JP2018095581A - Method for producing hexyl 4-hydroxybenzoate - Google Patents
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Abstract
【課題】生産性に優れるとともに、副生物の生成を抑制し、高収率で4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルが得られる製造方法を提供すること、および高純度の4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルが得られる製造方法を提供すること。
【解決手段】酸触媒の存在下、4−ヒドロキシ安息香酸1モル当量と1−ヘキサノール0.8〜3.0モル当量とを反応させる工程を含む、式(1)で表される4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルの製造方法。
【選択図】なしAn object of the present invention is to provide a production method capable of obtaining hexyl 4-hydroxybenzoate in a high yield while suppressing production of by-products while being excellent in productivity, and to obtain hexyl 4-hydroxybenzoate having high purity. Providing a manufacturing method.
The 4-hydroxybenzoate represented by the formula (1) includes a step of reacting 1 molar equivalent of 4-hydroxybenzoic acid with 0.8 to 3.0 molar equivalents of 1-hexanol in the presence of an acid catalyst. A method for producing hexyl benzoate.
[Selection figure] None
Description
本発明は、4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing hexyl 4-hydroxybenzoate.
パラベンは4−ヒドロキシ安息香酸のエステル類の総称であり、化粧品、医薬品、食品等の防腐剤または抗菌剤として幅広く用いられている。 Paraben is a generic name for esters of 4-hydroxybenzoic acid, and is widely used as a preservative or antibacterial agent for cosmetics, pharmaceuticals, foods and the like.
パラベンとしては、4−ヒドロキシ安息香酸メチル(メチルパラベン)、4−ヒドロキシ安息香酸エチル(エチルパラベン)、4−ヒドロキシ安息香酸プロピル(プロピルパラベン)、4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシル(ヘキシルパラベン)などが知られており、中でも4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルは抗菌力が強く、更なる抗菌用途への展開が期待されている。 As parabens, methyl 4-hydroxybenzoate (methylparaben), ethyl 4-hydroxybenzoate (ethylparaben), propyl 4-hydroxybenzoate (propylparaben), hexyl 4-hydroxybenzoate (hexylparaben), etc. are known. Among them, hexyl 4-hydroxybenzoate has strong antibacterial activity and is expected to be developed for further antibacterial applications.
これらのパラベン類は、通常、酸触媒の存在下、ヒドロキシ安息香酸と脂肪族アルコールとを反応させることによって製造されるが、この反応は平衡反応であるため、原料のいずれか一方を過剰となるように反応に供することによって、目的物の生成率を向上させることが知られている。例えば、ヒドロキシ安息香酸のカルボン酸1モルに対して脂肪族アルコール20〜60モル当量を反応に供することで、高い生成率で目的物を得る方法が提案されている(特許文献1)。 These parabens are usually produced by reacting hydroxybenzoic acid and an aliphatic alcohol in the presence of an acid catalyst. However, since this reaction is an equilibrium reaction, either one of the raw materials becomes excessive. Thus, it is known to improve the production rate of the target product by subjecting it to the reaction. For example, a method has been proposed in which 20 to 60 molar equivalents of an aliphatic alcohol are used for the reaction with respect to 1 mol of carboxylic acid of hydroxybenzoic acid to obtain the target product at a high production rate (Patent Document 1).
しかしながら、過剰量の脂肪族アルコールを反応に供すると、大容積の反応装置が必要になるとともに、生産効率の低下や、後処理における脂肪族アルコールの除去工程に長時間を要するという問題があった。 However, when an excessive amount of aliphatic alcohol is used for the reaction, a large-volume reaction apparatus is required, and there is a problem in that production efficiency is reduced and a long time is required for the removal process of the aliphatic alcohol in the post-treatment. .
また、4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルの製造に際しては、目的物である4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルと反応に使用する1−ヘキサノールとが溶解性等の物性が類似するため、1−ヘキサノールの除去がより困難であるという問題があった。 Further, in the production of hexyl 4-hydroxybenzoate, hexyl 4-hydroxybenzoate, which is the target product, and 1-hexanol used in the reaction are similar in properties such as solubility. There was a problem that it was difficult.
さらに、特許文献1の方法によって得られる4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルは、1−ヘキサノールの他、触媒や原料などの不純物が残存するため、低純度のものであった。したがって、生産性に優れ、高収率かつ高純度で4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルが得られる製造方法が求められていた。 Furthermore, hexyl 4-hydroxybenzoate obtained by the method of Patent Document 1 has a low purity because impurities such as catalyst and raw material remain in addition to 1-hexanol. Therefore, there has been a demand for a production method that is excellent in productivity, and that provides hexyl 4-hydroxybenzoate with high yield and high purity.
本発明の目的は、生産性に優れるとともに、副生物の生成を抑制し、高収率で4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルが得られる製造方法を提供することにある。また、本発明の別の目的は、高純度の4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルが得られる製造方法を提供することにある。 The objective of this invention is providing the manufacturing method which is excellent in productivity, suppresses the production | generation of a by-product, and can obtain hexyl 4-hydroxybenzoate with a high yield. Another object of the present invention is to provide a production method for obtaining high-purity hexyl 4-hydroxybenzoate.
