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JP2018093055A - Temporarily crimping method of anisotropic conductive film, temporarily crimping device of anisotropic conductive film, and anisotropic conductive connection structure - Google Patents

Temporarily crimping method of anisotropic conductive film, temporarily crimping device of anisotropic conductive film, and anisotropic conductive connection structure Download PDF

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JP2018093055A
JP2018093055A JP2016235157A JP2016235157A JP2018093055A JP 2018093055 A JP2018093055 A JP 2018093055A JP 2016235157 A JP2016235157 A JP 2016235157A JP 2016235157 A JP2016235157 A JP 2016235157A JP 2018093055 A JP2018093055 A JP 2018093055A
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Hideaki Okumiya
秀昭 奥宮
宮内 幸一
Koichi Miyauchi
幸一 宮内
康祐 浅羽
Yasuhiro Asaba
康祐 浅羽
裕幸 朝里
Hiroyuki Asari
裕幸 朝里
敬和 隅
Takakazu Sumi
敬和 隅
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide new and improved temporarily crimping method of an anisotropic conductive film and temporarily crimping device of an anisotropic conductive film which can reduce air bubbles in an anisotropic conductive layer, and to provide an anisotropic conductive connection structure.SOLUTION: A temporarily crimping method of an anisotropic conductive film includes: a step of temporarily sticking an anisotropic conductive film onto a surface of a first substrate laminated on an optical resin layer; and a step of temporarily crimping the anisotropic conductive film onto the first substrate by pressing a pressing surface of a tool head against the anisotropic conductive film temporarily stuck onto the first substrate, where the pressing surface is curved into a projection shape, and a radius of curvature of the pressing surface is more than 5.5 mm.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、異方性導電フィルムの仮圧着方法、異方性導電フィルムの仮圧着装置、および異方性導電接続構造体に関する。   The present invention relates to a method for temporarily pressing an anisotropic conductive film, a device for temporarily pressing an anisotropic conductive film, and an anisotropic conductive connection structure.

例えば特許文献1〜6に開示されるように、複数の基板同士を異方性導電接続する技術が知られている。この技術では、まず、特許文献1、2に開示されるように、一方の基板(第1の基板)上に異方性導電接続フィルムを仮貼りする。ついで、ツールヘッドを異方性導電フィルムに押し当てることで、第1の基板上に異方性導電フィルムを仮圧着する。その後、異方性導電フィルム上に他方の基板(第2の基板)を積層し、第2の基板を異方性導電フィルムに本圧着することで、複数の基板同士を異方性導電接続する。結果物である異方性導電接続構造体は、複数の基板と、これらの基板を異方性導電接続する異方性導電層とを含む。なお、各基板上には電極端子が設けられており、異方性導電層は、これらの電極端子同士を異方性導電接続する。   For example, as disclosed in Patent Documents 1 to 6, a technique for anisotropic conductive connection between a plurality of substrates is known. In this technique, first, as disclosed in Patent Documents 1 and 2, an anisotropic conductive connection film is temporarily pasted on one substrate (first substrate). Next, the anisotropic conductive film is temporarily pressure-bonded onto the first substrate by pressing the tool head against the anisotropic conductive film. Then, the other board | substrate (2nd board | substrate) is laminated | stacked on an anisotropic conductive film, and several board | substrates are anisotropically conductive-connected by carrying out this pressure bonding to the anisotropic conductive film. . The resulting anisotropic conductive connection structure includes a plurality of substrates and an anisotropic conductive layer that anisotropically connects these substrates. In addition, the electrode terminal is provided on each board | substrate and an anisotropic conductive layer connects these electrode terminals anisotropically conductively.

特開2007−324471号公報JP 2007-324471 A 特開2011−17011号公報JP 2011-17011 A 特開2010−67922号公報JP 2010-67922 A 特開2009−260379号公報JP 2009-260379 A 特開平5−273570号公報JP-A-5-273570 特開平10−310743号公報JP-A-10-310743

ところで、異方性導電フィルムを第1の基板上に仮圧着する際に、異方性導電フィルムと第1の基板との間に隙間が形成され、この隙間が気泡となって本圧着後にも残留する場合があった。このような気泡は、第1の基板がタッチパネル用の基板となる場合に、特に残留しやすかった。その理由は以下の通りである。   By the way, when the anisotropic conductive film is temporarily pressure-bonded onto the first substrate, a gap is formed between the anisotropic conductive film and the first substrate. In some cases, it remained. Such bubbles are particularly likely to remain when the first substrate is a touch panel substrate. The reason is as follows.

第1に、第1の基板はプラスチック基板(例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)基板)で構成されることが多い。このようなプラスチック基板は剛性が低いため、仮圧着時に変形しやすい。したがって、仮圧着時に気泡が発生しやすい。   First, the first substrate is often composed of a plastic substrate (eg, a polyethylene terephthalate (PET) substrate). Since such a plastic substrate has low rigidity, it is likely to be deformed during temporary pressure bonding. Therefore, bubbles are likely to be generated during temporary pressure bonding.

第2に、第1の基板は、画像表示装置等の表面に光学樹脂層を介して積層される場合が多い。このような光学樹脂層は仮圧着時に変形しやすい。この結果、第1の基板が光学樹脂層の変形に追従して変形しやすい。したがって、仮圧着時に気泡が発生しやすい。   Secondly, the first substrate is often laminated on the surface of an image display device or the like via an optical resin layer. Such an optical resin layer is easily deformed at the time of temporary pressure bonding. As a result, the first substrate easily deforms following the deformation of the optical resin layer. Therefore, bubbles are likely to be generated during temporary pressure bonding.

第3に、第1の基板上にはユーザのタッチ操作を検出するための電極群が配置される。このような電極群から延長した異方性接続の端子配列(電極群とは異なる材料で端子配列が設けられる場合もある)にクラックが発生しないようにするために、本圧着時の圧力をなるべく低くすることが求められている。特に、近年、これらの電極群や異方性接続の端子部を金属膜で形成することが多くなってきている。電極群や異方性接続の端子部が金属膜で構成される場合、電極群にクラックが入りやすいため、本圧着時の圧力を極めて低くする必要がある。また、第1の基板自体が変形しやすいため、この点でも本圧着時の圧力をなるべく低くすることが求められている。そして、本圧着時の圧力を低くした場合、本圧着時に異方性導電フィルムを構成する樹脂が流動しにくくなるため、気泡が抜けにくくなる。したがって、本圧着後に気泡が残留しやすい。   Third, an electrode group for detecting a user's touch operation is disposed on the first substrate. In order to prevent cracks from occurring in the terminal array of anisotropic connection extended from such an electrode group (the terminal array may be provided with a material different from that of the electrode group), the pressure at the time of the main pressure bonding is as much as possible. There is a need to lower it. In particular, in recent years, these electrode groups and anisotropic connection terminal portions are often formed of metal films. When the electrode group and the terminal portion for anisotropic connection are made of a metal film, the electrode group is likely to crack, so the pressure during the main press bonding needs to be extremely low. In addition, since the first substrate itself is easily deformed, it is required that the pressure during the main press bonding be as low as possible. And when the pressure at the time of main press-bonding is lowered, the resin constituting the anisotropic conductive film is difficult to flow at the time of main press-bonding, so bubbles are difficult to escape. Therefore, bubbles tend to remain after the main press bonding.

そして、このような気泡は、異方性導電層の外観を損なうだけでなく、異方性導電接続部分の信頼性(例えば接続抵抗)を低下させる可能性があった。このため、本圧着後の異方性導電層中の気泡を低減することが強く求められていた。   Such air bubbles not only impair the appearance of the anisotropic conductive layer, but also reduce the reliability (for example, connection resistance) of the anisotropic conductive connection portion. For this reason, it has been strongly demanded to reduce bubbles in the anisotropic conductive layer after the main pressure bonding.

しかし、このような技術は十分に検討されていなかった。例えば、特許文献3〜6は、本圧着時のツールヘッドの形状を工夫した技術を開示しているが、これらの技術では、異方性導電層中の気泡を低減することができなかった。   However, such a technique has not been fully studied. For example, Patent Documents 3 to 6 disclose techniques that devise the shape of the tool head at the time of the main pressure bonding, but these techniques cannot reduce bubbles in the anisotropic conductive layer.

そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、異方性導電層中の気泡を低減することが可能な、新規かつ改良された異方性導電フィルムの仮圧着方法、異方性導電フィルムの仮圧着装置、および異方性導電接続構造体を提供することにある。   Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is a new and improved anisotropy capable of reducing bubbles in the anisotropic conductive layer. An object of the present invention is to provide a method for temporarily pressing a conductive film, a device for temporarily pressing an anisotropic conductive film, and an anisotropic conductive connection structure.

