JP2017519141A - Vacuum pumping method and vacuum pump system - Google Patents
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Abstract
本発明は、真空チャンバ(1)に連結されたガス入口オリフィス(2)と、圧送システム(SP)のガス出口(8)に出てくる前の導管(5)に繋がるガス出口オリフィス(4)とを有するプライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)と、ガス出口オリフィス(4)とガス出口(8)との間の導管(5)に位置決めされた逆止弁(6)と、逆止弁(6)に対して並列に連結されたイジェクタ(7)と、を備える真空ポンプシステム(SP)における圧送方法に関する。この方法によれば、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)が、真空チャンバ(1)の中に収容されたガスをガス出口オリフィス(4)を通して圧送するために、動作状態に置かれ、同時に起こる方法で、イジェクタ(7)に作業流体が供給され、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)が真空チャンバ(1)の中に収容されたガスを圧送する間ずっと、および/またはプライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)が真空チャンバ(1)内で所定の圧力を維持する間ずっと、イジェクタ(7)に作業流体が供給され続ける。本発明は、この方法を実施するために使用することができる圧送システム(SP)にも関する。The present invention includes a gas inlet orifice (2) connected to a vacuum chamber (1) and a gas outlet orifice (4) leading to a conduit (5) before coming out to a gas outlet (8) of a pumping system (SP). A primary dry screw type vacuum pump (3), a check valve (6) positioned in a conduit (5) between the gas outlet orifice (4) and the gas outlet (8), and a check valve ( The present invention relates to a pumping method in a vacuum pump system (SP) including an ejector (7) connected in parallel to 6). According to this method, a primary dry screw type vacuum pump (3) is put into operation and occurs simultaneously to pump the gas contained in the vacuum chamber (1) through the gas outlet orifice (4). In this manner, the working fluid is supplied to the ejector (7) and the primary dry screw type vacuum pump (3) pumps the gas contained in the vacuum chamber (1) and / or the primary dry screw type vacuum. The working fluid continues to be supplied to the ejector (7) as long as the pump (3) maintains a predetermined pressure in the vacuum chamber (1). The invention also relates to a pumping system (SP) that can be used to implement this method.
Description
本発明は、メインポンプがスクリュータイプのドライ真空ポンプであり、一方でこれが出口ガスの温度およびシステムの電気エネルギー消費を減少させる真空ポンプシステムにおける流量および最終真空度の点で性能が改善されることを可能にする圧送方法に関する。本発明は、本発明にかかる方法を実現するために使用することができる真空ポンプシステムにも関する。 The present invention is that the main pump is a screw type dry vacuum pump, while the performance is improved in terms of flow rate and final vacuum in the vacuum pump system, which reduces the temperature of the outlet gas and the electrical energy consumption of the system. It relates to a pumping method that makes possible. The invention also relates to a vacuum pump system that can be used to implement the method according to the invention.
化学産業、製薬産業、真空蒸着、半導体などのような産業において、設置およびエネルギー消費のコストを減少させるために真空ポンプの性能を向上させる全体的な傾向によって、駆動部における性能、省エネルギー、嵩などの点で、著しい進歩がもたらされた。 In the industries such as chemical industry, pharmaceutical industry, vacuum deposition, semiconductor, etc., the overall trend to improve the performance of vacuum pumps to reduce the cost of installation and energy consumption, the performance in the drive, energy saving, bulk etc. In this respect, significant progress has been made.
現状技術は、最終真空度を向上させるために、多段ルートタイプまたは多段クロータイプの真空ポンプに補助段を付け加えなければならないことを証明している。スクリュータイプのドライ真空ポンプに対しては、スクリューに追加の回転を与えなければならず、かつ/または内部圧縮率を高めなければならない。 The state of the art proves that an auxiliary stage must be added to a multistage root type or multistage claw type vacuum pump in order to improve the final vacuum. For screw-type dry vacuum pumps, the screw must be given additional rotation and / or the internal compressibility must be increased.
