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JP2017163019A - Retainer - Google Patents

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JP2017163019A JP2016046839A JP2016046839A JP2017163019A JP 2017163019 A JP2017163019 A JP 2017163019A JP 2016046839 A JP2016046839 A JP 2016046839A JP 2016046839 A JP2016046839 A JP 2016046839A JP 2017163019 A JP2017163019 A JP 2017163019A
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勝彦 室川
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勝彦 室川
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考史 山本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a retainer capable of controlling reduction of uniformity in a temperature distribution of a first surface of an insulation plate.SOLUTION: In an electrostatic chuck 100, a heater 50 includes: a first heater wire 510 that is extended from one direction of a pair of first terminal parts to the other direction; a second heater wire 520 that is extended from one direction of a pair of second terminal parts to the other direction; and a third heater wire 530 that is extended from one direction of a pair of third terminal parts to the other direction, in which one of the pair of the third terminal parts is electrically connected to one of the pair of second terminal parts, and the other of the pair of the third terminal parts is electrically connected to the other of the pair of the second terminal parts. At least one part of the second heater wire is arranged at a position closer than the third heater wire to one line part of the fist heater wire. At least one part of the third heater wire is arranged at the position closer than the second heater wire to the other line part of the first heater wire in which the position in a second direction that the first heater wire is extended is different from one line part.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本明細書に開示される技術は、対象物を保持する保持装置に関する。   The technology disclosed in this specification relates to a holding device that holds an object.

例えば半導体製造装置において、ウェハを保持する保持装置として、静電チャックが用いられる。静電チャックは、例えば、セラミックスにより形成されたセラミックス板と、ベース板とが接合された構成を有する。静電チャックは、内部電極を有しており、内部電極に電圧が印加されることにより発生する静電引力を利用して、セラミックス板の表面(以下、「吸着面」という)にウェハを吸着して保持する。   For example, in a semiconductor manufacturing apparatus, an electrostatic chuck is used as a holding device that holds a wafer. The electrostatic chuck has a configuration in which, for example, a ceramic plate made of ceramics and a base plate are joined. The electrostatic chuck has an internal electrode, and attracts the wafer to the surface of the ceramic plate (hereinafter referred to as “adsorption surface”) by using electrostatic attraction generated by applying a voltage to the internal electrode. And hold.

静電チャックに保持されたウェハの温度分布が不均一になると、ウェハに対する各処理(成膜、エッチング、露光等)の精度が低下するため、静電チャックにはウェハの温度分布を均一にする性能が求められる。そのため、セラミックス板の内部、または、セラミックス板のベース板側にはヒータが設けられており、静電チャックの使用時には、ヒータによる加熱によって、セラミックス板の吸着面の温度制御が行われる。ヒータは、例えば、一端が一対の電源端子の一方に電気的に接続され、他端が一対の電源端子の他方に電気的に接続されている螺旋状のヒータ線を含む(特許文献1参照)。   If the temperature distribution of the wafer held on the electrostatic chuck becomes non-uniform, the accuracy of each process (film formation, etching, exposure, etc.) on the wafer will be reduced. Performance is required. For this reason, a heater is provided inside the ceramic plate or on the base plate side of the ceramic plate. When the electrostatic chuck is used, the temperature of the adsorption surface of the ceramic plate is controlled by heating with the heater. For example, the heater includes a spiral heater wire having one end electrically connected to one of the pair of power supply terminals and the other end electrically connected to the other of the pair of power supply terminals (see Patent Document 1). .

特開2014−75525号公報JP 2014-75525 A

セラミックス板の吸着面の温度分布の均一性を高めるには、ヒータ線の延長方向に直交する断面の面積(以下、「断面積」という)が均一であることが好ましい。しかし、例えば、ヒータ線を形成する際の形成圧力のバラツキ等により、ヒータ線の断面積が不均一になることがある。受けた圧力が高い領域に位置するヒータ線の部分は、相対的に、断面積が小さいため抵抗が大きい。一方、受けた圧力が低い領域に位置するヒータ線の部分は、相対的に、断面積が大きいため抵抗が小さい。このため、上述した螺旋状のヒータ線では、受けた圧力が高い領域に位置するヒータ線の部分は発熱量が大きく、受けた圧力が低い領域に位置するヒータ線の部分は発熱量が小さい。その結果、セラミックス板の吸着面の温度分布の均一性が低下するおそれがある。   In order to improve the uniformity of the temperature distribution on the adsorption surface of the ceramic plate, it is preferable that the cross-sectional area perpendicular to the extension direction of the heater wire (hereinafter referred to as “cross-sectional area”) is uniform. However, the cross-sectional area of the heater wire may become non-uniform due to, for example, variations in forming pressure when the heater wire is formed. The portion of the heater wire located in the region where the received pressure is high has a relatively large cross-sectional area and thus has a high resistance. On the other hand, the portion of the heater wire located in the region where the received pressure is low has a relatively small cross-sectional area and thus has a low resistance. For this reason, in the above-described spiral heater wire, the portion of the heater wire located in the region where the received pressure is high generates a large amount of heat, and the portion of the heater wire located in the region where the received pressure is low has a small amount of heat generation. As a result, the uniformity of the temperature distribution on the adsorption surface of the ceramic plate may be reduced.

なお、このような課題は、静電引力を利用してウェハを保持する静電チャックに限らず、例えばポリイミドヒータなど、絶縁板の表面側で対象物を保持する保持装置に共通の課題である。   Such a problem is not limited to an electrostatic chuck that holds a wafer using electrostatic attraction, but is a problem common to a holding device that holds an object on the surface side of an insulating plate, such as a polyimide heater. .

本明細書では、上述した課題を解決することが可能な技術を開示する。   In this specification, the technique which can solve the subject mentioned above is disclosed.

本明細書に開示される技術は、例えば、以下の形態として実現することが可能である。   The technology disclosed in the present specification can be realized as, for example, the following forms.

(1)本明細書に開示される保持装置は、第1の表面と、前記第1の表面とは反対側の第2の表面と、を有する板状の絶縁板と、前記絶縁板の内部、または、前記絶縁板の前記第2の表面側に配置されたヒータと、を備え、前記絶縁板の前記第1の表面側で対象物を保持する保持装置において、前記ヒータは、一対の第1の端部を有し、前記一対の第1の端部の一方から他方まで延びている第1のヒータ線と、一対の第2の端部を有し、前記一対の第2の端部の一方から他方まで延びている第2のヒータ線と、一対の第3の端部を有し、前記一対の第3の端部の一方から他方まで延びており、かつ、前記一対の第3の端部の一方が前記一対の第2の端部の一方に電気的に接続され、前記一対の第3の端部の他方が前記一対の第2の端部の他方に電気的に接続されている第3のヒータ線と、を含み、前記絶縁板の前記第1の表面に直交する第1の方向視で、前記第1のヒータ線の一の線部分に対し、前記第2のヒータ線の少なくとも一部が、前記第3のヒータ線より近くに配置されており、前記第1のヒータ線が延びる第2の方向における位置が前記一の線部分とは異なる前記第1のヒータ線の別の線部分に対し、前記第3のヒータ線の少なくとも一部が、前記第2のヒータ線より近くに配置されている。本保持装置において、例えば、第1のヒータ線の一の線部分の抵抗が別の線部分の抵抗より高い場合、当該一の線部分の発熱量が別の線部分の発熱量より大きくなる。一方、第2のヒータ線と第3のヒータ線とは電気的に並列に接続されているため、例えば、第2のヒータ線の抵抗が第3のヒータ線の抵抗より高い場合、第2のヒータ線の発熱量は、第3のヒータ線の発熱量より小さくなる。そして、互いに近い位置に配置されている線同士ほど、線の延長方向に直交する断面の面積(以下、単に「断面積」という)の差が小さい傾向にある。本保持装置では、第1のヒータ線の一の線部分に対し、第2のヒータ線の少なくとも一部が第3のヒータ線より近くに配置され、第1のヒータ線の別の線部分に対し、第3のヒータ線の少なくとも一部が、第2のヒータ線より近くに配置されている。その結果、例えば、第1のヒータ線の一の線部分および第2のヒータ線の少なくとも一部の抵抗が相対的に高い場合、第1のヒータ線の一の線部分の発熱量は相対的に大きいが、第2のヒータ線の発熱量は相対的に小さい。また、第1のヒータ線の別の線部分および第3のヒータ線の少なくとも一部の抵抗が相対的に高い場合、第1のヒータ線の別の線部分の発熱量は相対的に大きいが、第3のヒータ線の発熱量は相対的に小さい。これにより、ヒータ線の断面積のバラツキに起因して絶縁板の第1の表面の温度分布の均一性が低下することを抑制することができる。 (1) A holding device disclosed in the present specification includes a plate-shaped insulating plate having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and an interior of the insulating plate. Or a heater disposed on the second surface side of the insulating plate, and a holding device for holding an object on the first surface side of the insulating plate, wherein the heater has a pair of first A pair of first ends, a first heater wire extending from one of the pair of first ends to the other, a pair of second ends, and the pair of second ends A second heater wire extending from one side to the other and a pair of third ends, extending from one of the pair of third ends to the other, and the pair of thirds One end of the pair is electrically connected to one of the pair of second ends, and the other of the pair of third ends is the other of the pair of second ends A third heater wire electrically connected, and in a first direction perpendicular to the first surface of the insulating plate, with respect to one line portion of the first heater wire, At least a part of the second heater line is disposed closer to the third heater line, and the position in the second direction in which the first heater line extends is different from the one line part. At least a portion of the third heater line is disposed closer to the second heater line than another line portion of the first heater line. In this holding device, for example, when the resistance of one line portion of the first heater line is higher than the resistance of another line portion, the heat generation amount of the one line portion is larger than the heat generation amount of the other line portion. On the other hand, since the second heater wire and the third heater wire are electrically connected in parallel, for example, when the resistance of the second heater wire is higher than the resistance of the third heater wire, The amount of heat generated by the heater wire is smaller than the amount of heat generated by the third heater wire. Then, the lines arranged closer to each other tend to have a smaller difference in cross-sectional area perpendicular to the extension direction of the lines (hereinafter simply referred to as “cross-sectional area”). In the holding device, at least a part of the second heater line is arranged closer to the third heater line than the first heater line, and another line part of the first heater line is arranged on the other part of the first heater line. On the other hand, at least a part of the third heater line is disposed closer to the second heater line. As a result, for example, when the resistance of one line portion of the first heater line and at least a portion of the second heater line is relatively high, the heat generation amount of the one line portion of the first heater line is relatively high. However, the amount of heat generated by the second heater wire is relatively small. In addition, when the resistance of another line portion of the first heater wire and at least a part of the third heater wire is relatively high, the heat generation amount of the other wire portion of the first heater wire is relatively large. The amount of heat generated by the third heater wire is relatively small. Thereby, it can suppress that the uniformity of the temperature distribution of the 1st surface of an insulating board resulting from the variation in the cross-sectional area of a heater wire falls.