上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、光学樹脂層上に積層された第1の基板の表面に異方性導電フィルムを仮貼りする工程と、第1の基板上に仮貼りされた異方性導電フィルムにツールヘッドの押圧面を押し当てることで、第1の基板上に異方性導電フィルムを仮圧着する工程と、を含み、押圧面は、凸状に湾曲しており、押圧面の曲率半径は5.5mm超である、異方性導電フィルムの仮圧着方法が提供される。   In order to solve the above problems, according to one aspect of the present invention, a step of temporarily attaching an anisotropic conductive film to a surface of a first substrate laminated on an optical resin layer, Temporarily pressing the anisotropic conductive film onto the first substrate by pressing the pressing surface of the tool head against the temporarily attached anisotropic conductive film, and the pressing surface is curved in a convex shape Thus, there is provided a method for temporarily pressing an anisotropic conductive film, wherein the radius of curvature of the pressing surface is greater than 5.5 mm.

ここで、押圧面は、異方性導電フィルムの幅方向に凸状に湾曲していてもよい。   Here, the pressing surface may be curved convexly in the width direction of the anisotropic conductive film.

また、第1の基板は、プラスチック基板であってもよい。   Further, the first substrate may be a plastic substrate.

また、第1の基板は、タッチパネル用の基板であってもよい。   The first substrate may be a touch panel substrate.

また、光学樹脂層は、第3の基板上に積層されていてもよい。   Further, the optical resin layer may be laminated on the third substrate.

また、第3の基板は、画像表示装置の基板であってもよい。   Further, the third substrate may be a substrate of an image display device.

本発明の他の観点によれば、押圧面が凸状に湾曲したツールヘッドを有し、押圧面の曲率半径が5.5mm超である、異方性導電フィルムの仮圧着装置が提供される。   According to another aspect of the present invention, there is provided an apparatus for temporarily bonding an anisotropic conductive film having a tool head having a pressing surface curved in a convex shape and having a curvature radius of the pressing surface of more than 5.5 mm. .

本発明の他の観点によれば、光学樹脂層上に積層された第1の基板と、第1の基板上に異方性導電層を介して積層された第2の基板と、を有し、異方性導電層に含まれる気泡の面積は、異方性導電層の総面積に対して15%未満である、異方性導電接続構造体が提供される。   According to another aspect of the present invention, a first substrate laminated on an optical resin layer, and a second substrate laminated on the first substrate via an anisotropic conductive layer, An anisotropic conductive connection structure is provided in which the area of the bubbles contained in the anisotropic conductive layer is less than 15% with respect to the total area of the anisotropic conductive layer.

以上説明したように本発明によれば、ツールヘッドの押圧面が凸状に湾曲しているので、仮圧着時に気泡が逃げやすくなる。このため、仮圧着後に残留する気泡の量が低減し、ひいては、異方性導電層中の気泡を低減することができる。   As described above, according to the present invention, since the pressing surface of the tool head is curved in a convex shape, air bubbles easily escape during provisional pressure bonding. For this reason, the amount of bubbles remaining after provisional pressure bonding is reduced, and as a result, bubbles in the anisotropic conductive layer can be reduced.

本発明の実施形態に係る異方性導電フィルムの仮圧着方法を説明するための側断面図である。It is a sectional side view for demonstrating the temporary crimping | compression-bonding method of the anisotropic conductive film which concerns on embodiment of this invention. 同実施形態に係る異方性導電フィルムの仮圧着方法を説明するための側断面図である。It is a sectional side view for demonstrating the temporary crimping | compression-bonding method of the anisotropic conductive film which concerns on the same embodiment. 同実施形態に係る異方性導電フィルムの本圧着方法を説明するための側断面図である。It is a sectional side view for demonstrating the main crimping | compression-bonding method of the anisotropic conductive film which concerns on the same embodiment. 同実施形態に係る異方性導電接続構造体の構造を説明するための側断面図である。It is a sectional side view for demonstrating the structure of the anisotropic conductive connection structure which concerns on the same embodiment. 従来の異方性導電フィルムの仮圧着方法を説明するための側断面図である。It is a sectional side view for demonstrating the conventional temporary crimping | compression-bonding method of an anisotropic conductive film. 従来の異方性導電フィルムの仮圧着方法を説明するための側断面図である。It is a sectional side view for demonstrating the conventional temporary crimping | compression-bonding method of an anisotropic conductive film.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。   Exemplary embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, in this specification and drawing, about the component which has the substantially same function structure, duplication description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol.

<1.従来の異方性導電フィルムの仮圧着方法>
本発明者は、従来の異方性導電フィルムの仮圧着方法を鋭意検討した結果、本実施形態に係る異方性導電フィルムの仮圧着方法に想到した。そこで、まず、図5および図6に基づいて、従来の異方性導電フィルムの仮圧着方法について説明する。
<1. Conventional Temporary Pressure Bonding Method for Anisotropic Conductive Film>
As a result of intensive studies on a conventional method for temporarily pressing an anisotropic conductive film, the present inventor has come up with the method for temporarily pressing an anisotropic conductive film according to the present embodiment. Therefore, first, a conventional method for temporarily pressing an anisotropic conductive film will be described with reference to FIGS.

図5に示す例では、第1の基板30が光学樹脂層40を介して第3の基板70に積層されている。第1の基板30は、タッチパネル用の基板であり、具体的にはプラスチック基板である。したがって、第1の基板30は、剛性が低い。また、第1の基板30上には、ユーザによるタッチ操作を検出する電極群が形成されており、第1の基板30の端部には、電極群に接続された電極端子群が形成されている。電極端子群は、第2の基板(図示せず)の電極端子群と異方性導電接続される。第2の基板は例えばフレキシブル基板である。第3の基板70は、画像表示装置の基板である。   In the example shown in FIG. 5, the first substrate 30 is laminated on the third substrate 70 via the optical resin layer 40. The first substrate 30 is a substrate for a touch panel, specifically a plastic substrate. Therefore, the first substrate 30 has low rigidity. In addition, an electrode group for detecting a touch operation by a user is formed on the first substrate 30, and an electrode terminal group connected to the electrode group is formed at an end of the first substrate 30. Yes. The electrode terminal group is anisotropically conductively connected to the electrode terminal group of the second substrate (not shown). The second substrate is a flexible substrate, for example. The third substrate 70 is a substrate of the image display device.

そして、異方性導電フィルム10の一方の表面を第1の基板30上に仮貼りする。具体的には、異方性導電フィルム10の一方の表面を電極端子群が形成されている領域上に仮貼りする。ここで、異方性導電フィルム10の他方の表面には剥離フィルム20が貼り付けられている。ついで、緩衝材200を剥離フィルム20上に設置する。ついで、図6に示すように、仮圧着用ツールヘッド500を矢印A方向(すなわち、下方向)に移動させることで、仮圧着用ツールヘッド500の押圧面510を緩衝材200に押し当てる。これにより、異方性導電フィルム10を第1の基板30に仮圧着する。ここで、押圧面510は平坦面となっている。   Then, one surface of the anisotropic conductive film 10 is temporarily attached onto the first substrate 30. Specifically, one surface of the anisotropic conductive film 10 is temporarily pasted on the region where the electrode terminal group is formed. Here, the release film 20 is attached to the other surface of the anisotropic conductive film 10. Next, the buffer material 200 is placed on the release film 20. Next, as shown in FIG. 6, the pressing surface 510 of the temporary press-bonding tool head 500 is pressed against the buffer material 200 by moving the temporary press-bonding tool head 500 in the direction of arrow A (ie, downward). Thereby, the anisotropic conductive film 10 is temporarily pressure-bonded to the first substrate 30. Here, the pressing surface 510 is a flat surface.

この際、第1の基板30および光学樹脂層40は大きく変形し、異方性導電フィルム10と第1の基板30との間に隙間、すなわち気泡Bが形成される。そして、押圧面510は平坦面となっているため、押圧面510の端部からの圧力が大きくなりやすい。このため、異方性導電フィルム10の端部から第1の基板30に仮圧着される。このため、気泡Bが逃げにくくなり、異方性導電フィルム10と第1の基板30との間に残留する。その後、第1の基板30と第2の基板とを本圧着するが、本圧着の圧力を高める事ができないため、気泡Bが残留しやすい。   At this time, the first substrate 30 and the optical resin layer 40 are greatly deformed, and a gap, that is, a bubble B is formed between the anisotropic conductive film 10 and the first substrate 30. And since the press surface 510 is a flat surface, the pressure from the edge part of the press surface 510 tends to become large. For this reason, it is temporarily pressure-bonded to the first substrate 30 from the end of the anisotropic conductive film 10. For this reason, the bubbles B are difficult to escape and remain between the anisotropic conductive film 10 and the first substrate 30. Thereafter, the first substrate 30 and the second substrate are subjected to main pressure bonding. However, since the pressure of the main pressure bonding cannot be increased, the bubbles B tend to remain.