ポンプの回転速度は、チャンバの排気の異なる段階におけるポンプの動作を規定する極めて重要な役割を演じる。市販のポンプの内部圧縮率(例えば、2〜20の範囲)によって、大気圧と約100ミリバールとの間の、または強い質量流(strong mass flow rate)と呼ばれる吸引圧力での圧送の段階で必要とされる電力は、極めて高くなり得る。通常の解決策は、圧力タイプ、最大の流れ、限界トルク、温度などの異なる基準に応じて、速度の減少または増加、その結果として能力の減少または増加を可能にする可変速度駆動部を使用することである。しかし、低下した回転速度での動作期間中、高圧での流量低下があり、流量は回転速度に比例している。可変周波数駆動部による速度のバリエーションは、追加のコストおよび嵩高性を与える。別の通常の解決策は、多段ルートタイプまたは多段クロータイプの真空ポンプにおける特定の段での、またはスクリュータイプのドライ真空ポンプにおけるスクリューに沿った、特定の良好に規定された位置のそれぞれでの、バイパスタイプの弁の使用である。この解決策は、多数の部品を必要とし、信頼性の問題を提起する。 The rotational speed of the pump plays an extremely important role in defining the operation of the pump at different stages of chamber exhaust. Depending on the internal compression rate of commercial pumps (for example in the range 2-20), required for pumping stages at suction pressures between atmospheric pressure and about 100 mbar or called strong mass flow rate The power taken can be very high. The usual solution is to use a variable speed drive that allows the speed to decrease or increase and consequently capacity to decrease or increase depending on different criteria such as pressure type, maximum flow, limit torque, temperature, etc. That is. However, there is a decrease in flow rate at high pressure during operation at the reduced rotational speed, and the flow rate is proportional to the rotational speed. Variations in speed with the variable frequency drive provide additional cost and bulk. Another common solution is at a specific well-defined position in each of the specific stages in a multi-stage root-type or multi-stage claw-type vacuum pump, or along a screw in a screw-type dry vacuum pump. The use of a bypass type valve. This solution requires a large number of parts and raises reliability issues.
最終真空度の改善および流量の増加を目的とする真空ポンプシステムに関する現状技術は、プライマリドライポンプの上流に配置されたルートタイプのブースターポンプを示している。このタイプのシステムは、嵩高く、信頼性の問題を提起するバイパス弁によって、または測定、チェック、調整、または自動制御の手段を採用することによって動作する。しかし、これらのチェック、調整、または自動制御の手段は、システムの構成部品の数の増加、システムの複雑性の増加、およびシステムのコストの増加を必然的にもたらすアクティブな方法で、パイロット式に動作されなければならない。 The state of the art for vacuum pump systems aimed at improving the final vacuum and increasing the flow rate shows a root-type booster pump located upstream of the primary dry pump. This type of system works with bypass valves that are bulky and present reliability problems, or by employing means of measurement, checking, adjustment, or automatic control. However, these checks, adjustments, or automatic control means are piloted in an active manner that inevitably results in an increased number of system components, increased system complexity, and increased system cost. Must be operated.
本発明は、その目的として、真空チャンバにおいて、(0.0001ミリバールのオーダーでの、)スクリュータイプの単一のドライ真空ポンプを用いて得ることができる真空よりも良好な真空を得ることを可能にする、真空ポンプシステムの圧送方法を提案しなければならない。 The invention has as its object the possibility of obtaining a better vacuum in a vacuum chamber than can be obtained with a single dry vacuum pump of the screw type (on the order of 0.0001 mbar). We must propose a method of pumping the vacuum pump system.
本発明は、その目的として、真空チャンバの圧送中、スクリュータイプの単一のドライ真空ポンプを用いて得ることができる圧力よりも低い圧力で得られる流量を多くできる、真空ポンプシステムの圧送方法も提案しなければならない。 The purpose of the present invention is to provide a pumping method for a vacuum pump system, which can increase the flow rate obtained at a pressure lower than the pressure that can be obtained by using a single screw type dry vacuum pump during pumping of the vacuum chamber. I have to suggest.
本発明は、同様に、その目的として、真空下に真空チャンバを置き、真空チャンバを維持するのに必要な電気エネルギーを減少させることを可能にし、出口ガスの温度を低下させることを可能にする、真空ポンプシステムの圧送方法を提案しなければならない。 The present invention likewise allows the purpose of placing the vacuum chamber under vacuum, reducing the electrical energy required to maintain the vacuum chamber, and reducing the temperature of the exit gas. The pumping method of the vacuum pump system must be proposed.