(2)上記保持装置において、前記第1の方向視で、前記絶縁板において前記第1のヒータ線に直交する仮想線によって仕切られる2つの領域の内、一方の領域には、前記第2のヒータ線が配置され、前記第3のヒータ線が配置されておらず、他方の領域には、前記第2のヒータ線が配置されておらず、前記第3のヒータ線が配置されている構成としてもよい。本保持装置によれば、第2のヒータ線の一部が他方の領域まで延びていたり、第3のヒータ線の一部が一方の領域まで延びていたりする場合に比べて、絶縁板の第1の表面の温度分布の均一性が低下することを、より効果的に抑制することができる。 (2) In the holding device, when the first direction is viewed, one of two regions partitioned by an imaginary line orthogonal to the first heater wire in the insulating plate includes the second region. A configuration in which a heater wire is disposed, the third heater wire is not disposed, and the second heater wire is not disposed in the other region, and the third heater wire is disposed. It is good. According to the present holding device, the second heater wire partly extends to the other region, or the third heater wire partly extends to one region, compared with the case where the insulating plate It can suppress more effectively that the uniformity of the temperature distribution of 1 surface falls.

(3)上記保持装置において、前記第2の方向は、前記絶縁板の中心周りの方向であり、前記第1の方向視で、前記第1のヒータ線は、前記第2の方向に沿って延びる環状形状を構成し、前記第2のヒータ線と前記第3のヒータ線との組み合わせは、前記第1のヒータ線とは径が異なる環状形状の少なくとも一部を構成してもよい。本保持装置によれば、ヒータが環状形状であるため、絶縁板の第1の表面の温度分布の均一性を向上させることができる。 (3) In the holding device, the second direction is a direction around the center of the insulating plate, and the first heater wire extends along the second direction as viewed in the first direction. An extending annular shape may be configured, and the combination of the second heater wire and the third heater wire may constitute at least a part of an annular shape having a diameter different from that of the first heater wire. According to this holding device, since the heater has an annular shape, the uniformity of the temperature distribution on the first surface of the insulating plate can be improved.

(4)上記保持装置において、前記第1の方向視で、前記第2のヒータ線は、前記一対の第2の端部の一方から前記第2の方向の一方側に延びつつ他方側に折り返して前記一対の第2の端部の他方に繋がる形状を構成し、前記第3のヒータ線は、前記一対の第3の端部の一方から前記第2の方向の他方側に延びつつ一方側に折り返して前記一対の第3の端部の他方に繋がる形状を構成してもよい。第2のヒータ線の両端部と第3のヒータ線の両端部とを近くに配置することができるため、第2のヒータ線と第3のヒータ線とを電気的に接続するための構造を簡略化することができる。 (4) In the holding device, as viewed in the first direction, the second heater wire extends from one of the pair of second ends to one side in the second direction and is folded back to the other side. And the third heater wire extends from one side of the pair of third ends to the other side in the second direction while being connected to the other side of the pair of second ends. A shape that is folded back to the other of the pair of third ends may be configured. Since both ends of the second heater wire and both ends of the third heater wire can be arranged close to each other, a structure for electrically connecting the second heater wire and the third heater wire is provided. It can be simplified.

(5)上記保持装置において、前記第1の方向視で、前記第1のヒータ線は、環状形状を構成する前記第2のヒータ線および前記第3のヒータ線の内周側と外周側との両側を囲むように前記一対の第1の端部の一方から延びて前記一対の第1の端部の他方に繋がる形状を構成してもよい。本保持装置によれば、第1のヒータ線を広い範囲に配置しつつ、電源に電気的に接続するための構造を簡略化することができる。 (5) In the holding device, in the first direction view, the first heater wire includes an inner peripheral side and an outer peripheral side of the second heater wire and the third heater wire that form an annular shape. A shape extending from one of the pair of first end portions so as to surround both sides of the pair of first end portions may be formed. According to this holding device, the structure for electrically connecting to the power source can be simplified while arranging the first heater wire in a wide range.

(6)上記保持装置において、前記第1の方向視で、前記第1のヒータ線と、前記第2のヒータ線および前記第3のヒータ線とは、環状形状を構成する前記第2のヒータ線および前記第3のヒータ線の内周側から外周側に向かう方向に交互に配置されている構成としてもよい。本保持装置によれば、絶縁板の第1の表面の広い範囲に亘って温度分布の均一性を向上させることができる。 (6) In the holding device, the first heater wire, the second heater wire, and the third heater wire in the first direction view, the second heater forming an annular shape. It is good also as a structure arrange | positioned alternately by the direction which goes to the outer peripheral side from the inner peripheral side of a wire and a said 3rd heater wire. According to the present holding device, the uniformity of the temperature distribution can be improved over a wide range of the first surface of the insulating plate.

なお、本明細書に開示される技術は、種々の形態で実現することが可能であり、例えば、保持装置、静電チャック、それらの製造方法等の形態で実現することが可能である。   The technology disclosed in this specification can be realized in various forms, for example, in the form of a holding device, an electrostatic chuck, a manufacturing method thereof, and the like.

第1実施形態における静電チャック100の外観構成を概略的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing an external configuration of an electrostatic chuck 100 according to a first embodiment. 第1実施形態における静電チャック100のXZ断面構成を概略的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows roughly the XZ cross-sectional structure of the electrostatic chuck 100 in 1st Embodiment. 第1実施形態における静電チャック100のXY断面構成を概略的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows roughly the XY cross-sectional structure of the electrostatic chuck 100 in 1st Embodiment. 第1の大ヒータ線511と第2の大ヒータ線521および第3の大ヒータ線531との配線関係を示す模式図である。5 is a schematic diagram showing a wiring relationship between a first large heater line 511, a second large heater line 521, and a third large heater line 531. FIG. 第2実施形態における静電チャック100aのXY断面構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows XY cross-sectional structure of the electrostatic chuck 100a in 2nd Embodiment. 第3実施形態における静電チャック100bのXY断面構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows XY cross-sectional structure of the electrostatic chuck 100b in 3rd Embodiment.

A.第1実施形態:
A−1.静電チャック100の構成:
図1は、本実施形態における静電チャック100の外観構成を概略的に示す斜視図であり、図2は、本実施形態における静電チャック100のXZ断面構成を概略的に示す説明図であり、図3は、本実施形態における静電チャック100のXY断面構成を概略的に示す説明図である。図2には、図3のII−IIの位置における静電チャック100のXZ断面構成が示されており、図3には、図2のIII−IIIの位置における静電チャック100のXY断面構成が示されている。各図には、方向を特定するための互いに直交するXYZ軸が示されている。本明細書では、便宜的に、Z軸正方向を上方向といい、Z軸負方向を下方向というものとするが、静電チャック100は実際にはそのような向きとは異なる向きで設置されてもよい。
A. First embodiment:
A-1. Configuration of the electrostatic chuck 100:
FIG. 1 is a perspective view schematically showing an external configuration of the electrostatic chuck 100 in the present embodiment, and FIG. 2 is an explanatory diagram schematically showing an XZ sectional configuration of the electrostatic chuck 100 in the present embodiment. FIG. 3 is an explanatory diagram schematically showing an XY cross-sectional configuration of the electrostatic chuck 100 according to the present embodiment. 2 shows an XZ sectional configuration of the electrostatic chuck 100 at the position II-II in FIG. 3, and FIG. 3 shows an XY sectional configuration of the electrostatic chuck 100 at the position III-III in FIG. It is shown. In each figure, XYZ axes orthogonal to each other for specifying the direction are shown. In this specification, for convenience, the positive direction of the Z-axis is referred to as the upward direction, and the negative direction of the Z-axis is referred to as the downward direction. However, the electrostatic chuck 100 is actually installed in a direction different from such a direction. May be.