上述したように、仮圧着時に気泡が発生する理由として、仮圧着用ツールヘッド500の押圧面510が平坦であることが挙げられる。そこで、本発明者は、押圧面510の形状に着目した。この結果、本発明者は、本実施形態に係る異方性導電接続方法に想到した。以下、本実施形態について詳細に説明する。   As described above, the reason why bubbles are generated during temporary pressure bonding is that the pressing surface 510 of the tool head 500 for temporary pressure bonding is flat. Therefore, the inventor paid attention to the shape of the pressing surface 510. As a result, the present inventor has conceived the anisotropic conductive connection method according to the present embodiment. Hereinafter, this embodiment will be described in detail.

<2.本実施形態に係る異方性導電フィルムの仮圧着方法>
つぎに、図1〜図2に基づいて、本実施形態に係る異方性導電フィルムの仮圧着方法について説明する。
<2. Temporary Pressure Bonding Method for Anisotropic Conductive Film According to this Embodiment>
Below, based on FIGS. 1-2, the temporary crimping | compression-bonding method of the anisotropic conductive film which concerns on this embodiment is demonstrated.

(2−1.仮貼り工程)
まず、第1の基板30上に異方性導電フィルム10を仮貼りする。第1の基板30は、第3の基板70上に光学樹脂層40を介して積層されている。
(2-1. Temporary pasting step)
First, the anisotropic conductive film 10 is temporarily attached on the first substrate 30. The first substrate 30 is laminated on the third substrate 70 via the optical resin layer 40.

第1の基板30は、タッチパネル用の基板である。したがって、第1の基板30上には、ユーザによるタッチ操作を検出するための電極群と、これらの電極群に接続される電極端子群とが形成される。   The first substrate 30 is a touch panel substrate. Accordingly, an electrode group for detecting a touch operation by the user and an electrode terminal group connected to these electrode groups are formed on the first substrate 30.

電極群および電極端子群を構成する材料は特に問われない。例えば、電極群および電極端子群は、ITO(酸化インジウムスズ)で構成されても良いし、金属膜で構成されても良い。金属膜を構成する金属としては、例えば金、銀、銅、アルミニウム、亜鉛、及びこれらの2種以上の合金等が挙げられる。金属膜の表面には絶縁層が形成されていても良い。絶縁層は防錆処理を施した、防錆処理層であってもよい。また、電極群および電極端子群は、金属粒子で構成されてもよい。この場合、第1の基板30上に凹部が形成され、この凹部内に金属粒子が充填される。金属粒子を構成する金属としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、亜鉛、及びこれらの2種以上の合金等が挙げられる。また、電極群および電極端子群は、金属ナノワイヤで構成されていても良い。この場合、金属ナノワイヤは、バインダによって第1の基板30上に固定される。金属ナノワイヤを構成する金属としては、例えば、Ag、Au、Ni、Cu、Pd、Pt、Rh、Ir、Ru、Os、Fe、Co及びSn等が挙げられる。金属ナノワイヤには、ヘイズ値を下げる(すなわち、被視認性を下げる)ための処理(例えば、染色や黒化処理など)を行ってもよい。   The material which comprises an electrode group and an electrode terminal group is not ask | required in particular. For example, the electrode group and the electrode terminal group may be made of ITO (indium tin oxide) or a metal film. Examples of the metal constituting the metal film include gold, silver, copper, aluminum, zinc, and alloys of two or more thereof. An insulating layer may be formed on the surface of the metal film. The insulating layer may be a rust-proofing layer that has been rust-proofed. The electrode group and the electrode terminal group may be composed of metal particles. In this case, a recess is formed on the first substrate 30 and the recess is filled with metal particles. As a metal which comprises a metal particle, gold | metal | money, silver, copper, aluminum, zinc, these 2 or more types of alloys, etc. are mentioned, for example. Moreover, the electrode group and the electrode terminal group may be comprised with the metal nanowire. In this case, the metal nanowire is fixed on the first substrate 30 by a binder. Examples of the metal constituting the metal nanowire include Ag, Au, Ni, Cu, Pd, Pt, Rh, Ir, Ru, Os, Fe, Co, and Sn. The metal nanowire may be subjected to a treatment (for example, dyeing or blackening treatment) for lowering the haze value (that is, reducing visibility).

また、第1の基板30は、透明性を有するプラスチック基板で構成される。例えば、第1の基板30は、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート(PET)、トリアセチルセルロース、環状オレフィン系樹脂(COC)等が挙げられる。第1の基板30は、透明ガラス等で構成されてもよい。   The first substrate 30 is made of a plastic substrate having transparency. For example, examples of the first substrate 30 include polycarbonate, acrylic, polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose, and cyclic olefin resin (COC). The first substrate 30 may be made of transparent glass or the like.

また、第1の基板30の引張弾性率は、例えば1800〜4500MPa程度であっても良い。例えば、第1の基板30がPETで構成される場合、第1の基板30の引張弾性率は2000〜4100MPaとなる。また、第1の基板30がCOCで構成される場合、第1の基板30の引張弾性率は2600〜3000MPaとなる。   Further, the tensile elastic modulus of the first substrate 30 may be about 1800 to 4500 MPa, for example. For example, when the first substrate 30 is made of PET, the tensile elastic modulus of the first substrate 30 is 2000 to 4100 MPa. Moreover, when the 1st board | substrate 30 is comprised by COC, the tensile elasticity modulus of the 1st board | substrate 30 will be 2600-3000 MPa.

第1の基板30の厚さは特に制限されず、第1の基板30に求められる特性等に応じて適宜設定されれば良い。一例として、25〜300μmが挙げられる。ただし、第1の基板30が厚いほど、仮圧着時に気泡が発生しにくくなる傾向がある。   The thickness of the first substrate 30 is not particularly limited, and may be set as appropriate according to characteristics required for the first substrate 30. As an example, 25-300 micrometers is mentioned. However, as the first substrate 30 is thicker, bubbles tend to be less likely to be generated during temporary pressure bonding.

なお、第1の基板30は上述した例に限定されず、異方性導電接続の対象となる基板であればよい。ただし、第1の基板30が上述した構成を有する場合、第1の基板30は非常に変形しやすいので、仮圧着時に気泡が発生しやすい。さらに、本圧着時に圧力を高めることができないため、気泡が残留しやすい。このため、本実施形態の効果が好適に得られる。   In addition, the 1st board | substrate 30 is not limited to the example mentioned above, What is necessary is just a board | substrate used as the object of anisotropic conductive connection. However, when the first substrate 30 has the above-described configuration, the first substrate 30 is very easily deformed, so that bubbles are likely to be generated during temporary pressure bonding. Furthermore, since the pressure cannot be increased during the main pressure bonding, bubbles tend to remain. For this reason, the effect of this embodiment is acquired suitably.

光学樹脂層40は、第1の基板30を第3の基板70に接着するための層であり、例えばOCA(Optically Clear Adhesive)、OCR(Optically Clear Resin)等で構成される。光学樹脂層40は非常に柔らかく、仮圧着時に変形しやすい。この結果、第1の基板が光学樹脂層の変形に追従して変形しやすい。したがって、仮圧着時に気泡が発生しやすい。したがって、仮圧着時に気泡が発生しやすい。   The optical resin layer 40 is a layer for adhering the first substrate 30 to the third substrate 70, and is made of, for example, OCA (Optically Clear Adhesive), OCR (Optically Clear Resin), or the like. The optical resin layer 40 is very soft and easily deforms during temporary pressure bonding. As a result, the first substrate easily deforms following the deformation of the optical resin layer. Therefore, bubbles are likely to be generated during temporary pressure bonding. Therefore, bubbles are likely to be generated during temporary pressure bonding.

光学樹脂層40の厚さは特に制限されないが、光学樹脂層40が薄いほど仮圧着時に気泡が発生しにくくなる傾向がある。このため、光学樹脂層40の厚さは、例えば、250μm以下であることが好ましく、100μm以下であることがより好ましい。また、光学樹脂層40の引張弾性率は特に制限されないが、例えば10〜200KPaであってもよい。もしくは、25℃における貯蔵弾性率が1×10〜2×10Paであってもよい。 The thickness of the optical resin layer 40 is not particularly limited. However, the thinner the optical resin layer 40 is, the more likely that bubbles are less likely to be generated during temporary pressure bonding. For this reason, the thickness of the optical resin layer 40 is preferably, for example, 250 μm or less, and more preferably 100 μm or less. Further, the tensile elastic modulus of the optical resin layer 40 is not particularly limited, but may be, for example, 10 to 200 KPa. Alternatively, the storage elastic modulus at 25 ° C. may be 1 × 10 3 to 2 × 10 6 Pa.

