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JP2017037948A - Light emitting device and projector - Google Patents

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JP2017037948A
JP2017037948A JP2015157982A JP2015157982A JP2017037948A JP 2017037948 A JP2017037948 A JP 2017037948A JP 2015157982 A JP2015157982 A JP 2015157982A JP 2015157982 A JP2015157982 A JP 2015157982A JP 2017037948 A JP2017037948 A JP 2017037948A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
light emitting
emitting device
optical waveguide
cladding layer
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2015157982A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
大毅 西岡
Hirotake Nishioka
大毅 西岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2015157982A priority Critical patent/JP2017037948A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light emitting device capable of high heat radiation performance.SOLUTION: A light emitting device includes an active layer, a first cladding layer and a second cladding layer. The second cladding layer has a ridge portion between a first groove portion and a second groove portion provided in the second cladding layer. The active layer constitutes an optical waveguide for guiding light in a region overlapping with the ridge portion when viewed from a lamination direction. The optical waveguide has a first light emitting surface and a second light emitting surface for emitting light. The first groove portion and the second groove portion extend along the optical waveguide when viewed from the lamination direction. The width of the first groove portion and the width of the second groove portion are the widest at the center position where the distances to the first light emitting surface and the second light emitting surface are equal to each other when viewed in the lamination direction, and a heat radiating portion for radiating heat evolved in the optical waveguide is provided in the first groove portion and the second groove portion, and the material of the heat radiating portion is higher in thermal conductivity than the material of the second cladding layer.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、発光装置およびプロジェクターに関する。   The present invention relates to a light emitting device and a projector.

半導体レーザーやスーパールミネッセントダイオード(Super Luminescent Diode、以下「SLD」ともいう)などの半導体発光装置は、例えば、プロジェクターの光源として用いられる。SLDは、通常の発光ダイオード同様にインコヒーレント性を示し、かつ広帯域なスペクトル形状を示しながら、光出力特性では半導体レーザー同様に単一の素子で数百mW程度までの出力を得ることが可能な半導体発光装置である。   A semiconductor light emitting device such as a semiconductor laser or a super luminescent diode (hereinafter also referred to as “SLD”) is used as a light source of a projector, for example. SLDs are incoherent like ordinary light-emitting diodes, and exhibit a broad spectrum shape, but with an optical output characteristic, it is possible to obtain an output of up to several hundreds mW with a single element like a semiconductor laser. A semiconductor light emitting device.

例えば特許文献1には、2本の溝の間にp型の尾根状クラッド層とp型のコンタクト層との積層が画定され、尾根状クラッド層とコンタクト層とで構成される尾根状部分が、多重量子井戸層に沿った導波路を画定するSLDが記載されている。   For example, in Patent Document 1, a stack of a p-type ridge-like cladding layer and a p-type contact layer is defined between two grooves, and a ridge-like portion composed of the ridge-like cladding layer and the contact layer is defined. An SLD is described that defines a waveguide along multiple quantum well layers.

特開2002−76432号公報JP 2002-76432 A

上記のようなSLDの光導波路では、光を射出する光出射面に向かって光が指数関数的に増幅されるため、光に変換されるキャリアの量が不足する部分と、光に変換されずにキャリアが余る部分と、が生じる。光に変換されなかったキャリアは熱に変わるため、余ったキャリアの量が多い部分では、発熱量が大きくなることがある。この発熱量は、特に、p型の半導体層側を実装基板に向けて、半導体素子を実装基板に実装する場合(ジャンクションダウンの場合)に、問題となる。   In the optical waveguide of the SLD as described above, since light is amplified exponentially toward the light exit surface that emits light, a portion where the amount of carriers converted to light is insufficient and not converted to light. The portion where the carrier is excessive is generated. Since the carrier that has not been converted to light changes to heat, the amount of heat generated may increase in a portion where the amount of excess carrier is large. This amount of heat generation becomes a problem particularly when the semiconductor element is mounted on the mounting substrate with the p-type semiconductor layer side facing the mounting substrate (in the case of junction down).

本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、高い放熱性を有することができる発光装置を提供することにある。また、本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、上記発光装置を含むプロジェクターを提供することにある。   An object of some aspects of the present invention is to provide a light-emitting device that can have high heat dissipation. Another object of some embodiments of the present invention is to provide a projector including the light-emitting device.

本発明に係る発光装置は、
電流が注入されて光を発生させることが可能な活性層と、
前記活性層を挟む第1クラッド層および第2クラッド層と、
を含み、
前記第2クラッド層は、前記第2クラッド層に設けられた第1溝部と第2溝部との間に、リッジ部を有し、
前記活性層は、前記活性層および前記第1クラッド層の積層方向からみて、前記リッジ部と重なる領域に、光を導波させる光導波路を構成し、
前記光導波路は、光を出射する第1光出射面および第2光出射面を有し、
前記第1溝部および前記第2溝部は、前記積層方向からみて、前記光導波路に沿って延在し、
前記積層方向からみて、前記第1溝部の幅および前記第2溝部の幅は、前記第1光出射面および前記第2光出射面までの距離が等しい中心位置において、最も広く、
前記第1溝部および前記第2溝部には、前記光導波路で発生した熱を放出する放熱部が
設けられ、
前記放熱部の材質は、前記第2クラッド層の材質よりも、熱伝導率が高い。
The light emitting device according to the present invention is
An active layer capable of generating light when current is injected;
A first cladding layer and a second cladding layer sandwiching the active layer;
Including
The second cladding layer has a ridge portion between a first groove portion and a second groove portion provided in the second cladding layer,
The active layer constitutes an optical waveguide that guides light in a region overlapping the ridge portion as viewed from the stacking direction of the active layer and the first cladding layer,
The optical waveguide has a first light emitting surface and a second light emitting surface for emitting light,
The first groove portion and the second groove portion extend along the optical waveguide as viewed from the stacking direction,
When viewed from the stacking direction, the width of the first groove and the width of the second groove are widest at the center position where the distances to the first light emitting surface and the second light emitting surface are equal,
The first groove portion and the second groove portion are provided with a heat radiating portion that releases heat generated in the optical waveguide,
The material of the heat radiating part has a higher thermal conductivity than the material of the second cladding layer.

このような発光装置では、キャリアが余る中心位置において、熱を放出することができ、高い放熱性を有することができる。   In such a light emitting device, heat can be released at the center position where the carrier is left, and high heat dissipation can be achieved.

本発明に係る発光装置において、
前記活性層に電流を注入する第1電極および第2電極と、
前記第1クラッド層、前記活性層、および前記第2クラッド層を有する積層体と、
を含み、
前記積層体は、前記第2電極と接続されている接続領域を有し、
前記積層方向からみて、前記接続領域の幅は、前記中心位置から前記第1光出射面側に向かうにつれて広くなり、かつ、前記中心位置から前記第2光出射面側に向かうにつれて広くなってもよい。
In the light emitting device according to the present invention,
A first electrode and a second electrode for injecting current into the active layer;
A laminate having the first cladding layer, the active layer, and the second cladding layer;
Including
The laminate has a connection region connected to the second electrode,
When viewed from the stacking direction, the width of the connection region may increase from the center position toward the first light exit surface, and may increase from the center position toward the second light exit surface. Good.

このような発光装置では、利得の飽和を低減し、高出力化を図ることができる。   In such a light-emitting device, gain saturation can be reduced and higher output can be achieved.

本発明に係る発光装置において、
前記積層方向からみて、前記リッジ部の幅は、前記中心位置から前記第1光出射面側に向かうにつれて広くなり、かつ、前記中心位置から前記第2光出射面側に向かうにつれて広くなってもよい。
In the light emitting device according to the present invention,
When viewed from the stacking direction, the width of the ridge portion may increase from the center position toward the first light exit surface, and may increase from the center position toward the second light exit surface. Good.

このような発光装置では、利得の飽和を低減し、高出力化を図ることができる。   In such a light-emitting device, gain saturation can be reduced and higher output can be achieved.

本発明に係る発光装置において、
前記積層方向からみて、前記第1溝部の幅および前記第2溝部の幅は、前記中心位置から前記第1光出射面側に向かうにつれて狭くなり、かつ、前記中心位置から前記第2光出射面側に向かうにつれて狭くなってもよい。
In the light emitting device according to the present invention,
When viewed from the stacking direction, the width of the first groove portion and the width of the second groove portion become narrower from the center position toward the first light emission surface side, and from the center position to the second light emission surface. It may become narrower toward the side.

このような発光装置では、光導波路の延在方向に沿って徐々に放熱性を変化させることができ、例えば光導波路に発生する熱の分布に合わせて、放熱性を変化させることができる。   In such a light emitting device, the heat dissipation can be gradually changed along the extending direction of the optical waveguide. For example, the heat dissipation can be changed in accordance with the distribution of heat generated in the optical waveguide.

本発明に係る発光装置において、
前記積層方向からみて、前記第1溝部、前記第2溝部、および前記光導波路を合わせた形状は、前記中心位置に関して対称であってもよい。
In the light emitting device according to the present invention,
The shape of the first groove portion, the second groove portion, and the optical waveguide may be symmetric with respect to the center position when viewed from the stacking direction.

このような発光装置では、第1光出射面から出射される光の強度と、第2光出射面から出射される光の強度と、の差を小さくすることができる。   In such a light emitting device, the difference between the intensity of the light emitted from the first light emitting surface and the intensity of the light emitted from the second light emitting surface can be reduced.

本発明に係る発光装置において、
前記第1光出射面および前記第2光出射面には、反射防止膜が設けられていてもよい。
In the light emitting device according to the present invention,
An antireflection film may be provided on the first light emission surface and the second light emission surface.

このような発光装置では、第1光出射面および第2光出射面における光の反射を抑制することができ、効率よく第1光出射面および第2光出射面から光を出射することができる。   In such a light emitting device, reflection of light on the first light emitting surface and the second light emitting surface can be suppressed, and light can be emitted efficiently from the first light emitting surface and the second light emitting surface. .

本発明に係る発光装置において、
前記光導波路は、前記第1光出射面の法線および前記第2光出射面の法線に対して傾いた方向に延在していてもよい。
In the light emitting device according to the present invention,
The optical waveguide may extend in a direction inclined with respect to a normal line of the first light emission surface and a normal line of the second light emission surface.

このような発光装置では、直接的な共振器を構成させないことができるため、光導波路にて発生する光のレーザー発振を抑制することができる。その結果、このような発光装置は、スペックルノイズを低減することができる。   In such a light-emitting device, a direct resonator cannot be configured, so that laser oscillation of light generated in the optical waveguide can be suppressed. As a result, such a light emitting device can reduce speckle noise.

本発明に係る発光装置は、
電流が注入されて光を発生させることが可能な活性層と、
前記活性層を挟む第1クラッド層および第2クラッド層と、
を含み、
前記第2クラッド層は、前記第2クラッド層に設けられた第1溝部と第2溝部との間に、リッジ部を有し、
前記活性層は、前記活性層および前記第1クラッド層の積層方向からみて、前記リッジ部と重なる領域に、光を導波させる光導波路を構成し、
前記光導波路は、光を射出する光出射面と、光を反射させる光反射面と、を有し、
前記第1溝部および前記第2溝部は、前記積層方向からみて、前記光導波路に沿って延在し、
前記積層方向からみて、前記第1溝部の幅および前記第2溝部の幅は、前記光反射面が設けられている位置において、最も広く、
前記第1溝部および前記第2溝部には、前記光導波路で発生した熱を放出する放熱部が設けられ、
前記放熱部の材質は、前記第2クラッド層の材質よりも、熱伝導率が高い。
The light emitting device according to the present invention is
An active layer capable of generating light when current is injected;
A first cladding layer and a second cladding layer sandwiching the active layer;
Including
The second cladding layer has a ridge portion between a first groove portion and a second groove portion provided in the second cladding layer,
The active layer constitutes an optical waveguide that guides light in a region overlapping the ridge portion as viewed from the stacking direction of the active layer and the first cladding layer,
The optical waveguide has a light emitting surface for emitting light, and a light reflecting surface for reflecting light,
The first groove portion and the second groove portion extend along the optical waveguide as viewed from the stacking direction,
When viewed from the stacking direction, the width of the first groove and the width of the second groove are widest at the position where the light reflecting surface is provided,
The first groove portion and the second groove portion are provided with a heat radiating portion that releases heat generated in the optical waveguide,
The material of the heat radiating part has a higher thermal conductivity than the material of the second cladding layer.

このような発光装置では、キャリアが余る光反射面が設けられている位置において、熱を放出することができ、高い放熱性を有することができる。   In such a light emitting device, heat can be released at a position where the light reflecting surface where the carrier is left is provided, and high heat dissipation can be achieved.

本発明に係る発光装置において、
前記活性層に電流を注入する第1電極および第2電極と、
前記第1クラッド層、前記活性層、および前記第2クラッド層を有する積層体と、
を含み、
前記積層体は、前記第2電極と接続されている接続領域を有し、
前記積層方向からみて、前記接続領域の幅は、前記光反射面側から前記光出射面側に向かうにつれて広くなってもよい。
In the light emitting device according to the present invention,
A first electrode and a second electrode for injecting current into the active layer;
A laminate having the first cladding layer, the active layer, and the second cladding layer;
Including
The laminate has a connection region connected to the second electrode,
When viewed from the stacking direction, the width of the connection region may increase from the light reflecting surface side toward the light emitting surface side.

このような発光装置では、利得の飽和を低減し、高出力化を図ることができる。   In such a light-emitting device, gain saturation can be reduced and higher output can be achieved.

