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JP2016222580A - Glycoluril compound having fluoropolyether group, lubricant and magnetic disc - Google Patents

Glycoluril compound having fluoropolyether group, lubricant and magnetic disc Download PDF

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JP2016222580A
JP2016222580A JP2015109808A JP2015109808A JP2016222580A JP 2016222580 A JP2016222580 A JP 2016222580A JP 2015109808 A JP2015109808 A JP 2015109808A JP 2015109808 A JP2015109808 A JP 2015109808A JP 2016222580 A JP2016222580 A JP 2016222580A
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JP
Japan
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compound
lubricant
glycoluril compound
glycoluril
group
Prior art date
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Pending
Application number
JP2015109808A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
昇 溝部
Noboru Mizobe
昇 溝部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shikoku Chemicals Corp
Original Assignee
Shikoku Chemicals Corp
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Publication date
Application filed by Shikoku Chemicals Corp filed Critical Shikoku Chemicals Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a test compound used for a lubricant forming a lubricating film on a protective layer such as a carbon protective film for abrasion suppression or surface protection from contact and sliding with a magnetic head on a surface of a magnetic disc.SOLUTION: There is provided a glycoluril compound having a fluoropolyether group obtained by reacting a glycoluril compound having a glycidyl group represented by the formula (II) and a fluoropolyether group represented by the formula (III).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、フルオロポリエーテル基を有するグリコールウリル化合物、潤滑剤および磁気ディスクに関する。   The present invention relates to a glycoluril compound having a fluoropolyether group, a lubricant, and a magnetic disk.

近年、記録媒体である磁気ディスクと、情報の記録・再生を行う磁気ヘッドとの距離(ヘッド/ディスク間のスペーシング)は、磁気ディスクの記録密度の増加に伴い、短くなってきている。そのため、磁気ヘッドと磁気ディスクの接触頻度が増加している。
この磁気ディスクの表面には、磁気ヘッドとの接触・摺動による摩耗抑制や、該表面の汚染防止の為、炭素保護膜等の保護層と、続いてその上に潤滑剤を含有する潤滑層が形成されている。
In recent years, the distance between a magnetic disk as a recording medium and a magnetic head for recording / reproducing information (space between the head and the disk) has become shorter as the recording density of the magnetic disk increases. Therefore, the contact frequency between the magnetic head and the magnetic disk is increasing.
The surface of this magnetic disk has a protective layer such as a carbon protective film, followed by a lubricating layer containing a lubricant for preventing wear due to contact / sliding with the magnetic head and preventing contamination of the surface. Is formed.

前記の潤滑剤としては、一般にフルオロポリエーテル化合物が使用されているが、例えば、商品名「Fomblin Ztetraol」(Solvay Solexis社製)や商品名「PHOSFAROL A−20H」(MORESCO社製)等を挙げることができる。これらの潤滑剤は、高い極性を有するヒドロキシ基が分子両末端に結合したフルオロポリエーテル化合物を成分としている為に、磁気ディスクの表面に対し強く吸着する。その結果、この潤滑剤の皮膜(潤滑層)は、磁気ディスクが高速回転しても飛散せず、長期間に渡って保持される。
また、特許文献1には、分子両末端に加え、分子鎖中にもヒドロキシ基を有するフルオロポリエーテル化合物を成分とした潤滑剤が開示されている。この潤滑剤は、分子両末端にあるヒドロキシ基と共に、分子鎖中にあるヒドロキシ基が、磁気ディスクの表面に対して強く吸着する為に、分子がより平面的に層を形成し、潤滑剤の皮膜の厚みを薄くできる。その結果、ヘッド/ディスク間の隙間を狭くできる。
As the lubricant, a fluoropolyether compound is generally used, and examples thereof include a trade name “Fomblin Ztetraol” (manufactured by Solvay Solexis) and a trade name “PHOSFAROL A-20H” (manufactured by MORESCO). be able to. These lubricants are strongly adsorbed to the surface of the magnetic disk because they contain a fluoropolyether compound in which hydroxy groups having high polarity are bonded to both ends of the molecule. As a result, the lubricant film (lubricating layer) is not scattered even when the magnetic disk rotates at a high speed, and is retained for a long period of time.
Patent Document 1 discloses a lubricant comprising a fluoropolyether compound having a hydroxy group in the molecular chain in addition to both molecular ends. In this lubricant, the hydroxy groups in the molecular chain are strongly adsorbed to the surface of the magnetic disk together with the hydroxy groups at both ends of the molecule. The film thickness can be reduced. As a result, the gap between the head / disk can be narrowed.

しかしながら、このようなフルオロポリエーテル化合物は、ヘッド部材中のAl等のルイス酸に対する安定性に乏しい為に、ヘッドとの接触により分解反応を受けてしまう(例えば、非特許文献1参照)。その結果、潤滑剤の皮膜が磁気ディスク上から揮発・消失してしまい、皮膜を保持できなくなるという問題がある。 However, since such a fluoropolyether compound is poor in stability to a Lewis acid such as Al 2 O 3 in the head member, it undergoes a decomposition reaction by contact with the head (see, for example, Non-Patent Document 1). ). As a result, there is a problem that the lubricant film volatilizes and disappears from the magnetic disk, and the film cannot be retained.

