JP2018008713A - PTP package and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、錠剤や丸薬等の包装体、いわゆるPTP(プレス・スルー・パック)包装体に関するものである。 The present invention relates to a package for tablets and pills, so-called PTP (press through pack) package.
従来のPTP包装体は、透明なプラスチックを成形した成形体からなり、錠剤等を収納する収納部を備えた収納体と、この収納体の開口部を封止する密封部材とからなっており、密封部材としては、ヒートシールラッカー等のシール剤を塗布した20〜40μmの厚さのアルミニウム箔からなっているのが一般的であった。このアルミニウム箔からなる密封部材は、ガス遮断性、防湿性、破封性(開封性)が優れており、広く使用されている。しかし、アルミニウム箔は、使用後に廃棄する際、焼却するとアルミニウムが塊となってしまい、改善の必要が生じてきた。 A conventional PTP package is composed of a molded body obtained by molding a transparent plastic, and includes a storage body having a storage portion for storing tablets and the like, and a sealing member for sealing the opening of the storage body, The sealing member is generally made of an aluminum foil having a thickness of 20 to 40 μm coated with a sealing agent such as a heat seal lacquer. The sealing member made of this aluminum foil has excellent gas barrier properties, moisture proof properties, and sealability (openability), and is widely used. However, when the aluminum foil is discarded after use, the aluminum becomes a lump when incinerated, and there is a need for improvement.
そこで、密封部材としてアルミニウム箔の代わりにプラスチックフィルムを用いるPTP包装体が知られている(特許文献1)。しかしながら近年、錠剤の多様化に伴い更なる防湿性の向上が求められている。従来、プラスチックフィルムを用いるPTP包装体では、錠剤等に対する防湿性や酸素バリア性などの保護機能を高めようとすると、錠剤等を押し出して破封することが難しくなり、逆に、破封可能とするために一定の薄い厚さのプラスチックフィルムを用いると、錠剤等を保護するための十分な機能を付加することが難しくなるという問題があった。 Then, the PTP package which uses a plastic film instead of aluminum foil as a sealing member is known (patent document 1). However, in recent years, further improvement in moisture resistance has been demanded with the diversification of tablets. Conventionally, in a PTP package using a plastic film, it is difficult to extrude a tablet or the like when trying to enhance a protective function such as moisture resistance or oxygen barrier property against the tablet. Therefore, when a plastic film having a certain thin thickness is used, it is difficult to add a sufficient function for protecting tablets and the like.
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、PTP包装体の密封部材として、焼却時に問題があるアルミニウム箔を用いることなく、そのような問題のないプラスチックフィルムを用いる場合であっても、錠剤等に対する高い防湿性(水蒸気バリア性)と錠剤等の取り出し時の破封性をともに有するPTP包装体を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and as a sealing member of a PTP package, without using an aluminum foil having a problem during incineration, even when using a plastic film without such a problem, It is an object of the present invention to provide a PTP package having both high moisture-proofing properties (water vapor barrier property) for tablets and the like and tearing properties when taking out tablets and the like.
上述の問題を解決するために、請求項1に記載の発明は、錠剤等を収納する収納体と、前記収納体の開口部を封止する密封部材とからなるPTP包装体であって、
前記密封部材は、基材上に無機酸化物層と、オーバーコート層と、アルミニウム層またはアルミニウム化合物層のいずれかと、をこの順に備え、
前記基材はプラスチックフィルムからなり、
前記基材の前記無機酸化物層側と反対側の面に、平均深さが前記基材の厚さの30〜50%の深さである多数の微小凹部を設けたことを特徴とするPTP包装体としたものである。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to
The sealing member comprises an inorganic oxide layer, an overcoat layer, and either an aluminum layer or an aluminum compound layer in this order on a base material,
The substrate is made of a plastic film,
A PTP having a number of minute recesses having an average depth of 30 to 50% of the thickness of the substrate on the surface of the substrate opposite to the inorganic oxide layer side It is a package.
請求項2に記載の発明は、前記密封部材が、前記収納体に接する面側に、ヒートシールラッカーまたはヒートシール性樹脂からなるシール層を備えたものであることを特徴とする請求項1に記載のPTP包装体としたものである。
The invention according to
請求項3に記載の発明は、前記基材と前記無機酸化物層の層間に、前記無機酸化物層の表面が改質されてなるアンカーコート層を備えることを特徴とする請求項1、または2に記載のPTP包装体としたものである。
Invention of
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載のPTP包装体の製造方法であって、
前記基材の前記無機酸化物層を設ける面にプラズマ処理を施しアンカーコート層を設けた後、前記無機酸化物層を設けることを特徴とするPTP包装体の製造方法としたものである。
Invention of Claim 4 is a manufacturing method of the PTP package of
The surface of the base material on which the inorganic oxide layer is provided is subjected to plasma treatment to provide an anchor coat layer, and then the inorganic oxide layer is provided.