本発明者らは、4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルの製造方法について鋭意検討した結果、酸触媒の存在下、4−ヒドロキシ安息香酸と所定量の1−ヘキサノールを反応させることによって、4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルが高収率かつ高生産効率で得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies on a method for producing hexyl 4-hydroxybenzoate, the present inventors have reacted 4-hydroxybenzoic acid with a predetermined amount of 1-hexanol in the presence of an acid catalyst, thereby producing 4-hydroxybenzoic acid. The inventors have found that hexyl can be obtained with high yield and high production efficiency, and have completed the present invention.
本発明者らは、また、酸触媒の存在下、4−ヒドロキシ安息香酸と1−ヘキサノールを反応させることによって得られる、4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルを含む粗組成物に、塩基性水溶液を添加して粗組成物を中和した後、有機層と水層に分離し、有機層を抽出することによって、未反応のカルボン酸や酸触媒などを除去し得ることを見出し、本発明を完成させるに至った。 The inventors also added a basic aqueous solution to a crude composition containing hexyl 4-hydroxybenzoate obtained by reacting 4-hydroxybenzoic acid with 1-hexanol in the presence of an acid catalyst. After neutralizing the crude composition, the organic layer and the aqueous layer are separated, and the organic layer is extracted to find that unreacted carboxylic acid, acid catalyst, etc. can be removed and to complete the present invention. It came.
すなわち本発明は、酸触媒の存在下、4−ヒドロキシ安息香酸1モル当量と1−ヘキサノール0.8〜3.0モル当量とを反応させる工程を含む、式(1)で表される4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルの製造方法を提供する。
また本発明は、酸触媒の存在下、4−ヒドロキシ安息香酸と1−ヘキサノールとを反応させることにより、式(1)で表される4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルを含む粗組成物を得る工程、次いで前記粗組成物に塩基性水溶液を添加して粗組成物を中和する工程、次いで有機層と水層に分離し、有機層を抽出する工程を含む、式(1)で表される4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルの製造方法を提供する。
本発明によれば、生産性に優れるとともに、副生物の生成を抑制し、高収率で4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルを得ることができる。 According to this invention, while being excellent in productivity, the production | generation of a by-product can be suppressed and 4-hydroxybenzoic acid hexyl can be obtained with a high yield.
また、本発明によれば、簡易な方法でより高純度の4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルを得ることができる。 Further, according to the present invention, hexyl 4-hydroxybenzoate having higher purity can be obtained by a simple method.
本発明において、反応原料として使用される4−ヒドロキシ安息香酸および1−ヘキサノールは、市販のものを用いてもよく、また当業者に知られた方法で製造したものを用いてもよい。 In the present invention, commercially available 4-hydroxybenzoic acid and 1-hexanol used as reaction raw materials may be used, or those produced by methods known to those skilled in the art may be used.
本発明で使用される1−ヘキサノールは、4−ヒドロキシ安息香酸1モル当量に対し、0.8〜3.0モル当量、好ましくは0.9〜2.5モル当量、より好ましくは1.0〜2.0モル当量、さらに好ましくは1.1〜1.8モル当量反応させるのがよい。 1-hexanol used in the present invention is 0.8 to 3.0 molar equivalents, preferably 0.9 to 2.5 molar equivalents, more preferably 1.0 to 1 molar equivalent of 4-hydroxybenzoic acid. It is good to make it react -2.0 molar equivalent, More preferably, 1.1-1.8 molar equivalent.
4−ヒドロキシ安息香酸1モル当量に対し、1−ヘキサノールの量が0.8モル当量を下回る場合、得られる4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルの収率が低下する。また、1−ヘキサノールの量が3.0モル当量を上回る場合、過剰量の1−ヘキサノールが残存し、生産効率が低下するとともに、後処理工程において、1−ヘキサノールの除去に長時間を要する。 When the amount of 1-hexanol is less than 0.8 molar equivalents relative to 1 molar equivalent of 4-hydroxybenzoic acid, the yield of the resulting hexyl 4-hydroxybenzoic acid decreases. Moreover, when the amount of 1-hexanol exceeds 3.0 molar equivalents, an excessive amount of 1-hexanol remains, production efficiency is lowered, and in the post-treatment process, it takes a long time to remove 1-hexanol.
本発明では、例えば4−ヒドロキシ安息香酸1モル当量と1−ヘキサノール1.5モル当量とを反応させることは、4−ヒドロキシ安息香酸1モル当量に対し、1−ヘキサノールが1.5モル当量となるような量で存在させて反応させることを意味する。 In the present invention, for example, reacting 1 molar equivalent of 4-hydroxybenzoic acid with 1.5 molar equivalent of 1-hexanol means that 1 molar ratio of 1-hexanol is 1.5 molar equivalents with respect to 1 molar equivalent of 4-hydroxybenzoic acid. It is made to react by making it exist in such quantity.
本発明に使用される酸触媒としては、p−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸、リン酸および硝酸からなる群から選択される1種以上が挙げられ、入手容易性および反応性に優れる点で、硫酸またはp−トルエンスルホン酸が好ましく、特に、反応性および副生物抑制効果に優れる点でp−トルエンスルホン酸が好ましい。p−トルエンスルホン酸は水和物であってもよい。 Examples of the acid catalyst used in the present invention include one or more selected from the group consisting of p-toluenesulfonic acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid and nitric acid, and are excellent in availability and reactivity. Sulfuric acid or p-toluenesulfonic acid is preferable, and p-toluenesulfonic acid is particularly preferable in terms of excellent reactivity and by-product suppression effect. Hydrate may be sufficient as p-toluenesulfonic acid.
