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JP2018072157A - Electrical contact and electrical connection device including the same - Google Patents

Electrical contact and electrical connection device including the same Download PDF

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JP2018072157A
JP2018072157A JP2016212159A JP2016212159A JP2018072157A JP 2018072157 A JP2018072157 A JP 2018072157A JP 2016212159 A JP2016212159 A JP 2016212159A JP 2016212159 A JP2016212159 A JP 2016212159A JP 2018072157 A JP2018072157 A JP 2018072157A
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contact
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JP2016212159A
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鈴木 威之
Takeshi Suzuki
威之 鈴木
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Yamaichi Electronics Co Ltd
Original Assignee
Yamaichi Electronics Co Ltd
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Abstract

【課題】電気接触子において、接点部の接触抵抗を安定させることができ、しかも、電気接触子の接点部の摺動に伴う接点部の磨耗を低減できる。【解決手段】検査用プローブ16Aiは、半導体装置DVの電極部DVbに対し選択的に当接する接点部を有する第1プランジャとしてのデバイス側プランジャ26と、プリント配線基板18のコンタクトパッドに選択的に当接する接点部を有する第2プランジャとしての基板側プランジャ24と、デバイス側プランジャ26と基板側プランジャ24とを互いに離隔する方向に付勢するコイルばね部22とを含んで構成され、基板側プランジャ24の係合片24Laの他端24Laeには、長孔26STaの一方の内周縁に所定の隙間をもって近接して突出する接点部24Lafが形成され、基板側プランジャ24の係合片24Lbの他端24Lbeには、長孔26STaの他方の内周縁に所定の隙間をもって近接して突出する接点部24Lbfが形成されているもの。【選択図】図1In an electrical contact, contact resistance of a contact portion can be stabilized, and wear of the contact portion due to sliding of the contact portion of the electrical contact can be reduced. An inspection probe (16Ai) is selectively applied to a device side plunger (26) as a first plunger having a contact part that selectively contacts an electrode part (DVb) of a semiconductor device (DV) and a contact pad of a printed wiring board (18). A substrate-side plunger including a substrate-side plunger 24 as a second plunger having a contact portion that abuts, and a coil spring portion 22 that urges the device-side plunger 26 and the substrate-side plunger 24 in a direction away from each other. 24, the other end 24Lae of the engagement piece 24La is formed with a contact portion 24Laf that protrudes close to the inner peripheral edge of the long hole 26STa with a predetermined gap, and the other end of the engagement piece 24Lb of the substrate side plunger 24 is formed. 24Lbe has a contact portion 24Lb that protrudes close to the other inner peripheral edge of the long hole 26STa with a predetermined gap. f is formed. [Selection] Figure 1

Description

本発明は、電気接触子、および、それを備える電気接続装置に関する。   The present invention relates to an electrical contact and an electrical connection device including the electrical contact.

例えば、特許文献1にも示されるように、電子機器のプリント配線基板などに実装される電子部品としての半導体素子において、例えば、特許文献1にも示されるように、実装される以前の段階でその潜在的欠陥を除去するための試験がICソケット(特許文献1においては、テストソケットと称されている)を介して行われる。ICソケットは、上述の半導体装置とプリント配線基板とを電気的に接続する複数の検査用プローブ(特許文献1においては、コンタクトと称されている)をそのベース部材内に備えている。検査用プローブは、構成部品の数量を削減し組み立てを容易にすべく、上側コンタクトピンと、下側コンタクトピンと、上側コンタクトピンと下側コンタクトピンとを互いに離隔する方向に付勢するばねとを含んで構成されている(特許文献1における図5および図6参照)。上側コンタクトピンおよび下側コンタクトピンは、薄板金属材料で板金加工により製造される。上側コンタクトピンおよび下側コンタクトピンは、それぞれ、互いに同一の構成を有している。上側コンタクトピンは、V字形のコンタクト部と、2つの支持突出部と、本体部とを含んで構成されている。本体部は、先端にフックをそれぞれ有する2つのタングを備えている。本体部における2つのタングに直交するリブ部と2つのタングに囲まれる内側には、溝が形成されている。上側コンタクトピンの溝は、下側コンタクトピンの2つのタングのフックにより挟持されている。これにより、下側コンタクトピンの各フックが本体部における溝を形成する側壁面に電気的に接触するとともに、下側コンタクトピンのフックの引っ掛け表面が上側コンタクトピンのリブ部の係止表面に係止される。   For example, as shown in Patent Document 1, in a semiconductor element as an electronic component mounted on a printed wiring board of an electronic device, for example, as shown in Patent Document 1, at a stage before mounting. A test for removing the potential defect is performed through an IC socket (referred to as a test socket in Patent Document 1). The IC socket includes a plurality of inspection probes (referred to as contacts in Patent Document 1) for electrically connecting the above-described semiconductor device and the printed wiring board in its base member. The inspection probe includes an upper contact pin, a lower contact pin, and a spring that biases the upper contact pin and the lower contact pin away from each other in order to reduce the number of components and facilitate assembly. (See FIG. 5 and FIG. 6 in Patent Document 1). The upper contact pin and the lower contact pin are manufactured from a sheet metal material by sheet metal processing. The upper contact pin and the lower contact pin have the same configuration. The upper contact pin includes a V-shaped contact portion, two support protrusions, and a main body portion. The main body has two tongues each having a hook at the tip. Grooves are formed on the inner side surrounded by the rib portions orthogonal to the two tongues and the two tongues in the main body portion. The groove of the upper contact pin is held between two tongue hooks of the lower contact pin. As a result, each hook of the lower contact pin is in electrical contact with the side wall surface forming the groove in the main body, and the hooking surface of the hook of the lower contact pin is engaged with the locking surface of the rib portion of the upper contact pin. Stopped.

斯かる構成においては、上側コンタクトピンおよび下側コンタクトピン相互間の接触状態にバラツキが生じ易いため、安定した電気的接触状態が得られ難い。また、上側コンタクトピンおよび下側コンタクトピンの接触位置を正確に判定できないので部品の寸法公差を厳しく管理する必要があり、製造コストが高くなるという問題を伴う。また、各フックが本体部における溝を形成する側壁面に常に接触するので各フックの摺動が繰り返されることにより、フックおよび側壁面が磨耗し接触抵抗が不安定となる虞もある。   In such a configuration, since the contact state between the upper contact pin and the lower contact pin is likely to vary, it is difficult to obtain a stable electrical contact state. In addition, since the contact positions of the upper contact pin and the lower contact pin cannot be accurately determined, it is necessary to strictly manage the dimensional tolerances of the components, resulting in an increase in manufacturing cost. Moreover, since each hook always contacts the side wall surface that forms the groove in the main body, repeated sliding of each hook may result in wear of the hook and the side wall surface, resulting in unstable contact resistance.

そこで、特許文献2および特許文献3に示されるように、接触安定性が高く、製造コストが安いプローブピンが、提案されている。特許文献2に示されるプローブピンは、互いに長さの異なる第1弾性片および第2弾性片を有する第1プランジャと、第1プランジャの第2弾性片のガイド突起が嵌合されるガイド溝を備えた接触部を有する第2プランジャと、第1プランジャと第2プランジャとを互いに離隔する方向に付勢するコイルバネとを含んで構成されている。斯かる構成において、第1プランジャの第1弾性片および第2弾性片が、第2プランジャに対して摺動可能に挟持されている。これにより、第1プランジャの第1弾性片は、自己の弾性復元力によって第2プランジャの接触部の片面に常に圧接している。即ち、第1プランジャと第2プランジャとは、第1プランジャの第1弾性片の接点部および第2プランジャの接触部を介して導通している。また、第1プランジャおよび第2プランジャ相互間のスライド移動は、ガイド溝に沿って行われる。その際、上述のガイド突起およびガイド溝の端部により、第1プランジャおよび第2プランジャ相互間のスライド移動が、ガイド溝内で規制されることとなる。   Therefore, as shown in Patent Document 2 and Patent Document 3, probe pins with high contact stability and low manufacturing costs have been proposed. The probe pin disclosed in Patent Document 2 includes a first plunger having a first elastic piece and a second elastic piece having different lengths, and a guide groove into which a guide protrusion of the second elastic piece of the first plunger is fitted. A second plunger having a contact portion provided, and a coil spring that urges the first plunger and the second plunger in a direction away from each other are configured. In such a configuration, the first elastic piece and the second elastic piece of the first plunger are slidably held with respect to the second plunger. Thereby, the 1st elastic piece of the 1st plunger is always press-contacted to the single side | surface of the contact part of a 2nd plunger with self elastic restoring force. That is, the first plunger and the second plunger are conducted through the contact portion of the first elastic piece of the first plunger and the contact portion of the second plunger. The sliding movement between the first plunger and the second plunger is performed along the guide groove. At that time, the sliding movement between the first plunger and the second plunger is regulated in the guide groove by the above-described guide protrusion and the end of the guide groove.

特許第4620737号公報Japanese Patent No. 4620737 特開2015−40734号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-40734 特開2016−3920号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2016-3920

しかしながら、上述の特許文献2において、第1プランジャの第1弾性片の接点部は、第2プランジャの接触部に対し1箇所で接触しているので接触抵抗が安定し難い。また、第1プランジャの第2弾性片のガイド突起だけで第2プランジャを保持しているので第1プランジャと第2プランジャとを互いに離隔する方向に沿った保持力が弱いという問題点を伴う。さらに、第1プランジャの第1弾性片は、自己の弾性復元力によって第2プランジャの接触部の片面に常に圧接しているので第1プランジャの第1弾性片の接点部の摺動が繰り返されることにより、接点部の磨耗により接触抵抗が不安定となる虞もある。   However, in the above-mentioned Patent Document 2, the contact portion of the first elastic piece of the first plunger is in contact with the contact portion of the second plunger at one location, so that the contact resistance is difficult to stabilize. Further, since the second plunger is held only by the guide protrusion of the second elastic piece of the first plunger, there is a problem that the holding force along the direction separating the first plunger and the second plunger from each other is weak. Furthermore, since the first elastic piece of the first plunger is always in pressure contact with one surface of the contact portion of the second plunger by its own elastic restoring force, sliding of the contact portion of the first elastic piece of the first plunger is repeated. As a result, the contact resistance may become unstable due to wear of the contact portion.

以上の問題点を考慮し、本発明は、電気接触子、および、それを備える電気接続装置であって、接点部の接触抵抗を安定させることができ、しかも、電気接触子の接点部の摺動に伴う接点部の磨耗を低減できる電気接触子、および、それを備える電気接続装置を提供することを目的とする。   In view of the above problems, the present invention provides an electrical contact and an electrical connection device including the electrical contact, which can stabilize the contact resistance of the contact portion, and also slide the contact portion of the electrical contact. An object of the present invention is to provide an electric contactor capable of reducing wear of a contact portion accompanying movement, and an electric connecting device including the electric contactor.

上述の目的を達成するために、本発明に係る電気接触子は、被検査物の電極部または配線基板の電極部のうちのいずれか一方に当接する接点部を有する接触端子部と、接触端子部に連なる平板状部を貫通する開口部とを備える第1プランジャと、第1プランジャの接点部が当接した被検査物の電極部または配線基板の電極部と向き合う配線基板の電極部または被検査物の電極部に当接する固定接点部を有する接触端子部と、接触端子部に連なり、第1プランジャの開口部を形成する内周縁に所定の隙間をもって近接して配される接点部を、第1プランジャの開口部を介して互いに臨むように、それぞれ有する一対の係合片と、を有する第2プランジャと、第1プランジャの接触端子部の端部と第2プランジャの接触端子部との間に配され、第1プランジャおよび第2プランジャを互いに離隔する方向に付勢するばね部と、を備え、第1プランジャと第2プランジャとがばね部の付勢力に抗して近接される場合、第2プランジャの一対の係合片のうちの少なくとも一方の係合片の接点部が、第1プランジャの開口部の一部に当接することを特徴とする。   In order to achieve the above-mentioned object, an electrical contact according to the present invention includes a contact terminal portion having a contact portion that contacts either one of an electrode portion of an object to be inspected or an electrode portion of a wiring board, and a contact terminal A first plunger having an opening penetrating a flat plate portion connected to the portion, and an electrode portion of the wiring board facing the electrode portion of the object to be inspected or the electrode portion of the wiring board in contact with the contact portion of the first plunger. A contact terminal portion having a fixed contact portion that comes into contact with the electrode portion of the test object, and a contact portion arranged adjacent to the inner peripheral edge forming the opening of the first plunger with a predetermined gap, connected to the contact terminal portion, A second plunger having a pair of engaging pieces so as to face each other through the opening of the first plunger, an end portion of the contact terminal portion of the first plunger, and a contact terminal portion of the second plunger Between the first A spring portion for biasing the plunger and the second plunger in a direction away from each other, and when the first plunger and the second plunger are brought close to each other against the biasing force of the spring portion, the pair of second plungers The contact portion of at least one of the engagement pieces is in contact with a part of the opening of the first plunger.

また、第2プランジャの一対の係合片の全長は、それぞれ、互いに異なるものであってもよく、第2プランジャの係合片の接点部は、係合片の端部にプレス加工により一体に形成され、第1プランジャの開口部内に向けて突出するものでもよい。第2プランジャの一対の係合片の接点部が第1プランジャの開口部を介して互いに近接するように、一対の係合片が成形されてもよく、あるいは、第2プランジャの一対の係合片の接点部が第1プランジャの開口部を介して互いに離隔するように、一対の係合片が成形されてもよい。
第2プランジャの一対の係合片の接点部は、第1プランジャの開口部を形成する内周縁に向けて隆起した突起部を有するものでもよい。第2プランジャの一対の係合片は、接点部と第2プランジャの接触端子部の端部との間に、第1プランジャの平板状部の厚みよりも狭い狭窄部を有するものでもよい。第2プランジャの一対の係合片相互間に挿入される第1プランジャの平板状部は、第1プランジャと第2プランジャとがばね部の付勢力に抗して近接される場合、第2プランジャの一対の係合片の各接点部が当接する凸部を有するものでもよい。
The total length of the pair of engagement pieces of the second plunger may be different from each other, and the contact portion of the engagement piece of the second plunger is integrated with the end of the engagement piece by pressing. It may be formed and protrude toward the opening of the first plunger. The pair of engagement pieces may be formed such that the contact portions of the pair of engagement pieces of the second plunger are close to each other through the opening of the first plunger, or the pair of engagements of the second plunger The pair of engagement pieces may be formed such that the contact points of the pieces are separated from each other through the opening of the first plunger.
The contact portion of the pair of engaging pieces of the second plunger may have a protruding portion raised toward the inner peripheral edge forming the opening of the first plunger. The pair of engaging pieces of the second plunger may have a narrowed portion narrower than the thickness of the flat plate-like portion of the first plunger between the contact portion and the end of the contact terminal portion of the second plunger. The flat plate-like portion of the first plunger inserted between the pair of engaging pieces of the second plunger has the second plunger when the first plunger and the second plunger are brought close to each other against the biasing force of the spring portion. It may have a convex part with which each contact part of a pair of engagement pieces contacts.

さらに、本発明に係る電気接触子は、被検査物の電極部または配線基板の電極部のうちのいずれか一方に当接する接点部を有する接触端子部と、接触端子部に連なる一対の第1の係合片とを備える第1プランジャと、第1プランジャの接点部が当接した被検査物の電極部または配線基板の電極部と向き合う配線基板の電極部または被検査物の電極部当接する固定接点部を有する接触端子部と、接触端子部に連なり、第1プランジャの一対の第1の係合片の内周縁に所定の隙間をもって近接して配される接点部を、第1プランジャの一対の第1の係合片を介して互いに臨むように、それぞれ有する一対の第2の係合片と、を有する第2プランジャと、第1プランジャの接触端子部の端部と第2プランジャの接触端子部との間に配され、第1プランジャおよび第2プランジャを互いに離隔する方向に付勢するばね部と、を備え、第1プランジャと第2プランジャとがばね部の付勢力に抗して近接される場合、第2プランジャにおける一対の第2の係合片のうちの少なくとも一方の第2の係合片の一部に当接することを特徴とする。   Furthermore, the electrical contact according to the present invention includes a contact terminal portion having a contact portion that contacts either one of the electrode portion of the object to be inspected or the electrode portion of the wiring board, and a pair of first contacts connected to the contact terminal portion. A first plunger provided with an engagement piece, and an electrode portion of a wiring board or an electrode portion of the wiring board facing the electrode portion of the wiring board or the electrode portion of the wiring board that contacts the contact portion of the first plunger. A contact terminal portion having a fixed contact portion and a contact portion connected to the contact terminal portion and arranged close to the inner peripheral edge of the pair of first engaging pieces of the first plunger with a predetermined gap are provided on the first plunger. A second plunger having a pair of second engaging pieces respectively facing each other through the pair of first engaging pieces, an end of a contact terminal portion of the first plunger, and a second plunger A first plunger disposed between the contact terminal portion and the first plunger; And a spring portion that urges the second plunger in a direction away from each other, and when the first plunger and the second plunger are brought close to each other against the urging force of the spring portion, the pair of second plungers in the second plunger It contacts with a part of at least one 2nd engagement piece of 2 engagement pieces, It is characterized by the above-mentioned.

さらにまた、本発明に係る電気接続装置は、上述の複数個の電気接触子と、電気接触子を収容するプローブ収容部と、各電気接触子の第1プランジャの接点部が当接する電極部を複数個有する半導体装置を着脱可能に収容する半導体装置載置部とを有し、電気接触子と電気的に接続される配線基板上に配されるハウジングと、を備えて構成される。   Furthermore, an electrical connection device according to the present invention includes the above-described plurality of electrical contacts, a probe housing that houses the electrical contacts, and an electrode portion that contacts the contact portion of the first plunger of each electrical contact. A semiconductor device mounting portion that detachably accommodates a plurality of semiconductor devices, and a housing disposed on a wiring board that is electrically connected to the electrical contact.