本発明に係る発光装置において、
前記積層方向からみて、前記リッジ部の幅は、前記光反射面側から前記光出射面側に向かうにつれて広くなってもよい。
In the light emitting device according to the present invention,
As viewed from the stacking direction, the width of the ridge portion may increase from the light reflecting surface side toward the light emitting surface side.

このような発光装置では、利得の飽和を低減し、高出力化を図ることができる。   In such a light-emitting device, gain saturation can be reduced and higher output can be achieved.

本発明に係る発光装置において、
前記積層方向からみて、前記第1溝部の幅および前記第2溝部の幅は、前記光反射面側から前記光出射面側に向かうにつれて狭くなってもよい。
In the light emitting device according to the present invention,
When viewed from the stacking direction, the width of the first groove portion and the width of the second groove portion may become narrower from the light reflecting surface side toward the light emitting surface side.

このような発光装置では、光導波路の延在方向に沿って徐々に放熱性を変化させることができ、例えば光導波路に発生する熱の分布に合わせて、放熱性を変化させることができる。   In such a light emitting device, the heat dissipation can be gradually changed along the extending direction of the optical waveguide. For example, the heat dissipation can be changed in accordance with the distribution of heat generated in the optical waveguide.

本発明に係る発光装置において、
前記光出射面には、反射防止膜が設けられ、
前記光反射面には、反射膜が設けられていてもよい。
In the light emitting device according to the present invention,
The light exit surface is provided with an antireflection film,
A reflective film may be provided on the light reflecting surface.

このような発光装置では、光出射面における光の反射を抑制することができ、効率よく光出射面から光を出射することができる。さらに、このような発光装置では、光反射面における光の透過を抑制することができ、効率よく光反射面において光を反射させることができる。   In such a light emitting device, reflection of light on the light exit surface can be suppressed, and light can be efficiently emitted from the light exit surface. Further, in such a light emitting device, it is possible to suppress the transmission of light on the light reflecting surface, and to efficiently reflect light on the light reflecting surface.

本発明に係る発光装置において、
前記光導波路は、複数配列されていてもよい。
In the light emitting device according to the present invention,
A plurality of the optical waveguides may be arranged.

このような発光装置では、高出力化を図ることができる。   In such a light emitting device, high output can be achieved.

本発明に係る発光装置において、
前記活性層と、前記第1クラッド層と、前記第2クラッド層と、前記活性層に電流を注入する第1電極および第2電極と、を有する発光素子と、
前記発光素子が実装されている実装基板と、
を含み、
前記発光素子は、前記放熱部によって前記実装基板に接続されていてもよい。
In the light emitting device according to the present invention,
A light emitting device comprising: the active layer; the first cladding layer; the second cladding layer; and a first electrode and a second electrode for injecting current into the active layer;
A mounting substrate on which the light emitting element is mounted;
Including
The light emitting element may be connected to the mounting substrate by the heat radiating portion.

このような発光装置では、放熱部を、発光素子を実装する際の接合部材として用いることができる。   In such a light emitting device, the heat radiating portion can be used as a bonding member when the light emitting element is mounted.

本発明に係るプロジェクターは、
本発明に係る発光装置と、
前記発光装置から出射された光を、画像情報に応じて変調する光変調装置と、
前記光変調装置によって形成された画像を投射する投射装置と、
を含む。
The projector according to the present invention is
A light emitting device according to the present invention;
A light modulation device that modulates light emitted from the light emitting device according to image information;
A projection device for projecting an image formed by the light modulation device;
including.

このようなプロジェクターでは、放熱性の高い発光装置を含むことができる。   Such a projector can include a light-emitting device with high heat dissipation.

第1実施形態に係る発光装置を模式的に示す図。The figure which shows typically the light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る発光装置を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る発光装置を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 光導波路の延在方向の位置と、光強度と、の関係を説明するための図。The figure for demonstrating the relationship between the position of the extension direction of an optical waveguide, and light intensity. 光導波路の延在方向の位置と、キャリア量と、の関係を説明するための図。The figure for demonstrating the relationship between the position of the extension direction of an optical waveguide, and the amount of carriers. 第1実施形態に係る発光装置の製造工程を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the manufacturing process of the light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る発光装置の製造工程を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the manufacturing process of the light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る発光装置の製造工程を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the manufacturing process of the light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態の第1変形例に係る発光装置を模式的に示す図。The figure which shows typically the light-emitting device which concerns on the 1st modification of 1st Embodiment. 第1実施形態の第1変形例に係る発光装置を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the light-emitting device which concerns on the 1st modification of 1st Embodiment. 第1実施形態の第1変形例に係る発光装置を模式的に示す図。The figure which shows typically the light-emitting device which concerns on the 1st modification of 1st Embodiment. 第1実施形態の第1変形例に係る発光装置を模式的に示す図。The figure which shows typically the light-emitting device which concerns on the 1st modification of 1st Embodiment. 光導波路の延在方向の位置と、光強度と、の関係を説明するための図。The figure for demonstrating the relationship between the position of the extension direction of an optical waveguide, and light intensity. 第1実施形態の第2変形例に係る発光装置を模式的に示す図。The figure which shows typically the light-emitting device which concerns on the 2nd modification of 1st Embodiment. 第2実施形態に係る発光装置を模式的に示す図。The figure which shows typically the light-emitting device which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態の変形例に係る発光装置を模式的に示す図。The figure which shows typically the light-emitting device which concerns on the modification of 2nd Embodiment. 第3実施形態に係るプロジェクターを模式的に示す図。The figure which shows typically the projector which concerns on 3rd Embodiment.

以下、本発明の好適な実施形態について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments described below do not unduly limit the contents of the present invention described in the claims. In addition, not all of the configurations described below are essential constituent requirements of the present invention.

1. 第1実施形態
1.1. 発光装置
まず、第1実施形態に係る発光装置について、図面を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態に係る発光装置100を模式的に示す図である。図2は、第1実施形態に係る発光装置100を模式的に示す図1のII−II線断面図である。図3は、第1実施形態に係る発光装置100を模式的に示す図1のIII−III線断面図である。
1. 1. First embodiment 1.1. First, the light emitting device according to the first embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram schematically showing a light emitting device 100 according to the first embodiment. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. 1 schematically showing the light emitting device 100 according to the first embodiment. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III of FIG. 1 schematically showing the light emitting device 100 according to the first embodiment.

発光装置100は、図1〜図3に示すように、発光素子2と、実装基板4と、放熱部6と、を含む。発光素子2は、積層体101と、絶縁層112と、第1電極120と、第2電極122と、反射防止膜140と、を有している。積層体101は、基板102と、第1クラッド層104と、活性層106と、第2クラッド層108と、コンタクト層110と、を有している。なお、図1は、発光装置100の発光素子2を第2電極122側からみた図であって、第2電極122を省略した図である。   As illustrated in FIGS. 1 to 3, the light emitting device 100 includes a light emitting element 2, a mounting substrate 4, and a heat radiating unit 6. The light emitting element 2 includes a stacked body 101, an insulating layer 112, a first electrode 120, a second electrode 122, and an antireflection film 140. The stacked body 101 includes a substrate 102, a first cladding layer 104, an active layer 106, a second cladding layer 108, and a contact layer 110. 1 is a view of the light emitting element 2 of the light emitting device 100 as viewed from the second electrode 122 side, and is a view in which the second electrode 122 is omitted.

基板102は、例えば、第1導電型(例えばn型)のGaAs基板である。   The substrate 102 is, for example, a first conductivity type (for example, n-type) GaAs substrate.

第1クラッド層104は、基板102下に設けられている。第1クラッド層104は、例えば、n型のInGaAlP層である。なお、図示はしないが、基板102と第1クラッド層104との間に、バッファー層が形成されていてもよい。バッファー層は、例えば、n型のGaAs層、AlGaAs層、InGaP層などである。バッファー層は、その下方に形成される層の結晶品質を向上させることができる。   The first cladding layer 104 is provided under the substrate 102. The first cladding layer 104 is, for example, an n-type InGaAlP layer. Although not shown, a buffer layer may be formed between the substrate 102 and the first cladding layer 104. The buffer layer is, for example, an n-type GaAs layer, an AlGaAs layer, an InGaP layer, or the like. The buffer layer can improve the crystal quality of the layer formed therebelow.

活性層106は、第1クラッド層104上に設けられている。活性層106は、例えば、InGaPウェル層とInGaAlPバリア層とから構成される量子井戸構造を3つ重ねた多重量子井戸(MQW)構造を有している。   The active layer 106 is provided on the first cladding layer 104. The active layer 106 has, for example, a multiple quantum well (MQW) structure in which three quantum well structures each composed of an InGaP well layer and an InGaAlP barrier layer are stacked.

活性層106は、図1に示すように、第1側面106aと、第2側面106bと、第3側面106cと、第4側面106dと、を有している。側面106a,106bは、互いに反対方向を向く面(図示の例では平行な面)である。側面106c,106dは、互いに反対方向を向く面(図示の例では平行な面)であり、側面106a,106bに接続された面である。側面106a,106b,106c,106dは、クラッド層104,108に面状に接していない面である。側面106a,106bは、劈開によって形成された劈開面であってもよい。   As shown in FIG. 1, the active layer 106 includes a first side surface 106a, a second side surface 106b, a third side surface 106c, and a fourth side surface 106d. The side surfaces 106a and 106b are surfaces (parallel surfaces in the illustrated example) that face in opposite directions. The side surfaces 106c and 106d are surfaces facing in opposite directions (parallel surfaces in the illustrated example) and are surfaces connected to the side surfaces 106a and 106b. The side surfaces 106a, 106b, 106c, and 106d are surfaces that are not in contact with the cladding layers 104 and 108 in a planar shape. The side surfaces 106a and 106b may be cleaved surfaces formed by cleavage.

活性層106は、電流が注入されて光を発生させることが可能な層である。活性層106は、光を導波させる光導波路160を構成している。光導波路160を導波する光は、光導波路160において利得を受けることができる。   The active layer 106 is a layer that can generate light by being injected with current. The active layer 106 constitutes an optical waveguide 160 that guides light. Light guided through the optical waveguide 160 can receive a gain in the optical waveguide 160.

光導波路160は、活性層106および第1クラッド層104の積層方向からみて(「平面視において」ともいう)、帯状の形状を有し、第1側面106aから第2側面106bまで延在している。図示の例では、平面視において、光導波路160の第1側面106aと平行な方向の大きさは、第1側面106aから第2側面106bまで一定である。光導波路160の平面形状(平面視における形状)は、例えば、平行四辺形である。   The optical waveguide 160 has a band shape when viewed from the stacking direction of the active layer 106 and the first cladding layer 104 (also referred to as “in plan view”), and extends from the first side surface 106a to the second side surface 106b. Yes. In the illustrated example, the size of the optical waveguide 160 in the direction parallel to the first side surface 106a is constant from the first side surface 106a to the second side surface 106b in plan view. The planar shape (shape in plan view) of the optical waveguide 160 is, for example, a parallelogram.

光導波路160は、光を射出する第1光出射面170および第2光出射面172を有している。第1光出射面170は、光導波路160の第1側面106aとの接続部である。第2光出射面172は、光導波路160の第2側面106bとの接続部である。光導波路160は、第1光出射面170の法線P1および第2光出射面172の法線P2に対して傾いた方向に延在している。図示の例では、光導波路160の中心線αは、法線P1,P2に対して傾いた方向に延在している。中心線αは、第1光出射面170の中心と第2光出射面172の中心とを通る仮想直線である。   The optical waveguide 160 has a first light emission surface 170 and a second light emission surface 172 that emit light. The first light exit surface 170 is a connection portion with the first side surface 106 a of the optical waveguide 160. The second light emission surface 172 is a connection portion with the second side surface 106 b of the optical waveguide 160. The optical waveguide 160 extends in a direction inclined with respect to the normal line P1 of the first light output surface 170 and the normal line P2 of the second light output surface 172. In the illustrated example, the center line α of the optical waveguide 160 extends in a direction inclined with respect to the normal lines P1 and P2. The center line α is an imaginary straight line that passes through the center of the first light exit surface 170 and the center of the second light exit surface 172.

光導波路160は、第1光出射面170および第2光出射面172までの距離が等しい中心位置Cを有している。図1に示す例では、中心位置Cとは、光出射面170,172までの距離が等しく、中心線α上の点である。   The optical waveguide 160 has a center position C where the distances to the first light exit surface 170 and the second light exit surface 172 are equal. In the example shown in FIG. 1, the center position C is a point on the center line α that has the same distance to the light emitting surfaces 170 and 172.

第2クラッド層108は、活性層106下に設けられている。第2クラッド層108は、例えば、第2導電型(例えばp型)のInGaAlP層である。クラッド層104,108は、活性層106よりもバンドギャップが大きく、屈折率が小さい層である。クラッド層104,108は、活性層106を挟んで、注入キャリア(電子および正孔)並びに光の漏れを抑制する機能を有している。   The second cladding layer 108 is provided under the active layer 106. The second cladding layer 108 is, for example, a second conductivity type (for example, p-type) InGaAlP layer. The cladding layers 104 and 108 are layers having a larger band gap and a lower refractive index than the active layer 106. The clad layers 104 and 108 have a function of suppressing leakage of injected carriers (electrons and holes) and light with the active layer 106 interposed therebetween.

