polyamic acid solution, transparent polyimide resin using same, and transparent substrate | |
| JP6899830B2 (en) | A polyamic acid solution to which a diamine monomer having a novel structure is applied and a polyimide film containing the same. | |
| US11274182B2 (en) | Poly(amic acid), poly(amic acid) solution, polyimide, polyimide film, layered product, flexible device, and production method for polyimide film | |
| TWI735550B (en) | Polyamide acid, polyamide acid solution, polyimide, and polyimide substrate and manufacturing method thereof | |
| JP2025000611A (en) | Composition and metal insulating cover material | |
| JP2011111596A (en) | Manufacturing method of polyimide film, and polyimide film | |
| JP2018016787A (en) | Polyimide composition, polyimide film and polyimide laminate obtained from the polyimide composition, and method for producing polyimide laminate | |
| TW202302713A (en) | Polyimide resin composition, polyimide precursor composition, varnish, and polyimide film | |
| JP7589156B2 (en) | Metal-clad laminate for flexible electronic devices and flexible electronic devices using same | |
| JP2020158744A (en) | Polyimide and polyimide film | |
| JP7359662B2 (en) | Polyimide resin, polyimide solution, polyimide film | |
| KR20230075391A (en) | Polyamideimide copolymer and film using the same | |
| KR101719864B1 (en) | Polyimide precursor composition, method for preparing display substrate by using same and display substrate | |
| JP6794682B2 (en) | Composition containing polyimide precursor and / or polyimide | |
| WO2020189556A1 (en) | Polyimide film | |
| JP2024028411A (en) | Polyamic acid composition and transparent polyimide film using the same | |
| WO2020189555A1 (en) | Polyimide | |
| JP6841048B2 (en) | Polyimide | |
| JP7000682B2 (en) | Polyimide | |
| TW202506827A (en) | Optical film having low variation of yellow index and display apparatus comprising the same | |
| WO2020189557A1 (en) | Polyimide film | |
| JP2023014999A (en) | Resin film, method for producing same, resin composition, and method for producing display | |
| JP2022157692A (en) | Polyimide, polyamic acid and polyimide film |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200130 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200923 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200929 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201127 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210127 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210322 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20210420 |