本発明のこれらの目的は、真空チャンバに連結されたガス入口オリフィスと、大気または他の装置に出てくる前の逆止弁を備える導管に繋がるガス出口オリフィスとを備えたプライマリドライスクリュータイプ真空ポンプの中にその構造が本質的に存在する、圧送システムの構成の内部で実現される圧送方法を用いて得られる。イジェクタの吸引ポートは、この逆止弁に対して並列に連結され、イジェクタの出口は、大気に行くか、または逆止弁の後でプライマリポンプの導管に再結合する。 These objects of the present invention are to provide a primary dry screw type vacuum with a gas inlet orifice connected to a vacuum chamber and a gas outlet orifice leading to a conduit with a check valve before exiting to the atmosphere or other device. It is obtained using a pumping method realized within the configuration of the pumping system, whose structure is essentially present in the pump. The ejector suction port is connected in parallel to the check valve, and the outlet of the ejector goes to the atmosphere or reconnects to the primary pump conduit after the check valve.
このような圧送方法は、特に、独立の請求項1の主題である。さらに、本発明の異なる望ましい実施形態は、従属の請求項の主題である。
Such a pumping method is in particular the subject of
このような方法は、本質的に、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプが真空チャンバの中に収容されたガスをガス入口オリフィスを通して圧送する間ずっと、しかしまた、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプが、出てくるガスをその出口を通して放出することによって、チャンバ内の所定の圧力(例えば、最終真空)を維持する間ずっと、連続してイジェクタに作動流体を供給し、イジェクタを動作させることからなる。 Such a method is essentially the same as the primary dry screw type vacuum pump pumps the gas contained in the vacuum chamber through the gas inlet orifice, but also the primary dry screw type vacuum pump comes out. By discharging the gas through its outlet, it consists of continuously supplying the working fluid to the ejector and operating the ejector while maintaining a predetermined pressure (eg, final vacuum) in the chamber.
第1の態様によれば、本発明は、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプおよびイジェクタの連結が個別の測定結果および装置(例えば、圧力、温度、電流などのためのセンサ)、自動制御またはデータ管理および演算を必要としないという事実にある。その結果として、本発明の圧送方法を実施するのに適する真空ポンプシステムは、最小数の構成部品を備え、優れた単純さを有し、現存するシステムよりはるかに安価である。 According to a first aspect, the present invention provides a primary dry screw type vacuum pump and ejector connection with separate measurement results and devices (eg, sensors for pressure, temperature, current, etc.), automatic control or data management and The fact is that no operation is required. As a result, a vacuum pump system suitable for implementing the pumping method of the present invention has a minimal number of components, has excellent simplicity, and is much cheaper than existing systems.
第2の態様によれば、本発明は、新規の圧送方法によって、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプが、それ自体の動作モードに従って、単一の一定速度で配電網のものを動作することができるか、または可変速度で回転することができるという事実にある。その結果として、本発明の圧送方法を実施するのに適する真空ポンプシステムの複雑性およびコストをさらに減少することができる。 According to the second aspect, the present invention allows the novel dry pumping method to allow the primary dry screw type vacuum pump to operate the one of the distribution network at a single constant speed according to its own mode of operation. Or in the fact that it can be rotated at a variable speed. As a result, the complexity and cost of a vacuum pump system suitable for implementing the pumping method of the present invention can be further reduced.
その特質によって、真空ポンプシステムに一体化されたイジェクタは、この圧送方法に従って、損傷なく常に機能することができる。イジェクタの寸法決めは、装置を動作させるための最小消費量の作動流体に依存する。イジェクタは、通常、単段のものである。イジェクタの公称流量は、逆止弁によって限定されるプライマリドライスクリュータイプ真空ポンプの出口導管の密閉空間に応じて選択される。イジェクタの流れは、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプの公称流量の1/500〜1/20にすることができるが、これらの値よりも少なくすることもできるし、これらの値よりも多くすることもできる。イジェクタの作動流体は、圧縮された空気であることもできるが、圧縮された他のガス(例えば、圧縮された窒素)であることもできる。プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプの出口の導管に置かれた逆止弁は、市販されている標準的な構成部品であることができる。逆止弁は、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプの公称流量に従って寸法が決められている。具体的には、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプの吸引端部の圧力が500ミリバール絶対圧と最終真空(例えば、100ミリバール)との間にあるときに逆止弁は閉じることが予測される。 Due to its nature, the ejector integrated in the vacuum pump system can always function without damage according to this pumping method. Ejector sizing depends on the minimum consumption of working fluid to operate the device. The ejector is usually a single stage. The nominal flow rate of the ejector is selected according to the enclosed space of the outlet conduit of the primary dry screw type vacuum pump that is limited by the check valve. The flow of the ejector can be 1/500 to 1/20 of the nominal flow rate of the primary dry screw type vacuum pump, but it can be less than these values or more than these values. it can. The ejector working fluid can be compressed air, but can also be other compressed gases (eg, compressed nitrogen). The check valve placed in the outlet conduit of the primary dry screw type vacuum pump can be a standard component that is commercially available. The check valve is dimensioned according to the nominal flow rate of the primary dry screw type vacuum pump. Specifically, the check valve is expected to close when the pressure at the suction end of the primary dry screw type vacuum pump is between 500 millibar absolute pressure and the final vacuum (eg, 100 millibar).
