JP2018012759A - Polyamide resin composition for laser welding - Google Patents
Polyamide resin composition for laser welding Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018012759A JP2018012759A JP2016142256A JP2016142256A JP2018012759A JP 2018012759 A JP2018012759 A JP 2018012759A JP 2016142256 A JP2016142256 A JP 2016142256A JP 2016142256 A JP2016142256 A JP 2016142256A JP 2018012759 A JP2018012759 A JP 2018012759A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- polyamide resin
- group
- resin composition
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 title claims abstract description 232
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 96
- 238000003466 welding Methods 0.000 title claims abstract description 88
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 354
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 109
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 54
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims abstract description 40
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 91
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 89
- VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N carbodiimide group Chemical group N=C=N VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 88
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- 229910052751 metal Chemical class 0.000 claims description 24
- 239000002184 metal Chemical class 0.000 claims description 24
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 19
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 15
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical class O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 10
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 7
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical class C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 4
- 238000002798 spectrophotometry method Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 11
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract description 10
- -1 polyhexamethylene isophthalamide Polymers 0.000 description 72
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 45
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 45
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 31
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 31
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 30
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 28
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 28
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 27
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 27
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 25
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 25
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 24
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 23
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 19
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 18
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 17
- 229920006111 poly(hexamethylene terephthalamide) Polymers 0.000 description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 16
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 16
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 16
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 15
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 14
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 13
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 12
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 11
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 11
- 150000007860 aryl ester derivatives Chemical class 0.000 description 11
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 11
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 10
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 9
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 9
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 9
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 9
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 8
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 8
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 8
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 8
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 8
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 8
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 8
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 8
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 8
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 239000012765 fibrous filler Substances 0.000 description 7
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 7
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 7
- 150000003112 potassium compounds Chemical class 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical class [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 6
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 6
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 6
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 101000837308 Homo sapiens Testis-expressed protein 30 Proteins 0.000 description 5
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical class OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 102100028631 Testis-expressed protein 30 Human genes 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N phosphonous acid Chemical class OPO XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 4
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000276 potassium ferrocyanide Substances 0.000 description 4
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 4
- XOGGUFAVLNCTRS-UHFFFAOYSA-N tetrapotassium;iron(2+);hexacyanide Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[Fe+2].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] XOGGUFAVLNCTRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 4
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical class C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UJAWGGOCYUPCPS-UHFFFAOYSA-N 4-(2-phenylpropan-2-yl)-n-[4-(2-phenylpropan-2-yl)phenyl]aniline Chemical compound C=1C=C(NC=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 UJAWGGOCYUPCPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N Adipamide Chemical compound NC(=O)CCCCC(N)=O GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000299 Nylon 12 Polymers 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VSVVZZQIUJXYQA-UHFFFAOYSA-N [3-(3-dodecylsulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-dodecylsulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-dodecylsulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCSCCC(=O)OCC(COC(=O)CCSCCCCCCCCCCCC)(COC(=O)CCSCCCCCCCCCCCC)COC(=O)CCSCCCCCCCCCCCC VSVVZZQIUJXYQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical class 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 3
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920006139 poly(hexamethylene adipamide-co-hexamethylene terephthalamide) Polymers 0.000 description 3
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 229920006123 polyhexamethylene isophthalamide Polymers 0.000 description 3
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 3
- ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-butanetriol Chemical compound OCCC(O)CO ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDNKZNFMNDZQMI-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisopropylcarbodiimide Chemical compound CC(C)N=C=NC(C)C BDNKZNFMNDZQMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VETPHHXZEJAYOB-UHFFFAOYSA-N 1-n,4-n-dinaphthalen-2-ylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(NC=3C=CC(NC=4C=C5C=CC=CC5=CC=4)=CC=3)=CC=C21 VETPHHXZEJAYOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PBLZLIFKVPJDCO-UHFFFAOYSA-N 12-aminododecanoic acid Chemical compound NCCCCCCCCCCCC(O)=O PBLZLIFKVPJDCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUSNOPLQVRUIIM-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-(4,4-dimethyl-2-oxoimidazolidin-1-yl)-n-[3-(trifluoromethyl)phenyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C1NC(C)(C)CN1C(N=C1N)=NC=C1C(=O)NC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 FUSNOPLQVRUIIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-7h-pyrrolo[2,3-d]pyrimidin-2-amine Chemical compound COC1=NC(N)=NC2=C1C=CN2 CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYFJTEPDESMEHE-UHFFFAOYSA-N 6,8-dihydroxy-3-[2-(4-methoxyphenyl)ethyl]-3,4-dihydroisochromen-1-one Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1CCC1OC(=O)C2=C(O)C=C(O)C=C2C1 TYFJTEPDESMEHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFEBURQVBVFCHW-UHFFFAOYSA-N CC(C)P(O)=O Chemical compound CC(C)P(O)=O AFEBURQVBVFCHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTWVYGIIHVUGNL-UHFFFAOYSA-N CCCCP(O)=O Chemical compound CCCCP(O)=O MTWVYGIIHVUGNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGLXNOJGOHKWTN-UHFFFAOYSA-N CCCP(O)=O Chemical compound CCCP(O)=O DGLXNOJGOHKWTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 2
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N Laurolactam Chemical compound O=C1CCCCCCCCCCCN1 JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004594 Masterbatch (MB) Substances 0.000 description 2
- XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-1-naphthylamine Chemical group C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC1=CC=CC=C1 XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000571 Nylon 11 Polymers 0.000 description 2
- 229920003189 Nylon 4,6 Polymers 0.000 description 2
- 229920000305 Nylon 6,10 Polymers 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCCC(CN)C1 QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000397 acetylating effect Effects 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 2
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 2
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- GGNQRNBDZQJCCN-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,4-triol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(O)=C1 GGNQRNBDZQJCCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001382 calcium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940064002 calcium hypophosphite Drugs 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L copper(ii) bromide Chemical compound [Cu+2].[Br-].[Br-] QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229920006039 crystalline polyamide Polymers 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- UHHOEOSKGDFVPB-UHFFFAOYSA-N di(propan-2-yl)phosphinic acid Chemical compound CC(C)P(O)(=O)C(C)C UHHOEOSKGDFVPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- KSHDLNQYVGBYHZ-UHFFFAOYSA-N dibutylphosphinic acid Chemical compound CCCCP(O)(=O)CCCC KSHDLNQYVGBYHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KTLIMPGQZDZPSB-UHFFFAOYSA-N diethylphosphinic acid Chemical compound CCP(O)(=O)CC KTLIMPGQZDZPSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 2
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOJNABIZVJCYFL-UHFFFAOYSA-N dimethylphosphinic acid Chemical compound CP(C)(O)=O GOJNABIZVJCYFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BEQVQKJCLJBTKZ-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphinic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(=O)(O)C1=CC=CC=C1 BEQVQKJCLJBTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMDPJKZHARKRQI-UHFFFAOYSA-N dipropylphosphinic acid Chemical compound CCCP(O)(=O)CCC WMDPJKZHARKRQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVIDDXQYHWJXFK-UHFFFAOYSA-N dodecanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCCCC(O)=O TVIDDXQYHWJXFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- 235000021189 garnishes Nutrition 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012493 hydrazine sulfate Substances 0.000 description 2
- 229910000377 hydrazine sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 2
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- BCDIWLCKOCHCIH-UHFFFAOYSA-N methylphosphinic acid Chemical compound CP(O)=O BCDIWLCKOCHCIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 2
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 229920006119 nylon 10T Polymers 0.000 description 2
- 229920006118 nylon 56 Polymers 0.000 description 2
- XKIVKIIBCJIWNU-UHFFFAOYSA-N o-[3-pentadecanethioyloxy-2,2-bis(pentadecanethioyloxymethyl)propyl] pentadecanethioate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC(=S)OCC(COC(=S)CCCCCCCCCCCCCC)(COC(=S)CCCCCCCCCCCCCC)COC(=S)CCCCCCCCCCCCCC XKIVKIIBCJIWNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N octacosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 2
- CDXVUROVRIFQMV-UHFFFAOYSA-N oxo(diphenoxy)phosphanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[P+](=O)OC1=CC=CC=C1 CDXVUROVRIFQMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical class [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 2
- DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.OP(O)(O)=O DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 2
- MHSKRLJMQQNJNC-UHFFFAOYSA-N terephthalamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=C(C(N)=O)C=C1 MHSKRLJMQQNJNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNALVHVMBXLLIY-IUCAKERBSA-N tert-butyl n-[(3s,5s)-5-methylpiperidin-3-yl]carbamate Chemical compound C[C@@H]1CNC[C@@H](NC(=O)OC(C)(C)C)C1 CNALVHVMBXLLIY-IUCAKERBSA-N 0.000 description 2
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- XWKBMOUUGHARTI-UHFFFAOYSA-N tricalcium;diphosphite Chemical class [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])[O-].[O-]P([O-])[O-] XWKBMOUUGHARTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSNJABVSHLCCOX-UHFFFAOYSA-J trilithium;trimagnesium;trisodium;dioxido(oxo)silane;tetrafluoride Chemical compound [Li+].[Li+].[Li+].[F-].[F-].[F-].[F-].[Na+].[Na+].[Na+].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O WSNJABVSHLCCOX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphite Chemical compound COP(OC)OC CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NCPXQVVMIXIKTN-UHFFFAOYSA-N trisodium;phosphite Chemical class [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])[O-] NCPXQVVMIXIKTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010456 wollastonite Substances 0.000 description 2
- 229910052882 wollastonite Inorganic materials 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- MQYFWRJEFAZXHE-UHFFFAOYSA-N (2-phenylphenyl)phosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 MQYFWRJEFAZXHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOVAGTYPODGVJG-UVSYOFPXSA-N (3s,5r)-2-(hydroxymethyl)-6-methoxyoxane-3,4,5-triol Chemical compound COC1OC(CO)[C@@H](O)C(O)[C@H]1O HOVAGTYPODGVJG-UVSYOFPXSA-N 0.000 description 1
- SSUJUUNLZQVZMO-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,8,9,10,10a-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCC=CN2CCCNC21 SSUJUUNLZQVZMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-Hexanetriol Chemical compound OCCCCC(O)CO ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUMCUSHVMYIRMB-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tri(propan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)C1=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C1 VUMCUSHVMYIRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBEBPYJMHLBHDJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethyl-2,5-di(propan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)C1=CC(C)=C(C(C)C)C=C1C MBEBPYJMHLBHDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQOXUMQBYILCKR-UHFFFAOYSA-N 1-Tridecene Chemical compound CCCCCCCCCCCC=C VQOXUMQBYILCKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-methylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1CC1=CC=CC=C1 FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMIRFCWMDNOYEN-UHFFFAOYSA-N 1-phosphorosooxyethane Chemical compound CCOP=O ZMIRFCWMDNOYEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUOSQNAUYHMCRU-UHFFFAOYSA-N 11-Aminoundecanoic acid Chemical compound NCCCCCCCCCCC(O)=O GUOSQNAUYHMCRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGIDEUICZZXBFQ-UHFFFAOYSA-N 1h-benzimidazol-2-ylmethanethiol Chemical compound C1=CC=C2NC(CS)=NC2=C1 XGIDEUICZZXBFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylpentane-1,3-diol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)CO JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPQHRXRAZHNGRU-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound NCC(C)CC(C)(C)CCN DPQHRXRAZHNGRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLPURQSRCDKZNX-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(oxiran-2-ylmethoxy)-1,3,5-triazine Chemical compound C1OC1COC(N=C(OCC1OC1)N=1)=NC=1OCC1CO1 BLPURQSRCDKZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZZMTSNZRBFGGU-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-7-fluoroquinazolin-4-amine Chemical compound FC1=CC=C2C(N)=NC(Cl)=NC2=C1 FZZMTSNZRBFGGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPXGNBIFHQKREO-UHFFFAOYSA-N 2-chloroterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(Cl)=C1 ZPXGNBIFHQKREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVNWKKJQEFIURY-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropyl)imidazole Chemical compound CC(C)CN1C=CN=C1C SVNWKKJQEFIURY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYHGSPUTABMVOC-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutane-1,2,4-triol Chemical compound OCC(O)(C)CCO XYHGSPUTABMVOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAGWMWLBYJPFDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyloctane-1,8-diamine Chemical compound NCC(C)CCCCCCN GAGWMWLBYJPFDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZUHIOJYCPIVLQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-1,5-diamine Chemical compound NCC(C)CCCN JZUHIOJYCPIVLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFMBOFGKHIXOTA-UHFFFAOYSA-N 2-methylterephthalic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=CC=C1C(O)=O UFMBOFGKHIXOTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical group N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYXBMCIMPXOBLB-UHFFFAOYSA-N 3,4,5-tris(dimethylamino)-2-methylphenol Chemical compound CN(C)C1=CC(O)=C(C)C(N(C)C)=C1N(C)C XYXBMCIMPXOBLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(3-aminopropyl)piperazin-1-yl]propan-1-amine Chemical compound NCCCN1CCN(CCCN)CC1 XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDIGYBZNNOGMHU-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2,4,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)phenol Chemical compound OC1=CC(CC2OC2)=C(CC2OC2)C(N)=C1CC1CO1 RDIGYBZNNOGMHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDBZTOMUANOKRT-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminocyclohexyl)propan-2-yl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1C(C)(C)C1CCC(N)CC1 BDBZTOMUANOKRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBEHQFUSQJKBAS-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 PBEHQFUSQJKBAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXXSQMDHHYTRKY-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)phenol Chemical compound C1=C(O)C(CC2OC2)=C(CC2OC2)C(N)=C1CC1CO1 CXXSQMDHHYTRKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCTYXESWNZITDY-UHFFFAOYSA-N 4-hexadecylmorpholine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCN1CCOCC1 JCTYXESWNZITDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZBHPUNQNKBOA-UHFFFAOYSA-N 5-methylbenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 PMZBHPUNQNKBOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBRGOFWKNLPACT-UHFFFAOYSA-N 5-methylnonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCC(C)CCCCN MBRGOFWKNLPACT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLXKOJJOQWFEFD-UHFFFAOYSA-N 6-aminohexanoic acid Chemical compound NCCCCCC(O)=O SLXKOJJOQWFEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOSGXJWQVBHGLT-UHFFFAOYSA-N 6-hydroxy-3,4-dihydro-1h-quinolin-2-one Chemical group N1C(=O)CCC2=CC(O)=CC=C21 HOSGXJWQVBHGLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJEZBVHHZQAEDB-UHFFFAOYSA-N 6-oxabicyclo[3.1.0]hexane Chemical group C1CCC2OC21 GJEZBVHHZQAEDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- OGBVRMYSNSKIEF-UHFFFAOYSA-N Benzylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CC1=CC=CC=C1 OGBVRMYSNSKIEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L Copper hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Cu+2] JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005750 Copper hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021590 Copper(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000219122 Cucurbita Species 0.000 description 1
- 235000009852 Cucurbita pepo Nutrition 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- 239000004609 Impact Modifier Substances 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195725 Mannitol Natural products 0.000 description 1
- UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound C=1C=C(NC=2C=CC=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylcyclohexylamine Chemical compound CN(C)C1CCCCC1 SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000572 Nylon 6/12 Polymers 0.000 description 1
- 229920000577 Nylon 6/66 Polymers 0.000 description 1
- 229920000393 Nylon 6/6T Polymers 0.000 description 1
- OAQNJOLLBTVWFD-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C1=CC=CC=C1P(O)=O Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1P(O)=O OAQNJOLLBTVWFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOGGLBCGCHJSCD-UHFFFAOYSA-N OP(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 Chemical compound OP(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 GOGGLBCGCHJSCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILJSNXGQARQSW-UHFFFAOYSA-N OP(O)(O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound OP(O)(O)C1=CC=CC=C1 DILJSNXGQARQSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRCLQKLLFQYUJJ-UHFFFAOYSA-N P(O)(O)O.P(O)(O)O.C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1C(C)(C)C)C)C(C)(C)C Chemical compound P(O)(O)O.P(O)(O)O.C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1C(C)(C)C)C)C(C)(C)C FRCLQKLLFQYUJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIATZHZBSIMOEE-UHFFFAOYSA-N P(O)(O)O.P(O)(O)O.C(C)(C)(C)C1=C(C=CC(=C1)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C Chemical class P(O)(O)O.P(O)(O)O.C(C)(C)(C)C1=C(C=CC(=C1)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C GIATZHZBSIMOEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPYHHZQJCSQRJY-UHFFFAOYSA-N Phloroglucinol Natural products CCC=CCC=CCC=CCC=CCCCCC(=O)C1=C(O)C=C(O)C=C1O JPYHHZQJCSQRJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920006121 Polyxylylene adipamide Polymers 0.000 description 1
- 239000005819 Potassium phosphonate Chemical class 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 241001128140 Reseda Species 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical class [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L Zinc carbonate Chemical compound [Zn+2].[O-]C([O-])=O FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YNUDZCVMRZTAOJ-UHFFFAOYSA-N [4-(4-dihydroxyphosphanylphenyl)phenyl]phosphonous acid Chemical compound C1=CC(P(O)O)=CC=C1C1=CC=C(P(O)O)C=C1 YNUDZCVMRZTAOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)CC1 OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEIOEBMXPVYLRY-UHFFFAOYSA-N [4-[4-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)phosphanylphenyl]phenyl]-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)phosphane Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)P(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C BEIOEBMXPVYLRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUNAPVYQLLNFOI-UHFFFAOYSA-L [Pb++].[Pb++].[Pb++].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Mo]([O-])(=O)=O Chemical compound [Pb++].[Pb++].[Pb++].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Mo]([O-])(=O)=O AUNAPVYQLLNFOI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003679 aging effect Effects 0.000 description 1
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K aluminium tristearate Chemical compound [Al+3].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940063655 aluminum stearate Drugs 0.000 description 1
- OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N aluminum;borate Chemical compound [Al+3].[O-]B([O-])[O-] OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229960002684 aminocaproic acid Drugs 0.000 description 1
- IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N aminoethylpiperazine Chemical compound NCCN1CCNCC1 IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCTBMLYLENLHLA-UHFFFAOYSA-N aminomethylbenzoic acid Chemical compound NCC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 QCTBMLYLENLHLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003375 aminomethylbenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920006020 amorphous polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZYHIGCKINZLPD-UHFFFAOYSA-N azepan-2-one;hexane-1,6-diamine;hexanedioic acid Chemical compound NCCCCCCN.O=C1CCCCCN1.OC(=O)CCCCC(O)=O TZYHIGCKINZLPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001378 barium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- FAARTQSZKSBAOS-UHFFFAOYSA-N barium(2+);diphosphite Chemical class [Ba+2].[Ba+2].[Ba+2].[O-]P([O-])[O-].[O-]P([O-])[O-] FAARTQSZKSBAOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical class [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M bromocopper(1+) Chemical compound Br[Cu+] ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- UOKRBSXOBUKDGE-UHFFFAOYSA-N butylphosphonic acid Chemical compound CCCCP(O)(O)=O UOKRBSXOBUKDGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWZIPFYROHEQV-UHFFFAOYSA-N butylphosphonous acid Chemical compound CCCCP(O)O ISWZIPFYROHEQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- VNSBYDPZHCQWNB-UHFFFAOYSA-N calcium;aluminum;dioxido(oxo)silane;sodium;hydrate Chemical compound O.[Na].[Al].[Ca+2].[O-][Si]([O-])=O VNSBYDPZHCQWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical class NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229940116318 copper carbonate Drugs 0.000 description 1
- 229910001956 copper hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZKXWKVVCCTZOLD-UHFFFAOYSA-N copper;4-hydroxypent-3-en-2-one Chemical compound [Cu].CC(O)=CC(C)=O.CC(O)=CC(C)=O ZKXWKVVCCTZOLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L copper;carbonate Chemical compound [Cu+2].[O-]C([O-])=O GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000003484 crystal nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC(C(O)=O)C1 XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical group C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZFOGXKZTWZVFN-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCC1 YZFOGXKZTWZVFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 1
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWZFXELTLAQOKC-UHFFFAOYSA-A dialuminum;hexamagnesium;carbonate;hexadecahydroxide;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Al+3].[Al+3].[O-]C([O-])=O PWZFXELTLAQOKC-UHFFFAOYSA-A 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 description 1
- FWBOFUGDKHMVPI-UHFFFAOYSA-K dicopper;2-oxidopropane-1,2,3-tricarboxylate Chemical compound [Cu+2].[Cu+2].[O-]C(=O)CC([O-])(C([O-])=O)CC([O-])=O FWBOFUGDKHMVPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- LXCYSACZTOKNNS-UHFFFAOYSA-N diethoxy(oxo)phosphanium Chemical compound CCO[P+](=O)OCC LXCYSACZTOKNNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJPBKCZJVYSKGV-UHFFFAOYSA-N diethoxyphosphane Chemical compound CCOPOCC JJPBKCZJVYSKGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGRWYRAHAFMIBJ-UHFFFAOYSA-N diisopropylcarbodiimide Natural products CC(C)NC(=O)NC(C)C BGRWYRAHAFMIBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- YLFBFPXKTIQSSY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(oxo)phosphanium Chemical compound CO[P+](=O)OC YLFBFPXKTIQSSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZHYKKAKFWLGJO-UHFFFAOYSA-N dimethyl phosphite Chemical compound COP([O-])OC CZHYKKAKFWLGJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-M dioxido(phenyl)phosphanium Chemical compound [O-]P(=O)C1=CC=CC=C1 MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXXXKCDYKKSZHL-UHFFFAOYSA-M dipotassium;dioxido(oxo)phosphanium Chemical class [K+].[K+].[O-][P+]([O-])=O YXXXKCDYKKSZHL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N dodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(N)=O ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCN QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010459 dolomite Substances 0.000 description 1
- 229910000514 dolomite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- ZUNGGJHBMLMRFJ-UHFFFAOYSA-O ethoxy-hydroxy-oxophosphanium Chemical compound CCO[P+](O)=O ZUNGGJHBMLMRFJ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N ethylphosphonic acid Chemical compound CCP(O)(O)=O GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYYXRDZATAMURV-UHFFFAOYSA-N ethylphosphonous acid Chemical compound CCP(O)O LYYXRDZATAMURV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010101 extrusion blow moulding Methods 0.000 description 1
- 210000004709 eyebrow Anatomy 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L hectorite Chemical compound [Li+].[OH-].[OH-].[Na+].[Mg+2].O1[Si]2([O-])O[Si]1([O-])O[Si]([O-])(O1)O[Si]1([O-])O2 KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000271 hectorite Inorganic materials 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLMXGBGAZRVYIX-UHFFFAOYSA-N hexane-1,2,3,6-tetrol Chemical compound OCCCC(O)C(O)CO RLMXGBGAZRVYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N hydantoin Chemical compound O=C1CNC(=O)N1 WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940091173 hydantoin Drugs 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910001701 hydrotalcite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001545 hydrotalcite Drugs 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- HGPXWXLYXNVULB-UHFFFAOYSA-M lithium stearate Chemical compound [Li+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HGPXWXLYXNVULB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- SEQVSYFEKVIYCP-UHFFFAOYSA-L magnesium hypophosphite Chemical compound [Mg+2].[O-]P=O.[O-]P=O SEQVSYFEKVIYCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001381 magnesium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000594 mannitol Substances 0.000 description 1
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- HOVAGTYPODGVJG-UHFFFAOYSA-N methyl beta-galactoside Natural products COC1OC(CO)C(O)C(O)C1O HOVAGTYPODGVJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- BCDIWLCKOCHCIH-UHFFFAOYSA-M methylphosphinate Chemical compound CP([O-])=O BCDIWLCKOCHCIH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N methylphosphonic acid Chemical compound CP(O)(O)=O YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMVVRSKJCGEFIY-UHFFFAOYSA-N methylphosphonous acid Chemical compound CP(O)O PMVVRSKJCGEFIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011490 mineral wool Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-ylphosphonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(P(O)(=O)O)=CC=CC2=C1 YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000273 nontronite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKBYAWVSVVSRIX-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-(1-octadecoxy-1-oxopropan-2-yl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)SC(C)C(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC JKBYAWVSVVSRIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEAYWASEBDOLRG-UHFFFAOYSA-N pentane-1,2,5-triol Chemical compound OCCCC(O)CO WEAYWASEBDOLRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N phenylphosphinic acid Chemical compound OP(=O)C1=CC=CC=C1 MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005538 phosphinite group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 229910001380 potassium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- CRGPNLUFHHUKCM-UHFFFAOYSA-M potassium phosphinate Chemical compound [K+].[O-]P=O CRGPNLUFHHUKCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- ATLPLEZDTSBZQG-UHFFFAOYSA-N propan-2-ylphosphonic acid Chemical compound CC(C)P(O)(O)=O ATLPLEZDTSBZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMBYHKJKPDKGGO-UHFFFAOYSA-N propan-2-ylphosphonous acid Chemical compound CC(C)P(O)O FMBYHKJKPDKGGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSETWVJZUWGCKE-UHFFFAOYSA-N propylphosphonic acid Chemical compound CCCP(O)(O)=O NSETWVJZUWGCKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWBOOFOIEFTTHB-UHFFFAOYSA-N propylphosphonous acid Chemical compound CCCP(O)O MWBOOFOIEFTTHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052903 pyrophyllite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910000275 saponite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- KOUDKOMXLMXFKX-UHFFFAOYSA-N sodium oxido(oxo)phosphanium hydrate Chemical compound O.[Na+].[O-][PH+]=O KOUDKOMXLMXFKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYCAUPASBSROMS-AWQJXPNKSA-M sodium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [Na+].[O-][13C](=O)[13C](F)(F)F UYCAUPASBSROMS-AWQJXPNKSA-M 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N tetradecyl 3-(3-oxo-3-tetradecoxypropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCC LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JUWGUJSXVOBPHP-UHFFFAOYSA-B titanium(4+);tetraphosphate Chemical compound [Ti+4].[Ti+4].[Ti+4].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O JUWGUJSXVOBPHP-UHFFFAOYSA-B 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical class CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CELVKTDHZONYFA-UHFFFAOYSA-N trilithium;phosphite Chemical class [Li+].[Li+].[Li+].[O-]P([O-])[O-] CELVKTDHZONYFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMFOHNMEJNFJAE-UHFFFAOYSA-N trimagnesium;diphosphite Chemical class [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])[O-].[O-]P([O-])[O-] VMFOHNMEJNFJAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical class COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical class C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNTJEZNVLMAXQI-UHFFFAOYSA-N tris(oxiran-2-ylmethyl) benzene-1,3,5-tricarboxylate Chemical compound C=1C(C(=O)OCC2OC2)=CC(C(=O)OCC2OC2)=CC=1C(=O)OCC1CO1 UNTJEZNVLMAXQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLNPWTHGTVSSEU-UHFFFAOYSA-N undecane-1,11-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCN KLNPWTHGTVSSEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003981 vehicle Substances 0.000 description 1
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 239000011667 zinc carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000010 zinc carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000004416 zinc carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000166 zirconium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B zirconium(4+);tetraphosphate Chemical compound [Zr+4].[Zr+4].[Zr+4].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
Description
本発明は、レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物に関するものである。 The present invention relates to a polyamide resin composition for laser welding.
ポリアミド樹脂は、優れた機械特性、耐熱性および耐薬品性を有するため、自動車、電気・電子部品およびその他の精密機器部品等に幅広く用いられている。様々な用途の中でも、ポリアミド樹脂は溶着性に優れていることから、複数の部材を溶着する用途、いわゆるセンサーやコネクター等の電気回路密封製品、およびインテークマニホールド等の中空部を有する部品に展開されてきている。 Polyamide resins have excellent mechanical properties, heat resistance and chemical resistance, and are therefore widely used in automobiles, electrical / electronic parts, and other precision equipment parts. Among various applications, polyamide resin has excellent weldability, so it can be used in applications where multiple members are welded, so-called electrical circuit sealing products such as sensors and connectors, and parts having hollow parts such as intake manifolds. It is coming.
各種溶着技術の中でも、レーザー溶着技術は局所接合が可能であり、非圧接で磨耗やバリの発生がなく、製品へのダメージが少ないという利点があり、幅広い分野に広がりつつある工法である。しかしながら、結晶性のポリアミド樹脂では、レーザー光の透過性が十分ではなく、レーザー溶着性が不十分であり、改良が求められてきた。また、ポリアミド樹脂は寸法安定性に乏しいため、溶着した成形品に割れや変形などの問題を生じる場合がある。 Among various welding techniques, the laser welding technique is capable of local bonding, has the advantages of non-pressure welding, no generation of wear and burrs, and less damage to products, and is a method that is spreading in a wide range of fields. However, the crystalline polyamide resin is not sufficient in laser light transmission and inadequate in laser weldability, so that improvement has been demanded. In addition, since the polyamide resin has poor dimensional stability, problems such as cracking and deformation may occur in the welded molded product.
従来、ポリアミド樹脂の溶着性改良技術としては、例えば、ナイロン66やナイロン6等の結晶性ポリアミド樹脂に、ポリヘキサメチレンイソフタルアミド等の非晶性ポリアミド樹脂を少量配合したポリアミド樹脂組成物が提案されている(特許文献1参照。)。しかしながら、この提案のポリアミド樹脂組成物は、寸法安定性は改善されるものの、強度や剛性等の機械特性に劣るという課題があり、また溶着性も不十分であった。機械特性を改良するために、ガラス繊維等の充填材を添加した場合には、レーザー光の透過率が低下するという課題があり、溶着性はなお不十分であった。 Conventionally, as a technique for improving the weldability of polyamide resin, for example, a polyamide resin composition in which a small amount of an amorphous polyamide resin such as polyhexamethylene isophthalamide is blended with a crystalline polyamide resin such as nylon 66 or nylon 6 has been proposed. (See Patent Document 1). However, although the proposed polyamide resin composition has improved dimensional stability, it has a problem that it is inferior in mechanical properties such as strength and rigidity, and has poor weldability. When a filler such as glass fiber is added to improve the mechanical properties, there is a problem that the transmittance of the laser beam is lowered, and the weldability is still insufficient.
また、充填材を配合したレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物として、芳香族ポリアミドに、特定屈折率の強化充填材を配合したポリアミド樹脂組成物が提案されている(特許文献2参照。)。しかしながら、この提案のポリアミド樹脂組成物は、レーザー光の透過率が向上し溶着性は改善されるものの、これらの特性はなお十分ではなく、寸法安定性に劣るという課題もあった。 Moreover, as a polyamide resin composition for laser welding in which a filler is blended, a polyamide resin composition in which a reinforcing filler having a specific refractive index is blended with an aromatic polyamide has been proposed (see Patent Document 2). However, although the proposed polyamide resin composition has improved laser light transmittance and improved weldability, these properties are still not sufficient, and there is a problem of poor dimensional stability.