発光装置100では、p型の第2クラッド層108、不純物がドーピングされていない活性層106、およびn型の第1クラッド層104により、pinダイオードが構成される。発光装置100では、電極120,122間に、pinダイオードの順バイアス電圧を印加する(電流を注入する)と、光導波路160において電子と正孔との再結合が起こる。この再結合により発光が生じる。この生じた光を起点として、連鎖的に誘導放出が起こり、光導波路160で光の強度が増幅される。光導波路160は、光を導波させる活性層106と、光の漏れを抑制するクラッド層104,108と、によって構成されている。   In the light emitting device 100, the p-type second cladding layer 108, the active layer 106 not doped with impurities, and the n-type first cladding layer 104 constitute a pin diode. In the light emitting device 100, when a forward bias voltage of a pin diode is applied between the electrodes 120 and 122 (current is injected), recombination of electrons and holes occurs in the optical waveguide 160. This recombination causes light emission. With this generated light as a starting point, stimulated emission occurs in a chain, and the intensity of the light is amplified in the optical waveguide 160. The optical waveguide 160 includes an active layer 106 that guides light and clad layers 104 and 108 that suppress light leakage.

第2クラッド層108には、第1溝部150および第2溝部152が設けられている。第2クラッド層108は、活性層106の第1側面106aと連続する第5側面108aと、活性層106の第2側面106bと連続する第6側面108bと、を有している。溝部150,152は、第5側面108aから第6側面108bまで延在している。   The second cladding layer 108 is provided with a first groove 150 and a second groove 152. The second cladding layer 108 includes a fifth side surface 108 a that is continuous with the first side surface 106 a of the active layer 106, and a sixth side surface 108 b that is continuous with the second side surface 106 b of the active layer 106. The groove portions 150 and 152 extend from the fifth side surface 108a to the sixth side surface 108b.

第1溝部150および第2溝部152は、平面視において、光導波路160に沿って延在している。具体的は、第1溝部150の第5側面108aとの接続部の中心と、第1溝部150の第6側面108bとの接続部の中心と、の中心を通る仮想直線(図示せず)は、中心線αと平行である。同様に、第2溝部152の第5側面108aとの接続部の中心と、第2溝部152の第6側面108bとの接続部の中心と、の中心を通る仮想直線(図示せず)は、中心線αと平行である。図示の例では、第3側面106c側に第1溝部150が設けられ、第4側面106d側に第2溝部152が設けられている。平面視において、第1溝部150、第2溝部152、および光導波路160を合わせた形状は、例えば、中心位置Cに関して対称(点対称)である。   The first groove 150 and the second groove 152 extend along the optical waveguide 160 in plan view. Specifically, an imaginary straight line (not shown) passing through the center between the center of the connection portion of the first groove portion 150 with the fifth side surface 108a and the center of the connection portion of the first groove portion 150 with the sixth side surface 108b is , Parallel to the center line α. Similarly, an imaginary straight line (not shown) passing through the center between the center of the connection portion with the fifth side surface 108a of the second groove portion 152 and the center of the connection portion with the sixth side surface 108b of the second groove portion 152 is It is parallel to the center line α. In the illustrated example, the first groove 150 is provided on the third side face 106c side, and the second groove 152 is provided on the fourth side face 106d side. In a plan view, the combined shape of the first groove 150, the second groove 152, and the optical waveguide 160 is symmetric (point symmetric) with respect to the center position C, for example.

第1溝部150の幅W1および第2溝部152の幅W2は、平面視において、中心位置Cにおいて、最も広い。具体的には、溝部150,152の幅W1,W2は、平面視において、中心位置Cを通り中心線αに対して直交する仮想直線βにおいて、最も広い。ここで、溝部150,152の幅(光導波路160の延在方向のある位置における幅)W1,W2は、平面視において、溝部150,152の中心線αと直交する方向の大きさである。   The width W1 of the first groove 150 and the width W2 of the second groove 152 are widest at the center position C in plan view. Specifically, the widths W1 and W2 of the groove portions 150 and 152 are the widest in the virtual straight line β passing through the center position C and orthogonal to the center line α in plan view. Here, the widths W1 and W2 of the grooves 150 and 152 (widths at a position in the extending direction of the optical waveguide 160) W1 and W2 are sizes in a direction orthogonal to the center line α of the grooves 150 and 152 in plan view.

第1溝部150は、例えば、中心位置Cに位置する第1部分150aと、第1部分15
0aよりも第5側面108a側に位置する第2部分150bと、第1部分150aよりも第6側面108b側に位置する第3部分150cと、を有している。第2溝部152は、例えば、中心位置Cに位置する第4部分152aと、第4部分152aよりも第5側面108a側に位置する第5部分152bと、第4部分152aよりも第6側面108b側に位置する第6部分152cと、を有している。部分150a,150b,150cにおいて幅W1は、一定であり、部分152a,152b,152cにおいて幅W2は、一定である。第1部分150aの幅W1と第4部分152aの幅W2とは、同じ大きさである。部分150b,150cの幅W1と部分152b,152cの幅W2とは、同じ大きさである。部分150a,152aの幅W1,W2は、部分150b,150c,152b,152cの幅W1,W2よりも広い。
The first groove portion 150 includes, for example, a first portion 150a located at the center position C and a first portion 15.
It has the 2nd part 150b located in the 5th side 108a side rather than 0a, and the 3rd part 150c located in the 6th side 108b side rather than the 1st part 150a. The second groove 152 includes, for example, a fourth portion 152a positioned at the center position C, a fifth portion 152b positioned closer to the fifth side surface 108a than the fourth portion 152a, and a sixth side surface 108b relative to the fourth portion 152a. And a sixth portion 152c located on the side. The width W1 is constant in the portions 150a, 150b, and 150c, and the width W2 is constant in the portions 152a, 152b, and 152c. The width W1 of the first portion 150a and the width W2 of the fourth portion 152a are the same size. The width W1 of the portions 150b and 150c and the width W2 of the portions 152b and 152c are the same size. The widths W1, W2 of the portions 150a, 152a are wider than the widths W1, W2 of the portions 150b, 150c, 152b, 152c.

第2クラッド層108は、第1溝部150と第2溝部152との間に、リッジ部128を有している。リッジ部128は、第5側面108aから第6側面108bまで延在している。リッジ部128の平面形状は、例えば、光導波路160の平面形状と同じである。活性層106は、平面視において、リッジ部128と重なる領域に、光導波路160を構成する。   The second cladding layer 108 has a ridge portion 128 between the first groove portion 150 and the second groove portion 152. The ridge portion 128 extends from the fifth side surface 108a to the sixth side surface 108b. The planar shape of the ridge portion 128 is the same as the planar shape of the optical waveguide 160, for example. The active layer 106 constitutes the optical waveguide 160 in a region overlapping the ridge portion 128 in plan view.

コンタクト層110は、図2および図3に示すように、第2クラッド層108下に設けられている。コンタクト層110は、リッジ部128と第2電極122との間に設けられている。コンタクト層110は、例えば、p型のGaAs層である。コンタクト層110は、第2電極122と接続(具体的にはオーミックコンタクト)されている。コンタクト層110は、クラッド層104,108よりも導電性の高い層である。   As shown in FIGS. 2 and 3, the contact layer 110 is provided under the second cladding layer 108. The contact layer 110 is provided between the ridge portion 128 and the second electrode 122. The contact layer 110 is, for example, a p-type GaAs layer. The contact layer 110 is connected to the second electrode 122 (specifically, ohmic contact). The contact layer 110 is a layer having higher conductivity than the cladding layers 104 and 108.

コンタクト層110とリッジ部128とは、柱状部111を構成している。発光装置100は、屈折率導波型のSLDである。平面視において、光導波路160の平面形状は、例えば、柱状部111の平面形状と同じである。   The contact layer 110 and the ridge portion 128 constitute a columnar portion 111. The light emitting device 100 is a refractive index guided SLD. In plan view, the planar shape of the optical waveguide 160 is the same as the planar shape of the columnar section 111, for example.

コンタクト層110、第2クラッド層108、活性層106、第1クラッド層104、および基板102によって構成されている積層体101は、第2電極122と接続されている接続領域130を有している。図示の例では、コンタクト層110は、接続領域130において、第2電極122と接続されている。接続領域130は、コンタクト層110と第2電極122との接触面であり、コンタクト層110が接続領域130を有している。   The stacked body 101 constituted by the contact layer 110, the second cladding layer 108, the active layer 106, the first cladding layer 104, and the substrate 102 has a connection region 130 connected to the second electrode 122. . In the illustrated example, the contact layer 110 is connected to the second electrode 122 in the connection region 130. The connection region 130 is a contact surface between the contact layer 110 and the second electrode 122, and the contact layer 110 has the connection region 130.

絶縁層112は、第2クラッド層108下であって、柱状部111の側方(平面視における柱状部111の周囲)および柱状部111下の一部に設けられている。例えば、柱状部111上に設けられた絶縁層112の開口の平面形状によって、接続領域130の平面形状が決定される。図示の例では、絶縁層112は、溝部150,152にも設けられている。絶縁層112は、例えば、SiN層、SiO層、SiON層、Al層、ポリイミド層である。絶縁層112として上記の材料を用いた場合、電極120,122間の電流は、絶縁層112を避けて、絶縁層112に挟まれた柱状部111を流れる。絶縁層112は、例えば、第2クラッド層108の屈折率よりも小さい屈折率を有している。 The insulating layer 112 is provided below the second cladding layer 108, on the side of the columnar part 111 (around the columnar part 111 in plan view) and on a part below the columnar part 111. For example, the planar shape of the connection region 130 is determined by the planar shape of the opening of the insulating layer 112 provided on the columnar part 111. In the illustrated example, the insulating layer 112 is also provided in the groove portions 150 and 152. The insulating layer 112 is, for example, a SiN layer, a SiO 2 layer, a SiON layer, an Al 2 O 3 layer, or a polyimide layer. When the above material is used for the insulating layer 112, the current between the electrodes 120 and 122 flows through the columnar portion 111 sandwiched between the insulating layers 112, avoiding the insulating layer 112. The insulating layer 112 has a refractive index smaller than that of the second cladding layer 108, for example.

第1電極120は、基板102上に設けられている。第1電極120は、第1電極120とオーミックコンタクトする層(図示の例では基板102)の上面に設けられている。第1電極120は、発光装置100を駆動する(活性層106に電流を注入する)ための一方の電極である。第1電極120としては、例えば、第1クラッド層104側からCr層、AuGe層、Ni層、Au層の順序で積層したものを用いる。   The first electrode 120 is provided on the substrate 102. The first electrode 120 is provided on the upper surface of a layer (the substrate 102 in the illustrated example) that is in ohmic contact with the first electrode 120. The first electrode 120 is one electrode for driving the light emitting device 100 (injecting current into the active layer 106). As the first electrode 120, for example, a layer in which a Cr layer, an AuGe layer, a Ni layer, and an Au layer are stacked in this order from the first cladding layer 104 side is used.

第2電極122は、リッジ部128の下方に設けられている。具体的には、第2電極1
22は、コンタクト層110下および絶縁層112下に設けられている。図示の例では、第2電極122は、溝部150,152にも設けられている。第2電極122は、発光装置100を駆動する(活性層106に電流を注入する)ための他方の電極である。第2電極122としては、例えば、コンタクト層110側からCr層、AuZn層、Au層の順序で積層したものを用いる。
The second electrode 122 is provided below the ridge portion 128. Specifically, the second electrode 1
22 is provided under the contact layer 110 and under the insulating layer 112. In the illustrated example, the second electrode 122 is also provided in the groove portions 150 and 152. The second electrode 122 is the other electrode for driving the light emitting device 100 (injecting current into the active layer 106). As the second electrode 122, for example, an electrode in which a Cr layer, an AuZn layer, and an Au layer are stacked in this order from the contact layer 110 side is used.

反射防止(AR:Anti?Reflection)膜140は、光出射面170,172に設けられている。図示の例では、反射防止膜140は、側面106a,106bに設けられている。反射防止膜140は、例えば、SiO層、Ta層、Al層、TiN層、TiO層、SiON層、SiN層や、これらの多層膜である。 An anti-reflection (AR) film 140 is provided on the light exit surfaces 170 and 172. In the illustrated example, the antireflection film 140 is provided on the side surfaces 106a and 106b. The antireflection film 140 is, for example, a SiO 2 layer, a Ta 2 O 5 layer, an Al 2 O 3 layer, a TiN layer, a TiO 2 layer, a SiON layer, a SiN layer, or a multilayer film thereof.

実装基板4は、積層体101、絶縁層112、第1電極120、第2電極122、および反射防止膜140を含む発光素子2が実装されている基板である。実装基板4の材質は、例えば、セラミックスや金属であり、発光素子2が実装されることができれば、特に限定されない。発光素子2は、第2電極122側を実装基板4に向けて、実装基板4に実装されている(ジャンクションダウン)。発光素子2は、例えば、放熱部6によって実装基板4に接続されている。   The mounting substrate 4 is a substrate on which the light emitting element 2 including the stacked body 101, the insulating layer 112, the first electrode 120, the second electrode 122, and the antireflection film 140 is mounted. The material of the mounting substrate 4 is, for example, ceramics or metal, and is not particularly limited as long as the light emitting element 2 can be mounted. The light emitting element 2 is mounted on the mounting substrate 4 with the second electrode 122 side facing the mounting substrate 4 (junction down). The light emitting element 2 is connected to the mounting substrate 4 by, for example, a heat radiating unit 6.

