JP2018099887A - Screen version - Google Patents
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Abstract
【課題】合成繊維を用いてなるスクリーン紗と遮蔽膜との密着性が向上したスクリーン版を提供する。【解決手段】版枠と、前記版枠に張られる、合成繊維を用いてなるスクリーン紗と、前記スクリーン紗に形成される、所定の印刷パターンに対応する形状の開口を設けるための遮蔽膜と、を有し、前記スクリーン紗の表面は、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーの比率が15%以上、70%以下であり、前記遮蔽膜の表面は、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーの比率が10%以上、50%以下であることを特徴とするスクリーン版。【選択図】図9PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a screen plate having improved adhesion between a screen gauze made of synthetic fibers and a shielding film. SOLUTION: A plate frame, a screen gauze made of synthetic fibers stretched on the plate frame, and a shielding film formed on the screen gauze for providing an opening having a shape corresponding to a predetermined printing pattern. The surface of the screen gauze has a ratio of the surface free energy derived from the polar component to the surface free energy derived from the polar component and the non-polar component of 15% or more and 70% or less. The surface is a screen plate characterized in that the ratio of the surface free energy derived from the polar component to the surface free energy derived from the polar component and the non-polar component is 10% or more and 50% or less. [Selection diagram] FIG. 9
Description
本発明は、遮蔽膜とスクリーン紗との密着性が向上したスクリーン版に関する。 The present invention relates to a screen plate having improved adhesion between a shielding film and a screen ridge.
従来から、プリント回路、IC回路、各種ディスプレイ装置などの電子部品基板や、太陽電池などの電極の製造には、スクリーン印刷が使用されている。電子部品基板や電極は、近年ますます小型化されており、これらを印刷して製造するスクリーン印刷には、精細な印刷パターンを寸法精度良く印刷することが求められている。 Conventionally, screen printing has been used for manufacturing electronic component substrates such as printed circuits, IC circuits, various display devices, and electrodes such as solar cells. In recent years, electronic component substrates and electrodes have been increasingly miniaturized, and screen printing that is produced by printing these substrates is required to print fine print patterns with high dimensional accuracy.
一般に、スクリーン印刷に用いられる版は、版枠と、所定の張力が加えられた状態で版枠に張られたスクリーン紗とを有し、スクリーン紗の片面又は両面に、遮蔽膜を形成するとともに、所定の印刷パターンに対応する位置に開口を形成してスクリーン印刷に用いられる。開口と遮蔽膜の形成は、スクリーン紗の片面又は両面に、感光性樹脂溶液(エマルジョン)を塗布して乾燥又は感光性樹脂フィルムを接着して樹脂膜を形成し、この樹脂膜の一部の領域を所定の印刷パターンに対応する形状のマスクで覆い、一部の領域がマスクで覆われた樹脂膜に対して可視光線および/又は紫外線を照射し、樹脂膜の可溶領域を水、薬品等によって除去して遮蔽膜と開口を形成することにより行われる。樹脂膜の可溶領域は、可視光線や紫外線が照射されることで生じる樹脂膜(感光性樹脂)の反応によって異なり、樹脂膜の反応が光架橋反応である場合には、可視光線や紫外線の照射を受けていない樹脂膜の領域(マスクで覆われた領域)が可溶領域となり、樹脂膜の反応が光分解反応である場合には、可視光線や紫外線の照射を受けている樹脂膜の領域(マスクで覆われていない領域)が可溶領域となる。 In general, a plate used for screen printing has a plate frame and a screen ridge stretched on the plate frame in a state where a predetermined tension is applied, and forms a shielding film on one or both sides of the screen ridge. An opening is formed at a position corresponding to a predetermined printing pattern and used for screen printing. The opening and the shielding film are formed by applying a photosensitive resin solution (emulsion) on one or both sides of the screen basket and drying or adhering the photosensitive resin film to form a resin film. Cover the area with a mask with a shape corresponding to a predetermined print pattern, irradiate the resin film with a part of the area covered with the mask with visible light and / or ultraviolet light, and then dissolve the soluble area of the resin film with water or chemicals. This is performed by forming the shielding film and the opening by removing them by the method described above. The soluble region of the resin film varies depending on the reaction of the resin film (photosensitive resin) caused by irradiation with visible light or ultraviolet light. When the reaction of the resin film is a photocrosslinking reaction, visible light or ultraviolet light If the resin film region that has not been irradiated (the region covered with the mask) becomes a soluble region and the reaction of the resin film is a photolysis reaction, the resin film that has been irradiated with visible light or ultraviolet light A region (region not covered with a mask) is a soluble region.
ここで、遮蔽膜とスクリーン紗との密着性が弱い場合、繰り返し印刷が行われることによって遮蔽膜がスクリーン紗から剥離することがある。このため、遮蔽膜とスクリーン紗との密着性が弱いスクリーン版は、精密な印刷パターンを繰り返し印刷することが不可能となることがある。 Here, when the adhesion between the shielding film and the screen ridge is weak, the shielding film may peel from the screen ridge by repeated printing. For this reason, a screen plate having poor adhesion between the shielding film and the screen ridge may not be able to repeatedly print a precise print pattern.
このような問題を解決するために、特許文献1では、ステンレス製のスクリーン紗にダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜を成膜することで、感光性樹脂からなる遮蔽膜とスクリーン紗との密着性を高める技術が提案されている。 In order to solve such a problem, in Patent Document 1, a diamond-like carbon (DLC) film is formed on a stainless steel screen so that the adhesion between the shielding film made of a photosensitive resin and the screen is improved. Technology to enhance has been proposed.
しかしながら、DLC膜は150〜250度といった高温雰囲気下で成膜されるので、スクリーン紗が繊維で構成される場合、DLC膜の成膜の段階でスクリーン紗を構成する繊維が熱収縮したり、スクリーン紗の強度が低下したりするなどの問題がある。特に、スクリーン紗を構成する繊維として合成繊維を用いた場合、繊維の熱収縮やスクリーン紗の強度低下が顕著となるため、特許文献1に開示される技術は、合成繊維から構成されるスクリーン紗に適用しにくいという問題がある。 However, since the DLC film is formed in a high-temperature atmosphere such as 150 to 250 degrees, when the screen ridge is composed of fibers, the fibers constituting the screen ridge are thermally contracted at the stage of forming the DLC film, There is a problem that the strength of the screen wrinkles decreases. In particular, when synthetic fibers are used as the fibers constituting the screen wrinkles, the heat shrinkage of the fibers and the strength reduction of the screen wrinkles become significant. Therefore, the technique disclosed in Patent Document 1 is a screen wrinkle made of synthetic fibers. There is a problem that it is difficult to apply.
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、合成繊維を用いてなるスクリーン紗と遮蔽膜との密着性が向上したスクリーン版を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a screen plate having improved adhesion between a screen ridge and a shielding film using synthetic fibers.
本発明の要旨は以下のとおりである。
[1] 版枠と、
前記版枠に張られる、合成繊維を用いてなるスクリーン紗と、
前記スクリーン紗に形成される、所定の印刷パターンに対応する形状の開口を設けるための遮蔽膜と、を有し、
前記スクリーン紗の表面は、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーの比率が15%以上、70%以下であり、
前記遮蔽膜の表面は、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーの比率が10%以上、50%以下であることを特徴とするスクリーン版。
[2] 前記合成繊維が少なくとも液晶ポリマーを含むことを特徴とする[1]に記載のスクリーン版。
[3] 前記合成繊維がモノフィラメントであることを特徴とする[1]または[2]に記載のスクリーン版。
[4]前記遮蔽膜は、感光性樹脂を用いて形成された膜であることを特徴とする[1]から[3]のいずれか一つに記載のスクリーン版。
[5]前記スクリーン紗の表面は、前記遮蔽膜の表面よりも、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーの前記比率が高いこと特徴とする[1]から[4]のいずれか一つに記載のスクリーン版。
The gist of the present invention is as follows.
[1] Plate frame,
A screen rod made of synthetic fiber, stretched on the plate frame;
A shielding film for forming an opening having a shape corresponding to a predetermined printing pattern, formed on the screen ridge,
The surface of the screen ridge has a ratio of the surface free energy derived from the polar component to the surface free energy derived from the polar component and the nonpolar component of 15% or more and 70% or less,
The screen plate, wherein the surface of the shielding film has a ratio of the surface free energy derived from the polar component to the surface free energy derived from the polar component and the nonpolar component of 10% or more and 50% or less.
[2] The screen plate according to [1], wherein the synthetic fiber includes at least a liquid crystal polymer.
[3] The screen plate according to [1] or [2], wherein the synthetic fiber is a monofilament.
[4] The screen plate according to any one of [1] to [3], wherein the shielding film is a film formed using a photosensitive resin.
[5] The ratio of the surface free energy derived from the polar component to the surface free energy derived from the polar component and the nonpolar component is higher on the surface of the screen wall than the surface of the shielding film [1] To 4. The screen plate according to any one of [4].
本発明によれば、合成繊維を用いてなるスクリーン紗と遮蔽膜との密着性が向上したスクリーン版を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the screen plate which improved the adhesiveness of the screen wrinkles and shielding film which use a synthetic fiber can be provided.
以下、本発明の実施形態について説明する。なお、図1,図2及び図4〜図9において、Z軸およびY軸は互いに直交する軸であり、Z軸およびY軸のそれぞれと直交する軸をX軸とする。本実施形態において、Z軸方向をスクリーン紗1の厚さ方向とする。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. 1, 2, and 4 to 9, the Z axis and the Y axis are orthogonal to each other, and the axis orthogonal to each of the Z axis and the Y axis is an X axis. In the present embodiment, the Z-axis direction is the thickness direction of the screen ridge 1.
本実施形態のスクリーン版100は、図9に示すように、版枠2と、版枠2に張られたスクリーン紗1と、スクリーン紗1に形成される遮蔽膜20を有する。まず、スクリーン紗1について具体的に説明する。 As shown in FIG. 9, the screen plate 100 of the present embodiment includes a plate frame 2, a screen ridge 1 stretched on the plate frame 2, and a shielding film 20 formed on the screen ridge 1. First, the screen cage 1 will be specifically described.
スクリーン紗1は、スクリーン印刷に用いられるスクリーン版100を構成する部材の一つであり、インクを保持し、保持したインクを被印刷物に転移するための織物である。スクリーン紗1は、図1に示すように、合成繊維により構成される複数の経糸1aと複数の緯糸1bからなる。 The screen basket 1 is one of the members constituting the screen plate 100 used for screen printing, and is a fabric for holding ink and transferring the held ink to a printing material. As shown in FIG. 1, the screen kite 1 includes a plurality of warps 1a and a plurality of wefts 1b made of synthetic fibers.
経糸1a及び緯糸1bを構成する合成繊維としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、液晶ポリエステル等のポリエステル、ナイロン、ポリフェニルサルフォン(PPS)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)から形成される合成繊維や、これらを2種類以上組み合わせた合成繊維を用いることができ、これらの中でもナイロンやポリエステルから形成される合成繊維を用いることが好ましい。また、液晶ポリエステルなどの液晶ポリマーから形成される合成繊維は、伸縮性を有し、寸法安定性に優れる。このため、経糸1a及び緯糸1bとして液晶ポリマーを含む合成繊維を用いた場合、繰り返しスクリーン印刷を行ったとしても、経糸1a及び緯糸1bが変形しにくい。従って、液晶ポリマーを含む合成繊維は、繰り返し行われる精密な印刷パターンの形成に適しているため、特に好ましい。経糸1aや緯糸1bが、2種類以上の素材から構成される場合、断面の芯部分の素材と鞘部分の素材が異なる芯鞘型繊維や、溶融した2種以上の素材を混合して得られるブレンド型の繊維や、芯部分や鞘部分の素材として、2種以上の素材を溶融・混合して得られる素材が用いられる芯鞘型繊維や、繊維の長手方向に延びる複数の島部分と島部分を取り囲む海部分の素材が異なる海島型繊維等であってもよい。さらに、鞘部分や芯部分において、島部分と海部分が形成される芯鞘型複合繊維であってもよい。なお、印刷パターンとは、被印刷物に転移される印刷塗膜により形成される模様(図形や文字、線などを含む)であり、液晶ポリマーとは、溶融状態あるいは溶液状態で液晶性を示すポリマーである。 Synthetic fibers constituting the warp 1a and the weft 1b include, for example, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), polyester such as liquid crystal polyester, nylon, and polyphenylsulfone (PPS). Synthetic fibers formed from polyetheretherketone (PEEK) or synthetic fibers obtained by combining two or more of these can be used, and among these, it is preferable to use synthetic fibers formed from nylon or polyester. Moreover, the synthetic fiber formed from liquid crystal polymers, such as liquid crystal polyester, has a stretching property and is excellent in dimensional stability. For this reason, when the synthetic fiber containing a liquid crystal polymer is used as the warp 1a and the weft 1b, the warp 1a and the weft 1b are not easily deformed even if screen printing is repeatedly performed. Therefore, a synthetic fiber containing a liquid crystal polymer is particularly preferable because it is suitable for forming a precise printed pattern that is repeatedly performed. When the warp 1a and the weft 1b are composed of two or more kinds of materials, they are obtained by mixing core-sheath fibers in which the material of the core part and the material of the sheath part are different, or two or more kinds of melted materials. A core-sheath fiber in which a material obtained by melting and mixing two or more kinds of materials is used as a blend type fiber, a core part or a sheath part, or a plurality of island parts and islands extending in the longitudinal direction of the fiber Sea island type fiber etc. from which the material of the sea part surrounding the part differs may be sufficient. Furthermore, a core-sheath type composite fiber in which an island part and a sea part are formed in a sheath part or a core part may be used. A printed pattern is a pattern (including figures, characters, lines, etc.) formed by a printed coating film transferred to a substrate, and a liquid crystal polymer is a polymer that exhibits liquid crystallinity in a molten or solution state. It is.