本発明においては、密封部材に無機酸化物層と、オーバーコート層と、アルミニウム層またはアルミニウム化合物層と、を順に設けたバリアフィルムを用いるので、錠剤等の保護のための高い防湿性及び酸素バリア性を有するものである。また、基材の無機酸化物層側と反対側の面に微小な凹部を多数、実質的全面に設けたので、プラスチックフィルムを用いた密封部材であっても、収納体の成形部分を指で押すことにより、従来のアルミニウム箔を用いたPTP包装体と同様に密封部材を破封でき、錠剤等を容易に取り出すことができる。また、密封部材にアルミニウム箔を用いないため、使用後、焼却時に問題なく処理することができる。 In the present invention, a barrier film in which an inorganic oxide layer, an overcoat layer, and an aluminum layer or an aluminum compound layer are provided in this order as the sealing member is used, so that a high moisture-proof and oxygen barrier for protecting tablets and the like is used. It has sex. In addition, since a large number of minute recesses are provided on the surface opposite to the inorganic oxide layer side of the base material, substantially the entire surface is provided. By pressing, the sealing member can be broken like a conventional PTP package using an aluminum foil, and tablets and the like can be easily taken out. Moreover, since an aluminum foil is not used for a sealing member, it can be processed without problems during incineration after use.
次に、図面を参照して本発明を説明する。図1は本発明のPTP包装体の一実施例を示す模式断面図、図2は図1のPTP包装体で用いる密封部材の模式断面図である。図2(a)はアンカーコート層9を備えない形態、同(b)はアンカーコート層9を備える形態を示している。 Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the PTP package of the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a sealing member used in the PTP package of FIG. FIG. 2A shows a form without the anchor coat layer 9 and FIG. 2B shows a form with the anchor coat layer 9.
[PTP包装体10の全体構成]
本発明のPTP包装体10は、図1に示すように、透明なプラスチックシートを成形した成形体からなる収納体11に、例えば錠剤13等を収納した後、その開口部12を密封部材1で封止したものである。
[Overall configuration of PTP package 10]
As shown in FIG. 1, the
(収納体11)
収納体11を形成する透明なプラスチックシートは、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリプロピレン等からなり、成形後の厚さが100〜300μmのものが強度的に好ましく、プラスチックシートには、収納体11の透明性を阻害しない程度の印刷、着色を施してもよい。
(Housing 11)
The transparent plastic sheet forming the
また、収納体11を形成する透明なプラスチックシートは、上記の樹脂単層のものだけでなく、防湿性や酸素バリア性を向上するために、ポリ塩化ビニリデン、エチレン−ビニルアルコール共重合体等の樹脂層を含む多層の構成としてもよい。また、収納体11の防湿性、酸素バリア性を向上する他の方法として、前記のように多層のプラスチックシートを用いる代わりに、成形体の表面に無機化合物からなるバリア層を設けてもよい。
In addition, the transparent plastic sheet forming the
(密封部材1の全体構成)
一方、密封部材1は、図2(a)に示すように、プラスチックフィルムからなる基材4の片面に、無機酸化物層5と、オーバーコート層6と、アルミニウム層またはアルミニウム化合物層7のいずれかと、を順に設けてなるバリアフィルム2と、その片面に設けられたシール層3との積層構成からなっている。そして、上記基材4の無機酸化物層7側と反対
側の面に、多数の微小な凹部8が実質的に全面に設けられている。
(Entire configuration of the sealing member 1)
On the other hand, as shown in FIG. 2 (a), the
(シール層3)
シール層3は、ヒートシールラッカーまたはヒートシール性樹脂からなり、シール層3の樹脂としては、収納体11を構成する樹脂に応じて、ポリエステル系、ウレタン系、ポリオレフィン系、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系等の樹脂が適宜選択されて使用される。シール層3の厚さは、シール層3をヒートシールラッカーで形成する場合には3〜15g/m2 、シール層3をヒートシール性樹脂で形成する場合には3〜15μmとすればよい。
(Sealing layer 3)
The
シール層3は、アルミニウム層またはアルミニウム化合物層7側、あるいはバリアフィルム2の基材4側のいずれに設けてもよいが、アルミニウム層またはアルミニウム化合物層7側、すなわち「シール層3/アルミニウム層またはアルミニウム化合物層7/オーバーコート層6/無機酸化物層5/基材4」の順となるように設けることが、バリアフィルム2を保護するために好ましい。
The
シール層をバリアフィルム2の基材4側に設ける場合は、バリアフィルム2でアルミニウム化合物層7が最外表面となるため、外的な力によりアルミニウム化合物層7が破損してしまわないよう、アルミニウム化合物層7を保護する保護層(例えばアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂等のコーティング層。図示せず)をアルミニウム化合物層7の上に設けることが好ましい。
When the sealing layer is provided on the base material 4 side of the
(基材4)
基材4としては、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリアミド等の延伸フィルム、あるいはセロファン等の、厚さが9〜30μmのプラスチックフィルムが使用できる。
(Substrate 4)
As the base material 4, a stretched film such as polyester, polypropylene, and polyamide, or a plastic film having a thickness of 9 to 30 μm such as cellophane can be used.
