JP2017181530A - Manufacturing method of member with functional layer and manufacturing method of member for display device - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて、被転写部材上に機能層を良好に転写することが可能な機能層付部材の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、転写用基材および上記転写用基材上に形成された機能層を有する転写用積層体を準備する準備工程と、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、上記光硬化型接着層と、上記転写用積層体の上記機能層とを貼合する貼合工程と、上記光硬化型接着層を露光することにより、上記光硬化型樹脂材料を硬化させて、上記被転写部材上に上記機能層を接着する露光工程と、上記転写用積層体の上記転写用基材を剥離することにより、上記被転写部材上に上記機能層を転写する転写工程と、を有することを特徴とする機能層付部材の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図1PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a member with a functional layer capable of satisfactorily transferring a functional layer onto a member to be transferred by using a photocurable adhesive layer having a thin thickness. do. According to the present invention, a preparatory step of preparing a transfer base material and a transfer laminate having a functional layer formed on the transfer base material, and at least light on a member to be transferred having the base material. A coating step of forming a photocurable adhesive layer by applying an adhesive containing a curable resin material, and laminating the photocurable adhesive layer and the functional layer of the transfer laminate. The step, the exposure step of curing the photocurable resin material by exposing the photocurable adhesive layer and adhering the functional layer onto the transfer member, and the transfer of the transfer laminate. The above problem is solved by providing a method for manufacturing a member with a functional layer, which comprises a transfer step of transferring the functional layer onto the member to be transferred by peeling off the base material for use. .. [Selection diagram] Fig. 1
Description
本発明は、転写法を用いて、被転写部材上に機能層を形成する機能層付部材の製造方法および表示装置用部材の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a member with a functional layer and a method for manufacturing a member for a display device that form a functional layer on a member to be transferred using a transfer method.
例えば、ディスプレイの分野、電子素子の分野、建材分野等の種々の分野において、感圧接着剤(PSA)から構成される接着層は、例えば、基材同士、または基材および機能層を貼合するために用いられている(例えば、特許文献1)。なお、以下、感圧接着剤から構成される接着層を感圧接着層と称して説明する場合がある。 For example, in various fields such as the display field, the electronic element field, and the building material field, the adhesive layer composed of the pressure-sensitive adhesive (PSA) is, for example, bonding the base materials together or the base material and the functional layer. (For example, Patent Document 1). Hereinafter, an adhesive layer composed of a pressure-sensitive adhesive may be referred to as a pressure-sensitive adhesive layer.
感圧接着層を用いて、転写法により、基材上に機能層を形成する技術も提案されている。
図5(a)〜(f)は従来の機能層付部材の製造方法の一例を示す概略工程図である。従来においては、まず図5(a)に示すように、剥離紙等の保護基材6と、保護基材6上に形成された感圧接着剤を含む接着層(感圧接着層)7を有する転写用積層体8を準備する。次に、図5(b)に示すように、被転写部材4上に、転写用積層体8の感圧接着層7を圧着させた後、図5(c)に示すように、保護基材6を剥離することにより、被転写部材4上に感圧接着層7を転写する。次に、図5(d)に示すように、転写用基材2および機能層3aを有する転写部材1を準備し、図5(e)に示すように、感圧接着層7と機能層3aとを対向させて圧着する。次に、図5(f)に示すように、転写用基材2を剥離することにより、被転写部材4上に機能層3aを転写する。以上の工程により、機能層付部材10Bを製造する。
A technique for forming a functional layer on a substrate by a transfer method using a pressure-sensitive adhesive layer has also been proposed.
FIGS. 5A to 5F are schematic process diagrams showing an example of a conventional method for producing a member with a functional layer. In the prior art, first, as shown in FIG. 5A, a
感圧接着剤から構成される接着層は、例えば、保護基材上に感圧接着層を形成した後、転写することにより被転写部材上に形成される。そのため、感圧接着層は、転写に耐え得る強度を付与するため、比較的厚みを厚くする必要がある。したがって、感圧接着層を用いた転写法においては、機能層付部材を薄く形成することが困難な場合がある。 The adhesive layer composed of the pressure-sensitive adhesive is formed on the member to be transferred by, for example, forming a pressure-sensitive adhesive layer on a protective substrate and then transferring it. For this reason, the pressure-sensitive adhesive layer needs to be relatively thick in order to impart strength sufficient to withstand transfer. Therefore, in a transfer method using a pressure-sensitive adhesive layer, it may be difficult to form a thin member with a functional layer.
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて、被転写部材上に機能層を良好に転写することが可能な機能層付部材の製造方法を提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and a method for producing a member with a functional layer capable of satisfactorily transferring a functional layer onto a member to be transferred using a thin photocurable adhesive layer. The main purpose is to provide.
上記目的を達成するために、転写用基材および上記転写用基材上に形成された機能層を有する転写用積層体を準備する準備工程と、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、上記光硬化型接着層と、上記転写用積層体の上記機能層とを貼合する貼合工程と、上記光硬化型接着層を露光することにより、上記光硬化型樹脂材料を硬化させて、上記被転写部材上に上記機能層を接着する露光工程と、上記転写用積層体の上記転写用基材を剥離することにより、上記被転写部材上に上記機能層を転写する転写工程と、を有することを特徴とする機能層付部材の製造方法を提供する。 In order to achieve the above object, a preparation step of preparing a transfer substrate and a transfer laminate having a functional layer formed on the transfer substrate, and at least light transferred on a transfer member having the substrate Bonding that bonds the coating step of forming a photocurable adhesive layer by applying an adhesive containing a curable resin material, the photocurable adhesive layer, and the functional layer of the transfer laminate. Exposing the photo-curing adhesive layer to cure the photo-curing resin material and adhering the functional layer onto the transfer member; and transferring the transfer laminate And a transfer step of transferring the functional layer onto the member to be transferred by peeling the base material for use.
本発明によれば、塗布工程において、塗布法を用いて光硬化型接着層を形成することができるため、光硬化型接着層の厚みを薄く形成することができる。また、本発明によれば、露光工程において、露光により光硬化型樹脂材料を硬化させて、被転写部材上に機能層を接着することができるため、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて被転写部材および機能層を良好に接着させることができる。よって、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて被転写部材上に機能層を良好に転写することができる。 According to the present invention, since the photocurable adhesive layer can be formed using a coating method in the coating step, the thickness of the photocurable adhesive layer can be reduced. Further, according to the present invention, in the exposure step, the photocurable resin material can be cured by exposure and the functional layer can be adhered onto the member to be transferred, so that the thin photocurable adhesive layer is used. The transferred member and the functional layer can be favorably adhered. Therefore, the functional layer can be satisfactorily transferred onto the member to be transferred using the thin photocurable adhesive layer.
上記発明においては、上記被転写部材が、上記基材上に形成された第2機能層を有することが好ましい。本発明においては、塗布法を用いて光硬化型接着層を形成することができるため、例えば、基材上に第2機能層が所定のパターン状に形成されていることにより、被転写部材が表面凹凸を有していても、光硬化型接着層を被転写部材の表面凹凸に追従させて形成することができるからである。 In the said invention, it is preferable that the said to-be-transferred member has a 2nd functional layer formed on the said base material. In the present invention, since the photocurable adhesive layer can be formed using a coating method, for example, when the second functional layer is formed in a predetermined pattern on the substrate, the member to be transferred is This is because the photocurable adhesive layer can be formed to follow the surface unevenness of the transferred member even if it has surface unevenness.
本発明は、転写用基材および上記転写用基材上に形成された表示装置用機能層を有する転写用積層体を準備する準備工程と、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、上記光硬化型接着層と、上記転写用積層体の上記表示装置用機能層とを貼合する貼合工程と、上記光硬化型接着層を露光することにより、上記光硬化型樹脂材料を硬化させて、上記被転写部材上に上記表示装置用機能層を接着する露光工程と、上記転写用積層体の上記転写用基材を剥離することにより、上記被転写部材上に上記表示装置用機能層を転写する転写工程と、を有することを特徴とする表示装置用部材の製造方法を提供する。 The present invention provides a preparation step for preparing a transfer laminate having a transfer substrate and a functional layer for a display device formed on the transfer substrate, and photocuring at least on a member to be transferred having the substrate. By applying an adhesive containing a mold resin material, an application step of forming a photocurable adhesive layer, the photocurable adhesive layer, and the display device functional layer of the transfer laminate are bonded. A bonding step, an exposure step of curing the photocurable resin material by exposing the photocurable adhesive layer, and adhering the functional layer for display device on the transferred member, and the transfer And a transfer step of transferring the display device functional layer onto the member to be transferred by peeling off the transfer substrate of the laminate. .
本発明によれば、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて、被転写部材上に表示装置用機能層を形成することができるため、薄膜の表示装置用部材を形成することができる。 According to the present invention, since a functional layer for a display device can be formed on a member to be transferred using a thin photo-curing adhesive layer, a thin display device member can be formed.
本発明の機能層付部材の製造方法は、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて、被転写部材上に機能層を良好に転写することが可能となるといった効果を奏する。 The method for producing a member with a functional layer of the present invention has an effect that the functional layer can be satisfactorily transferred onto the member to be transferred using a thin photocurable adhesive layer.
以下、本発明の機能層付基材の製造方法および表示装置用部材の詳細を説明する。 Hereinafter, the manufacturing method of the base material with a functional layer of this invention and the detail of the member for display apparatuses are demonstrated.
A.機能層付部材の製造方法
以下、本発明の機能層付部材の製造方法の詳細を説明する。
本発明の機能層付部材の製造方法は、転写用基材および上記転写用基材上に形成された機能層を有する転写用積層体を準備する準備工程と、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、上記光硬化型接着層と、上記転写用積層体の上記機能層とを貼合する貼合工程と、上記光硬化型接着層を露光することにより、上記光硬化型樹脂材料を硬化させて、上記被転写部材上に上記機能層を接着する露光工程と、上記転写用積層体の上記転写用基材を剥離することにより、上記被転写部材上に上記機能層を転写する転写工程と、を有することを特徴とする。
A. Hereinafter, the details of the method for producing a member with a functional layer of the present invention will be described.
The method for producing a member with a functional layer according to the present invention includes a preparation step of preparing a transfer substrate and a transfer laminate having a functional layer formed on the transfer substrate, and a transferred member having at least the substrate. A coating process for forming a photocurable adhesive layer by applying an adhesive containing a photocurable resin material thereon, the photocurable adhesive layer, and the functional layer of the transfer laminate are attached. A bonding step for combining, an exposure step for curing the photocurable resin material by exposing the photocurable adhesive layer, and adhering the functional layer on the member to be transferred, and the transfer laminate A transfer step of transferring the functional layer onto the member to be transferred by peeling off the transfer substrate of the body.
本発明の機能層付部材の製造方法について、図を参照しながら説明する。図1(a)〜(e)は、本発明の機能層付部材の製造方法の一例を示す概略工程図である。本発明においては、まず図1(a)に示すように、転写用基材2および転写用基材2上に形成された機能層3aを有する転写用積層体1を準備する(準備工程)。次に図1(b)に示すように、基材4a(被転写部材4)上に、例えばダイコーター等の塗布装置Cを用いて光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層5を形成する(塗布工程)。次に図1(c)に示すように、光硬化型接着層5と、転写用積層体1の機能層3aとを貼合する(貼合工程)。次に図1(d)に示すように、露光光Lを照射して、光硬化型接着層5を露光することにより、光硬化型樹脂材料を硬化させて、被転写部材4上に機能層3aを接着する(露光工程)。次に図1(e)に示すように、転写用積層体1の転写用基材2を剥離することにより、被転写部材4上に機能層3aを転写する(転写工程)。以上の工程により、機能層付部材10Aを製造することができる。
The manufacturing method of the member with a functional layer of this invention is demonstrated referring a figure. 1A to 1E are schematic process diagrams showing an example of a method for producing a member with a functional layer of the present invention. In the present invention, first, as shown in FIG. 1A, a
本発明によれば、塗布工程において、塗布法を用いて光硬化型接着層を形成することができるため、光硬化型接着層の厚みを薄く形成することができる。また、本発明によれば、露光工程において、露光により光硬化型樹脂材料を硬化させて、被転写部材上に機能層を接着することができるため、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて被転写部材および機能層を良好に接着させることができる。よって、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて被転写部材上に機能層を良好に転写することができる。 According to the present invention, since the photocurable adhesive layer can be formed using a coating method in the coating step, the thickness of the photocurable adhesive layer can be reduced. Further, according to the present invention, in the exposure step, the photocurable resin material can be cured by exposure and the functional layer can be adhered onto the member to be transferred, so that the thin photocurable adhesive layer is used. The transferred member and the functional layer can be favorably adhered. Therefore, the functional layer can be satisfactorily transferred onto the member to be transferred using the thin photocurable adhesive layer.
ここで、従来から転写法においては、通常、感圧接着層が用いられている。被転写部材上に感圧接着層を形成するに際しては、予め、保護基材上に感圧接着層が形成された感圧接着層用の転写用積層体を準備し、上記転写用積層体の感圧接着層側の面を被転写部材上に圧着させた後、保護基材を剥離する。すなわち、感圧接着層は、それ自体が転写されることにより、被転写部材上に形成される。そのため、感圧接着層に対しては、転写部材上への圧着、保護基材の剥離に耐え得る強度を付与する必要があり、比較的厚みを厚くする必要がある。したがって、感圧接着層を用いた転写法においては、機能層付部材を薄く形成することが困難である。
これに対し、本発明によれば、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて、被転写部材上に機能層を転写することができるため、機能層付部材の厚みを薄く形成することができる。
Here, conventionally, in the transfer method, a pressure-sensitive adhesive layer is usually used. When forming a pressure-sensitive adhesive layer on a member to be transferred, a transfer laminate for a pressure-sensitive adhesive layer in which a pressure-sensitive adhesive layer is formed on a protective substrate is prepared in advance. After the pressure-sensitive adhesive layer side is pressure-bonded onto the member to be transferred, the protective substrate is peeled off. That is, the pressure-sensitive adhesive layer is formed on the transferred member by transferring itself. Therefore, it is necessary to give the pressure-sensitive adhesive layer strength sufficient to withstand pressure bonding on the transfer member and peeling of the protective substrate, and it is necessary to make the thickness relatively thick. Therefore, in the transfer method using the pressure-sensitive adhesive layer, it is difficult to form a thin member with a functional layer.
On the other hand, according to the present invention, since the functional layer can be transferred onto the member to be transferred using a thin photocurable adhesive layer, the thickness of the member with the functional layer can be reduced. .
また、感圧接着層は、流動性が比較的低い。そのため、例えば、図6に示すように、被転写部材4が基材4a上に第2機能層3bを有する等、被転写部材4が表面凹凸を有する場合、被転写部材4上に形成された感圧接着層7に、被転写部材の表面凹凸の段差がそのまま生じる場合がある。すなわち、感圧接着層7における転写用積層体との貼合面を平坦にすることができない場合がある。そのため、感圧接着層および転写用積層体を良好に貼合することが困難となる場合がある。また、被転写部材4が表面凹凸を有する場合、感圧接着層7と被転写部材4とが密着していない部分の面積が多くなる場合がある。そのため、得られる機能層付部材の性能が低下する場合や、機能層が剥離することが懸念される。このような課題は、例えば、被転写部材上に微細なパターンを有する第2機能層が形成されている場合、特に生じやすい。また、感圧接着層は転写用積層体を用いて被転写部材上に形成されるため、例えば、感圧接着層の流動性を高くした場合も、保護基材が被転写部材の表面凹凸に追従することができないことにより、被転写部材の表面凹凸に感圧接着層を追従させて形成することが困難となることが懸念される。このような課題は、特に、感圧接着層の厚みを薄く形成した場合に生じやすい。
これに対し、本発明によれば、光硬化型樹脂材料を含有する接着剤の流動性を調整し、塗布法を用いて光硬化型接着層を形成することができるため、被転写部材の表面凹凸に光硬化型接着層を良好に追従させて形成することができる。また、本発明によれば、上記接着剤の塗布量を調整することにより、被転写部材の表面凹凸を光硬化型接着層で埋めることができる。よって、光硬化型接着層における機能層との貼合面に平坦性を付与することができ、機能層と光硬化型接着層とを良好に貼合することができる。
Moreover, the pressure-sensitive adhesive layer has a relatively low fluidity. Therefore, for example, as shown in FIG. 6, when the member to be transferred 4 has surface irregularities such as having the second
In contrast, according to the present invention, the fluidity of the adhesive containing the photocurable resin material can be adjusted, and the photocurable adhesive layer can be formed using a coating method. The photocurable adhesive layer can be made to follow the unevenness satisfactorily and formed. Moreover, according to this invention, the surface unevenness | corrugation of a to-be-transferred member can be filled with a photocurable adhesive layer by adjusting the application quantity of the said adhesive agent. Therefore, flatness can be given to the bonding surface with the functional layer in the photocurable adhesive layer, and the functional layer and the photocurable adhesive layer can be bonded satisfactorily.
また、感圧接着層は、加熱により劣化しやすい。そのため、感圧接着層を用いた機能層付部材は、例えば、機能層の転写後に、さらに熱処理を必要とする後工程を行なうことが困難であるという問題がある。これに対し、本発明において得られる機能層付部材は、光硬化型樹脂材料を硬化させた光硬化型接着層を有するため、高い耐熱性を有することができる。そのため、機能層の転写後に、さらに熱処理を必要とする後工程を行なうことができる。よって、本発明の機能層付部材の製造方法は、感圧接着層を用いた従来の転写法に比べて、幅広い機能層の形成に適用することができる。
以下、本発明の機能層付部材の製造方法における各工程について説明する。
Further, the pressure-sensitive adhesive layer is easily deteriorated by heating. Therefore, a member with a functional layer using a pressure-sensitive adhesive layer has a problem that it is difficult to perform a post-process that requires heat treatment after the transfer of the functional layer, for example. On the other hand, since the member with a functional layer obtained in the present invention has a photocurable adhesive layer obtained by curing a photocurable resin material, it can have high heat resistance. Therefore, after the transfer of the functional layer, a post process that requires heat treatment can be performed. Therefore, the manufacturing method of the member with a functional layer of this invention can be applied to formation of a wide functional layer compared with the conventional transfer method using a pressure sensitive adhesive layer.
Hereinafter, each process in the manufacturing method of the member with a functional layer of this invention is demonstrated.
1.準備工程
本発明における準備工程は、転写用基材および転写用基材上に形成された機能層を有する転写用積層体を準備する工程である。
1. Preparation Step The preparation step in the present invention is a step of preparing a transfer laminate having a transfer substrate and a functional layer formed on the transfer substrate.