静電チャック100は、対象物(例えばウェハW)を静電引力により吸着して保持する装置であり、例えば半導体製造装置の真空チャンバー内でウェハWを固定するために使用される。静電チャック100は、所定の配列方向(本実施形態では上下方向(Z軸方向))に並べて配置されたセラミックス板10およびベース板20を備える。セラミックス板10とベース板20とは、セラミックス板10の下面(以下、「セラミックス側接着面S2」という)とベース板20の上面(以下、「ベース側接着面S3」という)とが上記配列方向に対向するように配置されている。静電チャック100は、さらに、セラミックス板10のセラミックス側接着面S2とベース板20のベース側接着面S3との間に配置された接着層30を備える。セラミックス板10は、特許請求の範囲における絶縁板に相当し、セラミックス板10のセラミックス側接着面S2は、特許請求の範囲における第2の表面に相当する。   The electrostatic chuck 100 is a device that attracts and holds an object (for example, a wafer W) by electrostatic attraction, and is used, for example, to fix the wafer W in a vacuum chamber of a semiconductor manufacturing apparatus. The electrostatic chuck 100 includes a ceramic plate 10 and a base plate 20 that are arranged in a predetermined arrangement direction (in this embodiment, the vertical direction (Z-axis direction)). The ceramic plate 10 and the base plate 20 are such that the lower surface of the ceramic plate 10 (hereinafter referred to as “ceramic side adhesive surface S2”) and the upper surface of the base plate 20 (hereinafter referred to as “base side adhesive surface S3”) are arranged in the above-described arrangement direction. It arrange | positions so that it may oppose. The electrostatic chuck 100 further includes an adhesive layer 30 disposed between the ceramic side adhesive surface S2 of the ceramic plate 10 and the base side adhesive surface S3 of the base plate 20. The ceramic plate 10 corresponds to the insulating plate in the claims, and the ceramic side adhesive surface S2 of the ceramic plate 10 corresponds to the second surface in the claims.

セラミックス板10は、例えば円形平面の板状部材であり、セラミックス(例えば、アルミナや窒化アルミニウム等)により形成されている。セラミックス板10の直径は例えば200mm〜500mm程度(通常は200mm〜350mm程度)であり、セラミックス板10の厚さは例えば1mm〜10mm程度である。   The ceramic plate 10 is, for example, a circular flat plate-like member, and is formed of ceramics (for example, alumina, aluminum nitride, etc.). The diameter of the ceramic plate 10 is, for example, about 200 mm to 500 mm (usually about 200 mm to 350 mm), and the thickness of the ceramic plate 10 is, for example, about 1 mm to 10 mm.

セラミックス板10の内部には、導電性材料(例えば、タングステンやモリブデン等)により形成された一対の内部電極40が設けられている。一対の内部電極40に電源(図示せず)から電圧が印加されると、静電引力が発生し、この静電引力によってウェハWがセラミックス板10の上面(以下、「吸着面S1」という)に吸着固定される。セラミックス板10の吸着面S1は、特許請求の範囲における第1の表面に相当する。   A pair of internal electrodes 40 formed of a conductive material (for example, tungsten or molybdenum) is provided inside the ceramic plate 10. When a voltage is applied to the pair of internal electrodes 40 from a power source (not shown), an electrostatic attractive force is generated, and the wafer W causes the upper surface of the ceramic plate 10 (hereinafter referred to as an “attracting surface S1”) by the electrostatic attractive force. It is fixed by adsorption. The adsorption surface S1 of the ceramic plate 10 corresponds to the first surface in the claims.

また、セラミックス板10の内部には、導電性材料(例えば、タングステンやモリブデン等)により形成された抵抗発熱体で構成されたヒータ50が設けられている。ヒータ50に第1の電源V1および第2の電源V2(図4参照)から電圧が印加されると、ヒータ50が発熱することによってセラミックス板10が温められ、セラミックス板10の吸着面S1に保持されたウェハWが温められる。これにより、ウェハWの温度制御が実現される。なお、図3に示すように、ヒータ50は、セラミックス板10の吸着面S1をできるだけ満遍なく温めるため、Z軸方向視で略同心円状に配置されている。ヒータ50の詳細な構成については後述する。   In addition, a heater 50 made of a resistance heating element formed of a conductive material (for example, tungsten or molybdenum) is provided inside the ceramic plate 10. When a voltage is applied to the heater 50 from the first power supply V1 and the second power supply V2 (see FIG. 4), the ceramic plate 10 is warmed by the heat generated by the heater 50 and is held on the suction surface S1 of the ceramic plate 10. The wafer W is heated. Thereby, the temperature control of the wafer W is realized. As shown in FIG. 3, the heater 50 is arranged substantially concentrically in the Z-axis direction view in order to warm the adsorption surface S <b> 1 of the ceramic plate 10 as uniformly as possible. A detailed configuration of the heater 50 will be described later.

ベース板20は、例えばセラミックス板10と同径の、または、セラミックス板10より径が大きい円形平面の板状部材であり、金属(例えば、アルミニウムやアルミニウム合金等)により形成されている。ベース板20の直径は例えば220mm〜550mm程度(通常、220mm〜350mm)であり、ベース板20の厚さは例えば20mm〜40mm程度である。   The base plate 20 is a circular flat plate-like member having the same diameter as the ceramic plate 10 or a larger diameter than the ceramic plate 10 and is formed of metal (for example, aluminum or aluminum alloy). The diameter of the base plate 20 is, for example, about 220 mm to 550 mm (usually 220 mm to 350 mm), and the thickness of the base plate 20 is, for example, about 20 mm to 40 mm.

ベース板20の内部には冷媒流路21が形成されている。冷媒流路21に冷媒(例えば、フッ素系不活性液体や水等)が流されると、ベース板20が冷却され、接着層30を介したベース板20からセラミックス板10への伝熱によりセラミックス板10が冷却され、セラミックス板10の吸着面S1に保持されたウェハWが冷却される。これにより、ウェハWの温度制御が実現される。   A coolant channel 21 is formed inside the base plate 20. When a coolant (for example, a fluorine-based inert liquid or water) flows through the coolant channel 21, the base plate 20 is cooled, and the ceramic plate is transferred by heat transfer from the base plate 20 to the ceramic plate 10 via the adhesive layer 30. 10 is cooled, and the wafer W held on the suction surface S1 of the ceramic plate 10 is cooled. Thereby, the temperature control of the wafer W is realized.

接着層30は、例えばシリコーン系樹脂やアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等の接着剤を含んでおり、セラミックス板10とベース板20とを接着している。接着層30の厚さは例えば0.1mm〜1mm程度である。   The adhesive layer 30 includes, for example, an adhesive such as silicone resin, acrylic resin, or epoxy resin, and bonds the ceramic plate 10 and the base plate 20 together. The thickness of the adhesive layer 30 is, for example, about 0.1 mm to 1 mm.

A−2.ヒータ50の詳細構成:
図3に示すように、ヒータ50は、第1のヒータ線510と、第2のヒータ線520と、第3のヒータ線530とを含む。
A-2. Detailed configuration of the heater 50:
As shown in FIG. 3, the heater 50 includes a first heater wire 510, a second heater wire 520, and a third heater wire 530.

第1のヒータ線510は、Z方向視で、第1のヒータ線510に直交する仮想線Qによって仕切られる第1の領域R1と第2の領域R2との両方に跨がるように形成されている。第1のヒータ線510は、第1の大ヒータ線511と第1の小ヒータ線512とを含む。第1の大ヒータ線511と第1の小ヒータ線512とのそれぞれは、Z方向視で、Z方向に平行でセラミックス板10の中心位置を通る中心軸Oを中心とする略円環状の形状に形成されている。   The first heater line 510 is formed so as to straddle both the first region R1 and the second region R2 that are partitioned by a virtual line Q orthogonal to the first heater line 510 when viewed in the Z direction. ing. The first heater line 510 includes a first large heater line 511 and a first small heater line 512. Each of the first large heater wire 511 and the first small heater wire 512 has a substantially annular shape centering on a central axis O passing through the center position of the ceramic plate 10 parallel to the Z direction when viewed in the Z direction. Is formed.