これらの触媒は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 These catalysts may be used alone or in combination of two or more.
本発明に使用される酸触媒の量は特に限定されないが、4−ヒドロキシ安息香酸100重量部に対し、好ましくは0.1〜10重量部、より好ましくは0.3〜6重量部、さらに好ましくは0.5〜3重量部である。 The amount of the acid catalyst used in the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.3 to 6 parts by weight, and still more preferably 100 parts by weight of 4-hydroxybenzoic acid. Is 0.5 to 3 parts by weight.
4−ヒドロキシ安息香酸100重量部に対し、酸触媒の量が0.1重量部を下回る場合、反応が十分に進行しない傾向がある。酸触媒の量が10重量部を上回る場合、1−ヘキサノールの2量化エーテル体等の副生物が生成する傾向があるとともに、経済的にも不利となる。 When the amount of the acid catalyst is less than 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of 4-hydroxybenzoic acid, the reaction tends not to proceed sufficiently. When the amount of the acid catalyst exceeds 10 parts by weight, by-products such as a dimerized ether form of 1-hexanol tend to be generated, and this is economically disadvantageous.
4−ヒドロキシ安息香酸と1−ヘキサノールとの反応における反応温度は特に限定されないが、100℃以上が好ましく、135℃以上がより好ましい。反応温度が100℃を下回る場合、反応が十分に進行しない傾向がある。 The reaction temperature in the reaction of 4-hydroxybenzoic acid and 1-hexanol is not particularly limited, but is preferably 100 ° C. or higher, and more preferably 135 ° C. or higher. When reaction temperature is less than 100 degreeC, there exists a tendency for reaction not to fully advance.
反応時間は、反応温度等の条件によって変動するため特に限定されないが、1〜20時間、好ましくは2〜14時間、より好ましくは4〜8時間の間で適宜選択される。 The reaction time is not particularly limited because it varies depending on conditions such as the reaction temperature, but is appropriately selected between 1 to 20 hours, preferably 2 to 14 hours, and more preferably 4 to 8 hours.
本発明において、4−ヒドロキシ安息香酸と1−ヘキサノールとの反応は、不活性ガス気流下またはバブリング下、もしくは減圧条件下で行うのが好ましい。このような条件下で反応させることによって、酸素や水分による反応阻害や触媒失活を回避し、反応を円滑に進行させることが可能となる。 In the present invention, the reaction between 4-hydroxybenzoic acid and 1-hexanol is preferably carried out under an inert gas stream or bubbling, or under reduced pressure conditions. By reacting under such conditions, reaction inhibition and catalyst deactivation due to oxygen and moisture can be avoided and the reaction can proceed smoothly.
不活性ガスとしては、4−ヒドロキシ安息香酸と1−ヘキサノールとの反応を阻害しないガスであればよく、具体的には、窒素、二酸化炭素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノンおよびクリプトンからなる群から選択される1種以上が挙げられる。これらの中で、入手容易性および経済性に優れる点で、窒素が好ましい。 The inert gas may be any gas that does not inhibit the reaction between 4-hydroxybenzoic acid and 1-hexanol. Specifically, the inert gas is selected from the group consisting of nitrogen, carbon dioxide, argon, helium, neon, xenon, and krypton. One or more selected may be mentioned. Among these, nitrogen is preferable because it is easily available and economical.
不活性ガスは、原料である4−ヒドロキシ安息香酸および1−ヘキサノールを収容する反応容器の反応液上部の空間部に吹き込んでもよく、あるいは、反応液中に直接吹き付けてもよい。 The inert gas may be blown into the space above the reaction solution in the reaction vessel containing 4-hydroxybenzoic acid and 1-hexanol as raw materials, or may be blown directly into the reaction solution.
酸触媒の存在下、4−ヒドロキシ安息香酸と1−ヘキサノールとを反応させる工程によって得られる、式(1)で表される4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルを含む粗組成物は、精製により、純度を高めることができる。 The crude composition containing hexyl 4-hydroxybenzoate represented by the formula (1) obtained by the step of reacting 4-hydroxybenzoic acid and 1-hexanol in the presence of an acid catalyst is purified by purification. Can be increased.
精製は、前記粗組成物に塩基性水溶液を添加して粗組成物を中和する工程、次いで有機層と水層に分離し、有機層を抽出する工程を含むのが、生成物の純度を効率よく高められる点で好ましい。上記反応後の粗組成物は、反応温度から40〜100℃冷却した後、続く精製方法に供するのがよい。 The purification includes the step of neutralizing the crude composition by adding a basic aqueous solution to the crude composition, and then separating the organic layer and the aqueous layer and extracting the organic layer. This is preferable because it can be efficiently increased. The crude composition after the reaction is preferably cooled to 40 to 100 ° C. from the reaction temperature and then subjected to the subsequent purification method.
式(1)で表される4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルを含む粗組成物とは、目的物である4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシル以外に、反応原料や触媒および反応副生物などの不純物を含む組成物を意味する。 The crude composition containing hexyl 4-hydroxybenzoate represented by the formula (1) is a composition containing impurities such as a reaction raw material, a catalyst, and a reaction byproduct in addition to hexyl 4-hydroxybenzoate which is the target product. Means.