(無機酸化物層5)
無機酸化物層5は、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化錫、酸化マグネシウム、或いはそれらの混合物などの金属酸化物層からなることが好ましいが、透明性を有しかつ酸素、水蒸気等のバリア性を有する層であればよい。各種殺菌耐性を配慮するとこれらの中では、特に酸化アルミニウム及び/又は酸化珪素を用いることが好ましい。
(Inorganic oxide layer 5)
The inorganic oxide layer 5 is preferably made of a metal oxide layer such as aluminum oxide, silicon oxide, tin oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof, but has transparency and barrier properties such as oxygen and water vapor. Any layer may be used. In consideration of various sterilization resistances, it is particularly preferable to use aluminum oxide and / or silicon oxide.
無機酸化物層5の厚さは、用いられる無機化合物の種類・構成により最適条件が異なるが、一般的には5〜300nmの範囲内が望ましい。膜厚が5nm未満であると均一な膜が得られないことやガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また膜厚が300nmを越える場合は薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、成膜後の折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、薄膜に亀裂を生じるおそれがある。より好ましくは、10〜150nmの範囲内にあることである。 The optimum condition of the thickness of the inorganic oxide layer 5 varies depending on the type and configuration of the inorganic compound used, but it is generally desirable to be within the range of 5 to 300 nm. If the film thickness is less than 5 nm, a uniform film may not be obtained or the function as a gas barrier material may not be sufficiently achieved. On the other hand, when the film thickness exceeds 300 nm, flexibility cannot be maintained in the thin film, and the thin film may be cracked due to external factors such as bending and pulling after the film formation. More preferably, it exists in the range of 10-150 nm.
無機酸化物層5を基材4上に形成する方法としては種々あり、例えば真空蒸着法により形成することができる。また、その他の薄膜形成法としてスパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ気相成長法(CVD)などを用いることも可能である。但し生産性を考慮すれば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。真空蒸着法の加熱手段としては電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式のいずれかの方式を用いることが好ましいが、蒸発材料の選択性の幅広さを考慮すると電子線加熱方式を用いることがより好ましい。また無機酸化物層5と基材4の密着性及び無機酸化物層5の緻密性を向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を併用して蒸着することも可能である。また、蒸着膜の透明性を上げるために蒸着の際、酸素等の各種ガスを添加する反応性蒸着を用いても構わない。 There are various methods for forming the inorganic oxide layer 5 on the substrate 4, and for example, it can be formed by a vacuum deposition method. Further, as other thin film forming methods, a sputtering method, an ion plating method, a plasma vapor deposition method (CVD), or the like can be used. However, considering productivity, the vacuum deposition method is the best at present. As a heating means of the vacuum evaporation method, it is preferable to use any one of an electron beam heating method, a resistance heating method, and an induction heating method. Is more preferable. Further, in order to improve the adhesion between the inorganic oxide layer 5 and the base material 4 and the denseness of the inorganic oxide layer 5, it is possible to perform vapor deposition by using a plasma assist method or an ion beam assist method in combination. Moreover, in order to raise the transparency of a vapor deposition film, you may use the reactive vapor deposition which adds various gas, such as oxygen, in the case of vapor deposition.