具体的には、第1の大ヒータ線511は、上記中心軸Oを中心とする仮想円上に対向して配置されている一対の第1の端部511A,511Bを有し、一方の第1の端部511Aから該仮想円に沿って他方の第1の端部511Bまで延びている形状に形成されている。第1の小ヒータ線512は、上記中心軸Oを中心とし、第1の大ヒータ線511が形成された仮想円より径が小さい仮想円上に対向して配置されている一対の第1の端部512A,512Bを有し、一方の第1の端部512Aから該仮想円に沿って他方の第1の端部512Bまで延びている形状に形成されている。   Specifically, the first large heater wire 511 has a pair of first end portions 511A and 511B arranged opposite to each other on an imaginary circle having the center axis O as the center, It is formed in a shape extending from one end portion 511A to the other first end portion 511B along the virtual circle. The first small heater wire 512 is centered on the central axis O, and a pair of first heaters arranged opposite to each other on a virtual circle having a smaller diameter than the virtual circle on which the first large heater wire 511 is formed. It has end portions 512A and 512B, and is formed in a shape extending from one first end portion 512A to the other first end portion 512B along the virtual circle.

第2のヒータ線520は、Z方向視で、第1の領域R1に形成されており、第2の領域R2には形成されていない。第2のヒータ線520は、第2の大ヒータ線521と第2の小ヒータ線522とを含む。第2の大ヒータ線521と第2の小ヒータ線522とのそれぞれは、Z方向視で、上記中心軸Oを中心とする略半円形状に形成されている。   The second heater wire 520 is formed in the first region R1 as viewed in the Z direction, and is not formed in the second region R2. The second heater line 520 includes a second large heater line 521 and a second small heater line 522. Each of the second large heater line 521 and the second small heater line 522 is formed in a substantially semicircular shape centered on the central axis O as viewed in the Z direction.

具体的には、第2の大ヒータ線521は、上記中心軸Oを中心とし、第1の大ヒータ線511が形成された上記仮想円より径が小さく、第1の小ヒータ線512が形成された上記仮想円より径が大きい仮想円上であって、かつ、上記仮想線Q上に配置されている一対の第2の端部521A,521Bを有し、一方の第2の端部521Aから該仮想円に沿って他方の第2の端部521Bまで延びている形状に形成されている。第2の小ヒータ線522は、上記中心軸Oを中心とし、第1の小ヒータ線512が形成された上記仮想円より径が小さい仮想円上であって、かつ、上記仮想線Q上に配置されている一対の第2の端部522A,522Bを有し、一方の第2の端部522Aから該仮想円に沿って他方の第2の端部522Bまで延びている形状に形成されている。   Specifically, the second large heater wire 521 is centered on the central axis O and has a smaller diameter than the imaginary circle on which the first large heater wire 511 is formed, and the first small heater wire 512 is formed. A pair of second end portions 521A and 521B arranged on the virtual line Q and having a diameter larger than that of the virtual circle, and one second end portion 521A. To the other second end 521B along the virtual circle. The second small heater wire 522 is on a virtual circle centered on the central axis O and having a diameter smaller than the virtual circle on which the first small heater wire 512 is formed, and on the virtual line Q. It has a pair of second end portions 522A and 522B arranged, and is formed in a shape extending from one second end portion 522A to the other second end portion 522B along the virtual circle. Yes.

第3のヒータ線530は、Z方向視で、第1の領域R1には形成されておらず、第2の領域R2に形成されている。第3のヒータ線530は、第3の大ヒータ線531と第3の小ヒータ線532とを含む。第3の大ヒータ線531と第3の小ヒータ線532とのそれぞれは、Z方向視で、上記中心軸Oを中心とする略半円形状に形成されている。   The third heater wire 530 is not formed in the first region R1, but is formed in the second region R2, as viewed in the Z direction. The third heater line 530 includes a third large heater line 531 and a third small heater line 532. Each of the third large heater wire 531 and the third small heater wire 532 is formed in a substantially semicircular shape centering on the central axis O as viewed in the Z direction.

具体的には、第3の大ヒータ線531は、上述の第2の大ヒータ線521が形成された上記仮想円上であって、かつ、上記仮想線Q上に配置されている一対の第3の端部531A,531Bを有し、一方の第3の端部531Aから該仮想円に沿って他方の第3の端部531Bまで延びている形状に形成されている。すなわち、第2の大ヒータ線521の一方の第2の端部521Aと、第3の大ヒータ線531の一方の第3の端部531Aとは、セラミックス板10の同一箇所に配置されて電気的に接続されており、第2の大ヒータ線521の他方の第2の端部521Bと、第3の大ヒータ線531の他方の第3の端部531Bとは、セラミックス板10の同一箇所に配置されて電気的に接続されている。第3の小ヒータ線532は、上述の第2の小ヒータ線522が形成された上記仮想円上であって、かつ、上記仮想線Q上に配置されている一対の第3の端部532A,532Bを有し、一方の第3の端部532Aから該仮想円に沿って他方の第3の端部532Bまで延びている形状に形成されている。すなわち、第2の小ヒータ線522の一方の第2の端部522Aと、第3の小ヒータ線532の一方の第3の端部532Aとは、セラミックス板10の同一箇所に配置されて電気的に接続されている。また、第2の小ヒータ線522の他方の第2の端部522Bと、第3の小ヒータ線532の他方の第3の端部532Bとは、セラミックス板10の同一箇所に配置されて電気的に接続されている。   Specifically, the third large heater wire 531 is a pair of second heaters arranged on the virtual circle on which the second large heater wire 521 is formed and on the virtual line Q. It has three end portions 531A and 531B, and is formed in a shape extending from one third end portion 531A to the other third end portion 531B along the virtual circle. That is, one second end 521A of the second large heater wire 521 and one third end 531A of the third large heater wire 531 are arranged at the same place on the ceramic plate 10 and are electrically connected. The other second end 521B of the second large heater wire 521 and the other third end 531B of the third large heater wire 531 are at the same location on the ceramic plate 10 Arranged and electrically connected. The third small heater line 532 is a pair of third end portions 532A arranged on the virtual circle Q on which the second small heater line 522 is formed and on the virtual line Q. , 532B and extending from one third end 532A to the other third end 532B along the virtual circle. That is, one second end portion 522A of the second small heater wire 522 and one third end portion 532A of the third small heater wire 532 are disposed at the same location on the ceramic plate 10 and are electrically connected. Connected. Further, the other second end portion 522B of the second small heater wire 522 and the other third end portion 532B of the third small heater wire 532 are arranged at the same place on the ceramic plate 10 and are electrically connected. Connected.

図4は、第1の大ヒータ線511と第2の大ヒータ線521および第3の大ヒータ線531との配線関係を示す模式図である。図4では、紙面左右方向(X軸方向)が中心軸O周りの方向(以下、「周方向L」という)であり、第1の大ヒータ線511と第2の大ヒータ線521と第3の大ヒータ線531とが紙面左右方向に延びた直線形状として示されている。図4に示すように、第1の大ヒータ線511の第1の端部511Aと第1の端部511Bとは、セラミックス板10に設けられた一対の第1の電源入力端子T1A,T1B(図2では図示せず)のそれぞれに電気的に接続されており、これらの一対の第1の電源入力端子T1A,T1Bが、静電チャック100の外部に配置された第1の電源V1に電気的に接続される。なお、周方向Lは、特許請求の範囲における第2の方向に相当する。   FIG. 4 is a schematic diagram showing a wiring relationship between the first large heater wire 511, the second large heater wire 521, and the third large heater wire 531. In FIG. 4, the left-right direction (X-axis direction) of the drawing is the direction around the central axis O (hereinafter referred to as “circumferential direction L”), and the first large heater line 511, the second large heater line 521, and the third The large heater wire 531 is shown as a linear shape extending in the left-right direction on the paper surface. As shown in FIG. 4, the first end 511A and the first end 511B of the first large heater wire 511 are connected to a pair of first power input terminals T1A and T1B ( The pair of first power supply input terminals T1A and T1B are electrically connected to a first power supply V1 disposed outside the electrostatic chuck 100. Connected. The circumferential direction L corresponds to the second direction in the claims.

また、第2の大ヒータ線521の第2の端部521Aおよび第3の大ヒータ線531の第3の端部531Aは、一対の第2の電源入力端子T2A,T2Bの一方の第2の電源入力端子T2Aに電気的に接続されており、第2の大ヒータ線521の第2の端部521Bおよび第3の大ヒータ線531の第3の端部531Bは、他方の第2の電源入力端子T2Bに電気的に接続されている。これらの一対の第2の電源入力端子T2A,T2Bが、静電チャック100の外部に配置された第2の電源V2に電気的に接続される。すなわち、第1の大ヒータ線511は、第1の電源V1に対して電気的に直列に接続されており、第2の大ヒータ線521と第3の大ヒータ線531とは、第2の電源V2に対して電気的に並列に接続されている。なお、同様に、第1の小ヒータ線512は、第1の電源V1に対して直列に接続されており、第2の小ヒータ線522と第3の小ヒータ線532とは、第2の電源V2に対して並列に接続されている。   The second end 521A of the second large heater wire 521 and the third end 531A of the third large heater wire 531 are one second of the pair of second power input terminals T2A and T2B. The second end 521B of the second large heater line 521 and the third end 531B of the third large heater line 531 are electrically connected to the power input terminal T2A, and the other second power supply It is electrically connected to the input terminal T2B. The pair of second power supply input terminals T <b> 2 </ b> A and T <b> 2 </ b> B are electrically connected to a second power supply V <b> 2 disposed outside the electrostatic chuck 100. That is, the first large heater line 511 is electrically connected in series to the first power supply V1, and the second large heater line 521 and the third large heater line 531 are connected to the second large heater line 521. The power supply V2 is electrically connected in parallel. Similarly, the first small heater line 512 is connected in series to the first power source V1, and the second small heater line 522 and the third small heater line 532 are connected to the second small heater line 532. The power supply V2 is connected in parallel.