粗組成物中に含まれる不純物の例としては、原料である4−ヒドロキシ安息香酸や1−ヘキサノール、触媒等が挙げられる。また、不純物には、1−ヘキサノールの2量化エーテルや、1−ヘキサノールと酸触媒との反応による硫酸エステル等の反応副生物も包含される。 Examples of impurities contained in the crude composition include 4-hydroxybenzoic acid, 1-hexanol, and a catalyst as raw materials. Further, the impurities include reaction by-products such as dimerized ether of 1-hexanol and sulfate ester by reaction of 1-hexanol with an acid catalyst.
粗組成物中に塩基性水溶液を添加して粗組成物を中和する工程(以下、中和工程という)、および有機層と水層に分離し、有機層を抽出する工程(以下、抽出工程という)は、具体的には、反応後の粗組成物を冷却した後、中和工程において、粗組成物中に塩基性水溶液を添加し、攪拌を継続することによって酸触媒を失活させる。その後、抽出工程において反応系を静置して有機層と水層に分離し、有機層を回収することにより行われる。 A step of neutralizing the crude composition by adding a basic aqueous solution into the crude composition (hereinafter referred to as neutralization step), and a step of separating the organic layer and the aqueous layer and extracting the organic layer (hereinafter referred to as extraction step) Specifically, after cooling the crude composition after the reaction, a basic aqueous solution is added to the crude composition in the neutralization step, and the acid catalyst is deactivated by continuing stirring. Thereafter, in the extraction step, the reaction system is allowed to stand to separate into an organic layer and an aqueous layer, and the organic layer is recovered.
塩基性水溶液に含まれる塩基性化合物としては、トリエチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、モノメチルアミン、ジメチルアミン、エチレンジアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジン、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウムおよび炭酸水素カリウムからなる群から選択される1種以上が挙げられる。これらの中で、有機層と水層との分離性および入手容易性に優れる点で炭酸水素ナトリウムが好ましい。 Basic compounds contained in the basic aqueous solution include triethylamine, monoethylamine, diethylamine, trimethylamine, monomethylamine, dimethylamine, ethylenediamine, triethanolamine, tetramethylethylenediamine, pyrrolidine, piperidine, pyridine, sodium hydroxide, sodium bicarbonate. And at least one selected from the group consisting of sodium carbonate, potassium hydroxide, potassium carbonate and potassium hydrogen carbonate. Among these, sodium hydrogencarbonate is preferable because it is excellent in separability between the organic layer and the aqueous layer and availability.
塩基性化合物の添加量は、酸触媒を中和できる量以上であればよく、通常、塩基性水溶液全量に対して1〜10重量%である。 The addition amount of the basic compound may be more than the amount capable of neutralizing the acid catalyst, and is usually 1 to 10% by weight based on the total amount of the basic aqueous solution.
塩基性水溶液全量に対し塩基性化合物の添加量が1重量%を下回る場合、中和が不完全となる傾向がある。塩基性化合物の添加量が10重量%を上回る場合、過剰な塩基性物質が不純物として目的物に残存する傾向があるとともに、経済的にも不利となる。 When the addition amount of the basic compound is less than 1% by weight based on the total amount of the basic aqueous solution, neutralization tends to be incomplete. When the addition amount of the basic compound exceeds 10% by weight, an excessive basic substance tends to remain in the target product as an impurity, and it is economically disadvantageous.
抽出工程における水の量は、原料である4−ヒドロキシ安息香酸100重量部に対して100重量部以上であるのが好ましい。4−ヒドロキシ安息香酸100重量部に対して水の量が100重量部を下回る場合、不純物となる原料の4−ヒドロキシ安息香酸や触媒、金属分が目的物中に残存して品質が低下する。抽出工程における水の量を調節するために、抽出工程において水を更に添加してもよい。 The amount of water in the extraction step is preferably 100 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of 4-hydroxybenzoic acid as a raw material. When the amount of water is less than 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of 4-hydroxybenzoic acid, the raw material 4-hydroxybenzoic acid, catalyst, and metal remain in the target product and the quality is lowered. In order to adjust the amount of water in the extraction process, water may be further added in the extraction process.
中和工程および抽出工程は、更に精製効果を高めるために繰返し行ってもよく、また、金属除去のために水洗浄を行ってもよい。 The neutralization step and the extraction step may be repeated to further enhance the purification effect, and water washing may be performed to remove the metal.
抽出工程において回収された有機層は、更に下記精製工程AまたはBに供するのが好ましい。精製工程AおよびBは、精製後に求められる4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルの品質等によって適宜選択される。また、これらの精製工程は、単独でまたは組み合わせて行うことができる。 The organic layer recovered in the extraction step is preferably subjected to the following purification step A or B. The purification steps A and B are appropriately selected depending on the quality of hexyl 4-hydroxybenzoate required after purification. In addition, these purification steps can be performed alone or in combination.
[精製工程A]
精製工程Aは、抽出された有機層の不純物を留去する工程(以下、不純物留去工程という)、次いで有機層に溶媒を添加して晶析する工程(以下、晶析工程という)を含む。
[Purification Step A]
The purification step A includes a step of distilling out impurities in the extracted organic layer (hereinafter referred to as an impurity distilling step), and then a step of adding a solvent to the organic layer for crystallization (hereinafter referred to as a crystallization step). .