そこで本発明の目的は、これら従来技術の課題に鑑み、溶着性、機械強度および寸法安定性に優れた複合成形品を得ることのできるレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a polyamide resin composition for laser welding capable of obtaining a composite molded article excellent in weldability, mechanical strength and dimensional stability in view of these problems of the prior art.
本発明は、上記課題を解決せんとするものであって、本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物は、ポリアミド樹脂(A)100質量部に対して、1分子中に3つ以上の水酸基を含む化合物(B)を0.1〜20質量部およびリン含有化合物(C)を含有し、吸光光度分析法により求められるリン原子含有量がポリアミド樹脂含有量に対して400〜3500ppmであることを特徴とするレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物である。 This invention solves the said subject, Comprising: The polyamide resin composition for laser welding of this invention has three or more hydroxyl groups in 1 molecule with respect to 100 mass parts of polyamide resins (A). Containing 0.1 to 20 parts by mass of the compound (B) and phosphorus-containing compound (C), and the phosphorus atom content determined by spectrophotometric analysis is 400 to 3500 ppm relative to the polyamide resin content It is a characteristic polyamide resin composition for laser welding.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物の好ましい態様によれば、前記のリン含有化合物(C)は、亜リン酸、次亜リン酸およびそれらの金属塩からなる群から選ばれた少なくとも1種である。 According to a preferred embodiment of the polyamide resin composition for laser welding of the present invention, the phosphorus-containing compound (C) is at least one selected from the group consisting of phosphorous acid, hypophosphorous acid and metal salts thereof. It is.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物の好ましい態様によれば、前記の化合物(B)は、水酸基と、エポキシ基および/またはカルボジイミド基を有し、1分子中の水酸基数が、1分子中のエポキシ基およびカルボジイミド基の数の和よりも多いことである。 According to a preferable aspect of the polyamide resin composition for laser welding of the present invention, the compound (B) has a hydroxyl group, an epoxy group and / or a carbodiimide group, and the number of hydroxyl groups in one molecule is in one molecule. It is more than the sum of the number of epoxy groups and carbodiimide groups.
本発明のレーザー溶着ポリアミド樹脂組成物の好ましい態様によれば、前記の化合物(B)は、水酸基含有化合物と、エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)との反応物であり、水酸基と、エポキシ基またはカルボジイミド基との反応率は3〜95%である。 According to a preferred embodiment of the laser-welded polyamide resin composition of the present invention, the compound (B) is a reaction product of a hydroxyl group-containing compound and an epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b), The reaction rate with the epoxy group or carbodiimide group is 3 to 95%.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物の好ましい態様によれば、前記の化合物(B)は、下記一般式(1)で表される構造を有する化合物および/またはその縮合物である。 According to a preferred embodiment of the polyamide resin composition for laser welding of the present invention, the compound (B) is a compound having a structure represented by the following general formula (1) and / or a condensate thereof.
(上記一般式(1)中、X1〜X6はそれぞれ同一でも異なってもよく、OH、CH3またはORを表す。ただし、OHとORの数の和は3以上である。また、Rはエポキシ基またはカルボジイミド基を有する有機基を表し、nは0〜20の範囲を表す)。 (In the general formula (1), X 1 to X 6 may be the same or different and each represents OH, CH 3 or OR. However, the sum of the number of OH and OR is 3 or more. Represents an organic group having an epoxy group or a carbodiimide group, and n represents a range of 0 to 20.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物の好ましい態様によれば、レーザー光吸収性添加剤を含有する。 According to the preferable aspect of the polyamide resin composition for laser welding of the present invention, it contains a laser light absorbing additive.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物からなる成形品は、電気・電子部品として使用される。 The molded article made of the polyamide resin composition for laser welding of the present invention is used as an electric / electronic component.
本発明のレーザー溶着方法は、前記のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物からなるレーザー光透過性成形品と前記のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物からなるレーザー光吸収性成形品とを当接し、前記のレーザー光透過性成形品側からレーザー光を照射して両者をレーザー溶着することを特徴とするレーザー溶着方法である。 In the laser welding method of the present invention, the laser light transmitting molded article comprising the above-mentioned laser welding polyamide resin composition and the laser light absorbing molded article comprising the above laser welding polyamide resin composition are brought into contact with each other, It is a laser welding method characterized by irradiating a laser beam from the laser light transmitting molded product side and laser welding both of them.
本発明によれば、溶着性、機械強度および寸法安定性に優れた、レーザー光透過性成形品とレーザー光吸収性成形品がレーザー溶着されてなる複合成形品を提供することができるレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物が得られる。 According to the present invention, laser welding capable of providing a composite molded product obtained by laser welding a laser light-transmitting molded product and a laser light-absorbing molded product having excellent weldability, mechanical strength, and dimensional stability. A polyamide resin composition is obtained.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物は、射出成形、射出圧縮成形、圧縮成形、押出成形、ブロー成形およびプレス成形などの任意の方法で成形することができ、各種成形品に加工し利用することができる。特に、本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物は、溶着性、機械強度および寸法安定性に優れる成形品を得ることができる点を活かし、電気・電子関連機器、精密機械関連機器、自動車・車両関連部品、建材などの各種用途の樹脂成形体のレーザー溶着接合に有効である。 The polyamide resin composition for laser welding of the present invention can be molded by any method such as injection molding, injection compression molding, compression molding, extrusion molding, blow molding and press molding, and is processed and used for various molded products. be able to. Particularly, the polyamide resin composition for laser welding according to the present invention makes it possible to obtain a molded product excellent in weldability, mechanical strength and dimensional stability, and is used in electrical / electronic related equipment, precision machinery related equipment, automobiles / vehicles. It is effective for laser welding of resin moldings for various uses such as related parts and building materials.
次に、本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物の実施形態について、詳細に説明する。 Next, an embodiment of the polyamide resin composition for laser welding of the present invention will be described in detail.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物は、ポリアミド樹脂(A)100質量部に対して、1分子中に3つ以上の水酸基を含む化合物(B)を0.1〜20質量部およびリン含有化合物(C)を含有し、吸光光度分析法により求められるリン原子含有量がポリアミド樹脂含有量に対して400〜3500ppmであることを特徴とするレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物である。すなわち、本発明のポリアミド樹脂組成物は、レーザー溶着用に用いられる。 The polyamide resin composition for laser welding of the present invention contains 0.1 to 20 parts by mass of a compound (B) containing three or more hydroxyl groups in one molecule and phosphorus with respect to 100 parts by mass of the polyamide resin (A). It is a polyamide resin composition for laser welding characterized by containing a compound (C) and having a phosphorus atom content determined by a spectrophotometric method of 400 to 3500 ppm with respect to the polyamide resin content. That is, the polyamide resin composition of the present invention is used for laser welding.
本発明で用いられるポリアミド樹脂組成物は、上記のように、ポリアミド樹脂(A)と、1分子中に3つ以上の水酸基を含む化合物(B)(以下、化合物(B)と称することがある。)と、リン含有化合物(C)を含有する。以下、各成分について説明する。 As described above, the polyamide resin composition used in the present invention may be referred to as a polyamide resin (A) and a compound (B) containing three or more hydroxyl groups in one molecule (hereinafter referred to as compound (B)). And a phosphorus-containing compound (C). Hereinafter, each component will be described.
本発明で用いられるポリアミド樹脂組成物において、ポリアミド樹脂(A)は、そのカルボキシル末端基が、後述する化合物(B)中の水酸基と脱水縮合反応すると考えられる。このため、ポリアミド樹脂(A)は、化合物(B)との相溶性に優れていると考えられる。 In the polyamide resin composition used in the present invention, it is considered that the carboxyl terminal group of the polyamide resin (A) undergoes a dehydration condensation reaction with a hydroxyl group in the compound (B) described later. For this reason, it is thought that the polyamide resin (A) is excellent in compatibility with the compound (B).
本発明で用いられるポリアミド樹脂(A)とは、(i)アミノ酸、(ii)ラクタムあるいは(iii)ジアミンとジカルボン酸を主たる原料とするポリアミドである。ポリアミド樹脂(A)の原料の代表例としては、6−アミノカプロン酸、11−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン酸、パラアミノメチル安息香酸などのアミノ酸、ε−カプロラクタム、ω−ラウロラクタムなどのラクタム、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、2−メチルペンタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ウンデカメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、2,2,4−/2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、5−メチルノナメチレンジアミン、2−メチルオクタメチレンジアミンなどの脂肪族ジアミン、メタキシリレンジアミン、パラキシリレンジアミンなどの芳香族ジアミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1−アミノ−3−アミノメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキサン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(3−メチル−4−アミノシクロヘキシル)メタン、2,2−ビス(4−アミノシクロヘキシル)プロパン、ビス(アミノプロピル)ピペラジン、アミノエチルピペラジンなどの脂環族ジアミン、アジピン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸などの脂肪族ジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、2−クロロテレフタル酸、2−メチルテレフタル酸、5−メチルイソフタル酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸などの芳香族ジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、および1,3−シクロペンタンジカルボン酸などの脂環族ジカルボン酸などが挙げられる。本発明の実施形態において、ポリアミド樹脂(A)の原料として、これらの原料から誘導されるポリアミドホモポリマーまたはポリアミドコポリマーを2種以上配合することができる。 The polyamide resin (A) used in the present invention is a polyamide mainly composed of (i) amino acid, (ii) lactam or (iii) diamine and dicarboxylic acid. Representative examples of the raw material of the polyamide resin (A) include amino acids such as 6-aminocaproic acid, 11-aminoundecanoic acid, 12-aminododecanoic acid and paraaminomethylbenzoic acid, lactams such as ε-caprolactam and ω-laurolactam, Tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, 2-methylpentamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, undecamethylenediamine, dodecamethylenediamine, 2,2,4- / 2,4,4-trimethyl Hexamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, aliphatic diamine such as 2-methyloctamethylenediamine, aromatic diamine such as metaxylylenediamine, paraxylylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1-amino-3-aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, bis (3-methyl-4-aminocyclohexyl) methane Aliphatic diamines such as 2,2-bis (4-aminocyclohexyl) propane, bis (aminopropyl) piperazine, aminoethylpiperazine, aliphatics such as adipic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid Dicarboxylic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, 2-chloroterephthalic acid, 2-methylterephthalic acid, 5-methylisophthalic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, hexahydroterephthalic acid, hexahydroisophthalic acid Aromatic dicarboxylic acids such as acids, 1, - cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, and 1,3-like alicyclic dicarboxylic acids such as cyclopentane dicarboxylic acid. In the embodiment of the present invention, as a raw material for the polyamide resin (A), two or more polyamide homopolymers or polyamide copolymers derived from these raw materials can be blended.
ポリアミド樹脂(A)の具体的な例としては、ポリカプロアミド(ナイロン6)、ポリヘキサメチレンアジパミド(ナイロン66)、ポリテトラメチレンアジパミド(ナイロン46)、ポリテトラメチレンセバカミド(ナイロン410)、ポリペンタメチレンアジパミド(ナイロン56)、ポリペンタメチレンセバカミド(ナイロン510)、ポリヘキサメチレンセバカミド(ナイロン610)、ポリヘキサメチレンドデカミド(ナイロン612)、ポリデカメチレンアジパミド(ナイロン106)、ポリデカメチレンセバカミド(ナイロン1010)、ポリデカメチレンドデカミド(ナイロン1012)、ポリウンデカンアミド(ナイロン11)、ポリドデカンアミド(ナイロン12)、ポリカプロアミド/ポリヘキサメチレンアジパミドコポリマー(ナイロン6/66)、ポリカプロアミド/ポリヘキサメチレンテレフタルアミドコポリマー(ナイロン6/6T)、ポリヘキサメチレンアジパミド/ポリヘキサメチレンテレフタルアミドコポリマー(ナイロン66/6T)、ポリヘキサメチレンアジパミド/ポリヘキサメチレンイソフタルアミドコポリマー(ナイロン66/6I)、ポリヘキサメチレンテレフタルアミド/ポリヘキサメチレンイソフタルアミドコポリマー(ナイロン6T/6I)、ポリヘキサメチレンテレフタルアミド/ポリウンデカンアミドコポリマー(ナイロン6T/11)、ポリヘキサメチレンテレフタルアミド/ポリドデカンアミドコポリマー(ナイロン6T/12)、ポリヘキサメチレンアジパミド/ポリヘキサメチレンテレフタルアミド/ポリヘキサメチレンイソフタルアミドコポリマー(ナイロン66/6T/6I)、ポリキシリレンアジパミド(ナイロンXD6)、ポリキシリレンセバカミド(ナイロンXD10)、ポリヘキサメチレンテレフタルアミド/ポリペンタメチレンテレフタルアミドコポリマー(ナイロン6T/5T)、ポリヘキサメチレンテレフタルアミド/ポリ−2−メチルペンタメチレンテレフタルアミドコポリマー(ナイロン6T/M5T)、ポリペンタメチレンテレフタルアミド/ポリデカメチレンテレフタルアミドコポリマー(ナイロン5T/10T)、ポリノナメチレンテレフタルアミド(ナイロン9T)、ポリデカメチレンテレフタルアミド(ナイロン10T)、およびポリドデカメチレンテレフタルアミド(ナイロン12T)などが挙げられる。また、ポリアミド樹脂の具体例としては、これらの混合物や共重合体なども挙げられる。ここで、「/」は共重合体を示す。以下、同様とする。 Specific examples of the polyamide resin (A) include polycaproamide (nylon 6), polyhexamethylene adipamide (nylon 66), polytetramethylene adipamide (nylon 46), polytetramethylene sebacamide ( Nylon 410), polypentamethylene adipamide (nylon 56), polypentamethylene sebamide (nylon 510), polyhexamethylene sebamide (nylon 610), polyhexamethylene dodecamide (nylon 612), polydecamethylene Adipamide (nylon 106), polydecane methylene sebamide (nylon 1010), polydecane methylene dodecane (nylon 1012), polyundecanamide (nylon 11), polydodecanamide (nylon 12), polycaproamide / poly Hexamethylene adipamide Polymer (nylon 6/66), polycaproamide / polyhexamethylene terephthalamide copolymer (nylon 6 / 6T), polyhexamethylene adipamide / polyhexamethylene terephthalamide copolymer (nylon 66 / 6T), polyhexamethylene adipa Mido / polyhexamethylene isophthalamide copolymer (nylon 66 / 6I), polyhexamethylene terephthalamide / polyhexamethylene isophthalamide copolymer (nylon 6T / 6I), polyhexamethylene terephthalamide / polyundecanamide copolymer (nylon 6T / 11) , Polyhexamethylene terephthalamide / polydodecanamide copolymer (nylon 6T / 12), polyhexamethylene adipamide / polyhexamethylene terephthalamide / polyhe Samethylene isophthalamide copolymer (nylon 66 / 6T / 6I), polyxylylene adipamide (nylon XD6), polyxylylene sebacamide (nylon XD10), polyhexamethylene terephthalamide / polypentamethylene terephthalamide copolymer (nylon) 6T / 5T), polyhexamethylene terephthalamide / poly-2-methylpentamethylene terephthalamide copolymer (nylon 6T / M5T), polypentamethylene terephthalamide / polydecamethylene terephthalamide copolymer (nylon 5T / 10T), polynonamethylene Examples include terephthalamide (nylon 9T), polydecamethylene terephthalamide (nylon 10T), and polydodecamethylene terephthalamide (nylon 12T). In addition, specific examples of the polyamide resin include a mixture and a copolymer thereof. Here, “/” indicates a copolymer. The same shall apply hereinafter.
とりわけ好ましいポリアミド樹脂(A)は、200℃〜330℃の融点を有するポリアミド樹脂である。200℃〜330℃の融点を有するポリアミド樹脂は、耐熱性や強度に優れている。200℃以上の融点を有するポリアミド樹脂は、高温条件下において、樹脂圧力の高い状態で溶融混練することができ、後述する化合物(B)との反応性を高めることができる。このため、ポリアミド樹脂組成物中における化合物(B)の分散性をより高め、溶着性、機械強度および寸法安定性をより向上させることができる。ポリアミド樹脂の融点は、220℃以上であることがより好ましい態様である。 Particularly preferred polyamide resin (A) is a polyamide resin having a melting point of 200 ° C to 330 ° C. A polyamide resin having a melting point of 200 ° C. to 330 ° C. is excellent in heat resistance and strength. A polyamide resin having a melting point of 200 ° C. or higher can be melt-kneaded under high temperature conditions with a high resin pressure, and the reactivity with the compound (B) described later can be increased. For this reason, the dispersibility of the compound (B) in the polyamide resin composition can be further improved, and the weldability, mechanical strength, and dimensional stability can be further improved. The melting point of the polyamide resin is more preferably 220 ° C. or higher.
一方、330℃以下の融点を有するポリアミド樹脂を用いることにより、溶融混練温度を適度に抑え、ポリアミド樹脂の分解を抑制することができる。このため、溶着性、機械強度および寸法安定性をより向上させることができる。 On the other hand, by using a polyamide resin having a melting point of 330 ° C. or lower, the melt kneading temperature can be moderately suppressed, and the decomposition of the polyamide resin can be suppressed. For this reason, weldability, mechanical strength, and dimensional stability can be further improved.
ここで、本発明の実施形態におけるポリアミド樹脂の融点は、示差走査熱量計を用いて、不活性ガス雰囲気下、ポリアミド樹脂を溶融状態から20℃/分の降温速度で30℃まで降温した後、20℃/分の昇温速度で融点+40℃まで昇温した場合に現れる吸熱ピークの温度と定義する。ただし、吸熱ピークが2つ以上検出される場合には、ピーク強度の最も大きい吸熱ピークの温度を融点とする。 Here, the melting point of the polyamide resin in the embodiment of the present invention is as follows. After the polyamide resin is cooled from the molten state to 30 ° C. at a temperature decreasing rate of 20 ° C./min under an inert gas atmosphere using a differential scanning calorimeter, It is defined as the temperature of the endothermic peak that appears when the temperature is raised to the melting point + 40 ° C. at a rate of temperature increase of 20 ° C./min. However, when two or more endothermic peaks are detected, the temperature of the endothermic peak having the highest peak intensity is defined as the melting point.
200℃〜330℃の融点を有するポリアミド樹脂としては、例えば、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン46、ナイロン410、ナイロン610、ナイロン56、ナイロン6T/66、ナイロン6T/6I、ナイロン6T/12、ナイロン6T/5T、ナイロン6T/M5T、ナイロン6T/6などのヘキサメチレテレフタルアミド単位を有する共重合体や、ナイロン5T/10T、ナイロン9T、ナイロン10T、およびナイロン12Tなどを挙げることができる。これらの中でも、溶着性、機械強度および寸法安定性のバランスに優れるポリアミド樹脂として、ナイロン6がより好ましく用いられる。これらのポリアミド樹脂を、溶着性、機械強度および寸法安定性などの必要特性に応じて、2種以上配合することも実用上好適である。 Examples of polyamide resins having a melting point of 200 ° C. to 330 ° C. include nylon 6, nylon 66, nylon 46, nylon 410, nylon 610, nylon 56, nylon 6T / 66, nylon 6T / 6I, nylon 6T / 12, nylon Examples thereof include copolymers having hexamethyl terephthalamide units such as 6T / 5T, nylon 6T / M5T, and nylon 6T / 6, nylon 5T / 10T, nylon 9T, nylon 10T, and nylon 12T. Among these, nylon 6 is more preferably used as a polyamide resin having an excellent balance of weldability, mechanical strength, and dimensional stability. It is practically preferable to blend two or more of these polyamide resins depending on the required properties such as weldability, mechanical strength and dimensional stability.
これらポリアミド樹脂の重合度には特に制限がないが、樹脂濃度0.01g/mlの98%濃硫酸溶液中、25℃の温度で測定した相対粘度(ηr)が1.5〜5.0の範囲であることが好ましい。相対粘度が1.5以上であれば、得られる成形品の機械強度をより向上させることができる。相対粘度は、2.0以上がより好ましい。一方、相対粘度が5.0以下であれば、溶着性をより向上させることができる。 The degree of polymerization of these polyamide resins is not particularly limited, but the relative viscosity (ηr) measured at a temperature of 25 ° C. in a 98% concentrated sulfuric acid solution having a resin concentration of 0.01 g / ml is 1.5 to 5.0. A range is preferable. When the relative viscosity is 1.5 or more, the mechanical strength of the obtained molded product can be further improved. The relative viscosity is more preferably 2.0 or more. On the other hand, if the relative viscosity is 5.0 or less, the weldability can be further improved.
本発明で用いられるポリアミド樹脂組成物は、1分子中に3つ以上の水酸基を含む化合物(B)を含有する。水酸基含有化合物は、ポリアミド樹脂(A)との脱水縮合反応により、ポリアミド樹脂組成物中に架橋構造を形成させることができ、得られる成形品の機械強度および寸法安定性を向上させることができる。また、レーザー溶着時においても、レーザーの熱により、接合面に架橋構造を形成させることができ、溶着性を向上させることができる。 The polyamide resin composition used in the present invention contains a compound (B) containing three or more hydroxyl groups in one molecule. The hydroxyl group-containing compound can form a crosslinked structure in the polyamide resin composition by a dehydration condensation reaction with the polyamide resin (A), and can improve the mechanical strength and dimensional stability of the obtained molded product. Further, even during laser welding, a crosslinked structure can be formed on the joint surface by the heat of the laser, and the weldability can be improved.
本発明の実施形態で使用される化合物(B)は、1分子中に3つ以上の水酸基を有する化合物である。1分子中に2つ以下の水酸基を有する化合物は、ポリアミド樹脂組成物中に架橋構造を十分に形成させることができず、溶着性、機械強度および寸法安定性が低下する。1分子中の水酸基の数は4つ以上が好ましく、6つ以上がさらに好ましい態様である。化合物(B)は、低分子化合物であってもよく、重合体も用いられる。 The compound (B) used in the embodiment of the present invention is a compound having three or more hydroxyl groups in one molecule. A compound having 2 or less hydroxyl groups in one molecule cannot sufficiently form a crosslinked structure in the polyamide resin composition, and the weldability, mechanical strength and dimensional stability are lowered. The number of hydroxyl groups in one molecule is preferably 4 or more, and more preferably 6 or more. The compound (B) may be a low molecular compound, and a polymer is also used.
化合物(B)の1分子中の水酸基の数は、低分子化合物の場合は、通常の分析方法(例えば、NMR、FT−IR、GC−MS等の組み合わせ)により化合物の構造式を特定し、算出することができる。また、縮合物の場合、水酸基の数は、化合物(B)の数平均分子量と水酸基価を算出し、下記式(2)により求めることができる。
・1分子中の水酸基の数=(数平均分子量×水酸基価)/56110 (2)
化合物(B)の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)を用いて、算出することができる。具体的には、以下の方法により算出することができる。化合物(B)が溶解する溶媒、例えば、ヘキサフルオロイソプロパノールを移動相として、ポリメチルメタクリレート(PMMA)を標準物質として用いる。カラムは溶媒に合わせ、例えば、ヘキサフルオロイソプロパノールを使用する場合には、島津ジーエルシー(株)製の「Shodex GPC HFIP−806M」および/または「Shodex GPC HFIP−LG」を用いて、検出器として示差屈折率計を用いて数平均分子量の測定を行うことができる。
In the case of a low molecular compound, the number of hydroxyl groups in one molecule of the compound (B) specifies the structural formula of the compound by a usual analysis method (for example, a combination of NMR, FT-IR, GC-MS, etc.) Can be calculated. In the case of a condensate, the number of hydroxyl groups can be determined by the following formula (2) by calculating the number average molecular weight and the hydroxyl value of the compound (B).
Number of hydroxyl groups in one molecule = (number average molecular weight × hydroxyl value) / 56110 (2)
The number average molecular weight of the compound (B) can be calculated using a gel permeation chromatograph (GPC). Specifically, it can be calculated by the following method. A solvent in which the compound (B) is dissolved, for example, hexafluoroisopropanol is used as a mobile phase, and polymethyl methacrylate (PMMA) is used as a standard substance. The column is matched to the solvent. For example, when hexafluoroisopropanol is used, “Shodex GPC HFIP-806M” and / or “Shodex GPC HFIP-LG” manufactured by Shimadzu GL Corporation is used as a detector. The number average molecular weight can be measured using a differential refractometer.
化合物(B)の水酸基価は、化合物(B)を、無水酢酸と無水ピリジンの混合溶液でアセチル化して、それをエタノール性水酸化カリウム溶液で滴定することにより求めることができる。 The hydroxyl value of the compound (B) can be determined by acetylating the compound (B) with a mixed solution of acetic anhydride and anhydrous pyridine and titrating it with an ethanolic potassium hydroxide solution.
本発明で用いられるポリアミド樹脂組成物において、化合物(B)の含有量は、ポリアミド樹脂(A)100質量部に対して0.1〜20質量部(0.1質量部以上20質量部以下)である。化合物(B)の含有量が0.1質量部未満であると、得られる成形品の溶着性、機械強度および寸法安定性が低下する。化合物(B)の含有量は、(A)ポリアミド樹脂100質量部に対して、0.5質量部以上であることが好ましく、2質量部以上であることがさらに好ましい態様である。 In the polyamide resin composition used in the present invention, the content of the compound (B) is 0.1 to 20 parts by mass (0.1 to 20 parts by mass) with respect to 100 parts by mass of the polyamide resin (A). It is. When the content of the compound (B) is less than 0.1 parts by mass, the weldability, mechanical strength and dimensional stability of the obtained molded product are lowered. The content of the compound (B) is preferably 0.5 parts by mass or more and more preferably 2 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the (A) polyamide resin.
一方、化合物(B)の含有量が20質量部を超えると、化合物(B)が成形品表層へブリードアウトしやすく、溶着性が低下する。また、ポリアミド樹脂の可塑化と分解が促進され、機械強度および寸法安定性が低下する。化合物(B)の含有量は、ポリアミド樹脂(A)100質量部に対して、7.5質量部以下であることが好ましく、6質量部以下であることがさらに好ましい態様である。 On the other hand, when the content of the compound (B) exceeds 20 parts by mass, the compound (B) tends to bleed out to the surface layer of the molded product, and the weldability is lowered. Moreover, plasticization and decomposition of the polyamide resin are promoted, and mechanical strength and dimensional stability are lowered. The content of the compound (B) is preferably 7.5 parts by mass or less and more preferably 6 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polyamide resin (A).
本発明の実施形態で用いられる化合物(B)は、25℃の温度において固形であるか、または25℃の温度において200mPa・s以上の粘度を有する液状であることが好ましい。その場合、溶融混練時に所望の粘度にすることが容易となり、ポリアミド樹脂(A)との相溶性をより向上させ、溶着性、機械強度および寸法安定性をより向上させることができる。 The compound (B) used in the embodiment of the present invention is preferably solid at a temperature of 25 ° C. or a liquid having a viscosity of 200 mPa · s or more at a temperature of 25 ° C. In that case, it becomes easy to obtain a desired viscosity at the time of melt-kneading, the compatibility with the polyamide resin (A) can be further improved, and the weldability, mechanical strength and dimensional stability can be further improved.
化合物(B)の具体例としては、1,2,4−ブタントリオール、1,2,5−ペンタントリオール、1,2,6−ヘキサントリオール、1,2,3,6−ヘキサンテトロール、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリセリン、ペンタグリセリン、ヘキサグリセリン、ジトリメチロールプロパン、トリトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、メチルグルコシド、ソルビトール、グルコース、マンニトール、スクロース、1,3,5−トリヒドロキシベンゼン、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、トリエタノールアミン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、2−メチルプロパントリオール、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、および2−メチル−1,2,4−ブタントリオールなどを挙げることができる。 Specific examples of the compound (B) include 1,2,4-butanetriol, 1,2,5-pentanetriol, 1,2,6-hexanetriol, 1,2,3,6-hexanetetrol, glycerin. , Diglycerin, triglycerin, tetraglycerin, pentaglycerin, hexaglycerin, ditrimethylolpropane, tritrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, methylglucoside, sorbitol, glucose, mannitol, sucrose, 1,3, 5-trihydroxybenzene, 1,2,4-trihydroxybenzene, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyvinyl alcohol, triethanolamine, trimethylolethane, trimethylolpropane, 2-methylpropaline Triol, tris (hydroxymethyl) aminomethane, and the like 2-methyl-1,2,4-butanetriol and the like.
また、水酸基含有化合物として、繰り返し構造単位を有する水酸基含有化合物も挙げることができ、例えば、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、メチレン結合、ビニル結合、イミン結合、シロキサン結合、ウレタン結合、チオエーテル結合、ケイ素−ケイ素結合、カーボネート結合、スルホニル結合、およびイミド結合を有する繰り返し構造単位を有する水酸基含有化合物が挙げられる。 Examples of the hydroxyl group-containing compound also include a hydroxyl group-containing compound having a repeating structural unit, such as an ester bond, an amide bond, an ether bond, a methylene bond, a vinyl bond, an imine bond, a siloxane bond, a urethane bond, a thioether bond, Examples thereof include a hydroxyl group-containing compound having a repeating structural unit having a silicon-silicon bond, a carbonate bond, a sulfonyl bond, and an imide bond.
水酸基含有化合物は、これらの結合を2種以上含む繰り返し構造単位を含有することができる。繰り返し構造単位を有する水酸基含有化合物として、エステル結合、カーボネート結合、エーテル結合および/またはアミド結合を有する繰り返し構造単位を有する水酸基含有化合物が好ましく用いられる。 The hydroxyl group-containing compound can contain a repeating structural unit containing two or more of these bonds. As the hydroxyl group-containing compound having a repeating structural unit, a hydroxyl group-containing compound having a repeating structural unit having an ester bond, a carbonate bond, an ether bond and / or an amide bond is preferably used.
エステル結合を有する繰り返し構造単位を有する水酸基含有化合物は、例えば、水酸基を1個以上有する化合物に、カルボキシル基に隣接する炭素原子が飽和炭素原子であり、かつその炭素原子上の水素原子がすべて置換され、かつ水酸基を2個以上有するモノカルボン酸を反応させることにより得ることができる。 A hydroxyl group-containing compound having a repeating structural unit having an ester bond is, for example, a compound having one or more hydroxyl groups, the carbon atom adjacent to the carboxyl group is a saturated carbon atom, and all the hydrogen atoms on the carbon atom are substituted. And can be obtained by reacting a monocarboxylic acid having two or more hydroxyl groups.
