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JP2016224284A - Polarizer, polarizer transfer body, image display device, manufacturing method for polarizer, and manufacturing method for polarizer transfer body - Google Patents

Polarizer, polarizer transfer body, image display device, manufacturing method for polarizer, and manufacturing method for polarizer transfer body Download PDF

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JP2016224284A
JP2016224284A JP2015110863A JP2015110863A JP2016224284A JP 2016224284 A JP2016224284 A JP 2016224284A JP 2015110863 A JP2015110863 A JP 2015110863A JP 2015110863 A JP2015110863 A JP 2015110863A JP 2016224284 A JP2016224284 A JP 2016224284A
Authority
JP
Japan
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polarizer
metal linear
transfer body
metal
holding
Prior art date
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Pending
Application number
JP2015110863A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
文宣 三神
Fuminori Mikami
文宣 三神
藤井 和仁
Kazuhito Fujii
和仁 藤井
洋一郎 大橋
Yoichiro Ohashi
洋一郎 大橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2015110863A priority Critical patent/JP2016224284A/en
Publication of JP2016224284A publication Critical patent/JP2016224284A/en
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  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

【課題】ワイヤーグリッド型偏光子に関して、大面積の製品を効率良く量産することができるようにする。【解決手段】入射する電磁波の透過を偏光面に応じて制限する偏光子4において、透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び線幅により金属線状部11が繰り返し作製され、複数の凹状溝12による凹凸面を備えた金属線状部11の保持部16が形成され、金属線状部11が、凹状溝12の底面に断面涙滴形状により作製された涙滴形状の部位を備える。【選択図】図2A wire grid polarizer that enables mass production of a large-area product efficiently. In a polarizer that restricts transmission of incident electromagnetic waves according to a polarization plane, a metal linear portion is repeatedly formed with a pitch and a line width less than the shortest wavelength in a wavelength band that restricts transmission, The holding part 16 of the metal linear part 11 provided with the concavo-convex surface by the concave groove 12 is formed, and the metal linear part 11 is provided with a teardrop-shaped part formed by a cross-sectional teardrop shape on the bottom surface of the concave groove 12. . [Selection] Figure 2

Description

本発明は、ワイヤーグリッド型偏光子に関するものである。   The present invention relates to a wire grid polarizer.

従来、液晶表示装置では、透明電極を配置したガラス板により液晶材料を挟持して液晶セルが形成され、この液晶セルの両面に直線偏光板が配置されて液晶表示パネルが構成される。また近年、この液晶表示パネルの入射面(バックライト側面)に、反射型の直線偏光板を配置してバックライトによる照明光の利用効率を向上する工夫が図られている。   Conventionally, in a liquid crystal display device, a liquid crystal cell is formed by sandwiching a liquid crystal material by a glass plate on which a transparent electrode is arranged, and a linear polarizing plate is arranged on both sides of the liquid crystal cell to constitute a liquid crystal display panel. In recent years, a device has been devised in which a reflective linear polarizing plate is arranged on the incident surface (backlight side surface) of the liquid crystal display panel to improve the use efficiency of illumination light by the backlight.

このような偏光子には、ポリビニルアルコール(PVA)にヨウ素等を含浸させた後、延伸して作製する構成(いわゆるシート・ポラライザーである)、ワイヤーグリッド型偏光子等が利用されている。特許文献1、2には、ワイヤーグリッド型偏光子に関する工夫が提案されている。   As such a polarizer, a configuration (so-called sheet polarizer), a wire grid type polarizer, and the like, which are made by impregnating polyvinyl alcohol (PVA) with iodine or the like and then stretching, are used. Patent Documents 1 and 2 propose a device relating to a wire grid polarizer.

ところで近年、液晶表示装置は薄型化が進んでおり、特に携帯型の液晶表示装置では、一段と薄膜化することが求められている。これにより液晶表示装置の構成部品においても、薄型化することが求められている。   In recent years, liquid crystal display devices have been made thinner. In particular, portable liquid crystal display devices are required to be made thinner. As a result, the components of the liquid crystal display device are also required to be thinned.

しかしながらこのような液晶表示装置に適用されるシート・ポラライザーによる偏光子は、耐熱性が劣り、さらに厚みを薄くすることが困難な欠点がある。これによりシート・ポラライザーに代えてワイヤーグリッド型偏光子の利用が考えられる。しかしながら従来のワイヤーグリッド型偏光子は、大面積の製品を効率良く量産することが困難な問題があった。   However, a polarizer using a sheet polarizer applied to such a liquid crystal display device has disadvantages that heat resistance is poor and it is difficult to reduce the thickness. Accordingly, it is conceivable to use a wire grid type polarizer instead of the sheet polarizer. However, the conventional wire grid polarizer has a problem that it is difficult to efficiently mass-produce a large-area product.

特開2006−330521号公報JP 2006-330521 A 特開2012−27221号公報JP 2012-27221 A

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、ワイヤーグリッド型偏光子に関して、大面積の製品を効率良く量産することができるようにすることを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a condition, and it aims at enabling it to mass-produce a large area product efficiently regarding a wire grid type polarizer.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、凸条を繰り返し作製してなる凹凸面上に金属材料を堆積させた後、エッチング処理し、凸条の頂部に残存する金属材料により金属線状部を作製するようにして、この金属線状部を透明樹脂材料により保持して基材から剥離し、偏光子を作製する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。   The present inventor has conducted extensive research to solve the above problems, and after depositing a metal material on an uneven surface formed by repeatedly producing ridges, the metal material remains on the top of the ridges after etching. As a result, the present inventors completed the present invention with the idea that a metal linear part is prepared by holding the metal linear part with a transparent resin material and peeling it from the substrate to produce a polarizer. It was.

(1) 入射する電磁波の透過を偏光面に応じて制限する偏光子において、
透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び線幅により金属線状部が繰り返し作製され、
複数の凹状溝による凹凸面を備えた前記金属線状部の保持部が形成され、
前記金属線状部が、
前記凹状溝の底面に断面涙滴形状により作製された涙滴形状の部位を備える偏光子。
(1) In a polarizer that limits the transmission of incident electromagnetic waves according to the plane of polarization,
A metal linear part is repeatedly produced with a pitch and a line width less than the shortest wavelength of a wavelength band that restricts transmission,
A holding part of the metal linear part provided with an uneven surface by a plurality of concave grooves is formed,
The metal linear portion is
A polarizer comprising a teardrop-shaped portion made in a teardrop-shaped cross section on the bottom surface of the concave groove.

(1)によれば、凹状溝に対応する凸条を備えた凹凸面に、金属線状部に係る金属材料を堆積した後、エッチングすることにより金属線状部を作製することができる。またその後、このようにして作製した金属線状部を保持するように透明樹脂材料により保持部を形成することにより作製することができ、これによりワイヤーグリッド型偏光子に関して、大面積の製品を効率良く量産することができる。   According to (1), after depositing the metal material which concerns on a metal linear part on the uneven surface provided with the protruding item | line corresponding to a concave groove, a metal linear part can be produced by etching. In addition, after that, it can be produced by forming a holding part with a transparent resin material so as to hold the metal linear part produced in this way. Can be mass-produced well.

(2) (1)において、
前記保持部が、
透明樹脂層であり、透明フィルム材による基材の表面に保持された偏光子。
(2) In (1),
The holding part is
A polarizer which is a transparent resin layer and is held on the surface of a base material by a transparent film material.

(2)によれば、より具体的構成により偏光子を作製することができる。   According to (2), a polarizer can be produced with a more specific configuration.

(3) (1)又は(2)において、
前記凹状溝に係る断面矩形形状による部位と、前記涙滴形状の部位とにより、前記金属線状部が形成された偏光子。
(3) In (1) or (2),
A polarizer in which the metal linear portion is formed by a portion having a rectangular cross-section related to the concave groove and a portion having the teardrop shape.

(3)によれば、さらに保持部の凹状溝に係る断面矩形形状による部位を備えていることにより、アスペクト比の大きな金属線状部を形成することができる。   According to (3), the metal linear part with a large aspect ratio can be formed by providing the part by the cross-sectional rectangular shape which concerns on the concave groove of a holding | maintenance part.

(4) (1)、(2)、(3)の何れかに記載の偏光子を備える画像表示装置。   (4) An image display device comprising the polarizer according to any one of (1), (2), and (3).

(4)によれば、大面積の製品を効率良く量産することが可能なワイヤーグリッド型の偏光子を使用して画像表示装置を提供することができる。   According to (4), it is possible to provide an image display device using a wire grid type polarizer capable of efficiently mass-producing a large-area product.

(5) ワイヤーグリッド型偏光子に係る偏光子の転写体において、
基材の表面に複数の凸条による凹凸面が形成され、
前記凹凸面の凸条の頂部に、断面涙滴形状により金属線状部が作製され、
前記金属線状部を保持する保持部が形成された偏光子の転写体。
(5) In the polarizer transfer body according to the wire grid polarizer,
An uneven surface with a plurality of ridges is formed on the surface of the substrate,
At the top of the ridges of the concavo-convex surface, a metal linear part is produced by a teardrop shape in cross section
A polarizer transfer body having a holding portion for holding the metal linear portion.

(5)によれば、凸条を備えた凹凸面に金属線状部に係る金属材料を堆積した後、エッチングすることにより金属線状部を作製することができる。またその後、透明樹脂材料により保持部を形成することができる。これによりワイヤーグリッド型偏光子に関して、偏光子の転写体を大面積かつ効率良く量産することができる。   According to (5), after depositing the metal material which concerns on a metal linear part on the uneven surface provided with the protruding item | line, a metal linear part can be produced by etching. Thereafter, the holding portion can be formed of a transparent resin material. Thereby, regarding the wire grid type polarizer, a transfer body of the polarizer can be mass-produced efficiently with a large area.

(6) (5)において、
前記基材の表面には賦型樹脂層が設けられ、
前記賦型樹脂層の賦型処理により前記凹凸面が作製された偏光子の転写体。
(6) In (5),
A shaping resin layer is provided on the surface of the substrate,
A polarizer transfer body in which the uneven surface is produced by a molding treatment of the molding resin layer.

(6)によれば、賦型処理により凹凸面を作製するようにして、より具体的構成により偏光子の転写体を提供することができる。   According to (6), it is possible to provide a transfer body of a polarizer with a more specific configuration by producing an uneven surface by a shaping process.

(7) (5)又は(6)において、
前記凹凸面には、密着力強化層が設けられ、
前記金属線状部は、前記密着力強化層を介して前記凸条の頂部に配置された偏光子の転写体。
(7) In (5) or (6),
The uneven surface is provided with an adhesion enhancing layer,
The metal linear portion is a transfer body of a polarizer disposed on the top of the ridge through the adhesion reinforcing layer.

(7)によれば、金属線状部の損傷を低減することができる。また賦型樹脂により凹凸面を作製する場合にあっては、この密着力強化層をバリア層として機能させて、金属材料の堆積を損なわないようにすることができる。   According to (7), damage to the metal linear portion can be reduced. Further, in the case of producing an uneven surface with a shaping resin, this adhesion strengthening layer can function as a barrier layer so as not to impair the deposition of the metal material.