第3の基板70は、例えば画像表示装置の基板、すなわち画像表示装置のトッププレートである。第3の基板70の材質は特に制限されず、例えば第1の基板と同様の材質であっても良い。また、第3の基板70は画像表示装置の基板に限定されず、他の種類の基板であってもよい。   The third substrate 70 is, for example, a substrate of an image display device, that is, a top plate of the image display device. The material in particular of the 3rd board | substrate 70 is not restrict | limited, For example, the material similar to a 1st board | substrate may be sufficient. The third substrate 70 is not limited to the substrate of the image display device, and may be another type of substrate.

異方性導電フィルム10の両面のうち、一方の面が第1の基板30上に仮貼りされる。具体的には、異方性導電フィルム10は、電極端子群が形成されている領域に仮貼りされる。異方性導電フィルム10の他方の面には剥離フィルム20が貼り付けられている。剥離フィルム20は省略されていても良い。   One side of the anisotropic conductive film 10 is temporarily attached on the first substrate 30. Specifically, the anisotropic conductive film 10 is temporarily attached to the region where the electrode terminal group is formed. A release film 20 is attached to the other surface of the anisotropic conductive film 10. The release film 20 may be omitted.

異方性導電フィルム10は、後述する本圧着によって異方性導電層10a(図4参照)となり、第1の基板30(より具体的には第1の基板30に形成されている電極端子群)と後述する第2の基板60(より具体的には第2の基板60に形成されている電極端子群)とを異方性導電接続する。   The anisotropic conductive film 10 becomes an anisotropic conductive layer 10a (see FIG. 4) by a final press-bonding described later, and a first substrate 30 (more specifically, an electrode terminal group formed on the first substrate 30). ) And a second substrate 60 described later (more specifically, an electrode terminal group formed on the second substrate 60) are anisotropically conductively connected.

異方性導電フィルム10は、膜形成樹脂と、硬化性樹脂と、導電性粒子とを備える。硬化性樹脂は、重合性化合物、及び硬化開始剤を含む。   The anisotropic conductive film 10 includes a film-forming resin, a curable resin, and conductive particles. The curable resin includes a polymerizable compound and a curing initiator.

膜形成樹脂は、異方性導電フィルムの形状を維持するための樹脂である。膜形成樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ブチラール樹脂などの種々の樹脂を用いることができる。また、本実施形態では、これらの膜形成樹脂のうちいずれか1種だけを使用することもできるし、2種以上を任意に組み合わせて使用することもできる。なお、膜形成樹脂は、膜形成性および接着信頼性を良好にするという観点からは、フェノキシ樹脂であることが好ましい。   The film-forming resin is a resin for maintaining the shape of the anisotropic conductive film. As the film forming resin, for example, various resins such as an epoxy resin, a phenoxy resin, a polyester urethane resin, a polyester resin, a polyurethane resin, an acrylic resin, a polyimide resin, and a butyral resin can be used. In the present embodiment, only one of these film-forming resins can be used, or two or more can be used in any combination. In addition, it is preferable that film forming resin is a phenoxy resin from a viewpoint of making film forming property and adhesive reliability favorable.

重合性化合物は、硬化開始剤によって硬化する樹脂である。硬化した重合性化合物は、第1の基板30と第2の基板60とを接着するとともに、導電性粒子を異方性導電層内に保持する。重合性化合物としては、例えばエポキシ重合性化合物、及びアクリル重合性化合物等が挙げられる。エポキシ重合性化合物は、分子内に1つまたは2つ以上のエポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、またはプレポリマーである。エポキシ重合性化合物としては、各種ビスフェノール型エポキシ樹脂(ビスフェノールA型、F型等)、ノボラック型エポキシ樹脂、ゴムおよびウレタン等の各種変性エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、及びこれらのプレポリマー等が挙げられる。   The polymerizable compound is a resin that is cured by a curing initiator. The cured polymerizable compound bonds the first substrate 30 and the second substrate 60 and holds the conductive particles in the anisotropic conductive layer. Examples of the polymerizable compound include an epoxy polymerizable compound and an acrylic polymerizable compound. The epoxy polymerizable compound is a monomer, oligomer, or prepolymer having one or more epoxy groups in the molecule. As epoxy polymerizable compounds, various bisphenol type epoxy resins (bisphenol A type, F type, etc.), novolac type epoxy resins, various modified epoxy resins such as rubber and urethane, naphthalene type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, phenol novolac type Examples thereof include epoxy resins, stilbene type epoxy resins, triphenolmethane type epoxy resins, dicyclopentadiene type epoxy resins, triphenylmethane type epoxy resins, and prepolymers thereof.

アクリル重合性化合物は、分子内に1つまたは2つ以上のアクリル基を有するモノマー、オリゴマー、またはプレポリマーである。アクリル重合性化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、イソブチルアクリレート、エポキシアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、テトラメチレングリコールテトラアクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジアクリロキシプロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシメトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシエトキシ)フェニル]プロパン、ジシクロペンテニルアクリレート、トリシクロデカニルアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアネレート、およびウレタンアクリレート等が挙げられる。本実施形態では、上記で列挙した重合性化合物のうちいずれか1種を用いてもよく、2種以上を任意に組み合わせて用いてもよい。   The acrylic polymerizable compound is a monomer, oligomer, or prepolymer having one or more acrylic groups in the molecule. Examples of the acrylic polymerizable compound include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, epoxy acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylol propane triacrylate, dimethylol tricyclodecane diacrylate, and tetramethylene glycol. Tetraacrylate, 2-hydroxy-1,3-diacryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxyethoxy) phenyl] propane, Examples include dicyclopentenyl acrylate, tricyclodecanyl acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanate, and urethane acrylate. That. In the present embodiment, any one of the polymerizable compounds listed above may be used, or two or more may be used in any combination.

硬化開始剤は、例えば、熱硬化開始剤である。熱硬化開始剤は、熱によって上記重合性化合物とともに硬化する材料である。熱硬化開始剤の種類も特に制限されない。熱硬化開始剤としては、例えば、エポキシ重合性化合物を硬化させる熱アニオンまたは熱カチオン硬化開始剤、アクリル重合性化合物を硬化させる熱ラジカル重合型硬化剤等が挙げられる。本実施形態では、重合性化合物によって適切な熱硬化開始剤を選択すればよい。なお、硬化開始剤の他の例としては、光硬化開始剤が挙げられる。光硬化開始剤としては、例えば、エポキシ重合性化合物を硬化させる光アニオンまたは光カチオン硬化開始剤、アクリル重合性化合物を硬化させる光ラジカル重合型硬化剤等が挙げられる。   The curing initiator is, for example, a thermosetting initiator. The thermosetting initiator is a material that is cured together with the polymerizable compound by heat. The kind of thermosetting initiator is not particularly limited. Examples of the thermosetting initiator include a thermal anion or thermal cation curing initiator that cures the epoxy polymerizable compound, and a thermal radical polymerization curing agent that cures the acrylic polymerizable compound. In this embodiment, an appropriate thermosetting initiator may be selected depending on the polymerizable compound. In addition, a photocuring initiator is mentioned as another example of a curing initiator. Examples of the photocuring initiator include a photoanion or photocationic curing initiator that cures an epoxy polymerizable compound, and a photo radical polymerization curing agent that cures an acrylic polymerizable compound.

また、異方性導電フィルムには、上記の成分の他、各種添加剤等を含めてもよい。異方性導電フィルムに添加可能な添加剤としては、シランカップリング剤、無機フィラー、着色剤、酸化防止剤、および防錆剤等が挙げられる。シランカップリング剤の種類は特に制限されない。シランカップリング剤としては、例えば、エポキシ系、アミノ系、メルカプト・スルフィド系、ウレイド系のシランカップリング剤等が挙げられる。   The anisotropic conductive film may contain various additives in addition to the above components. Examples of additives that can be added to the anisotropic conductive film include silane coupling agents, inorganic fillers, colorants, antioxidants, and rust inhibitors. The kind of silane coupling agent is not particularly limited. Examples of the silane coupling agent include epoxy-based, amino-based, mercapto-sulfide-based, and ureido-based silane coupling agents.