また、エーテル結合を有する繰り返し構造単位を有する水酸基含有化合物は、例えば、水酸基を1個以上有する化合物と水酸基を1個以上有する環状エーテル化合物の開環重合により得ることができる。エステル結合とアミド結合を有する繰り返し構造単位を有する水酸基含有化合物は、例えば、アミノジオールと環状酸無水物との重縮合反応により得ることができる。アミノ基を含むエーテル結合を有する繰り返し構造単位を有する水酸基含有化合物は、例えば、トリアルカノールアミンの分子間縮合により得ることができる。カーボネート結合を有する繰り返し構造単位からなる水酸基含有化合物は、例えば、トリスフェノールのアリールカーボネート誘導体の重縮合反応により得ることができる。 The hydroxyl group-containing compound having a repeating structural unit having an ether bond can be obtained, for example, by ring-opening polymerization of a compound having one or more hydroxyl groups and a cyclic ether compound having one or more hydroxyl groups. A hydroxyl group-containing compound having a repeating structural unit having an ester bond and an amide bond can be obtained, for example, by a polycondensation reaction between an aminodiol and a cyclic acid anhydride. A hydroxyl group-containing compound having a repeating structural unit having an ether bond containing an amino group can be obtained, for example, by intermolecular condensation of trialkanolamine. A hydroxyl group-containing compound comprising a repeating structural unit having a carbonate bond can be obtained, for example, by a polycondensation reaction of an aryl carbonate derivative of trisphenol.
化合物(B)の中でも、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールおよびトリペンタエリスリトールが好ましく用いられる。 Among the compounds (B), pentaerythritol, dipentaerythritol and tripentaerythritol are preferably used.
本発明の実施形態で用いられるポリアミド樹脂組成物は、リン含有化合物(C)を含有する。従来から、次亜リン酸ナトリウムなどのリン含有化合物は、ポリアミドを重縮合する際の重縮合触媒として用いられており、重合時間の短縮化と黄変抑制効果が知られている。本発明の実施形態においては、化合物(B)とともにリン含有化合物(C)を含有させることにより、溶着性、機械強度および寸法安定性に優れる成形品を得ることができる。これは、リン含有化合物(C)は、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B)の縮合反応を促進する効果に優れているため、ポリアミド樹脂組成物中により架橋構造を形成させることができ、溶着性、機械強度および寸法安定性に優れる成形品を得ることができる。また、ポリアミド樹脂組成物中における化合物(B)の分散性をより向上させることができるため、レーザー透過性に優れ、溶着性をより高めることができる。 The polyamide resin composition used in the embodiment of the present invention contains a phosphorus-containing compound (C). Conventionally, phosphorus-containing compounds such as sodium hypophosphite have been used as polycondensation catalysts for polycondensation of polyamides, and are known to shorten polymerization time and to suppress yellowing. In the embodiment of the present invention, a molded product having excellent weldability, mechanical strength, and dimensional stability can be obtained by including the phosphorus-containing compound (C) together with the compound (B). This is because the phosphorus-containing compound (C) is excellent in the effect of promoting the condensation reaction between the polyamide resin (A) and the compound (B), so that a crosslinked structure can be formed in the polyamide resin composition. A molded product having excellent properties, mechanical strength and dimensional stability can be obtained. Moreover, since the dispersibility of the compound (B) in a polyamide resin composition can be improved more, it is excellent in laser transmittance and weldability can be improved more.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物において、リン原子含有量は、ポリアミド樹脂(A)の含有量に対して、400〜3500ppm(400ppm以上3500ppm以下)である。ここで、本発明の実施形態におけるリン原子含有量とは、後述する吸光光度分析法により求められるリン元素の濃度を表す。すなわち、本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物において、リン含有化合物(C)の含有量は、リン原子換算(重量基準)でポリアミド樹脂(A)の含有量に対して、400〜3500ppmである。リン原子換算濃度が400ppm未満であると、ポリアミド樹脂(A)と、化合物(B)の縮合反応を促進する効果に乏しく、得られる成形品の溶着性、機械強度および寸法安定性が低下する。リン含有化合物(C)のリン原子換算濃度は、ポリアミド樹脂(A)の含有量に対して、600ppm以上が好ましく、800ppm以上がさらに好ましい。一方で、リン含有化合物(C)のリン原子換算濃度が3500ppmを超えると、ポリアミド樹脂(A)の増粘が顕著となり、成形性が低下する。また、せん断発熱によるリン含有化合物(C)の分解で発生するガスが成形品内に存在することにより、得られる成形品の溶着性、機械強度および寸法安定性が低下する。また、リン含有化合物(C)が成形品表層へブリードアウトしやすくなり、溶着性がより低下する。リン含有化合物(C)の含有量は、リン原子換算で、ポリアミド樹脂(A)の含有量に対して、3000ppm以下であることが好ましい。 In the polyamide resin composition for laser welding of the present invention, the phosphorus atom content is 400 to 3500 ppm (400 ppm to 3500 ppm) with respect to the content of the polyamide resin (A). Here, the phosphorus atom content in the embodiment of the present invention represents the concentration of phosphorus element determined by an absorptiometric method described later. That is, in the polyamide resin composition for laser welding of the present invention, the content of the phosphorus-containing compound (C) is 400 to 3500 ppm with respect to the content of the polyamide resin (A) in terms of phosphorus atoms (weight basis). . When the phosphorus atom equivalent concentration is less than 400 ppm, the effect of accelerating the condensation reaction between the polyamide resin (A) and the compound (B) is poor, and the weldability, mechanical strength and dimensional stability of the resulting molded article are lowered. The phosphorus atom equivalent concentration of the phosphorus-containing compound (C) is preferably 600 ppm or more, more preferably 800 ppm or more with respect to the content of the polyamide resin (A). On the other hand, when the phosphorus atom conversion density | concentration of a phosphorus containing compound (C) exceeds 3500 ppm, the viscosity increase of a polyamide resin (A) will become remarkable and a moldability will fall. Further, the presence of gas generated by the decomposition of the phosphorus-containing compound (C) due to shearing heat generation in the molded product lowers the weldability, mechanical strength and dimensional stability of the obtained molded product. Further, the phosphorus-containing compound (C) is likely to bleed out to the surface layer of the molded product, and the weldability is further reduced. The content of the phosphorus-containing compound (C) is preferably 3000 ppm or less with respect to the content of the polyamide resin (A) in terms of phosphorus atoms.
ここでいうレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物中のポリアミド樹脂(A)の含有量に対するリン含有化合物(C)由来のリン原子換算濃度、すなわちリン原子含有量は、次の方法により求めることができる。まず、レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物またはその成形品を減圧乾燥した後、550℃の温度の電気炉で24時間加熱して灰化させ、レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物またはその成形品中の無機物の含有量を求める。また、耐衝撃改良剤などのポリアミド樹脂(A)以外の樹脂成分や、化合物(B)およびリン含有化合物(C)およびその他の添加剤を含有する場合は、有機溶媒による抽出分離によりポリアミド樹脂(A)またはポリアミド樹脂(A)以外の成分の質量を測定し、レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物またはその成形品中のポリアミド樹脂(A)の含有量を算出する。 The phosphorus atom conversion density | concentration derived from the phosphorus containing compound (C) with respect to content of the polyamide resin (A) in the polyamide resin composition for laser welding here, ie, phosphorus atom content, can be calculated | required with the following method. First, the polyamide resin composition for laser welding or a molded product thereof is dried under reduced pressure, and then heated for ashing in an electric furnace at a temperature of 550 ° C. for 24 hours, and then the polyamide resin composition for laser welding or an inorganic material in the molded product thereof. The content of is determined. In addition, when the resin component other than the polyamide resin (A) such as an impact modifier, the compound (B), the phosphorus-containing compound (C) and other additives are contained, the polyamide resin ( The mass of components other than A) or the polyamide resin (A) is measured, and the content of the polyamide resin (A) in the polyamide resin composition for laser welding or its molded product is calculated.
一方、レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物またはその成形品を、炭酸ソーダ共存下において乾式灰化分解するか、硫酸・硝酸・過塩素酸系または硫酸・過酸化水素水系において、湿式分解することにより、リンを正リン酸とする。次いで、正リン酸を1mol/L硫酸溶液中においてモリブデン酸塩と反応させて、リンモリブデン酸とし、これを硫酸ヒドラジンで還元して、生成するヘテロポリブルーの830nmの吸光度を吸光光度計(検量線法)で測定して、比色定量することにより、レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物中のリン含有量を算出する。比色定量により算出したリン含有量を、先に算出したポリアミド樹脂含有量で割ることにより、ポリアミド樹脂に対するリン原子換算濃度を求めることができる。 On the other hand, by subjecting the polyamide resin composition for laser welding or its molded product to dry ashing decomposition in the presence of sodium carbonate, or wet decomposition in sulfuric acid / nitric acid / perchloric acid system or sulfuric acid / hydrogen peroxide system, Phosphorus is regular phosphoric acid. Next, orthophosphoric acid is reacted with molybdate in a 1 mol / L sulfuric acid solution to form phosphomolybdic acid, which is reduced with hydrazine sulfate, and the absorbance of the resulting heteropolyblue at 830 nm is measured with an absorptiometer (calibration curve). The phosphorus content in the polyamide resin composition for laser welding is calculated by colorimetric quantification. By dividing the phosphorus content calculated by colorimetric determination by the previously calculated polyamide resin content, the phosphorus atom equivalent concentration for the polyamide resin can be obtained.
リン含有化合物(C)としては、例えば、ホスファイト化合物、ホスフェート化合物、ホスホナイト化合物、ホスホネート化合物、ホスフィナイト化合物、ホスフィネート化合物などが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。 Examples of the phosphorus-containing compound (C) include phosphite compounds, phosphate compounds, phosphonite compounds, phosphonate compounds, phosphinite compounds, and phosphinate compounds. Two or more of these may be contained.
ホスファイト化合物としては、例えば、亜リン酸、亜リン酸アルキルエステル、亜リン酸アリールエステル、およびそれらの金属塩などが挙げられる。アルキルエステルやアリールエステルは、モノエステルであってもよく、ジエステルやトリエステルなど複数のエステル結合を有することもでき、以下同様である。具体的には、亜リン酸、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフェニル、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、およびこれらの金属塩等が挙げられる。金属塩については後述する。 Examples of the phosphite compound include phosphorous acid, phosphorous acid alkyl ester, phosphorous acid aryl ester, and metal salts thereof. The alkyl ester or aryl ester may be a monoester, may have a plurality of ester bonds such as a diester or triester, and so on. Specifically, phosphorous acid, trimethyl phosphite, triethyl phosphite, triphenyl phosphite, bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol-di-phosphite, Examples thereof include bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol-di-phosphite and metal salts thereof. The metal salt will be described later.
ホスフェート化合物としては、例えば、リン酸、リン酸アルキルエステル、リン酸アリールエステル、およびそれらの金属塩などが挙げられる。具体的には、リン酸、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリフェニル、およびこれらの金属塩等が挙げられる。 Examples of the phosphate compound include phosphoric acid, phosphoric acid alkyl ester, phosphoric acid aryl ester, and metal salts thereof. Specific examples include phosphoric acid, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, triphenyl phosphate, and metal salts thereof.
ホスホナイト化合物としては、例えば、亜ホスホン酸、亜ホスホン酸アルキルエステル、亜ホスホン酸アリールエステル、アルキル化亜ホスホン酸、アリール化亜ホスホン酸、それらのアルキルエステルまたはアリールエステル、およびそれらの金属塩などが挙げられる。具体的には、亜ホスホン酸、亜ホスホン酸ジメチル、亜ホスホン酸ジエチル、亜ホスホン酸ジフェニル、メチル亜ホスホン酸、エチル亜ホスホン酸、プロピル亜ホスホン酸、イソプロピル亜ホスホン酸、ブチル亜ホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4’−ジイルビスホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4’−ジイルビスホスホナイト、これらのアルキルエステルまたはアリールエステル、およびこれらの金属塩等が挙げられる。 Examples of the phosphonite compound include phosphonous acid, phosphonous acid alkyl ester, phosphonous aryl ester, alkylated phosphonous acid, arylated phosphonous acid, their alkyl ester or aryl ester, and metal salts thereof. Can be mentioned. Specifically, phosphonous acid, dimethyl phosphite, diethyl phosphonite, diphenyl phosphite, methyl phosphonous acid, ethyl phosphonous acid, propyl phosphonous acid, isopropyl phosphonous acid, butyl phosphonous acid, phenyl Phosphorous acid, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) [1,1-biphenyl] -4,4′-diylbisphosphonite, tetrakis (2,4-di-t-butyl-5-methyl) Phenyl) [1,1-biphenyl] -4,4′-diylbisphosphonite, alkyl esters or aryl esters thereof, and metal salts thereof.
ホスホネート化合物としては、例えば、ホスホン酸、ホスホン酸アルキルエステル、ホスホン酸アリールエステル、アルキル化ホスホン酸またはアリール化ホスホン酸、それらのアルキルエステルまたはアリールエステル、およびそれらの金属塩などが挙げられる。具体的には、ホスホン酸ジメチル、ホスホン酸ジエチル、ホスホン酸ジフェニル、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、イソプロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、フェニルホスホン酸、ベンジルホスホン酸、トリルホスホン酸、キシリルホスホン酸、ビフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アントリルホスホン酸、これらのアルキルエステルまたはアリールエステル、およびこれらの金属塩等が挙げられる。 Examples of the phosphonate compound include phosphonic acid, phosphonic acid alkyl ester, phosphonic acid aryl ester, alkylated phosphonic acid or arylated phosphonic acid, their alkyl ester or aryl ester, and metal salts thereof. Specifically, dimethyl phosphonate, diethyl phosphonate, diphenyl phosphonate, methyl phosphonic acid, ethyl phosphonic acid, propyl phosphonic acid, isopropyl phosphonic acid, butyl phosphonic acid, phenyl phosphonic acid, benzyl phosphonic acid, tolyl phosphonic acid, xylyl Examples thereof include phosphonic acid, biphenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, anthrylphosphonic acid, alkyl esters or aryl esters thereof, and metal salts thereof.
ホスフィナイト化合物としては、例えば、亜ホスフィン酸、亜ホスフィン酸アルキルエステル、亜ホスフィン酸アリールエステル、アルキル化亜ホスフィン酸、アリール化亜ホスフィン酸、それらのアルキルまたはアリールエステル、およびそれらの金属塩などが挙げられる。具体的には、亜ホスフィン酸、亜ホスフィン酸メチル、亜ホスフィン酸エチル、亜ホスフィン酸フェニル、メチル亜ホスフィン酸、エチル亜ホスフィン酸、プロピル亜ホスフィン酸、イソプロピル亜ホスフィン酸、ブチル亜ホスフィン酸、フェニル亜ホスフィン酸、ジメチル亜ホスフィン酸、ジエチル亜ホスフィン酸、ジプロピル亜ホスフィン酸、ジイソプロピル亜ホスフィン酸、ジブチル亜ホスフィン酸、ジフェニル亜ホスフィン酸、これらのアルキルエステルまたはアリールエステル、およびこれらの金属塩等が挙げられる。 Examples of the phosphinite compound include phosphinic acid, phosphinic acid alkyl ester, phosphinic acid aryl ester, alkylated phosphinic acid, arylated phosphinic acid, their alkyl or aryl esters, and metal salts thereof. It is done. Specifically, phosphinic acid, methyl phosphite, ethyl phosphite, phenyl phosphite, methyl phosphinic acid, ethyl phosphinic acid, propyl phosphinic acid, isopropyl phosphinic acid, butyl phosphinic acid, phenyl Examples include phosphinic acid, dimethylphosphinic acid, diethylphosphinic acid, dipropylphosphinic acid, diisopropylphosphinic acid, dibutylphosphinic acid, diphenylphosphinic acid, alkyl esters or aryl esters thereof, and metal salts thereof. It is done.
ホスフィネート化合物としては、例えば、次亜リン酸、次亜リン酸アルキルエステル、次亜リン酸アリールエステル、アルキル化次亜リン酸、アリール化次亜リン酸、それらのアルキルエステルまたはアリールエステル、およびそれらの金属塩などが挙げられる。具体的には、ホスフィン酸メチル、ホスフィン酸エチル、ホスフィン酸フェニル、メチルホスフィン酸、エチルホスフィン酸、プロピルホスフィン酸、イソプロピルホスフィン酸、ブチルホスフィン酸、フェニルホスフィン酸、トリルホスフィン酸、キシリルホスフィン酸、ビフェニリルホスフィン酸、ジメチルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、ジプロピルホスフィン酸、ジイソプロピルホスフィン酸、ジブチルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、ジトリルホスフィン酸、ジキシリルホスフィン酸、ジビフェニリルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アントリルホスフィン酸、2−カルボキシフェニルホスフィン酸、これらのアルキルエステルまたはアリールエステル、およびこれらの金属塩などが挙げられる。 Examples of the phosphinate compound include hypophosphorous acid, hypophosphorous alkyl ester, hypophosphorous aryl ester, alkylated hypophosphorous acid, arylated hypophosphorous acid, their alkyl ester or aryl ester, and And metal salts thereof. Specifically, methyl phosphinate, ethyl phosphinate, phenyl phosphinate, methylphosphinic acid, ethylphosphinic acid, propylphosphinic acid, isopropylphosphinic acid, butylphosphinic acid, phenylphosphinic acid, tolylphosphinic acid, xylylphosphinic acid, Biphenylylphosphinic acid, dimethylphosphinic acid, diethylphosphinic acid, dipropylphosphinic acid, diisopropylphosphinic acid, dibutylphosphinic acid, diphenylphosphinic acid, ditolylphosphinic acid, dixylphosphinic acid, dibiphenylylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, Anthryl phosphinic acid, 2-carboxyphenyl phosphinic acid, alkyl or aryl esters thereof, and metal salts thereof can be mentioned.
これらの中でも、ホスファイト化合物とホスフィネート化合物が好ましく、またこれらは水和物であっても構わない。亜リン酸、次亜リン酸およびそれらの金属塩からなる群から選ばれた少なくとも1種を含有することがさらに好ましい態様である。このような化合物を含有させることにより、ポリアミド樹脂(A)と、化合物(B)の縮合反応を促進する効果に優れ、得られる成形品の溶着性、機械強度および寸法安定性をより向上させることができる。 Among these, phosphite compounds and phosphinate compounds are preferable, and these may be hydrates. It is a further preferred embodiment that it contains at least one selected from the group consisting of phosphorous acid, hypophosphorous acid and metal salts thereof. By including such a compound, it is excellent in the effect of promoting the condensation reaction between the polyamide resin (A) and the compound (B), and further improves the weldability, mechanical strength and dimensional stability of the obtained molded product. Can do.
金属塩を構成する金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、マグネシウム、カルシウム、およびバリウムなどのアルカリ土類金属などが挙げられる。これらの中でも、ナトリウムとカルシウムが好ましく用いられる。 Examples of the metal constituting the metal salt include alkali metals such as lithium, sodium, and potassium, and alkaline earth metals such as magnesium, calcium, and barium. Among these, sodium and calcium are preferably used.
亜リン酸または次亜リン酸の金属塩として、具体的には、亜リン酸リチウム、亜リン酸ナトリウム、亜リン酸カリウム、亜リン酸マグネシウム、亜リン酸カルシウム、亜リン酸バリウム、次亜リン酸リチウム、次亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸カリウム、次亜リン酸マグネシウム、次亜リン酸カルシウム、次亜リン酸バリウムなどが挙げられる。これらの中でも、次亜リン酸ナトリウム、亜リン酸ナトリウムなどのナトリウム金属塩や、亜リン酸カルシウム、次亜リン酸カルシウムなどのカルシウム金属塩がより好ましく、ポリアミド樹脂(A)と、化合物(B)の縮合反応を促進する効果に優れ、得られる成形品の溶着性、機械強度および寸法安定性をより向上させることができる。 As metal salts of phosphorous acid or hypophosphorous acid, specifically, lithium phosphite, sodium phosphite, potassium phosphite, magnesium phosphite, calcium phosphite, barium phosphite, hypophosphorous acid Examples thereof include lithium, sodium hypophosphite, potassium hypophosphite, magnesium hypophosphite, calcium hypophosphite, and barium hypophosphite. Among these, sodium metal salts such as sodium hypophosphite and sodium phosphite, and calcium metal salts such as calcium phosphite and calcium hypophosphite are more preferable. Condensation reaction between polyamide resin (A) and compound (B) The weldability, mechanical strength and dimensional stability of the resulting molded product can be further improved.
本発明の実施形態において、化合物(B)は、水酸基と、エポキシ基および/またはカルボジイミド基を有し、1分子中の水酸基の数が、1分子中のエポキシ基およびカルボジイミド基の数の和よりも多い化合物(以下、区別するために「化合物(B’)」と記載する場合がある。)であることが好ましい。ポリアミド樹脂(A)のアミノ末端基とカルボキシル末端基が、化合物(B’)化合物の水酸基、エポキシ基および/またはカルボジイミド基と反応するため、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B’)の反応性をより高め、ポリアミド樹脂組成物中における化合物(B’)の分散性をより向上させることができ、得られる成形品の溶着性、機械強度および寸法安定性を向上させることができる。 In the embodiment of the present invention, the compound (B) has a hydroxyl group, an epoxy group and / or a carbodiimide group, and the number of hydroxyl groups in one molecule is the sum of the number of epoxy groups and carbodiimide groups in one molecule. Of the compound (hereinafter, sometimes referred to as “compound (B ′)” for distinction). Since the amino terminal group and carboxyl terminal group of the polyamide resin (A) react with the hydroxyl group, epoxy group and / or carbodiimide group of the compound (B ′) compound, the reactivity between the polyamide resin (A) and the compound (B ′) The dispersibility of the compound (B ′) in the polyamide resin composition can be further improved, and the weldability, mechanical strength, and dimensional stability of the obtained molded product can be improved.
また、1分子中の水酸基の数を、1分子中のエポキシ基およびカルボジイミド基の数の和よりも多い化合物(B’)とすることにより、過剰な架橋構造の形成による脆化を抑制し、得られる成形品の溶着性、機械強度および寸法安定性を向上させることができる。さらに、耐熱老化性にも優れる成形品を得ることができる。この原因については定かではないが、レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物からなる成形品が大気下で熱を加えられることにより、ポリアミド樹脂(A)が低分子量化するが、その際に増加するポリアミド樹脂(A)のカルボキシル末端基と、化合物(B’)の水酸基と、エポキシ基および/またはカルボジイミド基とが反応し、ポリアミド樹脂(A)の低分子量化を抑制し、耐熱老化性を保持できるものと考える。 Moreover, by making the number of hydroxyl groups in one molecule a compound (B ′) larger than the sum of the number of epoxy groups and carbodiimide groups in one molecule, embrittlement due to the formation of an excessive crosslinked structure is suppressed, The weldability, mechanical strength and dimensional stability of the obtained molded product can be improved. Furthermore, a molded article having excellent heat aging resistance can be obtained. The cause of this is not clear, but the polyamide resin (A) has a low molecular weight when the molded product made of the laser-welded polyamide resin composition is heated in the atmosphere, but the polyamide resin increases at that time. A compound in which the carboxyl end group of (A), the hydroxyl group of compound (B ′), and the epoxy group and / or carbodiimide group react to suppress the lowering of the molecular weight of the polyamide resin (A) and can retain heat aging resistance. I think.
化合物(B’)1分子中の水酸基の数は、低分子化合物の場合は、通常の分析方法(例えば、NMR、FT−IR、GC−MS等の組み合わせ)により化合物の構造式を特定し、算出することができる。また、縮合物の場合、水酸基の数は、化合物(B’)の数平均分子量と水酸基価を算出し、下記式(2)により求めることができる。化合物(B’)の数平均分子量と水酸基価は、先述した方法により算出することができる。
・1分子中の水酸基の数=(数平均分子量×水酸基価)/56110 (2)
化合物(B’)の1分子中のエポキシ基またはカルボジイミド基の数は、低分子化合物の場合は、通常の分析方法(例えば、NMR、FT−IR、GC−MS等の組み合わせ)により化合物の構造式を特定し、算出することができる。また、縮合物の場合、エポキシ基またはカルボジイミド基の数は、化合物(B’)の数平均分子量をエポキシ当量またはカルボジイミド当量で割った値により算出することができる。
In the case of a low molecular compound, the number of hydroxyl groups in one molecule of the compound (B ′) specifies the structural formula of the compound by an ordinary analysis method (for example, a combination of NMR, FT-IR, GC-MS, etc.) Can be calculated. In the case of a condensate, the number of hydroxyl groups can be determined by the following formula (2) by calculating the number average molecular weight and the hydroxyl value of the compound (B ′). The number average molecular weight and the hydroxyl value of the compound (B ′) can be calculated by the method described above.
Number of hydroxyl groups in one molecule = (number average molecular weight × hydroxyl value) / 56110 (2)
In the case of a low molecular weight compound, the number of epoxy groups or carbodiimide groups in one molecule of the compound (B ′) is determined by the structure of the compound by a usual analysis method (for example, a combination of NMR, FT-IR, GC-MS, etc.). The formula can be identified and calculated. In the case of the condensate, the number of epoxy groups or carbodiimide groups can be calculated by dividing the number average molecular weight of the compound (B ′) by the epoxy equivalent or carbodiimide equivalent.
エポキシ当量は、化合物(B’)を、ヘキサフルオロイソプロパノールに溶解させた後、酢酸、テトラエチルアンモニウムブロミド/酢酸溶液を加え、滴定液として0.1Nの過塩素酸および指示薬としてクリスタルバイオレットを用い、溶解液の色が紫色から青緑色に変化した際の滴定量より、下記式(3)により算出できる。
エポキシ当量[g/eq]=W/((F−G)×0.1×f×0.001) (3)
但し、F:滴定に用いた0.1Nの過塩素酸の量[ml]、G:ブランクの滴定に用いた0.1Nの過塩素酸の量[ml]、f:0.1Nの過塩素酸のファクター、W:試料の質量[g]
カルボジイミド当量は、以下の方法で算出できる。化合物(B’)と、内部標準物質としてフェロシアン化カリウムをドライブレンドし、約200℃で1分間熱プレスを行い、シートを作製する。その後、赤外分光光度計を用いて、透過法で、シートの赤外吸収スペクトルを測定する。測定条件は、分解能4cm−1、積算回数32回とし、透過法での赤外吸収スペクトルは、吸光度がシート厚みに反比例するため、内部標準ピークを用いて、カルボジイミド基のピーク強度を規格化する必要がある。2140cm−1付近に現れるカルボジイミド基由来ピークの吸光度を、2100cm−1付近に現れるフェロシアン化カリウムのCN基の吸収ピークの吸光度で割った値を算出する。この値からカルボジイミド当量を算出するために、あらかじめカルボジイミド当量が既知のサンプルを用いてIR測定を行い、カルボジイミド基由来ピークの吸光度と内部標準ピークの吸光度の比を用いて検量線を作成し、化合物(B’)の吸光度比を検量線に代入し、カルボジイミド当量を算出する。なお、カルボジイミド当量が既知のサンプルとして、脂肪族ポリカルボジイミド(日清紡製、“カルボジライト”(登録商標)LA−1、カルボジイミド当量247g/mol)、芳香族ポリカルボジイミド(ラインケミー製、“スタバクゾール”(登録商標)P、カルボジイミド当量360g/mol)を用いることができる。
Epoxy equivalent is obtained by dissolving compound (B ′) in hexafluoroisopropanol, adding acetic acid and tetraethylammonium bromide / acetic acid solution, dissolving 0.1N perchloric acid as titrant and crystal violet as indicator. It can be calculated by the following formula (3) from the titration amount when the color of the liquid changes from purple to blue-green.
Epoxy equivalent [g / eq] = W / ((FG) × 0.1 × f × 0.001) (3)
F: amount of 0.1N perchloric acid used for titration [ml], G: amount of 0.1N perchloric acid used for titration of blank [ml], f: 0.1N perchloric acid Acid factor, W: sample weight [g]
The carbodiimide equivalent can be calculated by the following method. The compound (B ′) and potassium ferrocyanide as an internal standard substance are dry-blended and hot-pressed at about 200 ° C. for 1 minute to produce a sheet. Thereafter, the infrared absorption spectrum of the sheet is measured by a transmission method using an infrared spectrophotometer. The measurement conditions are a resolution of 4 cm −1 and the number of integrations of 32. In the infrared absorption spectrum of the transmission method, the absorbance is inversely proportional to the sheet thickness, so the peak intensity of the carbodiimide group is normalized using the internal standard peak. There is a need. A value obtained by dividing the absorbance of the carbodiimide group-derived peak appearing near 2140 cm −1 by the absorbance of the CN group absorption peak of potassium ferrocyanide appearing near 2100 cm −1 is calculated. In order to calculate the carbodiimide equivalent from this value, IR measurement is performed using a sample whose carbodiimide equivalent is known in advance, and a calibration curve is created using the ratio of the absorbance of the peak derived from the carbodiimide group and the absorbance of the internal standard peak. The absorbance ratio of (B ′) is substituted into the calibration curve, and the carbodiimide equivalent is calculated. In addition, aliphatic polycarbodiimide (manufactured by Nisshinbo Co., Ltd., “Carbodilite” (registered trademark) LA-1, carbodiimide equivalent 247 g / mol), aromatic polycarbodiimide (manufactured by Rhein Chemie, “Stabakuzol” (registered trademark)) ) P, carbodiimide equivalent 360 g / mol).
レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物中において化合物(B’)として含有されていればよく、例えば、化合物(B)と後述のエポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)((以下、化合物(b)と称することがある。)を個別にポリアミド樹脂(A)に配合し、ポリアミド樹脂組成物中において化合物(B’)を形成してもよく、あらかじめこれらを反応させた化合物(B’)をポリアミド樹脂(A)に配合することもできる。あらかじめこれらを反応させた化合物(B’)をポリアミド樹脂(A)に配合することが好ましく、化合物(B’)と、ポリアミド樹脂(A)との相溶性により優れ、溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性をより向上させることができる。この要因については定かではないが、次のように考えられる。すなわち、化合物(B)と、エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)をあらかじめ反応させることにより、エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)を連結点とした多分岐構造を有する化合物(B’)が形成される。このような化合物(B’)は、多分岐構造を有することにより自己凝集力がより小さくなり、ポリアミド樹脂(A)との反応性および相溶性が向上するためと考えられる。また、多分岐構造を有する化合物の溶融粘度が向上することから、ポリアミド樹脂組成物中における化合物(B’)の分散性がより向上するためと考えられる。 It is sufficient that it is contained as a compound (B ′) in the polyamide resin composition for laser welding. For example, the compound (B) and an epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) (hereinafter referred to as compound (b) )) May be individually added to the polyamide resin (A) to form the compound (B ′) in the polyamide resin composition, and the compound (B ′) obtained by reacting these in advance may be used. The compound (B ′) obtained by reacting these in advance can be blended with the polyamide resin (A), and the compound (B ′) can be blended with the polyamide resin (A). It is more compatible and can improve weldability, mechanical strength, dimensional stability, and heat aging resistance. That is, the compound (B) and the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) are reacted in advance to form a multi-branch having the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) as a linking point. A compound (B ′) having a structure is formed, and since such a compound (B ′) has a multi-branched structure, the self-aggregation force is further reduced, and the reactivity and compatibility with the polyamide resin (A) are reduced. In addition, since the melt viscosity of the compound having a multi-branched structure is improved, the dispersibility of the compound (B ′) in the polyamide resin composition is further improved.