(オーバーコート層6)
オーバーコート層6は複合被膜層であり、複合被膜層はガスバリア性を持った被膜層であり、水溶性高分子と1種以上の金属アルコキシドまたはその加水分解物を含む水溶液或いは水/アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を用いて形成される。例えば、水溶性高分子を水系(水或いは水/アルコール混合)溶媒で溶解させたものに金属アルコキシドを直接、或いは予め加水分解させるなどの処理を行ったものを混合した溶液とし、この溶液を無機酸化物層5にコーティング後、加熱乾燥し形成される。
(Overcoat layer 6)
The
前記コーティング剤に含まれる各成分についてさらに詳細に説明する。本発明でコーティング剤に用いられる水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等が挙げられる。特にポリビニルアルコール(以下、PVAと略す)を本発明のコーティング剤に用いた場合にガスバリア性が最も優れるので好ましい。ここでいうPVAは、一般にポリ酢酸ビニルをけん化して得られるものである。PVAとしては例えば、酢酸基が数十%残存している、いわゆる部分けん化PVAから酢酸基が数%しか残存していない完全PVA等を用いることができ、これ以外のものを用いても構わない。 Each component contained in the coating agent will be described in more detail. Examples of the water-soluble polymer used in the coating agent in the present invention include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, starch, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, sodium alginate and the like. In particular, when polyvinyl alcohol (hereinafter abbreviated as PVA) is used for the coating agent of the present invention, the gas barrier property is most excellent, which is preferable. PVA here is generally obtained by saponifying polyvinyl acetate. As PVA, for example, complete PVA in which only a few percent of acetic acid groups remain can be used from so-called partially saponified PVA in which several tens of percent of acetic acid groups remain, and other materials may be used. .
また、金属アルコキシドは、一般式でM(OR)n (M:Si,Ti,Al,Zr等の金属、R:CH3,C2H5 等のアルキル基)で表せる化合物である。具体的にはテトラエトキシシラン〔Si(OC2H5)4〕、トリイソプロポキシアルミニウム〔Al(O−2’−C3H7)3〕などがあげられ、中でもテトラエトキシシラン、トリイソプロポキシアルミニウムが、加水分解後水系の溶媒中において比較的安定であるので好ましい。 The metal alkoxide is a compound represented by a general formula M (OR) n (M: metal such as Si, Ti, Al, Zr, R: alkyl group such as CH 3 , C 2 H 5 ). Specific examples include tetraethoxysilane [Si (OC 2 H 5 ) 4 ] and triisopropoxyaluminum [Al (O-2′-C 3 H 7 ) 3 ], among which tetraethoxysilane and triisopropoxy. Aluminum is preferred because it is relatively stable in aqueous solvents after hydrolysis.
上記コーティング剤の溶液中にガスバリア性を損なわない範囲で、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、或いは分散剤、安定化剤、粘度調整剤、着色剤などの公知の添加剤を必要に応じて加えることも可能である。 Add known additives such as isocyanate compounds, silane coupling agents, or dispersants, stabilizers, viscosity modifiers, and colorants to the coating agent solution as long as the gas barrier properties are not impaired. Is also possible.
コーティング剤の塗布方法としては、ディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法、グラビア印刷法などの従来公知の方法を用いることが可能である。 As a coating method of the coating agent, a conventionally known method such as a dipping method, a roll coating method, a screen printing method, a spray method, or a gravure printing method can be used.
オーバーコート層の厚さは、コーティング剤の種類や加工機や加工条件によって最適条件は異なり特に限定されない。但し乾燥後の厚さが、0.01μm以下の場合は、塗膜の均一性が得られず十分なガスバリア性を得られない場合があるので好ましくない。また厚さが50μmを超える場合は膜にクラックが生じ易くなるため問題となる場合がある。0.01〜50μmの範囲にあることが好ましく、より好ましくは0.1〜10μmの範囲にあることである。 The thickness of the overcoat layer varies depending on the type of coating agent, the processing machine and the processing conditions, and is not particularly limited. However, when the thickness after drying is 0.01 μm or less, the uniformity of the coating film may not be obtained and sufficient gas barrier properties may not be obtained. On the other hand, if the thickness exceeds 50 μm, cracks are likely to occur in the film, which may be a problem. It is preferable that it exists in the range of 0.01-50 micrometers, More preferably, it exists in the range of 0.1-10 micrometers.