本発明に係る電気接触子、および、それを備える電気接続装置によれば、第1プランジャと第2プランジャとがばね部の付勢力に抗して近接される場合、第2プランジャの一対の係合片のうちの少なくとも一方の係合片の接点部が、第1プランジャの開口部の一部に当接するので接点部の接触抵抗を安定させることができ、しかも、電気接触子の接点部の摺動に伴う接点部の磨耗を低減できる。   According to the electrical contact according to the present invention and the electrical connection device including the electrical contact, when the first plunger and the second plunger are brought close to each other against the biasing force of the spring portion, the pair of engagements of the second plunger. Since the contact portion of at least one of the engagement pieces contacts a part of the opening of the first plunger, the contact resistance of the contact portion can be stabilized, and the contact portion of the electric contact It is possible to reduce the wear of the contact portion due to sliding.

(A)は、本発明に係る電気接触子の第1実施例の全体の構成を示す斜視図であり、(B)は、(A)に示される例においてコイルばね部を取り外した状態を示す斜視図であり、(C)は、(A)に示される検査用プローブの動作説明に供される斜視図であり、(D)は、(C)に示される例においてコイルばね部を取り外した状態を示す斜視図である。(A) is a perspective view which shows the whole structure of 1st Example of the electrical contact which concerns on this invention, (B) shows the state which removed the coil spring part in the example shown by (A). It is a perspective view, (C) is a perspective view used for operation | movement description of the test | inspection probe shown by (A), (D) removed the coil spring part in the example shown by (C). It is a perspective view which shows a state. (A)、(B)、および、(C)は、それぞれ、図1(A)に示される検査用プローブの組み立ての説明に供される斜視図である。(A), (B), and (C) are perspective views each used for explaining the assembly of the inspection probe shown in FIG. 1 (A). 本発明に係る電気接続装置の一例の全体構成を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows roughly the whole structure of an example of the electrical connection apparatus which concerns on this invention. (A)は、図1(A)に示される例においてコイルばね部を取り外した状態を示す正面図であり、(B)は、(A)におけるIVB―IVB線に沿って示される断面図である。(A) is a front view which shows the state which removed the coil spring part in the example shown by FIG. 1 (A), (B) is sectional drawing shown along the IVB-IVB line | wire in (A). is there. (A)は、図1(A)に示される例においてコイルばね部を取り外した状態を示し、検査用プローブの動作説明に供される正面図であり、(B)は、(A)におけるVB―VB線に沿って示される断面図である。(A) is the front view which shows the state which removed the coil spring part in the example shown by FIG. 1 (A), and is provided for operation | movement description of a test probe, (B) is VB in (A). FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line VB. (A)は、図1(A)に示される例においてコイルばね部を取り外した状態を示す正面図であり、(B)は、VIB−VIB線に沿って示される断面図である。(A) is a front view which shows the state which removed the coil spring part in the example shown by FIG. 1 (A), (B) is sectional drawing shown along a VIB-VIB line. (A)は、図1(A)に示される検査用プローブの一部を構成するデバイス側プランジャの正面図であり、(B)は、図1(A)に示される検査用プローブの一部を構成する基板側プランジャの正面図であり、(C)は、(B)に示される基板側プランジャの側面図であり、(D)は、(B)に示される基板側プランジャの下面図である。(A) is a front view of the device side plunger which comprises a part of test | inspection probe shown by FIG. 1 (A), (B) is a part of test | inspection probe shown by FIG. 1 (A). FIG. 4C is a front view of the substrate-side plunger constituting the substrate side, FIG. 5C is a side view of the substrate-side plunger shown in FIG. 5B, and FIG. 4D is a bottom view of the substrate-side plunger shown in FIG. is there. (A)は、図1(A)に示される検査用プローブの一部を構成する基板側プランジャの正面図であり、(B)は、(A)に示される基板側プランジャの側面図であり、(C)は、(A)に示される基板側プランジャの上面図である。(A) is a front view of a substrate-side plunger constituting a part of the inspection probe shown in FIG. 1 (A), and (B) is a side view of the substrate-side plunger shown in (A). (C) is a top view of the substrate side plunger shown in (A). (A)、(B)、および、(C)は、それぞれ、図8(A)、(B)、および、(C)に示される例における要部を部分的に拡大して示す図である。(A), (B), and (C) are the figures which expand and show the principal part in the example shown by FIG. 8 (A), (B), and (C), respectively. . (A)、(B)、および、(C)は、それぞれ、検査用プローブの一部を構成する基板側プランジャの変形例の要部を部分的に拡大して示す図である。(A), (B), and (C) are the figures which expand and show the principal part of the modification of the board | substrate side plunger which comprises a part of test | inspection probe, respectively. (A)、(B)、および、(C)は、それぞれ、検査用プローブの一部を構成する基板側プランジャの変形例の要部を部分的に拡大して示す図である。(A), (B), and (C) are the figures which expand and show the principal part of the modification of the board | substrate side plunger which comprises a part of test | inspection probe, respectively. (A)は、コイルばね部が取り外れた状態で本発明に係る電気接触子の第2実施例の構成を示す正面図であり、(B)は、(A)に示される例の側面図であり、(C)は、(A)に示される例における上面図である。(A) is a front view which shows the structure of 2nd Example of the electrical contact which concerns on this invention in the state from which the coil spring part was removed, (B) is a side view of the example shown by (A). (C) is a top view in the example shown in (A). (A)は、図12(B)に示される例における要部を拡大して示す部分拡大図であり、(B)は、(A)におけるXIVB−XIVB線に沿って示される断面図である。(A) is the elements on larger scale which expand and show the principal part in the example shown by FIG. 12 (B), (B) is sectional drawing shown along the XIVB-XIVB line | wire in (A). . (A)は、図13(A)に示される例の変形例の要部を部分的に拡大して示す部分拡大図であり、(B)は、(A)におけるXIVB−XIVB線に沿って示される断面図であり、(C)は、(A)に示される係合片の一部を拡大して示す拡大図であり、(D)は、(C)に示される例の上面図である。(A) is the elements on larger scale which expand and show the principal part of the modification of the example shown by FIG. 13 (A) partially, (B) is along the XIVB-XIVB line | wire in (A). It is sectional drawing shown, (C) is an enlarged view which expands and shows a part of engagement piece shown to (A), (D) is a top view of the example shown to (C). is there. (A)は、図12(A)、(B)、および、(C)に示される例における変形例の要部を部分的に拡大して示す部分拡大図であり、(B)は、(A)におけるXVB−XVB線に沿って示される断面図である。(A) is the elements on larger scale which partially expand and show the principal part of the modification in the example shown in Drawing 12 (A), (B), and (C), (B) It is sectional drawing shown along the XVB-XVB line | wire in A). (A)は、図15(A)および(B)に示される例の変形例の要部を部分的に拡大して示す部分拡大図であり、(B)は、(A)におけるXVIB−XVIB線に沿って示される断面図であり、(C)は、(A)に示される係合片の一部を拡大して示す拡大図であり、(D)は、(C)におけるXVID−XVID線に沿って示される断面図である。(A) is the elements on larger scale which expand and show the principal part of the modification of the example shown by FIG. 15 (A) and (B) partially, (B) is XVIB-XVIB in (A). It is sectional drawing shown along a line, (C) is an enlarged view which expands and shows a part of engagement piece shown in (A), (D) is XVID-XVID in (C). It is sectional drawing shown along a line. (A)は、コイルばね部が取り外れた状態で本発明に係る電気接触子の第3実施例の構成を示す正面図であり、(B)は、(A)に示される例の側面図である。(A) is a front view which shows the structure of 3rd Example of the electrical contact which concerns on this invention in the state from which the coil spring part was removed, (B) is a side view of the example shown by (A). It is. (A)および(B)は、それぞれ、図17(A)に示される例において動作説明に供される図である。(A) And (B) is a figure which is provided for operation | movement description in the example shown by FIG. 17 (A), respectively. (A)は、図17(B)に示される例における要部を部分的に拡大して示す拡大図であり、(B)は、図18(B)に示される例における要部を部分的に拡大して示す拡大図であり、(C)は、(B)におけるXIXC−XIXC線に沿って示される断面図である。(A) is an enlarged view showing a part of the main part in the example shown in FIG. 17 (B) in an enlarged manner, and (B) is a part of the main part in the example shown in FIG. 18 (B). (C) is a cross-sectional view taken along the line XIXC-XIXC in (B). (A)は、コイルばね部が取り外れた状態で本発明に係る電気接触子の第4実施例の構成を示す正面図であり、(B)は、(A)に示される例の側面図である。(A) is a front view which shows the structure of 4th Example of the electrical contact which concerns on this invention in the state from which the coil spring part was removed, (B) is a side view of the example shown by (A). It is. (A)および(B)は、それぞれ、図20(A)に示される例において動作説明に供される図である。(A) And (B) is a figure which is provided for operation | movement description in the example shown by FIG. 20 (A), respectively. (A)は、図20(B)に示される例における要部を拡大して示す拡大図であり、(B)は、図21(B)に示される例における要部を拡大して示す拡大図であり、(C)は、(B)におけるXXIIC−XXIIC線に沿って示される断面図である。(A) is an enlarged view showing the main part in the example shown in FIG. 20 (B), and (B) is an enlarged view showing the main part in the example shown in FIG. 21 (B). (C) is sectional drawing shown along the XXIIC-XXIIC line in (B). (A)は、コイルばね部が取り外れた状態で本発明に係る電気接触子の第5実施例の構成を示す正面図であり、(B)は、(A)に示される例の側面図である。(A) is a front view which shows the structure of 5th Example of the electrical contact which concerns on this invention in the state from which the coil spring part was removed, (B) is a side view of the example shown by (A). It is. (A)および(B)は、それぞれ、図23(A)に示される例において動作説明に供される図である。(A) And (B) is a figure with which it uses for operation | movement description in the example shown by FIG. 23 (A), respectively. (A)は、図23(A)に示される例における要部を部分的に拡大して示す拡大図であり、(B)は、図24(A)に示される例における要部を部分的に拡大して示す拡大図であり、(C)は、(B)におけるXXVC−XXVC線に沿って示される断面図である。(A) is an enlarged view showing a main part in the example shown in FIG. 23 (A) partially enlarged, and (B) is a part of the main part in the example shown in FIG. 24 (A). (C) is sectional drawing shown along the XXVC-XXVC line in (B). (A)は、本発明に係る電気接触子の第6実施例の全体の構成を示す正面図であり、(B)、(C)は、それぞれ、(A)に示される例の側面図、上面図である。(A) is a front view which shows the whole structure of 6th Example of the electric contactor which concerns on this invention, (B) and (C) are side views of the example shown by (A), respectively, It is a top view. (A)は、図26(A)に示される例の変形例の全体の構成を示す正面図であり、(B)、および(C)は、それぞれ、(A)に示される例の側面図、上面図である。(A) is a front view showing the overall configuration of a modification of the example shown in FIG. 26 (A), and (B) and (C) are side views of the example shown in (A), respectively. FIG. (A)は、本発明に係る電気接触子の第7実施例の全体の構成を示す正面図であり、(B)は、(A)に示される例の側面図である。(A) is a front view which shows the whole structure of the 7th Example of the electrical contactor which concerns on this invention, (B) is a side view of the example shown by (A). (A)は、図28(A)に示される検査用プローブの一部を構成する基板側プランジャの正面図であり、(B)は、(A)に示される基板側プランジャの側面図である。(A) is a front view of a substrate side plunger constituting a part of the inspection probe shown in FIG. 28 (A), and (B) is a side view of the substrate side plunger shown in (A). .

図3は、本発明に係る電気接続装置の一例の構成を概略的に示す。   FIG. 3 schematically shows a configuration of an example of the electrical connection device according to the present invention.

図3において、電気接続装置の一例としてのICソケットは、所定のプリント配線基板18の実装面上に複数個、配置されている。なお、図3においては、1個のICソケットを代表的に示す。ICソケットは、プリント配線基板(テストボード)18の実装面に形成されるコンタクトパッドと被検査物として装着される半導体装置DVの電極部DVbとを電気的に接続するものとされる。半導体装置DVは、例えば、BGA型のパッケージ内に集積回路を備えるものとされる。半導体装置DVの底部には、複数個の略半球状の電極部DVbが縦横に形成されている。なお、半導体装置は、BGA型のパッケージに限られることなく、例えば、LGA型のパッケージであってもよい。   In FIG. 3, a plurality of IC sockets as an example of an electrical connection device are arranged on a mounting surface of a predetermined printed wiring board 18. In FIG. 3, one IC socket is representatively shown. The IC socket electrically connects a contact pad formed on the mounting surface of the printed wiring board (test board) 18 and the electrode portion DVb of the semiconductor device DV mounted as an object to be inspected. For example, the semiconductor device DV includes an integrated circuit in a BGA type package. A plurality of substantially hemispherical electrode portions DVb are formed vertically and horizontally at the bottom of the semiconductor device DV. The semiconductor device is not limited to the BGA type package, but may be an LGA type package, for example.

プリント配線基板18は、例えば、ガラスエポキシ樹脂で作られ、複数のコンタクトパッドからなる電極群(不図示)を、この例では一方の表面部の略中央部に有している。この電極群は、後述する検査用プローブ16Ai(i=1〜n,nは正の整数)の配置に対応し格子状に形成されている。この例では、その周囲には、後述する小ねじBS1が挿入される透孔18bが4箇所に形成されている。   The printed wiring board 18 is made of, for example, glass epoxy resin, and has an electrode group (not shown) composed of a plurality of contact pads in a substantially central portion of one surface portion in this example. This electrode group is formed in a lattice shape corresponding to the arrangement of inspection probes 16Ai (i = 1 to n, n is a positive integer) described later. In this example, four holes 18b into which a small screw BS1 described later is inserted are formed around the periphery.

ICソケットの後述するハウジング10には、小ネジBS1が挿入される透孔10Cが設けられている。この実施例においては、透孔10Cは、プリント配線基板18の透孔18bに対応した位置であって半導体装置載置部10Aの周囲における各角部の4箇所に、それぞれ、形成されている。   A housing 10 described later of the IC socket is provided with a through hole 10C into which the machine screw BS1 is inserted. In this embodiment, the through holes 10C are formed at four positions at each corner around the semiconductor device mounting portion 10A, corresponding to the through holes 18b of the printed wiring board 18.

ICソケットは、上述のプリント配線基板18の各透孔18b、および、各透孔10Cに小ねじBS1が挿入され、平ワッシャWaおよびスプリングワッシャSWを介して4個のナットNuで締結されることにより、プリント配線基板18の実装面に固定される。   In the IC socket, a small screw BS1 is inserted into each through hole 18b and each through hole 10C of the above-described printed wiring board 18, and is fastened with four nuts Nu via a flat washer Wa and a spring washer SW. By this, it is fixed to the mounting surface of the printed wiring board 18.

ICソケットは、上述の複数個の検査用プローブ16Aiと、検査用プローブ16Aiを協働して内側に収容するハウジング10およびロアプレート12と、を主な要素として構成されている。   The IC socket is mainly composed of the plurality of inspection probes 16Ai described above, and the housing 10 and the lower plate 12 that accommodate the inspection probes 16Ai inside.

図3に示されるように、ハウジング10は、絶縁材料、例えば、プラスチックで作られており、上部における中央部に凹部状の半導体装置載置部10Aを有している。半導体装置載置部10Aは、半導体装置DVを着脱可能に収容するとともに、半導体装置DVの各電極部DVbを各検査用プローブ16Aiの接点部に対し位置決めするものとされる。半導体装置DVは、その外周部が半導体装置載置部10Aの内周部に嵌合されることにより各検査用プローブ16Aiの接点部に対し位置決めされる。半導体装置載置部10Aの底部には、後述する各検査用プローブ16Aiの接点部が突出している。   As shown in FIG. 3, the housing 10 is made of an insulating material, for example, plastic, and has a recess-shaped semiconductor device mounting portion 10 </ b> A at the center in the upper portion. The semiconductor device mounting portion 10A accommodates the semiconductor device DV in a detachable manner, and positions each electrode portion DVb of the semiconductor device DV with respect to a contact portion of each inspection probe 16Ai. The semiconductor device DV is positioned with respect to the contact portion of each inspection probe 16Ai by fitting the outer peripheral portion thereof to the inner peripheral portion of the semiconductor device mounting portion 10A. A contact portion of each inspection probe 16Ai, which will be described later, protrudes from the bottom of the semiconductor device mounting portion 10A.

本発明に係る電気接触子の第1実施例としての検査用プローブ16Aiは、プローブ収容部10Bにおける複数個の貫通孔10bi(i=1〜n,nは正の整数)に挿入されている。プローブ収容部10Bは、ハウジング10における半導体装置載置部10Aの下方部分を形成している。貫通孔10biは、一端が半導体装置載置部10Aの底部に開口し、他端が後述するロアプレート12が嵌合されるロアプレート装着部10Dに開口している。貫通孔10biは、検査用プローブ16Aiにおけるデバイス側プランジャ26の肩部26faおよび26fb、平板状部26STと、基板側プランジャ24の一対の係合片24La、24Lbと、コイルばね部22等を収容する大径部10fと、大径部10fに連なりデバイス側プランジャ26の接触端子部26Bが通過する小径部10dとから形成されている。これにより、大径部10fと小径部10dとの境界部分には、抜け止め用の段差部が形成されている。   An inspection probe 16Ai as a first embodiment of the electric contact according to the present invention is inserted into a plurality of through holes 10bi (i = 1 to n, n is a positive integer) in the probe housing portion 10B. The probe accommodating portion 10 </ b> B forms a lower portion of the semiconductor device mounting portion 10 </ b> A in the housing 10. One end of the through hole 10bi opens at the bottom of the semiconductor device mounting portion 10A, and the other end opens at a lower plate mounting portion 10D into which a lower plate 12 described later is fitted. The through hole 10bi accommodates the shoulder portions 26fa and 26fb of the device side plunger 26 in the inspection probe 16Ai, the flat plate portion 26ST, the pair of engaging pieces 24La and 24Lb of the substrate side plunger 24, the coil spring portion 22 and the like. The large-diameter portion 10f and the small-diameter portion 10d that is connected to the large-diameter portion 10f and through which the contact terminal portion 26B of the device-side plunger 26 passes are formed. Thereby, a stepped portion for retaining is formed at a boundary portion between the large diameter portion 10f and the small diameter portion 10d.