A−3.実施形態の効果:
例えば、本実施形態の静電チャック100の製造工程においてヒータ50を形成する際の形成圧力のバラツキ等により、第1の領域R1が第2の領域R2より大きい圧力を受け、その結果、第1の領域R1に位置するヒータ線の延長方向に直交する断面の面積(以下、「断面積」という)が、第2の領域R2に位置するヒータ線の断面積より小さくなったとする。ここで、仮に、図4の例において、第2の大ヒータ線521および第3の大ヒータ線531に代えて、第1の大ヒータ線511と同様、第1の領域R1と第2の領域R2との両方に跨がるように配置され、第1の電源V1に電気的に直列に接続されている1本の第4のヒータ線(図示せず)が配置された比較例では、次のようになる。第1の大ヒータ線511と第4のヒータ線とは、いずれも、第1の領域R1に位置する線部分の断面積が相対的に小さいことにより抵抗が大きいため、第1の領域R1に位置する線部分の発熱量が、第2の領域R2に位置する線部分の発熱量より大きくなる。その結果、セラミックス板10の吸着面S1の内、第1の領域R1に対応する面部分の温度が、第2の領域R2に対応する面部分の温度より高くなり、セラミックス板10の吸着面S1の温度分布が不均一になり易くなる。
A-3. Effects of the embodiment:
For example, the first region R1 receives a pressure greater than the second region R2 due to variations in the formation pressure when forming the heater 50 in the manufacturing process of the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, and as a result, the first region R1 It is assumed that the cross-sectional area perpendicular to the extending direction of the heater wire located in the region R1 (hereinafter referred to as “cross-sectional area”) is smaller than the cross-sectional area of the heater wire located in the second region R2. Here, in the example of FIG. 4, instead of the second large heater line 521 and the third large heater line 531, the first region R <b> 1 and the second region are similar to the first large heater line 511. In the comparative example in which one fourth heater wire (not shown) arranged so as to straddle both of R2 and electrically connected in series to the first power supply V1 is arranged, become that way. Since both the first large heater line 511 and the fourth heater line have a large resistance due to the relatively small cross-sectional area of the line portion located in the first region R1, the first large heater wire 511 and the fourth heater wire The calorific value of the line part located is larger than the calorific value of the line part located in the second region R2. As a result, the temperature of the surface portion corresponding to the first region R1 in the adsorption surface S1 of the ceramic plate 10 becomes higher than the temperature of the surface portion corresponding to the second region R2, and the adsorption surface S1 of the ceramic plate 10 The temperature distribution tends to be non-uniform.

これに対して、本実施形態の静電チャック100では、第1のヒータ線510は、上述したように、第1の領域R1に位置する線部分の発熱量が、第2の領域R2に位置する線部分の発熱量より大きくなる。一方、第2のヒータ線520は、第1の領域R1に配置され、第2の領域R2には配置されておらず、第3のヒータ線530は、第1の領域R1に配置されておらず、第2の領域R2に配置されており、第2のヒータ線520と第3のヒータ線530とは、電気的に並列に接続されている。このため、第1の領域R1に位置する第2のヒータ線520の抵抗が第2の領域R2に位置する第3のヒータ線530の抵抗より大きくなるため、第2のヒータ線520の発熱量が第3のヒータ線530の発熱量より小さくなる。すなわち、第1の領域R1では、第1のヒータ線510の第1の領域R1に位置する線部分の発熱量が、第2の領域R2に位置する線部分の発熱量より大きくなるが、第2のヒータ線520の発熱量が第3のヒータ線530の発熱量より小さくなる。一方、第2の領域R2では、第1のヒータ線510の第2の領域R2に位置する線部分の発熱量が、第1の領域R1に位置する線部分の発熱量より小さくなるが、第3のヒータ線530の発熱量が第2のヒータ線520の発熱量より多くなる。従って、比較例に比べて、セラミックス板10の吸着面S1の温度分布の均一性の低下を抑制することができる。   On the other hand, in the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, as described above, the first heater wire 510 has a heat generation amount of the line portion located in the first region R1 in the second region R2. It becomes larger than the calorific value of the line part. On the other hand, the second heater wire 520 is disposed in the first region R1, is not disposed in the second region R2, and the third heater wire 530 is not disposed in the first region R1. Instead, the second heater wire 520 and the third heater wire 530 are electrically connected in parallel. For this reason, since the resistance of the second heater wire 520 located in the first region R1 is larger than the resistance of the third heater wire 530 located in the second region R2, the amount of heat generated by the second heater wire 520. Becomes smaller than the amount of heat generated by the third heater wire 530. That is, in the first region R1, the heat value of the line portion located in the first region R1 of the first heater wire 510 is larger than the heat value of the line portion located in the second region R2, The heat value of the second heater wire 520 is smaller than the heat value of the third heater wire 530. On the other hand, in the second region R2, the heat value of the line portion located in the second region R2 of the first heater wire 510 is smaller than the heat value of the line portion located in the first region R1, The amount of heat generated by the third heater wire 530 is greater than the amount of heat generated by the second heater wire 520. Therefore, compared to the comparative example, it is possible to suppress a decrease in the uniformity of the temperature distribution of the adsorption surface S1 of the ceramic plate 10.

また、本実施形態では、上述したように、第2のヒータ線520は、第1の領域R1に配置され、第2の領域R2には配置されておらず、第3のヒータ線530は、第1の領域R1に配置されておらず、第2の領域R2に配置されている。このため、第2のヒータ線520の一部が第2の領域R2まで延びていたり、第3のヒータ線530の一部が第1の領域R1まで延びていたりする場合に比べて、第2のヒータ線520と第3のヒータ線530とが近接配置されることによってセラミックス板10の特定箇所が高温になることを抑制することができる。   In the present embodiment, as described above, the second heater wire 520 is disposed in the first region R1 and is not disposed in the second region R2, and the third heater wire 530 is It is not disposed in the first region R1, but is disposed in the second region R2. For this reason, the second heater wire 520 partially extends to the second region R2 or the third heater wire 530 partially extends to the first region R1 as compared to the second region R2. When the heater wire 520 and the third heater wire 530 are arranged close to each other, it is possible to prevent the specific portion of the ceramic plate 10 from becoming high temperature.

さらに、本実施形態では、第1のヒータ線510は、中心軸O周りの方向Lに沿って延びる環状形状を構成し、第2のヒータ線520と第3のヒータ線530との組み合わせは、第1のヒータ線510とは径が異なる環状形状を構成している。これにより、ヒータ50のヒータ線が環状形状でない場合に比べて、セラミックス板10の吸着面S1の温度分布の均一性を向上させることができる。   Furthermore, in the present embodiment, the first heater wire 510 forms an annular shape extending along the direction L around the central axis O, and the combination of the second heater wire 520 and the third heater wire 530 is: The first heater wire 510 has an annular shape having a different diameter. Thereby, compared with the case where the heater wire of the heater 50 is not annular shape, the uniformity of the temperature distribution of the adsorption surface S1 of the ceramic plate 10 can be improved.

また、第1のヒータ線510と、第2のヒータ線520および第3のヒータ線530とは、セラミックス板10の径方向に交互に配置されている(図3参照)。これにより、セラミックス板10の吸着面S1の広い範囲に亘って温度分布の均一性を向上させることができる。   Moreover, the 1st heater wire 510, the 2nd heater wire 520, and the 3rd heater wire 530 are alternately arrange | positioned in the radial direction of the ceramic board 10 (refer FIG. 3). Thereby, the uniformity of temperature distribution can be improved over the wide range of adsorption surface S1 of the ceramic board 10. FIG.

B.第2実施形態:
図5は、第2実施形態における静電チャック100aのXY断面構成を示す説明図である。以下では、第2実施形態における静電チャック100aの構成の内、上述した第1実施形態における静電チャック100の構成と同一の構成については、同一の符号を付すことによってその説明を適宜省略する。
B. Second embodiment:
FIG. 5 is an explanatory diagram showing an XY cross-sectional configuration of the electrostatic chuck 100a according to the second embodiment. Hereinafter, among the configurations of the electrostatic chuck 100a in the second embodiment, the same configurations as the configurations of the electrostatic chuck 100 in the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate. .