(1)転写用積層体
本発明における転写用積層体は、転写用基材および機能層を有する。
本発明においては、後述する露光工程において、通常、転写用積層体側および被転写部材側の少なくとも一方の方向から、光硬化型接着層に対して露光光を照射する。そのため、転写用積層体および被転写部材の少なくとも一方は、露光光に対する光透過性を有する。ここで、露光光に対する光透過性とは、光硬化型樹脂材料を硬化することが可能な程度に露光光を透過することをいい、具体的には、露光光の光透過率が60%以上、中でも70%以上であることが好ましい。また、転写用積層体および被転写部材の少なくとも一方は、例えば、全光線透過率が、60%以上、中でも70%以上であることが好ましい。なお、転写用積層体および被転写部材の露光光の光透過率は、分光光度計を用いて測定することができる。また、転写用積層体および被転写部材の全光線透過率は、例えば、スガ試験機株式会社製 全自動直読ヘイズコンピュータ(HGM−2DP)により測定することができる。
(1) Transfer Laminate The transfer laminate in the present invention has a transfer substrate and a functional layer.
In the present invention, in the exposure step described later, exposure light is usually applied to the photocurable adhesive layer from at least one of the transfer laminate side and the transferred member side. Therefore, at least one of the transfer laminate and the member to be transferred has optical transparency to exposure light. Here, the light transmittance with respect to the exposure light means that the exposure light is transmitted to such an extent that the photo-curable resin material can be cured. Specifically, the light transmittance of the exposure light is 60% or more. Of these, 70% or more is preferable. Further, at least one of the transfer laminate and the member to be transferred preferably has, for example, a total light transmittance of 60% or more, particularly 70% or more. In addition, the light transmittance of the exposure light of the laminate for transfer and the member to be transferred can be measured using a spectrophotometer. Moreover, the total light transmittance of the transfer laminate and the member to be transferred can be measured by, for example, a fully automatic direct reading haze computer (HGM-2DP) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.
本発明においては、転写用積層体が上述した露光光の光透過率および全光線透過率を有していても良い。転写用積層体が、露光光の光透過率および全光線透過率を有する場合は、被転写部材として光透過性を有しないものを用いることができるため、種々の被転写部材への機能層の形成が可能となる。 In the present invention, the transfer laminate may have the above-described exposure light transmittance and total light transmittance. When the transfer laminate has the light transmittance and the total light transmittance of the exposure light, it is possible to use a member having no light transmittance as a member to be transferred. Formation is possible.
(a)機能層
本発明における機能層は、転写用基材上に形成される層である。また、機能層は、被転写部材上に転写される層であり、被転写部材に対して何らかの機能を付与する層である。
(A) Functional layer The functional layer in the present invention is a layer formed on a transfer substrate. The functional layer is a layer that is transferred onto the member to be transferred, and is a layer that imparts some function to the member to be transferred.
機能層の機能としては、例えば、光学的(光選択吸収、反射性、偏光性、光選択透過性、非線形光学性、蛍光あるいはリン光等のルミネッセンス、フォトクロミック性等)、磁気的(硬磁性、軟磁性、非磁性、透磁性等)、電気・電子的(導電性、絶縁性、圧電性、焦電性、誘電性等)、化学的(吸着性、脱着性、触媒性、吸水性、イオン伝導性、酸化還元性、電気化学特性、エレクトロクロミック性等)、機械的(耐摩耗性等)、熱的(伝熱性、断熱性、赤外線放射性等)、生体機能的(生体適合性、抗血栓性等)のような各種の機能を挙げることができる。 As the function of the functional layer, for example, optical (light selective absorption, reflectivity, polarization, light selective transmission, nonlinear optical property, luminescence such as fluorescence or phosphorescence, photochromic property, etc.), magnetic (hard magnetism, Soft magnetic, non-magnetic, magnetic permeability, etc., electrical / electronic (conductive, insulating, piezoelectric, pyroelectric, dielectric, etc.), chemical (adsorptive, desorbable, catalytic, water absorbing, ion) Conductivity, redox properties, electrochemical properties, electrochromic properties, etc.), mechanical properties (wear resistance, etc.), thermal properties (thermal conductivity, heat insulation properties, infrared radiation properties, etc.), biofunctional properties (biocompatibility, antithrombotic properties) Various functions).
機能層は、露光光に対する光透過性を有していても良く、光透過性を有していなくても良い。機能層の厚みは、被転写部材上に転写することができれば特に限定されず、機能層の種類に応じて適宜選択することができる。 The functional layer may have light transmittance with respect to exposure light or may not have light transmittance. The thickness of the functional layer is not particularly limited as long as it can be transferred onto the member to be transferred, and can be appropriately selected according to the type of the functional layer.
転写用基材上に形成される機能層は単一の層であっても良く、2種以上の機能層であっても良い。また、2種以上の機能層は積層されて形成されていても良く、積層されず、同一平面上に形成されていても良い。2種以上の機能層が積層されて形成されている場合、各機能層間に光硬化型接着層が形成されていても良い。すなわち、本発明における機能層が、本発明の製造方法により製造されたものであっても良い。 The functional layer formed on the transfer substrate may be a single layer or two or more functional layers. Two or more types of functional layers may be formed by being laminated, or may not be laminated and may be formed on the same plane. In the case where two or more functional layers are laminated and formed, a photocurable adhesive layer may be formed between the functional layers. That is, the functional layer in the present invention may be manufactured by the manufacturing method of the present invention.
機能層としては、転写用基材の全域に形成されていても良く、所定のパターン状に形成されていても良い。 The functional layer may be formed on the entire area of the transfer substrate or may be formed in a predetermined pattern.
機能層としては、例えば、表示装置に用いられる遮光層、着色層、加飾層、低反射層、バリア層、絶縁層、回路基板等に用いられる配線、包材に用いられるバリア層、断熱層、吸湿層、建材などに用いられる加飾層、断熱層、耐磨耗層、低反射層、吸水層、自動車などの輸送機に用いられる加飾層、断熱層、低反射層、赤外線遮断層等を挙げることができる。また、機能層は、機能層を支持するための支持基材をさらに有していても良い。 Examples of the functional layer include a light shielding layer, a colored layer, a decorative layer, a low reflection layer, a barrier layer, an insulating layer, a wiring used for a circuit board, a barrier layer used for a packaging material, and a heat insulating layer. , Decorative layer used for moisture absorbing layer, building material, heat insulating layer, wear resistant layer, low reflective layer, water absorbing layer, decorative layer used for transport equipment such as automobile, heat insulating layer, low reflective layer, infrared blocking layer Etc. The functional layer may further include a support base material for supporting the functional layer.
機能層としては、例えば、表示装置用部材に用いられる表示装置用機能層であることが好ましい。表示装置用部材を薄く製造することができるからである。なお、表示装置用機能層の詳細は、後述する「B.表示装置用部材の製造方法」の項で説明する。 As a functional layer, it is preferable that it is a functional layer for display apparatuses used for the member for display apparatuses, for example. This is because the display device member can be manufactured thin. The details of the functional layer for display device will be described in the section “B. Method for manufacturing member for display device” described later.
(b)転写用基材
本発明における転写用基材は、機能層を支持する部材である。
転写用基材は、露光光に対する光透過性を有していても良く、有していなくても良い。機能層が露光光に対する光透過性を有する場合は、転写用基材としては、通常、露光光に対する光透過性を有するものが用いられる。
(B) Transfer Substrate The transfer substrate in the present invention is a member that supports the functional layer.
The substrate for transfer may or may not have light transmittance for exposure light. When the functional layer has light transmittance with respect to exposure light, a substrate having light transmittance with respect to exposure light is usually used as the transfer substrate.
転写用基材は、フレキシブル性を有していても良く、フレキシブル性を有していなくても良いが、フレキシブル性を有することがより好ましい。転写用基材がフレキシブル性を有する場合、被転写部材の形態に応じて、転写用積層体を追従させて機能層を貼合しやすくすることができるからである。また、後述する剥離工程において、転写用基材を剥離しやすいからである。転写用基材のフレキシブル性としては、例えば、転写用基材上の機能層の機能を損なわない程度であれば良く、後述する「6.機能層付部材の製造方法」に記載の機能層付部材のフレキシブル性と同程度のフレキシブル性を示すことが好ましい。 The substrate for transfer may have flexibility or may not have flexibility, but more preferably has flexibility. This is because when the transfer base material has flexibility, the functional layer can be easily bonded by following the transfer laminate in accordance with the form of the member to be transferred. Moreover, it is because it is easy to peel off the transcription | transfer base material in the peeling process mentioned later. The flexibility of the transfer substrate may be, for example, as long as it does not impair the function of the functional layer on the transfer substrate. With the functional layer described in “6. It is preferable to show the same degree of flexibility as the flexibility of the member.
転写用基材としては、例えば、ガラス基材、樹脂基材等を挙げることができる。本発明においては、中でも樹脂基材であることが好ましい。また、樹脂基材としては、樹脂フィルム基材であることが好ましい。
転写用基材の厚みとしては、機能層を形成することができ、機能層を被転写部材上に貼合することができれば特に限定されない。転写用基材の厚みとしては、例えば、3μm〜500μmの範囲内、中でも5μm〜400μmの範囲内、特に10μm〜300μmの範囲内であることが好ましい。
転写用基材の形態としては、ロール状に巻き取られた形態であっても良く、機能層付部材の形態に対応した大きさを有する形態(枚葉の基材)であっても良い。
Examples of the transfer substrate include a glass substrate and a resin substrate. In the present invention, a resin base material is particularly preferable. Moreover, as a resin base material, it is preferable that it is a resin film base material.
The thickness of the transfer substrate is not particularly limited as long as the functional layer can be formed and the functional layer can be bonded onto the member to be transferred. The thickness of the transfer substrate is, for example, preferably in the range of 3 μm to 500 μm, more preferably in the range of 5 μm to 400 μm, and particularly preferably in the range of 10 μm to 300 μm.
As a form of the base material for transfer, the form wound in roll shape may be sufficient, and the form (sheet | seat base material) which has a magnitude | size corresponding to the form of a member with a functional layer may be sufficient.
転写用基材および機能層の密着性としては、後述する剥離工程において機能層から転写用基材を剥離することができる程度であれば特に限定されない。本発明においては、後述する剥離工程において機能層から転写用基材を剥離しやすくするために、転写用基材の表面粗さ(例えば、JIS B0601の算術平均粗さ(Ra))が調整されていても良い。 The adhesion between the transfer substrate and the functional layer is not particularly limited as long as the transfer substrate can be peeled from the functional layer in the peeling step described later. In the present invention, the surface roughness of the transfer substrate (for example, the arithmetic average roughness (Ra) of JIS B0601) is adjusted in order to facilitate the peeling of the transfer substrate from the functional layer in the peeling step described later. May be.
2.塗布工程
本発明における塗布工程は、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する工程である。本発明においては、被転写部材上に接着剤を塗布することを特徴とし、通常、転写用積層体上に接着剤を塗布しない。本発明の製造方法は、例えば、機能層が溶媒に弱い場合等に有効である。
2. Application Step The application step in the present invention is a step of forming a photocurable adhesive layer by applying an adhesive containing a photocurable resin material on at least a transferred member having a substrate. The present invention is characterized in that an adhesive is applied on the member to be transferred, and usually the adhesive is not applied on the transfer laminate. The production method of the present invention is effective, for example, when the functional layer is weak to a solvent.
(1)光硬化型接着層
光硬化型接着層に用いられる接着剤について説明する。
本発明に用いられる接着剤は、光硬化型樹脂材料を含有する。接着剤に用いられる光硬化型樹脂材料としては、例えば、例えば波長100nm〜450nmの範囲の紫外線を照射することにより硬化させることが可能な紫外線硬化型樹脂材料を挙げることができる。紫外線硬化型樹脂材料としては、例えば、反応性エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリエチレン(ポリプロピレン)グリコール(メタ)ジアクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ビスフェノールフルオレン誘導体、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールフルオレンジエポキキ(メタ)アクリレート等が挙げられる。なお、ここで(メタ)アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する表記である。
本発明においては、これらの紫外線硬化型樹脂材料を1種類のみ用いても良く、または、2種類以上を混合して用いても良い。
(1) Photocurable adhesive layer The adhesive used for the photocurable adhesive layer will be described.
The adhesive used in the present invention contains a photocurable resin material. Examples of the photocurable resin material used for the adhesive include an ultraviolet curable resin material that can be cured by irradiating ultraviolet rays having a wavelength in the range of 100 nm to 450 nm, for example. Examples of the ultraviolet curable resin material include monofunctional monomers such as reactive ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, polyfunctional monomers, and polymethylolpropane tri (meth). Acrylate, hexanediol (meth) acrylate, triethylene (polypropylene) glycol (meth) diacrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neo Pentyl glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid EO-modified diacrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, vinyl Phenol fluorene derivatives, bisphenoxyethanolfluorene (meth) acrylate, bisphenol fluorene Epo Kiki (meth) acrylate. Here, (meth) acrylate is a notation meaning acrylate or methacrylate.
In the present invention, only one type of these ultraviolet curable resin materials may be used, or two or more types may be mixed and used.
本発明における接着剤は、必要に応じて、溶媒をさらに含有していても良い。接着剤が溶媒を含有する場合は、接着剤の流動性を高くすることができるため、例えば、被転写部材が微細な表面凹凸を有する場合も、上記表面凹凸に追従させて光硬化型接着層を形成することができるからである。なお、接着剤が溶媒を有する場合は、接着剤を塗布して塗膜を形成した後、塗膜を乾燥させて溶媒を除去することにより、光硬化型接着層が形成される。接着剤の粘度は、塗布法、第1部材および第2部材の形態等に応じて適宜選択することができる。 The adhesive in the present invention may further contain a solvent, if necessary. When the adhesive contains a solvent, the fluidity of the adhesive can be increased. For example, even when the member to be transferred has fine surface irregularities, the photocurable adhesive layer is made to follow the surface irregularities. It is because it can form. In addition, when an adhesive agent has a solvent, after apply | coating an adhesive agent and forming a coating film, a coating film is dried, a solvent is removed, and a photocurable adhesive layer is formed. The viscosity of the adhesive can be appropriately selected according to the coating method, the form of the first member and the second member, and the like.
光硬化型接着層は、通常、硬化する前に所定のタック性を有する。
具体的には、光硬化型接着層が、温度23℃、湿度65%の環境下での傾斜式ボールタック試験(傾斜角20°)のボールナンバーが1以上のタック性を有することが好ましく、中でもボールナンバーが2以上のタック性を有することが好ましく、特にボールナンバーが3以上のタック性を有することが好ましい。光硬化型接着層は、上述のようなタック性を有することにより、光硬化型接着層を介して第1部材および第2部材を十分な粘着力で貼合することができ、光照射した後の接着力も高めることができる。
なお、ここでの傾斜式ボールタック試験によるタック性の評価は、JIS Z 0237に準じて傾斜角20°の治具に光硬化型接着層における接着面が上面となるように配置し、温度23℃、湿度65%の環境下で当該粘着面上に鋼球を転がしたとき、接着面上で5秒以上、鋼球が停止した最も大きなボールナンバーにより評価した。
The photocurable adhesive layer usually has a predetermined tackiness before being cured.
Specifically, the photocurable adhesive layer preferably has a tack property with a ball number of 1 or more in an inclined ball tack test (inclination angle 20 °) in an environment of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 65%. In particular, the ball number is preferably 2 or more, and the ball number is preferably 3 or more. The photocurable adhesive layer has such tackiness as described above, so that the first member and the second member can be bonded with sufficient adhesive force through the photocurable adhesive layer, and after light irradiation. The adhesion strength of can also be increased.
Here, the evaluation of the tack property by the tilting ball tack test is performed by placing the photocuring adhesive layer on the jig having a tilt angle of 20 ° according to JIS Z 0237 so that the adhesive surface is the upper surface. When a steel ball was rolled on the adhesive surface in an environment of ° C and humidity of 65%, the evaluation was made based on the largest ball number at which the steel ball stopped for 5 seconds or longer on the adhesion surface.
塗布工程において形成される光硬化型接着層は、通常、所定の粘着性を有する。ここで、所定の粘着性とは、例えば、JIS K6854−2に規定の180度剥離試験によるガラス板に対する紫外線硬化型接着層の剥離強度が、10N/25mm幅以上であることが好ましく、中でも、15N/25mm幅以上であることが好ましく、特に、20N/25mm幅以上であることが好ましい。また、本発明においては、紫外線硬化型接着層の剥離強度が、例えば、50N/25mm幅以下であることが好ましく、中でも、45N/25mm幅以下であることが好ましく、特に、40N/25mm幅以下であることが好ましい。 The photocurable adhesive layer formed in the coating process usually has a predetermined tackiness. Here, the predetermined tackiness is preferably, for example, that the peeling strength of the ultraviolet curable adhesive layer with respect to the glass plate by the 180-degree peeling test specified in JIS K6854-2 is 10 N / 25 mm width or more. The width is preferably 15 N / 25 mm width or more, and particularly preferably 20 N / 25 mm width or more. In the present invention, the peel strength of the ultraviolet curable adhesive layer is preferably, for example, 50 N / 25 mm width or less, more preferably 45 N / 25 mm width or less, and particularly 40 N / 25 mm width or less. It is preferable that
本発明においては、光硬化型接着層を用いることにより、従来用いられていた感圧接着層と比較して厚みを薄くすることが可能である。本発明における光硬化型接着層の厚みは、例えば、10μm以下であることが好ましく、中でも8μm以下であることが好ましく、特に6μm以下であることが好ましい。本発明における光硬化型接着層の厚みが上記上限であることにより、本発明により得られる機能層付部材を薄く製造することができる。また、本発明における光硬化型接着層の厚みは、例えば、0.5μm以上であることが好ましい。
本発明における光硬化型接着層の厚みが上記下限であることにより、光硬化型接着層を介して積層される被転写部材および機能層を十分に接着させることが可能となる。
なお、本発明における光硬化型接着層の厚みは、例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて断面を観察することにより測定することができる。また、光硬化型接着層が表面凹凸を有する機能層上に形成されている場合は、凸部上に形成された光硬化型接着層の厚みが上述した厚みを有することが好ましい。
In the present invention, by using a photocurable adhesive layer, it is possible to reduce the thickness as compared with a pressure-sensitive adhesive layer conventionally used. The thickness of the photocurable adhesive layer in the present invention is, for example, preferably 10 μm or less, more preferably 8 μm or less, and particularly preferably 6 μm or less. When the thickness of the photocurable adhesive layer in the present invention is the above upper limit, the member with a functional layer obtained by the present invention can be manufactured thinly. Moreover, it is preferable that the thickness of the photocurable adhesive layer in this invention is 0.5 micrometer or more, for example.