(アルミニウム層またはアルミニウム化合物層7)
アルミニウム層またはアルミニウム化合物層7は、バリアフィルム2のバリア性を高める機能を有するものであり、アルミニウム単体の層でもよいが、酸化アルミニウム等の化合物も有力であり、簡略化のため、以降まとめてアルミニウム化合物層と呼称する。
(Aluminum layer or aluminum compound layer 7)
The aluminum layer or the
アルミニウム化合物層7の厚さは、一般的には1〜1000nmの範囲内が望ましい。膜厚が1nm未満であると均一な膜が得られないことや、バリアフィルムとしての機能を十分に果たすことができない場合がある。また膜厚が1000nmを越える場合は薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、成膜後の折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、薄膜に亀裂を生じるおそれがある。より好ましくは、400〜1000nmの範囲内にあることである。
In general, the thickness of the
アルミニウム化合物層7をオーバーコート層6上に形成する方法としては種々あり、例えば真空蒸着法により形成することができる。また、その他の薄膜形成法としてスパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ気相成長法(CVD)などを用いることも可能である。但し生産性を考慮すれば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。真空蒸着法の加熱手段としては電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式のいずれかの方式を用いることが好ましいが、蒸発材料の選択性の幅広さを考慮すると電子線加熱方式を用いることがより好ましい。またアルミニウム化合物層7とオーバーコート層6の密着性及びアルミニウム化合物層7の緻密性を向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を併用して蒸着することも可能である。
There are various methods for forming the
(微小凹部8)
微小凹部8は、例えばダイヤモンド粉や金剛砂を埋め込んだロールにプラスチックフィルム(基材4)を押し当てることにより形成されるもので、微小凹部8の深さはその平均が基材4の厚さの30〜50%の深さとなるように形成されることが好ましい。微小凹部8の平均深さが基材4の30%よりも浅いと、破封性が低く、他方、微小凹部8の平均深さを基材4の50%よりも深くすると、貫通孔が発生する恐れがある。
(Micro recess 8)
The minute recesses 8 are formed, for example, by pressing a plastic film (base material 4) against a roll embedded with diamond powder or gold sand, and the average depth of the minute recesses 8 is the thickness of the base material 4. It is preferable that the depth is 30 to 50%. If the average depth of the minute recesses 8 is shallower than 30% of the base material 4, the tearability is low. On the other hand, if the average depth of the minute recesses 8 is deeper than 50% of the base material 4, through holes are generated. There is a fear.
(アンカーコート層9)
基材4と無機酸化物層5との密着を強化するために、図2(b)のように、基材4と無機酸化物層5の層間にアンカーコート層9を形成することが好ましい。アンカーコート層9は基材4の実質的な表面が改質された層であり、改質の結果としては、例えば基材4の表面のX線光電子分光測定を行った時、C1s波形分離におけるC−C結合ピークの半値幅の変化が挙げられる。
(Anchor coat layer 9)
In order to reinforce the adhesion between the base material 4 and the inorganic oxide layer 5, it is preferable to form an anchor coat layer 9 between the base material 4 and the inorganic oxide layer 5 as shown in FIG. The anchor coat layer 9 is a layer in which the substantial surface of the substrate 4 is modified. As a result of the modification, for example, when X-ray photoelectron spectroscopy measurement of the surface of the substrate 4 is performed, The change of the half value width of a CC bond peak is mentioned.
基材4の表面を改質する方法としては、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング(RIE)などのプラズマ処理が好ましい。プラズマ処理を行うことで、発生したラジカルやイオンを利用して基材4の表面に官能基を持たせるなどの化学的効果と、表面をイオンエッチングし不純物などを除去して平滑化するという物理的効果の両方を同時に得ることができる。このような表面処理を行うことで、後に行う無機酸化物層5の成膜の際に基材4と無機酸化物層5との密着性を強化することができる。また、無機酸化物層5の緻密な膜を形成することができる。また、加熱殺菌時のクラック発生防止につながるために、さらなるガスバリア性向上に有効である。 As a method for modifying the surface of the substrate 4, plasma treatment such as reactive ion etching (RIE) using plasma is preferable. By performing plasma treatment, a chemical effect such as giving a functional group to the surface of the base material 4 using the generated radicals or ions, and a physical effect that the surface is ion-etched to remove impurities and smooth the surface. Both effects can be obtained at the same time. By performing such a surface treatment, the adhesion between the base material 4 and the inorganic oxide layer 5 can be enhanced when the inorganic oxide layer 5 is formed later. In addition, a dense film of the inorganic oxide layer 5 can be formed. Moreover, since it leads to prevention of cracks during heat sterilization, it is effective for further improving the gas barrier property.