本発明の実施形態において、化合物(B’)が、化合物(B)と、エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)との反応物の場合、水酸基とエポキシ基またはカルボジイミド基との反応率は3〜95%(3%以上95%以下)であることが好ましい。反応率が3%以上の場合、化合物(B’)の分岐度を高め、自己凝集力を低下させることができ、ポリアミド樹脂(A)との反応性を高めることができ、溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性がより向上する。反応率は10%以上であることがより好ましく、20%以上であることがさらに好ましい。 In the embodiment of the present invention, when the compound (B ′) is a reaction product of the compound (B) and the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b), the reaction rate between the hydroxyl group and the epoxy group or carbodiimide group Is preferably 3 to 95% (3% to 95%). When the reaction rate is 3% or more, the degree of branching of the compound (B ′) can be increased, the self-cohesion force can be decreased, the reactivity with the polyamide resin (A) can be increased, and the weldability and mechanical strength can be increased. Further, dimensional stability and heat aging resistance are further improved. The reaction rate is more preferably 10% or more, and further preferably 20% or more.
一方、反応率が95%以下の場合、エポキシ基またはカルボジイミド基を適度に残存させることができ、ポリアミド樹脂(A)との反応性を高めることができる。反応率は90%以下であることがより好ましく、70%以下であることがさらに好ましい態様である。また、化合物(B’)の反応率は、リン含有化合物(C)を含むことによりさらに高めることができ、溶着性、機械強度および耐熱老化性がより向上する。 On the other hand, when the reaction rate is 95% or less, an epoxy group or a carbodiimide group can be appropriately left, and the reactivity with the polyamide resin (A) can be increased. The reaction rate is more preferably 90% or less, and further preferably 70% or less. Further, the reaction rate of the compound (B ′) can be further increased by including the phosphorus-containing compound (C), and the weldability, mechanical strength, and heat aging resistance are further improved.
水酸基と、エポキシ基またはカルボジイミド基の反応率は、化合物(B’)を、溶媒(例えば、重水素化ジメチルスルホキシド、重水素化ヘキサフルオロイソプロパノールなど)に溶解し、エポキシ基の場合は、1H−NMR測定によりエポキシ環由来ピークについて、化合物(B)との反応前後の減少量を求めることにより、また、カルボジイミド基の場合は13C−NMR測定によりカルボジイミド基由来ピークについて、化合物(B)との反応前後の減少量を求めることにより、算出することができる。反応率は、下記式(4)により求めることができる。
・反応率(%)={1−(e/d)}×100 (4)
(上記式(4)中、dは、(B)化合物と、(b)エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物をドライブレンドしたもののピーク面積を表し、eは化合物(B’)のピーク面積を表す。)
一例として、ジペンタエリスリトールとビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製“jER”(登録商標)1004)を、3:1の質量比でドライブレンドしたものの1H−NMRスペクトルを、図1に示す。また、後述する参考例5により得られた(B’−4)化合物および/またはその縮合物の1H−NMRスペクトルを、図2に示す。重水素化ジメチルスルホキシドを溶媒に用い、サンプル量は0.035gで、溶媒量は0.70mlとした。符号1は、溶媒ピークを示す。
And a hydroxyl group, the reaction of the epoxy groups or carbodiimide groups, the compound (B '), dissolved in a solvent (e.g., deuterated dimethyl sulfoxide, deuterated hexafluoroisopropanol), in the case of epoxy groups, 1 H For the peak derived from the epoxy ring by -NMR measurement, the amount of decrease before and after the reaction with the compound (B) was determined. In the case of a carbodiimide group, the peak derived from the carbodiimide group by 13 C-NMR measurement It can calculate by calculating | requiring the reduction | decrease amount before and behind reaction. The reaction rate can be determined by the following formula (4).
Reaction rate (%) = {1- (e / d)} × 100 (4)
(In the above formula (4), d represents the peak area of the dry blend of the (B) compound and (b) the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound, and e represents the peak area of the compound (B ′). Represents.)
As an example, the 1 H-NMR spectrum of a dry blend of dipentaerythritol and bisphenol A type epoxy resin (“jER” (registered trademark) 1004 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) at a mass ratio of 3: 1 is shown in FIG. Shown in In addition, FIG. 2 shows the 1 H-NMR spectrum of the (B′-4) compound and / or its condensate obtained in Reference Example 5 described later. Deuterated dimethyl sulfoxide was used as a solvent, the sample amount was 0.035 g, and the solvent amount was 0.70 ml. Reference numeral 1 indicates a solvent peak.
図1に示される1H−NMRスペクトルから、2.60ppmと2.80ppm付近に現れるエポキシ環由来ピーク面積の合計を求め、同様に図2に示すピーク面積の合計を求め、反応率の算出式(4)により反応率を算出する。この際、ピーク面積は、反応に寄与しないエポキシ樹脂のベンゼン環のピークの面積で規格化する。 From the 1 H-NMR spectrum shown in FIG. 1, the sum of the peak areas derived from the epoxy ring appearing near 2.60 ppm and 2.80 ppm is obtained, and the sum of the peak areas shown in FIG. The reaction rate is calculated according to (4). At this time, the peak area is normalized by the area of the peak of the benzene ring of the epoxy resin that does not contribute to the reaction.
リン含有化合物(C)以外に、水酸基と、エポキシ基および/またはカルボジイミド基との反応を促進する触媒を添加することもできる。触媒の添加量は、化合物(B)と、(b)エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物の合計100質量部に対し、0〜1質量部であることが好ましく、0.01〜0.3質量部であることがより好ましい態様である。 In addition to the phosphorus-containing compound (C), a catalyst that promotes the reaction between the hydroxyl group and the epoxy group and / or carbodiimide group may be added. The addition amount of the catalyst is preferably 0 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass in total of the compound (B) and (b) the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound, and 0.01 to 0.3 It is a more preferable aspect that it is a mass part.
水酸基とエポキシ基の反応を促進する触媒としては、ホスフィン類、イミダゾール類、アミン類、およびジアザビシクロ類などの触媒が挙げられる。ホスフィン類の触媒の具体例としては、トリフェニルホスフィン(TPP)などが挙げられる。イミダゾール類の触媒の具体例としては、2−ヘプタデシルイミダゾール(HDI)、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、および1−イソブチル−2−メチルイミダゾールなどが挙げられる。アミン類の触媒の具体例としては、N−ヘキサデシルモルホリン(HDM)、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン(BDMA)、トリブチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7(DBU)、1,5−ジアザビシクロ(4,3,0)−ノネン−5(DBN)、トリスジメチルアミノメチルフェノール、テトラメチルエチレンジアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、および1,4−ジアザビシクロ−(2,2,2)−オクタン(DABCO)などが挙げられる。 Examples of the catalyst that promotes the reaction between the hydroxyl group and the epoxy group include catalysts such as phosphines, imidazoles, amines, and diazabicyclos. Specific examples of the phosphine catalyst include triphenylphosphine (TPP). Specific examples of the imidazole catalyst include 2-heptadecylimidazole (HDI), 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, and 1-isobutyl-2-methylimidazole. . Specific examples of amine catalysts include N-hexadecylmorpholine (HDM), triethylenediamine, benzyldimethylamine (BDMA), tributylamine, diethylamine, triethylamine, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) -undecene. -7 (DBU), 1,5-diazabicyclo (4,3,0) -nonene-5 (DBN), trisdimethylaminomethylphenol, tetramethylethylenediamine, N, N-dimethylcyclohexylamine, and 1,4-diazabicyclo -(2,2,2) -octane (DABCO) and the like.
水酸基とカルボジイミド基の反応を促進する触媒としては、例えば、トリアルキル鉛アルコキシド、ホウフッ化水素酸、塩化亜鉛およびナトリウムアルコキシドなどが挙げられる。 Examples of the catalyst for promoting the reaction between the hydroxyl group and the carbodiimide group include trialkyl lead alkoxide, borohydrofluoric acid, zinc chloride, and sodium alkoxide.
本発明の実施形態で好ましく使用されるエポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)は、1分子中にエポキシ基およびカルボジイミド基を有する場合は、エポキシ基とカルボジイミド基の合計2つ以上有することが好ましく、4つ以上することがさらに好ましく、6つ以上することがより好ましい。1分子中にエポキシ基またはカルボジイミド基を有する場合は、いずれかの官能基を2つ以上有することが好ましく、4つ以上有することがさらに好ましく、6つ以上有することがさらに好ましい態様である。 When the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) preferably used in the embodiment of the present invention has an epoxy group and a carbodiimide group in one molecule, it has two or more in total of the epoxy group and the carbodiimide group. Is preferable, more preferably 4 or more, and even more preferably 6 or more. When one molecule has an epoxy group or a carbodiimide group, it preferably has two or more of any functional groups, more preferably four or more, and even more preferably six or more.
エポキシ基およびカルボジイミド基は、ポリアミド樹脂(A)との相溶性に優れているため、1分子中にエポキシおよび/またはカルボジイミド基を2つ以上有する化合物は、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B’)の相溶性を高める効果があると考えられる。エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)は、低分子化合物であってもよく、重合体でとしても用いられる。 Since the epoxy group and the carbodiimide group are excellent in compatibility with the polyamide resin (A), the compound having two or more epoxy and / or carbodiimide groups in one molecule is selected from the polyamide resin (A) and the compound (B ′ ) Is considered to have an effect of increasing the compatibility. The epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) may be a low molecular compound or may be used as a polymer.
エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)の1分子中のエポキシ基またはカルボジイミド基の数は、低分子化合物の場合は、通常の分析方法(例えば、NMR、FT−IR、GC−MS等の組み合わせ)により化合物の構造式を特定し、算出することができる。また、縮合物の場合は、エポキシ基またはカルボジイミド基の数は、(b)エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物の数平均分子量をエポキシ当量またはカルボジイミド当量で割った値により算出することができる。エポキシ当量およびカルボジイミド当量は、先述した方法により算出することができる。 The number of epoxy groups or carbodiimide groups in one molecule of the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) is the usual analytical method (for example, NMR, FT-IR, GC-MS, etc.) The structural formula of the compound can be specified and calculated by a combination of In the case of a condensate, the number of epoxy groups or carbodiimide groups can be calculated by dividing the number average molecular weight of the (b) epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound by the epoxy equivalent or carbodiimide equivalent. The epoxy equivalent and the carbodiimide equivalent can be calculated by the method described above.
エポキシ基含有化合物の具体例として、エピクロロヒドリン、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、およびグリシジル基含有ビニル系重合体等を例示することができる。これらを2種以上用いることもできる。 Specific examples of the epoxy group-containing compound include epichlorohydrin, glycidyl ether type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, heterocyclic epoxy resin, and glycidyl group-containing vinyl system A polymer etc. can be illustrated. Two or more of these may be used.
グリシジルエーテル型エポキシ樹脂としては、エピクロロヒドリンとビスフェノールAから製造される樹脂、エピクロロヒドリンとビスフェノールFから製造される樹脂、ノボラック樹脂にエピクロロヒドリンを反応させたフェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロロヒドリンとテトラブロモビスフェノールAから誘導されるいわゆる臭素化エポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、およびペンタエリスリトールポリグリシジルエーテルなどが例示される。 Examples of the glycidyl ether type epoxy resin include a resin produced from epichlorohydrin and bisphenol A, a resin produced from epichlorohydrin and bisphenol F, and a phenol novolac type epoxy resin obtained by reacting a novolak resin with epichlorohydrin. , Orthocresol novolac type epoxy resin, so-called brominated epoxy resin derived from epichlorohydrin and tetrabromobisphenol A, glycerol triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, etc. .
また、グリシジルエステル型エポキシ樹脂としては、エピクロロヒドリンと、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、p−オキシ安息香酸またはダイマー酸から製造されるエポキシ樹脂、トリメシン酸トリグリシジルエステル、トリメリット酸トリグリシジルエステル、およびピロメリット酸テトラグリシジルエステルなどが例示される。 As glycidyl ester type epoxy resins, epoxy resins produced from epichlorohydrin and phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, p-oxybenzoic acid or dimer acid, trimesic acid triglycidyl ester, trimellitic acid triglycidyl ester And pyromellitic acid tetraglycidyl ester and the like.
グリシジルアミン型エポキシ樹脂としては、エピクロロヒドリンと、アニリン、ジアミノジフェニルメタン、p−アミノフェノール、メタキシリレンジアミンまたは1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンから製造されるエポキシ樹脂、テトラグリシジルアミノジフェニルメタン、トリグリシジル−パラアミノフェノール、トリグリシジル−メタアミノフェノール、テトラグリシジルメタキシレンジアミン、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン、トリグリシジルシアヌレート、およびトリグリシジルイソシアヌレートなどが例示される。 As the glycidylamine type epoxy resin, an epoxy resin produced from epichlorohydrin and aniline, diaminodiphenylmethane, p-aminophenol, metaxylylenediamine or 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, tetraglycidylaminodiphenylmethane , Triglycidyl-paraaminophenol, triglycidyl-metaaminophenol, tetraglycidylmetaxylenediamine, tetraglycidylbisaminomethylcyclohexane, triglycidyl cyanurate, and triglycidyl isocyanurate.
脂環式エポキシ樹脂としては、シクロヘキセンオキサイド基、トリシクロデセンオキサイド基およびシクロペンテンオキサイド基を有する化合物などが例示される。複素環式エポキシ樹脂としては、エピクロロヒドリンと、ヒダントインまたはイソシアヌル酸から製造されるエポキシ樹脂などが例示される。 Examples of the alicyclic epoxy resin include compounds having a cyclohexene oxide group, a tricyclodecene oxide group, and a cyclopentene oxide group. Examples of the heterocyclic epoxy resin include an epoxy resin produced from epichlorohydrin and hydantoin or isocyanuric acid.
グリシジル基含有ビニル系重合体としては、グリシジル基含有ビニル系単位を形成する原料モノマーをラジカル重合した重合体が挙げられる。グリシジル基含有ビニル系単位を形成する原料モノマーの具体例としては、(メタ)アクリル酸グリシジルや、p−スチリルカルボン酸グリシジルなどの不飽和モノカルボン酸のグリシジルエステル、マレイン酸、イタコン酸などの不飽和ポリカルボン酸のモノグリシジルエステルまたはポリグリシジルエステル、アリルグリシジルエーテル、2−メチルアリルグリシジルエーテル、およびスチレン−4−グリシジルエーテルなどの不飽和グリシジルエーテルなどが挙げられる。 Examples of the glycidyl group-containing vinyl polymer include a polymer obtained by radical polymerization of a raw material monomer that forms a glycidyl group-containing vinyl unit. Specific examples of the raw material monomer for forming the glycidyl group-containing vinyl-based unit include glycidyl (meth) acrylate, glycidyl ester of unsaturated monocarboxylic acid such as glycidyl p-styrylcarboxylate, maleic acid, itaconic acid and the like. Examples thereof include monoglycidyl ester or polyglycidyl ester of saturated polycarboxylic acid, allyl glycidyl ether, 2-methylallyl glycidyl ether, and unsaturated glycidyl ether such as styrene-4-glycidyl ether.
エポキシ基含有化合物の市販品としては、低分子の多官能エポキシ化合物であるポリグリシジルエーテル化合物(例えば、阪本薬品工業(株)製「SR−TMP」、ナガセケムテックス(株)製「“デナコール”(登録商標)EX−521」など)、ポリエチレンを主成分とする多官能エポキシ化合物(例えば、住友化学(株)製「“ボンドファスト”(登録商標)E」)、アクリルを主成分とする多官能エポキシ化合物(例えば、東亞合成(株)製「“レゼダ”(登録商標)GP−301」、東亞合成(株)製「“ARUFON”(登録商標)UG−4000」、三菱レイヨン(株)製「“メタブレン”(登録商標)KP−7653」など)、アクリル・スチレン共重合体を主成分とする多官能エポキシ化合物(例えば、BASF社製「“Joncryl”(登録商標)−ADR−4368」、東亞合成(株)製「“ARUFON”(登録商標)UG−4040」など)、シリコーン・アクリル共重合体を主成分とする多官能エポキシ化合物(例えば、「“メタブレン”(登録商標)S−2200」など)、ポリエチレングリコールを主成分とする多官能エポキシ化合物(例えば、日油(株)製“エピオール”(登録商標)「E−1000」など)、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(例えば、三菱化学(株)製“jER”(登録商標)「1004」など)、およびノボラックフェノール型変性エポキシ樹脂(例えば、日本化薬(株)製“EPPN”(登録商標)「201」)などが挙げられる。 Examples of commercially available epoxy group-containing compounds include polyglycidyl ether compounds that are low molecular polyfunctional epoxy compounds (for example, “SR-TMP” manufactured by Sakamoto Pharmaceutical Co., Ltd., “Denacol” manufactured by Nagase ChemteX Corporation). (Registered trademark) EX-521 ", etc.), polyfunctional epoxy compounds containing polyethylene as a main component (for example," "Bond Fast" (registered trademark) E "manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Functional epoxy compounds (for example, “Reseda” GP-301 manufactured by Toagosei Co., Ltd. “ARUFON” UG-4000 manufactured by Toagosei Co., Ltd., manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. "" Methbrene "(registered trademark) KP-7653", etc.), a polyfunctional epoxy compound mainly composed of an acrylic / styrene copolymer (for example, "" manufactured by BASF oncryl "(registered trademark) -ADR-4368", "ARUFON" (registered trademark) UG-4040 "manufactured by Toagosei Co., Ltd.), a polyfunctional epoxy compound mainly composed of a silicone-acrylic copolymer (for example, , "" Methbrene "(registered trademark) S-2200", etc.), polyfunctional epoxy compounds mainly composed of polyethylene glycol (for example, "Epiol" (registered trademark) "E-1000" manufactured by NOF Corporation)) Bisphenol A type epoxy resin (for example, “jER” (registered trademark) “1004” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and novolak phenol type modified epoxy resin (for example, “EPPN” (registered by Nippon Kayaku Co., Ltd.)) Trademark) “201”).
カルボジイミド基含有化合物としては、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミド、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N’−ジ−2,6−ジイソプロピルフェニルカルボジイミドなどのジカルボジイミドや、ポリ(1,6−ヘキサメチレンカルボジイミド)、ポリ(4,4’−メチレンビスシクロヘキシルカルボジイミド)、ポリ(1,3−シクロヘキシレンカルボジイミド)、ポリ(1,4−シクロヘキシレンカルボジイミド)、ポリ(4,4’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド)、ポリ(4,4’−ジフェニルメタンカルボジイミド)、ポリ(3,3’−ジメチル−4,4’−ジフェニルメタンカルボジイミド)、ポリ(ナフタレンカルボジイミド)、ポリ(p−フェニレンカルボジイミド)、ポリ(m−フェニレンカルボジイミド)、ポリ(トリルカルボジイミド)、ポリ(ジイソプロピルカルボジイミド)、ポリ(メチル−ジイソプロピルフェニレンカルボジイミド)、ポリ(1,3,5−トリイソプロピルベンゼン)ポリカルボジイミド、ポリ(1,3,5−トリイソプロピルベンゼン)ポリカルボジイミド、ポリ(1,5−ジイソプロピルベンゼン)ポリカルボジイミド、ポリ(トリエチルフェニレンカルボジイミド)、およびポリ(トリイソプロピルフェニレンカルボジイミド)などのポリカルボジイミドなどを挙げることができる。 Examples of the carbodiimide group-containing compound include dicarbodiimides such as N, N′-diisopropylcarbodiimide, N, N′-dicyclohexylcarbodiimide, N, N′-di-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide, and poly (1,6-hexa). Methylene carbodiimide), poly (4,4′-methylenebiscyclohexylcarbodiimide), poly (1,3-cyclohexylenecarbodiimide), poly (1,4-cyclohexylenecarbodiimide), poly (4,4′-dicyclohexylmethanecarbodiimide) , Poly (4,4′-diphenylmethanecarbodiimide), poly (3,3′-dimethyl-4,4′-diphenylmethanecarbodiimide), poly (naphthalenecarbodiimide), poly (p-phenylenecarbodiimide), poly (m-phenol Lencarbodiimide), poly (tolylcarbodiimide), poly (diisopropylcarbodiimide), poly (methyl-diisopropylphenylenecarbodiimide), poly (1,3,5-triisopropylbenzene) polycarbodiimide, poly (1,3,5-triisopropyl) Mention may be made of polycarbodiimides such as benzene) polycarbodiimide, poly (1,5-diisopropylbenzene) polycarbodiimide, poly (triethylphenylenecarbodiimide), and poly (triisopropylphenylenecarbodiimide).
カルボジイミド基含有化合物の市販品としては、日清紡ホールディングス(株)製“カルボジライト”(登録商標)とラインケミー製“スタバクゾール(登録商標)”などを挙げることができる。 Examples of commercially available carbodiimide group-containing compounds include “Carbodilite” (registered trademark) manufactured by Nisshinbo Holdings Co., Ltd. and “Stavaxol (registered trademark)” manufactured by Rhein Chemie.
本発明の実施形態で好ましく用いられるエポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)の分子量は、800〜10000の範囲であることが好ましい。エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)の分子量を800以上とすることにより、溶融混練時に揮発しにくくなるため、加工性に優れる。また、得られる化合物(B’)の溶融混練時の粘度を高めることができるため、ポリアミド樹脂(A)との相溶性がより高くなり、溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性がより向上する。エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)の分子量は1000以上であることがより好ましく、2000以上がさらに好ましい。エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)の分子量を2000以上とすることにより、湿熱処理時、例えば60℃、95%RHの環境に設定された恒温恒湿槽で24時間湿熱処理を行った際に、成形品表層への化合物(B’)のブリードアウトをより抑制し、溶着性をより向上させることができる。 The molecular weight of the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) preferably used in the embodiment of the present invention is preferably in the range of 800 to 10,000. By setting the molecular weight of the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) to 800 or more, it becomes difficult to volatilize during melt-kneading, and therefore excellent workability. Moreover, since the viscosity at the time of melt kneading of the obtained compound (B ′) can be increased, the compatibility with the polyamide resin (A) becomes higher, and the weldability, mechanical strength, dimensional stability and heat aging resistance are improved. More improved. The molecular weight of the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) is more preferably 1000 or more, and further preferably 2000 or more. By setting the molecular weight of the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) to 2000 or more, the wet heat treatment is performed for 24 hours in a constant temperature and humidity chamber set in an environment of, for example, 60 ° C. and 95% RH. In this case, bleeding out of the compound (B ′) to the surface layer of the molded product can be further suppressed, and the weldability can be further improved.
一方、エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)の分子量を10000以下とすることにより、得られる化合物(B’)の溶融混練時の粘度を適度に抑えることができるため、加工性に優れる。また、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B’)との相溶性を高く保持することができる。エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)の分子量は、8000以下であることがより好ましい。 On the other hand, when the molecular weight of the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) is 10000 or less, the viscosity at the time of melt kneading of the resulting compound (B ′) can be moderately suppressed, and thus the processability is excellent. . Further, the compatibility between the polyamide resin (A) and the compound (B ′) can be kept high. The molecular weight of the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) is more preferably 8000 or less.
エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)の分子量は、通常の分析方法(例えば、NMR、FT−IR、GC−MS等の組み合わせ)により化合物の構造式を特定し、算出することができる。また、エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物が縮合物の場合の分子量は、分子量として重量平均分子量を用いる。重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて算出することができる。具体的には、化合物が溶解する溶媒、例えばヘキサフルオロイソプロパノールを移動相として、ポリメチルメタクリレート(PMMA)を標準物質として用い、カラムは溶媒に合わせ、例えば、ヘキサフルオロイソプロパノールを使用した場合には、島津ジーエルシー(株)製の「Shodex GPC HFIP−806M」および/または「Shodex GPC HFIP−LG」を用いて、検出器として示差屈折率計を用いて重量平均分子量を測定することができる。 The molecular weight of the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) can be calculated by specifying the structural formula of the compound by an ordinary analysis method (for example, a combination of NMR, FT-IR, GC-MS, etc.). . Moreover, the weight average molecular weight is used as the molecular weight when the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound is a condensate. The weight average molecular weight (Mw) can be calculated using gel permeation chromatography (GPC). Specifically, when a solvent in which the compound is dissolved, for example, hexafluoroisopropanol is used as a mobile phase, polymethyl methacrylate (PMMA) is used as a standard substance, and the column is matched to the solvent. For example, when hexafluoroisopropanol is used, The weight average molecular weight can be measured using a differential refractometer as a detector using “Shodex GPC HFIP-806M” and / or “Shodex GPC HFIP-LG” manufactured by Shimadzu LLC.
本発明の実施形態で好ましく用いられるエポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)は、25℃の温度において固形であるか、または25℃の温度において200mPa・s以上の粘度を有する液状であることが好ましい。その場合、得られる化合物(B’)の溶融混練時の粘度を所望の範囲にすることが容易となり、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B’)との相溶性がより高くなり、溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性がより向上する。 The epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) preferably used in the embodiment of the present invention is solid at a temperature of 25 ° C. or a liquid having a viscosity of 200 mPa · s or more at a temperature of 25 ° C. It is preferable. In that case, it becomes easy to make the viscosity at the time of melt kneading of the obtained compound (B ′) within a desired range, the compatibility between the polyamide resin (A) and the compound (B ′) becomes higher, the weldability, Mechanical strength, dimensional stability and heat aging resistance are further improved.
本発明の実施形態で好ましく用いられるエポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)の官能基濃度を示す指標となる、分子量を1分子中の官能基の数で割った値は、50〜3000であることが好ましい。ここで、官能基の数とは、エポキシ基およびカルボジイミド基の合計数を指す。この値は小さいほど官能基濃度が高いことを表すが、50以上とすることにより、過剰な反応による化合物(B’)のゲル化を抑制でき、また、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B’)との反応がほどよく高まるため、溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性を向上させることができる。エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)の分子量を1分子中の官能基の数で割った値は、100以上であることがより好ましい。 The value obtained by dividing the molecular weight by the number of functional groups in one molecule, which is an index indicating the functional group concentration of the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) preferably used in the embodiment of the present invention, is 50 to 3000. It is preferable that Here, the number of functional groups refers to the total number of epoxy groups and carbodiimide groups. The smaller the value, the higher the functional group concentration. By setting it to 50 or more, gelation of the compound (B ′) due to excessive reaction can be suppressed, and the polyamide resin (A) and the compound (B ′) are suppressed. ) Increase moderately, so that the weldability, mechanical strength, dimensional stability and heat aging resistance can be improved. The value obtained by dividing the molecular weight of the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) by the number of functional groups in one molecule is more preferably 100 or more.
一方、エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)の分子量を1分子中の官能基の数で割った値を3000以下とすることにより、ポリアミド樹脂(A)および化合物(B’)との反応を十分に確保することができ、溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性をより向上させることができる。エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)の分子量を1分子中の官能基の数で割った値は、2000以下であることがより好ましく、1000以下であることがより好ましく、300以下がさらに好ましい態様である。 On the other hand, by dividing the molecular weight of the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) by the number of functional groups in one molecule to 3000 or less, the polyamide resin (A) and the compound (B ′) The reaction can be sufficiently secured, and the weldability, mechanical strength, dimensional stability, and heat aging resistance can be further improved. The value obtained by dividing the molecular weight of the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) by the number of functional groups in one molecule is more preferably 2000 or less, more preferably 1000 or less, and 300 or less. This is a more preferable embodiment.
化合物(B)と、エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)を反応させて化合物(B’)を作製する場合、これらの配合比は、化合物(B’)の1分子中の水酸基の数が、1分子中のエポキシ基およびカルボジイミド基の数の和よりも多くなるようにこれら化合物を配合することが好ましい。エポキシ基およびカルボジイミド基は、水酸基と比較して、ポリアミド樹脂(A)の末端基との反応性に優れる。このため、化合物(B’)の1分子中の水酸基の数を、1分子中のエポキシ基およびカルボジイミド基の数の和よりも多くすることにより、過剰な架橋構造の形成による脆化を抑制し、溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性をより向上させることができる。 When the compound (B ′) is produced by reacting the compound (B) with the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b), the compounding ratio of these compounds is determined based on the hydroxyl groups in one molecule of the compound (B ′). It is preferable to blend these compounds so that the number is larger than the sum of the number of epoxy groups and carbodiimide groups in one molecule. The epoxy group and carbodiimide group are excellent in reactivity with the end group of the polyamide resin (A) as compared with the hydroxyl group. Therefore, by increasing the number of hydroxyl groups in one molecule of the compound (B ′) more than the sum of the number of epoxy groups and carbodiimide groups in one molecule, embrittlement due to the formation of an excessive cross-linked structure is suppressed. Further, weldability, mechanical strength, dimensional stability and heat aging resistance can be further improved.
本発明の実施態様において、化合物(B’)は、下記一般式(1)で表される構造を有する化合物および/またはその縮合物であることが好ましい。 In the embodiment of the present invention, the compound (B ′) is preferably a compound having a structure represented by the following general formula (1) and / or a condensate thereof.
(上記一般式(1)中、X1〜X6はそれぞれ同一でも異なってもよく、OH、CH3またはORを表す。ただし、OHとORの数の和は3以上であり、かつOHの数は3以上である。また、Rはエポキシ基またはカルボジイミド基を有する有機基を表し、nは0〜20の範囲を表す。)
上記の一般式(1)中におけるRは、エポキシ基を有する有機基またはカルボジイミド基を有する有機基を表す。エポキシ基を有する有機基としては、例えば、エポキシ基、グリシジル基、グリシジルエーテル型エポキシ基、グリシジルエステル型エポキシ基、グリシジルアミン型エポキシ基、エポキシ基またはグリシジル基で置換された炭化水素基、およびエポキシ基またはグリシジル基で置換された複素環基などが挙げられる。カルボジイミド基を有する有機基としては、例えば、アルキルカルボジイミド基、シクロアルキルカルボジイミド基およびアリールアルキルカルボジイミド基などが挙げられる。
(In the general formula (1), X 1 to X 6 may be the same or different and each represents OH, CH 3 or OR, provided that the sum of the number of OH and OR is 3 or more, and The number is 3 or more, and R represents an organic group having an epoxy group or a carbodiimide group, and n represents a range of 0 to 20.)