特開2006−70173号公報JP 2006-70173 A

Macromolecules、1992年、25巻、p6791−6799Macromolecules, 1992, 25, p6791- 6799.

本発明は、このような事情に鑑みて成されたものであり、フルオロポリエーテル基を有するグリコールウリル化合物、該化合物を成分とする潤滑剤および該潤滑剤を含有する潤滑層が形成された磁気ディスクを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and includes a glycoluril compound having a fluoropolyether group, a lubricant containing the compound as a component, and a magnetic layer formed with a lubricant layer containing the lubricant. The purpose is to provide a disc.

本発明者は、前記の課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、フルオロポリエーテル基とヒドロキシ基を有するグルコールウリル化合物が、潤滑剤の成分として好適であることを見出し、本発明を完遂するに至ったものである。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor has found that a glycoluril compound having a fluoropolyether group and a hydroxy group is suitable as a component of a lubricant. It has come to completion.

即ち、第1の発明は、フルオロポリエーテル基を有する化学式(I)で示されるグリコールウリル化合物である。   That is, the first invention is a glycoluril compound represented by the chemical formula (I) having a fluoropolyether group.

Figure 2016222580
Figure 2016222580

第2の発明は、第1の発明のグリコールウリル化合物を成分とすることを特徴とする潤滑剤である。   A second invention is a lubricant comprising the glycoluril compound of the first invention as a component.

第3の発明は、支持体上に記録層および保護層をこの順に形成し、該保護層の表面に第2の発明の潤滑剤を含有する潤滑層を形成したことを特徴とする磁気ディスクである。   A third invention is a magnetic disk characterized in that a recording layer and a protective layer are formed in this order on a support, and a lubricating layer containing the lubricant of the second invention is formed on the surface of the protective layer. is there.

本発明のグリコールウリル化合物を成分とする潤滑剤は、潤滑剤の皮膜(潤滑層)の厚みを薄くでき、且つ耐薬品性に優れている為に、ルイス酸等に対して安定である。また、本発明の潤滑剤を含有する潤滑層が形成された磁気ディスクは、これを磁気ディスク装置に使用した場合において、ヘッド/ディスク間の隙間を狭くでき、且つヘッドとディスクが接触・摺動しても潤滑剤の皮膜を保持できる。   The lubricant containing the glycoluril compound of the present invention as a component is stable against Lewis acid and the like because the thickness of the lubricant film (lubricating layer) can be reduced and the chemical resistance is excellent. The magnetic disk on which the lubricating layer containing the lubricant of the present invention is formed can narrow the gap between the head and the disk when the magnetic disk is used in the magnetic disk device, and the head and the disk are in contact with and slid. Even so, the lubricant film can be retained.

以下、本発明を詳細に説明する。
前記化学式(I)で示される本発明のグリコールウリル化合物は、例えば、一方の末端にヒドロキシ基を有し、他方の末端にエステル基、シリル基またはアルコキシ基を有する直鎖フルオロポリエーテル(以下、「前駆体のフルオロポリエーテル化合物」と云うことがある)と、化学式(II)で示されるグリシジル基を有するグリコールウリル化合物(以下、「前駆体のグリコールウリル化合物」と云うことがある)とを、反応させることにより得られる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The glycoluril compound of the present invention represented by the chemical formula (I) is, for example, a linear fluoropolyether having a hydroxy group at one end and an ester group, a silyl group or an alkoxy group at the other end (hereinafter, A “precursor fluoropolyether compound”) and a glycoluril compound having a glycidyl group represented by the chemical formula (II) (hereinafter also referred to as “precursor glycoluril compound”). It is obtained by reacting.

Figure 2016222580
(式中、RおよびRは、同一または異なって、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表す。R、RおよびRは、同一または異なって、アリル基またはグリシジル基を表す。)
Figure 2016222580
(Wherein R 1 and R 2 are the same or different and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group or a phenyl group. R 7 , R 8 and R 9 are the same or different and represent an allyl group or a glycidyl group. .)

前駆体のフルオロポリエーテル化合物について説明する。
このフルオロポリエーテル化合物は、両末端にヒドロキシ基を有する直鎖フルオロポリエーテル(以下、「化合物(1)」と云うことがある)と、ヒドロキシ基と反応してエステル基、シリル基もしくはアルコキシ基を形成または付与する化合物(以下、「化合物(2)」と云うことがある)とを、反応させることにより得られる。
この反応において、反応温度は、10〜60℃であることが好ましく、20〜40℃であることがより好ましい。反応時間は、2〜20時間であることが好ましく、10〜15時間であることがより好ましい。化合物(2)の使用量は、化合物(1)に対して、0.5〜1.5当量であることが好ましい。
この反応は、溶剤中で行ってもよく、また、反応促進剤を使用してもよい。溶剤として、1,4−ジオキサン、ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等を挙げることができる。反応促進剤として、ピリジン、イミダゾール、水素化ナトリウム等を挙げることができる。
反応終了後、例えば、カラムクロマトグラフィーにより精製して、前駆体のフルオロポリエーテル化合物を得ることができる。
The precursor fluoropolyether compound will be described.
This fluoropolyether compound reacts with a linear fluoropolyether having a hydroxy group at both ends (hereinafter sometimes referred to as “compound (1)”) and a hydroxy group to produce an ester group, a silyl group or an alkoxy group. It is obtained by reacting with a compound that forms or imparts (hereinafter sometimes referred to as “compound (2)”).
In this reaction, the reaction temperature is preferably 10 to 60 ° C, more preferably 20 to 40 ° C. The reaction time is preferably 2 to 20 hours, and more preferably 10 to 15 hours. It is preferable that the usage-amount of a compound (2) is 0.5-1.5 equivalent with respect to a compound (1).
This reaction may be carried out in a solvent, or a reaction accelerator may be used. Examples of the solvent include 1,4-dioxane, dimethylformaldehyde, dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide and the like. Examples of the reaction accelerator include pyridine, imidazole, sodium hydride and the like.
After completion of the reaction, the precursor fluoropolyether compound can be obtained, for example, by purification by column chromatography.