(8) (5)、(6)、(7)の何れかに記載の偏光子の転写体より前記金属線状部及び保持部が転写されて保持された画像表示装置。   (8) An image display device in which the metal linear portion and the holding portion are transferred and held by the polarizer transfer body according to any one of (5), (6), and (7).

(8)によれば、ワイヤーグリッド型偏光子に関して、大面積の製品を効率良く量産するようにして、この偏光子を備えてなる画像表示装置を提供することができる。   According to (8), with respect to the wire grid type polarizer, it is possible to efficiently mass-produce a large-area product and to provide an image display device including the polarizer.

(9) ワイヤーグリッド型偏光子に係る偏光子の転写体において、
透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び線幅により金属線状部が繰り返し作製され、
複数の凹状溝による凹凸面を備えた前記金属線状部の保持部が形成され、
前記金属線状部が、
前記凹状溝の底面に断面涙滴形状により作製された涙滴形状の部位を備える偏光子の転写体。
(9) In the transfer body of the polarizer according to the wire grid polarizer,
A metal linear part is repeatedly produced with a pitch and a line width less than the shortest wavelength of a wavelength band that restricts transmission,
A holding part of the metal linear part provided with an uneven surface by a plurality of concave grooves is formed,
The metal linear portion is
A polarizer transfer body comprising a teardrop-shaped portion prepared in a cross-sectional teardrop shape on the bottom surface of the concave groove.

(9)によれば、凹状溝に対応する凸条を備えた凹凸面に、金属線状部に係る金属材料を堆積した後、エッチングすることにより金属線状部を作製することができる。またその後、このようにして作製した金属線状部の保持部を形成することにより作製することができ、これによりワイヤーグリッド型偏光子に関して、大面積の製品を効率良く量産することができる。   According to (9), the metal linear part can be produced by depositing the metal material related to the metal linear part on the uneven surface provided with the ridge corresponding to the concave groove and then etching. Moreover, it can produce after that by forming the holding | maintenance part of the metal linear part produced in this way, Thereby, a large area product can be efficiently mass-produced regarding a wire grid type polarizer.

(10) (9)において、
前記保持部が、
透明樹脂層であり、透明フィルム材による支持体基材の表面に保持された偏光子の転写体。
(10) In (9),
The holding part is
A transfer body of a polarizer which is a transparent resin layer and is held on the surface of a support substrate made of a transparent film material.

(10)によれば、より具体的構成により偏光子を作製することができる。   According to (10), a polarizer can be produced with a more specific configuration.

(11) (9)又は(10)において、
前記凹状溝に係る断面矩形形状による部位と、前記涙滴形状の部位とにより、前記金属線状部が形成された偏光子の転写体。
(11) In (9) or (10),
A transfer body of a polarizer in which the metal linear portion is formed by a portion having a rectangular cross section related to the concave groove and a portion having a teardrop shape.

(11) (1)によれば、さらに凹状溝に係る断面矩形形状による部位を備えていることにより、アスペクト比の大きな金属線状部を形成することができる。   (11) According to (1), a metal linear portion having a large aspect ratio can be formed by providing a portion having a rectangular cross-sectional shape related to the concave groove.

(12) (9)、(10)、(11)の何れかに記載の偏光子の転写体より前記金属線状部及び保持部が転写されて保持された画像表示装置。   (12) An image display device in which the metal linear portion and the holding portion are transferred and held from the polarizer transfer body according to any one of (9), (10), and (11).

(12) (12)によれば、大面積の製品を効率良く量産することが可能なワイヤーグリッド型の偏光子を使用して画像表示装置を提供することができる。   (12) According to (12), it is possible to provide an image display device using a wire grid type polarizer capable of efficiently mass-producing a large-area product.

(13) ワイヤーグリッド型偏光子に係る偏光子の製造方法において、
転写体を作製する転写体の作製工程と、
前記転写体から転写法により偏光子を作製する偏光子作製工程とを備え、
前記転写体の作製工程は、
支持体基材の表面に複数の凸条による凹凸面を作製する凹凸面作製工程と、
前記凹凸面に金属材料を堆積する金属材料の堆積工程と、
前記凹凸面に堆積した金属材料をエッチングして、前記凸条の頂部に、断面涙滴形状による金属線状部を作製するエッチング工程と、
前記金属線状部に透明樹脂材を塗工して前記金属線状部を保持する保持部を作製して前記転写体を作製する保持部作製工程とを備え、
前記偏光子作製工程は、
前記転写体から前記金属線状部及び保持部を転写して前記凹凸面と一体に支持体基材を剥離する転写工程を備える偏光子の製造方法。
(13) In the method for manufacturing a polarizer according to the wire grid polarizer,
A process of producing a transfer body for producing a transfer body;
A polarizer production step of producing a polarizer from the transfer body by a transfer method,
The production process of the transfer body includes:
An uneven surface preparation step for preparing an uneven surface with a plurality of protrusions on the surface of the support substrate,
A metal material deposition step of depositing a metal material on the uneven surface;
Etching the metal material deposited on the concavo-convex surface to produce a metal linear portion having a cross-sectional teardrop shape at the top of the ridge, and
A holding part preparation step of preparing the transfer body by applying a transparent resin material to the metal linear part to prepare a holding part for holding the metal linear part,
The polarizer production process includes:
The manufacturing method of a polarizer provided with the transfer process which transfers the said metal linear part and holding | maintenance part from the said transfer body, and peels a support base material integrally with the said uneven surface.

(13)によれば、凸条を備えた凹凸面を作製した後、金属線状部に係る金属材料を堆積し、その後、エッチングすることにより金属線状部を作製することができる。また続いて透明樹脂材料により保持部を形成した後、剥離することにより作製することができ、これによりワイヤーグリッド型偏光子に関して、大面積の製品を効率良く量産することができる。   According to (13), the metal linear part can be manufactured by depositing the metal material related to the metal linear part after the production of the concave / convex surface provided with the ridges, and then etching. Further, after forming the holding portion with a transparent resin material, it can be manufactured by peeling, and as a result, a large-area product can be mass-produced efficiently with respect to the wire grid polarizer.

(14) (13)において、
前記偏光子の作成工程は、
前記転写工程により、前記支持体基材を剥離して前記保持部に形成される前記凸条に対応する凹状溝に、金属材料を配置する金属材料の配置工程を備える偏光子の製造方法。
(14) In (13),
The production process of the polarizer,
The manufacturing method of a polarizer provided with the arrangement | positioning process of the metallic material which peels the said support body base material and arrange | positions a metallic material to the concave groove corresponding to the said protruding item | line formed in the said holding | maintenance part by the said transfer process.

(14)によれば、保持部を剥離して形成される凹状溝に、さらに金属材料を配置することにより、アスペクト比の大きな金属線状部を形成することができる。   According to (14), a metal linear part having a large aspect ratio can be formed by further disposing a metal material in a concave groove formed by peeling the holding part.

(15) ワイヤーグリッド型偏光子に係る偏光子の転写体の製造方法において、
第1の支持体基材の表面に複数の凸条による凹凸面を作製する凹凸面作製工程と、
前記凹凸面に金属材料を堆積する金属材料の堆積工程と、
前記凹凸面に堆積した金属材料をエッチングして、前記凸条の頂部に、断面涙滴形状による金属線状部を作製するエッチング工程と、
前記金属線状部に透明樹脂材を塗工して前記金属線状部を保持する保持部を作製する保持部作製工程とを備える偏光子の転写体の製造方法。
(15) In the method for producing a polarizer transfer body according to a wire grid polarizer,
An uneven surface preparation step of forming an uneven surface with a plurality of protrusions on the surface of the first support substrate;
A metal material deposition step of depositing a metal material on the uneven surface;
Etching the metal material deposited on the concavo-convex surface to produce a metal linear portion having a cross-sectional teardrop shape at the top of the ridge, and
The manufacturing method of the transfer body of a polarizer provided with the holding part production process which applies the transparent resin material to the metal linear part, and produces the holding part which holds the metal linear part.

(15)によれば、凸条を備えた凹凸面を作製した後、金属線状部に係る金属材料を堆積し、その後、エッチングすることにより金属線状部を作製することができる。また続いて透明樹脂材料により保持部を形成することにより作製することができ、これによりワイヤーグリッド型偏光子の転写体に関して、大面積の製品を効率良く量産することができる。   According to (15), the metal linear portion can be manufactured by depositing the metal material related to the metal linear portion after the concave-convex surface having the ridges is formed, and then etching. Further, it can be produced by subsequently forming a holding portion with a transparent resin material, whereby a large-area product can be efficiently mass-produced with respect to the transfer body of the wire grid polarizer.

(16) (15)において、
第2の支持体基材に前記保持部を積層して前記凹凸面と一体に前記第1の支持体基材を剥離する転写工程と、
前記転写工程により、前記第1の支持体基材を剥離して前記保持部に形成される前記凸条に対応する凹状溝に、金属材料を配置する金属材料の配置工程とを備える偏光子の転写の製造方法。
(16) In (15),
A transfer step of laminating the holding portion on a second support substrate and peeling the first support substrate integrally with the uneven surface;
A polarizer comprising: a metal material disposing step of disposing the metal material in a concave groove corresponding to the convex strip formed on the holding portion by peeling the first support substrate by the transfer step; Production method of transcription.

(16)によれば、凹状溝にさらに金属材料を配置することにより、アスペクト比の大きな金属線状部を形成してなる偏光子の転写体を提供することができる。   According to (16), by further disposing a metal material in the concave groove, it is possible to provide a polarizer transfer body in which a metal linear portion having a large aspect ratio is formed.

本発明によれば、ワイヤーグリッド型偏光子に関して、大面積の製品を効率良く量産することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, a large area product can be efficiently mass-produced regarding a wire grid type polarizer.

本発明の第1実施形態に係る画像表示装置を示す図である。It is a figure which shows the image display apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1の画像表示装置に適用される偏光子を示す図である。It is a figure which shows the polarizer applied to the image display apparatus of FIG. 図2の偏光子に係る転写フィルム(転写体)の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the transfer film (transfer body) which concerns on the polarizer of FIG. 図3の転写フィルムの他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of the transfer film of FIG. 図4の転写フィルムによる偏光子を示す図である。It is a figure which shows the polarizer by the transfer film of FIG. 図4の転写フィルムの製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the transfer film of FIG. 図6の製造工程の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the manufacturing process of FIG. 積層工程の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of a lamination process. ロール版の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of a roll version. 本発明の第1実施形態に係る偏光子を示す図である。It is a figure which shows the polarizer which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図10の偏光子に係る転写フィルム(転写体)の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the transfer film (transfer body) which concerns on the polarizer of FIG. 実施例、比較例の詳細を示す図表である。It is a graph which shows the detail of an Example and a comparative example. 実施例、比較例の可視光域における特性を示す図表である。It is a graph which shows the characteristic in the visible light region of an Example and a comparative example. 実施例、比較例の赤外線域における特性を示す図表である。It is a graph which shows the characteristic in the infrared region of an Example and a comparative example.