さらに、ハウジング10の半導体装置載置部10Aの真下となる下端部には、凹部状のロアプレート装着部10Dが形成されている。このロアプレート装着部10Dには、
板状のロアプレート12が、小ネジBS2およびハウジング10の雌ねじ孔によりネジ止めされている。図3に示されるように、ロアプレート12は、ハウジング10に固定される位置決めピン14がその位置決め孔12cに嵌合することにより、ロアプレート装着部10Dに対する相対位置が位置決めされている。
Furthermore, a lower plate mounting portion 10 </ b> D having a concave shape is formed at a lower end portion of the housing 10 that is directly below the semiconductor device mounting portion 10 </ b> A. In this lower plate mounting part 10D,
A plate-like lower plate 12 is screwed by a small screw BS2 and a female screw hole of the housing 10. As shown in FIG. 3, the lower plate 12 is positioned relative to the lower plate mounting portion 10D by the positioning pins 14 fixed to the housing 10 being fitted into the positioning holes 12c.

ロアプレート12は、上述の複数個の貫通孔10biと同心上に複数の貫通孔12bi(i=1〜n,nは正の整数)を有している。貫通孔12biの一方の開口端は、貫通孔10biに対し開口している。   The lower plate 12 has a plurality of through-holes 12bi (i = 1 to n, n is a positive integer) concentrically with the above-described plurality of through-holes 10bi. One opening end of the through hole 12bi opens to the through hole 10bi.

貫通孔12biは、各検査用プローブ16Aiにおける基板側プランジャ24の肩部24fa、24fbと、コイルばね部22の残部および基板側プランジャ24の一対の係合片24La、24Lbの残部を収容する大径部12fと、大径部12fに連なり基板側プランジャ24の接触端子部24Bが通過する小径部12dとから形成されている。これにより、その大径部12fと小径部12dとの境界部分には、抜け止め用の段差部が形成されている。貫通孔12biの大径部12fの直径は、貫通孔10biの大径部10fの直径と略同一に設定されている。   The through-hole 12bi has a large diameter that accommodates the shoulder portions 24fa and 24fb of the substrate-side plunger 24 in each inspection probe 16Ai, the remaining portion of the coil spring portion 22, and the remaining portions of the pair of engaging pieces 24La and 24Lb of the substrate-side plunger 24. It is formed of a portion 12f and a small-diameter portion 12d that is connected to the large-diameter portion 12f and through which the contact terminal portion 24B of the substrate-side plunger 24 passes. As a result, a stepped portion for retaining is formed at the boundary between the large diameter portion 12f and the small diameter portion 12d. The diameter of the large diameter portion 12f of the through hole 12bi is set to be substantially the same as the diameter of the large diameter portion 10f of the through hole 10bi.

図3に示されるように、ハウジング10におけるロアプレート装着部10Dの周辺には、プリント配線基板18の位置決め孔18Pに嵌合される位置決めピン10Pが、設けられている。   As shown in FIG. 3, positioning pins 10 </ b> P that are fitted into the positioning holes 18 </ b> P of the printed wiring board 18 are provided around the lower plate mounting portion 10 </ b> D in the housing 10.

図1(A)に拡大されて示されるように、検査用プローブ16Aiは、第1プランジャとしてのデバイス側プランジャ26と、第2プランジャとしての基板側プランジャ24と、デバイス側プランジャ26と基板側プランジャ24とを互いに離隔する方向に付勢するコイルばね部22とを含んで構成されている。デバイス側プランジャ26および基板側プランジャ24と、コイルばね部22とは、同一軸線上に配置されている。   1A, the inspection probe 16Ai includes a device-side plunger 26 as a first plunger, a substrate-side plunger 24 as a second plunger, a device-side plunger 26, and a substrate-side plunger. 24 and a coil spring portion 22 that urges 24 in a direction away from each other. The device-side plunger 26, the substrate-side plunger 24, and the coil spring portion 22 are disposed on the same axis.

デバイス側プランジャ26の先端(図1(A)では上端に位置する)には、半導体装置DVの電極部DVbに対し選択的に当接する接点部26BPが、設けられている。また、基板側プランジャ24の先端(図1(A)では下端に位置する)には、プリント配線基板18のコンタクトパッドに選択的に当接する接点部24BPが、凸の円弧状の曲面で形成されている。   A contact portion 26BP that selectively contacts the electrode portion DVb of the semiconductor device DV is provided at the tip of the device-side plunger 26 (located at the upper end in FIG. 1A). In addition, a contact portion 24BP that selectively contacts the contact pad of the printed wiring board 18 is formed as a convex arcuate curved surface at the tip of the substrate side plunger 24 (located at the lower end in FIG. 1A). ing.

デバイス側プランジャ26および基板側プランジャ24は、それぞれ、非磁性金属としての銅合金製の薄板材料で一連のプレス加工工程により一体成形されている。銅合金製の薄板材料としては、例えば、りん青銅、または、ベリリウム銅がある。その成形後、非磁性金属群のうちから選択された一つまたは複数の金属、あるいは、それらの合金により、めっき処理が、デバイス側プランジャ26および基板側プランジャ24に施される。   The device-side plunger 26 and the substrate-side plunger 24 are each integrally formed by a series of pressing processes using a thin plate material made of a copper alloy as a nonmagnetic metal. Examples of the copper alloy thin plate material include phosphor bronze and beryllium copper. After the forming, the device side plunger 26 and the substrate side plunger 24 are plated with one or a plurality of metals selected from the nonmagnetic metal group or an alloy thereof.

図4(A)および図7(A)に拡大されて示されるように、デバイス側プランジャ26は、接点部26BPを有する接触端子部26Bと、接触端子部26Bに中心軸線に沿って連なる平板状部26STとを含んで構成されている。図4(A)および図7(A)に示される例において、接点部26BPは、半導体装置DVの電極部DVbの球面形状に対応した凹の円弧状の曲面で形成されている。なお、接点部24BP,26BPの形状は、相対向する被接触物の形状に併せて任意に選択され形成されてもよい。   4A and 7A, the device-side plunger 26 has a contact terminal portion 26B having a contact portion 26BP and a flat plate shape continuous to the contact terminal portion 26B along the central axis. Part 26ST. In the example shown in FIGS. 4A and 7A, the contact portion 26BP is formed of a concave arcuate curved surface corresponding to the spherical shape of the electrode portion DVb of the semiconductor device DV. Note that the shapes of the contact portions 24BP and 26BP may be arbitrarily selected and formed in accordance with the shapes of the objects to be contacted with each other.

接触端子部26Bにおける平板状部26STの一端が連なる部分(基端側)には、一対の肩部26faおよび26fbが、形成されている。肩部26faおよび26fbは、
図4(A)における直交座標のX座標軸に沿って、即ち、側方に向けて張り出すように形成されている。なお、図4(A)に示される例、および、後述する複数の実施例において、図中に示される直交座標のY座標軸は、デバイス側プランジャ26の中心軸線L1に対し平行となるように設定されている。
A pair of shoulder portions 26fa and 26fb are formed at a portion (base end side) where one end of the flat plate-like portion 26ST is continuous in the contact terminal portion 26B. Shoulders 26fa and 26fb
It is formed so as to project along the X coordinate axis of the orthogonal coordinates in FIG. In the example shown in FIG. 4A and a plurality of embodiments described later, the Y coordinate axis of the orthogonal coordinates shown in the figure is set to be parallel to the central axis L1 of the device side plunger 26. Has been.

図4(A)に拡大されて示されるように、Y座標軸に沿って延びる平板状部26STは、その中心軸線上に所定の幅および長さの長孔26STaを有している。長孔26STaにおける長手方向の中心軸線は、平板状部26STの中心軸線L1と共通の軸線上にあるものとされる。このように平板状部26STの端部が連結されているので後述する係合片(図28(A)参照)を備える場合に必要とされるクリアランスを設けなくて良い分、より微細化が可能となる。   4A, the flat plate-like portion 26ST extending along the Y coordinate axis has a long hole 26STa having a predetermined width and length on the central axis. The central axis in the longitudinal direction of the long hole 26STa is on the same axis as the central axis L1 of the plate-like portion 26ST. Since the end portions of the flat plate portion 26ST are connected in this way, it is possible to further miniaturize since it is not necessary to provide a clearance required when an engagement piece (see FIG. 28A) described later is provided. It becomes.

図7(B)に拡大されて示されるように、基板側プランジャ24は、尖頭状の接点部24BPを先端(図7(B)では下端に位置する)に有する接触端子部24Bと、接触端子部24Bの一対の肩部24faおよび24fbと一体に連結される係合片24Laおよび24Lbとを含んで構成されている。接触端子部24Bにおける係合片24Laおよび24Lbの基端部には、それぞれ、肩部24faおよび24fbが形成されている。肩部24faおよび24fbは、図7(B)におけるX座標軸に沿って側方に向けて張り出すように形成されている。   As shown in an enlarged view in FIG. 7B, the substrate side plunger 24 is in contact with a contact terminal portion 24B having a pointed contact portion 24BP at the tip (located at the lower end in FIG. 7B). It is configured to include engagement pieces 24La and 24Lb that are integrally connected to a pair of shoulder portions 24fa and 24fb of the terminal portion 24B. Shoulder portions 24fa and 24fb are formed at the base end portions of the engagement pieces 24La and 24Lb in the contact terminal portion 24B, respectively. The shoulder portions 24fa and 24fb are formed so as to project sideways along the X coordinate axis in FIG.

図4(A)および図7(B)におけるY座標軸に沿って延びる基板側プランジャ24の係合片24Laおよび24Lbは、互いに異なる全長を有している。図4(A)に示される例においては、係合片24Laの全長は、係合片24Lbの全長に比して大に設定されている。   The engagement pieces 24La and 24Lb of the substrate side plunger 24 extending along the Y coordinate axis in FIGS. 4A and 7B have different overall lengths. In the example shown in FIG. 4A, the full length of the engagement piece 24La is set larger than the full length of the engagement piece 24Lb.

係合片24Laおよび24Lbの一端は、X座標軸に沿った所定の間隔で互いに平行に形成されている。図4(A)および図7(B)に示されるように、係合片24Laは、基板側プランジャ24の幅方向(X座標軸方向)の中心線となる中心軸線L2に対し所定量、左側に偏倚している。係合片24Lbは、その中心軸線L2に対し所定量、右側に偏倚している。これにより、所定の隙間24Cが、係合片24Laおよび24Lbの相互間に形成される。   One ends of the engaging pieces 24La and 24Lb are formed in parallel to each other at a predetermined interval along the X coordinate axis. As shown in FIGS. 4A and 7B, the engagement piece 24La has a predetermined amount on the left side with respect to the center axis L2 that is the center line in the width direction (X coordinate axis direction) of the substrate-side plunger 24. It is biased. The engagement piece 24Lb is biased to the right by a predetermined amount with respect to the central axis L2. Thereby, a predetermined gap 24C is formed between the engagement pieces 24La and 24Lb.

また、図7(C)に示されるように、一方の係合片24Laは、基板側プランジャ24の厚さ方向(Z座標軸方向)の中心線となる中心軸線 L3に対し所定量(図7(C)では左側)偏倚しており、他方の係合片24Lbは、その中心軸線L3に対し所定量(図7(C)では右側)に偏倚している。これにより、Z座標軸に沿った平板状部26STの厚さに応じた所定の隙間24Dが、係合片24Laと係合片24Lbとの間に形成される。   Further, as shown in FIG. 7C, one engagement piece 24La has a predetermined amount (FIG. 7 (FIG. 7) with respect to the central axis L3 that is the center line in the thickness direction (Z coordinate axis direction) of the substrate-side plunger 24. In C), the left side is biased, and the other engagement piece 24Lb is biased to a predetermined amount (right side in FIG. 7C) with respect to the central axis L3. Thereby, a predetermined gap 24D corresponding to the thickness of the flat plate-like portion 26ST along the Z coordinate axis is formed between the engagement piece 24La and the engagement piece 24Lb.

図6(A)および(B)、図7(C)に拡大されて示されるように、係合片24Laの他端24Laeには、接点部24Lafが形成されている。接点部24Lafは、Z座標軸に沿って長孔26STaの一方の内周縁26STa1に所定の比較的小さな隙間をもって近接して突出している。また、係合片24Lbの他端24Lbeには、接点部24Lbfが形成されている。接点部24Lbfは、Z座標軸に沿って長孔26STaの他方の内周縁26STa2に所定の比較的小さな隙間をもって近接して突出している。   As shown in enlarged views in FIGS. 6A, 6B, and 7C, a contact portion 24Laf is formed at the other end 24Lae of the engagement piece 24La. The contact portion 24Laf protrudes close to one inner peripheral edge 26STa1 of the long hole 26STa along the Z coordinate axis with a predetermined relatively small gap. Further, a contact portion 24Lbf is formed at the other end 24Lbe of the engagement piece 24Lb. The contact portion 24Lbf projects close to the other inner peripheral edge 26STa2 of the long hole 26STa along the Z coordinate axis with a predetermined relatively small gap.

従って、図6(B)に示されるように、接点部24Lafおよび接点部24Lbfは、それぞれ、向き合う端面24Las,24Lbsが、長孔26STa内で互いに近接する方向に突出している。このように二本の係合片24Laおよび24Lb(二本の梁ともいう)の長さを変えて、接点部24Lafおよび接点部24Lbf(2個の突起部ともいう)の位置をずらす事により、より微細化に対応可能となる。   Accordingly, as shown in FIG. 6B, the contact portion 24Laf and the contact portion 24Lbf have end faces 24Las and 24Lbs that face each other in a direction close to each other in the long hole 26STa. Thus, by changing the length of the two engagement pieces 24La and 24Lb (also referred to as two beams) and shifting the positions of the contact portion 24Laf and the contact portion 24Lbf (also referred to as two protrusions), It becomes possible to cope with further miniaturization.

図9(A)、(B)、および、(C)に部分的に拡大されて示されるように、基板側プランジャ24の係合片24Laおよび24Lbにおける接点部24Lafおよび接点部24Lbfは、例えば、係合片24Laおよび24Lbの端部24Laeおよび24Lbeの一部を図9(A)においてZ座標軸方向に冷間鍛造型で押し潰すことにより形成される。   As shown in FIGS. 9A, 9B, and 9C partially enlarged, the contact portion 24Laf and the contact portion 24Lbf in the engagement pieces 24La and 24Lb of the substrate side plunger 24 are, for example, It is formed by crushing part of the end portions 24Lae and 24Lbe of the engaging pieces 24La and 24Lb with a cold forging die in the Z coordinate axis direction in FIG. 9A.

なお、接点部24Lafおよび接点部24Lbfの形成は、斯かる例に限られることなく、例えば、図10(A)、(B)、および、(C)に示されるように、基板側プランジャ24の各接点部34Lafおよび34Lbfが、係合片34Laおよび34Lbの端部34Laeおよび34Lbeを所定の一対の金型によって、図9(A)においてZ座標軸方向に押圧し成形することにより形成されてもよい。また、例えば、図11(A)、(B)、および、(C)に示されるように、基板側プランジャ24の各接点部44Lafおよび44Lbfが、係合片44Laおよび44Lbの端部44Laeおよび44Lbeを、図11(A)において互いに近接するようにZ座標軸方向に曲げることにより形成されてもよい。   The formation of the contact portion 24Laf and the contact portion 24Lbf is not limited to such an example. For example, as shown in FIGS. 10 (A), (B), and (C), the substrate-side plunger 24 is formed. Each of the contact portions 34Laf and 34Lbf may be formed by pressing the end portions 34Lae and 34Lbe of the engagement pieces 34La and 34Lb with a predetermined pair of dies in the Z coordinate axis direction in FIG. 9A. . Further, for example, as shown in FIGS. 11A, 11B, and 11C, the contact portions 44Laf and 44Lbf of the board side plunger 24 are connected to the end portions 44Lae and 44Lbe of the engaging pieces 44La and 44Lb. May be formed by bending in the Z coordinate axis direction so as to be close to each other in FIG.

付勢部材としてのコイルばね部22は、弾性を有するばね材料、例えば、ばね用ステンレス鋼線等で作られている。図1(A)に拡大されて示されるように、コイルばね部22の一端(図1(A)では、その一端がコイルばね部の上端位置に相当)は、デバイス側プランジャ26の一対の肩部26faおよび26fbで支持され、コイルばね部22の他端(図1(A)では、その他端がコイルばね部の下端位置に相当)は、基板側プランジャ24の一対の肩部24faおよび24fbで支持されている。これにより、コイルばね部22は、デバイス側プランジャ26の平板状部26ST、および、基板側プランジャ24の各係合片24Laおよび24Lbの外周に沿って同心上に巻装されることとなる。   The coil spring portion 22 as an urging member is made of an elastic spring material, for example, a spring stainless steel wire. As shown enlarged in FIG. 1A, one end of the coil spring portion 22 (in FIG. 1A, one end corresponds to the upper end position of the coil spring portion) is a pair of shoulders of the device side plunger 26. The other end of the coil spring portion 22 (the other end corresponds to the lower end position of the coil spring portion in FIG. 1A) is supported by a pair of shoulder portions 24fa and 24fb of the substrate side plunger 24. It is supported. As a result, the coil spring portion 22 is wound concentrically along the outer periphery of the flat plate portion 26ST of the device side plunger 26 and the engagement pieces 24La and 24Lb of the substrate side plunger 24.