加工速度、エネルギーレベルなどで示されるプラズマ処理条件は、基材の種類、用途、放電装置特性などに応じ、適宜設定することができる。ただし、プラズマの自己バイアス値を200V以上2000V以下とし、Ed=(プラズマ密度)×(処理時間)で定義されるEd値を100W・m−2・sec以上10000W・m−2・sec以下とすることが好ましい。上記の値より若干低い値でも、ある程度の密着性を発現するが、未処理品に比べて優位性が低い。また、上記の値より高い値であると、強い処理がかかりすぎて基材表面が劣化し、密着性が下がる原因になる。プラズマ用の気体としてはArなどの不活性ガス、または酸素、ハロゲンガスなどの反応性(リアクティブ)ガスがあり、それらの混合ガスであってもよい。それらの流量及び混合比などに関してはポンプ性能や取り付け位置などによって、用途、基材、装置特性に応じて適宜設定すべきである。 Plasma processing conditions indicated by processing speed, energy level, and the like can be set as appropriate according to the type of substrate, application, discharge device characteristics, and the like. However, the plasma self-bias value is set to 200V or 2000V or less, Ed = a (plasma density) × (processing time) Ed value defined 100W · m -2 · sec or more 10000W · m -2 · sec or less at It is preferable. Even at values slightly lower than the above values, a certain degree of adhesion is exhibited, but the superiority is lower than that of untreated products. On the other hand, if the value is higher than the above value, a strong treatment is excessively applied, the surface of the base material is deteriorated, and the adhesiveness is lowered. As the gas for plasma, there is an inert gas such as Ar, or a reactive gas such as oxygen or halogen gas, and a mixed gas thereof may be used. Their flow rate and mixing ratio should be set as appropriate according to the application, base material, and device characteristics depending on the pump performance and mounting position.
前記プラズマ処理と無機酸化物蒸着5の成膜は、同一成膜機(インライン成膜機)にて動作モードを切り換えて行うこともできる。 The plasma treatment and the film formation of the inorganic oxide vapor deposition 5 can be performed by switching the operation mode with the same film forming machine (in-line film forming machine).
本発明のPTP包装体10は、上記収納体11に例えば錠剤13等を充填した後、密封部材1を、シール層3が収納体11に当接するようにして重ね、ヒートシールすることにより、開口部12を封止して得られる。
The
上記本発明のPTP包装体10から錠剤13等を取り出す場合には、従来のPTP包装体同様に、収納体11側から錠剤13等を押圧し、錠剤13等により密封部材1を破封することができ、ここから錠剤13等を取り出すことができる。
When taking out the
次に、本発明の実施例について説明する。 Next, examples of the present invention will be described.
<実施例1>
密封部材は、以下のようにして得られたものを用いた。基材としての厚さ12μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの未処理面に、周波数13.56MHzの高周波電源を用い、印加電力120W、処理時間0.1sec、処理ガスAr、処理ユニット圧力2.0Paの条件にてリアクティブイオンエッチング(RIE)装置を利用したプラズマ処理を施した。この時、自己バイアスは450V、Ed値は200W・m−2・secであった。この上に、電子線加熱方式を用いた反応性蒸着により、厚さ15nmの酸化アルミニウムを蒸着して無機酸化物層を形成した。
<Example 1>
What was obtained as follows was used for the sealing member. A high-frequency power source with a frequency of 13.56 MHz is used on a non-treated surface of a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 12 μm as a substrate, an applied power of 120 W, a treatment time of 0.1 sec, a treatment gas Ar, and a treatment unit pressure of 2.0 Pa. Plasma treatment using a reactive ion etching (RIE) apparatus was performed under the following conditions. At this time, the self-bias was 450 V, and the Ed value was 200 W · m −2 · sec. On top of this, aluminum oxide having a thickness of 15 nm was deposited by reactive deposition using an electron beam heating method to form an inorganic oxide layer.
次に、下記に示すI液とII液を配合比(wt%)で60/40に混合した溶液をグラビアコート法により無機酸化物層上に塗布乾燥し、厚さ0.3μmのオーバーコート層を形成した。
<I液>
テトラエトキシシラン10.4gに塩酸(0.1N)89.6gを加え30分間攪拌し、加水分解させ、SiO2換算で固形分が3wt%の加水分解溶液を調製した。
<II液>
水とイソプロピルアルコールを重量比で90対10で混合した水−イソプロピルアルコール溶液97重量%と、ポリビニルアルコール3重量%とを混合した。
Next, a solution obtained by mixing the following I solution and II solution at a mixing ratio (wt%) of 60/40 is applied and dried on the inorganic oxide layer by a gravure coating method, and an overcoat layer having a thickness of 0.3 μm Formed.
<Liquid I>
Was stirred for 30 minutes addition of hydrochloric acid (0.1 N) 89.6 g of tetraethoxysilane 10.4 g, it is hydrolyzed, solids in terms of SiO 2 to prepare a 3 wt% of hydrolyzed solution.
<Liquid II>
97% by weight of a water-isopropyl alcohol solution in which water and isopropyl alcohol were mixed at a weight ratio of 90:10 and 3% by weight of polyvinyl alcohol were mixed.