R in the above general formula (1) represents an organic group having an epoxy group or an organic group having a carbodiimide group. Examples of the organic group having an epoxy group include an epoxy group, a glycidyl group, a glycidyl ether type epoxy group, a glycidyl ester type epoxy group, a glycidyl amine type epoxy group, a hydrocarbon group substituted with an epoxy group or a glycidyl group, and an epoxy group. And a heterocyclic group substituted with a group or a glycidyl group. Examples of the organic group having a carbodiimide group include an alkyl carbodiimide group, a cycloalkyl carbodiimide group, and an arylalkyl carbodiimide group.
上記の一般式(1)におけるnは、0〜20の範囲を表す。nが20以下である場合、ポリアミド樹脂(A)の可塑化が抑制され、溶着性と機械強度をより向上させることができる。nは4以下であることがより好ましく、溶着性と機械強度をさらに向上させることができる。一方、nは1以上であることがより好ましく、化合物(B’)の分子運動性を高めることができ、ポリアミド樹脂(A)との相溶性をさらに向上させることができる。 In the general formula (1), n represents a range of 0-20. When n is 20 or less, the plasticization of the polyamide resin (A) is suppressed, and the weldability and mechanical strength can be further improved. n is more preferably 4 or less, and the weldability and mechanical strength can be further improved. On the other hand, n is more preferably 1 or more, the molecular mobility of the compound (B ′) can be increased, and the compatibility with the polyamide resin (A) can be further improved.
一般式(1)中のOHとORの数の和は、3以上であることが好ましい。それにより、ポリアミド樹脂(A)との相溶性に優れ、得られる成形品の溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性をより向上させることができる。ここで、OHとORの数の和は、低分子化合物の場合は、通常の分析方法(例えば、NMR、FT−IR、GC−MS等の組み合わせ)により化合物の構造式を特定し、算出することができる。 The sum of the numbers of OH and OR in the general formula (1) is preferably 3 or more. Thereby, it is excellent in compatibility with the polyamide resin (A), and the weldability, mechanical strength, dimensional stability and heat aging resistance of the obtained molded product can be further improved. Here, the sum of the number of OH and OR is calculated by specifying the structural formula of the compound by a usual analysis method (for example, a combination of NMR, FT-IR, GC-MS, etc.) in the case of a low molecular compound. be able to.
また、縮合物の場合、OHの数は、一般式(1)で表される構造を有する化合物および/またはその縮合物の数平均分子量と水酸基価を算出し、下記式(2)により求めることができる。
・一般式(1)中のOHの数=(数平均分子量×水酸基価)/56110 (2)
また、縮合物の場合、ORの数は、上記の一般式(1)で表される構造を有する化合物および/またはその縮合物の数平均分子量を、エポキシ当量またはカルボジイミド当量で割った値により算出することができる。上記の一般式(1)で表される構造を有する化合物および/またはその縮合物の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)を用いて、算出することができる。具体的には、次の方法により算出することができる。一般式(1)で表される構造を有する化合物および/またはその縮合物が溶解する溶媒、例えば、ヘキサフルオロイソプロパノールを移動相として、ポリメチルメタクリレート(PMMA)を標準物質として用いる。カラムは溶媒に合わせ、例えば、ヘキサフルオロイソプロパノールを使用する場合には、島津ジーエルシー(株)製の「Shodex GPC HFIP−806M」および/または「Shodex GPC HFIP−LG」を用いて、検出器として示差屈折率計を用いて数平均分子量の測定を行うことができる。
In the case of a condensate, the number of OH can be obtained from the following formula (2) by calculating the number average molecular weight and hydroxyl value of the compound having the structure represented by the general formula (1) and / or the condensate thereof. .
-Number of OH in general formula (1) = (number average molecular weight x hydroxyl value) / 56110 (2)
In the case of a condensate, the number of ORs is calculated by a value obtained by dividing the number average molecular weight of the compound having the structure represented by the general formula (1) and / or the condensate by an epoxy equivalent or a carbodiimide equivalent. Can do. The number average molecular weight of the compound having the structure represented by the general formula (1) and / or the condensate thereof can be calculated using a gel permeation chromatograph (GPC). Specifically, it can be calculated by the following method. A solvent in which the compound having the structure represented by the general formula (1) and / or the condensate thereof is dissolved, for example, hexafluoroisopropanol is used as a mobile phase, and polymethyl methacrylate (PMMA) is used as a standard substance. The column is matched to the solvent. For example, when hexafluoroisopropanol is used, “Shodex GPC HFIP-806M” and / or “Shodex GPC HFIP-LG” manufactured by Shimadzu GL Corporation is used as a detector. The number average molecular weight can be measured using a differential refractometer.
一般式(1)で表される構造を有する化合物(B’)は、適度に架橋構造を導入でき、かつ自己凝集力がより小さくなり、(A)ポリアミド樹脂との反応性および相溶性が向上し、溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性に優れる。 The compound (B ′) having the structure represented by the general formula (1) can appropriately introduce a crosslinked structure and has a smaller self-aggregation force, and (A) improved reactivity and compatibility with the polyamide resin. And excellent in weldability, mechanical strength, dimensional stability, and heat aging resistance.
本発明の実施形態で用いられる化合物(B)および化合物(B’)の水酸基価は、100〜2000mgKOH/gが好ましい。化合物(B)および化合物(B’)の水酸基価を100mgKOH/g以上とすることにより、ポリアミド樹脂(A)と、化合物(B)または化合物(B’)との反応量を十分に確保することが容易となるため、溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性をより向上させることができる。化合物(B)および化合物(B’)の水酸基価は300mgKOH/g以上がより好ましく、600mgKOH/g以上がさらに好ましい。一方、化合物(B)および化合物(B’)の水酸基価を2000mgKOH/g以下とすることにより、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B)または化合物(B’)との反応性がほどよく高まり、溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性を向上させることができる。また、化合物(B)および化合物(B’)の水酸基価を2000mgKOH/g以下とすることにより、過剰反応によるゲル化を抑制することができる。化合物(B)および化合物(B’)の水酸基価は1800mgKOH/g以下がより好ましい。ここで、化合物(B)および化合物(B’)の水酸基価は、化合物(B)および化合物(B’)を、無水酢酸と無水ピリジンの混合溶液でアセチル化して、それをエタノール性水酸化カリウム溶液で滴定することにより求めることができる。 The hydroxyl value of the compound (B) and the compound (B ′) used in the embodiment of the present invention is preferably 100 to 2000 mgKOH / g. By ensuring that the hydroxyl value of the compound (B) and the compound (B ′) is 100 mgKOH / g or more, a sufficient reaction amount between the polyamide resin (A) and the compound (B) or the compound (B ′) is secured. Therefore, weldability, mechanical strength, dimensional stability, and heat aging resistance can be further improved. The hydroxyl value of the compound (B) and the compound (B ′) is more preferably 300 mgKOH / g or more, further preferably 600 mgKOH / g or more. On the other hand, by setting the hydroxyl value of the compound (B) and the compound (B ′) to 2000 mgKOH / g or less, the reactivity between the polyamide resin (A) and the compound (B) or the compound (B ′) is moderately improved. Weldability, mechanical strength, dimensional stability and heat aging resistance can be improved. Moreover, the gelation by excess reaction can be suppressed by making the hydroxyl value of a compound (B) and a compound (B ') into 2000 mgKOH / g or less. The hydroxyl value of the compound (B) and the compound (B ′) is more preferably 1800 mgKOH / g or less. Here, the hydroxyl value of the compound (B) and the compound (B ′) is determined by acetylating the compound (B) and the compound (B ′) with a mixed solution of acetic anhydride and anhydrous pyridine, and adding it to ethanolic potassium hydroxide. It can be determined by titrating with a solution.
本発明の実施形態において、化合物(B)および化合物(B’)の分岐度は、0.05〜0.70であることが好ましい。分岐度は、化合物中の分岐の程度を表す数値であり、直鎖状の化合物が分岐度0であり、完全に分岐したデンドリマーが分岐度1である。この値が大きいほど、複合成形品用ポリアミド樹脂組成物中に架橋構造を導入することができ、成形品の溶着性、機械強度および寸法安定性を向上させることができる。分岐度を0.05以上とすることにより、複合成形品用ポリアミド樹脂組成物中の架橋構造が十分に形成され、溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性をより向上させることができる。分岐度は、より好ましくは0.10以上である。 In the embodiment of the present invention, the degree of branching of the compound (B) and the compound (B ′) is preferably 0.05 to 0.70. The degree of branching is a numerical value representing the degree of branching in the compound. A linear compound has a degree of branching of 0, and a completely branched dendrimer has a degree of branching of 1. As this value is larger, a crosslinked structure can be introduced into the polyamide resin composition for composite molded articles, and the weldability, mechanical strength and dimensional stability of the molded article can be improved. By setting the degree of branching to 0.05 or more, the crosslinked structure in the polyamide resin composition for composite molded articles is sufficiently formed, and the weldability, mechanical strength, dimensional stability, and heat aging resistance can be further improved. . The degree of branching is more preferably 0.10 or more.
一方、分岐度を0.70以下とすることにより、複合成形品用ポリアミド樹脂組成物中の架橋構造を適度に抑え、複合成形品用ポリアミド樹脂組成物中における化合物(B)および化合物(B’)の分散性をより高め、溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性をより向上させることができる。分岐度は、より好ましくは0.35以下である。分岐度は、下記式(5)により定義される。
・分岐度=(D+T)/(D+T+L) (5)
(上記式(5)中、Dはデンドリックユニットの数、Lは線状ユニットの数、Tは末端ユニットの数を表す。上記D、T、Lは、13C−NMRにより測定したピークシフトの積分値から算出することができる。Dは第3級または第4級炭素原子に由来し、Tは第1級炭素原子の中で、メチル基であるものに由来し、Lは第1級または第2級炭素原子の中で、Tを除くものに由来する)。
On the other hand, by setting the degree of branching to 0.70 or less, the crosslinked structure in the polyamide resin composition for composite molded articles is moderately suppressed, and the compound (B) and compound (B ′) in the polyamide resin composition for composite molded articles are suppressed. ) Can be further improved, and weldability, mechanical strength, dimensional stability and heat aging resistance can be further improved. The degree of branching is more preferably 0.35 or less. The degree of branching is defined by the following formula (5).
Branch degree = (D + T) / (D + T + L) (5)
(In the above formula (5), D represents the number of dendritic units, L represents the number of linear units, and T represents the number of terminal units. The above D, T, and L are peak shifts measured by 13 C-NMR. D is derived from a tertiary or quaternary carbon atom, T is derived from a primary carbon atom that is a methyl group, and L is a primary carbon atom. Or derived from secondary carbon atoms excluding T).
本発明の実施形態で用いられる化合物(B)および化合物(B’)は、水酸基とともに、他の反応性官能基を含有することができる。他の官能基としては、例えば、アルデヒド基、スルホ基、イソシアネート基、オキサゾリン基、オキサジン基、エステル基、アミド基、シラノール基およびシリルエーテル基などが挙げられる。 The compound (B) and the compound (B ′) used in the embodiment of the present invention can contain other reactive functional groups in addition to the hydroxyl group. Examples of other functional groups include aldehyde groups, sulfo groups, isocyanate groups, oxazoline groups, oxazine groups, ester groups, amide groups, silanol groups, and silyl ether groups.
本発明の実施形態で用いられる化合物(B)および化合物(B’)の分子量は、50〜10000の範囲であることが好ましい。化合物(B)および化合物(B’)の分子量が50以上であれば、溶融混練時に揮発しにくいことから、加工性に優れる。化合物(B)および化合物(B’)の分子量は150以上であることが好ましく、より好ましくは200以上である。 The molecular weight of the compound (B) and the compound (B ′) used in the embodiment of the present invention is preferably in the range of 50 to 10,000. When the molecular weights of the compound (B) and the compound (B ′) are 50 or more, they are difficult to volatilize during melt-kneading, and thus processability is excellent. The molecular weight of the compound (B) and the compound (B ′) is preferably 150 or more, more preferably 200 or more.
一方、化合物(B)および化合物(B’)の分子量が10000以下であれば、化合物(B)または化合物(B’)と、ポリアミド樹脂(A)との相溶性がより高くなるため、本発明の効果がより顕著に奏される。化合物(B)および化合物(B’)の分子量は、6000以下であることが好ましく、より好ましくは4000以下であり、さらに好ましくは800以下である。 On the other hand, if the molecular weights of the compound (B) and the compound (B ′) are 10,000 or less, the compatibility between the compound (B) or the compound (B ′) and the polyamide resin (A) becomes higher. The effect is more prominent. The molecular weights of the compound (B) and the compound (B ′) are preferably 6000 or less, more preferably 4000 or less, and still more preferably 800 or less.
化合物(B)および化合物(B’)の分子量は、通常の分析方法(例えば、NMR、FT−IR、GC−MS等の組み合わせ)により化合物の構造式を特定し、算出することができる。また、化合物(B)および化合物(B’)が縮合物の場合の分子量は、分子量として重量平均分子量を用いる。重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて算出することができる。具体的には、化合物が溶解する溶媒、例えばヘキサフルオロイソプロパノールを移動相として、ポリメチルメタクリレート(PMMA)を標準物質として用い、カラムは溶媒に合わせ、例えばヘキサフルオロイソプロパノールを使用した場合には、島津ジーエルシー(株)製の「Shodex GPC HFIP−806M」および/または「Shodex GPC HFIP−LG」を用いて、検出器として示差屈折率計を用いて重量平均分子量を測定することができる。 The molecular weights of the compound (B) and the compound (B ′) can be calculated by specifying the structural formula of the compound by an ordinary analysis method (for example, a combination of NMR, FT-IR, GC-MS, etc.). In addition, when the compound (B) and the compound (B ′) are condensates, the weight average molecular weight is used as the molecular weight. The weight average molecular weight (Mw) can be calculated using gel permeation chromatography (GPC). Specifically, when a solvent in which the compound is dissolved, for example, hexafluoroisopropanol is used as a mobile phase, polymethyl methacrylate (PMMA) is used as a standard substance, and the column is matched to the solvent. For example, when hexafluoroisopropanol is used, Shimadzu Using “Shodex GPC HFIP-806M” and / or “Shodex GPC HFIP-LG” manufactured by GL Corp., the weight average molecular weight can be measured using a differential refractometer as a detector.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物には、さらに銅化合物を含有させることができる。銅化合物は、ポリアミド樹脂(A)のアミド基に配位することに加え、化合物(B)や化合物(B’)の水酸基や水酸化物イオンとも配位結合すると考えられる。このため、銅化合物は、ポリアミド樹脂(A)と、化合物(B)または化合物(B’)との相溶性を高める効果があると考えられる。 The polyamide resin composition for laser welding of the present invention can further contain a copper compound. In addition to coordination with the amide group of the polyamide resin (A), the copper compound is considered to coordinate with the hydroxyl group and hydroxide ion of the compound (B) or compound (B ′). For this reason, it is considered that the copper compound has an effect of increasing the compatibility between the polyamide resin (A) and the compound (B) or the compound (B ′).
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物には、さらに、カリウム化合物を含有させることができる。カリウム化合物は、銅の遊離や析出を抑制する。このため、カリウム化合物は、銅化合物と、化合物(B)または化合物(B’)と、ポリアミド樹脂(A)との反応を促進する効果があると考えられる。 The polyamide resin composition for laser welding of the present invention can further contain a potassium compound. A potassium compound suppresses the liberation and precipitation of copper. For this reason, it is thought that a potassium compound has an effect which accelerates | stimulates reaction with a copper compound, a compound (B) or a compound (B '), and a polyamide resin (A).
銅化合物としては、例えば、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、酢酸銅、銅アセチルアセトナート、炭酸銅、ほうふっ化銅、クエン酸銅、水酸化銅、硝酸銅、硫酸銅、および蓚酸銅などが挙げられる。銅化合物として、これらを2種以上含有させることができる。これら銅化合物の中でも、工業的に入手できるものが好ましく、ハロゲン化銅が好適である。ハロゲン化銅としては、例えば、ヨウ化銅、臭化第一銅、臭化第二銅および塩化第一銅などが挙げられる。ハロゲン化銅としては、ヨウ化銅が特に好ましく用いられる。 Examples of copper compounds include copper chloride, copper bromide, copper iodide, copper acetate, copper acetylacetonate, copper carbonate, copper borofluoride, copper citrate, copper hydroxide, copper nitrate, copper sulfate, and oxalic acid. Examples include copper. Two or more of these can be contained as a copper compound. Among these copper compounds, those commercially available are preferable, and copper halide is preferable. Examples of the copper halide include copper iodide, cuprous bromide, cupric bromide, and cuprous chloride. As the copper halide, copper iodide is particularly preferably used.
カリウム化合物としては、例えば、ヨウ化カリウム、臭化カリウム、塩化カリウム、フッ化カリウム、酢酸カリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、および硝酸カリウムなどが挙げられる。カリウム化合物として、これらを2種以上含有させることができる。これらカリウム化合物の中でも、ヨウ化カリウムが好ましく用いられる。カリウム化合物を含有させることにより、成形品の表面外観、耐候性および耐金型腐食性を向上させることができる。 Examples of the potassium compound include potassium iodide, potassium bromide, potassium chloride, potassium fluoride, potassium acetate, potassium hydroxide, potassium carbonate, and potassium nitrate. Two or more of these can be contained as the potassium compound. Of these potassium compounds, potassium iodide is preferably used. By containing a potassium compound, the surface appearance, weather resistance and mold corrosion resistance of the molded product can be improved.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物中の銅元素の含有量(重量基準)は、25〜200ppmであることが好ましい。銅元素の含有量を25ppm以上とすることにより、ポリアミド樹脂(A)と、化合物(B)または化合物(B’)との相溶性がより向上し、成形品の溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性をより向上させることができる。レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物中の銅元素の含有量(重量基準)は、80ppm以上であることが好ましい。 It is preferable that content (weight basis) of the copper element in the polyamide resin composition for laser welding of this invention is 25-200 ppm. By setting the copper element content to 25 ppm or more, the compatibility between the polyamide resin (A) and the compound (B) or the compound (B ′) is further improved, and the weldability, mechanical strength, and dimensional stability of the molded product are improved. And heat aging resistance can be further improved. The content (weight basis) of copper element in the polyamide resin composition for laser welding is preferably 80 ppm or more.
一方、銅元素の含有量を200ppm以下とすることにより、銅化合物の析出や遊離による着色を抑制し、成形品の表面外観をより向上させることができる。また、銅元素の含有量を200ppm以下とすることにより、ポリアミド樹脂と銅の過剰な配位結合に起因するアミド基の水素結合力の低下を抑制し、成形品の溶着性、機械強度をより向上させることができる。レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物中の銅元素の含有量(重量基準)は、190ppm以下であることが好ましい。なお、レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物中の銅元素の含有量は、銅化合物の配合量を適宜調節することにより、前述の所望の範囲にすることができる。 On the other hand, by setting the content of the copper element to 200 ppm or less, it is possible to suppress the coloration due to precipitation and liberation of the copper compound, and to further improve the surface appearance of the molded product. In addition, by making the content of copper element 200 ppm or less, it is possible to suppress a decrease in the hydrogen bond strength of the amide group due to excessive coordination bond between the polyamide resin and copper, and to improve the weldability and mechanical strength of the molded product. Can be improved. The content (weight basis) of copper element in the polyamide resin composition for laser welding is preferably 190 ppm or less. In addition, content of the copper element in the polyamide resin composition for laser welding can be made into the above-mentioned desired range by adjusting the compounding quantity of a copper compound suitably.
レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物中の銅元素の含有量は、次の方法により求めることができる。まず、レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物のペレットを減圧乾燥する。そのペレットを550℃の電気炉で24時間灰化させ、その灰化物に濃硫酸を加えて加熱して湿式分解し、分解液を希釈する。その希釈液を原子吸光分析(検量線法)することにより、銅含有量を求めることができる。 The content of the copper element in the polyamide resin composition for laser welding can be determined by the following method. First, the pellets of the polyamide resin composition for laser welding are dried under reduced pressure. The pellet is incinerated for 24 hours in an electric furnace at 550 ° C., concentrated sulfuric acid is added to the incinerated product, and the mixture is heated and wet-decomposed to dilute the decomposition solution. The copper content can be determined by atomic absorption analysis (calibration curve method) of the diluted solution.
レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物中のカリウム元素の含有量に対する銅元素の含有量の比Cu/Kは、0.21〜0.43であることが好ましい。Cu/Kは、銅の析出や遊離の抑制の程度を表す指標であり、この値が小さいほど、銅の析出や遊離を抑制して、銅化合物と、化合物(B)または化合物(B’)と、ポリアミド樹脂(A)との反応を促進することができる。Cu/Kを0.43以下とすることにより、銅の析出や遊離を抑制し、成形品の表面外観をより向上させることができる。また、Cu/Kを0.43以下とすることにより、レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物の相溶性も向上することから、成形品の溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性をより向上させることができる。 The ratio Cu / K of the copper element content to the potassium element content in the laser welding polyamide resin composition is preferably 0.21 to 0.43. Cu / K is an index representing the degree of suppression of copper precipitation and liberation, and the smaller this value, the more the copper compound and compound (B) or compound (B ′) are suppressed by inhibiting copper precipitation and liberation. And the polyamide resin (A) can be promoted. By setting Cu / K to 0.43 or less, copper precipitation and liberation can be suppressed, and the surface appearance of the molded product can be further improved. In addition, by setting Cu / K to 0.43 or less, the compatibility of the polyamide resin composition for laser welding is also improved, so the weldability, mechanical strength, dimensional stability and heat aging resistance of the molded product are further improved. Can be made.
一方、Cu/Kを0.21以上とすることにより、カリウムを含む化合物の分散性を向上させ、特に潮解性のヨウ化カリウムであっても塊状となりにくく、銅の析出や遊離の抑制効果が向上することから、銅化合物と、化合物(B)または化合物(B’)と、ポリアミド樹脂(A)との反応が十分に促進され、成形品の溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性をより向上する。 On the other hand, by setting Cu / K to 0.21 or more, the dispersibility of the compound containing potassium is improved, and even if it is deliquescent potassium iodide, it is difficult to form a lump, and the effect of suppressing the precipitation and release of copper is improved. As a result, the reaction between the copper compound, the compound (B) or the compound (B ′), and the polyamide resin (A) is sufficiently accelerated, and the weldability, mechanical strength, dimensional stability and heat aging of the molded product are enhanced. Improve sex.
レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物中のカリウム元素含有量は、上記の銅含有量と同様の方法にて求めることができる。 The potassium element content in the laser welding polyamide resin composition can be determined by the same method as the above copper content.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物には、さらに充填材を含有させることができる。充填材としては、有機充填材および無機充填材のいずれも用いられる。また充填材としては、繊維状充填材および非繊維状充填材のいずれも用いられる。充填材としては、繊維状充填材が好ましく用いられる。 The polyamide resin composition for laser welding of the present invention may further contain a filler. As the filler, both organic fillers and inorganic fillers are used. Moreover, as a filler, both a fibrous filler and a non-fibrous filler are used. As the filler, a fibrous filler is preferably used.
繊維状充填材としては、例えば、ガラス繊維、PAN(ポリアクリロニトリル)系またはピッチ系の炭素繊維、ステンレス繊維、アルミニウム繊維や黄銅繊維などの金属繊維、芳香族ポリアミド繊維などの有機繊維、石膏繊維、セラミック繊維、アスベスト繊維、ジルコニア繊維、アルミナ繊維、シリカ繊維、酸化チタン繊維、炭化珪素繊維、ロックウール、チタン酸カリウムウィスカー、酸化亜鉛ウィスカー、炭酸カルシウムウィスカー、ワラステナイトウィスカー、硼酸アルミウィスカー、窒化珪素ウィスカーなどの繊維状またはウィスカー状充填材が挙げられる。繊維状充填材としては、ガラス繊維や炭素繊維が特に好ましく用いられる。 Examples of the fibrous filler include glass fiber, PAN (polyacrylonitrile) -based or pitch-based carbon fiber, stainless steel fiber, metal fiber such as aluminum fiber and brass fiber, organic fiber such as aromatic polyamide fiber, gypsum fiber, Ceramic fiber, asbestos fiber, zirconia fiber, alumina fiber, silica fiber, titanium oxide fiber, silicon carbide fiber, rock wool, potassium titanate whisker, zinc oxide whisker, calcium carbonate whisker, wollastonite whisker, aluminum borate whisker, silicon nitride whisker And fibrous or whisker-like fillers. As the fibrous filler, glass fiber or carbon fiber is particularly preferably used.
繊維状充填材としてのガラス繊維の種類は、一般に樹脂の強化用に用いるものであり、例えば、長繊維タイプや短繊維タイプのチョップドストランドや、ミルドファイバーなどから選択して用いることができる。また、ガラス繊維は、エチレン/酢酸ビニル共重合体などの熱可塑性樹脂や、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂により被膜あるいは集束されていることも許容される。さらに、ガラス繊維の断面は、円形、扁平状のひょうたん型、まゆ型、長円型、楕円型、矩形またはこれらの類似品など限定されない。ガラス繊維配合ポリアミド樹脂組成物において生じやすい成形品の特有の反りを低減する観点から、ガラス繊維断面の長径/短径の比が1.5以上の扁平状のガラス繊維が好ましく、長径/短径の比は2.0以上のものがさらに好ましく、10以下のものが好ましく、6.0以下のものがさらに好ましい態様である。長径/短径の比が1.5未満では断面を扁平状にした効果が少なく、10より大きいものはガラス繊維自体の製造が困難である。 The type of glass fiber as the fibrous filler is generally used for reinforcing the resin, and can be selected from, for example, chopped strands of long fiber type or short fiber type, milled fiber, or the like. The glass fibers are also allowed to be coated or bundled with a thermoplastic resin such as an ethylene / vinyl acetate copolymer or a thermosetting resin such as an epoxy resin. Furthermore, the cross-section of the glass fiber is not limited to a circular, flat gourd, eyebrows, oval, ellipse, rectangle, or similar products. From the viewpoint of reducing the specific warpage of a molded product that is likely to occur in a glass fiber-containing polyamide resin composition, a flat glass fiber having a ratio of the major axis / minor axis of the glass fiber cross section of 1.5 or more is preferable, and the major axis / minor axis The ratio is more preferably 2.0 or more, preferably 10 or less, and more preferably 6.0 or less. When the ratio of major axis / minor axis is less than 1.5, the effect of flattening the cross section is small, and when the ratio is larger than 10, it is difficult to produce the glass fiber itself.
また、非繊維状充填材としては、例えば、タルク、ワラステナイト、ゼオライト、セリサイト、マイカ、カオリン、クレー、パイロフィライト、ベントナイト、アスベスト、アルミナシリケート、珪酸カルシウムなどの非膨潤性珪酸塩、Li型フッ素テニオライト、Na型フッ素テニオライト、Na型四珪素フッ素雲母、Li型四珪素フッ素雲母の膨潤性雲母に代表される膨潤性層状珪酸塩、酸化珪素、酸化マグネシウム、アルミナ、シリカ、珪藻土、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化カルシウム、酸化スズ、酸化アンチモンなどの金属酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、炭酸バリウム、ドロマイト、ハイドロタルサイトなどの金属炭酸塩、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどの金属硫酸塩、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化アルミニウム、塩基性炭酸マグネシウムなどの金属水酸化物、モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ソーコナイトなどのスメクタイト系粘土鉱物やバーミキュライト、ハロイサイト、カネマイト、ケニヤイト、燐酸ジルコニウム、燐酸チタニウムなどの各種粘土鉱物、ガラスビーズ、ガラスフレーク、セラミックビーズ、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、炭化珪素、燐酸カルシウム、カーボンブラック、および黒鉛などが挙げられる。 Examples of non-fibrous fillers include non-swelling silicates such as talc, wollastonite, zeolite, sericite, mica, kaolin, clay, pyrophyllite, bentonite, asbestos, alumina silicate, calcium silicate, Li Swellable lamellar silicates represented by swellable mica, such as Na-type Fluorine Teniolite, Na-type Fluorine Teniolite, Na-type Tetrasilicon Fluorine Mica, Li-type Tetrasilicon Fluorine Mica, Silicon Oxide, Magnesium Oxide, Alumina, Silica, Diatomaceous Earth, Zirconium Oxide , Metal oxides such as titanium oxide, iron oxide, zinc oxide, calcium oxide, tin oxide, antimony oxide, metal carbonates such as calcium carbonate, magnesium carbonate, zinc carbonate, barium carbonate, dolomite, hydrotalcite, calcium sulfate, Metal sulfates such as barium sulfate, water Metal hydroxides such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide, aluminum hydroxide, basic magnesium carbonate, montmorillonite, beidellite, nontronite, saponite, hectorite, and soconite And various clay minerals such as zirconium phosphate and titanium phosphate, glass beads, glass flakes, ceramic beads, boron nitride, aluminum nitride, silicon carbide, calcium phosphate, carbon black, and graphite.
上記の膨潤性層状珪酸塩は、層間に存在する交換性陽イオンが有機オニウムイオンで交換されていてもよく、有機オニウムイオンとしては、例えば、アンモニウムイオンやホスホニウムイオン、スルホニウムイオンなどが挙げられる。また、これら充填材を2種以上含有させることができる。 In the swellable layered silicate, exchangeable cations existing between layers may be exchanged with organic onium ions, and examples of the organic onium ions include ammonium ions, phosphonium ions, and sulfonium ions. Two or more of these fillers can be contained.
上記の充填材は、その表面をカップリング剤(例えば、シラン系カップリング剤やチタネート系カップリング剤など)や、集束剤(例えば、カルボン酸系、エポキシ系およびウレタン系などの集束剤)などにより処理されていてもよく、成形品の機械強度や表面外観をより向上させることができる。集束剤としては、エポキシ系集束剤が好ましく用いられる。 The above-mentioned filler has a coupling agent (for example, a silane coupling agent or a titanate coupling agent) or a sizing agent (for example, a sizing agent such as carboxylic acid, epoxy, or urethane) on the surface. The mechanical strength and surface appearance of the molded product can be further improved. As the sizing agent, an epoxy sizing agent is preferably used.