化合物(1)として、例えば、化学式(III)で示される化合物を挙げることができる。   Examples of the compound (1) include a compound represented by the chemical formula (III).

Figure 2016222580
(式中、mは、0〜20の整数を表すが、0〜10であることが好ましく、0〜4であることがより好ましく、1〜3であることが更に好ましく、1〜2であることが特に好ましい。)
Figure 2016222580
(In the formula, m represents an integer of 0 to 20, preferably 0 to 10, more preferably 0 to 4, still more preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2. Is particularly preferred.)

化学式(III)で示される化合物の数平均分子量は、300〜2000であることが好ましく、400〜1200であることがより好ましく、500〜800であることが更に好ましい。
数平均分子量は、19F−NMRにより求めることができる。
The number average molecular weight of the compound represented by the chemical formula (III) is preferably 300 to 2000, more preferably 400 to 1200, and still more preferably 500 to 800.
The number average molecular weight can be determined by 19 F-NMR.

化合物(2)として、例えば、酸無水物、シリルハライド、アルキルハライド等を挙げることができる。
酸無水物として、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸または化学式ROR(式中、RおよびRは、同一または異なって、CHCO、PhCO、CFCHCO、CHSO、PhSO、CHSOもしくはCFSOを表す。)で示される化合物を挙げることができる。
化学式RORで示される化合物として、例えば、無水酢酸、無水安息香酸、酢酸安息香酸無水物、無水トリフルオロメチル酢酸、メタンスルホン酸無水物、ベンゼンスルホン酸無水物、p−トルエンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物等を挙げることができる。
Examples of the compound (2) include acid anhydrides, silyl halides, and alkyl halides.
As the acid anhydride, succinic anhydride, maleic anhydride, phthalic anhydride or the chemical formula R a OR b (wherein R a and R b are the same or different and are represented by CH 3 CO, PhCO, CF 3 CH 2 CO, A compound represented by CH 3 SO 2 , PhSO 2 , CH 3 C 6 H 4 SO 2 or CF 3 SO 2 ).
Examples of the compound represented by the chemical formula R a OR b include acetic anhydride, benzoic anhydride, acetic benzoic anhydride, trifluoromethylacetic anhydride, methanesulfonic anhydride, benzenesulfonic anhydride, p-toluenesulfonic anhydride And trifluoromethanesulfonic anhydride.

シリルハライドとして、化学式(RSiX、R(RSiXまたはRSiX(式中、Rは、炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基を表す。Rは、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、フェニル基、ベンジル基、ペンタフルオロフェニル基、シアノプロピル基またはビニル基を表す。Rは、炭素数1〜2のアルキル基またはフェニル基を表す。Rは、フェニル基を有する炭素数1〜4のアルキル基を表す。Xは、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子を表す。)で示される化合物を挙げることができる。
このようなシリルハライドとして、例えば、トリメチルシリルクロリド、トリエチルシリルクロリド、トリイソプロピルシリルクロリド、t−ブチルジメチルシリルクロリド、t−ブチルジフェニルシリルクロリド、t−ブトキシジフェニルクロロシラン、(3−シアノプロピル)ジメチルクロロシラン、ベンジルクロロジメチルシラン、ブチルジメチルクロロシラン、クロロ(デシル)ジメチルシラン、クロロ(ドデシル)ジメチルシラン、クロロジメチル(3−フェニルプロピル)シラン、クロロジメチルフェニルシラン、クロロジメチルプロピルシラン、クロロジメチルビニルシラン、ジエチルイソプロピルシリルクロリド、ジメチル−n−オクチルクロロシラン、ジメチルエチルシリルクロリド、ジメチルイソプロピルクロロシラン、ジメチルオクタデシルクロロシラン、ジフェニルメチルクロロシラン、メチルオクタデシル(3−フェニルプロピル)クロロシラン、ペンタフルオロフェニルジメチルクロロシラン、トリフェニルクロロシラン等を挙げることができる。
As a silyl halide, formula (R c) 3 SiX, in R d (R e) 2 SiX or R d R e R f SiX (wherein, R c represents an alkyl group or a phenyl group having 1 to 4 carbon atoms. R d represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, a benzyl group, pentafluorophenyl group, .R represents a cyanopropyl group or a vinyl group e is 1 to carbon atoms 2 represents an alkyl group or a phenyl group, and R f represents a C1-C4 alkyl group having a phenyl group, and X represents a halogen atom such as chlorine, bromine, iodine, etc.). Can be mentioned.
Examples of such silyl halides include trimethylsilyl chloride, triethylsilyl chloride, triisopropylsilyl chloride, t-butyldimethylsilyl chloride, t-butyldiphenylsilyl chloride, t-butoxydiphenylchlorosilane, (3-cyanopropyl) dimethylchlorosilane, Benzylchlorodimethylsilane, butyldimethylchlorosilane, chloro (decyl) dimethylsilane, chloro (dodecyl) dimethylsilane, chlorodimethyl (3-phenylpropyl) silane, chlorodimethylphenylsilane, chlorodimethylpropylsilane, chlorodimethylvinylsilane, diethylisopropylsilyl Chloride, dimethyl-n-octylchlorosilane, dimethylethylsilyl chloride, dimethylisopropylchlorosilane Dimethyl octadecyl chlorosilane, diphenylmethylchlorosilane, methyl octadecyl (3-phenylpropyl) chlorosilane, pentafluorophenyl dimethylchlorosilane, triphenyl chlorosilane, and the like.