When the thickness of the photocurable adhesive layer in the present invention is the above lower limit, the member to be transferred and the functional layer laminated via the photocurable adhesive layer can be sufficiently adhered.
In addition, the thickness of the photocurable adhesive layer in this invention can be measured by observing a cross section using a scanning electron microscope (SEM), for example. Moreover, when the photocurable adhesive layer is formed on the functional layer having surface irregularities, it is preferable that the thickness of the photocurable adhesive layer formed on the convex portion has the above-described thickness.
本発明における紫外線硬化型接着層は、所定の透明性を有していても良く、具体的には、光硬化型接着層の全光線透過率が、85%以上であっても良く、中でも90%以上であることが好ましい。
なお、紫外線硬化型接着層の全光線透過率は、スガ試験機株式会社製 全自動直読ヘイズコンピュータ(HGM−2DP)により測定することができる。
本発明における機能層付部材が表示装置用部材である場合は、紫外線硬化型接着層は、所定の透明性を有することが好ましい。
The ultraviolet curable adhesive layer in the present invention may have a predetermined transparency. Specifically, the total light transmittance of the photocurable adhesive layer may be 85% or more, especially 90 % Or more is preferable.
The total light transmittance of the ultraviolet curable adhesive layer can be measured by a fully automatic direct reading haze computer (HGM-2DP) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.
When the member with a functional layer in the present invention is a member for a display device, the ultraviolet curable adhesive layer preferably has a predetermined transparency.
光硬化型接着層は、塗布法により形成される。本発明に用いられる塗布法としては、一般的な塗布法、印刷法を用いることができ、例えば、ダイコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、オフセット印刷法等を挙げることができる。 The photocurable adhesive layer is formed by a coating method. As a coating method used in the present invention, a general coating method and a printing method can be used, and examples thereof include a die coating method, a screen printing method, a gravure printing method, and an offset printing method.
後述するように、被転写部材が基材および第2機能層を有する場合、光硬化型接着層は、第2機能層の形成面側に形成されても良く、第2機能層の形成面とは反対側に形成されても良い。 As will be described later, when the member to be transferred has a base material and a second functional layer, the photocurable adhesive layer may be formed on the surface on which the second functional layer is formed, May be formed on the opposite side.
なお、光硬化型接着層は、後述する露光工程において露光光が照射されることにより、光硬化型樹脂材料が硬化される。すなわち、本発明により得られる機能層付部材において、光硬化型接着層は、光硬化型樹脂材料が硬化された層として形成される。このような光硬化型接着層は、耐熱性を良好なものとすることができる。 The photocurable adhesive layer is cured by irradiating exposure light in an exposure process to be described later. That is, in the member with a functional layer obtained by the present invention, the photocurable adhesive layer is formed as a layer obtained by curing the photocurable resin material. Such a photocurable adhesive layer can have good heat resistance.
光硬化型接着層の残膜率評価試験後の残膜率は、例えば、80%以上であることが好ましく、中でも82%以上であることが好ましく、特に85%以上であることが好ましい。なお、残膜率評価試験後の残膜率は、光硬化型接着層を焼成した前後での膜厚の比率により求めることができる。具体的には、残膜率=(焼成後の膜厚)/(焼成前の膜厚)×100により求めることができる。 The remaining film ratio after the remaining film ratio evaluation test of the photocurable adhesive layer is, for example, preferably 80% or more, more preferably 82% or more, and particularly preferably 85% or more. The remaining film ratio after the remaining film ratio evaluation test can be obtained from the ratio of the film thickness before and after firing the photocurable adhesive layer. Specifically, the residual film ratio = (film thickness after firing) / (film thickness before firing) × 100.
光硬化型接着層は、50℃〜80℃の範囲内で1時間加熱した後の重量減少率が15%以下であることが好ましく、中でも、13%以下であることが好ましく、特に10%以下であることが好ましい。なお、重量減少率を測定するための加熱温度は、50℃〜80℃の範囲内であれば良いが、中でも、50℃〜75℃の範囲内であることが好ましく、特に50℃〜70℃の範囲内であることが好ましい。また、重量減少率を測定するための加熱時間は、1時間であれば良いが、中でも、1時間〜1.5時間の範囲内であることが好ましく、特に1.5時間〜2時間の範囲内であることが好ましい。 The photocurable adhesive layer preferably has a weight loss rate of 15% or less after heating for 1 hour within a range of 50 ° C. to 80 ° C., more preferably 13% or less, particularly 10% or less. It is preferable that In addition, the heating temperature for measuring the weight reduction rate may be in the range of 50 ° C to 80 ° C, but is preferably in the range of 50 ° C to 75 ° C, particularly 50 ° C to 70 ° C. It is preferable to be within the range. In addition, the heating time for measuring the weight loss rate may be 1 hour, but in particular, it is preferably in the range of 1 hour to 1.5 hours, particularly in the range of 1.5 hours to 2 hours. It is preferable to be within.
(2)被転写部材
被転写部材は、機能層が転写される部材である。被転写部材は、露光光に対する光透過性を有していても良く、有していなくても良い。被転写部材が露光光に対する光透過性を有している場合、露光光に対する光透過率および全光線透過率については、上述した「1.準備工程 (1)転写用積層体」の項で説明した内容と同様とすることができる。被転写部材が光透過性を有する場合は、転写用積層体、特に機能層として光透過性を有しないものを用いることができるため、種々の機能層を被転写部材上に転写することができる。
なお、上述した転写機能層が露光光に対する光透過性を有しない場合は、通常、被転写部材が露光光に対する光透過性を有する。
本発明に用いられる被転写部材は、少なくとも基材を有していれば良く、基材のみを有していても良く、基材と基材上に形成された第2機能層を有していても良い。
(2) Member to be transferred The member to be transferred is a member to which the functional layer is transferred. The member to be transferred may or may not have optical transparency to exposure light. When the member to be transferred has light transmittance with respect to the exposure light, the light transmittance and the total light transmittance with respect to the exposure light are described in the above-mentioned section of “1. Preparation step (1) Transfer laminate”. The contents can be the same as those described above. When the member to be transferred has a light transmitting property, a transfer laminate, particularly a functional layer that does not have a light transmitting property can be used. Therefore, various functional layers can be transferred onto the member to be transferred. .
In addition, when the transfer functional layer described above does not have light transmittance with respect to exposure light, the member to be transferred usually has light transmittance with respect to exposure light.
The member to be transferred used in the present invention only needs to have at least a base material, may have only a base material, and has a base material and a second functional layer formed on the base material. May be.
被転写部材に用いられる基材としては、機能層付部材の種類に応じて適宜選択される。被転写部材に用いられる基材としては、例えば、板、シート、フィルム等の基板を挙げることができる。また、基材としては、例えば、樹脂成形体等の三次元形状を有する成形体を挙げることができる。中でも、被転写部材に用いられる基材は、基板であることが好ましい。被転写部材に用いられる基材は、フレキシブル性を有していても良く、フレキシブル性を有していなくても良い。被転写部材に用いられる基材のフレキシブル性は、基材上に転写される機能層、および必要に応じて形成される第2機能層の機能を損なわない程度であれば良く、後述する「6.機能層付部材の製造方法」に記載の機能層付部材のフレキシブル性と同程度のフレキシブル性を示すことが好ましい。
基材の形態としては、ロール状に巻き取られた形態であっても良く、機能層付部材の形態に対応した大きさを有する形態(枚葉の基材)であっても良い。
The substrate used for the member to be transferred is appropriately selected according to the type of the member with a functional layer. Examples of the substrate used for the member to be transferred include substrates such as plates, sheets, and films. Moreover, as a base material, the molded object which has three-dimensional shapes, such as a resin molded object, can be mentioned, for example. Especially, it is preferable that the base material used for a to-be-transferred member is a board | substrate. The base material used for the member to be transferred may have flexibility or may not have flexibility. The flexibility of the base material used for the member to be transferred may be a level that does not impair the functions of the functional layer transferred onto the base material and the second functional layer formed as necessary. It is preferable to exhibit the same degree of flexibility as that of the member with a functional layer described in “Method for producing member with functional layer”.
As a form of a base material, the form wound by roll shape may be sufficient and the form (sheet | seat base material) which has a magnitude | size corresponding to the form of a member with a functional layer may be sufficient.
上述した基板、成形体以外にも、被転写部材に用いられる基材としては、例えば、ガラス基材上に形成された樹脂層を挙げることができる。基材が、ガラス基材上に形成された樹脂層である場合、後述する剥離工程後に、被転写部材の樹脂層からガラス基材を剥離することにより、機能層付部材をより薄くすることができる。
樹脂層を構成する材料としては、例えば、例えば、ポリイミド、ポリアラミド、ポリアミドイミドや、シルセスキオキサン等のシロキサン系の化合物、またはシリカハイブリッド材料、アリレート、イソシアネート等が挙げられる。樹脂層は、中でもポリイミドを用いたポリイミド樹脂層であることが好ましい。樹脂層の厚みは、例えば、3μm〜10μmの範囲内であることが好ましい。樹脂層は、例えば、ガラス基材上に樹脂組成物を塗布して乾燥させた後、加熱処理をすることにより形成することができる。
In addition to the substrate and molded body described above, examples of the base material used for the member to be transferred include a resin layer formed on a glass base material. When the substrate is a resin layer formed on a glass substrate, the member with a functional layer can be made thinner by peeling the glass substrate from the resin layer of the transferred member after the peeling step described later. it can.
Examples of the material constituting the resin layer include polyimide, polyaramid, polyamideimide, siloxane compounds such as silsesquioxane, silica hybrid material, arylate, isocyanate, and the like. In particular, the resin layer is preferably a polyimide resin layer using polyimide. The thickness of the resin layer is preferably in the range of 3 μm to 10 μm, for example. The resin layer can be formed, for example, by applying a resin composition on a glass substrate and drying it, followed by heat treatment.
被転写部材は、必要に応じて第2機能層を有していてもよい。第2機能層としては、上述した機能層の中から適宜選択することができる。本発明においては、第2機能層は、所定のパターン形状を有することが好ましい。例えば、図2に示すように、基材4a上に第2機能層3bがパターン状に形成されている場合、被転写部材4には表面凹凸が形成される。光硬化型樹脂材料を含有する接着剤の流動性を調整し、塗布法を用いて光硬化型接着層を形成することができるため、被転写部材の表面凹凸に光硬化型接着層を良好に追従させて形成することができる。また、本発明によれば、上記接着剤の塗布量を調整することにより、図2に示すように、被転写部材4の表面凹凸を光硬化型接着層5で埋めることができる。よって、光硬化型接着層における機能層との貼合面に平坦性を付与することができ、機能層と光硬化型接着層とを良好に貼合することができる。
The member to be transferred may have a second functional layer as necessary. The second functional layer can be appropriately selected from the functional layers described above. In the present invention, the second functional layer preferably has a predetermined pattern shape. For example, as shown in FIG. 2, when the second
本発明において、被転写部材が表面凹凸を有する場合、表面段差としては、機能層付部材の種類に応じて適宜選択される。本発明においては、上記表面段差が、例えば、10μm以下、中でも0.3μm〜9μmの範囲内、特に0.5μm〜6μmの範囲内であることが好ましい。表面段差が上記範囲内である場合、感圧接着層を用いた場合に比べて、光硬化型接着層を用いたことによる追従性の効果を高く発揮することができるからである。なお、表面段差は、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて断面を観察することにより測定することができる。 In the present invention, when the member to be transferred has surface irregularities, the surface step is appropriately selected according to the type of the member with a functional layer. In the present invention, the surface step is, for example, preferably 10 μm or less, more preferably in the range of 0.3 μm to 9 μm, particularly preferably in the range of 0.5 μm to 6 μm. This is because, when the surface step is within the above range, the follow-up effect by using the photo-curing adhesive layer can be enhanced compared to the case where the pressure-sensitive adhesive layer is used. The surface level difference can be measured by observing a cross section using a scanning electron microscope (SEM).
3.貼合工程
本発明における貼合工程は、光硬化型接着層と、転写用積層体の機能層とを貼合する工程である。貼合工程においては、被転写基材上に形成された光硬化型接着層と、転写用積層体上に形成された機能層とを対向させて貼合する。
3. Bonding step The bonding step in the present invention is a step of bonding the photocurable adhesive layer and the functional layer of the laminate for transfer. In the bonding step, the photocurable adhesive layer formed on the substrate to be transferred and the functional layer formed on the transfer laminate are bonded to face each other.
被転写基材および転写用積層体の貼合方法としては、一般的な貼合方法と同様とすることができ、例えば、枚葉方式で被転写基材および転写用積層体を貼合しても良く、Roll to Roll方式でロール状の被転写部材およびロール状の転写用積層体を貼合しても良い。 The method for bonding the transferred substrate and the transfer laminate can be the same as a general bonding method, for example, by bonding the transferred substrate and the transfer laminate in a single wafer mode. Alternatively, a roll-shaped transfer member and a roll-shaped transfer laminate may be bonded by a Roll to Roll method.
4.露光工程
本発明における露光工程は、光硬化型接着層を露光することにより、光硬化型樹脂材料を硬化させて被転写部材上に機能層を接着する工程である。
4). Exposure Step The exposure step in the present invention is a step of exposing the photocurable adhesive layer to cure the photocurable resin material and bonding the functional layer onto the transferred member.
露光工程においては、転写用積層体側および被転写部材側の少なくともいずれか一方のうち、露光光に対する光透過性を有する部材側から露光光が照射される。そのため、露光光の照射方向は、転写用積層体側から照射されても良く、被転写部材側から照射されても良い。また、転写用積層体および被転写部材の両方が露光光に対して光透過性を示す場合は、転写用積層体側および被転写部材側の両側から露光光を照射しても良い。 In the exposure step, the exposure light is irradiated from the member side having optical transparency to the exposure light among at least one of the transfer laminate side and the transferred member side. Therefore, the irradiation direction of exposure light may be irradiated from the transfer laminate side or from the transfer member side. Further, in the case where both the transfer laminate and the member to be transferred exhibit optical transparency with respect to the exposure light, the exposure light may be irradiated from both the transfer laminate side and the transfer member side.
露光光としては、光硬化型接着層中の光硬化型樹脂材料を硬化させることができれば特に限定されず、光硬化型樹脂材料の種類に応じて適宜選択することができる。露光光としては、通常、波長100nm〜450nmの範囲の紫外線を用いることができる。中でも、露光光としては、350nm〜380nmの範囲の紫外線であることが好ましい。光硬化型接着層を良好に硬化させることができるからである。
露光光源としては、所望の露光光を照射することができれば特に限定されず、公知の露光光源を用いることができる。具体的には、水銀ランプ等を挙げることができる。
The exposure light is not particularly limited as long as the photocurable resin material in the photocurable adhesive layer can be cured, and can be appropriately selected according to the type of the photocurable resin material. As the exposure light, ultraviolet rays having a wavelength in the range of 100 nm to 450 nm can be usually used. Among these, the exposure light is preferably ultraviolet rays in the range of 350 nm to 380 nm. This is because the photocurable adhesive layer can be cured well.
The exposure light source is not particularly limited as long as desired exposure light can be irradiated, and a known exposure light source can be used. Specific examples include a mercury lamp.
露光光の照射強度、光源から光硬化型接着層までの距離、露光時間、その他の露光条件については、光硬化型樹脂材料の種類、光硬化型接着層の厚み、転写用積層体および被転写部材の種類等に応じて、適宜調整することができる。 Regarding the exposure light irradiation intensity, the distance from the light source to the photocurable adhesive layer, the exposure time, and other exposure conditions, the type of the photocurable resin material, the thickness of the photocurable adhesive layer, the transfer laminate and the transferred object It can adjust suitably according to the kind etc. of member.
5.転写工程
本発明における転写工程は、転写用積層体の転写用基材を剥離することにより、被転写部材上に機能層を転写する工程である。
転写用基材の剥離方法としては、一般的な転写法における剥離方法と同様とすることができる。
5. Transfer Process The transfer process in the present invention is a process of transferring the functional layer onto the member to be transferred by peeling off the transfer substrate of the transfer laminate.
The transfer substrate peeling method can be the same as the peeling method in a general transfer method.
6.機能層付部材の製造方法
本発明の機能層付部材の製造方法は、上述した準備工程、塗布工程、貼合工程、露光工程および剥離工程を有していれば特に限定されず、必要な工程を適宜選択して追加することができる。このような工程としては、例えば、熱処理を含む工程であることが好ましい。
6). The manufacturing method of the member with a functional layer The manufacturing method of the member with a functional layer of this invention will not be specifically limited if it has the preparation process mentioned above, the application | coating process, the bonding process, the exposure process, and the peeling process, Necessary process Can be added as appropriate. As such a process, it is preferable that it is a process including heat processing, for example.
本発明の機能層付部材の製造方法は、例えば、各工程が、Roll to Roll方式を用いて行なわれても良い。すなわち、本発明においては、上記転写用積層体における上記転写用基材および上記被転写部材における上記基材が、ロールに巻回されたロール状の基材であり、上記塗布工程、上記貼合工程および上記露光工程が連続して行なわれ、上記剥離工程では、上記転写用積層体における上記転写用基材を巻き取ることにより、剥離しても良い。 In the method for manufacturing a member with a functional layer of the present invention, for example, each step may be performed using a Roll to Roll method. That is, in the present invention, the transfer substrate in the transfer laminate and the substrate in the transferred member are roll-shaped substrates wound around a roll, and the coating step and the bonding The step and the exposure step are continuously performed, and in the peeling step, the transfer substrate in the transfer laminate may be wound to peel off.
図3は本発明の機能層付部材の製造方法の他の例を説明する概略工程図である。
図3(a)〜(e)は、本発明の機能層付部材の製造方法の一例を示す概略工程図である。本発明においては、まず図3(a)に示すように、ロールに巻回された転写用基材2(ロール状の転写用基材2)および転写用基材2上に形成された機能層3aを有する転写用積層体1を準備する(準備工程)。次に図3(b)に示すように、ロールに巻回された基材4a(ロール状の基材4a)(被転写部材4)上に、例えばダイコーター等の塗布装置Cを用いて光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層5を形成する(塗布工程)。次に図3(c)に示すように、光硬化型接着層5と、転写用積層体1の機能層3aとを貼合する(貼合工程)。次に図3(d)に示すように、露光光Lを照射して光硬化型接着層5を露光することにより、光硬化型樹脂材料を硬化させて、被転写部材4上に機能層3aを接着する(露光工程)。次に図3(e)に示すように、転写用積層体1の転写用基材2をロールに巻き取って剥離することにより、被転写部材4上に機能層3aを転写する(転写工程)。以上の工程により、機能層付部材10Aを製造することができる。図3に示す製造方法は、例えば、搬送装置R等を用いることにより、複数の工程を連続して行うことができる。
FIG. 3 is a schematic process diagram for explaining another example of the method for producing a member with a functional layer of the present invention.