スクリーン紗1を構成する経糸1aと緯糸1bは、モノフィラメントでもマルチフィラメントでも良い。経糸1aにマルチフィラメント、緯糸1bにモノフィラメントまたはその逆の組み合わせであっても良い。印刷精度(例えば、印刷物の鮮明性や解像性)や印刷塗膜の耐久性を向上させる観点からは、経糸1a、緯糸1bともにモノフィラメントであることが好ましい。モノフィラメントは、単一の素材から構成されていても良く、特性の異なる2種以上の素材から構成されていても良い。また、スクリーン紗1の表面の極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーγsに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーγspの比率(以下、「極性比率」ともいう)を15%以上70%以下の範囲外とするものでなければ、経糸1aや緯糸1bの表面を有機物質や無機物質でコーティングし、改質していても良い。 The warp 1a and the weft 1b constituting the screen ridge 1 may be monofilament or multifilament. The warp 1a may be a multifilament, the weft 1b may be a monofilament, or vice versa. From the viewpoint of improving printing accuracy (for example, sharpness and resolution of printed matter) and durability of the printed coating film, both the warp 1a and the weft 1b are preferably monofilaments. The monofilament may be composed of a single material, or may be composed of two or more materials having different characteristics. Further, the ratio of the surface free energy γs p derived from the polar component to the surface free energy γs derived from the polar component and the non-polar component on the surface of the screen 1 (hereinafter also referred to as “polar ratio”) is 15% or more and 70%. If not outside the following range, the surface of the warp 1a or the weft 1b may be modified by coating with an organic substance or an inorganic substance.
複数の経糸1aと複数の緯糸1bは、図1に示すように、Z軸方向において交互に浮き沈みして織られており、平織の織組成を構成している。スクリーン紗1において、織組織は、特に限定されず、綾織、朱子織などを用いることができる。しかしながら、スクリーン紗1のZ軸方向における厚さを薄くかつ目拠れを起こしにくくする観点から、スクリーン紗1の織組織は、平織であることが好ましい。 As shown in FIG. 1, the plurality of warps 1a and the plurality of wefts 1b are woven up and down alternately in the Z-axis direction, and constitute a plain weave composition. In the screen ridge 1, the woven structure is not particularly limited, and a twill weave, satin weave, or the like can be used. However, the woven structure of the screen ridge 1 is preferably a plain weave from the viewpoint of reducing the thickness of the screen ridge 1 in the Z-axis direction and making it less likely to cause eyelashes.
複数の経糸1aは、X―Y平面において、所定の間隔w1をあけて平行に並べられている。複数の緯糸1bは、X―Y平面において、経糸1aに対して垂直に並べられるとともに、所定の間隔w2をあけて平行に並べられている。隣り合う2つの経糸1aと隣り合う2つの緯糸1bに囲まれる空間には、開口部1cが形成されている。スクリーン紗1において、間隔w1と間隔w2は、同一である。しかしながら、間隔w1と間隔w2は、異なっていてもよい。 The plurality of warps 1a are arranged in parallel in the XY plane with a predetermined interval w1. The plurality of weft yarns 1b are arranged perpendicular to the warp yarn 1a in the XY plane, and are arranged in parallel at a predetermined interval w2. An opening 1c is formed in a space surrounded by two adjacent warps 1a and two adjacent wefts 1b. In the screen 紗 1, the interval w1 and the interval w2 are the same. However, the interval w1 and the interval w2 may be different.
図2は、図1に示すスクリーン紗1のA−A断面図である。図2に示すように、経糸1aは、直径d1を有し、緯糸1bは、直径d2を有する。スクリーン紗1において、経糸1aの直径d1は、緯糸1bの直径d2と同一である。なお、経糸1aの直径d1と緯糸1bの直径d2は、異なっていても良い。また、スクリーン紗1では、経糸1a及び緯糸1bの断面形状(長手方向と直行する断面の形状)が正円であるが、経糸1a及び緯糸1bの断面形状は、楕円であってもよい。 FIG. 2 is a cross-sectional view of the screen cage 1 shown in FIG. As shown in FIG. 2, the warp 1a has a diameter d1, and the weft 1b has a diameter d2. In the screen kite 1, the diameter d1 of the warp 1a is the same as the diameter d2 of the weft 1b. The diameter d1 of the warp 1a and the diameter d2 of the weft 1b may be different. Further, in the screen kite 1, the cross-sectional shapes (the cross-sectional shapes orthogonal to the longitudinal direction) of the warp 1a and the weft 1b are perfect circles, but the cross-sectional shapes of the warp 1a and the weft 1b may be oval.
経糸1aの直径d1及び緯糸1bの直径d2は、印刷塗膜の厚みなどを考慮して適宜選択することができるが、高密度に配列するパターン線の印刷を容易にするためには、45μm以下であることが好ましく、40μm以下であることがさらに好ましく、35μm以下、またさらに33μm以下であることが特に好ましい。経糸1aの直径d1及び緯糸1bの直径d2を35μm以下、特に33μm以下にすると、150μm幅、特に60μm幅で配列する印刷パターンを確実に印刷しやすくなる。 The diameter d1 of the warp 1a and the diameter d2 of the weft 1b can be appropriately selected in consideration of the thickness of the printed film, etc. In order to facilitate the printing of pattern lines arranged at high density, it is 45 μm or less. It is preferably 40 μm or less, more preferably 35 μm or less, and even more preferably 33 μm or less. When the diameter d1 of the warp 1a and the diameter d2 of the weft 1b are set to 35 μm or less, particularly 33 μm or less, it becomes easy to reliably print a print pattern arranged with a width of 150 μm, particularly 60 μm.
スクリーン紗1は、経糸1aと緯糸1bがZ軸方向において重なる交差部と、経糸1aと緯糸1bがZ軸方向において重ならない非交差部とを有する。スクリーン紗1の厚さtは、経糸1aと緯糸1bが重なる交差部における厚さであり、経糸1aの直径d1と緯糸1bの直径d2の合計である。 The screen kite 1 has an intersecting portion where the warp 1a and the weft 1b overlap in the Z-axis direction, and a non-intersecting portion where the warp 1a and the weft 1b do not overlap in the Z-axis direction. The thickness t of the screen kite 1 is the thickness at the intersection where the warp 1a and the weft 1b overlap, and is the sum of the diameter d1 of the warp 1a and the diameter d2 of the weft 1b.
スクリーン紗1の織密度は、スクリーン紗1の1インチ当たりにおける糸(経糸1a,緯糸1b)の本数(以下、「メッシュ数」ともいう)によって定義される。本実施形態のスクリーン紗1において、経糸1aのメッシュ数と緯糸1bのメッシュ数は、同一でも異なっていても良い。スクリーン紗1における経糸1aと緯糸1bの強度のばらつきを抑制する観点より、経糸1aのメッシュ数と緯糸1bのメッシュ数は、同じであることが好ましい。 The weaving density of the screen kite 1 is defined by the number of yarns (warp yarn 1a, weft yarn 1b) per inch of the screen kite 1 (hereinafter also referred to as “number of meshes”). In the screen kite 1 of this embodiment, the number of meshes of the warp 1a and the number of meshes of the weft 1b may be the same or different. From the viewpoint of suppressing variations in strength between the warp 1a and the weft 1b in the screen kite 1, the number of meshes of the warp 1a and the number of meshes of the weft 1b are preferably the same.
スクリーン紗1を構成する経糸1aや緯糸1bの直径が同じであれば、メッシュ数を高くするとスクリーン紗1の強度は高くなるが、後述する開口率は低くなり、インクが開口部1cを通過しにくくなる。インクが開口部1cを通過しにくくなると、被印刷物に転移されるインクの量が減少しやすくなり、インクが被印刷物上で均一に広がりにくくなる。従って、均一な膜厚の印刷塗膜が得られにくくなる。一方、メッシュ数を低くすると、開口率は高くなるが、スクリーン紗1の強度は低くなりやすい。このため、スクリーン紗1のメッシュ数には、好ましい範囲がある。メッシュ数の好ましい範囲は、糸(経糸1a,緯糸1b)の材料,強度,直径などに依存するため、一義的に定めることはできないが、スクリーン紗1を版枠に張る工程やスクリーン紗1を用いて印刷する工程における糸切れを抑制できる十分な強度とする観点から、経糸1aと緯糸1bのメッシュ数それぞれは、200メッシュ以上、特に250メッシュ以上、さらに300メッシュ以上とすることが好ましい。また、印刷塗膜の膜厚を均一にしやすくする観点から、経糸1aと緯糸1bのメッシュ数それぞれは、350メッシュ以下、特に330メッシュ以下とすることが好ましい。 If the diameters of the warp 1a and the weft 1b constituting the screen ridge 1 are the same, the strength of the screen ridge 1 increases as the number of meshes increases, but the aperture ratio described later decreases, and the ink passes through the opening 1c. It becomes difficult. If the ink does not easily pass through the opening 1c, the amount of ink transferred to the printing material is likely to be reduced, and the ink is difficult to spread uniformly on the printing material. Therefore, it becomes difficult to obtain a printed coating film having a uniform film thickness. On the other hand, when the number of meshes is lowered, the aperture ratio is increased, but the strength of the screen basket 1 is likely to be lowered. For this reason, there is a preferred range for the number of meshes of the screen 1. The preferred range of the number of meshes depends on the material, strength, diameter, etc. of the yarn (warp 1a, weft 1b) and cannot be determined uniquely. However, the process of stretching the screen 紗 1 on the plate frame or the screen 紗 1 From the viewpoint of obtaining sufficient strength that can suppress yarn breakage in the printing process, the number of meshes of the warp 1a and the weft 1b is preferably 200 mesh or more, particularly 250 mesh or more, and more preferably 300 mesh or more. Further, from the viewpoint of facilitating uniformizing the thickness of the printed coating film, the number of meshes of the warp 1a and the weft 1b is preferably 350 mesh or less, particularly 330 mesh or less.
なお、開口率(%)とは、X−Y平面におけるスクリーン紗1の所定面積当たりの開口部1cの面積の割合であり、下記(1)式を用いて算出することができる。下記(1)式において、w1は、隣り合う2つの経糸1aの間隔を示し、w2は、隣り合う2つの緯糸1bの間隔を示し、d1は、経糸1aの直径を示し、d2は、緯糸1bの直径を示す。
開口率(%)=(w1×w2)/{(w1+d1)×(w2+d2)}×100 ----(1)
The aperture ratio (%) is the ratio of the area of the opening 1c per predetermined area of the screen ridge 1 in the XY plane, and can be calculated using the following equation (1). In the following formula (1), w1 indicates the interval between two adjacent warps 1a, w2 indicates the interval between two adjacent wefts 1b, d1 indicates the diameter of the warp 1a, and d2 indicates the weft 1b. Indicates the diameter.
Aperture ratio (%) = (w1 × w2) / {(w1 + d1) × (w2 + d2)} × 100 (1)
スクリーン紗1の表面は、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーγsに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーγspの比率(以下、「極性比率」ともいう)が15%以上、70%以下である。極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーγs(以下、「γs」ともいう。)は、下記(2)式で定義され、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーγsに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーγsp(以下、「γsp」ともいう。)の比率(極性比率)は下記(3)式で求めることができる。尚、γsdは非極性成分に由来する表面自由エネルギー(以下、「γsd」ともいう)である。
γs =γsd +γsp ---------------- (2)
極性比率(%)=γsp/γs × 100 ------ (3)
The surface of the screen 1 has a ratio of surface free energy γs p derived from polar components to surface free energy γs derived from polar components and nonpolar components (hereinafter also referred to as “polar ratio”) of 15% or more and 70%. It is as follows. The surface free energy γs derived from the polar component and the nonpolar component (hereinafter also referred to as “γs”) is defined by the following formula (2), and the polar component with respect to the surface free energy γs derived from the polar component and the nonpolar component: The ratio (polarity ratio) of the surface free energy γs p derived from (hereinafter also referred to as “γs p ”) can be obtained by the following equation (3). Note that γs d is surface free energy derived from a nonpolar component (hereinafter also referred to as “γs d ”).
γs = γs d + γs p ---------------- (2)
Polarity ratio (%) = γs p / γs × 100 ------ (3)
スクリーン紗1の表面のγspとγsdは、下記(4)式を用いて算出することができる。具体的には、スクリーン紗1の表面において、2種類の測定用液体の接触角(θ)をそれぞれ測定する。そして、測定された2つの接触角(θ)を下記(4)式に当てはめ、接触角(θ)を当てはめた2つの下記(4)式を連立方程式として解くことにより、スクリーン紗1表面のγspとγsdを算出することができる。 Γs p and γs d on the surface of the screen ridge 1 can be calculated using the following equation (4). Specifically, the contact angles (θ) of the two types of measurement liquids are measured on the surface of the screen 1. Then, by fitting the two measured contact angles (θ) to the following equation (4) and solving the following two equations (4) fitting the contact angle (θ) as simultaneous equations, p and γs d can be calculated.