充填材の処理方法としては、例えば、カップリング剤による処理の場合、予め充填材をカップリング剤により表面処理し、ついでポリアミド樹脂と溶融混練する方法が好ましく用いられるが、予め充填材の表面処理を行わずに、充填材とポリアミド樹脂を溶融混練する際に、カップリング剤を添加するインテグラブルブレンド法を用いることもできる。カップリング剤の処理量は、充填材100質量部に対して0.05質量部以上であることが好ましく、より好ましくは0.5質量部以上である。一方、カップリング剤の処理量は、充填材100質量部に対して10質量部以下であることが好ましく、より好ましくは3質量部以下である。 As a method for treating the filler, for example, in the case of treatment with a coupling agent, a method in which the filler is surface-treated with the coupling agent in advance and then melt-kneaded with the polyamide resin is preferably used. Without performing the above, an integral blend method in which a coupling agent is added when the filler and the polyamide resin are melt-kneaded can also be used. The amount of the coupling agent to be treated is preferably 0.05 parts by mass or more, more preferably 0.5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the filler. On the other hand, the treatment amount of the coupling agent is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the filler.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物において、充填材の含有量は、ポリアミド樹脂(A)100質量部に対して、1〜150質量部であることが好ましい。充填材の含有量が1質量部以上であれば、成形品の機械強度をより向上させることができる。充填材の含有量は、10質量部以上であることがより好ましく、より好ましくは20質量部以上である。一方、充填材の含有量が150質量部以下であれば、溶着性と寸法安定性により優れた成形品が得られる。充填材の含有量は、より好ましくは80質量部以下であり、さらに好ましくは70質量部以下である。 In the polyamide resin composition for laser welding of the present invention, the content of the filler is preferably 1 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyamide resin (A). If content of a filler is 1 mass part or more, the mechanical strength of a molded article can be improved more. As for content of a filler, it is more preferable that it is 10 mass parts or more, More preferably, it is 20 mass parts or more. On the other hand, if the content of the filler is 150 parts by mass or less, a molded product having superior weldability and dimensional stability can be obtained. The content of the filler is more preferably 80 parts by mass or less, and still more preferably 70 parts by mass or less.
さらに、本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、ポリアミド樹脂以外の樹脂や、目的に応じて各種添加剤を含有させることが可能である。 Furthermore, the polyamide resin composition for laser welding of the present invention can contain a resin other than the polyamide resin and various additives depending on the purpose within a range not impairing the effects of the present invention.
ポリアミド樹脂以外の樹脂の具体例としては、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリケトン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリチオエーテルケトン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、および四フッ化ポリエチレン樹脂などが挙げられる。これら樹脂を配合する場合、その含有量は、ポリアミド樹脂の特徴を十分に活かすため、ポリアミド樹脂(A)100質量部に対して30質量部以下とすることが好ましく、より好ましくは20質量部以下である。 Specific examples of resins other than polyamide resins include polyester resins, polyolefin resins, modified polyphenylene ether resins, polysulfone resins, polyketone resins, polyetherimide resins, polyarylate resins, polyether sulfone resins, polyether ketone resins, polythioethers. Examples thereof include ketone resins, polyether ether ketone resins, polyimide resins, polyamideimide resins, and tetrafluoropolyethylene resins. When these resins are blended, the content is preferably 30 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the polyamide resin (A) in order to fully utilize the characteristics of the polyamide resin. It is.
また、各種添加剤の具体例としては、銅化合物以外の熱安定剤、イソシアネート系化合物、有機シラン系化合物、有機チタネート系化合物、有機ボラン系化合物、エポキシ化合物などのカップリング剤、ポリアルキレンオキサイドオリゴマ系化合物、チオエーテル系化合物、エステル系化合物などの可塑剤、ポリエーテルエーテルケトンなどの結晶核剤、モンタン酸ワックス類、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸アルミ等の金属石鹸、エチレンジアミン・ステアリン酸・セバシン酸重縮合物、シリコーン系化合物などの離型剤、滑剤、紫外線防止剤、着色剤、難燃剤、耐衝撃改良剤、および発泡剤などを挙げることができる。これらの添加剤を含有させる場合、その含有量は、ポリアミド樹脂の特徴を十分に活かすため、ポリアミド樹脂(A)100質量部に対して10質量部以下であることが好ましく、より好ましくは1質量部以下である。 Specific examples of various additives include heat stabilizers other than copper compounds, isocyanate compounds, organic silane compounds, organic titanate compounds, organic borane compounds, epoxy compounds and other coupling agents, polyalkylene oxide oligomers. Compounds, plasticizers such as thioether compounds and ester compounds, crystal nucleating agents such as polyether ether ketone, metal soaps such as montanic acid wax, lithium stearate, aluminum stearate, ethylenediamine, stearic acid, sebacic acid heavy Examples thereof include mold release agents such as condensates and silicone compounds, lubricants, ultraviolet light inhibitors, colorants, flame retardants, impact resistance improvers, and foaming agents. When these additives are contained, the content is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the polyamide resin (A) in order to fully utilize the characteristics of the polyamide resin. Or less.
銅化合物以外の熱安定剤としては、フェノール系化合物、硫黄系化合物およびアミン系化合物などが挙げられる。銅化合物以外の熱安定剤としては、これらを2種以上用いることもできる。 Examples of heat stabilizers other than copper compounds include phenolic compounds, sulfur compounds, and amine compounds. Two or more of these may be used as the heat stabilizer other than the copper compound.
フェノール系化合物としては、ヒンダードフェノール系化合物が好ましく用いられる。特に、N、N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド)や、テトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンなどが好ましく用いられる。 As the phenolic compound, a hindered phenolic compound is preferably used. In particular, N, N′-hexamethylenebis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamide) and tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4 ′). -Hydroxyphenyl) propionate] methane and the like are preferably used.
硫黄系化合物としては、有機チオ酸系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、ジチオカルバミン酸系化合物、およびチオウレア系化合物等が挙げられる。これら硫黄系化合物の中でも、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物および有機チオ酸系化合物が好ましく用いられる。 Examples of sulfur compounds include organic thioacid compounds, mercaptobenzimidazole compounds, dithiocarbamic acid compounds, and thiourea compounds. Among these sulfur compounds, mercaptobenzimidazole compounds and organic thioacid compounds are preferably used.
特に、チオエーテル構造を有するチオエーテル系化合物は、酸化された物質から酸素を受け取って還元するため、熱安定剤として好適に使用することができる。チオエーテル系化合物としては、具体的には、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトメチルベンゾイミダゾール、ジテトラデシルチオジプロピオネート、ジオクタデシルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(3−ドデシルチオプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)が好ましく、ペンタエリスリトールテトラキス(3−ドデシルチオプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)がより好ましく用いられる。硫黄系化合物の分子量は、通常200以上であり、好ましくは500以上であり、その上限は通常3,000である。 In particular, a thioether compound having a thioether structure can be suitably used as a heat stabilizer because it receives oxygen from an oxidized substance and reduces it. Specific examples of thioether compounds include 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptomethylbenzimidazole, ditetradecylthiodipropionate, dioctadecylthiodipropionate, pentaerythritol tetrakis (3-dodecylthiopropionate). ), Pentaerythritol tetrakis (3-laurylthiopropionate) is preferred, and pentaerythritol tetrakis (3-dodecylthiopropionate) and pentaerythritol tetrakis (3-laurylthiopropionate) are more preferably used. The molecular weight of the sulfur compound is usually 200 or more, preferably 500 or more, and the upper limit is usually 3,000.
アミン系化合物としては、ジフェニルアミン骨格を有する化合物、フェニルナフチルアミン骨格を有する化合物およびジナフチルアミン骨格を有する化合物が好ましく、ジフェニルアミン骨格を有する化合物、フェニルナフチルアミン骨格を有する化合物がさらに好ましく用いられる。これらアミン系化合物の中でも、4,4’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)ジフェニルアミン、N,N’−ジ−2−ナフチル−p−フェニレンジアミンおよびN,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミンがより好ましく、N,N’−ジ−2−ナフチル−p−フェニレンジアミンおよび4,4’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)ジフェニルアミンが特に好ましい。 As the amine compound, a compound having a diphenylamine skeleton, a compound having a phenylnaphthylamine skeleton, and a compound having a dinaphthylamine skeleton are preferable, and a compound having a diphenylamine skeleton and a compound having a phenylnaphthylamine skeleton are more preferably used. Among these amine compounds, 4,4′-bis (α, α-dimethylbenzyl) diphenylamine, N, N′-di-2-naphthyl-p-phenylenediamine and N, N′-diphenyl-p-phenylenediamine Are more preferable, and N, N′-di-2-naphthyl-p-phenylenediamine and 4,4′-bis (α, α-dimethylbenzyl) diphenylamine are particularly preferable.
硫黄系化合物またはアミン系化合物の組み合わせとしては、ペンタエリスリトールテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)と4,4’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)ジフェニルアミンの組み合わせが好ましい。 As a combination of a sulfur compound or an amine compound, a combination of pentaerythritol tetrakis (3-laurylthiopropionate) and 4,4′-bis (α, α-dimethylbenzyl) diphenylamine is preferable.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物の製造方法としては、効率的な例として、各原料を単軸あるいは二軸押出機などの公知の機器に供給して溶融混練する方法などを挙げることができる。 Examples of the method for producing the laser welding polyamide resin composition of the present invention include, as an efficient example, a method in which each raw material is supplied to a known device such as a single screw or twin screw extruder and melt kneaded. it can.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物のさらに好ましい製造方法として、二軸押出機によりポリアミド樹脂(A)と、化合物(B)または化合物(B’)を溶融混練して高濃度予備混合物を作製し、その高濃度予備混合物をさらにポリアミド樹脂(A)およびリン含有化合物(C)と、二軸押出機により溶融混練する方法が挙げられる。ポリアミド樹脂(A)100重量部に対して、化合物(B)または化合物(B’)10〜250重量部を溶融混練して高濃度予備混合物を作製し、その高濃度予備混合物をさらにポリアミド樹脂(A)およびリン含有化合物(C)とともに、二軸押出機により溶融混練することがより好ましい。高濃度予備混合物を作製しない場合と比較して、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B)または化合物(B’)の相溶性がさらに向上し、得られる成形品の溶着性、機械強度、寸法安定性および耐熱老化性がより向上する。また、高濃度予備混合物を作製する際、ポリアミド樹脂(A)に対して化合物(B)の配合量が多くなる。滞留安定性の低下を抑制するため、二軸押出機での溶融混練時に、化合物(B)または化合物(B’)をポリアミド樹脂供給位置よりも下流側より供給し、ポリアミド樹脂(A)と、化合物(B)または化合物(B’)の混練時間を短くすることが好ましい。 As a more preferable method for producing the laser welding polyamide resin composition of the present invention, a high-concentration premix is prepared by melt-kneading the polyamide resin (A) and the compound (B) or the compound (B ′) with a twin screw extruder. In addition, a method in which the high-concentration premix is further melt-kneaded with the polyamide resin (A) and the phosphorus-containing compound (C) with a twin screw extruder can be mentioned. To 100 parts by weight of the polyamide resin (A), 10 to 250 parts by weight of the compound (B) or the compound (B ′) is melt-kneaded to prepare a high concentration premix, and the high concentration premix is further added to the polyamide resin ( It is more preferable to melt and knead together with A) and the phosphorus-containing compound (C) with a twin screw extruder. Compared with the case where a high-concentration premix is not prepared, the compatibility between the polyamide resin (A) and the compound (B) or the compound (B ′) is further improved, and the weldability, mechanical strength, and dimensional stability of the resulting molded product are improved. And heat aging resistance are further improved. Moreover, when producing a high concentration premix, the compounding quantity of a compound (B) increases with respect to a polyamide resin (A). In order to suppress a decrease in residence stability, at the time of melt kneading in a twin screw extruder, the compound (B) or the compound (B ′) is supplied from the downstream side of the polyamide resin supply position, and the polyamide resin (A), It is preferable to shorten the kneading time of the compound (B) or the compound (B ′).
高濃度予備混合物に用いられるポリアミド樹脂(A)と、高濃度予備混合物へさらに配合されるポリアミド樹脂(A)は、同一であってもよく、異なっていても構わない。 The polyamide resin (A) used in the high concentration premix and the polyamide resin (A) further blended in the high concentration premix may be the same or different.
このようにして得られたレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物は、公知の各種成形方法により成形品にすることができる。成形方法としては、例えば、射出成形、射出圧縮成形、押出成形、圧縮成形、ブロー成形およびプレス成形などが挙げられる。 The polyamide resin composition thus obtained for laser welding can be formed into a molded product by various known molding methods. Examples of the molding method include injection molding, injection compression molding, extrusion molding, compression molding, blow molding, and press molding.
本発明で用いられるレーザー光透過性成形品およびレーザー光吸収性成形品も、前記述の成形方法を用いて成形することができる。 The laser light transmitting molded product and the laser light absorbing molded product used in the present invention can also be molded using the molding method described above.
本発明の複合成形品は、レーザー光透過性成形品とレーザー光吸収性成形品とをレーザー溶着してなるものであって、レーザー光透過性成形品とレーザー光吸収性成形品の少なくとも1つに、本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物を成形してなる成形品を用いたものである。より好ましい形態としては、レーザー光透過性成形品とレーザー光吸収性成形品の両方に、本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物を成形してなる成形品を用いたものである。 The composite molded article of the present invention is formed by laser welding a laser light transmissive molded article and a laser light absorptive molded article, and is at least one of the laser light transmissive molded article and the laser light absorptive molded article. Further, a molded product formed by molding the polyamide resin composition for laser welding of the present invention is used. As a more preferable form, a molded product obtained by molding the laser welding polyamide resin composition of the present invention is used for both a laser light transmissive molded product and a laser light absorbing molded product.
レーザー光透過性成形品またはレーザー光吸収性成形品の片方に、本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物を用いない場合、その片方に用いられる樹脂としては、ポリアミド樹脂、オレフィン系樹脂、ビニル系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、およびポリフェニレンサルファイド等の熱可塑性樹脂が好ましく、特に本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物との相溶性の観点から、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂およびポリフェニレンサルファイド樹脂が好ましく用いられる。 When the laser welding polyamide resin composition of the present invention is not used for one of the laser light transmitting molded product or the laser light absorbing molded product, the resin used for the other is polyamide resin, olefin resin, vinyl resin A thermoplastic resin such as a resin, a styrene resin, an acrylic resin, a polyphenylene ether resin, a polyester resin, a polycarbonate resin, a polyacetal resin, and polyphenylene sulfide is preferable, and particularly compatible with the polyamide resin composition of the present invention for laser welding. From the viewpoint, polyamide resin, polyester resin, polycarbonate resin and polyphenylene sulfide resin are preferably used.
本発明で用いられるレーザー光吸収性成形品は、本発明で用いられるポリアミド樹脂組成物に、さらにレーザー光吸収添加剤を含有する成形品であることが好ましい。ポリアミド樹脂100質量部に対して、レーザー光吸収添加剤を0.01〜5質量部含有することが好ましい。レーザー光吸収性添加剤としては、例えば、カーボンブラック、酸化鉄、モリブデートオレンジおよび酸化チタン等の無機顔料や有機顔料が挙げられる。 The laser light absorbing molded product used in the present invention is preferably a molded product further containing a laser light absorbing additive in the polyamide resin composition used in the present invention. It is preferable to contain 0.01-5 mass parts of laser beam absorption additives with respect to 100 mass parts of polyamide resins. Examples of the laser light absorbing additive include inorganic pigments and organic pigments such as carbon black, iron oxide, molybdate orange, and titanium oxide.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物を用いて成形されるレーザー光吸収性成形品の融点は、前記のレーザー光透過性成形品の融点と比べて、同一であるかそれより高いことが好ましい。そのようにすることにより、レーザー照射により溶融したレーザー光吸収性成形品の熱により、レーザー光透過性成形品も溶融しやすくなるため、溶着性が向上する。 The melting point of the laser light-absorbing molded product molded using the polyamide resin composition for laser welding of the present invention is preferably the same or higher than the melting point of the laser light-transmitting molded product. . By doing so, the heat of the laser light-absorbing molded product melted by the laser irradiation becomes easy to melt the laser light-transmitting molded product, so that the weldability is improved.
本発明のレーザー溶着方法は、レーザー光透過性成形品とレーザー光吸収性成形品とを当接し、前記のレーザー光透過性成形品側からレーザーを照射することにより、レーザー光吸収性成形品が、当接近傍でレーザー光を吸収して発熱、溶融する。次に、その熱は、熱伝導によって、レーザー光透過性成形品に伝わり、レーザー光透過性成形品が、当接近傍で溶融する。このように、レーザー光吸収性成形品とレーザー光透過性成形品の当接面が溶融することにより、両者を一体的に溶着接合することができる。 According to the laser welding method of the present invention, a laser light-absorbing molded article is brought into contact with a laser light-absorbing molded article, and the laser light-absorbing molded article is irradiated with a laser from the laser light-transmitting molded article side. In the vicinity of the contact, the laser beam is absorbed to generate heat and melt. Next, the heat is transferred to the laser light transmissive molded product by heat conduction, and the laser light transmissive molded product melts in the vicinity of the contact. As described above, the contact surfaces of the laser-light-absorbing molded product and the laser-light-transmitting molded product are melted, so that both can be integrally welded.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物を用いて成形されるレーザー光透過性成形品は、厚さ3mmの成形品における波長940nmの光線透過率が15%以上であることが好ましく、より好ましくは30%以上であり、さらに好ましくは40%以上である。また、成形品厚みは10mm以下であることが好ましい。 The laser-light-transmitting molded product molded using the laser welding polyamide resin composition of the present invention preferably has a light transmittance of 15% or more at a wavelength of 940 nm in a molded product having a thickness of 3 mm, more preferably. It is 30% or more, more preferably 40% or more. The thickness of the molded product is preferably 10 mm or less.
本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物を用いて成形されるレーザー光吸収性成形品は、厚さ3mmの成形品における波長940nmの光線透過率が10%以下であることが好ましい。 The laser-light-absorbing molded product molded using the laser welding polyamide resin composition of the present invention preferably has a light transmittance of 10% or less at a wavelength of 940 nm in a molded product having a thickness of 3 mm.
レーザー光源としては、例えばアルゴンレーザー(510nm)、ヘリウム−ネオンレーザー(630nm)などの気体レーザーや、色素レーザー(400〜700nm)などの液体レーザーや、YAGレーザー(1064nm)などの固体レーザーや、半導体レーザー(655〜980nm)などが利用できる。これらのレーザー光源の照射は、連続照射またはパルス照射のいずれでもよい。 As a laser light source, for example, a gas laser such as an argon laser (510 nm) or a helium-neon laser (630 nm), a liquid laser such as a dye laser (400 to 700 nm), a solid laser such as a YAG laser (1064 nm), or a semiconductor A laser (655 to 980 nm) can be used. Irradiation of these laser light sources may be either continuous irradiation or pulse irradiation.
また、レーザー光の波長、出力、照射径、照射速度などの条件は、適宜設定可能である。例えば、レーザー光の波長は400nm以上が好ましい。波長が400nm以上の場合、樹脂の変質による強度低下を抑制でき、好ましい。レーザー光の出力は10W〜50Wが好ましい。10W以上の場合、十分な溶着性を確保することが容易となり、50W以下の場合、樹脂の変質による強度低下を抑制でき、好ましい。レーザー光の照射速度は1mm/sec〜50mm/secであることが好ましい。1mm/sec以上の場合、樹脂の変質による強度低下を抑制でき、50mm/sec以下の場合、十分な溶着性を確保することが容易となり好ましい。 The conditions such as the wavelength, output, irradiation diameter, and irradiation speed of the laser light can be set as appropriate. For example, the wavelength of the laser beam is preferably 400 nm or more. When the wavelength is 400 nm or more, it is possible to suppress a decrease in strength due to resin alteration, which is preferable. The output of the laser beam is preferably 10W to 50W. When it is 10 W or more, it becomes easy to ensure sufficient weldability, and when it is 50 W or less, it is possible to suppress a decrease in strength due to resin alteration, which is preferable. The laser beam irradiation speed is preferably 1 mm / sec to 50 mm / sec. When it is 1 mm / sec or more, it is possible to suppress a decrease in strength due to resin alteration, and when it is 50 mm / sec or less, it is easy to ensure sufficient weldability, which is preferable.
本発明の複合成形品は、その優れた特性を活かし、自動車部品、電気・電子部品、建築部材および各種容器など各種用途に利用することができる。本発明の複合成形品は、とりわけ、溶着性、機械強度および寸法安定性が要求される自動車エンジン周辺部品、自動車アンダーフード部品、自動車外装部品、吸排気系部品、エンジン冷却水系部品、自動車電装部品、および電気・電子部品用途に特に好ましく用いられる。 The composite molded article of the present invention can be used for various applications such as automobile parts, electrical / electronic parts, building members, and various containers by taking advantage of its excellent characteristics. The composite molded article of the present invention is, among other things, automobile engine peripheral parts, automobile underhood parts, automobile exterior parts, intake / exhaust system parts, engine cooling water system parts, automobile electrical parts, which require weldability, mechanical strength and dimensional stability. , And electrical / electronic component applications.
具体的には、エンジンカバー、エアインテークパイプ、タイミングベルトカバー、インテークマニホールド、フィラーキャップ、スロットルボディ、クーリングファンなどの自動車エンジン周辺部品、クーリングファン、ラジエータータンクのトップおよびベース、シリンダーヘッドカバー、オイルパン、ブレーキ配管、燃料配管用チューブ、廃ガス系統部品などの自動車アンダーフード部品、フロントフェンダー、リアフェンダー、フューエルリッド、ドアパネル、シリンダーヘッドカバー、ドアミラーステイ、テールゲートパネル、ライセンスガーニッシュ、ルーフレール、エンジンマウントブラケット、リアガーニッシュ、リアスポイラー、トランクリッド、ロッカーモール、モール、ランプハウジング、フロントグリル、マッドガード、サイドバンパーなどの自動車外装部品、エアインテークマニホールド、インタークーラーインレット、ターボチャージャ、エキゾーストパイプカバー、インナーブッシュ、ベアリングリテーナー、エンジンマウント、エンジンヘッドカバー、リゾネーター、およびスロットルボディなどの吸排気系部品、チェーンカバー、サーモスタットハウジング、アウトレットパイプ、ラジエータータンク、オイルネーター、及びデリバリーパイプなどのエンジン冷却水系部品、コネクターやワイヤーハーネスコネクタ、モーター部品、ランプソケット、センサー車載スイッチ、コンビネーションスイッチなどの自動車電装部品、電気・電子部品としては、例えば、発電機、電動機、変圧器、変流器、電圧調整器、整流器、抵抗器、インバーター、継電器、電力用接点、開閉器、遮断機、スイッチ、ナイフスイッチ、他極ロッド、モーターケース、ノートパソコンハウジングおよび内部部品、CRTディスプレーハウジングおよび内部部品、プリンターハウジングおよび内部部品、携帯電話、モバイルパソコン、ハンドヘルド型モバイルなどの携帯端末ハウジングおよび内部部品、ICやLED対応ハウジング、コンデンサー座板、ヒューズホルダー、各種ギヤー、各種ケース、キャビネットなどの電気部品、コネクター、SMT対応のコネクター、カードコネクタ、ジャック、コイル、コイルボビン、センサー、LEDランプ、ソケット、抵抗器、リレー、リレーケース、リフレクター、小型スイッチ、電源部品、コイルボビン、コンデンサー、バリコンケース、光ピックアップシャーシ、発振子、各種端子板、変成器、プラグ、プリント基板、チューナー、スピーカー、マイクロフォン、ヘッドフォン、小型モーター、磁気ヘッドベース、パワーモジュール、SiパワーモジュールやSiCパワーモジュール、半導体、液晶、FDDキャリッジ、FDDシャーシ、モーターブラッシュホルダー、トランス部材、パラボラアンテナ、およびコンピューター関連部品などの電子部品などに好ましく用いられる。 Specifically, engine covers, air intake pipes, timing belt covers, intake manifolds, filler caps, throttle bodies, cooling fan and other automotive engine peripheral parts, cooling fans, radiator tank tops and bases, cylinder head covers, oil pans, Automotive underhood parts such as brake piping, fuel piping tubes, waste gas system parts, front fender, rear fender, fuel lid, door panel, cylinder head cover, door mirror stay, tailgate panel, license garnish, roof rail, engine mount bracket, rear garnish , Rear spoiler, trunk lid, rocker molding, molding, lamp housing, front grill, mud gar Automobile exterior parts such as side bumpers, air intake manifolds, intercooler inlets, turbochargers, exhaust pipe covers, inner bushes, bearing retainers, engine mounts, engine head covers, resonators, and throttle body intake and exhaust system parts, chain covers, Engine cooling water system parts such as thermostat housings, outlet pipes, radiator tanks, oil naters, and delivery pipes, connectors and wire harness connectors, motor parts, lamp sockets, sensor automotive switches such as on-board switches, combination switches, electrical / electronic parts Examples include generators, motors, transformers, current transformers, voltage regulators, rectifiers, resistors, inverters, , Power contacts, switches, breakers, switches, knife switches, other pole rods, motor cases, laptop housings and internal parts, CRT display housings and internal parts, printer housings and internal parts, mobile phones, mobile PCs, Handheld mobile and other portable terminal housings and internal parts, IC and LED compatible housings, capacitor seats, fuse holders, various gears, various cases, cabinets and other electrical components, connectors, SMT compatible connectors, card connectors, jacks, coils , Coil bobbin, sensor, LED lamp, socket, resistor, relay, relay case, reflector, small switch, power supply parts, coil bobbin, condenser, variable capacitor case, optical pickup chassis, Oscillator, various terminal boards, transformer, plug, printed circuit board, tuner, speaker, microphone, headphones, small motor, magnetic head base, power module, Si power module or SiC power module, semiconductor, liquid crystal, FDD carriage, FDD chassis It is preferably used for electronic parts such as motor brush holders, transformer members, parabolic antennas, and computer-related parts.
次に、実施例を挙げて本発明のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物と成形品について、さらに具体的に説明する。特性評価は、下記の方法に従って行った。 Next, the polyamide resin composition and molded product for laser welding according to the present invention will be described more specifically with reference to examples. The characteristic evaluation was performed according to the following method.
[ポリアミド樹脂の融点]
ポリアミド樹脂を約5mg採取し、窒素雰囲気下で、セイコーインスツル製ロボットDSC(示差走査熱量計)RDC220を用いて、次の条件でポリアミド樹脂(A)の融点を測定した。次に、ポリアミド樹脂(A)の融点+40℃に昇温して溶融状態とした後、20℃/分の降温速度で30℃の温度まで降温し、30℃の温度で3分間保持した後、20℃/分の昇温速度で融点+40℃まで昇温したときに観測される吸熱ピークの温度(融点)を求めた。
[Melting point of polyamide resin]
About 5 mg of polyamide resin was sampled and the melting point of the polyamide resin (A) was measured under the following conditions using a Seiko Instruments robot DSC (differential scanning calorimeter) RDC220 under a nitrogen atmosphere. Next, after raising the melting point of the polyamide resin (A) to 40 ° C. to a molten state, the temperature was lowered to a temperature of 30 ° C. at a temperature lowering rate of 20 ° C./min, and held at a temperature of 30 ° C. for 3 minutes. The temperature (melting point) of the endothermic peak observed when the temperature was raised to the melting point + 40 ° C. at a temperature rising rate of 20 ° C./min was determined.
[レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物中のポリアミド樹脂に対するリン原子含有量]
各実施例および比較例により得られたペレットを80℃の温度で12時間減圧乾燥し、そのペレットを550℃の温度の電気炉で24時間灰化させ、無機物含有量を求めた。次いで、そのペレットを60℃の温度のDMSO中で撹拌処理し、ポリアミド樹脂以外の添加剤成分を抽出し、添加剤含有量を求めた。その後、ポリアミド樹脂組成物の質量から無機物および添加剤重量を減じることにより、組成物中のポリアミド樹脂の含有量を求めた。
[Phosphorus atom content with respect to polyamide resin in polyamide resin composition for laser welding]
The pellets obtained in each example and comparative example were dried under reduced pressure at a temperature of 80 ° C. for 12 hours, and the pellets were ashed in an electric furnace at a temperature of 550 ° C. for 24 hours to obtain an inorganic content. Subsequently, the pellet was stirred in DMSO at a temperature of 60 ° C., and additive components other than the polyamide resin were extracted to determine the additive content. Thereafter, the content of the polyamide resin in the composition was determined by subtracting the inorganic and additive weights from the mass of the polyamide resin composition.
次に、レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物のペレットを硫酸・過酸化水素水系において湿式分解し、リンを正リン酸とし、分解液を希釈した。次いで、前記の正リン酸を1mol/L硫酸溶液中においてモリブデン酸塩と反応させて、リンモリブデン酸とし、これを硫酸ヒドラジンで還元して、生成したヘテロポリブルーの830nmの吸光度を吸光光度計(検量線法)で測定して比色定量することにより、レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物中のリン含有量を算出した。比色定量により算出したリン含有量を、先に算出したポリアミド樹脂含有量で割ることにより、ポリアミド樹脂含有量に対するリン原子含有量を求めた。吸光光度計は(株)日立製作所製U−3000を使用した。 Next, the pellets of the polyamide resin composition for laser welding were wet-decomposed in a sulfuric acid / hydrogen peroxide system to convert phosphorus into normal phosphoric acid, and the decomposition solution was diluted. Next, the orthophosphoric acid is reacted with molybdate in a 1 mol / L sulfuric acid solution to form phosphomolybdic acid, which is reduced with hydrazine sulfate. The phosphorus content in the polyamide resin composition for laser welding was calculated by colorimetric determination using a calibration curve method). The phosphorus atom content relative to the polyamide resin content was determined by dividing the phosphorus content calculated by colorimetric determination by the previously calculated polyamide resin content. U-3000 manufactured by Hitachi, Ltd. was used as the absorptiometer.
[レーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物中の銅含有量およびカリウム含有量]
各実施例および比較例により得られたペレットを80℃の温度で12時間減圧乾燥した。そのペレットを、550℃の温度の電気炉で24時間灰化させ、その灰化物に濃硫酸を加えて加熱して湿式分解し、分解液を希釈した。その希釈液を原子吸光分析(検量線法)することにより、銅含有量およびカリウム含有量を求めた。原子吸光分析計は(株)島津製作所製AA−6300を使用した。
[Copper content and potassium content in the polyamide resin composition for laser welding]
The pellets obtained in each example and comparative example were dried under reduced pressure at a temperature of 80 ° C. for 12 hours. The pellet was incinerated for 24 hours in an electric furnace at a temperature of 550 ° C., concentrated sulfuric acid was added to the incinerated product, and the mixture was heated and wet-decomposed to dilute the decomposition solution. The diluted solution was subjected to atomic absorption analysis (calibration curve method) to determine the copper content and the potassium content. AA-6300 manufactured by Shimadzu Corporation was used as the atomic absorption spectrometer.