〔第1実施形態〕
〔画像表示装置〕
図1は、本発明の第1実施形態に係る画像表示装置を示す断面図である。この画像表示装置1は、液晶表示装置であり、液晶表示パネル2の背面にバックライト3が配置され、この液晶表示パネル2のバックライト3側に偏光子4が配置される。ここでバックライト3は、エッジライト型、直射型等、種々の構成の面光源装置を広く適用することができる。液晶表示パネル2は、偏光子である直線偏光板6、7により液晶セル5を挟持して構成され、液晶セル5は、透明電極を形成したガラス基板により液晶材料を挟持して形成される。これにより画像表示装置1は、液晶セル5に設けられた透明電極への印加電圧により画素単位で透過光を光強度変調して出力し、所望の画像を表示する。
[First Embodiment]
[Image display device]
FIG. 1 is a sectional view showing an image display apparatus according to the first embodiment of the present invention. The image display device 1 is a liquid crystal display device, and a backlight 3 is disposed on the back surface of the liquid crystal display panel 2, and a polarizer 4 is disposed on the backlight 3 side of the liquid crystal display panel 2. Here, as the backlight 3, various surface light source devices such as an edge light type and a direct light type can be widely applied. The liquid crystal display panel 2 is configured by sandwiching a liquid crystal cell 5 by linear polarizers 6 and 7 as polarizers, and the liquid crystal cell 5 is formed by sandwiching a liquid crystal material by a glass substrate on which a transparent electrode is formed. As a result, the image display device 1 modulates the intensity of the transmitted light in units of pixels by the voltage applied to the transparent electrode provided in the liquid crystal cell 5 and outputs it, thereby displaying a desired image.

偏光子4は、ワイヤーグリッド型偏光子であり、透過軸方向と直交する偏光面による入射光を選択的に効率良く反射するいわゆる反射型の偏光子である。偏光子4は、液晶セル5の入射面側(バックライト3側)に配置された直線偏光板7の透過軸方向と、透過軸方向が一致するように配置され、これにより画像表示装置1は、バックライト3からの照明光の利用効率を向上する。この実施形態において、偏光子4は、事前に、直線偏光板7と一体化された後、液晶表示パネル2の製造工程に提供され、これにより画像表示装置1は、偏光子4に係る組み立て作業を簡略化することができる。   The polarizer 4 is a wire grid polarizer, and is a so-called reflective polarizer that selectively and efficiently reflects incident light from a polarization plane orthogonal to the transmission axis direction. The polarizer 4 is arranged so that the transmission axis direction of the linearly polarizing plate 7 arranged on the incident surface side (backlight 3 side) of the liquid crystal cell 5 coincides with the transmission axis direction. The use efficiency of the illumination light from the backlight 3 is improved. In this embodiment, the polarizer 4 is integrated with the linearly polarizing plate 7 in advance, and then provided to the manufacturing process of the liquid crystal display panel 2, whereby the image display device 1 is assembled by the polarizer 4. Can be simplified.

なおこの一体化は、偏光子4と直線偏光板7とを紫外線硬化性樹脂等による接着剤により貼り合せて実行される。   This integration is performed by bonding the polarizer 4 and the linear polarizing plate 7 together with an adhesive such as an ultraviolet curable resin.

〔偏光子〕
図2は、偏光子4の構成を示す断面図である。偏光子4は、入射する電磁波である入射光の透過を偏光面に応じて制限する偏光子であり、偏光子としての光学的機能を担う偏光子層13が設けられる。偏光子4は、この偏光子層13に、金属線状部11が、線幅の方向に離間して複数配置される。ここで金属線状部11は、透過を制限する電磁波の波長帯域の最短波長λmin未満の線幅Wmによる金属材料により形成される。また金属線状部11は、この最短波長λmin未満のピッチPにより、規則的に又は不規則に繰り返し配置される。なおこれにより隣接する金属線状部11間の間隔Wtは、デューティー比D(=Wm/P=Wm/(Wm+Wt))が0.2以上0.8以下、好ましくは0.3以上0.7以下になるように作製される。なお線幅Wmは、金属線状部11の延長方向と、金属線状部11の繰り返し方向とに直交する方向から見た幅により定義される。なお最短波長λminは、この実施形態のように画像表示装置に適用して可視光域の全波長帯域に対してその透過を制限する場合、可視光域の最短波長380nm以下とすればよいものの、例えば紫外線による露光装置に適用して露光に供する紫外線の透過を制限する場合等においては、適宜、380nmとは異なる波長が適用される。
[Polarizer]
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the polarizer 4. The polarizer 4 is a polarizer that restricts the transmission of incident light, which is an incident electromagnetic wave, in accordance with the polarization plane, and is provided with a polarizer layer 13 that has an optical function as a polarizer. In the polarizer 4, a plurality of metal linear portions 11 are arranged on the polarizer layer 13 so as to be separated in the line width direction. Here, the metal linear portion 11 is formed of a metal material having a line width Wm less than the shortest wavelength λmin in the wavelength band of the electromagnetic wave that restricts transmission. Further, the metal linear portions 11 are repeatedly arranged regularly or irregularly by the pitch P less than the shortest wavelength λmin. As a result, the interval Wt between the adjacent metal linear portions 11 has a duty ratio D (= Wm / P = Wm / (Wm + Wt)) of 0.2 to 0.8, preferably 0.3 to 0.7. It is produced as follows. The line width Wm is defined by a width viewed from a direction orthogonal to the extending direction of the metal linear portion 11 and the repeating direction of the metal linear portion 11. Note that the shortest wavelength λmin may be set to the shortest wavelength 380 nm or less in the visible light region when the transmission is limited to the entire wavelength band in the visible light region as applied to the image display device as in this embodiment. For example, in the case of limiting the transmission of ultraviolet rays used for exposure by applying to an exposure apparatus using ultraviolet rays, a wavelength different from 380 nm is appropriately applied.

また金属線状部11は、この最短波長λminに対して、厚みHが最短波長λmin以下になるように形成される。これらにより偏光子4は、ワイヤーグリッド型偏光子として機能するように構成される。なお偏光子4では、例えば可視光域の波長帯域において、最短波長380nm、中心波長550nm、最長波長780nm等の複数波長を設計基準波長に設定し、これらの設計基準波長で所望する光学特性(例えば消光比)を確保することができるように、金属材料及び透明誘電体材料の屈折率n及び減衰係数kを元に、シミュレーションによってピッチP、線幅Wm、厚みHに対応するP波透過率、S波透過率、消光比を算出することで、必要なピッチP、線幅Wm、厚みHの好適値が導かれる。これにより、例えば波長550nmにおいて十分な消光比を確保する場合には、金属線状部11にアルミニウム、金属線状部11間(後述する保持部である)に一般的な紫外線硬化樹脂(n=1.5、k=0 at550nm)を用いる場合、ピッチPは75nm以上175nm以下、好ましくは100nm以上150nm以下が望ましい。また偏光子4は、赤外領域(波長780nm〜2500nm)の波長帯域に対応するように作製することも可能であり、例えば中心波長940nmを設計基準波長に設定して所望する光学特性を確保できるようにピッチP、線幅Wm等の好適値を導くことにより、可視光域及び赤外領域の入射光について、入射光の透過を偏光面に応じて制限することができる。   Further, the metal linear portion 11 is formed such that the thickness H is equal to or shorter than the shortest wavelength λmin with respect to the shortest wavelength λmin. Accordingly, the polarizer 4 is configured to function as a wire grid polarizer. In the polarizer 4, for example, in the wavelength band of the visible light region, a plurality of wavelengths such as the shortest wavelength 380 nm, the center wavelength 550 nm, and the longest wavelength 780 nm are set as design reference wavelengths, and desired optical characteristics (for example, at these design reference wavelengths) P wave transmittance corresponding to the pitch P, the line width Wm, and the thickness H by simulation based on the refractive index n and the attenuation coefficient k of the metal material and the transparent dielectric material so that the extinction ratio can be secured. By calculating the S wave transmittance and the extinction ratio, suitable values for the necessary pitch P, line width Wm, and thickness H are derived. Thereby, for example, when a sufficient extinction ratio is secured at a wavelength of 550 nm, a general ultraviolet curable resin (n = n) is used between the metal linear portions 11 and the metal linear portions 11 (which will be described later). 1.5, k = 0 at 550 nm), the pitch P is 75 nm to 175 nm, preferably 100 nm to 150 nm. The polarizer 4 can also be manufactured so as to correspond to the wavelength band in the infrared region (wavelength 780 nm to 2500 nm). For example, the center wavelength 940 nm can be set as the design reference wavelength to ensure desired optical characteristics. As described above, by introducing suitable values such as the pitch P and the line width Wm, it is possible to limit the transmission of the incident light in the visible light region and the infrared region according to the polarization plane.

しかして偏光子4は、可視光域及び赤外領域の入射光に対して、充分なP波透過率を確保し、さらに充分な消光比を確保する観点より、より具体的には、可視光域及び赤外領域の入射光に対して、従来のシート・ポラライザーと同等以上のP波透過率、消光比を確保する観点より、金属線状部11の繰り返しピッチPは、100nm以上200nm以下、好ましくは130nm以上170nm以下、金属線状部11の厚み(高さ)Hは、100nm以上200nm以下、好ましくは130nm以上170nm以下に設定される。   Thus, the polarizer 4 is more specifically visible light from the viewpoint of ensuring sufficient P-wave transmittance for incident light in the visible light region and infrared region, and further ensuring a sufficient extinction ratio. From the viewpoint of securing a P-wave transmittance and extinction ratio equal to or higher than those of conventional sheet polarizers for incident light in the infrared region and infrared region, the repetition pitch P of the metal linear portions 11 is 100 nm or more and 200 nm or less, Preferably, the thickness (height) H of the metal linear portion 11 is set to 100 nm to 200 nm, preferably 130 nm to 170 nm.

偏光子4は、透明樹脂材料により保持部16が形成され、この保持部16により金属線状部11の全部又は一部を包み込むように保持して金属線状部11が保持される。偏光子4は、この保持部16の一方の面に、底部が平坦な凹状溝12が繰り返し形成されて凹凸面が作製される。金属線状部11は、この凹状溝12の底面に、断面涙滴形状により作製される。なおここでこの断面形状は、金属線状部11の幅方向に係る断面形状である。すなわち金属線状部11は、凹状溝12の底面のほぼ中央で、凹状溝12の底面に接し、この底面から保持部16の他方の面側に遠ざかるに従って徐々に線幅が拡大し、先端が丸みを帯びた断面形状により作製される。   The polarizer 4 has a holding part 16 formed of a transparent resin material, and the holding part 16 holds the metal linear part 11 so as to wrap all or part of the metal linear part 11. In the polarizer 4, a concave / convex surface is produced by repeatedly forming a concave groove 12 having a flat bottom on one surface of the holding portion 16. The metal linear portion 11 is formed on the bottom surface of the concave groove 12 in a teardrop shape in cross section. Here, this cross-sectional shape is a cross-sectional shape in the width direction of the metal linear portion 11. That is, the metal linear portion 11 is in contact with the bottom surface of the concave groove 12 at approximately the center of the bottom surface of the concave groove 12, and the line width gradually increases as the distance from the bottom surface to the other surface side of the holding portion 16 increases. It is produced with a rounded cross-sectional shape.