検査用プローブ16Aiを組み立てるにあたっては、先ず、図2(A)に示されるように、デバイス側プランジャ26の平板状部26STおよび基板側プランジャ24の係合片24Laおよび24Lbをコイルばね部22の両端に対向させる。次に、図2(B)に示されるように、デバイス側プランジャ26の平板状部26STがコイルばね部22の一端(上端)から挿入され、さらに、基板側プランジャ24の係合片24Laおよび24Lbがコイルばね部22の他端(下端)から挿入される。その際、基板側プランジャ24の一対の肩部24faおよび24fbと、デバイス側プランジャ26の一対の肩部26faおよび26fbとが、コイルばね部22の付勢力に抗して互いに近接するように押圧されることにより、基板側プランジャ24の係合片24Laおよび24Lbの接点部24Lafおよび接点部24Lbfが、図6(B)においてZ座標軸方向に互いに離隔するように一旦、弾性変位し平板状部26STを摺接した後、平板状部26STの長孔26STa内に挿入される。これにより、図2(C)に示されるように、接点部24Lbfが、長孔26STaの一端に係止されるのでデバイス側プランジャ26および基板側プランジャ24がコイルばね部22を挟持した状態で保持される。従って、検査用プローブ16Aiの組み立てが完了する。   In assembling the inspection probe 16Ai, first, as shown in FIG. 2A, the flat plate portion 26ST of the device side plunger 26 and the engaging pieces 24La and 24Lb of the substrate side plunger 24 are connected to both ends of the coil spring portion 22. To face. Next, as shown in FIG. 2 (B), the flat plate portion 26ST of the device side plunger 26 is inserted from one end (upper end) of the coil spring portion 22, and the engagement pieces 24La and 24Lb of the substrate side plunger 24 are further inserted. Is inserted from the other end (lower end) of the coil spring portion 22. At that time, the pair of shoulder portions 24fa and 24fb of the substrate side plunger 24 and the pair of shoulder portions 26fa and 26fb of the device side plunger 26 are pressed against each other against the biasing force of the coil spring portion 22. As a result, the contact portions 24Laf and 24Lbf of the engagement pieces 24La and 24Lb of the substrate-side plunger 24 are temporarily elastically displaced so as to be separated from each other in the Z coordinate axis direction in FIG. After the sliding contact, it is inserted into the long hole 26STa of the flat plate portion 26ST. As a result, as shown in FIG. 2C, the contact portion 24Lbf is locked to one end of the long hole 26STa, so that the device side plunger 26 and the substrate side plunger 24 hold the coil spring portion 22 in a sandwiched state. Is done. Therefore, the assembly of the inspection probe 16Ai is completed.

斯かる構成において、図3に示されるように、各検査用プローブ16Aiが、ハウジング10のプローブ収容部10Bにおける各貫通孔10bi、および、ロアプレート12の貫通孔12bi内に装着された後、ICソケットがプリント配線基板18の実装面に固定される。その際、基板側プランジャ24の接点部24BPがプリント配線基板18のコンタクトパッドによりロアプレート12の貫通孔12bi内にコイルばね部22の付勢力に抗して押し込まれる。そして、半導体装置DVが、半導体装置載置部10Aの内周部に位置決めされ装着されるとき、デバイス側プランジャ26の接点部26BPが半導体装置DVの電極部DVbに当接した状態で、デバイス側プランジャ26の一部がプローブ収容部10Bにおける貫通孔10bi内に押し込まれる。その際、図1(D)、図5(A)、および、(B)、に拡大されて示されるように、接点部24Lbfが長孔26STaの一端から離隔されるとともに、所定の位置で基板側プランジャ24の係合片24Laおよび24Lbがデバイス側プランジャ26の平板状部26STに対しそのX座標方向の隙間に応じて回転し傾くので接点部24Lafおよび接点部24Lbfが、それぞれ、図6(B)において、二点鎖線で示されるように、長孔26STaの内周面における異なる2箇所で当接せしめられる。従って、所定の位置で接点部24Lafおよび接点部24Lbfが、それぞれ、長孔26STaの内周面における異なる2箇所で当接せしめられるので接点部の接触抵抗を安定させることができる。しかも、移動中の接点部24Lafおよび接点部24Lbfが、長孔26STaの内周面に摺接しないので電気接触子の接点部の摺動に伴う接点部の磨耗を低減できる。加えて、突起を先端に有する2本の梁部(係合片24Laおよび24Lb)により、2個のプランジャー相互間の係合の保持が行われると共に、2本の梁部(係合片24Laおよび24Lb)により、導通を得られるのでより確実に保持及び導通を得る事が可能となる。そのような保持は、挟持する力によらないので挟持力と導通を得るための接触力とを別に管理可能となる。即ち、より設計および設定の自由度が大きく、生産上の管理も容易となる。   In such a configuration, as shown in FIG. 3, after each inspection probe 16Ai is mounted in each through-hole 10bi in the probe housing portion 10B of the housing 10 and in the through-hole 12bi in the lower plate 12, the IC The socket is fixed to the mounting surface of the printed wiring board 18. At that time, the contact portion 24BP of the substrate side plunger 24 is pushed into the through hole 12bi of the lower plate 12 against the urging force of the coil spring portion 22 by the contact pad of the printed wiring board 18. When the semiconductor device DV is positioned and attached to the inner peripheral portion of the semiconductor device mounting portion 10A, the contact side 26BP of the device side plunger 26 is in contact with the electrode portion DVb of the semiconductor device DV, and the device side A part of the plunger 26 is pushed into the through hole 10bi in the probe accommodating portion 10B. At that time, as shown enlarged in FIGS. 1D, 5A, and 5B, the contact portion 24Lbf is separated from one end of the long hole 26STa, and the substrate is placed at a predetermined position. Since the engagement pieces 24La and 24Lb of the side plunger 24 rotate and tilt with respect to the flat plate portion 26ST of the device side plunger 26 according to the gap in the X coordinate direction, the contact portion 24Laf and the contact portion 24Lbf are respectively shown in FIG. ), As indicated by a two-dot chain line, they are brought into contact at two different locations on the inner peripheral surface of the long hole 26STa. Therefore, the contact portion 24Laf and the contact portion 24Lbf are brought into contact with each other at two different positions on the inner peripheral surface of the long hole 26STa at a predetermined position, so that the contact resistance of the contact portion can be stabilized. Moreover, since the moving contact portion 24Laf and the contact portion 24Lbf are not in sliding contact with the inner peripheral surface of the long hole 26STa, it is possible to reduce wear of the contact portion due to sliding of the contact portion of the electric contactor. In addition, the two beam portions (engagement pieces 24La and 24Lb) having protrusions at the tips hold the engagement between the two plungers and the two beam portions (engagement pieces 24La). And 24Lb), it is possible to obtain conduction and more reliably hold and conduct. Since such holding does not depend on the clamping force, the clamping force and the contact force for obtaining conduction can be managed separately. That is, the degree of freedom of design and setting is greater, and production management becomes easier.

図12(A)、および、(B)は、本発明に係る電気接触子の第2実施例としての検査用プローブの主な構成を示す。   FIGS. 12A and 12B show the main configuration of an inspection probe as a second embodiment of the electrical contact according to the present invention.

図12(A)に拡大されて示されるように、検査用プローブは、第1プランジャとしてのデバイス側プランジャ56と、第2プランジャとしての基板側プランジャ54と、デバイス側プランジャ56と基板側プランジャ54とを互いに離隔する方向に付勢するコイルばね部(不図示)とを含んで構成されている。なお、コイルばね部の構成は、上述の図1(A)に拡大されて示されるコイルばね部22の構成と同一の構成を有している。   12A, the inspection probe includes a device-side plunger 56 as a first plunger, a substrate-side plunger 54 as a second plunger, a device-side plunger 56, and a substrate-side plunger 54. And a coil spring portion (not shown) that urges them in a direction away from each other. Note that the configuration of the coil spring portion has the same configuration as the configuration of the coil spring portion 22 shown enlarged in FIG.

デバイス側プランジャ56は、半導体装置DVの電極部DVbに対し選択的に当接する接点部56BPを有するものとされる。基板側プランジャ54は、プリント配線基板18のコンタクトパッドに選択的に当接する接点部54BPを有するものとされる。   The device-side plunger 56 has a contact portion 56BP that selectively comes into contact with the electrode portion DVb of the semiconductor device DV. The board-side plunger 54 has a contact part 54BP that selectively contacts the contact pad of the printed wiring board 18.

図1(A)に示される検査用プローブ16Aiにおける基板側プランジャ24の係合片24Laおよび24Lbがデバイス側プランジャ26の平板状部26STの各平坦面に対し所定の隙間をもって略平行に形成されているのに対し、図12(A)に示される第2実施例においては、基板側プランジャ54の係合片54Laおよび54Lbは、接点部54Lafおよび接点部54Lbf近傍だけが、デバイス側プランジャ56の長孔56STaの周縁に所定の圧力で当接するように、互いに近接する方向に所定の勾配をもって傾斜されている。   The engagement pieces 24La and 24Lb of the substrate side plunger 24 in the inspection probe 16Ai shown in FIG. 1A are formed substantially parallel to each flat surface of the flat plate portion 26ST of the device side plunger 26 with a predetermined gap. On the other hand, in the second embodiment shown in FIG. 12A, the engagement pieces 54La and 54Lb of the substrate side plunger 54 are only in the vicinity of the contact portion 54Laf and the contact portion 54Lbf, and the length of the device side plunger 56 is long. The holes 56STa are inclined with a predetermined gradient in directions close to each other so as to come into contact with the peripheral edge of the hole 56STa with a predetermined pressure.

デバイス側プランジャ56および基板側プランジャ54は、それぞれ、非磁性金属としての銅合金製の薄板材料で後述する一連のプレス加工工程により一体成形されている。デバイス側プランジャ56および基板側プランジャ54の材質およびめっき処理は、上述のデバイス側プランジャ26および基板側プランジャ24の材質およびめっき処理と同一である。   The device-side plunger 56 and the substrate-side plunger 54 are each integrally formed by a series of press working steps to be described later, using a copper alloy thin plate material as a nonmagnetic metal. The material and the plating treatment of the device side plunger 56 and the substrate side plunger 54 are the same as the material and the plating treatment of the device side plunger 26 and the substrate side plunger 24 described above.

図12(A)に拡大されて示されるように、デバイス側プランジャ56は、接点部56BPを先端(図12(A)においては、接点部は上端に位置する)に有する接触端子部56Bと、接触端子部56Bの一対の肩部54faおよび54fbに中心軸線L1に沿って連なる平板状部56STとを含んで構成されている。接点部56BPは、半導体装置DVの電極部DVbの形状に対応した円弧状に形成されている。   12A, the device-side plunger 56 includes a contact terminal portion 56B having a contact portion 56BP at the tip (in FIG. 12A, the contact portion is located at the upper end); The contact terminal portion 56B includes a pair of shoulder portions 54fa and 54fb including a flat plate portion 56ST that is continuous along the central axis L1. The contact part 56BP is formed in an arc shape corresponding to the shape of the electrode part DVb of the semiconductor device DV.

接触端子部56Bにおける基端部には、一対の肩部56faおよび56fbが、図12(A)における直交座標のX座標軸に沿って、即ち、側方に向けて張り出すように形成されている。なお、図12(A)に拡大されて示されるように、Y座標軸に沿って延びる平板状部56STは、その中心軸線L1上に所定の幅および長さの長孔26STaを有している。長孔26STaにおける長手方向の中心軸線は、平板状部56STの中心軸線と共通の軸線上にある。   A pair of shoulder portions 56fa and 56fb are formed at the base end portion of the contact terminal portion 56B so as to protrude along the X coordinate axis of the orthogonal coordinates in FIG. . 12A, the flat plate portion 56ST extending along the Y coordinate axis has a long hole 26STa having a predetermined width and length on the central axis L1. The central axis in the longitudinal direction of the long hole 26STa is on the same axis as the central axis of the flat plate portion 56ST.

図12(A)に拡大されて示されるように、基板側プランジャ54は、尖頭状の接点部54BPを有する接触端子部54Bと、接触端子部54Bの一対の肩部54faおよび54fbに連なる係合片54Laおよび54Lbとを含んで構成されている。接触端子部54Bにおける係合片54Laおよび54Lbの基端部には、一対の肩部54faおよび54fbが、図12(A)におけるX座標軸に沿って側方に向けて張り出すように形成されている。   As shown in an enlarged view in FIG. 12A, the substrate-side plunger 54 is connected to a contact terminal portion 54B having a pointed contact portion 54BP and a pair of shoulder portions 54fa and 54fb of the contact terminal portion 54B. It is configured including the combined pieces 54La and 54Lb. A pair of shoulder portions 54fa and 54fb are formed at the base end portions of the engagement pieces 54La and 54Lb in the contact terminal portion 54B so as to protrude sideways along the X coordinate axis in FIG. Yes.

図12(B)におけるY座標軸に沿って延びる基板側プランジャ54の係合片54Laおよび54Lbは、それぞれ、互いに異なる全長を有している。例えば、係合片54Laの全長は、係合片54Lbの全長に比して大に設定されている。係合片54Laおよび54Lbの一端は、X座標軸に沿った所定の間隔で互いに平行に形成されている。図12(A)に示されるように、係合片54Laは、基板側プランジャ54の中心軸線L2に対し所定量、左側に偏倚している。係合片54Lbは、基板側プランジャ54の中心軸線L2に対し所定量、右側に偏倚している。これにより、所定の隙間54Cが、係合片54Laおよび54Lbの相互間に形成される。また、図12(B)に示されるように、Z座標軸に沿った平板状部56STの厚さに応じた所定の隙間54Dが、係合片54Laと係合片54Lbとの間に形成される。   The engagement pieces 54La and 54Lb of the substrate side plunger 54 extending along the Y coordinate axis in FIG. 12B have different overall lengths. For example, the overall length of the engagement piece 54La is set to be larger than the overall length of the engagement piece 54Lb. One ends of the engagement pieces 54La and 54Lb are formed in parallel to each other at a predetermined interval along the X coordinate axis. As shown in FIG. 12A, the engagement piece 54La is biased to the left by a predetermined amount with respect to the central axis L2 of the substrate side plunger 54. The engaging piece 54Lb is biased to the right by a predetermined amount with respect to the central axis L2 of the substrate side plunger 54. As a result, a predetermined gap 54C is formed between the engagement pieces 54La and 54Lb. Also, as shown in FIG. 12B, a predetermined gap 54D corresponding to the thickness of the flat plate portion 56ST along the Z coordinate axis is formed between the engagement piece 54La and the engagement piece 54Lb. .

図13(A)、および、(B)に拡大されて示されるように、係合片54Laの他端54Laeには、接点部54Lafが形成されている。接点部54Lafは、Z座標軸に沿って長孔56STaの一方の内周縁56STa1に所定の隙間をもって近接して突出している。また、図13(A)および(B)に拡大されて示されるように、係合片54Lbの他端54Lbeには、接点部54Lbfが形成されている。接点部54Lbfは、Z座標軸に沿って長孔56STaの他方の内周縁56STa2に所定の隙間をもって近接して突出している。従って、図13(B)に示されるように、接点部54Lafおよび接点部54Lbfは、長孔56STaに対し互いに逆方向に突出している。その際、図13(A)および(B)に示されるように、係合片54Laの他端54Laeにおける当接面54Lasが、デバイス側プランジャ56の平板状部56STに向き合う一対の端面のうちの一方の端面に当接され、係合片54Lbの他端54Lbeにおける当接面54Lbsが、デバイス側プランジャ56の平板状部56STに向き合う一対の端面のうちの他方の端面に当接される。当接面54Lasおよび当接面54Lbsは、係合片54Laおよび54Lbの長手方向に沿ってその他端54Laeおよび54Lbeにおいて所定の長さだけ形成されている。   As enlarged and shown in FIGS. 13A and 13B, a contact portion 54Laf is formed at the other end 54Lae of the engagement piece 54La. The contact portion 54Laf protrudes in close proximity to one inner peripheral edge 56STa1 of the long hole 56STa along the Z coordinate axis with a predetermined gap. Moreover, as enlarged and shown in FIGS. 13A and 13B, a contact portion 54Lbf is formed at the other end 54Lbe of the engagement piece 54Lb. The contact portion 54Lbf protrudes close to the other inner peripheral edge 56STa2 of the long hole 56STa along the Z coordinate axis with a predetermined gap. Therefore, as shown in FIG. 13B, the contact portion 54Laf and the contact portion 54Lbf protrude in opposite directions with respect to the long hole 56STa. At that time, as shown in FIGS. 13A and 13B, the contact surface 54Las at the other end 54Lae of the engagement piece 54La is out of the pair of end surfaces facing the flat plate portion 56ST of the device side plunger 56. The contact surface 54Lbs at the other end 54Lbe of the engagement piece 54Lb contacts the other end surface of the pair of end surfaces facing the flat plate portion 56ST of the device side plunger 56. The contact surface 54Las and the contact surface 54Lbs are formed by a predetermined length at the other ends 54Lae and 54Lbe along the longitudinal direction of the engagement pieces 54La and 54Lb.