なお、測定用液体は、下記(4)式中のγL(測定用液体の表面張力)、γLd(測定用液体の非極性成分に由来する表面自由エネルギー)及びγLp(測定用液体の極性成分に由来する表面自由エネルギー)が既知である液体を用いることができ、例えば、水やジヨードメタンを用いることができる。また、スクリーン紗1表面の接触角(θ)は、スクリーン紗1表面の測定用液体1μLを、接触角計(協和界面科学(株)製、固液界面解析装置DropMaster)を用いて測定することにより求めることができる。 Note that the measurement liquid is γL (surface tension of the measurement liquid), γL d (surface free energy derived from the nonpolar component of the measurement liquid) and γL p (polarity of the measurement liquid) in the following formula (4) A liquid having a known surface free energy derived from a component can be used, for example, water or diiodomethane can be used. In addition, the contact angle (θ) of the surface of the screen 紗 1 is measured using a contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., solid-liquid interface analyzer DropMaster) with 1 μL of the measurement liquid on the surface of the screen 紗 1. It can ask for.
(1+cosθ)・γL/4=(γsd・γLd)/(γsd+γLd)+(γsp・γLp)/(γsp+γLp)---------------- (4)
θ:試料表面の測定用液体の接触角
γL:測定用液体の表面張力
γLd:測定用液体の非極性成分に由来する表面自由エネルギー
γLp:測定用液体の極性成分に由来する表面自由エネルギー
γsd:試料表面の非極性成分に由来する表面自由エネルギー
γsp:試料表面の極性成分に由来する表面自由エネルギー
(1 + cos θ) · γL / 4 = (γs d · γL d ) / (γs d + γL d ) + (γs p · γL p ) / (γs p + γL p ) ------------ ---- (4)
θ: Contact angle of the measurement liquid on the sample surface γL: Surface tension of the measurement liquid γL d : Surface free energy derived from the nonpolar component of the measurement liquid γL p : Surface free energy derived from the polar component of the measurement liquid γs d : surface free energy derived from non-polar components on the sample surface γs p : surface free energy derived from polar components on the sample surface
スクリーン紗1表面の表面自由エネルギーγsは、上記(4)式で算出されたγsdとγspを上記(2)式に当てはめることにより算出することができる。また、スクリーン紗1表面の極性比率は、上記(4)式で得られたγspと上記(2)式で得られたγsを上記(3)式に当てはめることにより算出することができる。なお、本明細書において、スクリーン紗1の表面とは、交差部や非交差部における経糸1aや緯糸1bの表面を指す。 The surface free energy γs of the surface of the screen ridge 1 can be calculated by applying γs d and γs p calculated by the above equation (4) to the above equation (2). The polarity ratio of the surface of the screen ridge 1 can be calculated by applying γs p obtained by the above equation (4) and γs obtained by the above equation (2) to the above equation (3). In the present specification, the surface of the screen ridge 1 refers to the surface of the warp 1a or the weft 1b at the intersection or non-intersection.
スクリーン紗1表面の表面自由エネルギーγsが同程度であっても、極性比率が高まると、表面の極性比率が所定の範囲内にある遮蔽膜20とスクリーン紗1との密着性が向上しやすくなる。この理由は現在のところ必ずしも明確ではないが、スクリーン紗1の極性比率が高まることにより、表面の極性比率が所定の範囲内にある遮蔽膜20との接触効率が高まるため、遮蔽膜20とスクリーン紗1との密着性が向上すると考えられる。 Even if the surface free energy γs of the surface of the screen ridge 1 is about the same, if the polarity ratio increases, the adhesion between the shielding film 20 having the surface polarity ratio within a predetermined range and the screen ridge 1 is likely to be improved. . The reason for this is not necessarily clear at present, but the contact efficiency with the shielding film 20 whose surface polarity ratio is within a predetermined range is increased by increasing the polarity ratio of the screen 1, so that the shielding film 20 and the screen It is considered that the adhesion with the heel 1 is improved.
スクリーン紗1表面の極性比率は、経糸1a及び緯糸1bを構成する合成繊維に含有され得る後述の極性基を有する化合物の含有量によって調節することができる。遮蔽膜20との密着性を向上するためには、スクリーン紗1表面の極性比率は、15%以上、70%以下であることが必要である。スクリーン紗1表面の極性比率は、より好ましくは20%以上、70%以下であり、さらに好ましくは25%以上、70%以下である。一方、表面の極性比率が15%未満であるスクリーン紗1は、遮蔽膜20との密着性を向上することができない。遮蔽膜20との密着性をさらに向上できる観点から、スクリーン紗1表面の極性比率の下限値は、20%であることがより好ましく、25%であることがさらに好ましい。また、表面の極性比率が70%を超えているスクリーン紗1は、表面の極性比率が15%以上、70%以下である本実施形態のスクリーン紗1と比較して、遮蔽膜20との密着性がさらに向上しない。そのため、スクリーン紗1の強度の低下なども考慮すると、スクリーン紗1表面の極性比率は、70%以下であることが好ましい。 The polarity ratio of the surface of the screen kite 1 can be adjusted by the content of a compound having a polar group, which will be described later, which can be contained in the synthetic fiber constituting the warp 1a and the weft 1b. In order to improve the adhesion to the shielding film 20, the polarity ratio of the surface of the screen ridge 1 needs to be 15% or more and 70% or less. The polarity ratio of the surface of the screen ridge 1 is more preferably 20% or more and 70% or less, and further preferably 25% or more and 70% or less. On the other hand, the screen cage 1 having a surface polarity ratio of less than 15% cannot improve the adhesion with the shielding film 20. From the viewpoint of further improving the adhesion with the shielding film 20, the lower limit value of the polarity ratio on the surface of the screen ridge 1 is more preferably 20%, and further preferably 25%. Further, the screen ridge 1 having a surface polarity ratio exceeding 70% is more closely attached to the shielding film 20 than the screen ridge 1 of the present embodiment having a surface polarity ratio of 15% or more and 70% or less. The property does not improve further. Therefore, in consideration of a decrease in the strength of the screen ridge 1, the polarity ratio of the surface of the screen ridge 1 is preferably 70% or less.
経糸1a及び緯糸1bを構成する合成繊維には、極性基を有する化合物(不図示)を含有することができる。経糸1a及び緯糸1bを構成する合成繊維に含有され得る極性基を有する化合物の状態・形状は、特に限定されず、当業者が適宜設定することができるが、極性基を有する化合物を合成繊維(経糸1aや緯糸1b)の原料に含有させる際には、固体であることが好ましい。極性基を有する化合物を合成繊維(経糸1aや緯糸1b)の原料に含有させる際に、極性基を有する化合物が液体であると、発泡などが起こることがある。なお、極性基を有する化合物は、合成繊維中に存在してもよく、合成繊維の表面に存在してもよい。 The synthetic fiber constituting the warp 1a and the weft 1b can contain a compound having a polar group (not shown). The state and shape of the compound having a polar group that can be contained in the synthetic fiber constituting the warp 1a and the weft 1b are not particularly limited and can be appropriately set by those skilled in the art. When it is contained in the raw material of the warp 1a and the weft 1b), it is preferably a solid. When the compound having a polar group is contained in the raw material of the synthetic fiber (warp 1a or weft 1b), foaming may occur if the compound having a polar group is a liquid. In addition, the compound which has a polar group may exist in a synthetic fiber, and may exist on the surface of a synthetic fiber.
極性基を有する化合物の含有量は、特に限定されず、当業者が適宜設定することができるが、合成繊維全体(100質量%)に対し、0.01質量%以上50質量%以下の範囲であることが好ましい。極性基を有する化合物の含有量を0.01質量%以上とすることで、上記範囲外にある場合と比較して、スクリーン紗1表面の極性比率を高めやすくなる。また、極性基を有する化合物の含有量が50質量%を超える量になると、上記範囲内にある場合と比較して、経糸1aや緯糸1bの強度が低下しやすくなる。 Although content of the compound which has a polar group is not specifically limited, those skilled in the art can set suitably, However, In the range of 0.01 mass% or more and 50 mass% or less with respect to the whole synthetic fiber (100 mass%). Preferably there is. By setting the content of the compound having a polar group to 0.01% by mass or more, the polarity ratio on the surface of the screen basket 1 can be easily increased as compared with the case where the content is outside the above range. Further, when the content of the compound having a polar group exceeds 50% by mass, the strength of the warp 1a and the weft 1b is likely to be reduced as compared with the case where the content is within the above range.
本明細書において、極性基とは、極性を持った官能基のことをいう。極性基を有する化合物としては、特に限定されないが、イソシアネート基、ヒドロキシル基、アミノ基、(メタ)アクロイル基、エポキシ基、チオール基、カルボキシル基、スルホン酸基、酸無水物変性基およびシアノ基からなる群から選択される1種または2種以上の極性基を有する化合物やポリビニルピロリドン(PVP)や第4級アンモニウム塩含有ポリマーを挙げることができる。経糸1aや緯糸1bには、例えば、これらの化合物のうち1種または2種以上の化合物が含有されるようにしてもよい。 In the present specification, the polar group refers to a functional group having polarity. Although it does not specifically limit as a compound which has a polar group, From an isocyanate group, a hydroxyl group, an amino group, a (meth) acryloyl group, an epoxy group, a thiol group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, an acid anhydride modification group, and a cyano group Examples thereof include a compound having one or more polar groups selected from the group consisting of, a polyvinylpyrrolidone (PVP), and a quaternary ammonium salt-containing polymer. The warp 1a and the weft 1b may contain, for example, one or more compounds among these compounds.
イソシアネート基を有する化合物としては、2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレート、1,1−ビス(アクリロイルメチル)エチルイソシアネート、メタクリル酸2−(0−[1’−メチルプロピリデンアミノ]カルボキシアミノ)エチル、2−[(3,5−ジメチルピラゾリル)カルボニルアミノ]エチルメタクリレート、メチレンビス−4−シクロヘキシルイソシアネート、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、イソフォロンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンイソシアネートのビューレット体などのポリイソシアネート、および上記イソシアネートのブロック体、芳香族ジイソシアネート類、例えば、トルエン2,4-ジイソシアネート、トルエン2,6-ジイソシアネート、市販のトルエン2,4-および2,6-ジイソシアネートの混合物(TDI)、n-フェニレンジイソシアネート、3,3'-ジフェニル-4,4'-ビフェニレンジイソシアネート、4,4'-ビフェニレンジイソシアネート、4,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3'-ジクロロ-4,4'-ビフェニレンジイソシアネート、クメン2,4-ジイソシアネート、1,5-ナフタリンジイソシアネート、p-キシリレンジイソシアネート、p-フェニレンジイソシアネート、4-メトキシ-1,3-フェニレンジイソシアネート、4-クロロ-1,3-フェニレンジイソシアネート、4-エトキシ-1,3-フェニレンジイソシアネート、2,4-ジメチレン-1,3-フェニレンジイソシアネート、5,6-ジメチル-1,3-フェニレンジイソシアネート、2,4-ジイソシアナートジフェニルエーテル、脂肪族ジイソシアネート類、例えば、エチレンジイソシアネート、エチリデンジイソシアネート、プロピレン1,2-ジイソシアネート、1,6-ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、1,4-テトラメチレンジイソシアネート、1,10-デカメチレンジイソシアネート、ならびに脂環式ジイソシアネート類、例えば、イソフォロンジイソシアネート(IPDI)、シクロヘキシレン1,2-ジイソシアネート、シクロヘキシレン1,4-ジイソシアネートおよびビス(4,4'-イソシアナートシクロヘキシル)メタンなどを挙げることができる。ポリイソシアネートは、イソシアネート基の反応性が互いに異なることが好ましく、上述したポリイソシアネートのうち、例えば、トルエン2,4-ジイソシアネート、トルエン2,6-ジイソシアネート、4'-ジフェニルメタンジイソシアネート、シス-およびトランス-イソフォロンジイソシアネートであることが好ましい。 Examples of the compound having an isocyanate group include 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate, 1,1-bis (acryloylmethyl) ethyl isocyanate, 2- (0- [1′-methylpropylideneamino] carboxyamino) ethyl methacrylate, 2-[(3,5-dimethylpyrazolyl) carbonylamino] ethyl methacrylate, methylenebis-4-cyclohexyl isocyanate, trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, trimethylolpropane adduct of hexamethylene diisocyanate, trimethylol of isophorone diisocyanate Polyisocyanates such as propane adduct, isocyanurate of tolylene diisocyanate, burette of hexamethylene isocyanate, and the above Block of cyanate, aromatic diisocyanates such as toluene 2,4-diisocyanate, toluene 2,6-diisocyanate, commercially available mixtures of toluene 2,4- and 2,6-diisocyanate (TDI), n-phenylene diisocyanate, 3,3'-diphenyl-4,4'-biphenylene diisocyanate, 4,4'-biphenylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 2,4'-diphenylmethane diisocyanate, 3,3'-dichloro-4,4 ' -Biphenylene diisocyanate, cumene 2,4-diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 4-methoxy-1,3-phenylene diisocyanate, 4-chloro-1,3-phenylene diisocyanate 4-ethoxy-1,3-phenylene diisocyanate, 2,4-dimethylene-1,3-phenylene di- Socyanate, 5,6-dimethyl-1,3-phenylene diisocyanate, 2,4-diisocyanate diphenyl ether, aliphatic diisocyanates such as ethylene diisocyanate, ethylidene diisocyanate, propylene 1,2-diisocyanate, 1,6-hexamethylene Diisocyanate (HDI), 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,10-decamethylene diisocyanate, and alicyclic diisocyanates such as isophorone diisocyanate (IPDI), cyclohexylene 1,2-diisocyanate, cyclohexylene 1,4 -Diisocyanate and bis (4,4'-isocyanatocyclohexyl) methane. The polyisocyanates preferably have different reactivity of isocyanate groups. Among the polyisocyanates mentioned above, for example, toluene 2,4-diisocyanate, toluene 2,6-diisocyanate, 4′-diphenylmethane diisocyanate, cis- and trans- Isophorone diisocyanate is preferred.