[重量平均分子量および数平均分子量]
化合物(B)、化合物(B’)、およびエポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)2.5mgを、それぞれヘキサフルオロイソプロパノール(0.005N−トリフルオロ酢酸ナトリウム添加)4mlに溶解し、0.45μmのフィルターでろ過して得られた溶液を測定に用いた。測定条件を、次に示す。
・装置:ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)(Waters製)
・検出器:示差屈折率計Waters410(Waters製)
・カラム:Shodex GPC HFIP−806M(2本)+HFIP−LG(島津ジーエルシー(株))
・流速:0.5ml/min
・試料注入量:0.1ml
・温度:30℃
・分子量校正:ポリメチルメタクリレート。
[Weight average molecular weight and number average molecular weight]
Compound (B), compound (B ′), and 2.5 mg of epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) were dissolved in 4 ml of hexafluoroisopropanol (0.005N sodium trifluoroacetate added), respectively. A solution obtained by filtration through a 45 μm filter was used for the measurement. The measurement conditions are as follows.
Apparatus: Gel permeation chromatography (GPC) (manufactured by Waters)
Detector: differential refractometer Waters 410 (manufactured by Waters)
Column: Shodex GPC HFIP-806M (2) + HFIP-LG (Shimadzu GL Corp.)
・ Flow rate: 0.5ml / min
・ Sample injection volume: 0.1 ml
・ Temperature: 30 ℃
-Molecular weight calibration: polymethyl methacrylate.
[水酸基価]
化合物(B)と化合物(B’)を0.5g採取し、それぞれ250ml三角フラスコに加え、次いで、無水酢酸と無水ピリジンを1:10(質量比)に調整・混合した溶液20.00mlを採取し、前記の三角フラスコに入れ、還流冷却器を取り付けて、100℃の温度に温調したオイルバス下で20分間、撹拌しながら還流させた後、30℃まで冷却した。さらに、前記の三角フラスコ内に、冷却器を通じてアセトン20mlと蒸留水20mlを加えた。これにフェノールフタレイン指示薬を入れて、0.5mol/Lのエタノール性水酸化カリウム溶液により滴定した。別途測定したブランク(試料を含まない)の測定結果を差し引き、下記式(6)により水酸基価を算出した。
・水酸基価[mgKOH/g]=[((B−C)×f×28.05)/S]+E (6)
(上記式中、Bは滴定に用いた0.5mol/Lのエタノール性水酸化カリウム溶液の量[ml]を表し、Cはブランクの滴定に用いた0.5mol/Lのエタノール性水酸化カリウム溶液の量[ml]を表し、fは0.5mol/Lのエタノール性水酸化カリウム溶液のファクターを表し、Sは試料の質量[g]を表し、Eは酸価を表す。)
[水酸基と、エポキシ基またはカルボジイミド基との反応率]
化合物(B’)0.035gを重水素化ジメチルスルホキシド0.7mlに溶解し、エポキシ基の場合は1H−NMR測定を行い、カルボジイミド基の場合は13C−NMR測定を行った。各分析条件は、下記のとおりである。
[Hydroxyl value]
Collect 0.5 g of compound (B) and compound (B ′), add each to a 250 ml Erlenmeyer flask, and then collect 20.00 ml of a solution prepared by adjusting and mixing acetic anhydride and anhydrous pyridine to 1:10 (mass ratio). The flask was placed in the Erlenmeyer flask, attached with a reflux condenser, refluxed for 20 minutes in an oil bath adjusted to a temperature of 100 ° C. with stirring, and then cooled to 30 ° C. Furthermore, 20 ml of acetone and 20 ml of distilled water were added to the above Erlenmeyer flask through a cooler. A phenolphthalein indicator was added thereto, and titrated with a 0.5 mol / L ethanolic potassium hydroxide solution. The hydroxyl value was calculated by the following formula (6) by subtracting the measurement result of the blank (not including the sample) separately measured.
Hydroxyl value [mgKOH / g] = [((BC) × f × 28.05) / S] + E (6)
(In the above formula, B represents the amount [ml] of 0.5 mol / L ethanolic potassium hydroxide solution used for titration, and C represents 0.5 mol / L ethanolic potassium hydroxide used for blank titration. The amount of the solution [ml] is represented, f represents the factor of the 0.5 mol / L ethanolic potassium hydroxide solution, S represents the mass [g] of the sample, and E represents the acid value.)
[Reaction rate between hydroxyl group and epoxy group or carbodiimide group]
0.035 g of the compound (B ′) was dissolved in 0.7 ml of deuterated dimethyl sulfoxide, and in the case of an epoxy group, 1 H-NMR measurement was performed, and in the case of a carbodiimide group, 13 C-NMR measurement was performed. Each analysis condition is as follows.
(1)1H−NMR
・装置:日本電子(株)製核磁気共鳴装置(JNM−AL400)
・溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド
・観測周波数:OBFRQ399.65MHz、OBSET124.00KHz、O・BFIN10500.00Hz
・積算回数:256回。
(1) 1 H-NMR
・ Device: Nuclear magnetic resonance apparatus (JNM-AL400) manufactured by JEOL Ltd.
・ Solvent: Deuterated dimethyl sulfoxide ・ Observation frequency: OBFRQ 399.65 MHz, OBSET 124.00 KHz, O.BFIN10500.00 Hz
-Accumulation count: 256 times.
(2)13C−NMR
・装置:日本電子(株)製核磁気共鳴装置(JNM−AL400)
・溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド
・観測周波数:OBFRQ100.40MHz、OBSET125.00KHz、OBFIN10500.00Hz
・積算回数:512回。
(2) 13 C-NMR
・ Device: Nuclear magnetic resonance apparatus (JNM-AL400) manufactured by JEOL Ltd.
Solvent: Deuterated dimethyl sulfoxide Observation frequency: OBFRQ 100.40 MHz, OBSET 125.00 KHz, OBFIN 10500.00 Hz
-Accumulation count: 512 times.
得られた1H−NMRスペクトルから、エポキシ環由来ピークの面積を求めた。また、得られた13C−NMRスペクトルから、カルボジイミド基由来ピークの面積を求めた。ピーク面積は、NMR装置付属の解析ソフトを用い、ベースラインとピークで囲まれた部分の面積を積分することにより算出した。1分子中に3つ以上の水酸基含有化合物と、エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)をドライブレンドしたもののピーク面積をdとし、化合物(b)のピーク面積をeとし、反応率は、下記式(4)により算出した。
・反応率(%)={1−(e/d)}×100 (4)
一例として、ジペンタエリスリトールとビスフェノールA型エポキシ樹脂である「三菱化学(株)製“jER”(登録商標)1004を、3:1の質量比でドライブレンドしたものの1H−NMRスペクトルを、図1に示す。また、参考例5により得られた(B’−4)化合物の1H−NMRスペクトルを、図2に示す。図1に示す1H−NMRスペクトルから、2.60ppmと2.80ppm付近に現れるエポキシ環由来ピーク面積の合計を求め、同様に図2に示すピーク面積の合計を求め、反応率の算出式(4)により、反応率を算出した。この際、ピーク面積は、反応に寄与しないエポキシ樹脂のベンゼン環のピークの面積で規格化した。
The area of the epoxy ring-derived peak was determined from the obtained 1 H-NMR spectrum. Moreover, the area of the peak derived from a carbodiimide group was calculated | required from the obtained 13 C-NMR spectrum. The peak area was calculated by integrating the area surrounded by the baseline and the peak using the analysis software attached to the NMR apparatus. The peak area of a dry blend of three or more hydroxyl group-containing compounds in one molecule and an epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) is d, the peak area of the compound (b) is e, and the reaction rate is It was calculated by the following formula (4).
Reaction rate (%) = {1- (e / d)} × 100 (4)
As an example, a 1 H-NMR spectrum of a dry blend of “pentaerythritol and bisphenol A type epoxy resin“ jER ”(registered trademark) 1004 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation at a mass ratio of 3: 1” shown in 1. Further, the 1 H-NMR spectrum of the obtained in reference example 5 (B'-4) compound, from 1 H-NMR spectrum shown in. Figure 1 shown in FIG. 2, 2.60Ppm and 2. The total of the peak areas derived from the epoxy ring appearing in the vicinity of 80 ppm was obtained, similarly, the sum of the peak areas shown in Fig. 2 was obtained, and the reaction rate was calculated by the reaction rate calculation formula (4). Normalization was performed using the peak area of the benzene ring of the epoxy resin that does not contribute to the reaction.
[分岐度]
化合物(B)と化合物(B’)を、下記の条件で13C−NMR分析した後、下記式(5)により分岐度(DB)を算出した。
・分岐度=(D+T)/(D+T+L) (5)
(上記式(5)中、Dはデンドリックユニットの数、Lは線状ユニットの数、Tは末端ユニットの数を表す。)
上記のD、T、Lは、13C−NMRにより測定したピーク面積から算出した。Dは第3級または第4級炭素原子に由来し、Tは第1級炭素原子の中で、メチル基であるものに由来し、Lは第1級または第2級炭素原子の中で、Tを除くものに由来する。ピーク面積は、NMR装置付属の解析ソフトを用い、ベースラインとピークで囲まれた部分の面積を積分することにより算出した。測定条件は、下記のとおりである。
[Degree of branching]
The compound (B) and the compound (B ′) were subjected to 13 C-NMR analysis under the following conditions, and the degree of branching (DB) was calculated from the following formula (5).
Branch degree = (D + T) / (D + T + L) (5)
(In the above formula (5), D represents the number of dendritic units, L represents the number of linear units, and T represents the number of terminal units.)
Said D, T, and L were computed from the peak area measured by < 13 > C-NMR. D is derived from a tertiary or quaternary carbon atom, T is derived from a primary carbon atom that is a methyl group, L is a primary or secondary carbon atom, Derived from except T. The peak area was calculated by integrating the area surrounded by the baseline and the peak using the analysis software attached to the NMR apparatus. The measurement conditions are as follows.
(1)13C−NMR
・装置:日本電子(株)製核磁気共鳴装置(JNM−AL400)
・溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド
・測定サンプル量/溶媒量:0.035g/0.70ml
・観測周波数:OBFRQ100.40MHz、OBSET125.00KHz、OBFIN10500.00Hz
・積算回数:512回。
(1) 13 C-NMR
・ Device: Nuclear magnetic resonance apparatus (JNM-AL400) manufactured by JEOL Ltd.
・ Solvent: Deuterated dimethyl sulfoxide ・ Measurement sample amount / solvent amount: 0.035 g / 0.70 ml
・ Observation frequency: OBFRQ 100.40MHz, OBSET125.00KHz, OBFIN10500.00Hz
-Accumulation count: 512 times.
[化合物(B)と化合物(B’)の1分子中の水酸基数]
水酸基の数は、化合物(B)と化合物(B’)の数平均分子量と水酸基価を算出し、下記式(2)により算出した。
・水酸基の数=(数平均分子量×水酸基価)/56110 (2)
[化合物(B’)の1分子中のエポキシ基およびカルボジイミド基の数の和]
エポキシ基またはカルボジイミド基の数は、化合物(B’)の数平均分子量をエポキシ当量またはカルボジイミド当量で割った値により算出した。
[Number of hydroxyl groups in one molecule of compound (B) and compound (B ′)]
The number of hydroxyl groups was calculated from the following formula (2) by calculating the number average molecular weight and the hydroxyl value of the compound (B) and the compound (B ′).
Number of hydroxyl groups = (number average molecular weight × hydroxyl value) / 56110 (2)
[Sum of the number of epoxy groups and carbodiimide groups in one molecule of compound (B ′)]
The number of epoxy groups or carbodiimide groups was calculated by dividing the number average molecular weight of the compound (B ′) by the epoxy equivalent or carbodiimide equivalent.
化合物(B)と、化合物(B’)の数平均分子量と水酸基価は、前述の方法で測定した。エポキシ当量は、化合物(B’)400mgを、ヘキサフルオロイソプロパノール30mlに溶解させた後、酢酸20ml、テトラエチルアンモニウムブロミド/酢酸溶液(=50g/200ml)を加え、滴定液として0.1Nの過塩素酸および指示薬としてクリスタルバイオレットを用い、溶解液の色が紫色から青緑色に変化した際の滴定量より、下記式(3)により算出した。
・エポキシ当量[g/eq]=W/((F−G)×0.1×f×0.001) (3)
(上記式中、Fは滴定に用いた0.1Nの過塩素酸の量[ml]を表し、Gはブランクの滴定に用いた0.1Nの過塩素酸の量[ml]を表し、fは0.1Nの過塩素酸のファクターを表し、Wは試料の質量[g]を表す。)
カルボジイミド当量は、次の方法で算出した。化合物(B’)100質量部と、内部標準物質としてフェロシアン化カリウム(東京化成工業(株)製)30質量部をドライブレンドし、約200℃の温度で1分間熱プレスを行い、シートを作製した。その後、赤外分光光度計((株)島津製作所製、IR Prestige−21/AIM8800)を用いて、透過法で、シートの赤外吸収スペクトルを測定した。測定条件は、分解能4cm−1、積算回数32回とした。透過法での赤外吸収スペクトルは、吸光度がシート厚みに反比例するため、内部標準ピークを用いて、カルボジイミド基のピーク強度を規格化する必要がある。2140cm−1付近に現れるカルボジイミド基由来ピークの吸光度を、2100cm−1付近に現れるフェロシアン化カリウムのCN基の吸収ピークの吸光度で割った値を算出した。この値からカルボジイミド当量を算出するために、あらかじめカルボジイミド当量が既知のサンプルを用いてIR測定を行い、カルボジイミド基由来ピークの吸光度と内部標準ピークの吸光度の比を用いて検量線を作成し、化合物(B’)の吸光度比を検量線に代入し、カルボジイミド当量を算出した。カルボジイミド当量が既知のサンプルとして、脂肪族ポリカルボジイミド(日清紡製、“カルボジライト”(登録商標)LA−1、カルボジイミド当量247g/mol)、芳香族ポリカルボジイミド(ラインケミー製、“スタバクゾール”(登録商標)P、およびカルボジイミド当量360g/mol)を用いた。
The number average molecular weight and the hydroxyl value of the compound (B) and the compound (B ′) were measured by the method described above. Epoxy equivalent was obtained by dissolving 400 mg of compound (B ′) in 30 ml of hexafluoroisopropanol, then adding 20 ml of acetic acid and tetraethylammonium bromide / acetic acid solution (= 50 g / 200 ml), and 0.1N perchloric acid as a titrant. The crystal violet was used as an indicator, and the titration amount when the color of the solution changed from purple to blue-green was calculated by the following formula (3).
Epoxy equivalent [g / eq] = W / ((FG) × 0.1 × f × 0.001) (3)
(In the above formula, F represents the amount of 0.1N perchloric acid [ml] used for titration, G represents the amount of 0.1N perchloric acid [ml] used for blank titration, f Represents the factor of 0.1N perchloric acid, and W represents the mass [g] of the sample.)
The carbodiimide equivalent was calculated by the following method. 100 parts by mass of the compound (B ′) and 30 parts by mass of potassium ferrocyanide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as an internal standard substance were dry blended and subjected to hot pressing at a temperature of about 200 ° C. for 1 minute to produce a sheet. . Thereafter, the infrared absorption spectrum of the sheet was measured by a transmission method using an infrared spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, IR Prestige-21 / AIM8800). The measurement conditions were a resolution of 4 cm −1 and an integration count of 32 times. In the infrared absorption spectrum in the transmission method, since the absorbance is inversely proportional to the sheet thickness, it is necessary to normalize the peak intensity of the carbodiimide group using the internal standard peak. A value obtained by dividing the absorbance of the carbodiimide group-derived peak appearing in the vicinity of 2140 cm −1 by the absorbance of the CN group absorption peak of potassium ferrocyanide appearing in the vicinity of 2100 cm −1 was calculated. In order to calculate the carbodiimide equivalent from this value, IR measurement is performed using a sample whose carbodiimide equivalent is known in advance, and a calibration curve is created using the ratio of the absorbance of the peak derived from the carbodiimide group and the absorbance of the internal standard peak. The absorbance ratio of (B ′) was substituted into the calibration curve, and the carbodiimide equivalent was calculated. Samples having a known carbodiimide equivalent include aliphatic polycarbodiimide (manufactured by Nisshinbo Co., Ltd., “Carbodilite” (registered trademark) LA-1, carbodiimide equivalent 247 g / mol), aromatic polycarbodiimide (manufactured by Rhein Chemie, “STABAXOL” (registered trademark) P) And a carbodiimide equivalent of 360 g / mol).
[レーザー光透過性成形品の曲げ強度]
各実施例および比較例により得られたペレットを80℃で12時間減圧乾燥し、射出成形機(住友重機械工業(株)製SG75H−MIV)を用いて、シリンダー温度:(A)ポリアミド樹脂の融点+15℃、金型温度:80℃の条件で射出成形することにより、厚さ1/4インチのレーザー透過性の棒状試験片を作製した。この試験片について、ASTM D790に従って曲げ試験機テンシロンRTA−1T(オリエンテック社製)により、クロスヘッド速度3mm/分で曲げ試験を行った。3回測定を行い、その平均値を曲げ強度として算出した。
[Bending strength of laser-transmitting molded product]
The pellets obtained in each Example and Comparative Example were dried under reduced pressure at 80 ° C. for 12 hours, and using an injection molding machine (SG75H-MIV manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.), cylinder temperature: (A) of polyamide resin A laser-transmitting rod-shaped test piece having a thickness of 1/4 inch was manufactured by injection molding under the conditions of melting point + 15 ° C. and mold temperature: 80 ° C. The test piece was subjected to a bending test at a crosshead speed of 3 mm / min using a bending tester Tensilon RTA-1T (Orientec Co., Ltd.) according to ASTM D790. The measurement was performed three times, and the average value was calculated as the bending strength.
[レーザー光透過性成形品の寸法安定性(低反り性)]
実施例および比較例により得られたペレットを、80℃の温度で12時間減圧乾燥し、射出成形機(住友重機械工業(株)製SG75H−MIV)を用いて、シリンダー温度:(A)ポリアミド樹脂の融点+15℃、金型温度:80℃の条件で射出成形することにより、70mm×70mm×1mm厚のレーザー光透過性の角板を成形し、130℃の温度で、大気下のギアオーブンで1時間熱処理したときの反り性を評価した。
[Dimensional stability of laser light-transmitting molded products (low warpage)]
The pellets obtained in Examples and Comparative Examples were dried under reduced pressure for 12 hours at a temperature of 80 ° C., and cylinder temperature: (A) polyamide using an injection molding machine (Sumitomo Heavy Industries, Ltd. SG75H-MIV). By injection molding under the conditions of resin melting point + 15 ° C. and mold temperature: 80 ° C., a 70 mm × 70 mm × 1 mm thick laser light-transmitting square plate is formed, and a gear oven in the atmosphere at a temperature of 130 ° C. The warpage when heat-treated for 1 hour was evaluated.
評価は、角板の四辺のいずれか1カ所を抑え、反り量が0.8mm未満を○とし、3mm未満を△とし、3mm以上を×とした。 In the evaluation, any one of the four sides of the square plate was suppressed, and the warp amount was less than 0.8 mm, ◯, less than 3 mm, and 3 mm or more as x.
[光線透過率]
実施例および比較例により得られたペレットを、80℃の温度で12時間減圧乾燥し、射出成形機(住友重機械工業(株)製SG75H−MIV)を用いて、シリンダー温度:(A)ポリアミド樹脂の融点+15℃、金型温度:80℃の条件で射出成形することにより、長さ128mm、幅13mm、厚さ3mmのレーザー光透過性試験片およびレーザー光吸収性試験片を成形した。光線透過率は、紫外・可視分光光度計((株)島津製作所製UV−3100PC)を用いて測定し、近赤外領域940nmの透過光強度と入射光強度の比を百分率(%)で表した。
[Light transmittance]
The pellets obtained in Examples and Comparative Examples were dried under reduced pressure for 12 hours at a temperature of 80 ° C., and cylinder temperature: (A) polyamide using an injection molding machine (Sumitomo Heavy Industries, Ltd. SG75H-MIV). A laser light transmitting test piece and a laser light absorbing test piece having a length of 128 mm, a width of 13 mm, and a thickness of 3 mm were formed by injection molding under the conditions of the melting point of the resin + 15 ° C. and the mold temperature: 80 ° C. The light transmittance is measured using an ultraviolet / visible spectrophotometer (UV-3100PC manufactured by Shimadzu Corporation), and the ratio of transmitted light intensity to incident light intensity in the near infrared region 940 nm is expressed as a percentage (%). did.
[レーザー溶着性]
実施例および比較例により得られたペレットを、80℃の温度で12時間減圧乾燥し、射出成形機(住友重機械工業(株)製SG75H−MIV)を用いて、シリンダー温度:(A)ポリアミド樹脂の融点+15℃、金型温度:80℃の条件で射出成形することにより、80mm×80mm×3mm厚のレーザー光透過性試験片およびレーザー光吸収性試験片を成形した。さらに、試験片を幅24mm×長さ70mm×3mm厚にそれぞれ加工して、各成形品を長さ方向に、重ね合わせ長さが30mmとなるよう重ね合わせ、レーザー溶着距離は20mmとして、レーザー溶着を行い、引張強度を測定した。
[Laser weldability]
The pellets obtained in Examples and Comparative Examples were dried under reduced pressure for 12 hours at a temperature of 80 ° C., and cylinder temperature: (A) polyamide using an injection molding machine (Sumitomo Heavy Industries, Ltd. SG75H-MIV). By injection molding under the conditions of the melting point of the resin + 15 ° C. and the mold temperature: 80 ° C., a laser light transmitting test piece and a laser light absorbing test piece having a thickness of 80 mm × 80 mm × 3 mm were formed. Further, the test piece was processed to a width of 24 mm × length of 70 mm × 3 mm, and each molded product was overlapped in the length direction so that the overlap length was 30 mm, and the laser welding distance was set to 20 mm. The tensile strength was measured.
溶着条件および溶着強度測定条件は、次のとおりである。 The welding conditions and the welding strength measurement conditions are as follows.
ライスター社のMODULAS Cをレーザー溶着機として用い、レーザー溶着条件は、出力35Wおよびレーザー走査速度10mm/secで行った。焦点距離は38mmで、焦点径は0.6mm固定で実施した。また、溶着強度測定には、引張試験機テンシロンUTA2.5T(オリエンテック社製)を用い、溶着された試験片の両端を固定し、溶着部位には引張剪断応力が発生するように引張試験を行った。引張速度は1mm/分、スパンは40mmである。溶着強度は溶着部位が破断したときの応力とし、3回測定を行い、その平均値を溶着強度として算出した。 Leister's MODULAS C was used as a laser welder, and the laser welding conditions were an output of 35 W and a laser scanning speed of 10 mm / sec. The focal length was 38 mm and the focal diameter was fixed at 0.6 mm. In addition, for the measurement of welding strength, a tensile tester Tensilon UTA2.5T (made by Orientec Co., Ltd.) is used, and both ends of the welded test piece are fixed, and a tensile test is performed so that tensile shear stress is generated at the welding site. went. The tensile speed is 1 mm / min and the span is 40 mm. The welding strength was the stress when the welded site was broken, and the measurement was performed three times. The average value was calculated as the welding strength.
[レーザー光透過性成形品の耐熱老化性]
実施例および比較例により得られたペレットを80℃の温度で12時間減圧乾燥し、射出成形機(住友重機械工業(株)製SG75H−MIV)を用いて、シリンダー温度:ポリアミド樹脂(A)の融点+15℃、金型温度:80℃の条件で射出成形することにより、厚さ3.2mmのレーザー透過性のASTM1号ダンベル試験片を作製した。この試験片について、ASTM D638に従って引張試験機テンシロンUTA2.5T(オリエンテック社製)により、クロスヘッド速度10mm/分で引張試験を行った。3回測定を行い、その平均値を耐熱老化性試験処理前引張強度として算出した。ついで、ASTM1号ダンベル試験片を、200℃、大気下のギアオーブンで3000時間熱処理(耐熱老化性試験処理)し、処理後の試験片について、同様の引張試験を行い、3回の測定値の平均値を耐熱老化性試験処理後の引張強度として算出した。耐熱老化性試験処理前の引張強度に対する処理後の引張強度の比を、引張強度保持率として算出した。引張強度保持率が大きいほど、耐熱老化性に優れている。
[Heat aging resistance of laser light-transmitting molded products]
The pellets obtained in Examples and Comparative Examples were dried under reduced pressure at a temperature of 80 ° C. for 12 hours, and cylinder temperature: polyamide resin (A) using an injection molding machine (Sumitomo Heavy Industries, Ltd. SG75H-MIV). A laser transmissive ASTM No. 1 dumbbell test piece having a thickness of 3.2 mm was produced by injection molding under the conditions of a melting point of + 15 ° C. and a mold temperature of 80 ° C. This test piece was subjected to a tensile test at a crosshead speed of 10 mm / min by a tensile tester Tensilon UTA2.5T (manufactured by Orientec Co., Ltd.) according to ASTM D638. The measurement was performed three times, and the average value was calculated as the tensile strength before the heat aging resistance test treatment. Next, ASTM No. 1 dumbbell test piece was heat-treated in a gear oven at 200 ° C. in the atmosphere for 3000 hours (heat aging resistance test process). The average value was calculated as the tensile strength after the heat aging resistance test treatment. The ratio of the tensile strength after the treatment to the tensile strength before the heat aging resistance test treatment was calculated as the tensile strength retention rate. The greater the tensile strength retention, the better the heat aging resistance.
・参考例1(E−1:Cu/K(質量比)=0.23の割合で含むナイロン66マスターバッチ)
ナイロン66(東レ(株)製“アミラン”(登録商標)CM3001−N)100質量部に対して、ヨウ化銅2.0質量部、ヨウ化カリウム40%水溶液21.7質量部を予備混合した後、(株)日本製鋼所製TEX30型2軸押出機(L/D:45.5)を用いて、シリンダー温度275℃、スクリュー回転数150rpmの条件で溶融混練し、ストランドカッターによりペレット化した。その後、80℃の温度で8時間真空乾燥し、銅含有量が0.60質量%のマスターバッチペレットを作製した。
Reference Example 1 (E-1: Nylon 66 masterbatch containing Cu / K (mass ratio) = 0.23)
To 100 parts by mass of nylon 66 (“Amilan” (registered trademark) CM3001-N manufactured by Toray Industries, Inc.), 2.0 parts by mass of copper iodide and 21.7 parts by mass of potassium iodide 40% aqueous solution were premixed. Thereafter, using a TEX30 type twin screw extruder (L / D: 45.5) manufactured by Nippon Steel, Ltd., the mixture was melt-kneaded under conditions of a cylinder temperature of 275 ° C. and a screw rotation speed of 150 rpm, and pelletized by a strand cutter. . Then, it vacuum-dried at the temperature of 80 degreeC for 8 hours, and produced the masterbatch pellet whose copper content is 0.60 mass%.
・参考例2(B‘−1)
ジペンタエリスリトール(広栄化学工業(株)製、分子量/1分子中の官能基数42)100質量部に対して、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製“EPPN”(登録商標)201)10質量部を予備混合した後、池貝製PCM30型2軸押出機を用いて、シリンダー温度200℃、スクリュー回転数100rpmの条件で3.5分間溶融混練し、ホットカッターによりペレット化した。得られたペレットを再度押出機に供給し、再溶融混練工程を1回行い、前記の一般式(1)で表される化合物のペレットを得た。得られた化合物の反応率は53%、分岐度は0.29で、水酸基価は1280mgKOH/gであった。1分子中に3つ以上の水酸基を有し、1分子中の水酸基の数は、1分子中のエポキシ基の数よりも多く、一般式(1)におけるOHとORの数の和は3以上であった。
Reference example 2 (B′-1)
A phenol novolac epoxy resin (“EPPN” (registered trademark) 201 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) is used for 100 parts by mass of dipentaerythritol (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd., molecular weight / number of functional groups 42 per molecule). ) After preliminarily mixing 10 parts by mass, the mixture was melt-kneaded for 3.5 minutes under the conditions of a cylinder temperature of 200 ° C. and a screw rotation speed of 100 rpm using a Ikegai PCM30 type twin screw extruder, and pelletized by a hot cutter. The obtained pellets were supplied again to the extruder, and the remelting and kneading step was performed once to obtain pellets of the compound represented by the general formula (1). The reaction rate of the obtained compound was 53%, the degree of branching was 0.29, and the hydroxyl value was 1280 mgKOH / g. There are three or more hydroxyl groups in one molecule, and the number of hydroxyl groups in one molecule is larger than the number of epoxy groups in one molecule, and the sum of the number of OH and OR in the general formula (1) is three or more. Met.
・参考例3(B‘−2)
2軸押出機のスクリュー回転数を300rpmに変更し、溶融混練時間を0.9分間に変更したこと以外は、参考例5と同様にして、前記の一般式(1)で表される化合物のペレットを得た。得られた化合物の反応率は2%、分岐度は0.15で、水酸基価は1350mgKOH/gであった。1分子中に3つ以上の水酸基を有し、1分子中の水酸基の数は、1分子中のエポキシ基の数よりも多く、一般式(1)におけるOHとORの数の和は3以上であった。
Reference example 3 (B'-2)
In the same manner as in Reference Example 5 except that the screw rotation speed of the twin screw extruder was changed to 300 rpm and the melt kneading time was changed to 0.9 minutes, the compound represented by the general formula (1) was changed. Pellets were obtained. The reaction rate of the obtained compound was 2%, the degree of branching was 0.15, and the hydroxyl value was 1350 mgKOH / g. There are three or more hydroxyl groups in one molecule, and the number of hydroxyl groups in one molecule is larger than the number of epoxy groups in one molecule, and the sum of the number of OH and OR in the general formula (1) is three or more. Met.