また、無機フィラーは、異方性導電フィルムの流動性及び膜強度を調整するための添加剤である。無機フィラーの種類も特に制限されない。無機フィラーとしては、例えば、シリカ、タルク、酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム等が挙げられる。   The inorganic filler is an additive for adjusting the fluidity and film strength of the anisotropic conductive film. The kind of inorganic filler is not particularly limited. Examples of the inorganic filler include silica, talc, titanium oxide, calcium carbonate, and magnesium oxide.

導電性粒子は、異方性導電層10a内で第1の基板30上の電極端子群(以下、「第1の電極端子群」とも称する)と第2の基板60上の電極端子群(以下、「第2の電極端子群」とも称する)とを導通する材料である。具体的には、異方性導電層10a内で第1の電極端子群と第2の電極端子群とで挟持された導電性粒子は、これらの電極端子群を導通させる。一方、他の導電性粒子(例えば、第1の電極端子群を構成する電極端子同士の隙間に入り込んだ導電性粒子、第2の電極端子群を構成する電極端子同士の隙間に入り込んだ導電性粒子等)は、何れの端子間も導通させない(すなわち、第1の電極端子群を構成する電極端子間で導電性粒子が連なる形でのショート、第2の電極端子群を構成する電極端子間で導電性粒子が連なる形でのショートなどを生じさせない)。したがって、導電性粒子は、異方性導電層10a内で第1の電極端子群を構成する電極端子間および第2の電極端子群を構成する電極端子同士の絶縁性を維持しつつ、第1の電極端子群と第2の電極端子群とを導通させることができる。すなわち、導電性粒子は、異方性導電層10a内で第1の電極端子群と第2の電極端子群とに挟待されることでこれらを導通し、異方性導電接続する。導電性粒子はショートしない程度に分散していてもよく、異方性導電フィルムに個々に独立するように配置されていてもよい。この配置は、各電極端子のサイズや電極端子の配列方向における距離などによって適宜設定されるが、規則的であってもよい。   The conductive particles are composed of an electrode terminal group on the first substrate 30 (hereinafter also referred to as “first electrode terminal group”) and an electrode terminal group (hereinafter referred to as “first electrode terminal group”) in the anisotropic conductive layer 10a. , Also referred to as “second electrode terminal group”). Specifically, the conductive particles sandwiched between the first electrode terminal group and the second electrode terminal group in the anisotropic conductive layer 10a make these electrode terminal groups conductive. On the other hand, other conductive particles (for example, conductive particles that have entered the gap between the electrode terminals constituting the first electrode terminal group, and conductivity that have entered the gap between the electrode terminals that constitute the second electrode terminal group. Particles or the like do not conduct between any terminals (that is, short-circuit in the form of continuous conductive particles between the electrode terminals constituting the first electrode terminal group, between the electrode terminals constituting the second electrode terminal group Does not cause short circuit in the form of continuous conductive particles). Accordingly, the conductive particles maintain the insulation between the electrode terminals constituting the first electrode terminal group and between the electrode terminals constituting the second electrode terminal group in the anisotropic conductive layer 10a, while maintaining the insulation between the electrode terminals constituting the first electrode terminal group. The electrode terminal group and the second electrode terminal group can be made conductive. That is, the conductive particles are sandwiched between the first electrode terminal group and the second electrode terminal group in the anisotropic conductive layer 10a, thereby conducting them and making an anisotropic conductive connection. The conductive particles may be dispersed to such an extent that they do not short-circuit, and may be arranged individually on the anisotropic conductive film. This arrangement is appropriately set depending on the size of each electrode terminal, the distance in the arrangement direction of the electrode terminals, and the like, but may be regular.

導電性粒子の構造は特に問われず、いわゆる金属被覆樹脂粒子であってもよいし、金属粒子であってもよい。なお、導電性粒子が金属被覆樹脂粒子となる場合、樹脂粒子の圧縮後の反発により第1の電極端子群と第2の電極端子群との導通を長期に亘って維持することができる。すなわち、第1の電極端子群と第2の電極端子群とを直接かつ安定して異方性導電接続することができる。金属被覆樹脂粒子のコアを構成する樹脂粒子は、圧縮変形に優れるプラスチック材料からなる粒子であることが好ましい。樹脂粒子を構成する材料としては、例えば、(メタ)アクリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン−(メタ)アクリル共重合樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール樹脂、アクリロニトリル・スチレン(AS)樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ジビニルベンゼン系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。例えば(メタ)アクリレート系樹脂で樹脂粒子を形成する場合には、この(メタ)アクリル系樹脂は、(メタ)アクリル酸エステルと、さらに必要によりこれと共重合可能な反応性二重結合を有する化合物および二官能あるいは多官能性モノマーとの共重合体であることが好ましい。導電性粒子は2種類以上を用いてもよい。この場合、例えば、異なる金属被覆樹脂粒子を2種類以上用いてもよい。従って、導電性粒子の組み合わせは特に制限されない。   The structure of the conductive particles is not particularly limited, and may be so-called metal-coated resin particles or metal particles. When the conductive particles are metal-coated resin particles, continuity between the first electrode terminal group and the second electrode terminal group can be maintained for a long time due to repulsion after compression of the resin particles. That is, the first electrode terminal group and the second electrode terminal group can be directly and stably anisotropically conductively connected. The resin particles constituting the core of the metal-coated resin particles are preferably particles made of a plastic material excellent in compressive deformation. Examples of the material constituting the resin particles include (meth) acrylate resins, polystyrene resins, styrene- (meth) acrylic copolymer resins, urethane resins, epoxy resins, phenol resins, acrylonitrile / styrene (AS) resins. Benzoguanamine resin, divinylbenzene resin, styrene resin, polyester resin and the like. For example, when forming resin particles with a (meth) acrylate resin, the (meth) acrylic resin has a (meth) acrylic acid ester and, if necessary, a reactive double bond copolymerizable therewith. A copolymer of a compound and a bifunctional or polyfunctional monomer is preferable. Two or more kinds of conductive particles may be used. In this case, for example, two or more different metal-coated resin particles may be used. Therefore, the combination of conductive particles is not particularly limited.

樹脂粒子を被覆する被覆層は、導電性を有する材料で構成される。被覆層を構成する材料としては、例えば、銀、金、ニッケル、銅、及びパラジウム等が挙げられる。被覆層は、これらのうち、いずれか1種以上で構成されても良い。なお、導電性粒子が金属粒子で構成される場合、導電性粒子は、これらの材料で構成されうる。導電性粒子が金属粒子で構成される場合、導電性粒子を構成する金属は、被覆層を構成する金属と同様であっても良い。   The coating layer that coats the resin particles is made of a conductive material. Examples of the material constituting the coating layer include silver, gold, nickel, copper, and palladium. The coating layer may be composed of any one or more of these. In addition, when electroconductive particle is comprised with a metal particle, electroconductive particle can be comprised with these materials. When the conductive particles are composed of metal particles, the metal constituting the conductive particles may be the same as the metal constituting the coating layer.

異方性導電フィルムの厚さは特に制限されない。ただし、フィルムが厚くなりすぎると不要な樹脂の量が多くなりすぎ流動性などに問題が生じる。そのため100μm以下が好ましく、40μm以下がより好ましい。薄くなりすぎると取り扱いが困難になるため、5μm以上が好ましく、12μm以上がより好ましい。また、異方性導電フィルムは長尺な形状を有していても良い。長尺な異方性導電フィルムから、適切な長さに切断して使用しても良い。   The thickness of the anisotropic conductive film is not particularly limited. However, if the film becomes too thick, the amount of unnecessary resin becomes too large, causing problems with fluidity. Therefore, 100 micrometers or less are preferable and 40 micrometers or less are more preferable. Since handling will become difficult when it becomes too thin, 5 micrometers or more are preferable and 12 micrometers or more are more preferable. Moreover, the anisotropic conductive film may have a long shape. A long anisotropic conductive film may be cut into an appropriate length for use.

(2−2.仮圧着工程)
ついで、第1の基板30上に異方性導電フィルム10を仮圧着する。具体的には、緩衝材200を剥離フィルム20上に設置する。ついで、図2に示すように、仮圧着用ツールヘッド100を矢印A方向(すなわち、下方向)に移動させることで、仮圧着用ツールヘッド100の押圧面110を緩衝材200に押し当てる。これにより、異方性導電フィルム10を第1の基板30に仮圧着する。
(2-2. Temporary pressure bonding process)
Next, the anisotropic conductive film 10 is temporarily bonded onto the first substrate 30. Specifically, the buffer material 200 is installed on the release film 20. Next, as shown in FIG. 2, the pressing surface 110 of the temporary press-bonding tool head 100 is pressed against the buffer material 200 by moving the temporary press-bonding tool head 100 in the direction of arrow A (ie, downward). Thereby, the anisotropic conductive film 10 is temporarily pressure-bonded to the first substrate 30.