3A to 3E are schematic process diagrams showing an example of a method for producing a member with a functional layer of the present invention. In the present invention, first, as shown in FIG. 3A, a transfer substrate 2 (roll-shaped transfer substrate 2) wound around a roll and a functional layer formed on the
本発明の機能層付部材の製造方法は、種々の機能層付部材の製造方法に適用することができる。例えば、表示装置用部材、表示装置、建材、回路基板、包装部材、自動車などの輸送機用部材等を挙げることができる。 The method for producing a member with a functional layer of the present invention can be applied to various methods for producing a member with a functional layer. For example, a display device member, a display device, a building material, a circuit board, a packaging member, a transport device member such as an automobile, and the like can be given.
本発明の製造方法により得られる機能層付部材は、例えばフレキシブル性を有していても良く、フレキシブル性を有していなくても良い。なお、機能層付部材のフレキシブル性は、例えば、下記の耐屈曲性試験を10万回実施した後、機能層の剥がれ、割れ等の外観上の異常がなく、機能層の機能が損なわれないことをいう。耐屈曲性試験としては、例えばユアサシステム株式会社製 DLDMLH−FU 面状体U字繰り返し試験機を用いて曲げ半径R=3mm、回転数120rpm/min、ストローク20mmの条件でおこなうことができる。 The member with a functional layer obtained by the production method of the present invention may have flexibility, for example, or may not have flexibility. In addition, the flexibility of the member with a functional layer is, for example, that after performing the following bending resistance test 100,000 times, there is no appearance abnormality such as peeling or cracking of the functional layer, and the function of the functional layer is not impaired. That means. The bending resistance test can be performed, for example, using a DLDMMLH-FU planar body U-shaped repeat tester manufactured by Yuasa System Co., Ltd. under conditions of a bending radius R = 3 mm, a rotation speed 120 rpm / min, and a stroke 20 mm.
B.表示装置用部材の製造方法
本発明の表示装置用部材の製造方法は、転写用基材および上記転写用基材上に形成された表示装置用機能層を有する転写用積層体を準備する準備工程と、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、上記光硬化型接着層と、上記転写用積層体の上記表示装置用機能層とを貼合する貼合工程と、上記光硬化型接着層を露光することにより、上記光硬化型樹脂材料を硬化させて、上記被転写部材上に上記表示装置用機能層を接着する露光工程と、上記転写用積層体の上記転写用基材を剥離することにより、上記被転写部材上に上記表示装置用機能層を転写する転写工程と、を有することを特徴とする。
B. Manufacturing method of display device member The manufacturing method of a display device member of the present invention is a preparatory step of preparing a transfer laminate having a transfer substrate and a functional layer for display device formed on the transfer substrate. A coating step of forming a photocurable adhesive layer by applying an adhesive containing a photocurable resin material on a member to be transferred having at least a substrate, the photocurable adhesive layer, and the transfer A bonding step of bonding the functional layer for a display device of the laminate for a display, and exposing the photocurable adhesive layer to cure the photocurable resin material, so that the above-described member is transferred onto the transferred member. An exposure step of bonding the functional layer for display device, and a transfer step of transferring the functional layer for display device onto the member to be transferred by peeling the transfer substrate of the laminate for transfer. It is characterized by that.
本発明の表示装置用部材の製造方法について、図を参照しながら説明する。図4(a)〜(e)は、本発明の表示装置用部材の製造方法の一例を示す概略工程図である。本発明においては、まず図4(a)に示すように、転写用基材12および転写用基材12上に形成された表示装置用機能層13を有する転写用積層体11を準備する(準備工程)。図4においては、表示装置用機能層13が、光学機能層13aおよび配向層13bを有する光学機能部材13cである例を示している。次に図4(b)に示すように、基材14a(被転写部材14)上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層15を形成する(塗布工程)。次に図4(c)に示すように、光硬化型接着層15と、転写用積層体11における表示装置用機能層13とを貼合する(貼合工程)。次に図4(d)に示すように、露光光Lを照射して光硬化型接着層15を露光することにより、光硬化型樹脂材料を硬化させて被転写部材14上に表示装置用機能層13を接着する(露光工程)。次に図3(e)に示すように、転写用積層体11の転写用基材12を剥離することにより、被転写部材14上に表示装置用機能層13を転写する(転写工程)。以上の工程により、表示装置用部材10A1を製造することができる。
The manufacturing method of the member for display apparatuses of this invention is demonstrated referring a figure. 4A to 4E are schematic process diagrams showing an example of a method for manufacturing a display device member of the present invention. In the present invention, first, as shown in FIG. 4A, a
本発明によれば、厚みの薄い光硬化型接着層を用いて、被転写部材上に表示装置用機能層を形成することができるため、薄膜の表示装置用部材を形成することができる。
以下、本発明の表示装置用部材の製造方法の各工程について説明する。
According to the present invention, since a functional layer for a display device can be formed on a member to be transferred using a thin photo-curing adhesive layer, a thin display device member can be formed.
Hereinafter, each process of the manufacturing method of the member for display apparatuses of this invention is demonstrated.
1.準備工程
本発明における準備工程は、転写用基材および上記転写用基材上に形成された表示装置用機能層を有する転写用積層体を準備する工程である。
1. Preparation Step The preparation step in the present invention is a step of preparing a transfer laminate having a transfer substrate and a display device functional layer formed on the transfer substrate.
(1)表示装置用機能層
転写用積層体における表示装置用機能層は、表示装置用部材の種類に応じて適宜選択される。表示装置用機能層としては、例えば、カラーフィルタにおける着色部、および遮光部の少なくともいずれかを形成するためのカラーフィルタ用機能層、タッチパネルにおけるセンサ電極および必要に応じて形成される絶縁層を形成するためのタッチパネル用機能層、加飾部材における加飾部、光学機能部材、保護層を挙げることができる。また、表示装置用機能層としては、例えば、柱状スペーサ、透明電極等を挙げることができる。
(1) Functional layer for display device The functional layer for display device in the transfer laminate is appropriately selected according to the type of member for display device. As the display device functional layer, for example, a color filter functional layer for forming at least one of a colored portion and a light shielding portion in a color filter, a sensor electrode in a touch panel, and an insulating layer formed as necessary are formed. The functional layer for touch panels for performing, the decorating part in a decorating member, an optical functional member, and a protective layer can be mentioned. Moreover, as a functional layer for display apparatuses, a columnar spacer, a transparent electrode, etc. can be mentioned, for example.
(a)カラーフィルタ用機能層
カラーフィルタ用機能層は、カラーフィルタにおける着色部、遮光部の少なくともいずれかを形成するための機能層である。
(A) Color filter functional layer The color filter functional layer is a functional layer for forming at least one of a colored portion and a light shielding portion in the color filter.
(i)遮光部
本発明における遮光部は、透明基材上に配置され複数の開口部を有する部材である。
(I) Shading part The shading part in this invention is a member which is arrange | positioned on a transparent base material and has a some opening part.
本発明における遮光部は、第1の方向および第1の方向に交差する第2の方向に延伸するように並列に配置され、開口部を画定するものである。開口部の形状としては、例えば、矩形形状が挙げられる。また、遮光部における開口部の幅としては、一般的なカラーフィルタにおける遮光部の開口部の幅と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The light shielding portions in the present invention are arranged in parallel so as to extend in the first direction and the second direction intersecting the first direction, and define the opening. Examples of the shape of the opening include a rectangular shape. In addition, the width of the opening in the light shielding portion can be the same as the width of the opening in the light shielding portion in a general color filter, and thus description thereof is omitted here.
本発明における遮光部の線幅としては、本発明により得られる表示装置用部材の用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、例えば、1μm〜30μmの範囲内であることが好ましく、中でも1.5μm〜28μmの範囲内であることが好ましく、特に2μm〜25μmの範囲内であることが好ましい。遮光部の線幅が上記範囲よりも小さい場合には、十分に開口部を画定することができないおそれがある。また、遮光部の線幅が上記範囲よりも大きい場合には、高精細なカラーフィルタを得ることができないおそれがある。なお、遮光部の線幅が一定でない場合には、遮光部の線幅が、全て上記範囲内であることが好ましい。 The line width of the light-shielding portion in the present invention can be appropriately selected according to the use of the display device member obtained by the present invention, and is not particularly limited. For example, it may be in the range of 1 μm to 30 μm. In particular, it is preferably in the range of 1.5 μm to 28 μm, and particularly preferably in the range of 2 μm to 25 μm. When the line width of the light shielding portion is smaller than the above range, there is a possibility that the opening cannot be sufficiently defined. Further, when the line width of the light shielding portion is larger than the above range, there is a possibility that a high-definition color filter cannot be obtained. When the line width of the light shielding part is not constant, it is preferable that all the line widths of the light shielding part are within the above range.
本発明における遮光部の厚みとしては、所望の遮光性を示すことができる程度の厚みであれば特に限定されず、遮光部に用いられる材料に応じて適宜調整される。本発明における遮光部の具体的な厚みとしては、例えば、0.5μm〜3.0μm程度とすることができる。 The thickness of the light shielding part in the present invention is not particularly limited as long as it is a thickness that can exhibit a desired light shielding property, and is appropriately adjusted according to the material used for the light shielding part. As a specific thickness of the light shielding part in the present invention, for example, it can be set to about 0.5 μm to 3.0 μm.
本発明における遮光部の構成材料は、所望の遮光性を発揮することができるような材料であれば良く、特に限定されない。具体的には、遮光部は、通常、バインダ樹脂に黒色色材を含有した硬化物であるが、黒色色材の他にも必要に応じて有色色材を含有していても良い。 The constituent material of the light shielding part in the present invention is not particularly limited as long as it is a material that can exhibit a desired light shielding property. Specifically, the light-shielding portion is usually a cured product containing a black color material in a binder resin, but may contain a colored color material as necessary in addition to the black color material.
遮光部に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、黒色色材を分散させることができる材料であることが好ましい。また、遮光部に用いられるバインダ樹脂は、遮光部の形成方法に応じて適宜選択される。遮光部をフォトリソグラフィ法により形成する場合には、バインダ樹脂として、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が挙げられる。また、遮光部を印刷法やインクジェット法により形成する場合には、バインダ樹脂として、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。 The binder resin used for the light shielding portion is preferably a material that can disperse a black color material, for example. Moreover, the binder resin used for the light shielding part is appropriately selected according to the method for forming the light shielding part. When the light-shielding portion is formed by photolithography, examples of the binder resin include photosensitive resins having reactive vinyl groups such as acrylate-based, methacrylate-based, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber. . When the light shielding part is formed by a printing method or an ink jet method, examples of the binder resin include polymethyl methacrylate resin, polyacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, hydroxyethyl cellulose resin, carboxymethyl cellulose resin. , Polyvinyl chloride resin, melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, maleic acid resin, polyamide resin and the like.
遮光部に用いられる黒色色材としては、例えば、一般的な遮光部と同様の材料を用いることができ、顔料および染料のいずれも用いることができる。具体的には、カーボンブラック、チタンブラック等が挙げられる。 As a black color material used for the light shielding part, for example, the same material as that of a general light shielding part can be used, and any of a pigment and a dye can be used. Specific examples include carbon black and titanium black.
遮光部に用いられる黒色色材以外の有色色材としては、所望の遮光性を有する遮光部を構成することができる材料であれば良く、例えば、赤、緑、青、黄、橙、紫等の各色の有色色材が挙げられる。また、有色色材には顔料および染料のいずれも用いることができる。有色色材は1種単独で用いてもよく2種以上を混合して用いても良い。また、有色色材は1色の有色色材を用いても良く2色以上の有色色材を混合して用いても良い。なお、有色色材については、一般的なカラーフィルタに用いられる有色色材と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The colored color material other than the black color material used for the light shielding portion may be any material that can form a light shielding portion having a desired light shielding property, such as red, green, blue, yellow, orange, purple, and the like. Colored materials of each color are listed. Moreover, both a pigment and a dye can be used for the colored material. Colored color materials may be used singly or in combination of two or more. The colored color material may be a single color material or a mixture of two or more color materials. In addition, about a colored color material, since it can be made the same as that of the colored color material used for a general color filter, description here is abbreviate | omitted.
遮光部中に含まれる黒色色材の含有量としては、所望の遮光性を有する遮光部を構成することができる程度であれば良く特に限定されないが、例えば、黒色色材が遮光部に含まれる色材の主成分であることが好ましい。具体的には、遮光部中に含まれる黒色色材の含有量が、3質量%〜20質量%の範囲内であることが好ましく、中でも4質量%〜18質量%の範囲内であることが好ましく、特に5質量%〜15質量%の範囲内であることが好ましい。
また、遮光部中に含まれる黒色色材以外の有色色材の含有量としては、例えば、1質量%〜8質量%の範囲内であることが好ましく、中でも1質量%〜6質量%の範囲内であることが好ましく、特に1質量%〜4質量%の範囲内であることが好ましい。
The content of the black color material contained in the light shielding part is not particularly limited as long as it is a level that can form a light shielding part having a desired light shielding property. For example, a black color material is included in the light shielding part. The main component of the coloring material is preferable. Specifically, the content of the black color material contained in the light shielding portion is preferably in the range of 3% by mass to 20% by mass, and more preferably in the range of 4% by mass to 18% by mass. It is particularly preferable that the content be in the range of 5% by mass to 15% by mass.
Moreover, as content of colored color materials other than the black color material contained in a light-shielding part, it is preferable to exist in the range of 1 mass%-8 mass%, for example, and the range of 1 mass%-6 mass% is especially preferable. It is preferable that it is in the range, and it is particularly preferable to be in the range of 1% by mass to 4% by mass.
本発明における遮光部は、上述した構成材料の他にも、必要に応じてその他の材料を含有していても良い。その他の材料としては、例えば、光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等が挙げられる。 In addition to the above-described constituent materials, the light-shielding portion in the present invention may contain other materials as necessary. Examples of other materials include a photopolymerization initiator, a sensitizer, a coating property improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, and a flame retardant.
(ii)着色部
本発明における着色部は、上述した遮光部における開口部に配置される部材である。
(Ii) Colored portion The colored portion in the present invention is a member disposed in the opening in the light shielding portion described above.
本発明における着色部の厚みとしては、一般的なカラーフィルタに用いられる着色部の厚みと同様とすることができ、例えば1μm〜5μmの範囲内で設定することができる。 The thickness of the colored portion in the present invention can be the same as the thickness of the colored portion used in a general color filter, and can be set within a range of 1 μm to 5 μm, for example.
本発明においては、例えば赤、緑、青の3色の着色部を有する。着色部の色としては、赤、緑、青の3色を少なくとも含むものであれば良く、例えば、赤、緑、青の3色、赤、緑、青、黄の4色、または、赤、緑、青、黄、シアンの5色等とすることもできる。 In the present invention, for example, it has three colored portions of red, green, and blue. The color of the colored portion may be any color that includes at least three colors of red, green, and blue. For example, three colors of red, green, and blue, four colors of red, green, blue, and yellow, or red, Five colors such as green, blue, yellow, and cyan may be used.
着色部としては、例えば色材をバインダ樹脂中に分散させたものを用いることができる。着色部に用いられる色材としては、各色の顔料や染料等が挙げられる。例えば、赤色着色部に用いられる色材としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。また、緑色着色部に用いられる色材としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。さらに、青色着色部に用いられる色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料や染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。着色部に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が挙げられる。 As a coloring part, what disperse | distributed the coloring material in binder resin can be used, for example. Examples of the color material used in the colored portion include pigments and dyes of each color. For example, examples of the coloring material used in the red coloring portion include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. Examples of the colorant used in the green coloring portion include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, and isoindoline pigments. Examples include linone pigments. Furthermore, examples of the color material used for the blue colored portion include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments, and the like. These pigments and dyes may be used alone or in combination of two or more. Examples of the binder resin used for the colored portion include photosensitive resins having reactive vinyl groups such as acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber.
着色部には、上述した材料の他にも、必要に応じて、光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を含有させることができる。 In addition to the above-described materials, the colored portion may contain a photopolymerization initiator, a sensitizer, a coatability improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, etc. It can be included.
また、着色部が形成されている同一平面上には、上述した色材を含有せず、バインダ樹脂を含有する白色層が形成されていてもよい。 In addition, a white layer containing a binder resin may be formed on the same plane where the colored portion is formed, without containing the above-described color material.
(iii)保護層
カラーフィルタ用機能層は、必要に応じて保護層をさらに有していても良い。保護層は、着色部および遮光部等を保護するために形成される層(ハードコート層)である。保護層は、例えば、保護層の材料を用いて、着色部および遮光部上に、直接形成されても良い。また、例えば、着色部および遮光部上に、光硬化型接着層を介して保護層が貼合されていても良い。すなわち、保護層は、本発明の表示装置用部材の製造方法を用いて形成されていても良い。保護層の厚みについては、着色部、遮光部等の厚みに応じて適宜調整される。保護層の材料については、後述する「(d)光学機能部材 (iii)保護層」の項で説明する材料から適宜選択して用いることができる。
(Iii) Protective layer The functional layer for color filters may further have a protective layer as necessary. A protective layer is a layer (hard coat layer) formed in order to protect a coloring part, a light-shielding part, etc. For example, the protective layer may be formed directly on the colored portion and the light shielding portion using the material of the protective layer. In addition, for example, a protective layer may be bonded on the colored portion and the light shielding portion via a photocurable adhesive layer. That is, the protective layer may be formed using the method for manufacturing a display device member of the present invention. About the thickness of a protective layer, it adjusts suitably according to thickness, such as a coloring part and a light-shielding part. About the material of a protective layer, it can select suitably from the material demonstrated by the term of the (d) optical function member (iii) protective layer mentioned later, and can use it.
(b)タッチパネル用機能層
タッチパネル用機能層は、タッチパネルにおけるセンサ電極を形成するための機能層である。タッチパネルは、透明基材、透明基材上に配置されたセンサ電極を有する。本発明においては、センサ電極を覆うように位置された絶縁層を有していても良い。また、本発明においては、光硬化型接着層が絶縁層を兼ねるように構成されていても良い。
なお、本発明におけるタッチパネルには、例えば、抵抗膜方式、静電容量方式、光学方式、電磁誘導方式、超音波方式等のものを用いることができる。
(B) Functional layer for touch panel The functional layer for touch panel is a functional layer for forming the sensor electrode in a touch panel. The touch panel has a transparent substrate and a sensor electrode arranged on the transparent substrate. In this invention, you may have an insulating layer located so that a sensor electrode may be covered. Moreover, in this invention, you may be comprised so that a photocurable adhesive layer may serve as an insulating layer.