本実施形態のヒータ50aは、上記第1実施形態の第2のヒータ線520および第3のヒータ線530の代わりに、第2のヒータ線620および第3のヒータ線630を含む。第2のヒータ線620は、上記第1実施形態の第2のヒータ線520と略同一の位置に配置されている。第2のヒータ線620は、第2の大ヒータ線621と第2の小ヒータ線622とを含む。第2の大ヒータ線621は、中心軸Oに対して、第1の端部511A等と同じ側に配置された一対の第2の端部621A,621Bを有し、一方の第2の端部621Aから周方向Lの一方側(図5の時計回り方向)に延びつつ他方側(図5の反時計回り方向)に折り返して他方の第2の端部621Bに繋がる形状を構成している。具体的には、第2の大ヒータ線621は、一対の第2の端部621A,621Bと、該一対の第2の端部621A,621Bのそれぞれから、中心軸Oを中心として円弧状に延びて仮想線Q付近に至る一対の円弧部分と、該一対の円弧部分の先端側を繋ぐ繋ぎ部分とを含む。   The heater 50a of this embodiment includes a second heater wire 620 and a third heater wire 630 instead of the second heater wire 520 and the third heater wire 530 of the first embodiment. The second heater wire 620 is disposed at substantially the same position as the second heater wire 520 of the first embodiment. The second heater line 620 includes a second large heater line 621 and a second small heater line 622. The second large heater wire 621 has a pair of second ends 621A and 621B disposed on the same side as the first end 511A with respect to the central axis O, and one second end. While extending from the portion 621A to one side in the circumferential direction L (clockwise direction in FIG. 5), it is folded back to the other side (counterclockwise direction in FIG. 5) and connected to the other second end portion 621B. . Specifically, the second large heater wire 621 is formed in an arc shape centering on the central axis O from each of the pair of second end portions 621A and 621B and the pair of second end portions 621A and 621B. A pair of arc portions extending to the vicinity of the imaginary line Q and a connecting portion connecting the tip ends of the pair of arc portions are included.

第2の小ヒータ線622は、中心軸Oに対して、第1の端部511A等と同じ側に配置された一対の第2の端部622A,622Bを有し、一方の第2の端部622Aから周方向Lの一方側(図5の時計回り方向)に延びつつ他方側(図5の反時計回り方向)に折り返して他方の第2の端部622Bに繋がる形状を構成している。具体的には、第2の小ヒータ線622は、一対の第2の端部622A,622Bと、該一対の第2の端部622A,622Bのそれぞれから、中心軸Oを中心として円弧状に延びて仮想線Q付近に至る一対の円弧部分と、該一対の円弧部分の先端側を繋ぐ繋ぎ部分とを含む。   The second small heater wire 622 has a pair of second end portions 622A and 622B disposed on the same side as the first end portion 511A with respect to the central axis O, and one second end. It extends from the portion 622A to one side in the circumferential direction L (clockwise direction in FIG. 5) and is folded back to the other side (counterclockwise direction in FIG. 5) to connect to the other second end portion 622B. . Specifically, the second small heater wire 622 is formed in an arc shape from the pair of second ends 622A and 622B and the pair of second ends 622A and 622B with the central axis O as the center. A pair of arc portions extending to the vicinity of the imaginary line Q and a connecting portion connecting the tip ends of the pair of arc portions are included.

第3のヒータ線630は、上記第1実施形態の第3のヒータ線530と略同一の位置に配置されている。第3のヒータ線630は、第3の大ヒータ線631と第3の小ヒータ線632とを含む。第3の大ヒータ線631は、中心軸Oに対して、第1の端部511A等と同じ側(Y軸負方向側)に配置された一対の第3の端部631A,631Bを有し、一方の第3の端部631Aから周方向Lの他方側(図5の反時計回り方向)に延びつつ一方側(図5の時計回り方向)に折り返して他方の第3の端部631Bに繋がる形状を構成している。具体的には、第3の大ヒータ線631は、一対の第3の端部631A,631Bと、該一対の第3の端部631A,631Bのそれぞれから、中心軸Oを中心として円弧状に延びて仮想線Q付近に至る一対の円弧部分と、該一対の円弧部分の先端側を繋ぐ繋ぎ部分とを含む。   The third heater wire 630 is disposed at substantially the same position as the third heater wire 530 of the first embodiment. The third heater line 630 includes a third large heater line 631 and a third small heater line 632. The third large heater wire 631 has a pair of third ends 631A and 631B arranged on the same side (Y-axis negative direction side) as the first end 511A and the like with respect to the central axis O. , Extending from one third end portion 631A to the other side in the circumferential direction L (counterclockwise direction in FIG. 5) and turning back to one side (clockwise direction in FIG. 5) to the other third end portion 631B It forms a connected shape. Specifically, the third large heater wire 631 is formed in an arc shape from the pair of third end portions 631A and 631B and the pair of third end portions 631A and 631B around the central axis O. A pair of arc portions extending to the vicinity of the imaginary line Q and a connecting portion connecting the tip ends of the pair of arc portions are included.

第3の小ヒータ線632は、中心軸Oに対して、第1の端部511A等と同じ側に配置された一対の第3の端部632A,632Bを有し、一方の第3の端部632Aから周方向Lの他方側(図5の反時計回り方向)に延びつつ一方側(図5の時計回り方向)に折り返して他方の第3の端部632Bに繋がる形状を構成している。具体的には、第3の小ヒータ線632は、一対の第3の端部632A,632Bと、該一対の第3の端部632A,632Bのそれぞれから、中心軸Oを中心として円弧状に延びて仮想線Q付近に至る一対の円弧部分と、該一対の円弧部分の先端側を繋ぐ繋ぎ部分とを含む。   The third small heater wire 632 has a pair of third ends 632A and 632B disposed on the same side as the first end 511A and the like with respect to the central axis O, and has one third end. While extending from the portion 632A to the other side in the circumferential direction L (counterclockwise direction in FIG. 5), it is folded back to one side (clockwise direction in FIG. 5) and connected to the other third end portion 632B. . Specifically, the third small heater wire 632 has a pair of third end portions 632A and 632B and a pair of third end portions 632A and 632B in an arc shape around the central axis O. A pair of arc portions extending to the vicinity of the imaginary line Q and a connecting portion connecting the tip ends of the pair of arc portions are included.

本実施形態によれば、第2のヒータ線620と第3のヒータ線630とのそれぞれが折り返し形状に形成されているため、第1の端部512A,512Bと第2の端部621A,621Bと第3の端部631A、631Bとを近くに配置することができるため、ヒータ50a全体の配線構造を簡略化することができる。   According to this embodiment, since each of the second heater wire 620 and the third heater wire 630 is formed in a folded shape, the first end portions 512A and 512B and the second end portions 621A and 621B. And the third end portions 631A and 631B can be arranged close to each other, so that the wiring structure of the entire heater 50a can be simplified.

C.第3実施形態:
図6は、第3実施形態における静電チャック100bのXY断面構成を示す説明図である。以下では、第3実施形態における静電チャック100bの構成の内、上述した第2実施形態における静電チャック100aの構成と同一の構成については、同一の符号を付すことによってその説明を適宜省略する。
C. Third embodiment:
FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating an XY cross-sectional configuration of the electrostatic chuck 100b according to the third embodiment. Hereinafter, among the configurations of the electrostatic chuck 100b in the third embodiment, the same configurations as the configurations of the electrostatic chuck 100a in the second embodiment described above are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate. .

本実施形態のヒータ50bは、上記第2実施形態における第1のヒータ線510の代わりに、第1のヒータ線710を含む。第1のヒータ線710は、第2のヒータ線620および第3のヒータ線630の内周側と外周側との両側を囲むように一方の第1の端部710Aから延びて他方の第1の端部710Bに繋がる形状を構成している。具体的には、第1のヒータ線710は、中心軸O付近に位置する第1の端部710Aから、第2の小ヒータ線622と第3の小ヒータ線632との間を通過するように延びる直線部分と、その直線部分の先端から、第2の小ヒータ線622および第3の小ヒータ線632の外周を囲むように円形状に延びる円形部分とを含む。さらに、第1のヒータ線710は、円形部分の先端から第2の大ヒータ線621と第3の大ヒータ線631との間を通過するように延びる直線部分と、その直線部分の先端から、第2の大ヒータ線621および第3の大ヒータ線631の外周を囲むように円形状に延びて第1の端部710Bに繋がる円形部分とを含む。   The heater 50b of the present embodiment includes a first heater wire 710 instead of the first heater wire 510 in the second embodiment. The first heater wire 710 extends from one first end portion 710A so as to surround both the inner peripheral side and the outer peripheral side of the second heater wire 620 and the third heater wire 630, and the other first The shape connected with the edge part 710B of this is comprised. Specifically, the first heater wire 710 passes between the second small heater wire 622 and the third small heater wire 632 from the first end 710A located in the vicinity of the central axis O. And a circular portion extending in a circular shape so as to surround the outer periphery of the second small heater wire 622 and the third small heater wire 632 from the tip of the straight portion. Furthermore, the first heater wire 710 includes a linear portion extending so as to pass between the second large heater wire 621 and the third large heater wire 631 from the tip of the circular portion, and from the tip of the straight portion. A circular portion extending in a circular shape so as to surround the outer periphery of the second large heater wire 621 and the third large heater wire 631 and connected to the first end portion 710B.