偏光子4は、隣接する凹状溝12の間の凸条の幅wと、溝の深さhとの比であるアスペクト比h/wが、1以上4以下により、より好ましくは2以上3.5以下により作製され、これにより後述する作製手法により効率良くかつ精度良く作製することができる。   In the polarizer 4, the aspect ratio h / w, which is the ratio of the width w of the ridge between adjacent concave grooves 12 and the depth h of the groove, is 1 to 4, more preferably 2 to 3. 5 or less, and thus can be manufactured efficiently and accurately by a manufacturing method described later.

金属線状部11は、例えば各種の導体に係る金属、合金、金属化合物等を広く適用することができるものの、アルミニウム、ニッケル、クロム、銀の何れかによる金属、これら何れかの金属による合金、これら金属の化合物を適用することが望ましい。なお透過を制限する電磁波を効率良く反射する観点からは、アルミニウム、ニッケル、銀等の反射率の高い金属、合金、化合物を適用することが望ましく、可視光に対しては特にアルミニウムが好ましい。またこれとは逆に、透過を制限する電磁波の反射を抑圧する観点からは、クロム等の反射率の低い金属、合金、化合物を適用することが望ましい。   Although the metal linear part 11 can widely apply, for example, metals, alloys, metal compounds, and the like related to various conductors, a metal made of any of aluminum, nickel, chromium, silver, an alloy made of any of these metals, It is desirable to apply these metal compounds. From the viewpoint of efficiently reflecting electromagnetic waves that restrict transmission, it is desirable to use metals, alloys, and compounds having high reflectivity such as aluminum, nickel, and silver, and aluminum is particularly preferable for visible light. On the other hand, from the viewpoint of suppressing the reflection of electromagnetic waves that limit transmission, it is desirable to apply a metal, alloy, or compound having a low reflectance such as chromium.

さらに金属線状部11は、単一の材料により作製しても良く、複数の材料の積層構造により作製してもよい。このように複数の材料の積層により作製する場合には、バックライト3側に比して液晶層側に反射率が小さく、かつ黒色の材料を適用することにより、表示画面の視認性、コントラストを向上し、さらにバックライト光の利用効率を向上することができる。   Further, the metal linear portion 11 may be made of a single material or a laminated structure of a plurality of materials. In the case of manufacturing by laminating a plurality of materials in this way, the visibility and contrast of the display screen are improved by applying a black material having a low reflectance on the liquid crystal layer side compared to the backlight 3 side. In addition, the utilization efficiency of backlight light can be improved.

保持部16は、隣接する金属線状部11の間に侵入するように、さらにこの図2の例では金属線状部11を覆うように、透明樹脂による塗工液を配置、硬化して作製される。これにより偏光子4は、金属線状部11の機械的損傷を防止して機械的強度を充分に確保できるように構成される。ここで保持部16には、この種の光学フィルムに適用可能な各種の透明樹脂材料を広く適用することができるものの、例えば紫外線硬化性樹脂を適用することができる。   The holding part 16 is prepared by disposing and curing a coating liquid made of a transparent resin so as to penetrate between the adjacent metal linear parts 11 and further to cover the metal linear parts 11 in the example of FIG. Is done. As a result, the polarizer 4 is configured to prevent mechanical damage of the metal linear portion 11 and to ensure sufficient mechanical strength. Here, various types of transparent resin materials applicable to this type of optical film can be widely applied to the holding portion 16, for example, an ultraviolet curable resin can be applied.

偏光子4は、この保持部16の他方の面側に透明フィルム材による基材17が配置され、紫外線硬化性樹脂等による接着剤によりこの基材17に保持部16が保持される。偏光子4は、この基材17の保持部16とは逆側面が、又は保持部16の凹凸面が、直線偏光板7と積層されて一体化される。なお保持部16の凹凸面は、透明樹脂材料のコーティングにより平滑面としてもよい。   In the polarizer 4, a base material 17 made of a transparent film material is disposed on the other surface side of the holding portion 16, and the holding portion 16 is held on the base material 17 by an adhesive such as an ultraviolet curable resin. The polarizer 4 is laminated and integrated with the linear polarizing plate 7 on the side surface opposite to the holding portion 16 of the base material 17 or the uneven surface of the holding portion 16. The uneven surface of the holding portion 16 may be a smooth surface by coating with a transparent resin material.

ここでこの基材17は、この種の光学フィルムに適用可能な各種のフィルム材を広く適用することができ、具体的には、PET(ポリエステルテレフタレート)、COP(シクロオレフィンポリマー)、TAC(トリアセチルセルロース)フィルム等を適用することができる。   Here, as the base material 17, various film materials applicable to this type of optical film can be widely applied. Specifically, PET (polyester terephthalate), COP (cycloolefin polymer), TAC (tri-olefin) Acetyl cellulose) film or the like can be applied.

偏光子4において、金属線状部11及び保持部16は、偏光子用の転写体である転写フィルムから転写法により基材17に転写して作製される。ここで転写法とは、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体(転写フィルム)を作製した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材(被転写基材)上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。ここで、該支持体を剥離除去する際には適宜その形態を選定することができる。例えば、支持体基材とは別に、別途支持体を設けるようにして、この別途設けた支持体を保持部と一体に転写することにより、保持部16上に支持体からなる層を設ける事ができる。なおこの層の最表面は、フィルム面を反映したものであるので平滑な面が得られる。また、このようにすれば支持体基材の厚みを排した薄膜化の効果を得る事ができる。また、このように保持部と一体の転写に供する支持体を保持部16の材料より柔らかく密着性の良い材質とする事により、空隙部である凹状溝12のみに該支持体を残して転写し、更なる薄型化と、剥離工程により支持体16の最表面を簡易に平滑化する事ができる。またこの場合に、該支持体の屈折率を適宜調整し、保持部の屈折率と同等もしくは低くする事で、低反射性能を付与する事ができる。また、主として視認側に向く面の屈折率を低く設定する事により、偏光子4の向きに関わらず好適な低反射性能を得る事ができる。なお以下において、転写に供する層を転写層と呼ぶ。ここで偏光子4においては、転写層は、金属線状部11及び保持部16であり、被転写基材は基材17である。なお直線偏光板7を被転写基材として、金属線状部11及び保持部16を直接、転写法により直線偏光板に積層するようにして、金属線状部11及び保持部16のみにより偏光子を構成してもよい。   In the polarizer 4, the metal linear portion 11 and the holding portion 16 are produced by transferring to a substrate 17 by a transfer method from a transfer film that is a transfer body for a polarizer. Here, the transfer method means that, for example, when a desired layer is formed on a base material, the layer is not directly formed on the base material, but can be peeled once on a releasable support. After the layers are laminated to produce a transfer body (transfer film), the layer formed on the support is finally laminated on the substrate (transferred layer) according to the process, demand, etc. In this method, a desired layer is formed on the base material by bonding and laminating on the base material and then peeling off and removing the support. Here, when the support is peeled and removed, the form can be selected as appropriate. For example, it is possible to provide a layer made of a support on the holding part 16 by separately providing a support separately from the support base material and transferring the separately provided support integrally with the holding part. it can. Since the outermost surface of this layer reflects the film surface, a smooth surface can be obtained. Moreover, if it does in this way, the effect of thinning which eliminated the thickness of the support base material can be acquired. In addition, by making the support used for transfer integrally with the holding portion in this way softer than the material of the holding portion 16 and having a good adhesiveness, the transfer is performed while leaving the support only in the concave groove 12 which is a gap portion. The outermost surface of the support 16 can be easily smoothed by further thinning and peeling process. In this case, low reflection performance can be imparted by appropriately adjusting the refractive index of the support so as to be equal to or lower than the refractive index of the holding portion. In addition, by setting the refractive index of the surface mainly facing the viewing side to be low, suitable low reflection performance can be obtained regardless of the orientation of the polarizer 4. In the following, a layer used for transfer is referred to as a transfer layer. Here, in the polarizer 4, the transfer layer is the metal linear portion 11 and the holding portion 16, and the substrate to be transferred is the base material 17. The linear polarizer 7 is used as a substrate to be transferred, and the metal linear portion 11 and the holding portion 16 are directly laminated on the linear polarizing plate by a transfer method, and the polarizer is formed only by the metal linear portion 11 and the holding portion 16. May be configured.

〔転写体〕
図3は、偏光子4の作製に供するフィルム形状の転写体である転写フィルムを示す図である。転写フィルム14は、保持部16の凹状溝12に対応する凸条22を備えてなる凹凸面が支持体基材25上に作製される。ここでこの実施形態では、賦型用金型を使用した賦型処理により凹凸面が作製される。またこの賦型処理には、支持体基材25に配置した賦型樹脂層26の賦型処理により実行される。なおここでこの賦型用樹脂には、紫外線硬化性樹脂等を適用することができる。また支持体基材25を加熱して軟化させた状態で賦型用金型に押圧して賦型処理しても良く、この場合、賦型樹脂層26は、支持体基材25により構成されることになる。ここで支持体基材25は、この種の転写フィルムに適用可能な各種のフィルム材を広く適用することができ、具体的には、PET(ポリエステルテレフタレート)、COP(シクロオレフィンポリマー)、TAC(トリアセチルセルロース)フィルム等を適用することができる。
[Transcript]
FIG. 3 is a view showing a transfer film which is a film-shaped transfer body used for production of the polarizer 4. In the transfer film 14, a concavo-convex surface including a ridge 22 corresponding to the concave groove 12 of the holding portion 16 is formed on the support base material 25. Here, in this embodiment, the concavo-convex surface is produced by a forming process using a forming mold. Further, this shaping process is executed by a shaping process of the shaping resin layer 26 disposed on the support base material 25. Here, an ultraviolet curable resin or the like can be applied to the shaping resin. In addition, the support base material 25 may be heated and softened and pressed against the molding die to perform a molding process. In this case, the molding resin layer 26 is constituted by the support base material 25. Will be. Here, as the support base material 25, various film materials applicable to this type of transfer film can be widely applied. Specifically, PET (polyester terephthalate), COP (cycloolefin polymer), TAC ( A triacetyl cellulose) film or the like can be applied.

なお支持体基材25にガラス材等を適用して、フォトエッチングにより凹凸面を作製することにより板形状により転写体を作製してもよく、この場合には、転写層を転写して残る凹凸面を繰り返し転写体の作製に利用することができる。   In addition, a transfer material may be produced in a plate shape by applying a glass material or the like to the support substrate 25 and producing an uneven surface by photoetching. In this case, the unevenness remaining after transferring the transfer layer The surface can be used repeatedly to produce a transfer body.