For the touch panel according to the present invention, for example, a resistance film method, a capacitance method, an optical method, an electromagnetic induction method, an ultrasonic method, or the like can be used.
(i)センサ電極
本発明におけるセンサ電極は、タッチパネルの位置検知を行うために用いられる部材である。
本発明におけるセンサ電極は、透明性を有する透明導電層であっても良く、細線によるメッシュ状のメッシュ電極であっても良い。本発明においては、センサ電極が細線によるメッシュ状のメッシュ電極である場合、センサ電極に用いられる材料が不透明な金属材料であったとしても、見かけ上透明なセンサ電極とすることが可能である。
(I) Sensor electrode The sensor electrode in this invention is a member used in order to perform the position detection of a touch panel.
The sensor electrode in the present invention may be a transparent conductive layer having transparency, or may be a mesh electrode with a fine line. In the present invention, when the sensor electrode is a mesh electrode made of fine lines, even if the material used for the sensor electrode is an opaque metal material, it can be an apparently transparent sensor electrode.
本発明におけるセンサ電極が透明導電層である場合、センサ電極の厚み等については、本発明により得られる表示装置用部材の用途に応じて適宜調整することができ、一般的なセンサ電極と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
また、本発明におけるセンサ電極がメッシュ電極である場合、センサ電極の厚み、線幅、ピッチおよび開口率等については、本発明により得られる表示装置用部材の用途に応じて適宜調整することができ、一般的なセンサ電極と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
When the sensor electrode in the present invention is a transparent conductive layer, the thickness of the sensor electrode and the like can be appropriately adjusted according to the use of the display device member obtained by the present invention, and is the same as that of a general sensor electrode. The description here is omitted.
When the sensor electrode in the present invention is a mesh electrode, the thickness, line width, pitch, aperture ratio, etc. of the sensor electrode can be appropriately adjusted according to the use of the display device member obtained by the present invention. Since it can be the same as that of a general sensor electrode, description thereof is omitted here.
本発明におけるセンサ電極の構成材料は、センサ電極が透明電極層である場合、例えば、酸化スズ、ITOと称される酸化インジウムスズ、IZOと称される酸化インジウム亜鉛等の透明導電材料等を用いることができる。
また、本発明におけるセンサ電極が不透明な金属材料により構成されたメッシュ電極である場合、金属材料には、例えば、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体、あるいはこれらのいずれかを主体とする合金等が挙げられる。金属合金としては、APCと称される銀、パラジウム、銅の合金等を用いることができる。さらに、金属の複合体としては、MAMと称されるモリブデン、アルミニウム、モリブデンの3層構造体等も適用可能である。さらに、例えばPEDOT等の樹脂層形成用組成物に上記金属を加えた導電性高分子を用いることもできる。
When the sensor electrode is a transparent electrode layer, for example, a transparent conductive material such as tin oxide, indium tin oxide called ITO, or indium zinc oxide called IZO is used as the constituent material of the sensor electrode in the present invention. be able to.
Further, when the sensor electrode in the present invention is a mesh electrode made of an opaque metal material, the metal material is, for example, silver, gold, copper, chromium, platinum, aluminum alone or any one of them. And the like. As the metal alloy, an alloy of silver, palladium, copper or the like called APC can be used. Further, as the metal composite, a three-layer structure of molybdenum, aluminum, and molybdenum called MAM is also applicable. Furthermore, for example, a conductive polymer obtained by adding the above metal to a resin layer forming composition such as PEDOT can also be used.
(ii)絶縁層
本発明における絶縁層は、上述したセンサ電極を絶縁する際に用いることができる部材である。
(Ii) Insulating layer The insulating layer in this invention is a member which can be used when insulating the sensor electrode mentioned above.
本発明における絶縁層は、通常、センサ電極を覆うように配置される。絶縁層の厚みは、センサ電極を絶縁して短絡を防止することができる程度の厚みであることが好ましく、センサ電極の設計に応じて適宜調整することができる。例えば、絶縁層の厚みは、0.5μm〜3μmの範囲内とすることができる。 The insulating layer in the present invention is usually disposed so as to cover the sensor electrode. The thickness of the insulating layer is preferably a thickness that can insulate the sensor electrode and prevent a short circuit, and can be appropriately adjusted according to the design of the sensor electrode. For example, the thickness of the insulating layer can be in the range of 0.5 μm to 3 μm.
本発明における絶縁層の構成材料は、所望の絶縁性を有する材料であることが好ましく、タッチパネルに一般的に用いられるものを使用することができる。具体的には、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、カルド樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等の絶縁性樹脂材料等や、ガラス等の無機材料等が挙げられる。なお、絶縁層に用いられる構成材料は、1種を単独で用いても良く、2種以上を組み合わせて用いても良い。また、絶縁層の層構造は、1層であっても良く、2層以上を含む多層であっても良い。 The constituent material of the insulating layer in the present invention is preferably a material having a desired insulating property, and materials generally used for touch panels can be used. Specifically, insulating resin materials such as polyimide resin, acrylic resin, cardo resin, epoxy resin, and melamine resin, inorganic materials such as glass, and the like can be given. In addition, the structural material used for an insulating layer may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. Further, the insulating layer may have a single layer structure or a multilayer structure including two or more layers.
(iii)保護層
タッチパネル用機能層は、必要に応じて保護層をさらに有していても良い。保護層は、センサ電極および絶縁層等を保護するために形成される層(ハードコート層)である。保護層は、例えば、保護層の材料を用いて、センサ電極および絶縁層上に、直接形成されても良い。また、例えば、センサ電極および絶縁層上に、光硬化型接着層を介して保護層が貼合されていても良い。すなわち、保護層は、本発明の表示装置用部材の製造方法を用いて形成されていても良い。保護層の厚みについては、センサ電極および絶縁層等の厚みに応じて適宜調整される。保護層の材料については、後述する「(d)光学機能部材 (iii)保護層」の項で説明する材料から適宜選択して用いることができる。
(Iii) Protective layer The functional layer for a touch panel may further have a protective layer as necessary. The protective layer is a layer (hard coat layer) formed to protect the sensor electrode, the insulating layer, and the like. The protective layer may be formed directly on the sensor electrode and the insulating layer, for example, using the material of the protective layer. In addition, for example, a protective layer may be bonded to the sensor electrode and the insulating layer via a photocurable adhesive layer. That is, the protective layer may be formed using the method for manufacturing a display device member of the present invention. About the thickness of a protective layer, it adjusts suitably according to the thickness of a sensor electrode, an insulating layer, etc. About the material of a protective layer, it can select suitably from the material demonstrated by the term of the (d) optical function member (iii) protective layer mentioned later, and can use it.
(c)加飾部
加飾部は、加飾部材に用いられる機能層である。
加飾部材に用いられる加飾部は、所定の色を呈する部材である。そのため、本発明における加飾部材は、表示装置用部材を用いた表示装置において、例えば額縁部等の非画素領域に加飾部が平面視上重なるように配置することにより、表示装置の外観を向上させることが可能となる。
(C) Decoration part A decoration part is a functional layer used for a decoration member.
The decoration part used for a decoration member is a member which exhibits a predetermined color. Therefore, in the display device using the display device member, the decorative member in the present invention is arranged so that the decorative portion overlaps in a non-pixel region such as a frame portion in a plan view, thereby improving the appearance of the display device. It becomes possible to improve.
本発明における加飾部は、所定の色を呈することにより、表示装置用部材を用いた表示装置の外観を向上させることができる。 The decoration part in this invention can improve the external appearance of the display apparatus using the member for display apparatuses by exhibiting a predetermined color.
本発明における加飾部の厚みは、表示装置用部材を用いた表示装置の用途等に応じて適宜調整することができ、一般的な加飾部と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 Since the thickness of the decoration part in this invention can be suitably adjusted according to the use etc. of the display apparatus using the member for display apparatuses, and since it can be made the same as that of a general decoration part, here Description is omitted.
本発明における加飾部が呈する色は、表示装置のデザイン等に応じて適宜選択することができる。加飾部が黒色を呈する黒色加飾部である場合、黒色加飾部の構成材料は、上述した「(a)カラーフィルタ (i)遮光部」の項に記載した遮光部の構成材料と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。また、加飾部が白色を呈する白色加飾部である場合、白色加飾部の構成材料としては、例えば、酸化チタン、シリカ、タルク、カオリン、クレイ、硫酸バリウム、水酸化カルシウム等が挙げられる。 The color which the decoration part in this invention exhibits can be suitably selected according to the design etc. of a display apparatus. In the case where the decorative portion is a black decorative portion exhibiting black, the constituent material of the black decorative portion is the same as the constituent material of the light shielding portion described in the section “(a) Color filter (i) Light shielding portion” described above. Therefore, the description here is omitted. Further, when the decorative part is a white decorative part exhibiting white, examples of the constituent material of the white decorative part include titanium oxide, silica, talc, kaolin, clay, barium sulfate, and calcium hydroxide. .
加飾部用機能層は、必要に応じて保護層をさらに有していても良い。保護層は、加飾部を保護するために形成される層(ハードコート層)である。保護層は、例えば、保護層の材料を用いて、加飾部上に、直接形成されても良い。また、例えば、加飾部上に、光硬化型接着層を介して保護層が貼合されていても良い。すなわち、保護層は、本発明の表示装置用部材の製造方法を用いて形成されていても良い。保護層の厚みについては、加飾部の厚みに応じて適宜調整される。保護層の材料については、後述する「(d)光学機能部材 (iii)保護層」の項で説明する材料から適宜選択して用いることができる。 The functional layer for decorating part may further have a protective layer as necessary. A protective layer is a layer (hard coat layer) formed in order to protect a decoration part. The protective layer may be directly formed on the decorative portion using, for example, the material of the protective layer. Further, for example, a protective layer may be bonded onto the decorative portion via a photocurable adhesive layer. That is, the protective layer may be formed using the method for manufacturing a display device member of the present invention. About the thickness of a protective layer, it adjusts suitably according to the thickness of a decoration part. About the material of a protective layer, it can select suitably from the material demonstrated by the term of the (d) optical function member (iii) protective layer mentioned later, and can use it.
(d)光学機能部材
本発明における光学機能部材は、液晶性化合物が一方向に配向された光学機能層を有する部材である。また、光学機能部材は、光学機能層の他に配向層を有していても良い。
以下、光学機能部材を構成する光学機能層および配向層について説明する。
(D) Optical functional member The optical functional member in the present invention is a member having an optical functional layer in which liquid crystalline compounds are aligned in one direction. Moreover, the optical function member may have an orientation layer in addition to the optical function layer.
Hereinafter, the optical functional layer and the alignment layer constituting the optical functional member will be described.
(i)光学機能層
本発明における光学機能層に含まれる液晶性化合物は、一方向に配向されることにより、所望の光学特性を発揮することができる。液晶性化合物の具体的な配向状態としては、例えば、光学機能層の長さ方向に液晶性化合物が配向した状態や、光学機能層の厚さ方向に液晶性化合物が配向した状態が挙げられる。前者の液晶構造はホモジニアス構造(平行配向構造)と称され、このような構造を有することにより、光学機能層に光学的にAプレートとしての性質を付与することができる。また、後者の液晶構造はホメオトロピック構造(垂直配向構造)と称され、このような構造を有することにより、光学機能層に光学的に正のCプレートとしての性質を付与することができる。さらに、液晶性化合物の配向状態としては、液晶性化合物が規則的な螺旋構造を示すコレステリック配向状態であっても良い。このような配向状態を有することにより、光学機能層に光学的に負のCプレートとしての性質を付与することができる。
(I) Optical functional layer The liquid crystalline compound contained in the optical functional layer in the present invention can exhibit desired optical characteristics by being oriented in one direction. Specific examples of the alignment state of the liquid crystalline compound include a state in which the liquid crystalline compound is aligned in the length direction of the optical functional layer and a state in which the liquid crystalline compound is aligned in the thickness direction of the optical functional layer. The former liquid crystal structure is referred to as a homogeneous structure (parallel alignment structure), and by having such a structure, the optical function layer can be optically imparted with properties as an A plate. The latter liquid crystal structure is called a homeotropic structure (vertical alignment structure), and by having such a structure, the optical function layer can be imparted with an optically positive C-plate property. Further, the alignment state of the liquid crystalline compound may be a cholesteric alignment state in which the liquid crystalline compound exhibits a regular helical structure. By having such an orientation state, the optical function layer can be imparted with an optically negative C-plate property.
光学機能層の厚みは、液晶性化合物の種類や光学機能層に付与しようとする光学特性に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。例えば、光学機能層の面内レターデーションがλ/4に相当するような範囲内で形成されることが好ましい。光学機能層の面内レターデーション値は、例えば、100nm〜160nmの範囲内であることが好ましく、110nm〜150nmの範囲内であることがより好ましく、120nm〜140nmの範囲内であることがさらに好ましい。光学機能層の厚みを光学機能層の面内レターデーションがλ/4分に相当するような範囲内の距離にする場合、具体的にどの程度の距離にするかは、後述する光学機能層に含まれる液晶性化合物の種類に応じて適宜決定することが、例えば、一般的な液晶性化合物を用いる場合には、光学機能層の厚みは0.5μm〜2μmの範囲内とすることができる。 The thickness of the optical functional layer can be appropriately adjusted according to the type of liquid crystalline compound and the optical characteristics to be imparted to the optical functional layer, and is not particularly limited. For example, it is preferable that the in-plane retardation of the optical functional layer is formed within a range corresponding to λ / 4. The in-plane retardation value of the optical functional layer is, for example, preferably in the range of 100 nm to 160 nm, more preferably in the range of 110 nm to 150 nm, and still more preferably in the range of 120 nm to 140 nm. . When the thickness of the optical functional layer is set to a distance within the range where the in-plane retardation of the optical functional layer corresponds to λ / 4 minutes, the specific distance is determined by the optical functional layer described later. For example, when a general liquid crystal compound is used, the thickness of the optical functional layer can be in the range of 0.5 μm to 2 μm.
光学機能層は、表示装置用部材を表示装置に用いた際に、バックライト部から照射された光を透過する部材となる。したがって、本発明における光学機能層は、所定の透明性を有することが好ましい。ここで、「透明」とは、特段の断りがない限り、バックライト部から照射された光を透過する程度に透明であることをいう。なお、光学機能層の具体的な透過率については、一般的な光学機能層と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 The optical function layer is a member that transmits light emitted from the backlight unit when the display device member is used in the display device. Therefore, the optical functional layer in the present invention preferably has a predetermined transparency. Here, “transparent” means transparent to the extent that light irradiated from the backlight portion is transmitted unless otherwise specified. In addition, about the specific transmittance | permeability of an optical function layer, since it can be made the same as that of a general optical function layer, description here is abbreviate | omitted.
光学機能層に含まれる液晶性化合物は、光学機能層に所望の光学機能性を付与することができる材料であれば良く、特に限定されない。中でも、感光性を示す液晶性化合物であることが好ましく、特に、ネマチック相を示す液晶性化合物が好適に用いられる。ネマチック液晶は、他の液晶相を示す液晶性化合物と比較して規則的に配列させることが容易であるためである。 The liquid crystalline compound contained in the optical functional layer is not particularly limited as long as it is a material that can impart desired optical functionality to the optical functional layer. Among these, a liquid crystalline compound exhibiting photosensitivity is preferable, and a liquid crystalline compound exhibiting a nematic phase is particularly preferably used. This is because nematic liquid crystals are easily arranged regularly as compared with liquid crystal compounds exhibiting other liquid crystal phases.
また、本発明における液晶性化合物には、重合性官能基を有する重合性液晶材料を用いることが好ましい。重合性液晶材料は重合性官能基を介して互いに重合することができるため、光学機能層の機械強度を向上することができるからである。 Moreover, it is preferable to use the polymeric liquid crystal material which has a polymerizable functional group for the liquid crystalline compound in this invention. This is because the polymerizable liquid crystal materials can be polymerized with each other via a polymerizable functional group, and thus the mechanical strength of the optical functional layer can be improved.
このような重合性官能基としては、紫外線、電子線等の電離放射線、あるいは熱の作用によって重合する各種重合性官能基が挙げられる。重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、またはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基(アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称)等が挙げられる。また、カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和3重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。 Examples of such polymerizable functional groups include various polymerizable functional groups that are polymerized by the action of ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams, or heat. Representative examples of the polymerizable functional group include a radical polymerizable functional group or a cationic polymerizable functional group. Further, representative examples of radically polymerizable functional groups include functional groups having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated double bond, and specific examples include vinyl groups having or not having substituents, An acrylate group (generic name including an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, and a methacryloyloxy group) and the like can be given. Moreover, an epoxy group etc. are mentioned as a specific example of a cationically polymerizable functional group. In addition, examples of the polymerizable functional group include an isocyanate group and an unsaturated triple bond. Among these, from the viewpoint of the process, a functional group having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used.
なお、重合性液晶材料は、重合性官能基を複数有していても良く、または1つのみを有していても良い。また、重合性官能基を複数有するものと、1つのみを有するものとを混合して用いても良い。
また、重合性液晶材料の具体例としては、例えば、特開平7−258638号公報や特表平10−508882号公報、特開2003−287623号公報に記載されているような化合物が挙げられる。
The polymerizable liquid crystal material may have a plurality of polymerizable functional groups or may have only one. Moreover, you may mix and use what has multiple polymerizable functional groups, and what has only one.
Specific examples of the polymerizable liquid crystal material include compounds described in JP-A-7-258638, JP-A-10-508882, and JP-A-2003-287623.
上述のような液晶性化合物は、1種類でも良く、または2種類以上を混合して用いても良い。本発明において2種類以上の液晶材料を混合して用いる場合は、重合性液晶材料と、重合性官能基を有さない液晶材料とを混合して用いても良い。 One kind of liquid crystalline compounds as described above may be used, or two or more kinds thereof may be mixed and used. In the present invention, when two or more kinds of liquid crystal materials are mixed and used, a polymerizable liquid crystal material and a liquid crystal material having no polymerizable functional group may be mixed and used.
(ii)配向層
本発明においては、光学機能部材が配向層を有していても良い。配向層は、光配向材料を含む部材である。
(Ii) Alignment layer In the present invention, the optical functional member may have an alignment layer. The alignment layer is a member containing a photo-alignment material.