ヒドロキシル基を有する化合物としては、ポリエチレングリコール(PEG)およびプロピレングリコール(PG)、トリエタノールアミン、マンニトール、ソルビトール、グリセロール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ジグリセリン、ポリビニルアルコール(PVA)、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール等を挙げることができる。 Examples of the compound having a hydroxyl group include polyethylene glycol (PEG) and propylene glycol (PG), triethanolamine, mannitol, sorbitol, glycerol, ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, glycerin, pentaerythritol, sorbitol, diglycerin, polyvinyl Examples include alcohol (PVA), diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, pentaethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polyethylene oxide, polypropylene glycol, and polybutylene glycol.
アミノ基を有する化合物としては、アミノプロビルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、2,4−又は2,6−トリレンジアミン、キシリレンジアミン及び4,4′−ジフェニルメタンジアミン等の芳香族ジアミン、エチレンジアミン、1,2−プロピレンジアミン、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、1,3−ペンタンジアミン、2−メチル−1,5−ペンタンジアミン、2−ブチル−2−エチル−1,5−ペンタンジアミン、1,6−ヘキサンジアミン、2,2,4−又は2,4,4−トリメチルヘキサンジアミン、1,8−オクタンジアミン、1,9−ノナンジアミン及び1,10−デカンジアミン等の脂肪族ジアミン、1−アミノ−3−アミノメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキサン(IPDA)、4,4′−ジシクロヘキシルメタンジアミン(水添MDA)、イソプロピリデンシクロヘキシル−4,4′−ジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン及び1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン等の脂環族ジアミン等、(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸プロピルアミノエチル、(メタ)アクリル酸ジエチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸フェニルアミノエチル、N−ビニルジエチルアミン、N−アセチルビニルアミン、(メタ)アクリルアミン、N−メチルアクリルアミン、(メタ)アクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、p−アミノスチレン、アルキル(炭素数1〜12)アミン(モノメチルアミン、モノエチルアミン、モノブチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン及びジブチルアミン等)及びポリ(n=2〜6)アルキレン(炭素数2〜6)ポリ(n=3〜7)アミン(ジエチレントリアミン、ジプロピレントリアミン、ジヘキシレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン及びヘキサエチレンヘプタミン等)等、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、エタノールアミン、プロパノールアミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、トルイジン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等の3級アミノ基を有さない第一アミン類、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジメタノールアミン、ジエタノールアミン、ジプロパノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ピペリジン、ピペラジン、ジフェニルアミン、フェニルメチルアミン、フェニルエチルアミン等の3級アミノ基を有さない第二アミン類、トリス(2−アミノエチル)アミン、トリス(3−アミノプロピル)アミン等の1級アミノ基と3級アミノ基とを有するアミン類、2−アミノピリジン、3−アミノピリジン、4−アミノピリジン、2、3−ジアミノピリジン、2,6−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノピリジン、3,5−ジアミノピリジン、ピリジン−2,3,6−トリアミン、2−(メチルアミノ)ピリジン、4−(メチルアミノ)ピリジン、2−メトキシ−6−メチルアミノピリジン等の1級アミノ基、又は2級アミノ基を有するアミノピリジン類、2−アミノ−3−ピコリン、2−アミノ−4−ピコリン、3−アミノ−4−ピコリン、5−アミノ−2−ピコリン、6−アミノ−2−ピコリン、6−アミノ−3−ピコリン等のアミノピコリン類、フェニルグアニジン、アセチルグアニジン、ヒドラジド等のヒドラジド類等、トリメチルアミン、トリエチルアミン、べンジルジメチルアミン、N,N−ジメチル−エチルアミン、N,N−ジメチル−ブチルアミン、N,N−ジメチルデシルアミン、N,N−ジメチル−m−トルイジン、N,N−ジメチル−p−トルイジン、2,6,10−トリメチル−2,6,10−トリアザウンデカン、N,N’−ジメチルピペラジン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1−アザビシクロ[2.2.2]オクタン−3−オン、1、8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7、ヘキサメチレンテトラミン等の3級アミン類、1−メチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1−ビニルイミダゾール、1−アリルイミダゾール、2−メチル−1−ビニルイミダゾール、N−アセチルイミダゾール等のイミダゾール類、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等の芳香族3級アミン類、2−ジメチルアミノピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、2−(N−メチル−2−ピリジルアミノ)エタノール等の3級アミノ基を有するアミノピリジン類等、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、ジエチレントリアミン、トリアミノプロパン、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、2−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン2−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、N−(2−ヒドロキシエチル)プロピレンジアミン、(2−ヒドロキシエチルプロピレン)ジアミン、(ジ−2−ヒドロキシエチルエチレン)ジアミン、(ジ−2−ヒドロキシエチルプロピレン)ジアミン、(2−ヒドロキシプロピルエチレン)ジアミン、(ジ−2−ヒドロキシプロピルエチレン)ジアミン、ピペラジン等の脂肪族ポリアミン、イソホロンジアミン、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジアミン等の脂環式ポリアミン、フェニレンジアミン、キシリレンジアミン、2,4−トリレンジアミン、2,6−トリレンジアミン、ジエチルトルエンジアミン,3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ビス−(sec−ブチル)ジフェニルメタン等の芳香族ジアミン、スルファニル酸、システイン酸等が挙げられる。 Examples of the compound having an amino group include aminopropyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, 2,4- or 2,6-tolylenediamine, xylylenediamine, and 4,4'-diphenylmethanediamine and other aromatic diamines, ethylenediamine, 1 , 2-propylenediamine, 2,2-dimethyl-1,3-propanediamine, 1,3-pentanediamine, 2-methyl-1,5-pentanediamine, 2-butyl-2-ethyl-1,5-pentane Aliphatic diamines such as diamine, 1,6-hexanediamine, 2,2,4- or 2,4,4-trimethylhexanediamine, 1,8-octanediamine, 1,9-nonanediamine and 1,10-decanediamine 1-amino-3-aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexane (IP A), alicyclic diamines such as 4,4'-dicyclohexylmethanediamine (hydrogenated MDA), isopropylidenecyclohexyl-4,4'-diamine, 1,4-diaminocyclohexane and 1,3-bisaminomethylcyclohexane, etc. , Aminoethyl (meth) acrylate, propylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, phenylaminoethyl (meth) acrylate, N-vinyldiethylamine, N-acetylvinylamine, (meth) acrylic Amine, N-methylacrylamine, (meth) acrylamide, N-methylacrylamide, p-aminostyrene, alkyl (C1-C12) amine (monomethylamine, monoethylamine, monobutylamine, dimethylamine, diethylamine and dibutylamine And poly (n = 2-6) alkylene (2-6 carbon atoms) poly (n = 3-7) amine (diethylenetriamine, dipropylenetriamine, dihexylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, penta Ethylenehexamine, hexaethyleneheptamine, etc.), methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, ethanolamine, propanolamine, cyclohexylamine, aniline, toluidine, diaminodiphenylmethane, Primary amines having no tertiary amino group such as diaminodiphenylsulfone, dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, dibutylamine, dipentylamine, Secondary amines having no tertiary amino group such as dihexylamine, dimethanolamine, diethanolamine, dipropanolamine, dicyclohexylamine, piperidine, piperazine, diphenylamine, phenylmethylamine, phenylethylamine, tris (2-aminoethyl) Amines having primary and tertiary amino groups such as amine and tris (3-aminopropyl) amine, 2-aminopyridine, 3-aminopyridine, 4-aminopyridine, 2,3-diaminopyridine, 2 , 6-diaminopyridine, 3,4-diaminopyridine, 3,5-diaminopyridine, pyridine-2,3,6-triamine, 2- (methylamino) pyridine, 4- (methylamino) pyridine, 2-methoxy- Primary amino group such as 6-methylaminopyridine, or 2 Aminopyridines having an amino group, 2-amino-3-picoline, 2-amino-4-picoline, 3-amino-4-picoline, 5-amino-2-picoline, 6-amino-2-picoline, 6- Aminopicolines such as amino-3-picoline, hydrazides such as phenylguanidine, acetylguanidine, hydrazide, etc., trimethylamine, triethylamine, benzyldimethylamine, N, N-dimethyl-ethylamine, N, N-dimethyl-butylamine, N, N-dimethyldecylamine, N, N-dimethyl-m-toluidine, N, N-dimethyl-p-toluidine, 2,6,10-trimethyl-2,6,10-triazaundecane, N, N ′ -Dimethylpiperazine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1-azabicyclo [2.2. ] Octane-3-one, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) -undecene-7, tertiary amines such as hexamethylenetetramine, 1-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1-vinylimidazole , 1-allylimidazole, 2-methyl-1-vinylimidazole, imidazoles such as N-acetylimidazole, aromatics such as 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone Tertiary amines, 2-dimethylaminopyridine, 4-dimethylaminopyridine, aminopyridines having a tertiary amino group such as 2- (N-methyl-2-pyridylamino) ethanol, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, Pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, trie Tylenetetramine, diethylenetriamine, triaminopropane, 2,2,4-trimethylhexamethylenediamine, 2,2,4-trimethylhexamethylenediamine, 2-hydroxyethylethylenediamine, hexamethylenediamine 2-hydroxyethylethylenediamine, N- (2 -Hydroxyethyl) propylenediamine, (2-hydroxyethylpropylene) diamine, (di-2-hydroxyethylethylene) diamine, (di-2-hydroxyethylpropylene) diamine, (2-hydroxypropylethylene) diamine, (di- 2-hydroxypropylethylene) diamine, aliphatic polyamines such as piperazine, alicyclic polyamines such as isophoronediamine, dicyclohexylmethane-4,4′-diamine, phenylenediamine, Lylenediamine, 2,4-tolylenediamine, 2,6-tolylenediamine, diethyltoluenediamine, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-bis- (sec-butyl) diphenylmethane And aromatic diamines such as sulfanilic acid and cysteic acid.
(メタ)アクロイル基を有する化合物としては、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルアクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルメタアクリレート、トリプロピレングリコールメチルアクリレート、トリプロピレングリコールメチルメタアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、トリメチロールプロパンモノホルマルアクリレート、グリセロールモノホルマルアクリレート等が挙げられる。 As a compound having a (meth) acryloyl group, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2,3-dihydroxypropyl acrylate, 2,3-dihydroxy Examples include propyl methacrylate, tripropylene glycol methyl acrylate, tripropylene glycol methyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, trimethylolpropane monoformal acrylate, and glycerol monoformal acrylate.
エポキシ基を有する化合物としては、グリシジルビニルエーテル、グリシジルカルボン酸ビニルエステル、グリシジルアリルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート、ブチルグリシジルエーテル、ペンチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、ヘプチルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、ノニルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル、トリデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテルなどのモノグリシジルエーテル類、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテルなどのジグリシジルエーテル類、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルなどのトリグリシジルエーテル類、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルなどのテトラグリシジルエーテル類、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ジヒドロキシアルカンポリグリシジルエーテル、ポリヒドロキシアルカンポリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテルなどを挙げることができる。 Compounds having an epoxy group include glycidyl vinyl ether, glycidyl carboxylic acid vinyl ester, glycidyl allyl ether, glycidyl (meth) acrylate, butyl glycidyl ether, pentyl glycidyl ether, hexyl glycidyl ether, heptyl glycidyl ether, octyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl Monoglycidyl ethers such as glycidyl ether, nonyl glycidyl ether, decyl glycidyl ether, dodecyl glycidyl ether, tridecyl glycidyl ether, tetradecyl glycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1, 6-hexanediol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl Tetraglycidyl ethers such as ether, triethylene glycol diglycidyl ether, diglycidyl ethers such as tripropylene glycol diglycidyl ether, triglycidyl ethers such as trimethylolethane triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, and tetraglycidyl ethers such as pentaerythritol tetraglycidyl ether Glycidyl ethers, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, diglycerol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, dihydroxyalkane polyglycidyl ether , Polyhide Alkoxy alkane polyglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether.