アルキルハライドとして、化学式RX(式中、Rは、炭素数1〜5のアルキル基を表す。Xは塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子を表す。)で示される化合物を挙げることができる。
このようなアルキルハライドとして、例えば、クロロメタン、ブロモメタン、ヨードメタン、クロロエタン、ブロモエタン、ヨードエタン、1−ブロモプロパン、2−ブロモプロパン、1−ヨードプロパン、2−ヨードプロパン、1−ブロモ−2−メチルプロパン、2−ブロモ−2−メチルプロパン、1−ヨード−2−メチルプロパン、2−ヨード−2−メチルプロパン、1−ブロモブタン、2−ブロモブタン、1−ヨードブタン、2−ヨードブタン、1−ブロモ−3−メチルブタン、2−ブロモ−2−メチルブタン、1−ヨード−2−メチルブタン、1−ヨード−3−メチルブタン、1−ブロモペンタン、3−ブロモペンタン等を挙げることができる。
Examples of the alkyl halide include compounds represented by the chemical formula R g X (wherein R g represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, X represents a halogen atom such as chlorine, bromine, iodine, etc.). it can.
Examples of such alkyl halides include chloromethane, bromomethane, iodomethane, chloroethane, bromoethane, iodoethane, 1-bromopropane, 2-bromopropane, 1-iodopropane, 2-iodopropane, and 1-bromo-2-methylpropane. 2-bromo-2-methylpropane, 1-iodo-2-methylpropane, 2-iodo-2-methylpropane, 1-bromobutane, 2-bromobutane, 1-iodobutane, 2-iodobutane, 1-bromo-3- Examples thereof include methylbutane, 2-bromo-2-methylbutane, 1-iodo-2-methylbutane, 1-iodo-3-methylbutane, 1-bromopentane, and 3-bromopentane.

前駆体のフルオロポリエーテル化合物の合成パターンの例を、スキーム(A)と(B)に示す。なお、スキーム(A)は化合物(2)として無水酢酸を使用した例であり、スキーム(B)は同化合物としてトリメチルシリルクロリドを使用した例である。   Examples of the synthesis pattern of the precursor fluoropolyether compound are shown in Schemes (A) and (B). Note that scheme (A) is an example using acetic anhydride as the compound (2), and scheme (B) is an example using trimethylsilyl chloride as the compound.

Figure 2016222580
(式中、mは、0〜20の整数を表す。)
Figure 2016222580
(In the formula, m represents an integer of 0 to 20.)

次に、前駆体のグリコールウリル化合物について説明する。
前駆体のグリコールウリル化合物としては、例えば、
1,3,4,6−テトラグリシジルグリコールウリル、
1,3,4,6−テトラグリシジル−3a−メチルグリコールウリル、
1,3,4,6−テトラグリシジル−3a,6a−ジメチルグリコールウリル、
1,3,4,6−テトラグリシジル−3a,6a−ジフェニルグリコールウリル、
1−アリル−3,4,6−トリグリシジルグリコールウリル、
1−アリル−3,4,6−トリグリシジル−3a−メチルグリコールウリル、
1−アリル−3,4,6−トリグリシジル−3a,6a−ジメチルグリコールウリル、
1−アリル−3,4,6−トリグリシジル−3a,6a−ジフェニルグリコールウリル、
1,3−ジアリル−4,6−ジグリシジルグリコールウリル、
1,3−ジアリル−4,6−ジグリシジル−3a−メチルグリコールウリル、
1,3−ジアリル−4,6−ジグリシジル−3a,6a−ジメチルグリコールウリル、
1,3−ジアリル−4,6−ジグリシジル−3a,6a−ジフェニルグリコールウリル、
1,4−ジアリル−3,6−ジグリシジルグリコールウリル、
1,4−ジアリル−3,6−ジグリシジル−3a−メチルグリコールウリル、
1,4−ジアリル−3,6−ジグリシジル−3a,6a−ジメチルグリコールウリル、
1,4−ジアリル−3,6−ジグリシジル−3a,6a−ジフェニルグリコールウリル、
1,3,4−トリアリル−6−グリシジルグリコールウリル、
1,3,4−トリアリル−6−グリシジル−3a−メチルグリコールウリル、
1,3,4−トリアリル−6−グリシジル−3a,6a−ジメチルグリコールウリルまたは
1,3,4−トリアリル−6−グリシジル−3a,6a−ジフェニルグリコールウリル等が挙げられる。
Next, the precursor glycoluril compound will be described.
Examples of the precursor glycoluril compound include:
1,3,4,6-tetraglycidylglycoluril,
1,3,4,6-tetraglycidyl-3a-methylglycoluril,
1,3,4,6-tetraglycidyl-3a, 6a-dimethylglycoluril,
1,3,4,6-tetraglycidyl-3a, 6a-diphenylglycoluril,
1-allyl-3,4,6-triglycidyl glycoluril,
1-allyl-3,4,6-triglycidyl-3a-methylglycoluril,
1-allyl-3,4,6-triglycidyl-3a, 6a-dimethylglycoluril,
1-allyl-3,4,6-triglycidyl-3a, 6a-diphenylglycoluril,
1,3-diallyl-4,6-diglycidylglycoluril,
1,3-diallyl-4,6-diglycidyl-3a-methylglycoluril,
1,3-diallyl-4,6-diglycidyl-3a, 6a-dimethylglycoluril,
1,3-diallyl-4,6-diglycidyl-3a, 6a-diphenylglycoluril,
1,4-diallyl-3,6-diglycidylglycoluril,
1,4-diallyl-3,6-diglycidyl-3a-methylglycoluril,
1,4-diallyl-3,6-diglycidyl-3a, 6a-dimethylglycoluril,
1,4-diallyl-3,6-diglycidyl-3a, 6a-diphenylglycoluril,
1,3,4-triallyl-6-glycidylglycoluril,
1,3,4-triallyl-6-glycidyl-3a-methylglycoluril,
Examples include 1,3,4-triallyl-6-glycidyl-3a, 6a-dimethylglycoluril, 1,3,4-triallyl-6-glycidyl-3a, 6a-diphenylglycoluril and the like.