放熱部6は、第2電極122下に設けられている。放熱部6は、溝部150,152に設けられている。放熱部6は、例えば、溝部150,152を充填するように設けられている。放熱部6の材質は、第2クラッド層108の材質よりも、熱伝導率が高い。放熱部6は、銀ペーストであってもよく、めっき法により形成された金層と該金層下に設けられた銀ペーストとの積層体であってもよい。放熱部6は、光導波路160で発生した熱を放出することができる。   The heat dissipating unit 6 is provided under the second electrode 122. The heat radiation part 6 is provided in the groove parts 150 and 152. The heat radiation part 6 is provided so as to fill the groove parts 150 and 152, for example. The material of the heat radiating part 6 has higher thermal conductivity than the material of the second cladding layer 108. The heat radiation part 6 may be a silver paste, or may be a laminate of a gold layer formed by plating and a silver paste provided under the gold layer. The heat radiating unit 6 can release the heat generated in the optical waveguide 160.

なお、上記では、AlGaInP系の発光装置100について説明したが、本発明に係る発光装置、光導波路が形成可能なあらゆる材料系を用いることができる。半導体材料であれば、例えば、AlGaN系、GaN系、InGaN系、GaAs系、AlGaAs系、InGaAs系、InGaAsP系、InP系、GaP系、AlGaP系、ZnCdSe系などの半導体材料を用いることができる。   Although the AlGaInP-based light emitting device 100 has been described above, any material system capable of forming the light emitting device and the optical waveguide according to the present invention can be used. As the semiconductor material, for example, semiconductor materials such as AlGaN, GaN, InGaN, GaAs, AlGaAs, InGaAs, InGaAsP, InP, GaP, AlGaP, and ZnCdSe can be used.

発光装置100は、例えば、プロジェクター、ディスプレイ、照明装置、計測装置などの光源に適用されることができる。   The light emitting device 100 can be applied to a light source such as a projector, a display, a lighting device, and a measuring device.

発光装置100は、例えば、以下の特徴を有する。   For example, the light emitting device 100 has the following characteristics.

発光装置100では、平面視において、第1溝部150の幅W1および第2溝部152の幅W2は、中心位置Cにおいて最も広く、溝部150,152には、光導波路160で発生した熱を放出する放熱部6が設けられている。そのため、発光装置100では、キャリアが余る中心位置Cにおいて、熱を放出することができ、高い放熱性を有することができる。その結果、発光装置100は、例えば、高い信頼性を有することができる。   In the light emitting device 100, in plan view, the width W1 of the first groove 150 and the width W2 of the second groove 152 are the widest at the center position C, and heat generated in the optical waveguide 160 is released to the grooves 150 and 152. A heat dissipating part 6 is provided. Therefore, in the light emitting device 100, heat can be released at the center position C where the carrier is left, and high heat dissipation can be achieved. As a result, the light emitting device 100 can have high reliability, for example.

ここで、図4は、光導波路の延在方向の位置と、光強度と、の関係を説明するための図である。図5は、光導波路の延在方向の位置と、キャリア量と、の関係を説明するための図である。図4および図5の横軸の光導波路の延在方向の位置は、第1光出射面(光導波路の一方の端)と第2光出射面(光導波路の他方の端)との間における、光導波路の延在方向の位置を示している。図4では、第1光出射面から第2光出射面に向かう光の強度Iと、第2光出射面から第1光出射面に向かう光の強度Iと、強度Iと強度Iとの合計強度ITOTALと、を示している。なお、図4の縦軸の光強度とは、光導波路の延在方向のある位置において、単位時間当たり、光導波路の延在方向に対して垂直な断面を
通過する光子の数のことである。
Here, FIG. 4 is a diagram for explaining the relationship between the position in the extending direction of the optical waveguide and the light intensity. FIG. 5 is a diagram for explaining the relationship between the position in the extending direction of the optical waveguide and the amount of carriers. 4 and 5, the position in the extending direction of the optical waveguide on the horizontal axis is between the first light exit surface (one end of the optical waveguide) and the second light exit surface (the other end of the optical waveguide). The position in the extending direction of the optical waveguide is shown. In Figure 4, the intensity I 1 of the light traveling from the first light exit surface to the second light emitting surface, and the intensity I 2 of the light from the second light exit surface toward the first light exit surface, the intensity I 1 and the intensity I 2 and the total intensity I TOTAL . The light intensity on the vertical axis in FIG. 4 is the number of photons passing through a cross section perpendicular to the extending direction of the optical waveguide per unit time at a position in the extending direction of the optical waveguide. .

一般的にSLDでは、光出射面(反射率が小さい側)に向かって光が指数関数的に増幅される。そのため、図4に示すように、光強度は、光導波路の延在方向において不均一な分布を持つ。強度ITOTALの分布は、光導波路の延在方向の位置において、消費される消費キャリア量の分布とほぼ同じとなる。これにより、図5に示すように、光導波路の延在方向において単位長さ当たりの電流量が一定の場合、光出射面近傍では、キャリア消費量が多く、光に対して(光子に対して)キャリアが相対的に足りなくなる。すなわち、光が増幅されようとしたとき、光に変換されるキャリアが足りなくなる(キャリアの過不足が生じる)。その結果、光強度の大きい光出射面側では、利得の飽和が発生し、その分、光出力が低下する。なお、便宜上、図4では、利得の飽和による光出力の低下を図示していない)。また、単位長さ当たりの電流量とは、光導波路の延在方向のある位置において、その部分を積層方向(例えば活性層106および第1クラッド層104の積層方向)に流れる電流量のことである。 In general, in SLD, light is amplified exponentially toward a light exit surface (side with a low reflectance). Therefore, as shown in FIG. 4, the light intensity has a non-uniform distribution in the extending direction of the optical waveguide. The distribution of the intensity I TOTAL is substantially the same as the distribution of the consumed carrier amount at the position in the extending direction of the optical waveguide. As a result, as shown in FIG. 5, when the amount of current per unit length is constant in the extending direction of the optical waveguide, the carrier consumption is large in the vicinity of the light exit surface, and the light is consumed (with respect to photons). ) The carrier is relatively short. That is, when light is about to be amplified, there are not enough carriers to be converted to light (excess or deficiency of carriers occurs). As a result, gain saturation occurs on the light exit surface side where the light intensity is high, and the light output is reduced accordingly. For convenience, FIG. 4 does not show a decrease in optical output due to gain saturation. Further, the amount of current per unit length is the amount of current that flows in the stacking direction (for example, the stacking direction of the active layer 106 and the first cladding layer 104) at a position in the extending direction of the optical waveguide. is there.

一方、光導波路の中心位置Cでは、光出射面近傍に比べてキャリアが多い状態であり、キャリアが十分に光に変換されておらず、キャリアが余っている(余剰キャリアが生じる)。したがって、中心位置Cでは、余剰キャリアによる発熱が大きくなる。   On the other hand, at the center position C of the optical waveguide, there are more carriers than in the vicinity of the light exit surface, the carriers are not sufficiently converted to light, and there are surplus carriers (excess carriers are generated). Therefore, at the center position C, heat generated by the surplus carrier is increased.

発光装置100では、上記のように、溝部150,152の幅W1,W2は、中心位置Cにおいて最も広く、溝部150,152には放熱部6が設けられているため、中心位置Cにおける多量な余剰キャリアによる熱を、放熱部6によって放出させることができる。したがって、発光装置100では、高い放熱性を有することができる。なお、図2および図3に示す矢印は、光導波路160において発生した熱の流れを示している。   In the light emitting device 100, as described above, the widths W1 and W2 of the groove portions 150 and 152 are the widest at the center position C, and the heat dissipation portion 6 is provided in the groove portions 150 and 152. Heat from the surplus carrier can be released by the heat radiating unit 6. Therefore, the light emitting device 100 can have high heat dissipation. 2 and 3 indicate the flow of heat generated in the optical waveguide 160.

さらに、発光装置100では、余剰キャリアが少ない光出射面170,172近傍では、溝部150,152の幅W1,W2は狭い。したがって、発光装置100では、光出射面170,172近傍の位置における溝部150,152の幅W1,W2が中心位置Cにおける幅W1,W2と同じ場合に比べて、実装時の応力が柱状部111に集中して信頼性が低下することを抑制することができる。   Furthermore, in the light emitting device 100, the widths W1 and W2 of the groove portions 150 and 152 are narrow in the vicinity of the light emitting surfaces 170 and 172 with few surplus carriers. Therefore, in the light emitting device 100, compared with the case where the widths W1 and W2 of the grooves 150 and 152 in the positions near the light emitting surfaces 170 and 172 are the same as the widths W1 and W2 at the center position C, the stress at the time of mounting is the columnar portion 111. It can suppress that reliability falls by concentrating on.

発光装置100では、平面視において、第1溝部150、第2溝部152、および光導波路160を合わせた形状は、中心位置Cに関して対称である。したがって、発光装置100では、光導波路160の、中心位置Cよりも(仮想直線βよりも)第1光出射面170側の部分と、中心位置Cよりも第2光出射面172側の部分と、の放熱性の差を小さくすることができる。そのため、発光装置100では、第1光出射面170から出射される光の強度と、第2光出射面172から出射される光の強度と、の差を小さくすることができる。   In the light emitting device 100, the shape of the first groove 150, the second groove 152, and the optical waveguide 160 is symmetrical with respect to the center position C in plan view. Therefore, in the light emitting device 100, the portion of the optical waveguide 160 closer to the first light exit surface 170 than the center position C (more than the virtual straight line β), and the portion closer to the second light exit surface 172 than the center position C. The difference in heat dissipation can be reduced. Therefore, in the light emitting device 100, the difference between the intensity of the light emitted from the first light emitting surface 170 and the intensity of the light emitted from the second light emitting surface 172 can be reduced.

発光装置100では、光出射面170,172には、反射防止膜140が設けられている。そのため、発光装置100では、光出射面170,172における光の反射を抑制することができ、効率よく光出射面170,172から光を出射することができる。   In the light emitting device 100, an antireflection film 140 is provided on the light emitting surfaces 170 and 172. Therefore, in the light emitting device 100, reflection of light on the light emitting surfaces 170 and 172 can be suppressed, and light can be efficiently emitted from the light emitting surfaces 170 and 172.

発光装置100では、光導波路160は、第1光出射面170の法線P1および第2光出射面172の法線P2に対して傾いた方向に延在している。そのため、発光装置100では、光導波路160にて発生する光を、光出射面170,172間で直接的に多重反射させることを抑制することができる。これにより、発光装置100では、直接的な共振器を構成させないことができるため、光導波路160にて発生する光のレーザー発振を抑制することができる。その結果、発光装置100は、スペックルノイズを低減することができる。発光装置100は、SLDである。   In the light emitting device 100, the optical waveguide 160 extends in a direction inclined with respect to the normal line P1 of the first light output surface 170 and the normal line P2 of the second light output surface 172. Therefore, in the light emitting device 100, it is possible to suppress the multiple reflection of the light generated in the optical waveguide 160 directly between the light emitting surfaces 170 and 172. Thereby, in the light-emitting device 100, since a direct resonator cannot be comprised, the laser oscillation of the light which generate | occur | produces in the optical waveguide 160 can be suppressed. As a result, the light emitting device 100 can reduce speckle noise. The light emitting device 100 is an SLD.

発光装置100では、発光素子2は、放熱部6によって実装基板4に接続されている。したがって、発光装置100では、放熱部6を、発光素子2を実装する際の接合部材として用いることができる。   In the light emitting device 100, the light emitting element 2 is connected to the mounting substrate 4 by the heat radiating unit 6. Therefore, in the light emitting device 100, the heat radiating part 6 can be used as a joining member when the light emitting element 2 is mounted.

1.2. 発光装置の製造方法
次に、第1実施形態に係る発光装置100の製造方法について、図面を参照しながら説明する。図6〜図8は、第1実施形態に係る発光装置100の製造工程を模式的に示す断面図である。
1.2. Method for Manufacturing Light-Emitting Device Next, a method for manufacturing the light-emitting device 100 according to the first embodiment will be described with reference to the drawings. 6-8 is sectional drawing which shows typically the manufacturing process of the light-emitting device 100 which concerns on 1st Embodiment.

図6に示すように、基板102上に、第1クラッド層104、活性層106、第2クラッド層108、コンタクト層110を、この順でエピタキシャル成長させる。これにより、積層体101を形成することができる。エピタキシャル成長させる方法としては、例えば、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法、MBE(Molecular Beam Epitaxy)法が挙げられる。   As shown in FIG. 6, the first cladding layer 104, the active layer 106, the second cladding layer 108, and the contact layer 110 are epitaxially grown in this order on the substrate 102. Thereby, the laminated body 101 can be formed. Examples of the epitaxial growth method include a MOCVD (Metal Organic Chemical Deposition) method and an MBE (Molecular Beam Epitaxy) method.

図7に示すように、コンタクト層110および第2クラッド層108をパターニングして、柱状部111を形成する。パターニングは、例えば、フォトリソグラフィーおよびエッチングによって行われる。なお、コンタクト層110と第2クラッド層108とのエッチングは、同時に行ってもよいし、別々に行ってもよい。本工程により、溝部150,152およびリッジ部128を形成することができる。   As shown in FIG. 7, the contact layer 110 and the second cladding layer 108 are patterned to form the columnar portion 111. The patterning is performed by, for example, photolithography and etching. Note that the etching of the contact layer 110 and the second cladding layer 108 may be performed simultaneously or separately. By this step, the groove portions 150 and 152 and the ridge portion 128 can be formed.

図8に示すように、柱状部111の側面を覆うように、第2クラッド層108上およびコンタクト層110上に絶縁層112を形成する。具体的には、絶縁層112は、CVD(Chemical Vapor Deposition)法(より具体的にプラズマCVD法)や塗布法などにより絶縁部材(図示せず)を成膜し、該絶縁部材をパターニングすることにより形成される。パターニングは、例えば、フォトリソグラフィーおよびエッチングによって行われる。   As shown in FIG. 8, an insulating layer 112 is formed on the second cladding layer 108 and the contact layer 110 so as to cover the side surface of the columnar portion 111. Specifically, the insulating layer 112 is formed by forming an insulating member (not shown) by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method (more specifically, a plasma CVD method) or a coating method, and patterning the insulating member. It is formed by. The patterning is performed by, for example, photolithography and etching.