不純物留去工程において、留去される不純物としては、原料である1−ヘキサノールの他に、反応で副生した1−ヘキサノールの二量化エーテルのような低沸点の化合物も含まれる。 In the impurity distillation step, the impurities to be distilled off include, in addition to 1-hexanol as a raw material, low boiling point compounds such as dimerized ether of 1-hexanol produced as a by-product in the reaction.
不純物の留去は、有機層を加熱および/または減圧することによって行われる。加熱および減圧における温度および圧力は、同時に実施する場合、60〜160℃および40〜80Torrであるのが好ましく、80〜140℃および50〜70Torrであるのがより好ましい。加熱のみで留去する場合は、水を添加し、90〜130℃で共沸することが好ましい。 The impurities are distilled off by heating and / or depressurizing the organic layer. The temperature and pressure in heating and decompression are preferably 60 to 160 ° C. and 40 to 80 Torr, more preferably 80 to 140 ° C. and 50 to 70 Torr, when carried out simultaneously. When distilling off by heating alone, it is preferable to add water and azeotrope at 90 to 130 ° C.
加熱および/または減圧時間は特に限定されないが、上記条件において不純物が有機層から留去されなくなるまで行うのがよい。 The heating and / or decompression time is not particularly limited, but it is preferable to carry out until the impurities are not distilled off from the organic layer under the above conditions.
次いで晶析工程において、有機層に溶媒を添加し、加熱して溶解させた後、冷却することによって4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルを晶析させることができる。析出した結晶を濾過等により固液分離し、洗浄、乾燥することによって、高純度の4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルを得ることができる。 Next, in the crystallization step, hexyl 4-hydroxybenzoate can be crystallized by adding a solvent to the organic layer, heating and dissolving it, and then cooling. The precipitated crystals are separated into solid and liquid by filtration or the like, washed and dried to obtain hexyl 4-hydroxybenzoate having high purity.
晶析工程で使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノールおよびエチレングリコール等からなる群から選択される1種以上のアルコールを含むアルコール水溶液が挙げられ、精製効率および入手容易性の観点からメタノール水溶液が好ましい。 Examples of the solvent used in the crystallization step include an aqueous alcohol solution containing one or more alcohols selected from the group consisting of methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, ethylene glycol, and the like. Purification efficiency and availability A methanol aqueous solution is preferable from the viewpoint of ease.
アルコール水溶液の濃度は10〜50重量%が好ましく、さらに好ましくは20〜40重量%である。アルコール水溶液の濃度が10重量%を下回る場合、得られる4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルの結晶の純度が低下する傾向があり、アルコール水溶液の濃度が50重量%を上回る場合、得られる4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルの収率が低下する傾向がある。 The concentration of the aqueous alcohol solution is preferably 10 to 50% by weight, more preferably 20 to 40% by weight. When the concentration of the aqueous alcohol solution is less than 10% by weight, the purity of the resulting hexyl 4-hydroxybenzoate crystal tends to decrease, and when the concentration of the aqueous alcohol solution exceeds 50% by weight, the resulting 4-hydroxybenzoic acid is obtained. There is a tendency for the yield of hexyl to decrease.
晶析工程で使用される溶媒の量は、用いる溶媒の種類によって変動するため特に限定されないが、原料の4−ヒドロキシ安息香酸に対し1〜20倍重量、好ましくは2〜15倍重量、より好ましくは3〜10倍重量である。 The amount of the solvent used in the crystallization step is not particularly limited because it varies depending on the type of the solvent used, but it is 1 to 20 times by weight, preferably 2 to 15 times by weight, more preferably the raw material 4-hydroxybenzoic acid. Is 3 to 10 times the weight.
溶媒の量が1倍重量を下回る場合、晶析時に撹拌不良が生じる傾向があり、20倍重量を超える場合、収率が低下する傾向があるとともに、経済的にも不利となる。 When the amount of the solvent is less than 1 times the weight, stirring failure tends to occur at the time of crystallization, and when it exceeds 20 times the weight, the yield tends to decrease and it is economically disadvantageous.
晶析工程は、溶媒を添加した後、加熱して有機層中の有機物を完全に溶解させた後、撹拌を継続しながら、ゆっくりと冷却して晶析させることにより行われる。 The crystallization step is performed by adding a solvent, heating to completely dissolve the organic matter in the organic layer, and then slowly cooling and crystallization while continuing stirring.
晶析の際に過飽和現象が生じた場合は、種結晶を適宜添加して結晶化を促進させても良い。 When a supersaturation phenomenon occurs during crystallization, a seed crystal may be added as appropriate to promote crystallization.
晶析工程によって析出した結晶は濾過等の常套手段により固液分離し、目的物である4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルを回収する。固液分離に際し、適宜溶媒を注いで結晶を洗浄するのが好ましい。固液分離の際に用いる溶媒としては、晶析工程で使用される溶媒と同様のものが使用される。 Crystals precipitated in the crystallization step are subjected to solid-liquid separation by conventional means such as filtration, and the target hexyl 4-hydroxybenzoate is recovered. In solid-liquid separation, it is preferable to wash the crystals by pouring a solvent as appropriate. As the solvent used in the solid-liquid separation, the same solvent as that used in the crystallization step is used.