斯かる構成において、検査用プローブが、上述のハウジング10のプローブ収容部10Bにおける複数個の貫通孔10bi,および、ロアプレート12の貫通孔12bi内に装着された後、ICソケットがプリント配線基板18の実装面に固定される場合、上述の半導体装置DVが、半導体装置載置部10Aの内周部に位置決めされ装着されるとき、デバイス側プランジャ56の接点部56BPが半導体装置DVの電極部DVbに当接した状態で、デバイス側プランジャ56の一部がプローブ収容部10Bにおける貫通孔10bi内に押し込まれる。その際、基板側プランジャ54の接点部54Lbfが長孔56STaの一端から離隔されるとともに、所定の位置で基板側プランジャ54の係合片54Laおよび54Lbがデバイス側プランジャ56の平板状部56STに対しそのX座標方向の隙間に応じて回転し傾くので接点部54Lafおよび接点部54Lbfが、それぞれ、長孔56STaの内周縁56STa1および56STa2における異なる2箇所で当接せしめられる。その際、加えて、係合片54Laの他端54Laeにおける当接面54Lasが、図13(A)および(B)における矢印の示す方向に、デバイス側プランジャ56の平板状部56STに向き合う一対の端面のうちの一方の端面に所定の圧力で当接され、係合片54Lbの他端54Lbeにおける当接面54Lbsが、デバイス側プランジャ56の平板状部56STに向き合う一対の端面のうちの他方の端面に所定の圧力で当接される。   In such a configuration, after the inspection probe is mounted in the plurality of through holes 10bi in the probe housing portion 10B of the housing 10 and the through holes 12bi of the lower plate 12, the IC socket is mounted on the printed wiring board 18. When the semiconductor device DV described above is positioned and mounted on the inner peripheral portion of the semiconductor device mounting portion 10A, the contact portion 56BP of the device side plunger 56 is the electrode portion DVb of the semiconductor device DV. A part of the device-side plunger 56 is pushed into the through hole 10bi in the probe housing portion 10B. At that time, the contact portion 54Lbf of the substrate side plunger 54 is separated from one end of the elongated hole 56STa, and the engagement pieces 54La and 54Lb of the substrate side plunger 54 are in a predetermined position with respect to the flat plate portion 56ST of the device side plunger 56. The contact portion 54Laf and the contact portion 54Lbf are brought into contact with each other at two different locations on the inner peripheral edges 56STa1 and 56STa2 of the long hole 56STa because they rotate and tilt according to the gap in the X coordinate direction. At that time, in addition, a pair of contact surfaces 54Las at the other end 54Lae of the engagement piece 54La are opposed to the flat plate-like portion 56ST of the device side plunger 56 in the direction indicated by the arrows in FIGS. One end face of the end faces is brought into contact with a predetermined pressure, and the contact face 54Lbs at the other end 54Lbe of the engagement piece 54Lb is the other of the pair of end faces facing the flat plate portion 56ST of the device side plunger 56. It abuts on the end face with a predetermined pressure.

従って、所定の位置で接点部54Lafおよび接点部54Lbfが、それぞれ、長孔56STaの内周縁56STa1および56STa2における異なる2箇所で、常時、当接せしめられるとともに、デバイス側プランジャ56の平板状部56STが、当接面54Lasおよび当接面54Lbsにより、図13(A)における矢印で示される方向に挟持されるのでその保持力が高められる。   Therefore, the contact portion 54Laf and the contact portion 54Lbf are always brought into contact with each other at two different locations on the inner peripheral edges 56STa1 and 56STa2 of the long hole 56STa at a predetermined position, and the flat plate-like portion 56ST of the device side plunger 56 is The holding surface 54Las and the contact surface 54Lbs are held in the direction indicated by the arrow in FIG.

なお、図13(A)に示される例においては、当接面54Lasおよび当接面54Lbsが、係合片54Laおよび54Lbの長手方向に沿ってその他端54Laeおよび54Lbeにおいて接点部54Lafおよび接点部54Lbfの根元に連なる共通の平面上に所定の長さだけ形成されているが、斯かる例に限られることなく、例えば、図14(A)に示されるように、係合片55Laおよび55Lbの当接面55Las1および55Lbs1が、当接面54Lasおよび当接面54Lbsに比べて小さい面積で接点部55Lafおよび接点部55Lbfの根元位置だけに形成されてもよい。   In the example shown in FIG. 13A, the contact surface 54Las and the contact surface 54Lbs have contact portions 54Laf and 54Lbf at the other ends 54Lae and 54Lbe along the longitudinal direction of the engagement pieces 54La and 54Lb. However, the present invention is not limited to such an example. For example, as shown in FIG. 14A, the engagement pieces 55La and 55Lb The contact surfaces 55Las1 and 55Lbs1 may be formed only at the root positions of the contact portion 55Laf and the contact portion 55Lbf with a smaller area than the contact surface 54Las and the contact surface 54Lbs.

なお、図14(A)、および、(B)において、図12(A)に示される例における構成要素と同一の構成要素について同一の符合を付して示し、その重複説明を省略する。   14A and 14B, the same components as those in the example shown in FIG. 12A are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof is omitted.

図14(A)および(B)に拡大されて示されるように、基板側プランジャ55は、尖頭状の接点部を有する接触端子部と、接触端子部に連なる係合片55Laおよび55Lbとを含んで構成されている。接触端子部における係合片55Laおよび55Lbの一端が連なる部分には、一対の肩部が、側方に向けて張り出すように形成されている。   As shown in enlarged views in FIGS. 14A and 14B, the substrate-side plunger 55 includes a contact terminal portion having a pointed contact portion and engagement pieces 55La and 55Lb connected to the contact terminal portion. It is configured to include. A pair of shoulder portions are formed so as to protrude toward the side at a portion where one ends of the engagement pieces 55La and 55Lb in the contact terminal portion are continuous.

図14(A)におけるY座標軸に沿って延びる基板側プランジャ55の係合片55Laおよび55Lbは、それぞれ、互いに異なる全長を有している。例えば、係合片55Laの全長は、係合片55Lbの全長に比して大に設定されている。係合片55Laおよび55Lbの一端は、X座標軸に沿った所定の間隔で互いに平行に形成されている。係合片55Laは、基板側プランジャ55の中心軸線L2(図14(B)参照)に対し所定量、左側に偏倚しており、係合片55Lbは、基板側プランジャ55の中心軸線L2(図14(B)参照)に対し所定量、右側に偏倚している。これにより、所定の隙間が、係合片55Laおよび55Lbの相互間に形成されることとなる。   The engagement pieces 55La and 55Lb of the substrate side plunger 55 extending along the Y coordinate axis in FIG. 14A have different overall lengths. For example, the overall length of the engagement piece 55La is set to be larger than the overall length of the engagement piece 55Lb. One ends of the engagement pieces 55La and 55Lb are formed in parallel with each other at a predetermined interval along the X coordinate axis. The engagement piece 55La is biased to the left by a predetermined amount with respect to the central axis L2 (see FIG. 14B) of the substrate side plunger 55, and the engagement piece 55Lb is the central axis L2 (see FIG. 14 (B)) is biased to the right by a predetermined amount. As a result, a predetermined gap is formed between the engagement pieces 55La and 55Lb.

図14(A)、および、(B)に拡大されて示されるように、係合片55Laの他端55Laeには、接点部55Lafが形成されている。接点部55Lafは、Z座標軸に沿って長孔56STaの一方の内周縁に所定の隙間をもって近接して突出している。また、係合片55Lbの他端55Lbeには、接点部55Lbfが形成されている。接点部55Lbfは、Z座標軸に沿って長孔56STaの他方の内周縁に所定の隙間をもって近接して突出する従って、接点部55Lafおよび接点部55Lbfは、長孔56STaに対し互いに逆方向に突出している。その際、図14(A)および(B)に示されるように、係合片55Laの他端55Laeにおける当接面55Las1が、デバイス側プランジャ56の平板状部56STに向き合う一対の端面のうちの一方の端面に当接され、係合片55Lbの他端55Lbeにおける当接面55Lbs1が、デバイス側プランジャ56の平板状部56STに向き合う一対の端面のうちの他方の端面に当接される。   As shown in enlarged views in FIGS. 14A and 14B, a contact portion 55Laf is formed at the other end 55Lae of the engagement piece 55La. The contact portion 55Laf protrudes close to the inner peripheral edge of one of the long holes 56STa with a predetermined gap along the Z coordinate axis. Further, a contact portion 55Lbf is formed at the other end 55Lbe of the engagement piece 55Lb. The contact portion 55Lbf protrudes in close proximity to the other inner peripheral edge of the long hole 56STa along the Z coordinate axis with a predetermined gap. Therefore, the contact portion 55Laf and the contact portion 55Lbf protrude in opposite directions to the long hole 56STa. Yes. At that time, as shown in FIGS. 14A and 14B, the contact surface 55Las1 at the other end 55Lae of the engagement piece 55La is out of the pair of end surfaces facing the flat plate portion 56ST of the device-side plunger 56. The contact surface 55Lbs1 at the other end 55Lbe of the engagement piece 55Lb contacts the other end surface of the pair of end surfaces facing the flat plate portion 56ST of the device side plunger 56.

上述の当接面55Las1および当接面55Lbs1は、互いに同一の構造を有するので当接面55Lbs1について説明し、当接面55Las1の説明を省略する。   Since the contact surface 55Las1 and the contact surface 55Lbs1 described above have the same structure, the contact surface 55Lbs1 will be described, and the description of the contact surface 55Las1 will be omitted.

図14(C)に部分的に拡大されて示されるように、当接面55Lbs1は、他端55Lbeにおいて接点部55Lbfの根元に広がるY座標軸に平行な平面だけに形成されている。   As shown in a partially enlarged view in FIG. 14C, the contact surface 55Lbs1 is formed only on a plane parallel to the Y coordinate axis extending at the base of the contact portion 55Lbf at the other end 55Lbe.

図14(C)、および、(D)に示されるように、当接面55Lbs1から離隔した位置には、段差部55Lbs2が、係合片55LbにおいてY座標軸に平行に形成されている。これにより、当接面55Lbs1の平板状部56STの端面に対する接触面積が、上述の当接面54Lasおよび当接面54Lbsの平板状部56STの端面に対する接触面積に比べて小さいので電気接触子の接点部の摺動に伴う接点部の磨耗を低減できる。   As shown in FIGS. 14C and 14D, a stepped portion 55Lbs2 is formed in the engaging piece 55Lb in parallel to the Y coordinate axis at a position separated from the contact surface 55Lbs1. Accordingly, the contact area of the contact surface 55Lbs1 with respect to the end surface of the flat plate portion 56ST is smaller than the contact area of the contact surface 54Las and the contact surface 54Lbs with respect to the end surface of the flat plate portion 56ST. It is possible to reduce the wear of the contact part due to the sliding of the part.

図15(A)は、図12(A)、(B)、および、(C)に示される例における変形例を示す。なお、図15(A)および(B)において、図12(A)、(B)、および、(C)に示される例における構成要素と同一の構成要素について同一の符合を付して示し、その重複説明を省略する。   FIG. 15 (A) shows a modification of the example shown in FIGS. 12 (A), (B), and (C). 15A and 15B, the same components as those in the example shown in FIGS. 12A, 12B, and 12C are denoted by the same reference numerals, The duplicate description is omitted.

図15(A)に示されるように、基板側プランジャ57の係合片57Laおよび57Lbは、係合片57Laおよび57Lb自体の弾性復元力により、その接点部57Lafおよび接点部57Lbfが、それぞれ、デバイス側プランジャ56の長孔56STaの内周面における向き合う面に所定の圧力で常時当接される。その接点部57Lafおよび接点部57Lbfは、図15(A)におけるX座標軸方向に互いに離隔している。即ち、接点部57Lafおよび接点部57Lbfが、それぞれ、図15(A)および(B)における矢印の示す方向の圧力をもって長孔56STaの内周面に、常時、当接される。その際、デバイス側プランジャ56の平板状部56STにおける長孔56STaの周縁の平坦面56STFと係合片57Laおよび57Lbとの間には、所定の隙間CLが形成されている。   As shown in FIG. 15 (A), the engagement pieces 57La and 57Lb of the substrate side plunger 57 have their contact portions 57Laf and 57Lbf respectively connected to the device by the elastic restoring force of the engagement pieces 57La and 57Lb themselves. The side plunger 56 is always brought into contact with a facing surface of the inner circumferential surface of the long hole 56STa with a predetermined pressure. The contact portion 57Laf and the contact portion 57Lbf are separated from each other in the X-coordinate axis direction in FIG. That is, the contact part 57Laf and the contact part 57Lbf are always brought into contact with the inner peripheral surface of the long hole 56STa with the pressure in the direction indicated by the arrow in FIGS. 15A and 15B, respectively. At that time, a predetermined gap CL is formed between the flat surface 56STF at the periphery of the long hole 56STa in the flat plate-like portion 56ST of the device side plunger 56 and the engagement pieces 57La and 57Lb.

さらに、図15(A)および(B)に示される例における変形例としては、例えば、図16(A)に示されるように、接点部59Lafの当接部が、円弧状断面を有する突起部59Lapにより形成され、接点部59Lbfの当接部が、円弧状断面を有する突起部59Lbpにより形成されるものであってもよい。   Further, as a modification of the example shown in FIGS. 15A and 15B, for example, as shown in FIG. 16A, the contact portion of the contact portion 59 Laf has a projecting portion having an arc-shaped cross section. The contact portion 59Lbf may be formed by a protrusion 59Lbp having an arcuate cross section.

その際、その接点部59Lafの突起部59Lap、および、接点部59Lbfの突起部59Lbpは、それぞれ、長孔56STaの内周面に当接するように長孔56STa内に圧入されている。これにより、電気接触子の接点部の接触抵抗を安定化するとともに、電気接触子の接点部の摺動に伴う接点部の磨耗を低減できる。   At that time, the protrusion 59Lap of the contact portion 59Laf and the protrusion 59Lbp of the contact portion 59Lbf are press-fitted into the long hole 56STa so as to contact the inner peripheral surface of the long hole 56STa. As a result, the contact resistance of the contact portion of the electric contact can be stabilized, and the wear of the contact portion accompanying the sliding of the contact portion of the electric contact can be reduced.

なお、図16(A)および(B)において、図15(A)および(B)に示される例における構成要素と同一の構成要素について同一の符合を付して示し、その重複説明を省略する。   16 (A) and 16 (B), the same components as those in the example shown in FIGS. 15 (A) and 15 (B) are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof is omitted. .

接点部59Lafの突起部59Lap、および、接点部59Lbfの突起部59Lbpは、互いに同一の構造を有するので突起部59Lbpについて説明し、突起部59Lapの説明を省略する。   Since the protrusion 59Lap of the contact part 59Laf and the protrusion 59Lbp of the contact part 59Lbf have the same structure, only the protrusion 59Lbp will be described, and the description of the protrusion 59Lap will be omitted.

図16(A)に示されるように、基板側プランジャ59は、尖頭状の接点部を有する接触端子部(不図示)と、接触端子部に連なる係合片59Laおよび59Lbとを含んで構成されている。接触端子部における係合片59Laおよび59Lbの一端が連なる部分には、図示が省略されるが、一対の肩部が、側方に向けて張り出すように形成されている。   As shown in FIG. 16A, the substrate-side plunger 59 includes a contact terminal portion (not shown) having a pointed contact portion and engagement pieces 59La and 59Lb connected to the contact terminal portion. Has been. In the contact terminal portion, a portion where one ends of the engagement pieces 59La and 59Lb are continuous is formed with a pair of shoulder portions projecting sideways, although illustration is omitted.

基板側プランジャ59の係合片59Laおよび59Lbは、それぞれ、互いに異なる全長を有している。例えば、係合片59Laの全長は、係合片59Lbの全長に比して大に設定されている。係合片59Laおよび59Lbの一端は、図16(A)に示される直交座標におけるX座標軸に沿った所定の間隔で互いに平行に形成されている。係合片59Laは、図16(B)において基板側プランジャ59の中心軸線L2に対し所定量、左側に偏倚しており、係合片59Lbは、基板側プランジャ59の中心軸線L2に対し所定量、右側に偏倚している。平板状部56STの中心軸線L1と基板側プランジャ59の中心軸線L2とは、共通の直線上にある。これにより、所定の隙間が、係合片59Laおよび59Lbの相互間に形成されることとなる。   The engagement pieces 59La and 59Lb of the substrate side plunger 59 have different overall lengths. For example, the overall length of the engagement piece 59La is set to be larger than the overall length of the engagement piece 59Lb. One ends of the engagement pieces 59La and 59Lb are formed in parallel with each other at a predetermined interval along the X coordinate axis in the orthogonal coordinates shown in FIG. The engagement piece 59La is biased to the left by a predetermined amount with respect to the central axis L2 of the substrate side plunger 59 in FIG. 16B, and the engagement piece 59Lb is a predetermined amount with respect to the central axis L2 of the substrate side plunger 59. , Biased to the right. The central axis L1 of the flat plate portion 56ST and the central axis L2 of the substrate side plunger 59 are on a common straight line. As a result, a predetermined gap is formed between the engagement pieces 59La and 59Lb.

図16(C)および(D)に部分的に拡大して示されるように、係合片59Lbの他端59Lbeには、接点部55Lbfの突起部59Lbpが形成されている。突起部59Lbpは、長孔56STa内に挿入されるとともに、突起部59Lapに向き合う長孔56STaの他方の内周縁に向けて突出している。従って、接点部59Lafおよび接点部59Lbfは、長孔56STa内に対し互いに逆方向に突出している。   As shown partially enlarged in FIGS. 16C and 16D, the other end 59Lbe of the engagement piece 59Lb is formed with a protrusion 59Lbp of the contact portion 55Lbf. The protrusion 59Lbp is inserted into the long hole 56STa and protrudes toward the other inner peripheral edge of the long hole 56STa facing the protrusion 59Lap. Therefore, the contact portion 59Laf and the contact portion 59Lbf protrude in the opposite directions to the inside of the long hole 56STa.