本実施形態によれば、第1のヒータ線710は、第2のヒータ線620および第3のヒータ線630の内周側と外周側との両側を囲むように一方の第1の端部710Aから延びて他方の第1の端部710Bに繋がる形状を構成している。このため、第1のヒータ線710の端部の数が2つである。これにより、上記第1実施形態および第2実施形態に比べて、第1のヒータ線710の端部の数が少ない分だけ、ヒータ50b全体の配線構造を簡略化することができる。   According to the present embodiment, the first heater wire 710 has one first end portion 710 </ b> A that surrounds both the inner and outer peripheral sides of the second and third heater wires 620 and 630. The shape which extends from this and is connected with the other 1st edge part 710B is comprised. For this reason, the number of ends of the first heater wire 710 is two. Thereby, compared with the said 1st Embodiment and 2nd Embodiment, the wiring structure of the heater 50b whole can be simplified by the part in which the number of the edge parts of the 1st heater wire 710 is small.

D.変形例:
本明細書で開示される技術は、上述の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の形態に変形することができ、例えば次のような変形も可能である。
D. Variations:
The technology disclosed in the present specification is not limited to the above-described embodiment, and can be modified into various forms without departing from the gist thereof. For example, the following modifications are possible.

上記実施形態では、第2のヒータ線520と第3のヒータ線530とは、セラミックス板10の同一層上で電気的に接続されているとした(図3等参照)が、これに限定されず、第2のヒータ線520と第3のヒータ線530とは、これらが形成された層上では物理的に離れた位置に配置されているが、第2のヒータ線520と第3のヒータ線530との端部同士がビア(図示せず)等を介して別の層で電気的に接続されているとしてもよい。   In the above-described embodiment, the second heater wire 520 and the third heater wire 530 are electrically connected on the same layer of the ceramic plate 10 (see FIG. 3 and the like), but are not limited thereto. First, the second heater wire 520 and the third heater wire 530 are arranged at positions physically separated on the layer where the second heater wire 520 and the third heater wire 530 are formed. The ends of the line 530 may be electrically connected to another layer through vias (not shown) or the like.

上記実施形態では、第1のヒータ線510と第2のヒータ線520と第3のヒータ線530とは、セラミックス板10の同一層上に配置されているとしたが、これに限定されず、第1のヒータ線510と第2のヒータ線520と第3のヒータ線530との内の少なくとも1つのヒータ線、または、少なくともヒータ線の一部分が別の層に配置されているとしてもよい。   In the above embodiment, the first heater wire 510, the second heater wire 520, and the third heater wire 530 are arranged on the same layer of the ceramic plate 10. However, the present invention is not limited to this. At least one of the first heater line 510, the second heater line 520, and the third heater line 530, or at least a part of the heater line may be disposed in another layer.

上記実施形態において、第1の電源V1と第2の電源V2とは共通の電源であるとしてもよい。また、第1のヒータ線510の両端が、第2のヒータ線520および第3のヒータ線530の両端部のそれぞれに電気的に接続されているとしてもよい。具体的には、図4の例では、第1の大ヒータ線511の第1の端部511Aと、第2の大ヒータ線521の第2の端部521A(第3の大ヒータ線531の第3の端部531A)とが電気的に接続され、第1の大ヒータ線511の第1の端部511Bと、第2の大ヒータ線521の第2の端部521B(第3の大ヒータ線531の第3の端部531B)とが電気的に接続されているとしてもよい。   In the above embodiment, the first power supply V1 and the second power supply V2 may be a common power supply. Further, both ends of the first heater wire 510 may be electrically connected to both ends of the second heater wire 520 and the third heater wire 530, respectively. Specifically, in the example of FIG. 4, the first end 511A of the first large heater wire 511 and the second end 521A of the second large heater wire 521 (of the third large heater wire 531). The third end portion 531A) is electrically connected, and the first end portion 511B of the first large heater wire 511 and the second end portion 521B (third large portion of the second large heater wire 521). The third end portion 531B) of the heater wire 531 may be electrically connected.

上記各実施形態において、第2のヒータ線520の一部が第2の領域R2まで延びていたり、第3のヒータ線530の一部が第1の領域R1まで延びていたりしてもよい。要するに、Z方向視で、第1のヒータ線510の一の線部分(第1の領域R1に位置する部分)に対し、第2のヒータ線520の少なくとも一部が、第3のヒータ線530より近くに配置されており、第1のヒータ線510の別の線部分(第2の領域R2に位置する部分)に対し、第3のヒータ線530の少なくとも一部が、第2のヒータ線520より近くに配置されていれば、ヒータ線の断面積のバラツキに起因してセラミックス板10の吸着面S1の温度分布の均一性が低下することを抑制することができる。   In each of the above embodiments, a part of the second heater wire 520 may extend to the second region R2, or a part of the third heater wire 530 may extend to the first region R1. In short, as viewed in the Z direction, at least a portion of the second heater line 520 corresponds to the third heater line 530 with respect to one line portion of the first heater line 510 (the portion located in the first region R1). The third heater wire 530 is arranged closer to another line portion (the portion located in the second region R2) of the first heater wire 510, and at least a part of the third heater wire 530 is the second heater wire. If it is arranged closer to 520, it is possible to prevent the uniformity of the temperature distribution on the adsorption surface S1 of the ceramic plate 10 from being reduced due to the variation in the cross-sectional area of the heater wire.

また、セラミックス板10の全体に限らず、一部分について、第1のヒータ線510の一の線部分に対し、第2のヒータ線520の少なくとも一部が、第3のヒータ線530より近くに配置されており、第1のヒータ線510の別の線部分に対し、第3のヒータ線530の少なくとも一部が、第2のヒータ線520より近くに配置されているという配置条件が満たされればよい。これにより、当該一部分について、ヒータ線の断面積のバラツキに起因してセラミックス板10の吸着面S1の温度分布の均一性が低下することを抑制することができる。   In addition to the entire ceramic plate 10, at least a part of the second heater wire 520 is located closer to the third heater wire 530 than a portion of the first heater wire 510 with respect to a part of the ceramic plate 10. If the arrangement condition that at least a part of the third heater line 530 is arranged closer to the second heater line 520 than another line portion of the first heater line 510 is satisfied. Good. Thereby, about the said part, it can suppress that the uniformity of the temperature distribution of adsorption | suction surface S1 of the ceramic board 10 resulting from the variation in the cross-sectional area of a heater wire falls.

上記各実施形態において、ヒータ50,50a,50bの形状は、環状形状や円弧形状に限定されず、直線形状や螺旋形状等でもよい。   In each said embodiment, the shape of heater 50, 50a, 50b is not limited to cyclic | annular shape or circular arc shape, A linear shape, a helical shape, etc. may be sufficient.

また、上記実施形態における各部材を形成する材料は、あくまで例示であり、各部材が他の材料により形成されてもよい。また、上記実施形態では、ヒータ50がセラミックス板10の内部に配置されるとしているが、ヒータ50が、セラミックス板10の内部ではなく、セラミックス板10のベース板20側(セラミックス板10と接着層30との間)に配置されるとしてもよい。この場合には、接着層30は、セラミックス板10とヒータ50との少なくとも一方と、ベース板20とを接着することになる。   Moreover, the material which forms each member in the said embodiment is an illustration to the last, and each member may be formed with another material. Moreover, in the said embodiment, although the heater 50 is arrange | positioned inside the ceramic board 10, the heater 50 is not the inside of the ceramic board 10, but the base board 20 side (ceramic board 10 and adhesive layer of the ceramic board 10). 30). In this case, the adhesive layer 30 adheres at least one of the ceramic plate 10 and the heater 50 to the base plate 20.

また、上記実施形態では、冷媒流路21がベース板20の内部に形成されるとしているが、冷媒流路21が、ベース板20の内部ではなく、ベース板20の表面(例えばベース板20と接着層30との間)に形成されるとしてもよい。また、上記実施形態では、セラミックス板10の内部に一対の内部電極40が設けられた双極方式が採用されているが、セラミックス板10の内部に1つの内部電極40が設けられた単極方式が採用されてもよい。   In the above embodiment, the refrigerant flow path 21 is formed inside the base plate 20, but the refrigerant flow path 21 is not inside the base plate 20 but on the surface of the base plate 20 (for example, the base plate 20 and It may be formed between the adhesive layer 30). Moreover, in the said embodiment, although the bipolar system with which a pair of internal electrode 40 was provided in the inside of the ceramic board 10 was employ | adopted, the monopolar system in which the one internal electrode 40 was provided in the inside of the ceramic board 10 is used. It may be adopted.