固液分離によって回収された結晶は、加熱および/または減圧して溶媒を留去することによって、高純度の4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルを得ることができる。 Crystals recovered by solid-liquid separation can be heated and / or decompressed to distill off the solvent to obtain high purity hexyl 4-hydroxybenzoate.
加熱温度は、4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルが融解せず溶媒を留去できる範囲であれば特に限定されないが、通常40〜50℃であるのがよい。 The heating temperature is not particularly limited as long as hexyl 4-hydroxybenzoate does not melt and the solvent can be distilled off, but it is usually 40 to 50 ° C.
減圧時の圧力は、残存する溶媒の種類や量によって異なるため特に限定されないが、通常10Torr以下で行うのがよい。 The pressure at the time of depressurization is not particularly limited because it varies depending on the type and amount of the remaining solvent, but it is usually preferable to carry out at 10 Torr or less.
[精製工程B]
精製工程Bは、抽出された有機層を蒸留する工程を含む。
[Purification Step B]
The purification step B includes a step of distilling the extracted organic layer.
蒸留としては、常圧蒸留、減圧蒸留、水蒸気蒸留等が挙げられ、特に加熱および減圧を含む蒸留が好ましい。加熱および減圧における温度および圧力は、130〜180℃および0.1〜10Torrであるのが好ましく、140〜170℃および0.1〜3Torrであるのがより好ましい。加熱および減圧を上記範囲内で行うことにより、4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルの分解が抑制される。また、中和された有機層を用いることで、蒸留中の副反応を抑制することができる。 Examples of the distillation include atmospheric distillation, reduced pressure distillation, steam distillation and the like, and distillation including heating and reduced pressure is particularly preferable. The temperature and pressure during heating and decompression are preferably 130 to 180 ° C. and 0.1 to 10 Torr, and more preferably 140 to 170 ° C. and 0.1 to 3 Torr. By performing heating and decompression within the above range, decomposition of hexyl 4-hydroxybenzoate is suppressed. Moreover, the side reaction during distillation can be suppressed by using the neutralized organic layer.
加熱および減圧時間は特に限定されないが、上記蒸留条件において4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルが有機層から抽出されなくなるまで行うのがよい。 The heating and decompression time is not particularly limited, but it is preferable to carry out until hexyl 4-hydroxybenzoate is no longer extracted from the organic layer under the above distillation conditions.
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to this.
粗組成物の組成および得られた結晶の組成は、以下の条件にて高速液体クロマトグラフィー(HPLC)およびガスクロマトグラフィー(GC)による定量分析により求めた。 The composition of the crude composition and the composition of the obtained crystal were determined by quantitative analysis by high performance liquid chromatography (HPLC) and gas chromatography (GC) under the following conditions.
[高速液体クロマトグラフィー(HPLC)]
装置: Waters アライアンス 2690/2996
カラム型番: L−Column
液量: 1.0mL/min
溶媒比: H2O(pH2.3)/CH3OH=80/20(8min)→30/70(21min)→10/90(14min)、グラジエント分析
波長: 254nm
カラム温度: 40℃
[High-performance liquid chromatography (HPLC)]
Equipment: Waters Alliance 2690/2996
Column model number: L-Column
Liquid volume: 1.0 mL / min
Solvent ratio: H 2 O (pH 2.3) / CH 3 OH = 80/20 (8 min) → 30/70 (21 min) → 10/90 (14 min), gradient analysis Wavelength: 254 nm
Column temperature: 40 ° C
[ガスクロマトグラフィー(GC)]
装置: 株式会社島津製作所製GC−2014/GC−14A
カラム型番: G−950
注入量: 1.0μL
オーブン温度: 225℃
キャリアガス: ヘリウム
検出器: FID
[Gas chromatography (GC)]
Equipment: GC-2014 / GC-14A manufactured by Shimadzu Corporation
Column model number: G-950
Injection volume: 1.0 μL
Oven temperature: 225 ° C
Carrier gas: Helium Detector: FID
実施例1
撹拌機、温度センサーおよびディーンスターク装置を備えた300mLスケールの4つ口フラスコ(反応容器)に、4−ヒドロキシ安息香酸(POB)91.2g(0.66モル)、1−ヘキサノール(HexOH)101.1g(0.99モル)および触媒としてp−トルエンスルホン酸一水和物(PTS・H2O)1.8gを加え、38mL/minの窒素気流下、145℃まで昇温し、同温度で6時間反応させ、粗組成物を得た。得られた粗組成物をHPLCおよびGCにて定量分析を行った。結果を表1に記す。
Example 1
A 300 mL scale four-necked flask (reaction vessel) equipped with a stirrer, temperature sensor and Dean-Stark apparatus was charged with 91.2 g (0.66 mol) of 4-hydroxybenzoic acid (POB) and 1-hexanol (HexOH) 101. 0.1 g (0.99 mol) and 1.8 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate (PTS · H 2 O) as a catalyst were added, and the temperature was raised to 145 ° C. in a nitrogen stream of 38 mL / min. For 6 hours to obtain a crude composition. The obtained crude composition was quantitatively analyzed by HPLC and GC. The results are shown in Table 1.