転写フィルム14は、この凹凸面の表面に、金属線状部11と凸条22との密着力の強化を図り、さらに賦型樹脂層26からのガス成分の揮発を防止するバリア層としての機能を果たす、密着力強化層27が形成される。ここで密着力強化層27は、密着力の強化を図り、バリア層としての機能を果たす各種の構成を適用することができるものの、この実施形態ではSiO層により形成される。 The transfer film 14 functions as a barrier layer that enhances the adhesion between the metal linear portion 11 and the ridges 22 on the surface of the uneven surface, and further prevents volatilization of gas components from the shaping resin layer 26. Thus, the adhesion reinforcing layer 27 is formed. Here, the adhesion strengthening layer 27 is formed of a SiO 2 layer in this embodiment, although various kinds of configurations that enhance the adhesion and can serve as a barrier layer can be applied.

転写フィルム14は、このようにして作製されてなる凸条22の頂部に、金属線状部11が形成され、この金属線状部11を覆って、凸条22間に侵入するように透明樹脂材料を塗工、乾燥、硬化して保持部16が形成される。   In the transfer film 14, a metal linear portion 11 is formed on the top of the ridge 22 formed in this manner, and the transparent resin is formed so as to cover the metal linear portion 11 and enter between the ridges 22. The holding part 16 is formed by coating, drying and curing the material.

なお保持部16は、図4(A)に示すように、凸条の先端部における厚みが、金属線状部11の厚みHと等しくなるように形成してもよく、図4(B)に示すように、金属線状部11の厚みより薄くなるように作製してもよい。しかしてこの種の偏光子では、隣接する金属線状部11間の屈折率を小さくすることにより、特性(消光比、透過率等)が向上することにより、保持部16の端面より金属線状部11が大きく飛び出すように、保持部16の厚みを薄くすることが望ましい。しかしながら保持部16の厚みを薄くすると、金属線状部11を保持する機能が損なわれることなる。また金属線状部11の先端から保持部16が飛び出す場合には、飛び出した分だけ偏光子の厚みが厚くなることになる。これにより保持部16の厚み(凸状の頂部における厚み)は、金属線状部11の厚みH以下、厚みHの1/2以上であることが望ましい。なおこの図4(A)及び(B)の転写フィルムによる偏光子を図2及び図4との対比により図5に示す。このように保持部16の厚みを金属線状部11の厚みH以下とする場合(図4(B))、図5(B)に示すように、金属線状部11に比して厚みの厚い部位を、局所的に保持部16に形成し、この部位により基材17に金属線状部11及び保持部16が保持される。なおこれに代えて、枠形状による中間支持体を介して基材17に保持部16を保持するようにしてもよい。   As shown in FIG. 4A, the holding portion 16 may be formed so that the thickness at the tip end portion of the ridge is equal to the thickness H of the metal linear portion 11, as shown in FIG. As shown, the thickness may be smaller than that of the metal linear portion 11. However, in this type of polarizer, by reducing the refractive index between the adjacent metal linear portions 11, characteristics (extinction ratio, transmittance, etc.) are improved, so that the metal linear shape from the end face of the holding portion 16. It is desirable to reduce the thickness of the holding portion 16 so that the portion 11 protrudes greatly. However, when the thickness of the holding part 16 is reduced, the function of holding the metal linear part 11 is impaired. Moreover, when the holding | maintenance part 16 jumps out from the front-end | tip of the metal linear part 11, the thickness of a polarizer will become thick by the part which protruded. Thereby, it is desirable that the thickness of the holding portion 16 (thickness at the convex top portion) is not more than the thickness H of the metal linear portion 11 and not less than 1/2 of the thickness H. FIG. 5 shows a polarizer using the transfer film shown in FIGS. 4A and 4B in comparison with FIGS. When the thickness of the holding portion 16 is set to be equal to or less than the thickness H of the metal linear portion 11 (FIG. 4B), the thickness of the holding portion 16 is smaller than that of the metal linear portion 11, as shown in FIG. A thick part is locally formed in the holding part 16, and the metal linear part 11 and the holding part 16 are held on the base material 17 by this part. Instead of this, the holding portion 16 may be held on the base material 17 via an intermediate support having a frame shape.

〔製造工程〕
〔転写体の製造工程〕
図6は、転写フィルム14の製造工程を示すフローチャートである。この製造工程は、ロールに巻き取った形態である長尺透明フィルム材による基材25が提供される。この製造工程は、ロールより基材25を引き出して搬送しながら、凹凸面作製工程SP2により、基材25の表面に凹凸面を作製する。
〔Manufacturing process〕
[Transfer manufacturing process]
FIG. 6 is a flowchart showing the manufacturing process of the transfer film 14. This manufacturing process provides a base material 25 made of a long transparent film material in a form wound on a roll. In this manufacturing process, an uneven surface is formed on the surface of the base material 25 by the uneven surface preparation step SP2 while the base material 25 is pulled out and conveyed from the roll.

より具体的に、この凹凸面作製工程では、図7(A)に示すように、始めに、基材25に紫外線硬化性樹脂の塗工液を塗工した後、図7(B)に示すように、周側面に微細凹凸形状が作製されている賦型用金型であるロール版30の周側面に基材25を押圧して搬送しながら、紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させ、その後、硬化した紫外線硬化性樹脂を基材25と一体にロール版30より剥離する。これによりロール版30の周側面に形成された微細凹凸形状を転写して、図7(C)に示すように、基材25の表面に、金属線状部11に対応する凸条22を作製してなる凹凸面を作製する。   More specifically, in this uneven surface preparation step, as shown in FIG. 7 (A), first, an ultraviolet curable resin coating solution is applied to the substrate 25 and then shown in FIG. 7 (B). In this way, the ultraviolet curable resin is cured by irradiating ultraviolet rays while pressing and transporting the base material 25 to the peripheral side surface of the roll plate 30 which is a mold for molding having fine irregularities formed on the peripheral side surface. After that, the cured ultraviolet curable resin is peeled off from the roll plate 30 together with the substrate 25. As a result, the fine uneven shape formed on the peripheral side surface of the roll plate 30 is transferred, and the ridges 22 corresponding to the metal linear portions 11 are formed on the surface of the substrate 25 as shown in FIG. An uneven surface is produced.

続いてこの製造工程は、下地層作製工程SP3において、スパッタリング等により凹凸面に密着力強化層27を作製した後、図7(D)に示すように、金属材料堆積工程SP4において、蒸着、スパッタリング等により密着力強化層27を作製してなる凹凸面に金属線状部11に係る金属材料を堆積させる。ここでこの金属材料は、凹凸面の全面に堆積するものの、隣接する凸条22の間の溝部に比して、凸条22の頂部に優先的に堆積することになる。その結果、凸条22の頂部においては、金属材料20Aが充分な堆積量(厚み)により堆積するのに対し、凸条22間の溝部にあっては、凸条22の頂部に比して格段的に少ない堆積量(膜厚)により金属材料20Bが堆積することになる。   Subsequently, in this manufacturing process, after the adhesion strengthening layer 27 is formed on the uneven surface by sputtering or the like in the base layer preparation process SP3, as shown in FIG. 7D, vapor deposition and sputtering are performed in the metal material deposition process SP4. A metal material related to the metal linear portion 11 is deposited on the uneven surface formed by forming the adhesion strengthening layer 27 by, for example. Here, although this metal material is deposited on the entire surface of the concavo-convex surface, it is preferentially deposited on the top of the ridge 22 as compared to the groove between the adjacent ridges 22. As a result, the metal material 20A is deposited with a sufficient deposition amount (thickness) at the top of the ridge 22, whereas the groove between the ridges 22 is markedly larger than the top of the ridge 22. Therefore, the metal material 20B is deposited with an extremely small deposition amount (film thickness).

これによりこの実施形態では、続くエッチング工程SP5において、凹凸面の金属材料をエッチングして、凸条22の頂部にのみ金属材料が残存して金属線状部11を構成することができる。より具体的に、例えば金属材料にアルミニウムを適用して凸条22の頂部に厚み100nmにより金属材料を堆積させた後(凸条22の頂部における厚みである)、濃度0.1mol/L、温度25℃の水酸化ナトリウム水溶液に50秒浸漬して、凸条22間の溝部には金属材料が残存しないように、かつ涙滴型の断面形状により金属線状部11を作製することができる。なおこれにより溝部の幅wに対して深さhを深くすると、その分、溝部の底面に堆積する金属材料の堆積量が少なくなることにより、溝部に堆積した金属材料のみ選択的に除去して金属線状部11を作製し易くなり、エッチング工程を管理し易くなる。これにより隣接する凸条22の間の溝幅wと、溝の深さhとの比であるアスペクト比h/wを1以上4以下により、より好ましくは2以上3.5以下により作製して、効率良くかつ精度良く金属線状部11を作製することができる。なおこのような溶液によるウエットエッチングに代えて、気相によるドライエッチングを適用しても良いことは言うまでも無い。また金属材料の堆積には、電解めっき、無電解めっき、CVD等を適用してもよい。   Thereby, in this embodiment, in the subsequent etching step SP5, the metal material on the uneven surface can be etched, and the metal material can be left only on the top of the ridge 22 to form the metal linear portion 11. More specifically, for example, after aluminum is applied to the metal material and the metal material is deposited on the top of the ridge 22 with a thickness of 100 nm (the thickness at the top of the ridge 22), the concentration is 0.1 mol / L, the temperature The metal linear part 11 can be produced by immersing it in an aqueous sodium hydroxide solution at 25 ° C. for 50 seconds so that no metal material remains in the groove between the ridges 22 and with a teardrop-shaped cross-sectional shape. Note that when the depth h is increased with respect to the width w of the groove portion, the amount of the metal material deposited on the bottom surface of the groove portion is reduced accordingly, so that only the metal material deposited in the groove portion is selectively removed. It becomes easy to produce the metal linear part 11, and it becomes easy to manage an etching process. Thus, the aspect ratio h / w, which is the ratio of the groove width w between adjacent ridges 22 and the groove depth h, is 1 or more and 4 or less, more preferably 2 or more and 3.5 or less. The metal linear part 11 can be produced efficiently and accurately. Needless to say, dry etching by vapor phase may be applied instead of wet etching by such a solution. For the deposition of the metal material, electrolytic plating, electroless plating, CVD, or the like may be applied.

続いて製造工程は、保持部作製工程SP6において、金属線状部11を作製してなる凹凸面の表面に保持部16用の塗工液を塗工、乾燥させた後、硬化させ、これにより保持部16を作製する(図3)。この製造工程は、これにより長尺フィルム形状により転写フィルム14を作製し、ロールに巻き取ってロール形状により偏光子の製造工程に搬送する。   Subsequently, in the holding part manufacturing step SP6, the manufacturing process is performed by applying the coating liquid for the holding part 16 to the surface of the concavo-convex surface formed by forming the metal linear part 11, drying it, and curing it. The holding part 16 is produced (FIG. 3). In this manufacturing process, the transfer film 14 is thus produced in the shape of a long film, wound around a roll, and conveyed to the manufacturing process of the polarizer in a roll shape.