次にアルミニウムを蒸着して、アルミニウム化合物層を形成し、バリアフィルムを得た。次に、基材の前記バリアフィルムの無機酸化物層と反対側の面に、ダイヤモンド粉を埋め込んだロールを押し当てることにより、微小な凹部を多数設けた。微小凹部の密度は、40,000個/m2 、深さは4〜5μm、平均4.5μm(基材の厚さの38%の深さ)であった。 Next, aluminum was vapor-deposited to form an aluminum compound layer to obtain a barrier film. Next, a roll embedded with diamond powder was pressed against the surface of the base material opposite to the inorganic oxide layer of the barrier film to provide a large number of minute recesses. The density of the minute recesses was 40,000 pieces / m 2 , the depth was 4 to 5 μm, and the average was 4.5 μm (depth of 38% of the thickness of the base material).
前記バリアフィルムのアルミニウム化合物層側に、エチレン−酢酸ビニル共重合体を主成分とするヒートシールラッカーを5g/m2の塗布量にて塗布しシール層を形成して、図2(b)に示す形態の実施例1の密封部材を得た。 On the aluminum compound layer side of the barrier film, a heat seal lacquer mainly composed of an ethylene-vinyl acetate copolymer is applied at an application amount of 5 g / m 2 to form a seal layer, and FIG. The sealing member of Example 1 having the form shown was obtained.
次に、厚さ250μmのポリプロピレンシートを真空成形し、略円柱状の収納部を有する成形体からなる収納体とした。この収納体の収納部に略円柱状の錠剤を充填し、前記密封部材で封止し、実施例1のPTP包装体を得た。 Next, a 250 μm-thick polypropylene sheet was vacuum-formed to form a storage body composed of a molded body having a substantially cylindrical storage portion. The storage portion of the storage body was filled with a substantially columnar tablet and sealed with the sealing member to obtain a PTP package of Example 1.
<実施例2>
微小な凹部を多数設け、深さは5〜6μm、平均5.5μm(基材の厚さの46%の深さ)である以外は、実施例1と同様にして、実施例2の密封部材を得た。さらに実施例1と同様にして、実施例2のPTP包装体を得た。
<Example 2>
The sealing member of Example 2 is the same as Example 1 except that a large number of minute concave portions are provided, the depth is 5 to 6 μm, and the average is 5.5 μm (the depth is 46% of the thickness of the base material). Got. Further, a PTP package of Example 2 was obtained in the same manner as Example 1.
<比較例1>
アルミニウム化合物層を省いた以外は、実施例1と同様にして、比較例1の密封部材、及びPTP包装体を得た。
<Comparative Example 1>
A sealing member and a PTP package of Comparative Example 1 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the aluminum compound layer was omitted.
<比較例2>
微小な凹部を多数設け、深さは1.5〜2.5μm、平均2μm(基材の厚さの17%の深さ)である以外は、実施例1と同様にして、比較例2の密封部材を得た。さらに実施例1と同様にして、比較例2のPTP包装体を得た。
<Comparative example 2>
A comparative example 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that a large number of minute recesses were provided, the depth was 1.5 to 2.5 μm, and the average was 2 μm (17% of the thickness of the base material). A sealing member was obtained. Further, in the same manner as in Example 1, a PTP package of Comparative Example 2 was obtained.
<比較例3>
微小な凹部を多数設け、深さは7〜8μm、平均7.5μm(基材の厚さの63%の深さ)である以外は、実施例1と同様にして、比較例3の密封部材を得た。さらに実施例1と同様にして、比較例3のPTP包装体を得た。
<Comparative Example 3>
The sealing member of Comparative Example 3 is provided in the same manner as in Example 1 except that a large number of minute recesses are provided, the depth is 7 to 8 μm, and the average is 7.5 μm (63% of the thickness of the base material). Got. Further, in the same manner as in Example 1, a PTP package of Comparative Example 3 was obtained.
以上の実施例1、2、比較例1、2、3の密封部材の層構成を表1に示す。 Table 1 shows the layer structure of the sealing members of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1, 2, and 3 described above.
[評価方法]
<破封性評価>
(突刺強度の測定)
突刺強度の測定は食品衛生法に準拠して行った。実施例1、2、比較例1、2、3の密封部材を固定し、密封部材面に直径1.0mm、先端形状半径0.5mmの半円形の針を毎分50±5.0mmの速度で突刺し、密封部材を針が貫通するまでの最大荷重を測定した。
[Evaluation method]
<Sealability evaluation>
(Measurement of puncture strength)
The puncture strength was measured according to the Food Sanitation Law. The sealing members of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1, 2, and 3 were fixed, and a semicircular needle having a diameter of 1.0 mm and a tip shape radius of 0.5 mm was applied to the sealing member surface at a speed of 50 ± 5.0 mm per minute The maximum load until the needle penetrates the sealing member was measured.