ここで、仮圧着用ツールヘッド100の押圧面110は凸状に湾曲している。湾曲方向は特に制限されず、異方性導電フィルム10の幅方向に湾曲していてもよいし、異方性導電フィルム10の長さ方向に湾曲していてもよい。図2の例では、押圧面110は異方性導電フィルム10の幅方向に湾曲している。幅方向に湾曲している場合、異方性導電フィルムの中央から気泡を押し出すように仮圧着することで気泡の除去がし易くなる。気泡の移動する距離が、相対的に小さくなるからである。   Here, the pressing surface 110 of the temporary press-bonding tool head 100 is curved in a convex shape. The bending direction is not particularly limited, and may be curved in the width direction of anisotropic conductive film 10 or may be curved in the length direction of anisotropic conductive film 10. In the example of FIG. 2, the pressing surface 110 is curved in the width direction of the anisotropic conductive film 10. In the case of bending in the width direction, the bubbles can be easily removed by temporarily pressing the bubbles so as to push out the bubbles from the center of the anisotropic conductive film. This is because the distance traveled by the bubbles is relatively small.

押圧面110の曲率半径は、5.5mm超となる。この場合に、仮圧着時に発生する気泡の量が低減される。曲率半径の上限値は特に制限されず、例えば異方性導電フィルム10のサイズによって調整されてもよい。例えば、押圧面110が異方性導電フィルム10の幅方向に湾曲している場合、異方性導電フィルム10の幅が広いほど曲率半径を大きくしても良い。また、押圧面110の突出高さh(凸部分の先端から基端までの距離)は特に制限されないが、0.03〜0.3mm程度であってもよく、好ましくは0.05〜0.2mmである。   The radius of curvature of the pressing surface 110 is over 5.5 mm. In this case, the amount of bubbles generated during temporary pressure bonding is reduced. The upper limit value of the curvature radius is not particularly limited, and may be adjusted depending on the size of the anisotropic conductive film 10, for example. For example, when the pressing surface 110 is curved in the width direction of the anisotropic conductive film 10, the radius of curvature may be increased as the width of the anisotropic conductive film 10 is wider. The protrusion height h of the pressing surface 110 (distance from the tip end to the base end of the convex portion) is not particularly limited, but may be about 0.03 to 0.3 mm, preferably 0.05 to 0.00 mm. 2 mm.

緩衝材200の厚さは特に制限されないが、0.1〜0.5mmであってもよく、好ましくは0.2〜0.3mmである。   The thickness of the buffer material 200 is not particularly limited, but may be 0.1 to 0.5 mm, and preferably 0.2 to 0.3 mm.

仮圧着時の加圧温度、加圧力は例えば60〜80℃、1MPa以上2MPa未満である。加圧時間は異方性導電フィルム10の材質等によって適宜調整されるが、少なくとも異方性導電フィルム10が第1の基板30上に固定される程度の値に設定される。   The pressurizing temperature and the applied pressure at the time of temporary pressure bonding are, for example, 60 to 80 ° C., 1 MPa or more and less than 2 MPa. The pressing time is appropriately adjusted depending on the material of the anisotropic conductive film 10 or the like, but is set to a value at least enough to fix the anisotropic conductive film 10 on the first substrate 30.

仮圧着の際、第1の基板30および光学樹脂層40は大きく変形するが、押圧面110が凸状に湾曲しているので、押圧面110がこれらの変形に追従することができる。したがって、第1の基板30と異方性導電フィルム10との間に気泡が発生しにくい。さらに、押圧面110の端部からの圧力が低減されるので、異方性導電フィルム10の端部が仮圧着される速度と他の部分が仮圧着される速度との差が小さくなる。このため、仮に気泡が発生しても、異方性導電フィルム10の端部から気泡が逃げやすくなる。したがって、仮圧着後に気泡が残留しにくくなる。   During the temporary pressure bonding, the first substrate 30 and the optical resin layer 40 are greatly deformed. However, since the pressing surface 110 is curved in a convex shape, the pressing surface 110 can follow these deformations. Therefore, bubbles are not easily generated between the first substrate 30 and the anisotropic conductive film 10. Furthermore, since the pressure from the end of the pressing surface 110 is reduced, the difference between the speed at which the end of the anisotropic conductive film 10 is temporarily pressed and the speed at which the other part is temporarily pressed is reduced. For this reason, even if bubbles are generated, the bubbles easily escape from the end of the anisotropic conductive film 10. Therefore, it becomes difficult for bubbles to remain after temporary pressure bonding.

具体的には、仮圧着後の気泡の平面視での面積は、異方性導電フィルムの平面視での総面積(第1の基板30に接着された部分の総面積)に対して15%未満となる。なお、気泡の面積は、金属顕微鏡で仮圧着後の異方性導電フィルム10を観察することで、測定できる。異方性導電フィルム10を撮像し、これにより得られた画像を観察しても良い。また、気泡自体の大きさは多種多様であり、金属顕微鏡であっても十分に確認できない大きさの気泡も存在しうる。このため、例えば気泡を内接する最小の長方形を定義し、この長方形の長軸の長さが100μm以上となる気泡を測定対象としても良い。この方法により測定された気泡の平面視での面積(測定対象となった気泡の総面積)は、異方性導電フィルムの平面視での総面積に対して15%未満となる。なお、仮圧着工程は、ツールヘッド100を備える仮圧着装置によって行われる。仮圧着装置は、ツールヘッド100を備えている他は、従来の仮圧着装置と同様に構成されていれば良い。ここで、ツールヘッド100は、例えば従来のツールヘッドの押圧面を削り出しによって研磨することで得られる。また、仮貼り工程も上述したツールヘッド100を用いて行っても良い。この場合、まず、異方性導電フィルム10の露出面が第1の基板30に接触するように第1の基板30上に異方性導電フィルム10を設置する。ついで、剥離フィルム20の上方からツールヘッド100の押圧面110を剥離フィルム20に押し当てる。これにより、仮貼りを行う。この場合、仮貼りによって仮圧着時と同様の効果が期待できる。すなわち、仮貼り時に押圧面110が第1の基板30および光学樹脂層40の変形に追従することができる。したがって、第1の基板30と異方性導電フィルム10との間に気泡が発生しにくい。さらに、押圧面110の端部からの圧力が低減されるので、仮に気泡が発生しても、異方性導電フィルム10の端部から気泡が逃げやすくなる。したがって、ツールヘッド100を用いて行う仮貼りは、本実施形態における仮圧着に包含されるものとする。通常、仮圧着後に異方性導電フィルム10が基板30側に固定されるので、その後に剥離フィルム20を除去することになる。   Specifically, the area in plan view of the bubbles after provisional pressure bonding is 15% with respect to the total area in plan view of the anisotropic conductive film (total area of the portion bonded to the first substrate 30). Less than. In addition, the area of a bubble can be measured by observing the anisotropic conductive film 10 after temporary pressure bonding with a metal microscope. You may image the anisotropic conductive film 10 and observe the image obtained by this. In addition, the size of the bubble itself is various, and there may be a bubble having a size that cannot be sufficiently confirmed even by a metal microscope. For this reason, for example, a minimum rectangle inscribed in the bubble may be defined, and a bubble having a long axis length of 100 μm or more may be set as a measurement target. The area of the bubbles measured by this method in plan view (total area of the bubbles to be measured) is less than 15% with respect to the total area of the anisotropic conductive film in plan view. Note that the temporary pressure bonding step is performed by a temporary pressure bonding apparatus including the tool head 100. The temporary crimping apparatus may be configured similarly to the conventional temporary crimping apparatus except that the temporary crimping apparatus includes the tool head 100. Here, the tool head 100 is obtained, for example, by grinding a pressing surface of a conventional tool head by scraping. Moreover, you may perform the temporary sticking process using the tool head 100 mentioned above. In this case, first, the anisotropic conductive film 10 is placed on the first substrate 30 such that the exposed surface of the anisotropic conductive film 10 contacts the first substrate 30. Next, the pressing surface 110 of the tool head 100 is pressed against the release film 20 from above the release film 20. Thereby, temporary attachment is performed. In this case, it is possible to expect the same effect as that obtained by temporary bonding by temporary bonding. That is, the pressing surface 110 can follow the deformation of the first substrate 30 and the optical resin layer 40 during temporary attachment. Therefore, bubbles are not easily generated between the first substrate 30 and the anisotropic conductive film 10. Furthermore, since the pressure from the end portion of the pressing surface 110 is reduced, even if bubbles are generated, the bubbles easily escape from the end portions of the anisotropic conductive film 10. Therefore, the temporary bonding performed using the tool head 100 is included in the temporary pressure bonding in the present embodiment. Usually, since the anisotropic conductive film 10 is fixed to the substrate 30 side after provisional pressure bonding, the release film 20 is removed thereafter.