ここで、配向層に含まれる「光配向材料」は、光配向法により配向規制力を発現できる材料を指す。また、「光配向法」とは、任意の偏光状態を有する光(偏光)を配向層に照射することにより配向層の配向規制力(異方性)を発現させる方法である。したがって、本発明における光配向材料は、偏光を照射することにより配向規制力を発現できる材料ということができる。さらに、「配向規制力」とは、上述した光学機能層に含まれる液晶性化合物を配列させる相互作用を意味する。 Here, the “photo-alignment material” included in the alignment layer refers to a material that can exhibit an alignment regulating force by a photo-alignment method. In addition, the “photo-alignment method” is a method of expressing the alignment regulating force (anisotropy) of the alignment layer by irradiating the alignment layer with light having an arbitrary polarization state (polarized light). Therefore, it can be said that the photo-alignment material in the present invention is a material that can exhibit an alignment regulating force by irradiating polarized light. Furthermore, the “alignment regulating force” means an interaction that aligns the liquid crystalline compounds contained in the optical functional layer described above.
本発明における配向層は、構成材料に応じて厚みを調整することができる。本発明における配向層の厚みは、例えば、0.01μm〜0.5μmの範囲内であることが好ましく、中でも0.02μm〜0.1μmの範囲内であることが好ましく、特に0.03μm〜0.05μmの範囲内であることが好ましい。本発明における配向層の厚みが上記範囲内であることにより、上述した光学機能層に含まれる液晶性化合物に対して所望の配向規制力を発現することができる。
なお、本発明における配向層の厚みは、例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて断面を観察することにより測定することができる。
The thickness of the alignment layer in the present invention can be adjusted according to the constituent materials. The thickness of the alignment layer in the present invention is, for example, preferably in the range of 0.01 μm to 0.5 μm, more preferably in the range of 0.02 μm to 0.1 μm, and particularly 0.03 μm to 0. It is preferable to be in the range of 0.05 μm. When the thickness of the alignment layer in this invention exists in the said range, desired alignment control power can be expressed with respect to the liquid crystalline compound contained in the optical function layer mentioned above.
In addition, the thickness of the alignment layer in this invention can be measured by observing a cross section, for example using a scanning electron microscope (SEM).
本発明における配向層は、表示装置用部材を表示装置に用いた際に、バックライト部から照射された光を透過する部材となる。したがって、本発明における配向層は、所定の透明性を有することが好ましい。ここで、「透明」とは、特段の断りがない限り、バックライト部から照射された光を透過する程度に透明であることをいう。なお、配向層の具体的な透過率については、一般的な配向膜と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 The alignment layer in the present invention is a member that transmits light emitted from the backlight unit when the display device member is used in a display device. Therefore, the alignment layer in the present invention preferably has a predetermined transparency. Here, “transparent” means transparent to the extent that light irradiated from the backlight portion is transmitted unless otherwise specified. In addition, about the specific transmittance | permeability of an orientation layer, since it can be made the same as that of a general orientation film, description here is abbreviate | omitted.
配向層に含まれる配向材料は、偏光を照射することにより配向規制力を発現することができる材料であれば特に限定されない。このような光配向材料は、シス−トランス変化によって分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより、分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。本発明においては、光異性化材料および光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、光反応材料を用いることがより好ましい。
光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能になる。したがって、光反応材料の方が配向規制力に経時安定性において優れている。
The alignment material included in the alignment layer is not particularly limited as long as it is a material that can exhibit an alignment regulating force by irradiating polarized light. Such photo-alignment materials are a photoisomerization material that reversibly changes the alignment regulation force by changing only the molecular shape by cis-trans change, and a photoreactive material that changes the molecule itself by irradiating polarized light. And can be broadly divided. In the present invention, any of a photoisomerization material and a photoreactive material can be suitably used, but it is more preferable to use a photoreactive material.
Since the photoreactive material is one in which molecules react with each other when polarized light is irradiated to express the alignment regulating force, it is possible to irreversibly express the alignment regulating force. Therefore, the photoreactive material is superior in the alignment control force in the temporal stability.
光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応を生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応を生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、および光分解反応と光結合反応とを生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。本発明においては、上述した光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、中でも安定性および反応性(感度)等の観点から光二量化型材料を用いることが好ましい。 The photoreactive material can be further classified according to the type of reaction caused by polarized light irradiation. Specifically, a photodimerization-type material that develops an alignment regulating force by causing a photodimerization reaction, a photocoupled material that develops an orientation regulating force by producing a photolysis reaction, and a photodecomposition reaction and a photobinding reaction. Can be divided into photodecomposition-bonding materials and the like that exhibit orientation regulating force. In the present invention, any of the above-mentioned photoreactive materials can be suitably used, but among them, it is preferable to use a photodimerization type material from the viewpoint of stability and reactivity (sensitivity).
光二量化型材料は、光二量化反応を生じることにより配向規制力を発現できる材料であれば特に限定されない。本発明においては、中でも光二量化反応を生じる光の波長が、280nm以上であることが好ましく、特に280nm〜400nmの範囲内であることが好ましく、さらには300nm〜380nmの範囲内であることが好ましい。 The photodimerization-type material is not particularly limited as long as it is a material that can exhibit an orientation regulating force by causing a photodimerization reaction. In the present invention, the wavelength of light that causes a photodimerization reaction is preferably 280 nm or more, particularly preferably in the range of 280 nm to 400 nm, and more preferably in the range of 300 nm to 380 nm. .
このような光二量化型材料としては、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、または、シンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマー等が挙げられる。本発明においては、中でも、シンナメートおよびクマリンの少なくとも一方を有するポリマー、シンナメートおよびクマリンを有するポリマーが好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例としては、例えば特開平9−118717号公報、特表10−506420号公報、および特表2003−505561号公報に記載された化合物が挙げられる。 Examples of such a photodimerization type material include cinnamate, coumarin, benzylidenephthalimidine, benzylideneacetophenone, diphenylacetylene, stilbazole, uracil, quinolinone, maleinimide, or a polymer having a cinnamylideneacetic acid derivative. In the present invention, among them, a polymer having at least one of cinnamate and coumarin, and a polymer having cinnamate and coumarin are preferably used. Specific examples of such a photodimerization type material include compounds described in, for example, JP-A-9-118717, JP-A-10-506420, and JP-A-2003-505561.
本発明において用いられる光配向材料は、1種類のみであっても良く、2種類以上であっても良い。 The photo-alignment material used in the present invention may be only one type or two or more types.
(iii)保護層
本発明においては、光学機能部材が保護層をさらに有していても良い。
本発明における保護層は、例えば、当該保護層の下層に配置された光学機能層を、溶剤や光等から保護することができる部材である。
(Iii) Protective layer In the present invention, the optical functional member may further have a protective layer.
The protective layer in this invention is a member which can protect the optical function layer arrange | positioned under the said protective layer from the solvent, light, etc., for example.
本発明における保護層は、光学機能層に対し、溶剤や光等による劣化から保護するという機能を有することが好ましい。したがって、本発明における保護層は、耐薬品性、耐光性や耐熱性を有する部材であることが好ましい。 The protective layer in the present invention preferably has a function of protecting the optical functional layer from deterioration due to a solvent, light or the like. Therefore, the protective layer in the present invention is preferably a member having chemical resistance, light resistance and heat resistance.
本発明における保護層の厚みは、保護層としての保護機能、具体的には耐薬品性、耐光性や耐熱性を付与することができる程度の厚みであることが好ましい。例えば、1μm〜5μmの範囲内とすることができる。 The thickness of the protective layer in the present invention is preferably a thickness that can provide a protective function as the protective layer, specifically, chemical resistance, light resistance and heat resistance. For example, it can be in the range of 1 μm to 5 μm.
本発明における保護層の構成材料には、一般的な表示装置の保護層と同様の材料を用いることができる。中でも、耐薬品性や耐光性を有する材料を用いることが好ましい。このような保護層の構成材料は、有機材料であっても良く無機材料であっても良い。無機材料を用いる場合には、スパッタリング法により保護層を形成することができるため、有機材料を用いた場合のように保護層の形成に際し加熱工程を要しないことから、加熱工程による光学機能層への影響を抑えることができる。本発明における保護層に用いられる有機材料としては、例えば、感光性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂およびアクリル樹脂等の光硬化型樹脂または熱硬化型樹脂、および無機材料等が挙げられる。また、その他の材料として、重合開始剤や各種添加剤等が挙げられる。 As the constituent material of the protective layer in the present invention, the same material as the protective layer of a general display device can be used. Among them, it is preferable to use a material having chemical resistance and light resistance. The constituent material of such a protective layer may be an organic material or an inorganic material. When an inorganic material is used, a protective layer can be formed by a sputtering method, so that a heating step is not required when forming the protective layer as in the case of using an organic material. The influence of can be suppressed. Examples of the organic material used for the protective layer in the present invention include photo-curing resins or thermosetting resins such as photosensitive polyimide resins, epoxy resins and acrylic resins, and inorganic materials. Other materials include polymerization initiators and various additives.
(e)保護層
本発明における表示装置用機能層は、保護層であっても良い。本発明においては、転写積用積層体が、転写基材上に保護層が形成された構成を有していても良い。転写用積層体が上記構成を有する場合、保護層を他の部材(例えば、カラーフィルタ、タッチパネル、加飾部材等)または機能層に転写法により形成することができる。なお、保護層の厚み、保護機能、材料等については、保護層が転写される側の部材または機能層の構成により適宜選択することができる。また、例えば、被転写部材が保護層を有する場合は、転写用積層体の保護層の硬度が高くなるように調整しても良い。
(E) Protective layer The functional layer for a display device in the present invention may be a protective layer. In the present invention, the laminate for transfer product may have a configuration in which a protective layer is formed on a transfer substrate. When the laminated body for transfer has the above-described configuration, the protective layer can be formed on another member (for example, a color filter, a touch panel, a decorative member, etc.) or a functional layer by a transfer method. In addition, about the thickness of a protective layer, a protective function, material, etc., it can select suitably by the structure of the member or functional layer by which the protective layer is transcribe | transferred. For example, when the member to be transferred has a protective layer, the hardness of the protective layer of the laminate for transfer may be adjusted to be high.
(f)その他
本発明における表示装置用機能層としては、上記以外にも、例えば、柱状スペーサ、透明電極等を挙げることができる。これらの機能層については、一般的なカラーフィルタ等に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
(F) Others In addition to the above, examples of the display device functional layer in the present invention include columnar spacers and transparent electrodes. Since these functional layers can be the same as those used for a general color filter or the like, description thereof is omitted here.
(2)準備工程
本発明に用いられる転写用基材については、上述した「A.機能層付部材の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができる。また、上述した表示装置用機能層の形成方法としては一般的なカラーフィルタ、タッチパネル、加飾部材の形成方法、および光学機能部材の形成方法と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。例えば、特開2015−31863号公報や特開2012−108563号公報に記載された方法が挙げられる。
(2) Preparatory process About the base material for transcription | transfer used for this invention, it can be made to be the same as that of the content demonstrated by the term of the "A. manufacturing method of a member with a functional layer" mentioned above. In addition, the method for forming the functional layer for a display device described above can be the same as a general color filter, a touch panel, a method for forming a decorative member, and a method for forming an optical functional member. Omitted. For example, the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-31863 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-108563 is mentioned.
2.塗布工程
本発明における塗布工程は、少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する工程である。
2. Application Step The application step in the present invention is a step of forming a photocurable adhesive layer by applying an adhesive containing a photocurable resin material on at least a transferred member having a substrate.
被転写部材に用いられる基材としては、基材のみを有していても良く、必要に応じて、基材上に第2表示装置用機能層を有していても良い。
本発明における被転写部材は、露光光に対する透過性を有していても良く、有していなくても良い。
As a base material used for the member to be transferred, only the base material may be included, or a functional layer for the second display device may be provided on the base material as necessary.
The member to be transferred in the present invention may or may not have transparency to exposure light.
被転写部材に用いられる基材は、透明基材であることが好ましい。
ここで、「透明」という場合には、特段の断りがない限り、表示装置用部材が用いられた表示装置の操作者の、操作面からの視認を妨げない程度の透明性をいう。したがって、「透明」は、無色透明、および視認性を妨げない程度の有色透明を含み、また厳密な透過率で定義されず、表示装置用部材の用途等に応じて透過性の度合いを決定することができる。
The substrate used for the member to be transferred is preferably a transparent substrate.
Here, the term “transparent” refers to transparency that does not hinder the operator of the display device using the display device member from seeing from the operation surface unless otherwise specified. Therefore, “transparent” includes colorless and transparent and colored transparency that does not hinder visibility, is not defined by strict transmittance, and determines the degree of transparency according to the use of the display device member, etc. be able to.
本発明における透明基材の厚みとしては、各部材を支持できる程度の厚みであれば特に限定されず、表示装置用部材の用途等に応じて適宜設計が可能である。透明基材の具体的な厚みは、一般的なカラーフィルタに用いられる透明基材の厚みと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The thickness of the transparent substrate in the present invention is not particularly limited as long as it is a thickness that can support each member, and can be appropriately designed according to the use of the display device member. Since the specific thickness of the transparent substrate can be the same as the thickness of the transparent substrate used for a general color filter, description thereof is omitted here.
本発明における透明基材の材料は、一般的なカラーフィルタに用いられる材料であれば特に限定されないが、例えば、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する樹脂基板等が挙げられる。中でも無機基板を用いることが好ましく、無機基板の中でもガラス基板を用いることが好ましい。さらには、ガラス基板の中でも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、例えば、表示装置に用いられるカラーフィルタに好適であるからである。 The material of the transparent substrate in the present invention is not particularly limited as long as it is a material used for a general color filter. For example, inorganic material having no flexibility such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, synthetic quartz plate, etc. Examples thereof include a substrate and a flexible resin substrate such as a transparent resin film and an optical resin plate. Among them, it is preferable to use an inorganic substrate, and it is preferable to use a glass substrate among inorganic substrates. Furthermore, it is preferable to use an alkali-free type glass substrate among the glass substrates. This is because the alkali-free type glass substrate is excellent in dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and does not contain an alkali component in the glass, and thus is suitable for, for example, a color filter used in a display device. .
また、被転写部材に用いられる基材は、ガラス基材上に形成された樹脂層であることも好ましい。ガラス基材上に形成された樹脂層については、上述した「A.機能層付部材の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができる。 Moreover, it is preferable that the base material used for a to-be-transferred member is the resin layer formed on the glass base material. About the resin layer formed on the glass base material, it can be made to be the same as that of the content demonstrated by the term of the "A. manufacturing method of a member with a functional layer" mentioned above.
第2表示装置用機能層としては、上述した表示装置用機能層の中から、適宜選択することができる。転写部材における表示装置用機能層が光学機能部材である場合、第2の表示装置用機能層がカラーフィルタ用機能層、タッチパネル用機能層、および加飾部材用機能層の少なくともいずれかであることが好ましい。また、この場合、第2の表示装置用機能層は、被転写部材における表示装置用機能層の貼合面に配置されていても良く、反対側の面に配置されていても良い。 The functional layer for the second display device can be appropriately selected from the functional layers for the display device described above. When the display device functional layer in the transfer member is an optical functional member, the second display device functional layer is at least one of a color filter functional layer, a touch panel functional layer, and a decorative member functional layer. Is preferred. In this case, the second functional layer for display device may be disposed on the bonding surface of the functional layer for display device in the transferred member, or may be disposed on the opposite surface.
3.貼合工程
本発明における貼合工程は、上記光硬化型接着層と、上記転写用積層体の上記表示装置用機能層とを貼合する工程である。貼合工程については、上述した「A.機能層付部材の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
3. Bonding step The bonding step in the present invention is a step of bonding the photocurable adhesive layer and the display device functional layer of the transfer laminate. About a bonding process, since it can be made to be the same as that of the content demonstrated by the term of the "A. manufacturing method of a member with a functional layer" mentioned above, description here is abbreviate | omitted.
4.露光工程
本発明における露光工程は、上記光硬化型接着層を露光することにより、上記光硬化型樹脂材料を硬化させて上記被転写部材上に上記表示装置用機能層を接着する工程である。
4). Exposure Step The exposure step in the present invention is a step of exposing the photocurable adhesive layer to cure the photocurable resin material and bonding the display device functional layer onto the member to be transferred.
本発明における転写用積層体がカラーフィルタ用機能層、タッチパネル用機能層および加飾部用機能層である場合、露光光は、通常、被転写部材側から照射される。
なお、露光工程における露光光、露光条件等については、上述した「A.機能層付部材の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
When the transfer laminate in the present invention is a color filter functional layer, a touch panel functional layer, and a decorative portion functional layer, exposure light is usually irradiated from the transferred member side.
Note that the exposure light, the exposure conditions, and the like in the exposure step can be the same as the contents described in the above-mentioned section “A. Method for producing member with functional layer”, and thus the description thereof is omitted here.
5.転写工程
本発明における露光工程は、上記転写用積層体の上記転写用基材を剥離することにより、上記被転写部材上に上記表示装置用機能層を転写する工程である。転写工程については、上述した「A.機能層付部材の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
5. Transfer Process The exposure process in the present invention is a process of transferring the display device functional layer onto the transfer target member by peeling the transfer substrate of the transfer laminate. The transfer step can be the same as the content described in the above-mentioned section “A. Method for producing member with functional layer”, and thus the description thereof is omitted here.
6.その他
本発明の表示装置用部材の製造方法は、上述した各工程を有していれば特に限定されず、必要な工程を適宜選択して追加することができる。本発明においては、得られた表示装置用部材をさらに表示パネル等と光硬化型接着層を介して貼り合わせる工程を有していても良い。本発明の機能層付部材の製造方法は、例えば、各工程が、Roll to Roll方式を用いて行なわれても良い。Roll to Roll方式を用いた場合については、上述した「A.機能層付部材の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
6). Others The method for producing a member for a display device of the present invention is not particularly limited as long as it includes the above-described steps, and necessary steps can be appropriately selected and added. In this invention, you may have the process of bonding the obtained member for display apparatuses to a display panel etc. further through a photocurable adhesive layer. In the method for manufacturing a member with a functional layer of the present invention, for example, each step may be performed using a Roll to Roll method. The case where the Roll to Roll method is used can be the same as the content described in the above-mentioned section “A. Method for producing member with functional layer”, and thus the description thereof is omitted here.
本発明により得られる表示装置用部材としては、例えば、カラーフィルタ、タッチパネル、加飾部材、光学機能部材付基材、およびこれらの積層体等を挙げることができる。 Examples of the display device member obtained by the present invention include a color filter, a touch panel, a decorative member, a substrate with an optical function member, and a laminate thereof.
本発明の表示装置用部材の製造方法は、例えば、フレキシブル表示装置に用いられる部材を製造する際に好適に用いることができる。フレキシブル表示装置は、フレキシブル性を有する基材上に所定の機能層を積層した部材を用いた表示装置である。フレキシブル表示装置は、自在に変形させることができることから、例えばローラブル(巻き取り可能な)モバイル表示装置を実現することができ、よりモバイルに適した表示装置を得ることができる。 The manufacturing method of the member for display apparatuses of this invention can be used suitably, for example when manufacturing the member used for a flexible display apparatus. The flexible display device is a display device using a member in which a predetermined functional layer is laminated on a flexible substrate. Since the flexible display device can be freely deformed, a rollable mobile display device can be realized, for example, and a display device more suitable for mobile can be obtained.