図17(A)および(B)は、それぞれ、本発明に係る電気接触子の第3実施例としての検査用プローブの主な構成を示す。   FIGS. 17A and 17B each show the main configuration of an inspection probe as a third embodiment of the electric contact according to the present invention.

図17(A)に拡大されて示されるように、検査用プローブは、第1プランジャとしてのデバイス側プランジャ56と、第2プランジャとしての基板側プランジャ64と、デバイス側プランジャ56と基板側プランジャ64とを互いに離隔する方向に付勢するコイルばね部(不図示)とを含んで構成されている。デバイス側プランジャ56は、半導体装置DVの電極部DVbに対し選択的に当接する接点部を有している。基板側プランジャ64は、プリント配線基板のコンタクトパッドに選択的に当接する接点部を有している。   As shown in an enlarged view in FIG. 17A, the inspection probe includes a device-side plunger 56 as a first plunger, a substrate-side plunger 64 as a second plunger, a device-side plunger 56 and a substrate-side plunger 64. And a coil spring portion (not shown) that urges them in a direction away from each other. The device side plunger 56 has a contact portion that selectively contacts the electrode portion DVb of the semiconductor device DV. The board-side plunger 64 has a contact portion that selectively contacts the contact pad of the printed wiring board.

なお、コイルばね部の構成は、上述の図1(A)に拡大されて示されるコイルばね部22の構成と同一の構成を有している。なお、図17(A)および(B)において、図12(A)および(B)に示される例における構成要素と同一の構成要素について同一の符合を付して示し、その重複説明を省略する。   Note that the configuration of the coil spring portion has the same configuration as the configuration of the coil spring portion 22 shown enlarged in FIG. In FIGS. 17A and 17B, the same components as those in the examples shown in FIGS. 12A and 12B are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof is omitted. .

基板側プランジャ64の材質および表面処理は、デバイス側プランジャ56の材質および表面処理と同一とされる。   The material and surface treatment of the substrate side plunger 64 are the same as the material and surface treatment of the device side plunger 56.

図17(A)に拡大されて示されるように、基板側プランジャ64は、尖頭状の接点部64BPを有する接触端子部64Bと、接触端子部64Bに連なる係合片64Laおよび64Lbとを含んで構成されている。接触端子部64Bにおける係合片64Laおよび64Lbの一端が連なる部分には、一対の肩部64faおよび64fbが、図17(A)におけるX座標軸に沿って側方に向けて張り出すように形成されている。   As shown in an enlarged view in FIG. 17A, the substrate-side plunger 64 includes a contact terminal portion 64B having a pointed contact portion 64BP, and engagement pieces 64La and 64Lb connected to the contact terminal portion 64B. It consists of A pair of shoulder portions 64fa and 64fb are formed so as to protrude sideways along the X coordinate axis in FIG. 17A at a portion where one ends of the engagement pieces 64La and 64Lb are continuous in the contact terminal portion 64B. ing.

図17(B)におけるY座標軸に沿って延びる基板側プランジャ64の係合片64Laおよび64Lbは、それぞれ、互いに異なる全長を有している。例えば、係合片64Laの全長は、係合片64Lbの全長に比して大に設定されている。係合片64Laおよび64Lbの一端は、図17(A)におけるX座標軸に沿った所定の間隔で互いに平行に形成されている。係合片64Laは、基板側プランジャ64の中心軸線L2に対し所定量、左側に偏倚しており、係合片64Lbは、基板側プランジャ64の中心軸線L2に対し所定量、右側に偏倚している。これにより、所定の隙間64Cが、係合片64Laおよび64Lbの相互間に形成されることとなる。   The engagement pieces 64La and 64Lb of the substrate-side plunger 64 extending along the Y coordinate axis in FIG. 17B have different overall lengths. For example, the total length of the engagement piece 64La is set larger than the total length of the engagement piece 64Lb. One ends of the engagement pieces 64La and 64Lb are formed in parallel with each other at a predetermined interval along the X coordinate axis in FIG. The engagement piece 64La is biased to the left by a predetermined amount with respect to the center axis L2 of the substrate side plunger 64, and the engagement piece 64Lb is biased to the right by a predetermined amount with respect to the center axis L2 of the substrate side plunger 64. Yes. As a result, a predetermined gap 64C is formed between the engagement pieces 64La and 64Lb.

係合片64Laの他端64Laeには、図17(A)におけるZ座標軸に沿って長孔56STaの一方の内周縁に所定の隙間をもって近接して突出する接点部64Lafが形成されている。また、係合片64Lbの他端64Lbeには、図17(A)におけるZ座標軸に沿って長孔56STaの他方の内周縁に所定の隙間をもって近接して突出する接点部64Lbfが形成されている。従って、接点部64Lafおよび接点部64Lbfは、長孔56STa内に対し互いに逆方向に突出している。また、図17(B)に示されるように、Z座標軸に沿った平板状部56STの厚さに応じた所定の隙間64Dが、接触端子部64Bの中心軸線L3に沿って係合片64Laと係合片64Lbとの間に形成される。   The other end 64Lae of the engagement piece 64La is formed with a contact portion 64Laf that protrudes close to the inner peripheral edge of one of the elongated holes 56STa with a predetermined gap along the Z coordinate axis in FIG. The other end 64Lbe of the engagement piece 64Lb is formed with a contact portion 64Lbf that protrudes close to the other inner peripheral edge of the long hole 56STa with a predetermined gap along the Z coordinate axis in FIG. . Therefore, the contact portion 64Laf and the contact portion 64Lbf protrude in the opposite directions to the inside of the long hole 56STa. Further, as shown in FIG. 17B, a predetermined gap 64D corresponding to the thickness of the flat plate portion 56ST along the Z coordinate axis is formed along the central axis L3 of the contact terminal portion 64B with the engagement piece 64La. It is formed between the engagement pieces 64Lb.

係合片64Laにおける他端64Laeと一端との間には、Z座標軸に沿って隙間64Dに向けて所定の高さだけ隆起した凸部64Lapが形成されている。また、係合片64Lbにおける他端64Lbeと一端との間には、Z座標軸に沿って隙間64Dに向けて所定の高さだけ隆起した凸部64Lbpが形成されている。凸部64Lapの端面と凸部64Lbpの端面との相互間距離Da(図19(A)参照)は、平板状部56STの厚さに比して若干小に設定されている。これにより、図18(B)および図19(B)に示されるように、デバイス側プランジャ56および基板側プランジャ64が互いに近接される場合、平板状部56STの端部が、凸部64Lapの端面と凸部64Lbpの端面との間に形成される狭窄部に強制的に押し込まれることとなる。   Between the other end 64Lae and one end of the engagement piece 64La, there is formed a convex portion 64Lap that protrudes by a predetermined height along the Z coordinate axis toward the gap 64D. In addition, a protrusion 64Lbp that protrudes by a predetermined height along the Z coordinate axis toward the gap 64D is formed between the other end 64Lbe and the one end of the engagement piece 64Lb. The mutual distance Da (see FIG. 19A) between the end surface of the convex portion 64Lap and the end surface of the convex portion 64Lbp is set slightly smaller than the thickness of the flat plate portion 56ST. Thereby, as shown in FIGS. 18B and 19B, when the device side plunger 56 and the substrate side plunger 64 are brought close to each other, the end of the flat plate portion 56ST is the end surface of the convex portion 64Lap. And the constricted part formed between the end face of the convex part 64Lbp.

斯かる構成において、上述の検査用プローブが装着されたICソケットがプリント配線基板18の実装面に固定される場合、半導体装置DVが、半導体装置載置部10Aの内周部に位置決めされ装着されるとき、デバイス側プランジャ56の接点部56BPが半導体装置DVの電極部DVbに当接した状態で、デバイス側プランジャ56の一部がプローブ収容部10Bにおける貫通孔10bi内に押し込まれる。その際、図18(A)および(B)に示されるように、接点部64Lbfが長孔56STaの一端から離隔されるとともに、所定の位置で基板側プランジャ64の係合片64Laおよび64Lbの凸部64Lapの端面と凸部64Lbpの端面との間に、デバイス側プランジャ56の平板状部56STが押し込まれる。その際、接点部64Lafおよび接点部64Lbfが、所定の隙間に応じて回転され傾き、長孔26STaの内周面における異なる2箇所で当接せしめられる。   In such a configuration, when the IC socket on which the above-described inspection probe is mounted is fixed to the mounting surface of the printed wiring board 18, the semiconductor device DV is positioned and mounted on the inner peripheral portion of the semiconductor device mounting portion 10A. When the contact portion 56BP of the device-side plunger 56 is in contact with the electrode portion DVb of the semiconductor device DV, a part of the device-side plunger 56 is pushed into the through hole 10bi in the probe housing portion 10B. At that time, as shown in FIGS. 18A and 18B, the contact portion 64Lbf is separated from one end of the long hole 56STa, and the engagement pieces 64La and 64Lb of the board-side plunger 64 are protruded at a predetermined position. Between the end surface of the portion 64Lap and the end surface of the convex portion 64Lbp, the flat plate-like portion 56ST of the device side plunger 56 is pushed. At that time, the contact portion 64Laf and the contact portion 64Lbf are rotated and inclined according to a predetermined gap, and are brought into contact with each other at two different locations on the inner peripheral surface of the long hole 26STa.

これにより、図19(B)および(C)に拡大されて示されるように、凸部64Lapの端面と凸部64Lbpの端面とが、それぞれ、平板状部56STの向き合う両端面における異なる一方の端面と他方の端面、2箇所で当接せしめられるとともに、接点部64Lafおよび接点部64Lbfが、所定の隙間に応じて回転され傾き、長孔26STaの内周面における異なる2箇所で当接せしめられる。従って、接点部の接触抵抗を安定させることができる。   Accordingly, as shown in enlarged views in FIGS. 19B and 19C, the end surface of the convex portion 64Lap and the end surface of the convex portion 64Lbp are respectively different one end surfaces at the opposite end surfaces of the flat plate portion 56ST. The contact portion 64Laf and the contact portion 64Lbf are rotated and inclined according to a predetermined gap and are brought into contact at two different locations on the inner peripheral surface of the long hole 26STa. Therefore, the contact resistance of the contact portion can be stabilized.

図20(A)および(B)は、それぞれ、本発明に係る電気接触子の第4実施例としての検査用プローブの主な構成を示す。   FIGS. 20A and 20B respectively show the main configuration of an inspection probe as a fourth embodiment of the electric contact according to the present invention.

検査用プローブは、第1プランジャとしてのデバイス側プランジャ66と、第2プランジャとしての基板側プランジャ24と、デバイス側プランジャ66と基板側プランジャ24とを互いに離隔する方向に付勢するコイルばね部(不図示)とを含んで構成されている。デバイス側プランジャ66は、半導体装置DVの電極部DVbに対し選択的に当接する接点部を有している。基板側プランジャ24は、プリント配線基板のコンタクトパッドに選択的に当接する接点部を有している。   The inspection probe includes a device-side plunger 66 as a first plunger, a substrate-side plunger 24 as a second plunger, and a coil spring portion that biases the device-side plunger 66 and the substrate-side plunger 24 in a direction away from each other ( (Not shown). The device-side plunger 66 has a contact portion that selectively contacts the electrode portion DVb of the semiconductor device DV. The substrate-side plunger 24 has a contact portion that selectively contacts the contact pad of the printed wiring board.

なお、コイルばね部の構成は、上述の図1(A)に拡大されて示されるコイルばね部22の構成と同一の構成を有している。なお、図20(A)および(B)において、図1(A)および(B)に示される例における構成要素と同一の構成要素について同一の符合を付して示し、その重複説明を省略する。   Note that the configuration of the coil spring portion has the same configuration as the configuration of the coil spring portion 22 shown enlarged in FIG. 20A and 20B, the same components as those in the example shown in FIGS. 1A and 1B are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof is omitted. .

デバイス側プランジャ66の材質および表面処理は、上述の基板側プランジャ24の材質および表面処理と同一とされる。   The material and surface treatment of the device side plunger 66 are the same as the material and surface treatment of the substrate side plunger 24 described above.

図20(A)および(B)に拡大されて示されるように、デバイス側プランジャ66は、半導体装置DVの電極部DVbの形状に対応した円弧状に形成される接点部66BPを有する接触端子部66Bと、接触端子部66Bに中心軸線L1に沿って連なる平板状部66STとを含んで構成されている。   20A and 20B, the device side plunger 66 has a contact terminal portion having a contact portion 66BP formed in an arc shape corresponding to the shape of the electrode portion DVb of the semiconductor device DV. 66B and a flat plate-like portion 66ST connected to the contact terminal portion 66B along the central axis L1.

接触端子部66Bにおける平板状部66STの一端が連なる部分には、一対の肩部66faおよび66fbが、図20(A)における直交座標のX座標軸に沿って、即ち、側方に向けて張り出すように形成されている。Y座標軸に沿って延びる平板状部66STは、その中心軸線L1上に所定の幅および長さの長孔66STaを有している。長孔66STaにおける長手方向の中心軸線は、平板状部66STの中心軸線L1と共通の軸線上にあるものとされる。平板状部66STの長孔66STaの周縁の所定位置には、所定の同一の高さを有する凸部66S1と、凸部66S2とが形成されている。凸部66S1は、例えば、図20(A)において長孔66STaにおける左側の周縁の中間部に、Z座標軸に沿って紙面に垂直に所定の高さ隆起して形成されている。また、凸部66S2は、例えば、図20(A)において長孔66STaにおける右側の周縁の中間部に、Z座標軸に沿って紙面に垂直に所定の高さ隆起して形成されている。従って、図22(A)に部分的に拡大されて示されるように、凸部66S1は、基板側プランジャ24の係合片24Laと向き合う方向に隆起し、凸部66S2は、係合片24Lbと向き合う方向に隆起している。これにより、デバイス側プランジャ66と基板側プランジャ24とが、図21(B)に拡大されて示されるように、互いに近接される場合、図22(B)に部分的に拡大されて示されるように、基板側プランジャ24の係合片24Laの他端24Laeが凸部66S1に摺接し乗り上がるとともに、係合片24Lbの他端24Lbeが、凸部66S2に摺接し乗り上がることとなる。   A pair of shoulder portions 66fa and 66fb protrudes along the X coordinate axis of the orthogonal coordinates in FIG. 20A, that is, to the side, at a portion where one end of the flat plate portion 66ST is continuous in the contact terminal portion 66B. It is formed as follows. The flat plate-like portion 66ST extending along the Y coordinate axis has a long hole 66STa having a predetermined width and length on the central axis L1. The central axis in the longitudinal direction of the long hole 66STa is on the same axis as the central axis L1 of the plate-like portion 66ST. A convex portion 66S1 having a predetermined height and a convex portion 66S2 are formed at predetermined positions on the periphery of the long hole 66STa of the flat plate portion 66ST. The convex portion 66S1 is formed, for example, in a middle portion of the left peripheral edge of the long hole 66STa in FIG. 20 (A) so as to protrude a predetermined height along the Z coordinate axis perpendicular to the paper surface. In addition, the convex portion 66S2 is formed, for example, in a middle portion of the right peripheral edge of the long hole 66STa in FIG. 20A so as to bulge to a predetermined height along the Z coordinate axis. Accordingly, as shown in a partially enlarged view in FIG. 22A, the convex portion 66S1 protrudes in a direction facing the engagement piece 24La of the substrate side plunger 24, and the convex portion 66S2 is formed with the engagement piece 24Lb. Raised in the opposite direction. Thus, when the device side plunger 66 and the substrate side plunger 24 are close to each other as shown in an enlarged view in FIG. 21 (B), they are shown in a partially enlarged view in FIG. 22 (B). In addition, the other end 24Lae of the engagement piece 24La of the board-side plunger 24 slides on the convex portion 66S1, and the other end 24Lbe of the engagement piece 24Lb slides on the convex portion 66S2.

斯かる構成において、上述の検査用プローブが装着されたICソケットがプリント配線基板18の実装面に固定される場合、半導体装置DVが、半導体装置載置部10Aの内周部に位置決めされ装着されるとき、図21(A)および(B)に示されるように、接点部24Lbfが長孔66STaの一端から離隔されるとともに、所定の位置で基板側プランジャ24の係合片24Laおよび24Lbの他端24Lae、24Lbeが、それぞれ、平板状部66STの凸部66S1、凸部66S2に摺接され乗り上げられる。その際、係合片24Laの接点部24Lafおよび係合片24Lbの24Lbfが、所定の隙間に応じて回転され傾き、長孔66STaの内周面における異なる2箇所で当接せしめられる。   In such a configuration, when the IC socket on which the above-described inspection probe is mounted is fixed to the mounting surface of the printed wiring board 18, the semiconductor device DV is positioned and mounted on the inner peripheral portion of the semiconductor device mounting portion 10A. As shown in FIGS. 21A and 21B, the contact portion 24Lbf is separated from one end of the long hole 66STa, and the engagement pieces 24La and 24Lb of the substrate-side plunger 24 are placed at a predetermined position. The ends 24Lae and 24Lbe are brought into sliding contact with the convex portions 66S1 and 66S2 of the flat plate-like portion 66ST, respectively. At that time, the contact portion 24Laf of the engagement piece 24La and the 24Lbf of the engagement piece 24Lb are rotated and inclined according to a predetermined gap, and are brought into contact with each other at two different locations on the inner peripheral surface of the long hole 66STa.