前駆体のグリコールウリル化合物の内、前記化学式(II)のR、RおよびRがグリシジル基であるグリコールウリル化合物は、特開2015−54856号公報に記載された方法に従って合成することができる。これ以外の、同R、RおよびRから選択される少なくとも1つがアリル基であるグリコールウリル化合物は、特開平10−316665号公報に記載された方法に準拠して合成することができる。 Among the precursor glycoluril compounds, the glycoluril compounds in which R 7 , R 8 and R 9 in the chemical formula (II) are glycidyl groups can be synthesized according to the method described in JP-A-2015-54856. it can. Other glycoluril compounds in which at least one selected from R 7 , R 8 and R 9 is an allyl group can be synthesized according to the method described in JP-A-10-316665. .

本発明のグリコールウリル化合物は、前述のとおり、前駆体のフルオロポリエーテル化合物と、前駆体のグリコールウリル化合物とを、反応させることにより得られるが、この反応は、触媒またはアルカリ金属の存在下にて行われる。
触媒として、t−ブトキシナトリウム、t−ブトキシカリウム、水素化ナトリウム等のアルカリ化合物を挙げることができる。アルカリ金属として、ナトリウム、カリウム等を挙げることができる。
この反応において、反応温度は、0〜100℃であることが好ましく、50〜90℃であることがより好ましい。反応時間は、3〜100時間であることが好ましく、6〜24時間であることがより好ましい。
前駆体のグリコールウリル化合物の使用量は、前駆体のフルオロポリエーテル化合物に対して、0.2〜10.0当量であることが好ましい。触媒の使用量は、前駆体のフルオロポリエーテル化合物に対して、0.05〜1.0当量であることが好ましい。アルカリ金属の使用量は、前駆体のフルオロポリエーテル化合物に対して、1.0〜8.0当量であることが好ましい。
この反応は溶剤中で行ってもよい。溶剤として、t−ブチルアルコール、トルエン、キシレン等を挙げることができる。
As described above, the glycoluril compound of the present invention is obtained by reacting a precursor fluoropolyether compound with a precursor glycoluril compound. This reaction is carried out in the presence of a catalyst or an alkali metal. Done.
Examples of the catalyst include alkali compounds such as t-butoxy sodium, t-butoxy potassium, and sodium hydride. Examples of the alkali metal include sodium and potassium.
In this reaction, the reaction temperature is preferably 0 to 100 ° C, more preferably 50 to 90 ° C. The reaction time is preferably 3 to 100 hours, and more preferably 6 to 24 hours.
The amount of the precursor glycoluril compound used is preferably 0.2 to 10.0 equivalents relative to the precursor fluoropolyether compound. The amount of the catalyst used is preferably 0.05 to 1.0 equivalent relative to the precursor fluoropolyether compound. The amount of alkali metal used is preferably 1.0 to 8.0 equivalents relative to the precursor fluoropolyether compound.
This reaction may be carried out in a solvent. Examples of the solvent include t-butyl alcohol, toluene, xylene and the like.