<3.本圧着工程>
つぎに、本圧着を行う。本圧着の方法は特に制限されず、従来と同様の方法であれば良い。以下、図3および図4に基づいて本圧着工程の内容について説明する。まず、剥離フィルム20を異方性導電フィルム10から引き剥がす。
<3. Main crimping process>
Next, this pressure bonding is performed. The method of this press-bonding is not particularly limited, and may be a method similar to the conventional method. Hereinafter, the contents of the main press bonding step will be described with reference to FIGS. 3 and 4. First, the release film 20 is peeled off from the anisotropic conductive film 10.

ついで、異方性導電フィルム10上に第2の基板60を積層する。より具体的には、第2の基板60上に形成された第2の電極端子群が異方性導電フィルム10に対向するように、異方性導電フィルム10上に第2の基板60を積層する。   Next, the second substrate 60 is laminated on the anisotropic conductive film 10. More specifically, the second substrate 60 is laminated on the anisotropic conductive film 10 so that the second electrode terminal group formed on the second substrate 60 faces the anisotropic conductive film 10. To do.

ここで、第2の基板60の種類は特に問われないが、例えばフレキシブル基板であってもよい。フレキシブル基板を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、およびアクリル樹脂などの樹脂の他、薄膜化された金属またはガラス等が挙げられる。また、第2の電極端子群を構成する材料は特に問われず、第1の電極端子群と同様の材料で構成されても良い。   Here, the type of the second substrate 60 is not particularly limited, but may be, for example, a flexible substrate. Examples of the material constituting the flexible substrate include thin-film metal or glass in addition to resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethersulfone, polyethylene, polycarbonate, polyimide, and acrylic resin. Moreover, the material which comprises a 2nd electrode terminal group is not ask | required in particular, You may be comprised with the material similar to a 1st electrode terminal group.

ついで、第2の基板60を異方性導電フィルム10に本圧着する。具体的には、緩衝材200aを第2の基板60上に設置する。ついで、本圧着用ツールヘッド400を矢印A方向(すなわち、下方向)に移動させることで、本圧着ツールヘッド400を緩衝材200aに押し当てる。これにより、第2の基板60を異方性導電フィルム10上に本圧着する。本圧着時の加圧温度、加圧力は、異方性導電フィルム等の材質によって変動するが、例えば120〜190℃、0.5MPa以上5MPa未満の範囲内で設定されてもよい。加圧時間は異方性導電フィルム10の材質等によって適宜調整されるが、少なくとも異方性導電フィルム10が流動、硬化する程度の値に設定される。本圧着により、異方性導電フィルム10が硬化し、図4に示すように異方性導電層10aとなる。すなわち、異方性導電接続構造体1が作製される。なお、本圧着工程は、従来の本圧着装置によって行われれば良い。   Next, the second substrate 60 is finally bonded to the anisotropic conductive film 10. Specifically, the buffer material 200 a is installed on the second substrate 60. Next, the main crimping tool head 400 is pressed against the cushioning material 200a by moving the main crimping tool head 400 in the direction of arrow A (ie, downward). As a result, the second substrate 60 is finally pressure-bonded onto the anisotropic conductive film 10. The pressurizing temperature and the applied pressure during the main press bonding vary depending on the material such as the anisotropic conductive film, but may be set within a range of, for example, 120 to 190 ° C. and 0.5 MPa or more and less than 5 MPa. The pressing time is appropriately adjusted depending on the material of the anisotropic conductive film 10 and the like, but is set to a value at least that allows the anisotropic conductive film 10 to flow and cure. By the main compression bonding, the anisotropic conductive film 10 is cured to become an anisotropic conductive layer 10a as shown in FIG. That is, the anisotropic conductive connection structure 1 is produced. The main crimping process may be performed by a conventional main crimping apparatus.

<4.異方性導電接続構造体>
図4は、本実施形態によって作製された異方性導電接続構造体1の構造を示す。異方性導電接続構造体1は、第1の基板30と、光学樹脂層40と、第2の基板60と、異方性導電層10aと、第3の基板70とを備える。本実施形態によれば、仮圧着時の気泡の量が低減されている。具体的には、気泡の平面視での面積が異方性導電フィルム10の平面視での総面積に対して15%未満となっている。このため、異方性導電層10a中の気泡の量も低減される。具体的には、異方性導電層10aに含まれる気泡の平面視での面積は、異方性導電層10aの平面視での総面積に対して15%未満である。ここで、異方性導電層10aに含まれる気泡の平面視での面積は、第1の基板30もしくは第2の基板60側から、異方性導電層10aを金属顕微鏡で観察することで測定される。測定対象の気泡の決定方法は異方性導電フィルム10中の気泡を観察する場合と同様であれば良い。
<4. Anisotropic Conductive Connection Structure>
FIG. 4 shows the structure of the anisotropic conductive connection structure 1 manufactured according to this embodiment. The anisotropic conductive connection structure 1 includes a first substrate 30, an optical resin layer 40, a second substrate 60, an anisotropic conductive layer 10 a, and a third substrate 70. According to the present embodiment, the amount of bubbles at the time of provisional pressure bonding is reduced. Specifically, the area of the bubbles in plan view is less than 15% with respect to the total area of the anisotropic conductive film 10 in plan view. For this reason, the amount of bubbles in the anisotropic conductive layer 10a is also reduced. Specifically, the area of the bubbles contained in the anisotropic conductive layer 10a in plan view is less than 15% with respect to the total area of the anisotropic conductive layer 10a in plan view. Here, the area of the bubbles contained in the anisotropic conductive layer 10a in plan view is measured by observing the anisotropic conductive layer 10a with a metal microscope from the first substrate 30 or the second substrate 60 side. Is done. The method for determining the bubbles to be measured may be the same as that for observing the bubbles in the anisotropic conductive film 10.

ついで、本実施形態の実施例を説明する。本実施例では、以下の模擬試験を行うことで、仮圧着後の気泡の量について検証した。まず、異方性導電フィルム10として、デクセリアルズ社製CP923AM−18を準備した。異方性導電フィルム10の幅は2.0mmであった。また、この異方性導電フィルム10は、重合性化合物としてアクリル重合性化合物を含む。また、導電性粒子の粒径は10μmであった。また、一方の表面に剥離フィルム20が貼り付けられていた。また、光学樹脂層40の代用として厚みが0.15mm、引張弾性率が50〜100KPaの範囲内の値となるアクリル系両面粘着テープを準備した。このアクリル系両面粘着テープの引張弾性率は、光学樹脂層40を構成するOCA、OCRと同程度である。気泡の発生の有無は光学樹脂層40の柔らかさ、すなわち引張弾性率に依存するので、この両面テープを用いることで気泡の量を検証できる。また、第1の基板30として厚さが0.1mmのPETフィルムを準備した。これらのPETフィルムの引張弾性率は4GPaであった。なお、第1の基板30の表面には電極群および電極端子群が形成されていないが、これらは非常に薄いため、これらの有無は気泡の発生の有無にほとんど影響を与えない。したがって、第1の基板30の表面に電極群および電極端子群が形成されていなくても気泡の量を検証できる。   Next, examples of the present embodiment will be described. In this example, the following simulation test was performed to verify the amount of bubbles after provisional pressure bonding. First, as the anisotropic conductive film 10, CP923AM-18 manufactured by Dexerials Corporation was prepared. The width of the anisotropic conductive film 10 was 2.0 mm. The anisotropic conductive film 10 includes an acrylic polymerizable compound as a polymerizable compound. The particle size of the conductive particles was 10 μm. Moreover, the peeling film 20 was affixed on one surface. In addition, an acrylic double-sided pressure-sensitive adhesive tape having a thickness of 0.15 mm and a tensile modulus of 50 to 100 KPa was prepared as a substitute for the optical resin layer 40. The tensile elastic modulus of the acrylic double-sided pressure-sensitive adhesive tape is about the same as that of OCA and OCR constituting the optical resin layer 40. Since the presence or absence of bubbles depends on the softness of the optical resin layer 40, that is, the tensile elastic modulus, the amount of bubbles can be verified by using this double-sided tape. A PET film having a thickness of 0.1 mm was prepared as the first substrate 30. These PET films had a tensile modulus of 4 GPa. In addition, although the electrode group and electrode terminal group are not formed in the surface of the 1st board | substrate 30, since these are very thin, the presence or absence of these has little influence on the presence or absence of bubble generation. Therefore, the amount of bubbles can be verified even if the electrode group and the electrode terminal group are not formed on the surface of the first substrate 30.