チオール基を有する化合物としては、(メタ)アクリル酸エステル[ヒドロキシエチルアクリレートのエチレンスフィド1モル付加物、トリエチレングリコールジメルカプタンとアクリル酸とのエステル化物及びアクリル酸へのエチレンスルフィド2モル付加物等]等、1,1,3,3−テトラデカンチオール、1,1,3,3−テトラメチルブタン−1−チオール、1,10−デカンジチオール、1,2−エタンジチオール、1,3−プロパンジチオール、1,4−ブタンジチオール、1,6−ヘキサンジチオール、1,9−ノナンジチオール、1−オクタンチオール、1−デカンチオール、1−ドデカンチオール、1−ブタンチオール、1−ブタンチオール銅(II)塩、1−プロパンチオール、1−ヘキサデカンチオール、1−ヘキサンチオール、1−ヘプタンチオール、1−ペンタンチオール、2−ジエチルアミノエタンチオール塩酸塩、2−ブタンチオール、2−プロパンチオール、2−プロペン−1−チオール、2−メチル−1−プロパンチオール、2−メチル−2−プロパンチオール、2−メチル−2−プロペン−1−チオール、n−ノナンチオール、t−テトラデカンチオール、t−ドデカンチオール、t−ノナンチオール、t−ヘキサデカンチオール、エタンチオール、グルタチオン、還元型グルタチオン、システアミン塩酸塩、システアミン硫酸塩、システイン(L−システイン、D−システインとこれらの混合物)、システイン誘導体(例えば、N−アセチル−L−システイン)、システイン酸、システイン酸エチルエステル塩酸塩、ジチオエリトリトール、チオアセチル酸、チオグリコール酸、チオグリコール酸塩(例えば、チオグリコール酸ナトリウム)、チオリンゴ酸、フェノチオール、メチルメルカプタン、メルカプトアセチル酸、メルカプトエタノールなどの脂肪族化合物、1,2−ベンゼンジチオール、1,3−ベンゼンジチオール、1,4−ベンゼン−ジメタンチオール、2,5−ジクロロベンゼンチオール、2−アミノチオフェノール、2−ナフタレンチオール、2−ブロモチオフェノール、2−メトキシベンゼンチオール、3,4−ジクロロベンゼンチオール、3−フェニル−1−プロパンチオール、3−メトキシベンゼンチオール、4−メトキシ−α−トルエンチオール、4−メトキシベンゼンチオール、o−メルカプト安息香酸、p−クロロフェニルメタンチオール、p−シクロヘキシルメタンチオール、p−メトキシベンジル−S−(4,6−ジメチルピリジン−2−ニル)チオールカーバネート、シクロヘキシルメタンチオール、シクロヘキシルメルカプタン、トリフェニルメタンチオール、トルエン−α−チオールなどの脂環式化合物または芳香族化合物、および1−メチル−1,2,3,4−テトラゾール−5−チオール、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−アミノ−5−メルカプト−1,3,4−チジアゾール、2−アミノ−5−メルカプトピラゾロ[3,4−d]ピリミジン、2−フランメタンチオール、2−メチル−1,3,4−チアゾール−5−チオール、2−メルカプトチアゾリン、2−メルカプトピリジン、2−メルカプトピリミジン、2−メルカプトベンゾキシアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、3−アミノ−1,2,4−トリアゾール−5−チオール、3−メルカプトベンズイミダゾール、6−メルカプトブリンモノ水和物、テトラチアフルバレンなどの複素環式化合物などを挙げることができる。 Examples of the compound having a thiol group include (meth) acrylic acid ester [1 mol adduct of hydroxyethyl acrylate ethylene ester, esterified product of triethylene glycol dimercaptan and acrylic acid, and 2 mol adduct of ethylene sulfide to acrylic acid. Etc.] 1,1,3,3-tetradecanethiol, 1,1,3,3-tetramethylbutane-1-thiol, 1,10-decanedithiol, 1,2-ethanedithiol, 1,3-propane Dithiol, 1,4-butanedithiol, 1,6-hexanedithiol, 1,9-nonanedithiol, 1-octanethiol, 1-decanethiol, 1-dodecanethiol, 1-butanethiol, 1-butanethiol copper (II ) Salt, 1-propanethiol, 1-hexadecanethiol, 1-hexa Thiol, 1-heptanethiol, 1-pentanethiol, 2-diethylaminoethanethiol hydrochloride, 2-butanethiol, 2-propanethiol, 2-propene-1-thiol, 2-methyl-1-propanethiol, 2-methyl 2-propanethiol, 2-methyl-2-propene-1-thiol, n-nonanethiol, t-tetradecanethiol, t-dodecanethiol, t-nonanethiol, t-hexadecanethiol, ethanethiol, glutathione, reduced form Glutathione, cysteamine hydrochloride, cysteamine sulfate, cysteine (L-cysteine, D-cysteine and mixtures thereof), cysteine derivatives (eg, N-acetyl-L-cysteine), cysteic acid, cysteic acid ethyl ester hydrochloride, dithio Erythritol Aliphatic compounds such as thioacetyl acid, thioglycolic acid, thioglycolate (for example, sodium thioglycolate), thiomalic acid, phenothiol, methyl mercaptan, mercaptoacetyl acid, mercaptoethanol, 1,2-benzenedithiol, 1, 3-benzenedithiol, 1,4-benzene-dimethanethiol, 2,5-dichlorobenzenethiol, 2-aminothiophenol, 2-naphthalenethiol, 2-bromothiophenol, 2-methoxybenzenethiol, 3,4- Dichlorobenzenethiol, 3-phenyl-1-propanethiol, 3-methoxybenzenethiol, 4-methoxy-α-toluenethiol, 4-methoxybenzenethiol, o-mercaptobenzoic acid, p-chlorophenylmethanethiol, p-si Alicyclic such as cyclohexylmethanethiol, p-methoxybenzyl-S- (4,6-dimethylpyridin-2-nyl) thiol carbonate, cyclohexylmethanethiol, cyclohexylmercaptan, triphenylmethanethiol, toluene-α-thiol Compound or aromatic compound, and 1-methyl-1,2,3,4-tetrazole-5-thiol, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-amino-5-mercapto-1,3 , 4-thiazole, 2-amino-5-mercaptopyrazolo [3,4-d] pyrimidine, 2-furanmethanethiol, 2-methyl-1,3,4-thiazole-5-thiol, 2-mercaptothiazoline, 2-mercaptopyridine, 2-mercaptopyrimidine, 2-mercaptobenzoxyazo And heterocyclic compounds such as 2-mercaptobenzothiazole, 3-amino-1,2,4-triazole-5-thiol, 3-mercaptobenzimidazole, 6-mercaptobrin monohydrate, tetrathiafulvalene, etc. Can be mentioned.
カルボキシル基を有する化合物としては、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、シトラコン酸、ウンデシレン酸、クロトン酸、イタコン酸、ギ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、グリコール酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、乳酸、グリセリン酸、タルトロン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、アジピン酸、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、1,3−アセトンジカルボン酸、1,3−アダマンタン二酢酸、1,3−アダマンタンジカルボン酸、フェニルマロン酸、テトラブロモテレフタル酸、アゼライン酸、ベンジルマロン酸、ビフェニル−4,4’−ジカルボン酸、テトラフルオロイソフタル酸、2,2’−ビピリジン−4,4’−ジカルボン酸、2−ブロモテレフタル酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、5−tert−ブチルイソフタル酸、ブチルマロン酸、クロロコハク酸、4,4’−スルホニル二安息香酸、テトラフルオロテレフタル酸、3−チオフェンマロン酸、1,1−シクロヘキサン二酢酸、trans−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、テレフタル酸、1,2,3−トリアゾール−4,5−ジカルボン酸、ビス(カルボキシメチル)トリチオカルボネート、1,3,5−シクロヘキサントリカルボン酸、1,4,8,11−テトラアザシクロテトラデカン−1,4,8,11−テトラ酢酸、cis,cis−1,3,5−トリメチルシクロヘキサン−1,3,5−トリカルボン酸、シクロヘキシルコハク酸、trans−1,2−シクロペンタンジカルボン酸、ジブロモマレイン酸、メサコン酸、meso−2,3−ジブロモコハク酸、4,5−ジクロロフタル酸、ジエチルマロン酸、2−メトキシイソフタル酸、2−メトキシイソフタル酸、6−メチルピリジン−2,3−ジカルボン酸、3,4−ジヒドロキシヒドロケイ皮酸、2,5−ジヒドロキシテレフタル酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4’−オキシビス(安息香酸)、ジフェン酸、ドコサン二酸、ペルフルオログルタル酸、エチルマロン酸、3−フルオロフタル酸、3−フルオロフタル酸、5−ノルボルネンカルボン酸、trans−グルタコン酸、ヘキサデカン二酸、5−(オクタデシルオキシ)イソフタル酸、3−フェニルグルタル酸、2,2’−イミノ二安息香酸、ウンデカン二酸、1,4−フェニレンジプロピオン酸などを挙げることができる。 As the compound having a carboxyl group, (meth) acrylic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, citraconic acid, undecylenic acid, crotonic acid, itaconic acid, formic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, Glycolic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, lactic acid, glyceric acid, tartronic acid, malic acid, tartaric acid, citric acid, adipic acid, acetic acid, propionic acid, Butanoic acid, pentanoic acid, hexanoic acid, heptanoic acid, 1,3-acetone dicarboxylic acid, 1,3-adamantane diacetic acid, 1,3-adamantane dicarboxylic acid, phenylmalonic acid, tetrabromoterephthalic acid, azelaic acid, benzylmalon Acid, biphenyl-4,4'-dicarboxylic acid, tetrafluoroiso Taric acid, 2,2′-bipyridine-4,4′-dicarboxylic acid, 2-bromoterephthalic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, 5-tert-butylisophthalic acid, butylmalonic acid, chlorosuccinic acid Acid, 4,4′-sulfonyldibenzoic acid, tetrafluoroterephthalic acid, 3-thiophenmalonic acid, 1,1-cyclohexanediacetic acid, trans-1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, terephthalic acid Acid, 1,2,3-triazole-4,5-dicarboxylic acid, bis (carboxymethyl) trithiocarbonate, 1,3,5-cyclohexanetricarboxylic acid, 1,4,8,11-tetraazacyclotetradecane- 1,4,8,11-tetraacetic acid, cis, cis-1,3,5-trimethylcyclohexane- , 3,5-tricarboxylic acid, cyclohexylsuccinic acid, trans-1,2-cyclopentanedicarboxylic acid, dibromomaleic acid, mesaconic acid, meso-2,3-dibromosuccinic acid, 4,5-dichlorophthalic acid, diethylmalon Acid, 2-methoxyisophthalic acid, 2-methoxyisophthalic acid, 6-methylpyridine-2,3-dicarboxylic acid, 3,4-dihydroxyhydrocinnamic acid, 2,5-dihydroxyterephthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid Acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4,4′-oxybis (benzoic acid), diphenic acid, docosanedioic acid, perfluoroglutaric acid, ethylmalonic acid, 3-fluorophthalic acid, 3-fluorophthalic acid, 5- Norbornenecarboxylic acid, trans-glutaconic acid, hexadecanedioic acid, 5- (octa Decyloxy) isophthalic acid, 3-phenylglutaric acid, 2,2'-iminodibenzoic acid, undecanedioic acid, 1,4-phenylenedipropionic acid and the like.
スルホン酸基を有する化合物としては、パラフィン(例えば炭素数8〜22)スルホン酸、アルキル(例えば炭素数8〜12)ベンゼンスルホン酸、アルキル(例えば炭素数8〜12)ベンゼンスルホン酸のホルマリン縮合物、クレゾールスルホン酸のホルマリン縮合物、α−オレフィン(例えば炭素数8〜16)スルホン酸、ジアルキル(例えば炭素数8〜12)スルホコハク酸、リグニンスルホン酸、ポリオキシエチレン(モノまたはジ)アルキル(例えば炭素数8〜12)フェニルエーテルスルホン酸、ポリオキシエチレンアルキル(例えば炭素数8〜18)エーテルスルホコハク酸ハーフエステル、ナフタレンスルホン酸、(モノまたはジ)アルキル(例えば炭素数1〜6)ナフタレンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物、(モノまたはジ)アルキル(例えば炭素数1〜6)ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物、クレオソート油スルホン酸のホルマリン縮合物、アルキル(例えば炭素数8〜12)ジフェニルエーテルジスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、スチレンスルホン酸とメタアクリル酸の共重合物、フェノールスルホン酸、クレゾールスルホン酸、キシレノールスルホン酸、スルファニル酸、ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、スチロールスルホン酸、アクリル酸−3−スルホン酸プロピルエステル、システイン酸等を挙げることができる。 Examples of the compound having a sulfonic acid group include paraffin (for example, carbon number 8-22) sulfonic acid, alkyl (for example, carbon number 8-12) benzenesulfonic acid, alkyl (for example, carbon number 8-12) benzenesulfonic acid formalin condensate. , Formalin condensate of cresol sulfonic acid, α-olefin (e.g. 8 to 16 carbon atoms) sulfonic acid, dialkyl (e.g. 8 to 12 carbon atoms) sulfosuccinic acid, lignin sulfonic acid, polyoxyethylene (mono or di) alkyl (e.g. C8-12) phenyl ether sulfonic acid, polyoxyethylene alkyl (for example, C8-18) ether sulfosuccinic acid half ester, naphthalenesulfonic acid, (mono or di) alkyl (for example, C1-6) naphthalenesulfonic acid Naphthalene sulfonic acid formal Condensate, (mono or di) alkyl (eg 1 to 6 carbons) formalin condensate of naphthalenesulfonic acid, creosote oil sulfonic acid formalin condensate, alkyl (eg 8 to 12 carbons) diphenyl ether disulfonic acid, polystyrene sulfone Acid, copolymer of styrene sulfonic acid and methacrylic acid, phenol sulfonic acid, cresol sulfonic acid, xylenol sulfonic acid, sulfanilic acid, vinyl sulfonic acid, allyl sulfonic acid, styrene sulfonic acid, acrylic acid-3-sulfonic acid propyl ester And cysteic acid.
酸無水物変性基を有する化合物としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル等を挙げることができる。 Examples of the compound having an acid anhydride modifying group include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, benzyl acrylate, acrylate, methacrylic acid, and the like. Mention may be made of methacrylic acid esters such as methyl, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate and benzyl methacrylate.