反応終了後、例えば、水洗、脱水した後、反応物のフルオロポリエーテル鎖の末端に結合しているエステル基、シリル基またはアルコキシ基等の保護基を加水分解等により脱保護する。その際、テトラブチルアンモニウムフルオリド、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム等の脱保護促進剤を使用してもよい。
これにより、前記化学式(I)のYが−OH(注:化学式(a))であるグリコールウリル化合物(以下、「グリコールウリル化合物(I-a)」と云うことがある)を得ることができる。このグリコールウリル化合物(I-a)は、本発明のグリコールウリル化合物に包含される。
After completion of the reaction, for example, after washing with water and dehydrating, a protecting group such as an ester group, silyl group or alkoxy group bonded to the end of the fluoropolyether chain of the reaction product is deprotected by hydrolysis or the like. At that time, a deprotection accelerator such as tetrabutylammonium fluoride, potassium fluoride, sodium fluoride or the like may be used.
As a result, a glycoluril compound in which Y in the chemical formula (I) is —OH (note: chemical formula (a)) (hereinafter sometimes referred to as “glycoluril compound (Ia)”) can be obtained. This glycoluril compound (Ia) is included in the glycoluril compound of the present invention.

前記化学式(I)において、Yが各々化学式(b)、(c)、(d)または(e)で示される基である場合のグリコールウリル化合物は、グリコールウリル化合物(I-a)を出発物質として得ることができる。   In the chemical formula (I), the glycoluril compound in which Y is a group represented by the chemical formula (b), (c), (d) or (e), respectively, obtains the glycoluril compound (Ia) as a starting material. be able to.

Figure 2016222580
(式中、nは、1〜6の整数を表すが、1〜4であることが好ましく、2〜4であることがより好ましい。)
Figure 2016222580
(In formula, although n represents the integer of 1-6, it is preferable that it is 1-4, and it is more preferable that it is 2-4.)

Figure 2016222580
Figure 2016222580

Figure 2016222580
Figure 2016222580

Figure 2016222580
Figure 2016222580

グリコールウリル化合物(I-a)と、化学式(IV)で示されるハロアルコールとを、アルカリ金属の存在下にて反応させることにより、前記化学式(I)のYが前記化学式(b)で示される基であるグリコールウリル化合物(以下、「グリコールウリル化合物(I-b)」と云うことがある)を得ることができる。   By reacting the glycoluril compound (Ia) with the haloalcohol represented by the chemical formula (IV) in the presence of an alkali metal, Y in the chemical formula (I) is a group represented by the chemical formula (b). A certain glycoluril compound (hereinafter sometimes referred to as “glycoluril compound (Ib)”) can be obtained.

Figure 2016222580
(式中、Xは、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子を表す。nは、1〜6の整数を表すが、1〜4であることが好ましく、2〜4であることがより好ましい。)
Figure 2016222580
(In formula, X represents halogen atoms, such as chlorine, a bromine, and iodine. Although n represents the integer of 1-6, it is preferable that it is 1-4, and it is more preferable that it is 2-4. )

グリコールウリル化合物(I-a)と、グリシドールとを、触媒の存在下にて反応させることにより、前記化学式(I)のYが前記化学式(c)で示される基であるグリコールウリル化合物(以下、「グリコールウリル化合物(I-c)」と云うことがある)を得ることができる。   By reacting the glycoluril compound (Ia) with glycidol in the presence of a catalyst, the glycoluril compound (hereinafter referred to as “glycol”) wherein Y in the chemical formula (I) is a group represented by the chemical formula (c). Uril compound (Ic) ”may be obtained.

グリコールウリル化合物(I-a)と、グリシジルフェニルエーテルとを、触媒の存在下にて反応させることにより、前記化学式(I)のYが前記化学式(d)で示される基であるグリコールウリル化合物(以下、「グリコールウリル化合物(I-d)」と云うことがある)を得ることができる。   By reacting the glycoluril compound (Ia) with glycidyl phenyl ether in the presence of a catalyst, a glycoluril compound (hereinafter referred to as Y) in the chemical formula (I) is a group represented by the chemical formula (d). (Sometimes referred to as “glycoluril compound (Id)”).

グリコールウリル化合物(I-a)と、グリシジル4−メトキシフェニルエーテルとを、触媒の存在下にて反応させることにより、前記化学式(I)のYが前記化学式(e)で示される基であるグリコールウリル化合物(以下、「グリコールウリル化合物(I-e)」と云うことがある)を得ることができる。
これらのグリコールウリル化合物(I-b)〜(I-e)も、グリコールウリル化合物(I-a)と同様に、本発明のグリコールウリル化合物に包含される。
Glycoluril compound (Ia) and glycidyl 4-methoxyphenyl ether are reacted in the presence of a catalyst, whereby Y in chemical formula (I) is a group represented by chemical formula (e). (Hereinafter sometimes referred to as “glycoluril compound (Ie)”).
These glycoluril compounds (Ib) to (Ie) are also included in the glycoluril compound of the present invention in the same manner as the glycoluril compound (Ia).