〔偏光子の製造工程〕
偏光子の製造工程においては、長尺フィルム形状による転写フィルムをロールから引き出して搬送しながら、転写工程において、同様の長尺フィルム形状による基材17と積層、一体化した後、支持体基材25を賦型樹脂層26と一体に剥離する。これにより偏光子の製造工程では、転写法により転写体である転写フィルムから転写層(金属線状部及び保持部)を転写して長尺フィルム形状により偏光子を作製する。この製造工程は、この長尺フィルム形状による偏光子4をロールに巻き取ってロール形状により次工程に搬送する。
[Polarizer manufacturing process]
In the manufacturing process of the polarizer, the transfer film having a long film shape is pulled out from the roll and conveyed, and in the transfer process, the substrate 17 is laminated and integrated with the base material 17 having the same long film shape. 25 is peeled off integrally with the shaping resin layer 26. Thereby, in the manufacturing process of a polarizer, a transfer layer (a metal linear part and a holding | maintenance part) is transcribe | transferred from the transfer film which is a transfer body with a transfer method, and a polarizer is produced by the shape of a long film. In this manufacturing process, the polarizer 4 having a long film shape is wound around a roll and conveyed to the next process by the roll shape.

〔積層工程〕
ここでシート・ポラライザーによる直線偏光板7は、延伸して作製され、その結果、ロールにより提供される直線偏光板7の巻取体36は、図8において矢印により透過軸方向を示すように、幅方向が透過軸方向となる。これによりこの実施形態では、図6の製造工程において、円周方向に延長する向きにより凸条が作製されてなるロール版30を使用することにより、支持体基材25の長手方向に延長するように凸条22を作製し、これにより支持体基材25の幅方向が透過軸方向となるように長尺フィルム形状により転写フィルム14を作製する。
[Lamination process]
Here, the linear polarizing plate 7 by the sheet polarizer is produced by stretching, and as a result, the winding body 36 of the linear polarizing plate 7 provided by the roll shows the transmission axis direction by an arrow in FIG. The width direction is the transmission axis direction. Accordingly, in this embodiment, in the manufacturing process of FIG. 6, by using the roll plate 30 in which the protrusions are produced in the direction extending in the circumferential direction, the support base material 25 is extended in the longitudinal direction. The transfer film 14 is manufactured in the shape of a long film so that the ridges 22 are prepared in this way, and the width direction of the support base material 25 thus becomes the transmission axis direction.

またこのようにして作製した長尺フィルム形状による転写体から、長尺フィルム形状による基材17に転写層を転写し、これにより基材17の幅方向が透過軸方向となるように長尺フィルム形状により偏光子4を作製する。積層工程は、このようにして作製した長尺フィルム形状による偏光子4の巻取体35から偏光子4を引き出して搬送しながら、直線偏光板巻取体36から同様の長尺フィルム形状による直線偏光板7を引き出して積層一体化し、その後、液晶セル5への配置に適した長方形形状にシートカットする。   Further, the transfer layer is transferred from the long film-shaped transfer body thus produced to the long film-shaped base material 17 so that the width direction of the base material 17 becomes the transmission axis direction. The polarizer 4 is produced according to the shape. In the laminating process, the polarizer 4 is pulled out from the winding body 35 of the polarizer 4 having the long film shape thus produced and conveyed, and the straight line having the same long film shape is transferred from the linear polarizing plate winding body 36. The polarizing plate 7 is drawn out and laminated and integrated, and then the sheet is cut into a rectangular shape suitable for arrangement in the liquid crystal cell 5.

このように、直線偏光板の透過軸方向に対応するように透過軸方向を設定して転写フィルム、偏光子を作製するようにして、長尺フィルム形状の状態で直線偏光板と積層一体化した後、シートカットすることにより、一段と効率良く生産することができる。   In this way, the transmission axis direction is set so as to correspond to the transmission axis direction of the linear polarizing plate to produce a transfer film and a polarizer, and the linear polarizing plate is laminated and integrated in the state of a long film shape. Thereafter, the sheet can be cut to achieve more efficient production.

〔ロール版〕
図9は、ロール版の説明に供する図である。ロール版30は、周側面に微細凹凸形状が作製された賦型用金型であり、凸条22に対応する凹状溝による微細凹凸形状が周側面に形成されている。この実施形態において、この凹状溝は、円周方向に延長するように、凸条22の幅に対応する溝幅により形成され、これにより賦型処理して基材25の長手方向に延長するように凸条22が作製される。
[Roll version]
FIG. 9 is a diagram for explaining the roll plate. The roll plate 30 is a mold for molding having a fine uneven shape on the peripheral side surface, and a fine uneven shape by a concave groove corresponding to the ridge 22 is formed on the peripheral side surface. In this embodiment, the concave groove is formed with a groove width corresponding to the width of the ridge 22 so as to extend in the circumferential direction. The ridge 22 is produced.

ロール版30は、切削加工が容易な金属材料による円筒形状又は円柱形状により母材41が形成され、この実施形態では、銅のパイプ材が母材41に適用される。この製造工程は、平滑化工程において、バイトを使用した母材41の周側面の切削処理により母材41の周側面を平滑化した後、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法により母材41の周側面を超鏡面化する。   In the roll plate 30, a base material 41 is formed in a cylindrical shape or a columnar shape made of a metal material that can be easily cut. In this embodiment, a copper pipe material is applied to the base material 41. In this smoothing process, after the peripheral side surface of the base material 41 is smoothed by cutting processing of the peripheral surface of the base material 41 using a cutting tool in the smoothing step, the electrolysis is performed by a combination of the electrolytic elution action and the rubbing action by the abrasive grains. The peripheral side surface of the base material 41 is made into a super mirror surface by a composite polishing method.

続いてこの製造工程は、切削工程において、母材41を切削装置に装着した後、バイト42の先端を母材41の周側面に押し当て、この状態で矢印Bにより示すように母材41を回転させながら、矢印Cにより示すようにバイト42を母材41の管軸に沿った方向に移動させ、これにより母材41の周側面をらせん状に切削加工する。これによりこの製造工程は、円周方向に延長する断面矩形形状による、凸条22に対応する凹状溝を母材41の周側面に作製する。なおバイト42は、同時並列的に複数の凹状溝を作製可能に、先端が櫛歯状に形成されており、これによりこの工程では、ロール版の作製に要する時間を短縮する。なおこのような微細な櫛歯形状によるバイト42の作製方法は、特に限定されないが、一般にこれらを達成する微細精密加工法として知られる高エネルギ線加工やリソグラフィ加工、化学的Etまたは精密切削法を適宜選択し、またこれらを自由に組み合わせて作製する事ができる。   Subsequently, in this manufacturing process, after the base material 41 is mounted on the cutting device in the cutting process, the tip of the cutting tool 42 is pressed against the peripheral side surface of the base material 41, and in this state, the base material 41 is moved as shown by an arrow B. While rotating, the cutting tool 42 is moved in the direction along the tube axis of the base material 41 as indicated by the arrow C, and the peripheral side surface of the base material 41 is cut into a spiral shape. Thereby, this manufacturing process produces the concave groove | channel corresponding to the protruding item | line 22 in the surrounding side surface of the base material 41 by the cross-sectional rectangular shape extended in the circumferential direction. Note that the cutting edge 42 is formed in a comb-like shape so that a plurality of concave grooves can be formed simultaneously and in parallel, thereby reducing the time required for producing the roll plate in this step. The manufacturing method of the cutting tool 42 having such a fine comb-tooth shape is not particularly limited, but high energy beam processing, lithography processing, chemical Et or precision cutting methods generally known as a fine precision processing method for achieving these are used. They can be selected as appropriate and can be produced by freely combining them.

〔第2実施形態〕
図10は、本発明の第2実施形態に係る偏光子の説明に供する図である。この実施形態の画像表示装置では、偏光子4に代えて、この偏光子54が適用される点を除いて、第1実施形態と同一に構成される。偏光子54は、保持部16の凹状溝12に金属材料が充填され、これにより断面涙滴形状による部位と断面矩形形状の部位とを接続した形状により、垂直方向の矢印13の寸法を有する高アスペクト比を有する金属線状部51が形成される。この偏光子54は、この凹状溝12の側が直線偏光板7の側となるように転写法により基材17に保持部16及び金属線状部51が積層される。この工程により、高アスペクト比のみならず、例えば図10の下側から発光、入光するようなディスプレイや窓を想定する場合、入光側の開口部を広く取る事ができ、性能が向上する。なお基材17への積層に代えて、直線偏光板7に直接積層するようにしてもよい。
[Second Embodiment]
FIG. 10 is a diagram for explaining a polarizer according to the second embodiment of the present invention. The image display device of this embodiment is configured in the same manner as in the first embodiment except that this polarizer 54 is applied instead of the polarizer 4. The polarizer 54 is filled with a metal material in the concave groove 12 of the holding portion 16, thereby connecting the portion having the cross-sectional teardrop shape and the portion having the rectangular cross-section, thereby having a vertical arrow 13 dimension. A metal linear part 51 having an aspect ratio is formed. In this polarizer 54, the holding portion 16 and the metal linear portion 51 are laminated on the base material 17 by a transfer method so that the concave groove 12 side becomes the linearly polarizing plate 7 side. With this process, not only a high aspect ratio but also a display or a window that emits light and enters from the lower side of FIG. 10, for example, can widen the opening on the light incident side and improve performance. . In addition, it may replace with the lamination | stacking to the base material 17, and you may make it laminate | stack directly on the linear polarizing plate 7. FIG.

図11は、この偏光子54に係る転写フィルムを示す図である。この転写フィルム55は、支持体基材56に保持部16、金属線状部51が配置される。転写フィルム55は、図3について上述した転写フィルム(転写体)14から、転写法により保持部16、金属線状部11を支持体基材56に転写した後、金属線状部11を電極に設定した電鋳処理により、凹状溝57に金属材料58が選択的に配置され、これにより断面涙滴形状による部位と断面矩形形状の部位とを接続した形状により図10と同様な効果を有する金属線状部51が形成される。なお電鋳処理に代えて、全面に金属材料を堆積させた後、エッチングにより凸部の金属材料を除去して金属線状部51を作製しても良い。また全面に金属材料を堆積した後、表面を透明化することにより、金属線状部51を作製してもよい。   FIG. 11 is a view showing a transfer film according to the polarizer 54. In the transfer film 55, the holding part 16 and the metal linear part 51 are arranged on a support base material 56. The transfer film 55 transfers the holding portion 16 and the metal linear portion 11 from the transfer film (transfer body) 14 described above with reference to FIG. 3 to the support substrate 56 by the transfer method, and then uses the metal linear portion 11 as an electrode. By the set electroforming process, the metal material 58 is selectively disposed in the concave groove 57, and thereby the metal having the same effect as FIG. 10 by the shape in which the portion having the cross-sectional teardrop shape and the portion having the rectangular cross-section shape are connected. A linear portion 51 is formed. Instead of electroforming, a metal material may be deposited on the entire surface, and then the metal material at the convex portions may be removed by etching to produce the metal linear portion 51. Alternatively, the metal linear portion 51 may be produced by depositing a metal material on the entire surface and then making the surface transparent.