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.
以下、実施例および比較例を示して、本発明の機能層付部材の製造方法の詳細を説明する。 Hereinafter, the Example and the comparative example are shown and the detail of the manufacturing method of the member with a functional layer of this invention is demonstrated.
[実施例1]
[被転写部材(カラーフィルタ)の作製]
下記手順により、ガラス基板(被転写部材)上に形成された遮光部、着色部および保護部(第2機能層)を有するカラーフィルタを作製した。
[Example 1]
[Production of member to be transferred (color filter)]
A color filter having a light shielding part, a colored part and a protective part (second functional layer) formed on a glass substrate (transfer member) was produced by the following procedure.
(硬化性樹脂組成物の調製)
重合槽中にメタクリル酸メチル(MMA)を63重量部、アクリル酸(AA)を12重量部、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル(HEMA)を6重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)を88重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)を7重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、85℃で2時間攪拌し、更に100℃で1時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル(GMA)を7重量部、トリエチルアミンを0.4重量部、およびハイドロキノンを0.2重量部添加し、100℃で5時間攪拌し、共重合樹脂溶液(固形分50%)を得た。
(Preparation of curable resin composition)
The polymerization tank is charged with 63 parts by weight of methyl methacrylate (MMA), 12 parts by weight of acrylic acid (AA), 6 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), and 88 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether (DMDG). After stirring and dissolving, 7 parts by weight of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) was added and dissolved uniformly. Then, it stirred at 85 degreeC under nitrogen stream for 2 hours, and also was made to react at 100 degreeC for 1 hour. Further, 7 parts by weight of glycidyl methacrylate (GMA), 0.4 parts by weight of triethylamine, and 0.2 parts by weight of hydroquinone were added to the obtained solution, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 5 hours to obtain a copolymer resin solution ( A solid content of 50%) was obtained.
次に、下記の材料を室温で撹拌、混合して硬化性樹脂組成物とした。
<硬化性樹脂組成物の組成>
・上記共重合樹脂溶液(固形分50%) 16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399)24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート18
0S70) 4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン
4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル 52重量部
Next, the following materials were stirred and mixed at room temperature to obtain a curable resin composition.
<Composition of curable resin composition>
-16 parts by weight of the above-mentioned copolymer resin solution (solid content 50%)-24 parts by weight of dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399)-Orthocresol novolac type epoxy resin (Oka Chemical Shell Epoxy, Epicoat 18)
0S70) 4 parts by weight 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one
4 parts by weight • 52 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether
(遮光部の形成)
まず、下記の分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調製した。
(Formation of light shielding part)
First, the following components were mixed and sufficiently dispersed in a sand mill to prepare a black pigment dispersion.
<黒色顔料分散液の組成>
・黒色顔料 23重量部
・高分子分散材(ビックケミー・ジャパン(株) Disperbyk111) 2重量部
・溶剤(ジエチレングリコールジメチルエーテル) 75重量部
<Composition of black pigment dispersion>
・ Black pigment 23 parts by weight ・ Polymer dispersing agent (Big Chemie Japan Co., Ltd. Disperbyk 111) 2 parts by weight ・ Solvent (diethylene glycol dimethyl ether) 75 parts by weight
次に、下記の分量の成分を十分に混合し、遮光部用組成物を得た。
<遮光部用組成物の組成>
・上記黒色顔料分散液 61重量部
・上記硬化性樹脂組成物 20重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル 30重量部
Next, the components of the following amounts were sufficiently mixed to obtain a light shielding part composition.
<Composition of composition for light shielding part>
-61 parts by weight of the black pigment dispersion-20 parts by weight of the curable resin composition-30 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether
厚み0.7mmのガラス基板(旭硝子(株) AN材)上に上記遮光部用組成物をスピンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、膜厚約1μmの遮光層を形成した。当該遮光層を、超高圧水銀ランプで遮光パターン(RGBの繰り返しが75μmピッチのストライプ状)に露光した後、0.05wt%水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を230℃の雰囲気下に30分間放置することにより加熱処理を施して複数の開口部を有する遮光部を形成した。 The light shielding part composition was applied on a 0.7 mm thick glass substrate (Asahi Glass Co., Ltd. AN material) with a spin coater and dried at 100 ° C. for 3 minutes to form a light shielding layer having a thickness of about 1 μm. The light-shielding layer is exposed to a light-shielding pattern (repetition of RGB with a 75 μm pitch stripe shape) with an ultra-high pressure mercury lamp, and then developed with a 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution. Heat treatment was performed by leaving it for 30 minutes to form a light-shielding portion having a plurality of openings.
(着色部の形成)
上記のようにして遮光部を形成したガラス基板上に、下記組成の赤色硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布(塗布厚み2.0μm)し、その後、70℃のオーブン中で3分間乾燥した。次いで、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜から100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて着色部の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後、基板を230℃の雰囲気下に25分間放置することにより、加熱処理を施して遮光部の開口部に赤色のレリーフパターン(赤色着色部)を形成した。
次に、下記組成の緑色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程により、遮光部の開口部に緑色のレリーフパターン(緑色着色部)を形成した。 さらに、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程により、遮光部の開口部に青色のレリーフパターン(青色着色部)を形成した。
(Formation of colored parts)
A red curable resin composition having the following composition is applied onto the glass substrate on which the light-shielding part is formed as described above by a spin coating method (application thickness: 2.0 μm), and then dried in an oven at 70 ° C. for 3 minutes. did. Next, a photomask is placed at a distance of 100 μm from the coating film of the red curable resin composition, and ultraviolet rays are applied only to the region corresponding to the colored region formation region using a 2.0 kW ultrahigh pressure mercury lamp by a proximity aligner. Irradiated for 10 seconds. Subsequently, it was immersed in 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution (liquid temperature 23 degreeC) for 1 minute, and alkali development was carried out, and only the uncured part of the coating film of a red curable resin composition was removed. Thereafter, the substrate was left in an atmosphere at 230 ° C. for 25 minutes to perform heat treatment to form a red relief pattern (red colored portion) in the opening of the light shielding portion.
Next, the green relief pattern (green coloring part) was formed in the opening part of the light-shielding part by the process similar to red relief pattern formation using the green curable resin composition of the following composition. Furthermore, using the blue curable resin composition having the following composition, a blue relief pattern (blue colored portion) was formed in the opening of the light shielding portion by the same process as the formation of the red relief pattern.
(保護層の形成)
その後、保護層として上述した硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布、乾燥し塗布膜を形成した。硬化性樹脂組成物の塗布膜から100μmの距離に フォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いてスペーサの形成領域のみに紫外線を10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後基板を230℃の雰囲気中に30分間放置することにより加熱処理を施して保護層を形成した。
このようにして、カラーフィルタを得た。
(Formation of protective layer)
Thereafter, the curable resin composition described above as a protective layer was applied by a spin coating method and dried to form a coating film. A photomask was placed at a distance of 100 μm from the coating film of the curable resin composition, and only the spacer formation region was irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds using a 2.0 kW ultrahigh pressure mercury lamp by a proximity aligner. Subsequently, it was immersed in 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution (liquid temperature 23 degreeC) for 1 minute, and alkali image development was carried out, and only the uncured part of the coating film of curable resin composition was removed. Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere at 230 ° C. for 30 minutes to perform a heat treatment to form a protective layer.
In this way, a color filter was obtained.
<赤色硬化性樹脂組成物の組成>
・C.I.ピグメントレッド254 7重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 3重量部
・上記硬化性樹脂組成物 23重量部
・酢酸−3−メトキシブチル 67重量部
<Composition of red curable resin composition>
・ C. I. 7 parts by weight of Pigment Red 254 3 parts by weight of a polysulfonic acid type polymer dispersant 23 parts by weight of the curable resin composition 67 parts by weight of 3-methoxybutyl acetate
<緑色硬化性樹脂組成物の組成>
・C.I.ピグメントグリーン58 7重量部
・C.I.ピグメントイエロー138 1重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 3重量部
・上記硬化性樹脂組成物 22重量部
・酢酸−3−メトキシブチル 67重量部
<Composition of green curable resin composition>
・ C. I. Pigment Green 58 7 parts by weight C.I. I. Pigment Yellow 138 1 part by weight, polysulfonic acid type polymer dispersant 3 parts by weight, the curable resin composition 22 parts by weight, and 3-methoxybutyl acetate 67 parts by weight
<青色硬化性樹脂組成物の組成>
・C.I.ピグメントブルー1 5重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 3重量部
・上記硬化性樹脂組成物 25重量部
・酢酸−3−メトキシブチル 67重量部
<Composition of blue curable resin composition>
・ C. I.
[転写用積層体の作製]
転写用基材として、厚さ100μmのPETフィルムを準備した。
転写用基材上に、硬化後の膜厚がおよそ1.5μm程度となるように、ポリビニルシンナメート(PVCi)基を有する光配向材料を含有する光配向膜組成物(溶剤としてPGMEを使用)をダイコート法により塗布した。
そして、90℃に調整した乾燥機内で2分間乾燥させ、溶媒を蒸発させるとともに組成物を熱硬化させて光配向膜(配向層)を形成した。
その上に、光重合性ネマチック相を示す液晶化合物と、光重合開始剤とを含有する液晶組成物(固形分30%、溶剤としてMIBKを使用)をダイコート法により塗布して乾燥させて1μmの液晶層を形成し、光学機能層を有する転写用積層体を得た。
[Production of transfer laminate]
A PET film having a thickness of 100 μm was prepared as a transfer substrate.
A photo-alignment film composition containing a photo-alignment material having a polyvinyl cinnamate (PVCi) group on a transfer substrate so that the film thickness after curing is about 1.5 μm (PGME is used as a solvent) Was applied by a die coating method.
And it was made to dry for 2 minutes within the dryer adjusted to 90 degreeC, the solvent was evaporated, and the composition was thermosetted, and the photo-alignment film (alignment layer) was formed.
On top of that, a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound exhibiting a photopolymerizable nematic phase and a photopolymerization initiator (solid content 30%, using MIBK as a solvent) is applied by a die coating method and dried to be 1 μm. A liquid crystal layer was formed to obtain a transfer laminate having an optical functional layer.
[紫外線硬化型接着層の作製]
カラーフィルタの着色部側の面に、紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法により塗布(塗布厚み3.0μm)した。その後、塗膜を、70℃のオーブン中で3分間乾燥することにより、紫外線硬化型接着層を形成した。
[Preparation of UV curable adhesive layer]
An ultraviolet curable resin was applied to the colored portion side surface of the color filter by a spin coating method (application thickness: 3.0 μm). Thereafter, the coating film was dried in an oven at 70 ° C. for 3 minutes to form an ultraviolet curable adhesive layer.
[貼合工程、露光工程、および転写工程]
カラーフィルタの紫外線硬化型接着層と、転写用積層体の光学機能層とを、空気が入らないようにして貼合した。その後、光学機能部材側の面から紫外線を照射して、紫外線硬化型接着層を硬化させた。その後、転写用基材を剥離して、カラーフィルタの着色部側の面に、光学機能層を転写した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。
[Bonding process, exposure process, and transfer process]
The ultraviolet curable adhesive layer of the color filter and the optical functional layer of the transfer laminate were bonded so that air did not enter. Thereafter, ultraviolet rays were irradiated from the surface on the optical functional member side to cure the ultraviolet curable adhesive layer. Thereafter, the transfer substrate was peeled off, and the optical functional layer was transferred to the colored portion side surface of the color filter. The base material for display apparatuses was obtained by the above process.
[機能層(保護部)の形成]
得られた表示装置用基材における光学機能層の紫外線硬化型接着層とは反対側の面に、上述した硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布、乾燥し塗布膜を形成した。硬化性樹脂組成物の塗布膜から100μmの距離に フォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いてスペーサの形成領域のみに紫外線を10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後基板を230℃の雰囲気中に30分間放置することにより加熱処理を施して保護部を形成した。
[Formation of functional layer (protection part)]
On the surface of the obtained display device substrate opposite to the ultraviolet curable adhesive layer of the optical functional layer, the curable resin composition described above was applied by spin coating and dried to form a coating film. A photomask was placed at a distance of 100 μm from the coating film of the curable resin composition, and only the spacer formation region was irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds using a 2.0 kW ultrahigh pressure mercury lamp by a proximity aligner. Subsequently, it was immersed in 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution (liquid temperature 23 degreeC) for 1 minute, and alkali image development was carried out, and only the uncured part of the coating film of curable resin composition was removed. Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere at 230 ° C. for 30 minutes to perform heat treatment to form a protective part.
[実施例2]
[被転写部材(加飾部材)の作製]
下記手順により、ガラス基板(被転写部材)上に形成された加飾部(第2機能層)を有する加飾部材を作製した。
[Example 2]
[Production of member to be transferred (decorative member)]
The decorating member which has the decorating part (2nd functional layer) formed on the glass substrate (transferred member) with the following procedure was produced.
まず、下記材料を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調製した。
<黒色顔料分散液の組成>
・黒色顔料 23重量部
・高分子分散剤(ビックケミー・ジャパン(株) Disperbyk111) 2重量部
・溶剤(ジエチレングリコールジメチルエーテル) 75重量部
First, the following materials were mixed and sufficiently dispersed with a sand mill to prepare a black pigment dispersion.
<Composition of black pigment dispersion>
・ Black pigment 23 parts by weight ・ Polymer dispersant (Bicchemy Japan Co., Ltd. Disperbyk 111) 2 parts by weight ・ Solvent (diethylene glycol dimethyl ether) 75 parts by weight
次に、下記材料を室温で攪拌、混合して加飾部形成用組成物を調製した。
<加飾部形成用組成物の組成>
・上記黒色顔料分散液 61重量部
・上記硬化性樹脂組成物 20重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル 30重量部
Next, the following materials were stirred and mixed at room temperature to prepare a decorative part forming composition.
<Composition of composition for decorating part formation>
-61 parts by weight of the black pigment dispersion-20 parts by weight of the curable resin composition-30 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether
厚み0.7mmのガラス基板(旭硝子(株) AN材)上に加飾部形成用組成物をスピンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、膜厚約1μmの加飾層を形成した。当該加飾層を、超高圧水銀ランプで遮光パターン(RGBの繰り返しが75μmピッチのストライプ状)に露光した後、0.05wt%水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を230℃の雰囲気下に30分間放置することにより加熱処理を施してパターン状の加飾部を形成した。以上の手順により加飾部材を得た。 The decorative part forming composition was applied on a 0.7 mm thick glass substrate (Asahi Glass Co., Ltd. AN material) with a spin coater and dried at 100 ° C. for 3 minutes to form a decorative layer having a thickness of about 1 μm. . The decorative layer is exposed to a light-shielding pattern (repetition of RGB with a 75 μm pitch stripe shape) with an ultra-high pressure mercury lamp, and then developed with a 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution. For 30 minutes, a heat treatment was applied to form a patterned decorative portion. The decorative member was obtained by the above procedure.
[貼合工程、露光工程、転写工程および保護部の形成]
加飾部材の加飾部側の面に、実施例1と同様にして、紫外線硬化型接着層を形成した。
加飾部材の紫外線硬化型接着層と、転写用積層体の光学機能層とを、空気が入らないようにして貼合し、実施例1と同様に貼合、露光および剥離をすることにより、加飾部材の加飾部側の面に、光学機能層を転写した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。実施例1と同様にして、光学機能層の紫外線硬化型接着層とは反対側の面に、保護部を形成した。
[Formation of bonding process, exposure process, transfer process and protective part]
In the same manner as in Example 1, an ultraviolet curable adhesive layer was formed on the surface of the decorative member on the decorative portion side.
By pasting the UV curable adhesive layer of the decorative member and the optical functional layer of the laminate for transfer so that air does not enter, and bonding, exposing and peeling in the same manner as in Example 1, The optical functional layer was transferred to the surface of the decorative member on the decorative part side. The base material for display apparatuses was obtained by the above process. In the same manner as in Example 1, a protective part was formed on the surface of the optical functional layer opposite to the ultraviolet curable adhesive layer.
[実施例3]
[被転写部材(タッチパネル)の作製]
下記手順により、透明基材(被転写部材)上に形成された配線層およびセンサ電極(第2機能層)を有するタッチパネルを作製した。
アクティブエリアに屈折率調整層が形成された透明基材を準備した。透明基材上であって、表示装置の非表示領域に相当する領域に、フォトリソグラフィ法によりITOから構成される取り出し配線および外部接続端子(配線層)をパターン状に形成した。次いで、アクティブエリアにおける屈折率調整層上にフォトリソグラフィ法によりITOから構成される透明電極層をパターン状に形成し、第1電極および第2電極を有するセンサ電極と第2導電部とを形成した。透明電極層の厚さは1300Åとした。次いで、第2導電部を覆うように絶縁層を形成し、絶縁層上に第1導電部を形成した。
以上により、配線層およびセンサ電極等を有するタッチパネルを形成した。
[Example 3]
[Production of member to be transferred (touch panel)]
The touch panel which has the wiring layer and sensor electrode (2nd functional layer) which were formed on the transparent base material (transferred member) with the following procedure was produced.
A transparent substrate having a refractive index adjustment layer formed in the active area was prepared. A lead-out wiring and an external connection terminal (wiring layer) made of ITO were formed in a pattern by a photolithography method in a region corresponding to the non-display region of the display device on the transparent substrate. Next, a transparent electrode layer made of ITO was formed in a pattern on the refractive index adjustment layer in the active area by photolithography, and a sensor electrode having a first electrode and a second electrode and a second conductive portion were formed. . The thickness of the transparent electrode layer was 1300 mm. Next, an insulating layer was formed so as to cover the second conductive portion, and the first conductive portion was formed on the insulating layer.
Thus, a touch panel having a wiring layer, a sensor electrode, and the like was formed.
タッチパネルのセンサ電極等側の面に、実施例1と同様にして、紫外線硬化型接着層を形成した。
タッチパネルの紫外線硬化型接着層と、転写用積層体の光学機能層とを、空気が入らないようにして貼合し、実施例1と同様に貼合、露光および剥離をすることにより、タッチパネルのセンサ電極等側の面に、光学機能層を転写した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。実施例1と同様にして、光学機能層の紫外線硬化型接着層とは反対側の面に、保護部を形成した。
An ultraviolet curable adhesive layer was formed on the surface of the touch panel on the sensor electrode side in the same manner as in Example 1.