グリコールウリル化合物(I-b)〜(I-e)を得るこれらの反応において、反応温度は、50〜100℃であることが好ましく、70〜90℃であることがより好ましい。反応時間は、20〜100時間であることが好ましく、50〜80時間であることがより好ましい。
化学式(IV)で示されるハロアルコール、グリシドール、グリシジルフェニルエーテルまたはグリシジル4−メトキシフェニルエーテルの使用量は、グリコールウリル化合物(I-a)のヒドロキシ基を基準にして、1.0〜2.0当量であることが好ましい。アルカリ金属の使用量は、グリコールウリル化合物(I-a)のヒドロキシ基を基準にして、1.0〜2.0当量であることが好ましい。触媒の使用量は、グリコールウリル化合物(I-a)のヒドロキシ基を基準にして、0.05〜0.1当量であることが好ましい。
アルカリ金属として、ナトリウム、カリウム等を挙げることができる。触媒として、t−ブトキシナトリウム、t−ブトキシカリウム、水素化ナトリウム等のアルカリ化合物を挙げることができる。
これらの反応は溶剤中で行ってもよい。溶剤として、t−ブチルアルコール、トルエン、キシレン等を挙げることができる。
反応終了後、例えば、水洗、脱水した後、カラムクロマトグラフィーにより精製して、目的とするグリコールウリル化合物を得ることができる。
In these reactions for obtaining the glycoluril compounds (Ib) to (Ie), the reaction temperature is preferably 50 to 100 ° C, more preferably 70 to 90 ° C. The reaction time is preferably 20 to 100 hours, and more preferably 50 to 80 hours.
The amount of the haloalcohol, glycidol, glycidyl phenyl ether or glycidyl 4-methoxyphenyl ether represented by the chemical formula (IV) is 1.0 to 2.0 equivalents based on the hydroxy group of the glycoluril compound (Ia). Preferably there is. The amount of the alkali metal used is preferably 1.0 to 2.0 equivalents based on the hydroxy group of the glycoluril compound (Ia). The amount of the catalyst used is preferably 0.05 to 0.1 equivalent based on the hydroxy group of the glycoluril compound (Ia).
Examples of the alkali metal include sodium and potassium. Examples of the catalyst include alkali compounds such as t-butoxy sodium, t-butoxy potassium, and sodium hydride.
These reactions may be performed in a solvent. Examples of the solvent include t-butyl alcohol, toluene, xylene and the like.
After completion of the reaction, for example, after washing with water and dehydration, the desired glycoluril compound can be obtained by purification by column chromatography.

本発明のグリコールウリル化合物は、磁気ディスクの潤滑剤の成分として使用することにより、磁気ディスク装置内のヘッド/ディスク間の隙間を狭くでき、且つヘッドとディスクが接触・摺動しても潤滑剤の皮膜を保持できる。
また、本発明のグリコールウリル化合物は、分子中のヒドロキシ基により炭素保護膜に存在する極性部位と弱い化学結合を形成することができる。従って、磁気ディスク以外にも炭素保護膜を有する磁気ヘッド、光磁気記録用部材、磁気テープ等や、プラスチックなどの有機材料の表面保護膜の形成剤の成分、更にはガラス、金属などの無機材料の表面保護膜の形成剤の成分としても好適である。
By using the glycoluril compound of the present invention as a component of a magnetic disk lubricant, the gap between the head and the disk in the magnetic disk apparatus can be narrowed, and even if the head and the disk contact and slide, the lubricant The film can be retained.
Moreover, the glycoluril compound of the present invention can form a weak chemical bond with a polar site present in the carbon protective film by a hydroxy group in the molecule. Therefore, in addition to magnetic disks, magnetic heads having a carbon protective film, magneto-optical recording members, magnetic tapes, components for forming a surface protective film of organic materials such as plastic, and further inorganic materials such as glass and metals It is also suitable as a component of the surface protective film forming agent.

本発明の潤滑剤は、本発明のグリコールウリル化合物以外の成分として、溶剤や他の潤滑剤を含んでいてもよい。
溶剤として、例えば、商品名「PF−5060」、商品名「PF−5080」、商品名「HFE−7100」、商品名「HFE−7200」(以上、3M社製)、商品名「Vertrel XF」(DuPont社製)等を挙げることができる。溶剤を使用した場合、本発明のグリコールウリル化合物の濃度は、1重量%以下であることが好ましく、0.001〜0.1重量%であることがより好ましい。
他の潤滑剤として、例えば、商品名「Fomblin Zdol」、商品名「Fomblin Ztetraol」、商品名「Fomblin Zdol TX」、商品名「Fomblin AM」(以上、Solvay Solexis社製)、商品名「Demnum」(ダイキン工業社製)、商品名「Krytox」(DuPont社製)等を挙げることができる。これらの潤滑剤は、本発明のグリコールウリルと適宜の割合で併用することができる。
The lubricant of the present invention may contain a solvent or other lubricant as a component other than the glycoluril compound of the present invention.
Examples of the solvent include, for example, trade name “PF-5060”, trade name “PF-5080”, trade name “HFE-7100”, trade name “HFE-7200” (manufactured by 3M), trade name “Vertrel XF”. (Manufactured by DuPont). When a solvent is used, the concentration of the glycoluril compound of the present invention is preferably 1% by weight or less, and more preferably 0.001 to 0.1% by weight.
As other lubricants, for example, trade name “Fomlin Zdol”, trade name “Fomlin Ztetraol”, trade name “Fomlin Zdol TX”, trade name “Fomlin AM” (above, Solvay Solexis), trade name “Demnum”. (Manufactured by Daikin Industries, Ltd.), trade name “Krytox” (manufactured by DuPont), and the like. These lubricants can be used in combination with the glycoluril of the present invention at an appropriate ratio.

本発明の磁気ディスクは、支持体上に1層以上の記録層、その上に保護層を形成し、更にその上に本発明の潤滑剤を含有する潤滑層を最外層として有する。   The magnetic disk of the present invention has at least one recording layer formed on a support and a protective layer formed thereon, and further has a lubricating layer containing the lubricant of the present invention as an outermost layer.