別の変形形態によれば、イジェクタは、多段のものである。
さらなる別の変形形態によれば、イジェクタは、半導体産業で通常使用される物質およびガスに対する化学抵抗を高めた材料、単段イジェクタの変形形態および多段イジェクタにおけるものからできていてもよい。
イジェクタは、望ましくは小さいサイズである。
According to another variant, the ejector is multi-stage.
According to yet another variant, the ejectors may be made of materials with increased chemical resistance to substances and gases normally used in the semiconductor industry, single-stage ejector variants and those in multi-stage ejectors.
The ejector is desirably small in size.
別の変形形態によれば、イジェクタは、逆止弁を組み込んだカートリッジに一体化されている。
さらなる別の変形形態によれば、イジェクタは、逆止弁を組み込んだカートリッジに一体化され、このカートリッジ自体は、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプのガス出口オリフィスに固定された排気マフラーの中に収容されている。
本発明にかかる真空ポンプシステムの動作に従って、イジェクタは、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプのガス出口オリフィスと逆止弁との間の密閉空間で常に圧送する。
According to another variant, the ejector is integrated in a cartridge incorporating a check valve.
According to yet another variant, the ejector is integrated into a cartridge incorporating a check valve, which is itself housed in an exhaust muffler secured to the gas outlet orifice of the primary dry screw type vacuum pump. ing.
In accordance with the operation of the vacuum pump system according to the present invention, the ejector always pumps in the sealed space between the gas outlet orifice of the primary dry screw type vacuum pump and the check valve.
本発明のさらなる別の変形形態によれば、イジェクタの動作に必要な圧力のガスの流量は、圧縮機によって供給される。注目すべき方法で、この圧縮機は、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプのシャフトの少なくともの1つによって駆動することができるか、または、代案としてもしくはさらに、自律的な方法で、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプから独立して駆動することができる。この圧縮機は、大気、または逆止弁の後のガス出口導管内のガスを排気することができる。このような圧縮機の存在は、特定の工業環境に適することができるスクリュータイプ真空ポンプシステムを圧縮ガス源から独立した状態にする。 According to yet another variant of the invention, the flow rate of gas at the pressure required for the operation of the ejector is supplied by a compressor. In a noteworthy manner, this compressor can be driven by at least one of the shafts of a primary dry screw type vacuum pump, or alternatively or additionally, in an autonomous manner, a primary dry screw type vacuum. It can be driven independently from the pump. The compressor can exhaust the atmosphere or gas in the gas outlet conduit after the check valve. The presence of such a compressor makes the screw-type vacuum pump system independent of the compressed gas source, which can be suitable for a particular industrial environment.
チャンバの排気サイクルから始めると、チャンバの圧力は、例えば大気圧に等しくなるように上昇する。プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプでの圧縮を考慮すると、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプの出口で放出されるガスの圧力は、(プライマリポンプの出口のガスが大気に直接放出される場合、)大気圧よりも高いか、または下流に連結された別の装置の入口の圧力よりも高い。これにより、逆止弁の開弁が引き起こされる。 Beginning with the chamber evacuation cycle, the chamber pressure increases, for example, to equal atmospheric pressure. Considering the compression with the primary dry screw type vacuum pump, the pressure of the gas released at the outlet of the primary dry screw type vacuum pump is higher than the atmospheric pressure (when the gas at the outlet of the primary pump is released directly into the atmosphere) Or higher than the pressure at the inlet of another device connected downstream. This causes the check valve to open.