次に、コンタクト層110上に第2電極122を形成する。次に、基板102下に第1電極120を形成する。電極120,122は、例えば、真空蒸着法やスパッタ法などにより形成される。なお、電極120,122の形成順序は、特に限定されない。   Next, the second electrode 122 is formed on the contact layer 110. Next, the first electrode 120 is formed under the substrate 102. The electrodes 120 and 122 are formed by, for example, a vacuum deposition method or a sputtering method. Note that the order of forming the electrodes 120 and 122 is not particularly limited.

図1に示すように、光出射面170,172に、反射防止膜140を形成する。反射防止膜140は、例えば、CVD法やスパッタ法などにより形成される。なお、反射防止膜140は、電極120,122を形成する前に、形成されてもよい。   As shown in FIG. 1, an antireflection film 140 is formed on the light emitting surfaces 170 and 172. The antireflection film 140 is formed by, for example, a CVD method or a sputtering method. The antireflection film 140 may be formed before the electrodes 120 and 122 are formed.

以上の工程により、発光素子2を形成することができる。   Through the above steps, the light-emitting element 2 can be formed.

図2に示すように、第2電極122側を実装基板4に向けて、発光素子2を実装基板4に実装する。発光素子2は、放熱部6によって実装基板4に接続される。   As shown in FIG. 2, the light emitting element 2 is mounted on the mounting substrate 4 with the second electrode 122 side facing the mounting substrate 4. The light emitting element 2 is connected to the mounting substrate 4 by the heat radiating portion 6.

以上の工程により、発光装置100を製造することができる。   Through the above steps, the light emitting device 100 can be manufactured.

1.3. 発光装置の変形例
1.3.1. 第1変形例
次に、第1実施形態の第1変形例に係る発光装置について、図面を参照しながら説明する。図9は、第1実施形態の第1変形例に係る発光装置200を模式的に示す図である。図10は、第1実施形態の第2変形例に係る発光装置200を模式的に示す図9のX−X
線断面図である。なお、図10は、発光装置200の発光素子2を第2電極122側からみた図であって、第2電極122を省略した図である。
1.3. Modified example of light emitting device 1.3.1. First Modification Next, a light-emitting device according to a first modification of the first embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 9 is a diagram schematically showing a light emitting device 200 according to a first modification of the first embodiment. 10 schematically shows a light emitting device 200 according to a second modification of the first embodiment, taken along line XX in FIG.
It is line sectional drawing. 10 is a view of the light emitting element 2 of the light emitting device 200 as viewed from the second electrode 122 side, and is a view in which the second electrode 122 is omitted.

以下、第1実施形態の第1変形例に係る発光装置200において、第1実施形態に係る発光装置100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。このことは、以下に示す第1実施形態の第2変形例に係る発光装置についても同様である。   Hereinafter, in the light emitting device 200 according to the first modification of the first embodiment, members having the same functions as those of the constituent members of the light emitting device 100 according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is given. Is omitted. The same applies to the light emitting device according to the second modification of the first embodiment described below.

発光装置200では、図9に示すように、平面視において、リッジ部128の形状および接続領域130の形状が図1に示す発光装置100と異なる。   In the light emitting device 200, as shown in FIG. 9, the shape of the ridge 128 and the shape of the connection region 130 are different from those of the light emitting device 100 shown in FIG.

発光装置200では、リッジ部128は、第3側面106c側の境界線28a(例えばリッジ部128と絶縁層112との境界線)と、第4側面106d側の境界線28b(例えばリッジ部128と絶縁層112との境界線)と、を有している。   In the light emitting device 200, the ridge portion 128 includes the boundary line 28a on the third side surface 106c side (for example, the boundary line between the ridge portion 128 and the insulating layer 112) and the boundary line 28b on the fourth side surface 106d side (for example, with the ridge portion 128). A boundary line with the insulating layer 112).

ここで、図11は、第1光出射面170近傍を模式的に示す図1の拡大図である。図12は、第2光出射面172近傍を模式的に示す図1の拡大図である。なお、便宜上、図11および図12では、反射防止膜140および溝部150,152を省略している。   Here, FIG. 11 is an enlarged view of FIG. 1 schematically showing the vicinity of the first light exit surface 170. FIG. 12 is an enlarged view of FIG. 1 schematically showing the vicinity of the second light emission surface 172. For convenience, the antireflection film 140 and the grooves 150 and 152 are omitted in FIGS. 11 and 12.

図11および図12に示すように、境界線28aと側面106a,106bとの交点をそれぞれQ1,R1とする。境界線28bと側面106a,106bとの交点をそれぞれS1,T1とする。交点Q1を通り中心線αと直交する仮想直線L1と、境界線28bとの交点をU1とする。交点T1を通り中心線αと直交する仮想直線L2と、境界線28aとの交点をV1とする。   As shown in FIGS. 11 and 12, the intersections of the boundary line 28a and the side surfaces 106a and 106b are defined as Q1 and R1, respectively. Intersections between the boundary line 28b and the side surfaces 106a and 106b are denoted by S1 and T1, respectively. Let U1 be the intersection of the virtual straight line L1 passing through the intersection Q1 and orthogonal to the center line α and the boundary line 28b. Let V1 be the intersection of a virtual straight line L2 passing through the intersection T1 and orthogonal to the center line α and the boundary line 28a.

リッジ部128は、平面視において、第1領域128aと、第2領域128bと、第3領域128cと、を有している。第1領域128aは、境界線28aの交点Q1から交点V1までの部分と、境界線28bの交点U1から交点T1までの部分と、線分Q1U1と、線分T1V1と、によって囲まれている領域である。第2領域128bは、線分Q1U1と、線分S1U1と、線分Q1S1と、によって囲まれている領域である。第3領域128cは、線分T1V1と、線分R1V1と、線分R1T1と、によって囲まれている領域である。第1領域128aの平面形状は、例えば、2つの台形の上辺同士を接続させた形状である。第2領域128bおよび第3領域128cの平面形状は、例えば、三角形である。   The ridge portion 128 has a first region 128a, a second region 128b, and a third region 128c in plan view. The first region 128a is a region surrounded by a portion from the intersection point Q1 to the intersection point V1 of the boundary line 28a, a portion from the intersection point U1 to the intersection point T1 of the boundary line 28b, a line segment Q1U1, and a line segment T1V1. It is. The second region 128b is a region surrounded by the line segment Q1U1, the line segment S1U1, and the line segment Q1S1. The third region 128c is a region surrounded by the line segment T1V1, the line segment R1V1, and the line segment R1T1. The planar shape of the first region 128a is, for example, a shape in which the upper sides of two trapezoids are connected to each other. The planar shape of the second region 128b and the third region 128c is, for example, a triangle.

リッジ部128の幅W3は、平面視において、中心位置Cから第1光出射面170側に向かうにつれて広くなり、かつ、中心位置Cから第2光出射面172側に向かうにつれて広くなる。   The width W3 of the ridge portion 128 increases in the plan view from the center position C toward the first light exit surface 170 side and increases from the center position C toward the second light exit surface 172 side.

ここで、リッジ部128の幅(光導波路160の延在方向のある位置における幅)W3は、例えば、第1領域128aのように、境界線28a,28bを通り、かつ、中心線αと直交する直線(直交直線)を引ける場合は、該直交直線の境界線28a,28b間の長さである。一方、第2領域128bおよび第3領域128cのように、境界線28a,28bを通り、かつ、中心線αと直交する直交直線が引けない場合は、幅W3は、第2領域128bでは、交点Q1から境界線28bまで引いた直線(線分)の長さ、第3領域128cでは、交点T1から境界線28aまで引いた直線(線分)の長さである。   Here, the width (width at a position in the extending direction of the optical waveguide 160) W3 of the ridge portion 128 passes through the boundary lines 28a and 28b and is orthogonal to the center line α as in the first region 128a, for example. When a straight line (orthogonal straight line) is drawn, it is the length between the boundary lines 28a and 28b of the orthogonal straight line. On the other hand, when an orthogonal straight line passing through the boundary lines 28a and 28b and orthogonal to the center line α cannot be drawn as in the second region 128b and the third region 128c, the width W3 is the intersection point in the second region 128b. The length of the straight line (line segment) drawn from Q1 to the boundary line 28b is the length of the straight line (line segment) drawn from the intersection T1 to the boundary line 28a in the third region 128c.

リッジ部128の幅W3は、中心位置Cにおいて、最も狭くなる。幅W3は、例えば、光出射面170,172の位置において、最も広くなる。リッジ部128は、中心位置Cから第1光出射面170側に向かうにつれて広くなるテーパー部と、中心位置Cから第2
光出射面172側に向かうにつれて広くなるテーパー部と、を有している。
The width W3 of the ridge portion 128 is the narrowest at the center position C. For example, the width W3 becomes the widest at the positions of the light emitting surfaces 170 and 172. The ridge portion 128 has a tapered portion that becomes wider from the center position C toward the first light emitting surface 170 side, and a second portion from the center position C.
And a tapered portion that becomes wider toward the light exit surface 172 side.

接続領域130は、第3側面106c側の境界線30a(例えばコンタクト層110と絶縁層112との境界線)と、第4側面106d側の境界線30b(例えばコンタクト層110と絶縁層112との境界線)と、を有している。図11および図12に示すように、境界線30aと第1側面106aとの交点をQ2とする。境界線30bと第2側面106bとの交点をT2とする。   The connection region 130 includes a boundary line 30a on the third side surface 106c side (for example, a boundary line between the contact layer 110 and the insulating layer 112) and a boundary line 30b on the fourth side surface 106d side (for example, the contact layer 110 and the insulating layer 112). Boundary line). As shown in FIGS. 11 and 12, the intersection of the boundary line 30a and the first side surface 106a is defined as Q2. The intersection of the boundary line 30b and the second side surface 106b is T2.

接続領域130は、平面視において、幅W4が、中心位置Cから第1光出射面170に向かうにつれて広くなり、かつ、中心位置Cから第2光出射面172に向かうにつれて広くなる。   In plan view, the connection region 130 has a width W4 that increases from the center position C toward the first light exit surface 170 and increases from the center position C toward the second light exit surface 172.

ここで、接続領域130の幅(光導波路160の延在方向のある位置における幅)W4は、上述したリッジ部128の幅と同様に、境界線30a,30bを通り、かつ、中心線αと直交する直線(直交直線)を引ける場合は、該直交直線の境界線30a,30b間の長さである。一方、境界線30a,30bを通り、かつ、中心線αと直交する直交直線が引けない場合は、幅W4は、交点Q2から境界線30bまで引いた直線(線分)の長さ、または、交点T2から境界線30aまで引いた直線(線分)の長さである。   Here, the width W4 of the connection region 130 (the width at a position in the extending direction of the optical waveguide 160) W4 passes through the boundary lines 30a and 30b and the center line α, similarly to the width of the ridge portion 128 described above. When an orthogonal straight line (orthogonal straight line) can be drawn, it is the length between the boundary lines 30a and 30b of the orthogonal straight line. On the other hand, when an orthogonal straight line passing through the boundary lines 30a and 30b and orthogonal to the center line α cannot be drawn, the width W4 is the length of a straight line (line segment) drawn from the intersection point Q2 to the boundary line 30b, or This is the length of a straight line (line segment) drawn from the intersection T2 to the boundary line 30a.

接続領域130の幅W4は、中心位置Cにおいて、最も狭くなる。幅W4は、例えば、光出射面170,172の位置において、最も広くなる。接続領域130は、中心位置Cから第1光出射面170側に向かうにつれて広くなるテーパー部と、中心位置Cから第2光出射面172側に向かうにつれて広くなるテーパー部と、を有している。   The width W4 of the connection region 130 is the narrowest at the center position C. For example, the width W4 is widest at the positions of the light exit surfaces 170 and 172. The connection region 130 has a tapered portion that becomes wider from the center position C toward the first light emitting surface 170 side, and a tapered portion that becomes wider from the center position C toward the second light emitting surface 172 side. .

第1溝部150の幅W1および第2溝部150の幅W2は、平面視において、中心位置Cから第1光出射面170側に(第1側面106a側に)向かうについて狭くなり、かつ、中心位置Cから第2光出射面172側に(第2側面106b側に)向かうにつれて狭くなる。   The width W1 of the first groove 150 and the width W2 of the second groove 150 are narrower toward the first light exit surface 170 side (to the first side surface 106a) from the center position C in the plan view, and the center position. It narrows from C toward the second light exit surface 172 side (to the second side surface 106b side).

発光装置200では、発光装置100と同様に、高い放熱性を有することができる。   The light emitting device 200 can have a high heat dissipation property, similar to the light emitting device 100.

さらに、発光装置200では、平面視において、接続領域130の幅W4は、中心位置Cから第1光出射面170側に向かうにつれて広くなり、かつ、中心位置Cから第2光出射面172側に向かうにつれて広くなる。そのため、発光装置200では、利得の飽和を低減し、高出力化を図ることができる。以下、その理由について説明する。   Further, in the light emitting device 200, in the plan view, the width W4 of the connection region 130 becomes wider from the center position C toward the first light emission surface 170 side, and from the center position C to the second light emission surface 172 side. It gets wider as you go. Therefore, in the light emitting device 200, gain saturation can be reduced and higher output can be achieved. The reason will be described below.