実施例2
1−ヘキサノールを60.7g(0.59モル)とした以外は、実施例1と同様にして粗組成物を得た。得られた粗組成物をHPLCおよびGCにて定量分析を行った。結果を表1に記す。
Example 2
A crude composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 60.7 g (0.59 mol) of 1-hexanol was used. The obtained crude composition was quantitatively analyzed by HPLC and GC. The results are shown in Table 1.
実施例3
1−ヘキサノールを80.9g(0.79モル)とした以外は、実施例1と同様にして粗組成物を得た。得られた粗組成物をHPLCおよびGCにて定量分析を行った。結果を表1に記す。
Example 3
A crude composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1-hexanol was changed to 80.9 g (0.79 mol). The obtained crude composition was quantitatively analyzed by HPLC and GC. The results are shown in Table 1.
実施例4
1−ヘキサノールを134.8g(1.32モル)とした以外は、実施例1と同様にして粗組成物を得た。得られた粗組成物をHPLCおよびGCにて定量分析を行った。結果を表1に記す。
Example 4
A crude composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 134.8 g (1.32 mol) of 1-hexanol was used. The obtained crude composition was quantitatively analyzed by HPLC and GC. The results are shown in Table 1.
実施例5
p−トルエンスルホン酸一水和物を濃硫酸とした以外は、実施例1と同様にして粗組成物を得た。得られた粗組成物をHPLCおよびGCにて定量分析を行った。結果を表1に記す。
Example 5
A crude composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that p-toluenesulfonic acid monohydrate was concentrated sulfuric acid. The obtained crude composition was quantitatively analyzed by HPLC and GC. The results are shown in Table 1.
比較例1
1−ヘキサノールを337.2g(3.30モル)とし、反応容器を1Lの4つ口フラスコとした以外は、実施例1と同様にして粗組成物を得た。得られた粗組成物をHPLCおよびGCにて定量分析を行った。結果を表1に記す。
Comparative Example 1
A crude composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 337.2 g (3.30 mol) of 1-hexanol was used and the reaction vessel was a 1 L four-necked flask. The obtained crude composition was quantitatively analyzed by HPLC and GC. The results are shown in Table 1.
比較例2
p−トルエンスルホン酸一水和物1.8gをテトライソプロポキシチタン7.4gとした以外は、実施例2と同様にして粗組成物を得た。得られた粗組成物をHPLCおよびGCにて定量分析を行った。結果を表1に記す。
Comparative Example 2
A crude composition was obtained in the same manner as in Example 2 except that 1.8 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate was changed to 7.4 g of tetraisopropoxytitanium. The obtained crude composition was quantitatively analyzed by HPLC and GC. The results are shown in Table 1.
比較例3
1−ヘキサノールを33.7g(0.33モル)とした以外は、実施例1と同様にして粗組成物を得ようとしたが、POBが溶解せず撹拌不良となったため、反応を中断した。
Comparative Example 3
A crude composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1-hexanol was changed to 33.7 g (0.33 mol), but the reaction was interrupted because POB did not dissolve and the stirring was poor. .
実施例6
撹拌機、温度センサーおよび冷却管を備え、底部にコック付きの排出口を設けた1Lスケールの底抜き4つ口フラスコに、実施例1で得られた粗組成物179.9gを80℃まで冷却した後に加えた。ここに、5wt%炭酸水素ナトリウム水溶液127.7gを加え、80℃で1時間撹拌し中和させた。その後撹拌を停止して同温度で30分間静置することにより有機層と水層に分離し、下層の水層を底部の排出口から廃棄し、有機層を抽出した。この抽出工程を更に3回実施し、有機層175.7gを得た。得られた有機層をHPLCおよびGCにて定量分析を行った。結果を表2に記す。
Example 6
Into a 1 L scale bottomed four-necked flask equipped with a stirrer, temperature sensor and cooling pipe and provided with a discharge port with a cock at the bottom, 179.9 g of the crude composition obtained in Example 1 was cooled to 80 ° C. Added after. To this was added 127.7 g of 5 wt% aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and the mixture was neutralized by stirring at 80 ° C. for 1 hour. Thereafter, the stirring was stopped and the mixture was allowed to stand at the same temperature for 30 minutes to separate into an organic layer and an aqueous layer. The lower aqueous layer was discarded from the bottom outlet, and the organic layer was extracted. This extraction step was further performed 3 times to obtain 175.7 g of an organic layer. The obtained organic layer was quantitatively analyzed by HPLC and GC. The results are shown in Table 2.
実施例7
撹拌機、温度センサー、リービッヒ冷却管、その先にアダプターと留出液を溜めるフラスコを備えた1Lスケールの減圧蒸留装置に、実施例6で得られた有機層175.7gを加え、60Torrの減圧下で80℃から145℃に昇温しながら2時間溶媒の留去を行った。留去された溶媒量は23.5gであった。
Example 7
175.7 g of the organic layer obtained in Example 6 was added to a 1 L-scale vacuum distillation apparatus equipped with a stirrer, a temperature sensor, a Liebig condenser, and a flask for storing an adapter and a distillate at the tip, and a reduced pressure of 60 Torr. The solvent was distilled off for 2 hours while raising the temperature from 80 ° C to 145 ° C. The amount of solvent distilled off was 23.5 g.