この逆止弁が開かれると、イジェクタの入口の圧力がイジェクタの出口の圧力にほぼ等しいので、イジェクタの動きが、極めて僅かに感じられる。対照的に、(チャンバの圧力がその間に低下していたので、)逆止弁が特定の圧力で閉じると、イジェクタの動きが、チャンバと弁の後の導管との間の圧力差の漸進的な低下を引き起こす。プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプの出口の圧力は、イジェクタの入口の圧力になり、イジェクタの出口の圧力は、常に逆止弁の後の導管における圧力となる。イジェクタが多く圧送すればするほど、閉じられた逆止弁によって限定された密閉空間において、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプの出口で、圧力はより低下し、その結果として、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプのチャンバと出口との間の圧力差は減少する。この僅かな差は、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプにおける内部の漏れを減少させ、最終真空度を向上させるチャンバの圧力の低下をもたらす。さらに、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプは、圧縮のためのエネルギーを次第に減少するように消費し、圧縮熱を次第に減少するように生成する。 When the check valve is opened, the ejector movement is felt very slightly because the pressure at the ejector inlet is approximately equal to the pressure at the ejector outlet. In contrast, when the check valve closes at a certain pressure (because the pressure in the chamber has dropped in the meantime), the movement of the ejector causes the pressure difference between the chamber and the conduit behind the valve to gradually increase. Cause a decline. The pressure at the outlet of the primary dry screw type vacuum pump is the pressure at the inlet of the ejector, and the pressure at the outlet of the ejector is always the pressure in the conduit after the check valve. The more the ejector pumps, the lower the pressure at the outlet of the primary dry screw type vacuum pump in the closed space limited by the closed check valve, and consequently the primary dry screw type vacuum pump. The pressure difference between the chamber and the outlet is reduced. This slight difference reduces the internal leakage in the primary dry screw type vacuum pump, resulting in a reduction in chamber pressure that improves the final vacuum. Further, the primary dry screw type vacuum pump consumes energy for compression so as to gradually decrease, and generates heat for gradually decreasing compression heat.
一方、機械的概念の研究が、密閉空間での圧力をより迅速に低下させる目的で、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプのガス出口オリフィスと逆止弁との間の密閉空間を減少させることを意図することも明らかである。 On the other hand, the study of the mechanical concept intends to reduce the sealed space between the gas outlet orifice of the primary dry screw type vacuum pump and the check valve in order to reduce the pressure in the sealed space more quickly. It is also clear.
本発明の特異点および利点は、示した添付図面を参照して限定しない方法で、説明のために与えられる実施形態の例によって理解することができる説明の文脈の中でのより多くの詳細によって明らかになるはずである。 The singularities and advantages of the present invention will be more fully understood in the context of the description, which can be understood by way of example given in an illustrative manner, in a non-limiting manner with reference to the accompanying drawings shown. It should be clear.
図1は、本発明の第1の実施形態に従う圧送方法を実現するのに適した真空ポンプシステム(SP)を示す。
この真空ポンプシステム(SP)は、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ3の吸引オリフィスまたは吸気口2に連結されたチャンバ1を備える。プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ3のガス出口オリフィスは、導管5に連結されている。逆止弁6が導管5の中に置かれ、導管5は、この逆止弁の後、ガス出口導管8に続く。逆止弁6は、閉じられたとき、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ3のガス出口オリフィスと弁そのものとの間に収容される密閉空間4の形成を可能にする。真空ポンプシステム(SP)は、逆止弁6に対して並列に連結されたイジェクタ7も備える。イジェクタの吸気口は、導管5の密閉空間4に連結され、イジェクタのリリースオリフィスは、導管8に連結されている。供給パイプ9は、イジェクタ7の作動流体を供給する。
FIG. 1 shows a vacuum pump system (SP) suitable for realizing the pumping method according to the first embodiment of the present invention.
The vacuum pump system (SP) includes a
プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ3を動作状態にセットすることによって、イジェクタ7の作動流体は、供給パイプ9によって注入される。プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ3は、チャンバ1のガスを連結された導管2を通してプライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ3の入口で吸引し、その後、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ3の出口で、逆止弁6を通る導管5の中にガスを放出するために、ガスを圧縮する。逆止弁6を閉じるための圧力に達すると、弁は閉じる。この瞬間から開始して、イジェクタ7の圧送によって、密閉空間4の圧力は圧力限界値に徐々に減少する。並行して、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ3によって消費される電力は、徐々に低下する。これは、短時間の間(例えば、5〜10秒の必ず起きるサイクルの間)に起こる。
By setting the primary dry screw
プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ3の流量およびチャンバ1の密閉空間に応じた、イジェクタ7の流量および逆止弁6を閉じる圧力の適切な調整によって、排気サイクルの継続時間に関して、逆止弁6を閉じる前の時間を減少させ、従って、圧送への影響なしに、イジェクタ7のこの動作時間の間、作動流体の損失を減少させることがさらに考えられる。さらに、極めて小さなこれらの「損失」は、エネルギー消費の全体量の評価を考慮する。対照的に、容易性の利点によって、プログラム可能な自動装置および/または可変速度駆動ユニット、制御弁、センサなどを備えた同様のポンプと比較して、システムに対する優れた信頼性および10%〜20%の安価な価格がもたらされる。
By appropriately adjusting the flow rate of the
図2は、本発明の第2の実施形態に従う圧送方法を実施するのに適した真空ポンプシステム(SP)を示す。
図1に示されたシステムに対して、図2に示されたシステムは、イジェクタ7の機能に必要な圧力のガス流量を供給する圧縮機10をさらに備える。実際には、この圧縮機10は、大気、または逆止弁6の後のガス出口導管8内のガスを吸引することができる。圧縮機10の存在により、特定の工業環境に適することができる真空ポンプシステムを圧縮ガス源から独立させる。圧縮機10は、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ3の少なくとも1つのシャフトによって、または圧縮機10そのものの電気モータによって、従ってプライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ3から完全に独立した方法で駆動することができる。全ての場合、イジェクタ7を動作させるために必要な圧力のガス流量を供給できるようにするためのそのエネルギー消費は、プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ3のエネルギー消費で実現される節約に対して、はるかに少ない(例えば、3%〜5%のオーダー)。
FIG. 2 shows a vacuum pump system (SP) suitable for carrying out the pumping method according to the second embodiment of the present invention.