これにより、図22(B)および(C)に拡大されて示されるように、係合片24Laの他端24Laeと、係合片24Lbの他端24Lbeとが、それぞれ、平板状部56STの凸部66S1、凸部66S2、2箇所で当接せしめられるとともに、接点部24Lafおよび接点部24Lbfが、所定の隙間に応じて回転され傾き、長孔66STaの内周面における異なる2箇所で当接せしめられる。従って、接点部の接触抵抗を安定させることができる。   Accordingly, as shown in enlarged views in FIGS. 22B and 22C, the other end 24Lae of the engagement piece 24La and the other end 24Lbe of the engagement piece 24Lb are respectively protruded from the flat plate portion 56ST. The contact portion 24Laf and the contact portion 24Lbf are rotated and inclined according to a predetermined gap, and are brought into contact at two different locations on the inner peripheral surface of the long hole 66STa. It is done. Therefore, the contact resistance of the contact portion can be stabilized.

上述のような突起部を基板側プランジャまたはデバイス側プランジャに部分的に設けることによって、通常状態ではクリアランスを設け摺動性を良くしておき、必要な部分に設けられたその突起部で、確実に導通を得る事も可能となる。これにより、導通が確実となるだけでなく、摺動時の摩耗および摩擦抵抗が低減されるとともに、安定した接触荷重が得られ、繰り返し使用した際の抵抗の安定化が図られる。   By providing protrusions as described above partially on the substrate-side plunger or device-side plunger, a clearance is provided in the normal state to improve slidability. It is also possible to obtain electrical continuity. This not only ensures conduction, but also reduces wear and frictional resistance during sliding, provides a stable contact load, and stabilizes resistance when repeatedly used.

図23(A)および(B)は、それぞれ、本発明に係る電気接触子の第5実施例としての検査用プローブの主な構成を示す。   FIGS. 23A and 23B each show the main configuration of an inspection probe as a fifth embodiment of the electric contact according to the present invention.

図23(A)に拡大されて示されるように、検査用プローブは、第1プランジャとしてのデバイス側プランジャ76と、第2プランジャとしての基板側プランジャ24と、デバイス側プランジャ76と基板側プランジャ24とを互いに離隔する方向に付勢するコイルばね部(不図示)とを含んで構成されている。後述するように、デバイス側プランジャ76は、半導体装置DVの電極部DVbに対し選択的に当接する接点部76BPを有している。また、基板側プランジャ24は、プリント配線基板のコンタクトパッドに選択的に当接する接点部24BPを有している。   As shown in FIG. 23A in an enlarged manner, the inspection probe includes a device-side plunger 76 as a first plunger, a substrate-side plunger 24 as a second plunger, a device-side plunger 76 and a substrate-side plunger 24. And a coil spring portion (not shown) that urges them in a direction away from each other. As will be described later, the device-side plunger 76 has a contact portion 76BP that selectively contacts the electrode portion DVb of the semiconductor device DV. Moreover, the board | substrate side plunger 24 has the contact part 24BP which contact | abuts selectively to the contact pad of a printed wiring board.

なお、コイルばね部の構成は、上述の図1(A)に拡大されて示されるコイルばね部22の構成と同一の構成を有している。なお、図23(A)および(B)において、図1(A)および(B)に示される例における構成要素と同一の構成要素について同一の符合を付して示し、その重複説明を省略する。   Note that the configuration of the coil spring portion has the same configuration as the configuration of the coil spring portion 22 shown enlarged in FIG. 23A and 23B, the same components as those in the example shown in FIGS. 1A and 1B are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof is omitted. .

デバイス側プランジャ76の材質および表面処理は、基板側プランジャ24の材質および表面処理と同一とされる。   The material and surface treatment of the device side plunger 76 are the same as the material and surface treatment of the substrate side plunger 24.

図23(A)および(B)に拡大されて示されるように、デバイス側プランジャ76は、半導体装置DVの電極部DVbの形状に対応した円弧状に形成される接点部76BPを有する接触端子部76Bと、接触端子部76Bに中心軸線L1に沿って連なる平板状部76STとを含んで構成されている。   23A and 23B, the device-side plunger 76 has a contact terminal portion having a contact portion 76BP formed in an arc shape corresponding to the shape of the electrode portion DVb of the semiconductor device DV. 76B and a flat plate-like portion 76ST connected to the contact terminal portion 76B along the central axis L1.

接触端子部76Bにおける平板状部76STの一端が連なる部分には、一対の肩部76faおよび76fbが、図23(A)における直交座標のX座標軸に沿って、即ち、側方に向けて張り出すように形成されている。Y座標軸に沿って延びる平板状部76STは、その中心軸線L1上に形成される所定の幅および長さの長孔76STa1と、長孔76STa1の幅および長さよりも広い幅および長さを有し長孔76STa1の開口端に連通する長孔76STa2と、を有している。長孔76STa1および長孔76STa2における長手方向の中心軸線は、平板状部76STの中心軸線L1と共通の軸線上にあるものとされる。   A pair of shoulder portions 76fa and 76fb extend along the X coordinate axis of the orthogonal coordinates in FIG. 23A, that is, to the side, at a portion where one end of the flat plate portion 76ST is continuous in the contact terminal portion 76B. It is formed as follows. The flat plate-like portion 76ST extending along the Y coordinate axis has a long hole 76STa1 having a predetermined width and length formed on the central axis L1, and a width and length wider than the width and length of the long hole 76STa1. A long hole 76STa2 communicating with the opening end of the long hole 76STa1. The central axes in the longitudinal direction of the long holes 76STa1 and 76STa2 are on the same axis as the central axis L1 of the plate-like portion 76ST.

平板状部76STの長孔76STa1の開口端を形成する内周面の最端には、長孔76STa2の周縁と連なる部分に段差部76STE1および76STE2が、形成されている。図23(A)において、段差部76STE1は、長孔76STa2の左側の周縁に形成され、段差部76STE2は、長孔76STa2の右側の周縁に形成されている。段差部76STE1の位置は、段差部76STE2の位置に比して長孔76STa1の閉塞端に近接している。これにより、図24(A)に拡大されて示されるように、デバイス側プランジャ76と基板側プランジャ24とが、互いに近接される場合、図25(C)に部分的に拡大されて示されるように、基板側プランジャ24の係合片24Laの他端24Laeの接点部24Lafが段差部76STE1を通過し長孔66STa1の開口端に強制的に押し込まれるとともに、係合片24Lbの他端24Lbeの接点部24Lbfが、段差部76STE2を通過し長孔66STa1の開口端に強制的に押し込まれる。これにより、係合片24Laの他端24Lae、および、係合片24Lbの他端24Lbeは、互いに近接する方向に付勢されることとなる。   Step portions 76STE1 and 76STE2 are formed at the outermost end of the inner peripheral surface forming the opening end of the long hole 76STa1 of the flat plate portion 76ST at a portion continuous with the peripheral edge of the long hole 76STa2. In FIG. 23A, the stepped portion 76STE1 is formed on the left periphery of the long hole 76STa2, and the stepped portion 76STE2 is formed on the right periphery of the long hole 76STa2. The position of the stepped portion 76STE1 is closer to the closed end of the long hole 76STa1 than the position of the stepped portion 76STE2. Accordingly, as shown in FIG. 24A in an enlarged manner, when the device side plunger 76 and the substrate side plunger 24 are brought close to each other, as shown in FIG. 25C in a partially enlarged manner. In addition, the contact portion 24Laf of the other end 24Lae of the engagement piece 24La of the board side plunger 24 passes through the stepped portion 76STE1 and is forcibly pushed into the opening end of the long hole 66STa1, and the contact of the other end 24Lbe of the engagement piece 24Lb. The portion 24Lbf passes through the stepped portion 76STE2 and is forced into the open end of the long hole 66STa1. Thereby, the other end 24Lae of the engagement piece 24La and the other end 24Lbe of the engagement piece 24Lb are urged in a direction approaching each other.

斯かる構成において、上述の検査用プローブが装着されたICソケットがプリント配線基板18の実装面に固定される場合、半導体装置DVが、半導体装置載置部10Aの内周部に位置決めされ装着されるとき、デバイス側プランジャ76の接点部76BPが半導体装置DVの電極部DVbに当接した状態で、デバイス側プランジャ76の一部がプローブ収容部10Bにおける貫通孔10bi内に押し込まれる。その際、図24(A)および(B)に示されるように、接点部24Lbfが長孔76STa2の一端から離隔されるとともに、所定の位置で基板側プランジャ24の係合片24Laの他端24Laeの接点部24Laf、および、係合片24Lbの他端24Lbeの接点部24Lbfが、それぞれ、段差部76STE1および76STE2を通過することにより、図25(B)および(C)に示されるように、長孔76STa2を抜け出て長孔76STa1内に押し込まれる。その際、係合片24Laの接点部24Lafおよび係合片24Lbの接点部24Lbfが、長孔76STa1の内周面における異なる2箇所で当接せしめられる。従って、接点部の接触抵抗を安定させることができる。   In such a configuration, when the IC socket on which the above-described inspection probe is mounted is fixed to the mounting surface of the printed wiring board 18, the semiconductor device DV is positioned and mounted on the inner peripheral portion of the semiconductor device mounting portion 10A. When the contact portion 76BP of the device side plunger 76 is in contact with the electrode portion DVb of the semiconductor device DV, a part of the device side plunger 76 is pushed into the through hole 10bi in the probe housing portion 10B. At that time, as shown in FIGS. 24A and 24B, the contact portion 24Lbf is separated from one end of the long hole 76STa2, and the other end 24Lae of the engagement piece 24La of the substrate side plunger 24 at a predetermined position. As shown in FIGS. 25B and 25C, the contact portion 24Lf and the contact portion 24Lbf of the other end 24Lbe of the engagement piece 24Lb pass through the step portions 76STE1 and 76STE2, respectively. It escapes from the hole 76STa2 and is pushed into the long hole 76STa1. At that time, the contact portion 24Laf of the engagement piece 24La and the contact portion 24Lbf of the engagement piece 24Lb are brought into contact with each other at two different locations on the inner peripheral surface of the long hole 76STa1. Therefore, the contact resistance of the contact portion can be stabilized.

図26(A)および(B)は、それぞれ、本発明に係る電気接触子の第6実施例としての検査用プローブの主な構成を示す。   FIGS. 26A and 26B respectively show the main configuration of an inspection probe as a sixth embodiment of the electric contact according to the present invention.

図1(A)に示される例においては、検査プローブのコイルばね部22は、密巻き部を有することなく、均等の間隔で巻かれたものとされるが、その代わりに、図26(A)および(B)に示される例においては、コイルばね部32は、係合片の案内部としての密巻部32Mを有するものとされる。なお、図26(A)、(B)、および、(C)において、図1(A)および(B)に示される例における構成要素と同一の構成要素について同一の符合を付して示し、その重複説明を省略する。   In the example shown in FIG. 1 (A), the coil spring portion 22 of the inspection probe is wound at an equal interval without having a tightly wound portion. In the example shown in (B) and (B), the coil spring portion 32 has a tightly wound portion 32M as a guide portion for the engagement piece. 26 (A), (B), and (C), the same components as those in the example shown in FIGS. 1 (A) and (B) are denoted by the same reference numerals, The duplicate description is omitted.

図26(A)に拡大されて示されるように、検査用プローブは、第1プランジャとしてのデバイス側プランジャ26と、第2プランジャとしての基板側プランジャ24と、デバイス側プランジャ26と基板側プランジャ24とを互いに離隔する方向に付勢するコイルばね部32とを含んで構成されている。   As shown in enlarged view in FIG. 26A, the inspection probe includes a device-side plunger 26 as a first plunger, a substrate-side plunger 24 as a second plunger, a device-side plunger 26 and a substrate-side plunger 24. And a coil spring portion 32 that urges them in directions away from each other.

付勢部材としてのコイルばね部32は、弾性を有するばね材料、例えば、ばね用ステンレス鋼線等で作られている。図26(A)および(B)に拡大されて示されるように、コイルばね部32の一端の座巻き32E2は、デバイス側プランジャ26の一対の肩部26faおよび26fbで支持され、コイルばね部32の他端の座巻き32E1は、基板側プランジャ24の一対の肩部24faおよび24fbで支持されている。座巻き32E1および座巻き32E2相互間における中間位置には、係合片の案内部としての密巻部32Mが形成されている。これにより、コイルばね部32は、デバイス側プランジャ26の平板状部26ST、および、基板側プランジャ24の係合片24Laおよび24Lbに巻装されることとなる。   The coil spring portion 32 as the biasing member is made of a spring material having elasticity, for example, a stainless steel wire for a spring. 26A and 26B, the end turn 32E2 at one end of the coil spring portion 32 is supported by a pair of shoulder portions 26fa and 26fb of the device side plunger 26, and the coil spring portion 32 is shown. The end winding 32E1 at the other end is supported by a pair of shoulder portions 24fa and 24fb of the substrate side plunger 24. At an intermediate position between the end turn 32E1 and the end turn 32E2, a tightly wound portion 32M is formed as a guide portion for the engagement piece. Accordingly, the coil spring portion 32 is wound around the flat plate portion 26ST of the device side plunger 26 and the engagement pieces 24La and 24Lb of the substrate side plunger 24.

上述の図26(A)および(B)に示される例において、デバイス側プランジャ26は、半導体装置DVの電極部DVbの形状に対応した円弧状に形成される薄板状の接点部26BPを有する接触端子部26Bと、接触端子部26Bに中心軸線に沿って連なる平板状部26STとを含んで構成されているが、斯かる例に限られることなく、例えば、図27(A)および(B)に示されるように、デバイス側プランジャ26´が、半導体装置DVの電極部DVbの形状に対応した円筒状の接点部26´BPを有する接触端子部26´Bと、接触端子部26´Bに中心軸線に沿って連なる平板状部26´STとから構成されてもよい。なお、図27(A)、(B)、および、(C)において、図26(A)、(B)、および、(C)に示される例における構成要素と同一の構成要素について同一の符合を付して示し、その重複説明を省略する。   In the example shown in FIGS. 26A and 26B described above, the device-side plunger 26 has a thin plate-like contact portion 26BP formed in an arc shape corresponding to the shape of the electrode portion DVb of the semiconductor device DV. The terminal portion 26B and the flat plate portion 26ST connected to the contact terminal portion 26B along the central axis are configured, but the present invention is not limited to such an example. For example, FIGS. 27 (A) and (B) As shown in FIG. 4, the device-side plunger 26 ′ has a contact terminal portion 26′B having a cylindrical contact portion 26′BP corresponding to the shape of the electrode portion DVb of the semiconductor device DV, and a contact terminal portion 26′B. You may comprise from flat part 26'ST which continues along a central axis. 27 (A), (B), and (C), the same reference numerals are used for the same components as those in the example shown in FIGS. 26 (A), (B), and (C). The duplicate explanation is omitted.

接点部26´BPは、4個の尖頭状の当接部26´BNを共通の円周上に均等に有している。接点部26´BPは、プレス加工により円筒状に折り曲げられた後、突合せ部26´Weで突き合わされている。   The contact portion 26'BP has four pointed contact portions 26'BN equally on a common circumference. The contact portion 26'BP is bent into a cylindrical shape by pressing, and then abutted on the abutting portion 26'We.

図27(A)に示されるように、接触端子部26´Bにおける平板状部26´STの一端が連なる部分には、一対の肩部26´faおよび26´fbが、側方に向けて張り出すように形成されている。   As shown in FIG. 27 (A), a pair of shoulder portions 26'fa and 26'fb are directed laterally at a portion where one end of the flat plate portion 26'ST in the contact terminal portion 26'B is continuous. It is formed to overhang.

平板状部26´STは、その中心軸線上に所定の幅および長さの長孔26´STaを有している。長孔26´STaにおける長手方向の中心軸線は、平板状部26´STの中心軸線と共通の軸線上にあるものとされる。   The flat plate portion 26'ST has a long hole 26'STa having a predetermined width and length on the central axis. The central axis in the longitudinal direction of the long hole 26'STa is on the same axis as the central axis of the flat plate portion 26'ST.

図28(A)および(B)は、それぞれ、本発明に係る電気接触子の第7実施例としての検査用プローブの主な構成を示す。   FIGS. 28A and 28B each show the main configuration of an inspection probe as a seventh embodiment of the electric contact according to the present invention.

図28(A)に拡大されて示されるように、検査用プローブは、第1プランジャとしてのデバイス側プランジャ76と、第2プランジャとしての基板側プランジャ74と、デバイス側プランジャ76と基板側プランジャ74とを互いに離隔する方向に付勢するコイルばね部(不図示)とを含んで構成されている。後述するように、デバイス側プランジャ76は、半導体装置DVの電極部DVbに対し選択的に当接する接点部76BPを有している。また、基板側プランジャ74は、プリント配線基板18のコンタクトパッドに選択的に当接する接点部74BPを有している。なお、コイルばね部の構成は、上述の図1(A)に拡大されて示されるコイルばね部22の構成と同一の構成を有している。   As shown in an enlarged view in FIG. 28A, the inspection probe includes a device-side plunger 76 as a first plunger, a substrate-side plunger 74 as a second plunger, a device-side plunger 76, and a substrate-side plunger 74. And a coil spring portion (not shown) that urges them in a direction away from each other. As will be described later, the device-side plunger 76 has a contact portion 76BP that selectively contacts the electrode portion DVb of the semiconductor device DV. The board-side plunger 74 has a contact part 74BP that selectively contacts the contact pad of the printed wiring board 18. Note that the configuration of the coil spring portion has the same configuration as the configuration of the coil spring portion 22 shown enlarged in FIG.

デバイス側プランジャ76および基板側プランジャ74の材質および表面処理は、それぞれ、上述のデバイス側プランジャ24の材質および表面処理と同一とされる。   The material and surface treatment of the device side plunger 76 and the substrate side plunger 74 are the same as the material and surface treatment of the device side plunger 24 described above, respectively.