・参考例4(B‘−3)
ジペンタエリスリトール(広栄化学工業(株)製)100重量部に対して、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製“EPPN”(登録商標)201)10質量部、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7(東京化成工業(株)製)0.3質量部を予備混合した後、(株)池貝製PCM30型2軸押出機を用いて、シリンダー温度200℃、スクリュー回転数100rpmの条件で3.5分間溶融混練し、ホットカッターによりペレット化した。得られたペレットを押出機に供給し、再溶融混練工程をさらに6回行い、前記の一般式(1)で表される化合物のペレットを得た。得られた化合物の反応率は96%、分岐度は0.39で、水酸基価は1170mgKOH/gであった。1分子中に3つ以上の水酸基を有し、1分子中の水酸基の数は、1分子中のエポキシ基の数よりも多く、一般式(1)におけるOHとORの数の和は3以上であった。
Reference example 4 (B'-3)
10 parts by weight of phenol novolac type epoxy resin (“EPPN” (registered trademark) 201 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 100 parts by weight of dipentaerythritol (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.), 1,8-diazabicyclo After preliminarily mixing 0.3 part by mass of (5, 4, 0) -undecene-7 (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), cylinder temperature 200 ° C. using a PCM30 type twin screw extruder manufactured by Ikegai Co., Ltd. The mixture was melt-kneaded for 3.5 minutes under the condition of a screw speed of 100 rpm and pelletized with a hot cutter. The obtained pellets were supplied to an extruder, and the remelting and kneading step was further performed 6 times to obtain pellets of the compound represented by the general formula (1). The reaction rate of the obtained compound was 96%, the degree of branching was 0.39, and the hydroxyl value was 1170 mgKOH / g. There are three or more hydroxyl groups in one molecule, and the number of hydroxyl groups in one molecule is larger than the number of epoxy groups in one molecule, and the sum of the number of OH and OR in the general formula (1) is three or more. Met.
・参考例5(B‘−4)
ジペンタエリスリトール(広栄化学工業(株)製)100質量部に対して、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製“jER”(登録商標)1004、1分子中のエポキシ基の個数2個、分子量1650、分子量/1分子中の官能基数825)33.3質量部を予備混合した後、(株)池貝製PCM30型2軸押出機を用いて、シリンダー温度200℃、スクリュー回転数100rpmの条件で3.5分間溶融混練し、ホットカッターによりペレット化した。得られたペレットを再度押出機に供給し、再溶融混練工程を1回行い、前記の一般式(1)で表される化合物のペレットを得た。得られた化合物の反応率は56%、分岐度は0.34、水酸基価は1200mgKOH/gであった。1分子中に3つ以上の水酸基を有し、1分子中の水酸基の数は、1分子中のエポキシ基の数よりも多く、一般式(1)におけるOHとORの数の和は3以上であった。
Reference example 5 (B'-4)
Bisphenol A type epoxy resin ("jER" (registered trademark) 1004 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) per 100 parts by mass of dipentaerythritol (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.), two epoxy groups in one molecule , Molecular weight 1650, molecular weight / number of functional groups in one molecule 825) After pre-mixing 33.3 parts by mass, using a PCM30 type twin screw extruder manufactured by Ikegai Co., Ltd., cylinder temperature 200 ° C., screw rotation speed 100 rpm The mixture was melt-kneaded for 3.5 minutes under the conditions, and pelletized with a hot cutter. The obtained pellets were supplied again to the extruder, and the remelting and kneading step was performed once to obtain pellets of the compound represented by the general formula (1). The reaction rate of the obtained compound was 56%, the degree of branching was 0.34, and the hydroxyl value was 1200 mgKOH / g. There are three or more hydroxyl groups in one molecule, and the number of hydroxyl groups in one molecule is larger than the number of epoxy groups in one molecule, and the sum of the number of OH and OR in the general formula (1) is three or more. Met.
・参考例6(B‘−5)
ジペンタエリスリトール(広栄化学工業(株)製)100質量部に対して、脂肪族ポリカルボジイミド(日清紡ケミカル(株)製“カルボジライト”(登録商標)LA−1)、1分子中のカルボジイミド基の平均個数24個、分子量6000、分子量/1分子中の官能基数250)10質量部を予備混合した後、(株)池貝製PCM30型2軸押出機を用いて、シリンダー温度200℃、スクリュー回転数100rpmの条件で3.0分間溶融混練し、ホットカッターによりペレット化した。得られたペレットを再度押出機に供給し、再溶融混練工程を1回行い、一般式(1)で表される化合物のペレットを得た。得られた化合物の反応率は68%、分岐度は0.37で、水酸基価は1110mgKOH/gであった。1分子中に3つ以上の水酸基を有し、1分子中の水酸基の数は、1分子中のカルボジイミド基の数よりも多く、一般式(1)におけるOHとORの数の和は3以上であった。
Reference Example 6 (B′-5)
Aliphatic polycarbodiimide (Nisshinbo Chemical Co., Ltd. “Carbodilite” (registered trademark) LA-1) per 100 parts by mass of dipentaerythritol (Guangei Chemical Industry Co., Ltd.), average of carbodiimide groups in one molecule After 24 parts, molecular weight 6000, molecular weight / functional group number in one molecule 250) 10 parts by mass, using a PCM30 type twin screw extruder manufactured by Ikegai Co., Ltd., cylinder temperature 200 ° C., screw rotation speed 100 rpm The mixture was melt-kneaded for 3.0 minutes under the above conditions and pelletized with a hot cutter. The obtained pellets were supplied again to the extruder, and the remelting and kneading step was performed once to obtain pellets of the compound represented by the general formula (1). The reaction rate of the obtained compound was 68%, the degree of branching was 0.37, and the hydroxyl value was 1110 mgKOH / g. One molecule has three or more hydroxyl groups, the number of hydroxyl groups in one molecule is larger than the number of carbodiimide groups in one molecule, and the sum of the number of OH and OR in the general formula (1) is 3 or more Met.
・参考例7(B’−6)
ジペンタエリスリトール(広栄化学工業(株)製)100質量部に対して、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製“EPPN”(登録商標)201)500質量部を予備混合した後、(株)池貝製PCM30型2軸押出機を用いて、シリンダー温度200℃、スクリュー回転数100rpmの条件で3.5分間溶融混練し、ホットカッターによりペレット化し、一般式(1)で表される化合物のペレットを得た。得られた化合物の反応率は33%、分岐度は0.23で、水酸基価は540mgKOH/gであった。1分子中に3つ以上の水酸基を有し、1分子中の水酸基の数は、1分子中のエポキシ基の数よりも少なく、一般式(1)におけるOHとORの数の和は3以上であった。
Reference example 7 (B'-6)
After pre-mixing 500 parts by mass of a phenol novolac epoxy resin (“EPPN” (registered trademark) 201) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. with respect to 100 parts by mass of dipentaerythritol (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.) Using a PCM30 type twin screw extruder manufactured by Ikegai Co., Ltd., melt-kneading for 3.5 minutes under conditions of a cylinder temperature of 200 ° C. and a screw rotation speed of 100 rpm, pelletized by a hot cutter, and represented by the general formula (1) Compound pellets were obtained. The reaction rate of the obtained compound was 33%, the degree of branching was 0.23, and the hydroxyl value was 540 mgKOH / g. There are three or more hydroxyl groups in one molecule, the number of hydroxyl groups in one molecule is less than the number of epoxy groups in one molecule, and the sum of the number of OH and OR in the general formula (1) is three or more Met.
・参考例8(B’−7)
ジグリセリン(阪本薬品工業(株)製)100質量部に対して、ノボラックフェノール型変性エポキシ樹脂(日本化薬(株)製“EPPN”(登録商標)201)10質量部を予備混合した後、(株)池貝製PCM30型2軸押出機を用いて、シリンダー温度100℃、スクリュー回転数100rpmの条件で3.5分間溶融混練し、ホットカッターによりペレット化した。得られたペレットを再度、押出機に供給し上記同様の条件で溶融混練しペレット化し、4級炭素を有さず、前記の一般式(1)で表される構造を有しない化合物のペレットを得た。得られた化合物の反応率は38%、分岐度は0.02で、水酸基価は1240mgKOH/gであった。1分子中に3つ以上の水酸基を有し、1分子中の水酸基の数は、1分子中のエポキシ基の数よりも多く、1分子中に3つ以上の水酸基を有する。
Reference example 8 (B'-7)
After 100 parts by weight of diglycerin (manufactured by Sakamoto Pharmaceutical Co., Ltd.) and 10 parts by weight of novolak phenol type modified epoxy resin (“EPPN” (registered trademark) 201 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Using a PCM30 type twin screw extruder manufactured by Ikegai Co., Ltd., the mixture was melt-kneaded for 3.5 minutes under conditions of a cylinder temperature of 100 ° C. and a screw rotation speed of 100 rpm, and pelletized by a hot cutter. The obtained pellets are again supplied to an extruder, melt-kneaded and pelletized under the same conditions as described above, and pellets of a compound having no quaternary carbon and not having the structure represented by the general formula (1) are obtained. Obtained. The reaction rate of the obtained compound was 38%, the degree of branching was 0.02, and the hydroxyl value was 1240 mgKOH / g. One molecule has three or more hydroxyl groups, and the number of hydroxyl groups in one molecule is larger than the number of epoxy groups in one molecule, and has three or more hydroxyl groups in one molecule.
・参考例9(F−1)
ナイロン6(東レ(株)製“アミラン”(登録商標)CM1010)100質量部に対して、(B‘−1)化合物26.7質量部を予備混合した後、(株)日本製鋼所製TEX30型2軸押出機(L/D:45.5)を用いて、シリンダー温度245℃、スクリュー回転数150rpmの条件で溶融混練し、ストランドカッターによりペレット化した。その後、80℃の温度で8時間真空乾燥し、高濃度予備混合物ペレットを作製した。
Reference example 9 (F-1)
After premixing 26.7 parts by mass of the compound (B′-1) with 100 parts by mass of nylon 6 (“Amilan” (registered trademark) CM1010 manufactured by Toray Industries, Inc.), TEX30 manufactured by Nippon Steel Works Using a mold twin screw extruder (L / D: 45.5), the mixture was melt-kneaded under conditions of a cylinder temperature of 245 ° C. and a screw rotation speed of 150 rpm, and pelletized by a strand cutter. Then, it vacuum-dried at the temperature of 80 degreeC for 8 hours, and produced the high concentration pre-mixture pellet.
その他、実施例および比較例に用いたポリアミド樹脂(A)、1分子中に3つ以上の水酸基を含む化合物(B)、エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)、充填材(D)、レーザー光吸収性添加剤(G)、およびポリブチレンテレフタレート樹脂(H)は、次のとおりである。 In addition, the polyamide resin (A) used in Examples and Comparative Examples, a compound (B) containing three or more hydroxyl groups in one molecule, an epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b), and a filler (D) The laser light absorbing additive (G) and the polybutylene terephthalate resin (H) are as follows.
(A−1):融点225℃のナイロン6樹脂(東レ(株)製“アミラン”(登録商標)CM1010)。 (A-1): Nylon 6 resin having a melting point of 225 ° C. (“Amilan” (registered trademark) CM1010 manufactured by Toray Industries, Inc.).
(A−2):融点225℃のナイロン66樹脂(東レ(株)製“アミラン”(登録商標)CM3001−N)。 (A-2): Nylon 66 resin (“Amilan” (registered trademark) CM3001-N manufactured by Toray Industries, Inc.) having a melting point of 225 ° C.
(B−1):ジペンタエリスリトール(広栄化学工業(株)製)、分子量254、水酸基価1325mgKOH/g。1分子中に6つの水酸基を有する。 (B-1): Dipentaerythritol (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.), molecular weight 254, hydroxyl value 1325 mgKOH / g. It has 6 hydroxyl groups in one molecule.
(B−2):2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール(東京化成(株)製)、分子量146、水酸基価765mgKOH/g。1分子中に2つの水酸基を有する。 (B-2): 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), molecular weight 146, hydroxyl value 765 mgKOH / g. It has two hydroxyl groups in one molecule.
(b−1):フェノールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製“EPPN“(登録商標)201)、1分子中のエポキシ基の平均個数7個、分子量1330、分子量/1分子中の官能基数190。 (B-1): Phenol novolak type epoxy resin (“EPPN” (registered trademark) 201 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), an average number of epoxy groups in one molecule of 7, molecular weight of 1330, molecular weight of 1 molecule 190 functional groups.
(C−1):次亜リン酸ナトリウム一水和物(和光純薬工業(株))、分子量105.99。 (C-1): Sodium hypophosphite monohydrate (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), molecular weight 105.99.
(D−1):円形断面ガラス繊維(日本電気硝子(株)製T−717H)、断面の直径10.5μm、表面処理剤:シラン系カップリング剤、集束剤:エポキシ系、繊維長3mm。 (D-1): Circular cross-section glass fiber (T-717H manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.), cross-sectional diameter 10.5 μm, surface treatment agent: silane coupling agent, bundling agent: epoxy system, fiber length 3 mm.
(G−1):カーボンブラック(三菱化学(株)製、MA600B)。 (G-1): Carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MA600B).
(H−1):融点224℃のポリブチレンテレフタレート樹脂(東レ(株)製“トレコン”1401X06)。 (H-1): Polybutylene terephthalate resin having a melting point of 224 ° C. (“Toraycon” 1401X06 manufactured by Toray Industries, Inc.).
(実施例1〜14、16および22、比較例1〜8)
表1〜4に示すポリアミド樹脂(A)、エポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)、銅化合物(E)、(レーザー光吸収性成形品を成形する場合は、さらにレーザー光吸収性添加剤(G)を配合する)を予備混合した後、シリンダー設定温度をポリアミド樹脂の融点+15℃、スクリュー回転数を200rpmに設定した(株)日本製鋼所製TEX30型2軸押出機(L/D=45)のメインフィーダーから2軸押出機に供給し、溶融混練した。このメインフィーダーは、スクリューの全長を1.0としたときの上流側より見て0の位置、すなわちスクリューセグメントの上流側の端部の位置に接続されていた。続いて、表に示す化合物(B)、化合物(B’)、リン含有化合物(C)、および充填材(D)を、サイドフィーダーから2軸押出機に供給し、溶融混練した。このサイドフィーダーは、スクリューの全長を1.0としたときの上流側より見て0.65の位置、つまりスクリュー長の1/2より下流側の位置に接続されていた。2軸押出機のスクリュー構成は、化合物(B)等の供給位置の上流側にあるニーディングゾーンの合計長さをLn1、化合物(B)等の供給位置の下流側にあるニーディングゾーンの合計長さをLn2とした場合、Ln1/Lが0.14、Ln2/Lが0.07となるように構成した。ダイから吐出されるガットを即座に水浴にて冷却し、ストランドカッターによりペレット化した。得られたペレットは、レーザー光透過性成形品用およびレーザー光吸収性成形品用として用いた。実施例および比較例の評価結果を、表1、2と4に示す。
(Examples 1-14, 16 and 22, Comparative Examples 1-8)
Polyamide resin (A) shown in Tables 1-4, epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b), copper compound (E) TEX30 type twin screw extruder (L / D) manufactured by Nippon Steel, Ltd., in which the cylinder set temperature was set to the melting point of the polyamide resin + 15 ° C. and the screw rotation speed was set to 200 rpm. = 45) from the main feeder to the twin screw extruder and melt kneaded. This main feeder was connected to a position 0 when viewed from the upstream side when the total length of the screw was 1.0, that is, a position of an end portion on the upstream side of the screw segment. Subsequently, the compound (B), the compound (B ′), the phosphorus-containing compound (C), and the filler (D) shown in the table were supplied from the side feeder to the twin-screw extruder and melt-kneaded. This side feeder was connected to a position of 0.65 when viewed from the upstream side when the total length of the screw was 1.0, that is, a position downstream of 1/2 of the screw length. The screw configuration of the twin screw extruder is such that the total length of the kneading zone on the upstream side of the supply position of the compound (B) is Ln1, and the total length of the kneading zone on the downstream side of the supply position of the compound (B) etc. When the length is Ln2, Ln1 / L is 0.14 and Ln2 / L is 0.07. The gut discharged from the die was immediately cooled in a water bath and pelletized with a strand cutter. The obtained pellets were used for laser light transmitting molded products and laser light absorbing molded products. The evaluation results of Examples and Comparative Examples are shown in Tables 1, 2, and 4.
(実施例15)
表2に示すポリアミド樹脂(A)、高濃度予備混合物(F)、リン含有化合物(C)(レーザー光吸収性成形品を成形する場合は、さらにおよびレーザー光吸収性添加剤(G))を予備混合した後、シリンダー設定温度をポリアミド樹脂の融点+15℃、スクリュー回転数を200rpmに設定した(株)日本製鋼所製TEX30型2軸押出機(L/D=45)のメインフィーダーから2軸押出機に供給し、溶融混練した。このメインフィーダーは、スクリューの全長を1.0としたときの上流側より見て0の位置、すなわちスクリューセグメントの上流側の端部の位置に接続されていた。続いて、表に示す充填材(D)を、サイドフィーダーから2軸押出機に供給し溶融混練した。このサイドフィーダーは、スクリューの全長を1.0としたときの上流側より見て0.65の位置、すなわちスクリュー長の1/2より下流側の位置に接続されていた。シリンダー温度、スクリュー回転数およびスクリュー構成は実施例7と同様であり、これにより、実施例15の組成比は、実施例7と同様となる。得られたペレットは、レーザー光透過性成形品用およびレーザー光吸収性成形品用として用いた。実施例の評価結果を、表2に示す。
(Example 15)
Polyamide resin (A), high-concentration premix (F), and phosphorus-containing compound (C) shown in Table 2 (in the case of forming a laser-absorbing molded product, and further a laser-absorbing additive (G)) After pre-mixing, two axes from the main feeder of TEX30 type twin screw extruder (L / D = 45) manufactured by Nippon Steel, Ltd., where the cylinder set temperature was set to the melting point of polyamide resin + 15 ° C. and the screw rotation speed was set to 200 rpm. It was supplied to an extruder and melt kneaded. This main feeder was connected to a position 0 when viewed from the upstream side when the total length of the screw was 1.0, that is, a position of an end portion on the upstream side of the screw segment. Subsequently, the filler (D) shown in the table was supplied from the side feeder to the twin screw extruder and melt kneaded. This side feeder was connected to a position 0.65 when viewed from the upstream side when the total length of the screw was 1.0, that is, a position downstream from 1/2 of the screw length. The cylinder temperature, screw rotation speed, and screw configuration are the same as in Example 7. Thus, the composition ratio in Example 15 is the same as in Example 7. The obtained pellets were used for laser light transmitting molded products and laser light absorbing molded products. The evaluation results of the examples are shown in Table 2.
(実施例17〜21)
表3に示すポリアミド樹脂(A)またはポリブチレンテレフタレート樹脂(H)と、(レーザー光吸収性成形品を成形する場合は、さらにレーザー光吸収性添加剤(G))を、シリンダー設定温度をポリアミド樹脂の融点+15℃、スクリュー回転数を200rpmに設定した(株)日本製鋼所製TEX30型2軸押出機(L/D=45)のメインフィーダーから2軸押出機に供給し、溶融混練した。このメインフィーダーは、スクリューの全長を1.0としたときの上流側より見て0の位置、すなわちスクリューセグメントの上流側の端部の位置に接続されていた。続いて、表3に示す化合物(B’)、リン含有化合物(C)および充填材(D)を、サイドフィーダーから2軸押出機に供給し、溶融混練した。このサイドフィーダーは、スクリューの全長を1.0としたときの上流側から見て0.65の位置、すなわちスクリュー長の1/2から下流側の位置に接続されていた。2軸押出機のスクリュー構成は、化合物(B)等の供給位置の上流側にあるニーディングゾーンの合計長さをLn1、化合物(B)等の供給位置の下流側にあるニーディングゾーンの合計長さをLn2とした場合、Ln1/Lが0.14、Ln2/Lが0.07となるよう構成した。ダイから吐出されるガットを即座に水浴によって冷却し、ストランドカッターによりペレット化した。得られたペレットは、表3に記載のようにレーザー光透過性成形品用およびレーザー光吸収性成形品用として用いられた。実施例および比較例の評価結果を、表3に示す。
(Examples 17 to 21)
Polyamide resin (A) or polybutylene terephthalate resin (H) shown in Table 3 and (when laser-absorbing molded products are molded, laser beam-absorbing additive (G)), and cylinder set temperature are set to polyamide. The melting point of the resin was + 15 ° C., and the screw rotation speed was set to 200 rpm. The TEX30 type twin screw extruder (L / D = 45) manufactured by Nippon Steel Works, Ltd. was supplied to the twin screw extruder and melt kneaded. This main feeder was connected to a position 0 when viewed from the upstream side when the total length of the screw was 1.0, that is, a position of an end portion on the upstream side of the screw segment. Subsequently, the compound (B ′), the phosphorus-containing compound (C) and the filler (D) shown in Table 3 were supplied from the side feeder to the twin-screw extruder and melt-kneaded. This side feeder was connected to a position 0.65 when viewed from the upstream side when the total length of the screw was 1.0, that is, a position downstream from 1/2 of the screw length. The screw configuration of the twin screw extruder is such that the total length of the kneading zone on the upstream side of the supply position of the compound (B) is Ln1, and the total length of the kneading zone on the downstream side of the supply position of the compound (B) etc. When the length is Ln2, Ln1 / L is 0.14 and Ln2 / L is 0.07. The gut discharged from the die was immediately cooled by a water bath and pelletized by a strand cutter. The obtained pellets were used for laser light transmitting molded products and laser light absorbing molded products as shown in Table 3. Table 3 shows the evaluation results of Examples and Comparative Examples.
実施例1〜22は、比較例1〜8と比較して、レーザー光透過性成形品用および/またはレーザー光吸収性成形品用の用途のレーザー溶着用ポリアミド樹脂組成物として、化合物(B)または化合物(B’)を特定量含有し、かつ、リン含有化合物(C)由来のリン原子を特定濃度で含有することにより、ポリアミド樹脂(A)と、化合物(B)または化合物(B’)の相溶性がより向上し、その結果、溶着性、機械強度および寸法安定性に優れた成形品を得ることができた。 Examples 1-22 are compound (B) as a polyamide resin composition for laser welding of the use for laser-light-transmitting molded articles and / or laser-light-absorbing molded articles compared with Comparative Examples 1-8. Alternatively, by containing a specific amount of the compound (B ′) and containing a phosphorus atom derived from the phosphorus-containing compound (C) at a specific concentration, the polyamide resin (A) and the compound (B) or the compound (B ′) As a result, a molded article excellent in weldability, mechanical strength and dimensional stability could be obtained.
また、実施例1〜5は、化合物(B)を0.1〜20質量部含有し、かつリン含有化合物(C)由来のリン原子を特定濃度で含有するため、比較例1〜6と比較して、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B)との相溶性がより向上し、その結果、溶着性、機械強度および寸法安定性に優れる成形品を得ることができた。 Moreover, since Examples 1-5 contain 0.1-20 mass parts of compounds (B) and contain phosphorus atoms derived from phosphorus-containing compounds (C) at specific concentrations, they are compared with Comparative Examples 1-6. Thus, the compatibility between the polyamide resin (A) and the compound (B) was further improved, and as a result, a molded product having excellent weldability, mechanical strength and dimensional stability could be obtained.
実施例6は、化合物(B)を含有し、かつエポキシ基および/またはカルボジイミド基含有化合物(b)を併用することにより、ポリアミド樹脂(A)との溶融混練時に化合物(B’)を生成するため、実施例2と比較して、ポリアミド樹脂(A)と(B’)化合物との相溶性が向上し、溶着性、機械強度および耐熱老化性に優れる成形品を得ることができた。 Example 6 contains the compound (B) and uses the epoxy group and / or carbodiimide group-containing compound (b) together to produce the compound (B ′) at the time of melt kneading with the polyamide resin (A). Therefore, compared with Example 2, the compatibility between the polyamide resin (A) and the (B ′) compound was improved, and a molded product having excellent weldability, mechanical strength, and heat aging resistance could be obtained.
実施例7〜13は、事前に(B’)化合物を生成したため、実施例6と比較して、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B’)との相溶性がより向上し、溶着性、機械強度および耐熱老化性に優れる成形品を得ることができた。 In Examples 7 to 13, since the (B ′) compound was generated in advance, compared with Example 6, the compatibility between the polyamide resin (A) and the compound (B ′) was further improved, and the weldability, machine A molded article excellent in strength and heat aging resistance could be obtained.
実施例7、10、11は、実施例8、9と比較して、水酸基と、エポキシ基および/またはカルボジイミド基との反応率がより好ましい範囲にあるため、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B’)との相溶性がより向上し、溶着性、機械強度および耐熱老化性に優れる成形品を得ることができた。 In Examples 7, 10, and 11, compared with Examples 8 and 9, since the reaction rate of the hydroxyl group and the epoxy group and / or carbodiimide group is in a more preferable range, the polyamide resin (A) and the compound (B The compatibility with ') was further improved, and a molded product excellent in weldability, mechanical strength and heat aging resistance could be obtained.
実施例7〜11は、実施例12、13と比較して、化合物(B’)が、1分子中の水酸基の数が、エポキシ基および/またはカルボジイミド基の数の和よりも多く、また一般式(1)で表される構造を有するため、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B’)との相溶性がより向上し、溶着性、機械強度および耐熱老化性に優れる成形品を得ることができた。 In Examples 7 to 11, as compared with Examples 12 and 13, the compound (B ′) had a larger number of hydroxyl groups in one molecule than the sum of the number of epoxy groups and / or carbodiimide groups. Since it has the structure represented by the formula (1), the compatibility between the polyamide resin (A) and the compound (B ′) is further improved, and a molded product having excellent weldability, mechanical strength, and heat aging resistance can be obtained. did it.
実施例14は、実施例7と比較して、銅化合物をさらに含有するため、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B’)との相溶性がさらに向上し、溶着性、機械強度および耐熱老化性に優れる成形品を得ることができた。 Since Example 14 further contains a copper compound as compared with Example 7, the compatibility between the polyamide resin (A) and the compound (B ′) is further improved, and weldability, mechanical strength, and heat aging resistance are improved. It was possible to obtain a molded product excellent in.
実施例15は、実施例7と比較して、事前に高濃度予備混合物を作成したため、ポリアミド樹脂(A)と化合物(B’)との相溶性がさらに向上し、溶着性、機械強度および耐熱老化性に優れる成形品を得ることができた。 In Example 15, compared with Example 7, a high-concentration preliminary mixture was prepared in advance, so that the compatibility between the polyamide resin (A) and the compound (B ′) was further improved, and the weldability, mechanical strength, and heat resistance were improved. A molded article excellent in aging property could be obtained.
実施例7は、実施例17,18と比較して、レーザー光吸収性成形品用ポリアミド樹脂組成物として、化合物(B’)を特定量含有し、かつ、リン含有化合物(C)由来のリン原子を特定濃度で含有することにより、溶着性により優れる成形品を得ることができた。 Example 7 contains a specific amount of compound (B ′) as a polyamide resin composition for laser light-absorbing molded articles and phosphorus derived from a phosphorus-containing compound (C) as compared with Examples 17 and 18. By containing atoms at a specific concentration, it was possible to obtain a molded article having better weldability.
実施例7は、実施例19〜21と比較して、レーザー光透過性成形品用ポリアミド樹脂組成物として、化合物(B’)を特定量含有し、かつ、リン含有化合物(C)由来のリン原子を特定濃度で含有することにより、溶着性により優れる成形品を得ることができた。 Example 7 contains a specific amount of compound (B ′) as a polyamide resin composition for a laser light-transmitting molded article and phosphorus derived from a phosphorus-containing compound (C) as compared with Examples 19 to 21. By containing atoms at a specific concentration, it was possible to obtain a molded article having better weldability.
1:溶媒ピーク 1: Solvent peak
Claims (8)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016142256A JP2018012759A (en) | 2016-07-20 | 2016-07-20 | Polyamide resin composition for laser welding |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016142256A JP2018012759A (en) | 2016-07-20 | 2016-07-20 | Polyamide resin composition for laser welding |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018012759A true JP2018012759A (en) | 2018-01-25 |
Family
ID=61021154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016142256A Pending JP2018012759A (en) | 2016-07-20 | 2016-07-20 | Polyamide resin composition for laser welding |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2018012759A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023140118A1 (en) * | 2022-01-19 | 2023-07-27 | ポリプラスチックス株式会社 | Resin composition for laser light transmission-side molded article, and molded article thereof |
| CN117604521A (en) * | 2023-12-08 | 2024-02-27 | 齐鲁工业大学(山东省科学院) | A method for improving the quality of laser cladding of reconstructed powder in processing chips in situ |
-
2016
- 2016-07-20 JP JP2016142256A patent/JP2018012759A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023140118A1 (en) * | 2022-01-19 | 2023-07-27 | ポリプラスチックス株式会社 | Resin composition for laser light transmission-side molded article, and molded article thereof |
| JP7354480B1 (en) * | 2022-01-19 | 2023-10-02 | ポリプラスチックス株式会社 | Resin composition for molded product on laser light transmission side and molded product thereof |
| CN117604521A (en) * | 2023-12-08 | 2024-02-27 | 齐鲁工业大学(山东省科学院) | A method for improving the quality of laser cladding of reconstructed powder in processing chips in situ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5817939B2 (en) | Polyamide resin composition, production method, molded product | |
| JP6436249B2 (en) | Polyamide resin composition and molded article containing the same | |
| JP2016176060A (en) | Polyamide resin composition and molded part obtained by molding the same | |
| JP6531414B2 (en) | Polyamide resin composition and molded article obtained by molding the same | |
| JP2016166335A (en) | Polyamide resin composition and molded article obtained by molding the same | |
| JP2016203401A (en) | Fiber-reinforced composite molded article and method for producing the same | |
| JP6210163B2 (en) | Molded product comprising resin composition containing polyamide resin | |
| JP2016190923A (en) | Long-fiber reinforced polyamide resin pellet and molded product formed by molding the same | |
| JP2018012759A (en) | Polyamide resin composition for laser welding | |
| JP2017082203A (en) | Plastic fastener composed of polyamide resin composition | |
| JP2020023606A (en) | Polyamide resin composition and molded article obtained by molding the same | |
| JP2020019861A (en) | Polyamide resin composition and molded product containing the same | |
| JP6657821B2 (en) | Polyamide resin composition and method for producing the same | |
| JP2018172521A (en) | Polyamide resin composition and molded article thereof | |
| JP6451444B2 (en) | Fiber reinforced polyamide resin base material and molded product formed by molding the same | |
| JP6724368B2 (en) | Molded article and polyamide resin composition | |
| JP2019019305A (en) | Polyamide resin composition | |
| JP2016183247A (en) | Fiber-reinforced polyamide resin base material and molded article obtained by molding the same | |
| JP2018012760A (en) | Polyamide resin composition for welding | |
| JP6634834B2 (en) | Polyamide resin composition and molded article thereof | |
| JP6645180B2 (en) | Polyamide resin composition and molded article obtained by molding the same | |
| JP6488841B2 (en) | Motor peripheral parts | |
| JP2016164206A (en) | Polyamide resin composition and molded article by molding the same | |
| JP6750219B2 (en) | Modified polyamide resin and method for producing the same | |
| JP2016188288A (en) | Polyamide resin molding and molded part having metal contact point |