(官能試験)
破封性の官能試験としては、収納体に錠剤を充填し密封部材で封止した実施例1、2、比較例1、2、3のPTP包装体を使用して、収納体側から錠剤を押圧し、錠剤により密封部材を破封することができ錠剤が取り出せるかどうかを確認した。取り出せれば○。取り出せなければ×とした。
(Sensory test)
For the sensory test of the breakability, the tablets were pressed from the container side using the PTP packaging bodies of Examples 1, 2 and Comparative Examples 1, 2 and 3 in which the containers were filled with tablets and sealed with a sealing member. Then, it was confirmed whether the sealing member could be broken with the tablet and the tablet could be taken out. ○ if you can take it out. If it could not be removed, it was marked as x.
<防湿性評価>
水蒸気透過度測定はJIS K 7129に準拠してMOCON法で行った。すなわち、40℃90%RHで実施例1、2、比較例1、2、3の密封部材の水蒸気透過度を測定した。収納体であるポリプロピレンシートの水蒸気透過度は1g/m2/day以下のため、1g/m2/day以下を防湿性有と判断した。
<Dampproof evaluation>
The water vapor transmission rate was measured by MOCON method according to JIS K 7129. That is, the water vapor permeability of the sealing members of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1, 2, and 3 was measured at 40 ° C. and 90% RH. Since the water vapor permeability of the polypropylene sheet as the container was 1 g / m 2 / day or less, 1 g / m 2 / day or less was judged to have moisture resistance.
以上の実施例1、2、比較例1、2、3の密封部材及びPTP包装体の破封性、及び防湿性の評価結果を表2に示す。 Table 2 shows the evaluation results of the sealing members and PTP packaging bodies of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1, 2 and 3, and the PTP package.
表2より、本発明の条件に適う、実施例1、2の場合は、破封性、防湿性ともに良好であった。一方で、比較例1はアルミニウム化合物層が存在しないため、比較例3は微小凹部の深さが深すぎるため、いずれも防湿性が不足した。また、比較例2は微小凹部の深さが浅すぎたため、破封性が不良であった。 From Table 2, in the case of Examples 1 and 2, which meet the conditions of the present invention, both the sealability and moisture resistance were good. On the other hand, since Comparative Example 1 does not have an aluminum compound layer, Comparative Example 3 was insufficient in moisture resistance because the depth of the minute recesses was too deep. Moreover, since the depth of the micro recessed part was too shallow, the comparative example 2 was unsealable.
10・・・PTP包装体
1・・・・密封部材
2・・・・バリアフィルム
3・・・・シール層
4・・・・基材
5・・・・無機酸化物層
6・・・・オーバーコート層
7・・・・アルミニウム層またはアルミニウム化合物層
8・・・・微小凹部
9・・・・アンカーコート層
11・・・収納体
12・・・開口部
13・・・錠剤等
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記密封部材は、基材上に無機酸化物層と、オーバーコート層と、アルミニウム層またはアルミニウム化合物層のいずれかと、をこの順に備え、
前記基材はプラスチックフィルムからなり、
前記基材の前記無機酸化物層側と反対側の面に、平均深さが前記基材の厚さの30〜50%の深さである多数の微小凹部を設けたことを特徴とするPTP包装体。 A PTP package comprising a storage body for storing tablets and the like, and a sealing member for sealing an opening of the storage body,
The sealing member comprises an inorganic oxide layer, an overcoat layer, and either an aluminum layer or an aluminum compound layer in this order on a base material,
The substrate is made of a plastic film,
A PTP having a number of minute recesses having an average depth of 30 to 50% of the thickness of the substrate on the surface of the substrate opposite to the inorganic oxide layer side Packaging body.
前記基材の前記無機酸化物層を設ける面にプラズマ処理を施しアンカーコート層を設けた後、前記無機酸化物層を設けることを特徴とするPTP包装体の製造方法。 It is a manufacturing method of the PTP package of Claim 3,
A method for producing a PTP package, wherein the inorganic oxide layer is provided after plasma treatment is performed on a surface of the substrate on which the inorganic oxide layer is provided to provide an anchor coat layer.
Priority Applications (1)
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2025004790A1 (en) * | 2023-06-28 | 2025-01-02 | Toppanホールディングス株式会社 | Tablet |
| JP2025009800A (en) * | 2023-06-28 | 2025-01-20 | Toppanホールディングス株式会社 | tablet |
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