図28(A)に拡大されて示されるように、デバイス側プランジャ76は、半導体装置DVの電極部DVbの形状に対応した円弧状に形成される接点部76BPを有する接触端子部76Bと、接触端子部76Bに中心軸線に沿って連なる係合片76ST1および76ST2とを含んで構成されている。   As shown in an enlarged view in FIG. 28 (A), the device-side plunger 76 has a contact terminal portion 76B having a contact portion 76BP formed in an arc shape corresponding to the shape of the electrode portion DVb of the semiconductor device DV. Engagement pieces 76ST1 and 76ST2 connected to the terminal portion 76B along the central axis are configured.

接触端子部76Bにおける係合片76ST1および76ST2の一端が連なる部分には、一対の肩部76faおよび76fbが、図28(A)における直交座標のX座標軸に沿って、即ち、側方に向けて張り出すように形成されている。   A pair of shoulder portions 76fa and 76fb are arranged along the X coordinate axis of the orthogonal coordinates in FIG. It is formed to overhang.

Y座標軸に沿って互いに平行に所定の間隔をもって同一の長さで延びる第1の係合片76ST1および76ST2は、その中心軸線L1を対称軸として対称に形成されている。これにより、第1の係合片76ST1および76ST2相互間に隙間76Cが形成されている。第1の係合片76ST1および76ST2の他端には、それぞれ、係止部76STa、および、76STbが形成されている。   The first engaging pieces 76ST1 and 76ST2 extending at the same length in parallel with each other along the Y coordinate axis are formed symmetrically with the central axis L1 as the symmetry axis. Thereby, a gap 76C is formed between the first engagement pieces 76ST1 and 76ST2. Locking portions 76STa and 76STb are formed at the other ends of the first engagement pieces 76ST1 and 76ST2, respectively.

図28(A)に拡大されて示されるように、基板側プランジャ74は、尖頭状の接点部74BPを有する接触端子部74Bと、接触端子部74Bに連なる第2の係合片74Laおよび74Lbとを含んで構成されている。接触端子部74Bにおける第2の係合片74Laおよび74Lbの一端が連なる部分には、一対の肩部74faおよび74fbが、図28(A)におけるX座標軸に沿って側方に向けて張り出すように形成されている。   As shown in an enlarged view in FIG. 28A, the substrate-side plunger 74 includes a contact terminal portion 74B having a pointed contact portion 74BP, and second engagement pieces 74La and 74Lb connected to the contact terminal portion 74B. It is comprised including. A pair of shoulder portions 74fa and 74fb protrudes laterally along the X-coordinate axis in FIG. 28A at a portion where one ends of the second engagement pieces 74La and 74Lb are continuous in the contact terminal portion 74B. Is formed.

図28(A)におけるY座標軸に沿って延びる基板側プランジャ74の第2の係合片74Laおよび74Lbは、それぞれ、互いに同一の全長を有している。図28(A)に示されるように、第2の係合片74Laおよび74Lbの一端は、X座標軸に沿った所定の間隔で互いに平行に形成されている。第2の係合片74Lbは、基板側プランジャ74の中心軸線L2に対し所定量、左側に偏倚しており、第2の係合片74Laは、基板側プランジャ24の中心軸線L2に対し所定量、右側に偏倚している。これにより、所定の隙間74Cが、第2の係合片74Laおよび74Lbの相互間に形成されることとなる。   The second engagement pieces 74La and 74Lb of the substrate-side plunger 74 extending along the Y coordinate axis in FIG. 28A have the same overall length. As shown in FIG. 28A, one ends of the second engagement pieces 74La and 74Lb are formed in parallel with each other at a predetermined interval along the X coordinate axis. The second engagement piece 74Lb is biased to the left by a predetermined amount with respect to the central axis L2 of the substrate side plunger 74, and the second engagement piece 74La is a predetermined amount with respect to the central axis L2 of the substrate side plunger 24. , Biased to the right. Accordingly, a predetermined gap 74C is formed between the second engagement pieces 74La and 74Lb.

図29(A)、および、(B)に拡大されて示されるように、第2の係合片74Laの他端74Laeには、Z座標軸に沿って第1の係合片76ST1の内周縁に所定の隙間をもって近接して突出する接点部74Lafが形成されている。また、第2の係合片24Lbの他端74Lbeには、Z座標軸に沿って第1の係合片76ST2の内周縁に所定の隙間をもって近接して突出する接点部74Lbfが形成されている。従って、図28(B)に示されるように、接点部74Lafおよび接点部74Lbfは、それぞれ、第1の係合片76ST1および76ST2に対し互いに逆方向に突出している。また、図29(B)に示されるように、Z座標軸に沿った所定の隙間74Dが、第2の係合片74Laおよび係合片74Lb相互間に形成されている。隙間74Dは、隙間74Cに比して小とされ、第1の係合片76ST1および第1の係合片76ST2の厚さよりも若干大に設定されている。   As shown in enlarged views in FIGS. 29A and 29B, the other end 74Lae of the second engagement piece 74La is formed on the inner peripheral edge of the first engagement piece 76ST1 along the Z coordinate axis. A contact portion 74Laf that protrudes in close proximity with a predetermined gap is formed. Further, the other end 74Lbe of the second engagement piece 24Lb is formed with a contact portion 74Lbf that protrudes close to the inner peripheral edge of the first engagement piece 76ST2 with a predetermined gap along the Z coordinate axis. Therefore, as shown in FIG. 28B, the contact portion 74Laf and the contact portion 74Lbf protrude in opposite directions with respect to the first engagement pieces 76ST1 and 76ST2, respectively. As shown in FIG. 29B, a predetermined gap 74D along the Z coordinate axis is formed between the second engagement piece 74La and the engagement piece 74Lb. The gap 74D is smaller than the gap 74C, and is set slightly larger than the thickness of the first engagement piece 76ST1 and the first engagement piece 76ST2.

斯かる構成において、上述の検査用プローブが装着されたICソケットがプリント配線基板18の実装面に固定される場合、半導体装置DVが、半導体装置載置部10Aの内周部に位置決めされ装着されるとき、第2の係合片74Laの接点部74Laf、および、第2の係合片74Lbの接点部74Lbfが、それぞれ、第1の係合片76ST1の係止部76STb、第1の係合片76ST2の係止部76STaから離隔されるとともに、所定の位置で、接点部と第1の係合片との間におけるそのX座標方向の隙間に応じて第1の係合片76ST1および第1の係合片76ST2の弾性力に抗して回転し傾くので接点部74Lafおよび接点部74Lbfが、それぞれ、第1の係合片76ST1および第1の係合片76ST2の内周面における異なる2箇所で当接せしめられる。従って、接点部の接触抵抗を安定させることができる。移動中の接点部74Lafおよび接点部74Lbfが、第1の係合片76ST1および第1の係合片76ST2の内周面に摺接しないので電気接触子の接点部の摺動に伴う接点部の磨耗を低減でき、安定した動作と接触寿命の拡大が可能となる。その結果として、接触抵抗の安定性が高く、バネの設計自由度が高い、組み立て容易なスプリングプローブを安価に提供する事が可能となる。   In such a configuration, when the IC socket on which the above-described inspection probe is mounted is fixed to the mounting surface of the printed wiring board 18, the semiconductor device DV is positioned and mounted on the inner peripheral portion of the semiconductor device mounting portion 10A. The contact portion 74Laf of the second engagement piece 74La and the contact portion 74Lbf of the second engagement piece 74Lb are respectively connected to the locking portion 76STb and the first engagement of the first engagement piece 76ST1. The first engagement piece 76ST1 and the first engagement piece 76ST1 are separated from the locking portion 76STa of the piece 76ST2 and at a predetermined position according to the gap in the X coordinate direction between the contact portion and the first engagement piece. Therefore, the contact portion 74Laf and the contact portion 74Lbf are respectively formed on the inner peripheral surfaces of the first engagement piece 76ST1 and the first engagement piece 76ST2. That is brought into contact with two different points. Therefore, the contact resistance of the contact portion can be stabilized. Since the moving contact portion 74Laf and the contact portion 74Lbf are not slidably contacted with the inner peripheral surfaces of the first engagement piece 76ST1 and the first engagement piece 76ST2, the contact portion 74 Wear can be reduced, and stable operation and contact life can be extended. As a result, it is possible to provide an easily assembled spring probe with high contact resistance stability and high spring design flexibility at low cost.

なお、上述の例においては、本発明に係る電気接触子の一例が、ICソケットに適用されているが、必ずしもこのようになされる必要がなく、例えば、電気接続装置としてボードツウボードコネクタ、プローブカードコネクタ等の他のコネクタに適用されてもよいことは勿論である。   In the above example, an example of the electrical contact according to the present invention is applied to the IC socket. However, it is not always necessary to do so. For example, a board-to-board connector, a probe as an electrical connection device Of course, it may be applied to other connectors such as a card connector.

上述した本発明に係る各実施例においては、第1プランジャ(デバイス側プランジャ)が被検査物の電極部に当接し、第2プランジャ(基板側プランジャ)が配線基板の電極部に当接する場合について例示される。しかしながら、第1プランジャが配線基板の電極部に当接し、第2プランジャが、被検査物の電極部に当接するように構成されてもよい。
このような変形例においても、本発明の範囲内に含まれる。
In each of the embodiments according to the present invention described above, the first plunger (device-side plunger) is in contact with the electrode portion of the object to be inspected, and the second plunger (substrate-side plunger) is in contact with the electrode portion of the wiring board. Illustrated. However, the first plunger may be in contact with the electrode portion of the wiring board, and the second plunger may be in contact with the electrode portion of the object to be inspected.
Such modifications are also included within the scope of the present invention.

10 ハウジング
16Ai 検査用プローブ
18 プリント配線基板
22、32 コイルばね部
24、54、64、74 基板側プランジャ
26、26´、56、66、76 デバイス側プランジャ
DV 半導体装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Housing 16Ai Inspection probe 18 Printed wiring board 22, 32 Coil spring part 24, 54, 64, 74 Board | substrate side plunger 26, 26 ', 56, 66, 76 Device side plunger DV Semiconductor device

Claims (10)

被検査物の電極部または配線基板の電極部のうちのいずれか一方に当接する接点部を有する接触端子部と、該接触端子部に連なる平板状部を貫通する開口部とを備える第1プランジャと、
前記第1プランジャの接点部が当接した被検査物の電極部または配線基板の電極部と向き合う配線基板の電極部または被検査物の電極部に当接する固定接点部を有する接触端子部と、該接触端子部に連なり、前記第1プランジャの開口部を形成する内周縁に所定の隙間をもって近接して配される接点部を、前記第1プランジャの開口部を介して互いに臨むように、それぞれ有する一対の係合片と、を有する第2プランジャと、
前記第1プランジャの接触端子部の端部と前記第2プランジャの接触端子部との間に配され、該第1プランジャおよび第2プランジャを互いに離隔する方向に付勢するばね部と、を備え、
前記第1プランジャと前記第2プランジャとが前記ばね部の付勢力に抗して近接される場合、前記第2プランジャの一対の係合片のうちの少なくとも一方の前記係合片の接点部が、前記第1プランジャの開口部の一部に当接することを特徴とする電気接触子。
A first plunger including a contact terminal portion having a contact portion that contacts either one of the electrode portion of the object to be inspected or the electrode portion of the wiring board, and an opening portion that penetrates a flat plate portion connected to the contact terminal portion. When,
A contact terminal portion having a fixed contact portion that contacts the electrode portion of the wiring board or the electrode portion of the inspection object that faces the electrode portion of the inspection object that contacts the contact portion of the first plunger or the electrode portion of the wiring board; Contact points arranged in close proximity with a predetermined gap to the inner peripheral edge forming the opening of the first plunger are connected to the contact terminal part so as to face each other through the opening of the first plunger. A second plunger having a pair of engaging pieces;
A spring portion disposed between the end portion of the contact terminal portion of the first plunger and the contact terminal portion of the second plunger, and biasing the first plunger and the second plunger in a direction away from each other. ,
When the first plunger and the second plunger are brought close to each other against the biasing force of the spring portion, a contact portion of at least one of the engagement pieces of the pair of engagement pieces of the second plunger is An electrical contact that contacts a part of the opening of the first plunger.
前記第2プランジャの一対の係合片の全長は、それぞれ、互いに異なることを特徴とする請求項1記載の電気接触子。   The electrical contact according to claim 1, wherein the total length of the pair of engaging pieces of the second plunger is different from each other. 前記第2プランジャの係合片の接点部は、該係合片の端部にプレス加工により一体に形成され、前記第1プランジャの開口部内に向けて突出することを特徴とする請求項1記載の電気接触子。   The contact portion of the engagement piece of the second plunger is integrally formed by pressing at an end of the engagement piece, and protrudes into the opening of the first plunger. Electrical contacts. 前記第2プランジャの一対の係合片の接点部が前記第1プランジャの開口部を介して互いに近接するように、一対の係合片が成形されていることを特徴とする請求項1記載の電気接触子。   The pair of engaging pieces are formed so that the contact portions of the pair of engaging pieces of the second plunger are close to each other through the opening of the first plunger. Electric contact. 前記第2プランジャの一対の係合片の接点部が前記第1プランジャの開口部を介して互いに離隔するように、一対の係合片が成形されていることを特徴とする請求項1記載の電気接触子。   The pair of engaging pieces are formed so that the contact portions of the pair of engaging pieces of the second plunger are spaced apart from each other through the opening of the first plunger. Electric contact. 前記第2プランジャの一対の係合片の接点部は、前記第1プランジャの開口部を形成する内周縁に向けて隆起した突起部を有することを特徴とする請求項1記載の電気接触子。   2. The electric contact according to claim 1, wherein the contact portions of the pair of engaging pieces of the second plunger have protrusions protruding toward an inner peripheral edge forming the opening of the first plunger. 前記第2プランジャの一対の係合片は、接点部と該第2プランジャの接触端子部の端部との間に、前記第1プランジャの平板状部の厚みよりも狭い狭窄部を有することを特徴とする請求項1記載の電気接触子。   The pair of engaging pieces of the second plunger have a narrowed portion narrower than the thickness of the flat plate-like portion of the first plunger between the contact portion and the end of the contact terminal portion of the second plunger. The electrical contact according to claim 1, wherein: 前記第2プランジャの一対の係合片相互間に挿入される前記第1プランジャの平板状部は、前記第1プランジャと前記第2プランジャとが前記ばね部の付勢力に抗して近接される場合、前記第2プランジャの一対の係合片の各接点部が当接する凸部を有することを特徴とする請求項1記載の電気接触子。   In the flat plate portion of the first plunger inserted between the pair of engaging pieces of the second plunger, the first plunger and the second plunger are brought close to each other against the biasing force of the spring portion. 2. The electrical contact according to claim 1, further comprising: a convex portion with which each contact portion of the pair of engagement pieces of the second plunger comes into contact. 被検査物の電極部または配線基板の電極部のうちのいずれか一方に当接する接点部を有する接触端子部と、該接触端子部に連なる一対の第1の係合片とを備える第1プランジャと、
前記第1プランジャの接点部が当接した被検査物の電極部または配線基板の電極部と向き合う配線基板の電極部または被検査物の電極部に当接する固定接点部を有する接触端子部と、該接触端子部に連なり、前記第1プランジャの一対の第1の係合片の内周縁に所定の隙間をもって近接して配される接点部を、前記第1プランジャの一対の第1の係合片を介して互いに臨むように、それぞれ有する一対の第2の係合片と、を有する第2プランジャと、
前記第1プランジャの接触端子部の端部と前記第2プランジャの接触端子部との間に配され、該第1プランジャおよび第2プランジャを互いに離隔する方向に付勢するばね部と、を備え、
前記第1プランジャと前記第2プランジャとが前記ばね部の付勢力に抗して近接される場合、前記第2プランジャにおける一対の第2の係合片のうちの少なくとも一方の前記第2の係合片の一部に当接することを特徴とする電気接触子。
A first plunger comprising a contact terminal portion having a contact portion that contacts either one of the electrode portion of the object to be inspected or the electrode portion of the wiring board, and a pair of first engagement pieces connected to the contact terminal portion. When,
A contact terminal portion having a fixed contact portion that contacts the electrode portion of the wiring board or the electrode portion of the inspection object that faces the electrode portion of the inspection object that contacts the contact portion of the first plunger or the electrode portion of the wiring board; A contact portion that is connected to the contact terminal portion and is arranged close to the inner peripheral edge of the pair of first engagement pieces of the first plunger with a predetermined gap is provided as a pair of first engagement of the first plunger. A second plunger having a pair of second engaging pieces each having a pair so as to face each other through the pieces;
A spring portion disposed between the end portion of the contact terminal portion of the first plunger and the contact terminal portion of the second plunger, and biasing the first plunger and the second plunger in a direction away from each other. ,
When the first plunger and the second plunger are brought close to each other against the urging force of the spring portion, at least one of the second engagement pieces of the pair of second engagement pieces in the second plunger. An electrical contact that abuts against a part of a piece.
複数個の請求項1または請求項9記載の電気接触子と、
前記電気接触子を収容するプローブ収容部と、
該各電気接触子の第1プランジャの接点部が当接する電極部を複数個有する半導体装置を着脱可能に収容する半導体装置載置部とを有し、前記電気接触子と電気的に接続される配線基板上に配されるハウジングと、
を具備して構成される電気接続装置。
A plurality of electrical contacts according to claim 1 or claim 9;
A probe housing for housing the electrical contact;
A semiconductor device mounting portion that detachably accommodates a semiconductor device having a plurality of electrode portions with which the contact portion of the first plunger of each electrical contact contacts, and is electrically connected to the electrical contact A housing disposed on the wiring board;
An electrical connection device comprising:
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