シアノ基を有する化合物としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、α−フルオロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等を挙げることができる。 Examples of the compound having a cyano group include acrylonitrile, methacrylonitrile, ethacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, α-fluoroacrylonitrile, vinylidene cyanide and the like.
第4級アンモニウム塩含有ポリマーとしては、大成ファインケミカル株式会社製、アクリット(登録商標)8WXシリーズ、1WXシリーズなど挙げることができる。 Examples of the quaternary ammonium salt-containing polymer include Taisei Fine Chemical Co., Ltd., Acryt (registered trademark) 8WX series, 1WX series, and the like.
スクリーン紗1表面の極性比率は、合成繊維(経糸1a及び緯糸1b)に極性基を有する化合物を含有させる以外に、スクリーン紗1に対して、α線や、β線や、γ線や、電子線を所定の条件で照射する方法(放射線照射法)や、紫外線を所定の条件で照射する方法(紫外線(UV)法)や、コロナを所定の条件で照射する方法(コロナ放電法)や、グロー放電により発生するプラズマを所定の条件で照射する方法(プラズマ法)により、上述した所定の範囲内(15%以上70%以下)にすることができる。なお、これらの方法は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いることもできる。 The polarity ratio on the surface of the screen ridge 1 is that the synthetic fiber (the warp 1a and the weft 1b) contains a compound having a polar group, with respect to the screen ridge 1, α rays, β rays, γ rays, electrons A method of irradiating a line under a predetermined condition (radiation irradiation method), a method of irradiating an ultraviolet ray under a predetermined condition (ultraviolet (UV) method), a method of irradiating a corona under a predetermined condition (corona discharge method), By the method (plasma method) of irradiating plasma generated by glow discharge under a predetermined condition, it can be within the predetermined range (15% or more and 70% or less). In addition, these methods may be used independently and can also be used in combination of 2 or more type.
スクリーン紗1の製造方法は、特に限定されない。例えば、表面の極性比率が15%以上70%以下の範囲内にある合成繊維を、経糸1a及び緯糸1bとして所定の織組成に製織する方法や、表面の極性比率が15%以上70%以下の範囲外にある合成繊維を、経糸1a及び緯糸1bとして所定の織組成に製織し、得られた織物に対し、極性基を有する化合物を付与(例えば、付着)したり、α線や、β線や、γ線や、電子線や、紫外線や、コロナや、プラズマを所定の条件で照射したりして、スクリーン紗1表面の極性比率を15%以上70%以下とする方法などにより製造することができる。 The manufacturing method of the screen basket 1 is not specifically limited. For example, a method of weaving synthetic fibers having a surface polarity ratio in the range of 15% to 70% as a warp 1a and a weft 1b in a predetermined woven composition, or a surface polarity ratio of 15% to 70%. Synthetic fibers outside the range are woven in a predetermined woven composition as warp 1a and weft 1b, and a compound having a polar group is imparted (for example, attached) to the obtained woven fabric, or α rays or β rays are added. Or by irradiating γ rays, electron beams, ultraviolet rays, corona, or plasma under predetermined conditions to make the polarity ratio of the surface of the screen 1 15% to 70%. Can do.
次に、スクリーン紗1を用いて、スクリーン版100を製造する方法について、図3〜図8を用いて説明する。図3は、スクリーン版100を製造する際の各処理の手順を示すフローチャートであり、図4〜図8は、スクリーン版100を製造する際の各処理を説明する図である。 Next, a method for manufacturing the screen plate 100 using the screen rod 1 will be described with reference to FIGS. FIG. 3 is a flowchart showing a procedure of each process when the screen plate 100 is manufactured, and FIGS. 4 to 8 are diagrams illustrating each process when the screen plate 100 is manufactured.
ステップS100の処理では、図4に示すように、所定の張力が加えられた状態でスクリーン紗1を版枠2に張る。版枠2は、矩形状のフレームであり、例えば、金属、鋳物、樹脂、木材により構成することができる。 In the process of step S100, as shown in FIG. 4, the screen ridge 1 is stretched on the plate frame 2 in a state where a predetermined tension is applied. The plate frame 2 is a rectangular frame and can be made of, for example, metal, casting, resin, or wood.
版枠2にスクリーン紗1を張るには、紗張機を使用することができる。具体的には、スクリーン紗1の4辺方向における部位を、それぞれ紗張機のクランプにて挟持し、このクランプを機械式や空気の圧力を利用して引っ張り、所定の張力、所定のバイアス角度に調節し、所定の張力が加わった状態でスクリーン紗1を版枠2に固定する。その後、版枠2の外周に沿ってスクリーン紗1を切断する。スクリーン紗1に加える所定の張力としては、例えば、21N/cm〜36N/cmの範囲とすることができる。なお、バイアス角度とは、経糸1a又は緯糸1bと版枠2とがなす角度のうち、鋭角側の角度をいう。 A tensioner can be used to stretch the screen 1 on the plate frame 2. Specifically, each of the four sides of the screen rod 1 is clamped by a clamp of a tensioner, and this clamp is pulled using a mechanical type or air pressure to obtain a predetermined tension and a predetermined bias angle. The screen ridge 1 is fixed to the plate frame 2 in a state where a predetermined tension is applied. Thereafter, the screen ridge 1 is cut along the outer periphery of the plate frame 2. As predetermined | prescribed tension | tensile_strength applied to the screen rod 1, it can be set as the range of 21 N / cm-36 N / cm, for example. The bias angle refers to an acute angle among the angles formed by the warp 1a or the weft 1b and the plate frame 2.
スクリーン紗1を版枠2に固定する手段としては、接着剤を用いることができる。接着剤としては、ゴム系、エポキシ系、ウレタン系、シアノアクリレート系の接着剤を挙げることができるが、本実施形態では特に制限は無く、スクリーン紗1の材料と版枠2の材料、使用するインク12に含有される溶剤などを考慮して選定すればよい。なお、インク12としては、着色や発色を目的とした塗料に限られず、電極や誘電体などの電子部品の形成を目的とした電子部品の原料を用いることができ、例えば、液状やペースト状とすることができる。 As a means for fixing the screen ridge 1 to the plate frame 2, an adhesive can be used. Examples of the adhesive include rubber-based, epoxy-based, urethane-based, and cyanoacrylate-based adhesives, but there is no particular limitation in the present embodiment, and the material for the screen ridge 1 and the material for the plate frame 2 are used. The selection may be made in consideration of the solvent contained in the ink 12. The ink 12 is not limited to a paint intended for coloring or color development, and can use raw materials for electronic parts for the purpose of forming electronic parts such as electrodes and dielectrics. can do.
スクリーン紗1に加えられる所定の張力は、遮蔽膜20により形成される開口20aに充填されてスクリーン紗1の一部の領域により保持されたインク12を、被印刷物に転移する際に、被印刷物に接触しているスクリーン紗1が被印刷物から離れる、いわゆる版離れに重要な因子である。所定の張力が小さいと、版離れが適切に行われず、インク12の転移が不均一となり印刷塗膜の膜厚がばらつく等、印刷精度が低下しやすい。版離れが適切に行われる所定の張力としては、スクリーン紗1の単位幅当たり21N/cm以上が必要とされるため、スクリーン紗1を版枠2に張る工程や印刷の各工程において、糸切れやスクリーン紗1の破断が生じないよう、スクリーン紗1の破断強度としては、40N/cm以上であることが好ましい。なお、破断強度は、JIS L1096に準じて測定することができる。 The predetermined tension applied to the screen ridge 1 is such that when the ink 12 filled in the opening 20a formed by the shielding film 20 and held by a part of the area of the screen ridge 1 is transferred to the substrate, the substrate This is an important factor for so-called plate separation, in which the screen ridge 1 that is in contact with the substrate is separated from the substrate. When the predetermined tension is small, the plate separation is not performed properly, the transfer of the ink 12 is non-uniform, and the printing film thickness varies, and the printing accuracy tends to be lowered. As the predetermined tension at which the plate separation is appropriately performed, 21 N / cm or more per unit width of the screen ridge 1 is required. Therefore, in each process of stretching the screen ridge 1 on the plate frame 2 and each printing step, the yarn breakage In addition, the breaking strength of the screen ridge 1 is preferably 40 N / cm or more so that the screen ridge 1 does not break. The breaking strength can be measured according to JIS L1096.
ステップS101の処理では、図5に示すように、版枠2に張られたスクリーン紗1の表面に樹脂膜10を形成する。樹脂膜10は、後述するステップS102〜S104の工程を経て、遮蔽膜20を構成する。樹脂膜10の上面10dは、スクリーン紗1の上面1dよりもZ軸方向上方に設けることができ、樹脂膜10の下面10eは、スクリーン紗1の下面1eよりもZ軸方向下方に設けることができる。なお、スクリーン紗1の下面1eに設けられる樹脂膜10とスクリーン紗1の上面1dに設けられる樹脂膜10は、スクリーン紗1の開口部1cを通じて繋がっていてもよい。スクリーン紗1の上面1dは、スクリーン紗1の表面のうち、遮蔽膜20により形成される開口20aに充填されてスクリーン紗1の一部の領域により保持されたインク12を被印刷物に転移するときに用いられるヘラ(例えば、スキージー)が接触する面であり、スクリーン紗1の下面1dは、スクリーン紗1の表面のうち、遮蔽膜20により形成される開口20aに充填されてスクリーン紗1の一部の領域により保持されたインク12を被印刷物に転移するときに被印刷物が接触する面である。 In the process of step S101, as shown in FIG. 5, the resin film 10 is formed on the surface of the screen ridge 1 stretched on the plate frame 2. The resin film 10 constitutes the shielding film 20 through steps S102 to S104 described later. The upper surface 10d of the resin film 10 can be provided above the upper surface 1d of the screen ridge 1 in the Z-axis direction, and the lower surface 10e of the resin film 10 can be provided below the lower surface 1e of the screen ridge 1 in the Z-axis direction. it can. The resin film 10 provided on the lower surface 1e of the screen bottle 1 and the resin film 10 provided on the upper surface 1d of the screen bottle 1 may be connected through the opening 1c of the screen bottle 1. The upper surface 1d of the screen ridge 1 is filled with the opening 20a formed by the shielding film 20 in the surface of the screen ridge 1 and transfers the ink 12 held by a part of the area of the screen ridge 1 to the printed material. The lower surface 1d of the screen ridge 1 is filled in the opening 20a formed by the shielding film 20 in the surface of the screen ridge 1 so as to be a part of the screen ridge 1. This is a surface on which the printed material comes into contact when the ink 12 held by the area of the portion is transferred to the printed material.
樹脂膜10としては、例えば、光の照射によって硬化する感光性樹脂(フォトレジスト)を用いることができる。感光性樹脂としては、ジアゾ系、ラジカル系、スチルバソ系などを使用することができ、使用できる感光性樹脂は、硬化機構によって限定されない。また、感光性樹脂は、樹脂膜10を形成することができればよく、樹脂膜10の形成前の形態についても限定されない。例えば、液体や固体(フィルム)の形態で用いることができる。液体の感光性樹脂を用いる場合、例えば、溶媒を含む液体の感光性樹脂をスクリーン紗1の上面1d及び下面1eに塗布し、これを乾燥して溶媒を蒸発・除去する方法により、樹脂膜10を形成することができる。樹脂膜10のZ軸方向における厚さは、塗布及び乾燥を繰り返すことにより調整することができる。 As the resin film 10, for example, a photosensitive resin (photoresist) that is cured by light irradiation can be used. As the photosensitive resin, diazo type, radical type, stilbazo type and the like can be used, and the photosensitive resin that can be used is not limited by the curing mechanism. Moreover, the photosensitive resin should just be able to form the resin film 10, and the form before formation of the resin film 10 is not limited. For example, it can be used in the form of liquid or solid (film). In the case of using a liquid photosensitive resin, for example, a resin film 10 is applied by a method in which a liquid photosensitive resin containing a solvent is applied to the upper surface 1d and the lower surface 1e of the screen 1 and dried to evaporate and remove the solvent. Can be formed. The thickness of the resin film 10 in the Z-axis direction can be adjusted by repeating application and drying.