図13は、光導波路の延在方向の位置と、光強度と、の関係を説明するための図ある。図13の横軸は、線分Q1U1の位置と線分T1V1の位置との間における光導波路の延在方向の位置を示している。   FIG. 13 is a diagram for explaining the relationship between the position in the extending direction of the optical waveguide and the light intensity. The horizontal axis of FIG. 13 indicates the position in the extending direction of the optical waveguide between the position of the line segment Q1U1 and the position of the line segment T1V1.

上述のように、光強度の大きい光出射面近傍(線分Q1U1側、線分T1V1側)では、光に変換されるキャリアが足りなくなるため、利得の飽和が発生し、その分、光出力が低下する(図13の破線参照)。一方、光強度が小さい部分(例えば中心位置C)は、光出射面側に比べてキャリアが多い状態であり、キャリアが十分に光に変換されておらず、キャリアが余っている。そのため、このような余剰キャリアを生成する電流を、キャリアが不足している光出射面側に注入することで、高出力かつ高効率の駆動を行うことができる。すなわち、単位長さ当たりの電流量を変化させることにより、光導波路全体の注入電流量を一定に保ちつつ、利得の飽和を低減し、最終的な光出力を大きくすることができる。   As described above, in the vicinity of the light exit surface where the light intensity is large (line segment Q1U1 side, line segment T1V1 side), there are not enough carriers to be converted into light, so that saturation of gain occurs, and the light output is correspondingly increased. Decrease (see broken line in FIG. 13). On the other hand, the portion where the light intensity is low (for example, the center position C) is in a state where there are more carriers than on the light exit surface side, and the carriers are not sufficiently converted to light, and the carriers remain. Therefore, high power and high efficiency driving can be performed by injecting a current for generating such surplus carriers to the light emitting surface side where the carriers are insufficient. That is, by changing the amount of current per unit length, gain saturation can be reduced and the final light output can be increased while keeping the injected current amount of the entire optical waveguide constant.

発光装置200では、上記のように、接続領域130の幅W4は、中心位置Cから第1光出射面170側に向かうにつれて広くなり、かつ、中心位置Cから第2光出射面172側に向かうにつれて広くなる。そのため、平面視において、線分Q1U1の位置と線分T1V1の位置との間の光導波路160の延在方向において、光導波路160の単位長さ当たりの電流量を、中心位置Cから光出射面170,172側に向かうにつれて、多くすることができる。そのため、発光装置200では、光導波路160全体に注入する電流量を増やすことなく、利得の飽和によって光出力が低下することを抑制することができる。すなわち、発光装置200では、利得の飽和を低減し、高出力化を図ることができる。   In the light emitting device 200, as described above, the width W4 of the connection region 130 becomes wider from the center position C toward the first light exit surface 170, and from the center position C toward the second light exit surface 172. As it gets wider. Therefore, in a plan view, in the extending direction of the optical waveguide 160 between the position of the line segment Q1U1 and the position of the line segment T1V1, the amount of current per unit length of the optical waveguide 160 is changed from the center position C to the light emitting surface. It can be increased toward the 170, 172 side. Therefore, in the light emitting device 200, it is possible to suppress a decrease in optical output due to gain saturation without increasing the amount of current injected into the entire optical waveguide 160. That is, in the light emitting device 200, gain saturation can be reduced and higher output can be achieved.

発光装置200では、平面視において、リッジ部128の幅W3は、中心位置Cから第1光出射面170側に向かうにつれて広くなり、かつ、中心位置Cから第2光出射面172側に向かうにつれて広くなる。そのため、発光装置200では、例えば平面視においてリッジ部128の幅W3が線分Q1U1から線分T1V1まで一定の場合に比べて、リッジ部128の平面形状と接続領域130の平面形状とを近づけることができる。そのため、発光装置200では、効率よく注入電流を光に変換することができ、より効果的に利得の飽和を低減し、高出力化を図ることができる。   In the light emitting device 200, in plan view, the width W3 of the ridge portion 128 increases from the center position C toward the first light exit surface 170 side, and from the center position C toward the second light exit surface 172 side. Become wider. Therefore, in the light emitting device 200, for example, the planar shape of the ridge portion 128 and the planar shape of the connection region 130 are made closer to each other than when the width W3 of the ridge portion 128 is constant from the line segment Q1U1 to the line segment T1V1 in plan view. Can do. Therefore, in the light emitting device 200, the injection current can be efficiently converted into light, and the gain saturation can be reduced more effectively and the output can be increased.

発光装置200では、平面視において、溝部150,152の幅W1,W2は、中心位置Cから第1光出射面170側に向かうにつれて狭くなり、かつ、中心位置Cから第2光出射面172側に向かうにつれて狭くなる。そのため、発光装置200では、光導波路160の延在方向に沿って徐々に放熱性を変化させることができ、例えば光導波路160に発生する熱の分布に合わせて、放熱性を変化させることができる。   In the light emitting device 200, the widths W1 and W2 of the grooves 150 and 152 in the plan view become narrower from the center position C toward the first light exit surface 170, and from the center position C to the second light exit surface 172 side. It becomes narrower as it goes to. Therefore, in the light emitting device 200, the heat dissipation can be gradually changed along the extending direction of the optical waveguide 160. For example, the heat dissipation can be changed in accordance with the distribution of heat generated in the optical waveguide 160. .

なお、図示はしないが、上述した発光装置100において、平面視において、溝部150,152の幅W1,W2は、中心位置Cから第1光出射面170側に向かうにつれて狭くなり、かつ、中心位置Cから第2光出射面172側に向かうにつれて狭くなっていてもよい。   Although not shown, in the light emitting device 100 described above, the widths W1 and W2 of the groove portions 150 and 152 in the plan view become narrower from the center position C toward the first light emitting surface 170 side and the center position. It may be narrower from C toward the second light exit surface 172 side.

1.3.2. 第2変形例
次に、第1実施形態の第2変形例に係る発光装置について、図面を参照しながら説明する。図14は、第1実施形態の第2変形例に係る発光装置300を模式的に示す図である。なお、図14は、発光装置300の発光素子2を第2電極122側からみた図であって、第2電極122を省略した図である。
1.3.2. Second Modified Example Next, a light emitting device according to a second modified example of the first embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 14 is a diagram schematically showing a light emitting device 300 according to a second modification of the first embodiment. 14 is a view of the light emitting element 2 of the light emitting device 300 as viewed from the second electrode 122 side, and is a view in which the second electrode 122 is omitted.

上述した発光装置100は、図1に示すように、1つの光導波路160を有していた。これに対し、発光装置300は、図14に示すように、複数の光導波路160を有している。図示の例では、発光装置200は、3つの光導波路160を有している。複数の光導波路160は、平面視において、活性層106の第3側面106cから第4側面106dに向かう方向に沿って配列されている。   The light emitting device 100 described above has one optical waveguide 160 as shown in FIG. On the other hand, the light-emitting device 300 has a plurality of optical waveguides 160 as shown in FIG. In the illustrated example, the light emitting device 200 includes three optical waveguides 160. The plurality of optical waveguides 160 are arranged along the direction from the third side surface 106c of the active layer 106 toward the fourth side surface 106d in plan view.

発光装置300では、発光装置100と同様に、高い放熱性を有することができる。さらに、発光装置300では、光導波路160は、複数配列されているため、より高出力化を図ることができる。なお、図示はしないが、発光装置200の光導波路160は、発光装置300のように、複数配列されていてもよい。   The light emitting device 300 can have a high heat dissipation property, similar to the light emitting device 100. Furthermore, in the light emitting device 300, since a plurality of the optical waveguides 160 are arranged, higher output can be achieved. Although not shown, a plurality of the optical waveguides 160 of the light emitting device 200 may be arranged like the light emitting device 300.

2. 第2実施形態
2.1. 発光装置
次に、第2実施形態に係る発光装置について、図面を参照しながら説明する。図15は、第2実施形態に係る発光装置400を模式的に示す図である。なお、図15は、発光装置300の発光素子2を第2電極122側からみた図であって、第2電極122を省略し
た図である。
2. Second Embodiment 2.1. Next, a light emitting device according to a second embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 15 is a diagram schematically illustrating a light emitting device 400 according to the second embodiment. FIG. 15 is a view of the light emitting element 2 of the light emitting device 300 as viewed from the second electrode 122 side, and is a view in which the second electrode 122 is omitted.

以下、第2実施形態に係る発光装置400において、第1実施形態に係る発光装置100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。   Hereinafter, in the light emitting device 400 according to the second embodiment, members having the same functions as the constituent members of the light emitting device 100 according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

発光装置100では、図1に示すように、活性層106の第1側面106aに第1光出射面170が設けられ、第1側面106bに第2光出射面172が設けられていた。   In the light emitting device 100, as shown in FIG. 1, the first light emitting surface 170 is provided on the first side surface 106a of the active layer 106, and the second light emitting surface 172 is provided on the first side surface 106b.

これに対し、発光装置400では、第1側面106aに光を出射する光出射面170が設けられ、第2側面106bに光を反射させる光反射面174が設けられている。光導波路160は、光出射面170と、光反射面174と、を有している。光出射面170には反射防止膜140が設けられている。光反射面174には、反射膜(高反射(High−Reflection)膜)142が設けられている。図示の例では、反射膜142は、第2側面106bに設けられている。反射膜142は、例えば、SiO層、Ta層、Al層、TiN層、TiO層、SiON層、SiN層や、これらの多層膜である。 On the other hand, in the light emitting device 400, the light emitting surface 170 that emits light is provided on the first side surface 106a, and the light reflecting surface 174 that reflects light is provided on the second side surface 106b. The optical waveguide 160 has a light emitting surface 170 and a light reflecting surface 174. An antireflection film 140 is provided on the light emitting surface 170. The light reflection surface 174 is provided with a reflection film (high-reflection film) 142. In the illustrated example, the reflective film 142 is provided on the second side surface 106b. The reflective film 142 is, for example, a SiO 2 layer, a Ta 2 O 5 layer, an Al 2 O 3 layer, a TiN layer, a TiO 2 layer, a SiON layer, a SiN layer, or a multilayer film thereof.

図示の例では、光導波路160は、光出射面170の法線P1および光反射面の法線P3の方向に延在している。すなわち、光導波路160の中心線αは、法線P1,P3と平行である。光導波路160の平面形状は、例えば、長方形である。平面視において、リッジ部128の幅W3および接続領域130の幅W4は、光出射面170から光反射面174まで一定である。なお、図示はしないが、光導波路160は、光出射面170の法線P1および光反射面の法線P3に対して傾いた方向に延在していてもよい。   In the illustrated example, the optical waveguide 160 extends in the direction of the normal line P1 of the light emitting surface 170 and the normal line P3 of the light reflecting surface. That is, the center line α of the optical waveguide 160 is parallel to the normal lines P1 and P3. The planar shape of the optical waveguide 160 is, for example, a rectangle. In plan view, the width W3 of the ridge 128 and the width W4 of the connection region 130 are constant from the light emitting surface 170 to the light reflecting surface 174. Although not shown, the optical waveguide 160 may extend in a direction inclined with respect to the normal line P1 of the light emitting surface 170 and the normal line P3 of the light reflecting surface.

第1溝部150の幅W1および第2溝部152の幅W2は、光反射面174が設けられている位置において(第2側面106bにおいて)、最も広い。図示の例では、第1溝部150は、第2側面106b側に位置する第7部分150dと、第1側面106a側に位置する第8部分150eと、を有している。第2溝部152は、第2側面106b側に位置する第9部分152dと、第1側面106a側に位置する第10部分152eと、を有している。部分150d,150eにおいて幅W1は、一定であり、部分152d,152eにおいて幅W2は、一定である。第7部分150dの幅W1と第9部分152dの幅W2とは、同じ大きさである。第8部分150eの幅W1と第10部分152eの幅W2とは、同じ大きさである。部分150d,152dの幅W1,W2は、部分150e,152eの幅W1,W2よりも広い。   The width W1 of the first groove 150 and the width W2 of the second groove 152 are the widest at the position where the light reflecting surface 174 is provided (in the second side surface 106b). In the illustrated example, the first groove portion 150 includes a seventh portion 150d located on the second side surface 106b side and an eighth portion 150e located on the first side surface 106a side. The second groove portion 152 includes a ninth portion 152d located on the second side surface 106b side and a tenth portion 152e located on the first side surface 106a side. The width W1 is constant in the portions 150d and 150e, and the width W2 is constant in the portions 152d and 152e. The width W1 of the seventh portion 150d and the width W2 of the ninth portion 152d are the same size. The width W1 of the eighth portion 150e and the width W2 of the tenth portion 152e are the same size. The widths W1 and W2 of the portions 150d and 152d are wider than the widths W1 and W2 of the portions 150e and 152e.

発光装置400では、光導波路160は、光出射面170および光反射面174を有しており、光反射面174において、キャリアが十分に光に変換されておらず、余剰キャリアが多い。そのため、光反射面174において、余剰キャリアによる発熱が大きくなる。   In the light emitting device 400, the optical waveguide 160 has a light emitting surface 170 and a light reflecting surface 174, and carriers are not sufficiently converted to light on the light reflecting surface 174, and there are many surplus carriers. For this reason, heat generation by surplus carriers is increased on the light reflecting surface 174.