支持体の材質として、アルミニウム合金、ガラス等のセラミックス、ポリカーボネート等を挙げることができる。
記録層(磁性層)の材質として、鉄、コバルト、ニッケル等の強磁性体を形成可能な元素を主成分とし、これにクロム、白金、タンタル等を加えた合金、またはこれらの合金の酸化物を挙げることができる。記録層は、メッキ法またはスパッタ法等により形成することができる。
保護層の材質として、カーボン、SiC、SiO等を挙げることができる。保護層は、スパッタ法またはCVD法により形成することができる。
Examples of the material for the support include aluminum alloys, ceramics such as glass, and polycarbonate.
As the material of the recording layer (magnetic layer), an alloy containing, as a main component, an element capable of forming a ferromagnetic material such as iron, cobalt, nickel, etc., and added with chromium, platinum, tantalum, etc., or an oxide of these alloys Can be mentioned. The recording layer can be formed by a plating method or a sputtering method.
Examples of the material for the protective layer include carbon, SiC, SiO 2 and the like. The protective layer can be formed by sputtering or CVD.

一般的な磁気ディスクにおいて、潤滑剤の皮膜の厚みは30Å以下である。そのため、粘性が20℃で100mPa・s程度以上の潤滑剤をそのまま塗布すると、皮膜の厚みが大きくなりすぎる虞がある。そこで、潤滑剤を塗布する際は、溶剤で希釈することが好ましい。本発明の潤滑剤として、本発明のグリコールウリル化合物のみを成分とする場合や、他の潤滑剤を併用する場合も、溶剤を含有させることにより皮膜の厚みを制御しやすい。この場合、本発明のグリコールウリルの濃度は、塗布方法・条件、割合等により適宜設定される。本発明の潤滑剤において、皮膜の厚みは、5〜15Åであることが好ましい。   In a general magnetic disk, the thickness of the lubricant film is 30 mm or less. Therefore, if a lubricant having a viscosity of about 100 mPa · s or more at 20 ° C. is applied as it is, the thickness of the film may become too large. Therefore, when applying the lubricant, it is preferable to dilute with a solvent. When only the glycoluril compound of the present invention is used as a component of the lubricant of the present invention or when other lubricants are used in combination, the thickness of the film can be easily controlled by containing a solvent. In this case, the concentration of the glycoluril of the present invention is appropriately set depending on the coating method, conditions, ratio and the like. In the lubricant of the present invention, the thickness of the film is preferably 5 to 15 mm.

潤滑剤の保護層への吸着を促進させる為、潤滑層を形成した後に、熱処理や紫外線処理を行うことができる。
熱処理の場合、処理温度は、60〜150℃が好ましく、80〜150℃がより好ましい。
紫外線処理の場合、185nmと254nmの波長を主波長とする紫外線を照射に使用することが好ましい。
In order to promote adsorption of the lubricant to the protective layer, heat treatment or ultraviolet treatment can be performed after the lubricant layer is formed.
In the case of heat treatment, the treatment temperature is preferably 60 to 150 ° C, more preferably 80 to 150 ° C.
In the case of ultraviolet treatment, it is preferable to use ultraviolet rays having wavelengths of 185 nm and 254 nm as main wavelengths for irradiation.

本発明の磁気ディスクは、磁気ディスク装置に使用することができる。この磁気ディスク装置は、磁気ディスクと、情報の記録・再生・消去を行うためのヘッドと、ディスクを回転するためのモーター等を備えるディスクドライブと、そのドライブを制御するための制御系から構成される。
本発明の磁気ディスクを備える磁気ディスク装置の用途として、電子計算機、ワードプロセッサー等の外部メモリーを挙げることができる。その他の用途として、ナビゲーションシステム、ゲーム、携帯電話、PHS等の各種機器およびビルの防犯、発電所等の管理・制御システムの内部・外部記録装置等を挙げることができる。
The magnetic disk of the present invention can be used in a magnetic disk device. This magnetic disk device is composed of a magnetic disk, a head for recording / reproducing / erasing information, a disk drive including a motor for rotating the disk, and a control system for controlling the drive. The
As an application of the magnetic disk device including the magnetic disk of the present invention, an external memory such as an electronic computer or a word processor can be cited. Other applications include various devices such as navigation systems, games, mobile phones, PHS, crime prevention for buildings, and internal / external recording devices for management / control systems such as power plants.

Claims (3)

フルオロポリエーテル基を有する化学式(I)で示されるグリコールウリル化合物。
Figure 2016222580
A glycoluril compound represented by the chemical formula (I) having a fluoropolyether group.
Figure 2016222580
請求項1に記載のグリコールウリル化合物を成分とすることを特徴とする潤滑剤。 A lubricant comprising the glycoluril compound according to claim 1 as a component. 支持体上に記録層および保護層をこの順に形成し、該保護層の表面に請求項2記載の潤滑剤を含有する潤滑層を形成したことを特徴とする磁気ディスク。
A magnetic disk comprising: a recording layer and a protective layer formed in this order on a support; and a lubricating layer containing the lubricant according to claim 2 formed on the surface of the protective layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113583736A (en) * 2021-08-23 2021-11-02 中国石油化工股份有限公司 Perfluoropolyether polyurea lubricating grease and preparation method thereof

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