樹脂膜10の厚さは、薄膜の印刷塗膜を形成しやすくする観点では、薄い方が好ましいが、遮蔽膜20を安定して形成できることや、遮蔽膜20の耐久性を維持できることや、遮蔽膜20により形成される開口20aに充填されたインク12の広がりを制御するシール性を維持できることなどを考慮して決定することができる。厚さが薄い樹脂膜10は、強度が低いため、開口20aを形成するときに水やエアーの吹き付けによって樹脂膜10を除去する場合、マスク11によって覆われていない樹脂膜10の領域も除去される可能性が有る。また、印刷した所定の印刷パターンの滲みを抑えるためには、遮蔽膜20の厚さは、厚い方が好ましい。このような観点から、樹脂膜10の厚さは、1μm以上10μm以下が好ましく、2μm以上7μm以下がより好ましく、3μm以上5μm以下がさらに好ましい。なお、遮蔽膜20の厚さは、樹脂膜10と同様に、前述した厚さとすることができる。ここで、樹脂膜10(遮蔽膜20)の厚さとは、スクリーン紗1の厚さtに加算される分の厚さであり、樹脂膜10(遮蔽膜20)を含むスクリーン紗1の厚さからスクリーン紗1のみの厚さtを減じた値(本実施形態では、上面1dと下面1eに形成された樹脂膜10(遮蔽膜20)の厚さの合計)をいう。また、スクリーン紗1の上面1dに形成される樹脂膜10(遮蔽膜20)の厚さは、例えば0〜2μmとすることができる。 The thickness of the resin film 10 is preferably thin from the viewpoint of facilitating the formation of a thin printed film, but the shielding film 20 can be formed stably, the durability of the shielding film 20 can be maintained, and the shielding This can be determined in consideration of the fact that the sealing property for controlling the spread of the ink 12 filled in the opening 20a formed by the film 20 can be maintained. Since the resin film 10 having a small thickness has low strength, when the resin film 10 is removed by spraying water or air when forming the opening 20a, the region of the resin film 10 not covered by the mask 11 is also removed. There is a possibility. Moreover, in order to suppress bleeding of a predetermined printed pattern that has been printed, it is preferable that the shielding film 20 is thick. From such a viewpoint, the thickness of the resin film 10 is preferably 1 μm or more and 10 μm or less, more preferably 2 μm or more and 7 μm or less, and further preferably 3 μm or more and 5 μm or less. Note that the thickness of the shielding film 20 can be set to the thickness described above, as with the resin film 10. Here, the thickness of the resin film 10 (the shielding film 20) is a thickness that is added to the thickness t of the screen casing 1, and the thickness of the screen casing 1 including the resin film 10 (the shielding film 20). Is a value obtained by subtracting the thickness t of only the screen ridge 1 (in this embodiment, the total thickness of the resin film 10 (shielding film 20) formed on the upper surface 1d and the lower surface 1e). Moreover, the thickness of the resin film 10 (shielding film 20) formed on the upper surface 1d of the screen rod 1 can be set to, for example, 0 to 2 μm.
なお、スクリーン紗1において、樹脂膜10の上面10dは、スクリーン紗1の上面1dよりもZ軸方向上方に設けられ、樹脂膜10の下面10eは、スクリーン紗1の下面1eよりもZ軸方向下方に設けられているが、樹脂膜10の上面10dについては、スクリーン紗1の上面1dよりも上方に設けられていなくてもよい。遮蔽膜20との密着性の向上、遮蔽膜20の耐久性の向上の観点からは、樹脂膜10は、図5に示すように、上面10dが上面1dよりも上方に設けられ、下面10eが下面1eよりも下方に設けられていることが好ましい。 In the screen ridge 1, the upper surface 10 d of the resin film 10 is provided above the upper surface 1 d of the screen ridge 1 in the Z-axis direction, and the lower surface 10 e of the resin film 10 is higher than the lower surface 1 e of the screen ridge 1 in the Z-axis direction. Although provided below, the upper surface 10d of the resin film 10 does not have to be provided above the upper surface 1d of the screen cage 1. From the viewpoint of improving the adhesion with the shielding film 20 and improving the durability of the shielding film 20, the resin film 10 has an upper surface 10d provided above the upper surface 1d and a lower surface 10e as shown in FIG. It is preferable to be provided below the lower surface 1e.
上述した感光性樹脂としては、ジアゾ樹脂を架橋剤とするタイプや、スチリルピリジニウム(SBQ)を付加したポリビニルアルコール(PVA)を用いるタイプや、アクリロイル基やアクリルアミド基の重合架橋反応を利用するタイプの感光性樹脂を用いることができる。これらの感光性樹脂は、単独または2種以上を組み合わせて用いることができる。 As the photosensitive resin described above, a type using a diazo resin as a cross-linking agent, a type using polyvinyl alcohol (PVA) added with styrylpyridinium (SBQ), or a type using a polymerization cross-linking reaction of an acryloyl group or an acrylamide group. A photosensitive resin can be used. These photosensitive resins can be used alone or in combination of two or more.
ステップS102の処理では、図6に示すように、所定の印刷パターンに対応する形状のマスク11を、樹脂膜10の上面10dに貼り付ける。マスク11としては、フィルムやガラスを用いることができる。 In the process of step S102, as shown in FIG. 6, a mask 11 having a shape corresponding to a predetermined print pattern is attached to the upper surface 10d of the resin film 10. As the mask 11, a film or glass can be used.
ステップS103の処理では、図7に示すように、スクリーン紗1の上方から、マスク11が貼り付けられた樹脂膜10に対して紫外線を照射して照射部分を硬化させる。なお、紫外線は、可視光であってもよい。 In the process of step S103, as shown in FIG. 7, the irradiated portion is cured by irradiating ultraviolet rays onto the resin film 10 to which the mask 11 is attached from above the screen ridge 1. The ultraviolet light may be visible light.
ステップS104の処理では、紫外線が照射された樹脂膜10を現像し、図8に示すように、マスク11とマスク11で覆われた樹脂膜10の領域とを除去する。マスク11で覆われた樹脂膜10の領域が除去されることで、所定の印刷パターンに対応する形状の開口20aが形成される。また、残存する樹脂膜10により遮蔽膜20が構成される。遮蔽膜20は、スクリーン印刷を行う際、被印刷物における印刷パターンを形成する領域以外の領域を覆う。 In the process of step S104, the resin film 10 irradiated with ultraviolet rays is developed, and the mask 11 and the region of the resin film 10 covered with the mask 11 are removed as shown in FIG. By removing the region of the resin film 10 covered with the mask 11, an opening 20a having a shape corresponding to a predetermined printing pattern is formed. Further, the shielding film 20 is constituted by the remaining resin film 10. When the screen printing is performed, the shielding film 20 covers a region other than a region where a print pattern is formed on the printing material.
これらのステップS100〜S104の処理により、図8や図9に示すように、スクリーン版100を製造することができる。スクリーン印刷は、開口20aにインク12を充填し、スクリーン紗1の一部の領域により保持されたインク12を被印刷物に転移することにより行うことができる。図8及び図9では、遮蔽膜20に形成される5つの開口20aのうち1つの開口20aにおいて、インク12が充填された状態を示している。 By the processing of these steps S100 to S104, the screen plate 100 can be manufactured as shown in FIGS. Screen printing can be performed by filling the opening 20a with the ink 12 and transferring the ink 12 held by a partial region of the screen basket 1 to the substrate. 8 and 9 show a state where one of the five openings 20a formed in the shielding film 20 is filled with the ink 12.
なお、上述したステップS102〜ステップS104の処理では、マスク11で覆われた樹脂膜10の領域を除去して開口20aを形成しているが、樹脂膜10の種類や現像液の種類を変更することにより、マスク11で覆われた樹脂膜10の領域を残し、マスク11で覆われていない樹脂膜10の領域を除去して開口20aを形成することもできる。 In the above-described processing of step S102 to step S104, the region of the resin film 10 covered with the mask 11 is removed to form the opening 20a. However, the type of the resin film 10 and the type of the developer are changed. Thus, the region of the resin film 10 covered with the mask 11 is left, and the region of the resin film 10 not covered with the mask 11 can be removed to form the opening 20a.
また、上述したステップS102の処理では、樹脂膜10の上面10dにマスク11を貼り付けているが樹脂膜10の下面10eにマスク11を貼り付けてもよい。樹脂膜10の下面10eにマスク11が貼り付けられる場合、ステップS103の処理では、スクリーン紗1の下方から、マスク11が貼り付けられた樹脂膜10に対して紫外線を照射することができる。 Further, in the process of step S102 described above, the mask 11 is attached to the upper surface 10d of the resin film 10, but the mask 11 may be attached to the lower surface 10e of the resin film 10. When the mask 11 is affixed to the lower surface 10e of the resin film 10, in the process of step S103, the resin film 10 to which the mask 11 is affixed can be irradiated with ultraviolet rays from below the screen cage 1.
ここで、スクリーン紗1に形成される遮蔽膜20の表面は、極性比率が10%以上、50%以下である。遮蔽膜20の表面の極性比率が10%以上、50%以下であると、スクリーン紗1と遮蔽膜20との密着性が向上する。一方、遮蔽膜20の表面の極性比率が10%未満である場合や50%を超える場合、スクリーン紗1との密着性を向上することができない。また、遮蔽膜20の表面の極性比率が60%超であると、遮蔽膜20の物性等が変化し易くなり、例えば、インク12に遮蔽膜20に含有される成分が溶出しやすくなる。 Here, the polarity ratio of the surface of the shielding film 20 formed on the screen ridge 1 is 10% or more and 50% or less. When the polarity ratio of the surface of the shielding film 20 is 10% or more and 50% or less, the adhesion between the screen basket 1 and the shielding film 20 is improved. On the other hand, when the polarity ratio of the surface of the shielding film 20 is less than 10% or exceeds 50%, the adhesion with the screen ridge 1 cannot be improved. Further, when the polarity ratio of the surface of the shielding film 20 is more than 60%, the physical properties of the shielding film 20 are likely to change, and for example, the components contained in the shielding film 20 are likely to be eluted into the ink 12.
遮蔽膜20の表面の極性比率は、遮蔽膜20を構成する材料の種類を調整したり、遮蔽膜20を構成する材料の含有割合を調整したりすることなどにより、上記範囲内(10%以上50%以下)にすることができる。また、例えば、遮蔽膜20に対して、α線や、β線や、γ線や、電子線や、紫外線や、コロナや、プラズマを所定の条件で照射することにより上記範囲内とすることができる。 The polarity ratio of the surface of the shielding film 20 is within the above range (10% or more) by adjusting the type of the material constituting the shielding film 20 or adjusting the content ratio of the material constituting the shielding film 20. 50% or less). In addition, for example, the shielding film 20 may be set within the above range by irradiating α rays, β rays, γ rays, electron beams, ultraviolet rays, corona, or plasma under predetermined conditions. it can.
以上説明したように、本実施形態のスクリーン版100では、表面の極性比率が所定の範囲(15%以上、70%以下)内にあるスクリーン紗1に、表面の極性比率が所定の範囲(10%以上、50%以下)内にある遮蔽膜20が形成されているため、スクリーン紗1と遮蔽膜20との密着性が向上している。スクリーン紗1と遮蔽膜20との密着性をさらに向上する観点からは、スクリーン紗1表面の極性比率が遮蔽膜20表面の極性比率よりも大きいこと、つまり、遮蔽膜20表面の極性比率に対するスクリーン紗1表面の極性比率の割合(スクリーン紗1表面の極性比率/遮蔽膜20表面の極性比率)が1を超えていることが好ましい。遮蔽膜20表面の極性比率に対するスクリーン紗1表面の極性比率の割合の上限は、特に限定されないが、例えば、6以下とすることができる。 As described above, in the screen plate 100 of the present embodiment, the surface polarity ratio is within a predetermined range (10%) on the screen ridge 1 in which the surface polarity ratio is within a predetermined range (15% or more and 70% or less). % Or more and 50% or less), the adhesion between the screen ridge 1 and the shielding film 20 is improved. From the viewpoint of further improving the adhesion between the screen ridge 1 and the shielding film 20, the polarity ratio of the surface of the screen ridge 1 is larger than the polarity ratio of the surface of the shielding film 20, that is, the screen with respect to the polarity ratio of the surface of the shielding film 20 It is preferable that the ratio of the polarity ratio on the surface of 紗 1 (the polarity ratio of the surface of the screen 紗 1 / the polarity ratio of the surface of the shielding film 20) exceeds 1. The upper limit of the ratio of the polarity ratio of the surface of the screen 1 to the polarity ratio of the surface of the shielding film 20 is not particularly limited, but can be, for example, 6 or less.
次に、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。 Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to only these examples.
(実施例1)
合成繊維モノフィラメントとして、ポリアリレート(液晶ポリエステル)からなる芯部分と、熱可塑性ポリマーを海部分の成分とし、ポリアリレート(液晶ポリエステル)を島部分の成分として構成された鞘部分と、からなる、直径23μmの芯鞘型複合繊維(株式会社クラレ製・製品名Vecry)を用意した。この合成繊維を経糸1a及び緯糸1bとして、経糸1a、緯糸1bとも330メッシュの密度で平織りに製織し、スクリーン紗1を得た。
Example 1
The synthetic fiber monofilament has a core portion made of polyarylate (liquid crystal polyester), and a sheath portion made of thermoplastic polymer as a component of the sea portion and polyarylate (liquid crystal polyester) as a component of the island portion. A 23 μm core-sheath composite fiber (manufactured by Kuraray Co., Ltd., product name Vecry) was prepared. This synthetic fiber was woven into a plain weave with a density of 330 mesh as warp 1a and weft 1b to obtain a screen kite 1.
作製したスクリーン紗1を、放電端子の出力を3kWに設定したコロナ放電処理装置に、12m/分の速度で送り、連続的にコロナ放電処理を施した。その後スクリーン紗1の4辺方向における部位を紗張機のクランプにて挟持し、320mm×320mmのアルミ製の版枠2に張った。ここで、スクリーン紗1の中央部での張力は、テンションゲージSTG-75B(サン技研社製)を用いた測定で1.0mm(28N/cm)であった。縦糸1aと緯糸1bのバイアス角度は、ともに22.5度であった。 The produced screen 1 was sent to a corona discharge treatment apparatus in which the output of the discharge terminal was set to 3 kW at a speed of 12 m / min, and was continuously subjected to corona discharge treatment. Thereafter, the four sides of the screen ridge 1 were clamped by a tensioner clamp and stretched on a 320 mm × 320 mm aluminum plate frame 2. Here, the tension at the center of the screen 1 was 1.0 mm (28 N / cm) as measured using a tension gauge STG-75B (manufactured by Sun Giken). The bias angles of the warp 1a and the weft 1b were both 22.5 degrees.