発光装置400では、溝部150,152の幅W1,W2は、光反射面174が設けられている位置において最も広く、溝部150,152には放熱部6が設けられているため、光反射面174の位置における多量な余剰キャリアによる熱を放熱部6によって放出させることができる。したがって、発光装置400では、発光装置100と同様に、高い放熱性を有することができる。   In the light emitting device 400, the widths W1 and W2 of the groove portions 150 and 152 are the widest at the position where the light reflecting surface 174 is provided, and the heat radiating portion 6 is provided in the groove portions 150 and 152. Heat from the excessive carrier at the position can be released by the heat dissipating unit 6. Therefore, the light emitting device 400 can have a high heat dissipation property, similar to the light emitting device 100.

発光装置400では、光出射面170には、反射防止膜140が設けられ、光反射面174には、反射膜142が設けられている。そのため、発光装置400では、光出射面170における光の反射を抑制することができ、効率よく光出射面170から光を出射することができる。さらに、発光装置400では、光反射面174における光の透過を抑制す
ることができ、効率よく光反射面174において光を反射させることができる。
In the light emitting device 400, the light emission surface 170 is provided with the antireflection film 140, and the light reflection surface 174 is provided with the reflection film 142. Therefore, in the light emitting device 400, reflection of light on the light emitting surface 170 can be suppressed, and light can be emitted from the light emitting surface 170 efficiently. Furthermore, in the light emitting device 400, light transmission through the light reflecting surface 174 can be suppressed, and light can be efficiently reflected at the light reflecting surface 174.

2.2. 発光装置の製造方法
次に、第2実施形態に係る発光装置400の製造方法について、説明する。第2実施形態に係る発光装置400の製造方法は、第1実施形態に係る発光装置100の製造方法と、基本的に同様である。したがって、その詳細な説明を省略する。
2.2. Method for Manufacturing Light Emitting Device Next, a method for manufacturing the light emitting device 400 according to the second embodiment will be described. The manufacturing method of the light emitting device 400 according to the second embodiment is basically the same as the manufacturing method of the light emitting device 100 according to the first embodiment. Therefore, the detailed description is abbreviate | omitted.

2.3. 発光装置の変形例
次に、第2実施形態の変形例に係る発光装置について、図面を参照しながら説明する。図16は、第2実施形態の変形例に係る発光装置500を模式的に示す図である。なお、図16は、発光装置500の発光素子2を第2電極122側からみた図であって、第2電極122を省略した図である。
2.3. Next, a light emitting device according to a modified example of the second embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 16 is a diagram schematically illustrating a light emitting device 500 according to a modification of the second embodiment. FIG. 16 is a view of the light emitting element 2 of the light emitting device 500 as viewed from the second electrode 122 side, and is a view in which the second electrode 122 is omitted.

以下、第2実施形態の変形例に係る発光装置500において、第1実施形態に係る発光装置100、第2実施形態に係る発光装置400の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。   Hereinafter, in the light emitting device 500 according to the modified example of the second embodiment, members having the same functions as those of the light emitting device 100 according to the first embodiment and the components of the light emitting device 400 according to the second embodiment are denoted by the same reference numerals. And detailed description thereof is omitted.

上述した発光装置400では、図15に示すように、平面視において、リッジ部128の幅W3および接続領域130の幅W4は、光出射面170から光反射面174まで一定であった。   In the light emitting device 400 described above, as shown in FIG. 15, the width W3 of the ridge portion 128 and the width W4 of the connection region 130 are constant from the light emitting surface 170 to the light reflecting surface 174 in plan view.

これに対し、発光装置500では、図16に示すように、平面視において、リッジ部128の幅W3および接続領域130の幅W4は、光反射面174側から光出射面170側に向かうにつれて広くなる。平面視において、第1溝部150の幅W1および第2溝部152の幅W2は、光反射面174側から光出射面170側に向かうにつれて狭くなる。   On the other hand, in the light emitting device 500, as shown in FIG. 16, in plan view, the width W3 of the ridge 128 and the width W4 of the connection region 130 increase from the light reflecting surface 174 side toward the light emitting surface 170 side. Become. In plan view, the width W1 of the first groove 150 and the width W2 of the second groove 152 become narrower from the light reflecting surface 174 side toward the light emitting surface 170 side.

発光装置500では、発光装置400と同様に、高い放熱性を有することができる。   The light-emitting device 500 can have high heat dissipation properties, similar to the light-emitting device 400.

さらに、発光装置500では、接続領域130の幅W4は、光反射面174側から光出射面170側に向かうにつれて広くなる。そのため、発光装置500では、発光装置200と同様に、利得の飽和を低減し、高出力化を図ることができる。   Further, in the light emitting device 500, the width W4 of the connection region 130 becomes wider from the light reflecting surface 174 side toward the light emitting surface 170 side. Therefore, in the light emitting device 500, similarly to the light emitting device 200, gain saturation can be reduced and higher output can be achieved.

発光装置500では、接続領域130の幅W4は、光反射面174側から光出射面170側に向かうにつれて広くなる。そのため、発光装置500では、利得の飽和を低減し、高出力化を図ることができる。   In the light emitting device 500, the width W4 of the connection region 130 increases from the light reflecting surface 174 side toward the light emitting surface 170 side. Therefore, in the light emitting device 500, gain saturation can be reduced and higher output can be achieved.

発光装置500では、第1溝部150の幅W1および第2溝部152の幅W2は、光反射面174側から光出射面170側に向かうにつれて狭くなる。そのため、発光装置500では、発光装置200と同様に、光導波路160の延在方向に沿って徐々に放熱性を変化させることができ、例えば光導波路160に発生する熱の分布に合わせて、放熱性を変化させることができる。   In the light emitting device 500, the width W1 of the first groove 150 and the width W2 of the second groove 152 become narrower from the light reflecting surface 174 side toward the light emitting surface 170 side. Therefore, in the light emitting device 500, the heat dissipation can be gradually changed along the extending direction of the optical waveguide 160, similarly to the light emitting device 200. For example, the heat dissipation is performed in accordance with the distribution of heat generated in the optical waveguide 160. Sex can be changed.

なお、図示はしないが、発光装置500の光導波路160は、発光装置300のように、複数配列されていてもよい。   Although not shown, a plurality of the optical waveguides 160 of the light emitting device 500 may be arranged like the light emitting device 300.

3. 第3実施形態
次に、第3実施形態に係るプロジェクターについて、図面を参照しながら説明する。図17は、第3実施形態に係るプロジェクター900を模式的に示す図である。
3. Third Embodiment Next, a projector according to a third embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 17 is a diagram schematically illustrating a projector 900 according to the third embodiment.

プロジェクター900は、図17に示すように、赤色光、緑色光、青色光を出射する赤
色光源300R、緑色光源300G、青色光源300Bを含む。赤色光源300R、緑色光源300G、青色光源300Bは、本発明に係る発光装置である。以下では、本発明に係る発光装置として発光装置300を用いた例について説明する。なお、便宜上、図170では、プロジェクター900を構成する筐体を省略し、さらに光源300R,300G,300Bを簡略化している。
As shown in FIG. 17, the projector 900 includes a red light source 300R that emits red light, green light, and blue light, a green light source 300G, and a blue light source 300B. The red light source 300R, the green light source 300G, and the blue light source 300B are light emitting devices according to the present invention. Hereinafter, an example in which the light emitting device 300 is used as the light emitting device according to the present invention will be described. For the sake of convenience, in FIG. 170, the casing that constitutes the projector 900 is omitted, and the light sources 300R, 300G, and 300B are simplified.

プロジェクター900は、さらに、レンズアレイ902R,902G,902Bと、透過型の液晶ライトバルブ(光変調装置)904R,904G,904Bと、投射レンズ(投射装置)908と、を含む。   The projector 900 further includes lens arrays 902R, 902G, and 902B, transmissive liquid crystal light valves (light modulation devices) 904R, 904G, and 904B, and a projection lens (projection device) 908.

光源300R,300G,300Bから出射された光は、各レンズアレイ902R,902G,902Bに入射する。レンズアレイ902R,902G,902Bは、光源300R,300G,300B側に、第1光出射面170から出射される光が入射する入射面901を有している。入射面901は、例えば、平坦な面である。入射面901は、複数の第1光出射面170に対応して複数設けられ、等間隔で配置されている。入射面901の法線(図示せず)は、第1側面106aに対して傾斜している。入射面901によって、第1光出射面170から出射される光の光軸を、液晶ライトバルブ904R,904G,904Bの照射面905に対して、直交させることができる。   Light emitted from the light sources 300R, 300G, and 300B is incident on the lens arrays 902R, 902G, and 902B. The lens arrays 902R, 902G, and 902B have incident surfaces 901 on which light emitted from the first light emitting surface 170 is incident on the light sources 300R, 300G, and 300B side. The incident surface 901 is, for example, a flat surface. A plurality of incident surfaces 901 are provided corresponding to the plurality of first light emitting surfaces 170 and are arranged at equal intervals. A normal line (not shown) of the incident surface 901 is inclined with respect to the first side surface 106a. By the incident surface 901, the optical axis of the light emitted from the first light emitting surface 170 can be orthogonal to the irradiation surface 905 of the liquid crystal light valves 904R, 904G, and 904B.

レンズアレイ902R,902G,902Bは、液晶ライトバルブ904R,904G,904B側に、出射面903を有している。出射面903は、例えば、凸状の面である。出射面903は、複数の入射面901に対応して複数設けられ、等間隔で配置されている。入射面901において光軸が変換された光は、出射面903によって、集光される、または拡散角を小さくされることにより、重畳(一部重畳)されることができる。これにより、均一性よく液晶ライトバルブ904R,904G,904Bを照射することができる。   The lens arrays 902R, 902G, and 902B have an emission surface 903 on the liquid crystal light valves 904R, 904G, and 904B side. The emission surface 903 is, for example, a convex surface. A plurality of exit surfaces 903 are provided corresponding to the plurality of entrance surfaces 901 and are arranged at equal intervals. The light whose optical axis is converted on the incident surface 901 can be superposed (partially superposed) by being condensed by the exit surface 903 or by reducing the diffusion angle. Thereby, the liquid crystal light valves 904R, 904G, and 904B can be irradiated with good uniformity.

以上のように、レンズアレイ902R,902G,902Bは、第1光出射面170から出射される光の光軸を制御して、該光を集光させることができる。   As described above, the lens arrays 902R, 902G, and 902B can condense the light by controlling the optical axis of the light emitted from the first light emitting surface 170.

各レンズアレイ902R,902G,902Bによって集光された光は、各液晶ライトバルブ904R,904G,904Bに入射する。各液晶ライトバルブ904R,904G,904Bは、入射した光をそれぞれ画像情報に応じて変調する。そして、投射レンズ908は、液晶ライトバルブ904R,904G,904Bによって形成された像(画像)を拡大してスクリーン(表示面)910に投射する。   The light condensed by the lens arrays 902R, 902G, and 902B is incident on the liquid crystal light valves 904R, 904G, and 904B. Each of the liquid crystal light valves 904R, 904G, and 904B modulates incident light according to image information. The projection lens 908 enlarges and projects an image (image) formed by the liquid crystal light valves 904R, 904G, and 904B onto a screen (display surface) 910.

また、プロジェクター900は、液晶ライトバルブ904R,904G,904Bから出射された光を合成して投射レンズ908に導くクロスダイクロイックプリズム(色光合成手段)906を、含むことができる。   In addition, the projector 900 can include a cross dichroic prism (color light combining unit) 906 that combines light emitted from the liquid crystal light valves 904R, 904G, and 904B and guides the light to the projection lens 908.

各液晶ライトバルブ904R,904G,904Bによって変調された3つの色光は、クロスダイクロイックプリズム906に入射する。このプリズムは、4つの直角プリズムを貼り合わせて形成され、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に配置されている。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成され、カラー画像を表す光が形成される。そして、合成された光は、投射光学系である投射レンズ908によりスクリーン910上に投射され、拡大された画像が表示される。   The three color lights modulated by the liquid crystal light valves 904R, 904G, and 904B are incident on the cross dichroic prism 906. This prism is formed by bonding four right-angle prisms, and a dielectric multilayer film that reflects red light and a dielectric multilayer film that reflects blue light are arranged in a cross shape on the inner surface thereof. These dielectric multilayer films combine the three color lights to form light representing a color image. The synthesized light is projected onto the screen 910 by the projection lens 908 which is a projection optical system, and an enlarged image is displayed.

なお、図17に示す例では、第2側面106bに設けられた第2光出射面172から出射される光については図示していないが、該光は、図示せぬ反射部およびレンズアレイに
入射した後、液晶ライトバルブ904R,904G,904Bに入射してもよい。
In the example shown in FIG. 17, the light emitted from the second light emission surface 172 provided on the second side surface 106b is not shown, but the light is incident on the reflection unit and the lens array (not shown). Then, the light may enter the liquid crystal light valves 904R, 904G, and 904B.

プロジェクター900では、高い放熱性を有する発光装置300を含むことができる。   The projector 900 can include the light emitting device 300 having high heat dissipation.

プロジェクター900は、発光装置200を液晶ライトバルブ904R,904G,904Bの直下に配置し、902R,902G,902Bを用いて集光と均一照明とを同時に行う方式(バックライト方式)である。そのため、プロジェクター900では、光学系の損失低減と部品点数の削減とを図ることができる。   The projector 900 is a method (backlight method) in which the light emitting device 200 is disposed immediately below the liquid crystal light valves 904R, 904G, and 904B, and condensing and uniform illumination are performed simultaneously using the 902R, 902G, and 902B. Therefore, the projector 900 can reduce the loss of the optical system and the number of parts.