本発明は、静電引力を利用してウェハWを保持する静電チャック100に限らず、セラミックス板とベース板とを備え、セラミックス板の表面上に対象物を保持する他の保持装置(例えば、真空チャック等)にも適用可能であり、さらに、ベース板や接着層を有さず、セラミックス板の表面上に対象物を保持する保持装置(シャフト付きヒータ)にも適用可能である。さらに、保持装置は、例えば、金属箔(銅箔やステンレス箔)のヒータ線をポリイミド樹脂層で挟んで構成されるポリイミドヒータが含まれる。例えば、金属箔のエッチング処理によりヒータ線を形成する際のエッチング幅のバラツキ等により、ヒータ線の断面積が不均一になることがある。このようなポリイミドヒータにも本発明を適用可能である。この場合、ポリイミドヒータ自体が、特許請求の範囲における絶縁板に相当する。なお、本明細書において、「絶縁板の第1の表面側で対象物を保持する」には、絶縁板の第1の表面に対象物を直接保持するものに限定されず、絶縁板の第1の表面側で他の部材を介して対象物を保持するものでもよい。例えば、ポリイミドヒータの第1の表面に別途配置されたセラミックス板のポリイミドヒータとは反対側の表面に対象物を保持するものでもよい。   The present invention is not limited to the electrostatic chuck 100 that holds the wafer W using electrostatic attraction, but includes other ceramic holding plates (for example, a ceramic plate and a base plate) that hold an object on the surface of the ceramic plate (for example, It can also be applied to a holding device (heater with shaft) that does not have a base plate or an adhesive layer and holds an object on the surface of a ceramic plate. Furthermore, the holding device includes, for example, a polyimide heater configured by sandwiching a heater wire of metal foil (copper foil or stainless steel foil) between polyimide resin layers. For example, the heater wire may have a non-uniform cross-sectional area due to variations in the etching width when the heater wire is formed by etching the metal foil. The present invention can also be applied to such a polyimide heater. In this case, the polyimide heater itself corresponds to the insulating plate in the claims. In the present specification, “holding the object on the first surface side of the insulating plate” is not limited to holding the object directly on the first surface of the insulating plate. The object may be held on the surface side of 1 via another member. For example, the object may be held on the surface opposite to the polyimide heater of the ceramic plate separately disposed on the first surface of the polyimide heater.

10:セラミックス板 20:ベース板 21:冷媒流路 30:接着層 40:内部電極 50,50a,50b:ヒータ 100,100a,100b:静電チャック 510,710:第1のヒータ線 511:第1の大ヒータ線 511A,511B,512A,512B,710A,710B:第1の端部 512:第1の小ヒータ線 520,620:第2のヒータ線 521,621:第2の大ヒータ線 521A,521B,621A,621B,522A,522B,622A,622B:第2の端部 522,622:第2の小ヒータ線 530,630:第3のヒータ線 531,631:第3の大ヒータ線 531A,531B,532A,532B,631A、631B,632A,632B:第3の端部 532,632:第3の小ヒータ線 L:周方向 O:中心軸 Q:仮想線 R1:第1の領域 R2:第2の領域 S1:吸着面 S2:セラミックス側接着面 S3:ベース側接着面 T1A,T1B,T2A,T2B:電源入力端子 V1:第1の電源 V2:第2の電源 W:ウェハ   10: Ceramic plate 20: Base plate 21: Refrigerant flow path 30: Adhesive layer 40: Internal electrode 50, 50a, 50b: Heater 100, 100a, 100b: Electrostatic chuck 510, 710: First heater wire 511: First Large heater wire 511A, 511B, 512A, 512B, 710A, 710B: first end 512: first small heater wire 520, 620: second heater wire 521, 621: second large heater wire 521A, 521B, 621A, 621B, 522A, 522B, 622A, 622B: second end 522, 622: second small heater wire 530, 630: third heater wire 531, 631: third large heater wire 531A, 531B, 532A, 532B, 631A, 631B, 632A, 632B: Third end portion 532, 632: 3 small heater wires L: circumferential direction O: central axis Q: virtual line R1: first region R2: second region S1: adsorption surface S2: ceramic side adhesive surface S3: base side adhesive surface T1A, T1B, T2A , T2B: power input terminal V1: first power supply V2: second power supply W: wafer

Claims (6)

第1の表面と、前記第1の表面とは反対側の第2の表面と、を有する板状の絶縁板と、
前記絶縁板の内部、または、前記絶縁板の前記第2の表面側に配置されたヒータと、
を備え、前記絶縁板の前記第1の表面側で対象物を保持する保持装置において、
前記ヒータは、
一対の第1の端部を有し、前記一対の第1の端部の一方から他方まで延びている第1のヒータ線と、
一対の第2の端部を有し、前記一対の第2の端部の一方から他方まで延びている第2のヒータ線と、
一対の第3の端部を有し、前記一対の第3の端部の一方から他方まで延びており、かつ、前記一対の第3の端部の一方が前記一対の第2の端部の一方に電気的に接続され、前記一対の第3の端部の他方が前記一対の第2の端部の他方に電気的に接続されている第3のヒータ線と、を含み、
前記絶縁板の前記第1の表面に直交する第1の方向視で、
前記第1のヒータ線の一の線部分に対し、前記第2のヒータ線の少なくとも一部が、前記第3のヒータ線より近くに配置されており、
前記第1のヒータ線が延びる第2の方向における位置が前記一の線部分とは異なる前記第1のヒータ線の別の線部分に対し、前記第3のヒータ線の少なくとも一部が、前記第2のヒータ線より近くに配置されていることを特徴とする、保持装置。
A plate-like insulating plate having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
A heater disposed inside the insulating plate or on the second surface side of the insulating plate;
A holding device for holding an object on the first surface side of the insulating plate,
The heater is
A first heater wire having a pair of first ends and extending from one of the pair of first ends to the other;
A second heater wire having a pair of second ends and extending from one of the pair of second ends to the other;
A pair of third ends, extending from one of the pair of third ends to the other, and one of the pair of third ends being a portion of the pair of second ends A third heater wire electrically connected to one side, and the other of the pair of third ends being electrically connected to the other of the pair of second ends,
In a first direction perpendicular to the first surface of the insulating plate,
At least a part of the second heater line is disposed closer to the third heater line than one line portion of the first heater line;
At least a part of the third heater line is different from the first line in the second direction in which the first heater line extends in a second direction different from the first line. The holding device is disposed closer to the second heater wire.
請求項1に記載の保持装置において、
前記第1の方向視で、前記絶縁板において前記第1のヒータ線に直交する仮想線によって仕切られる2つの領域の内、一方の領域には、前記第2のヒータ線が配置され、前記第3のヒータ線が配置されておらず、他方の領域には、前記第2のヒータ線が配置されておらず、前記第3のヒータ線が配置されていることを特徴とする、保持装置。
The holding device according to claim 1, wherein
As viewed in the first direction, the second heater wire is disposed in one of two regions of the insulating plate that are partitioned by a virtual line orthogonal to the first heater wire, No. 3 heater wire is not disposed, and the second heater wire is not disposed in the other region, and the third heater wire is disposed.
請求項1または請求項2に記載の保持装置において、
前記第2の方向は、前記絶縁板の中心周りの方向であり、
前記第1の方向視で、
前記第1のヒータ線は、前記第2の方向に沿って延びる環状形状を構成し、
前記第2のヒータ線と前記第3のヒータ線との組み合わせは、前記第1のヒータ線とは径が異なる環状形状の少なくとも一部を構成していることを特徴とする、保持装置。
The holding device according to claim 1 or 2,
The second direction is a direction around the center of the insulating plate;
In the first direction view,
The first heater wire constitutes an annular shape extending along the second direction,
The holding device, wherein the combination of the second heater wire and the third heater wire constitutes at least a part of an annular shape having a diameter different from that of the first heater wire.
請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の保持装置において、
前記第1の方向視で、
前記第2のヒータ線は、前記一対の第2の端部の一方から前記第2の方向の一方側に延びつつ他方側に折り返して前記一対の第2の端部の他方に繋がる形状を構成し、
前記第3のヒータ線は、前記一対の第3の端部の一方から前記第2の方向の他方側に延びつつ一方側に折り返して前記一対の第3の端部の他方に繋がる形状を構成していることを特徴とする、保持装置。
In the holding device according to any one of claims 1 to 3,
In the first direction view,
The second heater wire extends from one of the pair of second ends to one side in the second direction and is folded back to the other side to be connected to the other of the pair of second ends. And
The third heater wire has a shape that extends from one of the pair of third ends to the other side in the second direction and is folded back to one side to be connected to the other of the pair of third ends. A holding device.
請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の保持装置において、
前記第1の方向視で、
前記第1のヒータ線は、環状形状を構成する前記第2のヒータ線および前記第3のヒータ線の内周側と外周側との両側を囲むように前記一対の第1の端部の一方から延びて前記一対の第1の端部の他方に繋がる形状を構成していることを特徴とする、保持装置。
In the holding device according to any one of claims 1 to 4,
In the first direction view,
The first heater wire is one of the pair of first ends so as to surround both the inner and outer sides of the second heater wire and the third heater wire forming an annular shape. A holding device, characterized in that it has a shape extending from the other end of the pair of first ends.
請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の保持装置において、
前記第1の方向視で、前記第1のヒータ線と、前記第2のヒータ線および前記第3のヒータ線とは、環状形状を構成する前記第2のヒータ線および前記第3のヒータ線の内周側から外周側に向かう方向に交互に配置されていることを特徴とする、保持装置。
In the holding device according to any one of claims 1 to 5,
As viewed in the first direction, the first heater wire, the second heater wire, and the third heater wire form an annular shape of the second heater wire and the third heater wire. The holding device is alternately arranged in a direction from the inner periphery side to the outer periphery side.
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