In contrast to the system shown in FIG. 1, the system shown in FIG. 2 further comprises a
確かに本発明は、その実施に関して多数の変形を受ける。多様な実施形態について説明してきたけれども、包括的な方法で全ての考えられる実施形態を特定することは考えられないことが十分に理解される。もちろん、本発明の範囲から逸脱することなく、説明された1つの手段を等価手段によって置換することを想定することができる。全てのこれらの修正は、真空技術の分野における当業者の一般的な知識の一部分を形成する。 Indeed, the present invention is subject to numerous variations with respect to its implementation. Although various embodiments have been described, it is well understood that it is not possible to identify all possible embodiments in a comprehensive manner. Of course, it is envisaged that one means described will be replaced by an equivalent means without departing from the scope of the invention. All these modifications form part of the general knowledge of those skilled in the art of vacuum technology.
Claims (30)
前記ガス出口オリフィス(4)と前記ガス出口(8)との間の前記導管(5)に位置決めされた逆止弁(6)と、
前記逆止弁(6)に対して並列に連結されたイジェクタ(7)と、を備える真空ポンプシステム(SP)における圧送方法であって、
前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)が、前記真空チャンバ(1)の中に収容されたガスを前記ガス出口オリフィス(4)を通して圧送するために、動作状態に置かれ、
同時に起こる方法で、前記イジェクタ(7)に作業流体が供給され、
前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)が前記真空チャンバ(1)の中に収容されたガスを圧送する間ずっと、および/または前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)が前記真空チャンバ(1)内で所定の圧力を維持する間ずっと、前記イジェクタ(7)に作業流体が供給され続けることを特徴とする真空ポンプシステム(SP)の圧送方法。 A gas inlet orifice (2) connected to the vacuum chamber (1) and a gas outlet orifice (4) leading to a conduit (5) before coming out to the gas outlet (8) of the vacuum pump system (SP) A primary dry screw type vacuum pump (3);
A check valve (6) positioned in the conduit (5) between the gas outlet orifice (4) and the gas outlet (8);
An ejector (7) connected in parallel to the check valve (6), and a vacuum pumping method in a vacuum pump system (SP),
The primary dry screw type vacuum pump (3) is placed in operation to pump gas contained in the vacuum chamber (1) through the gas outlet orifice (4);
Working fluid is supplied to the ejector (7) in a simultaneous manner,
While the primary dry screw type vacuum pump (3) pumps the gas contained in the vacuum chamber (1) and / or the primary dry screw type vacuum pump (3) is in the vacuum chamber (1). A pumping method for a vacuum pump system (SP), characterized in that a working fluid is continuously supplied to the ejector (7) while maintaining a predetermined pressure in the vacuum pump system (SP).
前記イジェクタ(7)の出口は、前記逆止弁(6)の後で前記導管(5)に再結合することを特徴とする圧送方法。 In the pumping method of Claim 1,
The pumping method according to claim 1, wherein the outlet of the ejector (7) is reconnected to the conduit (5) after the check valve (6).
前記イジェクタ(7)は、最小消費量の作動流体を有するように寸法が決められることを特徴とする圧送方法。 In the pumping method according to claim 1 or 2,
Pumping method, characterized in that the ejector (7) is dimensioned to have a minimum consumption of working fluid.