なお、上述の例では、光変調装置として透過型の液晶ライトバルブを用いたが、液晶以外のライトバルブを用いてもよいし、反射型のライトバルブを用いてもよい。このようなライトバルブとしては、例えば、反射型の液晶ライトバルブや、デジタルマイクロミラーデバイス(Digital Micromirror Device)が挙げられる。また、投射光学系の構成は、使用されるライトバルブの種類によって適宜変更される。   In the above example, a transmissive liquid crystal light valve is used as the light modulation device. However, a light valve other than liquid crystal may be used, or a reflective light valve may be used. Examples of such a light valve include a reflection type liquid crystal light valve and a digital micromirror device (Digital Micromirror Device). Further, the configuration of the projection optical system is appropriately changed depending on the type of light valve used.

また、光源300R,300G,300Bを、光源300R,300G,300Bからの光をスクリーン上で走査させることにより、表示面に所望の大きさの画像を表示させる画像形成装置である走査手段を有するような走査型の画像表示装置(プロジェクター)の光源装置にも適用することが可能である。   Further, the light sources 300R, 300G, and 300B have scanning means that is an image forming apparatus that displays an image of a desired size on the display surface by causing the light from the light sources 300R, 300G, and 300B to scan on the screen. The present invention can also be applied to a light source device of a simple scanning image display device (projector).

本発明は、本願に記載の特徴や効果を有する範囲で一部の構成を省略したり、各実施形態や変形例を組み合わせたりしてもよい。   In the present invention, a part of the configuration may be omitted within a range having the characteristics and effects described in the present application, or each embodiment or modification may be combined.

本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。   The present invention includes configurations that are substantially the same as the configurations described in the embodiments (for example, configurations that have the same functions, methods, and results, or configurations that have the same objects and effects). In addition, the invention includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. In addition, the present invention includes a configuration that exhibits the same operational effects as the configuration described in the embodiment or a configuration that can achieve the same object. Further, the invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.

2…発光素子、4…実装基板、6…放熱部、28a,28b,30a,30b…境界線、100…発光装置、101…積層体、102…基板、104…第1クラッド層、106…活性層、106a…第1側面、106b…第2側面、106c…第3側面、106d…第4側面、108…第2クラッド層、108a…第5側面、108b…第6側面、110…コンタクト層、111…柱状部、112…絶縁層、120…第1電極、122…第2電極、128…リッジ部、128a…第1領域、128b…第2領域、128c…第3領域、130…接続領域、140…反射防止膜、142…反射膜、150…第1溝部、150a…第1部分、150b…第2部分、150c…第3部分、150d…第7部分、150e…第8部分、152…第2溝部、152a…第4部分、152b…第5部分、152c…第6部分、152d…第9部分、152e…第10部分、160…光導波路、170…第1光出射面、172…第2光出射面、174…光反射面、200,300,400,500…発光装置、900…プロジェクター、901…入射面、902R,902G,902B…レンズアレイ、904R,904G,904B…液晶ライトバルブ、905…照射面、906…クロスダイクロイックプリズム、908…投射レンズ、910…スクリーン DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 ... Light emitting element, 4 ... Mounting board, 6 ... Radiation part, 28a, 28b, 30a, 30b ... Borderline, 100 ... Light-emitting device, 101 ... Laminated body, 102 ... Substrate, 104 ... First clad layer, 106 ... Active Layer, 106a ... first side, 106b ... second side, 106c ... third side, 106d ... fourth side, 108 ... second cladding layer, 108a ... fifth side, 108b ... sixth side, 110 ... contact layer, 111 ... Columnar part, 112 ... Insulating layer, 120 ... First electrode, 122 ... Second electrode, 128 ... Ridge part, 128a ... First region, 128b ... Second region, 128c ... Third region, 130 ... Connection region, 140: antireflection film, 142: reflection film, 150: first groove, 150a: first part, 150b: second part, 150c ... third part, 150d ... seventh part, 150e ... eighth part, 152 ... first 2 grooves , 152a ... fourth part, 152b ... fifth part, 152c ... sixth part, 152d ... nine part, 152e ... tenth part, 160 ... optical waveguide, 170 ... first light exit surface, 172 ... second light exit Surface, 174 ... Light reflecting surface, 200, 300, 400, 500 ... Light emitting device, 900 ... Projector, 901 ... Incident surface, 902R, 902G, 902B ... Lens array, 904R, 904G, 904B ... Liquid crystal light valve, 905 ... Irradiation Surface, 906 ... Cross dichroic prism, 908 ... Projection lens, 910 ... Screen

Claims (15)

電流が注入されて光を発生させることが可能な活性層と、
前記活性層を挟む第1クラッド層および第2クラッド層と、
を含み、
前記第2クラッド層は、前記第2クラッド層に設けられた第1溝部と第2溝部との間に、リッジ部を有し、
前記活性層は、前記活性層および前記第1クラッド層の積層方向からみて、前記リッジ部と重なる領域に、光を導波させる光導波路を構成し、
前記光導波路は、光を出射する第1光出射面および第2光出射面を有し、
前記第1溝部および前記第2溝部は、前記積層方向からみて、前記光導波路に沿って延在し、
前記積層方向からみて、前記第1溝部の幅および前記第2溝部の幅は、前記第1光出射面および前記第2光出射面までの距離が等しい中心位置において、最も広く、
前記第1溝部および前記第2溝部には、前記光導波路で発生した熱を放出する放熱部が設けられ、
前記放熱部の材質は、前記第2クラッド層の材質よりも、熱伝導率が高い、ことを特徴とする発光装置。
An active layer capable of generating light when current is injected;
A first cladding layer and a second cladding layer sandwiching the active layer;
Including
The second cladding layer has a ridge portion between a first groove portion and a second groove portion provided in the second cladding layer,
The active layer constitutes an optical waveguide that guides light in a region overlapping the ridge portion as viewed from the stacking direction of the active layer and the first cladding layer,
The optical waveguide has a first light emitting surface and a second light emitting surface for emitting light,
The first groove portion and the second groove portion extend along the optical waveguide as viewed from the stacking direction,
When viewed from the stacking direction, the width of the first groove and the width of the second groove are widest at the center position where the distances to the first light emitting surface and the second light emitting surface are equal,
The first groove portion and the second groove portion are provided with a heat radiating portion that releases heat generated in the optical waveguide,
The light emitting device according to claim 1, wherein a material of the heat radiating portion is higher in thermal conductivity than a material of the second cladding layer.
前記活性層に電流を注入する第1電極および第2電極と、
前記第1クラッド層、前記活性層、および前記第2クラッド層を有する積層体と、
を含み、
前記積層体は、前記第2電極と接続されている接続領域を有し、
前記積層方向からみて、前記接続領域の幅は、前記中心位置から前記第1光出射面側に向かうにつれて広くなり、かつ、前記中心位置から前記第2光出射面側に向かうにつれて広くなる、ことを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
A first electrode and a second electrode for injecting current into the active layer;
A laminate having the first cladding layer, the active layer, and the second cladding layer;
Including
The laminate has a connection region connected to the second electrode,
When viewed from the stacking direction, the width of the connection region increases from the center position toward the first light exit surface, and increases from the center position toward the second light exit surface. The light-emitting device according to claim 1.
前記積層方向からみて、前記リッジ部の幅は、前記中心位置から前記第1光出射面側に向かうにつれて広くなり、かつ、前記中心位置から前記第2光出射面側に向かうにつれて広くなる、ことを特徴とする請求項2に記載の発光装置。   When viewed from the stacking direction, the width of the ridge portion increases from the center position toward the first light exit surface, and increases from the center position toward the second light exit surface. The light-emitting device according to claim 2. 前記積層方向からみて、前記第1溝部の幅および前記第2溝部の幅は、前記中心位置から前記第1光出射面側に向かうにつれて狭くなり、かつ、前記中心位置から前記第2光出射面側に向かうにつれて狭くなる、ことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の発光装置。   When viewed from the stacking direction, the width of the first groove portion and the width of the second groove portion become narrower from the center position toward the first light emission surface side, and from the center position to the second light emission surface. The light-emitting device according to claim 1, wherein the light-emitting device becomes narrower toward the side. 前記積層方向からみて、前記第1溝部、前記第2溝部、および前記光導波路を合わせた形状は、前記中心位置に関して対称である、ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の発光装置。   5. The shape according to claim 1, wherein a shape of the first groove portion, the second groove portion, and the optical waveguide is symmetrical with respect to the center position when viewed from the stacking direction. The light-emitting device of description. 前記第1光出射面および前記第2光出射面には、反射防止膜が設けられている、ことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の発光装置。   The light emitting device according to claim 1, wherein an antireflection film is provided on the first light emitting surface and the second light emitting surface. 前記光導波路は、前記第1光出射面の法線および前記第2光出射面の法線に対して傾いた方向に延在している、ことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の発光装置。   7. The optical waveguide according to claim 1, wherein the optical waveguide extends in a direction inclined with respect to a normal line of the first light emission surface and a normal line of the second light emission surface. 2. The light emitting device according to item 1. 電流が注入されて光を発生させることが可能な活性層と、
前記活性層を挟む第1クラッド層および第2クラッド層と、
を含み、
前記第2クラッド層は、前記第2クラッド層に設けられた第1溝部と第2溝部との間に、リッジ部を有し、
前記活性層は、前記活性層および前記第1クラッド層の積層方向からみて、前記リッジ部と重なる領域に、光を導波させる光導波路を構成し、
前記光導波路は、光を射出する光出射面と、光を反射させる光反射面と、を有し、
前記第1溝部および前記第2溝部は、前記積層方向からみて、前記光導波路に沿って延在し、
前記積層方向からみて、前記第1溝部の幅および前記第2溝部の幅は、前記光反射面が設けられている位置において、最も広く、
前記第1溝部および前記第2溝部には、前記光導波路で発生した熱を放出する放熱部が設けられ、
前記放熱部の材質は、前記第2クラッド層の材質よりも、熱伝導率が高い、ことを特徴とする発光装置。
An active layer capable of generating light when current is injected;
A first cladding layer and a second cladding layer sandwiching the active layer;
Including
The second cladding layer has a ridge portion between a first groove portion and a second groove portion provided in the second cladding layer,
The active layer constitutes an optical waveguide that guides light in a region overlapping the ridge portion as viewed from the stacking direction of the active layer and the first cladding layer,
The optical waveguide has a light emitting surface for emitting light, and a light reflecting surface for reflecting light,
The first groove portion and the second groove portion extend along the optical waveguide as viewed from the stacking direction,
When viewed from the stacking direction, the width of the first groove and the width of the second groove are widest at the position where the light reflecting surface is provided,
The first groove portion and the second groove portion are provided with a heat radiating portion that releases heat generated in the optical waveguide,
The light emitting device according to claim 1, wherein a material of the heat radiating portion is higher in thermal conductivity than a material of the second cladding layer.
前記活性層に電流を注入する第1電極および第2電極と、
前記第1クラッド層、前記活性層、および前記第2クラッド層を有する積層体と、
を含み、
前記積層体は、前記第2電極と接続されている接続領域を有し、
前記積層方向からみて、前記接続領域の幅は、前記光反射面側から前記光出射面側に向かうにつれて広くなる、ことを特徴とする請求項8に記載の発光装置。
A first electrode and a second electrode for injecting current into the active layer;
A laminate having the first cladding layer, the active layer, and the second cladding layer;
Including
The laminate has a connection region connected to the second electrode,
The light emitting device according to claim 8, wherein the width of the connection region increases from the light reflecting surface side toward the light emitting surface side when viewed from the stacking direction.
前記積層方向からみて、前記リッジ部の幅は、前記光反射面側から前記光出射面側に向かうにつれて広くなる、ことを特徴とする請求項9に記載の発光装置。   10. The light emitting device according to claim 9, wherein the width of the ridge portion increases from the light reflecting surface side toward the light emitting surface side when viewed from the stacking direction. 前記積層方向からみて、前記第1溝部の幅および前記第2溝部の幅は、前記光反射面側から前記光出射面側に向かうにつれて狭くなる、ことを特徴とする請求項8ないし10のいずれか1項に記載の発光装置。   The width of the first groove part and the width of the second groove part as viewed from the stacking direction become narrower from the light reflecting surface side toward the light emitting surface side. The light emitting device according to claim 1. 前記光出射面には、反射防止膜が設けられ、
前記光反射面には、反射膜が設けられている、ことを特徴とする請求項8ないし11のいずれか1項に記載の発光装置。
The light exit surface is provided with an antireflection film,
The light-emitting device according to claim 8, wherein a reflection film is provided on the light reflection surface.
前記光導波路は、複数配列されている、ことを特徴とする請求項1ないし12のいずれか1項に記載の発光装置。   The light emitting device according to claim 1, wherein a plurality of the optical waveguides are arranged. 前記活性層と、前記第1クラッド層と、前記第2クラッド層と、前記活性層に電流を注入する第1電極および第2電極と、を有する発光素子と、
前記発光素子が実装されている実装基板と、
を含み、
前記発光素子は、前記放熱部によって前記実装基板に接続されている、ことを特徴とする請求項1ないし13のいずれか1項に記載の発光装置。
A light emitting device comprising: the active layer; the first cladding layer; the second cladding layer; and a first electrode and a second electrode for injecting current into the active layer;
A mounting substrate on which the light emitting element is mounted;
Including
The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting element is connected to the mounting substrate by the heat radiating portion.
請求項1ないし14のいずれか1項に記載の発光装置と、
前記発光装置から出射された光を、画像情報に応じて変調する光変調装置と、
前記光変調装置によって形成された画像を投射する投射装置と、
を含む、ことを特徴とするプロジェクター。
The light emitting device according to any one of claims 1 to 14,
A light modulation device that modulates light emitted from the light emitting device according to image information;
A projection device for projecting an image formed by the light modulation device;
Including a projector.
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