これによりこの実施形態では、線幅に比して厚みの厚い高アスペクト比により金属線状部51を作製して一段と高い性能により偏光子を作製できるように構成される。またこの場合、金属線状部の厚みを後発的に増大させることができることにより、種々の厚みにより金属線状部を作製できるように構成される。   Thereby, in this embodiment, the metal linear part 51 is produced with a high aspect ratio that is thicker than the line width, and a polarizer can be produced with higher performance. In this case, the thickness of the metal linear portion can be increased later, so that the metal linear portion can be manufactured with various thicknesses.

またこのように凹状溝に係る断面矩形形状の部位は、涙滴形状の部位と異なる材料を適用したり、涙滴形状の部位と異なる複数の材料による積層構造とすることができ、これにより例えば表面側(涙滴形状の部位とは逆側の部位)の材料に、涙滴形状の部位の材料に比して反射率が小さく、かつ黒色の材料を選定して、表示画面の視認性、コントラストを向上することができる。   In addition, the portion having a rectangular cross section related to the concave groove can be applied with a material different from the teardrop-shaped portion, or can be a laminated structure made of a plurality of materials different from the teardrop-shaped portion. The material on the front side (the part opposite to the teardrop-shaped part) has a lower reflectance than the material on the teardrop-shaped part, and a black material is selected. Contrast can be improved.

なお転写フィルム55においては、直線偏光板7を被転写基材として、金属線状部51及び保持部16を直接、転写法により直線偏光板7に積層するようにして、金属線状部51及び保持部16のみにより偏光子を構成してもよい。   In addition, in the transfer film 55, the metal linear part 51 and the holding part 16 are directly laminated on the linearly polarizing plate 7 by the transfer method using the linearly polarizing plate 7 as a substrate to be transferred. A polarizer may be configured only by the holding unit 16.

〔実施例〕
図12は、実施例及び比較例の詳細構成を示す図表であり、図13及び図14は、この図12の詳細構成により実施例及び比較例の計測結果を示す図表である。図12は、転写フィルムの段階(図3に示す構成)における実施例及び比較例の各部の寸法であり、図13、図14の計測結果は、この図3に示す転写フィルムの段階における計測結果である。ここで実施例、比較例において、凸条22の幅(ピッチP−幅wである)は、53.6nmである。実施例1は、実際に特性の計測に供したサンプルであり、保持部16を設けない状態で特性の計測に供した。実施例1は、金属線状部11のピッチPを100nmとし、金属線状部11をアルミニウムにより作製するようにして、この金属線状部11の幅(アルミ巾)Wmを25nmとし、高さ(アルミ高さ)Hを90nmとした。また密着力強化層(酸化被膜)27にSiO層を適用し、厚み10nmにより作製した。なおアルミの酸化皮膜は約2.5nmにより計測された。
〔Example〕
FIG. 12 is a chart showing detailed configurations of the examples and comparative examples, and FIGS. 13 and 14 are charts showing measurement results of the examples and comparative examples according to the detailed configurations of FIG. FIG. 12 shows the dimensions of the respective parts of the example and the comparative example in the transfer film stage (configuration shown in FIG. 3). The measurement results in FIGS. 13 and 14 are the measurement results in the transfer film stage shown in FIG. It is. Here, in the examples and comparative examples, the width of the ridges 22 (pitch P−width w) is 53.6 nm. Example 1 is a sample that was actually used for measurement of characteristics, and was used for measurement of characteristics without the holding unit 16 being provided. In Example 1, the pitch P of the metal linear portions 11 is set to 100 nm, the metal linear portions 11 are made of aluminum, and the width (aluminum width) Wm of the metal linear portions 11 is set to 25 nm. (Aluminum height) H was set to 90 nm. Further, an SiO 2 layer was applied to the adhesion strengthening layer (oxide film) 27, and the layer was produced with a thickness of 10 nm. The aluminum oxide film was measured at about 2.5 nm.

実施例2は、この実施例1の各部の構成によるシミュレーションによる実施例である。また実施例3〜実施例7、比較例1は、同様のシミュレーションによる実施例であり、保持部16は、屈折率nを値1に設定した。実施例3は、金属線状部11の幅Wmを40nm、高さHを145nmとし、アルミの酸化皮膜を5nmとした。また実施例4、実施例5、比較例1は、それぞれピッチPを150nm、200nm、300nmとした点を除いて、実施例3と同一に構成した。また実施例6、7は、金属線状部11の高さHをそれぞれ100nm、200nmとした点を除いて、実施例3と同一に構成した。   The second embodiment is an embodiment based on a simulation based on the configuration of each part of the first embodiment. Examples 3 to 7 and Comparative Example 1 are examples based on the same simulation, and the holding unit 16 sets the refractive index n to a value of 1. In Example 3, the width Wm of the metal linear portion 11 was 40 nm, the height H was 145 nm, and the aluminum oxide film was 5 nm. In addition, Example 4, Example 5, and Comparative Example 1 were configured the same as Example 3 except that the pitch P was 150 nm, 200 nm, and 300 nm, respectively. In addition, Examples 6 and 7 were configured in the same manner as Example 3 except that the height H of the metal linear portion 11 was set to 100 nm and 200 nm, respectively.

図13は、これら実施例、比較例の可視光域の中心波長である波長550nmにおける計測結果を示す図である。この図13において、Tp、Tsは、P波及びS波の透過率であり、Rp、Rsは、P波及びS波の反射率である。また消光比は、Tp/Tsであり、偏光度は、(Tp−Ts)/(Tp+Ts)である。この図13によれば、比較例を除いて90以上の偏光度を確保することができ、またP波透過率Tpを80%以上確保することができ、さらにP波反射率Rpを10%以下と、消光比を充分に確保することができることにより、透過光に関して充分に偏光子としての光学特性を確保できることが判る。これに対して比較例においては、充分に偏光度、P波透過率、P波反射率、消光比を確保し得ず、これにより透過光に関して偏光子としての特性が実用上未だ不十分であることが判る。なおこの図13の計測結果は、波長550nmにおける計測結果ではあるものの、波長380nm〜780nmの可視光域の範囲で、同様の特性が確認された。なお比較例における特性の劣化は、凸条間の溝幅が凸条の幅(金属線状部の幅)に比して広がることによるものと判断され、これにより上述したように、金属線状部11間の間隔Wtは、デューティー比D(=Wm/P=Wm/(Wm+Wt))が0.2以上0.8以下、好ましくは0.3以上0.7以下であることが望ましい。   FIG. 13 is a diagram showing measurement results at a wavelength of 550 nm, which is the center wavelength in the visible light region of these examples and comparative examples. In FIG. 13, Tp and Ts are P wave and S wave transmittances, and Rp and Rs are P wave and S wave reflectances. The extinction ratio is Tp / Ts, and the polarization degree is (Tp−Ts) / (Tp + Ts). According to FIG. 13, except for the comparative example, a polarization degree of 90 or more can be secured, the P wave transmittance Tp can be secured 80% or more, and the P wave reflectance Rp can be kept 10% or less. Thus, it can be seen that the optical characteristics as a polarizer can be sufficiently secured with respect to the transmitted light by sufficiently securing the extinction ratio. On the other hand, in the comparative example, the degree of polarization, the P wave transmittance, the P wave reflectance, and the extinction ratio cannot be ensured sufficiently, so that the characteristics as a polarizer with respect to the transmitted light are still insufficient in practice. I understand that. Although the measurement result of FIG. 13 is a measurement result at a wavelength of 550 nm, similar characteristics were confirmed in the visible light range of a wavelength of 380 nm to 780 nm. In addition, it is judged that the characteristic deterioration in the comparative example is caused by the fact that the groove width between the ridges is wider than the width of the ridges (width of the metal linear portion). The interval Wt between the portions 11 is such that the duty ratio D (= Wm / P = Wm / (Wm + Wt)) is 0.2 to 0.8, preferably 0.3 to 0.7.

図14は、赤外線域における計測結果を示す図表である。実施例6、7は、シミュレーションしていないことによりこの図14からは記載を省略した。図14は、赤外線域(波長780nm〜2500nm)を代表する代表波長940nmにおける計測結果である。この図14よれば、可視光域に比して特性の向上を見て取ることができる。なおこの図14は波長940nmにおける計測結果であるものの、波長780nm〜2500nmの範囲で、代表波長940nmと同様の特性が確認された。これによりこれら実施例1〜5によりピッチPを100nm以上200nm以下に、厚み(高さ)Hを100nm以上200nm以下に設定して、可視光域及び赤外線域の広い波長帯域で充分な特性により偏光子としての機能を確保できることが判る。   FIG. 14 is a chart showing measurement results in the infrared region. Examples 6 and 7 are omitted from FIG. 14 because they are not simulated. FIG. 14 shows the measurement results at a representative wavelength of 940 nm that represents the infrared region (wavelength of 780 nm to 2500 nm). According to FIG. 14, it can be seen that the characteristics are improved as compared with the visible light region. Although FIG. 14 shows the measurement result at a wavelength of 940 nm, the same characteristics as the representative wavelength of 940 nm were confirmed in the wavelength range of 780 nm to 2500 nm. Thus, according to these Examples 1 to 5, the pitch P is set to 100 nm or more and 200 nm or less, and the thickness (height) H is set to 100 nm or more and 200 nm or less, and polarized light with sufficient characteristics in a wide wavelength band of visible light region and infrared region. It turns out that the function as a child can be secured.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を組み合わせたり、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
[Other Embodiments]
The specific configuration suitable for the implementation of the present invention has been described in detail above. However, the present invention can be combined with the configuration of the above-described embodiment or the configuration of the above-described embodiment without departing from the spirit of the present invention. Various changes can be made.

すなわち上述の第2の実施形態では、転写体の段階で、凹状溝に金属材料を堆積させる場合について述べたが、本発明はこれに限らず、偏光子の作成段階(図2に示す構成)において、第2実施形態と同様に凹状溝に金属材料を堆積させるようにしてもよい。   That is, in the above-described second embodiment, the case where the metal material is deposited in the concave groove at the stage of the transfer body has been described, but the present invention is not limited to this, and the stage of creating the polarizer (configuration shown in FIG. 2) As in the second embodiment, the metal material may be deposited in the concave groove.

また上述の実施形態では、液晶セルのバックライト側の偏光子に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、液晶セルに係る液晶層の上下に配置する偏光子(直線偏光板)に本発明を適用してもよい。なおこの場合、液晶セルの視聴者側(パネル面側)に配置する偏光子については、金属線状部を3層の積層構造とし、中央層の材料に比してその上下層の材料を反射率が低く、かつ黒色の材料とすることにより、表示画面の品位を向上して視認性、コントラストを向上することができる。また1/4波長板との積層により円偏光板による反射防止フィルムを構成する偏光子等に適用するようにしてもよい。   In the above-described embodiment, the case where the present invention is applied to the polarizer on the backlight side of the liquid crystal cell has been described. However, the present invention is not limited to this, and a polarizer disposed above and below the liquid crystal layer of the liquid crystal cell ( The present invention may be applied to a linear polarizing plate. In this case, for the polarizer placed on the viewer side (panel surface side) of the liquid crystal cell, the metal linear portion has a three-layer structure, and the upper and lower layers of the material are reflected as compared with the material of the center layer. By using a black material with a low rate, the quality of the display screen can be improved and the visibility and contrast can be improved. Moreover, you may make it apply to the polarizer etc. which comprise the reflection preventing film by a circularly-polarizing plate by lamination | stacking with a quarter wavelength plate.