前記イジェクタ(7)の公称流量は、前記逆止弁(6)によって限定される前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)の導管(5)の密閉空間に応じて選択されることを特徴とする圧送方法。 In the pumping method in any one of Claims 1-3,
The nominal flow rate of the ejector (7) is selected according to the sealed space of the conduit (5) of the primary dry screw type vacuum pump (3) limited by the check valve (6). Pumping method.
前記イジェクタの流量は、前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)の公称流量の1/500〜1/20であることを特徴とする圧送方法。 In the pumping method of Claim 4,
The pumping method according to claim 1, wherein a flow rate of the ejector is 1/500 to 1/20 of a nominal flow rate of the primary dry screw type vacuum pump (3).
前記イジェクタ(7)の作動流体は、圧縮された空気および/または窒素であることを特徴とする圧送方法。 In the pumping method in any one of Claims 1-5,
The pressure feeding method, wherein the working fluid of the ejector (7) is compressed air and / or nitrogen.
前記イジェクタ(7)は、単段または多段であることを特徴とする圧送方法。 In the pumping method in any one of Claims 1-6,
The pumping method according to claim 1, wherein the ejector (7) is single-stage or multi-stage.
前記逆止弁(6)は、前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)の吸引端部の圧力が500ミリバール絶対圧と最終真空との間にあるときに閉じることを特徴とする圧送方法。 In the pumping method in any one of Claims 1-7,
The pumping method according to claim 1, wherein the check valve (6) is closed when the pressure at the suction end of the primary dry screw type vacuum pump (3) is between 500 millibar absolute pressure and the final vacuum.
前記イジェクタ(7)は、半導体産業で通常使用される物質およびガスに対する化学抵抗を高めた材料からできていることを特徴とする圧送方法。 In the pumping method in any one of Claims 1-8,
The said ejector (7) is made from the material which raised the chemical resistance with respect to the substance and gas normally used in the semiconductor industry, The pumping method characterized by the above-mentioned.
前記イジェクタ(7)は、前記逆止弁(6)を組み込んだカートリッジに一体化されることを特徴とする圧送方法。 In the pumping method in any one of Claims 1-9,
The pressure feeding method, wherein the ejector (7) is integrated with a cartridge incorporating the check valve (6).
前記カートリッジは、前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)のガス出口オリフィス(4)に固定された排気マフラーの中に収容されることを特徴とする圧送方法。 In the pumping method of Claim 10,
The pressure feeding method, wherein the cartridge is accommodated in an exhaust muffler fixed to a gas outlet orifice (4) of the primary dry screw type vacuum pump (3).
前記イジェクタ(7)の機能に必要な圧力でのガスの流量は、圧縮機(10)によって供給されることを特徴とする圧送方法。 In the pumping method in any one of Claims 1-11,
A gas feed method characterized in that the flow rate of gas at a pressure required for the function of the ejector (7) is supplied by a compressor (10).
前記圧縮機(10)は、前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)のシャフトの少なくとも1つによって駆動されることを特徴とする圧送方法。 The pumping method according to claim 12,
The compressor (10) is driven by at least one of the shafts of the primary dry screw type vacuum pump (3).
前記圧縮機(10)は、自律的な方法で、前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)から独立して駆動されることを特徴とする圧送方法。 The pumping method according to claim 12,
The compressor (10) is driven by an autonomous method independently from the primary dry screw type vacuum pump (3).
前記圧縮機(10)は、大気、または前記逆止弁(6)の後の前記ガス出口(8)内のガスを排気することを特徴とする圧送方法。 In the pumping method in any one of Claims 12-14,
The compressor (10) exhausts the gas in the gas outlet (8) after the atmosphere or the check valve (6).
前記ガス出口オリフィス(4)と前記ガス出口(8)との間の前記導管(5)に位置決めされた逆止弁(6)と、
前記逆止弁(6)に対して並列に連結されたイジェクタ(7)と、を備える真空ポンプシステム(SP)であって、
前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)が前記真空チャンバ(1)の中に収容されたガスを圧送する間ずっと、および/または前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)が前記真空チャンバ(1)内で所定の圧力を維持する間ずっと、前記イジェクタ(7)に作業流体が供給されることができるように前記イジェクタ(7)が設計されることを特徴とする真空ポンプシステム(SP)。 A gas inlet orifice (2) connected to the vacuum chamber (1) and a gas outlet orifice (4) leading to a conduit (5) before coming out to the gas outlet (8) of the vacuum pump system (SP) A primary dry screw type vacuum pump (3);
A check valve (6) positioned in the conduit (5) between the gas outlet orifice (4) and the gas outlet (8);
A vacuum pump system (SP) comprising an ejector (7) connected in parallel to the check valve (6),
While the primary dry screw type vacuum pump (3) pumps the gas contained in the vacuum chamber (1) and / or the primary dry screw type vacuum pump (3) is in the vacuum chamber (1). A vacuum pump system (SP) characterized in that the ejector (7) is designed such that a working fluid can be supplied to the ejector (7) while maintaining a predetermined pressure therein.