The UV curable adhesive layer of the touch panel and the optical functional layer of the laminate for transfer are bonded so as not to enter air, and bonded, exposed and peeled in the same manner as in Example 1 to The optical functional layer was transferred onto the surface on the sensor electrode or the like side. The base material for display apparatuses was obtained by the above process. In the same manner as in Example 1, a protective part was formed on the surface of the optical functional layer opposite to the ultraviolet curable adhesive layer.
[比較例]
紫外線硬化型接着層のかわりに、転写用積層体の光学機能層上に、厚さ20μmの感圧接着層を形成したこと以外は実施例1と同様にして表示装置用基材を作製した。また、実施例1と同様にして、光学機能層の紫外線硬化型接着層とは反対側の面に、保護部を形成した。
[Comparative example]
A substrate for a display device was produced in the same manner as in Example 1 except that a 20 μm-thick pressure-sensitive adhesive layer was formed on the optical functional layer of the transfer laminate instead of the ultraviolet curable adhesive layer. Further, in the same manner as in Example 1, a protective part was formed on the surface of the optical functional layer opposite to the ultraviolet curable adhesive layer.
[評価1]
(厚み)
実施例1では、比較例に比べて、接着層を薄くすることができ、厚みの薄い表示装置用基材を作製できた。
[Evaluation 1]
(Thickness)
In Example 1, compared with the comparative example, the adhesive layer could be made thinner, and a display device substrate having a smaller thickness could be produced.
(耐熱性)
実施例1〜3の表示装置用基材は、保護部の形成前後で、外観上の変化はなかった。一方、比較例の表示装置用基材は、保護部の形成前後で、外観上の変化(スジムラの発生)が観察された。これは紫外線硬化型接着層が、感圧接着層に比べて、優れた耐熱性を有することに起因すると考えられる。
(Heat-resistant)
The substrates for display devices of Examples 1 to 3 did not change in appearance before and after the formation of the protective part. On the other hand, a change in appearance (generation of stripes) was observed before and after the formation of the protective portion in the display device substrate of the comparative example. This is considered due to the fact that the ultraviolet curable adhesive layer has superior heat resistance as compared to the pressure-sensitive adhesive layer.
[実施例4]
被転写部材として、下記のカラーフィルタを用い、転写用積層体として下記の転写用積層体を用いた。
[Example 4]
The following color filter was used as the member to be transferred, and the following transfer laminate was used as the transfer laminate.
[被転写部材(カラーフィルタ)の作製]
キャリアガラス基材上に、透明基材形成用組成物としてポリイミド前駆体を塗布し、加熱処理を行うことでイミド化させ、透明基材(ポリイミド基材)(厚み:10μm)を形成した。得られたポリイミド基材上に、実施例1と同様にして、遮光部、着色部および保護層を形成することにより、カラーフィルタを得た。
[Production of member to be transferred (color filter)]
On the carrier glass substrate, a polyimide precursor was applied as a transparent substrate-forming composition, and imidized by heat treatment to form a transparent substrate (polyimide substrate) (thickness: 10 μm). A color filter was obtained by forming a light-shielding part, a colored part and a protective layer on the obtained polyimide substrate in the same manner as in Example 1.
[転写用積層体の作製]
転写用基材として、厚さ100μmのPETフィルムを準備した。上記転写用基材上に、下記のハードコート層形成用組成物を、グラビアリバースコート法で乾燥後の厚さが2μmになるように塗布し、100℃で乾燥させた。乾燥させた塗膜に対し、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させて、ハードコート層を形成した。以上の工程により転写用積層体を得た。
[Production of transfer laminate]
A PET film having a thickness of 100 μm was prepared as a transfer substrate. On the transfer substrate, the following composition for forming a hard coat layer was applied by gravure reverse coating so that the thickness after drying was 2 μm, and dried at 100 ° C. The dried coating film was cured by irradiating with ultraviolet rays using a high pressure mercury lamp to form a hard coat layer. The transfer laminate was obtained through the above steps.
<ハードコート層形成用組成物>
・ユピマーUV・V3031(三菱化学社製、紫外線硬化性樹脂商品名) 25質量部
・メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名 紫光1700B)5質量部
・光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア184) 0.9質量部
・溶媒(酢酸エチル:メチルイソブチルケトン=1:1) 70質量部
<Composition for forming hard coat layer>
・ Iupimer UV V3031 (Mitsubishi Chemical Co., Ltd., UV curable resin product name) 25 parts by mass ・ Methacrylate oligomer (Nippon Gosei Kagaku Co., Ltd., trade name: Murasaki 1700B) 5 parts by mass Product name Irgacure 184) 0.9 parts by mass / solvent (ethyl acetate: methyl isobutyl ketone = 1: 1) 70 parts by mass
[貼合工程、露光工程、および転写工程]
カラーフィルタの着色部側の面に、実施例1と同様にして、紫外線硬化型接着層を形成した。カラーフィルタの紫外線硬化型接着層と、転写用積層体のハードコート層とを、空気が入らないようにして貼合し、実施例1と同様に貼合、露光および剥離をすることにより、カラーフィルタの着色部側の面に、ハードコート層を転写した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。ハードコート層が転写されたカラーフィルタに対し、キャリアガラス基材側からエキシマレーザ光をポリイミドとキャリアガラス基材の界面に集光させることにより、ポリイミドの界面側の一部にレーザーアブレージョンを起こし、キャリアガラス基材を剥離した。以上の工程により、表示装置用部材を得た。
[Bonding process, exposure process, and transfer process]
An ultraviolet curable adhesive layer was formed on the colored portion side surface of the color filter in the same manner as in Example 1. By bonding the UV curable adhesive layer of the color filter and the hard coat layer of the transfer laminate so that air does not enter, and bonding, exposing and peeling in the same manner as in Example 1, the color The hard coat layer was transferred to the colored portion side surface of the filter. The base material for display apparatuses was obtained by the above process. For the color filter to which the hard coat layer has been transferred, the excimer laser light is focused on the interface between the polyimide and the carrier glass substrate from the carrier glass substrate side, thereby causing laser abrasion on a part of the polyimide interface surface, The carrier glass substrate was peeled off. Through the above steps, a display device member was obtained.
[実施例5]
被転写部材として、下記のセンサ電極基材を用い、転写用積層体として実施例4の転写用積層体を用いた。実施例4と同様にして、紫外線硬化型接着層を用いて、センサ電極基材のセンサ電極側の面にハードコート層を転写した。また実施例4と同様にして、ハードコート層が転写されたセンサ電極基材から、キャリアガラス基材を剥離した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。
[Example 5]
The following sensor electrode substrate was used as the transfer member, and the transfer laminate of Example 4 was used as the transfer laminate. In the same manner as in Example 4, the hard coat layer was transferred to the surface on the sensor electrode side of the sensor electrode substrate using an ultraviolet curable adhesive layer. In the same manner as in Example 4, the carrier glass substrate was peeled from the sensor electrode substrate to which the hard coat layer was transferred. The base material for display apparatuses was obtained by the above process.
[被転写部材(センサ電極基材)の作製]
キャリアガラス基材上に、透明基材形成用組成物としてポリイミド前駆体を塗布し、加熱処理を行うことでイミド化させ、透明基材(ポリイミド基材)(厚み:10μm)を形成した。
得られたポリイミド基材上に、ダイコート法を用いてアクリル系樹脂から構成されたアンカー層(厚み:0.5μm)を形成した。
次に、得られたアンカー層上に、スパッタリング法を用いて銀合金から構成された導電層を形成し、その後、レジストパターンをマスクとして導電層をエッチングした。これにより、メッシュ状の第1センサ電極(線幅:3μm、厚み:0.2μm)を形成した。
次に、第1センサ電極を覆うように、ダイコート法を用いてアクリル系樹脂から構成された絶縁層(厚み:1.5μm)を形成した。
次いで、絶縁層上に、第1センサ電極と同様に第2センサ電極(線幅:3μm、厚み:0.2μm)を形成した。
最後に、第2センサ電極を覆うように、ダイコート法を用いてアクリル系樹脂から構成された保護層(厚み:1.5μm)を形成した。これにより、センサ電極基材を得た。
[Production of member to be transferred (sensor electrode base material)]
On the carrier glass substrate, a polyimide precursor was applied as a transparent substrate-forming composition, and imidized by heat treatment to form a transparent substrate (polyimide substrate) (thickness: 10 μm).
An anchor layer (thickness: 0.5 μm) composed of an acrylic resin was formed on the obtained polyimide substrate using a die coating method.
Next, a conductive layer made of a silver alloy was formed on the obtained anchor layer using a sputtering method, and then the conductive layer was etched using the resist pattern as a mask. Thereby, a mesh-shaped first sensor electrode (line width: 3 μm, thickness: 0.2 μm) was formed.
Next, an insulating layer (thickness: 1.5 μm) made of an acrylic resin was formed using a die coating method so as to cover the first sensor electrode.
Next, a second sensor electrode (line width: 3 μm, thickness: 0.2 μm) was formed on the insulating layer in the same manner as the first sensor electrode.
Finally, a protective layer (thickness: 1.5 μm) made of an acrylic resin was formed using a die coating method so as to cover the second sensor electrode. This obtained the sensor electrode base material.
[実施例6]
被転写部材として、下記のカラーフィルタ付センサ電極基材を用い、転写用積層体として実施例4の転写用積層体を用いた。実施例4と同様にして、紫外線硬化型接着層を用いて、カラーフィルタ付センサ電極基材の着色部側の面にハードコート層を転写した。また実施例4と同様にして、ハードコート層が転写されたカラーフィルタ付センサ電極基材から、キャリアガラス基材を剥離した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。
[Example 6]
As the transfer member, the following sensor electrode substrate with color filter was used, and the transfer laminate of Example 4 was used as the transfer laminate. In the same manner as in Example 4, the hard coat layer was transferred to the colored portion side surface of the sensor electrode substrate with a color filter using an ultraviolet curable adhesive layer. In the same manner as in Example 4, the carrier glass substrate was peeled from the sensor electrode substrate with color filter to which the hard coat layer was transferred. The base material for display apparatuses was obtained by the above process.
[被転写部材(カラーフィルタ付センサ電極基材)の作製]
実施例5と同様にして、センサ電極基材を作製した。次に、センサ電極基材の保護層上に、ダイコート法を用いて被覆カーボンを顔料とするアクリル系樹脂から構成された遮光層(厚み:1.5μm)を形成した。その後、得られた遮光層を、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、遮光部(線幅:5μm)を形成した。センサ電極基材の保護層上に形成された遮光部の開口部に、赤色着色部、緑色着色部および青色着色部を形成した。これにより、カラーフィルタ付センサ電極基材を形成した。
[Production of member to be transferred (sensor electrode substrate with color filter)]
In the same manner as in Example 5, a sensor electrode substrate was produced. Next, a light-shielding layer (thickness: 1.5 μm) composed of an acrylic resin having coated carbon as a pigment was formed on the protective layer of the sensor electrode substrate using a die coating method. Then, the obtained light shielding layer was patterned using the photolithographic method, and the light shielding part (line width: 5 micrometers) was formed. A red colored part, a green colored part, and a blue colored part were formed in the opening of the light shielding part formed on the protective layer of the sensor electrode substrate. This formed the sensor electrode base material with a color filter.
[実施例7]
被転写部材として、下記の加飾部およびカラーフィルタ付センサ電極基材を用い、転写用積層体として実施例4の転写用積層体を用いた。実施例4と同様にして、紫外線硬化型接着層を用いて、加飾部およびカラーフィルタ付センサ電極基材の着色部側の面にハードコート層を転写した。また実施例4と同様にして、ハードコート層が転写された加飾部およびカラーフィルタ付センサ電極基材から、キャリアガラス基材を剥離した。以上の工程により、表示装置用基材を得た。
[Example 7]
As the member to be transferred, the following decorative portion and the sensor electrode substrate with color filter were used, and the transfer laminate of Example 4 was used as the transfer laminate. In the same manner as in Example 4, the hard coat layer was transferred to the surface of the decorative portion and the colored portion side of the sensor electrode substrate with a color filter using an ultraviolet curable adhesive layer. Further, in the same manner as in Example 4, the carrier glass substrate was peeled off from the decorated portion to which the hard coat layer was transferred and the sensor electrode substrate with color filter. The base material for display apparatuses was obtained by the above process.
[被転写部材(加飾部およびカラーフィルタ付センサ電極基材)の作製]
実施例5と同様にして、センサ電極基材を作製した。次に、センサ電極基材の保護層上に、ダイコート法を用いて被覆カーボンを顔料とするアクリル系樹脂から構成された遮光層(厚み:1.5μm)を形成した。その後、得られた遮光層を、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、遮光部(線幅:5μm)および加飾部を形成した。センサ電極基材の保護層上に形成された遮光部の開口部に、赤色着色部、緑色着色部および青色着色部を形成した。これにより、加飾部およびカラーフィルタ付センサ電極基材を形成した。
[Preparation of member to be transferred (sensor electrode substrate with decorative portion and color filter)]
In the same manner as in Example 5, a sensor electrode substrate was produced. Next, a light-shielding layer (thickness: 1.5 μm) composed of an acrylic resin having coated carbon as a pigment was formed on the protective layer of the sensor electrode substrate using a die coating method. Then, the obtained light shielding layer was patterned using the photolithographic method, and the light shielding part (line width: 5 micrometers) and the decorating part were formed. A red colored part, a green colored part, and a blue colored part were formed in the opening of the light shielding part formed on the protective layer of the sensor electrode substrate. Thereby, the decoration part and the sensor electrode base material with a color filter were formed.
[評価2]
(耐屈曲性試験)
実施例4〜7により得られた表示装置用部材に対し、耐屈曲性試験を行なった。耐屈曲性試験における測定条件は、下記の通りである。
[Evaluation 2]
(Bend resistance test)
A bending resistance test was performed on the display device members obtained in Examples 4 to 7. Measurement conditions in the flex resistance test are as follows.
<測定条件>
・サンプルサイズ:200mm×120mm、150mm×70mm
センサ電極基材を、長辺および短辺のいずれかの方向に3mmRで屈曲させることで試験を行った。
・曲げ半径R=3mm
・回転数:120rpm
・ストローク:20mm
<Measurement conditions>
Sample size: 200mm x 120mm, 150mm x 70mm
The test was performed by bending the sensor electrode substrate at 3 mmR in either the long side or the short side.
・ Bending radius R = 3mm
・ Rotation speed: 120rpm
・ Stroke: 20mm
20万回の屈曲試験を実施後における、実施例4〜7の表示装置用部材の透過率変化(%)(屈曲試験前の透過率(%)−屈曲試験後の透過率(%))を調べたところ、10%以下であることが確認された。屈曲試験後の表示装置用部材においては、目視での透明性の変化がほぼ無かった。また、屈曲試験後における表示装置用部材の基材の破損、機能層の剥がれおよび割れは確認されなかった。 The transmittance change (%) of the display device members of Examples 4 to 7 after performing the bending test 200,000 times (transmittance before bending test (%) − transmittance after bending test (%)). When examined, it was confirmed that it was 10% or less. In the display device member after the bending test, there was almost no change in the visual transparency. Moreover, the damage of the base material of the member for display apparatuses after a bending test, the peeling of the functional layer, and the crack were not confirmed.
1 …転写用積層体
2、12 …転写用基材
3 …機能層
4、14 …被転写部材
5、15 …光硬化型接着層
10A、 …機能層付部材
33 …表示装置用機能層
10A1 …表示装置用部材
DESCRIPTION OF
Claims (3)
少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、
前記光硬化型接着層と、前記転写用積層体の前記機能層とを貼合する貼合工程と、
前記光硬化型接着層を露光することにより、前記光硬化型樹脂材料を硬化させて、前記被転写部材上に前記機能層を接着する露光工程と、
前記転写用積層体の前記転写用基材を剥離することにより、前記被転写部材上に前記機能層を転写する転写工程と、
を有することを特徴とする機能層付部材の製造方法。 A preparation step of preparing a transfer laminate having a transfer substrate and a functional layer formed on the transfer substrate;
An application step of forming a photocurable adhesive layer by applying an adhesive containing a photocurable resin material on at least a transferred member having a substrate;
A bonding step of bonding the photocurable adhesive layer and the functional layer of the transfer laminate;
Exposing the photocurable adhesive layer to cure the photocurable resin material and bonding the functional layer on the transferred member;
A transfer step of transferring the functional layer onto the member to be transferred by peeling off the transfer substrate of the transfer laminate;
The manufacturing method of the member with a functional layer characterized by having.
少なくとも基材を有する被転写部材上に、光硬化型樹脂材料を含む接着剤を塗布することにより、光硬化型接着層を形成する塗布工程と、
前記光硬化型接着層と、前記転写用積層体の前記表示装置用機能層とを貼合する貼合工程と、
前記光硬化型接着層を露光することにより、前記光硬化型樹脂材料を硬化させて、前記被転写部材上に前記表示装置用機能層を接着する露光工程と、
前記転写用積層体の前記転写用基材を剥離することにより、前記被転写部材上に前記表示装置用機能層を転写する転写工程と、
を有することを特徴とする表示装置用部材の製造方法。 Preparing a transfer laminate having a transfer substrate and a functional layer for a display device formed on the transfer substrate; and
An application step of forming a photocurable adhesive layer by applying an adhesive containing a photocurable resin material on at least a transferred member having a substrate;
A bonding step of bonding the photocurable adhesive layer and the display device functional layer of the transfer laminate;
Exposing the photocurable adhesive layer to cure the photocurable resin material and bonding the display device functional layer on the transferred member; and
A transfer step of transferring the display device functional layer onto the member to be transferred by peeling off the transfer substrate of the transfer laminate;
The manufacturing method of the member for display apparatuses characterized by having.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023116036A (en) * | 2022-02-09 | 2023-08-22 | 株式会社アイセロ | Laminate for pattern transfer and transfer method |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006212987A (en) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Kuraray Co Ltd | Transfer material |
| JP2009069839A (en) * | 2008-10-22 | 2009-04-02 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical element |
| JP2015143790A (en) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | 住友化学株式会社 | Optical anisotropic sheet for transfer |
| JP2015143789A (en) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | 住友化学株式会社 | Optical anisotropic sheet for transfer |
-
2016
- 2016-03-28 JP JP2016063029A patent/JP2017181530A/en active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006212987A (en) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Kuraray Co Ltd | Transfer material |
| JP2009069839A (en) * | 2008-10-22 | 2009-04-02 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical element |
| JP2015143790A (en) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | 住友化学株式会社 | Optical anisotropic sheet for transfer |
| JP2015143789A (en) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | 住友化学株式会社 | Optical anisotropic sheet for transfer |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023116036A (en) * | 2022-02-09 | 2023-08-22 | 株式会社アイセロ | Laminate for pattern transfer and transfer method |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191210 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200623 |