また上述の実施形態では、液晶表示パネルによる画像表示装置に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば1/4波長板との積層により円偏光板による反射防止フィルムを構成する偏光子等に適用して、液晶表示パネル以外による画像表示装置にも広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where the present invention is applied to an image display device using a liquid crystal display panel has been described. However, the present invention is not limited to this, and for example, antireflection by a circularly polarizing plate is performed by stacking with a quarter-wave plate. The present invention can be widely applied to image display devices other than liquid crystal display panels by applying to polarizers constituting films.

また上述の実施形態では、本発明に係る偏光子を画像表示装置に適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば直線偏光による紫外線露光装置、プロジェクタ、各種光学装置等に広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where the polarizer according to the present invention is applied to an image display device has been described. However, the present invention is not limited thereto, and is widely applied to, for example, an ultraviolet exposure device using linearly polarized light, a projector, and various optical devices. Can be applied.

1 画像表示装置
2 液晶表示パネル
3 バックライト
4、54 偏光子
5 液晶セル
6、7 直線偏光板
11、51 金属線状部
12、57 凹状溝
13 偏光子層
14、55 転写フィルム
16 保持部
17 基材
20A、20B 金属材料
22 凸条
25、56 支持体基材
26 賦型樹脂層
27 密着力強化層
30 ロール版
35、36 巻取体
41 母材
42 バイト
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Image display apparatus 2 Liquid crystal display panel 3 Backlight 4, 54 Polarizer 5 Liquid crystal cell 6, 7 Linearly polarizing plate 11, 51 Metal linear part 12, 57 Concave groove 13 Polarizer layer 14, 55 Transfer film 16 Holding part 17 Base material 20A, 20B Metal material 22 Convex strips 25, 56 Support base material 26 Molding resin layer 27 Adhesion strengthening layer 30 Roll plate 35, 36 Winding body 41 Base material 42 Byte

Claims (16)

入射する電磁波の透過を偏光面に応じて制限する偏光子において、
透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び線幅により金属線状部が繰り返し作製され、
複数の凹状溝による凹凸面を備えた前記金属線状部の保持部が形成され、
前記金属線状部が、
前記凹状溝の底面に断面涙滴形状により作製された涙滴形状の部位を備える
偏光子。
In a polarizer that limits the transmission of incident electromagnetic waves according to the plane of polarization,
A metal linear part is repeatedly produced with a pitch and a line width less than the shortest wavelength of a wavelength band that restricts transmission,
A holding part of the metal linear part provided with an uneven surface by a plurality of concave grooves is formed,
The metal linear portion is
A polarizer comprising a teardrop-shaped portion formed in a cross-sectional teardrop shape on the bottom surface of the concave groove.
前記保持部が、
透明樹脂層であり、透明フィルム材による基材の表面に保持された
請求項1に記載の偏光子。
The holding part is
The polarizer of Claim 1. It is a transparent resin layer and was hold | maintained on the surface of the base material by a transparent film material.
前記凹状溝に係る断面矩形形状による部位と、前記涙滴形状の部位とにより、前記金属線状部が形成された
請求項1又は請求項2に記載の偏光子。
The polarizer according to claim 1, wherein the metal linear portion is formed by a portion having a rectangular cross-section related to the concave groove and a portion having the teardrop shape.
請求項1、請求項2、請求項3の何れかに記載の偏光子を備える
画像表示装置。
An image display apparatus comprising the polarizer according to any one of claims 1, 2, and 3.
ワイヤーグリッド型偏光子に係る偏光子の転写体において、
基材の表面に複数の凸条による凹凸面が形成され、
前記凹凸面の凸条の頂部に、断面涙滴形状により金属線状部が作製され、
前記金属線状部を保持する保持部が形成された
偏光子の転写体。
In the transfer body of the polarizer relating to the wire grid type polarizer,
An uneven surface with a plurality of ridges is formed on the surface of the substrate,
At the top of the ridges of the concavo-convex surface, a metal linear part is produced by a teardrop shape in cross section
A polarizer transfer body having a holding portion for holding the metal linear portion.
前記基材の表面には賦型樹脂層が設けられ、
前記賦型樹脂層の賦型処理により前記凹凸面が作製された
請求項5に記載の偏光子の転写体。
A shaping resin layer is provided on the surface of the substrate,
The polarizer transfer body according to claim 5, wherein the concavo-convex surface is produced by a molding treatment of the molding resin layer.
前記凹凸面には、密着力強化層が設けられ、
前記金属線状部は、前記密着力強化層を介して前記凸条の頂部に配置された
請求項5又は請求項6に記載の偏光子の転写体。
The uneven surface is provided with an adhesion enhancing layer,
7. The polarizer transfer body according to claim 5, wherein the metal linear portion is disposed on a top portion of the ridge through the adhesion reinforcing layer. 8.
請求項5、請求項6、請求項7の何れかに記載の偏光子の転写体より前記金属線状部及び保持部が転写されて保持された
画像表示装置。
An image display device in which the metal linear portion and the holding portion are transferred and held by the polarizer transfer body according to any one of claims 5, 6, and 7.
ワイヤーグリッド型偏光子に係る偏光子の転写体において、
透過を制限する波長帯域の最短波長未満のピッチ及び線幅により金属線状部が繰り返し作製され、
複数の凹状溝による凹凸面を備えた前記金属線状部の保持部が形成され、
前記金属線状部が、
前記凹状溝の底面に断面涙滴形状により作製された涙滴形状の部位を備える
偏光子の転写体。
In the transfer body of the polarizer relating to the wire grid type polarizer,
A metal linear part is repeatedly produced with a pitch and a line width less than the shortest wavelength of a wavelength band that restricts transmission,
A holding part of the metal linear part provided with an uneven surface by a plurality of concave grooves is formed,
The metal linear portion is
A transfer body of a polarizer, comprising a teardrop-shaped portion formed in a cross-sectional teardrop shape on the bottom surface of the concave groove.
前記保持部が、
透明樹脂層であり、透明フィルム材による支持体基材の表面に保持された
請求項9に記載の偏光子の転写体。
The holding part is
The polarizer transfer body according to claim 9, which is a transparent resin layer and is held on a surface of a support substrate made of a transparent film material.
前記凹状溝に係る断面矩形形状による部位と、前記涙滴形状の部位とにより、前記金属線状部が形成された
請求項9又は請求項10に記載の偏光子の転写体。
11. The polarizer transfer body according to claim 9, wherein the metal linear portion is formed by a portion having a rectangular cross-section related to the concave groove and a portion having the teardrop shape.
請求項9、請求項10、請求項11の何れかに記載の偏光子の転写体より前記金属線状部及び保持部が転写されて保持された
画像表示装置。
An image display device in which the metal linear portion and the holding portion are transferred and held by the polarizer transfer body according to any one of claims 9, 10, and 11.
ワイヤーグリッド型偏光子に係る偏光子の製造方法において、
転写体を作製する転写体の作製工程と、
前記転写体から転写法により偏光子を作製する偏光子作製工程とを備え、
前記転写体の作製工程は、
支持体基材の表面に複数の凸条による凹凸面を作製する凹凸面作製工程と、
前記凹凸面に金属材料を堆積する金属材料の堆積工程と、
前記凹凸面に堆積した金属材料をエッチングして、前記凸条の頂部に、断面涙滴形状による金属線状部を作製するエッチング工程と、
前記金属線状部に透明樹脂材を塗工して前記金属線状部を保持する保持部を作製して前記転写体を作製する保持部作製工程とを備え、
前記偏光子作製工程は、
前記転写体から前記金属線状部及び保持部を転写して前記凹凸面と一体に支持体基材を剥離する転写工程を備える
偏光子の製造方法。
In the method for manufacturing a polarizer according to a wire grid polarizer,
A process of producing a transfer body for producing a transfer body;
A polarizer production step of producing a polarizer from the transfer body by a transfer method,
The production process of the transfer body includes:
An uneven surface preparation step for preparing an uneven surface with a plurality of protrusions on the surface of the support substrate,
A metal material deposition step of depositing a metal material on the uneven surface;
Etching the metal material deposited on the concavo-convex surface to produce a metal linear portion having a cross-sectional teardrop shape at the top of the ridge, and
A holding part preparation step of preparing the transfer body by applying a transparent resin material to the metal linear part to prepare a holding part for holding the metal linear part,
The polarizer production process includes:
A method of manufacturing a polarizer, comprising: a transfer step of transferring the metal linear portion and the holding portion from the transfer body and peeling the support base material integrally with the uneven surface.
前記偏光子の作成工程は、
前記転写工程により、前記支持体基材を剥離して前記保持部に形成される前記凸条に対応する凹状溝に、金属材料を配置する金属材料の配置工程を備える
請求項13に記載の偏光子の製造方法。
The production process of the polarizer,
The polarized light according to claim 13, further comprising: a metal material arranging step of arranging a metal material in a concave groove corresponding to the convex stripe formed on the holding portion by peeling the support base material by the transfer step. Child manufacturing method.
ワイヤーグリッド型偏光子に係る偏光子の転写体の製造方法において、
第1の支持体基材の表面に複数の凸条による凹凸面を作製する凹凸面作製工程と、
前記凹凸面に金属材料を堆積する金属材料の堆積工程と、
前記凹凸面に堆積した金属材料をエッチングして、前記凸条の頂部に、断面涙滴形状による金属線状部を作製するエッチング工程と、
前記金属線状部に透明樹脂材を塗工して前記金属線状部を保持する保持部を作製する保持部作製工程とを備える
偏光子の転写体の製造方法。
In the method of manufacturing a polarizer transfer body according to a wire grid polarizer,
An uneven surface preparation step of forming an uneven surface with a plurality of protrusions on the surface of the first support substrate;
A metal material deposition step of depositing a metal material on the uneven surface;
Etching the metal material deposited on the concavo-convex surface to produce a metal linear portion having a cross-sectional teardrop shape at the top of the ridge, and
The manufacturing method of the transfer body of a polarizer provided with the holding | maintenance part preparation process which applies the transparent resin material to the said metal linear part, and produces the holding | maintenance part which hold | maintains the said metal linear part.
第2の支持体基材に前記保持部を積層して前記凹凸面と一体に前記第1の支持体基材を剥離する転写工程と、
前記転写工程により、前記第1の支持体基材を剥離して前記保持部に形成される前記凸条に対応する凹状溝に、金属材料を配置する金属材料の配置工程とを備える
請求項15に記載の偏光子の転写体の製造方法。
A transfer step of laminating the holding portion on a second support substrate and peeling the first support substrate integrally with the uneven surface;
16. A metal material disposing step of disposing the metal material in a concave groove corresponding to the convex strip formed on the holding portion by peeling the first support base material by the transfer step. A process for producing a polarizer transfer body as described in 1 above.
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