前記イジェクタ(7)の出口は、前記逆止弁(6)の後で前記導管(5)に再結合することを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system according to claim 16, wherein
Vacuum pump system, characterized in that the outlet of the ejector (7) reconnects to the conduit (5) after the check valve (6).
前記イジェクタ(7)は、最小消費量の作動流体を有するように寸法が決められることを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system according to claim 16 or 17,
Vacuum pump system characterized in that the ejector (7) is dimensioned to have a minimum consumption of working fluid.
前記イジェクタ(7)の公称流量は、前記逆止弁(6)によって限定される前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)の導管(5)の密閉空間に応じて選択されることを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system according to any one of claims 16 to 18,
The nominal flow rate of the ejector (7) is selected according to the sealed space of the conduit (5) of the primary dry screw type vacuum pump (3) limited by the check valve (6). Vacuum pump system.
前記イジェクタの流量は、前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)の公称流量の1/500〜1/20であることを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system according to claim 19,
The vacuum pump system according to claim 1, wherein a flow rate of the ejector is 1/500 to 1/20 of a nominal flow rate of the primary dry screw type vacuum pump (3).
前記イジェクタ(7)の作動流体は、圧縮された空気および/または窒素であることを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system according to any one of claims 16 to 20,
The vacuum pump system according to claim 1, wherein the working fluid of the ejector (7) is compressed air and / or nitrogen.
前記イジェクタ(7)は、単段または多段であることを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system according to any one of claims 16 to 21,
The said ejector (7) is a single stage or multistage, The vacuum pump system characterized by the above-mentioned.
前記逆止弁(6)は、前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)の吸引端部の圧力が500ミリバール絶対圧と最終真空との間にあるときに閉じることを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system according to any one of claims 16 to 22,
The check valve (6) closes when the pressure at the suction end of the primary dry screw type vacuum pump (3) is between 500 millibar absolute pressure and the final vacuum.
前記イジェクタ(7)は、半導体産業で通常使用される物質およびガスに対する化学抵抗を高めた材料からできていることを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system according to any one of claims 16 to 23,
The said ejector (7) is made from the material which raised the chemical resistance with respect to the substance and gas normally used in the semiconductor industry, The vacuum pump system characterized by the above-mentioned.
前記イジェクタ(7)は、前記逆止弁(6)を組み込んだカートリッジに一体化されることを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system according to any one of claims 16 to 24,
The vacuum pump system, wherein the ejector (7) is integrated with a cartridge incorporating the check valve (6).
前記カートリッジは、前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)のガス出口オリフィス(4)に固定された排気マフラーの中に収容されることを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system according to claim 25,
The vacuum pump system, wherein the cartridge is housed in an exhaust muffler fixed to a gas outlet orifice (4) of the primary dry screw type vacuum pump (3).
前記イジェクタ(7)の機能に必要な圧力でのガスの流量を供給する圧縮機(10)をさらに備えることを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system according to any one of claims 16 to 26,
The vacuum pump system further comprising a compressor (10) for supplying a gas flow rate at a pressure required for the function of the ejector (7).
前記圧縮機(10)は、前記プライマリドライスクリュータイプ真空ポンプ(3)のシャフトの少なくとも1つによって駆動されることを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system of claim 27,
The vacuum pump system, wherein the compressor (10) is driven by at least one of shafts of the primary dry screw type vacuum pump (3).
前記圧縮機(10)は、自律的な方法で、前記プライマリドライスクリュータイプポンプ(3)から独立して駆動されることを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system of claim 27,
The vacuum pump system, wherein the compressor (10) is driven independently of the primary dry screw type pump (3) in an autonomous manner.
前記圧縮機(10)は、大気、または前記逆止弁(6)の後の前記ガス出口(8)内のガスを排気することを特徴とする真空ポンプシステム。 The vacuum pump system according to any one of claims 27 to 29,
The vacuum pump system characterized in that the compressor (10) exhausts the gas in the gas outlet (8) after the atmosphere or the check valve (6).
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