そして、ガラス基板(第3の基板70)上に両面テープを貼り付け、さらにその上に第1の基板30を貼り付けた。ついで、第1の基板30上に異方性導電フィルム10を仮貼りした。ついで、剥離フィルム20上にシリコンラバー製の緩衝材200(厚さ0.2mm)を設置した。ついで、仮圧着用ツールヘッド100の押圧面110を緩衝材200に押し当てた。これにより、異方性導電フィルム10を第1の基板30に仮圧着した。   And the double-sided tape was affixed on the glass substrate (3rd board | substrate 70), and also the 1st board | substrate 30 was affixed on it. Next, the anisotropic conductive film 10 was temporarily attached onto the first substrate 30. Next, a cushioning material 200 (thickness 0.2 mm) made of silicon rubber was placed on the release film 20. Next, the pressing surface 110 of the temporary pressure bonding tool head 100 was pressed against the cushioning material 200. Thereby, the anisotropic conductive film 10 was temporarily pressure-bonded to the first substrate 30.

ここで、仮圧着用ツールヘッド100の押圧面110は、異方性導電フィルム10の幅方向に凸形状に湾曲していた。また、曲率半径は50mmであり、突出高さは0.05mmであった。また、ツール幅(湾曲方向の長さ)は5.0mmであった。また、仮圧着時の加圧温度、加圧力を60℃、1MPaとし、加圧時間を1秒とした。   Here, the pressing surface 110 of the temporary press-bonding tool head 100 was curved in a convex shape in the width direction of the anisotropic conductive film 10. Moreover, the curvature radius was 50 mm and the protrusion height was 0.05 mm. Moreover, the tool width (length in the bending direction) was 5.0 mm. Moreover, the pressurization temperature and the applied pressure at the time of temporary pressure bonding were 60 ° C. and 1 MPa, and the pressurization time was 1 second.

ついで、仮圧着後の異方性導電フィルム10を金属顕微鏡で観察することで、気泡の量、具体的には平面視での面積を測定した。そして、気泡の平面視での面積を以下の評価基準で評価した。C評価以上の評価が得られれば、実用上問題がない。
A:気泡の平面視での面積が異方性導電フィルム10の平面視での総面積に対して5%未満
B:気泡の平面視での面積が異方性導電フィルム10の平面視での総面積に対して5%以上10%未満
C:気泡の平面視での面積が異方性導電フィルム10の平面視での総面積に対して10%以上15%未満
D:気泡の平面視での面積が異方性導電フィルム10の平面視での総面積に対して15%以上
Next, the amount of bubbles, specifically the area in plan view, was measured by observing the anisotropic conductive film 10 after the temporary pressure bonding with a metal microscope. And the area in the planar view of a bubble was evaluated with the following evaluation criteria. If evaluation more than C evaluation is obtained, there will be no problem in practical use.
A: The area of the bubble in plan view is less than 5% of the total area of the anisotropic conductive film 10 in plan view. B: The area of the bubble in plan view of the anisotropic conductive film 10 is in plan view. 5% or more and less than 10% with respect to the total area C: The area of the bubbles in plan view is 10% or more and less than 15% with respect to the total area of the anisotropic conductive film 10 in plan view D: In the plan view of the bubbles Is 15% or more of the total area of the anisotropic conductive film 10 in plan view

ついで、第1の基板30の厚さ、仮圧着用ツールヘッド100の曲率半径、突出高さ、緩衝材200の厚さを変更し、同様の模擬試験を繰り返し行った。結果を表1にまとめて示す。   Subsequently, the same simulation test was repeated by changing the thickness of the first substrate 30, the radius of curvature of the temporary press-bonding tool head 100, the protruding height, and the thickness of the buffer material 200. The results are summarized in Table 1.

Figure 2018093055
Figure 2018093055

表1から明らかな通り、曲率半径5.5mm超の押圧面110を有する仮圧着用ツールヘッド100で仮圧着を行った場合、気泡の量が減少することが明らかとなった。また、緩衝材200が薄く、第1の基板30が厚いほど、気泡の量が減少する傾向があることも明らかとなった。   As is clear from Table 1, it was found that the amount of bubbles was reduced when temporary pressing was performed with the temporary pressing tool head 100 having the pressing surface 110 having a curvature radius of more than 5.5 mm. It was also found that the amount of bubbles tends to decrease as the buffer material 200 is thinner and the first substrate 30 is thicker.

なお、複数の回路基板を実施例1で使用した異方性導電フィルム10で異方性導電接続するに際して、仮圧着を実施例1で示される条件で行ったところ、実用上問題のない異方性導電接続構造体1を作製することができた。   In addition, when the anisotropic conductive connection was performed with the anisotropic conductive film 10 used in Example 1, a plurality of circuit boards were subjected to provisional pressure bonding under the conditions shown in Example 1, and there was no problem in practical use. Conductive connection structure 1 could be produced.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It is obvious that a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention pertains can come up with various changes or modifications within the scope of the technical idea described in the claims. Of course, it is understood that these also belong to the technical scope of the present invention.

1 異方性導電接続構造体
10 異方性導電フィルム
20 剥離フィルム
30 第1の基板
40 光学樹脂層
60 第2の基板
70 第3の基板
100 仮圧着用ツールヘッド
110 押圧面
200 緩衝材
500 仮圧着用ツールヘッド
510 押圧面
B 気泡
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Anisotropic conductive connection structure 10 Anisotropic conductive film 20 Peeling film 30 1st board | substrate 40 Optical resin layer 60 2nd board | substrate 70 3rd board | substrate 100 Tool surface 110 for temporary crimping | pressing surfaces 200 Buffer material 500 Temporary Crimping tool head 510 Press surface B Bubble

Claims (8)

光学樹脂層上に積層された第1の基板の表面に異方性導電フィルムを仮貼りする工程と、
前記第1の基板上に仮貼りされた異方性導電フィルムにツールヘッドの押圧面を押し当てることで、前記第1の基板上に前記異方性導電フィルムを仮圧着する工程と、を含み、
前記押圧面は、凸状に湾曲しており、
前記押圧面の曲率半径は5.5mm超である、異方性導電フィルムの仮圧着方法。
Temporarily attaching an anisotropic conductive film to the surface of the first substrate laminated on the optical resin layer;
Temporarily pressing the anisotropic conductive film onto the first substrate by pressing the pressing surface of the tool head against the anisotropic conductive film temporarily bonded onto the first substrate. ,
The pressing surface is curved in a convex shape,
The method for temporarily pressing an anisotropic conductive film, wherein the radius of curvature of the pressing surface is greater than 5.5 mm.
前記押圧面は、前記異方性導電フィルムの幅方向に凸状に湾曲している、請求項1記載の異方性導電フィルムの仮圧着方法。   The method according to claim 1, wherein the pressing surface is curved in a convex shape in the width direction of the anisotropic conductive film. 前記第1の基板は、プラスチック基板である、請求項1または2に記載の異方性導電フィルムの仮圧着方法。   The method for temporarily pressing an anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the first substrate is a plastic substrate. 前記第1の基板は、タッチパネル用の基板である、請求項3記載の異方性導電フィルムの仮圧着方法。   The method for temporarily pressing an anisotropic conductive film according to claim 3, wherein the first substrate is a substrate for a touch panel. 前記光学樹脂層は、第3の基板上に積層されている、請求項1〜4の何れか1項に記載の異方性導電フィルムの仮圧着方法。   The said optical resin layer is the temporary crimping | compression-bonding method of the anisotropic conductive film of any one of Claims 1-4 currently laminated | stacked on the 3rd board | substrate. 前記第3の基板は、画像表示装置の基板である、請求項5記載の異方性導電フィルムの仮圧着方法。   The method according to claim 5, wherein the third substrate is a substrate of an image display device. 押圧面が凸状に湾曲したツールヘッドを有し、
前記押圧面の曲率半径が5.5mm超である、異方性導電フィルムの仮圧着装置。
A tool head having a convexly curved pressing surface;
An apparatus for temporarily pressing an anisotropic conductive film, wherein a radius of curvature of the pressing surface is greater than 5.5 mm.
光学樹脂層上に積層された第1の基板と、前記第1の基板上に異方性導電層を介して積層された第2の基板と、を有し、
前記異方性導電層に含まれる気泡の平面視での面積は、前記異方性導電層の平面視での総面積に対して15%未満である、異方性導電接続構造体。

A first substrate laminated on the optical resin layer, and a second substrate laminated on the first substrate via an anisotropic conductive layer,
The anisotropic conductive connection structure, wherein an area of the bubbles contained in the anisotropic conductive layer in a plan view is less than 15% with respect to a total area of the anisotropic conductive layer in a plan view.

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