溶媒留去後の残留液を50℃まで冷却し、30wt%メタノール水溶液127.7gを加え、50℃のまま30分間保持し、溶解させた後、25℃まで冷却し、純度99.5wt%のNHPB1.8gを加え、15℃まで冷却し晶析させた。晶析で得られた固形物を濾別によって取り出し、30wt%メタノール水溶液91.2gで洗浄した後、40℃および4.5Torrの条件下で乾燥させて、結晶84.5gを得た(収率57.1mol%)。 After the solvent was distilled off, the residual liquid was cooled to 50 ° C., 127.7 g of 30 wt% aqueous methanol solution was added, kept at 50 ° C. for 30 minutes, dissolved, cooled to 25 ° C., and purified with a purity of 99.5 wt%. 1.8 g of NHPB was added, and the mixture was cooled to 15 ° C. for crystallization. The solid matter obtained by crystallization was taken out by filtration, washed with 91.2 g of a 30 wt% aqueous methanol solution, and then dried under conditions of 40 ° C. and 4.5 Torr to obtain 84.5 g of crystals (yield) 57.1 mol%).
得られた結晶を、HPLCおよびGCにて定量分析を行った。結果を表2に記す。 The obtained crystals were quantitatively analyzed by HPLC and GC. The results are shown in Table 2.
実施例8
撹拌機、温度センサー、リービッヒ冷却管、その先にアダプターと留出液を溜めるフラスコを備えた1Lスケールの減圧蒸留装置に、実施例6で得られた有機層175.7gおよび水273.6gを加え、110℃で3時間溶媒の留去を行った。留去された溶媒量は291.3gであった。
Example 8
Into a 1 L-scale vacuum distillation apparatus equipped with a stirrer, a temperature sensor, a Liebig condenser, and a flask for storing an adapter and a distillate at the tip, 175.7 g of the organic layer obtained in Example 6 and 273.6 g of water were added. In addition, the solvent was distilled off at 110 ° C. for 3 hours. The amount of solvent distilled off was 291.3 g.
溶媒留去後の残留液を50℃まで冷却し、30wt%メタノール水溶液127.7gを加え、50℃のまま30分間保持し、溶解させた後、25℃まで冷却し、純度99.5wt%のNHPB1.8gを加え、15℃まで冷却し晶析させた。晶析で得られた固形物を濾別によって取り出し、30wt%メタノール水溶液91.2gで洗浄した後、40℃および4.5Torrの条件で乾燥させて、結晶115.8gを得た(収率78.9mol%)。 After the solvent was distilled off, the residual liquid was cooled to 50 ° C., 127.7 g of 30 wt% aqueous methanol solution was added, kept at 50 ° C. for 30 minutes, dissolved, cooled to 25 ° C., and purified with a purity of 99.5 wt%. 1.8 g of NHPB was added, and the mixture was cooled to 15 ° C. for crystallization. The solid matter obtained by crystallization was taken out by filtration, washed with 91.2 g of a 30 wt% aqueous methanol solution, and then dried at 40 ° C. and 4.5 Torr to obtain 115.8 g of crystals (yield 78 .9 mol%).
得られた結晶を、HPLCおよびGCにて定量分析を行った。結果を表2に記す。 The obtained crystals were quantitatively analyzed by HPLC and GC. The results are shown in Table 2.
実施例9
撹拌機、温度センサー、リービッヒ冷却管、その先にアダプターと留出液を溜めるフラスコを備えた1Lスケールの減圧蒸留装置に、実施例6で得られた有機層175.7gを加え、157℃および1.5Torrで蒸留した結晶138.9gを得た(収率94.7mol%)。得られた結晶をHPLCおよびGCにて定量分析を行った。結果を表2に記す。
Example 9
175.7 g of the organic layer obtained in Example 6 was added to a 1 L scale vacuum distillation apparatus equipped with a stirrer, a temperature sensor, a Liebig condenser, and a flask for storing an adapter and a distillate at the end. 138.9 g of crystals distilled at 1.5 Torr were obtained (yield 94.7 mol%). The obtained crystals were quantitatively analyzed by HPLC and GC. The results are shown in Table 2.
このように、表1から分かる通り、本発明によれば、副生物や余分な残存アルコール量を低減できるため、高収率かつ高生産効率で4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルが得られる。 Thus, as can be seen from Table 1, according to the present invention, by-products and excess residual alcohol can be reduced, so that hexyl 4-hydroxybenzoate can be obtained with high yield and high production efficiency.
さらに、表2から分かる通り、本発明によれば、4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルを含む粗組成物を精製することで、反応原料や副生物などが除去され、高純度の4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルが得られる。 Furthermore, as can be seen from Table 2, according to the present invention, by purifying a crude composition containing hexyl 4-hydroxybenzoate, reaction raw materials and by-products are removed, and high-purity hexyl 4-hydroxybenzoate is obtained. Is obtained.
Claims (13)
次いで前記粗組成物に塩基性水溶液を添加して粗組成物を中和する工程、
次いで有機層と水層に分離し、有機層を抽出する工程
を含む、式(1)で表される4−ヒドロキシ安息香酸ヘキシルの製造方法。
Next, adding a basic aqueous solution to the crude composition to neutralize the crude composition,
Next, a method for producing hexyl 4-hydroxybenzoate represented by the formula (1), which comprises a step of separating the organic layer and the aqueous layer and extracting the organic layer.
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