版枠2に張られたスクリーン紗1に、ジアゾ系感光性樹脂(王子タック株式会社製、製品名:AX−81)をバケットを用いて塗布し、塗布された感光性樹脂を乾燥させた。感光性樹脂の塗布及び乾燥を繰り返し、約10μmの厚さの樹脂膜10を形成した。その後、樹脂膜10の上面10dにマスク11を貼り付けて露光及び現像することによって開口20aを形成し、0.3mm×0.3mm(X−Y平面内の寸法)の遮蔽膜20を200個形成した。得られたスクリーン版100を実施例1のスクリーン版とした。 A diazo photosensitive resin (product name: AX-81, manufactured by Oji Tac Co., Ltd.) was applied to the screen ridge 1 stretched on the plate frame 2 using a bucket, and the applied photosensitive resin was dried. The application and drying of the photosensitive resin were repeated to form a resin film 10 having a thickness of about 10 μm. Thereafter, a mask 11 is attached to the upper surface 10d of the resin film 10, and exposure and development are performed to form an opening 20a, and 200 shielding films 20 of 0.3 mm × 0.3 mm (dimension in the XY plane) are formed. Formed. The obtained screen plate 100 was used as the screen plate of Example 1.
(実施例2)
実施例1で用いたスクリーン紗1に、ジアゾ系感光性樹脂の替わりにSBQ系感光性樹脂(株式会社ムラカミ製、製品名:OnePot)を用いて遮蔽膜20を形成した以外は、実施例1と同様の方法で実施例2のスクリーン版100を得た。
(Example 2)
Example 1 except that the shielding film 20 was formed on the screen 1 used in Example 1 using SBQ photosensitive resin (product name: OnePot) instead of diazo photosensitive resin. A screen plate 100 of Example 2 was obtained in the same manner as described above.
(実施例3)
合成繊維モノフィラメントとして、ナイロンからなる、直径30μmの繊維を用意した。この合成繊維を経糸1a及び緯糸1bとして、経糸1a、緯糸1bとも305メッシュの密度で平織りに製織し、スクリーン紗1を得た。得られたスクリーン紗1を、実施例1と同様にコロナ放電処理した。このスクリーン紗1を、実施例1で用いたスクリーン紗1に替えて版枠2に張ったこと以外は、実施例1と同様の方法で実施例3のスクリーン版100を得た。
(Example 3)
As a synthetic fiber monofilament, a fiber made of nylon and having a diameter of 30 μm was prepared. Using this synthetic fiber as warp 1a and weft 1b, both warp 1a and weft 1b were woven into a plain weave at a density of 305 mesh to obtain screen kite 1. The obtained screen basket 1 was subjected to corona discharge treatment in the same manner as in Example 1. A screen plate 100 of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the screen rod 1 was replaced with the plate frame 2 instead of the screen rod 1 used in Example 1.
(実施例4)
実施例1で用いた合成繊維モノフィラメントを経糸1a及び緯糸1bとして用い、経糸1a、緯糸1bとも380メッシュの密度で平織りに製織し、スクリーン紗1を得た。得られたスクリーン紗1を、出力1Wで1分間プラズマ処理した。このスクリーン紗1を、実施例1で用いたスクリーン紗1に替えて版枠2に張ったこと以外は、実施例1と同様の方法で実施例4のスクリーン版100を得た。
Example 4
The synthetic fiber monofilament used in Example 1 was used as the warp 1a and the weft 1b, and both the warp 1a and the weft 1b were woven into a plain weave at a density of 380 mesh to obtain a screen kite 1. The resulting screen 1 was plasma treated at an output of 1 W for 1 minute. A screen plate 100 of Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the screen rod 1 was stretched on the plate frame 2 in place of the screen rod 1 used in Example 1.
(比較例1)
実施例1で用いたスクリーン紗1にコロナ放電処理しない以外は、実施例1と同様の方法で、比較例1のスクリーン版100を得た。
(Comparative Example 1)
A screen plate 100 of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the screen rod 1 used in Example 1 was not subjected to corona discharge treatment.
(比較例2)
実施例3で用いたスクリーン紗1にコロナ放電処理しない以外は、実施例3と同様の方法で、比較例2のスクリーン版100を得た。
(Comparative Example 2)
A screen plate 100 of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 3 except that the screen rod 1 used in Example 3 was not subjected to corona discharge treatment.
(比較例3)
実施例4で用いたスクリーン紗1に対して行ったプラズマ処理に替えて、出力0.2Wで1分間プラズマ処理した以外は、実施例4と同様の方法で、比較例3のスクリーン版100を得た。
(Comparative Example 3)
Instead of the plasma treatment performed on the screen 1 used in Example 4, the screen plate 100 of Comparative Example 3 was prepared in the same manner as in Example 4 except that the plasma treatment was performed at an output of 0.2 W for 1 minute. Obtained.
(比較例4)
実施例1で用いたスクリーン紗1に、ジアゾ系感光性樹脂の替わりにラジカル重合系感光性樹脂(株式会社栗田化学研究所製、製品名:WR250)を用いて遮蔽膜20を形成した以外は、実施例1と同様の方法で比較例4のスクリーン版100を得た。
(Comparative Example 4)
Except that the shielding film 20 was formed on the screen 1 used in Example 1 by using a radical polymerization photosensitive resin (manufactured by Kurita Chemical Laboratory, product name: WR250) instead of the diazo photosensitive resin. A screen plate 100 of Comparative Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1.
(極性比率)
実施例および比較例の各スクリーン版100について、スクリーン紗1表面と遮蔽膜20表面それぞれに、水及びジヨードメタンをそれぞれ1μL滴下し、測定用液体(水及びジヨードメタン)のそれぞれの接触角を、接触角計(協和界面科学社製、自動極小接触角計 MCA-3)を用いて測定した。測定した接触角を、下記(5)式にそれぞれ当てはめて、スクリーン紗1表面と遮蔽膜20表面それぞれについて、極性成分に由来する表面自由エネルギーγsp及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーγsdを算出した。
(1+cosθ)・γL/4=(γsd・γLd)/(γsd+γLd)+(γsp・γLp)/(γsp+γLp)--------------- (5)
θ:試料表面の測定用液体の接触角
γL:測定用液体の表面張力
γLd:測定用液体の非極性成分に由来する表面自由エネルギー
γLp:測定用液体の極性成分に由来する表面自由エネルギー
γsd:試料表面の非極性成分に由来する表面自由エネルギー
γsp:試料表面の極性成分に由来する表面自由エネルギー
算出したγsdとγsp、および上記(2)式と(3)式により、スクリーン紗1表面と遮蔽膜20表面それぞれについて、極性比率を算出した。
(Polarity ratio)
About each screen plate 100 of an Example and a comparative example, 1 microliter of water and diiodomethane are dripped at each of the screen ridge 1 surface and the shielding film 20 surface, respectively, and each contact angle of the liquid for measurement (water and diiodomethane) is set to contact angle. It was measured using a meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., automatic minimum contact angle meter MCA-3). The measured contact angles are respectively applied to the following equation (5), and the surface free energy γs p derived from the polar component and the surface free energy γs d derived from the nonpolar component for each of the surface of the screen ridge 1 and the surface of the shielding film 20. Was calculated.
(1 + cos θ) · γL / 4 = (γs d · γL d ) / (γs d + γL d ) + (γs p · γL p ) / (γs p + γL p ) ------------ --- (5)
θ: Contact angle of the measurement liquid on the sample surface γL: Surface tension of the measurement liquid γL d : Surface free energy derived from the nonpolar component of the measurement liquid γL p : Surface free energy derived from the polar component of the measurement liquid γs d : surface free energy derived from a non-polar component on the sample surface γs p : surface free energy derived from a polar component on the sample surface, and calculated γs d and γs p , and the above equations (2) and (3), The polarity ratio was calculated for each of the surface of screen 1 and the surface of shielding film 20.
(遮蔽膜剥離試験)
実施例及び比較例のスクリーン版100について、遮蔽膜20の表面にメンディングテープ(住友3M社製 810−3−24)を貼り、200個の遮蔽膜20とテープとを一定荷重で密着させた。その後、スクリーン版100を固定し、テープをスクリーン紗1に対して垂直方向(Z軸方向)に引っ張り、テープを遮蔽膜20から剥がした。テープに付着した遮蔽膜20の(剥離した遮蔽膜20)の数を数え、スクリーン紗1と遮蔽膜20との密着性を判断した。遮蔽膜20とテープとを一定荷重で密着させる方法としては、ウシオライティング製露光機(FL−2S)を使用し、荷重40mmHgで、1分間真空密着する方法を用いた。
(Shielding film peeling test)
About the screen plate 100 of an Example and a comparative example, the mending tape (Sumitomo 3M Co., Ltd. 810-3-24) was stuck on the surface of the shielding film 20, and 200 shielding films 20 and the tape were made to adhere by a fixed load. . Thereafter, the screen plate 100 was fixed, the tape was pulled in the direction perpendicular to the screen ridge 1 (Z-axis direction), and the tape was peeled off from the shielding film 20. The number of (the peeled shielding film 20) of the shielding film 20 attached to the tape was counted, and the adhesion between the screen ridge 1 and the shielding film 20 was judged. As a method for bringing the shielding film 20 and the tape into close contact with each other with a constant load, an exposure machine (FL-2S) manufactured by USHIO LIGHTING was used, and a method in which the shield film 20 and the tape were brought into vacuum contact with a load of 40 mmHg for 1 minute was used.
実施例と比較例のスクリーン版100における、スクリーン紗1表面及び遮蔽膜20表面の極性比率と、遮蔽膜剥離試験の結果を表1に示す。 Table 1 shows the polarity ratio between the surface of the screen ridge 1 and the surface of the shielding film 20 and the result of the shielding film peeling test in the screen plate 100 of the example and the comparative example.
表1に示すように、スクリーン紗1表面の極性比率が15%以上、70%以下の範囲内にあるとともに、遮蔽膜20表面の極性比率が10%以上、50%以下の範囲内にある実施例1〜4のスクリーン版100は、遮蔽膜20が一切剥離しなかった。一方、遮蔽膜20表面の極性比率が10%以上、50%以下の範囲内にあるものの、スクリーン紗1表面の極性比率が15%以上、70%以下の範囲外にある比較例1〜3のスクリーン版100は、66個以上も遮蔽膜20が剥離していた。また、スクリーン紗1表面の極性比率が15%以上、70%以下の範囲内にあるものの、遮蔽膜20表面の極性比率が10%以上、50%以下の範囲外にある比較例4のスクリーン版100は、78個も遮蔽膜20が剥離していた。これらの結果から、本実施形態のスクリーン版100は、スクリーン紗1と遮蔽膜20との密着性が向上していることが理解できた。 As shown in Table 1, the polarity ratio of the surface of the screen 1 is in the range of 15% to 70%, and the polarity ratio of the surface of the shielding film 20 is in the range of 10% to 50%. In the screen plates 100 of Examples 1 to 4, the shielding film 20 did not peel at all. On the other hand, although the polarity ratio of the surface of the shielding film 20 is in the range of 10% or more and 50% or less, the polarity ratio of the surface of the screen 1 is outside the range of 15% or more and 70% or less. The screen plate 100 had 66 or more shielding films 20 peeled off. Further, the screen plate of Comparative Example 4 in which the polarity ratio of the surface of the screen 1 is within the range of 15% or more and 70% or less, but the polarity ratio of the surface of the shielding film 20 is outside the range of 10% or more and 50% or less. As for 100, as many as 78 shielding films 20 were peeled off. From these results, it was understood that the screen plate 100 of this embodiment has improved adhesion between the screen ridge 1 and the shielding film 20.
Claims (5)
前記版枠に張られる、合成繊維を用いてなるスクリーン紗と、
前記スクリーン紗に形成される、所定の印刷パターンに対応する形状の開口を設けるための遮蔽膜と、を有し、
前記スクリーン紗の表面は、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーの比率が15%以上、70%以下であり、
前記遮蔽膜の表面は、極性成分及び非極性成分に由来する表面自由エネルギーに対する極性成分に由来する表面自由エネルギーの比率が10%以上、50%以下であることを特徴とするスクリーン版。 Plate frame,
A screen rod made of synthetic fiber, stretched on the plate frame;
A shielding film for forming an opening having a shape corresponding to a predetermined printing pattern, formed on the screen ridge,
The surface of the screen ridge has a ratio of the surface free energy derived from the polar component to the surface free energy derived from the polar component and the nonpolar component of 15% or more and 70% or less,
The screen plate, wherein the surface of the shielding film has a ratio of the surface free energy derived from the polar component to the surface free energy derived from the polar component and the nonpolar component of 10% or more and 50% or less.
The surface free energy derived from the polar component with respect to the surface free energy derived from the polar component and the nonpolar component is higher on the surface of the screen ridge than the surface of the shielding film. The screen version as described in any one of.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016247951 | 2016-12-21 | ||
| JP2016247951 | 2016-12-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018099887A true JP2018099887A (en) | 2018-06-28 |
| JP7093625B2 JP7093625B2 (en) | 2022-06-30 |
Family
ID=62714903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017243093A Active JP7093625B2 (en) | 2016-12-21 | 2017-12-19 | Screen version |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7093625B2 (en) |
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| CN104228314A (en) * | 2014-09-20 | 2014-12-24 | 福州大学 | Novel exposure blueprinting method for screen printing plate |
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| Publication number | Publication date |
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| JP7093625B2 (en) | 2022-06-30 |
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